JP2023522381A - 焙煎装置の較正プロセス - Google Patents
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Abstract
本発明は、マスタ装置で定義されたコーヒー豆焙煎レシピを再現する焙煎装置の較正プロセスに関し、較正プロセスは、a-焙煎装置のチャンバに第2の一時的温度プローブを導入し、b-第1の温度プローブによって調節された温度Tregに基づいて、予め設定された曲線Rを再現するように加熱デバイスを制御し、c-予め設定された曲線Rsetの再現中、チャンバ内で温度Tcalを時間の関数として測定し、d-温度Tcal@tiとマスタ装置Mで取得された予め決定された較正曲線Rrefの温度Tref@tiとを比較し、較正曲線Rrefが、予め設定された曲線Rsetを再現するようにマスタ装置の加熱デバイスを制御している間に、特定のマスタ装置のチャンバ内で測定された温度Trefを表し、e-比較に基づいて、焙煎装置の制御システムにおいて第1の温度プローブによって調節された温度Tregに補正を適用して、焙煎装置を較正する。【選択図】 図1
Description
本発明は、コーヒー豆焙煎装置及びそのような装置の較正方法に関する。
コーヒー豆の焙煎は、焙煎チャンバ内にコーヒー豆を導入することと、当該豆に熱を加えることとからなる。
一般に、焙煎装置は、コーヒー豆を収容するためのチャンバと、チャンバに供給される空気を加熱する加熱デバイスと、加熱デバイスによって供給される温度を調節する温度プローブと、温度プローブ及び加熱デバイスと動作可能に通信するコントローラとを備える。コントローラは、加熱デバイスを作動及び停止するように動作する。コントローラは、特定の時間及び温度に対応する複数のデータ点を含む予め定義された焙煎プロファイルを記憶している。コントローラは、焙煎制御信号値を読み取るように定期的に動作し、その焙煎制御信号値を焙煎プロファイルと相関させ、焙煎プロファイルに従ってコーヒー豆の温度を維持するように加熱デバイスの動作を制御する。
この予め定義された焙煎プロファイルは、通常、特定のタイプのコーヒー豆について、コーヒー専門家によって定義される。焙煎プロファイルは、このタイプのコーヒー豆の最適な焙煎を提供するように定義され、この焙煎プロファイルの再現は、豆を浪費しないことを確保する。
この焙煎プロファイルを再現するためには、焙煎装置が焙煎プロファイルの必須温度を正確に適用することができることが不可欠である。これは通常、コーヒー豆の層内である焙煎チャンバ自体の内部温度を調節することによって得られる。例えば、US6053093は、焙煎チャンバ内に入れられたサーモセンサを備えた焙煎装置を提供する。
しかし、焙煎装置のタイプに応じて、コーヒー豆の層内の温度を測定するために、焙煎チャンバ内に温度センサを導入することは、常に望ましい又は可能であるとは限らない。
第1に、このセンサは急速に汚れ、誤った測定値を提供する、又は頻繁な洗浄若しくは保守作業を必要とする可能性があるため、チャンバ内、及びコーヒー豆の層内に温度センサを有することは望ましくない。また、温度センサが、汚れから保護され得るチャンバの部分内に配置されている、すなわち、豆との直接接触から離れている場合には、測定値の信頼性が低い。他のセンサは、WO2018/021081又はUS6770315のセンサのように、チャンバ出口だが、チャンバの外に存在することができる。
第2に、装置によっては、特に、豆を導入及び排出する動作のために装置から取り外す必要があるチャンバ内にそのような内部温度センサを設けることは困難である。温度は、装置の処理ユニットに接続される必要があるため、焙煎動作毎にセンサの切断を必要とする。焙煎操作毎に温度センサのプラグを抜くことは、手間がかかる、又は装置に脆弱性をもたらすであろう。このタイプの装置では、チャンバの外に、好ましくは加熱デバイス近傍に、すなわち、チャンバ内の熱風入口近傍に位置する少なくとも1つの固定センサで温度を調節することが好ましい。
焙煎チャンバの外に温度プローブを備えるこのタイプの焙煎装置は、各タイプの豆について、特定の焙煎プロファイルがマスタ装置で定義される。マスタ装置で定義されたこの特定の焙煎プロファイルは、加熱デバイスによって提供され、チャンバの外に配置された少なくとも1つの温度プローブによって調節された熱風の温度に対応する。
