JP2024069014A - Fluid Control Devices - Google Patents

Abstract

【課題】サックバック機能の応答性および安定性を向上させることが可能な流体制御機器を提供すること。【解決手段】制御流体を入力する入力ポート１１１と、制御流体を出力する出力ポート１１２と、入力ポート１１１と出力ポート１１２を連通する下流側流体室１１６ａと、を備える流体制御機器１において、下流側流体室１１６ａに隣接する圧力作用室１１６ｂを備えること、下流側流体室１１６ａと圧力作用室１１６ｂとを区画するダイアフラム部材１５を備えること、ダイアフラム部材１５は、圧力作用室１１６ｂ内の流体圧力のみに基づき、下流側流体室１１６ａの側または圧力作用室１１６ｂの側に弾性変形すること。【選択図】図１[Problem] To provide a fluid control device capable of improving the responsiveness and stability of the suck back function. [Solution] In a fluid control device 1 having an input port 111 for inputting a control fluid, an output port 112 for outputting the control fluid, and a downstream side fluid chamber 116a that communicates between the input port 111 and the output port 112, the device is provided with a pressure application chamber 116b adjacent to the downstream side fluid chamber 116a, a diaphragm member 15 that separates the downstream side fluid chamber 116a and the pressure application chamber 116b, and the diaphragm member 15 elastically deforms toward the downstream side fluid chamber 116a or the pressure application chamber 116b based only on the fluid pressure in the pressure application chamber 116b. [Selected Figure] Figure 1

Description

本発明は、制御流体を入力する入力ポートと、制御流体を出力する出力ポートと、入力ポートと出力ポートを連通する流体室と、を備える流体制御機器に関するものである。 The present invention relates to a fluid control device that has an input port for inputting a control fluid, an output port for outputting the control fluid, and a fluid chamber that connects the input port and the output port.

半導体や液晶などの製造工程で使用される薬液や純水等は、供給源からノズル等の吐出口へと圧送される途中で弁によってその流量が制御される。その際、一定量の薬液を供給するために弁を一定間隔で開閉するが、その閉弁時にノズル側流路内の薬液を吸引することによって、吐出停止後に薬液がそのノズル先端から過剰に滴下されることが防止されている。その薬液吸引のために、例えば、特許文献１に開示される、開閉弁の機能とサックバック機能とを備えた流体制御機器が用いられている。 The flow rate of chemical liquids and pure water used in the manufacturing process of semiconductors and liquid crystals is controlled by a valve while being pumped from a supply source to a nozzle or other outlet. In order to supply a fixed amount of chemical liquid, the valve is opened and closed at regular intervals, and when the valve is closed, the chemical liquid in the nozzle side flow path is sucked in, preventing excessive dripping of the chemical liquid from the nozzle tip after discharge has stopped. To suck in the chemical liquid, for example, a fluid control device with an on-off valve function and a suck-back function, as disclosed in Patent Document 1, is used.

ここで、特許文献１に開示される流体制御機器について説明する。なお、符号は、特許文献１に記載のものを用いている。特許文献１に開示される流体制御機器は、制御流体を入力する入力ポート１１と、制御流体を出力する出力ポート１２と、入力ポート１１と出力ポート１２とを連通する弁孔１４と、弁孔１４の外周部に形成される弁座１３と、弁座１３に対して当接離間する環状の弁体部５ａを備えたダイアフラム弁体５と、弁体部５ａに係着する案内管２１を備えた第１ピストン２２と、第１ピストン２２を貫いて案内管２１内に嵌挿されダイアフラム弁体５の中心部に係着するロッド３１を備えた第２ピストン３２と、第１ピストン２２をダイアフラム弁体５の閉方向に付勢するための第１スプリング２７と、第２ピストン３２をダイアフラム弁体５の開方向に付勢するための第２スプリング３６と、を備えている。 Here, the fluid control device disclosed in Patent Document 1 will be described. The reference numerals are those used in Patent Document 1. The fluid control device disclosed in Patent Document 1 includes an input port 11 for inputting a control fluid, an output port 12 for outputting the control fluid, a valve hole 14 connecting the input port 11 and the output port 12, a valve seat 13 formed on the outer periphery of the valve hole 14, a diaphragm valve body 5 having an annular valve body portion 5a that abuts against and separates from the valve seat 13, a first piston 22 having a guide tube 21 that engages with the valve body portion 5a, a second piston 32 having a rod 31 that penetrates the first piston 22 and is inserted into the guide tube 21 and engages with the center of the diaphragm valve body 5, a first spring 27 for biasing the first piston 22 in the closing direction of the diaphragm valve body 5, and a second spring 36 for biasing the second piston 32 in the opening direction of the diaphragm valve body 5.

第１ピストン２２により駆動されるダイアフラム弁体５の弁体部５ａが、弁孔１４の外周部に形成される弁座１３と当接離間することで、開閉弁の機能が得られている。また、閉弁状態で、第２ピストン３２を閉方向に駆動するための操作エアの供給を停止すると、第２スプリング３６の付勢力により、第２ピストン３２が開方向に駆動される。これにより、ダイアフラム弁体５の中心部５ｃが開方向に上昇され、弁孔１４の容積を拡大するため、サックバックを行うことが可能となっている。 The valve body portion 5a of the diaphragm valve body 5 driven by the first piston 22 comes into contact with and separates from the valve seat 13 formed on the outer periphery of the valve hole 14, thereby providing the function of an opening and closing valve. Furthermore, when the supply of operating air for driving the second piston 32 in the closing direction is stopped in the closed valve state, the second piston 32 is driven in the opening direction by the biasing force of the second spring 36. This causes the center portion 5c of the diaphragm valve body 5 to rise in the opening direction, expanding the volume of the valve hole 14 and making it possible to perform suck-back.

特開平１１－０５１２２３号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-051223

しかしながら、上記した流体制御機器には、以下のような問題があった。 However, the above-mentioned fluid control devices have the following problems:

特許文献１に開示される流体制御機器は、第２スプリング３６の付勢力により第２ピストン３２を駆動することで、サックバックを行う。しかし、第２ピストンが動こうとする際には、案内管２１の内面との間の摺動抵抗や、シールリング３５の摺動抵抗が働く。このため、第２スプリングの付勢力のみで第２ピストン３２を駆動しようとすると、操作エアの供給停止から、第２ピストン３２の駆動が開始されるまでにタイムラグが生じ、サックバック機能の応答性が低下することが懸念される。また、第２ピストン３２の駆動源である第２スプリング３６は、経年変化により付勢力が低下することも考えられるところ、この付勢力の低下によっても、サックバック機能の応答性が低下することが懸念される。 The fluid control device disclosed in Patent Document 1 performs suck back by driving the second piston 32 with the biasing force of the second spring 36. However, when the second piston tries to move, sliding resistance occurs between the second piston 32 and the inner surface of the guide tube 21, and sliding resistance of the seal ring 35. For this reason, if the second piston 32 is driven only by the biasing force of the second spring, a time lag occurs between the cessation of the supply of operating air and the start of driving the second piston 32, and there is a concern that the responsiveness of the suck back function will decrease. In addition, the biasing force of the second spring 36, which is the drive source of the second piston 32, may decrease due to aging, and there is a concern that this decrease in biasing force will also decrease the responsiveness of the suck back function.

半導体製造装置においては、薬液等の制御流体の吐出停止後にサックバックを開始するタイミングが早すぎると、ノズル等の吐出口の先端から気泡を流体制御機器内に巻き込むおそれがある。気泡が巻き込まれると、次に薬液の吐出を行う際に、薬液とともに気泡も吐出され、半導体の製造不良を招きかねない。一方で、サックバックを開始するタイミングが遅すぎれば、薬液の過剰な吐出が行われ、これも半導体の製造不良を招きかねない。このため、サックバック開始のタイミングとしては、±０．０５秒の繰り返し精度が求められる。そのような中で、上記のような応答性の低下は好ましくない。 In semiconductor manufacturing equipment, if the timing of starting suck back after stopping the discharge of a control fluid such as a chemical solution is too early, there is a risk of air bubbles being drawn into the fluid control device from the tip of the nozzle or other outlet. If air bubbles are drawn in, the next time the chemical solution is discharged, the air bubbles will be discharged along with the chemical solution, which could result in defective semiconductor production. On the other hand, if the timing of starting suck back is too late, excessive discharge of the chemical solution will occur, which could also result in defective semiconductor production. For this reason, the timing of starting suck back requires a repeatability accuracy of ±0.05 seconds. In such a situation, the above-mentioned decrease in responsiveness is undesirable.

さらに、特許文献１に開示される流体制御機器を構成する部品の寸法公差により、機器によって上記した摺動抵抗の働き具合が変わることが考えられる。これにより、安定した第２ピストン３２の駆動を得られず、サックバック機能の安定性が低下することが懸念される。 Furthermore, due to the dimensional tolerances of the components constituting the fluid control device disclosed in Patent Document 1, it is conceivable that the degree to which the above-mentioned sliding resistance acts may vary depending on the device. As a result, it is feared that stable drive of the second piston 32 may not be obtained, and the stability of the suck-back function may decrease.

サックバック機能の応答性および安定性の低下は、過剰な薬液の滴下の原因となり得る。近年、半導体の高性能化に伴って、サックバック機能の高精度化が必要になっていることから、サックバック機能の応答性および安定性の向上が望まれている。 A decrease in the responsiveness and stability of the suck back function can lead to excessive dripping of the chemical solution. In recent years, with the increasing performance of semiconductors, there is a need for higher precision in the suck back function, and so there is a demand for improved responsiveness and stability of the suck back function.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、サックバック機能の応答性および安定性を向上させることが可能な流体制御機器を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of the above problems, and aims to provide a fluid control device that can improve the responsiveness and stability of the suck-back function.

