JP2024050846A - Optical film and image display device - Google Patents
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Abstract
【課題】良好な折り畳み性を維持しつつ、優れた耐衝撃性を有する光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装置を提供する。【解決手段】本発明の一の態様によれば、折り畳み可能な光学フィルム１０であって、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に平面状に配置された複数の強化部１２と、を備え、強化部１２の厚みが、それぞれ１５０μｍ以上であり、強化部１２のマルテンス硬さが、それぞれ３０ＭＰａ以上である、光学フィルム１０が提供される。【選択図】図１[Problem] To provide an optical film having excellent impact resistance while maintaining good foldability, and an image display device including the same. [Solution] According to one aspect of the present invention, a foldable optical film 10 is provided, which includes a resin substrate 11 and a plurality of reinforced portions 12 arranged in a plane on a first surface 11A side of the resin substrate 11, the reinforced portions 12 each having a thickness of 150 μm or more, and the reinforced portions 12 each having a Martens hardness of 30 MPa or more. [Selected Figure] Figure 1
Description
本発明は、光学フィルムおよび画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film and an image display device.
従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置が知られているが、現在
、折り畳み可能な画像表示装置の開発が行われている。画像表示装置の表面はカバーガラ
スで構成されることがあるが、画像表示装置にカバーガラスを用いた場合、硬度は優れる
ものの、曲がり難いので、折り畳もうとすると割れてしまうおそれが高い。このため、折
り畳み可能な画像表示装置には、カバーガラスの代わりに、折り畳むことが可能な、樹脂
基材およびハードコート層を備える光学フィルムを用いることが検討されている（例えば
、特許文献１参照）。
Conventionally, image display devices such as smartphones and tablet terminals have been known, and currently, foldable image display devices are being developed. The surface of an image display device may be made of a cover glass. When the cover glass is used for an image display device, although it has excellent hardness, it is difficult to bend, so there is a high possibility that the image display device will break when folded. For this reason, instead of the cover glass, it is being considered to use an optical film having a foldable resin substrate and a hard coat layer for the foldable image display device (see, for example, Patent Document 1).
このような折り畳み可能な画像表示装置に用いられる光学フィルムには、光学フィルム
の表面に衝撃が加わることがあるので、耐衝撃性が求められている。ここで、光学フィル
ムの表面に衝撃が加わったときには、光学フィルムの表面が凹むことがあり、また画像表
示装置において光学フィルムよりも内部に存在する表示パネル（例えば、有機発光ダイオ
ードパネル）等の部材が損傷を受けることがある。
The optical film used in such a foldable image display device is required to have impact resistance because an impact may be applied to the surface of the optical film. When an impact is applied to the surface of the optical film, the surface of the optical film may be dented, and components such as a display panel (e.g., an organic light-emitting diode panel) that are located inside the optical film in the image display device may be damaged.
光学フィルムの表面の凹みに関しては、光学フィルム自体に起因する凹みと、光学フィ
ルムよりも画像表示装置の内部に配置された粘着層のような柔らかい層に起因する凹みが
ある。「光学フィルム自体に起因する凹み」とは、光学フィルムの表面に衝撃が加わった
とき、その衝撃によって光学フィルム自体が変形することによって生じる凹みを意味し、
「柔らかい層に起因する凹み」とは、この層が柔らかいために、光学フィルムの表面に衝
撃が加わったとき、光学フィルムよりも画像表示装置の内部に配置された柔らかい層が塑
性変形を起こし、光学フィルムがこの柔らかい層の塑性変形に追従することによって生じ
る凹みを意味する。
Regarding dents on the surface of an optical film, there are dents caused by the optical film itself and dents caused by a soft layer, such as an adhesive layer, disposed inside the image display device rather than the optical film. "Dents caused by the optical film itself" refers to dents that occur when an impact is applied to the surface of the optical film and the optical film itself is deformed by the impact,
"Dentition caused by a soft layer" means that, because this layer is soft, when an impact is applied to the surface of the optical film, the soft layer located further inside the image display device than the optical film undergoes plastic deformation, and a dent is generated when the optical film follows the plastic deformation of this soft layer.
このため、光学フィルムにおいては、光学フィルムの表面に衝撃が加わったときに、光
学フィルム自体に起因する凹みおよび柔らかい層に起因する凹みが抑制され、かつ光学フ
ィルムよりも画像表示装置の内部に存在する部材が損傷を受けないような優れた耐衝撃性
が求められている。
For this reason, optical films are required to have excellent impact resistance such that, when an impact is applied to the surface of the optical film, dents caused by the optical film itself and dents caused by the soft layer are suppressed, and components present inside the image display device are not damaged as much as the optical film.
このようなことから優れた耐衝撃性を得るために、樹脂基材の一方の面側にハードコー
ト層よりも硬い層を設けることが考えられるが、優れた耐衝撃性が得られる程度の硬い層
を設けると、折り畳み時に割れてしまうおそれがある。したがって、未だ良好な折り畳み
性を維持しつつ、優れた耐衝撃性を有する光学フィルムが得られていないのが現状である
。
For this reason, in order to obtain excellent impact resistance, it is conceivable to provide a layer harder than the hard coat layer on one side of the resin substrate, but if a layer hard enough to obtain excellent impact resistance is provided, there is a risk of the film cracking when folded. Therefore, at present, an optical film having excellent impact resistance while maintaining good foldability has not yet been obtained.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、良好な折り畳み
性を維持しつつ、優れた耐衝撃性を有する光学フィルム、およびこれを備えた画像表示装
置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an optical film having excellent impact resistance while maintaining good foldability, and an image display device including the optical film.
本発明は、以下の発明を含む。
[１]折り畳み可能な光学フィルムであって、樹脂基材と、前記樹脂基材の第１の面側に平
面状に配置された複数の強化部と、を備え、前記強化部の厚みがそれぞれ１５０μｍ以上
であり、前記強化部のマルテンス硬さがそれぞれ３０ＭＰａ以上である、光学フィルム。
The present invention includes the following inventions.
[1] A foldable optical film comprising a resin substrate and a plurality of reinforced portions arranged in a plane on a first surface side of the resin substrate, each of the reinforced portions having a thickness of 150 μm or more and a Martens hardness of 30 MPa or more.
[２]前記樹脂基材の前記第１の面側に設けられた樹脂層をさらに備え、それぞれの前記強
化部の少なくとも一部が前記樹脂層で覆われている、上記[１]に記載の光学フィルム。
[2] The optical film according to the above [1], further comprising a resin layer provided on the first surface side of the resin substrate, wherein at least a portion of each of the reinforced portions is covered with the resin layer.
[３]前記樹脂層と前記強化部との屈折率差の絶対値が、それぞれ０．０２以下である、上
記[２]に記載の光学フィルム。
[3] The optical film according to the above [2], wherein the absolute value of the refractive index difference between the resin layer and the reinforced portion is 0.02 or less.
[４]前記光学フィルムの対向する辺部の間隔が３０ｍｍとなるように前記光学フィルムを
１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、上記
[１]ないし[３]のいずれか一項に記載の光学フィルム。
[4] The optical film does not crack or break when a test in which the optical film is folded 180° so that the distance between opposing sides of the optical film is 30 mm is repeated 100,000 times.
The optical film according to any one of [1] to [3].
[５]前記樹脂基材が、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物から
なる基材である、上記[１]ないし[４]のいずれか一項に記載の光学フィルム。
[5] The optical film according to any one of the above [1] to [4], wherein the resin substrate is a substrate made of a polyimide resin, a polyamide resin, or a mixture thereof.
[６]折り畳み可能な画像表示装置であって、表示パネルと、前記表示パネルよりも観察者
側に配置された上記[１]ないし[５]のいずれか一項に記載の光学フィルムと、を備える、
画像表示装置。
[6] A foldable image display device, comprising: a display panel; and the optical film according to any one of [1] to [5] above, which is disposed on a viewer's side relative to the display panel.
Image display device.
[７]前記表示パネルが、有機発光ダイオードパネルである、上記[６]に記載の画像表示装
置。
[7] The image display device according to [6] above, wherein the display panel is an organic light-emitting diode panel.
本発明によれば、良好な折り畳み性を維持しつつ、優れた耐衝撃性を有する光学フィル
ム、およびこのような光学フィルムを備える画像表示装置を提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide an optical film having excellent impact resistance while maintaining good foldability, and an image display device including such an optical film.
以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムおよび画像表示装置について、図面を参照
しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違
いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム
」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る光
学フィルムの概略構成図であり、図２は図１の光学フィルムをハードコート層側から平面
視した図である。図３は連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図４は折り
畳み静置試験の様子を模式的に示した図であり、図５は剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損
失弾性率Ｇ´´を測定する際に用いる固体剪断用治具の概略構成図である。
Hereinafter, an optical film and an image display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this specification, the terms "film" and "sheet" are not distinguished from each other based only on the difference in name. Therefore, for example, "film" is used to mean a member also called a sheet. FIG. 1 is a schematic diagram of the optical film according to this embodiment, and FIG. 2 is a plan view of the optical film of FIG. 1 from the hard coat layer side. FIG. 3 is a schematic diagram showing the state of a continuous folding test, FIG. 4 is a schematic diagram showing the state of a folding static test, and FIG. 5 is a schematic diagram of a solid shearing jig used when measuring the shear storage modulus G' and the shear loss modulus G''.
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
図１に示される光学フィルム１０は、折り畳み可能であり、かつ光透過性を有するフィ
ルムである。本明細書における「光透過性」とは、光を透過させる性質を意味し、例えば
、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に
好ましくは９０％以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明である必要はなく
、半透明であってもよい。
<<<Optical films>>>
The
図１に示されるように、光学フィルム１０は、樹脂基材１１と、樹脂基材１１の第１の
面１１Ａ側に平面状に配置された複数の強化部１２と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側
に設けられた樹脂層１３と、樹脂基材１１の第１の面１１Ａとは反対側の第２の面１１Ｂ
側に設けられたハードコート層１４とを備えるものである。光学フィルム１０は、樹脂層
１３およびハードコート層１４を備えているが、樹脂層１３およびハードコート層１４を
備えていなくともよい。強化部１２は、接着層１７を介して樹脂基材１１に貼り付けられ
ている。
As shown in FIG. 1 , the
The
図１においては、光学フィルム１０の表面１０Ａは、ハードコート層１４の表面１４Ａ
となっている。なお、本明細書においては、光学フィルムの表面は光学フィルムの片側の
表面を意味するものとして用いるので、光学フィルムの表面とは反対側の面は、光学フィ
ルムの表面と区別するために裏面と称するものとする。光学フィルム１０の裏面１０Ｂは
、樹脂層１３の表面１３Ａとなっている。
In FIG. 1, the
In this specification, the surface of the optical film is used to mean one surface of the optical film, and the surface opposite to the surface of the optical film is referred to as the back surface in order to distinguish it from the front surface of the optical film. The
光学フィルム１０は、上記したように折り畳み可能となっている。光学フィルム１０は
、折り畳み可能な領域である屈曲領域１０Ｃと、屈曲領域１０Ｃの両側に存在する非屈曲
領域１０Ｄとを備えている。光学フィルム１０は、屈曲領域１０Ｃにおいて折り畳むこと
が可能となっているので、光学フィルム１０を折り畳む際には、屈曲領域１０Ｃで折り畳
むものとする。屈曲領域１０Ｃは、強化部１２間の隙間１２Ａに対応する領域であり、非
屈曲領域１０Ｄは、強化部１２に対応する領域である。図１においては、強化部１２間に
は、隙間１２Ａが存在するので、屈曲領域１０Ｃは隙間１２Ａとなっているが、強化部間
に隙間が存在しない場合、すなわち強化部と強化部が接している場合には、屈曲領域は強
化部と強化部の境界領域となる。
The
光学フィルム１０においては、図２に示されるように２枚の強化部１２が平面状に配置
されているが、強化部は２枚に限らず、３枚以上配置されていてもよい。また、複数行お
よび複数列となるように４枚以上の強化部が平面状に配置されていてもよい。このように
４枚以上の強化部を配置することにより、例えば、縦方向および横方向のような２方向に
沿って光学フィルムを折り畳むことができる。
In the
光学フィルム１０は、折り畳み可能となっているので、光学フィルム１０に対し次に説
明する折り畳み試験（連続折り畳み試験）を１０万回、２０万回、５０万回、または１０
０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生じないこ
とが好ましい。光学フィルム１０に対し連続折り畳み試験を１０万回繰り返し行った場合
に、光学フィルム１０に割れや破断等が生じると、光学フィルム１０の折り畳み性が不充
分となる。なお、上記連続折り畳み試験の折り畳み回数を少なくとも１０万回で評価して
いるのは、以下の理由からである。例えば、光学フィルムを折り畳み可能なスマートフォ
ンに組み込むことを想定すると、折り畳みを行う頻度（開閉する頻度）が非常に多くなる
。このため、上記連続折り畳み試験の折り畳み回数を例えば１万回や５万回とする評価で
は、実用的なレベルでの評価を行うことができないおそれがある。具体的には、例えば、
常にスマートフォンを使用する人を想定すると、朝の通勤時だけでも５回～１０回はスマ
ートフォンを開閉することが想定されるので、１日だけでも少なくとも３０回はスマート
フォンを開閉することが想定される。したがって、スマートフォンを１日３０回開閉する
ことを想定すると、折り畳み回数が１万回の連続折り畳み試験は、３０回×３６５日＝１
０９５０回となるので、１年間の使用を想定した試験となる。すなわち、折り畳み回数が
１万回の連続折り畳み試験の結果が良好であったとしても、１年経過後は、光学フィルム
に折り癖やクラックが生じるおそれがある。したがって、連続折り畳み試験における折り
畳み回数が１万回の評価とは、製品として使用できないレベルしか確認できないものであ
り、使用できるが不十分なものも良好となってしまい、評価することができない。このた
め、実用的なレベルであるか否かを評価するためには、上記連続折り畳み試験の折り畳み
回数は少なくとも１０万回で評価する必要がある。連続折り畳み試験は、ハードコート層
１４が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよく、またハード
コート層１４が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよいが、
いずれの場合であっても、光学フィルムに割れまたは破断が生じないことが好ましい。
Since the
It is preferable that the
Assuming that a person who uses a smartphone all the time opens and closes the smartphone 5 to 10 times during the morning commute alone, it is expected that the smartphone will be opened and closed at least 30 times in a single day. Therefore, assuming that the smartphone is opened and closed 30 times a day, the number of consecutive folding tests with 10,000 folding times is 30 times x 365 days = 1
0950 times, so this is a test assuming one year of use. That is, even if the result of the continuous folding test with 10,000 folding times is good, there is a risk that the optical film may develop creases or cracks after one year. Therefore, the evaluation of the number of folding times of 10,000 times in the continuous folding test can only confirm a level that cannot be used as a product, and even if it is usable but insufficient, it cannot be evaluated. Therefore, in order to evaluate whether it is at a practical level or not, the number of folding times in the continuous folding test needs to be evaluated at least 100,000 times. The continuous folding test may be performed by folding the
In either case, it is preferable that the optical film does not crack or break.
連続折り畳み試験は、以下のようにして行われる。図３（Ａ）に示すように連続折り畳
み試験においては、まず、３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに光学フィルム１０を切り出す
。なお、３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさの光学フィルム１０を切り出せない場合には、例
えば、１０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに光学フィルム１０を切り出してもよい。そして、
切り出した光学フィルム１０の辺部１０Ｅと、辺部１０Ｅと対向する辺部１０Ｆとを、平
行に配置された折り畳み耐久試験機（例えば、製品名「Ｕ字伸縮試験機ＤＬＤＭＬＨ－Ｆ
Ｓ」、ユアサシステム機器株式会社製、ＩＥＣ６２７１５－６－１準拠）の固定部２１、
２２でそれぞれ固定する。固定部２１、２２による固定は、光学フィルム１０の長手方向
に片側約１０ｍｍの光学フィルム１０の部分を保持することによって行われる。ただし、
光学フィルム１０が上記大きさよりも更に小さい場合、光学フィルム１０におけるこの固
定に要する部分が約２０ｍｍまでであれば、固定部２１、２２にテープで貼り付けること
で測定が可能である。また、図３（Ａ）に示すように、固定部２１は水平方向にスライド
移動可能になっている。なお、上記装置であると、従来のロッドに光学フィルムを巻きつ
ける方法などと異なり、光学フィルムに張力や摩擦を発生させることなく、曲げの負荷に
対しての耐久評価することが可能で好ましい。
The continuous folding test is carried out as follows. As shown in FIG. 3A, in the continuous folding test, first, the
The
S" manufactured by Yuasa System Devices Co., Ltd., compliant with IEC 62715-6-1) fixed
The fixing by the fixing
If the
次に、図３（Ｂ）に示すように、固定部２１を固定部２２に近接するように移動させる
ことで、屈曲領域１０Ｃを折り畳むように光学フィルム１０を変形させ、更に、図３（Ｃ
）に示すように、光学フィルム１０の固定部２１、２２で固定された対向する２つの辺部
の間隔φが３０ｍｍとなる位置まで固定部２１を移動させた後、固定部２１を逆方向に移
動させて光学フィルム１０の変形を解消させる。
Next, as shown in FIG. 3B, the fixing
), the fixing
図３（Ａ）～（Ｃ）に示すように固定部２１を移動させることで、屈曲領域１０Ｃにお
いて光学フィルム１０を１８０°折り畳むことができる。また、光学フィルム１０の屈曲
部１０Ｇが固定部２１、２２の下端からはみ出さないようにし、かつ以下の条件で連続折
り畳み試験を行い、また固定部２１、２２が最接近したときの間隔φを３０ｍｍに制御す
ることで、光学フィルム１０の対向する２つの辺部１０Ｅ、１０Ｆの間隔φを３０ｍｍに
できる。この場合、屈曲部１０Ｇの外径を３０ｍｍとみなす。なお、光学フィルム１０の
厚みは、固定部２１、２２の間隔（３０ｍｍ）と比較して充分に小さな値であるため、光
学フィルム１０の連続折り畳み試験の結果は、光学フィルム１０の厚みの違いによる影響
は受けないとみなすことができる。本明細書における「屈曲部」とは、実際に屈曲してい
る部分を意味するものとする。なお、光学フィルム１０においては、対向する２つの辺部
１０Ｅ、１０Ｆの間隔を２０ｍｍ、１０ｍｍ、６ｍｍ、または３ｍｍにして連続折り畳み
試験を１０万回繰り返し行った場合であっても、光学フィルム１０に割れまたは破断が生
じないことがさらに好ましい（対向する２つの辺部１０Ｅ、１０Ｆの間隔は小さいほど好
ましい）。
（折り畳み条件）
・往復速度：９０ｒｐｍ（回毎分）
・試験ストローク：７０ｍｍ
・屈曲角度：１８０°
As shown in Figures 3(A) to 3(C), the
(Folding conditions)
Reciprocating speed: 90 rpm (revolutions per minute)
Test stroke: 70 mm
・Bending angle: 180°
光学フィルム１０においては、図４（Ａ）に示されるように、光学フィルム１０の辺部
１０Ｅと、辺部１０Ｅと対向する辺部１０Ｆとを、辺部１０Ｅと辺部１０Ｆの間隔が３０
ｍｍとなるように平行に配置された固定部２５でそれぞれ固定して、光学フィルム１０を
屈曲領域１０Ｃで折り畳んだ状態で、７０℃で２４０時間静置する折り畳み静置試験を行
い、図４（Ｂ）に示されるように、折り畳み静置試験後に辺部１０Ｅから固定部２５を外
すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光学フィルム１０において
光学フィルム１０が自然に開く角度である開き角θを測定した場合に、光学フィルム１０
の開き角θが１００°以上であることが好ましい。なお、開き角θは、大きいほど復元性
が良好であることを意味し、最大で１８０°である。折り畳み静置試験は、ハードコート
層１４が内側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよく、またハー
ドコート層１４が外側となるように光学フィルム１０を折り畳むように行われてもよいが
、いずれの場合であっても、開き角θが１００°以上であることが好ましい。
In the
The
It is preferable that the opening angle θ is 100° or more. The larger the opening angle θ, the better the restorability, and the maximum opening angle θ is 180°. The folding static test may be performed by folding the
また、光学フィルムの裏面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設け
られている場合には、上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィルムを
剥離してから、折り畳み静置試験を行うものとする。なお、このような剥離工程があった
としても、折り畳み静置には大きな影響はない。
In addition, when another film such as a polarizing plate is provided on the back side of the optical film via an adhesive layer or a bonding layer, the other film is peeled off together with the adhesive layer or the bonding layer by the same method as above, and then the folding and standing test is performed. Even if such a peeling process is performed, it does not have a significant effect on the folding and standing test.
