JP2569941B2 - 二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は二軸配向ポリエステルフイルムに関するもの
である。

［従来の技術］ 二軸配向ポリエステルフィルムとしては、ポリエステ
ルにコロイド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子を含有せしめたフィルムが知られている（たとえば
特開昭59−171623号公報）。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、上記従来の二軸配向ポリエステルフィルム
は、フィルムの加工工程、たとえば包装用途における印
刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダー
工程あるいは感熱転写用途における感熱転写層塗布など
の工程速度の増大にともない、接触するロールによって
フィルム表面が削られて発生した粉が、工程上、製品性
能上の問題となってきてきている。

さらに、フイルムの主要な用途であるビデオテープ
は、最近、ソフト用（制作された映像作品をパッケージ
媒体に記録固定、複製・増製したもの）に用いられるケ
ースが多く、この場合、上記従来のビデオテープでは、
「映像作品を録画する工程」でマスターテープから高速
でダビング（記録複写）する時のS/N（シグナル／ノイ
ズ比、画質のパラメータ）の低下が大きく画質が悪くな
るという問題点も出てきている。

本発明はかかる問題点を改善し、表面が削られにくく
（以下耐削れ性良好という）、かつ、ダビングによる画
質（S/N）の低下が少ない（以下耐ダビング性という）
フイルムを提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は上記目的を達成するために、少なくとも１種
類の粒子を３〜20重量％含有するポリエステルＡからな
るＡ層をポリエステルＢからなるＢ層の少なくとも片面
に積層してなる二軸配向フイルムであって、該Ａ層の厚
さｔとＡ層に含有される粒子の平均粒径ｄの比t/dが0.1
〜2.5、該ポリエステルＡ層の表面の粗大突起数が100個
/100cm²以下であることを特徴とする二軸配向ポリエス
テルフイルムとしたものである。

本発明のＡ層を構成するポリエステルＡは特に限定さ
れないが、エチレンテレフタレート、エチレンα，β−
ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−4,4′−ジカル
ボキシレート、エチレン2,6−ナフタレート単位等から
選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とす
る場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となる
ので望ましい。また、本発明を構成するポリエステルＡ
は結晶性である場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一
層良好となるのできわめて望ましい。ここでいう結晶性
とはいわゆる非晶質ではないことを示すものであり、定
量的には示差走査熱量計の測定で冷結晶化温度Tccが検
出され、かつ結晶化パラメータΔTcgが150℃以下のもの
である。さらに、示差走査熱量計で測定された融解熱
（融解エンタルピー変化）が7.5cal/g以上の結晶性を示
す場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となる
のできわめて望ましい。なお、本発明を阻害しない範囲
内で、２種以上のポリエステルを混合しても良いし、共
重合ポリマを用いても良い。

本発明のＡ層中の粒子は粒径比（粒子の長径／短径）
が1.0〜1.3の粒子、特に、球形状の粒子の場合に耐削れ
性がより一層良好となるので望ましい。

また、本発明のＡ層中の粒子はフイルム中での単一粒
子指数が0.7以上、好ましくは0.9以上である場合に耐削
れ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ま
しい。

また、本発明のＡ層中の粒子は相対標準偏差が0.6以
下、好ましくは0.5以下の場合に耐削れ性、耐ダビング
性がより一層良好となるので望ましい。

Ａ層中の粒子の種類は特に限定されないが、上記の好
ましい粒子特性を満足するにはアルミナ珪酸塩、１次粒
子が凝集した状態のシリカ、内部析出粒子などは好まし
くなく、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシ
リカ粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架橋ポリス
チレンや架橋ジビニルベンゼン）などがあげられる。

しかしながら、その他の粒子、例えば炭酸カルシウ
ム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子でもフイルム厚さ
と平均粒径の適切なコントロールにより十分使いこなせ
るものである。

粒子の大きさは、特に限定されないが、ポリエステル
Ａ層中での平均粒径が0.03〜1.5μｍ、特に0.03〜１μ
ｍの場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好とな
るので望ましい。

