JP2566125B2 - Flow-through ultrasonic cleaning device - Google Patents

Flow-through ultrasonic cleaning device

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JP2566125B2
JP2566125B2 JP6304620A JP30462094A JP2566125B2 JP 2566125 B2 JP2566125 B2 JP 2566125B2 JP 6304620 A JP6304620 A JP 6304620A JP 30462094 A JP30462094 A JP 30462094A JP 2566125 B2 JP2566125 B2 JP 2566125B2
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cleaning device
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直明 桜井
好英 諏訪
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、流液式超音波洗浄装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flow type ultrasonic cleaning device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置、液晶表示装置等の製造にお
いては、多数回のエッチング工程がなされ、その都度洗
浄することが行われている。上述した洗浄工程では、従
来より図4に示す構造の超音波洗浄装置が使用されてい
る。即ち、図4において本体1は一端が砲弾形をなし、
その端部には噴射口2が開口されている。振動板3は、
前記噴射口2と反対側の前記本体1の内部に設けられ、
かつ振動子4は前記噴射口2と反対側の前記振動板3の
面に取り付けられている。前記振動子4は、リード線5
を通して図示しない超音波発振器に接続されている。洗
浄液の導入管6は、前記噴射口2と振動板3の間に位置
する前記本体1の側壁に挿着されている。かかる構成の
装置によれば、導入管6から洗浄液を本体1内に導入
し、振動子4で振動させた振動板3の音波に乗せて本体
1の噴射口2から噴射させる。
2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductor devices, liquid crystal display devices and the like, a number of etching steps are performed, and cleaning is performed each time. In the above-mentioned cleaning process, the ultrasonic cleaning device having the structure shown in FIG. 4 has been conventionally used. That is, in FIG. 4, the main body 1 has a shell shape at one end,
The injection port 2 is opened at the end thereof. The diaphragm 3 is
It is provided inside the main body 1 on the side opposite to the injection port 2,
Moreover, the vibrator 4 is attached to the surface of the vibrating plate 3 on the side opposite to the ejection port 2. The vibrator 4 includes a lead wire 5
Through an ultrasonic oscillator (not shown). The cleaning liquid introducing pipe 6 is inserted into the side wall of the main body 1 located between the jet port 2 and the vibration plate 3. According to the apparatus having such a configuration, the cleaning liquid is introduced into the main body 1 from the introduction pipe 6, and the cleaning liquid is put on the sound wave of the vibration plate 3 vibrated by the vibrator 4 and ejected from the ejection port 2 of the main body 1.

【0003】しかしながら、上述した構成の洗浄装置の
噴射口2は丸形で、洗浄範囲が狭いため、液晶表示装置
の製造に用いられる大面積のガラス基板等を洗浄するの
には不向きであった。
However, since the jet port 2 of the above-described cleaning device is round and has a narrow cleaning range, it is not suitable for cleaning a large area glass substrate or the like used for manufacturing a liquid crystal display device. .

【0004】このようなことから、最近、大面積の被処
理基板に対して洗浄が可能な流液式超音波洗浄装置とし
て図5に示す構造のものが知られている。即ち、図5に
おいて本体11の内部には垂直方向に延びる隔壁12が
配置されている。3つの邪魔板13は、前記隔壁12で
区画された本体11内に水平方向に設けられて層流室1
4を形成している。前記奇数番目の邪魔板13は前記本
体11内面と離間し、偶数番目の邪魔板13は前記隔壁
12と離間して配置されている。洗浄液の導入管15
は、前記本体11に前記層流室14の前段部と連通する
ように設けられている。細長状の噴射口16は、前記本
体11の底面に前記層流室14の後段部と連通するよう
に開孔されている。振動機構17は、前記隔壁12で区
画された本体11の別の空間内に設けられ、かつ該振動
機構17の振動板18は前記噴射口16と対向するよう
に配置されている。
For this reason, recently, a flow-type ultrasonic cleaning device capable of cleaning a large-area substrate to be processed has a structure shown in FIG. That is, in FIG. 5, the partition wall 12 extending in the vertical direction is arranged inside the main body 11. The three baffle plates 13 are horizontally provided in the main body 11 divided by the partition wall 12 to form the laminar flow chamber 1.
4 are formed. The odd-numbered baffle plates 13 are spaced from the inner surface of the main body 11, and the even-numbered baffle plates 13 are spaced from the partition wall 12. Cleaning liquid introduction pipe 15
Are provided in the main body 11 so as to communicate with the front stage portion of the laminar flow chamber 14. The elongated injection port 16 is opened on the bottom surface of the main body 11 so as to communicate with the subsequent stage of the laminar flow chamber 14. The vibrating mechanism 17 is provided in another space of the main body 11 partitioned by the partition wall 12, and the vibrating plate 18 of the vibrating mechanism 17 is arranged so as to face the ejection port 16.

