JP2505761Y2 - 光ディスク検査装置校正用基準板 - Google Patents
光ディスク検査装置校正用基準板Info
- Publication number
- JP2505761Y2 JP2505761Y2 JP5710088U JP5710088U JP2505761Y2 JP 2505761 Y2 JP2505761 Y2 JP 2505761Y2 JP 5710088 U JP5710088 U JP 5710088U JP 5710088 U JP5710088 U JP 5710088U JP 2505761 Y2 JP2505761 Y2 JP 2505761Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- standard sample
- optical disk
- film
- optical disc
- reference plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、レーザ光の反射率や透過率、あるいは板厚
など、光ディスクの物理的な諸特性を測定する光ディス
ク検査装置において、これらの測定系の校正に使用され
る基準板の改良に関するものである。
など、光ディスクの物理的な諸特性を測定する光ディス
ク検査装置において、これらの測定系の校正に使用され
る基準板の改良に関するものである。
更に詳しくは、複数の標準試料片に対して、校正の基
準となる値付けが容易な基準板の構成に関するものであ
る。
準となる値付けが容易な基準板の構成に関するものであ
る。
一般に、光ディスク検査装置においては、光ディスク
の諸特性を測定する前に、その測定系の校正が行なわれ
る。また、この校正には種々の方法があるが、値のわか
っている標準試料を使用して校正を行なうのが、検出器
や電気回路などを含めた測定系全体を一度に校正するこ
とができ、便利である。
の諸特性を測定する前に、その測定系の校正が行なわれ
る。また、この校正には種々の方法があるが、値のわか
っている標準試料を使用して校正を行なうのが、検出器
や電気回路などを含めた測定系全体を一度に校正するこ
とができ、便利である。
しかしながら、このような校正方法では、数点の測定
点から補間して校正曲線を求めるために、数種類の標準
試料を用意して、これらの標準試料を順次光学ヘッドの
上部(レーザ光の照射位置)に正確にセットしなければ
ならず、標準試料の交換が容易ではない。また、標準試
料として測定済みの光ディスクを利用する方法も考えら
れるが、静止した光ディスクにレーザ光を照射すると、
レーザ光の熱で金属膜が溶けたり、酸化して反射率や透
過率が変化してしまう。このため、光ディスクを回転さ
せることになるが、反射率などが全面に渡って均一な光
ディスクは少なく、正確な基準値を得ることは難しい。
さらに、標準試料に対する値付けは、通常、平行なレー
ザ光を使用して行なわれる。これは、収束するレーザ光
を使用したのでは、照射した光のパワーと反射した光の
パワーとを正確に測定することが困難なためである。こ
のため、標準試料の表面に反射があると、正確な値付け
を行なうことができない。
点から補間して校正曲線を求めるために、数種類の標準
試料を用意して、これらの標準試料を順次光学ヘッドの
上部(レーザ光の照射位置)に正確にセットしなければ
ならず、標準試料の交換が容易ではない。また、標準試
料として測定済みの光ディスクを利用する方法も考えら
れるが、静止した光ディスクにレーザ光を照射すると、
レーザ光の熱で金属膜が溶けたり、酸化して反射率や透
過率が変化してしまう。このため、光ディスクを回転さ
せることになるが、反射率などが全面に渡って均一な光
ディスクは少なく、正確な基準値を得ることは難しい。
さらに、標準試料に対する値付けは、通常、平行なレー
ザ光を使用して行なわれる。これは、収束するレーザ光
を使用したのでは、照射した光のパワーと反射した光の
パワーとを正確に測定することが困難なためである。こ
のため、標準試料の表面に反射があると、正確な値付け
を行なうことができない。
本考案は、上記のような従来装置の欠点をなくし、複
数の標準試料を順次光学ヘッドの上部に正確にセットす
ることができるとともに、レーザ光の照射による温度上
昇に対しても反射率などが変化してしまうことがなく、
しかも標準試料に対して、正確な値付けを行なうことの