本発明のＡ層中の粒子の含有量は３〜20重量％、好ま
しくは４〜15重量％、さらに好ましくは４〜10重量％で
あることが必要である。粒子の含有量が上記の範囲より
少ないと耐削れ性が不良となり、逆に多いと耐削れ性、
耐ダビング性が不良となるので好ましくない。

上記Ａ層はポリエステルＡと粒子からなる組成物を主
要成分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内で、
他種ポリマをブレンドしてもよいし、また帯電防止剤、
導電剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤な
どの有機添加剤が通常添加される程度添加されていても
よい。

本発明フイルムは上記ポリエステルＡと粒子を主成分
とする組成物を、ポリエステルＢを主成分とする組成物
の少なくとも片面に積層してなる二軸配向ポリエステル
フイルムである。一軸あるいは無配向フイルムでは耐削
れ性が不良となるので好ましくない。この配向の程度は
特に限定されないが、高分子の分子配向の程度の目安で
あるヤング率が長手方向、幅方向ともに350kg/mm²以上
である場合に耐削れ性がより一層良好となるのできわめ
て望ましい。分子配向の程度の目安であるヤング率の上
限は特に限定されないが、通常、1500kg/mm²程度が製造
上の限界である。

また、本発明フイルムは、ヤング率が上記範囲内であ
っても、フイルムの厚さ方向の一部分、例えば、表層付
近のポリマ分子の配向が無配向、あるいは、一軸配向に
なっていない、すなわち、厚さ方向の全部分の分子配向
が二軸配向である場合に耐削れ性、耐ダビング性、摩擦
係数がより一層良好となるので特に望ましい。

特にアッベ屈折率計、レーザーを用いた屈折率計、全
反射レーザーラマン法などによって測定される分子配向
が、表面、裏面ともに二軸配向である場合に耐削れ性、
耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ましい。

さらにポリエステルＡが結晶性ポリエステルであり、
その表面の全反射ラマン結晶化指数が20cm^-1以下、好ま
しくは18cm^-1以下、さらに17cm^-1以下の場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるのできわめて望
ましい。

また、本発明フイルムのＡ層の積層厚さｔとＡ層中に
含有される粒子の平均粒径ｄの比、t/dは0.1〜2.5、好
ましくは0.2〜２、さらに好ましくは0.3〜0.9の範囲で
ある必要がある。t/dが上記の範囲より大きいと耐ダビ
ング性、耐削れ性ともに不良となり、逆に小さいと耐削
れ性が不良となるので好ましくない。

本発明フイルムは、光の干渉を利用したニュートン環
法から求めたＡ層の表面の粗大突起数H1が100個/100cm²
以下、特に50個/100cm²、さらに好ましくは40個/100cm²
以下であることが必要である。H1数が上記の範囲より大
きいと、耐削れ性が不良となるので好ましくない。

本発明フイルムはＡ層の積層厚さが0.01〜２μｍ、好
ましくは0.03〜1.5μｍ、さらに好ましくは0.04〜0.5μ
ｍの場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好とな
るのできわめて望ましい。

本発明フイルムは、Ａ層の表面突起高さがＡ層中に含
有される粒子の平均粒径の1/3以上、特に1/（3.5）以上
である場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好と
なるのできわめて望ましい。

また本発明フイルムは、Ａ層の表面突起の平均高さが
20〜800nm、特に、30〜600nmの範囲である場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるのできわめて望
ましい。

本発明のポリエステルＡのフイルムの２次イオンマス
スペクトルによって測定される表層粒子濃度比は特に限
定されないが、ポリエステルＡ面の表層粒子濃度比が1/
10以下、特に1/50以下である場合に耐削れ性がより一層
良好となるので特に望ましい。

本発明フイルムはＡ層の固有粘度が0.5以上、好まし
くは0.55以上、さらに好ましくは0.6以上の場合に耐削
れ性がより一層良好となるので特に望ましい。なお、Ａ
層の固有粘度の測定はフイルム表面からＡ層を削り取っ
た試料で行なうが、Ａ層が薄く削り取るのが難しい場合
には、工程中でサンプリングした延伸前の厚いフイルム
の表面からＡ層を削り取った試料で行なっても良い（通
常の延伸、熱処理では固有粘度は変化しない）。

