JP2546104B2 - シリコーン変性酸無水物及びその製造方法 - Google Patents

シリコーン変性酸無水物及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エポキシ樹脂の硬化剤
等として有用で、半導体封止用、塗料用、接着剤用樹脂
組成物などに好適に使用される新規なシリコーン変性酸
無水物及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、エポキシ樹脂は、これに硬化剤及び無機充填剤など
を加えた組成物として各種成形材料、粉体塗装用材料、
電気絶縁材料などに広く利用され、特に最近においては
半導体装置封止用材料として大量に使用されている。こ
れは、エポキシ樹脂が一般に他の熱硬化性樹脂に比べて
成形性、接着性、電気特性、機械的特性、耐湿性などに
優れているという特性を有しているからである。
【0003】しかしながら、エポキシ樹脂は、一般的に
低弾性率で可撓性に乏しいため、例えば半導体素子の封
止工程や封止した半導体装置のヒートサイクル試験時に
おいてパッケージクラックが発生し易く、また、過大な
ストレスがかかって素子が変形し、この結果、素子の機
能低下や破損が生じ易いという問題がある。このため、
可撓性に優れたエポキシ樹脂組成物の開発が要望されて
いる。
【0004】この問題に対し、本出願人は、先に硬化性
エポキシ樹脂にオルガノポリシロキサンを配合したエポ
キシ樹脂組成物(特開昭56−129246号公報)、
更には芳香族重合体とオルガノポリシロキサンとからな
るブロック共重合体を添加したエポキシ樹脂組成物(特
開昭58−21417号公報)を提案し、エポキシ樹脂
組成物の耐クラック性を改善した。
【0005】しかしながら、近年、益々半導体装置封止
用材料への要求特性が厳しくなり、このため更に耐クラ
ック性の向上したエポキシ樹脂組成物が望まれる。
【0006】一方、半導体装置の封止方法も、従来のト
ランスファー成形から液状エポキシ樹脂組成物による封
止に変わりつつあり、このような液状エポキシ樹脂組成
物には、硬化剤として種々の酸無水物が主に使用されて
いるが、更に可撓性に優れた硬化物を与える酸無水物系
硬化剤の開発が要望されている。
【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、エポキシ樹脂の硬化剤等として低応力性に優れた硬
化物を与え、半導体装置封止用、塗料用、接着剤用樹脂
組成物などに好適に使用できる新規なシリコーン変性酸
無水物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記式
(2)で表されるアルケニル基を有する酸無水物のアル
ケニル基に、下記式(3)で表される環状有機珪素化合
物の≡SiH結合を付加反応させることにより、下記式
(1)で表される新規なシリコーン変性酸無水物が容易
に得られること、このような付加反応を用いることによ
り、酸無水物に結合していない遊離の有機珪素化合物を
ほとんど含まないシリコーン変性酸無水物を得ることが
できることを知見した。
【0009】
【化3】 (但し、式中R1は水素原子、置換もしくは非置換の1
価炭化水素、水酸基、アルコキシ基又はアルケニルオキ
シ基、n、mは1≦n≦10、0≦m≦9、3≦n+m
≦10を満足する整数である。)
【0010】このようにして得られた上記式(1)で表
されるシリコーン変性酸無水物は、エポキシ樹脂の硬化
剤としてそれ単独で、又は公知の硬化剤、特には酸無水
物系硬化剤と併用した場合、低応力でしかも強靭なエポ
キシ樹脂硬化物を形成でき、このため優れた耐クラック
性を有し、かつガラス転移点も低下しない硬化物を与え
るエポキシ樹脂組成物を製造でき、従って、半導体封止
用エポキシ樹脂組成物の硬化剤として非常に有用で、特
に硬化物の透明性を損なわないので、透明性を要求され
る用途に有用であること、また、上記シリコーン変性酸
無水物は、有機錫化合物等のシリコーン用硬化触媒の存
在下で硬化させることができ、この硬化物はエポキシ樹
脂組成物の低応力化剤として有用であること、更にポリ
イミドの原料である酸無水物成分としても使用でき、ポ
リイミドの低弾性率化に有効に作用すること、種々の用
途に使用されることを見い出し、本発明をなすに至った
ものである。
【0011】以下、本発明について更に詳しく説明する
と、本発明のシリコーン変性酸無水物は、下記一般式
(1)で示されるものである。
【0012】
【化4】
【0013】この式(1)中、R1は水素原子、置換も
しくは非置換の1価炭化水素基、水酸基、アルコキシ基
又はアルケニルオキシ基を示す。具体的にはメチル基、
エチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、
ベンジル基等のアラルキル基などが挙げられ、またこれ