光学フィルム１０の表面１０Ａ（ハードコート層１４の表面１４Ａ）は、ＪＩＳ Ｋ５
６００－５－４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度
）が、Ｂ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度試験は
、ガラス板側が光学フィルム１０の裏面１０Ｂとなるように５０ｍｍ×１００ｍｍの大き
さに切り出した光学フィルム１０をガラス板上に配置し、折れやシワがないようニチバン
株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験
機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を
用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に７５０ｇの荷重を加えながら鉛
筆を１ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行うものとする。鉛筆硬度は、鉛筆硬
度試験において光学フィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆
硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆
硬度試験を行い、５回のうち４回以上光学フィルムの表面に傷が付かなかった場合には、
この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付かなかったと判断する。上記傷は
、鉛筆硬度試験を行った光学フィルムの表面を蛍光灯下で透過観察して視認されるものを
指す。
The
The hardness (pencil hardness) measured by the pencil hardness test specified in 600-5-4:1999 is preferably B or more, more preferably H or more. The pencil hardness test is performed by placing the
It is determined that the surface of the optical film is not scratched by a pencil having this hardness. The above scratches are those that are visually observed when the surface of the optical film that has been subjected to the pencil hardness test is observed through transmission under a fluorescent lamp.
光学フィルム１０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい
。光学フィルム１０のＹＩが１５以下であれば、光学フィルムの黄色味を抑制でき、透明
性が求められる用途に適用できる。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）の
上限は、１０以下、５以下、または１．５以下であることがより好ましい。イエローイン
デックス（ＹＩ）は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、
分光光度計（製品名「ＵＶ－３１００ＰＣ」、株式会社島津製作所製、光源：タングステ
ンランプおよび重水素ランプ）を用いて５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学
フィルムについて測定された値からＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に
従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ Ｄ１９２５
：１９６２に記載された演算式に従って算出された値である。上記イエローインデックス
（ＹＩ）は、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して得られた値の算術平均
値とする。光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０以下である
ことがより好ましい。
The
A spectrophotometer (product name "UV-3100PC", manufactured by Shimadzu Corporation, light source: tungsten lamp and deuterium lamp) was used to cut out an optical film into a size of 50 mm x 100 mm. The chromaticity tristimulus values X, Y, and Z were calculated from the measured values according to the formula described in JIS Z8722:2009, and the chromaticity tristimulus values X, Y, and Z were used to calculate the chromaticity tristimulus value according to ASTM D1925.
The yellow index (YI) is a value calculated according to the formula described in 1962. The yellow index (YI) is measured three times for one optical film, and the arithmetic average value of the three measurements is taken. It is more preferable that the upper limit of the yellow index (YI) of the
光学フィルム１０のイエローインデックス（ＹＩ）を調整するために、例えば、樹脂基
材１１に、黄色の補色となる青色の色素を含有させてもよい。樹脂基材として、ポリイミ
ド系樹脂からなる基材を用いたことで、黄色味が問題となるような場合であったとしても
、樹脂基材に青色の色素を含ませることで、光学フィルムのイエローインデックス（ＹＩ
）を低下させることができる。
In order to adjust the yellow index (YI) of the
) can be reduced.
上記青色の色素としては、顔料または染料のいずれであってもよいが、例えば、光学フ
ィルム１０を有機発光ダイオード表示装置に用いる場合、耐光性や耐熱性を兼ね備えたも
のが好ましい。上記青色の色素として、多環系有機顔料や金属錯体有機顔料等は、染料の
分子分散に比べて紫外線による分子裂断の度合いが少なく耐光性が格段に優れるため、耐
光性等が求められる用途に好ましく、より具体的には、フタロシアニン系の有機顔料等が
好適に挙げられる。ただし、顔料は溶剤に対して粒子分散するため、粒子散乱による透明
性阻害は存在するため、顔料分散体の粒度をレイリー散乱域に入れることが好ましい。一
方、光学フィルムの透明性が重要視される場合には、上記青色の色素としては、溶剤に対
して分子分散する染料を用いることが好ましい。
The blue pigment may be either a pigment or a dye, but for example, when the
光学フィルム１０のヘイズ値（全ヘイズ値）は３．０％以下であることが好ましい。光
学フィルム１０の上記ヘイズ値が３．０％以下であれば、光学フィルム１０をモバイル端
末に用いた場合に、画像表示面の白化を抑制できる。上記ヘイズ値は、ヘイズメーター（
製品名「ＨＭ－１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ Ｋ７１３６
：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は、光学フィルム
１０に対して３回測定し、測定して得られた値の算術平均値とする。上記ヘイズ値は、２
．０％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
The haze value (total haze value) of the
Product name "HM-150" manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) was used to measure
The haze value can be measured by a method conforming to the ISO 2000. The haze value is an arithmetic average value obtained by measuring the haze three times for the
It is more preferable that it is 0.0% or less, and further more preferable that it is 1.0% or less.
上記ヘイズ値は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で、ヘ
イズメーター（製品名「ＨＭ－１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩ
Ｓ Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。上記ヘイズ値は
、光学フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した後、カールや皺がなく、か
つ指紋や埃等がない状態で設置し、光学フィルム１枚に対して３回測定し、３回測定して
得られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３
回測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。光学フィル
ム１０においては、目視した表面１０Ａは平坦であり、かつハードコート層１４等の積層
する層も平坦であり、また膜厚のばらつきも±１０％の範囲内に収まる。したがって、切
り出した光学フィルムの異なる３箇所でヘイズ値を測定することで、おおよその光学フィ
ルムの面内全体のヘイズ値の平均値が得られると考えられる。ヘイズ値のばらつきは、測
定対象が１ｍ×３０００ｍと長尺であっても、５インチのスマートフォン程度の大きさで
あっても、±１０％以内である。なお、光学フィルムを上記大きさに切り出せない場合に
は、例えば、ＨＭ－１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍ
ｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の
大きさに光学フィルムを適宜切り出してもよい。光学フィルムの大きさが小さい場合は、
光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３
箇所にする。
The above-mentioned haze value was measured in an environment of a temperature of 23±5° C. and a relative humidity of 30% to 70% using a haze meter (product name: HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) according to the JI standard.
The haze value can be measured by a method conforming to S K7136:2000. The optical film is cut into a size of 50 mm x 100 mm, and then placed in a state free of curls, wrinkles, fingerprints, dust, etc., and the haze value is measured three times for each optical film, and the arithmetic average value of the values obtained by the three measurements is taken. In this specification, "measured three times" means that the same place is measured three times.
This means that the
A sample size of 22 mm x 22 mm or more is required. Therefore, the optical film may be cut out appropriately to a size of 22 mm x 22 mm or more. If the size of the optical film is small,
Shift the light source spot little by little within the range where it does not move, or change the angle to set the measurement point to three.
Make it a spot.
光学フィルム１０の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましい。光学フィルム
１０の全光線透過率が８５％以上であれば、優れた光透過性を得ることができる。光学フ
ィルム１０の全光線透過率は、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上である
ことがさらに好ましい。
The total light transmittance of the
上記全光線透過率は、温度２３±５℃および相対湿度３０％以上７０％以下の環境下で
、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ－１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いて
ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７に準拠した方法により測定することができる。具体的
には、全光線透過率は、ヘイズ値の測定方法と同様の方法により測定する。
The total light transmittance can be measured in an environment with a temperature of 23±5° C. and a relative humidity of 30% to 70% by a method conforming to JIS K7361-1:1997 using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.). Specifically, the total light transmittance is measured by the same method as the method for measuring the haze value.
また、光学フィルムの裏面側に粘着層や接着層を介して偏光板等の他のフィルムが設け
られている場合には、粘着層や接着層とともに他のフィルムを剥離してから、連続折り畳
み試験、イエローインデックス測定、ヘイズ値測定、全光線透過率測定を行うものとする
。他のフィルムの剥離は、例えば、以下のようにして行うことができる。まず、光学フィ
ルムに粘着層や接着層を介して他のフィルムが付いた積層体をドライヤーで加熱し、光学
フィルムと他のフィルムの界面と思われる部位にカッターの刃先を入れて、ゆっくりと剥
離していく。このような加熱と剥離を繰り返すことで、粘着層や接着層および他のフィル
ムを剥離することができる。上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともに他のフィ
ルムを剥離してから、光学フィルムの全光線透過率を測定する。なお、このような剥離工
程があったとしても、これらの試験やこれらの測定には大きな影響はない。ヘイズ値の測
定は、粘着層や接着層の剥離後、さらに粘着層または接着層の汚れをアルコールで良く拭
き取ってから行うものとする。
In addition, when another film such as a polarizing plate is provided on the back side of the optical film via an adhesive layer or a bonding layer, the other film is peeled off together with the adhesive layer or the bonding layer, and then the continuous folding test, the yellow index measurement, the haze value measurement, and the total light transmittance measurement are performed. The peeling off of the other film can be performed, for example, as follows. First, a laminate in which the optical film is attached to the other film via an adhesive layer or a bonding layer is heated with a dryer, and the tip of a cutter is inserted into the area that is thought to be the interface between the optical film and the other film, and the film is slowly peeled off. By repeating such heating and peeling, the adhesive layer, the bonding layer, and the other film can be peeled off. The other film is peeled off together with the adhesive layer or the bonding layer by the same method as above, and then the total light transmittance of the optical film is measured. Even if such a peeling process is performed, it does not have a significant effect on these tests and measurements. The haze value measurement is performed after the adhesive layer or the bonding layer is peeled off, and the dirt on the adhesive layer or the bonding layer is wiped off with alcohol.
光学フィルム１０の用途は、特に限定されないが、光学フィルム１０の用途としては、
例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラ
ブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン、カーナビゲーション等の画像表示装置が
挙げられる。また、光学フィルム１０は、車載用途にも適している。上記各画像表示装置
の形態としては、フォルダブル、ローラブルといったフレキシブル性を必要とする用途に
も好ましい。
The use of the
Examples of the image display device include a smartphone, a tablet terminal, a personal computer (PC), a wearable terminal, a digital signage, a television, and a car navigation system. The
光学フィルム１０は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であっても
よい。光学フィルム１０が所望の大きさにカットされている場合、光学フィルムの大きさ
は、特に制限されず、画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的に
は、光学フィルム１０の大きさは、例えば、２．８インチ以上５００インチ以下となって
いてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には
対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、
短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である
場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示画面として
問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６
：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイ
ネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光学フィルム１０の大きさ
が大きい場合には、任意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した
後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。なお、例えば、光学フィルム１０がロー
ル状になっている場合においては、光学フィルム１０のロールから所定の長さを繰り出す
とともに、ロールの長手方向に沿って延びる両端部を含む非有効領域ではなく、品質が安
定している中心部付近の有効領域から所望の大きさに切り出すものとする。
The
The length of the optical film is defined as the average value of the sum of the minor axis and the major axis. When the optical film is rectangular, the aspect ratio of the optical film when calculating the above inches is not particularly limited as long as it does not cause any problem as a display screen of an image display device. For example, the length:width ratio may be 1:1, 4:3, 16:10 ...
:9, 2:1, etc. However, in particular, in vehicle-mounted applications and digital signage that are rich in design, the aspect ratio is not limited to these. In addition, when the size of the
画像表示装置における光学フィルム１０の配置箇所は、画像表示装置の内部であっても
よいが、画像表示装置の表面付近であることが好ましい。画像表示装置の表面付近に用い
られる場合、光学フィルム１０は、カバーガラスの代わりに用いられるカバーフィルムと
して機能する。
The
＜＜樹脂基材＞＞
樹脂基材１１は、光透過性を有する樹脂からなる基材である。樹脂基材１１の厚みは、
１０μｍ以上１００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂基材１１の厚みが１０μ
ｍ以上であれば、光学フィルムのカールを抑制でき、また充分な硬度を得ることができ、
更に、光学フィルムをＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌで製造する場合であっても、シワが発生
しにくくなり、外観の悪化を招くおそれがない。一方、樹脂基材１１の厚みが１００μｍ
以下であれば、光学フィルムの折り畳み性能が良好であり、連続折り畳み試験の要件を満
足させることができ、また、光学フィルムの軽量化の面で好ましい。樹脂基材１１の厚み
は、後述する強化部１２の厚みと同様の方法によって、樹脂基材１１の厚みを２０箇所測
定し、その２０箇所の厚みの算術平均値とする。樹脂基材１１の下限は２０μｍ以上、３
０μｍ以上、または４０μｍ以上であることがより好ましく、樹脂基材１１の上限は８０
μｍ以下、７０μｍ以下、または６０μｍ以下であることがより好ましい。
<<Resin substrate>>
The
The thickness of the
m or more, curling of the optical film can be suppressed and sufficient hardness can be obtained.
Furthermore, even when the optical film is produced by a roll-to-roll process, wrinkles are unlikely to occur, and there is no risk of the appearance being deteriorated.
If the thickness is less than 20 μm, the optical film has good folding performance, can satisfy the requirements for a continuous folding test, and is preferable in terms of reducing the weight of the optical film. The thickness of the
The upper limit of the
It is more preferable that the thickness is 0.1 μm or less, 70 μm or less, or 60 μm or less.
樹脂基材１１を構成する樹脂としては、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、
ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂やポ
リエチレンナフタレート樹脂）、またはこれらの樹脂を２以上混合した混合物等が挙げら
れる。
The resin constituting the
Examples of the resin include polyamide resins, polyester resins (for example, polyethylene terephthalate resins and polyethylene naphthalate resins), and mixtures of two or more of these resins.
これらの樹脂の中でも、連続折り畳み試験において割れ又は破断が発生しにくいだけで
なく、優れた硬度及び透明性をも有し、また、耐熱性にも優れ、焼成することにより、更
に優れた硬度及び透明性を付与することもできる観点から、ポリイミド系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、またはこれらの混合物が好ましい。
Among these resins, polyimide-based resins, polyamide-based resins, or mixtures thereof are preferred, since they are not only less likely to crack or break in a continuous folding test, but also have excellent hardness and transparency, and are also excellent in heat resistance, and can be imparted with even better hardness and transparency by baking.
ポリイミド系樹脂は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて得られるも
のである。ポリイミド系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、優れた光透過性お
よび優れた剛性を有する点から、下記一般式（１）および下記一般式（３）で表される構
造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を有することが好ましい。
The polyimide resin is obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component. The polyimide resin is not particularly limited, but it is preferable that the polyimide resin has at least one structure selected from the group consisting of structures represented by the following general formula (1) and the following general formula (3) in terms of excellent light transmittance and excellent rigidity.
上記一般式（１）において、Ｒ１はテトラカルボン酸残基である４価の基、Ｒ２は、ｔ
ｒａｎｓ－シクロヘキサンジアミン残基、ｔｒａｎｓ－１，４－ビスメチレンシクロヘキ
サンジアミン残基、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’－ジアミノジ
フェニルスルホン残基、および下記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ば
れる少なくとも１種の２価の基を表す。ｎは繰り返し単位数を表し、１以上である。本明
細書において、「テトラカルボン酸残基」とは、テトラカルボン酸から、４つのカルボキ
シル基を除いた残基をいい、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基
と同じ構造を表す。また、「ジアミン残基」とは、ジアミンから２つのアミノ基を除いた
残基をいう。
In the above general formula (1), R 1 is a tetravalent group which is a tetracarboxylic acid residue, R 2 is a tetravalent group which is a tetracarboxylic acid residue,
It represents at least one divalent group selected from the group consisting of a trans-cyclohexanediamine residue, a trans-1,4-bismethylenecyclohexanediamine residue, a 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue, a 3,4'-diaminodiphenylsulfone residue, and a divalent group represented by the following general formula (2). n represents the number of repeating units and is 1 or more. In this specification, the term "tetracarboxylic acid residue" refers to a residue obtained by removing four carboxyl groups from a tetracarboxylic acid, and represents the same structure as a residue obtained by removing an acid dianhydride structure from a tetracarboxylic dianhydride. In addition, the term "diamine residue" refers to a residue obtained by removing two amino groups from a diamine.
基、またはパーフルオロアルキル基を表す。
上記一般式（３）において、Ｒ５はシクロヘキサンテトラカルボン酸残基、シクロペン
タンテトラカルボン酸残基、ジシクロヘキサン－３，４，３’，４’－テトラカルボン酸
残基、および４，４'－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基からなる群
から選ばれる少なくとも１種の４価の基、Ｒ６は、ジアミン残基である２価の基を表す。
ｎ’は繰り返し単位数を表し、１以上である。
In the above general formula (3), R5 represents at least one tetravalent group selected from the group consisting of a cyclohexanetetracarboxylic acid residue, a cyclopentanetetracarboxylic acid residue, a dicyclohexane-3,4,3',4'-tetracarboxylic acid residue, and a 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, and R6 represents a divalent group which is a diamine residue.
n' represents the number of repeating units and is 1 or more.
上記一般式（１）における、Ｒ１はテトラカルボン酸残基であり、前記例示されたよう
なテトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基とすることができる。上記
一般式（１）におけるＲ１としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点
から、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’，４，
４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基、ピロメリット酸残基、２，３’，３，４’－ビ
フェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸
残基、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'-オキシ
ジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカ
ルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、さらに、
４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、４，４’－オキシジフ
タル酸残基、および３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基から
なる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
In the above general formula (1), R 1 is a tetracarboxylic acid residue, and can be a residue obtained by removing the acid dianhydride structure from the tetracarboxylic dianhydride as exemplified above. Among them, R 1 in the above general formula (1) is preferably a 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, a 3,3',4,
It is preferable that the carboxylic acid residue contains at least one selected from the group consisting of a 4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, a pyromellitic acid residue, a 2,3',3,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, a 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid residue, a 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residue, a 4,4'-oxydiphthalic acid residue, a cyclohexanetetracarboxylic acid residue, and a cyclopentanetetracarboxylic acid residue, and further contains
It is preferable that the diphthalic acid residue contains at least one selected from the group consisting of a 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, a 4,4'-oxydiphthalic acid residue, and a 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residue.
Ｒ１において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、更
に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
R1 preferably contains these suitable residues in a total amount of 50 mol % or more, more preferably 70 mol % or more, and even more preferably 90 mol % or more.