一連の同一の焙煎装置が製造された場合、正しく較正された温度プローブで測定された温度の調節に基づいて、マスタ装置で定義されるのと同じ焙煎プロファイルを適用するように各装置の加熱デバイスを動作させるときでも、同一の装置での同一の豆の焙煎は、常に一定であるとは限らない、つまり、コーヒー豆の色及び芳香が異なることが観察された。同様の焙煎プロファイルを再現する際の一貫性の欠如は、新しく製造された焙煎装置とマスタ装置との間だけでなく、同じシリーズの2つの焙煎装置間でも発生した。
本発明の目的は、異なる焙煎装置において同じ焙煎プロファイルで一貫して焙煎するというこの課題の解決策を提供することである。
本発明の第1の態様では、1つの特定のマスタ焙煎装置(M)で定義されたコーヒー豆焙煎レシピを再現するためのコーヒー豆焙煎装置(X)の較正プロセスが提供され、
当該コーヒー豆焙煎装置(X)が、
コーヒー豆を収容するためのチャンバと、
チャンバに供給される空気を加熱する加熱デバイスと、
加熱デバイスによって供給される空気の温度を測定するための少なくとも1つの第1の温度プローブであって、チャンバの外に配置されている、少なくとも1つの第1の温度プローブと、
加熱デバイスを制御するように構成され、かつ焙煎曲線を再現するように構成された制御システムであって、焙煎曲線が、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供し、加熱デバイスの制御が、少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)によって測定された温度Tregに基づいてフィードバックループ調節を実行する、制御システムと、
を備え、
当該較正プロセスが、
a-較正される焙煎装置のチャンバ内に少なくとも1つの第2の一時的温度プローブを導入する工程、又はチャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた一時的較正チャンバと置き換える工程と、
b-予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスを制御する工程であって、予め設定された曲線が、予め設定された対応する連続する時点t1、t2、...、tfinalでそれぞれ適用される温度Tset@t1、Tset@t2、...、Tset@tfinalを表す1セットの点(Tset@ti;ti)を提供し、制御が、少なくとも1つの第1の温度プローブによって調節された温度Tregに基づく、工程と、
c-予め設定された曲線Rsetの再現中、少なくとも1つの第2の温度プローブでチャンバ内の温度Tcalを時間の関数として測定して、少なくとも1セットの点(Tcal@ti;ti)の決定を可能にする工程と、
d-少なくとも1つの時点tiで測定された温度Tcal@tiと、マスタ焙煎装置(M)で取得された予め決定された基準曲線Rrefの同じ時点tiにおける温度Tref@tiとを比較する工程であって、基準曲線Rrefが、予め設定されたRsetを再現するようにマスタ装置の加熱デバイスを制御している間に、特定のマスタ装置(M)のチャンバで測定された温度Trefを表す、工程と、
e-この比較に基づいて、フィードバックループ調節に補正を適用することによって、好ましくは、第1の温度プローブによって測定された温度Tregに補正を適用することによって、又は焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに補正を適用することによって、焙煎装置(X)を較正する工程と、
を含む。
当該コーヒー豆焙煎装置(X)が、
コーヒー豆を収容するためのチャンバと、
チャンバに供給される空気を加熱する加熱デバイスと、
加熱デバイスによって供給される空気の温度を測定するための少なくとも1つの第1の温度プローブであって、チャンバの外に配置されている、少なくとも1つの第1の温度プローブと、
加熱デバイスを制御するように構成され、かつ焙煎曲線を再現するように構成された制御システムであって、焙煎曲線が、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供し、加熱デバイスの制御が、少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)によって測定された温度Tregに基づいてフィードバックループ調節を実行する、制御システムと、
を備え、
当該較正プロセスが、
a-較正される焙煎装置のチャンバ内に少なくとも1つの第2の一時的温度プローブを導入する工程、又はチャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた一時的較正チャンバと置き換える工程と、