ら炭化水素基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原
子、シアノ基、グリシジル基などで置換したクロロプロ
ピル基、クロロメチル基、グリシジルプロピル基などを
挙げることもできる。また、具体的にアルコキシ基とし
てはメトキシ基、エトキシ基などが挙げられ、アルケニ
ルオキシ基としてはイソプロぺニルオキシ基、イソブテ
ニルオキシ基などが挙げられる。
【0014】また、式(1)中、n、mは1≦n≦1
0、0≦m≦9、3≦n+m≦10を満足する整数であ
り、好ましくは1≦n≦6、0≦m≦5、3≦n+m≦
6を満足する整数である。
【0015】上記式(1)のシリコーン変性酸無水物と
しては、具体的に下記のものを例示することができる。
【0016】
【化5】
【0017】上記式(1)のシリコーン変性酸無水物
は、下記式(2)で表わされるアルケニル基含有酸無水
物のアルケニル基に下記一般式(3)で表わされる環状
有機珪素化合物の≡SiH基を付加反応させることによ
り合成することができる。
【0018】ここで、本発明においては、アルケニル基
含有酸無水物として、下記式(2)で表されるものを使
用する。
【0019】
【化6】
【0020】このアルケニル基含有酸無水物に付加する
環状有機珪素化合物としては、下記式(3)で表され、
分子中に≡SiH基を有するものを使用する。
【0021】
【化7】
【0022】この式(3)において、R1,n,mは上
記と同様の意味を示す。なおn+mは上述したように3
≦n+m≦10であるが、n+mが10より大きいと、
このような環状有機珪素化合物は、n+mがこれに近い
環状有機化合物との混合物から分離するのが困難である
ため、純度が低くなるという問題がある。
【0023】このような式(3)で表される環状有機珪
素化合物としては、下記に示すものが例示されるが、こ
れに制限されるものではない。
【0024】
【化8】
【0025】上記式(2)の化合物と式(3)の化合物
の付加反応に際しては、従来公知の付加触媒、例えば塩
化白金酸のような白金系触媒を使用することができる。
また、反応し際して溶媒を使用することができるが、こ
の溶媒としてはベンゼン、トルエン、メチルイソブチル
ケトンなどの不活性溶媒を用いることができる。反応温
度は特に制限されないが、60〜120℃の範囲が好ま
しく、反応時間は通常30分〜10時間である。
【0026】更に、式(2)で表される酸無水物と式
(3)で表される有機珪素化合物の配合比は、式(2)
で表される酸無水物中のアルケニル基の当量をA、式
(3)で表される環状有機珪素化合物中の≡SiH基の
当量をBとした場合、0.1≦B/A≦2の範囲、特に
0.8≦B/A≦1.2の範囲で反応させることが好ま
しい。B/Aの比が0.1より低いと未反応で残存する
アルケニル基含有酸無水物が多いため、反応後除去する
のに多大な労力を必要とする場合があり、一方、2より
高いと未反応の環状有機珪素化合物を除去するのが困難
である場合が生じる。
【0027】本発明の式(1)で表されるシリコーン変
性酸無水物は、酸無水物系硬化剤として単独で又は従来
の酸無水物系硬化剤と併用して従来公知のエポキシ樹脂
を硬化させることができ、また、場合により有機錫化合
物などのシリコーン用硬化剤の存在下で硬化させること
もでき、これにより低応力で耐クラック性に優れ、ガラ
ス転移点も低下しない強靭な硬化物を与えることができ
る。従って、本発明のシリコーン変性酸無水物は、エポ
キシ樹脂組成物の硬化剤や低応力剤として好適に使用す
ることができる。なお、本発明のシリコーン変性酸無水
物をエポキシ樹脂の硬化剤として使用する場合、エポキ
シ樹脂組成物としては従来のエポキシ樹脂と同様の配合
で良く、例えば本発明のシリコーン変性酸無水物の1種
を単独で又は2種以上を混合してそのまま単独の硬化剤
に用いても良く、又は従来の酸無水物と併用し、これに
エポキシ樹脂、硬化促進剤、充填剤、難燃剤、カップリ
ング剤などを配合してエポキシ樹脂組成物を調製するこ
とができ、塗料、接着剤、半導体封止剤、半導体表面保
護膜などの用途に好適に使用することができる。そのほ
かポリイミドの原料である酸無水物成分として使用する
こともでき、これによってポリイミドを有効に低弾性率
化することができる。
【0028】
【発明の効果】本発明のシリコーン変性酸無水物は、硬
化物に低応力性を付与することができるため半導体封止
用材料などとして有用であり、また、本発明の製造方法
によれば、かかるシリコーン変性酸無水物を簡単に効率
よく製造することができる。
【0029】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明を具体的に示す
が、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【0030】[実施例1]リフラックスコンデンサー、
温度計、攪拌機及び滴下ロートを具備した内容積2リッ
