JP2024025759A - Article which comprises surface treatment layer - Google Patents
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- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 75
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 68
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 44
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 43
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 40
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 152
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 71
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 45
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical group C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 7
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N triethyl(triethylsilyloxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)CC WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 3
- -1 siloxane, carbonyl Chemical group 0.000 description 73
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 41
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 description 34
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 27
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 21
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 20
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 17
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 11
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 10
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 9
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 8
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 8
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 7
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N pentan-3-ol Chemical compound CCC(O)CC AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000002042 time-of-flight secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 6
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 5
- XEZVDURJDFGERA-UHFFFAOYSA-N tricosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XEZVDURJDFGERA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 4
- ADANNTOYRVPQLJ-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-[[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C ADANNTOYRVPQLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005400 gorilla glass Substances 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229940008424 tetradecamethylhexasiloxane Drugs 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RNNHLXAEVKCLDG-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octamethyl-1,3,5,7,9,2,4,6,8,10-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1(C)O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 RNNHLXAEVKCLDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YFCGDEUVHLPRCZ-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-dimethyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C YFCGDEUVHLPRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FBZANXDWQAVSTQ-UHFFFAOYSA-N dodecamethylpentasiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C FBZANXDWQAVSTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940087203 dodecamethylpentasiloxane Drugs 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- WTBAHSZERDXKKZ-UHFFFAOYSA-N octadecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(Cl)=O WTBAHSZERDXKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-methoxypropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 2
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 2
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 2
- 150000003012 phosphoric acid amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N trichloro(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QZNNVYOVQUKYSC-JEDNCBNOSA-N (2s)-2-amino-3-(1h-imidazol-5-yl)propanoic acid;hydron;chloride Chemical compound Cl.OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 QZNNVYOVQUKYSC-JEDNCBNOSA-N 0.000 description 1
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- AFENDNXGAFYKQO-VKHMYHEASA-N (S)-2-hydroxybutyric acid Chemical compound CC[C@H](O)C(O)=O AFENDNXGAFYKQO-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluoro-6-methoxyhexane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,6,6,6-tridecafluoro-5-(1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexan-2-yloxy)hexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(trifluoromethoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXMGZLBGSDLPKN-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2,3,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(Cl)Cl JXMGZLBGSDLPKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)Cl DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical class CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001313 C5-C10 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000283070 Equus zebra Species 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Chemical group 0.000 description 1
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001963 alkali metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 description 1
- FYBYQXQHBHTWLP-UHFFFAOYSA-N bis(silyloxysilyloxy)silane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH3] FYBYQXQHBHTWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YGUFXEJWPRRAEK-UHFFFAOYSA-N dodecyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC YGUFXEJWPRRAEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWWOQRSLYPHAMK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxybutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(O)CC KWWOQRSLYPHAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Chemical group 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
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- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
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Abstract
Description
本開示は、表面処理層を含む物品に関する。 The present disclosure relates to articles that include surface treatment layers.
ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水撥油性を提供し得ることが知られている(特許文献1)。 It is known that certain silane compounds can provide excellent water and oil repellency when used for surface treatment of substrates (Patent Document 1).
本開示は、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層を備える物品を提供することを目的とする。 The present disclosure aims to provide an article with a surface treatment layer having higher friction durability.
本開示は、下記の態様を含む。
[1] ガラスと、下記式(1):
R1は、直鎖のC11-36アルキル基であり、
X1は、単結合、又は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-もしくは-S-を含む2価の基であり、
R2は、水素原子又はC1-6アルキル基であり、
RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。]
で表される化合物から形成された表面処理層とを含む物品。
[2] R1は、直鎖のC17-36アルキル基である、上記[1]に記載の物品。
[3] RSiは、下記式(S1)、(S2)、(S3)、又は(S4):
R11は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R12は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n1は、1~3の整数であり;
Ra1は、それぞれ独立して、-Z1-SiR21
p1R22
q1R23
r1であり;
Z1は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21は、それぞれ独立して、-Z1’-SiR21’
p1’R22’
q1’R23’
r1’であり;
R22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1’は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21’は、それぞれ独立して、-Z1”-SiR22”
q1”R23”
r1”であり;
R22’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23’は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1”は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R22”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23”は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
q1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rb1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
Rc1は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rd1は、それぞれ独立して、-Z2-CR31
p2R32
q2R33
r2であり;
Z2は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R31は、それぞれ独立して、-Z2’-CR32’
q2’R33’
r2’であり;
R32は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
R33は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
p2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z2’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R32’は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
R33’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
q2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z3は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R34は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R35は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Re1は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
Rf1は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
k2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rg1及びRh1は、それぞれ独立して、-Z4-SiR11
n1R12
3-n1、-Z4-SiRa1
k1Rb1
l1Rc1
m1、-Z4-CRd1
k2Re1
l2Rf1
m2であり;
Z4は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
ただし、式(S2)、(S3)、及び(S4)中、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも1つ存在する。]
で表される基である、上記[1]又は[2]に記載の物品。
[4] 前記加水分解性基は、-ORj、-OCORj、-O-N=CRj
2、-NRj
2、-NHRj、又は-NCO(これら式中、Rjは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)である、上記[1]~[3]のいずれか1項に記載の物品。
[5] 前記ガラスと表面処理層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含む、上記[1]~[4]のいずれか1項に記載の物品。
[6] 前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、上記[5]に記載の物品。
[7] 前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウムである、上記[6]に記載の物品。
[8] 前記表面処理層の厚さは、15nm以下である、上記[1]~[7]のいずれか1項に記載の物品。
[9] 前記表面処理層は、前記式(1)で表される化合物、及び低分子のシリコーン溶媒を含む表面処理剤で前記ガラスを処理することにより形成される、上記[1]~[8]のいずれか1項に記載の物品。
[10] 前記表面処理剤は、R71OR72、R73
n8C6H6-n8、R74R75R76Si-(O-SiR77R78)m8-R79、及び(OSiR77R78)m9
[式中
R71~R79は、それぞれ独立して、炭素数1~10個の一価の有機基であり、
m8は、1~6の整数であり、
m9は、4~8の整数であり、
n8は、0~6の整数である。]
で表される化合物から選択される溶媒を含む、上記[9]に記載の物品。
[11] 前記溶媒は、R74R75R76Si-(O-SiR77R78)m8-R79である、上記[10]に記載の物品。
[12] 前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、上記[10]又は[11]に記載の物品。
[13] 前記表面処理層は、前記表面処理剤を蒸着処理することにより形成される、上記[1]~[12]のいずれか1項に記載の物品。
[14] 光学部材である、上記[1]~[13]のいずれか1項に記載の物品。
[15] 式(1):
R1は、直鎖のC11-36アルキル基であり、
X1は、単結合、又は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-もしくは-S-を含む2価の基であり、
R2は、水素原子又はC1-6アルキル基であり、
RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む基である。]
で表される化合物。
[16] R1は、直鎖のC17-36アルキル基である、上記[15]に記載の化合物。
[17] RSiは、下記式(S1)、(S2)、(S3)、又は(S4):
R11は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R12は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n1は、1~3の整数であり;
Ra1は、それぞれ独立して、-Z1-SiR21
p1R22
q1R23
r1であり;
Z1は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21は、それぞれ独立して、-Z1’-SiR21’
p1’R22’
q1’R23’
r1’であり;
R22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1’は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21’は、それぞれ独立して、-Z1”-SiR22”
q1”R23”
r1”であり;
R22’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23’は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1”は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R22”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23”は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
q1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rb1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
Rc1は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rd1は、それぞれ独立して、-Z2-CR31
p2R32
q2R33
r2であり;
Z2は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R31は、それぞれ独立して、-Z2’-CR32’
q2’R33’
r2’であり;
R32は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
R33は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
p2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z2’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R32’は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
R33’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
q2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z3は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R34は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R35は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Re1は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
Rf1は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
k2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rg1及びRh1は、それぞれ独立して、-Z4-SiR11
n1R12
3-n1、-Z4-SiRa1
k1Rb1
l1Rc1
m1、-Z4-CRd1
k2Re1
l2Rf1
m2であり;
Z4は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
ただし、式(S2)、(S3)、及び(S4)中、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも1つ存在する。]
で表される基である、上記[15]又は[16]に記載の化合物。
[18] 前記加水分解性基は、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh
2、-NRh
2、-NHRh、又は-NCO(これら式中、Rhは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)である、上記[15]~[17]のいずれか1項に記載の化合物。
The present disclosure includes the following aspects.
[1] Glass and the following formula (1):
R 1 is a straight chain C 11-36 alkyl group,
X 1 is a single bond, -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 -, -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S- A divalent group containing
R 2 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
An article comprising a surface treatment layer formed from a compound represented by:
[2] The article according to [1] above, wherein R 1 is a linear C 17-36 alkyl group.
[3] R Si is the following formula (S1), (S2), (S3), or (S4):
R 11 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer from 1 to 3;
R a1 are each independently -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 are each independently -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is each independently an integer of 0 to 3;
q1 are each independently an integer of 0 to 3;
r1 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21' are each independently -Z 1" -SiR 22" q1" R 23" r1" ;
R22 ' is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 ' is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1' are each independently an integer of 0 to 3;
q1' are each independently an integer of 0 to 3;
r1' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1'' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R22 '' are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 '' are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1'' are each independently an integer of 0 to 3;
r1'' are each independently an integer of 0 to 3;
R b1 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is each independently an integer of 0 to 3;
l1 are each independently an integer of 0 to 3;
m1 is each independently an integer of 0 to 3;
R d1 are each independently -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 are each independently -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
p2 is each independently an integer of 0 to 3;
q2 are each independently an integer of 0 to 3;
r2 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 2' is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33' is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
q2' are each independently an integer of 0 to 3;
r2' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 3 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is each independently an integer of 0 to 3;
R e1 are each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is each independently an integer of 0 to 3;
l2 are each independently an integer of 0 to 3;
m2 is each independently an integer of 0 to 3;
R g1 and R h1 are each independently -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S2), (S3), and (S4), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
The article according to [1] or [2] above, which is a group represented by:
[4] The hydrolyzable group is -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , or -NCO (in these formulas, R j is substituted or The article according to any one of [1] to [3] above, which is an unsubstituted C 1-4 alkyl group.
[5] The article according to any one of [1] to [4] above, comprising an intermediate layer containing silicon oxide between the glass and the surface treatment layer.
[6] The article according to [5] above, wherein the intermediate layer contains an alkali metal atom.
[7] The article according to [6] above, wherein at least a portion of the alkali metal atoms are sodium.
[8] The article according to any one of [1] to [7] above, wherein the surface treatment layer has a thickness of 15 nm or less.
[9] The surface treatment layer is formed by treating the glass with a surface treatment agent containing a compound represented by the formula (1) and a low-molecular silicone solvent, [1] to [8] above. ] The article described in any one of the following.
[10] The surface treatment agent includes R 71 OR 72 , R 73 n8 C 6 H 6-n8 , R 74 R 75 R 76 Si-(O-SiR 77 R 78 ) m8 -R 79 , and (OSiR 77 R 78 ) m9
[In the formula, R 71 to R 79 are each independently a monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms,
m8 is an integer from 1 to 6,
m9 is an integer from 4 to 8,
n8 is an integer from 0 to 6. ]
The article described in [9] above, comprising a solvent selected from the compounds represented by.
[11] The article according to [10] above, wherein the solvent is R 74 R 75 R 76 Si-(O-SiR 77 R 78 ) m8 -R 79 .
[12] The article according to [10] or [11] above, wherein the solvent is hexamethyldisiloxane, hexaethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, or decamethylcyclopentasiloxane.
[13] The article according to any one of [1] to [12] above, wherein the surface treatment layer is formed by vapor-depositing the surface treatment agent.
[14] The article according to any one of [1] to [13] above, which is an optical member.
[15] Formula (1):
R 1 is a straight chain C 11-36 alkyl group,
X 1 is a single bond, -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 -, -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S- A divalent group containing
R 2 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
R Si is a group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
A compound represented by
[16] The compound according to [15] above, wherein R 1 is a linear C 17-36 alkyl group.
[17] R Si is the following formula (S1), (S2), (S3), or (S4):
R 11 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer from 1 to 3;
R a1 are each independently -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 are each independently -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is each independently an integer of 0 to 3;
q1 are each independently an integer of 0 to 3;
r1 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21' are each independently -Z 1" -SiR 22" q1" R 23" r1" ;
R22 ' is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 ' is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1' are each independently an integer of 0 to 3;
q1' are each independently an integer of 0 to 3;
r1' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1'' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R22 '' are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 '' are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1'' are each independently an integer of 0 to 3;
r1'' are each independently an integer of 0 to 3;
R b1 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is each independently an integer of 0 to 3;
l1 are each independently an integer of 0 to 3;
m1 is each independently an integer of 0 to 3;
R d1 are each independently -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 are each independently -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
p2 is each independently an integer of 0 to 3;
q2 are each independently an integer of 0 to 3;
r2 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 2' is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33' is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
q2' are each independently an integer of 0 to 3;
r2' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 3 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is each independently an integer of 0 to 3;
R e1 are each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is each independently an integer of 0 to 3;
l2 are each independently an integer of 0 to 3;
m2 is each independently an integer of 0 to 3;
R g1 and R h1 are each independently -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S2), (S3), and (S4), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
The compound according to the above [15] or [16], which is a group represented by:
[18] The hydrolyzable group is -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , or -NCO (in these formulas, R h is substituted or The compound according to any one of [15] to [17] above, which is an unsubstituted C 1-4 alkyl group.
本開示によれば、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層を備える物品を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide an article including a surface treatment layer having higher friction durability.
本明細書において用いられる場合、「1価の有機基」とは、炭素を含有する1価の基を意味する。1価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、1つ又はそれ以上のN、O、S、Si、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、1価の有機基を意味する。また、「2価の有機基」とは、炭素を含有する2価の基を意味する。かかる2価の有機基としては、例えば、有機基からさらに1個の水素原子を脱離させた2価の基が挙げられる。3価以上の有機基も同様に、有機基から所定の数の水素原子を脱離させた基を意味する。 As used herein, "monovalent organic group" means a monovalent group containing carbon. The monovalent organic group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group or a derivative thereof. A derivative of a hydrocarbon group is a group having one or more N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy, etc. at the end of the hydrocarbon group or in the molecular chain. means. In addition, when simply indicating an "organic group", it means a monovalent organic group. Moreover, "divalent organic group" means a divalent group containing carbon. Examples of such divalent organic groups include divalent groups obtained by removing one hydrogen atom from an organic group. Similarly, a trivalent or higher-valent organic group means a group obtained by removing a predetermined number of hydrogen atoms from an organic group.
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、C1-20炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、1つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。炭化水素基は、1つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。 As used herein, the term "hydrocarbon group" refers to a group containing carbon and hydrogen, which is obtained by removing a hydrogen atom from a hydrocarbon. Such hydrocarbon groups include, but are not particularly limited to, C 1-20 hydrocarbon groups, such as aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. The above-mentioned "aliphatic hydrocarbon group" may be linear, branched, or cyclic, and may be saturated or unsaturated. The hydrocarbon group may also contain one or more ring structures. Hydrocarbon groups may be substituted with one or more substituents.
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、1個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、C2-6アルキニル基、C3-10シクロアルキル基、C3-10不飽和シクロアルキル基、5~10員環のヘテロシクリル基、5~10員環の不飽和ヘテロシクリル基、C6-10アリール基及び5~10員環のヘテロアリール基から選択される1個又はそれ以上の基が挙げられる。 As used herein, the substituent of the "hydrocarbon group" is not particularly limited, but includes, for example, a halogen atom, and a C 1-6 alkyl which may be substituted with one or more halogen atoms. group, C 2-6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5- to 10-membered heterocyclyl group, 5- to 10-membered unsaturated ring One or more groups selected from a saturated heterocyclyl group, a C 6-10 aryl group, and a 5- to 10-membered heteroaryl group are mentioned.
本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh 2、-NRh 2、-NHRh、又は-NCO(これら式中、Rhは、置換または非置換の炭素数1~4のアルキル基を示す)などが挙げられ、好ましくは-ORh(即ち、アルコキシ基)である。Rhの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。 As used herein, the term "hydrolyzable group" means a group that can undergo a hydrolysis reaction, that is, a group that can be detached from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction. Examples of hydrolyzable groups include -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , or -NCO (in these formulas, R h is substituted or unsubstituted). (representing a substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), and -OR h (ie, an alkoxy group) is preferred. Examples of R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, and isobutyl; substituted alkyl groups such as chloromethyl. Among them, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl groups or ethyl groups are more preferred.