本発明フイルムは、Ａ層の表面の中心線平均粗さRaと
最大高さRtの比、Rt/Raが9.0以下、特に8.5以下の場合
に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特
に望ましい。

本発明フイルムのＢ層を構成するポリエステルＢはポ
リエステルＡと同種でも異種でも良いが、ポリエステル
Ｂも結晶性であることが望ましく、特に、結晶性パラメ
ータΔTcgが20〜100℃の範囲の場合に、耐ダビング性が
より一層良好となるので望ましい。具体例として、エチ
レンテレフタレート、エチレンα，β−ビス（２−クロ
ルフェノキシ）エタン−4,4′−ジカルボキシレート、
エチレン2,6−ナフタレート単位から選ばれた少なくと
も一種の構造単位を主要構成成分とする場合に耐ダビン
グ性が特に良好となるので望ましい。ただし、本発明を
阻害しない範囲内、望ましい結晶性を損なわない範囲内
で、好ましくは５モル％以内であれば他成分が共重合さ
れていてもよい。

本発明のＢ層中にも、本発明の目的を阻害しない範囲
内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また酸化防
止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤
が通常添加される程度添加されていてもよい。

本発明のＢ層中には粒子が含有されている必要はない
が、平均粒径が0.03〜1.5μｍの１種以上の粒子が0.001
〜0.4重量％含有されていると、耐削れ性がより一層良
好となるのみならず、フイルムの巻姿が良好となるので
望ましい。含有する粒子の種類はＡ層に望ましく用いら
れるものを使用することが望ましい。Ａ層とＢ層に含有
する粒子の種類、大きさは同じでも異なっていても良
い。

次に本発明フィルムの製造方法について説明する。

まず、ポリエステルＡに粒子を含有せしめる方法とし
ては、ポリエステルの重合工程で粒子を含有せしめる方
法、粒子を実質的に含有しないポリエステルをあらかじ
め重合しておきそこにベント式二軸混練機等を用いて粒
子を練り込む方法等特に限定さないが、粒子を添加する
前に、使用するポリエステルのジオール成分の中で、0.
5〜１時間程度煮沸処理することが本発明範囲の粗大突
起数を得、また、本発明範囲のt/dのフイルムを延伸破
れなく安定して製造するのに有効である。

かくして、粒子を含有するポリエステルのペレット
を、必要に応じて、実質的に粒子を含有しないポリエス
テルで希釈し、乾燥したのち、公知の溶融押出機１に供
給し（ポリエステルＡ）、ポリエステルＢ（Ａ、Ｂは同
種、異種どちらでもよい）を押出機２に供給し、２また
は３層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポ
リエステルＡをポリエステルＢの少なくとも片面に積層
し、スリット状の口金から２または３層のシートを押し
出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フイルム
を作る。この場合、合流断面が矩形の合流ブロックを用
いて積層する方法が、ポリエステルＡ層の厚さをフイル
ム幅方向に均一にし、本発明範囲のt/dのフイルムを延
伸破れなく、安定して製造するのに有効である。

この場合、粒子を含有するポリエステルＡのペレット
を押出機に投入してからポリエステルＢと合流するまで
の滞留時間Ａを60分以下とし、かつ、粒子を含有するポ
リエステルＡの濾過をリーフディスク式のステンレス製
フィルターで行なうことが本発明範囲の粗大突起数を得
るのに有効である。