上記課題を解決するために、本発明の一態様における流体制御機器は、次のような構成を有している。 In order to solve the above problems, a fluid control device according to one aspect of the present invention has the following configuration:

（１）制御流体を入力する入力ポートと、前記制御流体を出力する出力ポートと、前記入力ポートと前記出力ポートを連通する流体室と、を備える流体制御機器において、前記流体室に隣接する隣接空間を備えること、前記流体室と前記隣接空間とを区画するダイアフラム部材を備えること、前記ダイアフラム部材は、前記隣接空間内の流体圧力のみに基づき、前記流体室の側または前記隣接空間の側に弾性変形すること、を特徴とする。 (1) A fluid control device having an input port for inputting a control fluid, an output port for outputting the control fluid, and a fluid chamber communicating with the input port and the output port, characterized in that it has an adjacent space adjacent to the fluid chamber, a diaphragm member that separates the fluid chamber from the adjacent space, and the diaphragm member elastically deforms toward the fluid chamber or the adjacent space based only on the fluid pressure in the adjacent space.

（２）（１）に記載の流体制御機器において、前記隣接空間は、負圧発生器に接続されていること、前記負圧発生器により前記流体圧力が負圧にされるとき、前記ダイアフラム部材は、前記隣接空間の側に弾性変形し、前記隣接空間の容積を減少させること、前記隣接空間の容積の減少に応じて、前記流体室の容積が増大することで、前記制御流体のサックバックを行うこと、を特徴とする。 (2) In the fluid control device described in (1), the adjacent space is connected to a negative pressure generator, and when the fluid pressure is made negative by the negative pressure generator, the diaphragm member elastically deforms toward the adjacent space, reducing the volume of the adjacent space, and the volume of the fluid chamber increases in response to the reduction in the volume of the adjacent space, thereby sucking back the control fluid.

上記の流体制御機器によれば、ダイアフラム部材は、隣接空間内の流体圧力のみに基づき、流体室の側または隣接空間の側に弾性変形することを特徴としているため、例えば、負圧発生器により、隣接空間の流体圧が負圧にされると、ダイアフラム部材は、隣接空間の側に弾性変形し、隣接空間の容積を減少させる。すると、隣接空間の容積の減少に応じて、流体室の容積が増大するため、制御流体のサックバックを行うことが可能になる。 According to the above-mentioned fluid control device, the diaphragm member is characterized by elastically deforming toward the fluid chamber or the adjacent space based only on the fluid pressure in the adjacent space, so that, for example, when the fluid pressure in the adjacent space is made negative by a negative pressure generator, the diaphragm member elastically deforms toward the adjacent space, reducing the volume of the adjacent space. Then, the volume of the fluid chamber increases in response to the reduction in the volume of the adjacent space, making it possible to suck back the control fluid.

流体圧力のみによりダイアフラム部材を弾性変形させることでサックバックを行うのであり、特許文献１に開示される流体制御機器のようにピストンの駆動によりサックバックを行うものではない。よって、流体制御機器を構成する部品間の摺動抵抗の影響を受けにくい。また、ダイアフラム部材を弾性変形させるための駆動源は流体圧であるため、ダイアフラム部材を弾性変形させる力が経年変化により低下するおそれも少ない。よって、摺動抵抗や経年変化によるサックバック機能の応答性の低下を防止することが可能である。 Suck back is performed by elastically deforming the diaphragm member using only fluid pressure, and not by driving a piston as in the fluid control device disclosed in Patent Document 1. Therefore, it is less susceptible to the effects of sliding resistance between the components that make up the fluid control device. In addition, because the driving source for elastically deforming the diaphragm member is fluid pressure, there is little risk of the force that elastically deforms the diaphragm member decreasing due to aging. Therefore, it is possible to prevent a decrease in the responsiveness of the suck back function due to sliding resistance or aging.

また、流体制御機器を構成する部品間の摺動抵抗の影響を受けにくいことから、流体制御機器を構成する部品の寸法公差によって、サックバック機能の安定性が低下するおそれもない。 In addition, since it is less susceptible to the sliding resistance between the components that make up the fluid control device, there is no risk of the stability of the suck-back function being reduced due to the dimensional tolerances of the components that make up the fluid control device.

（３）（１）または（２）に記載の流体制御機器において、前記隣接空間は、前記ダイアフラム部材の弾性変形する方向において前記ダイアフラム部材に対向する位置に、前記隣接空間の側に弾性変形する前記ダイアフラム部材に当接して、前記ダイアフラム部材の最大変形量を規制する規制部を備えること、を特徴とする。 (3) In the fluid control device described in (1) or (2), the adjacent space is characterized in that it has a restricting portion at a position facing the diaphragm member in the direction of elastic deformation of the diaphragm member, which abuts against the diaphragm member that elastically deforms toward the adjacent space, and restricts the maximum deformation amount of the diaphragm member.

（４）（３）に記載の流体制御機器において、前記規制部は、前記ダイアフラム部材の弾性変形する方向において、位置の調整が可能であること、を特徴とする。 (4) In the fluid control device described in (3), the restricting portion is characterized in that its position can be adjusted in the direction of elastic deformation of the diaphragm member.

特許文献１に開示される流体制御機器は、第２ピストンの駆動量に応じて、弁孔の容積の変動量が定まる。第２ピストンの最大駆動量は、ロッドにより定まるところ、寸法公差等の積み重ねにより、弁孔の容積の変動量にばらつきが生じるおそれがある。弁孔の容積の変動量にばらつきが生じると、サックバック量の安定性が低下するおそれがある。例えば、半導体製造装置において、サックバックにより、制御流体がノズル等の吐出口の先端から数ｍｍ後退することとした場合、サックバック量の安定性低下により、サックバック量が多くなると、制御流体が後退する量が大きくなり過ぎて、次に制御流体の吐出を行うタイミングが遅れたり、吐出量が少なくなったりするおそれがある。これは、半導体の製造不良を招きかねないため、好ましくない。 In the fluid control device disclosed in Patent Document 1, the amount of change in the volume of the valve hole is determined according to the amount of drive of the second piston. The maximum amount of drive of the second piston is determined by the rod, and there is a risk of variation in the amount of change in the volume of the valve hole due to the accumulation of dimensional tolerances, etc. If variation occurs in the amount of change in the volume of the valve hole, there is a risk of the stability of the suck-back amount decreasing. For example, in a semiconductor manufacturing device, if the control fluid is retracted several mm from the tip of the nozzle or other discharge port due to suck-back, if the suck-back amount increases due to a decrease in the stability of the suck-back amount, the amount of retraction of the control fluid may become too large, causing a delay in the timing of the next discharge of the control fluid or a decrease in the amount of discharge. This is undesirable as it may lead to manufacturing defects in semiconductors.

一方、（３）または（４）に記載の流体制御機器は、ダイアフラム部材の変形量により、流体室および隣接空間の容積の増減量が定まるところ、ダイアフラム部材に当接することで、最大変形量を規制する規制部を備えている。規制部がダイアフラム部材に直接当接するものであれば、寸法公差に積み重ねが少なくなり、流体室および隣接空間の容積の増減量にばらつきが生じるおそれが低減される。これにより、サックバック量の安定性を確保できる。 On the other hand, the fluid control device described in (3) or (4) is provided with a regulating portion that restricts the maximum amount of deformation by contacting the diaphragm member, where the amount of increase or decrease in the volume of the fluid chamber and adjacent space is determined by the amount of deformation of the diaphragm member. If the regulating portion directly contacts the diaphragm member, there is less overlap with the dimensional tolerances, and the risk of variation in the amount of increase or decrease in the volume of the fluid chamber and adjacent space is reduced. This ensures the stability of the amount of suck back.

（５）（１）乃至（４）のいずれか１つに記載の流体制御機器において、前記流体室の上流側に設けられる上流側流体室と、前記流体室と前記上流側流体室とを連通させる弁孔と、前記弁孔の外周に沿って設けられる環状弁座と、前記上流側流体室に収容され、前記環状弁座に対して、前記ダイアフラム部材が弾性変形する方向と一致する方向に当接離間する弁体と、を備えること、前記弁体は、前記上流側流体室から、前記弁孔を通じて、前記流体室まで延在する、延在部を備えること、前記延在部は、前記ダイアフラム部材と分離可能に遊嵌されていること、を特徴とする。 (5) The fluid control device according to any one of (1) to (4) is characterized in that it comprises an upstream fluid chamber provided upstream of the fluid chamber, a valve hole connecting the fluid chamber and the upstream fluid chamber, an annular valve seat provided along the outer periphery of the valve hole, and a valve body accommodated in the upstream fluid chamber and abutting against and separating from the annular valve seat in a direction that coincides with the direction in which the diaphragm member elastically deforms, the valve body comprises an extension portion that extends from the upstream fluid chamber through the valve hole to the fluid chamber, and the extension portion is loosely fitted in the diaphragm member so as to be separable.

（５）に記載の流体制御機器によれば、隣接空間の流体圧を調整することで、弁体の環状弁座に対する当接離間の動作を制御することが可能になるため、サックバック機能の他、開閉弁としての機能と、制御流体の圧力調整が可能なレギュレータとしての機能と、を持たせることが可能である。 The fluid control device described in (5) makes it possible to control the contact and separation movement of the valve body with respect to the annular valve seat by adjusting the fluid pressure in the adjacent space, so that in addition to the suck-back function, it is possible to provide the device with the function of an opening/closing valve and the function of a regulator that can adjust the pressure of the control fluid.

