JP2024037281A - Plasma processing system and plasma processing system information setting method - Google Patents

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Abstract

【課題】マスタ／スレーブの関係を形成する制御装置の簡素化が可能なプラズマ処理システムを提供すること。【解決手段】プラズマ処理システムは、複数のプラズマ発生装置と、各々のプラズマ発生装置の動作を制御する複数の制御装置と、を備え、複数の制御装置のうちの一つをマスタ制御装置、且つ、マスタ制御装置以外の制御装置をスレーブ制御装置とし、複数のプラズマ発生装置の各々は、ネットワークを介してマスタ制御装置からのプラズマ発生装置の動作に関する動作指令情報を含む指令情報がスレーブ制御装置に出力されることによって連携して動作可能とされており、マスタ制御装置のみが制御装置の間で共用可能な共用装置の少なくとも一つを有する。【選択図】図１An object of the present invention is to provide a plasma processing system in which a control device forming a master/slave relationship can be simplified. A plasma processing system includes a plurality of plasma generation devices and a plurality of control devices that control the operation of each plasma generation device, and one of the plurality of control devices is designated as a master control device; , a control device other than the master control device is used as a slave control device, and each of the plurality of plasma generation devices receives command information including operation command information regarding the operation of the plasma generation device from the master control device to the slave control device via the network. The master control device has at least one shared device that can be shared among the control devices. [Selection diagram] Figure 1

Description

本明細書は、プラズマ処理システム及びプラズマ処理システムの情報設定方法に関するものである。 The present specification relates to a plasma processing system and an information setting method for the plasma processing system.

複数の装置の接続に関し、例えば、特許文献１－３には、複数の装置においてマスタ／スレーブの関係を形成することが開示されている。特許文献１には、複数のインバータにおいてマスタ／スレーブの関係を形成することが開示されている。又、特許文献２には、複数のマイクロコントローラにおいてマスタ／スレーブの関係を形成することが開示されている。又、特許文献３には、複数の電源装置においてマスタ／スレーブの関係を形成することが開示されている。このように、マスタ／スレーブの関係を形成した場合、マスタの操作に対して全てのスレーブを同様に動作させたり、マスタの操作に対して特定のスレーブを選択的に動作させたりできる。従って、マスタ／スレーブの関係を形成することは、作業者による個々の機器の操作を省略できて作業負荷を低減できるという点で極めて有望である。 Regarding the connection of a plurality of devices, for example, Patent Documents 1 to 3 disclose forming a master/slave relationship among a plurality of devices. Patent Document 1 discloses forming a master/slave relationship among a plurality of inverters. Further, Patent Document 2 discloses forming a master/slave relationship among a plurality of microcontrollers. Further, Patent Document 3 discloses forming a master/slave relationship in a plurality of power supply devices. In this way, when a master/slave relationship is formed, all slaves can be operated in the same way in response to the master's operation, or a specific slave can be selectively operated in response to the master's operation. Therefore, forming a master/slave relationship is extremely promising in that it can omit the operator's operation of individual devices and reduce the workload.

又、特許文献４には、複数のプラズマトーチを有するプラズマ切断機が開示されている。この従来のプラズマ切断機においては、複数のプラズマトーチを独立して非同期で動作できるように、プラズマ電源装置から分配器を通じて出力電流が分配されると共に、転か回路が各々のプラズマトーチに割り当てられるようになっている。 Further, Patent Document 4 discloses a plasma cutting machine having a plurality of plasma torches. In this conventional plasma cutting machine, output current is distributed from a plasma power supply through a distributor, and a transfer circuit is assigned to each plasma torch so that multiple plasma torches can be operated independently and asynchronously. It looks like this.

特開平８－１３５０号公報Japanese Patent Application Publication No. 8-1350 特表２０１９－５１３５６１号公報Special table 2019-513561 publication 特開２００９－２８４７３４号公報JP2009-284734A 特開２００８－１０５０４３号公報Japanese Patent Application Publication No. 2008-105043

しかしながら、上述した従来のようにマスタ／スレーブの関係を形成する場合においては、マスタとなる装置もスレーブとなる装置も同一の構成である。即ち、従来のようにマスタ／スレーブの関係を形成する場合においては、全ての装置等が同一の部品、例えば、装置間で共用可能な共用装置を備えており、どの装置であってもマスタ又はスレーブになることができるようになっている。ところが、上述したように、マスタ／スレーブの関係が形成された場合には、マスタを操作することによってスレーブを動作させることができる。従って、特に、スレーブに設けられた共用装置については、利用される頻度が低いにもかかわらず、共用装置の分が高価になると共に装置自体が複雑化且つ大型化する虞がある。 However, in the case of forming a master/slave relationship as in the prior art described above, the master device and the slave device have the same configuration. In other words, when forming a master/slave relationship as in the past, all devices have the same parts, for example, a shared device that can be shared between the devices, and any device can be master or slave. It is now possible to become a slave. However, as described above, when a master/slave relationship is formed, the slave can be operated by operating the master. Therefore, especially with regard to the shared device provided in the slave, there is a risk that the shared device will become expensive and the device itself will become complicated and large, even though it is rarely used.

本明細書は、マスタ／スレーブの関係を形成する制御装置の簡素化が可能なプラズマ処理システム及びプラズマ処理システムの情報設定方法を提供することを目的とする。 An object of the present specification is to provide a plasma processing system and a plasma processing system information setting method that can simplify a control device that forms a master/slave relationship.

本明細書は、複数のプラズマ発生装置と、各々のプラズマ発生装置の動作を制御する複数の制御装置と、を備え、複数の制御装置のうちの一つをマスタ制御装置、且つ、マスタ制御装置以外の制御装置をスレーブ制御装置とし、複数のプラズマ発生装置の各々は、ネットワークを介してマスタ制御装置からのプラズマ発生装置の動作に関する動作指令情報を含む指令情報がスレーブ制御装置に出力されることによって連携して動作可能とされており、マスタ制御装置のみが制御装置の間で共用可能な共用装置の少なくとも一つを有する、プラズマ処理システムを開示する。 This specification includes a plurality of plasma generation devices and a plurality of control devices that control the operation of each plasma generation device, and one of the plurality of control devices is a master control device, and the master control device A control device other than the above is used as a slave control device, and each of the plurality of plasma generation devices outputs command information including operation command information regarding the operation of the plasma generation device from the master control device to the slave control device via a network. Disclosed is a plasma processing system in which a master control device has at least one shared device that can be shared among the control devices, and which can operate in coordination with each other.

又、本明細書は、複数のプラズマ発生装置と、各々のプラズマ発生装置の動作を制御する複数の制御装置と、を備えるプラズマ処理システムに適用され、、複数の制御装置のうちの一つをマスタ制御装置、且つ、マスタ制御装置以外の制御装置をスレーブ制御装置とし、複数のプラズマ発生装置の各々は、ネットワークを介してマスタ制御装置からのプラズマ発生装置の動作に関する動作指令情報を含む指令情報がスレーブ制御装置に出力されることによって連携して動作可能とされており、プラズマ処理システムは、マスタ制御装置のみが制御装置の間で共用可能な共用装置の少なくとも一つを有し、マスタ制御装置が各々のスレーブ制御装置に対して、スレーブ制御装置を識別する識別情報を設定するための複数の信号を出力する第一工程と、スレーブ制御装置がマスタ制御装置から出力された複数の信号を入力し、複数の信号の各々の状態を表す信号状態を判別し、判別した信号状態に対応する識別情報を設定する第二工程と、を備える、プラズマ処理システムの情報設定方法を開示する。 Further, the present specification is applied to a plasma processing system including a plurality of plasma generation devices and a plurality of control devices that control the operation of each plasma generation device, and one of the plurality of control devices is A master control device and a control device other than the master control device are slave control devices, and each of the plurality of plasma generation devices receives command information including operation command information regarding the operation of the plasma generation device from the master control device via the network. is output to the slave control device so that it can operate in cooperation with the slave control device, and in the plasma processing system, only the master control device has at least one shared device that can be shared among the control devices, and the master control device A first step in which the device outputs a plurality of signals to each slave control device to set identification information for identifying the slave control device, and a slave control device outputs a plurality of signals output from the master control device. Disclosed is an information setting method for a plasma processing system, comprising a second step of inputting the signal, determining a signal state representing the state of each of a plurality of signals, and setting identification information corresponding to the determined signal state.

本明細書では、出願当初の請求項８において、「請求項１又は２に記載のプラズマ処理システム」を「請求項１－７の何れか一項に記載のプラズマ処理システム」に変更した技術的思想も開示されている。又、本明細書では、出願当初の請求項９において、「請求項１に記載のプラズマ処理システム」を「請求項１－８の何れか一項に記載のプラズマ処理システム」に変更した技術的思想も開示されている。又、本明細書では、出願当初の請求項１０において、「請求項１に記載のプラズマ処理システム」を「請求項１－９の何れか一項に記載のプラズマ処理システム」に変更した技術的思想も開示されている。更に、本明細書では、出願当初の請求項１１において、「請求項１又は２に記載のプラズマ処理システム」を「請求項１－１０の何れか一項に記載のプラズマ処理システム」に変更した技術的思想も開示されている。 In this specification, in claim 8 at the time of filing, "the plasma processing system according to claim 1 or 2" is changed to "the plasma processing system according to any one of claims 1 to 7". Thoughts are also disclosed. In addition, in this specification, in claim 9 at the time of filing, the technical aspect is changed from "the plasma processing system according to claim 1" to "the plasma processing system according to any one of claims 1 to 8". Thoughts are also disclosed. In addition, in this specification, in claim 10 at the time of filing, the technical aspect is changed from "the plasma processing system according to claim 1" to "the plasma processing system according to any one of claims 1 to 9". Thoughts are also disclosed. Furthermore, in this specification, in claim 11 originally filed, "the plasma processing system according to claim 1 or 2" is changed to "the plasma processing system according to any one of claims 1 to 10." Technical ideas are also disclosed.

これらによれば、マスタ／スレーブの関係を形成する制御装置の簡素化が可能であり、制御装置、ひいては、プラズマ処理システムの製造コストを低減することができる。プラズマ処理システムの情報設定方法についても、同様である。 According to these, it is possible to simplify the control device that forms the master/slave relationship, and it is possible to reduce the manufacturing cost of the control device and, by extension, the plasma processing system. The same applies to the information setting method of the plasma processing system.

プラズマ処理システムの全体構成を説明するための概略図である。1 is a schematic diagram for explaining the overall configuration of a plasma processing system. プラズマ発生装置の構成を説明するための概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the configuration of a plasma generator. 図１のマスタ制御装置の構成を説明するための機能ブロック図である。2 is a functional block diagram for explaining the configuration of a master control device in FIG. 1. FIG. 図１のスレーブ制御装置の構成を説明するための機能ブロック図である。FIG. 2 is a functional block diagram for explaining the configuration of the slave control device in FIG. 1. FIG. 識別情報の設定を説明するための表である。It is a table for explaining settings of identification information.

