JP2561306Y2 - 定流量弁付圧力比例制御弁 - Google Patents
定流量弁付圧力比例制御弁Info
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- JP2561306Y2 JP2561306Y2 JP8299691U JP8299691U JP2561306Y2 JP 2561306 Y2 JP2561306 Y2 JP 2561306Y2 JP 8299691 U JP8299691 U JP 8299691U JP 8299691 U JP8299691 U JP 8299691U JP 2561306 Y2 JP2561306 Y2 JP 2561306Y2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この考案は、微少流量を制御でき
る定流量弁付圧力比例制御弁に関するものである。
る定流量弁付圧力比例制御弁に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、例えばガス燃焼器具、特にガスコ
ンロなどでは、小さな燃焼熱量から大きな燃焼熱量まで
その熱量に大きな幅が要求されている。その熱量に大き
な幅をもたせる方法としては、ガス供給量を変化させる
ことで燃焼熱量に幅をもたせることができる。
ンロなどでは、小さな燃焼熱量から大きな燃焼熱量まで
その熱量に大きな幅が要求されている。その熱量に大き
な幅をもたせる方法としては、ガス供給量を変化させる
ことで燃焼熱量に幅をもたせることができる。
【0003】しかしながら、ガス供給量を多くする場合
には、大きな弁口径の制御弁を使用すればよいが、大き
な弁口径の制御弁では、制御できる最少流量も大きくな
ってしまう問題があった。
には、大きな弁口径の制御弁を使用すればよいが、大き
な弁口径の制御弁では、制御できる最少流量も大きくな
ってしまう問題があった。
【0004】そこで、図13及び図14に示すように、
バーナー1に向う流路2に上流側から下流側に電磁弁
3、ガバナー4、小孔5付電磁流量制御弁6を配置した
制御装置が考案されている。この制御装置は、電磁弁3
によって流路2が開放され、カバナー4によってガス圧
を一定にし、制御弁6の開閉度合によって流量を制御
し、最小流量は、小孔5の流通量で担保する。
バーナー1に向う流路2に上流側から下流側に電磁弁
3、ガバナー4、小孔5付電磁流量制御弁6を配置した
制御装置が考案されている。この制御装置は、電磁弁3
によって流路2が開放され、カバナー4によってガス圧
を一定にし、制御弁6の開閉度合によって流量を制御
し、最小流量は、小孔5の流通量で担保する。
【0005】また、図15に示すように、バーナー1に
向う流路2の上流側に電磁弁3、下流側に圧力比例制御
弁7を配置するとともに、流路2に電磁弁3の上流側と
圧力比例制御弁7の下流側とを連通するバイパス通路8
を設け、このバイパス通路8の上流側に電磁弁9を、下
流側にオリフィス10を配置した制御装置も考案されて
いる。この制御装置は、電磁弁3、9によって流路2及
びバイパス流路8を開放し、制御弁7の開閉度合によっ
て流量を制御し、最小流量はオリフィス10の流通量で
担保する。
向う流路2の上流側に電磁弁3、下流側に圧力比例制御
弁7を配置するとともに、流路2に電磁弁3の上流側と
圧力比例制御弁7の下流側とを連通するバイパス通路8
を設け、このバイパス通路8の上流側に電磁弁9を、下
流側にオリフィス10を配置した制御装置も考案されて
いる。この制御装置は、電磁弁3、9によって流路2及
びバイパス流路8を開放し、制御弁7の開閉度合によっ
て流量を制御し、最小流量はオリフィス10の流通量で
担保する。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】上記の両制御装置は、
各電磁弁3、6、7及びガバー4、オリフィス10がそ
れぞれ別部品であって、装置全体が大型化し、コスト的
にも高いものであった。
各電磁弁3、6、7及びガバー4、オリフィス10がそ
れぞれ別部品であって、装置全体が大型化し、コスト的
にも高いものであった。
【0007】そこで、この考案の課題は、小流量から大
流量まで1台で制御できるようした定流量弁付圧力比例
制御弁を提供することにある。
流量まで1台で制御できるようした定流量弁付圧力比例
制御弁を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項(1) 記載の考案は、流路11中に直列で 同
軸上に設けた2つの弁座12、13と、この両弁座1
2、13の中心に貫通させた弁棒24と、上記両弁座1
2、13にそれぞれ対向させてバネ16、16により閉
弁方向に押圧力を付与すると共に、上流側14は上記弁
棒24と一体にスライドし、下流側15は上記弁棒24
に対しフリーにスライドするよう設けた弁体14、15
と、上記弁棒24に上流側の弁体14の開弁後遅れて下
流側の弁体15に係合して開弁するよう設けた係合部2
5と、上記下流側弁座13の下流流路11に設けたその
圧力が印加されるダイヤフラム17と、通電により開弁
方向に上記ダイヤフラム17を介し弁棒24を所要量可
変にスライドさせるよう設けた電磁駆動部21と、上記
上流側の弁座12を通過後下流側の弁座13を迂回して
上記流路11の出口側に微少流量を流すよう設けたバイ
パス通路26と、このバイパス通路26に設けた弁座2
7とそれに対向するダイヤフラム弁28との間で形成し
たダイヤフラム弁室29と、このダイヤフラム弁28を
開弁方向に押圧するバネ30と、バイパス通路26に設
けて上流側の弁座12を通った流体を前記ダイヤフラム
弁室29に流入させる連通路31と、から成る構成とし
たのである。
めに、請求項(1) 記載の考案は、流路11中に直列で 同
軸上に設けた2つの弁座12、13と、この両弁座1
2、13の中心に貫通させた弁棒24と、上記両弁座1
2、13にそれぞれ対向させてバネ16、16により閉
弁方向に押圧力を付与すると共に、上流側14は上記弁
棒24と一体にスライドし、下流側15は上記弁棒24
に対しフリーにスライドするよう設けた弁体14、15
と、上記弁棒24に上流側の弁体14の開弁後遅れて下
流側の弁体15に係合して開弁するよう設けた係合部2
5と、上記下流側弁座13の下流流路11に設けたその
圧力が印加されるダイヤフラム17と、通電により開弁
方向に上記ダイヤフラム17を介し弁棒24を所要量可
変にスライドさせるよう設けた電磁駆動部21と、上記
上流側の弁座12を通過後下流側の弁座13を迂回して
上記流路11の出口側に微少流量を流すよう設けたバイ
パス通路26と、このバイパス通路26に設けた弁座2
7とそれに対向するダイヤフラム弁28との間で形成し
たダイヤフラム弁室29と、このダイヤフラム弁28を
開弁方向に押圧するバネ30と、バイパス通路26に設
けて上流側の弁座12を通った流体を前記ダイヤフラム
弁室29に流入させる連通路31と、から成る構成とし
たのである。
【0009】この構成の定流量弁付圧力比例制御弁は、
電磁駆動部21に通電しないときは、バネ16により流
量側の弁座12に上流側の弁体14を、下流側の弁座1
3に下流側の弁体15をそれぞれ圧接して、流路11が
閉じている。
電磁駆動部21に通電しないときは、バネ16により流
量側の弁座12に上流側の弁体14を、下流側の弁座1
3に下流側の弁体15をそれぞれ圧接して、流路11が
閉じている。
【0010】この状態から、電磁駆動部21に通電して
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、上流側の弁座12から上流側
の弁体14が離れる。このとき、係合部25は下流側の
弁体15に係合していないため、弁棒24に対しフリー
の下流側の弁体15は、バネ16により下流側の弁座1
3に圧接され、流路11は閉じられている。
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、上流側の弁座12から上流側
