JP2567353B2 - 置換ピリジン系化合物 - Google Patents
置換ピリジン系化合物Info
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- JP2567353B2 JP2567353B2 JP6296016A JP29601694A JP2567353B2 JP 2567353 B2 JP2567353 B2 JP 2567353B2 JP 6296016 A JP6296016 A JP 6296016A JP 29601694 A JP29601694 A JP 29601694A JP 2567353 B2 JP2567353 B2 JP 2567353B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物及びその塩を製造するための中間
体としての置換ピリジン系化合物に関する。
ルホンアミド系化合物及びその塩を製造するための中間
体としての置換ピリジン系化合物に関する。
【０００２】
【先行技術及び本発明に至った経緯】本発明の中間体か
ら誘導される置換ピリジンスルホンアミド系化合物は、
該ピリジン環にＮ−置換アミノカルボニル基を有するこ
とを特徴とする。前記置換ピリジンスルホンアミド系化
合物は特開昭５９−３９８７８号公報、特開昭５９−５
９６７１号公報、特開昭５９−９８０６６号公報におい
て広く一般式で示されていることにより、概念的には知
られている。しかしながら前記置換ピリジンスルホンア
ミド化合物は前記明細書中には何ら具体的に開示されて
いない。また、或る置換ピリジンスルホンアミド系化合
物は米国特許第４，４３５，２０６号明細書に記載され
ているが、該明細書にはピリジン環にＮ−置換アミノカ
ルボニル基を有するピリジンスルホンアミド系化合物は
記載されていない。一方、スルホンアミド系化合物を有
効成分とする除草剤は従来多くの類縁体が開発されてい
るが、トウモロコシに対して安全性が高く、しかも高い
除草効果を有するものは未だ開発されていない。本発明
者等は、スルホンアミド系化合物についてその化学構造
と植物に対する生理活性とを詳細に検討し、特にトウモ
ロコシ畑用除草剤を見出すべく検討を重ねた結果、ピリ
ジンスルホンアミド系化合物において、ピリジン環にＮ
−置換アミノカルボニル基を有し、かつ他の特定の置換
基を有してもよく、さらにスルホンアミド部分の窒素原
子に置換ピリミジン−２−イル−アミノカルボニル基を
結合させた化合物がトウモロコシ畑用除草剤として有用
であるとの知見を得て、置換ピリジンスルホンアミド系
化合物の発明を完成し、次いでこれらの化合物に誘導で
きる中間体としての置換ピリジン系化合物の発明を完成
した。
ら誘導される置換ピリジンスルホンアミド系化合物は、
該ピリジン環にＮ−置換アミノカルボニル基を有するこ
とを特徴とする。前記置換ピリジンスルホンアミド系化
合物は特開昭５９−３９８７８号公報、特開昭５９−５
９６７１号公報、特開昭５９−９８０６６号公報におい
て広く一般式で示されていることにより、概念的には知
られている。しかしながら前記置換ピリジンスルホンア
ミド化合物は前記明細書中には何ら具体的に開示されて
いない。また、或る置換ピリジンスルホンアミド系化合
物は米国特許第４，４３５，２０６号明細書に記載され
ているが、該明細書にはピリジン環にＮ−置換アミノカ
ルボニル基を有するピリジンスルホンアミド系化合物は
記載されていない。一方、スルホンアミド系化合物を有
効成分とする除草剤は従来多くの類縁体が開発されてい
るが、トウモロコシに対して安全性が高く、しかも高い
除草効果を有するものは未だ開発されていない。本発明
者等は、スルホンアミド系化合物についてその化学構造
と植物に対する生理活性とを詳細に検討し、特にトウモ
ロコシ畑用除草剤を見出すべく検討を重ねた結果、ピリ
ジンスルホンアミド系化合物において、ピリジン環にＮ
−置換アミノカルボニル基を有し、かつ他の特定の置換
基を有してもよく、さらにスルホンアミド部分の窒素原
子に置換ピリミジン−２−イル−アミノカルボニル基を
結合させた化合物がトウモロコシ畑用除草剤として有用
であるとの知見を得て、置換ピリジンスルホンアミド系
化合物の発明を完成し、次いでこれらの化合物に誘導で
きる中間体としての置換ピリジン系化合物の発明を完成
した。
【０００３】
【発明の開示】本発明は、一般式（Ｉ）：
【０００４】
【化２】
【０００５】〔Ｒ１及びＲ２は水素原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハ
ロアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハロシク
ロアルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキ
シカルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基であ
り、Ｒ１及びＲ２の一方が水素原子の場合他方は水素原
子以外のものであり、Ｒ１及びＲ２が隣接している窒素
原子と共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン原
子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロ
アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、
アルコキシアルキル基、ハロアルコキシアルキル基又は
ハロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハ
ロアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ハロシク
ロアルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルコキ
シカルボニル基、フェニル基又はハロフェニル基であ
り、Ｒ１及びＲ２の一方が水素原子の場合他方は水素原
子以外のものであり、Ｒ１及びＲ２が隣接している窒素
原子と共に複素環を形成してもよく、Ｙはハロゲン原
子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロ
アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、
アルコキシアルキル基、ハロアルコキシアルキル基又は
【０００６】
【化３】
【０００７】（Ｒ３及びＲ４は水素原子又はアルキル基
である）であり、ｎは０又は１或いは２の整数であり、
Ｘ１及びＸ２はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
ある〕である｝で表わされる置換ピリジンスルホンアミ
ド系化合物及びその塩を製造するための中間体としての
置換ピリジン系化合物である。
である）であり、ｎは０又は１或いは２の整数であり、
Ｘ１及びＸ２はメチル基、メトキシ基又はエトキシ基で
ある〕である｝で表わされる置換ピリジンスルホンアミ
ド系化合物及びその塩を製造するための中間体としての
置換ピリジン系化合物である。
【０００８】前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、
Ｒ４及びＹに含まれるアルキル基或いはアルキル部分と
しては、炭素数１〜６のもの、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられ、Ｒ１及び
Ｒ２に含まれるアルケニル基としては、炭素数２〜６の
もの、例えば、プロペニル基、ブテニル基などが挙げら
れ、アルキニル基としては、炭素数２〜６のもの、例え
ば、プロピニル基、ブチニル基などが挙げられ、シクロ
アルキル基としては炭素数３〜６のもの、例えばシクロ
プロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基などが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２及びＹに関す
るハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子が挙げられる。また、Ｒ１とＲ２は窒素原
子と共に複素環を形成してもよいが、その複素環として
は例えばモルフォリン環、エチレンイミン環、ピロリジ
ン環、ピペリジン環などが挙げられる。
Ｒ４及びＹに含まれるアルキル基或いはアルキル部分と
しては、炭素数１〜６のもの、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられ、Ｒ１及び
Ｒ２に含まれるアルケニル基としては、炭素数２〜６の
もの、例えば、プロペニル基、ブテニル基などが挙げら
れ、アルキニル基としては、炭素数２〜６のもの、例え
ば、プロピニル基、ブチニル基などが挙げられ、シクロ
アルキル基としては炭素数３〜６のもの、例えばシクロ
プロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基などが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２及びＹに関す
るハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子が挙げられる。また、Ｒ１とＲ２は窒素原
子と共に複素環を形成してもよいが、その複素環として
は例えばモルフォリン環、エチレンイミン環、ピロリジ
ン環、ピペリジン環などが挙げられる。
【０００９】本発明の中間体から誘導される置換ピリジ
ンスルホンアミド系化合物の塩は前記一般式（Ｉ）の化
合物と塩基性の塩形成物質との塩であり、具体的には例
えばナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩、マグ
ネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或いは
モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン
などのアミン塩などが挙げられ、またそれらは、通常の
方法で製造することができる。前記一般式（Ｉ）に於い
てＲ１及びＲ２に含まれるハロアルキル基、ハロアルコ
キシ基、ハロアルコキシアルキル基、ハロアルコキシカ
ルボニル基、ハロシクロアルキル基又はハロフェニル
基、並びにＹに含まれるハロアルキル基、ハロアルコキ
シ基、ハロアルキルチオ基又はハロアルコキシアルキル
基はいずれもそれらが１ケ又は２ケ以上のハロゲン原子
により置換されたものを表わす。前記一般式（Ｉ）で表
わされる置換ピリジンスルホンアミド系化合物中、下記
一般式で表わされる化合物及びその塩が望ましい。
ンスルホンアミド系化合物の塩は前記一般式（Ｉ）の化
合物と塩基性の塩形成物質との塩であり、具体的には例
えばナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩、マグ
ネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或いは
モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミン
などのアミン塩などが挙げられ、またそれらは、通常の
方法で製造することができる。前記一般式（Ｉ）に於い
てＲ１及びＲ２に含まれるハロアルキル基、ハロアルコ
キシ基、ハロアルコキシアルキル基、ハロアルコキシカ
ルボニル基、ハロシクロアルキル基又はハロフェニル
基、並びにＹに含まれるハロアルキル基、ハロアルコキ
シ基、ハロアルキルチオ基又はハロアルコキシアルキル
基はいずれもそれらが１ケ又は２ケ以上のハロゲン原子
により置換されたものを表わす。前記一般式（Ｉ）で表
わされる置換ピリジンスルホンアミド系化合物中、下記
一般式で表わされる化合物及びその塩が望ましい。
【００１０】
【化４】
【００１１】更に望ましい態様を下記する。 （１）Ｒ１は水素原子又はアルキル基、好ましくは水素
原子又はメチル基であり、Ｒ２はアルキル基好ましくは
メチル基である。 （２）Ｙはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基又はアルコキシアルキル基であり、好
ましくは塩素原子、臭素原子、メチル基又はジフルオロ
メチル基であってしかもそれらがピリジン核の６位に位
置し、ｎは０又は１である。
原子又はメチル基であり、Ｒ２はアルキル基好ましくは
メチル基である。 （２）Ｙはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基又はアルコキシアルキル基であり、好
ましくは塩素原子、臭素原子、メチル基又はジフルオロ
メチル基であってしかもそれらがピリジン核の６位に位
置し、ｎは０又は１である。
【００１２】（３）Ｘ１及びＸ２はメトキシ基である。 （４）具体的には下記化合物が望ましいものとして挙げ
られる。Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−３−メチルアミノカルボニ
ル（又はジメチルアミノカルボニル）−２−ピリジンス
ルホンアミド或いは６−クロロ（又はブロモ、ジフルオ
ロメチル或いはメチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメ
チルアミノカルボニル−２−ピリジンスルホンアミド。
られる。Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−３−メチルアミノカルボニ
ル（又はジメチルアミノカルボニル）−２−ピリジンス
ルホンアミド或いは６−クロロ（又はブロモ、ジフルオ
ロメチル或いはメチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメ
チルアミノカルボニル−２−ピリジンスルホンアミド。
【００１３】前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明の中
間体から誘導される置換ピリジンスルホンアミド系化合
物及びそれらの塩は、例えば次のような方法によって製
造することができる。 一般式（ＩＩ）： Ｒ−ＳＯ２Ｚ１ …（１１） 〔式中、Ｒは前述の通りであり、Ｚ１は−ＮＨ２基、−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基
（Ｒ５はアルキル基又はアリール基である）である〕で
表わされるピリジン系化合物と、一般式（ＩＩＩ）：
間体から誘導される置換ピリジンスルホンアミド系化合
物及びそれらの塩は、例えば次のような方法によって製
造することができる。 一般式（ＩＩ）： Ｒ−ＳＯ２Ｚ１ …（１１） 〔式中、Ｒは前述の通りであり、Ｚ１は−ＮＨ２基、−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基
（Ｒ５はアルキル基又はアリール基である）である〕で
表わされるピリジン系化合物と、一般式（ＩＩＩ）：
【化５】 〔式中、Ｘ３及びＸ４はハロゲン原子、メチル基、メト
キシ基、又はエトキシ基であり、Ｚ２は−ＮＨ２基、−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基
（Ｒ５は前述の通りである）であり、Ｚ１が−ＮＨ２基
の場合Ｚ２は−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨ
ＣＯＯＲ５基であり、Ｚ２が−ＮＨ２基の場合Ｚ１は−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基で
ある）で表わされるピリミジン系化合物とを反応させ、
次いでＸ３及び／又はＸ４がハロゲン原子の場合メトキ
シ化或いはエトキシ化を行ない、さらに所望により塩形
成処理を行なう。具体的には、次の〔Ａ〕〜〔Ｇ〕法に
よって製造することができる。
キシ基、又はエトキシ基であり、Ｚ２は−ＮＨ２基、−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基
（Ｒ５は前述の通りである）であり、Ｚ１が−ＮＨ２基
の場合Ｚ２は−ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨ
ＣＯＯＲ５基であり、Ｚ２が−ＮＨ２基の場合Ｚ１は−
ＮＣＯ基、−ＮＨＣＯＣｌ基又は−ＮＨＣＯＯＲ５基で
ある）で表わされるピリミジン系化合物とを反応させ、
次いでＸ３及び／又はＸ４がハロゲン原子の場合メトキ
シ化或いはエトキシ化を行ない、さらに所望により塩形
成処理を行なう。具体的には、次の〔Ａ〕〜〔Ｇ〕法に
よって製造することができる。
【００１４】
【化６】
【００１５】更に、別法として次のものが挙げられる。 前記〔Ａ〕〜〔Ｈ〕の反応式において、Ｈａｌ．はハロ
ゲン原子であり、Ｒ、Ｒ５、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前述
の通りである。前記一般式（ＩＩ−５）で表わされる化
合物は、前記〔Ａ〕〜〔Ｆ〕法に準じて製造でき、また
前記一般式（ＩＩ−６）で表わされる化合物は前記（Ｉ
Ｉ−２）〜（ＩＩ−４）で表わされる化合物とアンモニ
アとを反応させることにより容易に得られる。前記一般
式（ＩＩＩ−１）及び（ＩＩ−２）中のＲ５で表わされ
るアリール基としては、塩素原子或いはメチル基で置換
されてもよいフェニル基又はナフチル基などが挙げられ
る。上記反応〔Ａ〕及び〔Ｄ〕の反応においては、必要
に応じて反応を促進させるために、１，８−ジアザビシ
クロ〔５・４・０〕−７−ウンデセンを添加してもよ
く、また〔Ｂ〕、〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕において
は、必要に応じて１，４−ジアザビシクロ〔２・２・
２〕オクタンを添加してもよい。さらに〔Ｂ〕、
〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕の反応においては、必要に応
じてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を添加して
もよい。また上記反応〔Ａ〕〜〔Ｈ〕は、必要に応じて
溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水
素類：クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジク
ロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキ
サンなどの環状又は非環状脂肪族炭化水素類：ジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエー
テル類：アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロ
ニトリルなどのニトリル類：ジメチルスルホキシド、ス
ルホランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられ
る。 （１）前記反応式中の出発原料である一般式（ＩＩ−
１）中のピリジン系化合物（ＩＩ−１′）は、下記第１
〜２フローに示した工程により製造することが示され
る。
ゲン原子であり、Ｒ、Ｒ５、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前述
の通りである。前記一般式（ＩＩ−５）で表わされる化
合物は、前記〔Ａ〕〜〔Ｆ〕法に準じて製造でき、また
前記一般式（ＩＩ−６）で表わされる化合物は前記（Ｉ
Ｉ−２）〜（ＩＩ−４）で表わされる化合物とアンモニ
アとを反応させることにより容易に得られる。前記一般
式（ＩＩＩ−１）及び（ＩＩ−２）中のＲ５で表わされ
るアリール基としては、塩素原子或いはメチル基で置換
されてもよいフェニル基又はナフチル基などが挙げられ
る。上記反応〔Ａ〕及び〔Ｄ〕の反応においては、必要
に応じて反応を促進させるために、１，８−ジアザビシ
クロ〔５・４・０〕−７−ウンデセンを添加してもよ
く、また〔Ｂ〕、〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕において
は、必要に応じて１，４−ジアザビシクロ〔２・２・
２〕オクタンを添加してもよい。さらに〔Ｂ〕、
〔Ｃ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕の反応においては、必要に応
じてトリエチルアミン、ピリジンなどの塩基を添加して
もよい。また上記反応〔Ａ〕〜〔Ｈ〕は、必要に応じて
溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水
素類：クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジク
ロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキ
サンなどの環状又は非環状脂肪族炭化水素類：ジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエー
テル類：アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロ
ニトリルなどのニトリル類：ジメチルスルホキシド、ス
ルホランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられ
る。 （１）前記反応式中の出発原料である一般式（ＩＩ−
１）中のピリジン系化合物（ＩＩ−１′）は、下記第１
〜２フローに示した工程により製造することが示され
る。
【００１６】
【化７】
【００１７】
【化８】
【００１８】（注）ＥＧはエチレングリコール、ＭｅＯ
Ｈはメタノール、ＥｔＯＨはエタノール、ＤＭＦはジメ
チルホルムアミド、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、
Ｂｚはベンジル基、−Ｂｕ（ｔ）はターシャリーブチル
基、ＡｃＯＨは酢酸、をそれぞれ表わす。また１）及び
２）の各物質は１）の物質の作用後、２）の物質を作用
させることを表わす。 （２）一般式（ＩＩ−１′）において、Ｙが弗素原子で
置換されたアルキル基のものの場合は、下記第３フロー
に示した工程によっても製造することが示される。
Ｈはメタノール、ＥｔＯＨはエタノール、ＤＭＦはジメ
チルホルムアミド、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、
Ｂｚはベンジル基、−Ｂｕ（ｔ）はターシャリーブチル
基、ＡｃＯＨは酢酸、をそれぞれ表わす。また１）及び
２）の各物質は１）の物質の作用後、２）の物質を作用
させることを表わす。 （２）一般式（ＩＩ−１′）において、Ｙが弗素原子で
置換されたアルキル基のものの場合は、下記第３フロー
に示した工程によっても製造することが示される。
【００１９】
【化９】
【００２０】（３）一般式（ＩＩ−１′）において、Ｙ
がアルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基又
はハロアルキルチオ基の場合は、下記第４フローに示し
た工程によっても製造することが示される。
がアルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基又
はハロアルキルチオ基の場合は、下記第４フローに示し
た工程によっても製造することが示される。
【００２１】
【化１０】
【００２２】（４）一般式（ＩＩ−１′）において、Ｙ
がアルコキシメチル基又はハロアルコキシメチル基のも
のの場合は、第５フローに示した工程によっても製造す
ることが示される。
がアルコキシメチル基又はハロアルコキシメチル基のも
のの場合は、第５フローに示した工程によっても製造す
ることが示される。
【００２３】
【化１１】
【００２４】（５）一般式（ＩＩ−１′）において、Ｙ
が
が
【００２５】
【化１２】
【００２６】基のものの場合は、第６フローに示した工
程によっても製造することが示される。
程によっても製造することが示される。
【００２７】
【化１３】
【００２８】（６）一般式（ＩＩ−１′）において、Ｙ
がハロゲン原子である場合、第７フローに示した工程に
よっても製造することが示される。
がハロゲン原子である場合、第７フローに示した工程に
よっても製造することが示される。
【００２９】
【化１４】
【００３０】（７）一般式（ＩＩ−１′）において、３
−ピリジンスルホンアミド系化合物は、第８フローに示
した工程によっても製造することが示される。
−ピリジンスルホンアミド系化合物は、第８フローに示
した工程によっても製造することが示される。
【００３１】
【化１５】
【００３２】（８）一般式（ＩＩ−１）において、ピリ
ジン−Ｎ−オキシド系化合物（ＩＩ−１″）は、第９フ
ローに示した工程によっても製造することが示される。
ジン−Ｎ−オキシド系化合物（ＩＩ−１″）は、第９フ
ローに示した工程によっても製造することが示される。
【００３３】
【化１６】
【００３４】（９）前記一般式（ＩＩ−２）〜（ＩＩ−
４）で表わされる化合物は、一般式（ＩＩ−１）で表わ
される化合物から製造することが示される。
４）で表わされる化合物は、一般式（ＩＩ−１）で表わ
される化合物から製造することが示される。
【００３５】
【化１７】
【００３６】前記一般式（ＩＩ−１′）中、一般式（Ｉ
Ｖ）で示される化合物すなわち一般式（ＩＶ）：
Ｖ）で示される化合物すなわち一般式（ＩＶ）：
【００３７】
【化１８】
【００３８】（式中、Ｚ１は−ＮＨ２ 基であり、Ｒ５は
アルキル基又はアリール基である）で表わされる置換ピ
リジン系化合物は新規である。
アルキル基又はアリール基である）で表わされる置換ピ
リジン系化合物は新規である。
【００３９】なお、原料化合物の製造法における各反応
の反応温度、反応時間、必要に応じて使用される溶媒、
アルカリ性物質などの反応条件は、通常同様の反応にお
ける反応条件から適宜選択できる。前記置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物を製造するための具体的な中間体
の参考合成例及び合成例を下記する。
の反応温度、反応時間、必要に応じて使用される溶媒、
アルカリ性物質などの反応条件は、通常同様の反応にお
ける反応条件から適宜選択できる。前記置換ピリジンス
ルホンアミド系化合物を製造するための具体的な中間体
の参考合成例及び合成例を下記する。
【００４０】中間体参考合成例１ ２−アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，５−ジクロロニコチン酸６．５ｇを２４．
７ｍｌの塩化チオニル中に投入し還流下で２時間反応さ
せた。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３９ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩２．７７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン８．６０ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、塩化
メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、融点１２０〜１２２℃の２，５−ジクロロ−Ｎ，
Ｎ−ジメチルニコチンアミド５．５ｇを得た。
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，５−ジクロロニコチン酸６．５ｇを２４．