b-予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスを制御する工程であって、予め設定された曲線が、予め設定された対応する連続する時点t1、t2、...、tfinalでそれぞれ適用される温度Tset@t1、Tset@t2、...、Tset@tfinalを表す1セットの点(Tset@ti;ti)を提供し、制御が、少なくとも1つの第1の温度プローブによって調節された温度Tregに基づく、工程と、
c-予め設定された曲線Rsetの再現中、少なくとも1つの第2の温度プローブでチャンバ内の温度Tcalを時間の関数として測定して、少なくとも1セットの点(Tcal@ti;ti)の決定を可能にする工程と、
d-少なくとも1つの時点tiで測定された温度Tcal@tiと、マスタ焙煎装置(M)で取得された予め決定された基準曲線Rrefの同じ時点tiにおける温度Tref@tiとを比較する工程であって、基準曲線Rrefが、予め設定されたRsetを再現するようにマスタ装置の加熱デバイスを制御している間に、特定のマスタ装置(M)のチャンバで測定された温度Trefを表す、工程と、
e-この比較に基づいて、フィードバックループ調節に補正を適用することによって、好ましくは、第1の温度プローブによって測定された温度Tregに補正を適用することによって、又は焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに補正を適用することによって、焙煎装置(X)を較正する工程と、
を含む。
このプロセスは、1つの特定のマスタ焙煎装置(M)で定義されたコーヒー豆焙煎レシピの再現に一貫性を持たせるためのコーヒー豆焙煎装置(X)の較正に関する。通常、焙煎レシピは、1つの特定の焙煎装置を操作するコーヒー専門家によって、特定のタイプのコーヒー豆又は様々な豆の特定のブレンドについて定義される。専門家が焙煎レシピを定義したこの焙煎装置は、マスタ焙煎装置として定義される。
較正プロセスは、特定のマスタ焙煎装置(M)で定義されたコーヒー豆焙煎レシピを、通常は特定のマスタ焙煎装置(M)の製造コピーである他の装置(X)でも一貫して再現させることを可能にすることを目的とする。
プロセスは、コーヒー豆を収容するためのチャンバと、加熱デバイスと、チャンバの外に配置されて、加熱デバイスによって供給された温度を調節する少なくとも1つの第1の温度プローブと、制御システムと、を少なくとも備えるコーヒー豆焙煎装置に適用される。
この焙煎装置は、コーヒー豆を焙煎する動作中、チャンバ内に任意のプローブ、特に任意の調節プローブを含まない。焙煎装置は、較正プロセス中のみ、チャンバ内に測定プローブを備えることができる。
マスタ装置は、同じ構成を有する。
この方法は、上記のように任意のタイプの焙煎装置に適用することができる。
チャンバは、焙煎プロセス中にコーヒー豆を収容するように設計されている。チャンバ内で、コーヒー豆は加熱され、かつ好ましくは豆全体の加熱を均質化するために混合される。
混合は、熱風の流動床を用いて、攪拌ブレードを用いて機械的に、又は回転ドラムの回転を通じて達成することができる。
好ましくは、焙煎装置は、熱風流動床チャンバである。このようなチャンバ内で、加熱された空気は、豆を持ち上げるのに十分な力で、コーヒー豆の下のスクリーン又は多孔板を通して送られる。熱は、豆がこの流動床内でタンブリングし、流通するにつれて、豆に伝達される。
あるいは、焙煎装置は、加熱された環境においてコーヒー豆がタンブリングされるドラムチャンバであってもよい。ドラムチャンバは、水平軸に沿って回転するドラムからなることができ、又はドラムチャンバは、加熱された環境においてコーヒー豆をタンブリングさせるための撹拌ブレードを備えることができる。
チャンバは通常、焙煎操作中に生成された煙を排出することができる出口を備える。
加熱デバイスは、チャンバに収容されたコーヒー豆を加熱するために、チャンバに供給される空気を加熱する。
好ましくは、加熱デバイスは、熱風流を生成するように構成され、熱風流は、コーヒー豆を加熱するために、チャンバ内に収容されたコーヒー豆に案内される。通常、加熱デバイスは、少なくとも空気ドライバと、空気ドライバによって生成される空気流を加熱するためのヒータとを備える。
加熱デバイスは、天然ガス、液化石油ガス(LPG)、あるいは木材によって供給されるバーナー(燃焼を意味する)を備えることができる。あるいは、加熱デバイスは、電気抵抗器、セラミックヒータ、ハロゲン源、赤外線源、又はマイクロ波源を備えることができる。