の弁体14が離れる。このとき、係合部25は下流側の
弁体15に係合していないため、弁棒24に対しフリー
の下流側の弁体15は、バネ16により下流側の弁座1
3に圧接され、流路11は閉じられている。
【0011】上流側の弁座12と弁体14が離れたこと
により、その開口部(間隙)を通過した流体は、バイパ
ス通路26をへて出口に向うが、連通路31で減圧され
てダイヤフラム弁室29に入り、さらに、弁座27とダ
イヤフラム弁28との間隙を 通るときにまた減圧されて
出口側に流出する。このとき、ダイヤフラム弁室29へ
の流体の流入量よりも、弁座27とダイヤフラム弁28
の間隙を通り流出する量が減ると、ダイヤフラム弁室2
9の流体圧が上昇して、ダイヤフラム弁28を開弁方向
に移動させる。その結果、弁座27とダイヤフラム弁2
8との間隙が広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入
量と同じ流出量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダ
イヤフラム弁室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム
弁28は閉弁方向に移動し、流出量は減少する。このよ
うにして、バイパス通路26による微小流量供給が定流
量で行われる。
により、その開口部(間隙)を通過した流体は、バイパ
ス通路26をへて出口に向うが、連通路31で減圧され
てダイヤフラム弁室29に入り、さらに、弁座27とダ
イヤフラム弁28との間隙を 通るときにまた減圧されて
出口側に流出する。このとき、ダイヤフラム弁室29へ
の流体の流入量よりも、弁座27とダイヤフラム弁28
の間隙を通り流出する量が減ると、ダイヤフラム弁室2
9の流体圧が上昇して、ダイヤフラム弁28を開弁方向
に移動させる。その結果、弁座27とダイヤフラム弁2
8との間隙が広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入
量と同じ流出量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダ
イヤフラム弁室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム
弁28は閉弁方向に移動し、流出量は減少する。このよ
うにして、バイパス通路26による微小流量供給が定流
量で行われる。
【0012】つぎに、電磁駆動部21の励磁電流を増や
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が下流
側弁体15に係合し、弁棒24と共に下流側の弁体25
が同方向にスライドし、下流側の弁座13から下流側の
弁体15が離れ、流路11の主流路が開放されて大流量
が流れる。その結果、電流量に比例して弁棒24のスラ
イド量が決定されて弁座13と弁体15の間隙が調整さ
れ、それに対応する流量が流れる。このとき、ダイヤフ
ラム17には流体圧が印加し、その印加圧に対応して弁
棒24を介し下流側弁体15を動かし、弁座13との間
隙を調整して下流側の流体圧が一定になるように制御す
る。このようにして、流量調整される圧力比例制御弁の
働きがなされる。
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が下流
側弁体15に係合し、弁棒24と共に下流側の弁体25
が同方向にスライドし、下流側の弁座13から下流側の
弁体15が離れ、流路11の主流路が開放されて大流量
が流れる。その結果、電流量に比例して弁棒24のスラ
イド量が決定されて弁座13と弁体15の間隙が調整さ
れ、それに対応する流量が流れる。このとき、ダイヤフ
ラム17には流体圧が印加し、その印加圧に対応して弁
棒24を介し下流側弁体15を動かし、弁座13との間
隙を調整して下流側の流体圧が一定になるように制御す
る。このようにして、流量調整される圧力比例制御弁の
働きがなされる。
【0013】また、請求項(2) 記載の考案は、流路11
中に設けた主弁座41と、この主弁座41に対向させて
バネ43により閉弁方向に押圧力を付与して設けた主弁
体42と、上記主弁座41下流の流体圧力を受けて応動
するよう設けたダイヤフラム17と、このダイヤフラム
の動きに連動する上記主弁座41及び主弁体42を移動
自在に貫通する弁棒24と、通電により開弁方向に上記
ダイヤフラム17を介し弁棒24を所要量可変にスライ
ドさせるよう設けた電磁駆動部21と、上記主弁体42
内にその主弁体42の上記主弁座41内に位置する部分
に連通させて設けた副弁座44と、その副弁座44とバ
ネ45の押圧力により上記副弁座44に押し付けられる
ダイヤフラム弁28との間の上記主弁体42内に形成し
たダイヤフラム弁室29と、入口側流体を上記ダイヤフ
ラム弁室29に流入させるよう上 記主弁体42又はダイ
ヤフラム弁28に設けた連通路31と、上記副弁座44
内に遊嵌させて上記ダイヤフラム弁28に端を当接させ
てある上記弁棒24に前記ダイヤフラム弁28の開弁後
遅れて上記主弁体42に係合して開弁するよう設けた係
合部25と、から成る構成としたのである。
中に設けた主弁座41と、この主弁座41に対向させて
バネ43により閉弁方向に押圧力を付与して設けた主弁
体42と、上記主弁座41下流の流体圧力を受けて応動
するよう設けたダイヤフラム17と、このダイヤフラム
の動きに連動する上記主弁座41及び主弁体42を移動
自在に貫通する弁棒24と、通電により開弁方向に上記
ダイヤフラム17を介し弁棒24を所要量可変にスライ
ドさせるよう設けた電磁駆動部21と、上記主弁体42
内にその主弁体42の上記主弁座41内に位置する部分
に連通させて設けた副弁座44と、その副弁座44とバ
ネ45の押圧力により上記副弁座44に押し付けられる
ダイヤフラム弁28との間の上記主弁体42内に形成し
たダイヤフラム弁室29と、入口側流体を上記ダイヤフ
ラム弁室29に流入させるよう上 記主弁体42又はダイ
ヤフラム弁28に設けた連通路31と、上記副弁座44
内に遊嵌させて上記ダイヤフラム弁28に端を当接させ
てある上記弁棒24に前記ダイヤフラム弁28の開弁後
遅れて上記主弁体42に係合して開弁するよう設けた係
合部25と、から成る構成としたのである。
【0014】この構成の定流量弁付圧力比例制御弁は、
電磁駆動部21に通電しないときは、バネ43により主
弁座41に主弁体42を、副弁座44にダイヤフラム弁
28をそれぞれ圧接して、流路11が閉じている。
電磁駆動部21に通電しないときは、バネ43により主
弁座41に主弁体42を、副弁座44にダイヤフラム弁
28をそれぞれ圧接して、流路11が閉じている。
【0015】この状態から、電磁駆動部21に通電して
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、副弁座44からダイヤフラム
弁28が離れる。このとき、係合部25は主弁体42に
係合していないため、弁棒24に対しフリーの主弁体4
2は、主弁座41に圧接して、流路11は閉じられてい
る。
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、副弁座44からダイヤフラム
弁28が離れる。このとき、係合部25は主弁体42に
係合していないため、弁棒24に対しフリーの主弁体4
2は、主弁座41に圧接して、流路11は閉じられてい
る。
【0016】一方、連通路31をへてダイヤフラム弁室
29に流入している流体は、副弁座44からダイヤフラ
ム弁28が離れたことにより、副弁座44から主弁体4
2内を通って出口に向うが、連通路31で減圧されてダ
イヤフラム弁室29に入り、さらに、副弁座44とダイ
ヤフラム弁28との間隙を通るときにまた減圧されて出
口側に流出する。このとき、ダイヤフラム弁室29への
流体の流入量よりも、副弁座44とダイヤフラム弁28
の間隙を通り流出する量が減ると、ダイヤフラム室29
の流体圧が上昇してダイヤフラム弁28を開弁方向に移