できる光ディスク検査装置校正用基準板を簡単な構成に
より実現することを目的としたものである。
数の標準試料を順次光学ヘッドの上部に正確にセットす
ることができるとともに、レーザ光の照射による温度上
昇に対しても反射率などが変化してしまうことがなく、
しかも標準試料に対して、正確な値付けを行なうことの
できる光ディスク検査装置校正用基準板を簡単な構成に
より実現することを目的としたものである。
本考案の光ディスク検査装置校正用基準板は、通常の
光ディスクと等しい板厚を有するガラス基板の一方の面
に誘電体多層膜よりなる反射膜または透過膜が形成され
るとともに他方の面に反射防止膜が形成され所定の基準
値に値付けされた複数の標準試料片と、光ディスクのク
ランプ機構により共通にクランプされるクランプ部を有
し前記複数の標準試料片を同一円周上に配置するととも
にこれら複数の標準試料片をその反射膜面の位置および
クランプ面からの高さが前記クランプ機構にクランプさ
れる通常の光ディスクの記録膜面と一致するように保持
する基板部とを具備するようにしたものである。
光ディスクと等しい板厚を有するガラス基板の一方の面
に誘電体多層膜よりなる反射膜または透過膜が形成され
るとともに他方の面に反射防止膜が形成され所定の基準
値に値付けされた複数の標準試料片と、光ディスクのク
ランプ機構により共通にクランプされるクランプ部を有
し前記複数の標準試料片を同一円周上に配置するととも
にこれら複数の標準試料片をその反射膜面の位置および
クランプ面からの高さが前記クランプ機構にクランプさ
れる通常の光ディスクの記録膜面と一致するように保持
する基板部とを具備するようにしたものである。
このように、複数の標準試料片を基板部の同一円周上
に配置するとともに、この基板部に光ディスクと同様の
クランプ部を設けるようにすると、複数の標準試料片を
特別の治具などを使用することなく光ディスクと共通の
クランプ機構によりクランプすることができるととも
に、基板部を回転させるだけで、任意の標準試料片を光
学ヘッドの上部にセットすることができる。しかも、各
標準試料片の面積は小さいので、均一性に優れている。
また、複数の標準試料片をその反射膜面または透過膜面
の位置およびクランプ面からの高さが前記クランプ機構
にクランプされる通常の光ディスクの記録膜面と一致す
るように保持すると、各標準試料片が常に光ディスクと
同じ高さに保持されるようになり、実際の測定状態によ
り近い条件で校正を行なうことができる。さらに、標準
試料片の反射膜または透過膜を誘電体多層膜により形成
すると、熱に強く、レーザ光を照射しても反射率などが
変化してしまうことのない標準試料片を実現することが
できる。また、標準試料片におけるレーザ光の入射面に
反射防止膜を形成すると、平行光を使用して値付けを行
なった場合にも、受光素子に基板表面からの反射光が入
射してしまうことがなく、反射膜の反射率に応じた正確
な値付けを行なうことができる。
に配置するとともに、この基板部に光ディスクと同様の
クランプ部を設けるようにすると、複数の標準試料片を
特別の治具などを使用することなく光ディスクと共通の
クランプ機構によりクランプすることができるととも
に、基板部を回転させるだけで、任意の標準試料片を光
学ヘッドの上部にセットすることができる。しかも、各
標準試料片の面積は小さいので、均一性に優れている。
また、複数の標準試料片をその反射膜面または透過膜面
の位置およびクランプ面からの高さが前記クランプ機構
にクランプされる通常の光ディスクの記録膜面と一致す
るように保持すると、各標準試料片が常に光ディスクと
同じ高さに保持されるようになり、実際の測定状態によ
り近い条件で校正を行なうことができる。さらに、標準
試料片の反射膜または透過膜を誘電体多層膜により形成
すると、熱に強く、レーザ光を照射しても反射率などが
変化してしまうことのない標準試料片を実現することが
できる。また、標準試料片におけるレーザ光の入射面に
反射防止膜を形成すると、平行光を使用して値付けを行
なった場合にも、受光素子に基板表面からの反射光が入
射してしまうことがなく、反射膜の反射率に応じた正確
な値付けを行なうことができる。
以下、図面を使用して、本考案の光ディスク検査装置
校正用基準板を説明する。
校正用基準板を説明する。
第1図は本考案の光ディスク検査装置校正用基準板の
一実施例を示す平面図、第2図はその断面図である。図