【0005】上述した図4図示の構成によれば、導入管
15から洗浄液を本体11の層流室14内に導入する
と、洗浄液は矢印に示すように複数の邪魔板13を迂回
することにより層流状態となって本体11底面に開孔さ
れた細長状の噴射口16に移動し、振動機構17で振動
させた振動板18の音波にのせて前記噴射口16から帯
状となって噴射させる。しかしながら、かかる構造の洗
浄装置では層流室14で層流化された洗浄液がその後段
の噴射口16が開孔された付近で本体11内面に衝突し
て乱れが生じる。このため、振動板18で発生した音波
を安定的に洗浄液にのせて噴射口16から噴射すること
ができなくなる問題があった。また、洗浄液中に巻き込
まれた気泡が振動板18に付着すると、構造上、洗浄液
の流れにより該気泡を振動板18から離脱できないた
め、振動効果及び装置寿命を損なう問題があった。
According to the configuration shown in FIG. 4 described above, when the cleaning liquid is introduced into the laminar flow chamber 14 of the main body 11 from the introduction pipe 15, the cleaning liquid bypasses the plurality of baffle plates 13 as shown by the arrows to form a layer. In a flowing state, the liquid moves to the elongated ejection port 16 formed in the bottom surface of the main body 11, and is ejected in the form of a strip from the ejection port 16 on the sound wave of the diaphragm 18 vibrated by the vibrating mechanism 17. However, in the cleaning device having such a structure, the cleaning liquid laminarized in the laminar flow chamber 14 collides with the inner surface of the main body 11 in the vicinity of the opening of the injection port 16 in the subsequent stage, causing turbulence. Therefore, there is a problem that the sound wave generated by the vibration plate 18 cannot be stably placed on the cleaning liquid and ejected from the ejection port 16. Further, if the bubbles entrapped in the cleaning liquid adhere to the vibration plate 18, the bubbles cannot be separated from the vibration plate 18 due to the structure of the cleaning liquid, which causes a problem that the vibration effect and the life of the apparatus are impaired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
課題を解決するためになされたもので、噴射口から洗浄
液を帯状に安定して噴射でき、大面積の被処理基板への
洗浄に適した流液式超音波洗浄装置を提供しようとする
ものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art. It is possible to stably inject a cleaning liquid in a strip shape from an injection port, and to clean a large-area substrate to be processed. An object of the present invention is to provide a suitable flow type ultrasonic cleaning device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係わる流液式超
音波洗浄装置は、液体流入部、液体排出部および前記液
体流入部と液体排出部とを直線的に結ぶ液体の流通路を
有する本体と、前記本体の下部に前記液体の流通方向を
横切る方向に細長状に開口された液体噴射口と、前記液
体噴射口と対向し、前記流通路が形成される前記本体部
分に設置された前記液体に超音波を印加するための手段
とを具備したことを特徴とするものである。
A flow type ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention has a liquid inflow portion, a liquid discharge portion, and a liquid flow passage linearly connecting the liquid inflow portion and the liquid discharge portion. A main body, a liquid ejection port that is formed in a lower portion of the main body in an elongated shape in a direction transverse to the flow direction of the liquid, and a main body portion that faces the liquid ejection port and that forms the flow passage. And a means for applying ultrasonic waves to the liquid.

【0008】前記液体流入部は、流通する液体の入口側
の流路幅に比べて前記流通路側の流路幅が大なる形状を
有することを許容する。前記液体流入部は、流路幅が入
口側から前記流通路側に向かって暫時拡大された形状を
有することを許容する。
The liquid inflow section allows the liquid flow path to have a shape in which the flow path width on the flow passage side is larger than the flow path width on the inlet side of the liquid. The liquid inflow portion allows the flow passage width to have a shape that is temporarily enlarged from the inlet side toward the flow passage side.

【0009】前記液体流入部は、流通する液体の入口側
の流路高さに比べて前記流通路側の流路高さが大なる形
状を有することを許容する。前記液体排出部は、流通す
る液体の出口側の流路幅に比べて前記流通路側の流路幅
が大なる形状を有することを許容する。
The liquid inflow portion is allowed to have a shape in which the height of the flow path on the side of the flow passage is larger than the height of the flow path on the side of the inlet of the circulating liquid. The liquid discharge portion allows the flow passage side flow passage width to be larger than the flow passage side flow passage width of the flowing liquid.

【0010】前記液体排出部は、流路幅が前記流通路側
から出口側に向かって暫時縮小された形状を有すること
を許容する。前記液体排出部は、流通する液体の出口側
の流路高さに比べて前記流通路側の流路高さが大なる形
状を有することを許容する。
The liquid discharge portion allows the flow passage width to have a shape that is temporarily reduced from the flow passage side toward the outlet side. The liquid discharge part allows the flow path on the side of the flow passage to have a shape larger than the flow path on the side of the outlet of the flowing liquid.