動させる。その結果、副弁座44とダイヤフラム弁28
との間隙が広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入量
と同じ流出量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダイ
ヤフラム弁室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁
室29は、閉弁方向に移動し、流出量は減少する。この
ようにして、連通路31、主弁体42内の通路による微
小流量供給が定流量で行われる。
29に流入している流体は、副弁座44からダイヤフラ
ム弁28が離れたことにより、副弁座44から主弁体4
2内を通って出口に向うが、連通路31で減圧されてダ
イヤフラム弁室29に入り、さらに、副弁座44とダイ
ヤフラム弁28との間隙を通るときにまた減圧されて出
口側に流出する。このとき、ダイヤフラム弁室29への
流体の流入量よりも、副弁座44とダイヤフラム弁28
の間隙を通り流出する量が減ると、ダイヤフラム室29
の流体圧が上昇してダイヤフラム弁28を開弁方向に移
動させる。その結果、副弁座44とダイヤフラム弁28
との間隙が広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入量
と同じ流出量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダイ
ヤフラム弁室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁
室29は、閉弁方向に移動し、流出量は減少する。この
ようにして、連通路31、主弁体42内の通路による微
小流量供給が定流量で行われる。
【0017】つぎに、電磁駆動部21の励磁電流を増や
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が主弁
体42に係合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向に
スライドし、主弁座41から主弁体42が離れ、流路1
1の主流路が開放されて大流量が流れる。その結果、電
流量に比例して弁棒24のスライド量が決定されて主弁
座41と主弁体42の間隙が調整され、それに対応する
流量が流れる。このとき、ダイヤフラム17には流体圧
が印加し、その印加圧に対応して弁棒24を介し主弁体
42を動かし、主弁座41との間隙を調整して下流側の
流体圧が一定になるように制御する。このようにして、
流量調整される圧力比例制御弁の働きがなされる。
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が主弁
体42に係合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向に
スライドし、主弁座41から主弁体42が離れ、流路1
1の主流路が開放されて大流量が流れる。その結果、電
流量に比例して弁棒24のスライド量が決定されて主弁
座41と主弁体42の間隙が調整され、それに対応する
流量が流れる。このとき、ダイヤフラム17には流体圧
が印加し、その印加圧に対応して弁棒24を介し主弁体
42を動かし、主弁座41との間隙を調整して下流側の
流体圧が一定になるように制御する。このようにして、
流量調整される圧力比例制御弁の働きがなされる。
【0018】さらに、請求項(3) 記載の考案は、流路1
1中に設けた主弁座41と、この主弁座41に対向させ
てバネ52により閉弁方向に押圧力を付与して設けた主
弁体42と、上記主弁座41下流の流体圧力を受けて応
動するよう設けたダイヤフラム17と、このダイヤフラ
ム17の動きに連動する上記主弁座41及び主弁体42
を移動自在に貫通する弁棒24と、通電により開弁方向
に上記ダイヤフラム17を介し弁棒24を所要量可変に
スライドさせるよう設けた電磁駆動部21と、上記主弁
体42内の上部にその主弁体42の上記主弁座41内に
位置する部分に連通させて設けた第1弁座51と、バネ
52により上記第1弁座51に押し付けられるよう設け
た上記弁棒24と一体にスライドする副弁体53と、上
記主弁体42内の下部に設けた上記第1弁座51に連通
する第2弁座54と、その第2弁座54とバネ55によ
り上記第2弁座54から離れる方向の押圧力を付与した
ダイヤフラム弁28との間の主弁体42内に形成したダ
イヤフラム弁室29と、入口側流体を上記ダイヤフラム
弁室29に流入させるよう上記主弁体42又はダイヤフ
ラム弁28に設けた連通路31と、前記副弁体53の開
弁後遅れて副弁体53と一体となって主弁体42がスラ
イドして開弁するよう副弁体53と主弁体42の間に設
けた両者53、42の係合手段56と、から成る構成と
したのである。
1中に設けた主弁座41と、この主弁座41に対向させ
てバネ52により閉弁方向に押圧力を付与して設けた主
弁体42と、上記主弁座41下流の流体圧力を受けて応
動するよう設けたダイヤフラム17と、このダイヤフラ
ム17の動きに連動する上記主弁座41及び主弁体42
を移動自在に貫通する弁棒24と、通電により開弁方向
に上記ダイヤフラム17を介し弁棒24を所要量可変に
スライドさせるよう設けた電磁駆動部21と、上記主弁
体42内の上部にその主弁体42の上記主弁座41内に
位置する部分に連通させて設けた第1弁座51と、バネ
52により上記第1弁座51に押し付けられるよう設け
た上記弁棒24と一体にスライドする副弁体53と、上
記主弁体42内の下部に設けた上記第1弁座51に連通
する第2弁座54と、その第2弁座54とバネ55によ
り上記第2弁座54から離れる方向の押圧力を付与した
ダイヤフラム弁28との間の主弁体42内に形成したダ
イヤフラム弁室29と、入口側流体を上記ダイヤフラム
弁室29に流入させるよう上記主弁体42又はダイヤフ
ラム弁28に設けた連通路31と、前記副弁体53の開
弁後遅れて副弁体53と一体となって主弁体42がスラ
イドして開弁するよう副弁体53と主弁体42の間に設
けた両者53、42の係合手段56と、から成る構成と
したのである。
【0019】この構成の定流量弁付圧力比例制御弁は、
電磁駆動部21に通電しないときは、バネ43により主
弁座41に主弁体42を、バネ53により第1弁座51
に副弁座53をそれぞれ圧接して流路11が閉じてい
る。
電磁駆動部21に通電しないときは、バネ43により主
弁座41に主弁体42を、バネ53により第1弁座51
に副弁座53をそれぞれ圧接して流路11が閉じてい
る。
【0020】この状態から、電磁駆動部21に通電して
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、副弁座51から副弁体53が
離れる。このとき、係合手段56は係合していないた
め、弁棒24に対しフリーの主弁体42は、主弁座41
に圧接して、流路11は閉じられている。
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、副弁座51から副弁体53が
離れる。このとき、係合手段56は係合していないた
め、弁棒24に対しフリーの主弁体42は、主弁座41
に圧接して、流路11は閉じられている。
【0021】一方、連通路31をへてダイヤフラム弁室
29に流入している流体は、第2弁座54からバネ55
によりダイヤフラム弁28が離れていることにより、第
2弁座54とダイヤフラム弁28との間隙から第1弁座
55と副弁体53の間隙を介し主弁体42内を通って出
口に向うが、連通路31で減圧されてダイヤフラム弁室
29に入り、さらに、第2弁座54とダイヤフラム弁2
8との間隙を通るときにまた減圧されて出口側に流出す
る。このとき、ダイヤフラム弁室29への流体の流入量
よりも、副弁座44とダイヤフラム弁28の間隙を通り
流出する量が減ると、ダイヤフラム室29の流体圧が上
昇してダイヤフラム弁28を開弁方向に移動させる。そ
の結果、第2弁座54とダイヤフラム弁28との間隙が