以下、プラズマ処理システムについて、図面を参照しながら説明する。本実施形態においては、プラズマ処理システムを形成するプラズマ発生装置が大気圧プラズマ発生装置である場合を例示して説明する。 The plasma processing system will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, a case will be explained in which a plasma generating apparatus forming a plasma processing system is an atmospheric pressure plasma generating apparatus.

１．プラズマ処理システム１の概要
プラズマ処理システム１は、図１に示すように、複数のプラズマ発生装置１０と、各々のプラズマ発生装置１０に設けられた制御装置１００とを備える。各々のプラズマ発生装置１０は、大気圧下でプラズマを発生させる大気圧プラズマ発生装置である。各々の制御装置１００は、対応する各々のプラズマ発生装置１０の動作を統括的に制御する。そして、各々の制御装置１００は、ネットワークＮを介して、互いに通信可能に接続されている。 1. Overview of Plasma Processing System 1 As shown in FIG. 1, the plasma processing system 1 includes a plurality of plasma generators 10 and a control device 100 provided in each plasma generator 10. Each plasma generator 10 is an atmospheric pressure plasma generator that generates plasma under atmospheric pressure. Each control device 100 centrally controls the operation of each corresponding plasma generation device 10. The respective control devices 100 are connected to each other via a network N so as to be able to communicate with each other.

ここで、プラズマ処理システム１を形成する複数の制御装置１００は、１つの制御装置１００を「マスタ」とし、他の制御装置１００を「スレーブ」とするマスタ／スレーブの関係を形成する。このため、本実施形態の説明において、図１に示すように、ネットワークＮに接続された複数の制御装置１００のうちの１つの制御装置１００を「マスタ制御装置１００Ｍ」とする。又、本実施形態の説明において、ネットワークＮに接続された複数の制御装置１００のうちの他の制御装置１００を「スレーブ制御装置１００Ｓ」とする。そして、マスタ制御装置１００Ｍと、各々のスレーブ制御装置１００Ｓとは、それぞれ、接続線Ｌｃによって直接的に接続されている。 Here, the plurality of control devices 100 forming the plasma processing system 1 form a master/slave relationship in which one control device 100 is a "master" and the other control devices 100 are "slaves." Therefore, in the description of this embodiment, as shown in FIG. 1, one control device 100 among the plurality of control devices 100 connected to the network N will be referred to as a "master control device 100M." In the description of this embodiment, another control device 100 among the plurality of control devices 100 connected to the network N will be referred to as a "slave control device 100S." The master control device 100M and each slave control device 100S are directly connected by connection lines Lc.

１－１．プラズマ発生装置１０の全体構成
プラズマ発生装置１０は、図２に示すように、大気圧下でプラズマを発生させるプラズマヘッド１１を備えている。又、プラズマ発生装置１０は、電源装置１２と、ガス供給装置１３と、を備えている。プラズマ発生装置１０は、電源装置１２から電源ケーブル１４を介してプラズマヘッド１１に電力を供給し、ガス供給装置１３からガス配管１５を介してプラズマ化するプロセスガスを供給する。これにより、プラズマ発生装置１０は、プラズマヘッド１１から生成したプラズマガスを照射することができる。 1-1. Overall Configuration of Plasma Generator 10 As shown in FIG. 2, the plasma generator 10 includes a plasma head 11 that generates plasma under atmospheric pressure. Further, the plasma generator 10 includes a power supply device 12 and a gas supply device 13. The plasma generator 10 supplies power to the plasma head 11 from a power supply device 12 via a power cable 14, and supplies process gas to be turned into plasma from a gas supply device 13 via a gas pipe 15. Thereby, the plasma generator 10 can irradiate the plasma gas generated from the plasma head 11.

プラズマヘッド１１は、産業用ロボット１６のロボットアーム１６Ａ，１６Ｂの先端に取り付けられている。ここで、電源ケーブル１４及びガス配管１５は、ロボットアーム１６Ａ，１６Ｂに沿って取り付けられている。ロボットアーム１６Ａ，１６Ｂは、一方向に連結されて、多関節ロボットを形成する。そして、産業用ロボット１６は、ロボットアーム１６Ａ，１６Ｂを駆動してプラズマヘッド１１を移動させ、ワーク台Ｄが支持するワークＷにプラズマガスを照射する作業を行う。尚、照射されたプラズマガスは、例えば、ワークＷの表面を疎水性から親水性へと改質する改質処理を行うことができる。 The plasma head 11 is attached to the tips of robot arms 16A, 16B of an industrial robot 16. Here, the power cable 14 and gas piping 15 are attached along the robot arms 16A, 16B. Robot arms 16A, 16B are connected in one direction to form an articulated robot. Then, the industrial robot 16 drives the robot arms 16A and 16B to move the plasma head 11, and performs work to irradiate the workpiece W supported by the worktable D with plasma gas. In addition, the irradiated plasma gas can perform a modification process to modify the surface of the workpiece W from hydrophobic to hydrophilic, for example.

電源装置１２は、例えば、商用電源（図示省略）からプラズマヘッド１１の電極（図示省略）に供給する電力を生成する。そして、電源装置１２は、電源ケーブル１４を介して、生成した電力をプラズマヘッド１１の電極に供給する。ガス供給装置１３は、窒素等の不活性ガスと酸素等の活性ガスとの少なくとも一方を含む、例えば、空気等をプロセスガスとして圧送して供給する。このため、ガス供給装置１３は、プロセスガスを貯留するタンク（図示省略）を備えている。 The power supply device 12 generates power to be supplied to the electrodes (not shown) of the plasma head 11 from, for example, a commercial power source (not shown). The power supply device 12 then supplies the generated power to the electrodes of the plasma head 11 via the power cable 14. The gas supply device 13 pumps and supplies, for example, air or the like as a process gas containing at least one of an inert gas such as nitrogen and an active gas such as oxygen. For this reason, the gas supply device 13 includes a tank (not shown) that stores process gas.

制御装置１００は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、各種インターフェース等を有する、所謂、シングルボードコンピュータを備えるものである。本実施形態においては、複数（４つ）の制御装置１００のうちの１つが予めマスタ制御装置１００Ｍとして設定されている。そして、残り（３つ）の制御装置１００がスレーブ制御装置１００Ｓとして設定される。 The control device 100 includes a so-called single board computer having a CPU, ROM, RAM, various interfaces, and the like. In this embodiment, one of the plurality of (four) control devices 100 is set in advance as the master control device 100M. The remaining (three) control devices 100 are then set as slave control devices 100S.

マスタ制御装置１００Ｍは、ネットワークＮ及び接続線Ｌｃ（より詳しくは、後述する信号線Ｌｃｓ）に接続可能であり、且つ、後述する共用装置Ｃである入力装置１０１、表示装置１０２及び緊急停止ボタン１０３が接続可能である。このため、マスタ制御装置１００に備えられたシングルボードコンピュータが有する各種インターフェースは、ネットワークＮに接続して指令情報を送受信する情報送受信部としての通信インターフェースＩｔと、接続線Ｌｃ（より詳しくは、後述する信号線Ｌｃｓ）に接続して信号を送受信する信号送受信部としての信号インターフェースＩｓとを備える。又、制御装置１００のうちの少なくともマスタ制御装置１００Ｍは、各種インターフェースは、共用装置Ｃと接続する共用装置接続部としての接続インターフェースＩｃを備える。 The master control device 100M is connectable to a network N and a connection line Lc (more specifically, a signal line Lcs described later), and also includes an input device 101, a display device 102, and an emergency stop button 103, which are shared devices C described later. can be connected. For this reason, various interfaces included in the single board computer provided in the master control device 100 include a communication interface It as an information transmitting/receiving section that connects to the network N and transmits and receives command information, and a connecting line Lc (described in more detail later). and a signal interface Is as a signal transmitting/receiving unit that transmits and receives signals by connecting to the signal line Lcs). Further, at least the master control device 100M of the control devices 100 includes a connection interface Ic as a shared device connection unit that connects to the shared device C among the various interfaces.

スレーブ制御装置１００Ｓも、ネットワークＮ及び接続線Ｌｃに接続可能である。但し、本実施形態においては、スレーブ制御装置１００Ｓには、共用装置Ｃは接続されない。このため、スレーブ制御装置１００に備えられたシングルボードコンピュータが有する各種インターフェースは、通信インターフェースＩｔと、信号インターフェースＩｓとを備える。尚、必要に応じて、スレーブ制御装置１００Ｓの各種インターフェースに、接続インターフェースＩｃを設けることも可能である。 The slave control device 100S can also be connected to the network N and the connection line Lc. However, in this embodiment, the shared device C is not connected to the slave control device 100S. Therefore, various interfaces included in the single board computer included in the slave control device 100 include a communication interface It and a signal interface Is. Note that it is also possible to provide a connection interface Ic to various interfaces of the slave control device 100S, if necessary.

マスタ制御装置１００Ｍは、後述するように、信号線Ｌｃｓを介してスレーブ制御装置１００Ｓに対して識別情報ＩであるＩＰアドレスを設定するための信号を出力する。これにより、スレーブ制御装置１００Ｓは、入力した信号の状態に応じて自身のＩＰアドレスを設定する。尚、マスタ制御装置１００Ｍにおいては、予め自身のＩＰアドレスが設定されている。 As described later, the master control device 100M outputs a signal for setting an IP address, which is the identification information I, to the slave control device 100S via the signal line Lcs. Thereby, the slave control device 100S sets its own IP address according to the state of the input signal. Note that the master control device 100M has its own IP address set in advance.

そして、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓは、ＩＰアドレスを設定することによってネットワークＮに接続された状態で互いに通信可能となる。これにより、マスタ制御装置１００Ｍは、後述するように、ネットワークＮを介して、例えば、作業者によって入力された指令情報としての動作指令を表す動作指令情報Ｏｍをスレーブ制御装置１００Ｓに出力する。従って、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓは、連携して（或いは、協働して）各々が対応するプラズマ発生装置１０の動作を統括的に制御する。 By setting the IP addresses, the master control device 100M and the slave control device 100S can communicate with each other while being connected to the network N. As a result, the master control device 100M outputs, for example, operation command information Om representing an operation command as command information input by an operator to the slave control device 100S via the network N, as will be described later. Therefore, the master control device 100M and the slave control device 100S cooperate (or cooperate) to collectively control the operations of the plasma generators 10 to which they each correspond.

ここで、指令情報には、プラズマ発生装置１０を動作させるオン信号又はプラズマ発生装置１０を停止させるオフ信号が含まれる。具体的に、本実施形態においては、動作指令情報Ｏｍに、プラズマ発生装置１０を動作させるオン信号又はプラズマ発生装置１０を停止させるオフ信号が含まれる。 Here, the command information includes an on signal for operating the plasma generator 10 or an off signal for stopping the plasma generator 10. Specifically, in this embodiment, the operation command information Om includes an on signal for operating the plasma generator 10 or an off signal for stopping the plasma generator 10.

そして、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓが動作を制御する全てのプラズマ発生装置１０について、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓは、動作指令情報Ｏｍに含まれるオン信号に応じて全てのプラズマ発生装置１０を動作させることができる。若しくは、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓは、動作指令情報Ｏｍに含まれるオフ信号に応じて全てのプラズマ発生装置１０を停止させることができる。 Then, for all the plasma generators 10 whose operations are controlled by the master control device 100M and the slave control device 100S, the master control device 100M and the slave control device 100S control all plasma generators 10 according to the ON signal included in the operation command information Om. The generator 10 can be operated. Alternatively, the master control device 100M and the slave control device 100S can stop all plasma generating devices 10 in response to the off signal included in the operation command information Om.