において、S0〜S11はそれぞれ所定の基準値に値付けさ
れた標準試料片、1は標準試料片S0〜S11を同一円周上
に保持する基板部、2は基板部1の中心に設けられたク
ランプ部、21はクランプ部2において光ディスクを回転
させるターンテーブルに当接するクランプ面である。ま
た、標準試料片S0〜S11は通常の光ディスクと等しい板
厚tを有するガラス基板31と、その一方の面に形成され
た誘電体多層膜よりなる反射膜または透過膜32と、他方
の面に形成された反射防止膜33とから構成されている。
基板部1は標準試料片S0〜S11をその反射膜面または透
過膜面32側を上にした状態で、しかもその膜面のクラン
プ面21からの高さが通常の光ディスクにおけるクランプ
時の記録膜面の高さと一致するように保持している。例
えば、光ディスクがその基板部分を直接クランプされる
形式のものであれば、記録膜面の高さはその板厚と等し
くなるので、標準試料片S0〜S11は図に示すごとく、そ
の底面がクランプ面21と一致するように保持される。ま
た、光ディスクがクランプ用のハブを有するものであれ
ば、標準試料片S0〜S11の高さも、そのハブの厚みを考
慮して決定される。
一実施例を示す平面図、第2図はその断面図である。図
において、S0〜S11はそれぞれ所定の基準値に値付けさ
れた標準試料片、1は標準試料片S0〜S11を同一円周上
に保持する基板部、2は基板部1の中心に設けられたク
ランプ部、21はクランプ部2において光ディスクを回転
させるターンテーブルに当接するクランプ面である。ま
た、標準試料片S0〜S11は通常の光ディスクと等しい板
厚tを有するガラス基板31と、その一方の面に形成され
た誘電体多層膜よりなる反射膜または透過膜32と、他方
の面に形成された反射防止膜33とから構成されている。
基板部1は標準試料片S0〜S11をその反射膜面または透
過膜面32側を上にした状態で、しかもその膜面のクラン
プ面21からの高さが通常の光ディスクにおけるクランプ
時の記録膜面の高さと一致するように保持している。例
えば、光ディスクがその基板部分を直接クランプされる
形式のものであれば、記録膜面の高さはその板厚と等し
くなるので、標準試料片S0〜S11は図に示すごとく、そ
の底面がクランプ面21と一致するように保持される。ま
た、光ディスクがクランプ用のハブを有するものであれ
ば、標準試料片S0〜S11の高さも、そのハブの厚みを考
慮して決定される。
第3図は標準試料片S0〜S11の形成例を示す断面図で
ある。図に示されるように、反射膜および透過膜32は誘
電体多層膜により形成されており、その層数に応じて反
射率または透過率が制御され、所定の値付けが行なわれ
ている。誘電体多層膜の材質としては、例えば、酸化チ
タン(TiO2)および酸化ケイ素(SiO2)が使用されてい
る。なお、基板部1において、反射率が0%の位置およ
び透過率が100%の位置は、試料片を設けず、素通しに
している。また、反射防止膜33は基板部1においてレー
ザ光の入射する面(下面)に形成される。
ある。図に示されるように、反射膜および透過膜32は誘
電体多層膜により形成されており、その層数に応じて反
射率または透過率が制御され、所定の値付けが行なわれ
ている。誘電体多層膜の材質としては、例えば、酸化チ
タン(TiO2)および酸化ケイ素(SiO2)が使用されてい
る。なお、基板部1において、反射率が0%の位置およ
び透過率が100%の位置は、試料片を設けず、素通しに
している。また、反射防止膜33は基板部1においてレー
ザ光の入射する面(下面)に形成される。
このように構成された基準板においては、基板部1を
クランプ部2を利用して光ディスク検査装置のクランプ
機構に装着するだけで、特別の治具などを使用すること
なく、任意の標準試料片S0〜S11を光学ヘッドの上部に
セットすることができる。また、各標準試料片S0〜S11
の面積は小さいので、均一性に優れている。さらに、反
射膜または透過膜32を形成する誘電体多層膜は熱に強い
ので、レーザ光の照射により膜の温度が上昇しても、溶
けてしまったり、反射率などが変化してしまうことがな
い。ガラス基板31もまた高温に対して安定である。ま
た、レーザ光の入射する面に反射防止膜33が形成されて
いるので、基板表面で発生する反射光がなく、正確な値
付けを行なうことができる。
クランプ部2を利用して光ディスク検査装置のクランプ
機構に装着するだけで、特別の治具などを使用すること