７ｍｌの塩化チオニル中に投入し還流下で２時間反応さ
せた。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３９ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩２．７７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン８．６０ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し、塩化
メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、融点１２０〜１２２℃の２，５−ジクロロ−Ｎ，
Ｎ−ジメチルニコチンアミド５．５ｇを得た。
【００４１】〔ＩＩ〕 無水炭酸カリウム１．８９ｇの
ジメチルスルホキシド２８ｍｌの懸濁液に８０℃で前記
工程〔Ｉ〕で得られた２，５−ジクロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド３．０ｇ、ベンジルメルカプタン
１．７０ｇ及びジメチルスルホキシド５ｍｌの混合物を
約１時間で滴下し、次いで１３０〜１４０℃で３０分間
反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メ
チレン抽出を行った。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
オイル状の２−ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジ
メチルニコチンアミド２．１８ｇを得た。
ジメチルスルホキシド２８ｍｌの懸濁液に８０℃で前記
工程〔Ｉ〕で得られた２，５−ジクロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド３．０ｇ、ベンジルメルカプタン
１．７０ｇ及びジメチルスルホキシド５ｍｌの混合物を
約１時間で滴下し、次いで１３０〜１４０℃で３０分間
反応させた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メ
チレン抽出を行った。塩化メチレン層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
オイル状の２−ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジ
メチルニコチンアミド２．１８ｇを得た。
【００４２】〔ＩＩＩ〕 前記工程〔ＩＩ〕で得られた
２−ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコ
チンアミド２．３６ｇの２０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に
０〜５℃で塩素ガスを導入した。過剰の塩素が出始めた
段階で反応を終了した。反応終了後、反応物を氷１５０
ｇと塩化メチレン２００ｍｌ中に投入し塩化メチレン層
を分液し、さらに３００ｍｌの氷水で洗浄し塩化メチレ
ン層を０℃に冷却した。続いてこの中へｔｅｒｔ−ブチ
ルアミンを滴下し室温にもどるまで撹拌し、反応液が弱
アルカリ性であることを確認し、反応を終了した。反応
終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレン抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥の後、塩化メチレンを留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、融点１４３〜１４５℃の２−ｔｅｒｔ−ブ
チルアミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミド１．２１ｇを得た。
２−ベンジルチオ−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコ
チンアミド２．３６ｇの２０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に
０〜５℃で塩素ガスを導入した。過剰の塩素が出始めた
段階で反応を終了した。反応終了後、反応物を氷１５０
ｇと塩化メチレン２００ｍｌ中に投入し塩化メチレン層
を分液し、さらに３００ｍｌの氷水で洗浄し塩化メチレ
ン層を０℃に冷却した。続いてこの中へｔｅｒｔ−ブチ
ルアミンを滴下し室温にもどるまで撹拌し、反応液が弱
アルカリ性であることを確認し、反応を終了した。反応
終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレン抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥の後、塩化メチレンを留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、融点１４３〜１４５℃の２−ｔｅｒｔ−ブ
チルアミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミド１．２１ｇを得た。
【００４３】〔ＩＶ〕 トリフルオロ酢酸１０ｍｌ中
に前記工程〔ＩＩＩ〕で得られた２−ｔｅｒｔ−ブチル
アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコ
チンアミド１．０ｇを加え還流下で約１時間反応させ
た。反応終了後、反応物よりトリフルオロ酢酸を減圧留
去した後、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製して融点１５５〜１５７℃の２−
アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコ
チンアミド０．７１ｇを得た。
に前記工程〔ＩＩＩ〕で得られた２−ｔｅｒｔ−ブチル
アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコ
チンアミド１．０ｇを加え還流下で約１時間反応させ
た。反応終了後、反応物よりトリフルオロ酢酸を減圧留
去した後、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製して融点１５５〜１５７℃の２−
アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコ
チンアミド０．７１ｇを得た。
【００４４】中間体参考合成例２ ２−アミノスルホニル−６−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸２３ｇを１００ｍ
ｌの塩化チオニル中に投入し還流下で１時間半反応させ
た。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３００ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩１１．７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン１５．８ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水５００ｍｌ中に投
入し、塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、融点６２．５〜６５℃の２，６−ジクロ
ロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド１９ｇを得た。
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸２３ｇを１００ｍ
ｌの塩化チオニル中に投入し還流下で１時間半反応させ
た。反応後、過剰の塩化チオニルを留去し、３００ｍｌ
の塩化メチレンを加えた。さらにその中へジメチルアミ
ンの塩酸塩１１．７ｇを投入し、次いでトリエチルアミ
ン１５．８ｇを約１時間で滴下した後、室温で約１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水５００ｍｌ中に投
入し、塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、融点６２．５〜６５℃の２，６−ジクロ
ロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド１９ｇを得た。
【００４５】〔ＩＩ〕 無水炭酸カリウム６．６ｇのジ
メチルスルホキシド５０ｍｌの懸濁液に１３０〜１４０
℃で前記工程〔Ｉ〕で得られた２，６−ジクロロ−Ｎ，
Ｎ−ジメチルニコチンアミド７．０ｇ、ベンジルアルコ
ール３．８ｇ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合
物を約１時間で滴下し、次いで１５０℃で約２時間反応
させた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレ
ン抽出を行った。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しオイ
ル状の６−ベンジルオキシ−２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド６．０ｇを得た。
メチルスルホキシド５０ｍｌの懸濁液に１３０〜１４０
℃で前記工程〔Ｉ〕で得られた２，６−ジクロロ−Ｎ，
Ｎ−ジメチルニコチンアミド７．０ｇ、ベンジルアルコ
ール３．８ｇ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合
物を約１時間で滴下し、次いで１５０℃で約２時間反応
させた。反応終了後、反応物を水中に投入し塩化メチレ
ン抽出を行った。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製しオイ
ル状の６−ベンジルオキシ−２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド６．０ｇを得た。
【００４６】〔ＩＩＩ〕 無水炭酸カリウム２．２ｇの
ジメチルスルホキシド３０ｍｌの懸濁液中に１５０℃で
前記工程〔ＩＩ〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．９ｇ、ベ
ンジルメルカプタン１．５ｇ及びジメチルスルホキシド
２０ｍｌの混合物を約３０分で滴下し、次いで１５０℃
で約１．５時間反応させた。反応終了後、反応物を水中
に投入し塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留
去し、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製しオイル状の６−ベンジルオキシ−２−ベ
ンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．９８
ｇを得た。
ジメチルスルホキシド３０ｍｌの懸濁液中に１５０℃で
前記工程〔ＩＩ〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．９ｇ、ベ
ンジルメルカプタン１．５ｇ及びジメチルスルホキシド
２０ｍｌの混合物を約３０分で滴下し、次いで１５０℃
で約１．５時間反応させた。反応終了後、反応物を水中
に投入し塩化メチレン抽出を行ない、塩化メチレン層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後塩化メチレンを減圧留
去し、得られた残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製しオイル状の６−ベンジルオキシ−２−ベ
ンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．９８
ｇを得た。
【００４７】〔ＩＶ〕 濃塩酸６ｃｃ中に前記工程〔Ｉ
ＩＩ〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−ベンジルチ
オ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．６９ｇを投入
し、室温で撹拌下約１５時間反応させた。反応終了後、
反応物を水中に投入し、塩化メチレンで目的物を抽出し
た。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去した。得られた残渣物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、融点５２〜６０
℃の２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−ヒドロ
キシニコチンアミド０．４１ｇを得た。
ＩＩ〕で得られた６−ベンジルオキシ−２−ベンジルチ
オ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．６９ｇを投入
し、室温で撹拌下約１５時間反応させた。反応終了後、
反応物を水中に投入し、塩化メチレンで目的物を抽出し
た。塩化メチレン層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去した。得られた残渣物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、融点５２〜６０
℃の２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−ヒドロ
キシニコチンアミド０．４１ｇを得た。
【００４８】〔Ｖ〕 ５ｃｃの塩化チオニル中に前記工