次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せし
める。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二
軸延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方
向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、
長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦延伸倍率を
3.5〜6.5倍で行なう方法は延伸破れなく、本発明範囲の
厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲の配向状
態、表層粒子濃度比のフイルムを得るのに有効である。
長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって異なり
一概には言えないが、通常、その１段目を50〜130℃の
範囲とすることが、本発明範囲の厚さと平均粒径の関
係、含有量、望ましい範囲の配向状態、平均突起高さ、
表層粒子濃度比のフイルムを得るのに有効である。長手
方向延伸速度は5000〜50000％／分の範囲が好適であ
る。幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる方法が
一般的である。延伸倍率は、3.0〜5.0倍の範囲が適当で
ある。幅方向の延伸速度は、1000〜20000％／分、温度
は80〜160℃の範囲が好適である。また、いったん二軸
延伸されたフイルムを少なくとも一方向にさらに延伸し
ても良い。次にこの延伸フィルムを熱処理する。この場
合の熱処理温度は170〜200℃、特に170〜190℃、時間は
0.5〜60秒の範囲が好適である。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］ 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次
の通りである。

（１）粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法
（たとえばヤマト科学製PR−503型）で除去し粒子を露
出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子
はダメージを受けない条件を選択する。これをSEM（走
査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒子によって
できる光の濃淡）をイメージアナライザー（たとえばケ
ンブリッジインストルメント製QTM900）に結び付け、観
察箇所を変えて粒子数5000個以上で次の数値処理を行な
い、それによって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。

Ｄ＝ΣDi/N ここで、Diは粒子の円相当径、Ｎは個数である。

（２）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。

（３）結晶化パラメータΔTcg、融解熱 パーキンエルマー社製のDSC（示差走査熱量計）II型
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りである。
すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、300℃の温度
で５分間溶解した後、液体窒素中に急冷する。この急冷
試料を10℃／分で昇温し、ガラス転移点Tgを検知する。
さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Tccとした。さらに昇温を続
け、融解ピークから融解熱を求めた。ここでTccとTgの
差（Tcc−Tg）を結晶化パラメータΔTcgと定義する。

（４）表面の分子配向（屈折率） ナトリウムＤ線（589nm）を光源として、アッベ屈折
率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレン
を用い、25℃、65％RHにて測定した。ポリマの二軸配向
性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をN₁、N₂、N₃
とした時、（N₁−N₂）の絶対値が0.07以下、かつ、N₃/
［（N₁＋N₂）/2］が0.95以下であることをひとつの基準
とできる。また、レーザー型屈折率計を用いて屈折率を
測定しても良い。さらに、この方法では測定が難しい場
合は全反射レーザーラマン法を用いることもできる。レ
ーザー全反射ラマンの測定は、Jobin−Yvon社製Ramanor
U−1000ラマンシステムにより、全反射ラマンスペクト
ルを測定し、例えばPETの場合では、1615cm^-1（ベンゼ
ン環の骨格振動）と1730cm^-1（カルボニル基の伸縮振
動）のバンド強度比の偏光測定比（YY/XX比など。ここ
でYY:レーザーの偏光方向をＹにしてＹに対して平行な
ラマン光検出、XX:レーザーの偏光方向をＸにしてＸに
対して平行なラマン光検出）が分子配向と対応すること
を利用できる。ポリマの二軸配向性はラマン測定から得
られたパラメータを長手方向、幅方向の屈折率に換算し
て、その絶対値、差などから判定できる。この場合の測
定条件は次のとおりである。

光源 アルゴンイオンレーザー（5145Å） 試料のセッティング フィルム表面を全反射プリズムに圧着させ、レーザの
プリズムへの入射角（フィルム厚さ方向との角度）は60
゜とした。

検出器 PM:RCA31034/Photon Counting System （Hamamatsu C1230）（supply 1600V） 測定条件 SLIT 1000μｍ LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm^-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm^-1 REPEAT TIME 6 （５）全反射ラマン結晶化指数 Jobin−Yvon社製Ramanor U−1000ラマンシステムによ
り、全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の
伸縮振動である1730cm^-1の半価幅をもって表面の全反射
ラマン結晶化指数とした。測定条件は次のとおりであ
る。測定深さは、表面から500〜1000オングストローム
程度である。