また、Ｒ１として、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’
，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、およびピロメリット酸残基からなる
群から選択される少なくとも１種のような剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸
残基群（グループＡ）と、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残
基、２，３’，３，４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’－ジフ
ェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'－オキシジフタル酸残基、シクロヘキサ
ンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選
択される少なくとも１種のような透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（
グループＢ）とを混合して用いることも好ましい。
R 1 may be a 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, a 3,3'
a tetracarboxylic acid residue group (Group A) suitable for improving rigidity, such as at least one selected from the group consisting of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, 2,3',3,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residue, 4,4'-oxydiphthalic acid residue, cyclohexanetetracarboxylic acid residue, and cyclopentanetetracarboxylic acid residue;
It is also preferable to use a mixture of the above-mentioned group B).
この場合、前記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）と
、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）との含有比率は、
透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）１モルに対して、前
記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）が０．０５モル以
上９モル以下であることが好ましく、更に０．１モル以上５モル以下であることが好まし
く、より更に０．３モル以上４モル以下であることが好ましい。
In this case, the content ratio of the tetracarboxylic acid residue group (group A) suitable for improving the rigidity and the tetracarboxylic acid residue group (group B) suitable for improving the transparency is
The amount of the tetracarboxylic acid residue group (Group A) suitable for improving the rigidity is preferably 0.05 mol or more and 9 mol or less, more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, and even more preferably 0.3 mol or more and 4 mol or less, relative to 1 mol of the tetracarboxylic acid residue group (Group B) suitable for improving the transparency.
上記一般式（１）におけるＲ２としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上
する点から、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’－ジアミノジフェニ
ルスルホン残基、および上記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ばれる少
なくとも１種の２価の基であることが好ましく、更に、４，４’－ジアミノジフェニルス
ルホン残基、３，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、ならびに、Ｒ３およびＲ４が
パーフルオロアルキル基である上記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ば
れる少なくとも１種の２価の基であることが好ましい。
As R2 in the above general formula (1), from the viewpoints of improving light transmittance and improving rigidity, it is preferable that R2 is at least one divalent group selected from the group consisting of 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue, 3,4'-diaminodiphenylsulfone residue, and divalent groups represented by the above general formula (2), and further it is preferable that R2 is at least one divalent group selected from the group consisting of 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue, 3,4'-diaminodiphenylsulfone residue, and divalent groups represented by the above general formula (2) in which R3 and R4 are perfluoroalkyl groups.
上記一般式（３）におけるＲ５としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上
する点から、４，４'－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’
，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、及びオキシジフタル酸残基を含
むことが好ましい。
As R5 in the above general formula (3), from the viewpoints of improving light transmittance and rigidity, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid residue, 3,3'
, 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residues, and oxydiphthalic acid residues.
Ｒ５において、これらの好適な残基を、５０モル％以上含むことが好ましく、更に７０
モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
In R5 , it is preferable that these suitable residues are contained in an amount of 50 mol % or more, and more preferably 70 mol % or more.
It is preferable that the content is 90 mol % or more, and more preferably 90 mol % or more.
上記一般式（３）におけるＲ６はジアミン残基であり、前記例示されたようなジアミン
から２つのアミノ基を除いた残基とすることができる。上記一般式（３）におけるＲ６と
しては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、２，２’－ビス（トリ
フルオロメチル）ベンジジン残基、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スル
ホン残基、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２－ビス［４－（４－アミ
ノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４－（３－アミノフェノ
キシ）フェニル］スルホン残基、４，４’－ジアミノ－２，２’－ビス（トリフルオロメ
チル）ジフェニルエーテル残基、１，４－ビス［４－アミノ－２－（トリフルオロメチル
）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２－ビス［４－（４－アミノ－２－トリフルオロメチ
ルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’－ジアミノ－２－（ト
リフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、４，４’－ジアミノベンズアニリド残基、
Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）テレフタルアミド残基、及び９，９－ビス（４－
アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含
むことが好ましく、更に、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、ビス
［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、及び４，４’－ジアミノジフ
ェニルスルホン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含むことが好ま
しい。
R6 in the above general formula (3) is a diamine residue, and can be a residue obtained by removing two amino groups from the diamines listed above. Examples of R6 in the above general formula (3) include, among others, from the viewpoint of improving light transmittance and improving rigidity, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine residue, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, 4,4'-diamino-2,2'-bis(trifluoromethyl)diphenyl ether residue, 1,4-bis[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenoxy]benzene residue, 2,2-bis[4-(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, 4,4'-diamino-2-(trifluoromethyl)diphenyl ether residue, 4,4'-diaminobenzanilide residue,
N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide residue, and 9,9-bis(4-
It is preferable that the compound contains at least one divalent group selected from the group consisting of a 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine residue, a bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, and a 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue.
Ｒ６において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、更
に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
R6 preferably contains these suitable residues in a total amount of 50 mol % or more, more preferably 70 mol % or more, and even more preferably 90 mol % or more.
また、Ｒ６として、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４
，４’－ジアミノベンズアニリド残基、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）テレフタ
ルアミド残基、パラフェニレンジアミン残基、メタフェニレンジアミン残基、および４，
４’－ジアミノジフェニルメタン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような
剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、２，２’－ビス（トリフ
ルオロメチル）ベンジジン残基、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２－
ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４
－（３－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’－ジアミノ－２，２’－
ビス（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、１，４－ビス［４－アミノ－２－
（トリフルオロメチル）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２－ビス［４－（４－アミノ－
２－トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’
－ジアミノ－２－（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、及び９，９－ビス（
４－アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような
透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）とを混合して用いることも好
ましい。
R 6 is a bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone residue,
N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide residue, paraphenylenediamine residue, metaphenylenediamine residue, and 4,
A diamine residue group (Group C) suitable for improving rigidity, such as at least one selected from the group consisting of 4'-diaminodiphenylmethane residues, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine residues, 4,4'-diaminodiphenylsulfone residues, 2,2-
Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, bis[4
-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone residue, 4,4'-diamino-2,2'-
Bis(trifluoromethyl)diphenyl ether residue, 1,4-bis[4-amino-2-
(trifluoromethyl)phenoxy]benzene residue, 2,2-bis[4-(4-amino-
2-trifluoromethylphenoxy)phenyl]hexafluoropropane residue, 4,4'
-diamino-2-(trifluoromethyl)diphenyl ether residue, and 9,9-bis(
It is also preferred to use a mixture of the diamine residue group (Group D) suitable for improving transparency, such as at least one selected from the group consisting of 4-aminophenyl)fluorene residues.
この場合、前記剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、透明性
を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）との含有比率は、透明性を向上する
のに適したジアミン残基群（グループＤ）１モルに対して、前記剛直性を向上するのに適
したジアミン残基群（グループＣ）が０．０５モル以上９モル以下であることが好ましく
、更に０．１モル以上５モル以下であることが好ましく、０．３モル以上４モル以下であ
ることがより好ましい。
In this case, the content ratio of the diamine residue group suitable for improving rigidity (Group C) to the diamine residue group suitable for improving transparency (Group D) is preferably such that the content of the diamine residue group suitable for improving rigidity (Group C) per 1 mol of the diamine residue group suitable for improving transparency (Group D) is 0.05 mol or more and 9 mol or less, more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, and even more preferably 0.3 mol or more and 4 mol or less.
上記一般式（１）および上記一般式（３）で表される構造において、ｎおよびｎ’はそ
れぞれ独立に、繰り返し単位数を表し、１以上である。ポリイミドにおける繰り返し単位
数ｎは、後述する好ましいガラス転移温度を示すように、構造に応じて適宜選択されれば
良く、特に限定されない。平均繰り返し単位数は、通常１０～２０００であり、更に１５
～１０００であることが好ましい。
In the structures represented by the above general formula (1) and the above general formula (3), n and n' each independently represent the number of repeating units and are 1 or more. The number of repeating units in the polyimide, n, may be appropriately selected according to the structure so as to exhibit a preferred glass transition temperature described later, and is not particularly limited. The average number of repeating units is usually 10 to 2000, and more preferably 15 to 2000.
It is preferable that the ratio is 1 to 1000.
また、ポリイミド系樹脂は、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでい
ても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン
酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポ
リアミド構造が挙げられる。
The polyimide resin may contain a polyamide structure in part thereof, for example, a polyamideimide structure containing a tricarboxylic acid residue such as trimellitic anhydride, or a polyamide structure containing a dicarboxylic acid residue such as terephthalic acid.
ポリイミド系樹脂は、耐熱性の点から、ガラス転移温度が２５０℃以上であることが好
ましく、更に、２７０℃以上であることが好ましい。一方、延伸の容易さやベーク温度低
減の点から、ガラス転移温度が４００℃以下であることが好ましく、更に、３８０℃以下
であることが好ましい。
From the viewpoint of heat resistance, the polyimide resin preferably has a glass transition temperature of 250° C. or higher, and more preferably 270° C. or higher. On the other hand, from the viewpoints of ease of stretching and reduction of the bake temperature, the glass transition temperature is preferably 400° C. or lower, and more preferably 380° C. or lower.
具体的には、ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記式で表される構造を有する化合
物が挙げられる。下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。
上記ポリイミド系樹脂のなかでも、優れた透明性を有することから、分子内又は分子間
の電荷移動が起こりにくい構造を有するポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂が好ま
しく、具体的には、上記式（４）～（１１）等のフッ素化ポリイミド系樹脂、上記式（１
３）～（１６）等の脂環構造を有するポリイミド系樹脂が挙げられる。
Among the above polyimide-based resins, polyimide-based resins or polyamide-based resins having a structure in which intramolecular or intermolecular charge transfer is unlikely to occur are preferred because they have excellent transparency. Specifically, fluorinated polyimide-based resins such as those represented by the above formulas (4) to (11), polyamide-based resins such as those represented by the above formula (1) are preferred.
Examples of the polyimide resins include those having an alicyclic structure such as those shown in (3) to (16).
また、上記式（４）～（１１）等のフッ素化ポリイミド系樹脂では、フッ素化された構
造を有するため、高い耐熱性を有しており、ポリイミド系樹脂からなるポリイミドフィル
ムの製造時の熱によって着色されることもないので、優れた透明性を有する。
In addition, the fluorinated polyimide resins of the above formulas (4) to (11) and the like have a fluorinated structure, and therefore have high heat resistance and are not discolored by heat during the production of a polyimide film made of the polyimide resin, and therefore have excellent transparency.
ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリアミド（アラミド）を
含む概念である。ポリアミド系樹脂としては、例えば、下記式（２１）～（２３）で表さ
れる骨格を有する化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２
以上の整数を表す。
The term "polyamide-based resin" refers to a concept that includes not only aliphatic polyamides but also aromatic polyamides (aramids). Examples of polyamide-based resins include compounds having skeletons represented by the following formulas (21) to (23). In the following formulas, n is a repeating unit, and
Represents an integer greater than or equal to 1.
上記式（４）～（２０）および（２３）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド
系樹脂を含む基材は、市販のものを用いても良い。上記ポリイミド系樹脂の市販品として
は、例えば、三菱ガス化学株式会社製のネオプリム（登録商標）等が挙げられ、上記ポリ
アミド系樹脂を含む基材の市販品としては、例えば、東レ株式会社製のミクトロン（登録
商標）等が挙げられる。
The substrate containing the polyimide-based resin or polyamide-based resin represented by the above formulas (4) to (20) and (23) may be commercially available. Examples of commercially available polyimide-based resins include Neoprim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., and examples of commercially available substrates containing the polyamide-based resins include Miktron (registered trademark) manufactured by Toray Industries, Inc.
また、上記式（４）～（２０）および（２３）で表されるポリイミド系樹脂またはポリ
アミド系樹脂は、公知の方法により合成したものを用いても良い。例えば、上記式（４）
で表されるポリイミド系樹脂の合成方法は、特開２００９－１３２０９１に記載されてお
り、具体的には、下記式（２４）で表される４，４’－ヘキサフルオロプロピリデンビス
フタル酸二無水物（ＦＰＡ）と２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジア
ミノビフェニル（ＴＦＤＢ）とを反応させることにより得ることができる。
A method for synthesizing the polyimide resin represented by the formula (24) is described in JP 2009-132091 A, and specifically, the polyimide resin can be obtained by reacting 4,4'-hexafluoropropylidenebisphthalic dianhydride (FPA) represented by the formula (24) below with 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFDB).
上記ポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、３０００以上５０
万以下の範囲であることが好ましく、５０００～３０万の範囲であることがより好ましく
、１万以上２０万以下の範囲であることが更に好ましい。重量平均分子量が３０００未満
であると、充分な強度が得られないことがあり、５０万を超えると粘度が上昇し、溶解性
が低下するため、表面が平滑で膜厚が均一な基材が得られないことがある。なお、本明細
書において、「重量平均分子量」とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測
定したポリスチレン換算値である。
The weight average molecular weight of the polyimide resin or polyamide resin is 3,000 or more and 50
It is preferable that the weight average molecular weight is in the range of 10,000 or less, more preferably in the range of 5,000 to 300,000, and even more preferably in the range of 10,000 to 200,000. If the weight average molecular weight is less than 3,000, sufficient strength may not be obtained, and if it exceeds 500,000, the viscosity increases and the solubility decreases, so that a substrate having a smooth surface and a uniform film thickness may not be obtained. In this specification, the "weight average molecular weight" is a polystyrene-equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC).
樹脂基材１１は、硬度を向上させることが可能な観点から、上記式（４）～（１１）等
で表されるフッ素化ポリイミド系樹脂または上記式（２３）等のハロゲン基を有するポリ
アミド系樹脂を含む基材を用いることが好ましい。なかでも、硬度をより向上させること
ができる観点から、上記式（４）で表されるポリイミド系樹脂を含む基材を用いることが
より好ましい。
From the viewpoint of being able to improve the hardness, it is preferable to use a substrate containing a fluorinated polyimide resin represented by the above formulas (4) to (11) or a polyamide resin having a halogen group represented by the above formula (23), etc., as the
ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも
１種を構成成分とする樹脂等が挙げられる。
Examples of polyester-based resins include resins containing at least one of polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate as a constituent component.
＜＜ハードコート層＞＞
ハードコート層１４は、樹脂基材１１の第２の面１１Ｂ側に設けられている。本明細書
における「ハードコート層」とは、光透過性を有し、かつマルテンス硬さが、樹脂基材の
マルテンス硬さよりも高い層を意味するものとする。樹脂基材１１およびハードコート層
１４のマルテンス硬さは、後述する強化部１２のマルテンス硬さと同様の方法によって測
定するものとする。
<<Hard Coat Layer>>
The
ハードコート層１４の膜厚は、１μｍ以上２０μｍ以下となっていることが好ましい。
ハードコート層１４の膜厚が、１μｍ以上であれば、ハードコート層として充分な硬度を
得ることができ、また２０μｍ以下であれば、加工性の悪化を抑制できる。本明細書にお
ける「ハードコート層の膜厚」とは、ハードコート層が多層構造となっている場合には、
各ハードコート層の膜厚を合計した膜厚（総厚）を意味するものとする。ハードコート層
１４の下限は２μｍ以上、３μｍ以上、または５μｍ以上であることが好ましく、上限は
１５μｍ以下、１０μｍ以下、または８μｍ以下であることがより好ましい。
The thickness of the
When the thickness of the
The thickness of the
ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、または透過型電子顕微
鏡（ＴＥＭ）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハード
コート層１４の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。
The film thickness of the hard coat layer is determined by photographing a cross section of the hard coat layer using a scanning transmission electron microscope (STEM) or a transmission electron microscope (TEM), measuring the film thickness of the
具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切
り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから
一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切
片を切り出す。切片の作製には、例えば、ライカ マイクロシステムズ株式会社のウルト
ラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な
切片を測定サンプルとする。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、測定
サンプルの断面写真を撮影する。走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）としては、株式会社
日立ハイテクノロジーズ製のＳ－４８００が挙げられる。上記Ｓ－４８００を用いて断面
写真を撮影する際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を「３０ｋＶ」、エミッション電流
を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラス
トおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら５０００倍～２０万倍で適宜調節す
る。好ましい倍率は、１万倍～１０万倍、更に好ましい倍率は１万倍～５万倍であり、最
も好ましい倍率は２．５万倍～５万倍である。なお、上記Ｓ－４８００を用いて断面写真
を撮影する際には、さらに、ビームモニタ絞りを「３」にし、対物レンズ絞りを「３」に
し、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にしてもよい。ハードコート層の膜厚を測定する際には、
断面観察した折に、ハードコート層と他の層（例えば、樹脂基材）との界面コントラスト
が可能な限り明確に観察できることが重要となる。仮に、コントラスト不足でこの界面が
見え難い場合には、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸など染色
処理を施すと、有機層間の界面が見やすくなるので、染色処理を行ってもよい。また、界
面のコントラストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も
同時に観察する。例えば、２．５万倍と５万倍や、５万倍と１０万倍など、高低の２つの
倍率で観察し、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値をハードコート層
の膜厚の値とする。
A specific method for taking a cross-sectional photograph is described below. First, a block is prepared by embedding an optical film cut into a size of 1 mm x 10 mm in an embedding resin, and a uniform slice having a thickness of 70 nm to 100 nm is cut from this block by a general slice preparation method. For example, an ultramicrotome EM UC7 manufactured by Leica Microsystems can be used to prepare the slice. The uniform slice without holes is used as the measurement sample. Then, a cross-sectional photograph of the measurement sample is taken using a scanning transmission electron microscope (STEM). An example of a scanning transmission electron microscope (STEM) is the S-4800 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. When taking a cross-sectional photograph using the S-4800, the detector is set to "TE", the acceleration voltage is set to "30 kV", and the emission current is set to "10 μA" to perform cross-sectional observation. The magnification is adjusted by adjusting the focus and appropriately adjusting the contrast and brightness from 5,000 times to 200,000 times while observing whether each layer can be distinguished. The preferred magnification is 10,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 50,000, and most preferably 25,000 to 50,000. When taking a cross-sectional photograph using the S-4800, the beam monitor aperture may be set to "3", the objective lens aperture may be set to "3", and the WD may be set to "8 mm". When measuring the film thickness of the hard coat layer,
When observing the cross section, it is important that the interface contrast between the hard coat layer and other layers (e.g., resin substrate) can be observed as clearly as possible. If the interface is difficult to see due to insufficient contrast, a dyeing process such as osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, or phosphotungstic acid can be performed to make the interface between the organic layers easier to see. In addition, the contrast of the interface may be difficult to see at higher magnifications. In that case, a low magnification is also observed at the same time. For example, the film is observed at two high and low magnifications, such as 25,000 times and 50,000 times, or 50,000 times and 100,000 times, and the arithmetic average value described above is obtained at both magnifications, and the average value is taken as the film thickness value of the hard coat layer.
