JP2024022270A

JP2024022270A - microwave oven

Info

Publication number: JP2024022270A
Application number: JP2022125725A
Authority: JP
Inventors: 孝博金井; Takahiro Kanai; 琢也石井; Takuya Ishii; 義治佐藤; Yoshiharu Sato; 史織渡部; Shiori Watabe
Original assignee: Zojirushi Corp
Current assignee: Zojirushi Corp
Priority date: 2022-08-05
Filing date: 2022-08-05
Publication date: 2024-02-16

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microwave oven capable of appropriately detecting a heating state of a cooked object in both cases of using a tray and not using it.

SOLUTION: A microwave oven 1 includes: a heating chamber 12; an output part 13a provided on a bottom wall 13 of the heating chamber 12; a first sensor 34 for detecting temperatures of cooked objects C1, C2; a second sensor 35 for detecting steam generated from the cooked objects C1, C2; a tray 28 arranged detachably in the heating chamber 12; and a control part 45 for outputting microwaves from the output part 13a to perform heating treatment of the cooked objects C1, C2. The heating treatment by the control part 45 includes: first treatment to be executed when the tray 28 is not used, for heating the cooked objects C1, C2 on the basis of detection results of both the first sensor 34 and the second sensor 35; and second treatment to be executed when the tray 28 is used, for heating the cooked objects C1, C2 on the basis of a detection result of the second sensor 35 only.

SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、電子レンジに関する。 The present invention relates to a microwave oven.

特許文献１には、調理物の加熱不足や過加熱を防止するために、調理物の温度を検出する赤外線センサと、調理物から発生した蒸気の温度を検出するサーミスタとを併用し、これらの検出結果に基づいて調理物を加熱する電子レンジが開示されている。この電子レンジでは、加熱室内に専用トレイを配置し、この専用トレイ上に配置した調理物を加熱することもできる。 Patent Document 1 discloses that in order to prevent underheating or overheating of food, an infrared sensor that detects the temperature of the food and a thermistor that detects the temperature of steam generated from the food are used together. A microwave oven is disclosed that heats food based on detection results. In this microwave oven, a special tray can be placed in the heating chamber, and food placed on the special tray can be heated.

特開２０２１－１６７６８６号公報Japanese Patent Application Publication No. 2021-167686

トレイを用いずに加熱室の底壁に調理物を配置した場合、マイクロ波の出力部と調理物の距離が近いため、調理物には加熱部分と非加熱部分が生じるという加熱ムラが生じ得る。一方で、加熱室内のトレイに調理物を配置した場合、マイクロ波の出力部と調理物の距離が遠いため、加熱室内に満遍なく広がったマイクロ波によって加熱ムラなく調理物を均等に加熱し得る。つまり、トレイを用いる場合と用いない場合では、調理物の加熱の進行（火の通り方）が異なる。しかし、特許文献１の電子レンジでは、トレイを用いる場合と用いない場合のいずれでも、調理物の加熱状態を適切に検出することについて、何も考慮されていない。 If the food is placed on the bottom wall of the heating chamber without using a tray, the distance between the microwave output part and the food is close, so uneven heating may occur, with some heated parts and non-heated parts of the food being cooked. . On the other hand, when the food is placed on a tray in the heating chamber, the distance between the microwave output part and the food is long, so the microwaves spread evenly throughout the heating chamber can evenly heat the food without uneven heating. In other words, the progress of heating the food (how it cooks) is different depending on whether a tray is used or not. However, in the microwave oven of Patent Document 1, no consideration is given to appropriately detecting the heating state of the food whether the tray is used or not.

本発明は、トレイを用いる場合と用いない場合のいずれでも、調理物の加熱状態を適切に検出できる電子レンジを提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a microwave oven that can appropriately detect the heating state of food whether a tray is used or not.

本発明の一態様は、調理物を加熱するための加熱室と、前記加熱室の底壁に設けられたマイクロ波の出力部と、前記調理物の温度を検出するための第１センサと、前記調理物から発生した蒸気を検出するための第２センサと、前記底壁の上方に間隔をあけて前記加熱室内に着脱可能に配置されるトレイと、前記出力部からマイクロ波を出力させて前記調理物の加熱処理を行う制御部とを備え、前記制御部による前記加熱処理は、前記トレイが用いられないときに実行され、前記第１センサと前記第２センサの両方の検出結果に基づいて前記調理物を加熱する第１処理と、前記トレイが用いられるときに実行され、前記第２センサのみの検出結果に基づいて前記調理物を加熱する第２処理とを含む、電子レンジを提供する。 One aspect of the present invention includes: a heating chamber for heating food to be cooked; a microwave output section provided on a bottom wall of the heating chamber; a first sensor for detecting the temperature of the food to be cooked; a second sensor for detecting steam generated from the food to be cooked; a tray removably disposed in the heating chamber with a space above the bottom wall; and a tray configured to output microwaves from the output section. a control unit that performs a heat treatment of the food to be cooked; the heat treatment by the control unit is executed when the tray is not used, and is based on the detection results of both the first sensor and the second sensor. and a second process that is performed when the tray is used and heats the food based on the detection result of only the second sensor. do.

制御部による加熱処理は、トレイが用いられないときに実行される第１処理と、トレイが用いられるときに実行される第２処理とを有する。第１処理では、加熱室の底壁上に配置された調理物に加熱ムラが生じる傾向にあるため、制御部は、第１センサと第２センサの両方の検出結果を用いることで、調理物の加熱状態を適切に検出できる。第２処理では、加熱室内のトレイに配置された調理物が均等に加熱される傾向にあるため、制御部は、第２センサのみの検出結果を用いることで、調理物の加熱状態を適切に検出できる。このように、本態様の電子レンジでは、トレイを用いる場合と用いない場合のいずれでも、調理物の加熱状態を適切に検出できるため、調理物を良好な状態に加熱できる。 The heating process by the control unit includes a first process performed when the tray is not used, and a second process performed when the tray is used. In the first process, since uneven heating tends to occur in the food placed on the bottom wall of the heating chamber, the control unit uses the detection results of both the first sensor and the second sensor to can appropriately detect the heating state of the In the second process, the food placed on the tray in the heating chamber tends to be heated evenly, so the control unit uses the detection results of only the second sensor to appropriately control the heating state of the food. Can be detected. In this way, in the microwave oven of this embodiment, the heating state of the food can be properly detected whether the tray is used or not, so the food can be heated to a good state.

前記制御部による前記第１処理は、前記第１センサからの入力電圧が定められた設定温度に相当する設定電圧に達したことを示す第１条件、及び前記第２センサからの入力電圧が定められた第１上昇勾配に相当する第１相当電圧に達したことを示す第２条件のうち、いずれか一方が成立すると終了し、前記制御部による前記第２処理は、前記第２センサからの入力電圧が定められた第２上昇勾配に相当する第２相当電圧に達したことを示すと終了し、前記第２相当電圧は、前記第１相当電圧よりも低い。 The first process by the control unit includes a first condition indicating that the input voltage from the first sensor has reached a set voltage corresponding to a set temperature, and a first condition indicating that the input voltage from the second sensor has reached a set voltage corresponding to a set temperature. The second process by the control unit ends when either one of the second conditions indicating that the first equivalent voltage corresponding to the first rising slope has been reached is satisfied, and the second process by the control unit The process ends when the input voltage indicates that it has reached a second equivalent voltage corresponding to a defined second rising slope, said second equivalent voltage being lower than said first equivalent voltage.

第１処理のように加熱ムラが生じて非加熱部分が存在する場合、調理物から蒸気が発生した状態では未だ加熱は不足しており、第２処理のように加熱ムラがなく非加熱部分が存在し難い場合、調理物から蒸気が発生した状態で加熱は十分である。そこで、本態様では、第２処理において定められた第２相当電圧を、第１処理において定められた第１相当電圧よりも低くし、調理物から蒸気が発生した状態を高感度で検知している。これにより、第１処理と比較して第２処理では、第２センサのみによって調理物の加熱状態を検出することにより、調理物の過加熱を抑制し、調理物を適切に加熱できる。 If there is uneven heating and unheated parts as in the first process, heating is still insufficient when steam is generated from the food, and as in the second process, there is uneven heating and unheated parts. If it is unlikely to exist, heating is sufficient if steam is generated from the food. Therefore, in this aspect, the second equivalent voltage determined in the second process is set lower than the first equivalent voltage determined in the first process, and the state in which steam is generated from the food to be cooked is detected with high sensitivity. There is. As a result, in the second process, compared to the first process, by detecting the heating state of the food using only the second sensor, overheating of the food can be suppressed and the food can be appropriately heated.

前記トレイはマイクロ波透過体からなる。よって、調理物を確実に均等加熱できる。 The tray is made of a microwave transparent material. Therefore, the food can be reliably heated evenly.

前記加熱室は、前記トレイを配置するためのガイドレールを備え、前記第１センサは、赤外線センサであり、前記ガイドレールの上端よりも下側に配置されている。これにより、ガイドレール上にトレイを配置した状態であっても、加熱室の底壁上に配置された調理物と第１センサの間には何も介在しないため、第１センサによって調理物の温度を確実かつ高精度に検出できる。 The heating chamber includes a guide rail for arranging the tray, and the first sensor is an infrared sensor, and is arranged below the upper end of the guide rail. As a result, even when the tray is placed on the guide rail, there is nothing between the food placed on the bottom wall of the heating chamber and the first sensor, so the food is detected by the first sensor. Temperature can be detected reliably and with high precision.