程〔ＩＶ〕で得られた２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チル−６−ヒドロキシニコチンアミド１．０ｇ及びジメ
チルホルムアミド０．３ｍｌを加え還流下で約１時間反
応させた。反応終了後、反応物を氷中に投入し、塩化メ
チレンで目的物を抽出した。塩化メチレン層を水洗いし
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減
圧留去した後、得られた残渣物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製し、オイル状の２−ベンジルチオ−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．４５ｇを
得た。
程〔ＩＶ〕で得られた２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チル−６−ヒドロキシニコチンアミド１．０ｇ及びジメ
チルホルムアミド０．３ｍｌを加え還流下で約１時間反
応させた。反応終了後、反応物を氷中に投入し、塩化メ
チレンで目的物を抽出した。塩化メチレン層を水洗いし
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減
圧留去した後、得られた残渣物をシリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製し、オイル状の２−ベンジルチオ−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．４５ｇを
得た。
【００４９】〔ＶＩ〕 このものを用い、前記中間体参
考合成例１の工程〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法
で融点１７１〜１７３℃の２−アミノスルホニル−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミドを得た。
考合成例１の工程〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法
で融点１７１〜１７３℃の２−アミノスルホニル−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミドを得た。
【００５０】中間体参考合成例３ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキ
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 無水エタノール５０ｍｌ中に金属ナトリウム
０．２３１ｇを投入し、ナトリウムエトキサイドのエタ
ノール溶液を調製した。この中へ前記中間体合成例１の
工程〔Ｉ〕と同様の方法で得られた２，６−ジクロロ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．０ｇを投入し、約
１時間還流下で反応させた。反応液を水中に投入し、塩
化メチレン抽出を行なった。塩化メチレン層は無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
油状の２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキシニ
コチンアミド１．９５ｇを得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＩ〕〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法で融点
１５０．５〜１５１．５℃の２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキシニコチンアミドを得
た。
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 無水エタノール５０ｍｌ中に金属ナトリウム
０．２３１ｇを投入し、ナトリウムエトキサイドのエタ
ノール溶液を調製した。この中へ前記中間体合成例１の
工程〔Ｉ〕と同様の方法で得られた２，６−ジクロロ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．０ｇを投入し、約
１時間還流下で反応させた。反応液を水中に投入し、塩
化メチレン抽出を行なった。塩化メチレン層は無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、塩化メチレンを減圧留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
油状の２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキシニ
コチンアミド１．９５ｇを得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＩ〕〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法で融点
１５０．５〜１５１．５℃の２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−エトキシニコチンアミドを得
た。
【００５１】中間体参考合成例４ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオ
ロニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．３０２ｇ
及びスプレードライフッ化カリウム０．１１６ｇのジメ
チルスルホキシドスラリー溶液１０ｍｌを１５０℃で撹
拌下約３時間反応させた。反応終了後、反応液を１００
ｍｌの水中に投入し塩化メチレンで抽出した。抽出物は
水洗をくり返した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去し、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホ
ニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニコチンアミド
０．２０４ｇを得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＶ〕と同様の方法で融点１６４〜１６５℃の２−
アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニ
コチンアミドを得た。
ロニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド０．３０２ｇ
及びスプレードライフッ化カリウム０．１１６ｇのジメ
チルスルホキシドスラリー溶液１０ｍｌを１５０℃で撹
拌下約３時間反応させた。反応終了後、反応液を１００
ｍｌの水中に投入し塩化メチレンで抽出した。抽出物は
水洗をくり返した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、塩化メチレンを減圧留去し、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホ
ニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニコチンアミド
０．２０４ｇを得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＶ〕と同様の方法で融点１６４〜１６５℃の２−
アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−フルオロニ
コチンアミドを得た。
【００５２】中間体参考合成例５ ２−アミノスルホニル−Ｎ−メチルニコチンアミドの合
成 〔Ｉ〕 乾燥したメタノール２５０ｍｌに室温で塩酸ガ
スを飽和させた後、２５０ｍｌのメタノール及び２−メ
ルカプトニコチン酸３０ｇを加え、室温で終夜反応させ
た。反応後、アンモニアガスで反応液を弱アルカリ性と
した後、メタノールを減圧留去した。続いて生じた結晶
を水洗後、濾取し、減圧乾燥して融点１３６〜１４０℃
のメチル ２−メルカプトニコチネート２４ｇを得た。
成 〔Ｉ〕 乾燥したメタノール２５０ｍｌに室温で塩酸ガ
スを飽和させた後、２５０ｍｌのメタノール及び２−メ
ルカプトニコチン酸３０ｇを加え、室温で終夜反応させ
た。反応後、アンモニアガスで反応液を弱アルカリ性と
した後、メタノールを減圧留去した。続いて生じた結晶
を水洗後、濾取し、減圧乾燥して融点１３６〜１４０℃
のメチル ２−メルカプトニコチネート２４ｇを得た。
【００５３】〔ＩＩ〕前記工程〔Ｉ〕で得たメチル ２
−メルカプトニコチネート１０ｇを、５０ｍｌの酢酸を
５０ｍｌの水で希釈した溶液に加えた後、０℃以下で塩
素ガスを反応系内に導入し、過剰の塩素が出始めた段階
で反応を終了した。反応後、生じた溶液を氷１５０ｇと
塩化メチレン５００ｍｌの混合物中に投入し、塩化メチ
レン層を分液した。さらに５００ｍｌの氷水で洗浄し、
塩化メチレン層を０℃に冷却した。続いてこの中へ、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミン１２．９ｇを滴下し、室温にもど
るまで撹拌した。撹拌後、この反応液を５００ｍｌの水
中に投入し、塩化メチレン抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥の後、塩化メチレンを留去し、粗結晶１３ｇを得
た。このものを塩化メチレン、ノルマルヘキサンで再結
晶し、融点１６９〜１７１℃のメチル ２−ｔｅｒｔ−
ブチルアミノスルホニルニコチネートを得た。
−メルカプトニコチネート１０ｇを、５０ｍｌの酢酸を
５０ｍｌの水で希釈した溶液に加えた後、０℃以下で塩
素ガスを反応系内に導入し、過剰の塩素が出始めた段階
で反応を終了した。反応後、生じた溶液を氷１５０ｇと
塩化メチレン５００ｍｌの混合物中に投入し、塩化メチ
レン層を分液した。さらに５００ｍｌの氷水で洗浄し、
塩化メチレン層を０℃に冷却した。続いてこの中へ、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミン１２．９ｇを滴下し、室温にもど
るまで撹拌した。撹拌後、この反応液を５００ｍｌの水
中に投入し、塩化メチレン抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥の後、塩化メチレンを留去し、粗結晶１３ｇを得
た。このものを塩化メチレン、ノルマルヘキサンで再結
晶し、融点１６９〜１７１℃のメチル ２−ｔｅｒｔ−
ブチルアミノスルホニルニコチネートを得た。
【００５４】〔ＩＩＩ〕 無水メタノール２０ｍｌに大
過剰のメチルアミンを吸収させた後、室温で前記工程
〔ＩＩ〕で得たメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノス
ルホニルニコチネート１．０ｇを加え、１５時間撹拌し
反応を終了した。反応後、反応物を水中に投入し塩化メ
チレンで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、塩化メチレンを減圧で留去して、融点１８９〜１９
２℃の２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−Ｎ−メ
チルニコチンアミド０．７３ｇを得た。 〔ＩＶ〕 このものを用い、前記中間体参考合成例１の
工程〔ＩＶ〕と同様の方法で融点２０７〜２０９．５℃
の２−アミノスルホニル−Ｎ−メチルニコチンアミドを
得た。
過剰のメチルアミンを吸収させた後、室温で前記工程
〔ＩＩ〕で得たメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノス
ルホニルニコチネート１．０ｇを加え、１５時間撹拌し
反応を終了した。反応後、反応物を水中に投入し塩化メ
チレンで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、塩化メチレンを減圧で留去して、融点１８９〜１９
２℃の２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−Ｎ−メ
チルニコチンアミド０．７３ｇを得た。 〔ＩＶ〕 このものを用い、前記中間体参考合成例１の
工程〔ＩＶ〕と同様の方法で融点２０７〜２０９．５℃
の２−アミノスルホニル−Ｎ−メチルニコチンアミドを
得た。
【００５５】中間体合成例１ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミ
ドの合成 〔Ａ法〕 〔Ｉ〕 ジメチルアミン１．３ｍｌを１０ｍｌの無水ベ
ンゼンに溶解した溶液に窒素雰囲気下１０℃以下で１９
％トリメチルアルミニウムのノルマルヘキサン溶液１０
ｍｌを加えた。室温になるまで反応させた後、メチル
２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニルニコチネートを
ベンゼン４０ｍｌ、塩化メチレン２０ｍｌに溶解した溶
液を滴下した。続いて還流下で約９時間撹拌し反応を終
了した。反応終了後、反応液を希塩酸中に投入し、塩化
メチレンで抽出し、抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、減圧下で塩化メチレンを留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
１．０ｇを得た。
ドの合成 〔Ａ法〕 〔Ｉ〕 ジメチルアミン１．３ｍｌを１０ｍｌの無水ベ
ンゼンに溶解した溶液に窒素雰囲気下１０℃以下で１９
％トリメチルアルミニウムのノルマルヘキサン溶液１０
ｍｌを加えた。室温になるまで反応させた後、メチル