ターの四つ口フラスコ内に、下記式(2)で表される酸
無水物108gと溶剤としてトルエン320gを入れ、
共沸脱水した後、塩化白金酸系触媒(信越化学PL−5
0T)6.5gを加え、攪拌機で攪拌しながら112℃
の温度で滴下ロートにて下記式(3−a)で表される環
状有機珪素化合物51.8gを30分間で滴下し、更に
同温度で9時間攪拌を継続した。こうして得られた生成
物から未反応の酸無水物と溶剤を減圧下で留去して目的
とする下記式(1−a)で表されるシリコーン変性酸無
水物123gを得た。
【0031】
【化9】
【0032】得られたシリコーン変性酸無水物の外観は
淡黄色透明の液体であった。このシリコーン変性酸無水
物のIR分析を行った結果、≡SiH基の存在を表す2
150cm-1の吸収帯が消失していた。また、NMR分
析の結果、≡SiH基の存在を表す4.4ppm付近の
ピークが消失していた。更に、GPC分析の結果、原料
よりも高分子量な化合物の存在を示すピークが出現し
た。以上の分析結果及び元素分析結果より、このシリコ
ーン変性酸無水物は上記(1−a)で表される構造を有
していることが確認された。なお、下記に式(1−a)
の化合物の特性値を示す。
【0033】
【化10】
【0034】[実施例2]実施例1と同様な四つ口フラ
スコを反応装置として使用し、このフラスコに上記式
(1)で表される酸無水物163gと溶剤としてトルエ
ン385gを入れ、共沸脱水した後、塩化白金酸系触媒
(信越化学PL−50T)9.5gを加え、攪拌機で攪
拌しながら112℃の温度で滴下ロートにて下記平均組
成式(3−b)で表される環状有機珪素化合物29.5
gを30分間で滴下し、更に同温度で10時間攪拌を継
続した。こうして得られた生成物から未反応の酸無水物
と溶剤を減圧下で留去して目的とする下記式(1−b)
で示されるシリコーン変性酸無水物138.5gを得
た。
【0035】
【化11】
【0036】得られたシリコーン変性酸無水物の外観は
淡黄色透明の半固体であった。このシリコーン変性酸無
水物のIR分析を行った結果、≡SiH基の存在を表す
2140cm-1の吸収帯が消失していた。また、NMR
分析の結果、≡SiH基の存在を表す4.4PPm付近
のピークが消失していた。更に、GPC分析の結果、原
料よりも高分子量な化合物の存在を示すピークが出現し
た。以上の分析結果及び元素分析結果より、このシリコ
ーン変性酸無水物は上記式(1−b)で表される構造を
有していることが確認された。なお、式(1−b)の化
合物の特性値を下記に示す。
【0037】
【化12】
【0038】[実施例3]実施例1と同様な四つ口フラ
スコを反応装置として使用し、このフラスコに上記式
(1)で表される酸無水物64gと溶剤としてトルエン
328gを入れ、共沸脱水した後、塩化白金酸系触媒
(信越化学PL−50T)5.0gを加え、攪拌機で攪
拌しながら112℃の温度で滴下ロートにて下記平均組
成式(3−c)で表される環状有機珪素化合物100g
を30分間で滴下し、更に同温度で5時間攪拌を継続し
た。こうして得られた生成物から未反応の酸無水物と溶
剤を減圧下で留去して目的とする下記式(1−c)で示
されるシリコーン変性酸無水物142gを得た。
【0039】
【化13】
【0040】得られたシリコーン変性酸無水物の外観は
淡黄色透明の液状物質であった。このシリコーン変性酸
無水物のIR分析を行った結果、≡SiH基の存在を表
す2150cm-1の吸収帯が消失していた。また、NM
R分析の結果、≡SiH基の存在を表す4.4PPm付
近のピークが消失していた。更に、GPC分析の結果、
原料よりも高分子量な化合物の存在を示すピークが出現
した。以上の分析結果及び元素分析結果より、このシリ
コーン変性酸無水物は上記式(1−c)で表される構造
を有していることが確認された。なお、式(1−c)の
化合物の特性値を下記に示す。
【0041】
【化14】
【0042】
【化15】
【0043】[実施例4]実施例1と同様な四つ口フラ
スコを反応装置として使用し、このフラスコに上記式
(1)で表される酸無水物74gと溶剤としてトルエン
308gを入れ、共沸脱水した後、塩化白金酸系触媒
(信越化学PL−50T)4.8gを加え、攪拌機で攪
拌しながら112℃の温度で滴下ロートにて下記平均組
成式(3−d)で表される環状有機珪素化合物80gを
30分間で滴下し、更に同温度で5時間攪拌を継続し
た。こうして得られた生成物から未反応の酸無水物と溶
剤を減圧下で留去して目的とする下記式(1−d)で示
されるシリコーン変性酸無水物129gを得た。
【0044】
【化16】
【0045】得られたシリコーン変性酸無水物の外観は
淡黄色透明の液状物質であった。このシリコーン変性酸
無水物のIR分析を行った結果、≡SiH基の存在を表
す2150cm-1の吸収帯が消失していた。また、NM
R分析の結果、≡SiH基の存在を表す4.4PPm付
近のピークが消失していた。更に、GPC分析の結果、