前記赤外線センサは、前記加熱室の前記底壁に向けて延びる視野中心を有する赤外線検出素子を１個のみ備える。赤外線センサが１個の赤外線検出素子を備える単眼式であるため、複数の赤外線検出素子を備える赤外線センサを用いる場合と比較して、安価に実施できる。しかも、赤外線センサの視野中心は加熱室の底壁に向けて延びているため、加熱室の底壁上の調理物の温度を確実に検出できる。 The infrared sensor includes only one infrared detection element having a field of view center extending toward the bottom wall of the heating chamber. Since the infrared sensor is a monocular type equipped with one infrared detection element, it can be implemented at a lower cost compared to the case of using an infrared sensor equipped with a plurality of infrared detection elements. Moreover, since the center of the field of view of the infrared sensor extends toward the bottom wall of the heating chamber, the temperature of the food on the bottom wall of the heating chamber can be reliably detected.

前記第２センサは、蒸気の温度を検出する蒸気温度センサであり、前記加熱室の天壁に配置されている。よって、調理物を加熱室の底壁及びガイドレール上のトレイのいずれに配置した場合であっても、調理物から発生して上方に流れる蒸気の温度を確実かつ高精度に検出できる。その結果、調理物をガイドレール上のトレイに配置した場合には特に、蒸気温度センサである第２センサのみの検出結果に基づいて調理物を適切に加熱できる。 The second sensor is a steam temperature sensor that detects the temperature of steam, and is disposed on the ceiling wall of the heating chamber. Therefore, regardless of whether the food is placed on the bottom wall of the heating chamber or on the tray on the guide rail, the temperature of the steam generated from the food and flowing upward can be detected reliably and with high precision. As a result, especially when the food is placed on the tray on the guide rail, the food can be appropriately heated based on the detection result of only the second sensor, which is the steam temperature sensor.

本発明の電子レンジでは、トレイを用いる場合と用いない場合のいずれでも、調理物の加熱状態を適切に検出できる。 In the microwave oven of the present invention, whether a tray is used or not, the heating state of the food can be appropriately detected.

本発明の実施形態に係る電子レンジの斜視図。FIG. 1 is a perspective view of a microwave oven according to an embodiment of the present invention. トレイを配置して扉を閉じた電子レンジにおける図１のII－II線断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II in FIG. 1 of the microwave oven with the tray placed and the door closed. 図２のIII－III線断面図。A sectional view taken along the line III-III in FIG. 2. 電子レンジの正面図。Front view of a microwave oven. トレイを用いないレンジ加熱処理のフローチャート。Flowchart of microwave heating treatment without using a tray. トレイを用いるトレイレンジ加熱処理のフローチャート。Flowchart of tray microwave heat treatment using a tray. レジグリ加熱処理のフローチャート。Flowchart of Regiguri heat treatment. 図７の続きのフローチャート。Flowchart continued from FIG. 7.

以下、本発明の実施の形態を図面に従って説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図１から図４は、本発明の実施形態に係る電子レンジ１を示す。添付図面におけるＸ方向は電子レンジ１の前後方向であり、矢印で示す向きが後側で、矢印とは逆向きが前側である。Ｙ方向は電子レンジ１の幅方向であり、矢印で示す向きが左側で、矢印とは逆向きが右側である。Ｚ方向は電子レンジ１の高さ方向であり、矢印で示す向きが上側で、矢印とは逆向きが下側である。 1 to 4 show a microwave oven 1 according to an embodiment of the present invention. The X direction in the accompanying drawings is the front-rear direction of the microwave oven 1, with the direction indicated by the arrow being the rear side, and the direction opposite to the arrow being the front side. The Y direction is the width direction of the microwave oven 1, and the direction indicated by the arrow is the left side, and the direction opposite to the arrow is the right side. The Z direction is the height direction of the microwave oven 1, and the direction indicated by the arrow is the upper side, and the direction opposite to the arrow is the lower side.

図１から図４を参照すると、電子レンジ１は、電子レンジ本体１０、電子レンジ本体１０に開閉可能に取り付けられた扉２０、及び加熱室１２に着脱可能に配置される専用のトレイ２８を備える。また、電子レンジ１は、図２に最も明瞭に示すように、マグネトロン（マイクロ波源）３０、ヒータ３２、赤外線センサ（第１センサ）３４、サーミスタ（第２センサ）３５、ファン３６、操作パネル４０、及び制御部４５を備える。制御部４５は、操作パネル４０の操作によって設定された加熱処理を実行し、加熱室１２内の調理物Ｃ１又はＣ２（図２参照）を加熱する。 Referring to FIGS. 1 to 4, the microwave oven 1 includes a microwave oven main body 10, a door 20 attached to the microwave oven main body 10 so as to be openable and closable, and a dedicated tray 28 that is removably arranged in the heating chamber 12. . As shown most clearly in FIG. 2, the microwave oven 1 also includes a magnetron (microwave source) 30, a heater 32, an infrared sensor (first sensor) 34, a thermistor (second sensor) 35, a fan 36, and an operation panel 40. , and a control section 45. The control unit 45 executes the heating process set by operating the operation panel 40, and heats the food C1 or C2 (see FIG. 2) in the heating chamber 12.

図１から図３を参照すると、電子レンジ本体１０は、筐体１１内に加熱室１２を備える。加熱室１２は、前側が開口１７となっている直方体状の空間である。加熱室１２は、いずれも矩形状の底壁１３、天壁１４、一対の側壁１５、後壁１６、及び扉２０によって画定されている。そのうち、底壁１３は、マイクロ波透過体であるセラミック、ガラス、又は樹脂等からなる。天壁１４、一対の側壁１５、及び後壁１６は、いずれもマイクロ波反射体である金属板等からなる。 Referring to FIGS. 1 to 3, the microwave oven main body 10 includes a heating chamber 12 within a housing 11. As shown in FIG. The heating chamber 12 is a rectangular parallelepiped space with an opening 17 on the front side. The heating chamber 12 is defined by a bottom wall 13, a top wall 14, a pair of side walls 15, a rear wall 16, and a door 20, all of which have a rectangular shape. Among them, the bottom wall 13 is made of a microwave transmitting material such as ceramic, glass, or resin. The top wall 14, the pair of side walls 15, and the rear wall 16 are all made of a metal plate or the like that is a microwave reflector.

一対の側壁１５には、トレイ２８を配置するためのガイドレール１８，１９がそれぞれ設けられている。そのうち、上側ガイドレール１８は、加熱室１２の全高の中央よりも上側の領域に設けられ、下側ガイドレール１９は、加熱室１２の全高の中央よりも下側の領域に設けられている。ガイドレール１８，１９はいずれも、プレス加工によって直角三角形状をなすように側壁１５の一部を加熱室１２内に膨出させ、前後方向に延びるように設けられている。 Guide rails 18 and 19 for arranging the tray 28 are provided on the pair of side walls 15, respectively. Of these, the upper guide rail 18 is provided in a region above the center of the total height of the heating chamber 12, and the lower guide rail 19 is provided in a region below the center of the total height of the heating chamber 12. Each of the guide rails 18 and 19 is formed by press working so that a part of the side wall 15 bulges into the heating chamber 12 so as to form a right-angled triangular shape, and is provided so as to extend in the front-rear direction.

扉２０は、筐体１１の前側に取り付けられ、加熱室１２の開口１７を開放可能に塞ぐ。扉２０は、図１に示す開位置と図３に示す閉位置に、幅方向に延びる回転軸（図示せず）まわりに回動可能である。但し、扉２０は、高さ方向に延びる回転軸まわりに回動可能であってもよく、加熱室１２の開口１７を開閉できる構成であればよい。 The door 20 is attached to the front side of the housing 11 and releasably closes the opening 17 of the heating chamber 12. The door 20 is rotatable around a rotation axis (not shown) extending in the width direction between an open position shown in FIG. 1 and a closed position shown in FIG. However, the door 20 may be rotatable around a rotation axis extending in the height direction, and may have any configuration as long as it can open and close the opening 17 of the heating chamber 12.

扉２０は、マイクロ波反射体である金属製で不透明な枠体２１と、加熱室１２内を透視可能な窓部２２とを備える。図３に最も明瞭に示すように、窓部２２は、加熱室１２を臨む内窓２３と、内窓２３の外側に間隔をあけて配置された外窓２４とを備える。内窓２３と外窓２４は、いずれもマイクロ波透過体である透明なガラス又は樹脂からなる。内窓２３と外窓２４の間には、視認性確保のための孔を多数備えるパンチングメタルからなり、マイクロ波を反射可能な反射層２５が設けられている。 The door 20 includes a metal, opaque frame 21 that is a microwave reflector, and a window 22 through which the inside of the heating chamber 12 can be seen. As shown most clearly in FIG. 3, the window section 22 includes an inner window 23 that faces the heating chamber 12, and an outer window 24 that is spaced apart from the inner window 23. Both the inner window 23 and the outer window 24 are made of transparent glass or resin that transmits microwaves. A reflective layer 25 is provided between the inner window 23 and the outer window 24, which is made of punched metal and has many holes for ensuring visibility, and is capable of reflecting microwaves.