ハードコート層は単層構造であってもよいが、折り畳み性能を向上させる観点から２層
以上の多層構造であることが好ましい。図１には、ハードコート層１４が、第１のハード
コート層１５と、第１のハードコート層１５上に積層された第２のハードコート層１６と
から構成されている例が示されている。なお、ハードコート層が多層構造の場合、各層の
マルテンス硬さが、樹脂基材のマルテンス硬さよりも高くなっている。
The hard coat layer may have a single layer structure, but is preferably a multi-layer structure of two or more layers from the viewpoint of improving folding performance. Fig. 1 shows an example in which the
＜第１のハードコート層＞
第１のハードコート層１５は、主に光学フィルム１０に硬度を付与するための層である
。第１のハードコート層１５は、第１のハードコート層１５の断面中央におけるマルテン
ス硬さが５００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。第１のハードコー
ト層１５の断面中央におけるマルテンス硬さが５００ＭＰａ以上であれば、ハードコート
層１４の硬度が不充分となることがなく、また２０００ＭＰａ以下であれば、より優れた
折り畳み性を得ることができる。第１のハードコート層１５の断面中央におけるマルテン
ス硬さの下限は６００ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、または８００ＭＰａ以上であるこ
とが好ましく、上限は１５００ＭＰａ以下、１４００ＭＰａ以下、または１３００ＭＰａ
以下であることが好ましい。
<First Hard Coat Layer>
The first
It is preferable that:
第１のハードコート層１５のマルテンス硬さは、第２のハードコート層１６のマルテン
ス硬さよりも大きいことが好ましい。このようなマルテンス硬さの関係を有することで、
光学フィルム１０は、鉛筆硬度が特に良好となる。これは、光学フィルム１０に鉛筆硬度
試験を施して鉛筆に荷重をかけて押しこんだときに、光学フィルム１０の変形が抑制され
て、傷や凹み変形が少なくなるためである。第１のハードコート層１５のマルテンス硬さ
を第２のハードコート層１６のマルテンス硬さよりも大きくする方法としては、例えば、
後述する無機粒子の含有量を第１のハードコート層１５側により多く含有するよう制御す
る方法等が挙げられる。なお、ハードコート層が単層構造の場合には、ハードコート層に
無機粒子が樹脂基材側に偏在するように、すなわち、上記ハードコート層における無機粒
子の存在割合が、樹脂基材側でより大きく、光学フィルムの表面側に向かう従って小さく
なるよう傾斜していることが好ましい。
The Martens hardness of the first
The
Examples of such a method include a method of controlling the content of inorganic particles described later so that a larger amount of the inorganic particles is contained on the first
第１のハードコート層１５は、樹脂を含んでいる。第１のハードコート層１５は、樹脂
中に分散された無機粒子をさらに含有することが好ましい。
The first
（樹脂）
樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、
分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性官能基としては、例え
ば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる
。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル
基」の両方を含む意味である。
(resin)
The resin contains a polymer (cured product) of a polymerizable compound (curable compound).
It has at least one polymerizable functional group in the molecule. Examples of the polymerizable functional group include ethylenically unsaturated groups such as (meth)acryloyl group, vinyl group, and allyl group. The term "(meth)acryloyl group" includes both "acryloyl group" and "methacryloyl group".
重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）
アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ト
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ
）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル
酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルト
リ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メ
タ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）
アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アク
リレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げ
られる。
As the polymerizable compound, a polyfunctional (meth)acrylate is preferable.
Examples of the acrylate include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, (meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, isocyanuric acid tri(meth)acrylate, isocyanuric acid di(meth)acrylate, polyester tri(meth)acrylate, polyester di(meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, diglycerin tetra(meth)acrylate, adamantyl di(meth)acrylate
acrylate, isobornyl di(meth)acrylate, dicyclopentane di(meth)acrylate, tricyclodecane di(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, and those modified with PO, EO, caprolactone, or the like.
これらの中でも上述したマルテンス硬さを好適に満たし得ることから、３～６官能のも
のが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）
アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。な
お、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを
意味する。
Among these, tri- to hexafunctional ones are preferred because they can suitably satisfy the above-mentioned Martens hardness, and examples thereof include pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and tripentaerythritol octa(meth)acrylate.
Preferable are acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, etc. In this specification, (meth)acrylate means acrylate and methacrylate.
なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリ
レートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては
、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メト
キシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレー
ト、２－アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ－アクリ
ロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒ
ドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、
及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。
In addition, the composition may further contain a monofunctional (meth)acrylate monomer in order to adjust the hardness or viscosity of the composition, improve adhesion, etc. Examples of the monofunctional (meth)acrylate monomer include hydroxyethyl acrylate (HEA), glycidyl methacrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinate, acryloylmorpholine, N-acryloyloxyethylhexahydrophthalimide, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acrylate, phenoxyethyl acrylate,
and adamantyl acrylate.
上記モノマーの重量平均分子量は、樹脂層の硬度を向上させる観点から、１０００未満
が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量
平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であ
ることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。
From the viewpoint of improving the hardness of the resin layer, the weight average molecular weight of the monomer is preferably less than 1,000, and more preferably from 200 to 800. The weight average molecular weight of the polymerizable oligomer is preferably from 1,000 to 20,000, more preferably from 1,000 to 10,000, and even more preferably from 2,000 to 7,000.
（無機粒子）
無機粒子としては、硬度を向上させることができれば、特に限定されないが、優れた硬
度を得る観点から、シリカ粒子が好ましい。シリカ粒子の中でも、反応性シリカ粒子が好
ましい。上記反応性シリカ粒子は、上記多官能（メタ）アクリレートとの間で架橋構造を
構成することが可能なシリカ粒子であり、この反応性シリカ粒子を含有することで、第１
のハードコート層１５の硬度を充分に高めることができる。
(Inorganic particles)
The inorganic particles are not particularly limited as long as they can improve the hardness, but from the viewpoint of obtaining excellent hardness, silica particles are preferred. Among the silica particles, reactive silica particles are preferred. The reactive silica particles are silica particles that can form a crosslinked structure with the polyfunctional (meth)acrylate, and by containing the reactive silica particles, the first
In this way, the hardness of the
上記反応性シリカ粒子は、その表面に反応性官能基を有することが好ましく、該反応性
官能基とてしては、例えば、上記の重合性官能基が好適に用いられる。
The reactive silica particles preferably have a reactive functional group on the surface thereof, and as the reactive functional group, for example, the above-mentioned polymerizable functional group is preferably used.
上記反応性シリカ粒子としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、
例えば、特開２００８－１６５０４０号公報記載の反応性シリカ粒子等が挙げられる。ま
た、上記反応性シリカ粒子の市販品としては、例えば、日産化学工業株式会社製のＭＩＢ
Ｋ－ＳＤ、ＭＩＢＫ－ＳＤＭＳ、ＭＩＢＫ－ＳＤＬ、ＭＩＢＫ－ＳＤＺＬ、日揮触媒化成
株式会社製のＶ８８０２、Ｖ８８０３等が挙げられる。
The reactive silica particles are not particularly limited, and any conventionally known reactive silica particles may be used.
For example, reactive silica particles described in JP 2008-165040 A can be mentioned. In addition, commercially available products of the reactive silica particles include, for example, MIB
K-SD, MIBK-SDMS, MIBK-SDL, MIBK-SDZL, V8802 and V8803 manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd., and the like.
また、上記シリカ粒子は、球形シリカ粒子であってもよいが、異形シリカ粒子であるこ
とが好ましい。球形シリカ粒子と異形シリカ粒子とを混合させてもよい。なお、本明細書
における「球形シリカ粒子」とは、例えば、真球状、楕円球状等のシリカ粒子を意味し、
また、「異形シリカ粒子」とは、ジャガイモ状（断面観察時のアスペクト比が１．２以上
４０以下）のランダムな凹凸を表面に有する形状のシリカ粒子を意味する。上記異形シリ
カ粒子は、その表面積が球形シリカ粒子と比較して大きいため、このような異形シリカ粒
子を含有することで、上記多官能（メタ）アクリレート等との接触面積が大きくなり、上
記ハードコート層の硬度を向上させることができる。ハードコート層に含まれているシリ
カ粒子が異形シリカ粒子であるか否かは、ハードコート層の断面を透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することによって確認することが
できる。球形シリカ粒子を用いる場合、球形シリカ粒子の粒子径が小さいほど、ハードコ
ート層の硬度が高くなる。これに対し、異形シリカ粒子は、市販されている最も小さい粒
子径の球形シリカ粒子ほど小さくなくとも、この球形シリカと同等の硬度を達成すること
ができる。
The silica particles may be spherical silica particles, but are preferably irregular silica particles. Spherical silica particles and irregular silica particles may be mixed. In this specification, the term "spherical silica particles" refers to silica particles that are, for example, spherical or elliptical.
Moreover, "irregular silica particles" refers to silica particles having a potato-like shape (aspect ratio in cross-section observation is 1.2 to 40) with random irregularities on the surface. The irregular silica particles have a larger surface area than spherical silica particles, and thus the inclusion of such irregular silica particles increases the contact area with the polyfunctional (meth)acrylate, etc., and can improve the hardness of the hard coat layer. Whether or not the silica particles contained in the hard coat layer are irregular silica particles can be determined by observing a cross-section of the hard coat layer with a transmission electron microscope (T
It can be confirmed by observing with a scanning electron microscope (STEM) or a scanning transmission electron microscope (EM). When using spherical silica particles, the smaller the particle size of the spherical silica particles, the higher the hardness of the hard coat layer. In contrast, irregular silica particles can achieve the same hardness as the spherical silica even if they are not as small as the spherical silica particles with the smallest particle size available on the market.
上記シリカ粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。シ
リカ粒子の平均粒子径が５ｎｍ未満であると、粒子自身の製造が困難になり、粒子同士が
凝集したりすることがあり、また、異形にするのが極めて困難になることがあり、更に、
上記塗工前のインキの段階で異形シリカ粒子の分散性が悪く凝集したりすることがある。
一方、上記異形シリカ粒子の平均粒子径が２００ｎｍを超えると、ハードコート層に大き
な凹凸が形成されたり、ヘイズの上昇といった不具合が生じたりすることがある。シリカ
粒子が球形シリカ粒子の場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥ
Ｍ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した粒子の断面の画像から２
０個の粒子の粒子径を測定し、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。また、シリカ
粒子が異形シリカ粒子である場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（
ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影したハードコート層の断
面の画像から粒子の外周の２点間距離の最大値（長径）と最小値（短径）とを測定し、平
均して粒子径を求め、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。走査透過型電子顕微鏡
（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ－４８００（ＴＹＰＥ２）」、株式会社日立ハイテクノロジー
ズ製）を用いて、断面写真の撮影を行う際には、検出器（選択信号）を「ＴＥ」、加速電
圧を「３０ｋＶ」、エミッションを「１０μＡ」にして観察を行う。
The average particle size of the silica particles is preferably 5 nm or more and 200 nm or less. If the average particle size of the silica particles is less than 5 nm, it becomes difficult to manufacture the particles themselves, the particles may aggregate with each other, and it may be extremely difficult to form the particles into irregular shapes.
At the ink stage before coating, the irregular shaped silica particles may have poor dispersibility and may aggregate.
On the other hand, when the average particle diameter of the irregular silica particles exceeds 200 nm, problems such as large irregularities being formed in the hard coat layer and an increase in haze may occur. When the silica particles are spherical silica particles, the average particle diameter of the silica particles is measured by a transmission electron microscope (TE microscope).
2) from cross-sectional images of particles taken using a scanning transmission electron microscope (STEM)
The particle diameter of 0 particles is measured, and the arithmetic mean value of the particle diameters of 20 particles is used. In addition, when the silica particles are irregularly shaped silica particles, the average particle diameter of the silica particles is measured by a transmission electron microscope (
The maximum (long axis) and minimum (short axis) of the distance between two points on the periphery of the particles are measured from an image of the cross section of the hard coat layer taken using a scanning transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM), and the particle diameter is calculated by averaging, which is taken as the arithmetic mean value of the particle diameters of 20 particles. When taking a cross-sectional photograph using a scanning transmission electron microscope (STEM) (product name "S-4800 (TYPE 2)", manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), observation is performed with the detector (selection signal) set to "TE", the acceleration voltage set to "30 kV", and the emission set to "10 μA".
上記無機粒子の大きさ及び配合量を制御することで第１のハードコート層１５の硬度（
マルテンス硬さ）を制御できる。例えば、第１のハードコート層１５を形成する場合、上
記シリカ粒子は直径が５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、上記重合性化合物１００質量部
に対して、２５～６０質量部であることが好ましい。
By controlling the size and amount of the inorganic particles, the hardness (
For example, when forming the first
＜第２のハードコート層＞
第２のハードコート層１６は、上述した連続折り畳み試験を充足させるための層である
。第２のハードコート層１６は、第２のハードコート層１６の断面中央におけるマルテン
ス硬さが３７５ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下であることが好ましい。第２のハードコー
ト層１６の断面中央におけるマルテンス硬さが３７５ＭＰａ以上であれば、ハードコート
層１４の耐擦傷性が不充分となることがなく、また１５００ＭＰａ以下であれば、より優
れた折り畳み性を得ることができる。第２のハードコート層１６の断面中央におけるマル
テンス硬さの下限は４５０ＭＰａ以上、４７０ＭＰａ以上、または４９０ＭＰａ以上であ
ることがより好ましく、上限は５７５ＭＰａ以下、５５０ＭＰａ以下、または５３０ＭＰ
ａ以下であることがより好ましい。
<Second Hard Coat Layer>
The second
It is more preferable that it is equal to or smaller than a.
第２のハードコート層１６は、樹脂を含んでいる。第２のハードコート層１６は、樹脂
中に分散された無機粒子をさらに含んでいてもよい。
The second
（樹脂）
樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物とし
ては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとして
は、第１のハードコート層１５の欄の多官能（メタ）アクリレートと同様のものが挙げら
れる。また、第２のハードコート層１６は、上記多官能（メタ）アクリレートに加えて、
多官能ウレタン（メタ）アクリレート及び／又は多官能エポキシ（メタ）アクリレート等
が含まれてもよい。
(resin)
The resin contains a polymer (cured product) of a polymerizable compound (curable compound). As the polymerizable compound, a polyfunctional (meth)acrylate is preferable. As the polyfunctional (meth)acrylate, the same polyfunctional (meth)acrylate as in the section of the first
Multifunctional urethane (meth)acrylates and/or multifunctional epoxy (meth)acrylates may be included.
（無機粒子）
無機粒子としては、第１のハードコート層１５の欄の無機粒子と同様のものが挙げられ
る。第２のハードコート層１６における無機粒子の含有量としては、特に限定されないが
、例えば、第２のハードコート層１６に対し０質量％以上５０質量％以下であることが好
ましい。
(Inorganic particles)
Examples of the inorganic particles include the same inorganic particles as those in the column for the first
第１のハードコート層１５および第２のハードコート層１６の少なくともいずれかは、
上述したマルテンス硬さを充足する範囲で、上述した材料以外の材料を含んでいてもよく
、例えば、樹脂成分の材料として、電離放射線の照射により硬化物を形成する重合性モノ
マーや重合性オリゴマー等を含んでいてもよい。上記重合性モノマー又は重合性オリゴマ
ーとしては、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートモ
ノマー、又は、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートオリゴマ
ーが挙げられる。上記分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートモ
ノマー、又は、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートオリゴマ
ーとしては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレー
ト、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ポリフルオロアル
キル（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等のモノマー又はオリゴマ
ーが挙げられる。これら重合性モノマー又は重合性オリゴマーは、１種又は２種以上を組
み合わせて使用してもよい。なかでも、多官能（６官能以上）で重量平均分子量が１００
０～１万のウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。
At least one of the first
Materials other than the above-mentioned materials may be included within the range that satisfies the above-mentioned Martens hardness. For example, the resin component material may include a polymerizable monomer or a polymerizable oligomer that forms a cured product by irradiation with ionizing radiation. Examples of the above-mentioned polymerizable monomer or polymerizable oligomer include a (meth)acrylate monomer having a radical polymerizable unsaturated group in the molecule, or a (meth)acrylate oligomer having a radical polymerizable unsaturated group in the molecule. Examples of the above-mentioned (meth)acrylate monomer having a radical polymerizable unsaturated group in the molecule or a (meth)acrylate oligomer having a radical polymerizable unsaturated group in the molecule include monomers or oligomers such as urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, polyfluoroalkyl (meth)acrylate, and silicone (meth)acrylate. These polymerizable monomers or polymerizable oligomers may be used alone or in combination of two or more. Among them, polyfunctional (six or more functional) monomers having a weight average molecular weight of 100
Urethane (meth)acrylates having a molecular weight of 0 to 10,000 are preferred.
ハードコート層１４（第１のハードコート層１５および第２のハードコート層１６の少
なくともいずれか）は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および／または防汚剤をさら
に含んでいてもよい。
The hard coat layer 14 (at least one of the first
＜＜強化部＞＞
複数の強化部１２は、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側に平面状に配置されている。強
化部１２は、上記したように樹脂基材１１の第１の面１１Ａに接着層１７を介して貼り付
けられている。
<< Strengthening Department >>
The
強化部１２の厚みは、それぞれ１５０μｍ以上となっている。強化部１２の厚みの下限
は、それぞれ２００μｍ以上、３００μｍ以上、または４００μｍ以上であることがより
好ましく、上限は薄く、かつ軽い光学フィルムを設計する観点から、それぞれ１０００μ
ｍ以下、７００μｍ以下、または５００μｍ以下であることが好ましい。
The thickness of the reinforced
It is preferable that the thickness is 100 μm or less, 700 μm or less, or 500 μm or less.
強化部１２の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、強化部の断面を撮影し、
その断面の画像において強化部の厚みを２０箇所測定し、その２０箇所の厚みの算術平均
値とする。具体的な断面写真の撮影方法は以下の通りとする。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに
切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックか
ら一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の
切片を切り出す。ここで、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出すこととした
のは、測定時には切片が切り出された残りのブロックを用いるが、この薄さの切片を切り
出すことにより残りのブロックの断面の平坦性が良好になるためである。なお、残りのブ
ロックの平坦性が悪いと測定精度が悪化するおそれがある。切片の作製には、例えば、ラ
イカ マイクロシステムズ株式会社のウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７等を用いる。そ
して、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。
その後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）としては、株式会社日立ハイテクノロジーズ製のＳ－４８００
が挙げられる。上記Ｓ－４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」
、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率
については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察
しながら１００～１０万倍で適宜調節する。さらに、ビームモニタ絞りを「３」にし、対
物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にする。樹脂基材および樹脂層の
厚みも強化部の厚みと同様の手法によって測定する。
The thickness of the reinforced
The thickness of the reinforced portion is measured at 20 points in the image of the cross section, and the arithmetic average value of the thicknesses at the 20 points is taken. A specific method for taking a cross section photograph is as follows. First, a block is prepared by embedding an optical film cut to 1 mm x 10 mm in an embedding resin, and a uniform slice having a thickness of 70 nm to 100 nm without holes is cut out from this block by a general slice preparation method. Here, the slice having a thickness of 70 nm to 100 nm is cut out because the remaining block from which the slice is cut out is used during measurement, and cutting out a slice of this thickness improves the flatness of the cross section of the remaining block. Note that if the flatness of the remaining block is poor, the measurement accuracy may deteriorate. For example, an ultramicrotome EM UC7 from Leica Microsystems Co., Ltd. is used to prepare the slice. Then, the remaining block from which the uniform slice without holes is cut out is used as the measurement sample.
Then, a cross-sectional photograph of the measurement sample is taken using a scanning electron microscope (SEM). The scanning electron microscope (SEM) is S-4800 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
When taking a cross-sectional photograph using the S-4800, the detector is set to "SE"
The cross-section is observed with the acceleration voltage set to "5 kV" and the emission current set to "10 μA". The magnification is adjusted appropriately from 100 to 100,000 times while adjusting the focus and observing whether the contrast and brightness of each layer can be distinguished. Furthermore, the beam monitor aperture is set to "3", the objective lens aperture is set to "3", and the WD is set to "8 mm". The thicknesses of the resin substrate and the resin layer are also measured by the same method as the thickness of the reinforced portion.