【0011】前記液体噴射口は、前記本体の底部に前記
液体の流通方向と直交する方向に細長状に開口されてい
ることを許容する。前記液体噴射口から前記液体流入部
に延出する前記本体壁面は、曲面状に立上がった形状を
有することを許容する。
The liquid jetting port allows the bottom of the main body to be opened in a slender shape in a direction orthogonal to the flow direction of the liquid. The main body wall surface extending from the liquid ejection port to the liquid inflow portion is allowed to have a curved and upright shape.

【0012】前記液体噴射口から前記液体排出部に延出
する前記本体壁面は、曲面状に立上がった形状を有する
ことを許容する。前記超音波を印加するための手段は、
超音波を発生する振動板であることを許容する。前記超
音波を印加するための手段の位置から前記液体流入部側
に寄った前記流通路部分は、一定の幅を有することを許
容する。
The wall surface of the main body extending from the liquid ejection port to the liquid discharge portion is allowed to have a curved and upright shape. Means for applying the ultrasonic wave,
Allows the diaphragm to generate ultrasonic waves. The flow passage portion near the liquid inflow portion side from the position of the means for applying the ultrasonic wave is allowed to have a constant width.

【0013】[0013]

【作用】本発明に係わる流液式超音波洗浄装置は、液体
流入部、液体排出部および前記液体流入部と液体排出部
の間を直線的に結ぶ液体の流通路を有する本体と、前記
本体の下部に前記液体の流通方向を横切る方向に細長状
に開口された液体噴射口と、前記液体噴射口と対向し、
前記流通路が形成される前記本体部分に設置された前記
液体に超音波を印加するための手段とを具備する。この
ような構成において、洗浄液を前記本体の液体流入部か
ら流通路に供給すると、前記本体内に供給された洗浄液
の一部を常に前記液体噴射口と対向する前記振動板の液
接触面を流通させることができるため、前記振動板への
気泡の付着を防止できる。したがって、前記振動板で発
生した超音波を安定的に洗浄液にのせて細長状の前記液
体噴射口から帯状に噴射でき、大面積の被処理基板を効
率よく洗浄することができる。
A flow type ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention includes a main body having a liquid inflow portion, a liquid discharge portion, and a liquid flow passage linearly connecting the liquid inflow portion and the liquid discharge portion, and the main body. A liquid ejection port opened in a slender shape in the lower part of the liquid in a direction transverse to the flow direction, and facing the liquid ejection port,
Means for applying ultrasonic waves to the liquid, which is installed in the body portion where the flow passage is formed. In such a configuration, when the cleaning liquid is supplied from the liquid inflow portion of the main body to the flow passage, a part of the cleaning liquid supplied into the main body always flows through the liquid contact surface of the vibrating plate facing the liquid ejection port. Therefore, it is possible to prevent bubbles from adhering to the diaphragm. Therefore, the ultrasonic waves generated by the vibrating plate can be stably placed on the cleaning liquid and ejected in a strip shape from the elongated liquid ejection port, and a large-area substrate can be efficiently cleaned.

【0014】また、前記液体流入部を流通する液体の入
口側の流路幅に比べて前記流通路側の流路幅が大なる形
状とする、特に流路幅を前記入口から前記流通路側に向
かって暫時拡大した形状にし、かつ前記液体排出部を流
通する液体の出口側の流路幅に比べて前記流通路側の流
路幅が大なる形状にする、特に流路幅が前記流通路側か
ら出口側に向かって暫時縮小した形状にすることによっ
て、前記入口から供給された洗浄液を前記振動板が配置
された前記流通路内を層流状態で流通させることができ
る。とりわけ、前記振動板の位置から前記液体流入部側
に寄った前記流通路部分を一定の幅にすることによっ
て、前記入口から供給された洗浄液を前記振動板が配置
された前記流通路内を一層良好な層流状態で流通させる
ことができる。その結果、前記振動板で発生した超音波
をより安定的に洗浄液にのせて細長状の前記液体噴射口
から帯状に噴射でき、大面積の被処理基板を効率よく洗
浄することができる。
Further, the flow path width on the side of the flow passage is larger than the flow path width on the side of the inlet side of the liquid flowing through the liquid inflow portion, and particularly, the flow path width extends from the inlet to the side of the flow path. And a shape in which the flow passage width on the flow passage side is larger than the flow passage width on the outlet side of the liquid flowing through the liquid discharge portion, in particular, the flow passage width is the outlet from the flow passage side. The cleaning liquid supplied from the inlet can be made to flow in a laminar flow state in the flow passage in which the vibrating plate is arranged by forming the shape that is temporarily reduced toward the side. In particular, by making the flow passage portion near the liquid inflow portion side from the position of the vibration plate to have a constant width, the cleaning liquid supplied from the inlet can be further introduced into the flow passage in which the vibration plate is arranged. It can be distributed in a good laminar flow state. As a result, the ultrasonic waves generated by the vibrating plate can be more stably applied to the cleaning liquid and ejected in a strip shape from the elongated liquid ejection port, and a large-area substrate can be efficiently cleaned.