また、特許文献１に開示される流体制御機器は、スプリングの付勢力により弁閉を行うが、スプリングは偏荷重が発生するため、弁体に傾きが生じるおそれがある。弁体に傾きが生じると、弁座に片当たりし、摩耗等によるパーティクルが発生しやすくなる。一方、（５）に記載の流体制御機器は、流体圧により弁体の開度調整を行うため、スプリングのような偏荷重が生じない。よって、弁体が環状弁座に片当たりするおそれが低減され、摩耗等によるパーティクルの発生を抑えることが可能である。 The fluid control device disclosed in Patent Document 1 closes the valve by the biasing force of a spring, but the spring generates an unbalanced load, which may cause the valve element to tilt. If the valve element tilts, it will come into uneven contact with the valve seat, making it more likely that particles will be generated due to wear, etc. On the other hand, the fluid control device described in (5) adjusts the opening of the valve element using fluid pressure, so there is no unbalanced load like with a spring. This reduces the risk of the valve element coming into uneven contact with the annular valve seat, making it possible to suppress the generation of particles due to wear, etc.

（６）（１）乃至（５）のいずれか１つに記載の流体制御機器1において、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）は、圧力調整器２２を介して、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）に操作流体（例えば、操作エア）を供給するための操作流体供給源（例えば、圧縮エア供給源２３）と、負圧を発生する負圧発生器２４と、に接続されていること、圧力調整器２２は、上記操作流体（操作エア）と上記負圧により、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）内の流体圧力の調整を行うこと、を特徴とする。 (6) In the fluid control device 1 described in any one of (1) to (5), the adjacent space (pressure application chamber 116b) is connected to an operating fluid supply source (e.g., compressed air supply source 23) for supplying an operating fluid (e.g., operating air) to the adjacent space (pressure application chamber 116b) via a pressure regulator 22, and to a negative pressure generator 24 for generating negative pressure, and the pressure regulator 22 adjusts the fluid pressure in the adjacent space (pressure application chamber 116b) by the operating fluid (operating air) and the negative pressure.

（６）に記載の流体制御機器１によれば、圧力調整器２２により隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）内の流体圧力を調整可能である。よって、流体圧力を正圧から負圧に調整する際や、負圧から正圧に調整する際に リニアに調整することが可能となるため、サックバックの応答性の低下を防止することができる。 According to the fluid control device 1 described in (6), the fluid pressure in the adjacent space (pressure application chamber 116b) can be adjusted by the pressure regulator 22. Therefore, when adjusting the fluid pressure from positive pressure to negative pressure or from negative pressure to positive pressure, it is possible to adjust linearly, thereby preventing a decrease in suck-back responsiveness.

本発明の流体制御機器によれば、サックバック機能の応答性および安定性を向上させることが可能である。 The fluid control device of the present invention can improve the responsiveness and stability of the suck-back function.

弁開状態にある流体制御機器の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the fluid control device in a valve open state. 弁閉状態にある流体制御機器の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a fluid control device in a valve closed state. サックバックを行った状態の流体制御機器の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of the fluid control device in a state where suck-back has been performed. 流体制御機器に供給される操作エアの圧力を制御する圧力制御回路を示すブロック図である。4 is a block diagram showing a pressure control circuit for controlling the pressure of operating air supplied to a fluid control device. FIG. 制御信号と操作エアの圧力との関係の一例を表したグラフである。4 is a graph showing an example of a relationship between a control signal and an operating air pressure.

本発明に係る流体制御機器の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、弁開状態にある流体制御機器１の断面図である。図２は弁閉状態にある流体制御機器１の断面図である。図３は、サックバックを行った状態の流体制御機器１の断面図である。なお、図１－図３中の上下方向が、後述する弁体１４の開閉方向である。また、参照する図面は、分かり易さのためにデフォルメされたものであり、各部材の形状や寸法等を正確に表したものではない。 An embodiment of a fluid control device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Fig. 1 is a cross-sectional view of the fluid control device 1 in an open valve state. Fig. 2 is a cross-sectional view of the fluid control device 1 in a closed valve state. Fig. 3 is a cross-sectional view of the fluid control device 1 in a suck-back state. Note that the up-down direction in Figs. 1-3 corresponds to the opening and closing direction of the valve body 14, which will be described later. Also, the drawings referred to have been exaggerated for ease of understanding, and do not accurately represent the shape and dimensions of each component.

（流体制御機器の構成について） (About the configuration of fluid control equipment)

本実施形態に係る流体制御機器１は、半導体製造工程に用いられる薬液や純水等（制御流体の一例）の圧力制御を行うレギュレータである。 The fluid control device 1 according to this embodiment is a regulator that controls the pressure of chemicals, pure water, and the like (examples of control fluids) used in the semiconductor manufacturing process.

流体制御機器１は、図１－図３に示すように、弁本体１１と、上カバー１２と、下カバー１３とを備えている。上カバー１２と下カバー１３とは、図中の上下方向（後述する弁体１４の開閉方向と同一の方向）から弁本体１１を挟むようにして、弁本体１１に組付けられている。なお、弁本体１１は、内部を制御流体が流れる接液部材であるため、耐腐食性の高いフッ素系合成樹脂により成形されている。一方、接液部材ではない上カバー１２と下カバー１３は、例えばポリプロピレン樹脂により成形されている。 As shown in Figs. 1-3, the fluid control device 1 comprises a valve body 11, an upper cover 12, and a lower cover 13. The upper cover 12 and the lower cover 13 are assembled to the valve body 11 so as to sandwich the valve body 11 from the top and bottom in the figures (the same direction as the opening and closing direction of the valve body 14 described below). The valve body 11 is a liquid-contacting member through which the control fluid flows, and is therefore molded from a highly corrosion-resistant fluorine-based synthetic resin. On the other hand, the upper cover 12 and the lower cover 13, which are not liquid-contacting members, are molded from, for example, polypropylene resin.

弁本体１１は、制御流体が入力される入力ポート１１１と、制御流体が出力される出力ポート１１２とが形成されている。入力ポート１１１には、制御流体の供給源（不図示）が接続されており、当該供給源から流体制御機器１に制御流体が入力される。出力ポート１１２にはノズル（不図示）が接続されており、流体制御機器１から出力される制御流体を半導体等に滴下する。 The valve body 11 is formed with an input port 111 to which the control fluid is input, and an output port 112 from which the control fluid is output. A supply source (not shown) of the control fluid is connected to the input port 111, and the control fluid is input from the supply source to the fluid control device 1. A nozzle (not shown) is connected to the output port 112, and the control fluid output from the fluid control device 1 is dripped onto a semiconductor or the like.

弁本体１１には、弁本体１１の下カバー１３の側の端面（図１－図３中の下端面）から上カバー１２の側に向かって、上流側流体室１１３が穿設されている。上流側流体室１１３は、入力流路１１１ａによって入力ポート１１１と連通している。さらに、上流側流体室１１３の上カバー１２側の内面１１３ａには、弁孔１１４が穿設されている。この弁孔１１４は、上流側流体室１１３と同軸上に位置している。上流側流体室１１３の内面１１３ａには、弁孔１１４の外周に沿って環状弁座１１５が突設されている。環状弁座１１５の先端は平坦にされており、後述する弁体１４が当接する当接面である。 An upstream fluid chamber 113 is drilled in the valve body 11 from the end face of the valve body 11 on the side of the lower cover 13 (the lower end face in Figs. 1-3) toward the side of the upper cover 12. The upstream fluid chamber 113 is connected to the input port 111 by an input flow path 111a. Furthermore, a valve hole 114 is drilled in the inner surface 113a of the upstream fluid chamber 113 on the side of the upper cover 12. This valve hole 114 is positioned coaxially with the upstream fluid chamber 113. An annular valve seat 115 is protruded from the inner surface 113a of the upstream fluid chamber 113 along the outer periphery of the valve hole 114. The tip of the annular valve seat 115 is flattened and is the abutment surface against which the valve body 14 described later abuts.

さらに、弁本体１１には、弁本体１１の上カバー１２の側の端面（図１－図３中の上端面）から下カバー１３の側に向かって、略円柱状の空間として開口部１１６が穿設されている。この開口部１１６は、上流側流体室１１３および弁孔１１４と同軸上に設けられている。また、開口部１１６は、後述するダイアフラム部材１５によって、開閉方向において、２室に区画されている。すなわち、下流側流体室１１６ａ（流体室の一例）と、圧力作用室１１６ｂ（隣接空間の一例）と、に区画されている。下流側流体室１１６ａは、弁孔１１４により上流側流体室１１３に連通している。さらに、下流側流体室１１６ａは、出力流路１１２ａにより出力ポート１１２に連通している。したがって、弁本体１１には、入力流路１１１ａと、上流側流体室１１３と、弁孔１１４と、下流側流体室１１６ａと、出力流路１１２ａとによって、入力ポート１１１から出力ポート１１２までの一連の流路が構成されている。 Furthermore, an opening 116 is drilled in the valve body 11 as a substantially cylindrical space from the end face (upper end face in Figs. 1-3) of the valve body 11 on the side of the upper cover 12 toward the side of the lower cover 13. This opening 116 is provided coaxially with the upstream fluid chamber 113 and the valve hole 114. The opening 116 is also partitioned into two chambers in the opening/closing direction by the diaphragm member 15 described later. That is, it is partitioned into a downstream fluid chamber 116a (an example of a fluid chamber) and a pressure application chamber 116b (an example of an adjacent space). The downstream fluid chamber 116a is connected to the upstream fluid chamber 113 by the valve hole 114. Furthermore, the downstream fluid chamber 116a is connected to the output port 112 by the output flow path 112a. Therefore, in the valve body 11, a series of flow paths from the input port 111 to the output port 112 is formed by the input flow path 111a, the upstream fluid chamber 113, the valve hole 114, the downstream fluid chamber 116a, and the output flow path 112a.