原料よりも高分子量な化合物の存在を示すピークが出現
した。以上の分析結果及び元素分析結果より、このシリ
コーン変性酸無水物は上記式(1−d)で表される構造
を有していることが確認された。なお、式(1−d)の
化合物の特性値を下記に示す。
【0046】
【化17】
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られた生成物のゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィーのチャートである。
【図2】実施例2で得られた生成物のゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィーのチャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新井 一弘 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内 (72)発明者 井野 茂樹 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内 (72)発明者 清水 久司 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるシリコーン
    変性酸無水物。 【化1】 (但し、式中R1は水素原子、置換もしくは非置換の1
    価炭化水素基、水酸基、アルコキシ基又はアルケニルオ
    キシ基、n、mは1≦n≦10、0≦m≦9、3≦n+
    m≦10を満足する整数である。)
  2. 【請求項2】下記式(2)で表されるアルケニル基含有
    酸無水物のアルケニル基に下記一般式(3)で表される
    環状有機珪素化合物の≡SiH基を付加反応させること
    を特徴とする請求項1記載のシリコーン変性酸無水物の
    製造方法。 【化2】 (但し、式中R1は水素原子、置換もしくは非置換の1
    価炭化水素、水酸基、アルコキシ基又はアルケニルオキ
    シ基、n、mは1≦n≦10、0≦m≦9、3≦n+m
    ≦10を満足する整数である。)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2682359B2 (ja) * 1992-11-27 1997-11-26 信越化学工業株式会社 シリコーン変性酸無水物及びその製造方法
US20080071017A1 (en) * 2004-09-10 2008-03-20 Gordon Glenn V Anhydride-Functional Silsesquioxane Resins
US7727595B2 (en) 2004-10-25 2010-06-01 Dow Corning Corporation Coating compositions containing a carbinol functional silicone resin or an anhydride functional silicone resin
US7807012B2 (en) 2004-10-25 2010-10-05 Dow Corning Corporation Moldable compositions containing carbinol functional silicone resins or anhydride functional silicone resins
EP2722366B1 (en) * 2011-06-17 2023-01-04 LG Chem, Ltd. Curable composition
JP5790480B2 (ja) * 2011-12-20 2015-10-07 信越化学工業株式会社 酸無水物基含有オルガノシロキサン及びその製造方法
JP6376692B2 (ja) * 2014-10-17 2018-08-22 日本化薬株式会社 カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物、それを含有するエポキシ樹脂組成物とその硬化物
JP7290115B2 (ja) * 2020-01-10 2023-06-13 信越化学工業株式会社 (メタ)アクリル官能性オルガノポリシロキサンの製造方法、硬化性組成物およびインクジェット用インク

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130006331A (ko) 2011-07-06 2013-01-16 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 무수 숙신산기 함유 환상 오르가노실록산, 그의 제조 방법, 오르가노실록산 조성물 및 열경화성 수지 조성물

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