トレイ２８は、高さ方向から見て四角形状の角皿であり、上側ガイドレール１８と下側ガイドレール１９のうちいずれかに選択的かつ着脱可能に配置される。図２に最も明瞭に示すように、トレイ２８上に調理物Ｃ２を配置することにより、加熱室１２の底壁１３の上方に間隔をあけて調理物Ｃ２を配置できる。 The tray 28 is a square plate having a rectangular shape when viewed from the height direction, and is selectively and removably disposed on either the upper guide rail 18 or the lower guide rail 19. By placing the food C2 on the tray 28, as shown most clearly in FIG. 2, the food C2 can be spaced above the bottom wall 13 of the heating chamber 12.

本実施形態のトレイ２８は、マイクロ波透過体であるセラミック、ガラス、又は樹脂等からなる。トレイ２８の幅方向の寸法は、加熱室１２の一対の側壁１５間の寸法よりも小さく、加熱室１２への配置を阻害しない範囲で可能な限り大きい寸法で形成されている。トレイ２８の前後方向の寸法は、加熱室１２の後壁１６と扉２０の間の寸法よりも小さく、加熱室１２への配置を阻害しない範囲で可能な限り大きい寸法で形成されている。 The tray 28 of this embodiment is made of a microwave transmitting material such as ceramic, glass, or resin. The widthwise dimension of the tray 28 is smaller than the dimension between the pair of side walls 15 of the heating chamber 12, and is formed to be as large as possible within a range that does not impede placement in the heating chamber 12. The longitudinal dimension of the tray 28 is smaller than the dimension between the rear wall 16 of the heating chamber 12 and the door 20, and is formed to be as large as possible within a range that does not impede placement in the heating chamber 12.

図２を参照すると、マグネトロン３０は、筐体１１と加熱室１２の間に配置され、加熱室１２内の調理物Ｃ１，Ｃ２をマイクロ波によってマイクロ波加熱する。より具体的には、加熱室１２の底壁１３の下面には金属製のダクト（導波管）３１が配置され、このダクト３１に端部にマグネトロン３０が配置されている。ダクト３１のマグネトロン３０とは反対側の端部には、加熱室１２の底壁１３の下面を概ね覆う拡開部３１ａが設けられている。底壁１３のうち拡開部３１ａによって囲まれた領域が、加熱室１２内にマイクロ波を出力する出力部１３ａを構成する。 Referring to FIG. 2, the magnetron 30 is disposed between the housing 11 and the heating chamber 12, and microwaves the foods C1 and C2 in the heating chamber 12 using microwaves. More specifically, a metal duct (waveguide) 31 is arranged on the lower surface of the bottom wall 13 of the heating chamber 12, and a magnetron 30 is arranged at the end of this duct 31. An expanded portion 31 a that generally covers the lower surface of the bottom wall 13 of the heating chamber 12 is provided at the end of the duct 31 opposite to the magnetron 30 . A region of the bottom wall 13 surrounded by the expanded portion 31 a constitutes an output portion 13 a that outputs microwaves into the heating chamber 12 .

図２及び図３を参照すると、ヒータ３２は、天壁１４に近接して配置され、加熱室１２内の調理物Ｃ１，Ｃ２を輻射熱によってヒータ加熱する。本実施形態では、ヒータ３２は、前後方向に間隔をあけて２本配置されており、それぞれ一対の側壁１５のうちの一方から他方にかけて幅方向に延びている。但し、ヒータ３２は、前後方向の中央に位置するように１本のみ設けられてもよいし、３本以上設けられてもよい。 Referring to FIGS. 2 and 3, the heater 32 is disposed close to the ceiling wall 14 and heats the food C1, C2 in the heating chamber 12 using radiant heat. In this embodiment, two heaters 32 are arranged at intervals in the front-rear direction, and each heater 32 extends in the width direction from one of the pair of side walls 15 to the other. However, only one heater 32 may be provided so as to be located at the center in the front-rear direction, or three or more heaters 32 may be provided.

赤外線センサ３４は、右側の側壁１５に形成された上側ガイドレール１８に対して、加熱室１２外に位置するように配置されている。より具体的には、赤外線センサ３４は、上側ガイドレール１８の上端であるトレイ載置部よりも下側に配置され、上側ガイドレール１８の前後方向の中央に設けられた貫通孔を通して、加熱室１２内を臨むように取り付けられている。 The infrared sensor 34 is arranged outside the heating chamber 12 with respect to the upper guide rail 18 formed on the right side wall 15. More specifically, the infrared sensor 34 is disposed below the tray placement section that is the upper end of the upper guide rail 18, and is inserted into the heating chamber through a through hole provided in the center of the upper guide rail 18 in the front-rear direction. It is installed so that it looks inside 12.

赤外線センサ３４は、１個の赤外線検出素子を備え、加熱室１２内の底壁１３上の調理物Ｃ１の温度を検出する単眼のサーモパイル式である。赤外線センサ３４は、赤外線を検出可能な範囲である円錐状の視野３４ａを有する。単眼の赤外線センサ３４の視野３４ａの角度は例えば１２度である。加熱室１２の底壁１３上に配置した調理物Ｃ１の温度を検出するために、視野３４ａの軸線である視野中心３４ｂは、加熱室１２の底壁１３の中央の２ｃｍ上方を通るように配置されている。 The infrared sensor 34 is a monocular thermopile type that includes one infrared detection element and detects the temperature of the food C1 on the bottom wall 13 in the heating chamber 12. The infrared sensor 34 has a conical field of view 34a that is a range in which infrared rays can be detected. The angle of the field of view 34a of the monocular infrared sensor 34 is, for example, 12 degrees. In order to detect the temperature of the food C1 placed on the bottom wall 13 of the heating chamber 12, the visual field center 34b, which is the axis of the visual field 34a, is arranged to pass 2 cm above the center of the bottom wall 13 of the heating chamber 12. has been done.

サーミスタ３５は、加熱室１２内の蒸気の温度を検出する蒸気温度センサであり、加熱室１２外である天壁１４の上側に配置されている。サーミスタ３５は、天壁１４を貫通して加熱室１２内に配置された検出部３５ａを備える。より具体的には、検出部３５ａは、天壁１４、後壁１６、及び図２において右側の側壁１５によって画定された加熱室１２の角部に配置されている。 The thermistor 35 is a steam temperature sensor that detects the temperature of steam within the heating chamber 12, and is arranged above the ceiling wall 14 outside the heating chamber 12. The thermistor 35 includes a detection section 35a that penetrates the ceiling wall 14 and is disposed inside the heating chamber 12. More specifically, the detection unit 35a is arranged at a corner of the heating chamber 12 defined by the top wall 14, the rear wall 16, and the right side wall 15 in FIG.

ファン３６は、筐体１１と加熱室１２の間に配置され、送風によってマグネトロン３０及び制御部４５が配置された制御基板（図示せず）等の電気部品を冷却する。また、本実施形態のファン３６は、側壁１５に設けられた多数の通気口１５ａを通した送風によって加熱室１２内を冷却できる。 The fan 36 is disposed between the housing 11 and the heating chamber 12, and cools electrical components such as the magnetron 30 and a control board (not shown) on which the control unit 45 is disposed by blowing air. Further, the fan 36 of this embodiment can cool the inside of the heating chamber 12 by blowing air through the many vents 15a provided in the side wall 15.

図４を参照すると、操作パネル４０は、３つの操作部４１～４３と１つの液晶パネル４４を備え、扉２０の窓部２２の下側に設けられている。 Referring to FIG. 4, the operation panel 40 includes three operation sections 41 to 43 and one liquid crystal panel 44, and is provided below the window section 22 of the door 20.

操作部４１は、例えばロータリースイッチからなり、複数の加熱処理のうちのいずれか１つを手動設定するために設けられている。操作部４２は、例えばロータリープッシュスイッチからなり、操作部４１の操作によって設定した加熱処理の詳細の手動設定、及び加熱処理を開始するために設けられている。操作部４３は、例えばプッシュスイッチからなり、操作部４１，４２の操作による手動設定を解除（取り消し）するために設けられている。 The operation unit 41 is made of, for example, a rotary switch, and is provided for manually setting any one of the plurality of heat treatments. The operating section 42 is composed of, for example, a rotary push switch, and is provided for manually setting the details of the heat treatment set by operating the operating section 41 and for starting the heat treatment. The operating section 43 is composed of, for example, a push switch, and is provided for canceling (cancelling) manual settings made by operating the operating sections 41 and 42.