又は、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓの各々が動作を制御するプラズマ発生装置１０について、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓの各々は、動作指令情報Ｏｍに含まれるオン信号に応じてプラズマ発生装置１０を個別に動作させることができる。若しくは、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓの各々は、動作指令情報Ｏｍに含まれるオフ信号に応じて各々のプラズマ発生装置１０を個別に停止させることができる。 Alternatively, regarding the plasma generation device 10 whose operation is controlled by each of the master control device 100M and the slave control device 100S, each of the master control device 100M and the slave control device 100S controls plasma generation according to the ON signal included in the operation command information Om. The generators 10 can be operated individually. Alternatively, each of the master control device 100M and the slave control device 100S can individually stop each plasma generation device 10 according to the off signal included in the operation command information Om.

１－２．マスタ制御装置１００Ｍ
複数のプラズマ発生装置１０の各々に設けられる制御装置１００については、一般に、製造作業の容易性を勘案して、全て同一の構成にして製造される場合がある。ところで、複数の制御装置１００について、マスタ／スレーブの関係が形成される場合、作業者は、主にマスタ制御装置１００Ｍを操作してマスタ制御装置１００Ｍに制御されるプラズマ発生装置１０を動作させると共に、マスタ制御装置１００Ｍを介して各々のスレーブ制御装置１００Ｓを操作してそれぞれのスレーブ制御装置１００Ｓに制御されるプラズマ発生装置１０を動作せることが行われる。 1-2. Master control device 100M
In general, the control devices 100 provided in each of the plurality of plasma generating devices 10 may be manufactured with the same configuration in consideration of ease of manufacturing work. By the way, when a master/slave relationship is formed with respect to a plurality of control devices 100, an operator mainly operates the master control device 100M to operate the plasma generation device 10 controlled by the master control device 100M, and , each slave control device 100S is operated via the master control device 100M to operate the plasma generation device 10 controlled by each slave control device 100S.

従って、複数の制御装置１００について、マスタ／スレーブの関係が形成される場合、全ての制御装置１００が同一の構成を有する必要がなく、特に、制御装置１００において共用可能な共用装置の少なくとも一つ、例えば、入力装置や表示装置等は、マスタ制御装置１００Ｍにのみ別途設けられていれば良い。換言すれば、プラズマ発生装置１０の動作を制御するコンピュータ装置として必要最低限の共通の構成を有するシングルボードコンピュータを用いて制御装置１００を製造する。そして、プラズマ処理システム１を形成する複数の制御装置１００（シングルボードコンピュータ）のうちの１つをマスタ制御装置１００Ｍとした場合、マスタ制御装置１００Ｍに対してのみ共用装置の少なくとも一つを設けることにより、プラズマ処理システム１の全体を統括的に制御することができる。 Therefore, when a master/slave relationship is formed for a plurality of control devices 100, it is not necessary for all the control devices 100 to have the same configuration, and in particular, at least one of the shared devices that can be shared among the control devices 100 is For example, an input device, a display device, etc. may be separately provided only in the master control device 100M. In other words, the control device 100 is manufactured using a single board computer having the minimum necessary common configuration as a computer device for controlling the operation of the plasma generating device 10. When one of the plurality of control devices 100 (single board computers) forming the plasma processing system 1 is the master control device 100M, at least one shared device is provided only for the master control device 100M. Accordingly, the entire plasma processing system 1 can be controlled in an integrated manner.

そこで、本実施形態においては、マスタ制御装置１００Ｍは、図３に示すように、シングルボードコンピュータを「マスタ」として機能させるために、通信制御部１１０、指令取得部１２０、指令出力部１３０、及び、情報記憶部１４０を備えている。又、マスタ制御装置１００Ｍには、共用装置Ｃとして、作業者によって操作される入力装置１０１、及び、作業者に対して各種情報を表示する表示装置１０２が接続されている。 Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 3, the master control device 100M includes a communication control section 110, a command acquisition section 120, a command output section 130, and , an information storage section 140. Also connected to the master control device 100M are, as a shared device C, an input device 101 that is operated by a worker, and a display device 102 that displays various information to the worker.

又、マスタ制御装置１００Ｍには、緊急時に作業者によって操作されて、プラズマ発生装置１０の動作を停止させるための緊急停止装置としての緊急停止ボタン１０３が接続されている。尚、本実施形態においては、緊急停止装置としてボタン操作可能な緊急停止ボタン１０３を例示する。しかし、停止装置としては、ボタン形式に限られず、例えば、スイッチやレバー、或いは、タッチパネル等種々の形式を採用することが可能である。 Further, an emergency stop button 103 is connected to the master control device 100M as an emergency stop device that is operated by a worker to stop the operation of the plasma generator 10 in an emergency. In this embodiment, an operable emergency stop button 103 is exemplified as an emergency stop device. However, the stop device is not limited to the button type, and various types such as a switch, a lever, or a touch panel can be used.

マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、接続線Ｌｃを介して、スレーブ制御装置１００Ｓに識別情報ＩであるＩＰアドレスを設定するための第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を出力する。より詳しく、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、第一信号Ｆｓ１の信号状態をＨｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態に切り替えてスレーブ制御装置１００Ｓに出力すると共に、第二信号Ｆｓ２の信号状態をＨｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態に切り替えてスレーブ制御装置１００Ｓに出力する。即ち、通信制御部１１０は、後述するように、各々のスレーブ制御装置１００Ｓが設定すべき識別情報ＩであるＩＰアドレスを表すように、第一信号Ｆｓ１の信号状態と第二信号Ｆｓ２の信号状態とを組み合わせる。 The communication control unit 110 of the master control device 100M outputs a first signal Fs1 and a second signal Fs2 for setting an IP address, which is the identification information I, to the slave control device 100S via the connection line Lc. More specifically, the communication control unit 110 of the master control device 100M switches the signal state of the first signal Fs1 to a High state or a Low state and outputs it to the slave control device 100S, and also switches the signal state of the second signal Fs2 to a High state or a Low state. It is switched to the Low state and output to the slave control device 100S. That is, as will be described later, the communication control unit 110 changes the signal state of the first signal Fs1 and the signal state of the second signal Fs2 so that each slave control device 100S represents the IP address that is the identification information I to be set. Combine with.

尚、第一信号Ｆｓ１の信号状態及び第二信号Ｆｓ２の信号状態については、Ｈｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態に限られず、例えば、Ｈｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態の継続時間を変更した状態も含まれる。又、通信制御部１１０は、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を出力することに加えて、後述するように情報記憶部１４０にＩＰアドレスを表す情報として予め記憶されているテーブルＨを出力することも可能である。 Note that the signal state of the first signal Fs1 and the signal state of the second signal Fs2 are not limited to the High state or the Low state, but also include, for example, a state in which the duration of the High state or the Low state is changed. Further, in addition to outputting the first signal Fs1 and the second signal Fs2, the communication control unit 110 outputs a table H stored in advance as information representing the IP address in the information storage unit 140, as described later. It is also possible.

これにより、スレーブ制御装置１００Ｓにおいては、受信した（入力した）第一信号Ｆｓ１の信号状態及び第二信号Ｆｓ２の信号状態に基づいて、自身が設定すべきＩＰアドレスを確認し、自身によって確認したＩＰアドレスを設定する。ここで、接続線Ｌｃは、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を送受信するための信号線Ｌｃｓ（図１にて実線により示す）と、マスタ制御装置１００Ｍに設けられた電源（図示省略）からの電力を供給するための電力線Ｌｃｐ（図１にて破線により示す）とを有する。 As a result, the slave control device 100S confirms the IP address that it should set based on the signal state of the received (input) first signal Fs1 and the signal state of the second signal Fs2, and confirms it by itself. Set the IP address. Here, the connection line Lc is connected to a signal line Lcs (shown by a solid line in FIG. 1) for transmitting and receiving the first signal Fs1 and second signal Fs2, and a power supply (not shown) provided in the master control device 100M. It has a power line Lcp (shown by a broken line in FIG. 1) for supplying electric power.

マスタ制御装置１００Ｍの指令取得部１２０は、例えば、作業者によって入力装置１０１を介して入力されたプラズマ発生装置１０の動作に関する動作指令を表す動作指令情報Ｏｍを取得する。ここで、動作指令情報Ｏｍは、プラズマ発生装置１０の動作に関する動作指令として、プラズマ発生装置１０に設けられた各種センサによって検出された検出値や、動作の設定に関する各種パラメータ等を例示することができる。尚、マスタ制御装置１００Ｍの指令取得部１２０については、直接的に接続された入力装置１０１から入力された動作指令情報Ｏｍに限られず、例えば、別途記憶媒体に予め記憶された動作指令情報Ｏｍ、或いは、ネットワークＮを介して別途装置から供給された動作指令情報Ｏｍを取得することが可能である。 The command acquisition unit 120 of the master control device 100M acquires, for example, operation command information Om representing an operation command related to the operation of the plasma generation device 10 inputted by an operator via the input device 101. Here, the operation command information Om may include, as an operation command regarding the operation of the plasma generator 10, detection values detected by various sensors provided in the plasma generator 10, various parameters regarding operation settings, etc. can. Note that the command acquisition unit 120 of the master control device 100M is not limited to the operation command information Om inputted from the directly connected input device 101, but for example, the operation command information Om stored in advance in a separate storage medium, Alternatively, it is possible to obtain the operation command information Om supplied from a separate device via the network N.

又、マスタ制御装置１００Ｍの指令取得部１２０は、例えば、作業者によって緊急停止ボタン１０３が操作された際に、マスタ制御装置１００Ｍによって制御されるプラズマ発生装置１０及びスレーブ制御装置１００Ｓによって制御されるプラズマ発生装置１０、即ち、プラズマ処理システム１の全てのプラズマ発生装置１０の動作を一斉に緊急停止させるための緊急停止情報Ｏｓを取得する。ここで、上述したように、指令情報には、動作しているプラズマ発生装置１０を停止させるオフ信号を含むことができるため、緊急停止情報Ｏｓをオフ信号としたり、緊急停止情報Ｏｓにオフ信号を含ませたりとすることも可能である。尚、後述するように、各々のスレーブ制御装置１００Ｓに緊急停止ボタン１０３が設けられる場合には、各々のプラズマ発生装置１０の動作を個別に停止させることができる。 Further, the command acquisition unit 120 of the master control device 100M is controlled by the plasma generator 10 and the slave control device 100S, which are controlled by the master control device 100M, for example, when the emergency stop button 103 is operated by the worker. Emergency stop information Os for suddenly stopping the operation of the plasma generator 10, that is, all the plasma generators 10 of the plasma processing system 1, is acquired. Here, as described above, the command information can include an off signal to stop the operating plasma generator 10, so the emergency stop information Os may be set as an off signal, or the emergency stop information Os may be set as an off signal. It is also possible to include. Note that, as described later, when each slave control device 100S is provided with an emergency stop button 103, the operation of each plasma generator 10 can be stopped individually.