なく、任意の標準試料片S0〜S11を光学ヘッドの上部に
セットすることができる。また、各標準試料片S0〜S11
の面積は小さいので、均一性に優れている。さらに、反
射膜または透過膜32を形成する誘電体多層膜は熱に強い
ので、レーザ光の照射により膜の温度が上昇しても、溶
けてしまったり、反射率などが変化してしまうことがな
い。ガラス基板31もまた高温に対して安定である。ま
た、レーザ光の入射する面に反射防止膜33が形成されて
いるので、基板表面で発生する反射光がなく、正確な値
付けを行なうことができる。
第4図は本考案の基準板を光ディスク検査装置に装着
した状態を示す構成図である。図は光ディスクの反射率
測定における校正動作時を例示したものである。図にお
いて、前記第1図および第2図と同様のものは同一符号
を付して示す。4は光ディスク検査装置における光ディ
スクのクランプ機構、41はそのターンテーブル、5は光
学ヘッドである。光学ヘッド5は、一定光量のレーザ光
を出射するレーザ光源51、光アイソレータ52、レーザ光
源51から出射されたレーザ光を収束させ、標準試料片S0
〜S11の反射膜面上に焦点を結ばせる対物レンズ53、標
準試料片S0〜S11からの反射光を光アイソレータ52を介
して検出するフォトセンサ54、フォトセンサ54の出力を
増幅するアンプ55などにより構成されている。
した状態を示す構成図である。図は光ディスクの反射率
測定における校正動作時を例示したものである。図にお
いて、前記第1図および第2図と同様のものは同一符号
を付して示す。4は光ディスク検査装置における光ディ
スクのクランプ機構、41はそのターンテーブル、5は光
学ヘッドである。光学ヘッド5は、一定光量のレーザ光
を出射するレーザ光源51、光アイソレータ52、レーザ光
源51から出射されたレーザ光を収束させ、標準試料片S0
〜S11の反射膜面上に焦点を結ばせる対物レンズ53、標
準試料片S0〜S11からの反射光を光アイソレータ52を介
して検出するフォトセンサ54、フォトセンサ54の出力を
増幅するアンプ55などにより構成されている。
このような校正動作時においては、基板部1を回転さ
せるだけで、任意の標準試料片S0〜S11を光学ヘッド5
の上部にセットすることができる。したがって、このと
きの標準試料片S0〜S11の値と測定出力Soとの関係をプ
ロットし、この測定点間を補間すれば、対物レンズ53な
どの光学系やフォトセンサ54、アンプ55などの電気回路
系を含めた測定系全体の校正曲線を一度に得ることがで
きる。また、各標準試料片S0〜S11における反射膜面の
高さが通常の光ディスクにおける記録膜面の高さと等し
く形成されているので、光学ヘッド5と反射膜32との距
離が光ディスクの測定時と等しくなり、フォーカスサー
ボの状態など、実際の測定時に近い条件で校正動作を行
なうことができる。
せるだけで、任意の標準試料片S0〜S11を光学ヘッド5
の上部にセットすることができる。したがって、このと
きの標準試料片S0〜S11の値と測定出力Soとの関係をプ
ロットし、この測定点間を補間すれば、対物レンズ53な
どの光学系やフォトセンサ54、アンプ55などの電気回路
系を含めた測定系全体の校正曲線を一度に得ることがで
きる。また、各標準試料片S0〜S11における反射膜面の
高さが通常の光ディスクにおける記録膜面の高さと等し
く形成されているので、光学ヘッド5と反射膜32との距
離が光ディスクの測定時と等しくなり、フォーカスサー
ボの状態など、実際の測定時に近い条件で校正動作を行
なうことができる。
なお、上記の説明においては、光ディスクの反射率測
定時の校正動作を例示したが、測定項目が変更された場
合にも、基準板の装着方法は変わらず、所望の標準試料
片S0〜S11を容易にセットすることができる。また、光
学ヘッド5としては、光ディスクの下側からレーザ光を
照射する形式のものを例示したが、反対に、光ディスク
の上側からレーザ光を照射するものも存在する。このよ
うな場合には、光ディスクの記録幕面の位置はディスク
の下側となるので、基準板における反射膜面または透過
膜面の位置および高さもこれに応じて変更される。
定時の校正動作を例示したが、測定項目が変更された場
合にも、基準板の装着方法は変わらず、所望の標準試料
片S0〜S11を容易にセットすることができる。また、光
学ヘッド5としては、光ディスクの下側からレーザ光を
照射する形式のものを例示したが、反対に、光ディスク