【0015】さらに、前記液体流入部を流通する液体の
入口側の流路高さに比べて前記流通路側の流路高さが大
なる形状にする、特に前記液体噴射口の位置から前記液
体流入部に延出する前記本体壁面を曲面状に立上がった
形状にすることによって、前記曲面状に傾斜した本体の
底面が洗浄液の案内部として作用するため、細長状の前
記液体噴射口から洗浄液を帯状にかつ高い指向性を持た
せて噴射でき、被処理基板の洗浄効率を著しく向上する
ことが可能になる。
Further, the height of the flow passage on the side of the flow passage is larger than the height of the flow passage on the inlet side of the liquid flowing through the liquid inflow portion, and in particular, the liquid inflow from the position of the liquid injection port. Since the bottom surface of the body inclined to the curved surface acts as a guide portion for the cleaning liquid by forming the curved surface of the main body wall surface extending to the portion, the cleaning liquid is discharged from the elongated liquid injection port. It is possible to jet in a band shape and with high directivity, and it is possible to significantly improve the cleaning efficiency of the substrate to be processed.

【0016】さらに、前記液体排出部を流通する液体の
出口側の流路高さに比べて前記流通路側の流路高さが大
なる形状にする、特に前記液体噴射口から前記液体排出
部に延出する前記本体壁面を曲面状に立上がった形状に
することによって、前記本体内に供給された洗浄液の一
部を前記液体噴射口と対向する前記振動板の液接触面を
より確実に流通させることができるため、前記振動板へ
の気泡の付着を防止できる。したがって、前記振動板で
発生した超音波を安定的に洗浄液にのせて細長状の前記
液体噴射口から帯状に噴射でき、大面積の被処理基板を
効率よく洗浄することができる。しかも、前記液体排出
部を前述した形状にすることによって前記排出部からの
洗浄液の排出を絞ることができる。その結果、前記液体
排出部から排出される洗浄液の排出量と噴射口から噴射
される洗浄液の噴射量との比を同等、或いは噴射量が多
くなるようにできるため、洗浄液の供給量を少なくして
も噴射口から十分な量の洗浄液を噴射することができ、
ランニングコスト等の低減化を達成できる。
Further, the flow path height on the flow passage side is larger than the flow path height on the outlet side of the liquid flowing through the liquid discharge section, particularly from the liquid injection port to the liquid discharge section. By making the extending wall surface of the main body rise in a curved shape, a part of the cleaning liquid supplied into the main body is more reliably circulated through the liquid contact surface of the diaphragm facing the liquid ejection port. Therefore, it is possible to prevent bubbles from adhering to the diaphragm. Therefore, the ultrasonic waves generated by the vibrating plate can be stably placed on the cleaning liquid and ejected in a strip shape from the elongated liquid ejection port, and a large-area substrate can be efficiently cleaned. Moreover, by making the liquid discharge part have the above-described shape, the discharge of the cleaning liquid from the discharge part can be restricted. As a result, the ratio of the discharge amount of the cleaning liquid discharged from the liquid discharge portion and the injection amount of the cleaning liquid injected from the injection port can be made equal or the injection amount can be increased, so that the supply amount of the cleaning liquid can be reduced. Even if you can spray a sufficient amount of cleaning liquid from the injection port,
It is possible to reduce running costs.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の実施例を図1〜図3を参照し
て詳細に説明する。図1は、流液式超音波洗浄装置を示
す断面図、図2は図1の洗浄装置の平面図、図3は図1
の洗浄装置の要部拡大断面図である。本体21は、前後
段が開孔されて内部に液体が流通するものである。前記
本体21の前段には液体流入部22が、後段には液体排
出部23が、それぞれ一体的に取り付けられている。前
記液体流入部22と前記液体排出部23とを直線的に結
ぶ前記本体21の領域には、液体の流通路46が形成さ
れている。細長状の噴射口24は、前記本体21の下壁
25に前記本体21の長手方向と直交するように開孔さ
れている。矩形状の穴26は、図3に示すように前記噴
射口24に対向する前記本体21の上壁27に開孔さ
れ、かつ前記穴26の周辺の前記上壁27には段差部2
8が形成されている。振動機構29は、振動子支持部材
30を備え、かつ前記支持部材30は前記本体21の上
壁27の段差部28にネジ31及びナット32により前
記上壁27下面と面一となるように固定されている。O
リング33は、前記上壁27の段差部28と前記支持部
材30の間に介装されている。前記支持部材30の中心
付近の上面には、周囲にネジが切られた突起部34が設
けられ、かつ前記突起部34の中心から下面にかけて二
段の穴35a、35bが貫通されている。前記上段の穴
35aは、ネジ切り加工されている。前記下段の穴35
bの開口部を含む前記支持部材30下面には、振動板を
収納するための矩形状凹部36が形成されている。圧電
素子37は、前記下段の穴35b内に圧入されている。
振動板38は、前記矩形状凹部36内に収納されている