強化部１２のマルテンス硬さは、それぞれ３０ＭＰａ以上となっている。本明細書にお
いて、「マルテンス硬さ」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子
を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。強化部１２のマルテンス硬さの下限は、それぞ
れ５０ＭＰａ以上、１００ＭＰａ以上、または２００ＭＰａ以上となっていることが好ま
しい。強化部１２のマルテンス硬さの上限は、落下時の破損等を抑制する観点から、それ
ぞれ５０００ＭＰａ以下、４０００ＭＰａ以下、３０００ＭＰａ以下、または１０００Ｍ
Ｐａ以下となっていることが好ましい。
The Martens hardness of the reinforced
It is preferable that the pressure is 0.1 Pa or less.
上記マルテンス硬さの測定は、ナノインデンター（例えば、Ｂｒｕｋｅｒ社製のＴＩ９
５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ）を用いて、以下のようにして求めることができる。
具体的には、まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋
したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一
な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。ここで、厚さ７０ｎｍ以上１０
０ｎｍ以下の切片を切り出すこととしたのは、測定時には切片が切り出された残りのブロ
ックを用いるが、この薄さの切片を切り出すことにより残りのブロックの断面の平坦性が
良好になるためである。なお、残りのブロックの平坦性が悪いと測定精度が悪化するおそ
れがある。切片の作製には、例えば、ライカ マイクロシステムズ株式会社のウルトラミ
クロトーム ＥＭ ＵＣ７等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片
が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。次いで、このような測定サンプル
における上記切片が切り出されることによって得られた断面において、以下の測定条件で
、上記圧子としてバーコビッチ（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ）圧子（三角錐、Ｂｒｕｋｅｒ社製
のＴＩ－００３９）を強化部の断面中央に５００ｎｍ押し込む。ここで、バーコビッチ圧
子は、強化部の側縁の影響を避けるために、強化部の両側端からそれぞれ強化部の中央側
に５００ｎｍ以上離れた部分に押し込むものとする。その後、一定時間保持して残留応力
の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ
）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより、マルテン
ス硬さを算出する。マルテンス硬さは、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする
。なお、測定値の中に算術平均値から±２０％以上外れるものが含まれている場合は、そ
の測定値を除外し再測定を行うものとする。測定値の中に算術平均値から±２０％以上外
れているものが存在するか否かは、測定値をＡとし、算術平均値をＢとしたとき、（Ａ－
Ｂ）／Ｂ×１００によって求められる値（％）が±２０％以上であるかによって判断する
ものとする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２３～２８℃
・相対湿度：３０％～７０％
The Martens hardness was measured using a nanoindenter (e.g., TI9 manufactured by Bruker Corporation).
The value can be obtained using a software program (TriboIndenter) as follows.
Specifically, first, a block is prepared by embedding an optical film cut to a size of 1 mm×10 mm in an embedding resin, and then a uniform slice having a thickness of 70 nm to 100 nm and no holes is cut out from this block by a general slice preparation method.
The reason why the slices are cut out is that the remaining block from which the slices are cut out is used during measurement, and by cutting out slices of this thickness, the flatness of the cross section of the remaining block is improved. If the flatness of the remaining block is poor, the measurement accuracy may be deteriorated. For example, an ultramicrotome EM UC7 from Leica Microsystems can be used to prepare the slices. The remaining block from which the uniform slices without holes are cut out is used as the measurement sample. Next, in the cross section obtained by cutting out the slices in such a measurement sample, a Berkovich indenter (triangular pyramid, TI-0039 manufactured by Bruker) is pressed 500 nm into the center of the cross section of the reinforced part under the following measurement conditions. Here, the Berkovich indenter is pressed into a portion 500 nm or more away from both ends of the reinforced part toward the center of the reinforced part in order to avoid the influence of the side edges of the reinforced part. Thereafter, the specimen is held for a certain period of time to relax the residual stress, and then the load is removed to measure the maximum load after relaxation, and the maximum load P max (μN
) and the area A (nm 2 ) of a 500 nm deep indentation, and calculate the Martens hardness by P max /A. The Martens hardness is the arithmetic mean value of the values obtained by measuring at 10 locations. If any of the measured values deviate from the arithmetic mean value by more than ±20%, that measured value is excluded and remeasured. Whether or not any of the measured values deviate from the arithmetic mean value by more than ±20% can be determined by the following formula: (A - B) where A is the measured value and B is the arithmetic mean value.
The judgment shall be made based on whether the value (%) calculated by (B)/B×100 is ±20% or more.
(Measurement condition)
Loading speed: 10 nm/sec. Holding time: 5 sec. Loading/unloading speed: 10 nm/sec. Measurement temperature: 23 to 28°C.
Relative humidity: 30% to 70%
強化部１２は、薄型化の観点から、板状であることが好ましく、また強化部１２の平面
形状としては、特に限定されないが、例えば、多角形状、円形状、または楕円形状等が挙
げられる。本明細書における「多角形状」とは、三角形状、あるいは長方形状や正方形状
等の矩形状等を含む概念である。図２に示される強化部１２は、長方形状となっている。
From the viewpoint of thinning, the reinforced
強化部１２間には、光学フィルム１０の折り畳みやすさの観点から、隙間１２Ａが存在
していることが好ましい。上記したように光学フィルム１０においては、この隙間１２Ａ
に対応する領域が屈曲領域１０Ｃとなる。隙間１２Ａの幅は、３００ｎｍ以上１０ｍｍ以
下が好ましい。隙間１２Ａの幅が３００ｎｍ以上であれば、強化部１２が光学フィルム１
０の折り畳み際に阻害せず、スムーズに折り畳むことができ、また隙間１２Ａの幅が１０
ｍｍ以下であれば、強化部１２が存在する領域が多くなるので、耐衝撃性をより向上させ
ることができる。
From the viewpoint of ease of folding the
The area corresponding to the
0, the folding can be smoothly performed without being hindered, and the width of the
If the thickness is equal to or less than mm, the area in which the reinforced
強化部１２を構成する材料としては、ガラス、アクリル系樹脂、無機（シリカ）有機ハ
イブリット樹脂等が挙げられる。これらの中でも、屈折率や厚みの調整の容易さおよび加
工の容易さの観点からアクリル系樹脂が好ましい。
Examples of materials constituting the reinforced
＜＜樹脂層＞＞
樹脂層１３は、樹脂を含む層である。樹脂層１３は、樹脂基材１１の第１の面１１Ａ側
に設けられ、強化部１２の少なくとも一部は樹脂層１３で覆われている。図１においては
、強化部１２における樹脂基材１１側の面以外の面が樹脂層１３によって覆われている。
すなわち、強化部１２間の隙間１２Ａにも樹脂層１３の一部が入り込んでおり、強化部１
２の側面は樹脂層１３で覆われている。樹脂層は、２以上の樹脂層からなる多層構造とな
っていてもよい。
<<Resin layer>>
The
That is, a part of the
The side surface of the support 2 is covered with a
樹脂層１３は、強化部１２の形状が視認されるのを抑制する機能を有することが好まし
い。具体的には、強化部１２と樹脂層１３の屈折率差の絶対値は、それぞれ０．０２以下
であることが好ましい。光学フィルム１０中に複数の強化部１２を配置すると、強化部１
２の形状が視認されるおそれがあるが、強化部１２と樹脂層１３の屈折率差が０．０２以
下であれば、強化部１２の形状が視認されにくくなる。強化部１２の屈折率は、強化部１
２の欠片を切り出し等により１０個取り出し、取り出した１０個の欠片において、ベッケ
法により強化部１２の屈折率をそれぞれ測定し、測定した強化部１２の屈折率の１０個の
平均値として求めることができる。ベッケ法とは、屈折率が既知の屈折率標準液を用い、
上記欠片をスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に屈折率標準液を滴下し、屈折率
標準液で欠片を浸漬し、その様子を顕微鏡観察によって観察し、強化部の表面と屈折率標
準液の屈折率が異なることによって強化部の表面に生じる輝線（ベッケ線）が目視で観察
できなくなる屈折率標準液の屈折率を、強化部の屈折率とする方法である。また、樹脂層
１３の屈折率も、強化部１２の屈折率と同様の方法によって求めるものとする。強化部１
２と樹脂層１３の屈折率差は０．０１以下であることがより好ましく、０であることが最
も好ましい。
The
However, if the difference in refractive index between the reinforced
Ten pieces of the sample No. 2 are taken out by cutting or the like, and the refractive index of the reinforced
The above-mentioned piece is placed on a slide glass or the like, a refractive index standard solution is dropped onto the sample, the piece is immersed in the refractive index standard solution, and the state is observed under a microscope. The refractive index of the refractive index standard solution at which bright lines (Becke lines) appearing on the surface of the reinforced part due to the difference in refractive index between the surface of the reinforced part and the refractive index standard solution cannot be visually observed is determined as the refractive index of the reinforced part. The refractive index of the
The difference in refractive index between the
強化部１２が存在している領域においては、優れた耐衝撃性を得ることができるが、強
化部１２が存在していない強化部１２間の隙間１２Ａにおいては、耐衝撃性に劣るおそれ
がある。このため、強化部１２間の隙間１２Ａの耐衝撃性を向上させるために、樹脂層１
３は、耐衝撃性を有する層であることが好ましい。樹脂層１３が耐衝撃性を有する場合、
樹脂層１３における２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾
性率Ｇ´が、１ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下となっていることが好ましい。樹脂層１３
の剪断貯蔵弾性率Ｇ´が１ＭＰ以上であれば、光学フィルム１０の表面１０Ａに衝撃が加
わった際に、光学フィルム自体の変形のみならず、光学フィルムよりも画像表示装置の内
部に粘着層が配置されている場合であっても粘着層の塑性変形をより抑制することができ
る。また、樹脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´が１５００ＭＰａ以下であれば、折り畳みの
際の光学フィルムの割れをより抑制できる。樹脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´の下限は、
１００ＭＰａ以上、２００ＭＰａ以上、または３００ＭＰａ以上となっていることがより
好ましく、樹脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´の上限は、１２００ＭＰａ以下、１０００Ｍ
Ｐａ以下、または８００ＭＰａ以下となっていることがより好ましい。このような上限と
することで、折り畳んで静置し、再び開いた際に、良好な復元性を得ることができる。
In the region where the reinforced
It is preferable that the resin layer 3 is a layer having impact resistance. When the
The
If the shear storage modulus G' of the
More preferably, the shear storage modulus G' of the
By setting the upper limit in this range, good restoring properties can be obtained when the sheet is folded, left to stand, and then opened again.
樹脂層１３においては、２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断
損失弾性率Ｇ´´が、０．１ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下となっていることが好ましい。
樹脂層１３の剪断損失弾性率Ｇ´´が０．１ＭＰａ以上であれば、衝撃吸収性能をより得
ることができる。また、樹脂層１３の剪断損失弾性率Ｇ´´が２００ＭＰａ以下であれば
、樹脂層１３の硬度が低下するおそれもない。樹脂層１３の剪断損失弾性率Ｇ´´の下限
は、１ＭＰａ以上、１０ＭＰａ以上、または３０ＭＰａ以上となっていることが好ましく
、また樹脂層１３の剪断損失弾性率Ｇ´´の上限は、樹脂層１３の薄型化の観点から、１
５０ＭＰａ以下、１３０ＭＰａ以下、または１００ＭＰａ以下となっていることがより好
ましい。
The
If the shear loss modulus G'' of the
It is more preferable that the pressure is 50 MPa or less, 130 MPa or less, or 100 MPa or less.
樹脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、動的粘弾性測定装置
（ＤＭＡ）によって測定することができる。動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって、樹
脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する際には、まず、１
０ｍｍ×５ｍｍの大きさに切り出した長方形状の光学フィルム１０を２枚準備し、動的粘
弾性測定装置（製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム製）のオプションであ
る固体剪断用治具に取り付ける。具体的には、図５に示されるように固体剪断用治具３０
は、厚さ１ｍｍの１枚の金属製の固体剪断板３１と、この固体剪断板３１の両側に配置さ
れた２つのＬ型金具３２を備えており、固体剪断板３１と一方のＬ型金具３２との間で一
方の光学フィルム１０を挟み、かつ固体剪断板３１と他方のＬ型金具３２で他方の光学フ
ィルム１０を挟む。この場合、樹脂層１３が固体剪断板３１側となり、ハードコート層１
４がＬ型金具３２側となるように光学フィルム１０を挟む。そして、ビス３３でＬ型金具
３２間を締めて、光学フィルム１０を固定する。次いで、動的粘弾性測定装置（製品名「
Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム製）に、上部チャックおよび下部チャックから
なる引張り試験用チャックを取り付けた後、上部チャックと下部チャックの間に固体剪断
用治具をチャック間距離２０ｍｍで取り付ける。チャック間距離は、上部チャックと下部
チャックの間の距離である。そして設定温度を２５℃とし２℃／ｍｉｎで昇温させる。こ
の状態で、固体剪断板を固定しながら２つのＬ型金具に歪み量１％かつ周波数５００Ｈｚ
以上１０００Ｈｚ以下の範囲の縦振動を与えながら、２５℃での固体の動的粘弾性測定を
行い、樹脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する。ここで
、光学フィルム１０は、樹脂層１３以外にも樹脂基材１１、強化部１２やハードコート層
１４を含むものであるが、樹脂基材１１、強化部１２やハードコート層１４は樹脂層１３
よりも硬いので、樹脂基材１１、強化部１２やハードコート層１４の影響は無視すること
ができる。このため、光学フィルム１０が、樹脂層１３以外に、樹脂基材１１、強化部１
２やハードコート層１４を含んでいたとしても、光学フィルム１０から測定された剪断貯
蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、樹脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪
断損失弾性率Ｇ´´とみなすことができる。樹脂層１３における５００Ｈｚ以上１０００
Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、Ｌ型金具３
２に周波数５００Ｈｚ、７５０Ｈｚ、９５０Ｈｚの縦振動をそれぞれ与えて、それぞれの
周波数において樹脂層１３の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定し、
これらの剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´の算術平均値を求め、さらに、
この測定を３回繰り返し、それぞれ得られた３つの算術平均値をさらに算術平均した値と
する。なお、上記において、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域としたのは、こ
の周波数域の周波数が、数ｃｍの高さから物体を自由落下させたときに、光学フィルムの
表面が数ミクロンから数十ミクロン変形する周波数であり、かつ光学フィルムより画像表
示装置の内部に存在する表示パネル等に損傷を与える周波数であるからである。
The shear storage modulus G' and the shear loss modulus G'' of the
Two rectangular
The apparatus includes one metallic
The
A tensile test chuck consisting of an upper chuck and a lower chuck is attached to a tester (Rheogel-E4000, manufactured by UBM Co., Ltd.), and then a solid shearing jig is attached between the upper chuck and the lower chuck with a chuck distance of 20 mm. The chuck distance is the distance between the upper chuck and the lower chuck. The set temperature is 25°C and the temperature is increased at a rate of 2°C/min. In this state, while the solid shear plate is fixed, two L-shaped metal fittings are attached to the tester with a distortion amount of 1% and a frequency of 500 Hz.
While applying vertical vibration in the range of 1000 Hz to 1,000 Hz, dynamic viscoelasticity measurement of the solid is performed at 25° C. to measure the shear storage modulus G′ and shear loss modulus G″ of the
Since the
Even if the
The shear storage modulus G' and shear loss modulus G'' in the frequency range of 3 Hz or less are
2 was subjected to longitudinal vibrations of frequencies of 500 Hz, 750 Hz, and 950 Hz, respectively, and the shear storage modulus G' and the shear loss modulus G'' of the
The arithmetic mean values of the shear storage modulus G' and the shear loss modulus G'' are calculated, and further
This measurement is repeated three times, and the three arithmetic average values obtained are further averaged to obtain the arithmetic average value. Note that the reason why the frequency range is set to 500 Hz or more and 1000 Hz or less in the above is that this frequency range is a frequency at which the surface of the optical film deforms by several microns to several tens of microns when an object is allowed to fall freely from a height of several centimeters, and is a frequency at which the optical film causes damage to a display panel or the like present inside the image display device.
樹脂層１３の膜厚は、５０μｍ以上６００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂
層１３の膜厚が、５０μｍ以上であれば、樹脂層１３の硬度が低下することもなく、また
６００μｍ以下であれば、膜厚が厚すぎないので、薄型化に適するとともに、加工性が悪
化するおそれもない。本明細書における「樹脂層の膜厚」は、非屈曲領域における樹脂層
の膜厚を意味するものとする。樹脂層の膜厚は、強化部の厚みと同様の方法によって、非
屈曲領域における樹脂層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とす
る。樹脂層１３の下限は５０μｍ以上、１００μｍ以上、２００μｍ以上であることがよ
り好ましく、樹脂層１３の上限は５５０μｍ以下、４５０μｍ以下、３００μｍ以下であ
ることがより好ましい。
The thickness of the
樹脂層１３を構成する樹脂としては、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系ゲ
ル、ウレタン系ゲル、シリコーン系ゲル等が挙げられる。これらの中でも、ウレタン系樹
脂やアクリル系ゲルが好ましい。「ゲル」とは、一般に、高粘度で流動性を失った分散系
をいう。なお、樹脂層１３は、アクリル系ゲルやウレタン系樹脂等の他、ゴムや熱可塑性
エラストマーを含有していてもよい。
Examples of the resin constituting the
（ウレタン系樹脂）
ウレタン系樹脂は、ウレタン結合を有する樹脂である。ウレタン系樹脂としては、電離
放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物や熱硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物等
が挙げられる。これらの中でも、高硬度が得られ、硬化速度も早く量産性に優れる観点か
ら、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
(Urethane resin)
The urethane resin is a resin having a urethane bond. Examples of the urethane resin include a cured product of an ionizing radiation curable urethane resin composition and a cured product of a thermosetting urethane resin composition. Among these, a cured product of an ionizing radiation curable urethane resin composition is preferred from the viewpoints of obtaining high hardness, fast curing speed, and excellent mass productivity.
電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物は、ウレタン（メタ）アクリレートを含んでお
り、熱硬化性ウレタン系樹脂は、ポリオール化合物と、イソシアネート化合物とを含んで
いる。ウレタン（メタ）アクリレート、ポリオール化合物、およびイソシアネート化合物
は、モノマー、オリゴマー、およびプレポリマーのいずれであってもよい。
The ionizing radiation curable urethane resin composition contains a urethane (meth)acrylate, and the thermosetting urethane resin contains a polyol compound and an isocyanate compound. The urethane (meth)acrylate, the polyol compound, and the isocyanate compound may be any one of a monomer, an oligomer, and a prepolymer.
ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数（官能基数）は、２以
上４以下であることが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイ
ル基の数が、２未満であると、鉛筆硬度が低くなるおそれがあり、また４を超えると、硬
化収縮が大きくなり、光学フィルムがカールしてしまい、また折り曲げ時に樹脂層にクラ
ックが入るおそれがある。ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の
数の上限は、３以下であることがより好ましい。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは
、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
The number of (meth)acryloyl groups (functional group number) in the urethane (meth)acrylate is preferably 2 or more and 4 or less. If the number of (meth)acryloyl groups in the urethane (meth)acrylate is less than 2, the pencil hardness may be low, and if it exceeds 4, the curing shrinkage may be large, the optical film may curl, and the resin layer may crack when folded. The upper limit of the number of (meth)acryloyl groups in the urethane (meth)acrylate is more preferably 3 or less. The term "(meth)acryloyl group" includes both "acryloyl group" and "methacryloyl group".
ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、１５００以上２００００以下であ
ることが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量が、１５００未満で
あると、耐衝撃性が低下するおそれがあり、また２００００を超えると、電離放射線硬化
性ウレタン系樹脂組成物の粘度が上昇し、塗工性が悪化するおそれがある。ウレタン（メ
タ）アクリレートの重量平均分子量の下限は２０００以上であることがより好ましく、上
限は１５０００以下であることがより好ましい。
The weight average molecular weight of the urethane (meth)acrylate is preferably 1500 or more and 20000 or less. If the weight average molecular weight of the urethane (meth)acrylate is less than 1500, the impact resistance may decrease, and if it exceeds 20000, the viscosity of the ionizing radiation curable urethane resin composition may increase, resulting in poor coatability. The lower limit of the weight average molecular weight of the urethane (meth)acrylate is more preferably 2000 or more, and the upper limit is more preferably 15000 or less.
また、ウレタン（メタ）アクリレート由来の構造を有する繰り返し単位としては、例え
ば、下記一般式（２５）、（２６）、（２７）または（２８）で表される構造等が挙げら
れる。
又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ９は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１０は、水素原子
、メチル基又はエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
Examples of the repeating unit having a structure derived from a urethane (meth)acrylate include structures represented by the following general formula (25), (26), (27) or (28).
又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ９は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１０は、水素原子
、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ９は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１０は、水素原子
、メチル基又はエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ９は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１０は、水素原子
、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
（アクリル系ゲル）
アクリル系ゲルとしては、粘着剤などに用いられている、アクリル酸エステルを含むモ
ノマーを重合してなるポリマーであれば種々のものを使用することができる。具体的には
、アクリル系ゲルとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ
）アクリレート、ｉ－プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート
、ｉ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘ
キシル（メタ）アクリレート、ｎ－アミル（メタ）アクリレート、ｉ－アミル（メタ）ア
クリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ｉ－オクチル（メタ）アクリレート、ｉ－
ミリスチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アク
リレート、ｉ－ノニル（メタ）アクリレート、ｉ－デシル（メタ）アクリレート、トリデ
シル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｉ－ステアリル（メタ）
アクリレート等のアクリル系モノマーを重合または共重合したものを用いることができる
。本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタク
リレート」の両方を含む意味である。なお、上記（共）重合する際に使用するアクリル酸
エステルは、単独で用いる他、２種類以上併用してもよい。
(Acrylic gel)
As the acrylic gel, various polymers can be used as long as they are polymers obtained by polymerizing a monomer containing an acrylic acid ester, which is used in adhesives, etc. Specifically, as the acrylic gel, for example, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, i-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-amyl (meth)acrylate, i-amyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, i- ...
Myristyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, i-nonyl (meth)acrylate, i-decyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, i-stearyl (meth)
A polymer or copolymer of an acrylic monomer such as acrylate can be used. In this specification, "(meth)acrylate" means both "acrylate" and "methacrylate". The acrylic acid ester used in the (co)polymerization may be used alone or in combination of two or more kinds.
なお、樹脂層１３を構成する樹脂が、どのような構造の高分子鎖（繰り返し単位）によ
って形成されているかは、例えば、熱分解ＧＣ－ＭＳ及びＦＴ－ＩＲによって樹脂層１３
を分析することによって判断可能である。特に、熱分解ＧＣ－ＭＳは、樹脂層１３に含ま
れる単量体単位をモノマー成分として検知できるため有用である。
The structure of the polymer chain (repeating unit) of the resin constituting the
In particular, pyrolysis GC-MS is useful because it can detect monomer units contained in the
樹脂層１３は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子および／または有
機粒子等を含んでいてもよい。紫外線吸収剤等は、ハードコート層１４の欄で説明した紫
外線吸収剤等と同様のものが使用できるので、ここでは説明を省略するものとする。
The
＜＜接着層＞＞
接着層１７は、強化部１２を樹脂基材１１に貼り付けるためのものである。本明細書に
おける「接着層」とは、粘着層を含む概念である。接着層１７としては、例えば、ＯＣＲ
(Optically Clear Resin）のような重合性化合物を含む液状の硬化性接着層用組成物の硬
化物やＯＣＡ(Optical Clear Adhesive）のような粘着シートが挙げられる。
<<Adhesive layer>>
The
Examples of such adhesive sheets include a cured product of a liquid composition for a curable adhesive layer containing a polymerizable compound such as Optically Clear Resin (OCA) and an adhesive sheet such as Optical Clear Adhesive (OCA).
＜＜光学フィルムの製造方法＞＞
光学フィルム１０は、以下のようにして作製することができる。まず、樹脂基材１１の
第２の面１１Ｂ上に、バーコーター等の塗布装置によって、第１のハードコート層用組成
物を塗布して、第１のハードコート層用組成物の塗膜を形成する。
<<Method of Manufacturing Optical Film>>
The
＜第１のハードコート層用組成物＞
第１のハードコート層用組成物は、第１のハードコート層１５を形成するための重合性
化合物を含んでいる。第１のハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線
吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶剤、重合開始剤を含ん
でいてもよい。
<First hard coat layer composition>
The composition for the first hard coat layer contains a polymerizable compound for forming the first
（溶媒）
上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプ
ロパノール、ｎ－ブタノール、ｓ－ブタノール、ｔ－ブタノール、ベンジルアルコール、
ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプ
タノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール）、エステル（酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル
、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水
素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベン
ゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ－メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン）、エーテルアルコール（例、１－メトキシ－２－プロパノール）、カーボネ
ート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）、等が挙げられる。これらの溶
媒は、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶媒と
しては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散
させ、第１のハードコート層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン
、メチルエチルケトンが好ましい。
(solvent)
Examples of the solvent include alcohols (e.g., methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol,
PGME, ethylene glycol, diacetone alcohol), ketones (e.g., acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, heptanone, diisobutyl ketone, diethyl ketone, diacetone alcohol), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, methyl formate, PGMEA), aliphatic hydrocarbons (e.g., hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (e.g., methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (e.g., benzene, toluene, xylene), amides (e.g., dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone), ethers (e.g., diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol), carbonates (dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate), and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone are preferred as the solvent, since they can dissolve or disperse components such as urethane (meth)acrylate and other additives and can suitably coat the composition for the first hard coat layer.
（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重
合（架橋）を開始または進行させる成分である。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is a component that is decomposed by irradiation with ionizing radiation to generate radicals and initiate or advance the polymerization (crosslinking) of a polymerizable compound.
重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが
可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用
いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラー
ベンゾイルベンゾエート、α－アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェ
ノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、
光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ－ブチルア
ミン、トリエチルアミン、ポリ－ｎ－ブチルホスフィン等が挙げられる。
The polymerization initiator is not particularly limited as long as it is capable of releasing a substance that initiates radical polymerization upon exposure to ionizing radiation. The polymerization initiator is not particularly limited, and known initiators can be used. Specific examples include acetophenones, benzophenones, Michler's benzoyl benzoate, α-amyloxime ester, thioxanthones, propiophenones, benzils, benzoins, and acylphosphine oxides.
It is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.
第１のハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例え
ば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間～１２０秒間加熱することにより乾燥させ、
溶剤を蒸発させる。
After forming a coating film of the composition for the first hard coat layer, the coating film is dried by various known methods, for example, by heating at a temperature of 30° C. or higher and 120° C. or lower for 10 to 120 seconds;
The solvent is evaporated.
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を半硬化（ハーフ
キュア）させる。本明細書における「半硬化」とは、電離放射線をさらに照射すると硬化
が実質的に進行することを意味する。ただし、この段階で、塗膜を完全硬化（フルキュア
）させてもよい。本明細書における「完全硬化」とは、これ以上電離放射線を照射しても
硬化が実質的に進行しないことを意味する。
After drying the coating film, the coating film is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet light to semi-cure the coating film. In this specification, "semi-cure" means that further irradiation with ionizing radiation will substantially advance the curing. However, the coating film may be completely cured (fully cured) at this stage. In this specification, "completely cured" means that further irradiation with ionizing radiation will not substantially advance the curing.
塗膜を半硬化させた後、塗膜上に、バーコーター等の塗布装置によって、第２のハード
コート層１６を形成するための第２のハードコート層用組成物を塗布して、第２のハード
コート層用組成物の塗膜を形成する。
After the coating film is semi-cured, a composition for forming a second
＜第２のハードコート層用組成物＞
第２のハードコート層用組成物は、第２のハードコート層１６を形成するための重合性
化合物を含んでいる。第２のハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線
吸収剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。第２のハードコート層用組成物は、第１
のハードコート層用組成物と同様に、総固形分が２５～５５％であることが好ましい。溶
剤および重合開始剤は、第１のハードコート層用組成物で説明した溶剤および重合開始剤
と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
<Composition for second hard coat layer>
The composition for the second hard coat layer contains a polymerizable compound for forming the second
The total solid content is preferably 25 to 55%, similarly to the composition for
第２のハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を例えば
３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間～１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶
剤を蒸発させる。
After forming a coating film of the composition for the second hard coat layer, the coating film is dried by heating, for example, at a temperature of 30° C. or higher and 120° C. or lower for 10 to 120 seconds by various known methods to evaporate the solvent.
塗膜を乾燥させた後、第２のハードコート層用組成物の塗膜に紫外線等の電離放射線を
照射して、第１のハードコート層用組成物の塗膜および第２のハードコート層用組成物の
塗膜を完全硬化（フルキュア）させて、第１のハードコート層１５および第２のハードコ
ート層１６を形成して、ハードコート層１４を得る。
After drying the coating film, the coating film of the composition for the second hard coat layer is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet light to completely cure the coating film of the composition for the first hard coat layer and the coating film of the composition for the second hard coat layer, thereby forming a first
ハードコート層１４を形成した後、樹脂基材１１の第１の面１１Ａに、接着層１７を介
して平面状に強化部１２を配置する。強化部１２を配置した後、バーコーター等の塗布装
置によって、強化部１２の上から樹脂層１３を形成するための樹脂層用組成物を塗布して
、樹脂層用組成物の塗膜を形成した後、塗膜を硬化させることによって樹脂層１３を形成
する。これにより、光学フィルム１０を得ることができる。
After the
＜樹脂層用組成物＞
樹脂層がウレタン系樹脂からなる場合には、例えば、樹脂層用組成物は、上記ウレタン
樹脂の欄で説明した電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物を用いることができる。
<Resin Layer Composition>
When the resin layer is made of a urethane-based resin, for example, the ionizing radiation-curable urethane-based resin composition described above in the section on urethane resins can be used as the resin layer composition.
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１０は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能で
ある。図６は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図６に示されるよう
に、画像表示装置４０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体４１、保護
フィルム４２、表示パネル４３、円偏光板４４、タッチセンサ４５、および光学フィルム
１０がこの順で積層されている。表示パネル４３と円偏光板４４との間、円偏光板４４と
タッチセンサ４５との間、タッチセンサ４５と光学フィルム１０との間には、光透過性を
有する粘着層４６が配置されており、これら部材は粘着層４６によって互いに固定されて
いる。なお、粘着層４６は、表示パネル４３と円偏光板４４との間、円偏光板４４とタッ
チセンサ４５との間、タッチセンサ４５と光学フィルム１０との間に配置されているが、
粘着層の配置箇所は、光学フィルムと表示パネルとの間であれば、特に限定されない。
<<<Image display device>>>
The
The location of the adhesive layer is not particularly limited as long as it is between the optical film and the display panel.
光学フィルム１０は、樹脂基材１１が強化部１２よりも観察者側となるように配置され
ている。画像表示装置４０においては、光学フィルム１０のハードコート層１４の表面１
４Ａ（第２のハードコート層１６の表面）が、画像表示装置４０の表面４０Ａを構成して
いる。なお、光学フィルム１０は、強化部１２が樹脂基材１１よりも観察者側となるよう
に配置されていてもよい。
The
4A (the surface of the second hard coat layer 16) constitutes a
画像表示装置４０においては、表示パネル４３は、有機発光ダイオード等を含む有機発
光ダイオードパネルとなっている。円偏光板４４は、タッチセンサ４５よりも表示パネル
４３側に配置されているが、タッチセンサ４５と光学フィルム１０との間に配置されてい
てもよい。また、タッチセンサ４５は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。
In the
粘着層４６としては、例えば、ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive)を用いることができる
が、耐衝撃性を向上させて、表示パネル４３の損傷を防ぐ観点から、上記アクリル系ゲル
からなる粘着層を用いることが好ましい。なお、粘着層４６に上記アクリル系ゲルからな
る粘着層を用いる場合、表示パネル４３と円偏光板４４との間、円偏光板４４とタッチセ
ンサ４５との間、タッチセンサ４５と光学フィルム１０との間の少なくともいずれかに上
記粘着層を配置すればよい。また、上記アクリル系ゲルは粘着性があるので、樹脂層１３
が上記アクリル系ゲルからなる場合には、タッチセンサ４５と光学フィルム１０との間に
粘着層４６を設けなくとも、タッチセンサ４５に直接樹脂層１３を貼り付けることによっ
て、タッチセンサ４５と光学フィルム１０を固定することができる。
The
When the
本実施形態によれば、厚みがそれぞれ１５０μｍ以上であり、かつマルテンス硬さがそ
れぞれ３０ＭＰａ以上の複数の強化部１２を備えているので、強化部１２に対応する領域
である非屈曲領域１０Ｄにおいて、優れた耐衝撃性を得ることができる。すなわち、強化
部の厚みが厚くても、強化部のマルテンス硬さが低い場合には、柔らか過ぎてしまい、優
れた耐衝撃性が得らないおそれがあり、また強化部のマルテンス硬さが高くても、強化部
の厚みが薄い場合には、衝撃が加わると、瞬間的に変形してしまうので、優れた衝撃性が
得られないおそれがある。これに対し、本実施形態においては、強化部１２は、それぞれ
厚みが１５０μｍ以上と厚く、またそれぞれマルテンス硬さが３０ＭＰａ以上と高いので
、強化部１２に対応する領域である非屈曲領域１０Ｄにおいて優れた耐衝撃性を得ること
ができる。一方、強化部１２間の領域である屈曲領域１０Ｃにおいては、強化部１２は存
在していないので、非屈曲領域１０Ｄより柔らかい。このため、折り畳むことが可能とな
る。これにより良好な折り畳み性を維持しつつ、優れた耐衝撃性を得ることができる。
According to this embodiment, since the multiple reinforced
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの
記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形
分を１００％としたときの値である。
In order to explain the present invention in detail, the following examples are given, but the present invention is not limited to these examples. Note that the "value calculated based on 100% solid content" below is a value when the solid content in the solvent-diluted product is taken as 100%.
＜ハードコート層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た
。
（ハードコート層用組成物１）
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの混合物（製品名「Ｍ４０３」、東亜合成株式会社製）：２５質量部
・ジペンタエリスリトールＥＯ変性ヘキサアクリレート（製品名「Ａ－ＤＰＨ－６Ｅ」、
新中村化学工業株式会社製）：２５質量部
・異形シリカ粒子（平均粒子径２５ｎｍ、日揮触媒化成株式会社製）：５０質量部（固形
分１００％換算値）
・光重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕ
ｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・フッ素系レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）：０．２質量部（固
形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
<Preparation of hard coat layer composition>
First, the components were mixed so as to obtain the composition shown below to obtain a composition for a hard coat layer.
(Hardcoat layer composition 1)
Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (product name "M403", manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.): 25 parts by mass Dipentaerythritol EO-modified hexaacrylate (product name "A-DPH-6E",
Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: 25 parts by mass Non-circular silica particles (
Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacu
"re (registered trademark) 184" manufactured by BASF Japan Co., Ltd.): 4 parts by mass; Fluorine-based leveling agent (product name "F568" manufactured by DIC Corporation): 0.2 parts by mass (based on 100% solid content)
Methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 parts by mass
（ハードコート層用組成物２）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＸ５０００」、日本化薬株式会社製）：２５質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの混合物（製品名「Ｍ４０３」、東亜合成株式会社製）：５０質量部
・多官能アクリレートポリマー（製品名「アクリット８ＫＸ－０１４」、大成ファインケ
ミカル株式会社製）：２５質量部（固形分１００％換算値）
・防汚剤（製品名「ＢＹＫＵＶ３５００」、ビックケミー社製）：１．５質量部（固形分
１００％換算値）
・光重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕ
ｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
(Hardcoat layer composition 2)
Urethane acrylate (product name "UX5000", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 25 parts by mass Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (product name "M403", manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.): 50 parts by mass Multifunctional acrylate polymer (product name "Acrylit 8KX-014", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.): 25 parts by mass (based on 100% solids)
Antifouling agent (product name "BYKUV3500", manufactured by BYK-Chemie): 1.5 parts by mass (based on 100% solids)
Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacu
"re (registered trademark) 184" manufactured by BASF Japan Co., Ltd.): 4 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 parts by mass
＜樹脂層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、樹脂層用組成物を得た。
（樹脂層用組成物１）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ３３１０Ｂ」、日本合成化学社製、２官能）：８
５質量部
・フェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学工業社
製）：５質量部
・トリペンタエリスリトールアクリレート、モノおよびジペンタエリスリトールアクリレ
ート、ならびにポリメンタエリスリトールアクリレートの混合物（製品名「ビスコート＃
８０２」、大阪有機化学工業社製）：１０質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒ
ｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
<Preparation of Resin Layer Composition>
The components were mixed so as to obtain the composition shown below, thereby obtaining a composition for a resin layer.