２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニルニコチネートを
ベンゼン４０ｍｌ、塩化メチレン２０ｍｌに溶解した溶
液を滴下した。続いて還流下で約９時間撹拌し反応を終
了した。反応終了後、反応液を希塩酸中に投入し、塩化
メチレンで抽出し、抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、減圧下で塩化メチレンを留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製して２−ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
１．０ｇを得た。
【００５６】〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考
合成例１の工程〔ＩＶ〕と同様の方法で融点２０９〜２
１１℃の２−アミノスルホニルＮ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミドを得た。 〔Ｂ法〕 ２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
２．７ｇの５０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に０〜５℃で塩
素ガスを過剰の塩素が出るまで導入した。反応終了後、
反応混合物を２００ｍｌの氷水中に投入し、６０ｍｌの
塩化メチレンで抽出した。次いで塩化メチレン層を１０
０ｍｌの氷水で洗浄し、０℃に冷却してアルカリ性にな
るまでアンモニアガスを導入した。塩化メチレンを留去
した後、残渣に水１５ｍｌを加え撹拌した。生じた結晶
を濾取し、少量の水で洗浄した後、減圧乾燥して融点２
０９〜２１１℃を有する２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミド１．２７ｇを得た。
合成例１の工程〔ＩＶ〕と同様の方法で融点２０９〜２
１１℃の２−アミノスルホニルＮ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミドを得た。 〔Ｂ法〕 ２−ベンジルチオ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
２．７ｇの５０ｍｌ ５０％酢酸溶液中に０〜５℃で塩
素ガスを過剰の塩素が出るまで導入した。反応終了後、
反応混合物を２００ｍｌの氷水中に投入し、６０ｍｌの
塩化メチレンで抽出した。次いで塩化メチレン層を１０
０ｍｌの氷水で洗浄し、０℃に冷却してアルカリ性にな
るまでアンモニアガスを導入した。塩化メチレンを留去
した後、残渣に水１５ｍｌを加え撹拌した。生じた結晶
を濾取し、少量の水で洗浄した後、減圧乾燥して融点２
０９〜２１１℃を有する２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミド１．２７ｇを得た。
【００５７】中間体参考合成例６ ２−アミノスルホニル−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルニコチ
ンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−クロロニコチン酸３０ｇ及び塩化チオニル
の混合物を還流下で４時間反応させた。反応液より、過
剰の塩化チオニルを減圧で留去した後、塩化メチレン５
００ｍｌを加え室温でメチルアミンガスを反応液が弱ア
ルカリ性になるまで導入した。生じたメチルアミンの塩
酸塩を濾別し、濾液を濃縮した。生じた結晶をノルマル
ヘキサンと塩化メチレンより再結晶して、融点１０６〜
１０７℃の２−クロロ−Ｎ−メチルニコチンアミド２７
ｇを得た。
ンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−クロロニコチン酸３０ｇ及び塩化チオニル
の混合物を還流下で４時間反応させた。反応液より、過
剰の塩化チオニルを減圧で留去した後、塩化メチレン５
００ｍｌを加え室温でメチルアミンガスを反応液が弱ア
ルカリ性になるまで導入した。生じたメチルアミンの塩
酸塩を濾別し、濾液を濃縮した。生じた結晶をノルマル
ヘキサンと塩化メチレンより再結晶して、融点１０６〜
１０７℃の２−クロロ−Ｎ−メチルニコチンアミド２７
ｇを得た。
【００５８】〔ＩＩ〕ジメチルホルムアミド５０ｍｌ中
に懸濁させた６０％ナトリウムハイドロライド１．１７
ｇ中に前記工程〔Ｉ〕で得られた２−クロロ−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ
溶液を０〜５℃で滴下した。０〜５℃で約３０分間反応
させた後、３．５ｇのエチルブロマイドを０℃で滴下し
た。室温で約２．５時間反応させた後、水中に投入し、
塩化メチレンで抽出した。抽出物は水洗を行なった後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧で留
去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を
行ない、オイル状の２−クロロ−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５．７ｇを得た。 〔ＩＩＩ〕 このものを用い、前記中間体参考合成例１
の工程〔ＩＩ〕〜〔ＩＶ〕と同様の方法で融点２０２〜
２０３℃の２−アミノスルホニル−Ｎ−エチル−Ｎ−メ
チルニコチンアミドを得た。
に懸濁させた６０％ナトリウムハイドロライド１．１７
ｇ中に前記工程〔Ｉ〕で得られた２−クロロ−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ
溶液を０〜５℃で滴下した。０〜５℃で約３０分間反応
させた後、３．５ｇのエチルブロマイドを０℃で滴下し
た。室温で約２．５時間反応させた後、水中に投入し、
塩化メチレンで抽出した。抽出物は水洗を行なった後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧で留
去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を
行ない、オイル状の２−クロロ−Ｎ−エチル−Ｎ−メチ
ルニコチンアミド５．７ｇを得た。 〔ＩＩＩ〕 このものを用い、前記中間体参考合成例１
の工程〔ＩＩ〕〜〔ＩＶ〕と同様の方法で融点２０２〜
２０３℃の２−アミノスルホニル−Ｎ−エチル−Ｎ−メ
チルニコチンアミドを得た。
【００５９】中間体参考合成例７ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ヒドロキシ−６−メチルニコチン酸１．３
５ｇ及び塩化チオニル１５ｍｌの混合物にジメチルホル
ムアミドを一滴加え、還流下で約２時間反応させた後、
過剰の塩化チオニルを減圧留去し、残渣に塩化メチレン
５０ｍｌを加えた。このものを３０％ジメチルアミン水
溶液３０ｍｌ及び塩化メチレン５０ｍｌの混合物中に滴
下し、室温で１５分間反応させた。
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ヒドロキシ−６−メチルニコチン酸１．３
５ｇ及び塩化チオニル１５ｍｌの混合物にジメチルホル
ムアミドを一滴加え、還流下で約２時間反応させた後、
過剰の塩化チオニルを減圧留去し、残渣に塩化メチレン
５０ｍｌを加えた。このものを３０％ジメチルアミン水
溶液３０ｍｌ及び塩化メチレン５０ｍｌの混合物中に滴
下し、室温で１５分間反応させた。
【００６０】反応終了後、反応混合物を水中投入し、塩
化メチレン抽出した。塩化メチレン層は水洗した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧で塩化メチレンを留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、融点６６〜６７．５℃の２−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノカルボニル−６−メチルピリジン１．５
７ｇ（ｍ．ｐ．６６〜６７．５℃）を得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＩ〕〜〔ＩＶ〕と同様の方法で融点１８８．５〜
１９０．５℃の２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−６−メチルニコチンアミドを得た。
化メチレン抽出した。塩化メチレン層は水洗した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧で塩化メチレンを留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、融点６６〜６７．５℃の２−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノカルボニル−６−メチルピリジン１．５
７ｇ（ｍ．ｐ．６６〜６７．５℃）を得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＩ〕〜〔ＩＶ〕と同様の方法で融点１８８．５〜
１９０．５℃の２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−６−メチルニコチンアミドを得た。
【００６１】中間体参考合成例８ ２−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メトキ
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸３３ｇ及び塩化チ
オニル１００ｍｌを混合し、還流下で約３時間反応を行
なった。反応終了後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し
た後、塩化メチレン５００ｍｌをこの中へ投入した。室
温から４０℃でこの混合物中に無水メタノールを滴下し
た。滴下終了後、約１時間還流下で反応させた。反応終
了後、反応液を５００ｍｌの水中に投入し、塩化メチレ
ンで分液し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧で塩化メチレンを留去した。次いでシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製して、融点４５．５〜
４８．０℃のメチル ２，６−ジクロロニコチネート２
７ｇを得た。
シニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２，６−ジクロロニコチン酸３３ｇ及び塩化チ
オニル１００ｍｌを混合し、還流下で約３時間反応を行
なった。反応終了後、過剰の塩化チオニルを減圧留去し
た後、塩化メチレン５００ｍｌをこの中へ投入した。室
温から４０℃でこの混合物中に無水メタノールを滴下し
た。滴下終了後、約１時間還流下で反応させた。反応終
了後、反応液を５００ｍｌの水中に投入し、塩化メチレ
ンで分液し、水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧で塩化メチレンを留去した。次いでシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製して、融点４５．５〜
４８．０℃のメチル ２，６−ジクロロニコチネート２
７ｇを得た。
【００６２】〔ＩＩ〕このものを用い、６位のメトキシ
化反応、２位のベンジルチオ化反応、アミド化反応、２
位のターシャリーブチルアミノスルホニル化反応次いで
脱ターシャリーブチル化反応を行ない（それぞれ前記中
間体参考合成例３の工程〔Ｉ〕、同参考合成例１の工程
〔ＩＩ〕、同合成例１の〔Ａ法〕工程〔Ｉ〕、同参考合
成例１の工程〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法）２
−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メトキシ
ニコチンアミドを得た。
化反応、２位のベンジルチオ化反応、アミド化反応、２
位のターシャリーブチルアミノスルホニル化反応次いで
脱ターシャリーブチル化反応を行ない（それぞれ前記中
間体参考合成例３の工程〔Ｉ〕、同参考合成例１の工程
〔ＩＩ〕、同合成例１の〔Ａ法〕工程〔Ｉ〕、同参考合
成例１の工程〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法）２
−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−６−メトキシ
ニコチンアミドを得た。
【００６３】中間体参考合成例９ ２−アミノスルホニル−６−ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 前記中間体参考合成例５の工程〔Ｉ〕及び〔Ｉ
Ｉ〕と同様な方法で得たメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチル
アミノスルホニル−６−メチルニコチネート１１．５
ｇ）四塩化炭素１８６ｍｌ、Ｎ−ブロモスクシンイミド
１４．８４ｇ及び過酸化ベンゾイル０．６８ｇの混合物
を３時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物を濾過
し、濾液を減圧濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製してメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ
スルホニル−６−ジブロモメチルニコチネート４．５ｇ
を得た。
−ジメチルニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 前記中間体参考合成例５の工程〔Ｉ〕及び〔Ｉ