と共に前記圧電素子37の下面に固定されている。つま
り、前記振動板38は前記上壁27の下面と面一に、か
つ前記本体21内の流通路を流通する洗浄液と接触する
ように固定されている。中空状の押さえ部材39は、前
記穴35a、35bに亘って挿入され、かつダブルナッ
ト40は前記上段の穴35aに螺合されて前記押さえ部
材39を押圧している。ソケット41は、前記本体21
の上壁27の突起部34に螺合されている。リード線42
は、前記圧電素子37に接続され、前記押さえ部材3
9、ダブルナット40及びソケット41を通して外部に
延出され、図示しない発振器に接続されている。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to FIGS. 1 is a cross-sectional view showing a flow type ultrasonic cleaning apparatus, FIG. 2 is a plan view of the cleaning apparatus of FIG. 1, and FIG. 3 is FIG.
FIG. 3 is an enlarged sectional view of a main part of the cleaning device of FIG. The main body 21 has an opening at the front and the rear, and a liquid flows inside. A liquid inflow portion 22 is integrally attached to a front stage of the main body 21, and a liquid discharge portion 23 is integrally attached to a rear stage thereof. A liquid flow passage 46 is formed in a region of the main body 21 that linearly connects the liquid inflow portion 22 and the liquid discharge portion 23. The elongated injection port 24 is opened in the lower wall 25 of the main body 21 so as to be orthogonal to the longitudinal direction of the main body 21. As shown in FIG. 3, the rectangular hole 26 is opened in the upper wall 27 of the main body 21 facing the injection port 24, and the step portion 2 is formed in the upper wall 27 around the hole 26.
8 are formed. The vibration mechanism 29 includes a vibrator support member 30, and the support member 30 is fixed to the step portion 28 of the upper wall 27 of the main body 21 by a screw 31 and a nut 32 so as to be flush with the lower surface of the upper wall 27. Has been done. O
The ring 33 is interposed between the step portion 28 of the upper wall 27 and the support member 30. On the upper surface near the center of the support member 30, a threaded projection 34 is provided, and two tiered holes 35a, 35b are penetrated from the center of the projection 34 to the lower surface. The upper hole 35a is threaded. The lower hole 35
A rectangular recess 36 for accommodating the diaphragm is formed on the lower surface of the support member 30 including the opening b. The piezoelectric element 37 is press-fitted in the lower hole 35b.
The vibrating plate 38 is housed in the rectangular recess 36 and is fixed to the lower surface of the piezoelectric element 37. That is, the vibrating plate 38 is fixed so as to be flush with the lower surface of the upper wall 27 and to come into contact with the cleaning liquid flowing through the flow passage in the main body 21. The hollow pressing member 39 is inserted over the holes 35a and 35b, and the double nut 40 is screwed into the upper hole 35a to press the pressing member 39. The socket 41 is the main body 21.
It is screwed onto the protrusion 34 of the upper wall 27. Lead wire 42
Is connected to the piezoelectric element 37, and the pressing member 3
9, it is extended to the outside through the double nut 40 and the socket 41, and is connected to an oscillator (not shown).

【0018】前記液体流入部22は、流路幅が入口43
から前記流通路46に向かって暫時拡大された形状をな
している。前記液体流入部22と本体21の振動機構2
9の取り付け位置までの間には、流路幅が一定の区域4
4を形成している。この区域44から前記噴射口24に
亘る下壁25部分は、曲面状に傾斜した形状をなしてい
る。
The liquid inflow portion 22 has a channel width of an inlet 43.
To the flow passage 46, the shape is enlarged for a while. Vibration mechanism 2 of the liquid inflow portion 22 and the main body 21
Area 4 with a constant flow path width up to the mounting position of 9
4 are formed. A portion of the lower wall 25 extending from the area 44 to the injection port 24 has a curved surface inclined shape.