本開示の物品は、ガラスと、下記式(1):
R1は、直鎖のC11-36アルキル基であり、
X1は、単結合、又は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-もしくは-S-を含む2価の基であり、
R2は、水素原子又はC1-6アルキル基であり、
RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。]
で表される化合物から形成された表面処理層とを含む。
The article of the present disclosure includes glass and the following formula (1):
R 1 is a straight chain C 11-36 alkyl group,
X 1 is a single bond, -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 -, -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S- A divalent group containing
R 2 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
A surface treatment layer formed from a compound represented by:
本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性及び指紋拭き取り性の双方を有する。また、上記表面処理層は、使用する表面処理剤の組成にもよるが、さらに、撥水性、撥油性、防汚性、防水性(電子部品等への水の浸入を防止する)、表面滑り性(又は潤滑性、例えば指に対する優れた触感)、耐薬品性などを有し得る。 The surface treatment layer included in the articles of the present disclosure has both high abrasion durability and fingerprint wiping properties. In addition, the above-mentioned surface treatment layer may also have water repellency, oil repellency, stain resistance, waterproofness (prevents water from entering electronic parts, etc.), and surface slippage, depending on the composition of the surface treatment agent used. (or lubricity, such as good feel to the fingers), chemical resistance, and the like.
上記表面処理層の厚さは、特に限定されないが、好ましくは15nm以下、例えば1~15nm、1~13nm、又は1~10nmであり得る。 The thickness of the surface treatment layer is not particularly limited, but may preferably be 15 nm or less, for example 1 to 15 nm, 1 to 13 nm, or 1 to 10 nm.
一の態様において、本開示の物品は、ガラスと表面処理層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含んでいてもよい。かかる中間層を設けることにより、ガラスと表面処理層との密着性が向上し、耐久性が向上する。 In one embodiment, the article of the present disclosure may include an intermediate layer containing silicon oxide between the glass and the surface treatment layer. By providing such an intermediate layer, the adhesion between the glass and the surface treatment layer is improved, and the durability is improved.
好ましい態様において、上記中間層は、酸化ケイ素に加え、アルカリ金属原子を含んでいてもよい。 In a preferred embodiment, the intermediate layer may contain an alkali metal atom in addition to silicon oxide.
上記アルカリ金属原子としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。上記アルカリ金属原子は、好ましくはナトリウムである。 Examples of the alkali metal atoms include lithium, sodium, potassium, and the like. The alkali metal atom is preferably sodium.
中間層の厚さは、特に限定されないが、1~200nmが好ましく、1~20nmが特に好ましい。中間層の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより、中間層による接着性の向上効果がより大きくなる。 The thickness of the intermediate layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 200 nm, particularly preferably 1 to 20 nm. By setting the thickness of the intermediate layer to be equal to or greater than the lower limit of the above range, the effect of improving adhesion by the intermediate layer becomes greater.
中間層におけるアルカリ金属原子濃度は各種表面分析装置、たとえばTOF-SIMS、XPS、XRFなどで測定できる。 The alkali metal atom concentration in the intermediate layer can be measured using various surface analyzers such as TOF-SIMS, XPS, and XRF.
中間層全体の全原子に占めるアルカリ金属原子の割合は、イオンスパッタリングによるXPS深さ方向分析で得ることができ、XPSによる測定とXPS装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。 The ratio of alkali metal atoms to all atoms in the entire intermediate layer can be obtained by XPS depth analysis using ion sputtering, and the surface is etched by XPS measurement and ion sputtering using an ion gun built into the XPS device. This is done by repeating the steps alternately.
中間層において、表面処理層と接する面からの深さが1nm以下の領域におけるアルカリ金属の濃度の平均値は、イオンスパッタリングによるTOF-SIMS(飛行時間型二次イオン質量分析法)深さ方向分析により、アルカリ金属原子の濃度の深さ方向プロファイルを得た後、該プロファイルにおけるアルカリ金属原子濃度の平均値を算出することによって求められる。イオンスパッタリングによるTOF-SIMS深さ方向分析は、TOF-SIMSによる測定とTOF-SIMS装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。 In the intermediate layer, the average value of the alkali metal concentration in a region with a depth of 1 nm or less from the surface in contact with the surface treatment layer is determined by TOF-SIMS (time-of-flight secondary ion mass spectrometry) depth direction analysis using ion sputtering. After obtaining a depth profile of the alkali metal atom concentration, the average value of the alkali metal atom concentration in the profile is calculated. TOF-SIMS depth direction analysis using ion sputtering is performed by alternately repeating measurement by TOF-SIMS and surface etching by ion sputtering using an ion gun built into the TOF-SIMS device.
本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる:眼鏡などのレンズ;PDP、LCDなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板;携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート;ブルーレイ(Blu-ray(登録商標))ディスク、DVDディスク、CD-R、MOなどの光ディスクのディスク面;光ファイバー;時計の表示面など。 The article of the present disclosure can be, but is not particularly limited to, an optical member. Examples of optical members include the following: Lenses such as eyeglasses; Front protection plates, anti-reflection plates, polarizing plates, anti-glare plates of displays such as PDP and LCD; Equipment such as mobile phones and personal digital assistants. Touch panel sheets; disc surfaces of optical discs such as Blu-ray (registered trademark) discs, DVD discs, CD-Rs, MOs; optical fibers; display surfaces of watches, etc.
また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。また、本開示によって得られる表面処理層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる:ウィンドウ、ライトカバー、車外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる:インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。 The article of the present disclosure may also be a medical device or medical material. Moreover, the article having the surface treatment layer obtained according to the present disclosure may be an interior/exterior member of an automobile. Examples of exterior materials include: windows, light covers, exterior camera covers. Examples of interior materials include: instrument panel covers, navigation system touch panels, decorative interior materials.
R1は、直鎖のC11-36アルキル基である。 R 1 is a straight chain C 11-36 alkyl group.
一の態様において、X1においてR1に結合する原子が炭素原子以外の原子である場合、炭素数の下限は、好ましくは16、より好ましくは18、さらに好ましくは19、例えば21、又は23であり得る。炭素数の上限は、好ましくは32、より好ましくは28、例えば26又は23であり得る。R1は、好ましくは直鎖のC18-36アルキル基、より好ましくはC18-23アルキル基であり得る。 In one embodiment, when the atom bonded to R 1 in X 1 is an atom other than a carbon atom, the lower limit of the number of carbon atoms is preferably 16, more preferably 18, still more preferably 19, for example 21, or 23. could be. The upper limit of carbon number may preferably be 32, more preferably 28, for example 26 or 23. R 1 may preferably be a straight chain C 18-36 alkyl group, more preferably a C 18-23 alkyl group.
一の態様において、X1においてR1に結合する原子が炭素原子である場合、R1の炭素数の下限は、好ましくは15、より好ましくは17、さらに好ましくは18、例えば20、又は22であり得る。炭素数の上限は、好ましくは31、より好ましくは27、例えば25又は22であり得る。R1は、好ましくは直鎖のC17-35アルキル基、より好ましくはC17-22アルキル基であり得る。 In one embodiment, when the atom bonded to R 1 in X 1 is a carbon atom, the lower limit of the number of carbon atoms in R 1 is preferably 15, more preferably 17, still more preferably 18, for example 20, or 22. could be. The upper limit of carbon number may preferably be 31, more preferably 27, for example 25 or 22. R 1 may preferably be a straight chain C 17-35 alkyl group, more preferably a C 17-22 alkyl group.
X1は、主に撥水性等の機能を提供するアルキル部(R1)と基材との結合能を提供するシラン部(RSi)とを連結するリンカーと解される。従って、X1は、式(1)で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、特に限定されない。 X 1 is understood to be a linker that connects an alkyl moiety (R 1 ) that mainly provides functions such as water repellency and a silane moiety (R Si ) that provides a bonding ability with a base material. Therefore, X 1 is not particularly limited as long as the compound represented by formula (1) can exist stably.
X1は、単結合、又は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-もしくは-S-を含む2価の基であり、R2は、水素原子又はC1-6アルキル基である。 X 1 is a single bond, -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 -, -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S- R 2 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group.
R2におけるC1-6アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記C1-6アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記C1-6アルキル基は、分枝鎖である。上記C1-6アルキル基は、好ましくはC1-4アルキル基、より好ましくはC1-3アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。 The C 1-6 alkyl group in R 2 may be a straight chain or a branched chain. In one embodiment, the C 1-6 alkyl group is straight chain. In another embodiment, the C 1-6 alkyl group is branched. The C 1-6 alkyl group is preferably a C 1-4 alkyl group, more preferably a C 1-3 alkyl group, even more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
一の態様において、R2は、水素原子である。 In one embodiment, R 2 is a hydrogen atom.
一の態様において、X1は、単結合である。 In one embodiment, X 1 is a single bond.
別の態様において、X1は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-もしくは-S-を含む2価の基である。 In another embodiment, X 1 represents -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 -, -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S-. It is a divalent group containing.
上記2価の基は、好ましくは下記式:
-X11-X12-
[式中:
X11は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-又は-S-であり、
R2は、水素原子又はC1-6アルキル基であり、
X12は、単結合、又はC1-6アルキレン基である。]
で表される基である。
The above divalent group is preferably of the following formula:
-X 11 -X 12 -
[In the formula:
X 11 is -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 - , -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S-,
R 2 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
X 12 is a single bond or a C 1-6 alkylene group. ]
It is a group represented by
X11は、好ましくは-CO-、-CONR2-、又は-OCONR2-である。R2は、好ましくは水素原子である。 X 11 is preferably -CO-, -CONR 2 -, or -OCONR 2 -. R 2 is preferably a hydrogen atom.
一の態様において、X12は、単結合である。 In one embodiment, X 12 is a single bond.
別の態様において、X12は、又はC1-6アルキレン基である。 In another embodiment, X 12 is or is a C 1-6 alkylene group.
X12における又はC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記C1-6アルキレン基は、直鎖である。別の態様において、上記C1-6アルキレン基は、分枝鎖である。上記C1-6アルキレン基は、好ましくはC1-4アルキレン基、より好ましくはC1-3アルキレン基である。 The or C 1-6 alkylene group in X 12 may be straight chain or branched. In one embodiment, the C 1-6 alkylene group is straight chain. In another embodiment, the C 1-6 alkylene group is branched. The C 1-6 alkylene group is preferably a C 1-4 alkylene group, more preferably a C 1-3 alkylene group.
-X11-X12-は、好ましくは-CO-、-CONR2-X12-である。R2は、好ましくは水素原子である。X12は、好ましくはC1-6アルキレン基である。 -X 11 -X 12 - is preferably -CO- or -CONR 2 -X 12 -. R 2 is preferably a hydrogen atom. X 12 is preferably a C 1-6 alkylene group.
RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。 R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded.
RSiは、好ましくは、下記式(S1)、(S2)、(S3)、又は(S4):
R11は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R12は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n1は、1~3の整数であり;
Ra1は、それぞれ独立して、-Z1-SiR21
p1R22
q1R23
r1であり;
Z1は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21は、それぞれ独立して、-Z1’-SiR21’
p1’R22’
q1’R23’
r1’であり;
R22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1’は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21’は、それぞれ独立して、-Z1”-SiR22”
q1”R23”
r1”であり;
R22’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23’は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1”は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R22”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23”は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
q1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rb1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
Rc1は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rd1は、それぞれ独立して、-Z2-CR31
p2R32
q2R33
r2であり;
Z2は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R31は、それぞれ独立して、-Z2’-CR32’
q2’R33’
r2’であり;
R32は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
R33は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
p2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z2’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R32’は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
R33’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
q2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z3は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R34は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R35は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Re1は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34
n2R35
3-n2であり;
Rf1は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
k2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rg1及びRh1は、それぞれ独立して、-Z4-SiR11
n1R12
3-n1、-Z4-SiRa1
k1Rb1
l1Rc1
m1、-Z4-CRd1
k2Re1
l2Rf1
m2であり;
Z4は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
ただし、式(S2)、(S3)、及び(S4)中、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも1つ存在する。]
で表される基である
R Si preferably has the following formula (S1), (S2), (S3), or (S4):
R 11 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer from 1 to 3;
R a1 are each independently -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 are each independently -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is each independently an integer of 0 to 3;
q1 are each independently an integer of 0 to 3;
r1 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21' are each independently -Z 1" -SiR 22" q1" R 23" r1" ;
R22 ' is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 ' is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1' are each independently an integer of 0 to 3;
q1' are each independently an integer of 0 to 3;
r1' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1'' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R22 '' are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 '' are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1'' are each independently an integer of 0 to 3;
r1'' are each independently an integer of 0 to 3;
R b1 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is each independently an integer of 0 to 3;
l1 are each independently an integer of 0 to 3;
m1 is each independently an integer of 0 to 3;
R d1 are each independently -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 are each independently -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
p2 is each independently an integer of 0 to 3;
q2 are each independently an integer of 0 to 3;
r2 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 2' is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33' is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
q2' are each independently an integer of 0 to 3;
r2' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 3 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is each independently an integer of 0 to 3;
R e1 are each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is each independently an integer of 0 to 3;
l2 are each independently an integer of 0 to 3;
m2 is each independently an integer of 0 to 3;
R g1 and R h1 are each independently -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S2), (S3), and (S4), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
is a group represented by
R11は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each R 11 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
R11は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 R 11 is preferably each independently a hydrolyzable group.
R11は、好ましくは、それぞれ独立して、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh 2、-NRh 2、-NHRh、又は-NCO(これら式中、Rhは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-ORh(即ち、アルコキシ基)である。Rhとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rhは、メチル基であり、別の態様において、Rhは、エチル基である。 R 11 is preferably each independently -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , or -NCO (in these formulas, R h is represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR h (ie, an alkoxy group). Examples of R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl groups or ethyl groups are more preferred. In one embodiment, R h is a methyl group, and in another embodiment, R h is an ethyl group.
R12は、それぞれ独立して、1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 Each R 12 is independently a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
R12において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 12 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and still more preferably a methyl group.
上記式中、n1は、1~3の整数、好ましくは2~3の整数、より好ましくは3である。 In the above formula, n1 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, more preferably 3.
Ra1は、それぞれ独立して、-Z1-SiR21 p1R22 q1R23 r1である。 R a1 are each independently -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 .
Z1は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Z1として記載する構造は、右側が(SiR21 p1R22 q1R23 r1)に結合する。 Z 1 is each independently an oxygen atom or a divalent organic group. In addition, in the structure described as Z 1 below, the right side is bonded to (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ).
好ましい態様において、Z1は、2価の有機基である。 In a preferred embodiment, Z 1 is a divalent organic group.
好ましい態様において、Z1は、Z1が結合しているSi原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式(S2)において、(Si-Z1-Si)は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 1 does not include anything that forms a siloxane bond with the Si atom to which Z 1 is bonded. Preferably, in formula (S2), (Si-Z 1 -Si) does not contain a siloxane bond.
Z1は、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(式中、z1は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z2は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z3-フェニレン-(CH2)z4-(式中、z3は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z4は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 1 is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z1 -O-(CH 2 ) z2 - (wherein z1 is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6; , z2 is an integer from 0 to 6 , e.g. z4 is an integer from 0 to 6, for example, an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene group may be a straight chain or a branched chain, but is preferably a straight chain. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Z1は、C1-6アルキレン基又は-(CH2)z3-フェニレン-(CH2)z4-、好ましくは-フェニレン-(CH2)z4-である。 In a preferred embodiment, Z 1 is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z4 -.
別の好ましい態様において、Z1は、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Z1は、-CH2CH2CH2-であり得る。別の態様において、Z1は、-CH2CH2-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 1 is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 1 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 1 can be -CH 2 CH 2 -.
R21は、それぞれ独立して、-Z1’-SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’である。 Each R 21 is independently -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' .
Z1’は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Z1’として記載する構造は、右側が(SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’)に結合する。 Z 1' each independently represents an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described below as Z 1' , the right side is bonded to (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ).
好ましい態様において、Z1’は、2価の有機基である。 In a preferred embodiment, Z 1' is a divalent organic group.
好ましい態様において、Z1’は、Z1’が結合しているSi原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式(S2)において、(Si-Z1’-Si)は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 1' does not include anything that forms a siloxane bond with the Si atom to which Z 1' is bonded. Preferably, in formula (S2), (Si-Z 1' -Si) does not contain a siloxane bond.
Z1’は、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)z1’-O-(CH2)z2’-(式中、z1’は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z2’は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z3’-フェニレン-(CH2)z4’-(式中、z3’は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z4’は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 1' is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z1' -O-(CH 2 ) z2' - (wherein z1' is an integer of 0 to 6, for example 1 to 6 and z2' is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6) or -(CH 2 ) z3' -phenylene-(CH 2 ) z4' - (wherein z3' is , z4' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6, and z4' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene group may be a straight chain or a branched chain, but is preferably a straight chain. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Z1’は、C1-6アルキレン基又は-(CH2)z3’-フェニレン-(CH2)z4’-、好ましくは-フェニレン-(CH2)z4’-である。 In a preferred embodiment, Z 1' is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z3' -phenylene-(CH 2 ) z4' -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z4' -.