Ｉ〕と同様な方法で得たメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチル
アミノスルホニル−６−メチルニコチネート１１．５
ｇ）四塩化炭素１８６ｍｌ、Ｎ−ブロモスクシンイミド
１４．８４ｇ及び過酸化ベンゾイル０．６８ｇの混合物
を３時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物を濾過
し、濾液を減圧濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製してメチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ
スルホニル−６−ジブロモメチルニコチネート４．５ｇ
を得た。
【００６４】〔ＩＩ〕このものの４．４ｇ、エタノール
３５ｍｌ、及び水２９ｍｌの混合物に硝酸銀３．７ｇを
加え３時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物を水
中に投入し、塩化メチレンで抽出し、水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製してメチル ２−ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−ホルミルニコチ
ネート２．９２ｇを得た。
３５ｍｌ、及び水２９ｍｌの混合物に硝酸銀３．７ｇを
加え３時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物を水
中に投入し、塩化メチレンで抽出し、水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製してメチル ２−ｔ
ｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−ホルミルニコチ
ネート２．９２ｇを得た。
【００６５】〔ＩＩＩ〕 このホルミルニコチネート
０．４８ｇの塩化メチレン１９ｍｌ溶液に氷冷下ジエチ
ルアミノ三ふっ化イオウ０．６２ｇの塩化メチレン５ｍ
ｌ溶液を加え室温で１時間撹拌した。反応終了後、反応
混合物を水中投入し、塩化メチレンで抽出して水洗を行
ない、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、
メチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
ジフルオロメチルニコチネート０．２５ｇを得た。
０．４８ｇの塩化メチレン１９ｍｌ溶液に氷冷下ジエチ
ルアミノ三ふっ化イオウ０．６２ｇの塩化メチレン５ｍ
ｌ溶液を加え室温で１時間撹拌した。反応終了後、反応
混合物を水中投入し、塩化メチレンで抽出して水洗を行
ない、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、
メチル ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６−
ジフルオロメチルニコチネート０．２５ｇを得た。
【００６６】〔ＩＶ〕 このものの０．５０ｇと、ジメ
チルアミンを飽和させた無水メタノール１０ｍｌとの混
合物を室温で１晩放置した。反応終了後、反応物より溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６
−ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
０．１５ｇを得た。 〔Ｖ〕 このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＶ〕と同様の方法で、２−アミノスルホニル−６
−ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
を得た。
チルアミンを飽和させた無水メタノール１０ｍｌとの混
合物を室温で１晩放置した。反応終了後、反応物より溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノスルホニル−６
−ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
０．１５ｇを得た。 〔Ｖ〕 このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＶ〕と同様の方法で、２−アミノスルホニル−６
−ジフルオロメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド
を得た。
【００６７】中間体参考合成例１０ ２−アミノスルホニル−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ベンジルチオ−６−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド１．２ｇに酢酸５ｍｌを加え、１０
℃まで昇温し臭化水素ガスを３０分間導入し、更に３０
分間反応を行った。反応終了後、反応混合物を冷却した
後、氷水中に投入し、塩化メチレンで抽出し重ソウ水で
洗浄し、更に水洗を行った。ついで無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、塩化メチレンを留去後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して融点１０５〜１０６℃の２
−ベンジルチオ−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミド１．０ｇを得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法で融点１５４〜
１５６℃の２−アミノスルホニル−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミドを得た。前記一般式（ＩＩ−
１′）で表わされる化合物につき、その代表例を第１表
に掲載する。
ニコチンアミドの合成 〔Ｉ〕 ２−ベンジルチオ−６−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルニコチンアミド１．２ｇに酢酸５ｍｌを加え、１０
℃まで昇温し臭化水素ガスを３０分間導入し、更に３０
分間反応を行った。反応終了後、反応混合物を冷却した
後、氷水中に投入し、塩化メチレンで抽出し重ソウ水で
洗浄し、更に水洗を行った。ついで無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、塩化メチレンを留去後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して融点１０５〜１０６℃の２
−ベンジルチオ−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチ
ンアミド１．０ｇを得た。 〔ＩＩ〕このものを用い、前記中間体参考合成例１の工
程〔ＩＩＩ〕及び〔ＩＶ〕と同様の方法で融点１５４〜
１５６℃の２−アミノスルホニル−６−ブロモ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルニコチンアミドを得た。前記一般式（ＩＩ−
１′）で表わされる化合物につき、その代表例を第１表
に掲載する。
【００６８】
【表１】
【００６９】
【表２】
【００７０】
【表３】
【００７１】次に本発明の中間体から誘導される置換ピ
リジンスルホンアミド系化合物の具体的参考合成例を記
載する。参考 合成例Ｎｏ．１ ５−クロロ−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカ
ルボニル−２−ピリジンスルホンアミド（化合物Ｎｏ．
９）の合成 ２−アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミド０．３０ｇ及び２−フェノキシカルボニ
ルアミノ−４，６−ジメトキシピリミジン０．３５ｇを
無水アセトニトリル１０ｍｌに加えた懸濁液に１，８−
ジアザビシクロ〔５・４・０〕−７−ウンデセン０．１
９ｇを加え室温で４５分間反応させた。反応終了後、反
応物を水中に投入し、不溶物を濾別した後、濃塩酸で弱
酸性として塩化メチレンで抽出した。次いで無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を留去し、融点１５２〜１５５
℃の目的物０．２６ｇを得た。参考 合成例 Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１３ 前記参考合成例１と同様の方法を行ない、第２表の結果
を得た。
リジンスルホンアミド系化合物の具体的参考合成例を記
載する。参考 合成例Ｎｏ．１ ５−クロロ−Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカ
ルボニル−２−ピリジンスルホンアミド（化合物Ｎｏ．
９）の合成 ２−アミノスルホニル−５−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
ニコチンアミド０．３０ｇ及び２−フェノキシカルボニ
ルアミノ−４，６−ジメトキシピリミジン０．３５ｇを
無水アセトニトリル１０ｍｌに加えた懸濁液に１，８−
ジアザビシクロ〔５・４・０〕−７−ウンデセン０．１
９ｇを加え室温で４５分間反応させた。反応終了後、反
応物を水中に投入し、不溶物を濾別した後、濃塩酸で弱
酸性として塩化メチレンで抽出した。次いで無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を留去し、融点１５２〜１５５
℃の目的物０．２６ｇを得た。参考 合成例 Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１３ 前記参考合成例１と同様の方法を行ない、第２表の結果
を得た。
【００７２】
【表４】
【００７３】
【表５】
【００７４】参考合成例Ｎｏ．１４ Ｎ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ア
ミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２
−ピリジンスルホンアミドの合成 方法１： ２０％ホスゲンの酢酸エチル溶液６．３ｇに１５℃で２
−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジン２５０ｍｇ、
トリエチルアミン０．６５ｇ及び酢酸エチル２．５ｇの
混合溶液を滴下し、１５℃に保ちながら１時間反応を行
った。次いで、９０℃の油浴上で加温し、過剰のホスゲ
ン及び酢酸エチルを留去した後、２−アミノスルホニル
−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド３００ｍｇを１０ｍ
ｌのアセトニトリルに溶解した溶液を加え、更に０．２
ｇのトリエチルアミンを滴下し、室温で１時間反応し
た。反応終了後、生成物を水中に投入し、塩酸で酸性化
し、析出した結晶を濾取し、水洗及び乾燥を行ない０．
４６ｇの目的物を得た。
ミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２
−ピリジンスルホンアミドの合成 方法１： ２０％ホスゲンの酢酸エチル溶液６．３ｇに１５℃で２
−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジン２５０ｍｇ、
トリエチルアミン０．６５ｇ及び酢酸エチル２．５ｇの
混合溶液を滴下し、１５℃に保ちながら１時間反応を行
った。次いで、９０℃の油浴上で加温し、過剰のホスゲ
ン及び酢酸エチルを留去した後、２−アミノスルホニル
−Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド３００ｍｇを１０ｍ
ｌのアセトニトリルに溶解した溶液を加え、更に０．２
ｇのトリエチルアミンを滴下し、室温で１時間反応し
た。反応終了後、生成物を水中に投入し、塩酸で酸性化
し、析出した結晶を濾取し、水洗及び乾燥を行ない０．
４６ｇの目的物を得た。
【００７５】方法２： 〔Ｉ〕６０％水素化ナトリウムの５ｍｌジメチルホルム
アミドスラリー中に−５℃で２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．１３ｇを加え約１
時間反応させた。この中へ−５℃でジフェニルカーボネ
ート２．１４ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を
滴下した。約３０分で室温にもどし反応を完了した。反
応液を水中に投入し、塩化メチレン洗浄を行なった後、
水層を塩酸酸性とし、塩化メチレン抽出を行なった。塩
化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧
下塩化メチレンを留去した。生じた結晶を酢酸エチル、
ヘキサンより再結晶し、融点１８９〜１９４℃のＮ，Ｎ
−ジメチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニ
ルニコチンアミド０．９１ｇを得た。
アミドスラリー中に−５℃で２−アミノスルホニル−
Ｎ，Ｎ−ジメチルニコチンアミド２．１３ｇを加え約１
時間反応させた。この中へ−５℃でジフェニルカーボネ
ート２．１４ｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を
滴下した。約３０分で室温にもどし反応を完了した。反
応液を水中に投入し、塩化メチレン洗浄を行なった後、
水層を塩酸酸性とし、塩化メチレン抽出を行なった。塩