光源 アルゴンイオンレーザー（5145Å） 試料のセッティング レーザー偏光方向（Ｓ偏光）とフィルム長手方向が平
行となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着さ
せ、レーザのプリズムへの入射角（フィルム厚さ方向と
の角度）は60゜とした。

検出器 PM:RCA31034/Photon Counting System （Hamamatsu C1230）（supply 1600V） 測定条件 SLIT 1000μｍ LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm^-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm^-1 REPEAT TIME 6 （６）表面突起の平均高さ ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ESM−3200、エリ
オニクス（株）製］と断面測定装置［PMS−１、エリオ
ニクス（株）製］においてフィルム表面の平坦面の高さ
を０として走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装
置［IBAS2000、カールツァイス（株）製］に送り、画像
処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
平均径とする。また、この２値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて500回繰
返し、突起個数を求め、測定された全突起についてその
高さの平均値を平均高さとした。また個々の突起の高さ
データをもとに、高さ分布の標準偏差を求めた。また走
査型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間の値を選択
する。なお、場合によっては、高精度光干渉式３次元表
面解析装置（WYKO社製TOPO−3D、対物レンズ:40〜200
倍、高解像度カメラ使用が有効）を用いて得られる高さ
情報を上記SEMの値に読み替えて用いてもよい。

（７）中心線平均表面粗さRa、最大高さRt小坂研究所製
の高精度薄膜段差測定器ET−10を用いて測定した。条件
は下記のとおりであり、20回の測定の平均値をもって値
とした。

・触針先端半径:0.5μｍ ・触針荷重 :5mg ・測定長 :1mm ・カットオフ値:0.08mm なお、Ra、Rtの定義は、たとえば、奈良治郎著「表面
粗さの測定・評価法」（総合技術センター、1983）に示
されているものである。

（８）ヤング率 JIS−Ｚ−1702に規定された方法にしたがって、イン
ストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃、65％
RHにて測定した。

（９）表層粒子濃度比 ２次イオンマススペクトル（SIMS）を用いて、フイル
ム中の粒子に起因する元素の内のもっとも高濃度の元素
とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚
さ方向の分析を行なう。SIMSによって測定される最表層
粒子濃度（深さ０の点）における粒子濃度Ａとさらに深
さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Ｂの比、A/Bを
表層濃度比と定義した。測定装置、条件は下記のとおり
である。測定装置、条件は下記のとおりである。

測定装置 ２次イオン質量分析装置（SIMS） ***、ATOMIKA社製 A−DIDA3000 測定条件 １次イオン種:O₂ ⁺ １次イオン加速電圧:12KV １次イオン電流:200nA ラスター領域:400μｍ□ 分析領域：ゲート30％ 測定真空度:6.0×10^-9Torr Ｅ−GUN:0.5KV−3.0A （10）Ａ層の積層厚さ ２次イオン質量分析装置（SIMS）を用いて、表層から
深さ3000nmの範囲のフイルム中の粒子の内もっとも高濃
度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃
度比（M⁺/C⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ3000nmま
で厚さ方向の分析を行なう。表層では表面という界面の
ために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃
度は高くなる。本発明フィルムの場合はいったん極大値
となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲
線をもとに表層粒子濃度がの極大値の1/2となる深さ
（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、こ
れを積層厚さとした。条件は次の通り。

（１） 測定装置 ２次イオン質量分析装置（SIMS） ***、ATOMIKA社製 A−DIDA3000 （２） 測定条件 １次イオン種:O₂ ⁺ １次イオン加速電圧:12KV １次イオン電流:200nA ラスター領域:400μｍ□ 分析領域：ゲート30％ 測定真空度:5.0×10^-9Torr Ｅ−GUN:0.5KV−3.0A なお、表層から深さ3000nmの範囲にもっとも多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難し
いので、表面からエッチングしながらXPS（Ｘ線光電子
分光法）、IR（赤外分光法）などで上記同様のデプスプ
ロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、また、
電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態やコ
ントラストの差から界面を認識し積層厚さを求めること
もできる。

