JP2519430B2 - 置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその製造法 - Google Patents
置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその製造法Info
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- JP2519430B2 JP2519430B2 JP61238660A JP23866086A JP2519430B2 JP 2519430 B2 JP2519430 B2 JP 2519430B2 JP 61238660 A JP61238660 A JP 61238660A JP 23866086 A JP23866086 A JP 23866086A JP 2519430 B2 JP2519430 B2 JP 2519430B2
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は有機色素あるいはポリマー原料として有用な
新規な置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその製法
に関する。
新規な置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその製法
に関する。
<従来技術及び本発明が解決しようとする問題点> 活性メチル基を有する含窒素複素環化合物とフタール
酸類とを反応させると次式 で示されるマロニル基を有する化合物が得られることが
知られている。(C.A.66 108236)この化合物は有機色
素として有用である(特公昭59−197045号公報)。
酸類とを反応させると次式 で示されるマロニル基を有する化合物が得られることが
知られている。(C.A.66 108236)この化合物は有機色
素として有用である(特公昭59−197045号公報)。
また、該反応を用いたポリマーの合成が試みられてい
る(特公昭42−14468号公報)。即ちピロメリット酸と
ジメチルピリジンとの反応で次式 で示される耐熱性ポリマーを得ているが、該ポリマーは
不溶不融であり加工性が悪く実用性にとぼしいものであ
った。
る(特公昭42−14468号公報)。即ちピロメリット酸と
ジメチルピリジンとの反応で次式 で示される耐熱性ポリマーを得ているが、該ポリマーは
不溶不融であり加工性が悪く実用性にとぼしいものであ
った。
本発明は、有機色素又はポリマー原料として有用な新
規な置換基を有する含窒素複素環誘導体を提供すること
である。
規な置換基を有する含窒素複素環誘導体を提供すること
である。
本発明の他の目的は、上記新規化合物の製造方法を提
供することにある。
供することにある。
<問題点を解決するための手段> 本発明は一般式 (式中R1、R2は水素又は炭素数1乃至2の低級アルキル
基を表わし、XはCH又はNを表わし、Rはベンゼン、ビ
フェニル、フェニルエーテル又はベンゾフェノンの4価
の有機残基を表わす) で示される置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその
製造法からなる。
基を表わし、XはCH又はNを表わし、Rはベンゼン、ビ
フェニル、フェニルエーテル又はベンゾフェノンの4価
の有機残基を表わす) で示される置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその
製造法からなる。
本明細書において、一般式(I)中のRはベンゼン、
ビフェニル、フェニルエーテル又はベンゾフェノンの4
価の有機残基を示す。これらの中で特にビフェニル、フ
ェニルエーテル又はベンゾフェノンの4価の有機残基が
好ましい。
ビフェニル、フェニルエーテル又はベンゾフェノンの4
価の有機残基を示す。これらの中で特にビフェニル、フ
ェニルエーテル又はベンゾフェノンの4価の有機残基が
好ましい。
即ち次式のごとき4価の有機残基を持つものである。
本発明の置換基を有する含窒素複素環誘導体(I)の
製造法は、一般式 (式中、Rは前記と同じ) で示されるテトラカルボン酸またはその無水物と一般式 (式中、R1、R2、Xは前記と同じ) で示される含窒素複素環化合物とを反応させることによ
って製造することが出来る。
製造法は、一般式 (式中、Rは前記と同じ) で示されるテトラカルボン酸またはその無水物と一般式 (式中、R1、R2、Xは前記と同じ) で示される含窒素複素環化合物とを反応させることによ
って製造することが出来る。
本反応は無溶媒下反応させることも出来るが、通常該
反応を妨害しない溶媒下反応させることが好ましい。こ
れらの例としては、ピリジン、ジメチルピリジン、スル
ホラン、N−アルキル−2−ピロリドン、ピロリドン、
トリクロルベンゼン、ジグライム、ジメチルイミダゾリ
ン、ジメチルホルムアミドなどがあげられる。
反応を妨害しない溶媒下反応させることが好ましい。こ
れらの例としては、ピリジン、ジメチルピリジン、スル
ホラン、N−アルキル−2−ピロリドン、ピロリドン、
トリクロルベンゼン、ジグライム、ジメチルイミダゾリ
ン、ジメチルホルムアミドなどがあげられる。
本反応における化合物(II)と化合物(III)とのモ
ル比は特に限定されないが、1/2以下即ち化合物(III)
過剰で反応させることが好ましい。
ル比は特に限定されないが、1/2以下即ち化合物(III)
過剰で反応させることが好ましい。
又本反応は、脱水剤の存在下反応させることも出来
る。
る。
脱水剤の具体例としては、無水酢酸、硫酸、リン酸、
五酸化リンあるいは塩化亜鉛のごとき金属塩又はこれら
の混合物などがあげられる。
五酸化リンあるいは塩化亜鉛のごとき金属塩又はこれら
の混合物などがあげられる。
かくして得られた化合物(I)は、茶乃至黒色を有し
ており有機色素あるいはポリマー原料として有用であ
る。
ており有機色素あるいはポリマー原料として有用であ
る。
実施例1 無水ピロメリット酸6.54gと2,6−ジメチルピリジン8.