広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入量と同じ流出
量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダイヤフラム弁
室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁室29は、
バネ55に抗して閉弁方向に移動し、流出量は減少す
る。このようにして、連通路31、主弁体42内の通路
による微小流量供給が定流量で行われる。
29に流入している流体は、第2弁座54からバネ55
によりダイヤフラム弁28が離れていることにより、第
2弁座54とダイヤフラム弁28との間隙から第1弁座
55と副弁体53の間隙を介し主弁体42内を通って出
口に向うが、連通路31で減圧されてダイヤフラム弁室
29に入り、さらに、第2弁座54とダイヤフラム弁2
8との間隙を通るときにまた減圧されて出口側に流出す
る。このとき、ダイヤフラム弁室29への流体の流入量
よりも、副弁座44とダイヤフラム弁28の間隙を通り
流出する量が減ると、ダイヤフラム室29の流体圧が上
昇してダイヤフラム弁28を開弁方向に移動させる。そ
の結果、第2弁座54とダイヤフラム弁28との間隙が
広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入量と同じ流出
量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダイヤフラム弁
室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁室29は、
バネ55に抗して閉弁方向に移動し、流出量は減少す
る。このようにして、連通路31、主弁体42内の通路
による微小流量供給が定流量で行われる。
【0022】つぎに、電磁駆動部21の励磁電流を増や
してさらに弁棒24を後退させると、係合手段56が係
合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向にスライド
し、主弁座41から主弁体42が離れ、流路11の主流
路が開放されて大流量が流れる。その結果、電流量に比
例して弁棒24のスライド量が決定されて主弁座41と
主弁体42の間隙が調整され、それに対応する流量が流
れる。このとき、ダイヤフラム17には流体圧が印加
し、その印加圧に対応して弁棒24を介し主弁体42を
動かし、主弁座41との間隙を調整して下流側の流体圧
が一定になるように制御する。このようにして、流量調
整される圧力比例制御弁の働きがなされる。
してさらに弁棒24を後退させると、係合手段56が係
合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向にスライド
し、主弁座41から主弁体42が離れ、流路11の主流
路が開放されて大流量が流れる。その結果、電流量に比
例して弁棒24のスライド量が決定されて主弁座41と
主弁体42の間隙が調整され、それに対応する流量が流
れる。このとき、ダイヤフラム17には流体圧が印加
し、その印加圧に対応して弁棒24を介し主弁体42を
動かし、主弁座41との間隙を調整して下流側の流体圧
が一定になるように制御する。このようにして、流量調
整される圧力比例制御弁の働きがなされる。
【0023】
【実施例】以下、この考案に係る実施例を添付図面に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【0024】(第1実施例) 図1に示すように流路11中に直列で同軸上に2つの弁
座12、13を設けると共に、この両弁座12、13に
対向するよう流路11中に組み込んだ弁体14、15に
は、バネ16、16により閉弁方向の押圧力が付与され
ている。
座12、13を設けると共に、この両弁座12、13に
対向するよう流路11中に組み込んだ弁体14、15に
は、バネ16、16により閉弁方向の押圧力が付与され
ている。
【0025】17は中空室18内を二分するダイヤフラ
ムで、上記中空室18のダイヤフラム17の片面側は、
通路19を介し流路11の下流側弁座13の下流部分に
連通させてあり、もう片面側は、通孔20を介し大気に
連通させてある。
ムで、上記中空室18のダイヤフラム17の片面側は、
通路19を介し流路11の下流側弁座13の下流部分に
連通させてあり、もう片面側は、通孔20を介し大気に
連通させてある。
【0026】21は通電により下流側弁座13の方向に
ダイヤフラム17を動かす電磁駆動部である。この電磁
駆動部21は、コイル22への通電により上記コイル2
2の回りに磁路を形成して、ダイヤフラム17の中心に
気密状に先端を接続したプランジヤ23をスライドさせ
るように構成してあり、通電電流量によってプランジャ
23のスライド量を所要量に可変し得る。
ダイヤフラム17を動かす電磁駆動部である。この電磁
駆動部21は、コイル22への通電により上記コイル2
2の回りに磁路を形成して、ダイヤフラム17の中心に
気密状に先端を接続したプランジヤ23をスライドさせ
るように構成してあり、通電電流量によってプランジャ
23のスライド量を所要量に可変し得る。
【0027】24は通電によりスライドするプランジヤ
23の動きを弁体14、15に伝える弁棒である。
23の動きを弁体14、15に伝える弁棒である。
【0028】上流側の弁体14は、弁棒24と一体にス
ライドするよう接続され、下流側の弁体15は、弁棒2
4に対しフリーになるよう軸芯の透孔に上記弁棒24を
遊嵌状に貫通させてある。
ライドするよう接続され、下流側の弁体15は、弁棒2
4に対しフリーになるよう軸芯の透孔に上記弁棒24を
遊嵌状に貫通させてある。
【0029】また、上記下流側の弁体15は、上流側の
弁体14の開弁後遅れて開弁するよう弁棒24に係合部
25が設けてある。この係合部25は、図示の場合、弁
棒24の外周にピンを突出させて、このピンが下流側弁
体15の先端面中央部に当接すると弁棒24と共に下流
側弁体15をスライドさせるようになっている。
弁体14の開弁後遅れて開弁するよう弁棒24に係合部
25が設けてある。この係合部25は、図示の場合、弁
棒24の外周にピンを突出させて、このピンが下流側弁
体15の先端面中央部に当接すると弁棒24と共に下流
側弁体15をスライドさせるようになっている。
【0030】26は流路11の弁座12、13間と下流
側の弁座13を迂回して出口に通ずるバイパス通路で、
このバイパス通路26内には、弁座27とそれに対向す
るダイヤフラム弁28とでダイヤフラム弁室29が形成
されている。そのダイヤフラム弁28は、バネ30によ
り開弁方向の押圧力が付勢されている。
側の弁座13を迂回して出口に通ずるバイパス通路で、
このバイパス通路26内には、弁座27とそれに対向す
るダイヤフラム弁28とでダイヤフラム弁室29が形成
されている。そのダイヤフラム弁28は、バネ30によ
り開弁方向の押圧力が付勢されている。
【0031】ダイヤフラム弁室29には、バイパス通路
26の流体が連通路31を経て流入させるようになって
いる。その連通路31は、図1に示すように弁座27の
外周外側に位置するようダイヤフラム弁28に設ける場
合と、図2に示すようにバイパス通路26とダイヤフラ
ム弁室29を連通する通路32に設ける場合とがあり、
連通路31の断面積は、所要の微小流量となるように適
宜設定する。
26の流体が連通路31を経て流入させるようになって
いる。その連通路31は、図1に示すように弁座27の
外周外側に位置するようダイヤフラム弁28に設ける場
合と、図2に示すようにバイパス通路26とダイヤフラ
ム弁室29を連通する通路32に設ける場合とがあり、
連通路31の断面積は、所要の微小流量となるように適
宜設定する。
【0032】この実施例は以上の構成であり、電磁駆動
部21に通電しないときは、バネ16により、上流側の
弁座12に上流側の弁体14を、下流側の弁座13に下
流側の弁体15をそれぞれ圧接して、流路11が閉じて
いる。
部21に通電しないときは、バネ16により、上流側の