化メチレン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧
下塩化メチレンを留去した。生じた結晶を酢酸エチル、
ヘキサンより再結晶し、融点１８９〜１９４℃のＮ，Ｎ
−ジメチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニ
ルニコチンアミド０．９１ｇを得た。
【００７６】〔ＩＩ〕前記工程〔Ｉ〕で得たＮ，Ｎ−ジ
メチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニルニ
コチンアミド０．２８ｇ及び２−アミノ−４−クロロ−
６−メトキシピリミジン０．１４ｇを無水ジオキサン８
ｍｌ中に加え、還流下で約４０分間反応させた。反応終
了後、反応混合物を２００ｍｌの水中に投入し、生じた
結晶を濾取し融点１５７〜１５８．５℃のＮ−〔（４−
クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２−ピリ
ミジンスルホンアミドを０．２１ｇ得た。 〔ＩＩＩ〕 無水メタノール７ｍｌ中に金属ナトリウム
１８．３ｍｇを加えたのち前記工程〔Ｉ〕で得たＮ−
〔（４−クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−
２−ピリミジンスルホンアミド０．１１ｇを加え１２時
間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物を水中に投
入し塩酸で酸性化し、生じた結晶を濾取し水洗及び乾燥
を行ない、目的物７０ｍｇを得た。前記一般式（Ｉ）で
表わされる本発明の中間体から誘導される化合物及びそ
の塩の代表例を第３表に掲載する。
メチル−２−フェノキシカルボニルアミノスルホニルニ
コチンアミド０．２８ｇ及び２−アミノ−４−クロロ−
６−メトキシピリミジン０．１４ｇを無水ジオキサン８
ｍｌ中に加え、還流下で約４０分間反応させた。反応終
了後、反応混合物を２００ｍｌの水中に投入し、生じた
結晶を濾取し融点１５７〜１５８．５℃のＮ−〔（４−
クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）アミノカ
ルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−２−ピリ
ミジンスルホンアミドを０．２１ｇ得た。 〔ＩＩＩ〕 無水メタノール７ｍｌ中に金属ナトリウム
１８．３ｍｇを加えたのち前記工程〔Ｉ〕で得たＮ−
〔（４−クロロ−６−メトキシピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボニル−
２−ピリミジンスルホンアミド０．１１ｇを加え１２時
間加熱還流させた。反応終了後、反応混合物を水中に投
入し塩酸で酸性化し、生じた結晶を濾取し水洗及び乾燥
を行ない、目的物７０ｍｇを得た。前記一般式（Ｉ）で
表わされる本発明の中間体から誘導される化合物及びそ
の塩の代表例を第３表に掲載する。
【００７７】
【表６】
【００７８】
【表７】
【００７９】
【表８】
【００８０】
【表９】
【００８１】本発明の中間体から誘導される化合物は、
コゴメガヤツリ、ホタルイ、ハマスゲなどのカヤツリグ
サ科雑草、イヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、オヒシ
バ、カラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギなどのイ
ネ科雑草、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカ
キンゴジカ、スベリヒユ、アオビユ、エビスグサ、イヌ
ホオズキ、タデ、ハコベ、オナモミ、タネツケバナなど
の広葉雑草など、広い範囲の雑草を防除することができ
るので、その適用範囲は畑地は勿論畑地以外に果樹園、
桑畑などの農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地、
芝地などの非農耕地と多岐にわたることができ、また、
適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。
コゴメガヤツリ、ホタルイ、ハマスゲなどのカヤツリグ
サ科雑草、イヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、オヒシ
バ、カラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギなどのイ
ネ科雑草、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカ
キンゴジカ、スベリヒユ、アオビユ、エビスグサ、イヌ
ホオズキ、タデ、ハコベ、オナモミ、タネツケバナなど
の広葉雑草など、広い範囲の雑草を防除することができ
るので、その適用範囲は畑地は勿論畑地以外に果樹園、
桑畑などの農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地、
芝地などの非農耕地と多岐にわたることができ、また、
適用方法も土壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。
【００８２】特に、本発明の中間体から誘導される化合
物は、後記試験例にみる通り、トウモロコシに害を与え
ずに有害雑草を防除することができることから、非常に
有用である。本発明除草剤を施用する場合、通常は担
体、必要に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面
活性剤などの各種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、乳
剤、液剤などに製剤して使用する。有効成分化合物と農
薬用補助剤との適当な配合重量比は、一般に１：９９〜
９０：１０、望ましくは５：９５〜６０：４０である。
有効成分化合物の使用適量は気象条件、土壌条件、薬剤
の製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違によ
り一概に規定できないが、一般に１アール当りの施用有
効成分量としては０．１ｇ〜１００ｇ、望ましくは０．
２ｇ〜５０ｇ、更に望ましくは０．５ｇ〜１０ｇであ
る。
物は、後記試験例にみる通り、トウモロコシに害を与え
ずに有害雑草を防除することができることから、非常に
有用である。本発明除草剤を施用する場合、通常は担
体、必要に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面
活性剤などの各種補助剤と混合して、粒剤、水和剤、乳
剤、液剤などに製剤して使用する。有効成分化合物と農
薬用補助剤との適当な配合重量比は、一般に１：９９〜
９０：１０、望ましくは５：９５〜６０：４０である。
有効成分化合物の使用適量は気象条件、土壌条件、薬剤
の製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違によ
り一概に規定できないが、一般に１アール当りの施用有
効成分量としては０．１ｇ〜１００ｇ、望ましくは０．
２ｇ〜５０ｇ、更に望ましくは０．５ｇ〜１０ｇであ
る。
【００８３】本発明の中間体から誘導される化合物を含
有する除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、薬害軽減剤な
どと混用或いは併用することができ、この場合に一層優
れた効果・作用性を示すことがある。他の除草剤と混用
或いは併用する場合、その混合相手除草剤の有効成分と
しては、例えば次のようなものが挙げられる。その場合
相乗効果が得られることもある。 ・３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸 ・２，５−ジクロロ−３−アミノ安息香酸 ・２，４−ジクロロフェノキシ酢酸 ・４−クロロ−２−メチルフェノキシ酢酸 ・２−クロロ−４，６−ビス（エチルアミノ）−１，
３，５−トリアジン
有する除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、薬害軽減剤な
どと混用或いは併用することができ、この場合に一層優
れた効果・作用性を示すことがある。他の除草剤と混用
或いは併用する場合、その混合相手除草剤の有効成分と
しては、例えば次のようなものが挙げられる。その場合
相乗効果が得られることもある。 ・３，６−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸 ・２，５−ジクロロ−３−アミノ安息香酸 ・２，４−ジクロロフェノキシ酢酸 ・４−クロロ−２−メチルフェノキシ酢酸 ・２−クロロ−４，６−ビス（エチルアミノ）−１，
３，５−トリアジン
【００８４】・２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イ
ソプロピルアミノ−１，３，５−トリアジン ・２−（４−クロロ−６−エチルアミノ−１，３，５−
トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニ
トリル ・２−エチルアミノ−４−イソプロピルアミノ−６−メ
チルチオ−１，３，５−トリアジン ・２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシ
メチル）アセトアニリド ・２−クロロ−６′−エチル−Ｎ−（２−メトキシ−１
−メチルエチル）アセト−ｏ−トルイジド
ソプロピルアミノ−１，３，５−トリアジン ・２−（４−クロロ−６−エチルアミノ−１，３，５−
トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピオニ
トリル ・２−エチルアミノ−４−イソプロピルアミノ−６−メ
チルチオ−１，３，５−トリアジン ・２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシ
メチル）アセトアニリド ・２−クロロ−６′−エチル−Ｎ−（２−メトキシ−１
−メチルエチル）アセト−ｏ−トルイジド
【００８５】・２−クロロ−Ｎ−イソプロピルアセトア
ニリド ・２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジ−２−プロペニルアセトアミ
ド ・Ｓ−エチル ジプロピルチオカーバメート ・Ｓ−エチル ジイソブチルチオカーバメート ・Ｓ−プロピル ジプロピルチオカーバメート ・Ｎ−（１−エチルプロピル）−２，６−ジニトロ−
３，４−キシリジン ・α，α，α−トリフルオロ−２，６−ジニトロ−Ｎ，
Ｎ−ジプロピル−ｐ−トルイジン
ニリド ・２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジ−２−プロペニルアセトアミ
ド ・Ｓ−エチル ジプロピルチオカーバメート ・Ｓ−エチル ジイソブチルチオカーバメート ・Ｓ−プロピル ジプロピルチオカーバメート ・Ｎ−（１−エチルプロピル）−２，６−ジニトロ−
３，４−キシリジン ・α，α，α−トリフルオロ−２，６−ジニトロ−Ｎ，
Ｎ−ジプロピル−ｐ−トルイジン
【００８６】・２−（３，５−ジクロロフェニル）−２
−（２，２，２−トリクロロエチル）オキシラン ・３−イソプロピルー（１Ｈ）−ベンゾ−２，１，３−
チアジアジン−４−オン−２，２−ジオキシド ・３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メトキシ−
１−メチルウレア ・３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル ・２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−３−
エトキシ−４−ニトロフェニルエーテル
−（２，２，２−トリクロロエチル）オキシラン ・３−イソプロピルー（１Ｈ）−ベンゾ−２，１，３−
チアジアジン−４−オン−２，２−ジオキシド ・３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メトキシ−
１−メチルウレア ・３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル ・２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−３−
エトキシ−４−ニトロフェニルエーテル
【００８７】具体的には例えば本発明の中間体から誘導
される化合物中、Ｎ−〔４，６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）アミノカルボニル〕−３−メチルアミノカ
ルボニル（又はジメチルアミノカルボニル）−２−ピリ
ジンスルホンアミド或いは６−クロロ（又はブロモ、ジ
フルオロメチル或いはメチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３
−ジメチルアミノカルボニル−２−ピリジンスルホンア
ミドと上記混合相手除草剤中、２−クロロ−４−エチル
アミノ−６−イソプロピルアミノ−１，３，５−トリア
ジン、２−（４−クロロ−６−エチルアミノ−１，３，
５−トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピ
オニトリル、２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−
（メトキシメチル）アセトアニリド、２−クロロ−６′
−エチル−Ｎ−（２−メトキシ−１−メチルエチル）ア
セト−ｏ−トルイジド又はＮ−（１−エチルプロピル）
−２，６−ジニトロ−３，４−キシリジンとを混用した
場合、トウモロコシに薬害を与えずに、雑草をほぼ完全
に防除することができる。