上流側流体室１１３には、開閉方向に往復動可能な略円柱形状の弁体１４が収容されている。この弁体１４は、接液部材であるため、耐腐食性の高い、例えばフッ素系合成樹脂により成形されている。 The upstream fluid chamber 113 contains a generally cylindrical valve body 14 that can move back and forth in the opening and closing directions. This valve body 14 is a liquid-contacting member, and is therefore made of a material that is highly resistant to corrosion, such as a fluorine-based synthetic resin.

弁体１４には、その軸線方向の中央部に、他の部分よりも径の大きい拡径部１４１が形成されている。拡径部１４１の、弁座１１５ａに対向する端面は、環状弁座１１５に当接する当接面１４１ａである。よって、図２に示すように、流体制御機器１が閉弁状態にあるとき、弁体１４と環状弁座１１５は平面同士で当接する。このように、当接面１４１ａが環状弁座１１５に当接した状態では、入力ポート１１１から出力ポート１１２までの流路が遮断された状態である。一方、図１に示すように、当接面１４１ａが弁座１１５ａから離間した状態では、入力ポート１１１から出力ポート１１２までの流路が連通された状態である。 The valve body 14 has an enlarged diameter section 141 formed in the center in the axial direction, the diameter of which is larger than that of the other sections. The end face of the enlarged diameter section 141 facing the valve seat 115a is the abutment surface 141a that abuts against the annular valve seat 115. Therefore, as shown in FIG. 2, when the fluid control device 1 is in a closed state, the valve body 14 and the annular valve seat 115 abut against each other at their flat surfaces. In this way, when the abutment surface 141a abuts against the annular valve seat 115, the flow path from the input port 111 to the output port 112 is blocked. On the other hand, as shown in FIG. 1, when the abutment surface 141a is separated from the valve seat 115a, the flow path from the input port 111 to the output port 112 is connected.

さらに弁体１４は、下カバー１３側の端部に、弁体１４と一体に成形された薄膜部１４２と、薄膜部１４２の外周に形成された固定部１４３と、を備えている。固定部１４３は弁本体１１と下カバー１３とに挟持されており、これにより、弁体１４は、上流側流体室１１３と同軸上に位置するように固定されている。そして、薄膜部１４２は、弁体１４が開閉方向に往復運動するに伴って弾性変形可能なように形成されている。 Furthermore, the valve body 14 is provided with a thin film portion 142 molded integrally with the valve body 14 at the end on the lower cover 13 side, and a fixed portion 143 formed on the outer periphery of the thin film portion 142. The fixed portion 143 is sandwiched between the valve body 11 and the lower cover 13, whereby the valve body 14 is fixed so as to be positioned coaxially with the upstream fluid chamber 113. The thin film portion 142 is formed so as to be elastically deformable as the valve body 14 reciprocates in the opening and closing directions.

弁体１４の、当接面１４１ａから上カバー１２側に向かって延在部１４５が突設されている。この延在部１４５は、弁孔１１４を通じて下流側流体室１１６ａまで延在しており、延在部１４５の先端部１４４は、ダイアフラム部材１５に対して分離可能に遊嵌されている。このダイアフラム部材１５は、略円盤状に形成されている。また、ダイアフラム部材１５は、接液部材であるため、耐腐食性の高い、例えばフッ素系合成樹脂により成形されている。 An extension portion 145 protrudes from the contact surface 141a of the valve body 14 toward the upper cover 12. This extension portion 145 extends through the valve hole 114 to the downstream fluid chamber 116a, and the tip portion 144 of the extension portion 145 is loosely fitted into the diaphragm member 15 so as to be separable. This diaphragm member 15 is formed in a substantially disk shape. In addition, since the diaphragm member 15 is a liquid-contacting member, it is molded from a material with high corrosion resistance, such as a fluorine-based synthetic resin.

ダイアフラム部材１５は、中央部１５１と、中央部１５１の外周に形成される薄膜部１５２と、薄膜部１５２の外周に形成される環状の固定部１５３と、からなる。中央部１５１には、弁体１４側の端面の中央に、嵌合部１５１ａが穿設されている。そして、この嵌合部１５１ａに、弁体１４の上カバー１２側の先端部１４４が遊嵌されている。この遊嵌とは、弁体１４が閉方向（図中の上方向）に移動する際に中心軸位置がブレないように位置決めするためのものである一方、ダイアフラム部材１５と弁体１４とが離れる方向に力が働いた時には離間可能なものである。 The diaphragm member 15 consists of a central portion 151, a thin film portion 152 formed on the outer periphery of the central portion 151, and an annular fixed portion 153 formed on the outer periphery of the thin film portion 152. A fitting portion 151a is drilled in the center of the end face of the central portion 151 on the valve body 14 side. The tip portion 144 of the valve body 14 on the upper cover 12 side is loosely fitted into this fitting portion 151a. This loose fit is intended to position the central axis so that it does not move when the valve body 14 moves in the closing direction (upward in the figure), but also allows the diaphragm member 15 and the valve body 14 to separate when a force is applied in a direction that moves them apart.

ダイアフラム部材１５の固定部１５３は、上カバー１２と弁本体１１とにより挟持されており、これにより、ダイアフラム部材１５が固定されている。このように固定されることで、中央部１５１が、薄膜部１５２を弾性変形させながら、弁体１４とともに開閉方向に往復運動になっている。固定部１５３と、上カバー１２の間には、Ｏリング１９が配設されており、圧力作用室１１６ｂの気密を保っている。 The fixed portion 153 of the diaphragm member 15 is sandwiched between the upper cover 12 and the valve body 11, thereby fixing the diaphragm member 15. By fixing in this manner, the center portion 151 reciprocates in the opening and closing direction together with the valve body 14 while elastically deforming the thin film portion 152. An O-ring 19 is disposed between the fixed portion 153 and the upper cover 12, keeping the pressure application chamber 116b airtight.

上カバー１２には、圧力作用室１１６ｂに連通する導入ポート１２１が形成されており、導入ポート１２１を通じて圧力作用室１１６ｂに操作エアを供給することができる。圧力作用室１１６ｂに供給される操作エアの圧力は、後述する圧力制御回路２１（図４参照）により調整可能となっている。そして、圧力作用室１１６ｂに供給される操作エアの圧力と下流側流体室１１６ａとの圧力バランスに応じて、ダイアフラム部材１５は、薄膜部１５２を弾性変形させながら、開閉方向における位置を変動させる。これにより、弁体１４の開閉方向における位置が調節される。 The upper cover 12 is formed with an inlet port 121 that communicates with the pressure application chamber 116b, and operation air can be supplied to the pressure application chamber 116b through the inlet port 121. The pressure of the operation air supplied to the pressure application chamber 116b can be adjusted by a pressure control circuit 21 (see FIG. 4), which will be described later. Then, according to the pressure balance between the pressure of the operation air supplied to the pressure application chamber 116b and the pressure of the downstream fluid chamber 116a, the diaphragm member 15 changes its position in the opening/closing direction while elastically deforming the thin film portion 152. This adjusts the position of the valve body 14 in the opening/closing direction.

開閉方向に変位可能なダイアフラム部材１５の上限位置は、圧力作用室１１６ｂ内に設けられる規制部１８１３により定まる。規制部１８１３は、上カバー１２に挿通される調整部材１８により設けられている。 The upper limit position of the diaphragm member 15, which can be displaced in the opening and closing direction, is determined by a restricting portion 1813 provided in the pressure application chamber 116b. The restricting portion 1813 is provided by an adjustment member 18 that is inserted into the upper cover 12.

上カバー１２は、圧力作用室１１６ｂに連通する貫通孔１２２と、貫通孔１２２に連通するとともに同軸上に位置する雌ネジ部１２３と、を備えており、調整部材１８は、この貫通孔１２２と雌ネジ部１２３とに挿通されている。調整部材１８は、ロッド１８１と、ハンドル１８２と、からなる。ロッド１８１は、略円柱形状に形成されており、上カバー１２に挿入されている側の太径部１８１１と、太径部１８１１から上方に延在する細径部１８２２とを備える。太径部１８１１のダイアフラム部材１５に対向する面が、ダイアフラム部材１５の上限位置を定める規制部１８１３である。また、太径部１８１１の外周面と、上カバー１２の貫通孔１２２の内周面との間には、Ｏリング２０が配設されており、圧力作用室１１６ｂの気密を保っている。また、細径部１８２２の外周面は雄ネジ部１８１ｂであり、上カバー１２の雌ネジ部１２３と螺合している。ロッド１８１の、上カバー１２から突出している側の端部には、ハンドル１８２が結合されており、このハンドル１８２を握って、ロッド１８１の中心軸を中心にして回転させることが可能になっている。調整部材１８の雄ネジ部１８１ｂと上カバー１２の雌ネジ部１２３が螺合されているため、ロッド１８１が回転されることで、調整部材１８の開閉方向における位置を無段階に調整可能になっている。すなわち、開閉方向における規制部１８１３の位置を調整可能であり、ダイアフラム部材１５が変形する際の上限位置を調整可能である。 The upper cover 12 has a through hole 122 communicating with the pressure application chamber 116b and a female screw portion 123 communicating with the through hole 122 and positioned coaxially, and the adjustment member 18 is inserted through the through hole 122 and the female screw portion 123. The adjustment member 18 is composed of a rod 181 and a handle 182. The rod 181 is formed in a substantially cylindrical shape and has a large diameter portion 1811 on the side inserted into the upper cover 12 and a small diameter portion 1822 extending upward from the large diameter portion 1811. The surface of the large diameter portion 1811 facing the diaphragm member 15 is a regulating portion 1813 that determines the upper limit position of the diaphragm member 15. In addition, an O-ring 20 is disposed between the outer peripheral surface of the large diameter portion 1811 and the inner peripheral surface of the through hole 122 of the upper cover 12, and keeps the pressure application chamber 116b airtight. In addition, the outer circumferential surface of the small diameter portion 1822 is a male screw portion 181b, which is screwed into the female screw portion 123 of the upper cover 12. A handle 182 is connected to the end of the rod 181 that protrudes from the upper cover 12, and the handle 182 can be gripped to rotate the rod 181 around its central axis. Because the male screw portion 181b of the adjustment member 18 is screwed into the female screw portion 123 of the upper cover 12, the position of the adjustment member 18 in the opening/closing direction can be adjusted steplessly by rotating the rod 181. In other words, the position of the restriction portion 1813 in the opening/closing direction can be adjusted, and the upper limit position when the diaphragm member 15 deforms can be adjusted.