マスタ制御装置１００Ｍの指令出力部１３０は、指令取得部１２０によって取得された動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓを、ネットワークＮを介して、スレーブ制御装置１００Ｓに出力する。ここで、指令情報としての動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓは、図１に示すように、例えば、ＩＰアドレスが記載されるヘッダ及び動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓが記載されるデータフィールドを有するフレームＦとして出力される。つまり、マスタ制御装置１００Ｍの指令出力部１３０から出力される動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓ即ちフレームＦは、スレーブ制御装置１００Ｓを特定した状態でネットワークＮを介して供給される。このため、スレーブ制御装置１００Ｓは、後述するように、自身でＩＰアドレスを設定した後のコンフィグレーション処理により、ネットワークＮに対して通信可能に接続される必要がある。 The command output unit 130 of the master control device 100M outputs the operation command information Om and the emergency stop information Os acquired by the command acquisition unit 120 to the slave control device 100S via the network N. Here, as shown in FIG. 1, the operation command information Om and emergency stop information Os as command information include, for example, a header in which an IP address is written and a data field in which operation command information Om and emergency stop information Os are written. is output as a frame F having the following. That is, the operation command information Om and the emergency stop information Os output from the command output unit 130 of the master control device 100M, that is, the frame F, are supplied via the network N with the slave control device 100S specified. Therefore, the slave control device 100S needs to be communicably connected to the network N by a configuration process after setting an IP address by itself, as described later.

マスタ制御装置１００Ｍの情報記憶部１４０は、スレーブ制御装置１００Ｓが設定すべきＩＰアドレスを表す情報としてテーブルＨ（図５を参照）を予め記憶している。又、情報記憶部１４０は、指令取得部１２０によって取得された動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓを一時的に記憶する。 The information storage unit 140 of the master control device 100M stores in advance a table H (see FIG. 5) as information representing the IP address to be set by the slave control device 100S. Further, the information storage unit 140 temporarily stores the operation command information Om and the emergency stop information Os acquired by the command acquisition unit 120.

１－３．スレーブ制御装置１００Ｓ
スレーブ制御装置１００Ｓは、図４に示すように、シングルボードコンピュータを「スレーブ」として機能させるために、通信制御部１５０、識別情報設定部１６０、指令取得部１７０、指令出力部１８０、及び、情報記憶部１９０を備えている。尚、本実施形態においては、上述したように、マスタ制御装置１００Ｍにのみ緊急停止ボタン１０３を設ける場合を例示する。しかし、各々のスレーブ制御装置１００Ｓのそれぞれに緊急停止ボタン１０３を設けることも可能である。 1-3. Slave control device 100S
As shown in FIG. 4, the slave control device 100S includes a communication control section 150, an identification information setting section 160, a command acquisition section 170, a command output section 180, and an information A storage section 190 is provided. In addition, in this embodiment, as mentioned above, the case where the emergency stop button 103 is provided only in the master control device 100M is illustrated. However, it is also possible to provide each slave control device 100S with an emergency stop button 103.

スレーブ制御装置１００Ｓの通信制御部１５０は、接続線Ｌｃを介して、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０から出力された第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を入力する。即ち、通信制御部１５０は、通信制御部１１０によって信号状態がＨｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態に切り替えられた第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を入力する。そして、通信制御部１５０は、入力した第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を識別情報設定部１６０に出力する。 The communication control section 150 of the slave control device 100S receives the first signal Fs1 and the second signal Fs2 output from the communication control section 110 of the master control device 100M via the connection line Lc. That is, the communication control unit 150 receives the first signal Fs1 and the second signal Fs2 whose signal states have been switched to a High state or a Low state by the communication control unit 110. The communication control unit 150 then outputs the input first signal Fs1 and second signal Fs2 to the identification information setting unit 160.

識別情報設定部１６０は、通信制御部１５０が入力した第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態、換言すれば、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０によって切り替えられた第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態を判別し、信号状態に対応する識別情報ＩであるＩＰアドレスを設定する。このため、識別情報設定部１６０は、信号状態判別部１６１と、対応判定部１６２とを備えている。 The identification information setting unit 160 determines the signal states of the first signal Fs1 and the second signal Fs2 input by the communication control unit 150, in other words, the first signal Fs1 and the second signal Fs1 switched by the communication control unit 110 of the master control device 100M. The signal state of the second signal Fs2 is determined, and an IP address as identification information I corresponding to the signal state is set. For this reason, the identification information setting section 160 includes a signal state determining section 161 and a correspondence determining section 162.

信号状態判別部１６１は、通信制御部１５０から取得した第一信号Ｆｓ１の信号状態及び第二信号Ｆｓ２の信号状態を判別する。即ち、信号状態判別部１６１は、第一信号Ｆｓ１の信号状態がＨｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態であるかを判別すると共に、第二信号Ｆｓ２の信号状態がＨｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態であるかを判別する。尚、信号状態判別部１６１は、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態として、Ｈｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態を判別することに代えて又は加えて、例えば、Ｈｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態の継続時間を判別したり、所定時間内におけるＨｉｇｈ状態及びＬｏｗ状態の繰り返し回数等を判別したりすることができる。そして、信号状態判別部１６１は、判別した第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態を対応判定部１６２に出力する。 The signal state determination unit 161 determines the signal state of the first signal Fs1 and the signal state of the second signal Fs2 acquired from the communication control unit 150. That is, the signal state determining unit 161 determines whether the signal state of the first signal Fs1 is a High state or a Low state, and also determines whether the signal state of the second signal Fs2 is a High state or a Low state. Note that, instead of or in addition to determining whether the signal states of the first signal Fs1 and the second signal Fs2 are High or Low, the signal state determination unit 161 determines, for example, the duration of the High or Low state. It is also possible to determine the number of times the High state and Low state are repeated within a predetermined time. Then, the signal state determining section 161 outputs the determined signal states of the first signal Fs1 and the second signal Fs2 to the correspondence determining section 162.

対応判定部１６２は、信号状態判別部１６１によって判別された第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態に対応する識別情報ＩであるＩＰアドレスを判定する。対応判定部１６２は、例えば、情報記憶部１９０に予め記憶されている、或いは、マスタ制御装置１００Ｍから供給された図５に示すテーブルＨを参照し、テーブルＨに表された第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態に対応するＩＰアドレスを決定する。そして、対応判定部１６２は、決定したＩＰアドレスを、スレーブ制御装置１００Ｓ自身のＩＰアドレスとして設定する。これにより、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を入力したスレーブ制御装置１００Ｓにおいては、自身により、ネットワークＮにおいて識別されるＩＰアドレスを設定する。 The correspondence determining unit 162 determines the IP address, which is the identification information I, corresponding to the signal states of the first signal Fs1 and the second signal Fs2 determined by the signal state determining unit 161. For example, the correspondence determination unit 162 refers to the table H shown in FIG. An IP address corresponding to the signal state of the second signal Fs2 is determined. Then, the correspondence determining unit 162 sets the determined IP address as the IP address of the slave control device 100S itself. As a result, the slave control device 100S that receives the first signal Fs1 and the second signal Fs2 sets an IP address to be identified in the network N by itself.

スレーブ制御装置１００Ｓの指令取得部１７０は、マスタ制御装置１００Ｍの指令出力部１３０からネットワークＮを介して出力された動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓを取得する。尚、指令取得部１７０は、動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓが記載されてネットワークＮ上に供給されたフレームＦにおけるヘッダを参照し、自身のスレーブ制御装置１００Ｓ宛てに供給されたフレームＦ即ち指令情報としての動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓを取得する。 The command acquisition unit 170 of the slave control device 100S acquires the operation command information Om and the emergency stop information Os output from the command output unit 130 of the master control device 100M via the network N. Note that the command acquisition unit 170 refers to the header of the frame F, which is supplied to the network N and includes the operation command information Om and the emergency stop information Os, and receives the frame F that is supplied to its own slave control device 100S, that is, Obtain operation command information Om and emergency stop information Os as command information.

スレーブ制御装置１００Ｓの指令出力部１８０は、例えば、自身が制御しているプラズマ発生装置１０の動作状態やプラズマガスを照射したワークＷの改質処理の程度、工程の下流側におけるワークＷに対する追加処理等の動作指令情報Ｏｍを、マスタ制御装置１００Ｍや他のスレーブ制御装置１００Ｓに出力する。或いは、スレーブ制御装置１００Ｓに緊急停止ボタン１０３が設けられている場合において、緊急停止ボタン１０３が操作された際、マスタ制御装置１００Ｍ及び他のスレーブ制御装置１００Ｓに緊急停止情報Ｏｓを出力する。尚、スレーブ制御装置１００Ｓの指令出力部１８０については、必要に応じて、省略することが可能である。 The command output unit 180 of the slave control device 100S, for example, determines the operating state of the plasma generator 10 that it controls, the degree of modification of the workpiece W irradiated with plasma gas, and additions to the workpiece W on the downstream side of the process. Operation command information Om such as processing is output to the master control device 100M and other slave control devices 100S. Alternatively, in a case where the slave control device 100S is provided with the emergency stop button 103, when the emergency stop button 103 is operated, the emergency stop information Os is output to the master control device 100M and other slave control devices 100S. Note that the command output unit 180 of the slave control device 100S can be omitted if necessary.

スレーブ制御装置１００Ｓの情報記憶部１９０は、例えば、マスタ制御装置１００Ｍと接続線Ｌｃを介して直接的に接続された際に供給された、或いは、予め与えられている図５に示すテーブルＨを記憶する。又、情報記憶部１９０は、指令取得部１７０によって取得された動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓを一時的に記憶する。尚、スレーブ制御装置１００Ｓの情報記憶部１９０についても、必要に応じて、省略することが可能である。 For example, the information storage unit 190 of the slave control device 100S stores the table H shown in FIG. Remember. Further, the information storage unit 190 temporarily stores the operation command information Om and the emergency stop information Os acquired by the command acquisition unit 170. Note that the information storage section 190 of the slave control device 100S can also be omitted if necessary.

１－４．スレーブ制御装置１００Ｓ自身によるＩＰアドレスの設定（プラズマ処理システムの情報設定方法）
上述したように、プラズマ処理システム１を形成する複数の制御装置１００については、１つの制御装置１００をマスタ制御装置１００Ｍとして設定し、他の制御装置１００をスレーブ制御装置１００Ｓとして設定する、マスタ／スレーブの関係が形成される。そして、マスタ制御装置１００Ｍ及び複数のスレーブ制御装置１００Ｓは、ネットワークＮに接続され、特に、マスタ制御装置１００Ｍから出力される自身宛てのフレームＦ（動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓ）をスレーブ制御装置１００Ｓが取得する。 1-4. IP address setting by slave control device 100S itself (information setting method for plasma processing system)
As described above, regarding the plurality of control devices 100 forming the plasma processing system 1, one control device 100 is set as the master control device 100M, and the other control devices 100 are set as the slave control devices 100S. A slave relationship is formed. The master control device 100M and the plurality of slave control devices 100S are connected to the network N, and in particular perform slave control over frames F (operation command information Om and emergency stop information Os) addressed to themselves that are output from the master control device 100M. The device 100S acquires it.