56gを無水酢酸50gに加え、無水酢酸還流下8時間加熱撹
拌を行った。
56gを無水酢酸50gに加え、無水酢酸還流下8時間加熱撹
拌を行った。
反応後、反応液をメタノール中に注ぎ析出した結晶を
乾燥させて粗生成物 を得た。これをN−メチル−2−ピロリドンに溶融さ
せ、再びメタノール中に注いで再結晶し、精製物10.56g
(黒色)を得た。
乾燥させて粗生成物 を得た。これをN−メチル−2−ピロリドンに溶融さ
せ、再びメタノール中に注いで再結晶し、精製物10.56g
(黒色)を得た。
IR(νmax)1791、1625、1584、990cm-1 CHN C H N (実測値) 72.68% 4.06% 7.05% (計算値) 72.72% 4.07% 7.07% 実施例2 3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
8.82gと、2,4,6−トリメチルピリジン9.68gを1,2,4−ト
リクロルベンゼン60gに加え100℃になるまで加熱、撹拌
した。その後硫酸1c.c.を加え170〜180℃にて加熱撹拌
を8時間行なった。撹拌後、反応液をメタノール中に注
ぎ、析出した結晶を乾燥させて粗生成物 を得た。これをN−メチル−2−ピロリドンに溶解さ
せ、再びメタノール中に注いで再結晶させ精製物13.6g
(茶色)を得た。
8.82gと、2,4,6−トリメチルピリジン9.68gを1,2,4−ト
リクロルベンゼン60gに加え100℃になるまで加熱、撹拌
した。その後硫酸1c.c.を加え170〜180℃にて加熱撹拌
を8時間行なった。撹拌後、反応液をメタノール中に注
ぎ、析出した結晶を乾燥させて粗生成物 を得た。これをN−メチル−2−ピロリドンに溶解さ
せ、再びメタノール中に注いで再結晶させ精製物13.6g
(茶色)を得た。
IR(νmax) 1627、1564、989cm-1 CHN C H N (実測値) 76.72% 4.82% 5.57% (計算値) 76.79% 4.83% 5.60% 実施例3 3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
のかわりに、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物9.66gを用いた以外は実施例2と同様に
して反応させて、生成物 12.8g(茶色)を得た。
のかわりに、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物9.66gを用いた以外は実施例2と同様に
して反応させて、生成物 12.8g(茶色)を得た。
IR(νmax) 1622、1578、989cm-1 CHN C H N (実測値) 74.95% 4.56% 5.26% (計算値) 74.99% 4.58% 5.30% 融点 300℃まででは融点は認められず、一部分解の様
子が見られた。
子が見られた。
実施例4 3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物9.66gと2,5−ジメチルピラジン8.64gを1,2,4−トリ
クロルベンゼン50gに加え、100℃になるまで加熱撹拌し
た。その後硫酸1c.c.を加え175〜180℃にて加熱撹拌を
7時間行った。撹拌後、反応液をメタノール中に注ぎ、
析出した結晶を乾燥させて粗生成物 を得た。これをDMFに溶解させ再び、メタノールに注い
で再結晶させて精製物14.2g(茶色)を得た。
水物9.66gと2,5−ジメチルピラジン8.64gを1,2,4−トリ
クロルベンゼン50gに加え、100℃になるまで加熱撹拌し
た。その後硫酸1c.c.を加え175〜180℃にて加熱撹拌を
7時間行った。撹拌後、反応液をメタノール中に注ぎ、
析出した結晶を乾燥させて粗生成物 を得た。これをDMFに溶解させ再び、メタノールに注い
で再結晶させて精製物14.2g(茶色)を得た。
IR(νmax)1792、1620、1571、964cm-1 CHN C H N (実測値) 69.28% 3.56% 11.11% (計算値) 69.32% 3.61% 11.15% 融点 300℃までは融点は認められず、一部分解の様子
が見られた。
が見られた。
Claims (8)
- 【請求項1】一般式 (式中R1、R2は水素又は炭素数1乃至2の低級アルキル
基を表わし、XはCH又はNを表わし、Rはベンゼン、ビ
フェニル、フェニルエーテル又はベンゾフェノンの4価
の有機残基を表わす) で示される置換基を有する含窒素複素環誘導体。 - 【請求項2】式 で示される化合物である特許請求の範囲第1項記載の置
換基を有する含窒素複素環誘導体。 - 【請求項3】式 で示される化合物である特許請求の範囲第1項記載の置
換基を有する含窒素複素環誘導体。 - 【請求項4】式 で示される化合物である特許請求の範囲第1項記載の置
換基を有する含窒素複素環誘導体。 - 【請求項5】式 で示される化合物である特許請求の範囲第1項記載の置
換基を有する含窒素複素環誘導体。 - 【請求項6】一般式 (式中、Rはベンゼン、ビフェニル、フェニルエーテル
又はベンゾフェノンの4価の有機残基を表わす) で示されるテトラカルボン酸またはその無水物と一般式 (式中R1、R2は水素又は炭素数1乃至2の低級アルキル
基を表わし、XはCH又はNを表わす) で示される含窒素複素環化合物とを反応させることを特
徴とする一般式 (式中、R、R1、R2、Xは前記と同じ) で示される置換基を有する含窒素複素環誘導体の製造
法。 - 【請求項7】一般式(II)で示されるテトラカルボン酸
又はその無水物が、ピロメリット酸、ビフェニルテトラ
カルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、フェニ
ルエーテルテトラカルボン酸又はこれらのテトラカルボ
ン酸無水物である特許請求の範囲第6項記載の製造法。 - 【請求項8】一般式(III)で示される化合物が、ジメ
チルピリジン、トリメチルピリジン、ジメチルピラジン
又はトリメチルピラジンである特許請求の範囲第6項記
載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61238660A JP2519430B2 (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61238660A JP2519430B2 (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6391369A JPS6391369A (ja) | 1988-04-22 |
JP2519430B2 true JP2519430B2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=17033430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61238660A Expired - Lifetime JP2519430B2 (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 置換基を有する含窒素複素環誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2519430B2 (ja) |
-
1986
- 1986-10-07 JP JP61238660A patent/JP2519430B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6391369A (ja) | 1988-04-22 |
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