液晶パネル４４は、セグメント表示方式であり、３桁の数字を表示可能な数字表示部４４ａを備える。また、液晶パネル４４は、数字以外に文字や矢印等を表示可能であり、操作部４１，４２による設定状態、及び加熱処理の実行状態を表示する。但し、液晶パネル４４は、ドットマトリクス表示方式であってもよく、２桁以上の数字を表示する数字表示部４４ａを備える構成であればよい。 The liquid crystal panel 44 is of a segment display type and includes a number display section 44a capable of displaying a three-digit number. Further, the liquid crystal panel 44 can display characters, arrows, etc. in addition to numbers, and displays the settings made by the operation units 41 and 42 and the execution state of the heat treatment. However, the liquid crystal panel 44 may be of a dot matrix display type, as long as it includes a number display section 44a that displays two or more digit numbers.

図２を参照すると、制御部４５は、例えば１個のマイクロコンピュータからなり、マグネトロン３０、ヒータ３２、赤外線センサ３４、サーミスタ３５、ファン３６、及び操作パネル４０に電気的に接続されている。制御部４５は、操作パネル４０の操作によって設定された加熱処理を、予め記憶されたプログラムに従って実行する。加熱処理は、加熱終了までマグネトロン３０のみを制御するマイクロ波加熱モード、加熱終了までヒータ３２のみを制御するヒータ加熱モード、及びマグネトロン３０とヒータ３２の両方を制御する複合加熱モードのうち、いずれかによって行われる。 Referring to FIG. 2, the control unit 45 includes, for example, one microcomputer, and is electrically connected to the magnetron 30, heater 32, infrared sensor 34, thermistor 35, fan 36, and operation panel 40. The control unit 45 executes the heat treatment set by operating the operation panel 40 according to a pre-stored program. The heat treatment can be performed in one of a microwave heating mode in which only the magnetron 30 is controlled until the heating is completed, a heater heating mode in which only the heater 32 is controlled until the heating is completed, and a combined heating mode in which both the magnetron 30 and the heater 32 are controlled. carried out by

より具体的には、制御部４５は、図４に示す操作部４１の操作によって設定された「オーブン」、「グリル」、「レンジ」、「自動」、「レジグリ」、「トレイレンジ」、及び「解凍」のうちいずれかを実行する。「自動」以外の加熱処理では、操作部４２の操作によって液晶パネル４４の数字表示部４４ａの数値を変更し、加熱時間及び投入電力（加熱温度）を設定可能である。「自動」では、操作部４２の操作によって、複数のメニュー（図示せず）のうちの１つを設定可能である。 More specifically, the control unit 45 selects “oven”, “grill”, “microwave”, “automatic”, “register”, “tray range”, and Execute one of the "unzip" options. In heating processes other than "automatic", the heating time and input power (heating temperature) can be set by changing the numerical value on the numerical display section 44a of the liquid crystal panel 44 by operating the operation section 42. In “Auto”, one of a plurality of menus (not shown) can be set by operating the operation unit 42.

レンジ（レンジ加熱処理）、トレイレンジ（トレイレンジ加熱処理）、及び解凍（解凍加熱処理）はマイクロ波加熱モードで行われる。図２に示すように、「レンジ」は、調理物Ｃ１を加熱室１２の底壁１３上に配置した状態で行われ、赤外線センサ３４とサーミスタ３５それぞれの検出結果に基づいてマグネトロン３０を制御し、マイクロ波によって調理物Ｃ１を加熱する。「トレイレンジ」は、トレイ２８上に配置した調理物Ｃ２を加熱室１２内に配置した状態で行われ、赤外線センサ３４は用いることなく、サーミスタ３５の検出結果のみに基づいてマグネトロン３０を制御し、マイクロ波によって調理物Ｃ２を加熱する。「解凍」は、調理物Ｃ１を加熱室１２の底壁１３上に配置した状態で行われ、赤外線センサ３４の検出結果のみに基づいてマグネトロン３０を制御し、マイクロ波によって調理物Ｃ１を加熱する。 Microwave heating (microwave heating treatment), tray microwave (tray microwave heating treatment), and thawing (thawing heating treatment) are performed in microwave heating mode. As shown in FIG. 2, the "microwave" is performed with the food C1 placed on the bottom wall 13 of the heating chamber 12, and the magnetron 30 is controlled based on the detection results of the infrared sensor 34 and thermistor 35. , the food C1 is heated by microwaves. "Tray range" is performed with the food C2 placed on the tray 28 placed in the heating chamber 12, and the magnetron 30 is controlled based only on the detection result of the thermistor 35 without using the infrared sensor 34. , the food C2 is heated by microwaves. "Defrosting" is performed with the food C1 placed on the bottom wall 13 of the heating chamber 12, and the magnetron 30 is controlled based only on the detection result of the infrared sensor 34, and the food C1 is heated by microwaves. .

オーブン（オーブン加熱処理）及びグリル（グリル加熱処理）はヒータ加熱モードで行われる。「オーブン」及び「グリル」は、調理物Ｃ２を加熱室１２内のトレイ２８上に配置した状態で行われ、赤外線センサ３４は用いることなく、サーミスタ３５の検出結果のみに基づいてヒータ３２を制御し、輻射熱によって調理物Ｃ２を加熱する。 The oven (oven heat treatment) and grill (grill heat treatment) are performed in heater heating mode. "Oven" and "grill" are performed with the food C2 placed on the tray 28 in the heating chamber 12, and the heater 32 is controlled based only on the detection result of the thermistor 35 without using the infrared sensor 34. Then, the food C2 is heated by radiant heat.

レジグリ（レジグリ加熱処理）は複合加熱モードで行われる。「レジグリ」は、調理物Ｃ２を加熱室１２内のトレイ２８上に配置した状態で行われ、赤外線センサ３４は用いることなく、サーミスタ３５の検出結果のみに基づいてマグネトロン３０とヒータ３２を制御し、マイクロ波と輻射熱によって調理物Ｃ１を加熱する。例えば、最初にマグネトロン３０を作動させて調理物Ｃ１の中心部まで火を通した後、マグネトロン３０の作動を停止してヒータ３２を作動させ、調理物Ｃ１の表面に焦げ目をつけ、定められたヒータ加熱時間が経過するとヒータ３２の作動を停止する。 Regiguri (Regigri heat treatment) is performed in a combined heating mode. "Reguri" is performed with the food C2 placed on the tray 28 in the heating chamber 12, and the magnetron 30 and heater 32 are controlled based only on the detection results of the thermistor 35 without using the infrared sensor 34. , the food C1 is heated by microwaves and radiant heat. For example, first, the magnetron 30 is activated to heat the center of the food C1, and then the magnetron 30 is deactivated and the heater 32 is activated to brown the surface of the food C1 and achieve a predetermined brown color. When the heater heating time has elapsed, the operation of the heater 32 is stopped.

自動（自動加熱処理）は、手動設定された調理メニューに応じて定められた加熱モードで行われる。調理物を底壁１３上及びトレイ２８上のいずれに配置するかは、調理メニューによって定められている。例えば、調理メニューには、マイクロ波加熱モードで行われる「冷蔵ごはんあたため」、ヒータ加熱モードで行われる「トースト(裏返し)」、及び複合加熱モードで行われる「揚げもの『サクレジ』」が含まれている。 Automatic (automatic heating processing) is performed in a heating mode determined according to a manually set cooking menu. Whether to place the food on the bottom wall 13 or on the tray 28 is determined by the cooking menu. For example, the cooking menu includes ``warming refrigerated rice'' performed in microwave heating mode, ``toast (flipping)'' performed in heater heating mode, and ``deep-fried food 'sakureji'' performed in combined heating mode. ing.

次に、トレイ２８が用いられないレンジ加熱処理（第１処理）と、トレイ２８が用いられるトレイレンジ加熱処理（第２処理）について説明する。 Next, microwave heating processing (first processing) in which the tray 28 is not used and tray microwave heating processing (second processing) in which the tray 28 is used will be described.

制御部４５は、操作部４１の操作による加熱処理の手動設定によって、トレイ２８が用いられているか否かを判断する。但し、トレイ２８が用いられているか否かの判断は、超音波センサ又は重量センサ等によって行ってもよく、トレイ２８の有無を判断できる構成であればよい。 The control unit 45 determines whether or not the tray 28 is being used by manually setting the heat treatment by operating the operation unit 41. However, the determination as to whether or not the tray 28 is being used may be made using an ultrasonic sensor, a weight sensor, or the like, and any configuration that can determine the presence or absence of the tray 28 may be used.

レンジ加熱処理では、加熱室１２の底壁１３上に配置した調理物Ｃ１と出力部１３ａの距離が近いため、調理物Ｃ１には加熱ムラが生じる傾向にある。調理物Ｃ１に非加熱部分が存在する場合、調理物Ｃ１から蒸気が発生した状態では調理としての加熱は未だ不十分である。そのため、レンジ加熱処理では、調理物Ｃ１が十分加熱されたと判断できる、赤外線センサ３４の検出結果に基づく第１条件と、サーミスタ３５の検出結果に基づく第２条件を設定し、これらのうち、いずれか一方が成立するまでマグネトロン３０によって調理物Ｃ１を加熱する。 In the microwave heating process, since the distance between the food C1 placed on the bottom wall 13 of the heating chamber 12 and the output section 13a is close, uneven heating tends to occur in the food C1. When there is an unheated part in the food C1, heating for cooking is still insufficient in a state where steam is generated from the food C1. Therefore, in the microwave heating process, a first condition based on the detection result of the infrared sensor 34 and a second condition based on the detection result of the thermistor 35 are set so that it can be determined that the food C1 has been sufficiently heated. The food C1 is heated by the magnetron 30 until one of the two conditions is established.