の上側からレーザ光を照射するものも存在する。このよ
うな場合には、光ディスクの記録幕面の位置はディスク
の下側となるので、基準板における反射膜面または透過
膜面の位置および高さもこれに応じて変更される。
以上説明したように、本考案の光ディスク検査装置校
正用標準板では、通常の光ディスクと等しい板厚を有す
るガラス基板の一方の面に誘電体多層膜よりなる反射膜
または透過膜が形成されるとともに他方の面に反射防止
膜が形成され所定の基準値に値付けされた複数の標準試
料片と、光ディスクのクランプ機構により共通にクラン
プされるクランプ部を有し前記複数の標準試料片を同一
円周上に配置するとともにこれら複数の標準試料片をそ
の反射膜面の位置およびクランプ面からの高さが前記ク
ランプ機構にクランプされる通常の光ディスクの記録膜
面と一致するように保持する基板部とを具備するように
しているので、複数の標準試料片を特別の治具などを使
用することなく光ディスクと共通のクランプ機構により
クランプすることができ、基板部を回転させるだけで、
任意の標準試料片を順次光学ヘッドの上部に正確にセッ
トすることができるとともに、レーザ光の照射による温
度上昇に対しても反射率などが変化してしまうことがな
く、しかも標準試料に対して、正確な値付けを行なうこ
とのできる光ディスク検査装置校正用基準板を簡単な構
成により実現することができる。
正用標準板では、通常の光ディスクと等しい板厚を有す
るガラス基板の一方の面に誘電体多層膜よりなる反射膜
または透過膜が形成されるとともに他方の面に反射防止
膜が形成され所定の基準値に値付けされた複数の標準試
料片と、光ディスクのクランプ機構により共通にクラン
プされるクランプ部を有し前記複数の標準試料片を同一
円周上に配置するとともにこれら複数の標準試料片をそ
の反射膜面の位置およびクランプ面からの高さが前記ク
ランプ機構にクランプされる通常の光ディスクの記録膜
面と一致するように保持する基板部とを具備するように
しているので、複数の標準試料片を特別の治具などを使
用することなく光ディスクと共通のクランプ機構により
クランプすることができ、基板部を回転させるだけで、
任意の標準試料片を順次光学ヘッドの上部に正確にセッ
トすることができるとともに、レーザ光の照射による温
度上昇に対しても反射率などが変化してしまうことがな
く、しかも標準試料に対して、正確な値付けを行なうこ
とのできる光ディスク検査装置校正用基準板を簡単な構
成により実現することができる。
第1図および第2図は本考案の光ディスク検査装置校正
用基準板の一実施例を示す構成図および断面図、第3図
は標準試料片S0〜S11の形成例を示す断面図、第4図は
本考案の基準板を光ディスク検査装置に装着した状態の
一例を示す構成図である。 S0〜S11……標準試料片、1……基板部、2……クラン
プ部、31……ガラス基板、32……反射膜または透過膜、
33……反射防止膜、4……クランプ機構、5……光学ヘ
ッド。
用基準板の一実施例を示す構成図および断面図、第3図
は標準試料片S0〜S11の形成例を示す断面図、第4図は
本考案の基準板を光ディスク検査装置に装着した状態の
一例を示す構成図である。 S0〜S11……標準試料片、1……基板部、2……クラン
プ部、31……ガラス基板、32……反射膜または透過膜、
33……反射防止膜、4……クランプ機構、5……光学ヘ
ッド。
Claims (1)
- 【請求項1】通常の光ディスクと等しい板厚を有するガ
ラス基板の一方の面に誘電体多層膜よりなる反射膜また
は透過膜が形成されるとともに他方の面に反射防止膜が
形成され所定の基準値に値付けされた複数の標準試料片
と、光ディスクのクランプ機構により共通にクランプさ
れるクランプ部を有し前記複数の標準試料片を同一円周
上に配置するとともにこれら複数の標準試料片をその反
射膜面の位置およびクランプ面からの高さが前記クラン
プ機構にクランプされる通常の光ディスクの記録膜面と
一致するように保持する基板部とを具備してなる光ディ