弁座12に上流側の弁体14を、下流側の弁座13に下
流側の弁体15をそれぞれ圧接して、流路11が閉じて
いる。
【0033】この状態から、電磁駆動部21に通電して
励磁電流を増やしていくと、プランジヤ23が図1の下
方にスライドし、そのスライドをダイヤフラム17を介
し弁棒24に伝えて上記弁棒24を後退させ、まず、上
流側の弁座12から上流側の弁体14が離れる。このと
き、係合部25は下流側の弁体15に係合していないた
め、弁棒24に対しフリーの下流側の弁体15は、バネ
16により下流側の弁座13に圧接され流路11は閉じ
られている。
励磁電流を増やしていくと、プランジヤ23が図1の下
方にスライドし、そのスライドをダイヤフラム17を介
し弁棒24に伝えて上記弁棒24を後退させ、まず、上
流側の弁座12から上流側の弁体14が離れる。このと
き、係合部25は下流側の弁体15に係合していないた
め、弁棒24に対しフリーの下流側の弁体15は、バネ
16により下流側の弁座13に圧接され流路11は閉じ
られている。
【0034】上流側の弁座12と弁体14が離れたこと
により、その間隙を通過した流体は、バイパス通路26
をへて出口に向うが、連通路31で減圧されてダイヤフ
ラム弁室29に入り、さらに、弁座27とダイヤフラム
弁28との間隙を通るときにまた減圧されて出口側に流
出する。このとき、ダイヤフラム弁室29への流体の流
入量よりも、弁座27とダイヤフラム弁28の間隙を通
り流出する量が減ると 、ダイヤフラム弁室29の流体圧
が上昇して、ダイヤフラム弁28を開弁方向に移動させ
る。その結果、弁座27とダイヤフラム弁28との間隙
が広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入量と同じ流
出量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダイヤフラム
弁室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁28はバ
ネ30に抗して閉弁方向に移動し、流出量は減少する。
このようにして、バイパス通路26による微小流量供給
が定流量で行われる。
により、その間隙を通過した流体は、バイパス通路26
をへて出口に向うが、連通路31で減圧されてダイヤフ
ラム弁室29に入り、さらに、弁座27とダイヤフラム
弁28との間隙を通るときにまた減圧されて出口側に流
出する。このとき、ダイヤフラム弁室29への流体の流
入量よりも、弁座27とダイヤフラム弁28の間隙を通
り流出する量が減ると 、ダイヤフラム弁室29の流体圧
が上昇して、ダイヤフラム弁28を開弁方向に移動させ
る。その結果、弁座27とダイヤフラム弁28との間隙
が広くなり、ダイヤフラム弁室29への流入量と同じ流
出量になる。逆に、流出量が多くなれば、ダイヤフラム
弁室29の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁28はバ
ネ30に抗して閉弁方向に移動し、流出量は減少する。
このようにして、バイパス通路26による微小流量供給
が定流量で行われる。
【0035】つぎに、電磁駆動部21の励磁電流を増や
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が下流
側弁体15に係合し、弁棒24と共に下流側の弁体25
が同方向にスライドし、下流側の弁座13から下流側の
弁体15が離れ、流路11の主流路が開放されて大流量
が流れる。その結果、電流量に比例して弁棒24のスラ
イド量が決定されて弁座13と弁体15の間隙が調整さ
れ、それに対応する流量が流れる。このとき、ダイヤフ
ラム17には流体圧が印加し、その印加圧に対応して弁
棒24を介し弁体15を動かし、弁座13との間隙を調
整して下流側の流体圧が一定になるように制御する。こ
のようにして、流量調整される圧力比例制御弁の働きが
なされる。
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が下流
側弁体15に係合し、弁棒24と共に下流側の弁体25
が同方向にスライドし、下流側の弁座13から下流側の
弁体15が離れ、流路11の主流路が開放されて大流量
が流れる。その結果、電流量に比例して弁棒24のスラ
イド量が決定されて弁座13と弁体15の間隙が調整さ
れ、それに対応する流量が流れる。このとき、ダイヤフ
ラム17には流体圧が印加し、その印加圧に対応して弁
棒24を介し弁体15を動かし、弁座13との間隙を調
整して下流側の流体圧が一定になるように制御する。こ
のようにして、流量調整される圧力比例制御弁の働きが
なされる。
【0036】(第2実施例)この実施例は、 図5に示すように、上記のバイパス通路
26を主弁体42内に形成したものであり、上述と同一
符号は同一物を示して作用も同じのため、その説明を省
略し、まず、流路11中に主弁座41を設けると共に、
この主弁座41に対向するよう流路11中に組み込んだ
主弁体42には、バネ43により閉弁方向の押圧力が付
与されている。
26を主弁体42内に形成したものであり、上述と同一
符号は同一物を示して作用も同じのため、その説明を省
略し、まず、流路11中に主弁座41を設けると共に、
この主弁座41に対向するよう流路11中に組み込んだ
主弁体42には、バネ43により閉弁方向の押圧力が付
与されている。
【0037】その主弁体42内には、主弁体42の主弁
座41内に位置する部分に連通させた副弁座44と、バ
ネ45の押圧力により副弁座44に押し付けられるダイ
ヤフラム弁28とでダイヤフラム弁室29が設けられて
いる。
座41内に位置する部分に連通させた副弁座44と、バ
ネ45の押圧力により副弁座44に押し付けられるダイ
ヤフラム弁28とでダイヤフラム弁室29が設けられて
いる。
【0038】ダイヤフラム弁室29には入口側流体を流
入させる連通路31が形成されてい る。この連通路31
は、図5に示すように主弁体42の外周からダイヤフラ
ム弁室29に連通するよう設ける場合と、図6に示すよ
うに副弁座44の外周外側に位置するようダイヤフラム
弁28に設ける場合とがあり、連通路31の断面積は、
所要の微小流量となるように適宜設定する。
入させる連通路31が形成されてい る。この連通路31
は、図5に示すように主弁体42の外周からダイヤフラ
ム弁室29に連通するよう設ける場合と、図6に示すよ
うに副弁座44の外周外側に位置するようダイヤフラム
弁28に設ける場合とがあり、連通路31の断面積は、
所要の微小流量となるように適宜設定する。
【0039】なお、主弁体42と弁棒24との間は、副
弁座44の中心に弁棒24を貫通させて、ダイヤフラム
弁28に上記弁棒24の端面を当接し、ダイヤフラム弁
28の開弁後遅れて主弁体42が開弁するよう弁棒24
に係合部25が設けてある。
弁座44の中心に弁棒24を貫通させて、ダイヤフラム
弁28に上記弁棒24の端面を当接し、ダイヤフラム弁
28の開弁後遅れて主弁体42が開弁するよう弁棒24
に係合部25が設けてある。
【0040】この実施例は以上の構成であり、電磁駆動
部21に通電しないときは、バネ43により主弁座41
に主弁体42を、バネ45により副弁座44にダイヤフ
ラム弁28をそれぞれ圧接して、流路11が閉じてい
る。
部21に通電しないときは、バネ43により主弁座41
に主弁体42を、バネ45により副弁座44にダイヤフ
ラム弁28をそれぞれ圧接して、流路11が閉じてい
る。
【0041】この状態から、電磁駆動部21に通電して
励磁電流を増やしていくと、プランジャ23が図5の下
方にスライドし、そのスライドをダイヤフラム17を介
し弁棒24に伝えて上記弁棒24を後退させ、副弁座4
4からダイヤフラム弁28が離れる。このとき、係合部
25は主弁体42に係合していないため、弁棒24に対
しフリーの主弁体42は、主弁座41に圧接して、流路
11は閉じられている。
励磁電流を増やしていくと、プランジャ23が図5の下
方にスライドし、そのスライドをダイヤフラム17を介