別の好ましい態様において、Z1’は、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Z1’は、-CH2CH2CH2-であり得る。別の態様において、Z1’は、-CH2CH2-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 1' is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 1' can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 1' can be -CH 2 CH 2 -.
上記R21’は、それぞれ独立して、-Z1”-SiR22” q1”R23” r1”である。 The above R 21' are each independently -Z 1'' -SiR 22'' q1'' R 23'' r1'' .
上記Z1”は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Z1”として記載する構造は、右側が(SiR22” q1”R23” r1”)に結合する。 The above Z 1" is each independently an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described below as Z 1" , the right side is bonded to (SiR 22" q1" R 23" r1" ) do.
好ましい態様において、Z1”は、2価の有機基である。 In a preferred embodiment, Z 1'' is a divalent organic group.
好ましい態様において、Z1”は、Z1”が結合しているSi原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式(S2)において、(Si-Z1”-Si)は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 1'' does not include anything that forms a siloxane bond with the Si atom to which Z 1'' is bonded. Preferably, in formula (S2), (Si-Z 1'' -Si) does not contain a siloxane bond.
Z1”は、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)z1”-O-(CH2)z2”-(式中、z1”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z2”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z3”-フェニレン-(CH2)z4”-(式中、z3”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z4”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 1" is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z1" -O-(CH 2 ) z2" - (wherein z1" is an integer of 0 to 6, for example 1 to 6 and z2" is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6) or -(CH 2 ) z3" -phenylene-(CH 2 ) z4" - (wherein z3" is , an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6, and z4'' is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6). Such a C 1-6 alkylene group is a linear Although it may be a branched chain or a branched chain, it is preferably a straight chain.These groups are, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 It may be substituted with one or more substituents selected from alkynyl groups, but is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Z1”は、C1-6アルキレン基又は-(CH2)z3”-フェニレン-(CH2)z4”-、好ましくは-フェニレン-(CH2)z4”-である。Z1”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 1" is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z3" -phenylene-(CH 2 ) z4" -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z4" -. If Z 1'' is such a group, the light resistance, especially UV resistance, may be higher.
別の好ましい態様において、Z1”は、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Z1”は、-CH2CH2CH2-であり得る。別の態様において、Z1”は、-CH2CH2-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 1" is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 1" can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 1'' can be -CH 2 CH 2 -.
上記R22”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 The above R 22'' are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
上記R22”は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 The above R 22'' are preferably each independently a hydrolyzable group.
上記R22”は、好ましくは、それぞれ独立して、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh 2、-NRh 2、-NHRh、又は-NCO(これら式中、Rhは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-ORh(即ち、アルコキシ基)である。Rhとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rhは、メチル基であり、別の態様において、Rhは、エチル基である。 The above R 22'' is preferably each independently -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , or -NCO (in these formulas, R h represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR h (i.e., an alkoxy group). R h is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group. , n-butyl group, isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.Among these, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl or ethyl groups are more preferred. In one embodiment, R h is a methyl group, and in another embodiment, R h is an ethyl group.
R23”は、それぞれ独立して、1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 R 23'' each independently represents a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above-mentioned hydrolyzable group.
R23”において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 23'' , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and still more preferably a methyl group.
q1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、上記r1”は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、q1”とr1”の合計は、(SiR22” q1”R23” r1”)単位において、3である。 q1'' are each independently an integer of 0 to 3, and r1'' are each independently an integer of 0 to 3. Note that the sum of q1'' and r1'' is 3 in the unit of (SiR 22'' q1'' R 23'' r1'' ).
q1”は、(SiR22” q1”R23” r1”)単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは1~3の整数であり、より好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 q1'' is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, and still more preferably 3, independently for each (SiR 22'' q1'' R 23'' r1'' ) unit.
R22’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each R 22' is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
R22’は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 R 22' are preferably each independently a hydrolyzable group.
R22’は、好ましくは、それぞれ独立して、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh 2、-NRh 2、-NHRh、又は-NCO(これら式中、Rhは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-ORh(即ち、アルコキシ基)である。Rhとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rhは、メチル基であり、別の態様において、Rhは、エチル基である。 R 22' is preferably each independently -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , or -NCO (in these formulas, R h is , a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR h (ie, an alkoxy group). Examples of R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl groups or ethyl groups are more preferred. In one embodiment, R h is a methyl group, and in another embodiment, R h is an ethyl group.
R23’は、それぞれ独立して、1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 R 23' each independently represents a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
R23’において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 23' , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and still more preferably a methyl group.
p1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、q1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、r1’は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、p’、q1’及びr1’の合計は、(SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’)単位において、3である。 p1' are each independently an integer of 0 to 3, q1' are each independently an integer of 0 to 3, and r1' are each independently an integer of 0 to 3. . Note that the sum of p', q1', and r1' is 3 in the unit of (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ).
一の態様において、p1’は、0である。 In one embodiment, p1' is 0.
一の態様において、p1’は、(SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数、2~3の整数、又は3であってもよい。好ましい態様において、p1’は、3である。 In one embodiment, p1' is an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3, independently for each (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ) unit. You can. In a preferred embodiment, p1' is 3.
一の態様において、q1’は、(SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、より好ましくは3である。 In one embodiment, q1' is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, independently for each (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ) unit, More preferably it is 3.
一の態様において、p1’は0であり、q1’は、(SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, p1' is 0, and q1' is an integer of 1 to 3 independently for each (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ) unit, preferably is an integer of 2 to 3, more preferably 3.
R22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each R 22 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
R22は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 R 22 is preferably each independently a hydrolyzable group.
R22は、好ましくは、それぞれ独立して、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh 2、-NRh 2、-NHRh、又は-NCO(これら式中、Rhは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-ORh(即ち、アルコキシ基)である。Rhとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rhは、メチル基であり、別の態様において、Rhは、エチル基である。 R 22 is preferably each independently -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , or -NCO (in these formulas, R h is represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR h (ie, an alkoxy group). Examples of R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl groups or ethyl groups are more preferred. In one embodiment, R h is a methyl group, and in another embodiment, R h is an ethyl group.
上記R23は、それぞれ独立して、1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 The above R 23 are each independently a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
R23において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 23 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and still more preferably a methyl group.
上記p1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、q1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、r1は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、p1、q1とr1の合計は、(SiR21 p1R22 q1R23 r1)単位において、3である。 The above p1 are each independently an integer of 0 to 3, q1 are each independently an integer of 0 to 3, and r1 are each independently an integer of 0 to 3. Note that the sum of p1, q1, and r1 is 3 in the unit of (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ).
一の態様において、p1は、0である。 In one embodiment, p1 is 0.
一の態様において、p1は、(SiR21 p1R22 q1R23 r1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数、2~3の整数、又は3であってもよい。好ましい態様において、p1は、3である。 In one embodiment, p1 may be an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3, each independently for each (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ) unit. In a preferred embodiment, p1 is 3.
一の態様において、q1は、(SiR21 p1R22 q1R23 r1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、より好ましくは3である。 In one embodiment, q1 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, more preferably 3, for each (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ) unit independently.
一の態様において、p1は0であり、q1は、(SiR21 p1R22 q1R23 r1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, p1 is 0, and q1 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, independently for each (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ) unit, and Preferably it is 3.
式中、Rb1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 In the formula, each R b1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Rb1は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 R b1 are preferably each independently a hydrolyzable group.
Rb1は、好ましくは、それぞれ独立して、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh 2、-NRh 2、-NHRh、又は-NCO(これら式中、Rhは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-ORh(即ち、アルコキシ基)である。Rhとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rhは、メチル基であり、別の態様において、Rhは、エチル基である。 R b1 is preferably each independently -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , or -NCO (in these formulas, R h is represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR h (ie, an alkoxy group). Examples of R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl groups or ethyl groups are more preferred. In one embodiment, R h is a methyl group, and in another embodiment, R h is an ethyl group.
式中、Rc1は、それぞれ独立して、1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 In the formula, each R c1 is independently a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
Rc1において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R c1 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and still more preferably a methyl group.
k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、m1は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、k1、l1とm1の合計は、(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)単位において、3である。 k1 are each independently an integer of 0 to 3, l1 are each independently an integer of 0 to 3, and m1 are each independently an integer of 0 to 3. Note that the sum of k1, l1, and m1 is 3 in the unit of (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ).
一の態様において、k1は、(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。好ましい態様において、k1は、3である。 In one embodiment, k1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, each independently for each (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ) unit. In a preferred embodiment, k1 is 3.
式(S2)において、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも2つ存在する。 In formula (S2), there are at least two Si atoms to which hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded.
好ましい態様において、式(S2)の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも2つ存在する。 In a preferred embodiment, at least two Si atoms to which hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded are present in the terminal portion of formula (S2).
好ましい態様において、式(S2)で表される基は、-Z1-SiR22 q1R23 r1(式中、q1は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3であり、r1は、0~2の整数である。)、-Z1’-SiR22’ q1’R23’ r1’(式中、q1’は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3であり、r1’は、0~2の整数である。)、又は-Z1”-SiR22” q1”R23” r1”(式中、q1”は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3であり、r1”は、0~2の整数である。)のいずれか1つを有する。Z1、Z1’、Z1”、R22、R23、R22’、R23’、R22”、及びR23”は、上記と同意義である。 In a preferred embodiment, the group represented by formula (S2) is -Z 1 -SiR 22 q1 R 23 r1 (wherein q1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 ), -Z 1' -SiR 22' q1' R 23' r1' (wherein q1' is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, and r1' is an integer of 0 to 2), or -Z 1" -SiR 22" q1" R 23" r1" (wherein q1" is 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, and r1'' is an integer of 0 to 2.) Z 1 , Z 1' , Z 1'' , R 22 , R 23 , R 22' , R 23' , R 22'' and R 23'' have the same meanings as above.
好ましい態様において、式(S2)において、R21’が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのR21’において、q1”は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S2), when R 21' is present, in at least one, preferably all R 21' , q1'' is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more Preferably it is 3.
好ましい態様において、式(S2)において、R21が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのR21において、p1’は、0であり、q1’は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S2), when R 21 is present, in at least one, preferably all R 21 , p1' is 0 and q1' is an integer from 1 to 3, preferably is 2 or 3, more preferably 3.
好ましい態様において、式(S2)において、Ra1が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのRa1において、p1は、0であり、q1は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S2), when R a1 is present, p1 is 0 in at least one, preferably all R a1 , and q1 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3.
好ましい態様において、式(S2)において、k1は2又は3、好ましくは3であり、p1は0であり、q1は2又は3、好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S2), k1 is 2 or 3, preferably 3, p1 is 0, and q1 is 2 or 3, preferably 3.
Rd1は、それぞれ独立して、-Z2-CR31 p2R32 q2R33 r2である。 Each R d1 is independently -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 .
Z2は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Z2として記載する構造は、右側が(CR31 p2R32 q2R33 r2)に結合する。 Z 2 is each independently a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group. In addition, in the structure described as Z 2 below, the right side is bonded to (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ).
好ましい態様において、Z2は、2価の有機基である。 In a preferred embodiment, Z 2 is a divalent organic group.
好ましい態様において、Z2は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 2 does not contain a siloxane bond.
Z2は、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(式中、z5は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z6は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z7-フェニレン-(CH2)z8-(式中、z7は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z8は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 2 is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z5 -O-(CH 2 ) z6 - (wherein z5 is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6; , z6 is an integer from 0 to 6 , e.g. (z8 is an integer from 0 to 6, for example, an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene group may be a straight chain or a branched chain, but is preferably a straight chain. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Z2は、C1-6アルキレン基又は-(CH2)z7-フェニレン-(CH2)z8-、好ましくは-フェニレン-(CH2)z8-である。Z2がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 2 is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z7 -phenylene-(CH 2 ) z8 -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8 -. If Z 2 is such a group, the light resistance, especially the UV resistance, may be higher.
別の好ましい態様において、上記Z2は、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Z2は、-CH2CH2CH2-であり得る。別の態様において、Z2は、-CH2CH2-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 2 is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 2 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 2 can be -CH 2 CH 2 -.
R31は、それぞれ独立して、-Z2’-CR32’ q2’R33’ r2’である。 Each R 31 is independently -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' .
Z2’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Z2’として記載する構造は、右側が(CR32’ q2’R33’ r2’)に結合する。 Z 2' is each independently a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group. In addition, in the structure described as Z 2' below, the right side is bonded to (CR 32' q2' R 33' r2' ).
好ましい態様において、Z2’は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 2' does not contain a siloxane bond.
Z2’は、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)z5’-O-(CH2)z6’-(式中、z5’は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z6’は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z7’-フェニレン-(CH2)z8’-(式中、z7’は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z8’は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 2' is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z5' -O-(CH 2 ) z6' - (wherein z5' is an integer of 0 to 6, for example 1 to 6 and z6' is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6) or -(CH 2 ) z7' -phenylene-(CH 2 ) z8' - (wherein z7' is , z8' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6, and z8' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene group may be a straight chain or a branched chain, but is preferably a straight chain. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Z2’は、C1-6アルキレン基又は-(CH2)z7’-フェニレン-(CH2)z8’-、好ましくは-フェニレン-(CH2)z8’-である。Z2’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 2' is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z7' -phenylene-(CH 2 ) z8' -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8' -. If Z 2' is such a group, the light resistance, especially UV resistance, may be higher.
別の好ましい態様において、上記Z2’は、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Z2’は、-CH2CH2CH2-であり得る。別の態様において、Z2’は、-CH2CH2-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 2' is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 2' can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 2' can be -CH 2 CH 2 -.
R32’は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2である。 Each R 32' is independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 .
Z3は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Z3として記載する構造は、右側が(SiR34 n2R35 3-n2)に結合する。 Z 3 is each independently a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group. In addition, in the structure described as Z 3 below, the right side is bonded to (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ).
一の態様において、Z3は酸素原子である。 In one embodiment, Z 3 is an oxygen atom.
一の態様において、Z3は2価の有機基である。 In one embodiment, Z 3 is a divalent organic group.
好ましい態様において、Z3は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 3 does not contain a siloxane bond.
Z3は、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)z5”-O-(CH2)z6”-(式中、z5”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z6”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z7”-フェニレン-(CH2)z8”-(式中、z7”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z8”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 3 is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z5" -O-(CH 2 ) z6" - (wherein z5" is an integer of 0 to 6, for example 1 to 6) or -(CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" - (wherein z7" is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6) z8'' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6, and z8'' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene group may be a straight chain or a branched chain, but is preferably a straight chain. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Z3は、C1-6アルキレン基又は-(CH2)z7”-フェニレン-(CH2)z8”-、好ましくは-フェニレン-(CH2)z8”-である。Z3がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 3 is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8" -. Z 3 When is such a group, the light resistance, especially UV resistance, may be higher.
別の好ましい態様において、上記Z3は、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Z3は、-CH2CH2CH2-であり得る。別の態様において、Z3は、-CH2CH2-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 3 is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 3 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 3 can be -CH 2 CH 2 -.
R34は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each R 34 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
R34は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 R 34 are preferably each independently a hydrolyzable group.
R34は、好ましくは、それぞれ独立して、-ORh、-OCORh、-O-N=CRh 2、-NRh 2、-NHRh、-NCO、又はハロゲン(これら式中、Rhは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-ORh(即ち、アルコキシ基)である。Rhとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rhは、メチル基であり、別の態様において、Rhは、エチル基である。 R 34 is preferably each independently -OR h , -OCOR h , -ON=CR h 2 , -NR h 2 , -NHR h , -NCO, or halogen (in these formulas, R h represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR h (ie, an alkoxy group). Examples of R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl groups or ethyl groups are more preferred. In one embodiment, R h is a methyl group, and in another embodiment, R h is an ethyl group.
R35は、それぞれ独立して、1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 Each R 35 is independently a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
R35において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 35 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and still more preferably a methyl group.
n2は、(SiR34 n2R35 3-n2)単位毎にそれぞれ独立して、0~3の整数である。ただし、式(S3)の末端部分においては、n2が1~3である(SiR34 n2R35 3-n2)単位が少なくとも2つ存在する。換言すれば、式(S3)の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも2つ存在する。 n2 is an integer of 0 to 3, each independently for each (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) unit. However, in the terminal portion of formula (S3), there are at least two units in which n2 is 1 to 3 (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ). In other words, in the terminal portion of formula (S3), there are at least two Si atoms to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded.
n2は、(SiR34 n2R35 3-n2)単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは1~3の整数であり、より好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 n2 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, and still more preferably 3, independently for each (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) unit.
R33’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 R 33' each independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
R33’において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基又は-(CsH2s)t1-(O-CsH2s)t2(式中、sは、1~6の整数、好ましくは2~4の整数であり、t1は1又は0、好ましくは0であり、t2は、1~20の整数、好ましくは2~10の整数、より好ましくは2~6の整数である。)であり、より好ましくはC1-20アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基、特に好ましくはメチル基である。 In R 33' , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group or -(C s H 2s ) t1 -(O-C s H 2s ) t2 (wherein s is 1 to 6 an integer, preferably an integer from 2 to 4, t1 is 1 or 0, preferably 0, and t2 is an integer from 1 to 20, preferably an integer from 2 to 10, more preferably an integer from 2 to 6. ), more preferably a C 1-20 alkyl group, still more preferably a C 1-6 alkyl group, particularly preferably a methyl group.