【0019】前記液体排出部23は流路幅が前記流通路
46から出口45に向かって暫時縮小した形状をなして
いる。前記噴射口24から前記液体排出部23に向かう
前記本体21の下壁25部分は、曲面状に立ち上がった
形状をなし、かつ前記液体排出部23の下壁は前記本体
21の立ち上がり下壁25と一体化されて曲面状に立ち
上がり、流路高さが前記出口45に向かって暫時縮小し
た形状をなしている。なお、前記入口43及び出口45
には洗浄液導入管、洗浄液排出管(いずれも図示せず)
が連結されている。
The liquid discharge part 23 has a shape in which the flow path width is gradually reduced from the flow passage 46 toward the outlet 45. A portion of the lower wall 25 of the main body 21 that extends from the ejection port 24 toward the liquid discharge portion 23 has a curved shape, and the lower wall of the liquid discharge portion 23 is a rising lower wall 25 of the main body 21. It is integrated and rises in a curved shape, and the flow path height is temporarily reduced toward the outlet 45. The inlet 43 and the outlet 45
A cleaning liquid inlet pipe and a cleaning liquid discharge pipe (both not shown)
Are connected.

【0020】このような構成によれば、導入管から洗浄
液を液体流入部22に導入すると、前記液体流入部22
は流路幅が入口43から前記流通路46に向かって暫時
拡大された形状をなし、かつ振動機構29との境界に本
体21と同幅の区域44を形成しているため、前記洗浄
液は層流状態で前記振動板38が位置する流通路46内
に導入される。この状態でリード線42を通して振動機
構29の圧電素子37を振動させと、振動板38は安定
して振動し、前記振動板38に対向して本体21の下壁
25に開孔された細長状の噴射口24から洗浄液が超音
波にのって帯状に噴射される。この噴射に際して細長状
の噴射口24近傍の下壁25は、曲面上に立ち上がった
形状をなし、洗浄液の案内部として作用するため、細長
状の液体噴射口24から洗浄液を帯状にかつ高い指向性
を持たせて噴射される。
According to this structure, when the cleaning liquid is introduced into the liquid inflow portion 22 from the introduction pipe, the liquid inflow portion 22 is introduced.
Has a shape in which the flow passage width is temporarily enlarged from the inlet 43 toward the flow passage 46, and forms a region 44 having the same width as the main body 21 at the boundary with the vibration mechanism 29. In the flow state, the vibration plate 38 is introduced into the flow passage 46 in which the vibration plate 38 is located. When the piezoelectric element 37 of the vibrating mechanism 29 is vibrated through the lead wire 42 in this state, the vibrating plate 38 vibrates stably, and the elongated shape is formed in the lower wall 25 of the main body 21 so as to face the vibrating plate 38. The cleaning liquid is ejected in the form of a band from the ejection port 24 of the ultrasonic wave. At the time of this ejection, the lower wall 25 in the vicinity of the elongated ejection port 24 has a shape that rises on a curved surface and acts as a guide portion for the cleaning liquid. Therefore, the cleaning liquid is striped from the elongated liquid ejection port 24 and has high directivity. Is ejected.

【0021】また、前記噴射口24から前記液体排出部
23に向かう前記本体21の下壁25部分が曲面状に立
ち上がった形状をなし、かつ前記液体排出部23の下壁
が前記本体21の立ち上がり下壁25と一体化されて曲
面状に立ち上がり、流路高さが暫時縮小した形状をなし
ているため、前記流通路46に流入された洗浄液の一部
は常に前記流通路本体21及び排出部23の上壁を流通
する、つまり前記上壁の下面と面一に設けられた前記振
動板38の液接触面を流通し、振動板38への気泡の付
着が防止される。
Further, the lower wall 25 portion of the main body 21 extending from the jet port 24 toward the liquid discharge portion 23 has a curved shape, and the lower wall of the liquid discharge portion 23 rises up of the main body 21. Since it is integrated with the lower wall 25 and rises in a curved shape and the flow path height is temporarily reduced, a part of the cleaning liquid introduced into the flow path 46 is always part of the flow path body 21 and the discharge part. 23 flows through the upper wall, that is, flows through the liquid contact surface of the vibrating plate 38 which is provided flush with the lower surface of the upper wall, and prevents bubbles from adhering to the vibrating plate 38.

【0022】さらに、液体排出部23の下壁を曲面状に
立ち上がる形状とし、かつ前記流通路46から前記出口
45に向けて流路幅を暫時縮小する形状とすることによ
って、前記排出部23からの洗浄液の排出が絞られ、こ
こからの洗浄液の排出量と前記噴射口24から噴射され
る洗浄液の噴射量との比を同等、或いは噴射量が多くな
るよう制御され、洗浄液の供給量を少なくしても噴射口
24から十分な量の洗浄液が噴射される。
Further, by making the lower wall of the liquid discharge part 23 stand up in a curved shape and reducing the width of the flow path from the flow passage 46 toward the outlet 45 for a while, The discharge amount of the cleaning liquid is narrowed down, and the ratio of the discharge amount of the cleaning liquid from here to the injection amount of the cleaning liquid ejected from the injection port 24 is controlled to be equal to or increased, so that the supply amount of the cleaning liquid is reduced. Even then, a sufficient amount of cleaning liquid is ejected from the ejection port 24.