第１条件は、赤外線センサ３４からの入力電圧Ｖｉが、予め定められた設定温度Ｔｓに相当する設定電圧Ｖｓに達したことを示すことである（Ｖｉ≧Ｖｓ）。設定温度Ｔｓは、６０℃以上８０℃以下の温度範囲に設定され、本実施形態では７０℃に設定されている。設定電圧Ｖｓは、調理物Ｃ１が設定温度Ｔｓに達したときに赤外線センサ３４が出力する電圧値であり、本実施形態では７０℃相当の相当電圧に設定されている。 The first condition is that the input voltage Vi from the infrared sensor 34 has reached a set voltage Vs corresponding to a predetermined set temperature Ts (Vi≧Vs). The set temperature Ts is set within a temperature range of 60°C or higher and 80°C or lower, and is set to 70°C in this embodiment. The set voltage Vs is a voltage value output by the infrared sensor 34 when the food C1 reaches the set temperature Ts, and in this embodiment is set to a voltage equivalent to 70°C.

第２条件は、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔが、予め定められた第１温度上昇勾配に相当する第１相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖａに達したことを示すことである（Ｖｔ（ｎ）≧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖａ）。ここで、Ｖｔ（ｎ－１０）はサーミスタ３５から入力された１０回前の電圧を意味し、Ｖａは第１温度上昇勾配に応じた変動の大きさに相当する定数項である。定数項Ｖａは、特定の調理物Ｃ１（例えば１カップの飯米）を７０℃に加熱した際の温度上昇勾配に基づいて、０．０６Ｖ以上０．１０Ｖ以下の数値範囲に設定され、本実施形態では０．０８Ｖに設定されている。但し、今回の入力電圧Ｖｔ（ｎ）を、１０回前の入力電圧Ｖｔ（ｎ－１０）に第１温度上昇勾配に応じた係数ｋ１を乗算した第１相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）×ｋ１と比較して、第２条件の成立判断を行ってもよい。また、今回の入力電圧Ｖｔ（ｎ）を、５回前の入力電圧Ｖｔ（ｎ－５）と比較してもよく、その比較対象は必要に応じて変更が可能である。 The second condition is to indicate that the input voltage Vt from the thermistor 35 has reached the first equivalent voltage Vt(n-10)+Va corresponding to the predetermined first temperature increase gradient (Vt(n )≧Vt(n-10)+Va). Here, Vt (n-10) means the voltage input from the thermistor 35 10 times ago, and Va is a constant term corresponding to the magnitude of fluctuation according to the first temperature increase gradient. The constant term Va is set to a numerical range of 0.06 V or more and 0.10 V or less based on the temperature increase gradient when a specific food C1 (for example, 1 cup of cooked rice) is heated to 70°C. In this case, it is set to 0.08V. However, the current input voltage Vt(n) is the first equivalent voltage Vt(n-10) x k1, which is the 10th previous input voltage Vt(n-10) multiplied by a coefficient k1 corresponding to the first temperature increase slope. It may be determined whether the second condition is satisfied by comparing the above. Further, the current input voltage Vt(n) may be compared with the input voltage Vt(n-5) five times before, and the comparison target can be changed as necessary.

トレイレンジ加熱処理では、トレイ２８上に配置した調理物Ｃ２と出力部１３ａの距離が遠いため、加熱室１２内に満遍なく広がったマイクロ波によって調理物Ｃ２が均等に加熱される傾向にある。調理物Ｃ２に非加熱部分が存在しない場合、調理物Ｃ２から蒸気が発生した状態で調理としての加熱は十分である。そのため、トレイレンジ加熱処理では、赤外線センサ３４による検出を行うことなく、調理物Ｃ２が十分加熱されたと判断、言い換えれば調理物Ｃ２から蒸気が発生したと判断できるサーミスタ３５の検出結果に基づく条件を設定し、この条件が成立するまで、マグネトロン３０によって調理物Ｃ２を加熱する。 In the tray microwave heating process, since the distance between the food C2 placed on the tray 28 and the output section 13a is long, the food C2 tends to be evenly heated by the microwaves evenly spread within the heating chamber 12. When there is no non-heated part in the food C2, heating for cooking is sufficient in a state where steam is generated from the food C2. Therefore, in the tray microwave heating process, the condition is determined based on the detection result of the thermistor 35 that allows it to be determined that the food C2 has been sufficiently heated without performing detection by the infrared sensor 34, in other words, it can be determined that steam has been generated from the food C2. The food C2 is heated by the magnetron 30 until this condition is established.

トレイレンジ加熱処理の終了判断の条件は、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔが、予め定められた第２温度上昇勾配に相当する第２相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂに達したことを示すことである（Ｖｔ（ｎ）≧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂ）。レンジ加熱処理と同様に、Ｖｔ（ｎ－１０）はサーミスタ３５から入力された１０回前の電圧を意味し、Ｖｂは第２温度上昇勾配に応じた変動の大きさに相当する定数項である。但し、今回の入力電圧Ｖｔ（ｎ）を、１０回前の入力電圧Ｖｔ（ｎ－１０）に第２温度上昇勾配に応じた係数ｋ２を乗算した第２相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）×ｋ２と比較して、条件の成立判断を行ってもよい。また、今回の入力電圧Ｖｔ（ｎ）を、５回前の入力電圧Ｖｔ（ｎ－５）と比較してもよく、その比較対象は必要に応じて変更が可能である。 The condition for determining the end of the tray microwave heating process is that the input voltage Vt from the thermistor 35 has reached a second equivalent voltage Vt(n-10)+Vb corresponding to a predetermined second temperature increase gradient. (Vt(n)≧Vt(n-10)+Vb). Similar to the microwave heat treatment, Vt (n-10) means the voltage input from the thermistor 35 10 times before, and Vb is a constant term corresponding to the magnitude of fluctuation according to the second temperature increase gradient. . However, the current input voltage Vt(n) is the second equivalent voltage Vt(n-10)×k2, which is obtained by multiplying the 10 previous input voltage Vt(n-10) by a coefficient k2 corresponding to the second temperature increase slope. It is also possible to determine whether the condition is satisfied by comparing the . Further, the current input voltage Vt(n) may be compared with the input voltage Vt(n-5) five times before, and the comparison target can be changed as necessary.

トレイレンジ加熱処理の場合、調理物Ｃ２には非加熱部分が生じ難く、サーミスタ３５の検出結果に基づく調理物Ｃ２の加熱状態の判断精度は、レンジ加熱処理よりも高い。よって、トレイレンジ加熱処理における定数項Ｖｂの値は、レンジ加熱処理における定数項Ｖａの値よりも低い０．０３Ｖ以上０．０５Ｖ以下の数値範囲に設定され、本実施形態では０．０４Ｖに設定されている。つまり、トレイレンジ加熱処理における第２温度上昇勾配は、レンジ加熱処理における第１温度上昇勾配よりも緩やかな傾きであり、第２相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂの値は第１相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂの値よりも低い。これにより、調理物Ｃ２から蒸気が発生した状態を高感度で検知できるようにしている。 In the case of the tray microwave heating process, unheated portions are less likely to occur in the food C2, and the accuracy of determining the heating state of the food C2 based on the detection result of the thermistor 35 is higher than in the microwave heating process. Therefore, the value of the constant term Vb in the tray microwave heat treatment is set to a numerical range of 0.03 V or more and 0.05 V or less, which is lower than the value of the constant term Va in the microwave heat treatment, and in this embodiment, it is set to 0.04 V. has been done. In other words, the second temperature increase gradient in the tray microwave heat treatment is gentler than the first temperature increase gradient in the microwave heat treatment, and the value of the second equivalent voltage Vt(n-10)+Vb is equal to the first equivalent voltage Vt. It is lower than the value of (n-10)+Vb. This makes it possible to detect with high sensitivity the state in which steam is generated from the food C2.

次に、マグネトロン３０とヒータ３２の両方を用いるレジグリ加熱処理について説明する。 Next, a registration heat treatment using both the magnetron 30 and the heater 32 will be described.

レジグリ加熱処理では、マグネトロン３０による加熱後にヒータ３２による加熱が行われるため、調理終了後の加熱室１２内の温度は、マグネトロン３０のみで加熱する加熱処理よりも高くなる。加熱室１２内が高温の状態でレジグリ加熱処理が行われると、サーミスタ３５による蒸気温度の検出精度が低下する。そこで、本実施形態のレジグリ加熱処理は、以下のように構成されている。 In the regri heat treatment, heating is performed by the heater 32 after heating by the magnetron 30, so the temperature in the heating chamber 12 after cooking is higher than in the heat treatment in which heating is performed only by the magnetron 30. If the registration heat treatment is performed while the inside of the heating chamber 12 is at a high temperature, the accuracy in detecting the steam temperature by the thermistor 35 decreases. Therefore, the registration heat treatment of this embodiment is configured as follows.