し弁棒24に伝えて上記弁棒24を後退させ、副弁座4
4からダイヤフラム弁28が離れる。このとき、係合部
25は主弁体42に係合していないため、弁棒24に対
しフリーの主弁体42は、主弁座41に圧接して、流路
11は閉じられている。
【0042】一方、連通路31をへてダイヤフラム弁室
29に流入している流体は、副弁座44からダイヤフラ
ム弁28が離れたことにより、副弁座44と弁棒24と
の間隙から主弁体42内を通って出口に向うが、連通路
31で減圧されてダイヤフラム弁室29に入り、さら
に、副弁座44とダイヤフラム弁28との間隙を通ると
きにまた減圧されて出口側に流出する。このとき、ダイ
ヤフラム弁室29への流体の流入量よりも、副弁座44
とダイヤフラム弁28の間隙を通り流出する量が減る
と、ダイヤフラム室29の流体圧が上昇してダイヤフラ
ム弁28を開弁方向に移動させる。その結果、副弁座4
4とダイヤフラム弁28との間隙が広くなり、ダイヤフ
ラム弁室29への流入量と同じ流出量になる。逆に、流
出量が多くな れば、ダイヤフラム弁室29の流体圧が下
降して、ダイヤフラム弁室29は、閉弁方向に移動し、
流出量は減少する。このようにして、連通路31、主弁
体42内の通路による微小流量供給が定流量で行われ
る。
29に流入している流体は、副弁座44からダイヤフラ
ム弁28が離れたことにより、副弁座44と弁棒24と
の間隙から主弁体42内を通って出口に向うが、連通路
31で減圧されてダイヤフラム弁室29に入り、さら
に、副弁座44とダイヤフラム弁28との間隙を通ると
きにまた減圧されて出口側に流出する。このとき、ダイ
ヤフラム弁室29への流体の流入量よりも、副弁座44
とダイヤフラム弁28の間隙を通り流出する量が減る
と、ダイヤフラム室29の流体圧が上昇してダイヤフラ
ム弁28を開弁方向に移動させる。その結果、副弁座4
4とダイヤフラム弁28との間隙が広くなり、ダイヤフ
ラム弁室29への流入量と同じ流出量になる。逆に、流
出量が多くな れば、ダイヤフラム弁室29の流体圧が下
降して、ダイヤフラム弁室29は、閉弁方向に移動し、
流出量は減少する。このようにして、連通路31、主弁
体42内の通路による微小流量供給が定流量で行われ
る。
【0043】つぎに、電磁駆動部21の励磁電流を増や
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が主弁
体42に係合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向に
スライドし、主弁座41から主弁体42が離れ、流路1
1の主流路が開放されて大流量が流れる。この状態で
は、第1の実施例と同様に、電流量に比例して弁棒24
のスライド量が決定されて主弁座41と主弁体42の間
隙が調整され、それに対応する流量が流れ、また、ダイ
ヤフラム17が印加圧に対応して主弁体42と主弁座4
1との間隙を調整して下流側の流体圧が一定になるよう
に制御して、流量調整される圧力比例制御弁の働きがな
される。
してさらに弁棒24を後退させると、係合部25が主弁
体42に係合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向に
スライドし、主弁座41から主弁体42が離れ、流路1
1の主流路が開放されて大流量が流れる。この状態で
は、第1の実施例と同様に、電流量に比例して弁棒24
のスライド量が決定されて主弁座41と主弁体42の間
隙が調整され、それに対応する流量が流れ、また、ダイ
ヤフラム17が印加圧に対応して主弁体42と主弁座4
1との間隙を調整して下流側の流体圧が一定になるよう
に制御して、流量調整される圧力比例制御弁の働きがな
される。
【0044】(第3実施例)この実施例も、 図9に示すように、上記バイパス通路2
6を主弁体42内に形成したものであり、上述と同一符
号は同一物を示して作用も同じのため、その説明を省略
し、流路11に組み込んだ主弁体42内の上部に、主弁
座41内に位置する部分に連通させた第1弁座51と、
バネ52により第1弁座51に押し付けられる副弁体5
3とが設けられ、主弁体42内の下部には、第2弁座5
4と、その第2弁座54とバネ55により開弁方向に押
圧力を付与したダイヤフラム弁28との間の主弁体42
内に形成したダイヤフラム弁室29とが設けられてい
る。
6を主弁体42内に形成したものであり、上述と同一符
号は同一物を示して作用も同じのため、その説明を省略
し、流路11に組み込んだ主弁体42内の上部に、主弁
座41内に位置する部分に連通させた第1弁座51と、
バネ52により第1弁座51に押し付けられる副弁体5
3とが設けられ、主弁体42内の下部には、第2弁座5
4と、その第2弁座54とバネ55により開弁方向に押
圧力を付与したダイヤフラム弁28との間の主弁体42
内に形成したダイヤフラム弁室29とが設けられてい
る。
【0045】ダイヤフラム室29には同じく連通路31
から流体が流入するようになっている。その連通路31
は、図9に示すように主弁体42の外周からダイヤフラ
ム弁室29に連通するよう設ける場合と、図10に示す
ように第2弁座54の外周外側に位置するようダイヤフ
ラム弁28に設ける場合とがあり、連通路31の断面積
は、所要の微小流量となるように適宜設定する。
から流体が流入するようになっている。その連通路31
は、図9に示すように主弁体42の外周からダイヤフラ
ム弁室29に連通するよう設ける場合と、図10に示す
ように第2弁座54の外周外側に位置するようダイヤフ
ラム弁28に設ける場合とがあり、連通路31の断面積
は、所要の微小流量となるように適宜設定する。
【0046】また、主弁体42は、係合手段56により
副弁体53の開弁後遅れて開弁するようになっている。
その係合手段56は、第1弁座51の中心に貫通させた
弁棒24の端に副弁体53を固定し、弁棒24と共に後
退する副弁体53が第2弁座54の出口端に当接して主
弁体42を押し戻すようになっている。
副弁体53の開弁後遅れて開弁するようになっている。
その係合手段56は、第1弁座51の中心に貫通させた
弁棒24の端に副弁体53を固定し、弁棒24と共に後
退する副弁体53が第2弁座54の出口端に当接して主
弁体42を押し戻すようになっている。
【0047】図中、57は第2弁座54の出口用通路で
ある。
ある。
【0048】この実施例は、以上の構成であり、電磁駆
動部21に通電しないときは、バネ43により主弁座4
1に主弁体42を、バネ52により副弁座51に副弁体
53をそれぞれ圧接して、流路11が閉じている。
動部21に通電しないときは、バネ43により主弁座4
1に主弁体42を、バネ52により副弁座51に副弁体
53をそれぞれ圧接して、流路11が閉じている。
【0049】この状態から、電磁駆動部21に通電して
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、第1弁座51から副弁体53
が離れる。このとき、係合部25は係合していないた
め、弁棒24に対しフリーの主弁体42は、主弁座41
に圧接して、流路11は閉じられている。
励磁電流を増やしていくと、ダイヤフラム17とともに
弁棒24が後退し、まず、第1弁座51から副弁体53
が離れる。このとき、係合部25は係合していないた
め、弁棒24に対しフリーの主弁体42は、主弁座41
に圧接して、流路11は閉じられている。
【0050】一方、連通路31をへてダイヤフラム弁室
29に流入している流体は、第2弁座54からバネ55
によりダイヤフラム弁28が離れたことにより、第2弁
座54とダイヤフラム弁28との間隙から第1弁座55
と副弁体53の間隙を介し主弁体42内を通って出口に
向うが、連通路31で減圧されてダイヤフラム弁室29
に入り、さらに、第2弁座54とダイヤフラム弁28と
の間隙を通るときにまた減圧されて出口側に流出する。
このとき、ダイヤフラム弁室29への流体の流入量より
も、副弁座44とダイヤフラム弁28の間隙を通り流出
する量が減ると、ダイヤフラム室29の流体圧が上昇し