【0023】したがって、前記振動板38で発生した超
音波を安定的に洗浄液にのせて細長状の噴射口24から
帯状に噴射でき、大面積のガラス基板等の被処理基板を
良好かつ効率よく洗浄でき、しかも洗浄液の供給量を少
なくしても噴射口から十分な量の洗浄液を噴射すること
ができ、ランニングコスト等の低減化を達成できる。な
お、振動板の取り付け構造は上記実施例のように圧電素
子で固定する場合に限定されない。
Therefore, the ultrasonic waves generated by the vibrating plate 38 can be stably placed on the cleaning liquid and ejected in a strip shape from the elongated ejection port 24, so that the substrate to be processed such as a large-area glass substrate can be cleaned satisfactorily and efficiently. Even if the supply amount of the cleaning liquid is reduced, a sufficient amount of the cleaning liquid can be injected from the injection port, and the running cost can be reduced. The mounting structure of the diaphragm is not limited to the case of fixing with the piezoelectric element as in the above embodiment.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上詳述したように本発明にによれば、
細長状の噴射口から洗浄液を帯状に安定して噴射でき、
ひいては液晶表示素子や半導体装置の製造工程における
大面積のガラス基板や半導体基板などの被処理基板への
効率的な洗浄に適した流液式超音波洗浄装置を提供でき
る。
As described in detail above, according to the present invention,
Cleaning liquid can be stably ejected in a strip shape from the elongated ejection port,
Consequently, it is possible to provide a flow type ultrasonic cleaning apparatus suitable for efficient cleaning of a substrate to be processed such as a large area glass substrate or semiconductor substrate in a manufacturing process of a liquid crystal display element or a semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の流液式超音波洗浄装置を示す
断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing a flow type ultrasonic cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の洗浄装置の平面図。FIG. 2 is a plan view of the cleaning device of FIG.

【図3】図1の洗浄装置の要部拡大断面図。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the cleaning device of FIG.

【図4】従来の流液式超音波洗浄装置を示す断面図。FIG. 4 is a sectional view showing a conventional flow type ultrasonic cleaning device.

【図5】従来の別の流液式超音波洗浄装置を示す断面
図。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing another conventional flow-type ultrasonic cleaning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21…本体、22…液体流入部、23…液体排出部、2
4…細長状の噴射口、25…下壁、27…上壁、29…
振動機構、30…振動子支持部材、37…圧電素子、3
8…振動板、43…入口、44…区域、45…出口、4
6…流通路。
21 ... Main body, 22 ... Liquid inflow part, 23 ... Liquid discharge part, 2
4 ... elongate injection port, 25 ... lower wall, 27 ... upper wall, 29 ...
Vibration mechanism, 30 ... Oscillator support member, 37 ... Piezoelectric element, 3
8 ... Vibration plate, 43 ... Inlet, 44 ... Area, 45 ... Exit, 4
6 ... Flow passage.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−95521(JP,A) 特開 平5−200370(JP,A) 特開 平3−47578(JP,A) 特開 平6−461(JP,A) 特開 平6−252119(JP,A) 特開 平6−304536(JP,A) 特開 平6−320125(JP,A) 実開 平3−9901(JP,U) 実開 平5−56285(JP,U) 特公 平7−77209(JP,B2) 特公 平6−73657(JP,B2) 実公 昭41−128(JP,Y1) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-1-95521 (JP, A) JP-A-5-200370 (JP, A) JP-A-3-47578 (JP, A) JP-A-6- 461 (JP, A) JP-A-6-252119 (JP, A) JP-A-6-304536 (JP, A) JP-A-6-320125 (JP, A) Actual Kaihei 3-9901 (JP, U) Actual Kaihei 5-56285 (JP, U) Japanese Patent 7-77209 (JP, B2) Japanese Official 6-73657 (JP, B2) Japanese Official 41-128 (JP, Y1)