レジグリ加熱処理の開始時、サーミスタ３５の検出結果から得られる加熱室１２内の温度が、第１設定温度Ｔｓ１以上であることを示す場合、及び第２設定温度Ｔｓ２以上の場合、ファン３６を作動させて加熱室１２内を冷却した後、加熱を開始する。一方で、加熱室１２内の温度が第２設定温度Ｔｓ２未満の場合、ファン３６を作動させることなく、直ぐに加熱を開始する。本実施形態では、第１設定温度Ｔｓ１は７０℃に設定され、第２設定温度Ｔｓ１は４５℃に設定されている。 At the start of the Regiguri heat treatment, if the temperature inside the heating chamber 12 obtained from the detection result of the thermistor 35 indicates that it is equal to or higher than the first set temperature Ts1, and if it is equal to or higher than the second set temperature Ts2, the fan 36 is activated. After cooling the inside of the heating chamber 12, heating is started. On the other hand, when the temperature in the heating chamber 12 is less than the second set temperature Ts2, heating is started immediately without operating the fan 36. In this embodiment, the first set temperature Ts1 is set to 70°C, and the second set temperature Ts1 is set to 45°C.

制御部４５は、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔが、予め定められた第１設定温度Ｔｓ１に相当する第１設定電圧Ｖｃ以上である場合、第１設定電圧Ｖｃ未満になるまでファン３６を作動させる。また、入力電圧Ｖｔが予め定められた第２設定温度Ｔｓ２に相当する第２設定電圧Ｖｄ以上である場合、予め定められた設定時間ｔｓ１（例えば１分３０秒）だけファン３６を作動させる。また、制御部４５は、ファン３６を作動させたか否かに関わらず、レジグリ加熱処理の総実行時間を一定にするために、予め定められたヒータ３２による加熱時間ｔｓ２（例えば４分）を、ファン３６の作動時間ｔｃ，ｔｓ１に基づいて調整する。 When the input voltage Vt from the thermistor 35 is equal to or higher than the first set voltage Vc corresponding to the predetermined first set temperature Ts1, the control unit 45 operates the fan 36 until it becomes less than the first set voltage Vc. . Further, when the input voltage Vt is equal to or higher than the second set voltage Vd corresponding to the predetermined second set temperature Ts2, the fan 36 is operated for a predetermined set time ts1 (for example, 1 minute and 30 seconds). In addition, the control unit 45 sets a predetermined heating time ts2 (for example, 4 minutes) by the heater 32 to keep the total execution time of the registration heating process constant regardless of whether the fan 36 is activated or not. Adjustments are made based on the operating times tc and ts1 of the fan 36.

次に、図５から図８を参照して、制御部４５によるレンジ加熱処理、トレイレンジ加熱処理、及びレジグリ加熱処理について、より具体的に説明する。 Next, with reference to FIGS. 5 to 8, the microwave heating process, tray microwave heating process, and registration heat process performed by the control unit 45 will be described in more detail.

図５を参照すると、レンジ加熱処理では、制御部４５は、ステップＳ１１で、マグネトロン３０を作動させた後、ステップＳ１２で、赤外線センサ３４による電圧Ｖｉの間欠検出（例えば１秒毎）を開始させ、ステップＳ１３で、サーミスタ３５による電圧Ｖｔの間欠検出（例えば１秒毎）を開始させる。 Referring to FIG. 5, in the microwave heating process, the control unit 45 activates the magnetron 30 in step S11, and then causes the infrared sensor 34 to start intermittent detection (for example, every 1 second) of the voltage Vi in step S12. , In step S13, the thermistor 35 starts intermittent detection (for example, every second) of the voltage Vt.

続いて、ステップＳ１４で、赤外線センサ３４からの入力電圧Ｖｉが設定電圧Ｖｓ以上を示すか否かを判断する。そして、入力電圧Ｖｉが設定電圧Ｖｓ未満の場合にはステップＳ１５に進み、入力電圧Ｖｉが設定電圧Ｖｓ以上の場合にはステップＳ１６に進む。 Subsequently, in step S14, it is determined whether the input voltage Vi from the infrared sensor 34 is equal to or higher than the set voltage Vs. If the input voltage Vi is less than the set voltage Vs, the process proceeds to step S15, and if the input voltage Vi is greater than or equal to the set voltage Vs, the process proceeds to step S16.

ステップＳ１５では、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔ（ｎ）が第１相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖａ以上を示すか否かを判断する。そして、入力電圧Ｖｔ（ｎ）が第１相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖａ未満の場合にはステップＳ１４に戻り、入力電圧Ｖｔ（ｎ）が第１相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖａ以上の場合にはステップＳ１６に進む。つまり、ステップＳ１４に示す第１条件及びステップＳ１５に示す第２条件のうち、いずれかが成立するとステップＳ１６に進む。 In step S15, it is determined whether the input voltage Vt(n) from the thermistor 35 is equal to or higher than the first equivalent voltage Vt(n-10)+Va. If the input voltage Vt(n) is less than the first equivalent voltage Vt(n-10)+Va, the process returns to step S14, and the input voltage Vt(n) is higher than the first equivalent voltage Vt(n-10)+Va. If so, the process advances to step S16. That is, if either of the first condition shown in step S14 and the second condition shown in step S15 is satisfied, the process proceeds to step S16.

ステップＳ１６では、マグネトロン３０の作動を停止した後、ステップＳ１７で、赤外線センサ３４による電圧Ｖｉの間欠検出を停止し、ステップＳ１８で、サーミスタ３５による電圧Ｖｔの間欠検出を停止して、リターンする。 In step S16, after stopping the operation of the magnetron 30, in step S17, the intermittent detection of the voltage Vi by the infrared sensor 34 is stopped, and in step S18, the intermittent detection of the voltage Vt by the thermistor 35 is stopped, and the process returns.

図６を参照すると、トレイレンジ加熱処理では、制御部４５は、ステップＳ２１で、マグネトロン３０を作動させた後、ステップＳ２２で、サーミスタ３５による電圧Ｖｔの間欠検出（例えば１秒毎）を開始させる。 Referring to FIG. 6, in the tray range heating process, the control unit 45 operates the magnetron 30 in step S21, and then starts intermittent detection (for example, every second) of the voltage Vt by the thermistor 35 in step S22. .

続いて、ステップＳ２３で、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔ（ｎ）が第２相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂ以上を示すまで待機する。そして、入力電圧Ｖｔ（ｎ）が第２相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂ以上になると、ステップＳ２４で、マグネトロン３０の作動を停止した後、ステップＳ２５で、サーミスタ３５による電圧Ｖｔの間欠検出を停止して、リターンする。 Subsequently, in step S23, the process waits until the input voltage Vt(n) from the thermistor 35 becomes equal to or higher than the second equivalent voltage Vt(n-10)+Vb. When the input voltage Vt(n) becomes equal to or higher than the second equivalent voltage Vt(n-10)+Vb, the operation of the magnetron 30 is stopped in step S24, and then the intermittent detection of the voltage Vt by the thermistor 35 is performed in step S25. Stop and return.

図７を参照すると、レジグリ加熱処理では、制御部４５は、ステップＳ３１で、サーミスタ３５による検出を行った後、ステップＳ３２で、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔが第１設定温度Ｔｓ１に相当する第１設定電圧Ｖｃ以上を示す否かを判断する。そして、入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ以上の場合にはステップＳ３３に進み、入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ未満の場合にはステップＳ３８に進む。 Referring to FIG. 7, in the registration heating process, the control unit 45 performs detection by the thermistor 35 in step S31, and then in step S32, the control unit 45 detects the temperature at which the input voltage Vt from the thermistor 35 corresponds to the first set temperature Ts1. 1. It is determined whether or not the voltage is equal to or higher than the set voltage Vc. If the input voltage Vt is greater than or equal to the first set voltage Vc, the process proceeds to step S33, and if the input voltage Vt is less than the first set voltage Vc, the process proceeds to step S38.

ステップＳ３３では、ファン３６を作動させた後、ステップＳ３４で、カウンタｔｃによってファン３６の作動時間ｔｃの計測を開始する。続いて、ステップＳ３５で、サーミスタ３５による検出を行った後、ステップＳ３６で、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ未満を示す否かを判断する。そして、入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ以上の場合にはステップＳ３５に戻り、入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ未満になるまで待機する。そして、入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ未満になると、ステップＳ３７で、作動時間ｔｃの計測を停止した後、ステップＳ４１で、ファン３６の作動を停止してステップＳ４２に進む。 In step S33, the fan 36 is operated, and then in step S34, the counter tc starts measuring the operating time tc of the fan 36. Subsequently, in step S35, the thermistor 35 performs detection, and then in step S36, it is determined whether the input voltage Vt from the thermistor 35 is less than the first set voltage Vc. If the input voltage Vt is equal to or higher than the first set voltage Vc, the process returns to step S35 and waits until the input voltage Vt becomes less than the first set voltage Vc. When the input voltage Vt becomes less than the first set voltage Vc, the measurement of the operating time tc is stopped in step S37, and then the operation of the fan 36 is stopped in step S41, and the process proceeds to step S42.