好ましくは、加熱デバイスは電動であり、これにより、焙煎中に生成される空気汚染物質は、コーヒー豆自体を加熱することから生成される汚染物質であって、加熱源が天然ガス、プロパン、液化石油ガス(LPG)、あるいは木材を使用するガスバーナーであるときに生じるような、ガスの燃焼からのものではない。
装置は、加熱デバイスによって供給される温度を調節する少なくとも1つの第1の温度プローブを備える。このプローブによって測定された温度は、フィードバックループ制御において制御システムの入力データとして使用される。この第1の温度プローブは、チャンバの外に配置され、これは焙煎操作中にコーヒー豆に接触しないことを意味する。好ましくは、この第1のプローブは、チャンバに供給される熱風の温度を測定するために、装置内、すなわち、通常は加熱デバイスとチャンバとの間に、配置される。
チャンバに供給される熱風の測定の精度を改善するために、装置は、少なくとも2つの第1の温度プローブを備えることができる。これらの第1のプローブは、加熱デバイスからチャンバへ熱風流を送るように構成された導管、好ましくは、当該導管の局所的な横断狭窄部に配置することができ、各プローブは、当該局所的な横断狭窄部の様々な径方向位置に配置される。
任意選択的に、装置は、チャンバの下流に別の第1のプローブを備えることができる。しかし、チャンバの下流のこのプローブのこの位置は、焙煎動作により放出される煙との接触により、汚れや温度の正確な測定への影響をもたらし、あまり好ましくない。
装置の制御システムは、焙煎曲線を再現するように加熱デバイスを制御するよう動作可能であり、当該焙煎曲線は、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供する。加熱デバイスのこの制御は、フィードバックループ制御において、少なくとも1つの第1の温度プローブによって測定された温度Tregに基づくフィードバックループ調節の実行に基づく。フィードバックループ調節は通常、測定された温度Tregと適用される温度Tとの比較、次いでその比較に基づく、予め定義されたルールに従う加熱デバイスの制御からなる。そのようなフィードバックループ調節は、最新技術から周知である。
装置が2つ以上の第1のプローブを備える場合、全ての当該プローブの測定値の平均値は、フィードバックループ調節において、温度Tregとして制御システムによって使用され得る。
第1の工程a)では、較正プロセスは、
第1のモードでは、較正される焙煎装置のチャンバ内に少なくとも1つの第2の一時的温度プローブを導入すること、又は
第2のモードでは、当該チャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた一時的較正チャンバと置き換えること、を含む。
第1のモードでは、較正される焙煎装置のチャンバ内に少なくとも1つの第2の一時的温度プローブを導入すること、又は
第2のモードでは、当該チャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた一時的較正チャンバと置き換えること、を含む。
どちらのモードでも、少なくとも1つの二次プローブの存在は、較正プロセス中のチャンバ内又は一時的チャンバ内の温度Tcalの測定を可能にする。
どちらのモードでも、いくつかの二次プローブを導入することができる。2つ以上の二次プローブが使用される場合、これらのプローブは、チャンバの異なる領域に配置することができる。
第1のモードでは、好ましくは、少なくとも1つの第2の一時的温度プローブは、焙煎動作中にコーヒーの層が存在するチャンバの領域内又はその近傍に配置されるように導入される。
第2のモードでは、較正プロセス中、焙煎装置のチャンバは、少なくとも1つの二次プローブを内部に、好ましくは、焙煎動作中にコーヒーの層が存在するチャンバの領域内又はその近傍に備える類似のチャンバと置き換えられる。
さらなる工程b)では、較正プロセスは、予め設定された曲線Rsetを再現するように装置(X)の加熱デバイスを制御することを含み、当該予め設定された曲線は、予め定義された対応する連続する時点t1、t2、...、tfinalでそれぞれ適用される温度Tset@t1、Tset@t2、...、Tset@tfinalを表す1セットの点(Tset@ti;ti)を提供し、当該制御は、少なくとも1つの第1の温度プローブによって調節された温度Tregに基づく。