される化合物中、Ｎ−〔４，６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）アミノカルボニル〕−３−メチルアミノカ
ルボニル（又はジメチルアミノカルボニル）−２−ピリ
ジンスルホンアミド或いは６−クロロ（又はブロモ、ジ
フルオロメチル或いはメチル）−Ｎ−〔（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３
−ジメチルアミノカルボニル−２−ピリジンスルホンア
ミドと上記混合相手除草剤中、２−クロロ−４−エチル
アミノ−６−イソプロピルアミノ−１，３，５−トリア
ジン、２−（４−クロロ−６−エチルアミノ−１，３，
５−トリアジン−２−イルアミノ）−２−メチルプロピ
オニトリル、２−クロロ−２′，６′−ジエチル−Ｎ−
（メトキシメチル）アセトアニリド、２−クロロ−６′
−エチル−Ｎ−（２−メトキシ−１−メチルエチル）ア
セト−ｏ−トルイジド又はＮ−（１−エチルプロピル）
−２，６−ジニトロ−３，４−キシリジンとを混用した
場合、トウモロコシに薬害を与えずに、雑草をほぼ完全
に防除することができる。
【００８８】試験例１ １／１，５００アールポットに畑作土壌をつめ、各種植
物の種を播種した。その後、植物が一定の葉令（トウモ
ロコシ２．２〜３．５葉期、小麦２．０〜３．５葉期、
オナモミ２．０〜３．５葉期、アサガオ０．５〜１．２
葉期、タデ０．５〜１．２葉期、アメリカキンゴジカ
０．１〜１．５葉期、オアビユ０．１〜１．５葉期、ヒ
エ２．０〜２．５葉期）に達したとき、供試化合物の水
和剤を所定量となるように秤量し、アール当り５リット
ルの水に希釈した。更にその水溶液に農業用展着剤を
０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉処理
した。処理後、２２〜３７日目に各種植物の生育状態を
肉眼で観察調査を行い、１０段階（１：無処理区と同様
〜１０：完全に抑制）で生育抑制程度を評価し、第４表
の結果を得た。
物の種を播種した。その後、植物が一定の葉令（トウモ
ロコシ２．２〜３．５葉期、小麦２．０〜３．５葉期、
オナモミ２．０〜３．５葉期、アサガオ０．５〜１．２
葉期、タデ０．５〜１．２葉期、アメリカキンゴジカ
０．１〜１．５葉期、オアビユ０．１〜１．５葉期、ヒ
エ２．０〜２．５葉期）に達したとき、供試化合物の水
和剤を所定量となるように秤量し、アール当り５リット
ルの水に希釈した。更にその水溶液に農業用展着剤を
０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉処理
した。処理後、２２〜３７日目に各種植物の生育状態を
肉眼で観察調査を行い、１０段階（１：無処理区と同様
〜１０：完全に抑制）で生育抑制程度を評価し、第４表
の結果を得た。
【００８９】
【表１０】
【００９０】
【表１１】
【００９１】
【表１２】
【００９２】
【表１３】
【００９３】
【表１４】
【００９４】試験例２ １／１０，０００アールポットに畑土壌を詰め、それぞ
れ別々のポットにメヒシバ、イヌホオズキを播種した。
その後、メヒシバが２葉期、イヌホオズキ０．５葉期に
生育した時、供試化合物の有効成分が所定量となるよう
に秤量し、これらをアール当り５リットルの水に希釈し
た。更にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるよ
うに加えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後２３
日目に各雑草の生育状態を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第５表の結果を得
た。
れ別々のポットにメヒシバ、イヌホオズキを播種した。
その後、メヒシバが２葉期、イヌホオズキ０．５葉期に
生育した時、供試化合物の有効成分が所定量となるよう
に秤量し、これらをアール当り５リットルの水に希釈し
た。更にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるよ
うに加えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後２３
日目に各雑草の生育状態を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第５表の結果を得
た。
【００９５】
【表１５】
【００９６】試験例３ 長さ約１５ｃｍのセイバンモロコシ地下茎を１／３，０
００アールポットに２本植え込み、温室内で生育させ
た。葉令が４〜５葉期に達した時、供試化合物の有効成
分が所定量になるように秤量し、これらをアール当り５
リットルの水に希釈した。更にこの水溶液に農業用展着
剤を０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉
散布した。処理後３５日目に、セイバンモロコシの生育
抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様の方法で生育抑
制程度を評価して、第６表の結果を得た。
００アールポットに２本植え込み、温室内で生育させ
た。葉令が４〜５葉期に達した時、供試化合物の有効成
分が所定量になるように秤量し、これらをアール当り５
リットルの水に希釈した。更にこの水溶液に農業用展着
剤を０．２％となるように加えて、小型スプレーで茎葉
散布した。処理後３５日目に、セイバンモロコシの生育
抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様の方法で生育抑
制程度を評価して、第６表の結果を得た。
【００９７】
【表１６】
【００９８】試験例４ ハマスゲ塊茎を１／１０，０００アールポットに４粒植
え込み、温室内で生育させた。葉令が３〜４期に達した
時、供試化合物の有効成分が所定量となるように秤量
し、これらをアール当り５リットルの水に希釈した。更
にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるように加
えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後５１日目に
ハマスゲの生育抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第７表の結果を得
た。
え込み、温室内で生育させた。葉令が３〜４期に達した
時、供試化合物の有効成分が所定量となるように秤量
し、これらをアール当り５リットルの水に希釈した。更
にこの水溶液に農業用展着剤を０．２％となるように加
えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後５１日目に
ハマスゲの生育抑制程度を肉眼観察し、試験例１と同様
の方法で生育抑制程度を評価して、第７表の結果を得
た。
【００９９】
【表１７】
【０１００】次に、本発明除草性組成物の製剤例を記載
する。 製剤例１ （１）ニューライト（商品名：日本耐火原料（株）製） ９７重量部 （２）ディクスゾールＷ−９２（商品名：第一工業製薬（株）製）２重量部 （３）化合物Ｎｏ．１５ １重量部 以上の各成分を混合、粉砕して粉剤が得られる。 製剤例２ （１）水溶性デンプン ５５重量部 （２）リグニンスルホン酸ソーダ ５重量部 （３）化合物Ｎｏ．５９ ４０重量部 以上の各成分を混合して水溶剤が得られる。
する。 製剤例１ （１）ニューライト（商品名：日本耐火原料（株）製） ９７重量部 （２）ディクスゾールＷ−９２（商品名：第一工業製薬（株）製）２重量部 （３）化合物Ｎｏ．１５ １重量部 以上の各成分を混合、粉砕して粉剤が得られる。 製剤例２ （１）水溶性デンプン ５５重量部 （２）リグニンスルホン酸ソーダ ５重量部 （３）化合物Ｎｏ．５９ ４０重量部 以上の各成分を混合して水溶剤が得られる。
【０１０１】 製剤例３ （１）カオリン ７８重量部 （２）ラベリンＳ（商品名：第一工業製薬（株）製） ２重量部 （３）ソルポール５０３９（商品名：東邦化学工業（株）製） ５重量部 （４）カープレックス（商品名：塩野義製薬（株）製） １５重量部 以上（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物とを
９：１の重量割合で混合して水和剤が得られる。 製剤例４ （１）珪藻土 ６３重量部 （２）ディクスゾールＷ−６６（商品名：第一工業製薬（株）製）５重量部 （３）ディクスゾールＷ−０９Ｂ（商品名：同上） ２重量部 （４）化合物Ｎｏ．２９ ３０重量部 以上の各成分を混合して水和剤が得られる。
９：１の重量割合で混合して水和剤が得られる。 製剤例４ （１）珪藻土 ６３重量部 （２）ディクスゾールＷ−６６（商品名：第一工業製薬（株）製）５重量部 （３）ディクスゾールＷ−０９Ｂ（商品名：同上） ２重量部 （４）化合物Ｎｏ．２９ ３０重量部 以上の各成分を混合して水和剤が得られる。
【０１０２】 製剤例５ （１）ハイフィラーＮｏ．１０（商品名：松村産業（株）製） ３３重量部 （２）ソルポール５０５０（商品名：東邦化学（株）製） ３重量部 （３）ソルポール５０７３（商品名：同上） ４重量部 （４）化合物Ｎｏ．３４ ６０重量部 以上の各成分を混合して、水和剤が得られる。 製剤例６ （１）フェニルスルホン酸ナトリウム ４重量部 （２）ポリカルボン酸ナトリウム ３重量部 （３）アルキルアリールスルホン酸ナトリウム １重量部 （４）カオリン １２重量部 （５）化合物Ｎｏ．２５ ８０重量部 以上の各成分に水を加え混練し、乾燥後破壊して水和剤
が得られる。
が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 213:82 239:52） (Ｃ０７Ｄ 401/12 213:00 251:00） (72)発明者 本多 千元 滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号 石 原産業株式会社 中央研究所内 (72)発明者 村井 重夫 滋賀県草津市西渋川二丁目３番１号 石 原産業株式会社 中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−50399（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（ＩＶ） 【化１】 （式中、Ｚ１は−ＮＨ２ 基である）で表わされる置換ピ
リジン系化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6296016A JP2567353B2 (ja) | 1986-01-30 | 1994-11-07 | 置換ピリジン系化合物 |
Applications Claiming Priority (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1900686 | 1986-01-30 | ||
| JP61-19006 | 1986-01-30 | ||
| JP61019863 | 1986-01-31 | ||
| JP61-19863 | 1986-01-31 | ||
| JP8684786 | 1986-04-15 | ||
| JP61-86847 | 1986-04-15 | ||
| JP61-178489 | 1986-07-29 | ||
| JP17848986 | 1986-07-29 | ||
| JP6296016A JP2567353B2 (ja) | 1986-01-30 | 1994-11-07 | 置換ピリジン系化合物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62017323A Division JP2567235B2 (ja) | 1986-01-30 | 1987-01-29 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物、それらを含有する除草剤並びにそれらの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8135697A Division JPH0912553A (ja) | 1986-01-30 | 1996-05-07 | 置換ピリジン系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07252227A JPH07252227A (ja) | 1995-10-03 |
| JP2567353B2 true JP2567353B2 (ja) | 1996-12-25 |
Family
ID=27520102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6296016A Expired - Lifetime JP2567353B2 (ja) | 1986-01-30 | 1994-11-07 | 置換ピリジン系化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2567353B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA871590B (en) * | 1986-03-07 | 1988-11-30 | Du Pont | Herbicidal pyridine sulfonamides |
-
1994
- 1994-11-07 JP JP6296016A patent/JP2567353B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07252227A (ja) | 1995-10-03 |
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