ここで、本実施形態においては、ネットワークＮとして、例えば、イーサネット（登録商標）に準拠した通信方式を用いた通信により各種の情報伝送を行う産業用イーサネットを適用した場合を例示する。この場合、マスタ制御装置１００Ｍ（指令出力部１３０）は、ネットワークＮを介して、各々のスレーブ制御装置１００Ｓ（指令取得部１７０）と定周期で通信を行う。尚、ネットワークＮにおける通信は、マスタ制御装置１００Ｍの指令出力部１３０から送信されたフレームＦが全てのスレーブ制御装置１００Ｓを通過すると共に、フレームＦが再び全てのスレーブ制御装置１００Ｓを通過してマスタ制御装置１００Ｍに戻される処理を一周期とする。 Here, in this embodiment, a case is exemplified in which, as the network N, industrial Ethernet, which transmits various information through communication using a communication method based on Ethernet (registered trademark), is applied. In this case, the master control device 100M (command output unit 130) communicates with each slave control device 100S (command acquisition unit 170) at regular intervals via the network N. In the communication in the network N, the frame F transmitted from the command output unit 130 of the master control device 100M passes through all the slave control devices 100S, and the frame F also passes through all the slave control devices 100S again to the master control device 100M. The process returned to the control device 100M is defined as one cycle.

このように、ネットワークＮにおいて通信を行うためには、マスタ制御装置１００Ｍを含め、各々のスレーブ制御装置１００Ｓは、ネットワークＮ上にて自身を識別するためのＩＰアドレスを設定する必要がある。そこで、プラズマ処理システム１において予め指定されているマスタ制御装置１００Ｍを除き、ネットワークＮにおいて通信を行うスレーブ制御装置１００Ｓは自身でＩＰアドレスを設定する。以下、このＩＰアドレスを設定する情報設定方法について説明する。 In this way, in order to communicate on the network N, each slave control device 100S, including the master control device 100M, needs to set an IP address for identifying itself on the network N. Therefore, except for the master control device 100M designated in advance in the plasma processing system 1, the slave control devices 100S that communicate on the network N set their own IP addresses. The information setting method for setting this IP address will be explained below.

例えば、ネットワークＮが構築される前、或いは、構築されたネットワークＮに新たなに参加する際には、ＩＰアドレスによって各々の制御装置１００が識別される必要がある。このため、マスタ制御装置１００Ｍは、接続線Ｌｃの信号線Ｌｃｓを介して制御装置１００即ちスレーブ制御装置１００Ｓが接続された場合、通信制御部１１０が第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を接続されたスレーブ制御装置１００Ｓに出力する（第一工程）。この場合、通信制御部１１０は、過去に設定がなされていないＩＰアドレスに対応するように、第一信号Ｆｓ１の信号状態及び第二信号Ｆｓ２の信号状態を切り替える。尚、通信制御部１１０は、例えば、接続線Ｌｃに接続された後（例えば、電力線Ｌｃｐを介して電力の供給が開始された後）に、接続されたスレーブ制御装置１００Ｓに第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を出力する。 For example, before the network N is constructed or when newly participating in the constructed network N, each control device 100 needs to be identified by an IP address. Therefore, when the master control device 100M is connected to the control device 100, that is, the slave control device 100S via the signal line Lcs of the connection line Lc, the communication control unit 110 is connected to the first signal Fs1 and the second signal Fs2. output to the slave control device 100S (first step). In this case, the communication control unit 110 switches the signal state of the first signal Fs1 and the signal state of the second signal Fs2 to correspond to an IP address that has not been set in the past. Note that, for example, after being connected to the connection line Lc (for example, after power supply is started via the power line Lcp), the communication control unit 110 sends the first signal Fs1 and the first signal Fs1 to the connected slave control device 100S. A second signal Fs2 is output.

スレーブ制御装置１００Ｓにおいては、通信制御部１５０がマスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０から出力された第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を取得し、識別情報設定部１６０に出力する。そして、上述したように、識別情報設定部１６０は、信号状態判別部１６１が通信制御部１５０から供給された第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の各々の信号状態を判別し、対応判定部１６２が信号状態判別部１６１によって判別された信号状態についてテーブルＨを参照して各々の信号状態に対応するＩＰアドレスを決定する（第二工程）。 In the slave control device 100S, the communication control section 150 acquires the first signal Fs1 and the second signal Fs2 output from the communication control section 110 of the master control device 100M, and outputs them to the identification information setting section 160. As described above, in the identification information setting section 160, the signal state determining section 161 determines the signal state of each of the first signal Fs1 and the second signal Fs2 supplied from the communication control section 150, and the correspondence determining section 162 refers to table H for the signal states determined by the signal state determining unit 161 and determines the IP address corresponding to each signal state (second step).

具体的に、プラズマ処理システム１において、１つのマスタ制御装置１００Ｍが設定されると共に、３つのスレーブ制御装置１００Ｓが設けられる場合を想定して説明する。この場合、マスタ制御装置１００Ｍについては、例えば、「１９２．１６８．１．１」となるＩＰアドレスが予め割り当てられているとする。従って、この場合、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、接続線Ｌｃの信号線Ｌｃｓを介してスレーブ制御装置１００Ｓが接続された際には、「１９２．１６８．１．１」以外のＩＰアドレスを割り当てる。 Specifically, a case will be described assuming that in the plasma processing system 1, one master control device 100M is set and three slave control devices 100S are provided. In this case, it is assumed that, for example, an IP address of "192.168.1.1" has been assigned to the master control device 100M in advance. Therefore, in this case, when the slave control device 100S is connected via the signal line Lcs of the connection line Lc, the communication control unit 110 of the master control device 100M uses an IP address other than "192.168.1.1". Assign addresses.

例えば、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、１つ目のスレーブ制御装置１００Ｓに「１９２．１６８．１．２」となるＩＰアドレスを設定させる。この場合、通信制御部１１０は、信号線Ｌｃｓを介して、第一信号Ｆｓ１をＨｉｇｈ状態として供給すると共に、第二信号Ｆｓ２をＬｏｗ状態として供給する（第一工程）。 For example, the communication control unit 110 of the master control device 100M sets an IP address of "192.168.1.2" to the first slave control device 100S. In this case, the communication control unit 110 supplies the first signal Fs1 in a High state and supplies the second signal Fs2 in a Low state via the signal line Lcs (first step).

スレーブ制御装置１００Ｓの通信制御部１５０は、信号線Ｌｃｓを介して、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０から供給された、Ｈｉｇｈ状態の第一信号Ｆｓ１及びＬｏｗ状態の第二信号Ｆｓ２を入力する。そして、１つ目のスレーブ制御装置１００Ｓの識別情報設定部１６０は、図５に示すように、例えば、情報記憶部１９０に予め記憶しているテーブルＨを参照する。これにより、１つ目のスレーブ制御装置１００Ｓ（より詳しくは、識別情報設定部１６０の対応判定部１６２）は、第一信号Ｆｓ１がＨｉｇｈ状態且つ第二信号Ｆｓ２がＬｏｗ状態に対応する「１９２．１６８．１．２」を、ネットワークＮ上において自身を識別するＩＰアドレスとして決定して設定する（第二工程）。 The communication control unit 150 of the slave control device 100S inputs the first signal Fs1 in the High state and the second signal Fs2 in the Low state, which are supplied from the communication control unit 110 of the master control device 100M via the signal line Lcs. . Then, the identification information setting section 160 of the first slave control device 100S refers to, for example, table H stored in advance in the information storage section 190, as shown in FIG. As a result, the first slave control device 100S (more specifically, the correspondence determination unit 162 of the identification information setting unit 160) determines that “192. 168.1.2'' as the IP address for identifying itself on the network N (second step).

又、例えば、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、２つ目のスレーブ制御装置１００Ｓに「１９２．１６８．１．３」となるＩＰアドレスを設定させる。この場合、通信制御部１１０は、信号線Ｌｃｓを介して、第一信号Ｆｓ１をＬｏｗ状態として供給すると共に、第二信号Ｆｓ２をＨｉｇｈ状態として供給する（第一工程）。 Also, for example, the communication control unit 110 of the master control device 100M sets an IP address of "192.168.1.3" to the second slave control device 100S. In this case, the communication control unit 110 supplies the first signal Fs1 in a Low state and supplies the second signal Fs2 in a High state via the signal line Lcs (first step).

２つ目のスレーブ制御装置１００Ｓの通信制御部１５０は、信号線Ｌｃｓを介して、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０から供給された、Ｌｏｗ状態の第一信号Ｆｓ１及びＨｉｇｈ状態の第二信号Ｆｓ２を入力する。そして、２つ目のスレーブ制御装置１００Ｓ（より詳しくは、識別情報設定部１６０の対応判定部１６２）は、テーブルＨを参照し、第一信号Ｆｓ１がＬｏｗ状態且つ第二信号Ｆｓ２がＨｉｇｈ状態に対応する「１９２．１６８．１．３」を、ネットワークＮ上において自身を識別するＩＰアドレスとして決定して設定する（第二工程）。 The communication control unit 150 of the second slave control device 100S receives the first signal Fs1 in the Low state and the second signal in the High state, which are supplied from the communication control unit 110 of the master control device 100M via the signal line Lcs. Enter Fs2. Then, the second slave control device 100S (more specifically, the correspondence determination unit 162 of the identification information setting unit 160) refers to table H and determines that the first signal Fs1 is in the Low state and the second signal Fs2 is in the High state. The corresponding "192.168.1.3" is determined and set as the IP address for identifying itself on the network N (second step).

更に、例えば、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、３つ目のスレーブ制御装置１００Ｓに「１９２．１６８．１．４」となるＩＰアドレスを設定させる。この場合、通信制御部１１０は、信号線Ｌｃｓを介して、第一信号Ｆｓ１をＬｏｗ状態として供給すると共に、第二信号Ｆｓ２をＬｏｗ状態として供給する（第一工程）。 Further, for example, the communication control unit 110 of the master control device 100M sets an IP address of "192.168.1.4" to the third slave control device 100S. In this case, the communication control unit 110 supplies the first signal Fs1 in a Low state and supplies the second signal Fs2 in a Low state via the signal line Lcs (first step).

３つ目のスレーブ制御装置１００Ｓの通信制御部１５０は、信号線Ｌｃｓを介して、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０から供給された、Ｌｏｗ状態の第一信号Ｆｓ１及びＬｏｗ状態の第二信号Ｆｓ２を入力する。そして、３つ目のスレーブ制御装置１００Ｓ（より詳しくは、識別情報設定部１６０の対応判定部１６２）は、テーブルＨを参照し、第一信号Ｆｓ１がＬｏｗ状態且つ第二信号Ｆｓ２がＬｏｗ状態に対応する「１９２．１６８．１．４」を、ネットワークＮ上において自身を識別するＩＰアドレスとして決定して設定する（第二工程）。 The communication control unit 150 of the third slave control device 100S receives the first signal Fs1 in the Low state and the second signal in the Low state, which are supplied from the communication control unit 110 of the master control device 100M via the signal line Lcs. Enter Fs2. Then, the third slave control device 100S (more specifically, the correspondence determination unit 162 of the identification information setting unit 160) refers to table H and determines that the first signal Fs1 is in the Low state and the second signal Fs2 is in the Low state. The corresponding "192.168.1.4" is determined and set as the IP address for identifying itself on the network N (second step).