一方、ステップＳ３２で入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ未満の場合、ステップＳ３８で、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔが第２設定温度Ｔｓ２に相当する第２設定電圧Ｖｄ以上を示す否かを判断する。そして、入力電圧Ｖｔが第２設定電圧Ｖｄ以上の場合にはステップＳ３９に進み、ファン３６を作動させ、ステップＳ４０で、設定時間ｔｓ１が経過するまで待機した後、ステップＳ４１で、ファン３６の作動を停止してステップＳ４２に進む。一方で、ステップＳ３８で入力電圧Ｖｔが第１設定電圧Ｖｃ未満の場合、ステップ３３～Ｓ３７，Ｓ３９～Ｓ４１のいずれも行うことなく、ステップＳ４２に進む。 On the other hand, if the input voltage Vt is less than the first set voltage Vc in step S32, it is determined in step S38 whether the input voltage Vt from the thermistor 35 is equal to or higher than the second set voltage Vd corresponding to the second set temperature Ts2. do. If the input voltage Vt is equal to or higher than the second set voltage Vd, the process proceeds to step S39, where the fan 36 is activated, and after waiting until the set time ts1 has elapsed in step S40, the fan 36 is activated in step S41. is stopped and the process proceeds to step S42. On the other hand, if the input voltage Vt is less than the first set voltage Vc in step S38, the process proceeds to step S42 without performing any of steps 33 to S37 and S39 to S41.

図８を参照すると、ステップＳ４２では、マグネトロン３０を作動させた後、ステップＳ４３で、サーミスタ３５による電圧Ｖｔの間欠検出（例えば１秒毎）を開始させる。続いて、ステップＳ４４で、サーミスタ３５からの入力電圧Ｖｔ（ｎ）が、相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂ以上を示すまで待機し、入力電圧Ｖｔ（ｎ）が相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂ以上になると、ステップＳ４５に進む。なお、相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂは、トレイレンジ加熱処理における第２相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂと同一にしているが、異なるようにしてもよい。 Referring to FIG. 8, in step S42, the magnetron 30 is activated, and then in step S43, the thermistor 35 starts intermittent detection of the voltage Vt (for example, every second). Subsequently, in step S44, the system waits until the input voltage Vt(n) from the thermistor 35 indicates the equivalent voltage Vt(n-10)+Vb, and the input voltage Vt(n) reaches the equivalent voltage Vt(n-10). When the voltage exceeds +Vb, the process advances to step S45. Note that the equivalent voltage Vt(n-10)+Vb is the same as the second equivalent voltage Vt(n-10)+Vb in the tray oven heat treatment, but may be different.

ステップＳ４５では、マグネトロン３０の作動を停止した後、ステップＳ４６で、サーミスタ３５による電圧Ｖｔの間欠検出を停止する。その後、ステップＳ４７で、ヒータ３２を作動させた後、定められた加熱時間ｔｓ２からファン３６の作動時間を減算した時間が経過するまで待機する。つまり、図７に示すステップ３２からステップＳ３３～Ｓ３７，Ｓ４１，Ｓ４２を経てステップＳ４７に至った場合、加熱時間ｔｓ２から作動時間ｔｃを減算した時間が経過するまで待機する。図７に示すステップ３２からステップＳ３８～Ｓ４２を経てステップＳ４７に至った場合、加熱時間ｔｓ２から作動時間ｔｓ１を減算した時間が経過するまで待機する。図７に示すステップ３２からステップＳ３８，Ｓ４２を経てステップＳ４７に至った場合、ファン３６は作動されていないため、加熱時間ｔｓ２が経過するまで待機する。そして、加熱時間が経過すると、ステップＳ４９で、ヒータ３２の作動を停止してリターンする。 In step S45, the operation of the magnetron 30 is stopped, and then in step S46, the intermittent detection of the voltage Vt by the thermistor 35 is stopped. After that, in step S47, after activating the heater 32, the process waits until a time period obtained by subtracting the operating time of the fan 36 from the predetermined heating time ts2 has elapsed. That is, when step S47 is reached from step 32 shown in FIG. 7 through steps S33 to S37, S41, and S42, the process waits until the time obtained by subtracting the operating time tc from the heating time ts2 has elapsed. When step S47 is reached from step 32 shown in FIG. 7 through steps S38 to S42, the process waits until the time equal to heating time ts2 minus operating time ts1 has elapsed. When step S47 is reached from step 32 shown in FIG. 7 through steps S38 and S42, the fan 36 is not operated, so the process waits until the heating time ts2 has elapsed. Then, when the heating time has elapsed, the operation of the heater 32 is stopped in step S49 and the process returns.

このように構成した電子レンジ１は、以下の特徴を有する。 The microwave oven 1 configured as described above has the following features.

制御部４５による加熱処理は、トレイ２８が用いられないときに実行されるレンジ加熱処理と、トレイ２８が用いられるときに実行されるトレイレンジ加熱処理とを有する。レンジ加熱処理では、加熱室１２の底壁１３上に配置された調理物Ｃ１に加熱ムラが生じる傾向にあるため、制御部４５は、赤外線センサ３４とサーミスタ３５の両方の検出結果を用いることで、調理物Ｃ１の加熱状態を適切に検出できる。トレイレンジ加熱処理では、加熱室１２内のトレイ２８に配置された調理物Ｃ２が均等に加熱される傾向にあるため、制御部４５は、サーミスタ３５のみの検出結果を用いることで、調理物Ｃ２の加熱状態を適切に検出できる。このように、本実施形態の電子レンジ１では、トレイ２８を用いる場合と用いない場合のいずれでも、調理物Ｃ１，Ｃ２の加熱状態を適切に検出できるため、調理物Ｃ１，Ｃ２を良好な状態に加熱できる。 The heating process by the control unit 45 includes a microwave heating process performed when the tray 28 is not used, and a tray microwave heating process performed when the tray 28 is used. In the microwave heating process, uneven heating tends to occur in the food C1 placed on the bottom wall 13 of the heating chamber 12. , the heating state of the food C1 can be appropriately detected. In the tray microwave heating process, the food C2 placed on the tray 28 in the heating chamber 12 tends to be heated evenly. can appropriately detect the heating state of the In this way, in the microwave oven 1 of the present embodiment, the heating state of the cooking items C1 and C2 can be appropriately detected whether the tray 28 is used or not, so that the cooking items C1 and C2 can be kept in a good state. It can be heated to

レンジ加熱処理のように加熱ムラが生じて非加熱部分が存在する場合、調理物Ｃ１から蒸気が発生した状態では未だ加熱は不足しており、トレイレンジ加熱処理のように加熱ムラがなく非加熱部分が存在し難い場合、調理物Ｃ２から蒸気が発生した状態で加熱は十分である。そのため、トレイレンジ加熱処理において定められた第２相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖｂを、レンジ加熱処理において定められた第１相当電圧Ｖｔ（ｎ－１０）＋Ｖａよりも低くし、調理物Ｃ２から蒸気が発生した状態を高感度で検知している。よって、レンジ加熱処理と比較してトレイレンジ加熱処理では、サーミスタ３５のみによって調理物Ｃ２の加熱状態を検出することにより、調理物Ｃ２の過加熱を抑制し、調理物Ｃ２を適切に加熱できる。 If there is uneven heating and unheated parts as in microwave heating treatment, the heating is still insufficient in the state where steam is generated from the food C1, and there is uneven heating and unheated parts as in tray microwave heating treatment. If the portion is difficult to exist, heating is sufficient in a state where steam is generated from the food C2. Therefore, the second equivalent voltage Vt(n-10)+Vb determined in the tray microwave heating process is made lower than the first equivalent voltage Vt(n-10)+Va determined in the microwave heating process, and the It detects the state of steam generation with high sensitivity. Therefore, in the tray microwave heating process, compared to the microwave heating process, by detecting the heating state of the food C2 only by the thermistor 35, overheating of the food C2 can be suppressed and the food C2 can be appropriately heated.

トレイ２８はマイクロ波透過体からなるため、調理物Ｃ２を確実に均等加熱できる。 Since the tray 28 is made of a microwave transparent material, the food C2 can be reliably heated evenly.

赤外線センサ３４は、加熱室１２のガイドレール１８の上端よりも下側に配置されている。これにより、ガイドレール１８上にトレイ２８を配置した状態であっても、加熱室１２の底壁１３上に配置された調理物Ｃ１と赤外線センサ３４の間には何も介在しないため、赤外線センサ３４によって調理物Ｃ１の温度を確実かつ高精度に検出できる。 The infrared sensor 34 is arranged below the upper end of the guide rail 18 of the heating chamber 12. As a result, even when the tray 28 is placed on the guide rail 18, nothing is interposed between the food C1 placed on the bottom wall 13 of the heating chamber 12 and the infrared sensor 34, so the infrared sensor 34, the temperature of the food C1 can be detected reliably and with high precision.

赤外線センサ３４は１個の赤外線検出素子を備える単眼式であるため、複数の赤外線検出素子を備える赤外線センサを用いる場合と比較して、安価に実施できる。しかも、赤外線センサ３４の視野中心３４ｂは加熱室１２の底壁１３に向けて延びているため、加熱室１２の底壁１３上の調理物Ｃ１の温度を確実に検出できる。 Since the infrared sensor 34 is a monocular type equipped with one infrared detection element, it can be implemented at a lower cost than when an infrared sensor equipped with a plurality of infrared detection elements is used. Moreover, since the field of view center 34b of the infrared sensor 34 extends toward the bottom wall 13 of the heating chamber 12, the temperature of the food C1 on the bottom wall 13 of the heating chamber 12 can be reliably detected.