てダイヤフラム弁28を開弁方向に移動させる。その結
果、第2弁座54とダイヤフラム弁28との間隙が広く
なり、ダイヤフラム弁室29への流入量と同じ流出量に
なる。逆に、流出量が多くなれば、ダイヤフラム弁室2
9の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁28は、バネ5
5に抗して閉弁方向に移動し、流出量は減少する。この
ようにして、連通路31、主弁体42内の通路による微
小流量供給が定流量で行われる。
29に流入している流体は、第2弁座54からバネ55
によりダイヤフラム弁28が離れたことにより、第2弁
座54とダイヤフラム弁28との間隙から第1弁座55
と副弁体53の間隙を介し主弁体42内を通って出口に
向うが、連通路31で減圧されてダイヤフラム弁室29
に入り、さらに、第2弁座54とダイヤフラム弁28と
の間隙を通るときにまた減圧されて出口側に流出する。
このとき、ダイヤフラム弁室29への流体の流入量より
も、副弁座44とダイヤフラム弁28の間隙を通り流出
する量が減ると、ダイヤフラム室29の流体圧が上昇し
てダイヤフラム弁28を開弁方向に移動させる。その結
果、第2弁座54とダイヤフラム弁28との間隙が広く
なり、ダイヤフラム弁室29への流入量と同じ流出量に
なる。逆に、流出量が多くなれば、ダイヤフラム弁室2
9の流体圧が下降して、ダイヤフラム弁28は、バネ5
5に抗して閉弁方向に移動し、流出量は減少する。この
ようにして、連通路31、主弁体42内の通路による微
小流量供給が定流量で行われる。
【0051】つぎに、電磁駆動部21の励磁電流を増や
してさらに弁棒24を後退させると、係合手段56が係
合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向にスライド
し、主弁座41から主弁体42が離れ、流路11の主流
路が開放されて大流量が流れる。この状態では、第1、
第2実施例と同様に、電流量に比例して弁棒24のスラ
イド量が決定されて主弁座41と主弁体42の間隙が調
整され、それに対応する流量が流れ、また、ダイヤフラ
ム17が印加圧に対応して主弁体42と主弁座41との
間隙を調整して下流側の流体圧が一定になるように制御
して、流量調整される圧力比例制御弁の働きがなされ
る。
してさらに弁棒24を後退させると、係合手段56が係
合し、弁棒24と共に主弁体42が同方向にスライド
し、主弁座41から主弁体42が離れ、流路11の主流
路が開放されて大流量が流れる。この状態では、第1、
第2実施例と同様に、電流量に比例して弁棒24のスラ
イド量が決定されて主弁座41と主弁体42の間隙が調
整され、それに対応する流量が流れ、また、ダイヤフラ
ム17が印加圧に対応して主弁体42と主弁座41との
間隙を調整して下流側の流体圧が一定になるように制御
して、流量調整される圧力比例制御弁の働きがなされ
る。
【0052】なお、各実施例において、上述のように、
バイパス通路26(連通路31から主弁体42の通路)
を通る流体は、連通路31及びダイヤフラム弁28と弁
座27、44、54の間隙によって減圧され、その減圧
量を一定とすると、連通路31と前記間隙によってその
減圧量を担うこととなり、その度合は、弁座27…側の
通路に対する連通路31の大きさ(断面積の大きさ)に
よって決定される。断面積が小さい方が減圧効果は大き
く、弁座に対する弁の接離による減圧効果は、弁座内径
に対応するからである。因みに、その接離による減圧効
果は弁座内径が大きい方が小さい。
バイパス通路26(連通路31から主弁体42の通路)
を通る流体は、連通路31及びダイヤフラム弁28と弁
座27、44、54の間隙によって減圧され、その減圧
量を一定とすると、連通路31と前記間隙によってその
減圧量を担うこととなり、その度合は、弁座27…側の
通路に対する連通路31の大きさ(断面積の大きさ)に
よって決定される。断面積が小さい方が減圧効果は大き
く、弁座に対する弁の接離による減圧効果は、弁座内径
に対応するからである。因みに、その接離による減圧効
果は弁座内径が大きい方が小さい。
【0053】したがって、連通路31の内径を、図1、
図2に示すように弁座27の内径より、図5、図6に示
すように副弁座44の内径より、図9、図10に示すよ
うに第2弁座54の内径よりも小さくすると、連通路3
1に対する前記間隙での圧力減少量を小さくできること
となり、ダイヤフラム弁28の作動に基づくバイパス通
路26全体の圧力減少量も小さくなる。このため、バイ
パス通路26の減圧量を適宜に設定して制御できる必要
最低入口圧力を低くしても、ダイヤフラム弁28の作動
によって大きな減圧が生じない定流量制御を行うことが
でき、これにより、流体が都市ガスで入口圧力が50m
m水柱の低い圧力でも微小流量制御をすることができ
る。
図2に示すように弁座27の内径より、図5、図6に示
すように副弁座44の内径より、図9、図10に示すよ
うに第2弁座54の内径よりも小さくすると、連通路3
1に対する前記間隙での圧力減少量を小さくできること
となり、ダイヤフラム弁28の作動に基づくバイパス通
路26全体の圧力減少量も小さくなる。このため、バイ
パス通路26の減圧量を適宜に設定して制御できる必要
最低入口圧力を低くしても、ダイヤフラム弁28の作動
によって大きな減圧が生じない定流量制御を行うことが
でき、これにより、流体が都市ガスで入口圧力が50m
m水柱の低い圧力でも微小流量制御をすることができ
る。
【0054】また、都市ガスで入口圧力が50mm水柱
の場合、バイパス通路26全体の圧力減少量を50mm
水柱以下にする必要があるが、前記間隙での圧力減少量
が小さいものであると、その間隙と連通路31の両圧力
減少量の和が50mm水柱以下になればよいため、連通
路31で圧力減少量を比較的大きくでき、その圧力減少
量が大きくなれば、ダイヤフラム弁28前後の差圧が大
きくなり、ダイヤフラム弁28の動きが機敏となって、
安定かつ精度の高い制御ができる。
の場合、バイパス通路26全体の圧力減少量を50mm
水柱以下にする必要があるが、前記間隙での圧力減少量
が小さいものであると、その間隙と連通路31の両圧力
減少量の和が50mm水柱以下になればよいため、連通
路31で圧力減少量を比較的大きくでき、その圧力減少
量が大きくなれば、ダイヤフラム弁28前後の差圧が大
きくなり、ダイヤフラム弁28の動きが機敏となって、
安定かつ精度の高い制御ができる。
【0055】一方、連通路31の内径を、図3、図4に
示すように弁座27の内径より、図7、図8に示すよう
に副弁座44の内径より、図11、図12に示すように
第2弁座54の内径よりも大きくすると、連通路31に
対する前記間隙での圧力減少量が大きくなるが、流体
が、例えば水道水で入口圧が2〜4kg/cm2の比較的高い
圧力の場合は、微小流量においては、入口圧に対する圧
力減少量も小さく、圧力減少があまり問題にならない。
したがって、弁座27…内径を小さくすると、ダイヤフ
ラム弁28の動きによる前記間隙の流量変化が小さくな
るため、ダイヤフラム弁28の変化に応じて流量が大き
く変化せず、微小流量の安定した制御ができる。
示すように弁座27の内径より、図7、図8に示すよう
に副弁座44の内径より、図11、図12に示すように
第2弁座54の内径よりも大きくすると、連通路31に
対する前記間隙での圧力減少量が大きくなるが、流体
が、例えば水道水で入口圧が2〜4kg/cm2の比較的高い
圧力の場合は、微小流量においては、入口圧に対する圧
力減少量も小さく、圧力減少があまり問題にならない。
したがって、弁座27…内径を小さくすると、ダイヤフ
ラム弁28の動きによる前記間隙の流量変化が小さくな
るため、ダイヤフラム弁28の変化に応じて流量が大き
く変化せず、微小流量の安定した制御ができる。
【0056】
【効果】この考案は、以上のように構成し、一台の定流
量弁付圧力比例制御弁によって小流量から大流量を制御
できるようにしたので、電磁弁、ガバナー、電磁弁やオ
リフィス付のバイパス通路を設ける必要もなく、流量制