一の態様において、R33’は、水酸基である。 In one embodiment, R 33' is a hydroxyl group.
別の態様において、R33’は、1価の有機基、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基である。 In another embodiment, R 33' is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group.
上記q2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、上記r2’は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、q2’とr2’の合計は、(CR32’ q2’R33’ r2’)単位において、3である。 The above q2' are each independently an integer of 0 to 3, and the above r2' are each independently an integer of 0 to 3. Note that the sum of q2' and r2' is 3 in the unit of (CR 32' q2' R 33' r2' ).
q2’は、(CR32’ q2’R33’ r2’)単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは1~3の整数であり、より好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 q2' is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, and even more preferably 3, independently for each (CR 32' q2' R 33' r2' ) unit.
R32は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2である。かかる-Z3-SiR34 n2R35 3-n2は、上記R32’における記載と同意義である。 Each R 32 is independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 . Such -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 has the same meaning as described in R 32' above.
R33は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 R 33 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
R33において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基又は-(CsH2s)t1-(O-CsH2s)t2(式中、sは、1~6の整数、好ましくは2~4の整数であり、t1は1又は0、好ましくは0であり、t2は、1~20の整数、好ましくは2~10の整数、より好ましくは2~6の整数である。)であり、より好ましくはC1-20アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基、特に好ましくはメチル基である。 In R 33 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group or -(C s H 2s ) t1 -(O-C s H 2s ) t2 (wherein s is an integer of 1 to 6 , preferably an integer of 2 to 4, t1 is 1 or 0, preferably 0, and t2 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 10, more preferably an integer of 2 to 6. ), more preferably a C 1-20 alkyl group, still more preferably a C 1-6 alkyl group, particularly preferably a methyl group.
一の態様において、R33は、水酸基である。 In one embodiment, R 33 is a hydroxyl group.
別の態様において、R33は、1価の有機基、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基である。 In another embodiment, R 33 is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group.
p2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、q2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、r2は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、p2、q2及びr2の合計は、(CR31 p2R32 q2R33 r2)単位において、3である。 p2 is each independently an integer of 0 to 3, q2 is each independently an integer of 0 to 3, and r2 is each independently an integer of 0 to 3. Note that the sum of p2, q2, and r2 is 3 in the unit of (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ).
一の態様において、p2は、0である。 In one embodiment, p2 is 0.
一の態様において、p2は、(CR31 p2R32 q2R33 r2)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数、2~3の整数、又は3であってもよい。好ましい態様において、p2は、3である。 In one embodiment, p2 may be an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3, each independently for each (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ) unit. In a preferred embodiment, p2 is 3.
一の態様において、q2は、(CR31 p2R32 q2R33 r2)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、より好ましくは3である。 In one embodiment, q2 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, more preferably 3, for each (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ) unit independently.
一の態様において、p2は0であり、q2は、(CR31 p2R32 q2R33 r2)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, p2 is 0, and q2 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, independently for each (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ) unit, and Preferably it is 3.
Re1は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2である。かかる-Z3-SiR34 n2R35 3-n2は、上記R32’における記載と同意義である。 Each R e1 is independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 . Such -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 has the same meaning as described in R 32' above.
Rf1は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 R f1 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group other than the above-mentioned hydrolyzable group.
Rf1において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基又は-(CsH2s)t1-(O-CsH2s)t2(式中、sは、1~6の整数、好ましくは2~4の整数であり、t1は1又は0、好ましくは0であり、t2は、1~20の整数、好ましくは2~10の整数、より好ましくは2~6の整数である。)であり、より好ましくはC1-20アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基、特に好ましくはメチル基である。 In R f1 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group or -(C s H 2s ) t1 -(O-C s H 2s ) t2 (wherein s is an integer of 1 to 6 , preferably an integer of 2 to 4, t1 is 1 or 0, preferably 0, and t2 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 10, more preferably an integer of 2 to 6. ), more preferably a C 1-20 alkyl group, still more preferably a C 1-6 alkyl group, particularly preferably a methyl group.
一の態様において、Rf1は、水酸基である。 In one embodiment, R f1 is a hydroxyl group.
別の態様において、Rf1は、1価の有機基、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基である。 In another embodiment, R f1 is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group.
k2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、l2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、m2は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、k2、l2及びm2の合計は、(CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2)単位において、3である。 k2 is each independently an integer from 0 to 3, l2 is each independently an integer from 0 to 3, and m2 is each independently an integer from 0 to 3. Note that the sum of k2, l2, and m2 is 3 in the unit of (CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ).
一の態様において、n2が1~3、好ましくは2又は3、より好ましくは3である(SiR34 n2R35 3-n2)単位は、式(S3)の各末端部分において、2個以上、例えば2~27個、好ましくは2~9個、より好ましくは2~6個、さらに好ましくは2~3個、特に好ましくは3個存在する。 In one embodiment, two or more (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) units in which n2 is 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 are present in each terminal portion of formula (S3), For example, there are 2 to 27 pieces, preferably 2 to 9 pieces, more preferably 2 to 6 pieces, still more preferably 2 to 3 pieces, particularly preferably 3 pieces.
好ましい態様において、式(S3)において、R32’が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのR32’において、n2は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), when R 32' is present, in at least one, preferably all R 32' , n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably is 3.
好ましい態様において、式(S3)において、R32が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのR32において、n2は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), when R 32 is present, in at least one, preferably all R 32 , n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 It is.
好ましい態様において、式(S3)において、Re1が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのRa1において、n2は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), when R e1 is present, in at least one, preferably all R a1 , n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 It is.
好ましい態様において、式(S3)において、k2は0であり、l2は2又は3、好ましくは3であり、n2は、2又は3、好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), k2 is 0, l2 is 2 or 3, preferably 3, and n2 is 2 or 3, preferably 3.
Rg1及びRh1は、それぞれ独立して、-Z4-SiR11 n1R12 3-n1、-Z4-SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1、-Z4-CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2である。ここに、R11、R12、Ra1、Rb2、Rc1、Rd1、Re1、Rf1、n1、k1、l1、m1、k2、l2、及びm2は、上記と同意義である。 R g1 and R h1 are each independently -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 . Here, R 11 , R 12 , R a1 , R b2 , R c1 , R d1 , R e1 , R f1 , n1, k1, l1, m1, k2, l2, and m2 have the same meanings as above.
好ましい態様において、Rg1及びRh1は、それぞれ独立して、-Z4-SiR11 n1R12 3-n1である。 In a preferred embodiment, R g1 and R h1 are each independently -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 .
上記Z4は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Z4として記載する構造は、右側が(SiR11 n1R12 3-n1)に結合する。 The above Z 4 are each independently a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group. In the structure described below as Z 4 , the right side is bonded to (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ).
一の態様において、Z4は酸素原子である。 In one embodiment, Z 4 is an oxygen atom.
一の態様において、Z4は2価の有機基である。 In one embodiment, Z 4 is a divalent organic group.
好ましい態様において、Z4は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 4 does not contain a siloxane bond.
Z4は、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)z5”-O-(CH2)z6”-(式中、z5”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z6”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z7”-フェニレン-(CH2)z8”-(式中、z7”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z8”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 4 is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z5" -O-(CH 2 ) z6" - (wherein z5" is an integer from 0 to 6, for example from 1 to 6) or -(CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" - (wherein z7" is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6) z8'' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6, and z8'' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene group may be a straight chain or a branched chain, but is preferably a straight chain. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Z4は、C1-6アルキレン基又は-(CH2)z7”-フェニレン-(CH2)z8”-、好ましくは-フェニレン-(CH2)z8”-である。Z3がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 4 is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8" -. Z 3 When is such a group, the light resistance, especially UV resistance, may be higher.
別の好ましい態様において、上記Z4は、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Z4は、-CH2CH2CH2-であり得る。別の態様において、Z4は、-CH2CH2-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 4 is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 4 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 4 can be -CH 2 CH 2 -.
一の態様において、式(S1)、(S2)、(S3)、及び(S4)は、シロキサン結合を含まない。 In one embodiment, formulas (S1), (S2), (S3), and (S4) do not include siloxane bonds.
一の態様において、RSiは、式(S2)、(S3)、又は(S4)で表される基である。 In one embodiment, R Si is a group represented by formula (S2), (S3), or (S4).
一の態様において、RSiは、式(S3)、(S4)又は(S5)で表される基である。 In one embodiment, R Si is a group represented by formula (S3), (S4) or (S5).
一の態様において、RSiは、式(S1)で表される基である。好ましい態様において、n1は1~3、好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, R Si is a group represented by formula (S1). In a preferred embodiment, n1 is 1-3, preferably 2-3, more preferably 3.
一の態様において、RSiは、式(S2)で表される基である。好ましい態様において、式(S2)は、-SiRa1 2Rc1、又は-SiRa1 3であり、Ra1は、-Z1-SiR22 q1R23 r1であり、Z1は、C1-6アルキレン基、-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(式中、z1は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z2は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)、又は、-(CH2)z3-フェニレン-(CH2)z4-(式中、z3は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z4は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)、好ましくはC1-6アルキレン基であり、q1は1~3、好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, R Si is a group represented by formula (S2). In a preferred embodiment, formula (S2) is -SiR a1 2 R c1 or -SiR a1 3 , R a1 is -Z 1 -SiR 22 q1 R 23 r1 , and Z 1 is C 1-6 Alkylene group, -(CH 2 ) z1 -O-(CH 2 ) z2 - (wherein z1 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6, and z2 is an integer of 0 to 6, for example ), or -(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 - (wherein z3 is an integer of 0 to 6, for example, 1 to 6, and z4 is , an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6), preferably a C 1-6 alkylene group, and q1 is 1 to 3, preferably 2 to 3, more preferably 3.
一の態様において、RSiは、式(S3)で表される基である。好ましい態様において、式(S3)は、-CRe1 2Rf1、又は-CRe1 3であり、Re1は、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2であり、Z3は、C1-6アルキレン基、-(CH2)z5”-O-(CH2)z6”-(式中、z5”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z6”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z7”-フェニレン-(CH2)z8”-(式中、z7”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z8”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)、好ましくはC1-6アルキレン基であり、n2は1~3、好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, R Si is a group represented by formula (S3). In a preferred embodiment, formula (S3) is -CR e1 2 R f1 or -CR e1 3 , R e1 is -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 , and Z 3 is C 1 -6 alkylene group, -(CH 2 ) z5" -O-(CH 2 ) z6" - (wherein z5" is an integer from 0 to 6, for example, from 1 to 6, and z6" is 0 -(CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" - (where z7" is an integer from 0 to 6, e.g. 1 to 6) or -(CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" - 6, z8'' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6), preferably a C 1-6 alkylene group, and n2 is from 1 to 3, preferably from 2 to 3, and Preferably it is 3.
一の態様において、RSiは、式(S4)で表される基である。好ましい態様において、Rg1及びRh1は、-Z4-SiR11 n1R12 3-n1であり、Z4は、C1-6アルキレン基、-(CH2)z5”-O-(CH2)z6”-(式中、z5”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z6”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CH2)z7”-フェニレン-(CH2)z8”-(式中、z7”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z8”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)、好ましくはC1-6アルキレン基であり、n1は1~3、好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, R Si is a group represented by formula (S4). In a preferred embodiment, R g1 and R h1 are -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , and Z 4 is a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z5" -O-(CH 2 ) z6'' - (wherein z5'' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6, and z6'' is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6) or -( CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" - (wherein z7" is an integer from 0 to 6, for example from 1 to 6, and z8" is an integer from 0 to 6, for example 1 n1 is an integer of 1 to 6), preferably a C 1-6 alkylene group, and n1 is 1 to 3, preferably 2 to 3, and more preferably 3.
式(1)で表される化合物は、例えば、下記式(1a)
R1-X1a-Ri
[式中:
R1は、直鎖のC11-36アルキル基であり、
X1aは、単結合、又は2価の有機基であり、
Riは、-R61、-CONR61
2、-SiR61
3、又は-CR61
3であり、
R61は、末端に二重結合を有するC2-6アルケニル基である。]
で表される化合物を、
下記式(1b)
HSiR63
mR64
3-m (1b)
[式中、
R63は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
R64は、それぞれ独立して、1価の有機基であり、
mは、1~3である。]
で表される化合物と反応させることにより得ることができる。
The compound represented by formula (1) is, for example, the following formula (1a)
R 1 -X 1a -R i
[In the formula:
R 1 is a straight chain C 11-36 alkyl group,
X 1a is a single bond or a divalent organic group,
R i is -R 61 , -CONR 61 2 , -SiR 61 3 or -CR 61 3 ,
R 61 is a C 2-6 alkenyl group having a double bond at the end. ]
The compound represented by
The following formula (1b)
HSiR 63 m R 64 3-m (1b)
[In the formula,
R 63 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group,
R 64 is each independently a monovalent organic group,
m is 1-3. ]
It can be obtained by reacting with a compound represented by:
別法として、上記式(1a)で表される化合物を、下記式(1c)
HSiClmR64
(3-m) 式(1c)
[式中、
R64は、それぞれ独立して、1価の有機基であり、
mは、1~3である。]
で表される化合物と反応させた後、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等)またはアルコキシド類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルカリ金属塩等でアルカリ金属はナトリウムやカリウムであり得る)を反応させて得ることができる。
Alternatively, the compound represented by the above formula (1a) can be converted into the compound represented by the following formula (1c).
HSiCl m R 64 (3-m) Formula (1c)
[In the formula,
R 64 is each independently a monovalent organic group,
m is 1-3. ]
After reacting with the compound represented by alcohols (e.g., methanol, ethanol, isopropanol, etc.) or alkoxides (e.g., alkali metal salts of methanol, ethanol, isopropanol, etc.), the alkali metal may be sodium or potassium. ) can be obtained by reacting.
本開示の物品のいける表面処理層は、式(1)で表される化合物をガラス表面に適用することにより形成され得る。式(1)で表される化合物は、表面処理剤としてガラス表面に適用され得る。 The surface treatment layer of the article of the present disclosure can be formed by applying a compound represented by formula (1) to a glass surface. The compound represented by formula (1) can be applied to a glass surface as a surface treatment agent.
上記表面処理剤は、式(1)で表される少なくとも1種の化合物を含有する。 The surface treatment agent contains at least one compound represented by formula (1).
一の態様において、上記表面処理剤は、式(1)で表される化合物のみを含有する。 In one embodiment, the surface treatment agent contains only the compound represented by formula (1).
一の態様において、上記の式(1)で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは0.1~50.0質量%、より好ましくは1.0~30.0質量%、さらに好ましくは5.0~25.0質量%、特に好ましくは10.0~20.0質量%であり得る。 In one embodiment, the content of the compound represented by the above formula (1) is preferably 0.1 to 50.0% by mass, more preferably 1.0 to 30.0% by mass, based on the entire surface treatment agent. It may be 0% by weight, more preferably 5.0 to 25.0% by weight, particularly preferably 10.0 to 20.0% by weight.
別の態様において、上記の式(1)で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは0.001~30質量%、より好ましくは0.01~10質量%、さらに好ましくは0.05~5質量%、特に好ましくは0.05~2質量%であり得る。 In another embodiment, the content of the compound represented by the above formula (1) is preferably 0.001 to 30% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass, based on the entire surface treatment agent. It may be more preferably 0.05 to 5% by weight, particularly preferably 0.05 to 2% by weight.
一の態様において、上記表面処理剤は、本開示のシラン化合物、及び本開示のシラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体の少なくとも1つを含有する。 In one embodiment, the surface treatment agent contains at least one of the silane compound of the present disclosure and a condensate in which at least a portion of the silane compound of the present disclosure is condensed.
上記の態様において、上記縮合体の含有量は、上記シラン化合物と上記縮合体の合計に対して、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下であり得る。ここで、上記縮合体の含有量は、例えば、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)におけるピーク位置と面積の存在比から求めることができる。 In the above embodiment, the content of the condensate may be preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, based on the total of the silane compound and the condensate. Here, the content of the condensate can be determined, for example, from the abundance ratio of the peak position and area in GPC (gel permeation chromatography).
上記表面処理剤は、溶媒、シリコーンオイルとして理解され得る(非反応性の)シリコーン化合物(以下、「シリコーンオイル」と言う)、アミン化合物、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。 The above-mentioned surface treatment agents include a solvent, a (non-reactive) silicone compound that can be understood as silicone oil (hereinafter referred to as "silicone oil"), an amine compound, alcohols, a catalyst, a surfactant, a polymerization inhibitor, and an additive. May contain sensitizers, etc.