下カバー１３には、弁体１４と同軸上に、略円柱状の空間として、ばね収容室１３１が形成されている。ばね収容室１３１は、弁体１４の薄膜部１４２を挟んで上流側流体室１１３と反対側に位置している。ばね収容室１３１には、圧縮コイルばね１６が収容されている。 The lower cover 13 has a spring accommodating chamber 131 formed as a generally cylindrical space coaxially with the valve body 14. The spring accommodating chamber 131 is located on the opposite side of the upstream fluid chamber 113 across the thin film portion 142 of the valve body 14. The spring accommodating chamber 131 accommodates a compression coil spring 16.

さらに、ばね収容室１３１には、弁体１４と同軸上に凹状のガイド部１３２が設けられている。ガイド部１３２には、弁体１４を下カバー１３側から支持する支持部材１７が挿入されている。支持部材１７の外周面から突出して設けられているフランジ部１７１には、圧縮コイルばね１６が当接している。これにより、支持部材１７は、弁本体１１側（図中の上方）に向かって付勢されている。 The spring accommodating chamber 131 further includes a concave guide portion 132 that is coaxial with the valve body 14. A support member 17 that supports the valve body 14 from the lower cover 13 side is inserted into the guide portion 132. A compression coil spring 16 abuts against a flange portion 171 that protrudes from the outer circumferential surface of the support member 17. This biases the support member 17 toward the valve body 11 side (upward in the figure).

また、支持部材１７は、弁体１４側の上端面に穿設された溝１７２に弁体１４の下端部が差し込まれており、これにより弁体１４を支持している。支持部材１７は圧縮コイルばね１６により上方に付勢されているため、支持部材１７に支持される弁体１４も上方に付勢されている。つまり、弁体１４は、環状弁座１１５に当接しようとする閉方向へ付勢されている。そして、弁体１４が開方向に移動する際には、圧縮コイルばね１６の付勢力に抗して移動することになる。圧縮コイルばね１６に偏荷重が発生した場合、弁体１４傾きが生じるおそれがあるが、支持部材１７の溝１７２と弁体１４の下端部は球面同士で接触しているため、弁体１４が環状弁座１１５に当接したときに、弁体１４の姿勢が自然と補正されるようになっている。これにより、弁体１４が環状弁座１１５に片当たりすることを防いでいる。 The lower end of the valve body 14 is inserted into a groove 172 drilled in the upper end surface of the support member 17 on the valve body 14 side, thereby supporting the valve body 14. Since the support member 17 is biased upward by the compression coil spring 16, the valve body 14 supported by the support member 17 is also biased upward. In other words, the valve body 14 is biased in the closing direction in which it abuts against the annular valve seat 115. When the valve body 14 moves in the opening direction, it moves against the biasing force of the compression coil spring 16. If an unbalanced load is generated in the compression coil spring 16, the valve body 14 may tilt, but since the groove 172 of the support member 17 and the lower end of the valve body 14 are in contact with each other at their spherical surfaces, the attitude of the valve body 14 is naturally corrected when the valve body 14 abuts against the annular valve seat 115. This prevents the valve body 14 from abutting against the annular valve seat 115.

また、支持部材１７は、弁体１４とは反対側の端部（図中の下端部）に、ガイド部１３２に挿入される摺動部１７３を備えている。弁体１４の環状弁座１１５に対する当接離間の動作は、摺動部１４７がガイド部１３２に挿入されていることで、ガイド部１３２によって案内される。 The support member 17 also has a sliding portion 173 that is inserted into the guide portion 132 at the end opposite the valve body 14 (the lower end in the figure). The movement of the valve body 14 toward and away from the annular valve seat 115 is guided by the guide portion 132 because the sliding portion 147 is inserted into the guide portion 132.

（圧力制御回路の構成について）
次に、流体制御機器１に供給される操作エアの圧力を制御するための圧力制御回路２１について説明する。図４は、流体制御機器１に供給される操作エアの圧力を制御する圧力制御回路２１を示すブロック図である。図５は、制御信号と操作エアの圧力との関係の一例を表したグラフである。 (Configuration of pressure control circuit)
Next, there will be described a pressure control circuit 21 for controlling the pressure of the operation air supplied to the fluid control device 1. Fig. 4 is a block diagram showing the pressure control circuit 21 for controlling the pressure of the operation air supplied to the fluid control device 1. Fig. 5 is a graph showing an example of the relationship between the control signal and the pressure of the operation air.

圧力制御回路２１は、図４に示すように、操作エア供給配管２１１を介して、流体制御機器１の導入ポート１２１に接続されており、操作エアを圧力調整した上で圧力作用室１１６ｂ（図１－図３参照）に供給するための回路である。圧力制御回路２１は、圧力調整器２２と、圧縮エア供給源２３（操作流体供給源の一例）と、負圧発生器２４と、真空用レギュレータ２５と、コントローラ２６と、を備えている。 As shown in FIG. 4, the pressure control circuit 21 is connected to the inlet port 121 of the fluid control device 1 via the operating air supply pipe 211, and is a circuit for adjusting the pressure of the operating air before supplying it to the pressure application chamber 116b (see FIGS. 1-3). The pressure control circuit 21 includes a pressure regulator 22, a compressed air supply source 23 (an example of an operating fluid supply source), a negative pressure generator 24, a vacuum regulator 25, and a controller 26.

圧縮エア供給源２３は、例えばコンプレッサであり、圧縮エア供給用配管２１２を介して、圧力調整器２２に接続されている。圧縮エア供給源２３は、圧縮エア供給用配管２１２を通して、圧縮エアを圧力調整器２２に供給している。圧縮エアの圧力値は特に限定されないが、本実施形態においては、例えば、０．５ＭＰａの圧縮エアを供給する。 The compressed air supply source 23 is, for example, a compressor, and is connected to the pressure regulator 22 via the compressed air supply pipe 212. The compressed air supply source 23 supplies compressed air to the pressure regulator 22 through the compressed air supply pipe 212. The pressure value of the compressed air is not particularly limited, but in this embodiment, for example, compressed air of 0.5 MPa is supplied.

負圧発生器２４は、例えばエジェクタであり、排気用配管２１３を介して、圧力調整器２２に接続されている。負圧発生器２４が発生する負圧の圧力値は特に限定されないが、本実施形態においては、例えば、－０．０５から－０．０９ＭＰａの負圧を発生する。また、排気用配管２１３上には、真空用レギュレータ２５が配設されている。この真空用レギュレータ２５により排気量を調整することで、圧力調整器２２から流体制御機器１に供給される操作エアの圧力の安定化を図っている。 The negative pressure generator 24 is, for example, an ejector, and is connected to the pressure regulator 22 via the exhaust pipe 213. The negative pressure generated by the negative pressure generator 24 is not particularly limited, but in this embodiment, for example, a negative pressure of -0.05 to -0.09 MPa is generated. In addition, a vacuum regulator 25 is disposed on the exhaust pipe 213. The vacuum regulator 25 adjusts the exhaust volume, thereby stabilizing the pressure of the operating air supplied from the pressure regulator 22 to the fluid control device 1.

圧力調整器２２は、例えば真空対応の電空レギュレータであり、圧縮エア供給源２３から供給される圧縮エアと、負圧発生器２４が発生する負圧とにより、流体制御機器１に供給する操作エアの圧力を調整する。本実施形態においては、例えば、－０．０５から０．５ＭＰａの間で操作エアの圧力を調整する。この圧力の調整は、コントローラ２６から圧力調整器２２に出力される制御信号に基づき行われる。制御信号は電圧値として圧力調整器２２に与えられるものであり、例えば、図５に示すように、制御信号の電圧値が上昇するに応じ、操作エアの圧力値が比例して上昇するように設定されている。具体的には、制御信号が０Ｖの時は、圧力調整器２２が操作エアの圧力を－０．０５ＭＰａに調整するものとされており、制御信号の電圧値が上昇するに応じ、操作エアの圧力値が比例して上昇し、制御信号の最大値５Ｖの時は、圧力調整器２２が操作エアの圧力を０．５ＭＰａに調整するよう設定されている。なお、図５に示すグラフは、あくまでも制御信号の電圧値と、操作エアの圧力値との対応関係を示すものであって、流体制御機器１に供給される操作エアの圧力値が常にリニアに制御されることを示すものでない。 The pressure regulator 22 is, for example, a vacuum-compatible electropneumatic regulator, and adjusts the pressure of the operating air supplied to the fluid control device 1 by the compressed air supplied from the compressed air supply source 23 and the negative pressure generated by the negative pressure generator 24. In this embodiment, for example, the pressure of the operating air is adjusted between -0.05 and 0.5 MPa. This pressure adjustment is performed based on a control signal output from the controller 26 to the pressure regulator 22. The control signal is given to the pressure regulator 22 as a voltage value, and is set so that the pressure value of the operating air increases proportionally as the voltage value of the control signal increases, for example, as shown in FIG. 5. Specifically, when the control signal is 0V, the pressure regulator 22 adjusts the pressure of the operating air to -0.05 MPa, and as the voltage value of the control signal increases, the pressure value of the operating air increases proportionally, and when the control signal is at its maximum value of 5V, the pressure regulator 22 adjusts the pressure of the operating air to 0.5 MPa. Note that the graph shown in FIG. 5 merely shows the correspondence between the voltage value of the control signal and the pressure value of the operating air, and does not indicate that the pressure value of the operating air supplied to the fluid control device 1 is always controlled linearly.