スク検査装置校正用基準板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5710088U JP2505761Y2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | 光ディスク検査装置校正用基準板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5710088U JP2505761Y2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | 光ディスク検査装置校正用基準板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01162122U JPH01162122U (ja) | 1989-11-10 |
JP2505761Y2 true JP2505761Y2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=31282955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5710088U Expired - Lifetime JP2505761Y2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | 光ディスク検査装置校正用基準板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2505761Y2 (ja) |
-
1988
- 1988-04-27 JP JP5710088U patent/JP2505761Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01162122U (ja) | 1989-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960013995B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 기판의 표면온도 측정 방법 및 열처리 장치 | |
US4210401A (en) | Visible and infrared polarization ratio spectroreflectometer | |
EP0582645B1 (fr) | Procede et dispositif d'etalonnage d'un pyrometre optique et plaquettes etalons correspondantes | |
JPS6367549A (ja) | 光ディスク用レジスト原盤の欠陥検査及び膜厚測定装置 | |
JPS63153455A (ja) | 光デイスクテストシステム | |
JP2505761Y2 (ja) | 光ディスク検査装置校正用基準板 | |
JPH0443815Y2 (ja) | ||
JPH0626976Y2 (ja) | 光デイスク検査装置校正用基準板 | |
JPH04319646A (ja) | 物体の反射及び/又は透過特性を測定する装置 | |
JPH0443814Y2 (ja) | ||
JP4849709B2 (ja) | 平坦度等測定装置 | |
JP2003132591A (ja) | 光ディスク検査装置 | |
JP2588965B2 (ja) | 電界測定用プローブ | |
US6635896B1 (en) | Optical disk stamper examination machine, optical disk stamper examination method, and optical disk stamper | |
JP4802431B2 (ja) | 膜厚測定方法及び光ディスクにおける膜厚測定方法 | |
JPH0675035B2 (ja) | 反射率測定装置 | |
JPH03214043A (ja) | 反射率の測定方法および装置 | |
JPS62284221A (ja) | 光デイスク用光学ヘツドのビ−ムスポツト径の測定方法 | |
JPS60212842A (ja) | 光学記録部材の評価装置 | |
JPH0663846B2 (ja) | 光ピツクアツプ装置 | |
JPH04506413A (ja) | 半透明要素の光学的伝達ファクタ又は密度を測定するのに使用する装置及び方法 | |
JP2657868B2 (ja) | ヘッド浮上量測定における干渉波較正方法 | |
JP2006184173A (ja) | 光透過率測定方法 | |
JPS60191448A (ja) | 光デイスクの反射膜検査装置 | |
JPS59182338A (ja) | 光学測定装置 |