一の態様において、本開示の表面処理剤は、R90-OHで表される化合物を含む。
R90は1価の有機基であり、好ましくはC1-20アルキル基又はC3-20アルキレン基であり、これらの基は1以上の置換基により置換されていてもよい。置換基としては、例えば、水酸基、-OR91(ここで、R91はC1-10アルキル基、好ましくはC1-3アルキル基、例えばメチル基)を挙げることができる。
In one embodiment, the surface treatment agent of the present disclosure includes a compound represented by R 90 —OH.
R 90 is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group or a C 3-20 alkylene group, and these groups may be substituted with one or more substituents. Examples of the substituent include a hydroxyl group and -OR 91 (where R 91 is a C 1-10 alkyl group, preferably a C 1-3 alkyl group, such as a methyl group).
一の態様において、本開示の表面処理剤は、R71OR72、R73
n8C6H6-n8、R74R75R76Si-(O-SiR77R78)m8-R79、及び(OSiR77R78)m9
[式中
R71~R79は、それぞれ独立して、炭素数1~10個の一価の有機基であり、
m8は、1~6の整数であり、
m9は、3~8の整数であり、
n8は、0~6の整数である。]
で表される化合物から選択される溶媒を含み得る。
In one embodiment, the surface treatment agent of the present disclosure comprises R 71 OR 72 , R 73 n8 C 6 H 6-n8 , R 74 R 75 R 76 Si-(O-SiR 77 R 78 ) m8 -R 79 , and (OSiR 77 R 78 ) m9
[In the formula, R 71 to R 79 are each independently a monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms,
m8 is an integer from 1 to 6,
m9 is an integer from 3 to 8,
n8 is an integer from 0 to 6. ]
It may contain a solvent selected from the compounds represented by:
上記炭素数1~10個の一価の有機基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、さらに環状構造を含んでいてもよい。 The monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms may be linear or branched, and may further include a cyclic structure.
一の態様において、上記炭素数1~10個の一価の有機基は、酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を含んでいてもよい。 In one embodiment, the monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, or a halogen atom.
別の態様において、上記炭素数1~10個の一価の有機基は、ハロゲン原子を含まない。 In another embodiment, the monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms does not contain a halogen atom.
好ましい態様において、上記炭素数1~10個の一価の有機基は、ハロゲンにより置換されていてもよい炭化水素基、好ましくはハロゲンにより置換されていない炭化水素基である。 In a preferred embodiment, the monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms is a hydrocarbon group optionally substituted with halogen, preferably a hydrocarbon group not substituted with halogen.
一の態様において、上記炭化水素基は、直鎖である。 In one embodiment, the hydrocarbon group is straight chain.
別の態様において、上記炭化水素基は、分枝鎖である。 In another embodiment, the hydrocarbon group is branched.
別の態様において、上記炭化水素基は、環状構造を含む。 In another embodiment, the hydrocarbon group includes a cyclic structure.
一の態様において、上記溶媒は、R71OR72である。 In one embodiment, the solvent is R 71 OR 72 .
R71及びR72は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数1~8の炭化水素基、より好ましくはC1-6のアルキル基、又はC5-8のシクロアルキル基であり得る。 R 71 and R 72 may each independently preferably be a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a C 1-6 alkyl group, or a C 5-8 cycloalkyl group.
一の態様において、上記溶媒は、R73 n8C6H6-n8である。 In one embodiment, the solvent is R 73 n8 C 6 H 6-n8 .
C6H6-n8は、n8価のベンゼン環である。即ち、R73 n8C6H6-n8は、n8個のR73により置換されたベンゼンである。 C 6 H 6-n8 is an n8-valent benzene ring. That is, R 73 n8 C 6 H 6-n8 is benzene substituted with n8 R 73s .
R73は、それぞれ独立して、ハロゲン、又はハロゲンにより置換されていてもよいC1-6のアルキル基であり得る。 R 73 can each independently be a halogen or a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen.
n8は、好ましくは1~3の整数である。 n8 is preferably an integer of 1 to 3.
一の態様において、上記溶媒は、R74R75R76Si-(O-SiR77R78)m8-R79である。 In one embodiment, the solvent is R 74 R 75 R 76 Si-(O-SiR 77 R 78 ) m8 -R 79 .
一の態様において、上記溶媒は、(OSiR77R78)m9である。(OSiR77R78)m9は、複数のOSiR77R78単位が環状に結合することにより形成される環状シロキサンである。 In one embodiment, the solvent is (OSiR 77 R 78 ) m9 . (OSiR 77 R 78 ) m9 is a cyclic siloxane formed by cyclically bonding a plurality of OSiR 77 R 78 units.
R74~R79は、それぞれ独立して、水素原子、又はC1-6のアルキル基、好ましくはC1-6のアルキル基、より好ましくはC1-3のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 R 74 to R 79 are each independently a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group, preferably a C 1-6 alkyl group, more preferably a C 1-3 alkyl group, and even more preferably a methyl group. It is.
m8は、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~5の整数であり、さらに好ましくは1~2であ。 m8 is preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 5, and even more preferably 1 to 2.
m9は、好ましくは3~6の整数、より好ましくは3~5の整数である。 m9 is preferably an integer of 3 to 6, more preferably an integer of 3 to 5.
一の態様において、上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル-2-ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシイソ酪酸メチル、2-ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、2-ヘプタノン等のケトン類;エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類;メタノール、エタノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール、sec-ブタノール、3-ペンタノール、オクチルアルコール、3-メチル-3-メトキシブタノール、tert-アミルアルコール等のアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類;テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート;シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類;ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類;1,1,2-トリクロロ-1,2,2-トリフルオロエタン、1,2-ジクロロ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、1,1-ジクロロ-1,2,2,3,3-ペンタフルオロプロパン(HCFC225)、ゼオローラH、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、HFE7100、HFE7200、HFE7300、CF3CH2OH、CF3CF2CH2OH、(CF3)2CHOH等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの2種以上の混合溶媒等が挙げられる。なかでも、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール、sec-ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが好ましい。 In one embodiment, the solvent includes, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, mineral spirit; benzene, toluene, xylene, naphthalene, solvent naphtha, etc. Aromatic hydrocarbons; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, n-butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, carbitol acetate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl- Esters such as 2-hydroxybutyrate, ethyl acetoacetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, ethyl 2-hydroxyisobutyrate Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-hexanone, cyclohexanone, methyl aminoketone, 2-heptanone; Ethyl cellosolve, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Glycol ethers such as ethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoalkyl ether; methanol, ethanol, iso-propanol , n-butanol, isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, 3-pentanol, octyl alcohol, 3-methyl-3-methoxybutanol, tert-amyl alcohol, and other alcohols; ethylene glycol, propylene glycol, and other glycols Cyclic ethers such as tetrahydrofuran, tetrahydropyran, dioxane; Amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone; Methyl cellosolve, cellosolve, isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether Ether alcohols such as diethylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as cyclopentyl methyl ether; hexamethyldisiloxane, hexaethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, decamethyltetra Siloxanes such as siloxane, dodecamethylpentasiloxane, and tetradecamethylhexasiloxane; 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetra Fluoroethane, dimethyl sulfoxide, 1,1-dichloro-1,2,2,3,3-pentafluoropropane (HCFC225), Zeolora H, 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, HFE7100, HFE7200, HFE7300, Examples include fluorine-containing solvents such as CF 3 CH 2 OH, CF 3 CF 2 CH 2 OH, and (CF 3 ) 2 CHOH. Alternatively, a mixed solvent of two or more of these may be used. Among them, glycol ethers, alcohols, ether alcohols, and siloxanes are preferred. For example, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, diethylene glycol monomethyl ether, hexamethyldisiloxane, Preferred are hexaethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, decamethyltetrasiloxane, dodecamethylpentasiloxane, tetradecamethylhexasiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, and octamethylcyclopentasiloxane.
シリコーンオイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式(3a):
R1a-(SiR3a
2-O)a1-SiR3a
2-R1a ・・・(3a)
[式中:
R1aは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
R3aは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
a1は、2~3000である。]
で表される化合物が挙げられる。
Although the silicone oil is not particularly limited, for example, the following general formula (3a):
R 1a -(SiR 3a 2 -O) a1 -SiR 3a 2 -R 1a ...(3a)
[In the formula:
R 1a is each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group,
R 3a is each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group,
a1 is 2 to 3000. ]
Examples include compounds represented by:
R3aは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。 Each R 3a is independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Such hydrocarbon groups may be substituted.
R3aは、それぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、又はハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。 R 3a are each independently preferably an unsubstituted hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with a halogen atom. Such a halogen atom is preferably a fluorine atom.
R3aは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいC1-6アルキル基又はアリール基、より好ましくはC1-6アルキル基又はアリール基である。 R 3a is each independently preferably a C 1-6 alkyl group or an aryl group which may be substituted with a halogen atom, more preferably a C 1-6 alkyl group or an aryl group.
上記C1-6アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖
である。C1-6アルキル基は、好ましくはC1-3アルキル基、より好ましくはメチル基である。
The C 1-6 alkyl group may be a straight chain or a branched chain, but is preferably a straight chain. The C 1-6 alkyl group is preferably a C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group.
上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。 The above aryl group is preferably a phenyl group.
一の態様において、R3aは、それぞれ独立して、C1-6アルキル基、好ましくはC1-3アルキル基、より好ましくはメチル基である。 In one embodiment, each R 3a is independently a C 1-6 alkyl group, preferably a C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group.
別の態様において、R3aは、フェニル基である。 In another embodiment, R 3a is a phenyl group.
別の態様において、R3aは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。 In another embodiment R 3a is a methyl group or a phenyl group, preferably a methyl group.
R1aは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、R3aと同意義である。 R 1a each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and has the same meaning as R 3a .
R1aは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいC1-6アルキル基又はアリール基、より好ましくはC1-6アルキル基又はアリール基である。 R 1a is each independently preferably a C 1-6 alkyl group or an aryl group which may be substituted with a halogen atom, more preferably a C 1-6 alkyl group or an aryl group.
一の態様において、R1aは、それぞれ独立して、C1-6アルキル基、好ましくはC1-3アルキル基、より好ましくはメチル基である。 In one embodiment, each R 1a is independently a C 1-6 alkyl group, preferably a C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group.
別の態様において、R1aは、フェニル基である。 In another embodiment, R 1a is a phenyl group.
別の態様において、R1aは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。 In another embodiment R 1a is a methyl group or a phenyl group, preferably a methyl group.
上記a1は、2~1500である。a1は、好ましくは5以上、より好ましくは10以上、さらに好ましくは15以上、例えば30以上、又は50以上であり得る。a1は、好ましくは1000以下、より好ましくは500以下、さらに好ましくは200以下、さらにより好ましくは150以下、例えば100以下、又は80以下であり得る。 The above a1 is 2 to 1500. a1 is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, even more preferably 15 or more, for example 30 or more, or may be 50 or more. a1 may be preferably 1000 or less, more preferably 500 or less, even more preferably 200 or less, even more preferably 150 or less, such as 100 or less, or 80 or less.
a1は、好ましくは5~1000、より好ましくは10~500、さらに好ましくは15~200、さらにより好ましくは15~150であり得る。 a1 may preferably be from 5 to 1000, more preferably from 10 to 500, even more preferably from 15 to 200, even more preferably from 15 to 150.
別のシリコーンオイルとしては、下記(3b):
R1a-RS2-R3a ・・・(3b)
[式中:
R1aは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
R3aは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
RS2は、式(2)の記載と同意義である。]
で表される化合物が挙げられる。
Other silicone oils include the following (3b):
R 1a -R S2 -R 3a ...(3b)
[In the formula:
R 1a is each independently a hydrocarbon group,
R 3a is each independently a hydrocarbon group,
R S2 has the same meaning as described in formula (2). ]
Examples include compounds represented by:
上記シリコーンオイルは、500~1000000、好ましくは1000~100000の平均分子量を有していてよい。シリコーンオイルの分子量は、GPCを用いて測定し得る。 The silicone oil may have an average molecular weight of 500 to 1,000,000, preferably 1,000 to 100,000. The molecular weight of silicone oil can be measured using GPC.
上記シリコーンオイルとしては、例えば-(SiR3a 2-O)a1―のa1が30以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得ることができる。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。 As the silicone oil, for example, a linear or cyclic silicone oil in which a1 of -(SiR 3a 2 -O) a1 - is 30 or less can be used. The linear silicone oil may be a so-called straight silicone oil or a modified silicone oil. Straight silicone oils include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, and methyl hydrogen silicone oil. Examples of the modified silicone oil include straight silicone oils modified with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol, and the like. Examples of the cyclic silicone oil include cyclic dimethylsiloxane oil.
上記シリコーンオイルは、上記表面処理剤に対して、例えば0~50質量%、好ましくは0.001~30質量%、より好ましくは0.1~5質量%含まれ得る。 The silicone oil may be contained in an amount of, for example, 0 to 50% by mass, preferably 0.001 to 30% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass, based on the surface treatment agent.
上記表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のシラン化合物の合計100質量部(2種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様)に対して、例えば0~300質量部、好ましくは0~100質量部、より好ましくは0~50質量部、更に好ましくは0~10質量部で含まれ得る。 In the surface treatment agent, the silicone oil is, for example, 0 to 300 parts by mass, preferably 0 to 300 parts by mass, based on a total of 100 parts by mass (in the case of two or more types, the total of these, the same applies hereinafter) of the silane compounds of the present disclosure. may be contained in an amount of 0 to 100 parts by weight, more preferably 0 to 50 parts by weight, even more preferably 0 to 10 parts by weight.
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。 Silicone oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.
上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール、sec-ブタノール、3-ペンタノール、オクチルアルコール、3-メチル-3-メトキシブタノール、tert-アミルアルコールが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させる。 Examples of the alcohols include methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, 3-pentanol, octyl alcohol, 3-methyl-3-methoxybutanol, tert-butanol, Examples include amyl alcohol. By adding these alcohols to the surface treatment agent, the stability of the surface treatment agent is improved.
上記触媒としては、酸(例えば酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、p-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等)、塩基(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等)、遷移金属(例えばTi、Ni、Sn、Zr、Al、B、Si、Ta、Nb、Mo、W、Cr、Hf、V等)、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物(例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物)等が挙げられる。 The above-mentioned catalysts include acids (for example, acetic acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.). ), transition metals (e.g. Ti, Ni, Sn, Zr, Al, B, Si, Ta, Nb, Mo, W, Cr, Hf, V, etc.), sulfur-containing compounds having lone pairs in their molecular structure , or nitrogen-containing compounds (for example, sulfoxide compounds, aliphatic amine compounds, aromatic amine compounds, phosphoric acid amide compounds, amide compounds, urea compounds), and the like.
上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。 Examples of the aliphatic amine compound include diethylamine, triethylamine, and the like. Examples of the aromatic amine compound include aniline, pyridine, and the like.
好ましい態様において、上記遷移金属は、M-R(式中、Mは、遷移金属原子であり、Rは加水分解性基である。)で表される遷移金属化合物として含まれる。遷移金属化合物を、遷移金属と加水分解性基とが結合した化合物とすることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。 In a preferred embodiment, the transition metal is included as a transition metal compound represented by MR (where M is a transition metal atom and R is a hydrolyzable group). By using the transition metal compound as a compound in which a transition metal and a hydrolyzable group are bonded, transition metal atoms can be more efficiently included in the surface treatment layer, improving the friction durability and chemical resistance of the surface treatment layer. performance can be further improved.
上記加水分解性基とは、上記シラン化合物に関する加水分解性基と同様に、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、遷移金属原子から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、-ORm、-OCORm、-O-N=CRm 2、-NRm 2、-NHRm、-NCO、又はハロゲン(これら式中、Rmは、置換または非置換のC1-4アルキル基を示す)などが挙げられる。 The above-mentioned hydrolyzable group means a group that can undergo a hydrolysis reaction, like the hydrolysable group related to the above-mentioned silane compound, that is, it means a group that can be detached from a transition metal atom by a hydrolysis reaction. Examples of hydrolyzable groups include -OR m , -OCOR m , -ON=CR m 2 , -NR m 2 , -NHR m , -NCO, or halogen (in these formulas, R m is substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group).
好ましい態様において、上記加水分解性基とは、-ORmであり、好ましくはメトキシまたはエトキシである。加水分解性基としてアルコキシ基を用いることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。 In a preferred embodiment, the hydrolyzable group is -OR m , preferably methoxy or ethoxy. By using an alkoxy group as a hydrolyzable group, transition metal atoms can be contained in the surface treatment layer more efficiently, and the friction durability and chemical resistance of the surface treatment layer can be further improved.
一の態様において、上記加水分解性基は、上記したシラン化合物に含まれる加水分解性基と同じであってもよい。シラン化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を同じ基とすることにより、かかる加水分解性基が相互に交換された場合であっても、その影響を小さくすることができる。 In one embodiment, the hydrolyzable group may be the same as the hydrolyzable group contained in the silane compound described above. By using the same hydrolyzable group in the silane compound and the transition metal compound, even if the hydrolyzable groups are exchanged with each other, the influence can be reduced.