このように、プラズマ処理システム１を形成する複数のスレーブ制御装置１００Ｓは、接続線Ｌｃを介してマスタ制御装置１００Ｍに接続されると、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０から出力された第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を入力することができる。そして、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を入力したスレーブ制御装置１００Ｓは、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の各々の信号状態を判別し、自身により、ネットワークＮ上で識別するための識別情報ＩとしてのＩＰアドレスを自動的に設定することができる。そして、このように、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００ＳがＩＰアドレスを設定することにより、ネットワークＮを介した通信により、動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓを取得することができる。 In this way, when the plurality of slave control devices 100S forming the plasma processing system 1 are connected to the master control device 100M via the connection line Lc, the first A signal Fs1 and a second signal Fs2 can be input. The slave control device 100S, which has received the first signal Fs1 and the second signal Fs2, determines the signal state of each of the first signal Fs1 and the second signal Fs2, and performs identification for identification on the network N by itself. An IP address as information I can be automatically set. In this way, by setting the IP addresses of the master control device 100M and the slave control device 100S, the operation command information Om and the emergency stop information Os can be acquired through communication via the network N.

１－５．ネットワークＮを介した動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓ（フレームＦ）の通信
上述したように、マスタ制御装置１００Ｍは、上述したように、識別情報ＩとしてのＩＰアドレスを設定した複数のスレーブ制御装置１００Ｓとの通信において、フレームＦを送受信する。このようなフレームＦを用いた通信を行うネットワークＮにおいて、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、指令出力部１３０と協働して、フレームＦの送受信可能となるようにコンフィグレーション処理の実行を各々のスレーブ制御装置１００Ｓに指令する。コンフィグレーション処理の実行により、スレーブ制御装置１００Ｓは、動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓが記載されるデータフィールドのうち自己に割り当てられたデータ区画を割り当てられる。 1-5. Communication of operation command information Om and emergency stop information Os (frame F) via network N As described above, the master control device 100M controls a plurality of slave devices having IP addresses set as identification information I. In communication with the device 100S, frame F is transmitted and received. In the network N that performs communication using such a frame F, the communication control unit 110 of the master control device 100M cooperates with the command output unit 130 to execute a configuration process so that frame F can be transmitted and received. is commanded to each slave control device 100S. By executing the configuration process, the slave control device 100S is assigned a data section assigned to itself among the data fields in which the operation command information Om and the emergency stop information Os are written.

ここで、コンフィグレーション処理は、通常は、各々のスレーブ制御装置１００Ｓが通信可能に接続されて、即ち、ＩＰアドレスを設定してネットワークＮが構築された場合に実行される。その他に、コンフィグレーション処理は、ネットワークＮへの加入要求をするスレーブ制御装置１００Ｓが検出された場合（例えば、電源がオンされた場合）や、一部のスレーブ制御装置１００ＳがネットワークＮから除外された場合（例えば、電源がオフされた場合）等に、必要に応じて実行される。 Here, the configuration process is normally executed when the respective slave control devices 100S are communicably connected, that is, when the IP addresses are set and the network N is constructed. In addition, the configuration process is performed when a slave control device 100S that requests to join the network N is detected (for example, when the power is turned on), or when some slave control devices 100S are excluded from the network N. It is executed as necessary, such as when the power is turned off (for example, when the power is turned off).

ところで、各々の制御装置１００（マスタ制御装置１００Ｍ及び各々のスレーブ制御装置１００Ｓ）は、入力された動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓに基づいて、制御するプラズマ発生装置１０のプラズマ発生処理における制御内容等を決定する。これにより、各々の制御装置１００は、例えば、プラズマヘッド１１にプラズマガスを照射するように指令したり、産業用ロボット１６に制御プログラムに応じてプラズマガスの照射範囲内にてプラズマヘッド１１を移動するように指令したり、或いは、プラズマ発生装置１０の動作を停止するように指令したりする。このため、プラズマ発生装置１０の動作中においては、各々の制御装置１００が取得した動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓを反映させた動作が必要となり、通信にリアルタイム性が要求される。 By the way, each control device 100 (master control device 100M and each slave control device 100S) controls the plasma generation process of the plasma generation device 10 to be controlled based on the input operation command information Om and emergency stop information Os. Decide on the content, etc. As a result, each control device 100 can, for example, instruct the plasma head 11 to irradiate plasma gas, or instruct the industrial robot 16 to move the plasma head 11 within the plasma gas irradiation range according to the control program. or to stop the operation of the plasma generator 10. Therefore, while the plasma generator 10 is in operation, it is necessary to perform an operation that reflects the operation command information Om and the emergency stop information Os acquired by each control device 100, and real-time communication is required.

ここで、ネットワークＮにおける複数の制御装置１００（マスタ制御装置１００Ｍ及び各々のスレーブ制御装置１００Ｓ）は、アクティブ状態とパッシブ状態とを切り換え可能に構成される。ここで、制御装置１００の「アクティブ状態」とは、受信したフレームＦの通過を許容し、且つフレームＦへの書き込みを許容された状態をいう。つまり、アクティブ状態の制御装置１００は、フレームＦを通過させる際に、フレームＦにおけるデータフィールドのうち自己に割り当てられたデータ区画にデータを書き込みすることを許容される。 Here, the plurality of control devices 100 (master control device 100M and each slave control device 100S) in network N are configured to be switchable between an active state and a passive state. Here, the "active state" of the control device 100 refers to a state in which the received frame F is allowed to pass through and writing to the frame F is allowed. That is, when the control device 100 in the active state passes the frame F, it is allowed to write data in the data section assigned to itself among the data fields in the frame F.

又、制御装置１００の「パッシブ状態」とは、ネットワークＮに加入した状態であり、且つ受信したフレームＦの通過を許容しつつフレームＦへの書き込みを禁止された状態をいう。つまり、パッシブ状態の制御装置１００は、自己のデータ区画に対して書き込みを行わない。但し、パッシブ状態の制御装置１００は、アクティブ状態の制御装置１００と同様にデータの読み取りについては禁止されていない。従って、パッシブ状態の制御装置１００は、通過させたフレームＦにおけるデータフィールドのうち自己又は他の制御装置１００に割り当てられたデータ区画のデータを読み取ることは許容される。 Furthermore, the "passive state" of the control device 100 refers to a state in which it has joined the network N, and in which writing to the frame F is prohibited while allowing the received frame F to pass. In other words, the control device 100 in the passive state does not write to its own data partition. However, the control device 100 in the passive state is not prohibited from reading data, similar to the control device 100 in the active state. Therefore, the control device 100 in the passive state is allowed to read the data of the data section assigned to itself or another control device 100 among the data fields in the passed frame F.

上述のように、コンフィグレーション処理が行われ、ネットワークＮにおいてアクティブ状態（又は、パッシブ状態）とされた場合、マスタ制御装置１００Ｍは、ネットワークＮを介して、スレーブ制御装置１００Ｓに動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓが記載されたフレームＦを送信することができる。つまり、マスタ制御装置１００Ｍは、各々のスレーブ制御装置１００Ｓを指定、即ち、フレームＦのヘッダに対象となるスレーブ制御装置１００Ｓに割り当てられたＩＰアドレスを記載して、フレームＦを送信する。これにより、対象となるスレーブ制御装置１００Ｓは、自身に宛てて送信されたフレームＦを取得し、動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓに従ってプラズマ発生装置１０の動作を制御する。 As described above, when the configuration process is performed and the network N is in the active state (or passive state), the master control device 100M sends the operation command information Om and the slave control device 100S via the network N. Frame F in which emergency stop information Os is written can be transmitted. That is, the master control device 100M specifies each slave control device 100S, that is, writes the IP address assigned to the target slave control device 100S in the header of the frame F, and transmits the frame F. Thereby, the target slave control device 100S acquires the frame F transmitted to itself, and controls the operation of the plasma generator 10 according to the operation command information Om and the emergency stop information Os.

特に、作業者によってマスタ制御装置１００Ｍに設けられた緊急停止ボタン１０３が操作された際に、マスタ制御装置１００Ｍは、ネットワークＮを介して、リアルタイムに個々のスレーブ制御装置１００Ｓ又は全てのスレーブ制御装置１００Ｓに緊急停止情報Ｏｓを送信することができる。従って、例えば、複数のプラズマ発生装置１０によって形成されるプラズマ処理システム１において異常等が発生した場合には、作業者は、一部のプラズマ発生装置１０又は全てのプラズマ発生装置１０の動作を緊急停止することができる。 In particular, when the emergency stop button 103 provided on the master control device 100M is operated by the worker, the master control device 100M can control each slave control device 100S or all slave control devices in real time via the network N. The emergency stop information Os can be sent to the 100S. Therefore, for example, if an abnormality or the like occurs in the plasma processing system 1 formed by a plurality of plasma generators 10, the operator should urgently suspend the operation of some or all of the plasma generators 10. Can be stopped.

尚、上述したように、各々のスレーブ制御装置１００Ｓにおいて、それぞれのスレーブ制御装置１００Ｓが緊急停止ボタン１０３を備えることができる。この場合には、例えば、プラズマ発生装置１０において異常が発生すると、異常の発生したプラズマ発生装置１０に対応する緊急停止ボタン１０３が操作される。これにより、作業者は、異常の発生したプラズマ発生装置１０の動作を個々に緊急停止することができる。つまり、この場合には、ネットワークＮを介してマスタ装置Ｍｍから出力される緊急停止情報Ｏｓに依らずに、異常の発生したプラズマ発生装置１０の動作を個別に緊急停止することができる。 Note that, as described above, each slave control device 100S can be provided with an emergency stop button 103. In this case, for example, when an abnormality occurs in the plasma generator 10, the emergency stop button 103 corresponding to the plasma generator 10 in which the abnormality has occurred is operated. This allows the operator to individually emergency stop the operation of the plasma generator 10 in which the abnormality has occurred. That is, in this case, the operation of the plasma generator 10 in which the abnormality has occurred can be individually emergency stopped without depending on the emergency stop information Os output from the master device Mm via the network N.

ここで、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓの各々は、動作指令情報Ｏｍ（指令情報又は指令情報に含まれる緊急停止情報Ｏｓ）に含まれるオフ信号に応じて、電源装置１２によってプラズマ発生装置１０のプラズマヘッド１１に供給される電力を遮断することができる。そして、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓの各々は、動作指令情報Ｏｍ（指令情報又は指令情報に含まれる緊急停止情報Ｏｓ）に含まれるオフ信号に応じて、電力の供給を遮断してから予め設定された所定時間の経過後に、ガス供給装置１３からプラズマ発生装置１０のプラズマヘッド１１に供給されてプラズマヘッド１１にてプラズマ化されるプロセスガスを遮断することができる。 Here, each of the master control device 100M and the slave control device 100S operates the plasma generator by the power supply device 12 in response to an off signal included in the operation command information Om (command information or emergency stop information Os included in the command information). The power supplied to the ten plasma heads 11 can be cut off. Then, each of the master control device 100M and the slave control device 100S cuts off the power supply according to the off signal included in the operation command information Om (command information or emergency stop information Os included in the command information), and then After a preset predetermined time has elapsed, the process gas supplied from the gas supply device 13 to the plasma head 11 of the plasma generator 10 and turned into plasma by the plasma head 11 can be shut off.