(Resin layer composition 1)
Urethane acrylate (product name "UV3310B", manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., bifunctional): 8
5 parts by weight of phenoxyethyl acrylate (product name "Viscoat #192", manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.); 5 parts by weight of a mixture of tripentaerythritol acrylate, mono- and dipentaerythritol acrylate, and polymenthaerythritol acrylate (product name "Viscoat #
Polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacur 802", manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.): 10 parts by mass
BASF (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.): 5 parts by mass Methyl isobutyl ketone: 10 parts by mass
（樹脂層用組成物２）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ３３１０Ｂ」、日本合成化学社製、２官能）：８
５質量部
・フェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学工業社
製）：１５質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒ
ｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
(Resin layer composition 2)
Urethane acrylate (product name "UV3310B", manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., bifunctional): 8
5 parts by weight of phenoxyethyl acrylate (product name "Viscoat #192", manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.): 15 parts by weight of polymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Irgacur
BASF (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.): 5 parts by mass Methyl isobutyl ketone: 10 parts by mass
＜実施例１＞
樹脂基材として、縦２００ｍｍ×横２００ｍｍの大きさおよび厚み５０μｍのポリイミ
ド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社製）を準備し、ポリイミド基材の
一方の面である第２の面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を
形成した。なお、上記ネオプリム（登録商標）は、ポリイミドフィルムとして市販されて
いるものであった。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることによ
り塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会
社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２にな
るように照射して塗膜を半硬化（ハーフキュア）させた。次いで、半硬化させたハードコ
ート層用組成物１の塗膜の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物２を塗布し、
塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の
溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光源
Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が２０
０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を完全硬化（フルキュア）させた。これにより
、ポリイミド基材上に、膜厚が１０μｍの第１のハードコート層と、第１のハードコート
層上に積層された膜厚が５μｍの第２のハードコート層とからなるハードコート層を形成
した。そして、ポリイミド基材における第２の面とは反対側の第１の面に、縦２００ｍｍ
×横９５ｍｍの大きさおよび厚み４００μｍのガラス板からなる２枚の強化部を強化部間
の隙間が２．５ｍｍとなるように膜厚２５μｍの接着層（製品名「８１４６－１」、３Ｍ
ジャパン株式会社製）を介して平面状に配置した。その後、ガラス板の上からバーコータ
ーで樹脂層用組成物１を塗布して、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、７
０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージ
ョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積
算光量が１２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、膜厚５００μｍ
のウレタン系樹脂からなる樹脂層を形成して、光学フィルムを得た。
Example 1
As a resin substrate, a polyimide substrate (product name "Neoprim", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) having a size of 200 mm long x 200 mm wide and a thickness of 50 μm was prepared, and the hard
The formed coating film was heated at 70° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and ultraviolet rays were irradiated using an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb) under conditions of an oxygen concentration of 200 ppm or less with an integrated light amount of 20
The coating was completely cured (fully cured) by irradiating the coating with a dose of 100 mJ/ cm2 . As a result, a hard coat layer was formed on the polyimide substrate, which consisted of a first hard coat layer having a thickness of 10 μm and a second hard coat layer having a thickness of 5 μm laminated on the first hard coat layer. Then, a 200 mm long sheet was applied to the first surface of the polyimide substrate opposite to the second surface.
The two reinforced parts of the glass plates, each measuring 95 mm wide and 400 μm thick, were bonded to a 25 μm thick adhesive layer (product name "8146-1", 3M) so that the gap between the reinforced parts was 2.5 mm.
The glass plate was then placed on a flat surface via a glass plate (manufactured by Japan Co., Ltd.). Then, the
The solvent in the coating film was evaporated by heating at 0°C for 1 minute, and the coating film was cured by irradiating it with ultraviolet light in the air using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb) so that the accumulated light amount was 1200 mJ/ cm2.
A resin layer made of the urethane resin was formed to obtain an optical film.
上記強化部の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、強化部の断面を撮影し、
その断面の画像において強化部の厚みを２０箇所測定し、その２０箇所の厚みの算術平均
値とした。具体的な断面写真の撮影方法は以下の通りとした。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに
切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックか
ら一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の
切片を切り出した。切片の作製には、ライカ マイクロシステムズ株式会社のウルトラミ
クロトーム ＥＭ ＵＣ７を用いた。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された
残りのブロックを測定サンプルとした。その後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「
Ｓ－４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写
真を撮影した。上記Ｓ－４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」
、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行った。倍
率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観
察しながら１００～１０万倍で適宜調節した。さらに、ビームモニタ絞りを「３」にし、
対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。ポリイミド基材および
樹脂層の厚みも強化部の厚みと同様の手法によって測定した。実施例２～５および比較例
１～５においても、実施例１と同様の手法によってポリイミド基材および強化部の厚み、
ならびに樹脂層の膜厚を測定した。
The thickness of the reinforced portion was measured by photographing a cross section of the reinforced portion using a scanning electron microscope (SEM),
The thickness of the reinforced portion was measured at 20 points in the cross-sectional image, and the arithmetic average value of the thicknesses at the 20 points was taken. The specific method for taking the cross-sectional photograph was as follows. First, a block was prepared by embedding an optical film cut to 1 mm x 10 mm in embedding resin, and a uniform slice having a thickness of 70 nm to 100 nm and no holes was cut out from this block using a general slice preparation method. An ultramicrotome EM UC7 made by Leica Microsystems was used to prepare the slices. The remaining block from which the uniform slices without holes were cut out was used as the measurement sample. After that, the measurement was performed using a scanning electron microscope (SEM) (product name "
A cross-sectional photograph of the measurement sample was taken using the S-4800 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). When taking a cross-sectional photograph using the S-4800, the detector was set to "SE".
The cross-section was observed with the acceleration voltage set to "5 kV" and the emission current set to "10 μA". The magnification was adjusted appropriately from 100 to 100,000 times while adjusting the focus and observing whether the contrast and brightness of each layer could be distinguished. Furthermore, the beam monitor aperture was set to "3",
The objective lens aperture was set to "3" and the WD was set to "8 mm." The thicknesses of the polyimide substrate and the resin layer were also measured in the same manner as the thickness of the reinforced portion. In Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 5, the thicknesses of the polyimide substrate and the reinforced portion,
In addition, the thickness of the resin layer was measured.
ハードコート層の厚みは、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ－４８００
」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、そ
の断面の画像においてハードコート層の厚みを２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算
術平均値とした。ハードコート層の断面写真は、以下のようにして撮影した。まず、１ｍ
ｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、
このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１
００ｎｍ以下の切片を切り出した。切片の作製には、ライカ マイクロシステムズ株式会
社のウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７を用いた。そして、この穴等がない均一な切片
を測定サンプルとした。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、測定サン
プルの断面写真を撮影した。この断面写真の撮影の際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧
を「３０ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にしてＳＴＥＭ観察を行った。倍率に
ついては、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察し
ながら５０００倍～２０万倍で適宜調節した。なお、断面写真の撮影の際には、さらに、
ビームモニタ絞りを「３」にし、対物レンズ絞りを「３」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ
」にした。実施例２～５および比較例１～５においても、実施例１と同様の手法によって
ハードコート層の膜厚を測定した。
The thickness of the hard coat layer was measured using a scanning transmission electron microscope (STEM) (product name: S-4800
The cross section of the hard coat layer was photographed using a 1 mm thick film thickness measuring instrument (Hitachi High-Technologies Corporation), and the thickness of the hard coat layer was measured at 20 points on the cross section image, and the arithmetic average value of the film thicknesses at the 20 points was recorded. The cross section photograph of the hard coat layer was taken as follows.
The optical film was cut into a size of 10 mm x 10 mm and embedded in an embedding resin to prepare a block.
From this block, a uniform section with a thickness of 70 nm or more without holes was prepared by a general sectioning method.
Sections of less than 100 nm were cut out. A Leica Microsystems EM UC7 ultramicrotome was used to prepare the sections. These uniform sections without holes were used as the measurement sample. A scanning transmission electron microscope (STEM) was then used to take a cross-sectional photograph of the measurement sample. When taking this cross-sectional photograph, STEM observation was performed with the detector set to "TE", the acceleration voltage set to "30 kV", and the emission current set to "10 μA". The magnification was appropriately adjusted from 5,000 to 200,000 times while adjusting the focus and observing whether the contrast and brightness could be distinguished from each other. When taking the cross-sectional photograph,
The beam monitor aperture was set to "3", the objective lens aperture was set to "3", and the WD was set to "8 mm".
In Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 5, the thickness of the hard coat layer was measured in the same manner as in Example 1.
＜実施例２＞
実施例２においては、ガラス板からなる２枚の強化部の代わりに、縦２００ｍｍ×横９
５ｍｍの大きさおよび厚み４００μｍのアクリル系樹脂板からなる２枚の強化部を用いた
こと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 2
In Example 2, instead of two reinforced parts made of glass plates, a 200 mm long x 9
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that two reinforcing parts each made of an acrylic resin plate having a size of 5 mm and a thickness of 400 μm were used.
＜実施例３＞
実施例３においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物２を用いたこと以
外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 3
In Example 3, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the resin layer composition 2 was used instead of the
＜実施例４＞
実施例４においては、ガラス板からなる２枚の強化部の代わりに、縦２００ｍｍ×横９
５ｍｍの大きさおよび厚み４００μｍの透明ポリビニル系シートからなる２枚の強化部を
用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
Example 4
In Example 4, instead of two reinforced parts made of glass plates, a 200 mm long x 9
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that two reinforcing parts each made of a transparent polyvinyl sheet having a size of 5 mm and a thickness of 400 μm were used.
＜実施例５＞
実施例５においては、縦２００ｍｍ×横９５ｍｍの大きさおよび厚み４００μｍのガラ
ス板からなる２枚の強化部の代わりに、縦２００ｍｍ×横９５ｍｍの大きさおよび厚み２
００μｍの大きさのガラス板からなる２枚の強化部を用いたこと以外は、実施例１と同様
にして、光学フィルムを得た。
Example 5
In Example 5, instead of two reinforced parts made of glass plates each having a size of 200 mm long x 95 mm wide and a thickness of 400 μm, a reinforced part having a size of 200 mm long x 95 mm wide and a thickness of 2
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that two reinforced parts made of glass plates having a size of 0.00 μm were used.
＜比較例１＞
樹脂基材として、縦２００ｍｍ×横２００ｍｍの大きさおよび厚み５０μｍのポリイミ
ド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社製）を準備し、ポリイミド基材の
一方の面である第１の面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を
形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中
の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光
源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように
照射して塗膜を半硬化（ハーフキュア）させた。次いで、半硬化させたハードコート層用
組成物１の塗膜の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形
成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸
発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光源Ｈバルブ
）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が２００ｍＪ／
ｃｍ２になるように照射して塗膜を完全硬化（フルキュア）させた。これにより、ポリイ
ミド基材上に、膜厚が１０μｍの第１のハードコート層と、第１のハードコート層上に積
層された膜厚が５μｍの第２のハードコート層とからなるハードコート層を形成した。そ
の後、ポリイミド基材における第１の面とは反対側の第２の面にバーコーターで樹脂層用
組成物１を塗布して、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間
加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシス
テムジャパン株式会社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１２
００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、膜厚５００μｍのウレタン系
樹脂からなる樹脂層を形成して、光学フィルムを得た。
<Comparative Example 1>
As a resin substrate, a polyimide substrate (product name "Neoplum", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) having a size of 200 mm long x 200 mm wide and a thickness of 50 μm was prepared, and a hard
The coating film was completely cured (fully cured) by irradiating the coating film with a 10 μm thick first hard coat layer and a 5 μm thick second hard coat layer laminated on the first hard coat layer on the polyimide substrate. Then, the
The coating was cured by irradiation at a dose of 1000 mJ/ cm2 to form a resin layer made of a urethane resin having a thickness of 500 μm, thereby obtaining an optical film.
＜比較例２＞
比較例２においては、ガラス板からなる２枚の強化部の代わりに、縦２００ｍｍ×横９
５ｍｍ×厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（製品名「ＴＤ４０ＵＬ」、富
士フイルム株式会社製）からなる２枚の強化部を用いたこと以外は、実施例１と同様にし
て、光学フィルムを得た。
<Comparative Example 2>
In Comparative Example 2, instead of the two reinforced parts made of glass plates,
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that two reinforcing parts made of triacetyl cellulose films (product name "TD40UL", manufactured by Fujifilm Corporation) measuring 5 mm x 40 μm in thickness were used.
＜比較例３＞
比較例３においては、ガラス板からなる２枚の強化部の代わりに、縦２００ｍｍ×横２
００ｍｍの大きさおよび厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（製品名
「Ａ４３００」、東洋紡株式会社製）からなる２枚の強化部を用いたこと以外は、実施例
１と同様にして、光学フィルムを得た。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 3, instead of the two reinforced parts made of glass plates,
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that two reinforced parts made of polyethylene terephthalate films (product name "A4300", manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a size of 100 mm and a thickness of 100 μm were used.
＜比較例４＞
比較例４においては、ガラス板からなる２枚の強化部の代わりに、縦２００ｍｍ×横２
００ｍｍの大きさおよび厚み４００μｍの大きさのガラス板からなる１枚の強化部を用い
たこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
<Comparative Example 4>
In Comparative Example 4, instead of the two reinforced parts made of glass plates,
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that a single reinforced portion made of a glass plate having a size of 0.00 mm and a thickness of 400 μm was used.
＜比較例５＞
比較例５においては、ガラス板からなる２枚の強化部の代わりに、縦２００ｍｍ×横２
００ｍｍの大きさおよび厚み１００μｍの透明粘着層シート（製品名「８１４６」、３Ｍ
ジャパン株式会社製）を２枚重ねて２００μｍとしたシートからなる２枚の強化部を用い
たこと以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
<Comparative Example 5>
In Comparative Example 5, instead of the two reinforced parts made of glass plates,
A transparent adhesive sheet having a size of 0.1 mm and a thickness of 100 μm (product name "8146", 3M
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that two reinforced portions each consisting of a sheet of 200 μm thick polyester (manufactured by Japan Film Co., Ltd.) stacked on top of each other were used.
＜マルテンス硬さ測定＞
実施例１～５および比較例２～５に係る光学フィルムの２枚の強化部のマルテンス硬さ
をそれぞれ測定した。強化部のマルテンス硬さは、Ｂｒｕｋｅｒ社製のＴＩ９５０ Ｔｒ
ｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒを用いて、測定した。具体的には、まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切
り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから
一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切
片を切り出した。切片の作製には、ライカ マイクロシステムズ株式会社のウルトラミク
ロトーム ＥＭ ＵＣ７を用いた。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残
りのブロックを測定サンプルとした。次いで、このような測定サンプルにおける上記切片
が切り出されることによって得られた断面において、圧子としてバーコビッチ圧子（三角
錐、Ｂｒｕｋｅｒ社製のＴＩ－００３９）を用いて、以下の測定条件で、強化部の断面中
央から５００ｎｍ押し込んだ。ここで、バーコビッチ圧子は、強化部の側縁の影響を避け
るために、強化部の両側端からそれぞれ強化部の中央側に５００ｎｍ以上離れた部分に押
し込んだ。その後、一定時間保持して残留応力の緩和を行った後、除荷し、緩和後の最大
荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）
とを用い、Ｐｍａｘ／Ａによりマルテンス硬さを算出した。マルテンス硬さは、１０箇所
測定して得られた値の算術平均値とした。なお、後に示す表１においては、２枚の強化部
のうち一方の強化部を第１の強化部とし、他方の強化部を第２の強化部とした。なお、測
定値の中に算術平均値から±２０％以上外れるものが含まれている場合は、その測定値を
除外し再測定を行うものとした。測定値の中に算術平均値から±２０％以上外れているも
のが存在するか否かは、測定値をＡとし、算術平均値をＢとしたとき、（Ａ－Ｂ）／Ｂ×
１００によって求められる値（％）が±２０％以上であるかによって判断した。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
・相対湿度：５０％
<Martens hardness measurement>
The Martens hardness of the reinforced portions of the two optical films according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2 to 5 was measured. The Martens hardness of the reinforced portions was measured using a TI950 Tr manufactured by Bruker.
The measurement was performed using an iboIndenter. Specifically, first, a block was prepared by embedding an optical film cut to 1 mm x 10 mm in an embedding resin, and a uniform slice having a thickness of 70 nm to 100 nm without holes was cut from this block by a general slice preparation method. An ultramicrotome EM UC7 made by Leica Microsystems was used to prepare the slices. The remaining block from which the uniform slice without holes was cut was used as the measurement sample. Next, in the cross section obtained by cutting out the slice in such a measurement sample, a Berkovich indenter (triangular pyramid, TI-0039 manufactured by Bruker) was used as an indenter to indent 500 nm from the center of the cross section of the reinforced part under the following measurement conditions. Here, the Berkovich indenter was pressed into a portion 500 nm or more away from both ends of the reinforced part toward the center of the reinforced part, respectively, in order to avoid the influence of the side edges of the reinforced part. Thereafter, the specimen was held for a certain period of time to relax the residual stress, and then the load was removed. The maximum load after relaxation was measured, and the maximum load P max (μN) and the area A (nm 2 ) of a dent with a depth of 500 nm were recorded.
and P max /A to calculate the Martens hardness. The Martens hardness was the arithmetic average of the values obtained by measuring at 10 locations. In Table 1 shown later, one of the reinforced parts of the two sheets was designated as the first reinforced part, and the other reinforced part was designated as the second reinforced part. If any of the measured values deviated from the arithmetic average by ±20% or more, that measured value was excluded and remeasured. Whether or not any of the measured values deviated from the arithmetic average by ±20% or more was determined by the following formula: (A-B)/B x A where A is the measured value and B is the arithmetic average value.
The judgement was made based on whether the value (%) calculated by dividing the value by 100 was ±20% or more.
(Measurement condition)
Loading speed: 10 nm/sec. Holding time: 5 sec. Loading/unloading speed: 10 nm/sec. Measurement temperature: 25° C.
Relative humidity: 50%
＜連続折り畳み試験＞
実施例および比較例に係る光学フィルムを３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して
、この切り出した光学フィルムを耐久試験機（製品名「Ｕ字伸縮試験機ＤＬＤＭＬＨ－Ｆ
Ｓ」、ユアサシステム機器株式会社製、ＩＥＣ６２７１５－６－１準拠）に、光学フィル
ムの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図３（Ｃ）に示したように対向する
２つの辺部の最小の間隔φが３０ｍｍとなるようにして取り付け、以下の条件で光学フィ
ルムのハードコート層側の面を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が内
側となり、樹脂層が外側となるように折り畳む試験）を１０万回行い、屈曲部に割れ又は
破断が生じていないか調べた。また、実施例および比較例に係る新しい光学フィルムを、
上記の耐久試験機に、上記と同様に取り付け、以下の条件で光学フィルムのポリイミド基
材側の面を１８０°折り畳む連続折り畳み試験（ハードコート層が外側となり、ポリイミ
ド基材が内側となるように折り畳む試験）を１０万回行い、屈曲部に割れ又は破断が生じ
ていないか調べた。連続折り畳み試験の結果を、以下の基準で評価した。連続折り畳み試
験は、温度２３℃、相対湿度５０％の環境下で行われた。評価基準は、以下の通りとした
。なお、実施例１～５および比較例２、３、５に係る光学フィルムにおいては、強化部間
の隙間である屈曲領域で折り畳まれるように調節された。
（折り畳み条件）
・往復速度：９０ｒｐｍ（回毎分）
・試験ストローク：７０ｍｍ
・屈曲角度：１８０°
（評価基準）
○：いずれの連続折り畳み試験においても、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった
。
×：いずれかの連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていた。
<Continuous folding test>
The optical films according to the examples and comparative examples were cut into pieces of 30 mm x 100 mm in size, and the cut optical films were subjected to a durability test using a U-shaped stretch tester (product name: DLDMLH-F
The short sides (30 mm) of the optical film were fixed to a "S" (Yuasa System Devices Co., Ltd., compliant with IEC 62715-6-1) with fixing parts, and the optical film was attached so that the minimum distance φ between the two opposing sides was 30 mm as shown in FIG. 3(C), and a continuous folding test was performed in which the surface of the hard coat layer side of the optical film was folded 180° under the following conditions (a test in which the hard coat layer was folded on the inside and the resin layer on the outside), 100,000 times, to check for the occurrence of cracks or breaks in the bent parts. In addition, the new optical films according to the examples and comparative examples were
The optical film was attached to the durability tester in the same manner as above, and a continuous folding test (a test in which the hard coat layer was folded on the outside and the polyimide substrate was folded on the inside) was performed 100,000 times under the following conditions, in which the surface of the optical film facing the polyimide substrate was folded 180°, and the occurrence of cracks or breaks in the bent portion was examined. The results of the continuous folding test were evaluated according to the following criteria. The continuous folding test was performed in an environment with a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. The evaluation criteria were as follows. Note that the optical films according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2, 3, and 5 were adjusted so that they were folded in the bent region, which is the gap between the reinforced portions.