また、排気用配管２１３を分岐させ、複数の圧力調整器２２を並列して設けても良い。複数の圧力調整器２２および流体制御機器１を並列して設けることとしても良い。 The exhaust pipe 213 may be branched and multiple pressure regulators 22 may be provided in parallel. Multiple pressure regulators 22 and fluid control devices 1 may be provided in parallel.

（流体制御機器の動作について）
流体制御機器１は、開閉弁の機能と、レギュレータの機能と、サックバックの機能と、を備えている。 (Operation of fluid control equipment)
The fluid control device 1 has an on-off valve function, a regulator function, and a suck-back function.

まず、開閉弁の機能について説明する。流体制御機器１は、流体制御機器１内の入力ポート１１１から出力ポート１１２までの一連の流路の開閉を行うことで、制御流体の出力および遮断を行うことができる。 First, the function of the on-off valve will be explained. The fluid control device 1 can output and cut off the control fluid by opening and closing a series of flow paths from the input port 111 to the output port 112 within the fluid control device 1.

流体制御機器１（圧力作用室１１６ｂ）に対して操作エアの供給が行われていない状態、すなわち、圧力調整器２２において操作エアが０ＫＰａに調整されており、圧力作用室１１６ｂ内が大気圧である状態では、圧縮コイルばね１６の付勢力によって弁体１４は環状弁座１１５に当接され、流体制御機器１は閉弁状態（図２示す状態）になる。つまり、流体制御機器１内の流路が閉じられた状態であり、制御流体の流れは遮断されている。 When no operating air is being supplied to the fluid control device 1 (pressure application chamber 116b), i.e., when the operating air is adjusted to 0 KPa by the pressure regulator 22 and the pressure in the pressure application chamber 116b is atmospheric pressure, the valve body 14 is pressed against the annular valve seat 115 by the biasing force of the compression coil spring 16, and the fluid control device 1 is in a closed state (the state shown in Figure 2). In other words, the flow path in the fluid control device 1 is closed, and the flow of the control fluid is blocked.

一方、圧力調整器２２から流体制御機器１（圧力作用室１１６ｂ）に対して操作エアが供給され、圧力作用室１１６ｂの圧力が上昇していくと、ダイアフラム部材１５は、圧縮コイルばね１６の付勢力に抗して、下流側流体室１１６ａの側に弾性変形し、圧力作用室１１６ｂの容積が拡大していく。これに伴い、弁体１４が環状弁座１１５から離間し、流体制御機器１は開弁状態（図１に示す状態）になる。つまり、流体制御機器１内の流路が開かれた状態であり、制御流体の出力が行われる状態である。本実施形態においては、圧力調整器２２から０．５ＭＰａの操作エアを供給するときが、最大の弁開度が得られる。 On the other hand, when operating air is supplied from the pressure regulator 22 to the fluid control device 1 (pressure application chamber 116b) and the pressure in the pressure application chamber 116b rises, the diaphragm member 15 elastically deforms toward the downstream fluid chamber 116a against the biasing force of the compression coil spring 16, and the volume of the pressure application chamber 116b expands. As a result, the valve body 14 moves away from the annular valve seat 115, and the fluid control device 1 enters an open state (the state shown in FIG. 1). In other words, the flow path in the fluid control device 1 is open, and the control fluid is output. In this embodiment, the maximum valve opening is obtained when operating air of 0.5 MPa is supplied from the pressure regulator 22.

次に、レギュレータの機能について説明する。流体制御機器１は、圧力作用室１１６ｂに供給する操作エアの圧力調整を行うことで、出力ポート１１２から出力される制御流体の圧力を安定化させることができる。 Next, the function of the regulator will be described. The fluid control device 1 can stabilize the pressure of the control fluid output from the output port 112 by adjusting the pressure of the operating air supplied to the pressure application chamber 116b.

圧力調整器２２が供給可能な圧力値の範囲内において、任意の圧力の操作エアを流体制御機器１に供給し、圧力作用室１１６ｂ内を正圧の状態にすることで、流体制御機器１を開弁状態にする。すると、流体制御機器１から制御流体が出力される。この場合に、例えば、流体制御機器１の下流側のノズルで制御流体の使用量が増えれば、下流側流体室１１６ａの圧力が低下する。下流側流体室１１６ａの圧力が、圧力作用室１１６ｂに供給される操作エアの圧力よりも小さくなると、ダイアフラム部材１５の薄膜部１５２は下流側流体室１１６ａの側に変形し、ダイアフラム部材１５は、下流側流体室１１６ａの圧力と圧力作用室１１６ｂの圧力とのバランスが取れる位置まで移動する。これに伴い、弁体１４の開度が大きくなる。また、一方で、流体制御機器１の下流側のノズルで制御流体の使用量が減少すれば、下流側流体室１１６ａの圧力が上昇する。下流側流体室１１６ａの圧力が、圧力作用室１１６ｂに供給される操作エアの圧力よりも大きくなると、ダイアフラム部材１５の薄膜部１５２は圧力作用室１１６ｂの側に変形し、ダイアフラム部材１５は、下流側流体室１１６ａの圧力と圧力作用室１１６ｂの圧力とのバランスが取れる位置まで移動する。これに伴い、弁体１４の開度が小さくなる。 The pressure regulator 22 supplies the fluid control device 1 with operating air at any pressure within the range of pressure values that can be supplied, and the pressure application chamber 116b is put into a positive pressure state, thereby opening the fluid control device 1. Then, the control fluid is output from the fluid control device 1. In this case, for example, if the amount of control fluid used in the downstream nozzle of the fluid control device 1 increases, the pressure in the downstream fluid chamber 116a decreases. If the pressure in the downstream fluid chamber 116a becomes smaller than the pressure of the operating air supplied to the pressure application chamber 116b, the thin film portion 152 of the diaphragm member 15 deforms toward the downstream fluid chamber 116a, and the diaphragm member 15 moves to a position where the pressure in the downstream fluid chamber 116a and the pressure in the pressure application chamber 116b are balanced. Accordingly, the opening of the valve body 14 increases. On the other hand, if the amount of control fluid used in the downstream nozzle of the fluid control device 1 decreases, the pressure in the downstream fluid chamber 116a increases. When the pressure in the downstream fluid chamber 116a becomes greater than the pressure of the operating air supplied to the pressure application chamber 116b, the thin film portion 152 of the diaphragm member 15 deforms toward the pressure application chamber 116b, and the diaphragm member 15 moves to a position where the pressure in the downstream fluid chamber 116a and the pressure in the pressure application chamber 116b are balanced. As a result, the opening of the valve body 14 becomes smaller.

このように、圧力作用室１１６ｂに供給される操作エアの圧力と下流側流体室１１６ａとの圧力バランスに応じて、ダイアフラム部材１５は、薄膜部１５２を弾性変形させながら、開閉方向における位置を変動させる。これにより、弁体１４の開閉方向における位置が調節され、出力ポート１１２から出力される制御流体の圧力を安定化させることができる。 In this way, the diaphragm member 15 changes its position in the opening/closing direction while elastically deforming the thin film portion 152 according to the pressure balance between the pressure of the operating air supplied to the pressure application chamber 116b and the downstream fluid chamber 116a. This adjusts the position of the valve body 14 in the opening/closing direction, and stabilizes the pressure of the control fluid output from the output port 112.

次に、サックバックの機能について説明する。流体制御機器１は、閉弁状態となったあと、サックバックの機能を用いることで、出力ポート１１２側の制御流体を吸引し、制御流体がノズルから過剰に滴下されることを防止することができる。 Next, the suck back function will be explained. After the fluid control device 1 is in the closed valve state, it can use the suck back function to suck in the control fluid on the output port 112 side, preventing the control fluid from dripping excessively from the nozzle.

流体制御機器１（圧力作用室１１６ｂ）に対して操作エアの供給が行われており、流体制御機器１が制御流体を出力している状態から、操作エアの供給を停止すると（すなわち、圧力調整器２２において操作エアがゼロＫＰａに調整されると）、圧縮コイルばね１６の付勢力により、弁体１４は環状弁座１１５に当接され、流体制御機器１は閉弁状態になる。この状態から、操作エアを負圧にすると（すなわち、圧力調整器２２において操作エアの圧力を－０．０５ＭＰａに調整すると）、ダイアフラム部材１５が圧力作用室１１６ｂの側に弾性変形する。このとき、弁体１４は、環状弁座１１５に当接していて、圧力作用室１１６ｂの側に移動できないため、図３に示すように、ダイアフラム部材１５は、弁体１４から分離し、単体で圧力作用室１１６ｂの側に変形する。この際、ダイアフラム部材１５は、規制部１８１３に当接する位置まで変形する。この変形により、圧力作用室１１６ｂの容積が減少され、圧力作用室１１６ｂの容積の減少に応じて、下流側流体室１１６ａの容積が増大する。下流側流体室１１６ａの容積が増大することで、制御流体のサックバックが行われる。つまり、出力ポート１１２側の制御流体を吸引し、制御流体がノズルから過剰に滴下されることを防止する。 When the supply of operating air is stopped from the state in which the fluid control device 1 (pressure application chamber 116b) is being supplied with operating air and the fluid control device 1 is outputting a controlled fluid (i.e., when the operating air is adjusted to zero KPa in the pressure regulator 22), the valve body 14 is brought into contact with the annular valve seat 115 by the biasing force of the compression coil spring 16, and the fluid control device 1 is in a closed valve state. When the operating air is made negative pressure from this state (i.e., when the pressure of the operating air is adjusted to -0.05 MPa in the pressure regulator 22), the diaphragm member 15 elastically deforms toward the pressure application chamber 116b. At this time, the valve body 14 is in contact with the annular valve seat 115 and cannot move toward the pressure application chamber 116b, so that the diaphragm member 15 separates from the valve body 14 and deforms toward the pressure application chamber 116b as a single unit, as shown in FIG. 3. At this time, the diaphragm member 15 deforms to a position where it abuts against the restricting portion 1813. This deformation reduces the volume of the pressure application chamber 116b, and the volume of the downstream fluid chamber 116a increases in response to the reduction in the volume of the pressure application chamber 116b. The increase in the volume of the downstream fluid chamber 116a causes the control fluid to be sucked back. In other words, the control fluid on the output port 112 side is sucked in, preventing the control fluid from dripping excessively from the nozzle.