（11）粒径化 上記（１）の測定において個々の粒子の長径の平均値
／短径の平均値の比である。

すなわち、下式で求められる。

長径＝ΣD1i/N 短径＝ΣD2i/N D1i、D2iはそれぞれ個々の粒子の長径（最大径）、短
径（最短径）、Ｎは総個数である。

（12）粒径の相対標準偏差 上記（１）の方法で測定された個々の突起径Di、平均
径Ｄ、粒子総数Ｎから計算される標準偏差 を平均径Ｄで割った値（σ/D）で表わした。

（13）表面粗大突起数H1 測定面（100cm²）同士を２枚重ね合わせて静電気力で
密着させる（印加電圧5.4kV）。

２枚のフイルム間で粗大突起部分の光の干渉によって
生じるニュートン環から粗大突起の高さを判定し、１重
環以上の粗大突起数をH1とした。H1の単位は、100cm²を
２枚重ねているため個/200cm²となる。なお、光源はハ
ロゲンランプに564nmのバンドパスフィルターをかけて
用いた。

（14）固有粘度［η］（単位はdl/g） オルソクロルフェノール中、25℃で測定した溶液粘度
から下記式から計算される値を用いる。すなわち、 η_SP/C＝［η］＋Ｋ［η］^２・Ｃ ここで、η_SP＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶
媒100mlあたりの溶解ポリマ重量（g/100ml、通常1.
2）、Ｋはハギンス定数（0.343とする）。また、溶液粘
度、溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定した。

（15）耐削れ性 幅270mmのフィルムを、金属ロールと弾性ロールから
なる１段カレンダ装置を用いて、下記条件で処理した
後、弾性ロールに付着した削れ物を純水で水洗し、その
中に含有する３μｍ以上の削れ粉の個数をカウントする
（He−Neレーザー散乱による粒度分布測定装置使用）。
通過フイルム面積1m²あたりに換算した３μｍ以上の削
れ粉の個数が100個未満の場合は耐削れ性良好、100個以
上の場合は不良と判定した。

・延べ走行長 :3000m ・走行速度 :80m/分 ・金属ロール温度:95℃ ・線圧 :200kg/cm （16）耐ダビング性 フイルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロールによ
り塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テ
ストカレンダー装置（スチールロール／ナイロンロー
ル、５段）で、温度:70℃、線圧:200kg/cmでカレンダー
処理した後、70℃、48時間キュアリングする。上記テー
プ原反を1/2インチにスリットし、パンケーキを作成し
た。このパンケーキから長さ250mの長さをVTRカセット
に組み込みVTRカセットテープとした。

（磁性塗料の組成） ・Co含有酸化鉄（BET値50m²/g） :100 重量部 ・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビ ニル共重合体 : 10 重量部 ．ニッポラン2304（日本ポリウレタン製ポリ ウレタンエラストマ） : 10 重量部 ・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシ アネート） ： ５ 重量部 ・レシチン ： １ 重量部 ・メチルエチルケトン : 75 重量部 ・メチルイソブチルケトン : 75 重量部 ・トルエン : 75 重量部 ・カーボンブラック ： ２ 重量部 ・ラウリン酸 ： 1.5重量部 このテープに家庭用VTRを用いてシバソク製のテレビ
試験波形発生器（TG7/U706）により100％クロマ信号を
記録し、その再生信号からジバソク製カラービデオノイ
ズ測定器（925D/1）でクロマS/Nを測定しＡとした。ま
た上記と同じ信号を記録したマスターテープのパンケー
キを磁界転写方式のビデオソフト高速プリントシステム
（たとえばソニーマグネスケール（株）製のスプリン
タ）を用いてＡを測定したのと同じ試料テープ（未記
録）のパンケーキへダビングした後のテープのクロマS/
Nを上記と同様にして測定し、Ｂとした。このダビング
によるクロマS/Nの低下（Ａ−Ｂ）が3dB未満の場合は耐
ダビング性：優、3dB以上5dB未満の場合は良、5dB以上
は不良と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には
使用可能である。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１〜５、比較例１〜５ 粒径の異なるいくつかの種類の粒子をエチレングリコ
ールにスラリーの形で分散せしめ、テレフタル酸ジメチ
ルとエステル交換反応後、重縮合し、該粒子を所定量含
有するポリエチレンテレフタレート（以下PETと略記す
る）のチップを作った。