御装置の小型化を図ることができ、かつコストを低減す
ることもできる。
量弁付圧力比例制御弁によって小流量から大流量を制御
できるようにしたので、電磁弁、ガバナー、電磁弁やオ
リフィス付のバイパス通路を設ける必要もなく、流量制
御装置の小型化を図ることができ、かつコストを低減す
ることもできる。
【図1】この考案に係る第1実施例の縦断正面図
【図2】同実施例における連通路の他の実施例の縦断正
面図
面図
【図3】同実施例の連通路の内径を弁座の内径よりも大
きくした縦断正面図
きくした縦断正面図
【図4】同連通孔の他の実施例の縦断正面図
【図5】第2実施例の縦断正面図
【図6】同実施例における連通路の他の実施例の縦断正
面図
面図
【図7】同実施例の連通路の内径を副弁座の内径よりも
大きくした縦断正面図
大きくした縦断正面図
【図8】同連通孔の他の実施例の縦断正面図
【図9】第3実施例の縦断正面図
【図10】同実施例における連通路の他の実施例の縦断
正面図
正面図
【図11】同実施例の連通路の内径を第2弁座の内径よ
りも大きくした縦断正面図
りも大きくした縦断正面図
【図12】同連通孔の他の実施例の縦断正面図
【図13】従来の制御装置の回路図
【図14】小孔付電磁流量制御弁の縦断拡大正面図
【図15】従来の制御装置の回路図
11 流路 12、13 弁座 14、15 弁体 16、30、43、45、52、55 バネ 17 ダイヤフラム 18 中空室 19 通路 20 通孔 21 電磁駆動部 22 コイル 23 プランジャ 24 弁棒 25 係合部 26 バイパス通路 27 弁座 28 ダイヤフラム弁 29 ダイヤフラム弁室 31 連通路 41 主弁座 42 主弁体 44 副弁座 51 第1弁座 53 副弁体 54 第2弁座 56 係合手段
Claims (3)
- 【請求項1】 流路11中に直列で同軸上に設けた2つ
の弁座12、13と、この両弁座12、13の中心に貫
通させた弁棒24と、上記両弁座12、13にそれぞれ
対向させてバネ16、16により閉弁方向に押圧力を付
与すると共に、上流側14は上記弁棒24と一体にスラ
イドし、下流側15は上記弁棒24に対しフリーにスラ
イドするよう設けた弁体14、15と、上記弁棒24に
上流側の弁体14の開弁後遅れて下流側の弁体15に係
合して開弁するよう設けた係合部25と、上記下流側弁
座13の下流流路11に設けたその圧力が印加されるダ
イヤフラム17と、通電により開弁方向に上記ダイヤフ
ラム17を介し弁棒24を所要量可変にスライドさせる
よう設けた電磁駆動部21と、上記上流側の弁座12を
通過後下流側の弁座13を迂回して上記流路11の出口
側に微少流量を流すよう設けたバイパス通路26と、こ
のバイパス通路26に設けた弁座27とそれに対向する
ダイヤフラム弁28との間で形成したダイヤフラム弁室
29と、このダイヤフラム弁28を開弁方向に押圧する
バネ30と、バイパス通路26に設けて上流側の弁座1
2を通った流体を前記ダイヤフラム弁室29に流入させ
る連通路31と、から成る定流量弁付圧力比例制御弁。 - 【請求項2】 流路11中に設けた主弁座41と、この
主弁座41に対向させてバネ43により閉弁方向に押圧
力を付与して設けた主弁体42と、上記主弁座41下流
の流体圧力を受けて応動するよう設けたダイヤフラム1
7と、このダイヤフラムの動きに連動する上記主弁座4
1及び主弁体42を移動自在に貫通する弁棒24と、通
電により開弁方向に上記ダイヤフラム17を介し弁棒2
4を所要量可変にスライドさせるよう設けた電磁駆動部
21と、上記主弁体42内にその主弁体42の上記主弁
座41内に位置する部分に連通させて設けた副弁座44
と、その副弁座44とバネ45の押圧力により上記副弁
座44に押し付けられるダイヤフラム弁28との間の上
記主弁体42内に形成したダイヤフラム弁室29と、入
口側流体を上記ダイヤフラム弁室29に流入させるよう
上記主弁体42又はダイヤフラム弁28に設けた連通路
31と、上記副弁座44内に遊嵌させて上記ダイヤフラ
ム弁28に端を当接させてある上記弁棒24に前記ダイ
ヤフラム弁28の開弁後遅れて上記主弁体42に係合し
て開弁するよう設けた係合部25と、から成る定流量弁
付圧力比例制御弁。 - 【請求項3】 流路11中に設けた主弁座41と、この
主弁座41に対向させてバネ52により閉弁方向に押圧
力を付与して設けた主弁体42と、上記主弁座41下流
の流体圧力を受けて応動するよう設けたダイヤフラム1
7と、このダイヤフラム17の動きに連動する上記主弁
座41及び主弁体42を移動自在に貫通する弁棒24
と、通電により開弁方向に上記ダイヤフラム17を介し
弁棒24を所要量可変にスライドさせるよう設けた電磁
駆動部21と、上記主弁体42内の上部にその主弁体4
2の上記主弁座41内に位置する部分に連通させて設け
た第1弁座51と、バネ52により上記第1弁座51に
押し付けられるよう設けた上記弁棒24と一体にスライ
ドする副弁体53と、上記主弁体42内の下部に設けた
上記第1弁座51に連通する第2弁座54と、その第2
弁座54とバネ55により上記第2弁座54から離れる
方向の押圧力を付与したダイヤフラム弁28との間の主
弁体42内に形成したダイヤフラム弁室29と、入口側
流体を上記ダイヤフラム弁室29に流入させるよう上記
主弁体42又はダイヤフラム弁28に設けた連通路31
と、前記副弁体53の開弁後遅れて副弁体53と一体と
なって主弁体42がスライドして開弁するよう副弁体5
3と主弁体42の間に設けた両弁体53、42の係合手
段56と、から成る定流量弁付圧力比例制御弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8299691U JP2561306Y2 (ja) | 1991-08-20 | 1991-10-14 | 定流量弁付圧力比例制御弁 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6569991 | 1991-08-20 | ||
JP3-65699 | 1991-08-20 | ||
JP8299691U JP2561306Y2 (ja) | 1991-08-20 | 1991-10-14 | 定流量弁付圧力比例制御弁 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0532888U JPH0532888U (ja) | 1993-04-30 |
JP2561306Y2 true JP2561306Y2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=26406837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8299691U Expired - Fee Related JP2561306Y2 (ja) | 1991-08-20 | 1991-10-14 | 定流量弁付圧力比例制御弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2561306Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5456493B2 (ja) * | 2010-01-13 | 2014-03-26 | 愛三工業株式会社 | 電磁弁及びその電磁弁を備えた蒸発燃料処理装置 |
JP6902923B2 (ja) * | 2017-05-11 | 2021-07-14 | リンナイ株式会社 | ガス燃焼装置 |
-
1991
- 1991-10-14 JP JP8299691U patent/JP2561306Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0532888U (ja) | 1993-04-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
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