サックバックされる制御流体の量は、下流側流体室１１６ａの容積の増大量に応じて定まる。そして、下流側流体室１１６ａの容積の増大量は、ダイアフラム部材１５の圧力作用室１１６ｂ側への変形量により定まる。圧力作用室１１６ｂ内の規制部１８１３の位置は、無段階で調整可能であるため、ダイアフラム部材１５の変形量を調整可能である。よって、規制部１８１３の位置を調整することで、サックバックされる制御流体の量を調整可能である。 The amount of control fluid sucked back is determined according to the increase in volume of the downstream fluid chamber 116a. The increase in volume of the downstream fluid chamber 116a is determined by the amount of deformation of the diaphragm member 15 toward the pressure application chamber 116b. The position of the restricting portion 1813 in the pressure application chamber 116b can be adjusted continuously, so the amount of deformation of the diaphragm member 15 can be adjusted. Therefore, by adjusting the position of the restricting portion 1813, the amount of control fluid sucked back can be adjusted.

以上説明したように、本実施形態に係る流体制御機器１は、
（１）制御流体を入力する入力ポート１１１と、制御流体を出力する出力ポート１１２と、入力ポート１１１と出力ポート１１２を連通する流体室（例えば、下流側流体室１１６ａ）と、を備える流体制御機器１において、流体室（下流側流体室１１６ａ）に隣接する隣接空間（例えば、圧力作用室１１６ｂ）を備えること、流体室（下流側流体室１１６ａ）と隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）とを区画するダイアフラム部材１５を備えること、ダイアフラム部材１５は、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）内の流体圧力（例えば操作エアの圧力）のみに基づき、流体室（下流側流体室１１６ａ）の側または隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の側に弾性変形すること、を特徴とする。 As described above, the fluid control device 1 according to this embodiment has:
(1) A fluid control device 1 having an input port 111 for inputting a control fluid, an output port 112 for outputting the control fluid, and a fluid chamber (e.g., downstream fluid chamber 116a) connecting the input port 111 and the output port 112 is characterized in that it has an adjacent space (e.g., pressure application chamber 116b) adjacent to the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a), a diaphragm member 15 for separating the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) from the adjacent space (pressure application chamber 116b), and the diaphragm member 15 elastically deforms toward the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) or the adjacent space (pressure application chamber 116b) based only on the fluid pressure (e.g., the pressure of the operating air) in the adjacent space (pressure application chamber 116b).

（２）（１）に記載の流体制御機器１において、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）は、負圧発生器２４に接続されていること、負圧発生器２４により流体圧力が負圧にされるとき、ダイアフラム部材１５は、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の側に弾性変形し、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の容積を減少させること、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の容積の減少に応じて、流体室（下流側流体室１１６ａ）の容積が増大することで、制御流体のサックバックを行うこと、を特徴とする。 (2) In the fluid control device 1 described in (1), the adjacent space (pressure application chamber 116b) is connected to the negative pressure generator 24, and when the fluid pressure is made negative by the negative pressure generator 24, the diaphragm member 15 elastically deforms toward the adjacent space (pressure application chamber 116b) to reduce the volume of the adjacent space (pressure application chamber 116b), and the volume of the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) increases in response to the decrease in the volume of the adjacent space (pressure application chamber 116b), thereby sucking back the control fluid.

上記の流体制御機器１によれば、ダイアフラム部材１５は、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）内の流体圧力のみに基づき、流体室（下流側流体室１１６ａ）の側または隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の側に弾性変形することを特徴としているため、例えば、負圧発生器２４により、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の流体圧が負圧にされると、ダイアフラム部材１５は、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の側に弾性変形し、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の容積を減少させる。すると、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の容積の減少に応じて、流体室（下流側流体室１１６ａ）の容積が増大するため、制御流体のサックバックを行うことが可能になる。 According to the above-mentioned fluid control device 1, the diaphragm member 15 is characterized by elastically deforming toward the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) or the adjacent space (pressure application chamber 116b) based only on the fluid pressure in the adjacent space (pressure application chamber 116b). For example, when the fluid pressure in the adjacent space (pressure application chamber 116b) is made negative by the negative pressure generator 24, the diaphragm member 15 elastically deforms toward the adjacent space (pressure application chamber 116b), reducing the volume of the adjacent space (pressure application chamber 116b). Then, the volume of the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) increases in response to the decrease in the volume of the adjacent space (pressure application chamber 116b), making it possible to suck back the control fluid.

流体圧力のみによりダイアフラム部材１５を弾性変形させることでサックバックを行うのであり、特許文献１に開示される流体制御機器のようにピストンの駆動によりサックバックを行うものではない。よって、流体制御機器１を構成する部品間の摺動抵抗の影響を受けにくい。また、ダイアフラム部材１５を弾性変形させるための駆動源は流体圧であるため、ダイアフラム部材１５を弾性変形させる力が経年変化により低下するおそれも少ない。よって、摺動抵抗や経年変化によるサックバック機能の応答性の低下を防止することが可能である。 Suck back is performed by elastically deforming the diaphragm member 15 using only fluid pressure, and not by driving a piston as in the fluid control device disclosed in Patent Document 1. Therefore, it is less susceptible to the sliding resistance between the components that make up the fluid control device 1. In addition, because the driving source for elastically deforming the diaphragm member 15 is fluid pressure, there is little risk that the force that elastically deforms the diaphragm member 15 will decrease due to aging. Therefore, it is possible to prevent a decrease in the responsiveness of the suck back function due to sliding resistance or aging.

また、流体制御機器１を構成する部品間の摺動抵抗の影響を受けにくいことから、流体制御機器１を構成する部品の寸法公差によって、サックバック機能の安定性が低下するおそれもない。 In addition, since it is less susceptible to the sliding resistance between the components that make up the fluid control device 1, there is no risk of the stability of the suck-back function being reduced due to the dimensional tolerances of the components that make up the fluid control device 1.

（３）（１）または（２）に記載の流体制御機器１において、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）は、ダイアフラム部材１５の弾性変形する方向においてダイアフラム部材１５に対向する位置に、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の側に弾性変形するダイアフラム部材１５に当接して、ダイアフラム部材１５の最大変形量を規制する規制部１８１３を備えること、を特徴とする。 (3) In the fluid control device 1 described in (1) or (2), the adjacent space (pressure application chamber 116b) is characterized in that it is provided with a regulating portion 1813 that is located opposite the diaphragm member 15 in the direction of elastic deformation of the diaphragm member 15, abutting against the diaphragm member 15 that elastically deforms toward the adjacent space (pressure application chamber 116b) and regulating the maximum deformation amount of the diaphragm member 15.

（４）（３）に記載の流体制御機器１において、規制部１８１３は、ダイアフラム部材１５の弾性変形する方向（開閉方向と同一の方向）において、位置の調整が可能であること、を特徴とする。 (4) In the fluid control device 1 described in (3), the restricting portion 1813 is characterized in that its position can be adjusted in the direction of elastic deformation of the diaphragm member 15 (the same direction as the opening and closing direction).

（３）または（４）に記載の流体制御機器１は、ダイアフラム部材１５の変形量により、流体室（下流側流体室１１６ａ）および隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の容積の増減量が定まるところ、ダイアフラム部材１５に当接することで、最大変形量を規制する規制部１８１３を備えている。規制部１８１３がダイアフラム部材１５に直接当接するものであれば、寸法公差に積み重ねが少なくなり、流体室（下流側流体室１１６ａ）および隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の容積の増減量にばらつきが生じるおそれが低減される。これにより、サックバック量の安定性を確保できる。 The fluid control device 1 described in (3) or (4) is provided with a regulating portion 1813 that regulates the maximum amount of deformation by contacting the diaphragm member 15, where the amount of increase or decrease in the volume of the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) and the adjacent space (pressure application chamber 116b) is determined by the amount of deformation of the diaphragm member 15. If the regulating portion 1813 were to directly contact the diaphragm member 15, there would be less overlap with the dimensional tolerances, and the risk of variation in the amount of increase or decrease in the volume of the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) and the adjacent space (pressure application chamber 116b) would be reduced. This ensures the stability of the amount of suck-back.