また、常法によって、実質的に粒子を含有しないPET
を製造し、ポリエステルＢとした。

これらのポリマをそれぞれ180℃で３時間減圧乾燥（3
Torr）し、それぞれを２台の押出機に供給し290℃で溶
融し、これらのポリマを、２または３層用の矩形の合流
ブロック（フィードブロック）で合流積層し、静電印加
キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティング・ド
ラムに巻きつけて冷却固化し、２〜３層構造の未延伸フ
ィルムを作った。この時、それぞれの押出機の吐出量を
調節し総厚さ、ポリエステルＡ層の厚さを調節し、ま
た、その装置の管径等を変更して滞留時間Ａの異なるフ
ィルムを作った。この未延伸フィルムを温度80℃にて長
手方向に4.5倍延伸した。この延伸は２組のロールの周
速差で行なった。この一軸延伸フイルムをステンタを用
いて延伸速度2000％／分で100℃で幅方向に4.0倍延伸
し、定長下で、140℃にて５秒間熱処理し、さらに縦方
向に1.6倍延伸した後、200℃で５秒間熱処理して、総厚
さ7.5μｍの二軸配向積層ポリエステルフィルムを得
た。これらのフィルムの本発明のパラメータは第１表に
示したとおりであり、本発明のパラメータが範囲内の場
合は、耐削れ性、耐ダビング性ともに優れたフイルムで
あるが、そうでない場合は目的を達し得ないことがわか
る。

［発明の効果］ 本発明は、粒子を含有するポリエステルの層厚さと平
均粒径の関係、含有量を特定範囲とし、かつ、製法の工
夫によりその粗大突起数を特定範囲に少なくしたので、
耐削れ性、耐ダビング性が優れたフイルムとなり、各用
途でのフイルム加工速度の増大に対応できるものであ
る。本発明フイルムの用途は特に限定されないが、加工
工程でのフィルム表面の削れが加工工程上、製品性能上
特に問題となる磁気記録媒体用ベースフィルムとして特
に有用である。また、本発明フイルムのうち２層構造の
ものはポリエステルＡ層の表面が走行面（磁気記録媒体
用では磁性層を塗布しない面、その他の用途では印刷や
その他塗材の塗布などの処理がほどこされない面）とし
て用いることが好ましい。

また、本発明は製膜工程内で、コーティングなどの操
作なしで直接複合積層によって作ったフイルムであり、
製膜工程中あるいはその後のコーティングによって作ら
れる積層フイルムに比べて、強い突起構造となり、表面
の耐削れ性もはるかに優れ、しかもコスト面、品質の安
定性などにおいて有利であるものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 7:00 9:00

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも１種類の粒子を３〜20重量％含
   有するポリエステルＡからなるＡ層をポリエステルＢか
   らなるＢ層の少なくとも片面に積層してなる二軸配向フ
   イルムであって、該Ａ層の厚さｔとＡ層に含有される粒
   子の平均粒径ｄの比t/dが0.1〜2.5、該ポリエステルＡ
   層の表面の粗大突起数が100個/100cm²以下であることを
   特徴とする二軸配向ポリエステルフイルム。
2. 【請求項２】Ａ層の厚さが0.01〜２μｍの範囲である請
   求項（１）に記載の二軸配向ポリエステルフイルム。
3. 【請求項３】ポリエステルＡが結晶性ポリエステルであ
   り、かつ、Ａ層の表面の全反射ラマン結晶化指数が20cm
   ^-1以下であることを特徴とする請求項（１）または
   （２）に記載の二軸配向ポリエステルフイルム。
4. 【請求項４】Ａ層の固有粘度が0.5以上であることを特
   徴とする請求項（１）〜（３）のいずれかに記載の二軸
   配向ポリエステルフイルム。