(Folding conditions)
Reciprocating speed: 90 rpm (revolutions per minute)
Test stroke: 70 mm
・Bending angle: 180°
(Evaluation criteria)
◯: No cracks or breaks were observed in the bent portion in any of the continuous folding tests.
×: In any of the continuous folding tests, cracks or breaks occurred at the bent portion.
＜耐衝撃性試験＞
厚さ０．７ｍｍのソーダガラスの表面に、ソーダガラス側が樹脂層側となるように実施
例および比較例に係る５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを直接置
き、高さ３０ｃｍの位置から重さ１００ｇ、直径３０ｍｍの鉄球を光学フィルムのハード
コート層の表面に落下させる耐衝撃性試験Ａを各３回行った。また、厚さ０．７ｍｍのソ
ーダガラス上に、ソーダガラス側がポリイミド基材側または樹脂層側となるように実施例
および比較例に係る５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した光学フィルムを、厚み２
００μｍの粘着シート（製品名「高透明性両面テープ ８１４６－２」、３Ｍジャパン株
式会社製）を介して置き、高さ３０ｃｍの位置から重さ１００ｇ、直径３０ｍｍの鉄球を
光学フィルムのハードコート層の表面に落下させる耐衝撃性試験Ｂを各３回行った。なお
、耐衝撃性試験Ａ、Ｂにおいて、鉄球を落下させる位置はその都度変えるものとした。た
だし、実施例１～５および比較例２～５に係る光学フィルムにおいては、強化部に対応す
る領域内に鉄球を落下させるものとした。そして、耐衝撃性試験Ａ後の光学フィルムにお
いて、目視によってハードコート層の表面に凹みが生じているかを評価するとともに、ソ
ーダガラスに割れが生じているか評価した。また、耐衝撃性試験Ｂ後の光学フィルムにお
いて、目視によってハードコート層の表面に凹みが生じているかを評価した。評価結果は
、以下の通りとした。
（ハードコート層の表面の凹み評価）
◎：ハードコート層を正面および斜めから観察した場合の両方において、ハードコート
層の表面に凹みが確認されなかった。
○：ハードコート層を正面および斜めから観察した場合のいずれかにおいて、ハードコ
ート層の表面に凹みが確認されたが、実使用上問題のないレベルであった。
△：ハードコート層を正面から観察した場合にはハードコート層の表面に凹みが観察さ
れなかったが、斜め観察した場合にはハードコート層の表面に凹みが確認された。
×：ハードコート層を正面および斜めから観察した場合の両方において、ハードコート
層の表面に明らかな凹みが観察された。
（ソーダガラスの割れ評価）
◎：ソーダガラスが割れなかった。
○：ソーダガラスに傷が入ったが割れなかった。
△：１～２回ソーダガラスに割れが生じた。
×：３回ともソーダガラスに割れが生じた。
<Impact resistance test>
The optical films cut to a size of 50 mm x 100 mm according to the examples and comparative examples were placed directly on the surface of a 0.7 mm thick soda glass so that the soda glass side was the resin layer side, and an impact resistance test A was performed three times for each case in which an iron ball weighing 100 g and having a diameter of 30 mm was dropped on the surface of the hard coat layer of the optical film from a
The optical film was placed on the hard coat layer of the optical film via a 0.00 μm adhesive sheet (product name: "Highly transparent double-sided tape 8146-2", manufactured by 3M Japan Co., Ltd.), and an iron ball weighing 100 g and having a diameter of 30 mm was dropped from a height of 30 cm on the surface of the hard coat layer of the optical film, and impact resistance test B was performed three times for each test. In the impact resistance tests A and B, the position where the iron ball was dropped was changed each time. However, in the optical films according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2 to 5, the iron ball was dropped into the area corresponding to the reinforced portion. Then, in the optical film after the impact resistance test A, it was visually evaluated whether a dent was formed on the surface of the hard coat layer, and whether cracks were formed in the soda glass. In addition, in the optical film after the impact resistance test B, it was visually evaluated whether a dent was formed on the surface of the hard coat layer. The evaluation results were as follows.
(Evaluation of dents on the surface of the hard coat layer)
⊚: No depressions were found on the surface of the hard coat layer both when the hard coat layer was observed from the front and from an oblique direction.
◯: When the hard coat layer was observed either from the front or from an oblique direction, depressions were found on the surface of the hard coat layer, but were not of a level that would cause any problems in practical use.
Δ: When the hard coat layer was observed from the front, no dents were observed on the surface of the hard coat layer, but when observed obliquely, dents were confirmed on the surface of the hard coat layer.
×: When the hard coat layer was observed from the front and from an oblique angle, obvious depressions were observed on the surface of the hard coat layer.
(Soda glass cracking evaluation)
◎: The soda glass did not break.
○: The soda glass was scratched but did not break.
Δ: The soda glass was cracked once or twice.
x: The soda glass was cracked all three times.
＜鉛筆硬度＞
実施例および比較例に係る光学フィルムの表面（ハードコート層の表面）における鉛筆
硬度を、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－４：１９９９に基づいてそれぞれ測定した。なお、鉛
筆硬度試験は、ハードコート層が上側となるように５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り
出した光学フィルムをガラス板上に配置し、折れやシワがないようニチバン株式会社製の
セロテープ（登録商標）で固定し、光学フィルムの表面に対し鉛筆硬度試験機（製品名「
鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東洋精機製作所製）を用いて、鉛筆
（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に７５０ｇの荷重を加えながら鉛筆を１ｍｍ／
秒の移動速度で移動させることにより行った。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験において光学フ
ィルムの表面に傷が付かなかった最も高い硬度とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、
硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回
のうち４回以上蛍光灯下で光学フィルムの表面を透過観察した際に光学フィルムの表面に
傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆においては光学フィルムの表面に傷が付
かなかったと判断する。また、強化部を備えた光学フィルムにおける鉛筆硬度試験は、強
化部が存在する領域で行った。
<Pencil hardness>
The pencil hardness of the surface (surface of the hard coat layer) of the optical films according to the examples and comparative examples was measured according to JIS K5600-5-4: 1999. The pencil hardness test was carried out by placing an optical film cut to a size of 50 mm x 100 mm on a glass plate with the hard coat layer facing up, fixing it with Cellotape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. so as to prevent bending or wrinkling, and applying a pencil hardness tester (product name "
Using a pencil scratch coating hardness tester (electric type, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.), a load of 750 g was applied to a pencil (product name "Uni", manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) while the pencil was moved 1 mm/
The pencil hardness was measured by moving the optical film at a speed of 1/2000 second. The pencil hardness was determined as the highest hardness at which the optical film surface was not scratched during the pencil hardness test.
The pencil hardness test was performed using multiple pencils with different hardnesses, and five pencil hardness tests were performed for each pencil. If no scratches were visually observed on the surface of the optical film when the surface of the optical film was observed through a fluorescent lamp four or more times out of the five, it was determined that the pencil of that hardness did not scratch the surface of the optical film. Furthermore, the pencil hardness test for optical films having reinforced portions was performed in the areas where the reinforced portions were present.
＜Ｇ´、Ｇ´´、ｔａｎδ＞
実施例に係る光学フィルムの樹脂層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´、お
よび剪断損失正接ｔａｎδを測定した。具体的には、まず、実施例に係る１０ｍｍ×５ｍ
ｍの大きさに切り出した光学フィルムを２枚準備し、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheo
gel-E4000」、株式会社ユービーエム製）のオプションである固体剪断用治具に取り付け
た。具体的には、固体剪断用治具は、厚さ１ｍｍの１枚の金属製の固体剪断板と、この固
体剪断板の両側に配置された２つのＬ型金具を備えており、固体剪断板と一方のＬ型金具
との間で一方の光学フィルムを挟み、かつ固体剪断板と他方のＬ型金具で他方の光学フィ
ルムを挟んだ。この場合、樹脂層が固体剪断板側となり、ハードコート層がＬ型金具側と
なるように光学フィルムを挟んだ。そして、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheogel-E400
0」、株式会社ユービーエム製）に、上部チャックおよび下部チャックからなる引張り試
験用チャックを取り付けた後、上部チャックと下部チャックの間に固体剪断用治具をチャ
ック間距離２０ｍｍで取り付けた。そして、設定温度を２５℃とし２℃／ｍｉｎで昇温さ
せた。この状態で、固体剪断板を固定しながら２つのＬ型金具に歪み量１％かつ周波数５
００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の範囲の縦振動を与えながら、２５℃で固体の動的粘弾性
測定を行い、樹脂層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失正接ｔ
ａｎδを測定した。ここで、樹脂層における５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域
での剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失正接ｔａｎδは、Ｌ型金
具に周波数５００Ｈｚ、７５０Ｈｚ、９５０Ｈｚの縦振動をそれぞれ与えて、それぞれの
周波数において樹脂層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失正接
ｔａｎδを測定し、これらの剪断貯蔵弾性率Ｇ´、剪断損失弾性率Ｇ´´および剪断損失
正接ｔａｎδの算術平均値を求め、さらに、この測定を３回繰り返し、それぞれ得られた
３つの算術平均値をさらに算術平均した値とした。
<G', G', tan δ>
The shear storage modulus G', shear loss modulus G'', and shear loss tangent tan δ of the resin layer of the optical film according to the embodiment were measured.
Two pieces of optical film were cut into pieces measuring 1.5 mm in size and measured with a dynamic viscoelasticity measuring device (product name: Rheo
The optical film was attached to a solid shearing jig, which is an option of a dynamic viscoelasticity measuring device (product name "Rheogel-E4000" manufactured by UBM Co., Ltd.). Specifically, the solid shearing jig is equipped with a metal solid shearing plate having a thickness of 1 mm and two L-shaped metal fittings arranged on both sides of the solid shearing plate, and one optical film was sandwiched between the solid shearing plate and one of the L-shaped metal fittings, and the other optical film was sandwiched between the solid shearing plate and the other L-shaped metal fitting. In this case, the optical film was sandwiched so that the resin layer was on the solid shearing plate side and the hard coat layer was on the L-shaped metal fitting side. Then, a dynamic viscoelasticity measuring device (product name "Rheogel-E400
A tensile test chuck consisting of an upper chuck and a lower chuck was attached to a tensile test plate ("1.0" manufactured by UBM Corporation), and then a solid shearing jig was attached between the upper and lower chucks with a chuck distance of 20 mm. The set temperature was then set to 25°C and the temperature was raised at a rate of 2°C/min. In this state, the two L-shaped metal fittings were attached with a strain amount of 1% and a frequency of 500 Hz while the solid shear plate was fixed.
The dynamic viscoelasticity of the solid was measured at 25°C while applying vertical vibration in the range of 1000 Hz to 1000 Hz, and the shear storage modulus G', shear loss modulus G'', and shear loss tangent t
Here, the shear storage modulus G', shear loss modulus G'', and shear loss tangent tanδ in the frequency range of 500 Hz to 1000 Hz in the resin layer were measured by applying longitudinal vibrations of frequencies of 500 Hz, 750 Hz, and 950 Hz to the L-shaped metal fitting, respectively, measuring the shear storage modulus G', shear loss modulus G'', and shear loss tangent tanδ of the resin layer at each frequency, obtaining the arithmetic average value of these shear storage modulus G', shear loss modulus G'', and shear loss tangent tanδ, and further repeating this measurement three times, and further arithmetically averaging the three arithmetic average values obtained.
＜屈折率差＞
実施例に係る光学フィルムの２枚の強化部および樹脂層の屈折率をそれぞれ測定し、樹
脂層と一方の強化部との屈折率差の絶対値および樹脂層と他方の強化部との屈折率差の絶
対値を求めた。強化部の屈折率は、強化部の欠片を切り出し等により１０個取り出し、取
り出した１０個の欠片において、ベッケ法により強化部の屈折率をそれぞれ測定し、測定
した強化部の屈折率の１０個の平均値を強化部の屈折率とした。樹脂層の屈折率も、強化
部の屈折率と同様に測定した。なお、後に示す表２においては、２枚の強化部のうち一方
の強化部を第１の強化部とし、他方の強化部を第２の強化部とした。
<Refractive index difference>
The refractive indexes of the two reinforced parts and the resin layer of the optical film according to the embodiment were measured, and the absolute value of the refractive index difference between the resin layer and one of the reinforced parts and the absolute value of the refractive index difference between the resin layer and the other reinforced part were obtained. The refractive index of the reinforced part was measured by cutting out 10 pieces of the reinforced part by cutting out, etc., and measuring the refractive index of the reinforced part by the Becke method for each of the 10 pieces, and the average value of the refractive indexes of the 10 reinforced parts was used as the refractive index of the reinforced part. The refractive index of the resin layer was also measured in the same manner as the refractive index of the reinforced part. In Table 2 shown later, one of the two reinforced parts was referred to as the first reinforced part, and the other reinforced part was referred to as the second reinforced part.
＜外観評価＞
実施例に係る光学フィルムの平面視したときに、強化部の形状が視認されるか否か目視
により評価した。評価基準は、以下の通りとした。
○：強化部の形状が確認されなかった。
△：強化部の形状が若干確認されたが実使用上問題のないレベルであった。
×：強化部の形状が明確に確認された。
<Appearance Evaluation>
When the optical film according to the example was viewed in plan, it was visually evaluated whether the shape of the reinforced portion was visible or not. The evaluation criteria were as follows.
◯: The shape of the reinforced portion was not confirmed.
Δ: The shape of the reinforced portion was slightly observed, but was at a level that did not pose a problem in practical use.
×: The shape of the reinforced portion was clearly confirmed.
以下、結果を表１および表２に示す。
以下、結果について述べる。比較例１に係る光学フィルムにおいては、強化部を備えて
おらず、また比較例２、３に係る光学フィルムにおいては、第１の強化部および第２の強
化部の厚みが１５０μｍ未満であったので、良好な折り畳み性を有するものの、衝撃を吸
収できず、耐衝撃性試験Ａにおいてハードコート層の表面に凹みが確認されるとともにソ
ーダガラスに割れが生じてしまうことがあり、また耐衝撃性試験Ｂにおいて粘着シートの
塑性変形に追従してしまうことによりハードコート層の表面の凹み量が大きかった。比較
例４に係る光学フィルムにおいては、１枚のガラス板を用いていたので、折り畳み性に劣
っていた。また、比較例５に係る光学フィルムにおいては、第１の強化部および第２の強
化部のマルテンス硬さがそれぞれ３０ＭＰａ未満であったので、良好な折り畳み性を有す
るものの、衝撃を吸収できず、耐衝撃性試験Ａにおいてハードコート層の表面の凹み量が
大きいとともにソーダガラスに割れが生じてしまい、また耐衝撃性試験Ｂにおいて粘着シ
ートの塑性変形に追従してしまうことによりハードコート層の表面の凹み量が大きかった
。
The results are described below. The optical film according to Comparative Example 1 does not have a reinforced portion, and the optical films according to Comparative Examples 2 and 3 have a thickness of less than 150 μm for the first reinforced portion and the second reinforced portion, so that although it has good folding properties, it cannot absorb impact, and in the impact resistance test A, a dent was confirmed on the surface of the hard coat layer, and cracks were generated in the soda glass, and in the impact resistance test B, the amount of dents on the surface of the hard coat layer was large due to following the plastic deformation of the adhesive sheet. In the optical film according to Comparative Example 4, one glass plate was used, so that it had poor folding properties. In addition, in the optical film according to Comparative Example 5, the Martens hardness of the first reinforced portion and the second reinforced portion was less than 30 MPa, so that although it has good folding properties, it cannot absorb impact, and in the impact resistance test A, the amount of dents on the surface of the hard coat layer was large, and cracks were generated in the soda glass, and in the impact resistance test B, the amount of dents on the surface of the hard coat layer was large due to following the plastic deformation of the adhesive sheet.
これに対し、実施例１～５に係る光学フィルムにおいては、第１の強化部および第２の
強化部の厚みがそれぞれ１５０μｍ以上であり、かつマルテンス硬さがそれぞれ３０ＭＰ
ａ以上であったので、良好な折り畳み性を維持しつつ、また優れた耐衝撃性を有していた
。
In contrast, in the optical films according to Examples 1 to 5, the thickness of the first reinforcement portion and the second reinforcement portion are each 150 μm or more, and the Martens hardness is 30 MP.
Since the hardness was equal to or greater than a, the film had excellent impact resistance while maintaining good foldability.
実施例および比較例に係る光学フィルムのポリイミド基材およびハードコート層のマル
テンス硬さを測定したところ、ポリイミド基材のマルテンス硬さは２５０ＭＰａであり、
第１のハードコート層のマルテンス硬さは８３５ＭＰａであり、第２のハードコート層の
マルテンス硬さは４７０ＭＰａであった。ポリイミド基材およびハードコート層のマルテ
ンス硬さは、上記強化部のマルテンス硬さと同様の条件によって測定された。
When the Martens hardness of the polyimide substrate and the hard coat layer of the optical films according to the examples and comparative examples was measured, the Martens hardness of the polyimide substrate was 250 MPa,
The Martens hardness of the first hard coat layer was 835 MPa, and the Martens hardness of the second hard coat layer was 470 MPa. The Martens hardnesses of the polyimide substrate and the hard coat layer were measured under the same conditions as those for the Martens hardness of the reinforced portion.
１０…光学フィルム
１０Ａ…表面
１０Ｂ…裏面
１１…樹脂基材
１１Ａ…第１の面
１１Ｂ…第２の面
１２…強化部
１２Ａ…隙間
１３…樹脂層
１４…ハードコート層
１５…第１のハードコート層
１６…第２のハードコート層
４０…画像表示装置
４３…表示パネル
４６…粘着層
Claims (7)
樹脂基材と、
前記樹脂基材における第１の面側に平面状に配置された複数の強化部と、を備え、
前記強化部の厚みが、それぞれ１５０μｍ以上であり、
前記強化部のマルテンス硬さが、それぞれ３０ＭＰａ以上である、光学フィルム。 A foldable optical film, comprising:
A resin substrate;
A plurality of reinforcing parts are arranged in a plane on a first surface side of the resin base material,
The thickness of each of the reinforced parts is 150 μm or more,
The Martens hardness of each of the reinforced portions is 30 MPa or more.
部の少なくとも一部が前記樹脂層で覆われている、請求項１に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1 , further comprising a resin layer provided on the first surface side of the resin substrate, wherein at least a portion of each of the reinforced portions is covered with the resin layer.
項２に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 2 , wherein an absolute value of a refractive index difference between the resin layer and the reinforcing portion is 0.02 or less.
８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じない、請求項
１ないし３のいずれか一項に記載の光学フィルム。 The optical film was 100 mm in length so that the distance between the opposing sides of the optical film was 30 mm.
4. The optical film according to claim 1, which is free from cracks or breaks when subjected to an 80° folding test 100,000 times.
る基材である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の光学フィルム。 5. The optical film according to claim 1, wherein the resin substrate is a substrate made of a polyimide resin, a polyamide resin, or a mixture thereof.
表示パネルと、
前記表示パネルよりも観察者側に配置された請求項１ないし５のいずれか一項に記載の
光学フィルムと、
を備える、画像表示装置。 A foldable image display device,
A display panel;
The optical film according to claim 1 , which is disposed on a viewer side relative to the display panel;
An image display device comprising:
。 The image display device according to claim 6 , wherein the display panel is an organic light-emitting diode panel.
Priority Applications (1)
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