別の態様において、上記加水分解性基は、上記したシラン化合物に含まれる加水分解性基と異なっていてもよい。シラン化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を異なるものとすることにより、加水分解の反応性を制御することができる。 In another embodiment, the hydrolyzable group may be different from the hydrolyzable group contained in the silane compound described above. By using different hydrolyzable groups in the silane compound and the transition metal compound, the reactivity of hydrolysis can be controlled.
一の態様において、上記加水分解性基と、上記シラン化合物に含まれる加水分解性基は、表面処理剤中において、相互に入れ替わっていてもよい。 In one embodiment, the hydrolyzable group and the hydrolyzable group contained in the silane compound may be exchanged with each other in the surface treatment agent.
好ましい態様において、上記遷移金属化合物は、Ta(ORm)5(式中、Rmは置換または非置換のC1-4アルキル基である。)であり、好ましくはTa(OCH2CH3)5、又はSi(ORm)1-m1Rm’ m1(式中、Rmは置換または非置換のC1-4アルキル基であり、Rm’は、C1-4アルキル基であり、m1は、0又は1である。)、好ましくはテトラエトキシシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、又はジメチルジメトキシシランであり得る。 In a preferred embodiment, the transition metal compound is Ta(OR m ) 5 (wherein R m is a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), preferably Ta(OCH 2 CH 3 ) 5 , or Si(OR m ) 1-m1 R m' m1 (wherein R m is a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group, R m' is a C 1-4 alkyl group, m1 is 0 or 1), preferably tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, tetraisopropoxysilane, dimethyldiethoxysilane, or dimethyldimethoxysilane.
上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、0.0002質量%以上含まれ得る。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、0.02質量%以上含まれることが好ましく、0.04質量%以上含まれることがより好ましい。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、10質量%以下含まれてもよく、特に1質量%以下含まれる。上記表面処理剤は、上記触媒が、上記のような濃度含むことによって、より耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。 The catalyst may be contained in an amount of, for example, 0.0002% by mass or more based on the entire surface treatment agent. The above-mentioned catalyst is preferably contained in an amount of 0.02% by mass or more, more preferably 0.04% by mass or more, based on the entire surface treatment agent. The above catalyst may be contained in an amount of, for example, 10% by mass or less, particularly 1% by mass or less, based on the entire surface treatment agent. The surface treatment agent can contribute to the formation of a more durable surface treatment layer by containing the catalyst at the concentration described above.
上記触媒の含有量は、本開示のシラン化合物に対して0~10質量%が好ましく、0~5質量%がより好ましく、0~1質量%が特に好ましい。 The content of the catalyst is preferably 0 to 10% by mass, more preferably 0 to 5% by mass, and particularly preferably 0 to 1% by mass based on the silane compound of the present disclosure.
触媒は、本開示のシラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、上記表面処理剤により形成される層の形成を促進する。 The catalyst promotes hydrolysis and dehydration condensation of the silane compound of the present disclosure, and promotes the formation of the layer formed by the surface treatment agent.
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。 In addition to the above, other components include, for example, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and methyltriacetoxysilane.
上記表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばPt、Rh、Ru、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、NaCl、KCl、シランの縮合物などを微量含み得る。 In addition to the above-mentioned components, the surface treatment agent may contain trace amounts of impurities such as Pt, Rh, Ru, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, triphenylphosphine, NaCl, KCl, and a condensate of silane.
一の態様において、上記表面処理剤は、乾燥被覆法、好ましくは真空蒸着用である。 In one embodiment, the surface treatment agent is for dry coating, preferably vacuum deposition.
一の態様において、上記表面処理剤は、湿潤被覆法、好ましくは浸漬コーティング用である。 In one embodiment, the surface treatment agent is for wet coating methods, preferably dip coating.
上記表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。 The above-mentioned surface treatment agent can be made into pellets by impregnating a porous material such as a porous ceramic material or a cotton-like solidified material such as metal fibers such as steel wool. The pellets can be used, for example, in vacuum deposition.
本開示の物品は、基材(ガラス)の表面に、式(1)で表される化合物を含む表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。 In the article of the present disclosure, a layer of a surface treatment agent containing the compound represented by formula (1) is formed on the surface of a base material (glass), and this layer is post-treated as necessary. It can be manufactured by forming a layer from the disclosed surface treatment agent.
上記表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。 The layer formation of the surface treatment agent can be carried out by applying the surface treatment agent to the surface of the base material so as to cover the surface. The coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ワイプコーティング、スキージーコート法、ダイコート、インクジェット、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法及び類似の方法が挙げられる。 Examples of wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating, wipe coating, squeegee coating, die coating, inkjet, casting, Langmuir-Blodgett and similar methods. Can be mentioned.
乾燥被覆法の例としては、蒸着(通常、真空蒸着)、スパッタリング、CVD及び類似の方法が挙げられる。蒸着法(通常、真空蒸着法)の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。CVD方法の具体例としては、プラズマ-CVD、光学CVD、熱CVD及び類似の方法が挙げられる。 Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum deposition), sputtering, CVD and similar methods. Specific examples of vapor deposition methods (usually vacuum vapor deposition methods) include resistance heating, electron beam, high frequency heating using microwaves, etc., ion beam, and similar methods. Examples of CVD methods include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。 Furthermore, coating by atmospheric pressure plasma method is also possible.
湿潤被覆法を使用する場合、表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。表面処理剤の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される:ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル-2-ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシイソ酪酸メチル、2-ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2-ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、2-ヘプタノン等のケトン類;エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類;メタノール、エタノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール、sec-ブタノール、3-ペンタノール、オクチルアルコール、3-メチル-3-メトキシブタノール、tert-アミルアルコール等のアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類;テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類;ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート;ポリフルオロ芳香族炭化水素(例えば、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン);ポリフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、C6F13CH2CH3(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AC-6000)、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン(例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ(登録商標)H);ヒドロフルオロエーテル(HFE)(例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル(C3F7OCH3)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7000)、パーフルオロブチルメチルエーテル(C4F9OCH3)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7100)、パーフルオロブチルエチルエーテル(C4F9OC2H5)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7200)、パーフルオロヘキシルメチルエーテル(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7300)などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル(パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい)、あるいはCF3CH2OCF2CHF2(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AE-3000))、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテルアルコール類;ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類など。これらの溶媒は、単独で、又は、2種以上の混合物として用いることができる。なかでも、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール、sec-ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが特に好ましい。 When using wet coating methods, the surface treatment agent can be diluted with a solvent before being applied to the substrate surface. From the viewpoint of stability of the surface treatment agent and volatility of the solvent, the following solvents are preferably used: aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, mineral spirit; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, and solvent naphtha; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, n-butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, carbide acetate Toll, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2-hydroxybutyrate, ethyl acetoacetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 2-hydroxyisobutyric acid Esters such as methyl and ethyl 2-hydroxyisobutyrate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-hexanone, cyclohexanone, methylaminoketone, and 2-heptanone; ethyl cellosolve, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, Ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoalkyl ether, etc. Glycol ethers; methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, 3-pentanol, octyl alcohol, 3-methyl-3-methoxybutanol, tert-amyl alcohol, etc. alcohols; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; cyclic ethers such as tetrahydrofuran, tetrahydropyran, and dioxane; amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone; methyl Ether alcohols such as cellosolve, cellosolve, isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether; diethylene glycol monoethyl ether acetate; polyfluoroaromatic hydrocarbons (for example, 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene); polyfluoroaliphatic Hydrocarbons (for example, C 6 F 13 CH 2 CH 3 (for example, Asahiklin (registered trademark) AC-6000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (For example, Zeorola (registered trademark) H manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.); Hydrofluoroether (HFE) (For example, perfluoropropyl methyl ether ( C3F7OCH3 ) ) (For example, Novec (trademark manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd. ) 7000), perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) (for example, Novec (trademark) 7100 manufactured by Sumitomo 3M Limited), perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 OC 2 H 5 ) ( For example, Novec (trademark) 7200 manufactured by Sumitomo 3M Limited), perfluorohexyl methyl ether ( C2F5CF ( OCH3 ) C3F7 ) (for example, Novec (trademark) 7300 manufactured by Sumitomo 3M Limited) alkyl perfluoroalkyl ethers such as (the perfluoroalkyl group and the alkyl group may be linear or branched), or CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 (for example, Asahiklin (registered trademark) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. )AE-3000)), ether alcohols such as cyclopentyl methyl ether; hexamethyldisiloxane, hexaethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, octamethylcyclopentasiloxane, decamethyltetrasiloxane, dodecamethyl Siloxanes such as pentasiloxane and tetradecamethylhexasiloxane. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more. Among them, glycol ethers, alcohols, ether alcohols, and siloxanes are preferred. For example, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, diethylene glycol monomethyl ether, hexamethyldisiloxane, Particularly preferred are hexaethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, decamethyltetrasiloxane, dodecamethylpentasiloxane, tetradecamethylhexasiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, and octamethylcyclopentasiloxane.
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。 When using a dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure may be subjected to the dry coating method as is, or may be diluted with the above-mentioned solvent and then subjected to the dry coating method.
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着(通常、真空蒸着)処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着(通常、真空蒸着)処理をしてもよい。 The layer formation of the surface treatment agent is preferably carried out such that in the layer the surface treatment agent of the present disclosure is present together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation. Conveniently, when using a wet coating method, the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present disclosure, after diluting the surface treatment agent of the present disclosure with a solvent, immediately before application to the substrate surface. In the case of a dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure with a catalyst added thereto is directly vapor-deposited (usually by vacuum deposition), or the surface treatment agent of the present disclosure with a catalyst added is applied to a porous metal body such as iron or copper. A vapor deposition (usually vacuum vapor deposition) treatment may be performed using a pellet-like material impregnated with.
触媒には、任意の適切な酸又は塩基、遷移金属(例えばTi、Ni、Sn、Zr、Al、B等)、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物(例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物)等を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン等の有機アミン類などを使用できる。遷移金属、脂肪族アミン化合物、及び芳香族アミン化合物は、上記と同様のものが挙げられる。 The catalyst may include any suitable acid or base, transition metal (e.g. Ti, Ni, Sn, Zr, Al, B, etc.), sulfur-containing compound having a lone pair of electrons in its molecular structure, or nitrogen-containing compound (e.g. Sulfoxide compounds, aliphatic amine compounds, aromatic amine compounds, phosphoric acid amide compounds, amide compounds, urea compounds), etc. can be used. As the acid catalyst, for example, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc. can be used. Further, as the base catalyst, for example, ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, organic amines such as triethylamine, diethylamine, etc. can be used. Examples of the transition metal, aliphatic amine compound, and aromatic amine compound include those mentioned above.
上記した酸化ケイ素を含む中間層は、酸化ケイ素前駆体を基材の表面に適用することにより形成することができる。中間層がアルカリ金属原子を含む場合、上記中間層は、酸化ケイ素前駆体とアルカリ金属源を含む組成物を基材の表面に適用することにより形成することができる。 The above-mentioned intermediate layer containing silicon oxide can be formed by applying a silicon oxide precursor to the surface of the base material. When the intermediate layer contains alkali metal atoms, the intermediate layer can be formed by applying a composition containing a silicon oxide precursor and an alkali metal source to the surface of the substrate.
上記酸化ケイ素前駆体としては、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルカリ金属ケイ酸塩、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物、該シラン化合物の部分加水分解縮合物等が挙げられる。ケイ酸やその部分縮合物は脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができ、アルカリ金属ケイ酸塩は酸や陽イオン交換樹脂によりケイ酸やその部分縮合物とし、生成したケイ酸やその部分縮合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物における加水分解性基としては、アルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。該シラン化合物の加水分解性基を加水分解させて水酸基とし、生成するシラノール化合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物としては、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等のアルコキシシランやテトラクロロシラン等が挙げられる。 Examples of the silicon oxide precursor include silicic acid, a partial condensate of silicic acid, an alkali metal silicate, a silane compound having a hydrolyzable group bonded to a silicon atom, and a partially hydrolyzed condensate of the silane compound. It will be done. Silicic acid and its partial condensates can be dehydrated and condensed to form silicon oxide, and alkali metal silicates can be converted to silicic acid and its partial condensates by using acids and cation exchange resins. can be dehydrated and condensed to form silicon oxide. Examples of the hydrolyzable group in a silane compound having a hydrolyzable group bonded to a silicon atom include an alkoxy group and a chlorine atom. The hydrolyzable group of the silane compound can be hydrolyzed to form a hydroxyl group, and the resulting silanol compound can be dehydrated and condensed to form silicon oxide. Examples of the silane compound having a hydrolyzable group bonded to a silicon atom include alkoxysilanes such as tetraalkoxysilane and alkyltrialkoxysilane, and tetrachlorosilane.
上記アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物、水溶性アルカリ金属塩等が挙げられる。水溶性アルカリ金属塩としては、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属塩酸塩、アルカリ金属硝酸塩等が挙げられる。アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ金属炭酸塩が好ましい。 Examples of the alkali metal source include alkali metal hydroxides, water-soluble alkali metal salts, and the like. Examples of water-soluble alkali metal salts include alkali metal carbonates, alkali metal hydrogen carbonates, alkali metal hydrochlorides, alkali metal nitrates, and the like. As the alkali metal source, alkali metal hydroxides and alkali metal carbonates are preferred.
尚、アルカリ金属ケイ酸塩は酸化ケイ素前駆体かつアルカリ金属源として用いることができる。アルカリ金属ケイ酸塩はケイ酸を経て酸化ケイ素とすることができるが、その際に少量のアルカリ金属が生成する酸化ケイ素中に残留し得る。従って、残留するアルカリ金属原子の量を調整して、所定量のアルカリ金属原子を含む酸化ケイ素を得ることができる。 Note that the alkali metal silicate can be used as a silicon oxide precursor and an alkali metal source. Alkali metal silicate can be converted into silicon oxide via silicic acid, but in this case, a small amount of alkali metal may remain in the produced silicon oxide. Therefore, silicon oxide containing a predetermined amount of alkali metal atoms can be obtained by adjusting the amount of remaining alkali metal atoms.
以上、本開示の物品等について詳述した。なお、本開示の物品等は、上記で例示したものに限定されない。 The articles and the like of the present disclosure have been described above in detail. Note that the articles and the like of the present disclosure are not limited to those exemplified above.
以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present disclosure will be described in Examples, but the present disclosure is not limited to the following Examples.
<合成例>
合成例1
トリコサン酸(2.16g)、2,2-ジアリル-4-ペンテン-1-アミン(5.5g)、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩(1.85g)、4-ジメチルアミノピリジン(83.2mg)、およびジクロロメタン(21.6g)を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、CH3(CH2)21CONHCH2C(CH2CH=CH2)3(1.89g)を得た。
<Synthesis example>
Synthesis example 1
Tricosanoic acid (2.16g), 2,2-diallyl-4-penten-1-amine (5.5g), 1-(3-dimethylaminopropyl)-3-ethylcarbodiimide hydrochloride (1.85g), 4 -dimethylaminopyridine (83.2 mg) and dichloromethane (21.6 g) were mixed and stirred at room temperature overnight. After diluting with dichloromethane and washing with hydrochloric acid and water, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain CH 3 (CH 2 ) 21 CONHCH 2 C(CH 2 CH=CH 2 ) 3 (1.89 g).
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.84-0.88 (m,), 1.23-27 (m), 1.57-59 (m), 2.24-2.27 (m), 3.82-3.94 (m) 5.05-5.14 (m), 5.51-5.60 (m), 5.80-5.93 (m) 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.84-0.88 (m,), 1.23-27 (m), 1.57-59 (m), 2.24-2.27 (m), 3.82-3.94 (m) 5.05- 5.14 (m), 5.51-5.60 (m), 5.80-5.93 (m)
CH3(CH2)21-CONHCH2C(CH2CH=CH2)3(3g)、トルエン(20mL)、カールシュテッド触媒のキシレン溶液(2%、1.8mL)、アニリン(0.3g)、およびトリメトキシシラン(10.0mL)を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、CH3(CH2)21-CONHCH2C{CH2CH2CH2Si(OCH3)}3(3.2g、化合物1)を得た。 CH 3 (CH 2 ) 21 -CONHCH 2 C(CH 2 CH=CH 2 ) 3 (3 g), toluene (20 mL), xylene solution of Karstedt catalyst (2%, 1.8 mL), aniline (0.3 g) ), and trimethoxysilane (10.0 mL), stirred overnight at room temperature, and concentrated under reduced pressure to form CH 3 (CH 2 ) 21 -CONHCH 2 C{CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 )} 3 (3.2 g, compound 1) was obtained.