（５）（１）乃至（４）のいずれか１つに記載の流体制御機器１において、流体室（下流側流体室１１６ａ）の上流側に設けられる上流側流体室１１３と、流体室（下流側流体室１１６ａ）と上流側流体室１１３とを連通させる弁孔１１４と、弁孔１１４の外周に沿って設けられる環状弁座１１５と、上流側流体室１１３に収容され、環状弁座１１５に対して、ダイアフラム部材１５が弾性変形する方向と一致する方向に当接離間する弁体１４と、を備えること、弁体１４は、上流側流体室１１３から、弁孔１１４を通じて、流体室（下流側流体室１１６ａ）まで延在する、延在部１４５を備えること、延在部１４５は、ダイアフラム部材１５と分離可能に遊嵌されていること、を特徴とする。 (5) The fluid control device 1 described in any one of (1) to (4) is characterized in that it comprises an upstream fluid chamber 113 provided upstream of the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a), a valve hole 114 that connects the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a) and the upstream fluid chamber 113, an annular valve seat 115 provided along the outer periphery of the valve hole 114, and a valve body 14 that is accommodated in the upstream fluid chamber 113 and abuts against and separates from the annular valve seat 115 in a direction that coincides with the direction in which the diaphragm member 15 elastically deforms, the valve body 14 has an extension portion 145 that extends from the upstream fluid chamber 113 through the valve hole 114 to the fluid chamber (downstream fluid chamber 116a), and the extension portion 145 is loosely fitted in the diaphragm member 15 so as to be separable.

（５）に記載の流体制御機器１によれば、隣接空間（圧力作用室１１６ｂ）の流体圧を調整することで、弁体１４の環状弁座１１５に対する当接離間の動作を制御することが可能になるため、サックバック機能の他、開閉弁としての機能と、制御流体の圧力調整が可能なレギュレータとしての機能と、を持たせることが可能である。 The fluid control device 1 described in (5) makes it possible to control the contact and separation movement of the valve body 14 with respect to the annular valve seat 115 by adjusting the fluid pressure in the adjacent space (pressure application chamber 116b). This makes it possible to provide the device with a suck-back function as well as a function as an opening/closing valve and a function as a regulator capable of adjusting the pressure of the control fluid.

また、特許文献１に開示される流体制御機器は、スプリングの付勢力により弁閉を行うが、スプリングは偏荷重が発生するため、弁体に傾きが生じるおそれがある。弁体に傾きが生じると、弁座に片当たりし、摩耗等によるパーティクルが発生しやすくなる。一方、（５）に記載の流体制御機器１は、流体圧により弁体１４の開度調整を行うため、スプリングのような偏荷重が生じない。よって、弁体１４が環状弁座１１５に片当たりするおそれが低減され、摩耗等によるパーティクルの発生を抑えることが可能である。 In addition, the fluid control device disclosed in Patent Document 1 closes the valve by the biasing force of a spring, but the spring generates an uneven load, which may cause the valve body to tilt. If the valve body tilts, it will come into uneven contact with the valve seat, making it more likely that particles will be generated due to wear, etc. On the other hand, the fluid control device 1 described in (5) adjusts the opening of the valve body 14 using fluid pressure, so there is no uneven load like with a spring. This reduces the risk of the valve body 14 coming into uneven contact with the annular valve seat 115, making it possible to suppress the generation of particles due to wear, etc.

（６）（１）乃至（５）のいずれか１つに記載の流体制御機器において、前記隣接空間は、圧力調整器を介して、前記隣接空間に操作流体を供給するための操作流体供給源と、負圧を発生する負圧発生器と、に接続されていること、前記圧力調整器は、前記操作流体と前記負圧により、前記流体圧力の調整を行うこと、を特徴とする。 (6) In the fluid control device described in any one of (1) to (5), the adjacent space is connected to an operating fluid supply source for supplying an operating fluid to the adjacent space via a pressure regulator, and to a negative pressure generator for generating a negative pressure, and the pressure regulator adjusts the fluid pressure using the operating fluid and the negative pressure.

（６）に記載の流体制御機器によれば、圧力調整器により隣接空間内の流体圧力を調整可能である。よって、流体圧力を正圧から負圧に調整する際や、負圧から正圧に調整する際に リニアに調整することが可能となるため、サックバックの応答性の低下を防止することができる。 According to the fluid control device described in (6), the fluid pressure in the adjacent space can be adjusted by the pressure regulator. Therefore, when adjusting the fluid pressure from positive pressure to negative pressure or from negative pressure to positive pressure, it is possible to adjust it linearly, thereby preventing a decrease in suck-back responsiveness.

なお、上記の実施形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で様々な改良、変形が可能である。例えば、本実施形態における流体制御機器はレギュレータであるが、サックバック機能に特化した流体制御機器であっても良い。 The above embodiment is merely an example and does not limit the present invention in any way. Naturally, the present invention can be improved and modified in various ways without departing from the spirit of the invention. For example, the fluid control device in this embodiment is a regulator, but it may be a fluid control device specialized for a suck-back function.

１ 流体制御機器
１５ ダイアフラム部材
１１１ 入力ポート
１１２ 出力ポート
１１６ａ 下流側流体室（流体室の一例）
１１６ｂ 圧力作用室（隣接空間の一例） 1 Fluid control device 15 Diaphragm member 111 Input port 112 Output port 116a Downstream fluid chamber (an example of a fluid chamber)
116b Pressure chamber (an example of an adjacent space)

Claims (6)

制御流体を入力する入力ポートと、前記制御流体を出力する出力ポートと、前記入力ポートと前記出力ポートを連通する流体室と、を備える流体制御機器において、
前記流体室に隣接する隣接空間を備えること、
前記流体室と前記隣接空間とを区画するダイアフラム部材を備えること、
前記ダイアフラム部材は、前記隣接空間内の流体圧力のみに基づき、前記流体室の側または前記隣接空間の側に弾性変形すること、
を特徴とする流体制御機器。 A fluid control device comprising an input port for inputting a control fluid, an output port for outputting the control fluid, and a fluid chamber communicating between the input port and the output port,
providing an adjacent space adjacent to the fluid chamber;
a diaphragm member that separates the fluid chamber from the adjacent space;
the diaphragm member elastically deforms toward the fluid chamber or the adjacent space based only on the fluid pressure in the adjacent space;
A fluid control device comprising: 請求項１に記載の流体制御機器において、
前記隣接空間は、負圧発生器に接続されていること、
前記負圧発生器により前記流体圧力が負圧にされるとき、前記ダイアフラム部材は、前記隣接空間の側に弾性変形し、前記隣接空間の容積を減少させること、
前記隣接空間の容積の減少に応じて、前記流体室の容積が増大することで、前記制御流体のサックバックを行うこと、
を特徴とする流体制御機器。 The fluid control device according to claim 1 ,
The adjacent space is connected to a negative pressure generator;
when the fluid pressure is made negative by the negative pressure generator, the diaphragm member elastically deforms toward the adjacent space, thereby reducing the volume of the adjacent space;
The volume of the fluid chamber is increased in response to a decrease in the volume of the adjacent space, thereby sucking back the control fluid.
A fluid control device comprising: 請求項１または２に記載の流体制御機器において、
前記隣接空間は、前記ダイアフラム部材の弾性変形する方向において前記ダイアフラム部材に対向する位置に、前記隣接空間の側に弾性変形する前記ダイアフラム部材に当接して、前記ダイアフラム部材の最大変形量を規制する規制部を備えること、
を特徴とする流体制御機器。 The fluid control device according to claim 1 or 2,
the adjacent space includes a restricting portion at a position facing the diaphragm member in a direction of elastic deformation of the diaphragm member, the restricting portion contacting the diaphragm member elastically deforming toward the adjacent space and restricting a maximum deformation amount of the diaphragm member;
A fluid control device comprising: 請求項３に記載の流体制御機器において、
前記規制部は、前記ダイアフラム部材の弾性変形する方向において、位置の調整が可能であること、
を特徴とする流体制御機器。 The fluid control device according to claim 3,
the position of the restriction portion is adjustable in a direction in which the diaphragm member elastically deforms;
A fluid control device comprising: 請求項１または２に記載の流体制御機器において、
前記流体室の上流側に設けられる上流側流体室と、
前記流体室と前記上流側流体室とを連通させる弁孔と、
前記弁孔の外周に沿って設けられる環状弁座と、
前記上流側流体室に収容され、前記環状弁座に対して、前記ダイアフラム部材が弾性変形する方向と一致する方向に当接離間する弁体と、
を備えること、
前記弁体は、前記上流側流体室から、前記弁孔を通じて、前記流体室まで延在する、延在部を備えること、
前記延在部は、前記ダイアフラム部材と分離可能に遊嵌されていること、
を特徴とする流体制御機器。 The fluid control device according to claim 1 or 2,
an upstream fluid chamber provided upstream of the fluid chamber;
a valve hole that communicates the fluid chamber with the upstream fluid chamber;
an annular valve seat provided along an outer periphery of the valve hole;
a valve body that is accommodated in the upstream fluid chamber and that abuts against and moves away from the annular valve seat in a direction that coincides with a direction in which the diaphragm member elastically deforms;
To have
the valve body includes an extension portion extending from the upstream fluid chamber through the valve hole to the fluid chamber;
the extension portion is loosely fitted to the diaphragm member so as to be separable therefrom;
A fluid control device comprising: 請求項１に記載の流体制御機器において、
前記隣接空間は、圧力調整器を介して、前記隣接空間に操作流体を供給するための操作流体供給源と、負圧を発生する負圧発生器と、に接続されていること、
前記圧力調整器は、前記操作流体と前記負圧により、前記流体圧力の調整を行うこと、
を特徴とする流体制御機器。 The fluid control device according to claim 1 ,
the adjacent space is connected, via a pressure regulator, to an operating fluid supply source for supplying an operating fluid to the adjacent space and to a negative pressure generator for generating a negative pressure;
the pressure regulator adjusts the fluid pressure by the operating fluid and the negative pressure;
A fluid control device comprising:

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