これにより、例えば、電力の供給を遮断して動作しているプラズマ発生装置１０を停止させる場合、電力の供給が遮断された後に所定時間が経過するまではプロセスガスの供給を継続することができる。従って、例えば、所定時間が経過するまでに、或いは、所定時間が経過した後であっても、プラズマ発生装置１０の動作を再開させる場合には効率的にプラズマガスを生成させることができる。 Thus, for example, when stopping the plasma generator 10 that is operating by cutting off the power supply, it is possible to continue supplying the process gas until a predetermined time elapses after the power supply is cut off. . Therefore, for example, when restarting the operation of the plasma generator 10, plasma gas can be efficiently generated before or even after a predetermined time has elapsed.

又、マスタ制御装置１００Ｍ及びスレーブ制御装置１００Ｓの各々は、動作指令情報Ｏｍ（指令情報）に含まれるオン信号に応じて、プラズマ発生装置１０を暖機運転させることができる。例えば、プラズマ発生装置１０の動作開始直後においてはプロセスガスのプラズマ化処理が不安定になる可能性が高く、その結果、プラズマガスの生成が不安定になる可能性がある。このため、暖機運転を行わない場合には、通常、プラズマ発生装置１０の動作開始直後にはプラズマガスの被処理物への照射を行わない。これに対して、プラズマ発生装置１０を暖機運転させた場合には、暖機運転によってプラズマ化処理を安定させることができ、プラズマガスを安定して生成することができる。このため、プラズマ発生装置１０を暖機運転させた場合には、被処理物に安定して生成されたプラズマガスを速やかに照射することができる。 Further, each of the master control device 100M and the slave control device 100S can warm up the plasma generation device 10 in response to the ON signal included in the operation command information Om (command information). For example, immediately after the plasma generator 10 starts operating, there is a high possibility that the plasma processing of the process gas will become unstable, and as a result, the generation of plasma gas may become unstable. Therefore, when warm-up operation is not performed, the plasma gas is not normally irradiated onto the object to be processed immediately after the plasma generator 10 starts operating. On the other hand, when the plasma generator 10 is warmed up, the plasma generation process can be stabilized by the warm-up operation, and plasma gas can be stably generated. Therefore, when the plasma generator 10 is warmed up, the object to be processed can be rapidly irradiated with the stably generated plasma gas.

以上の説明からも理解できるように、プラズマ処理システム１は、プラズマガスを生成して照射するプラズマヘッド１１を有する複数のプラズマ発生装置１０と、各々のプラズマ発生装置１０の動作を制御する複数の制御装置１００と、を備え、複数の制御装置１００のうちの少なくとも一つがマスタ制御装置１００Ｍ、且つ、マスタ制御装置１００Ｍ以外の制御装置１００がスレーブ制御装置１００Ｓであり、ネットワークＮを介してマスタ制御装置１００Ｍからのプラズマ発生装置１０の動作に関する動作指令情報Ｏｍを含む指令情報を記載したフレームＦがスレーブ制御装置１００Ｓに出力されることによって複数のプラズマ発生装置１０の各々が動作可能とされており、マスタ制御装置１００Ｍのみが制御装置１００の間で共用可能な共用装置Ｃを有する。 As can be understood from the above description, the plasma processing system 1 includes a plurality of plasma generators 10 each having a plasma head 11 that generates and irradiates plasma gas, and a plurality of plasma generators 10 that control the operation of each plasma generator 10. a control device 100, at least one of the plurality of control devices 100 is a master control device 100M, and the control devices 100 other than the master control device 100M are slave control devices 100S, and the master control device 100S is controlled via the network N. Each of the plurality of plasma generation devices 10 is enabled to operate by outputting a frame F in which command information including operation command information Om regarding the operation of the plasma generation device 10 from the device 100M is output to the slave control device 100S. , only the master control device 100M has a shared device C that can be shared among the control devices 100.

これによれば、マスタ制御装置１００Ｍのみが、プラズマ発生装置１０を動作させる際に作業者によって利用される入力装置１０１や表示装置１０２等の共用装置Ｃを備えることができる。換言すれば、スレーブ制御装置１００Ｓには、プラズマ発生装置１０を動作させる際に作業者による利用頻度の低い共用装置Ｃは設けられない。従って、マスタ／スレーブの関係を形成する制御装置１００のうち、スレーブ制御装置１００Ｓの簡素化が可能であり、制御装置１００、ひいては、プラズマ処理システム１の製造コストを低減することができる。 According to this, only the master control device 100M can include the shared devices C, such as the input device 101 and the display device 102, which are used by the operator when operating the plasma generator 10. In other words, the slave control device 100S is not provided with the shared device C that is used infrequently by workers when operating the plasma generator 10. Therefore, among the control devices 100 forming a master/slave relationship, the slave control device 100S can be simplified, and the manufacturing cost of the control device 100 and, by extension, the plasma processing system 1 can be reduced.

又、制御装置１００は、必要最低限の構成を有するシングルボードコンピュータを用いて形成することができる。これにより、プラズマ発生装置１０を動作させる際に不要な部品を設ける必要がなく、従って、制御装置１００の簡素化が可能であり、製造コストを低減することができる。 Further, the control device 100 can be formed using a single board computer having the minimum required configuration. Thereby, there is no need to provide unnecessary parts when operating the plasma generator 10, and therefore the control device 100 can be simplified and manufacturing costs can be reduced.

又、マスタ制御装置１００Ｍに共用装置Ｃに含まれる緊急停止ボタン１０３を設け、緊急停止ボタン１０３が操作された際に、マスタ制御装置１００ＭがネットワークＮを介してスレーブ制御装置１００Ｓに緊急停止情報Ｏｓを出力することができる。これにより、例えば、プラズマ処理システム１を形成する複数のプラズマ発生装置１０において何らかの異常が発生した場合であっても、プラズマ発生装置１０を一斉に停止させることができる。 Further, the master control device 100M is provided with an emergency stop button 103 included in the shared device C, and when the emergency stop button 103 is operated, the master control device 100M sends emergency stop information Os to the slave control device 100S via the network N. can be output. Thereby, for example, even if some abnormality occurs in the plurality of plasma generation apparatuses 10 forming the plasma processing system 1, the plasma generation apparatuses 10 can be stopped all at once.

ここで、スレーブ制御装置１００Ｓにも、必要に応じて、緊急停止ボタン１０３を設けることも可能である。この場合には、例えば、異常の発生したプラズマ発生装置１０のみの動作を停止させることができる。これにより、例えば、プラズマ処理システム１全体の生産への影響を小さく抑えることができる。 Here, the slave control device 100S may also be provided with an emergency stop button 103, if necessary. In this case, for example, the operation of only the plasma generator 10 in which the abnormality has occurred can be stopped. Thereby, for example, the influence on the production of the plasma processing system 1 as a whole can be suppressed.

２．変形例
上述した実施形態においては、スレーブ制御装置１００Ｓは、ネットワークＮを介してマスタ制御装置１００Ｍから供給されるフレームＦに記載された動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓに従って、プラズマ発生装置１０の動作を制御するようにした。しかしながら、例えば、スレーブ制御装置１００Ｓは、プラズマ発生装置１０に設けられた各種センサによる検出値に基づいて、或いは、ネットワークＮを介して他のスレーブ制御装置１００Ｓから取得した指令情報に基づいて、プラズマ発生装置１０の動作を制御するようにしても良い。即ち、この場合には、各々のスレーブ制御装置１００Ｓは、独自のコマンド等に従って、プラズマ発生装置１０の動作を制御することができる。この場合においても、常に共用装置Ｃを設けておく必要がなく、上述した実施形態と同様の効果が期待できる。 2. Modification Example In the embodiment described above, the slave control device 100S controls the plasma generation device 10 according to the operation command information Om and the emergency stop information Os written in the frame F supplied from the master control device 100M via the network N. The behavior can now be controlled. However, for example, the slave control device 100S controls plasma generation based on detection values from various sensors provided in the plasma generation device 10, or based on command information acquired from another slave control device 100S via the network N. The operation of the generator 10 may also be controlled. That is, in this case, each slave control device 100S can control the operation of the plasma generation device 10 according to its own command or the like. Even in this case, it is not necessary to always provide the shared device C, and the same effects as in the embodiment described above can be expected.

又、上述した実施形態においては、プラズマ処理システム１が３つのスレーブ制御装置１００Ｓを有する場合を例示した。しかしながら、スレーブ制御装置１００Ｓの数については、これに限られず、２つ以下、又は、４つ以上設けることが可能であることは言うまでもない。ここで、スレーブ制御装置１００Ｓが４つ以上となる場合には、マスタ制御装置１００Ｍの通信制御部１１０は、出力する第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態として、例えば、Ｈｉｇｈ状態又はＬｏｗ状態の継続時間を異ならせたり、Ｈｉｇｈ状態とＬｏｗ状態の切替パターンを異ならせたりする。 Moreover, in the embodiment described above, the case where the plasma processing system 1 has three slave control devices 100S was illustrated. However, the number of slave control devices 100S is not limited to this, and it goes without saying that it is possible to provide two or less, or four or more. Here, when the number of slave control devices 100S is four or more, the communication control unit 110 of the master control device 100M sets the signal states of the first signal Fs1 and the second signal Fs2 to be output, for example, a High state or a Low state. The duration times of the states are made different, or the switching patterns between the High state and the Low state are made different.

これにより、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２の信号状態に対応してネットワークＮ上において識別可能な識別情報ＩであるＩＰアドレスの数を増やすことができる。従って、例えば、第一信号Ｆｓ１及び第二信号Ｆｓ２を受信した４番目以降のスレーブ制御装置１００Ｓは、上述した実施形態と同様に、自身でＩＰアドレスを決定して設定することができる。 Thereby, the number of IP addresses that are the identification information I that can be identified on the network N can be increased in accordance with the signal states of the first signal Fs1 and the second signal Fs2. Therefore, for example, the fourth and subsequent slave control devices 100S that have received the first signal Fs1 and the second signal Fs2 can determine and set their own IP addresses, similarly to the embodiment described above.

更に、上述した実施形態においては、ネットワークＮを介して、マスタ制御装置１００Ｍからスレーブ制御装置１００Ｓに対して動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓが供給される場合を例示した。しかしながら、例えば、プラズマ処理システム１の稼働に伴って状況変化等が生じた場合、図４にて二点鎖線により示すように、スレーブ制御装置１００Ｓの指令出力部１８０が、生じた状況変化等を動作指令情報Ｏｍ及び緊急停止情報Ｏｓとして、マスタ制御装置１００Ｍや他のスレーブ制御装置１００Ｓに出力することも可能である。 Furthermore, in the embodiment described above, the case where the operation command information Om and the emergency stop information Os are supplied from the master control device 100M to the slave control device 100S via the network N is illustrated. However, for example, when a change in the situation occurs due to the operation of the plasma processing system 1, the command output unit 180 of the slave control device 100S responds to the change in the situation as shown by the two-dot chain line in FIG. It is also possible to output the operation command information Om and the emergency stop information Os to the master control device 100M and other slave control devices 100S.