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 液体流入部、液体排出部および前記液体
流入部と液体排出部とを直線的に結ぶ液体の流通路を有
する本体と、 前記本体の下部に前記液体の流通方向を横切る方向に細
長状の開口された液体噴射口と、 前記液体噴射口に対向し、前記流通路が形成される前記
本体部分に設置された前記液体に超音波を印加するため
の手段とを具備したことを特徴とする流液式超音波洗浄
装置。
1. A main body having a liquid inflow portion, a liquid discharge portion, and a liquid flow passage that linearly connects the liquid inflow portion and the liquid discharge portion, and a lower portion of the main body in a direction transverse to the liquid flow direction. A liquid ejection port having an elongated opening, and means for applying ultrasonic waves to the liquid, which is installed in the body portion facing the liquid ejection port and in which the flow passage is formed, Characteristic flow type ultrasonic cleaning device.
【請求項2】 前記液体流入部は、流通する液体の入口
側の流路幅に比べて前記流通路側の流路幅が大なる形状
を有することを特徴とする請求項1記載の流液式超音波
洗浄装置。
2. The liquid flow type according to claim 1, wherein the liquid inflow portion has a shape in which the flow passage width on the flow passage side is larger than the flow passage width on the inlet side of the flowing liquid. Ultrasonic cleaning device.
【請求項3】 前記液体流入部は、流路幅が入口側から
前記流通路側に向かって暫時拡大された形状を有するこ
とを特徴とする請求項2記載の流液式超音波洗浄装置。
3. The flow type ultrasonic cleaning device according to claim 2, wherein the liquid inflow portion has a shape in which a flow channel width is temporarily enlarged from an inlet side toward the flow passage side.
【請求項4】 前記液体流入部は、流通する液体の入口
側の流路高さに比べて前記流通路側の流路高さが大なる
形状を有することを特徴とする請求項1記載の流液式超
音波洗浄装置。
4. The flow according to claim 1, wherein the liquid inflow portion has a shape in which the flow path height on the flow passage side is larger than the flow path height on the inlet side of the circulating liquid. Liquid ultrasonic cleaning device.
【請求項5】 前記液体排出部は、流通する液体の出口
側の流路幅に比べて前記流通路側の流路幅が大なる形状
を有することを特徴とする請求項1記載の流液式超音波
洗浄装置。
5. The liquid flow type according to claim 1, wherein the liquid discharge portion has a shape in which a flow passage width on the flow passage side is larger than a flow passage width on the outlet side of the liquid flowing therethrough. Ultrasonic cleaning device.
【請求項6】 前記液体排出部は、流路幅が前記流通路
側から出口側に向かって暫時縮小された形状を有するこ
とを特徴とする請求項5記載の流液式超音波洗浄装置。
6. The flow type ultrasonic cleaning apparatus according to claim 5, wherein the liquid discharge portion has a shape in which a flow passage width is temporarily reduced from the flow passage side toward the outlet side.
【請求項7】 前記液体排出部は、流通する液体の出口
側の流路高さに比べて前記流通路側の流路高さが大なる
形状を有することを特徴とする請求項1記載の流液式超
音波洗浄装置。
7. The flow according to claim 1, wherein the liquid discharge part has a shape in which the flow path height on the flow passage side is larger than the flow path height on the outlet side of the flowing liquid. Liquid ultrasonic cleaning device.
【請求項8】 前記液体噴射口は、前記本体の底部に前
記液体の流通方向と直交する方向に細長状に開口されて
いることを特徴とする請求項1記載の流液式超音波洗浄
装置。
8. The flow type ultrasonic cleaning device according to claim 1, wherein the liquid ejection port is formed in a slender shape at a bottom portion of the main body in a direction orthogonal to a flow direction of the liquid. .
【請求項9】 前記液体噴射口から前記液体流入部に延
出する前記本体壁面は、曲面状に立上がった形状を有す
ることを特徴とする請求項1記載の流液式超音波洗浄装
置。
9. The flow type ultrasonic cleaning apparatus according to claim 1, wherein the main body wall surface extending from the liquid ejection port to the liquid inflow portion has a shape that rises in a curved shape.
【請求項10】 前記液体噴射口から前記液体排出部に
延出する前記本体壁面は、曲面状に立上がった形状を有
することを特徴とする請求項1記載の流液式超音波洗浄
装置。
10. The flow type ultrasonic cleaning device according to claim 1, wherein the main body wall surface extending from the liquid ejection port to the liquid discharge portion has a shape that rises in a curved shape.
【請求項11】 前記超音波を印加するための手段は、
超音波を発生する振動板であることを特徴とする請求項
1記載の流液式超音波洗浄装置。
11. The means for applying the ultrasonic wave comprises:
The flow-type ultrasonic cleaning device according to claim 1, which is a diaphragm that generates ultrasonic waves.
【請求項12】 前記超音波を印加するための手段の位
置から前記液体流入部側に寄った前記流通路部分は、一
定の幅を有することを特徴とする請求項1記載の流液式
超音波洗浄装置。
12. The liquid-flow type super according to claim 1, wherein the flow passage portion near the liquid inflow portion side from the position of the means for applying the ultrasonic wave has a constant width. Sonic cleaning device.
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