蒸気の温度を検出する蒸気温度センサであるサーミスタ３５が加熱室１２の天壁１４に配置されている。よって、調理物を加熱室１２の底壁１３及びガイドレール１８上のトレイ２８のいずれに配置した場合であっても、調理物Ｃ１，Ｃ２から発生して上方に流れる蒸気の温度を確実かつ高精度に検出できる。その結果、調理物をガイドレール１８上のトレイ２８に配置した場合には特に、蒸気温度センサであるサーミスタ３５のみの検出結果に基づいて調理物を適切に加熱できる。 A thermistor 35, which is a steam temperature sensor that detects the temperature of steam, is arranged on the ceiling wall 14 of the heating chamber 12. Therefore, regardless of whether the food is placed on the bottom wall 13 of the heating chamber 12 or on the tray 28 on the guide rail 18, the temperature of the steam generated from the food C1, C2 and flowing upward can be reliably raised. Can be detected accurately. As a result, especially when the food is placed on the tray 28 on the guide rail 18, the food can be appropriately heated based on the detection result of only the thermistor 35, which is a steam temperature sensor.

マグネトロン３０とヒータ３２を作動させるレジグリ加熱処理では、開始時の加熱室１２内の温度に基づいてファン３６を作動させる。これにより、サーミスタ３５によって調理物Ｃ１の温度を高精度に検出できるため、調理物Ｃ１を適切に加熱できる。一方、ファン３６の作動時間に基づいてヒータ３２による加熱時間を調整する。これにより、レジグリ加熱処理の総実行時間を一定にできるため、実行時間が長くなることによってユーザに違和感を与えることを防止できる。 In the Regiguri heating process in which the magnetron 30 and heater 32 are activated, the fan 36 is activated based on the temperature within the heating chamber 12 at the start. Thereby, the temperature of the food C1 can be detected with high precision by the thermistor 35, so that the food C1 can be appropriately heated. On the other hand, the heating time by the heater 32 is adjusted based on the operating time of the fan 36. As a result, the total execution time of the registration heating process can be kept constant, so that it is possible to prevent the user from feeling uncomfortable due to an increase in the execution time.

なお、本発明は、前記実施形態の構成に限定されず、種々の変更が可能である。 Note that the present invention is not limited to the configuration of the embodiment described above, and various changes are possible.

例えば、トレイ２８を金属等のマイクロ波反射体によって構成し、トレイ２８の前後方向の寸法を加熱室１２の後壁１６と扉２０の間の寸法よりも小さくし、マイクロ波がトレイ２８と後壁１６の間の隙間を透過するようにしてもよい。 For example, the tray 28 is made of a microwave reflector such as metal, and the dimension in the front and back direction of the tray 28 is made smaller than the dimension between the rear wall 16 and the door 20 of the heating chamber 12, so that the microwaves are transmitted between the tray 28 and the rear. It may also be made to pass through the gap between the walls 16.

第１センサは、調理物Ｃ１の温度を検出可能な構成であれば、必要に応じて変更可能である。第２センサは、湿度センサであってもよく、調理物Ｃ１，Ｃ２から発生した蒸気を検出可能な構成であれば、必要に応じて変更可能である。 The first sensor can be changed as necessary as long as it is configured to be able to detect the temperature of the food C1. The second sensor may be a humidity sensor, and can be changed as necessary as long as it is configured to be able to detect steam generated from the food C1, C2.

赤外線センサ３４は、複数の赤外線検出素子を備えていてもよい。 The infrared sensor 34 may include a plurality of infrared detection elements.

電子レンジ１は、ヒータ３２を備えることなく、マイクロ波加熱モードのみを実行可能であってもよい。 The microwave oven 1 may be capable of executing only the microwave heating mode without being provided with the heater 32.

１電子レンジ
１０電子レンジ本体
１１筐体
１２加熱室
１３底壁
１３ａ出力部
１４天壁
１５側壁
１５ａ通気口
１６後壁
１７開口
１８上側ガイドレール
１９下側ガイドレール
２０扉
２１枠体
２２窓部
２３内窓
２４外窓
２５反射層
２８トレイ
３０マグネトロン
３１ダクト
３１ａ拡開部
３２ヒータ
３４赤外線センサ（第１センサ）
３４ａ視野
３４ｂ視野中心
３５サーミスタ（第２センサ）
３５ａ検出部
３６ファン
４０操作パネル
４１～４３操作部
４４液晶パネル
４４ａ数字表示部
４５制御部
Ｃ１，Ｃ２調理物 1 Microwave oven 10 Microwave oven body 11 Housing 12 Heating chamber 13 Bottom wall 13a Output section 14 Top wall 15 Side wall 15a Vent 16 Rear wall 17 Opening 18 Upper guide rail 19 Lower guide rail 20 Door 21 Frame 22 Window section 23 Inner window 24 Outer window 25 Reflective layer 28 Tray 30 Magnetron 31 Duct 31a Expansion part 32 Heater 34 Infrared sensor (first sensor)
34a Field of view 34b Center of field of view 35 Thermistor (second sensor)
35a Detection section 36 Fan 40 Operation panel 41-43 Operation section 44 Liquid crystal panel 44a Numerical display section 45 Control section C1, C2 Cooked food

Claims

調理物を加熱するための加熱室と、
前記加熱室の底壁に設けられたマイクロ波の出力部と、
前記調理物の温度を検出するための第１センサと、
前記調理物から発生した蒸気を検出するための第２センサと、
前記底壁の上方に間隔をあけて前記加熱室内に着脱可能に配置されるトレイと、
前記出力部からマイクロ波を出力させて前記調理物の加熱処理を行う制御部と
を備え、
前記制御部による前記加熱処理は、
前記トレイが用いられないときに実行され、前記第１センサと前記第２センサの両方の検出結果に基づいて前記調理物を加熱する第１処理と、
前記トレイが用いられるときに実行され、前記第２センサのみの検出結果に基づいて前記調理物を加熱する第２処理と
を含む、電子レンジ。 a heating chamber for heating food;
a microwave output section provided on the bottom wall of the heating chamber;
a first sensor for detecting the temperature of the food;
a second sensor for detecting steam generated from the food to be cooked;
a tray removably disposed within the heating chamber at a distance above the bottom wall;
and a control unit that outputs microwaves from the output unit to heat the food,
The heat treatment by the control unit includes:
a first process that is performed when the tray is not used and heats the food based on the detection results of both the first sensor and the second sensor;
a second process that is executed when the tray is used and heats the food based on a detection result of only the second sensor.

前記制御部による前記第１処理は、前記第１センサからの入力電圧が定められた設定温度に相当する設定電圧に達したことを示す第１条件、及び前記第２センサからの入力電圧が定められた第１上昇勾配に相当する第１相当電圧に達したことを示す第２条件のうち、いずれか一方が成立すると終了し、
前記制御部による前記第２処理は、前記第２センサからの入力電圧が定められた第２上昇勾配に相当する第２相当電圧に達したことを示すと終了し、
前記第２相当電圧は、前記第１相当電圧よりも低い、請求項１に記載の電子レンジ。 The first process by the control unit includes a first condition indicating that the input voltage from the first sensor has reached a set voltage corresponding to a set temperature, and a first condition indicating that the input voltage from the second sensor has reached a set voltage corresponding to a set temperature. The process ends when either one of the second conditions indicating that the first equivalent voltage corresponding to the first rising slope obtained is satisfied;
The second process by the control unit ends when it is indicated that the input voltage from the second sensor has reached a second equivalent voltage corresponding to a predetermined second upward slope;
The microwave oven according to claim 1, wherein the second equivalent voltage is lower than the first equivalent voltage.

前記トレイはマイクロ波透過体からなる、請求項１又は２に記載の電子レンジ。 The microwave oven according to claim 1 or 2, wherein the tray is made of a microwave transmitting material.

前記加熱室は、前記トレイを配置するためのガイドレールを備え、
前記第１センサは、赤外線センサであり、前記ガイドレールの上端よりも下側に配置されている、請求項１又は２に記載の電子レンジ。 The heating chamber includes a guide rail for arranging the tray,
The microwave oven according to claim 1 or 2, wherein the first sensor is an infrared sensor and is arranged below an upper end of the guide rail.

前記赤外線センサは、前記加熱室の前記底壁に向けて延びる視野中心を有する赤外線検出素子を１個のみ備える、請求項４に記載の電子レンジ。 The microwave oven according to claim 4, wherein the infrared sensor includes only one infrared detection element having a field of view center extending toward the bottom wall of the heating chamber.

前記第２センサは、蒸気の温度を検出する蒸気温度センサであり、前記加熱室の天壁に配置されている、請求項１又は２に記載の電子レンジ。 3. The microwave oven according to claim 1, wherein the second sensor is a steam temperature sensor that detects the temperature of steam, and is disposed on a ceiling wall of the heating chamber.