１…プラズマ処理システム、１０…プラズマ発生装置、１１…プラズマヘッド、１２…電源装置、１３…ガス供給装置、１４…電源ケーブル、１５…ガス配管、１６…産業用ロボット、１６Ａ，１６Ｂ…ロボットアーム、１００…制御装置、１００Ｍ…マスタ制御装置、１００Ｓ…スレーブ制御装置、１０１…入力装置、１０２…表示装置、１０３…緊急停止ボタン、１１０…通信制御部、１２０…指令取得部、１３０…指令出力部、１４０…情報記憶部、１５０…通信制御部、１６０…識別情報設定部、１６１…信号状態判別部、１６２…対応判定部、１７０…指令取得部、１８０…指令出力部、１９０…情報記憶部、Ｃ…共用装置、Ｉｔ…通信インターフェース（情報送受信部）、Ｉｓ…信号インターフェース（信号送受信部）、Ｉｃ…接続インターフェース（共用装置接続部）、Ｆｓ１…第一信号、Ｆｓ２…第二信号、Ｎ…ネットワーク、Ｈ…テーブル、Ｉ…識別情報、Ｌｃ…接続線、Ｌｃｓ…信号線、Ｌｃｐ…電力線、Ｆ…フレーム（指令情報）、Ｏｍ…動作指令情報、Ｏｓ…緊急停止情報、Ｗ…ワーク、Ｄ…ワーク台 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Plasma processing system, 10... Plasma generator, 11... Plasma head, 12... Power supply device, 13... Gas supply device, 14... Power cable, 15... Gas piping, 16... Industrial robot, 16A, 16B... Robot arm , 100...Control device, 100M...Master control device, 100S...Slave control device, 101...Input device, 102...Display device, 103...Emergency stop button, 110...Communication control unit, 120...Command acquisition unit, 130...Command output 140... Information storage section, 150... Communication control section, 160... Identification information setting section, 161... Signal state determination section, 162... Correspondence determination section, 170... Command acquisition section, 180... Command output section, 190... Information storage Part, C...shared device, It...communication interface (information transmitting/receiving section), Is...signal interface (signal transmitting/receiving section), Ic...connection interface (shared device connection section), Fs1...first signal, Fs2...second signal, N...Network, H...Table, I...Identification information, Lc...Connection line, Lcs...Signal line, Lcp...Power line, F...Frame (command information), Om...Operation command information, Os...Emergency stop information, W...Work ,D...Work table

Claims (14)

複数のプラズマ発生装置と、
各々の前記プラズマ発生装置の動作を制御する複数の制御装置と、を備え、
複数の前記制御装置のうちの一つをマスタ制御装置、且つ、前記マスタ制御装置以外の前記制御装置をスレーブ制御装置とし、
複数の前記プラズマ発生装置の各々は、ネットワークを介して前記マスタ制御装置からの前記プラズマ発生装置の動作に関する動作指令情報を含む指令情報が前記スレーブ制御装置に出力されることによって連携して動作可能とされており、
前記マスタ制御装置のみが前記制御装置の間で共用可能な共用装置の少なくとも一つを有する、プラズマ処理システム。 multiple plasma generators;
A plurality of control devices that control the operation of each of the plasma generation devices,
One of the plurality of control devices is a master control device, and the control devices other than the master control device are slave control devices,
Each of the plurality of plasma generation devices can operate in cooperation with each other by outputting command information including operation command information regarding the operation of the plasma generation device from the master control device to the slave control device via a network. It is said that
A plasma processing system in which only the master control device has at least one shared device that can be shared among the control devices. 前記指令情報は、前記プラズマ発生装置を緊急停止させる緊急停止情報を含む、請求項１に記載のプラズマ処理システム。 The plasma processing system according to claim 1, wherein the command information includes emergency stop information for stopping the plasma generator. 前記緊急停止情報は、前記マスタ制御装置に設けられた前記共用装置としての緊急停止装置によって発生する、請求項２に記載のプラズマ処理システム。 3. The plasma processing system according to claim 2, wherein the emergency stop information is generated by an emergency stop device as the shared device provided in the master control device. 複数の前記スレーブ制御装置の各々は、
信号の送受信が可能な信号線を介して、前記マスタ制御装置に接続される、請求項１－３の何れか一項に記載のプラズマ処理システム。 Each of the plurality of slave control devices includes:
The plasma processing system according to any one of claims 1 to 3, wherein the plasma processing system is connected to the master control device via a signal line capable of transmitting and receiving signals. 前記マスタ制御装置は、
前記信号線を介して、少なくとも前記ネットワーク上において前記スレーブ制御装置を識別するための識別情報を出力する、請求項４に記載のプラズマ処理システム。 The master control device includes:
The plasma processing system according to claim 4, wherein identification information for identifying the slave control device at least on the network is outputted via the signal line. 前記識別情報は、前記信号線を介して、前記マスタ制御装置から各々の前記スレーブ制御装置に出力される複数の信号の各々の状態を表す信号状態に応じて決定されるＩＰアドレスである、請求項５に記載のプラズマ処理システム。 The identification information is an IP address determined according to a signal state representing a state of each of a plurality of signals output from the master control device to each of the slave control devices via the signal line. Item 5. The plasma processing system according to item 5. 前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置は、前記ネットワークを介して前記指令情報を送受信する情報送受信部、及び、前記信号線を介して前記ネットワーク上における前記スレーブ制御装置の識別に用いられる信号を送受信する信号送受信部を有するシングルボードコンピュータを備え、
前記マスタ制御装置が備える前記シングルボードコンピュータは、更に、前記共用装置を接続する共用装置接続部を有する、請求項４に記載のプラズマ処理システム。 The master control device and the slave control device each include an information transmitting/receiving unit that transmits and receives the command information via the network, and a signal that transmits and receives a signal used for identifying the slave control device on the network via the signal line. Equipped with a single board computer having a signal transmitting and receiving section,
5. The plasma processing system according to claim 4, wherein the single board computer included in the master control device further includes a shared device connection section for connecting the shared device. 前記共用装置は、入力装置又は表示装置を含む、請求項１又は２に記載のプラズマ処理システム。 The plasma processing system according to claim 1 or 2, wherein the shared device includes an input device or a display device. 前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置は、前記プラズマ発生装置を緊急停止させる緊急停止情報を発生する緊急停止装置を有する、請求項１に記載のプラズマ処理システム。 2. The plasma processing system according to claim 1, wherein the master control device and the slave control device include an emergency stop device that generates emergency stop information to emergency stop the plasma generator. 前記スレーブ制御装置は、前記マスタ制御装置から出力された前記指令情報以外の指令情報に従って前記プラズマ発生装置の動作を制御可能である、請求項１に記載のプラズマ処理システム。 The plasma processing system according to claim 1, wherein the slave control device is capable of controlling the operation of the plasma generation device according to command information other than the command information output from the master control device. 前記指令情報には、前記プラズマ発生装置を動作させるオン信号又は前記プラズマ発生装置を停止させるオフ信号が含まれ、
前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置が動作を制御する全ての前記プラズマ発生装置について、前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置は、前記オン信号に応じて全ての前記プラズマ発生装置を動作させ、若しくは、前記オフ信号に応じて全ての前記プラズマ発生装置を停止させ、又は、
前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置の各々が動作を制御する前記プラズマ発生装置について、前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置の各々は、前記オン信号に応じて前記プラズマ発生装置を個別に動作させ、若しくは、前記オフ信号に応じて各々の前記プラズマ発生装置を個別に停止させる、請求項１又は２に記載のプラズマ処理システム。 The command information includes an on signal for operating the plasma generator or an off signal for stopping the plasma generator,
Regarding all the plasma generation devices whose operations are controlled by the master control device and the slave control device, the master control device and the slave control device operate all the plasma generation devices in response to the on signal, or , stopping all the plasma generators in response to the off signal, or
Regarding the plasma generation device whose operation is controlled by each of the master control device and the slave control device, each of the master control device and the slave control device individually operates the plasma generation device in response to the on signal. 3. The plasma processing system according to claim 1, wherein each of the plasma generators is individually stopped in response to the off signal. 前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置は、前記オフ信号に応じて、前記プラズマ発生装置に供給される電力を遮断してから所定時間の経過後に、前記プラズマ発生装置にてプラズマ化されるプロセスガスの供給を遮断する、請求項１１に記載のプラズマ処理システム。 The master control device and the slave control device control the process gas to be turned into plasma in the plasma generation device after a predetermined time has elapsed after cutting off the power supplied to the plasma generation device in response to the off signal. The plasma processing system according to claim 11, wherein the supply of is cut off. 前記マスタ制御装置及び前記スレーブ制御装置は、前記オン信号に応じて、前記プラズマ発生装置を暖機運転させる、請求項１１に記載のプラズマ処理システム。 The plasma processing system according to claim 11, wherein the master control device and the slave control device warm up the plasma generation device in response to the on signal. 複数のプラズマ発生装置と、
各々の前記プラズマ発生装置の動作を制御する複数の制御装置と、を備えるプラズマ処理システムに適用され、
複数の前記制御装置のうちの一つをマスタ制御装置、且つ、前記マスタ制御装置以外の前記制御装置をスレーブ制御装置とし、
複数の前記プラズマ発生装置の各々は、ネットワークを介して前記マスタ制御装置からの前記プラズマ発生装置の動作に関する動作指令情報を含む指令情報が前記スレーブ制御装置に出力されることによって連携して動作可能とされており、
前記プラズマ処理システムは、前記マスタ制御装置のみが前記制御装置の間で共用可能な共用装置の少なくとも一つを有し、
前記マスタ制御装置が各々の前記スレーブ制御装置に対して、前記スレーブ制御装置を識別する識別情報を設定するための複数の信号を出力する第一工程と、
前記スレーブ制御装置が前記マスタ制御装置から出力された複数の前記信号を入力し、複数の前記信号の各々の状態を表す信号状態を判別し、判別した前記信号状態に対応する前記識別情報を設定する第二工程と、
を備える、プラズマ処理システムの情報設定方法。 multiple plasma generators;
applied to a plasma processing system comprising a plurality of control devices that control the operation of each of the plasma generation devices,
One of the plurality of control devices is a master control device, and the control devices other than the master control device are slave control devices,
Each of the plurality of plasma generation devices can operate in cooperation with each other by outputting command information including operation command information regarding the operation of the plasma generation device from the master control device to the slave control device via a network. It is said that
In the plasma processing system, only the master control device has at least one shared device that can be shared among the control devices,
a first step in which the master control device outputs, to each of the slave control devices, a plurality of signals for setting identification information for identifying the slave control devices;
The slave control device inputs the plurality of signals output from the master control device, determines a signal state representing a state of each of the plurality of signals, and sets the identification information corresponding to the determined signal state. A second step of
An information setting method for a plasma processing system, comprising:
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