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.84-0.88 (m,), 1.23-27 (m), 1.57-59 (m), 2.24-2.27 (m),3.01-3.10(m) 3.82-3.94 (m) 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.84-0.88 (m,), 1.23-27 (m), 1.57-59 (m), 2.24-2.27 (m),3.01-3.10(m) 3.82- 3.94 (m)
合成例2
トリコサン酸(2.16g)、ジアリルアミン(1.47g)、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩(1.85g)、4-ジメチルアミノピリジン(83.2mg)、およびジクロロメタン(21.6g)を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、CH3(CH2)21CON(CH2CH=CH2)2(1.39g)を得た。
Synthesis example 2
Tricosanoic acid (2.16 g), diallylamine (1.47 g), 1-(3-dimethylaminopropyl)-3-ethylcarbodiimide hydrochloride (1.85 g), 4-dimethylaminopyridine (83.2 mg), and dichloromethane (21.6 g) were mixed and stirred at room temperature overnight. After diluting with dichloromethane and washing with hydrochloric acid and water, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain CH 3 (CH 2 ) 21 CON (CH 2 CH=CH 2 ) 2 (1.39 g).
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.86-0.90 (m), 1.25-1.29 (m), 1.62-1.67 (m), 2.17-2.21 (m), 3.87-3.91 (m), 5.12-5.21 (m), 5.44 (m), 5.79-5.89 (m) 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.86-0.90 (m), 1.25-1.29 (m), 1.62-1.67 (m), 2.17-2.21 (m), 3.87-3.91 (m), 5.12- 5.21 (m), 5.44 (m), 5.79-5.89 (m)
CH3(CH2)21-CON(CH2CH=CH2)2(2.1g)、トルエン(20mL)、カールシュテッド触媒のキシレン溶液(2%、1.8mL)、アニリン(0.3g)、およびトリメトキシシラン(6.3mL)を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、CH3(CH2)21-CON{CH2CH2CH2Si(OCH3)3}2(2.2g、化合物2)を得た。 CH 3 (CH 2 ) 21 -CON(CH 2 CH=CH 2 ) 2 (2.1 g), toluene (20 mL), Karstedt catalyst xylene solution (2%, 1.8 mL), aniline (0.3 g) ), and trimethoxysilane (6.3 mL), stirred overnight at room temperature, and concentrated under reduced pressure to obtain CH 3 (CH 2 ) 21 -CON{CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 } 2 (2.2 g, compound 2) was obtained.
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.83-0.92 (m), 1.22-26 (m), 1.56-1.65 (m), 2.20-2.26(m), 3.15-3.27 (m), 3.53-3.67 (m)
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.83-0.92 (m), 1.22-26 (m), 1.56-1.65 (m), 2.20-2.26(m), 3.15-3.27 (m), 3.53- 3.67 (m)
合成例3
ステアロイルクロライド(5.1g)、ジアリルアミン(3.2g)、およびジクロロメタン(15mL)を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、C17H35-CON(CH2CH=CH2)2(4.8g)を得た。
Synthesis example 3
Stearoyl chloride (5.1 g), diallylamine (3.2 g), and dichloromethane (15 mL) were mixed and stirred at room temperature overnight. After diluting with dichloromethane and washing with hydrochloric acid and water, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain C 17 H 35 -CON(CH 2 CH=CH 2 ) 2 (4.8 g).
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.81-0.83 (m), 1.21-24 (m), 1.54-1.60 (m), 2.24-2.27 (m), 3.82-3.94 (m), 5.05-5.23 (m), 5.35 (m), 5.68-5.84 (m) 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.81-0.83 (m), 1.21-24 (m), 1.54-1.60 (m), 2.24-2.27 (m), 3.82-3.94 (m), 5.05- 5.23 (m), 5.35 (m), 5.68-5.84 (m)
C17H35-CON(CH2CH=CH2)2(3.1g)、トルエン(20mL)、カールシュテッド触媒のキシレン溶液(2%、1.8mL)、アニリン(0.3g)、およびトリメトキシシラン(6.3mL)を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、C17H35-CON{CH2CH2CH2Si(OCH3)3}2(3.2g、化合物3)を得た。 C 17 H 35 -CON(CH 2 CH=CH 2 ) 2 (3.1 g), toluene (20 mL), Karstedt catalyst in xylene (2%, 1.8 mL), aniline (0.3 g), and Trimethoxysilane (6.3 mL) was mixed, stirred overnight at room temperature, and concentrated under reduced pressure to obtain C 17 H 35 -CON{CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 } 2 (3.2 g). , compound 3) was obtained.
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.83-0.92 (m), 1.22-26 (m), 1.56-1.65 (m), 2.20-2.26(m), 3.15-3.27 (m), 3.53-3.67 (m) 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.83-0.92 (m), 1.22-26 (m), 1.56-1.65 (m), 2.20-2.26(m), 3.15-3.27 (m), 3.53- 3.67 (m)
合成例4
ステアリルアルコール(2.00g)、(3-イソシアナトプロピル)トリメトキシシラン(1.70mL)、ジラウリン酸ジブチルスズ(58.9mg)、およびジクロロメタン(14.8mL)を混合し、室温で終夜撹拌した。その後、減圧濃縮し、ヘキサメチルジシロキサンで洗浄することで、CH3(CH2)17OCONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3(3.0g、化合物4)を得た。
Synthesis example 4
Stearyl alcohol (2.00 g), (3-isocyanatopropyl)trimethoxysilane (1.70 mL), dibutyltin dilaurate (58.9 mg), and dichloromethane (14.8 mL) were mixed and stirred at room temperature overnight. Thereafter, it was concentrated under reduced pressure and washed with hexamethyldisiloxane to obtain CH 3 (CH 2 ) 17 OCONHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 (3.0 g, Compound 4).
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.61-0.70 (m), 0.85-0.88 (t), 1.21-1.28 (m), 1.56-1.64 (m), 3.10-3.16 (m), 3.47-3.73 (m) , 4.00-4.03 (t) 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.61-0.70 (m), 0.85-0.88 (t), 1.21-1.28 (m), 1.56-1.64 (m), 3.10-3.16 (m), 3.47- 3.73 (m), 4.00-4.03 (t)
合成例5
ステアリン酸クロリドを5.13g、トルエンを5.7mL、2アリル-ペント-4-エ二ルアミンを2.60g、それぞれ混合したのち、室温で終夜攪拌した。その後、クロロホルムで希釈し、3Nの塩酸で洗浄したあと、減圧濃縮することで中間体A3.98gを得た。
Synthesis example 5
After mixing 5.13 g of stearic acid chloride, 5.7 mL of toluene, and 2.60 g of 2allyl-pent-4-enylamine, the mixture was stirred at room temperature overnight. Thereafter, the mixture was diluted with chloroform, washed with 3N hydrochloric acid, and concentrated under reduced pressure to obtain 3.98 g of Intermediate A.
中間体A
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.855 (t), 1.086-1.379 (m), 1.574-1.608 (m), 1.680-1.760 (m), 1.987-2.091 (m), 2.133 (t), 3.195(t), 5.013-5.5.163 (m), 5.479 (br), 5.714-5.818 (m)
Intermediate A
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ[ppm]: 0.855 (t), 1.086-1.379 (m), 1.574-1.608 (m), 1.680-1.760 (m), 1.987-2.091 (m), 2.133 ( t), 3.195(t), 5.013-5.5.163 (m), 5.479 (br), 5.714-5.818 (m)
合成例6
中間体Aを3.98g、トルエンを50mL、ピリジンを0.30mL、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を2.3mL、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを23mL仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する化合物5(8.55g,)を得た。
Synthesis example 6
3.98 g of Intermediate A, 50 mL of toluene, 0.30 mL of pyridine, 2.3 mL of a xylene solution containing 2% Pt complex of 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, After each addition, 23 mL of trimethoxysilane was added, and the mixture was stirred at room temperature overnight. Thereafter, by purification, Compound 5 (8.55 g) having a trimethoxysilyl group at the end was obtained.
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.025-0.159 (m), 0.629(t), 0.881 (t), 1.183-1.323 (m), 1.374-1.541 (m), 1.662 (quin), 2.154 (t), 3.184 (t), 3.557-3.575 (m), 5.524 (t) 1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ[ppm]: 0.025-0.159 (m), 0.629(t), 0.881 (t), 1.183-1.323 (m), 1.374-1.541 (m), 1.662 (quin) , 2.154 (t), 3.184 (t), 3.557-3.575 (m), 5.524 (t)
化合物5
Compound 5
合成例7
ステアリン酸クロリド(5g)、アリルアミン(2.5mL)、およびジクロロメタン(15mL)を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、C17H35-CONHCH2CH2CH=CH2(5.0g)を得た。
Synthesis example 7
Stearic acid chloride (5 g), allylamine (2.5 mL), and dichloromethane (15 mL) were mixed and stirred at room temperature overnight. After diluting with dichloromethane and washing with hydrochloric acid and water, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain C 17 H 35 -CONHCH 2 CH 2 CH=CH 2 (5.0 g).
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.85-0.88 (m, 3H), 1.23-27 (m, 28H), 1.60-1.70 (m, 2H), 2.15-2.22 (m, 2H), 3.85-3.89 (m,2H), 5.01-5.15 (m, 2H), 5.78-5.86 (m, 1H). 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.85-0.88 (m, 3H), 1.23-27 (m, 28H), 1.60-1.70 (m, 2H), 2.15-2.22 (m, 2H), 3.85 -3.89 (m,2H), 5.01-5.15 (m, 2H), 5.78-5.86 (m, 1H).
C17H35-CONHCH2CH2CH=CH2(5g)、トルエン(70mL)、カールシュテッド触媒のキシレン溶液(2%、3.5mL)、アニリン(0.5g)、およびトリメトキシシラン(5.9mL)を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、C17H35-CONH-CH2CH2CH2Si(OCH3)3(化合物6,6.3g)を得た。 C 17 H 35 -CONHCH 2 CH 2 CH=CH 2 (5 g), toluene (70 mL), Karstedt's catalyst in xylene (2%, 3.5 mL), aniline (0.5 g), and trimethoxysilane ( 5.9 mL), stirred overnight at room temperature, and concentrated under reduced pressure to obtain C 17 H 35 -CONH-CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 (Compound 6, 6.3 g). Ta.
合成例8
トリコサン酸(2.16g)、アリルアミン(1.47g)、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩(1.85g)、4-ジメチルアミノピリジン(83.2mg)、およびジクロロメタン(21.6g)を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、CH3(CH2)21CONHCH2CH=CH2を1.39g得た。
Synthesis example 8
Tricosanoic acid (2.16 g), allylamine (1.47 g), 1-(3-dimethylaminopropyl)-3-ethylcarbodiimide hydrochloride (1.85 g), 4-dimethylaminopyridine (83.2 mg), and dichloromethane (21.6 g) were mixed and stirred at room temperature overnight. After diluting with dichloromethane and washing with hydrochloric acid and water, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 1.39 g of CH 3 (CH 2 ) 21 CONHCH 2 CH=CH 2 .
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.86-0.90 (m), 1.25-1.29 (m), 1.62-1.67 (m), 2.17-2.21 (m), 3.87-3.91 (m) 3.87-3.91 (m) , 5.12-5.21 (m), 5.44 (m), 5.79-5.89 (m) 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.86-0.90 (m), 1.25-1.29 (m), 1.62-1.67 (m), 2.17-2.21 (m), 3.87-3.91 (m) 3.87-3.91 (m), 5.12-5.21 (m), 5.44 (m), 5.79-5.89 (m)
上記で得られたCH3(CH2)21CONHCH2CH=CH2を1.0g、トルエンを3.0g、ピリジンを0.1mL、カールシュテッド触媒のキシレン溶液(2%、0.3mL)、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを1.0mL仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有するCH3(CH2)21CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3(化合物7,1.10g)を得た。 1.0 g of CH 3 (CH 2 ) 21 CONHCH 2 CH=CH 2 obtained above, 3.0 g of toluene, 0.1 mL of pyridine, xylene solution of Karstedt catalyst (2%, 0.3 mL) After each addition, 1.0 mL of trimethoxysilane was added, and the mixture was stirred at room temperature overnight. Thereafter, purification was performed to obtain CH 3 (CH 2 ) 21 CONHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 (Compound 7, 1.10 g) having a trimethoxysilyl group at the end.
化合物7
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.014-0.146 (m), 0.49-0.59 (m), 0.63-0.69 (m), 0.86-0.95 (m), 1.16-1.40 (m), 1.47-1.67 (m) , 2.12-2.17 (m), 3.19-3.27 (m), 3.57-3.64 (m)
Compound 7
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ[ppm]: 0.014-0.146 (m), 0.49-0.59 (m), 0.63-0.69 (m), 0.86-0.95 (m), 1.16-1.40 (m), 1.47- 1.67 (m), 2.12-2.17 (m), 3.19-3.27 (m), 3.57-3.64 (m)
実施例で使用したデシルトリクロロシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オルトケイ酸テトラエチル及び溶媒のヘキサメチルジシロキサン、エタノール、酢酸エチルは東京化成工業社製から購入して用いた。 Decyltrichlorosilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, tetraethyl orthosilicate, and the solvents hexamethyldisiloxane, ethanol, and ethyl acetate used in the examples were manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Purchased and used from.
上記の化合物を、表1に示す溶媒で所定の濃度に希釈し、表面処理剤1~8を得た。 The above compounds were diluted to predetermined concentrations with the solvents shown in Table 1 to obtain surface treatment agents 1 to 8.
<Na入り中間層形成材料の調製>
水酸化ナトリウム(富士フィルム和光純薬株式会社製)の2.2gを、蒸留水24gに溶解して、8.4質量%の水酸化ナトリウム水溶液を得た。この8.4質量%の水酸化ナトリウム水溶液の24gとMSゲル(M.S.GEL D-100-60A(AGCエスアイテック社製))の20gとを混合して、水酸化ナトリウム水溶液をMSゲル中に吸収させた。水酸化ナトリウム水溶液を吸収したMSゲルを25℃で8時間乾燥した後、錠剤成形機(4MPaで1分)で成形し、1,000℃で1時間焼成して成形体1(ペレット)を得た。
<Preparation of Na-containing intermediate layer forming material>
2.2 g of sodium hydroxide (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dissolved in 24 g of distilled water to obtain an 8.4% by mass aqueous sodium hydroxide solution. 24g of this 8.4% by mass sodium hydroxide aqueous solution and 20g of MS gel (M.S.GEL D-100-60A (manufactured by AGC SITEC)) were mixed, and the sodium hydroxide aqueous solution was mixed with MS gel. It was absorbed inside. After drying the MS gel that had absorbed the sodium hydroxide aqueous solution at 25°C for 8 hours, it was molded using a tablet molding machine (4 MPa for 1 minute) and baked at 1,000°C for 1 hour to obtain molded body 1 (pellets). Ta.
<表面処理層の形成>
実施例1
表面処理剤1を、化学強化ガラス(コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ0.7mm)上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤0.1gを充填し、真空蒸着装置内を圧力3.0×10-3Pa以下に排気した。その後、成形体1を用いて電子線蒸着方式により蒸着させて、7nmの厚さのNaを含む二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで150℃、2時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。
<Formation of surface treatment layer>
Example 1
Surface treatment agent 1 was vacuum-deposited on chemically strengthened glass (Gorilla Glass, manufactured by Corning, thickness 0.7 mm). Specifically, a molybdenum boat in the vacuum evaporation apparatus was filled with 0.1 g of the surface treatment agent, and the inside of the vacuum evaporation apparatus was evacuated to a pressure of 3.0×10 −3 Pa or less. Thereafter, a silicon dioxide film containing Na with a thickness of 7 nm was formed by vapor deposition using the molded body 1 using an electron beam evaporation method, and then a surface treatment layer was formed by heating the boat using a resistance heating method. . Thereafter, a surface treatment layer was obtained by performing a heat treatment in an oven at 150° C. for 2 hours.
実施例2
表面処理剤を表面処理剤2に変更した以外は実施例1と同様に表面処理層を得た。
Example 2
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 2.
実施例3
表面処理剤を表面処理剤3に変更した以外は実施例1と同様に表面処理層を得た。
Example 3
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 3.
実施例4
表面処理剤4を化学強化ガラス(コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ0.7mm)上にスピンコート処理した。具体的には、真空蒸着装置にて、二酸化ケイ素を7nmの厚さで蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成した基材を、10分間のUVオゾン処理を実施し親水化した後に、表面処理剤4を3000rpmで30秒間スピンコートを行った。その後、オーブンで150℃、2時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。
Example 4
Surface treatment agent 4 was spin-coated onto chemically strengthened glass (Corning Corporation, Gorilla Glass, thickness 0.7 mm). Specifically, a base material on which a silicon dioxide film was formed by vapor depositing silicon dioxide to a thickness of 7 nm in a vacuum evaporation apparatus was subjected to UV ozone treatment for 10 minutes to make it hydrophilic, and then surface treatment agent 4 was applied. Spin coating was performed at 3000 rpm for 30 seconds. Thereafter, a surface treatment layer was obtained by performing a heat treatment in an oven at 150° C. for 2 hours.
実施例5
表面処理剤を表面処理剤5に変更した以外は実施例4と同様に表面処理層を得た。
Example 5
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 4 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 5.
実施例6
表面処理剤を表面処理剤6に変更した以外は実施例1と同様に表面処理層を得た。
Example 6
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment agent was changed to surface treatment agent 6.
実施例7
表面処理剤を表面処理剤7に変更した以外は実施例4と同様に表面処理層を得た。
Example 7
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 4 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 7.
実施例8
表面処理剤を表面処理剤11に変更した以外は実施例1と同様に表面処理層を得た。
Example 8
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 11.
実施例9
表面処理剤を表面処理剤12に変更した以外は実施例1と同様に表面処理層を得た。
Example 9
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 12.
実施例10
表面処理剤を表面処理剤13に変更した以外は実施例4と同様に表面処理層を得た。
Example 10
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 4 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 13.
比較例1
表面処理剤を表面処理剤8に変更した以外は実施例4と同様に表面処理層を得た。
Comparative example 1
A surface treated layer was obtained in the same manner as in Example 4 except that the surface treatment agent was changed to Surface Treatment Agent 8.
比較例2
デシルトリクロロシラン(C10H21SiCl3)3質量部およびイソオクタン(沸点99℃)97質量部を配合して、均一に混合することにより、表面処理剤9を調製した。次いで、表面処理剤9を、ティッシュペーパーに含浸させ、次いで、このティッシュペーパーで、化学強化ガラス(コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ0.7mm)を擦ってガラス板の表面に表面処理剤9を塗布した。続いて、5分経過後に、清浄なタオルでガラス板の表面を拭き上げた。その後、ガラス板を、常温で30分放置した。その後、純水を染み込ませたスポンジでガラス板の表面を洗浄し、次いで、水1000gで濯ぐことにより、ガラス板を撥水処理した。
Comparative example 2
Surface treatment agent 9 was prepared by blending and uniformly mixing 3 parts by mass of decyltrichlorosilane (C 10 H 21 SiCl 3 ) and 97 parts by mass of isooctane (boiling point 99° C.). Next, a tissue paper is impregnated with the surface treatment agent 9, and then a chemically strengthened glass (Gorilla Glass, manufactured by Corning Inc., thickness 0.7 mm) is rubbed with the tissue paper, and the surface treatment agent 9 is applied to the surface of the glass plate. was applied. Subsequently, after 5 minutes had passed, the surface of the glass plate was wiped with a clean towel. Thereafter, the glass plate was left at room temperature for 30 minutes. Thereafter, the surface of the glass plate was washed with a sponge impregnated with pure water, and then rinsed with 1000 g of water to make the glass plate water repellent.
比較例3
オクチルトリエトキシシラン2.8質量部(0.01モル部)、オルトケイ酸テトラエチル(テトラエトキシシラン)41.7質量部(0.20モル部)に、溶剤(C)としてのエタノールを84質量部、触媒としての塩酸(0.01mol/L水溶液)60質量部を混合して、室温で24時間撹拌して表面処理剤10を得た。得られた表面処理剤10を、化学強化ガラス(コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ0.7mm)上にスピンコータにより、回転数3000rpm、20secの条件でスピンコートした後、乾燥させてコーティング被膜を得た。
Comparative example 3
2.8 parts by mass (0.01 parts by mole) of octyltriethoxysilane, 41.7 parts by mass (0.20 parts by mole) of tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane), and 84 parts by mass of ethanol as a solvent (C). , and 60 parts by mass of hydrochloric acid (0.01 mol/L aqueous solution) as a catalyst were mixed and stirred at room temperature for 24 hours to obtain surface treatment agent 10. The obtained surface treatment agent 10 was spin-coated onto chemically strengthened glass (Corning Corporation, Gorilla Glass, thickness 0.7 mm) using a spin coater at a rotation speed of 3000 rpm for 20 seconds, and then dried to form a coating film. Obtained.
(耐久性試験)
表面処理層が形成されたサンプル物品を水平配置し、下記の摩擦子を表面処理層の表面
に接触(接触面は直径1cmの円)させ、その上に5Nの荷重を付与し、その後、荷重を
加えた状態で摩擦子を40mm/秒の速度で往復させた。摩擦子を50回往復させ
それぞれ、水の静的接触角(°)を5点測定し、その平均値ごとに下記のように評価した。
◎(優良):水接触角の平均が90°より大きい
○(良好):85°~90°
×(不良):85°以下
(Durability test)
The sample article on which the surface treatment layer was formed was placed horizontally, the following friction element was brought into contact with the surface of the surface treatment layer (the contact surface was a circle with a diameter of 1 cm), a load of 5N was applied thereon, and then the load was The friction element was made to reciprocate at a speed of 40 mm/sec while applying . The friction element was moved back and forth 50 times, and the static contact angle (°) of water was measured at 5 points, and each average value was evaluated as follows.
◎ (Excellent): Average water contact angle is greater than 90° ○ (Good): 85° to 90°
× (defective): 85° or less
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面(直径1cm)を、下記に示す組成の人工汗に浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
人工汗の組成:
無水リン酸水素二ナトリウム:2g
塩化ナトリウム:20g
85%乳酸:2g
ヒスチジン塩酸塩:5g
蒸留水:1Kg
シリコーンゴム加工品:
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓SR-51を、直径1cm、厚さ1cmの円柱状に加工したもの。
- Friction element The surface (diameter 1 cm) of the silicone rubber product shown below was covered with cotton soaked in artificial sweat having the composition shown below, and was used as a friction element.
Composition of artificial sweat:
Anhydrous disodium hydrogen phosphate: 2g
Sodium chloride: 20g
85% lactic acid: 2g
Histidine hydrochloride: 5g
Distilled water: 1Kg
Silicone rubber processed products:
Silicone rubber stopper SR-51 manufactured by Tigers Polymer is processed into a cylindrical shape with a diameter of 1 cm and a thickness of 1 cm.
<インクふき取り試験>
表面処理層の形成後、表面を拭き上げて評価サンプルとした。評価サンプルの表面層に油性のフェルトペン(マッキー極太黒色:製品名、ゼブラ社製)で線を引いた後、キムワイプを摩耗子として、移動速度:70rpm、荷重:500g/3cm2の条件で50回摩耗した後の、油性インク(線)の付着状態を目視で観察し、インク除去性(初期のインク除去性)を以下の基準にしたがって評価した。
◎(優良):油性インクの除去率が90%以上である。
○(良好):油性インクの除去率が60%以上90%未満である。
×(不良):油性インクの除去率が60%未満である。
<Ink wiping test>
After forming the surface treatment layer, the surface was wiped off to obtain an evaluation sample. After drawing a line on the surface layer of the evaluation sample with an oil-based felt-tip pen (Mackie Extra Thick Black, product name, manufactured by Zebra), a line was drawn on the surface layer of the evaluation sample using a Kimwipe as an abrasion element at a moving speed of 70 rpm and a load of 500 g/3 cm2 . After being worn twice, the adhesion state of the oil-based ink (line) was visually observed, and the ink removability (initial ink removability) was evaluated according to the following criteria.
◎ (Excellent): Removal rate of oil-based ink is 90% or more.
○ (Good): The oil-based ink removal rate is 60% or more and less than 90%.
× (Poor): The oil-based ink removal rate is less than 60%.
<膜厚測定>
表面処理層の形成後、表面を拭き上げて評価サンプルとした。評価サンプルをJ.A.Woollam社製M-2000Dエリプソメータ―を用い、入射角50°、60°、70°の3角度条件で膜厚を測定した。
<Film thickness measurement>
After forming the surface treatment layer, the surface was wiped off to obtain an evaluation sample. The evaluation sample was sent to J. A. Using a Woollam M-2000D ellipsometer, the film thickness was measured at three angles of incidence: 50°, 60°, and 70°.
本開示の物品は、種々多様な用途に好適に利用され得る。 The article of the present disclosure can be suitably used for a variety of uses.
Claims (18)
R1は、直鎖のC11-36アルキル基であり、
X1は、単結合、又は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-もしくは-S-を含む2価の基であり、
R2は、水素原子又はC1-6アルキル基であり、
RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。]
で表される化合物から形成された表面処理層とを含む物品。 Glass and the following formula (1):
R 1 is a straight chain C 11-36 alkyl group,
X 1 is a single bond, -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 -, -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S- A divalent group containing
R 2 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
An article comprising a surface treatment layer formed from a compound represented by:
R11は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R12は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n1は、1~3の整数であり;
Ra1は、それぞれ独立して、-Z1-SiR21 p1R22 q1R23 r1であり;
Z1は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21は、それぞれ独立して、-Z1’-SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’であり;
R22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1’は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21’は、それぞれ独立して、-Z1”-SiR22” q1”R23” r1”であり;
R22’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23’は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1”は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R22”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23”は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
q1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rb1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
Rc1は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rd1は、それぞれ独立して、-Z2-CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R31は、それぞれ独立して、-Z2’-CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2であり;
R33は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
p2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z2’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R32’は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2であり;
R33’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
q2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z3は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R34は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R35は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Re1は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2であり;
Rf1は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
k2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rg1及びRh1は、それぞれ独立して、-Z4-SiR11 n1R12 3-n1、-Z4-SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1、-Z4-CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2であり;
Z4は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
ただし、式(S2)、(S3)、及び(S4)中、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも1つ存在する。]
で表される基である、請求項1に記載の物品。 R Si is the following formula (S1), (S2), (S3), or (S4):
R 11 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer from 1 to 3;
R a1 are each independently -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 are each independently -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is each independently an integer of 0 to 3;
q1 are each independently an integer of 0 to 3;
r1 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21' are each independently -Z 1" -SiR 22" q1" R 23" r1" ;
R22 ' is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 ' is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1' are each independently an integer of 0 to 3;
q1' are each independently an integer of 0 to 3;
r1' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1'' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R22 '' are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 '' are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1'' are each independently an integer of 0 to 3;
r1'' are each independently an integer of 0 to 3;
R b1 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is each independently an integer of 0 to 3;
l1 are each independently an integer of 0 to 3;
m1 is each independently an integer of 0 to 3;
R d1 are each independently -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 are each independently -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
p2 is each independently an integer of 0 to 3;
q2 are each independently an integer of 0 to 3;
r2 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 2' is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33' is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
q2' are each independently an integer of 0 to 3;
r2' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 3 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is each independently an integer of 0 to 3;
R e1 are each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is each independently an integer of 0 to 3;
l2 are each independently an integer of 0 to 3;
m2 is each independently an integer of 0 to 3;
R g1 and R h1 are each independently -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S2), (S3), and (S4), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
The article according to claim 1, which is a group represented by:
[式中
R71~R79は、それぞれ独立して、炭素数1~10個の一価の有機基であり、
m8は、1~6の整数であり、
m9は、4~8の整数であり、
n8は、0~6の整数である。]
で表される化合物から選択される溶媒を含む、請求項9に記載の物品。 The surface treatment agent includes R 71 OR 72 , R 73 n8 C 6 H 6-n8 , R 74 R 75 R 76 Si-(O-SiR 77 R 78 ) m8 -R 79 , and (OSiR 77 R 78 ) m9
[In the formula, R 71 to R 79 are each independently a monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms,
m8 is an integer from 1 to 6,
m9 is an integer from 4 to 8,
n8 is an integer from 0 to 6. ]
10. The article according to claim 9, comprising a solvent selected from compounds represented by:
R1は、直鎖のC11-36アルキル基であり、
X1は、単結合、又は、-CO-、-COO-、-NR2-、-CONR2-、-OCONR2-、-NR2-CO-NR2-、-O-もしくは-S-を含む2価の基であり、
R2は、水素原子又はC1-6アルキル基であり、
RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む基である。]
で表される化合物。 Formula (1):
R 1 is a straight chain C 11-36 alkyl group,
X 1 is a single bond, -CO-, -COO-, -NR 2 -, -CONR 2 -, -OCONR 2 -, -NR 2 -CO-NR 2 -, -O- or -S- A divalent group containing
R 2 is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group,
R Si is a group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
A compound represented by
R11は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R12は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n1は、1~3の整数であり;
Ra1は、それぞれ独立して、-Z1-SiR21 p1R22 q1R23 r1であり;
Z1は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21は、それぞれ独立して、-Z1’-SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’であり;
R22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1’は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R21’は、それぞれ独立して、-Z1”-SiR22” q1”R23” r1”であり;
R22’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23’は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
p1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z1”は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基であり;
R22”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R23”は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
q1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r1”は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rb1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
Rc1は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rd1は、それぞれ独立して、-Z2-CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R31は、それぞれ独立して、-Z2’-CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2であり;
R33は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
p2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
q2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z2’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R32’は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2であり;
R33’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
q2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
r2’は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Z3は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
R34は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
R35は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
n2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Re1は、それぞれ独立して、-Z3-SiR34 n2R35 3-n2であり;
Rf1は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基であり;
k2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
l2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
m2は、それぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rg1及びRh1は、それぞれ独立して、-Z4-SiR11 n1R12 3-n1、-Z4-SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1、-Z4-CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2であり;
Z4は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基であり;
ただし、式(S2)、(S3)、及び(S4)中、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも1つ存在する。]
で表される基である、請求項15に記載の化合物。 R Si is the following formula (S1), (S2), (S3), or (S4):
R 11 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer from 1 to 3;
R a1 are each independently -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 are each independently -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is each independently an integer of 0 to 3;
q1 are each independently an integer of 0 to 3;
r1 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21' are each independently -Z 1" -SiR 22" q1" R 23" r1" ;
R22 ' is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 ' is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1' are each independently an integer of 0 to 3;
q1' are each independently an integer of 0 to 3;
r1' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 1'' is each independently an oxygen atom or a divalent organic group;
R22 '' are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 '' are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1'' are each independently an integer of 0 to 3;
r1'' are each independently an integer of 0 to 3;
R b1 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is each independently an integer of 0 to 3;
l1 are each independently an integer of 0 to 3;
m1 is each independently an integer of 0 to 3;
R d1 are each independently -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 are each independently -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
p2 is each independently an integer of 0 to 3;
q2 are each independently an integer of 0 to 3;
r2 are each independently an integer of 0 to 3;
Z 2' is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33' is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group;
q2' are each independently an integer of 0 to 3;
r2' are each independently an integer of 0 to 3;
Z 3 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is each independently an integer of 0 to 3;
R e1 are each independently -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is each independently an integer of 0 to 3;
l2 are each independently an integer of 0 to 3;
m2 is each independently an integer of 0 to 3;
R g1 and R h1 are each independently -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S2), (S3), and (S4), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. ]
The compound according to claim 15, which is a group represented by.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022128449 | 2022-08-10 | ||
JP2022128449 | 2022-08-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024025759A true JP2024025759A (en) | 2024-02-26 |
Family
ID=89851657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023130956A Pending JP2024025759A (en) | 2022-08-10 | 2023-08-10 | Article which comprises surface treatment layer |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024025759A (en) |
WO (1) | WO2024034670A1 (en) |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2558125B2 (en) * | 1987-09-18 | 1996-11-27 | 鐘淵化学工業株式会社 | Room temperature curable resin composition |
US7125488B2 (en) * | 2004-02-12 | 2006-10-24 | Varian, Inc. | Polar-modified bonded phase materials for chromatographic separations |
JP4668937B2 (en) * | 2007-03-14 | 2011-04-13 | 日本板硝子株式会社 | Method for forming water-repellent film and article coated with water-repellent film |
DE102010028143A1 (en) * | 2010-04-23 | 2011-10-27 | Wacker Chemie Ag | Coating composition for sealing surfaces |
CN103087086B (en) * | 2013-01-15 | 2015-12-02 | 中国科学院化学研究所 | Organic-inorganic hybrid molecule and preparation method thereof with preparing the application in super-hydrophobic coat |
KR20160122840A (en) * | 2014-03-26 | 2016-10-24 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | Solution for forming organic thin film, and method for forming organic thin film using same |
KR101730610B1 (en) * | 2015-09-03 | 2017-04-27 | (주)켐이 | Adhesion promoter for photo-resist, and photo-sensitive resin composition comprising the same |
EP3643495B1 (en) * | 2017-06-21 | 2023-11-01 | AGC Inc. | Article having water- and oil-repellent layer formed thereon, and method for manufacturing same |
WO2019020770A1 (en) * | 2017-07-27 | 2019-01-31 | Ditecpesa, S.A. | Organosilicon compounds and compositions |
WO2019058228A1 (en) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | 3M Innovative Properties Company | Silsesquioxane polymers, compositions, methods, and articles |
-
2023
- 2023-08-10 JP JP2023130956A patent/JP2024025759A/en active Pending
- 2023-08-10 WO PCT/JP2023/029318 patent/WO2024034670A1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2024034670A1 (en) | 2024-02-15 |
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