予め設定された曲線Rsetの再現中、同時に工程c)で、較正プロセスは、少なくとも1つの第2の温度プローブで、チャンバ内の温度Tcalを時間の関数として測定することを含む。したがって、この工程c)は、少なくとも1セットの点(Tcal@ti;ti)の決定を可能にする。
工程d)では、較正プロセスは、少なくとも1つの時点tiで測定された温度Tcal@tiと、マスタ焙煎装置(M)で取得された予め決定された基準曲線Rrefの当該同じ時点tiにおける温度Tref@tiとを比較することを含む。この較正曲線Rrefは、同じ予め設定された曲線Rsetを再現するようにマスタ装置の加熱デバイスを制御している間に、マスタ装置(M)のチャンバ内で測定された温度Trefを表す。
以下でさらに説明するように、この工程d)は、工程b)及びc)の後又は同時に実行することができる。
次いで、工程e)では、工程d)から生じる比較結果に基づいて、較正プロセスは、フィードバックループ調節に補正を適用することによって焙煎装置(X)を較正することを含む。好ましくは、この補正は、
装置(X)の制御システムにおいて、測定された温度Tregに適用される。ここでは、それは、制御システムにおいて、少なくとも1つの第1のプローブによって測定された温度の値が、工程d)で確立された比較に基づいて加熱デバイスのフィードバックループ調節において補正されることを意味する。
又は
この補正は、焙煎装置の制御システムにおいて再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに適用される。ここでは、それは、制御システムにおいて、加熱デバイスによって再現される温度の値が、工程d)で確立された比較に基づいて加熱デバイスのフィードバックループ調節において補正されることを意味する。
装置(X)の制御システムにおいて、測定された温度Tregに適用される。ここでは、それは、制御システムにおいて、少なくとも1つの第1のプローブによって測定された温度の値が、工程d)で確立された比較に基づいて加熱デバイスのフィードバックループ調節において補正されることを意味する。
又は
この補正は、焙煎装置の制御システムにおいて再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに適用される。ここでは、それは、制御システムにおいて、加熱デバイスによって再現される温度の値が、工程d)で確立された比較に基づいて加熱デバイスのフィードバックループ調節において補正されることを意味する。
装置のタイプ、加熱のタイプ(例えば、ヒータのみ、ファンのみ、又はファン及びヒータの両方の違い)に応じて、補正は、乗算係数、乗算係数とオフセットの組み合わせ、多項式に基づく補正、ログタイプ式又はオフセットのみに基づく補正であり得る。通常、補正は、Tcal@tiとTref@tiとの関係を確立する周知の数学的回帰法を介して決定することができる。
較正プロセスの一実施形態では、
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する温度Tref@tref iとTcal@tref iとが比較され、補正がフィードバックループ調節に直ちに適用され、好ましくは、補正が第1の温度プローブによって調節された温度Tregに適用され、又は補正が予め設定された曲線Rsetによって提供された温度Tset@tiに適用され、
工程e)では、工程c)における最後の補正に基づいて、フィードバックループ調節に最後の補正を適用することによって、好ましくは、1の温度プローブによって測定されたTregに最後の補正を適用することによって、又は焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに最後の補正を適用することによって、焙煎装置(X)が較正される。
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する温度Tref@tref iとTcal@tref iとが比較され、補正がフィードバックループ調節に直ちに適用され、好ましくは、補正が第1の温度プローブによって調節された温度Tregに適用され、又は補正が予め設定された曲線Rsetによって提供された温度Tset@tiに適用され、
工程e)では、工程c)における最後の補正に基づいて、フィードバックループ調節に最後の補正を適用することによって、好ましくは、1の温度プローブによって測定されたTregに最後の補正を適用することによって、又は焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに最後の補正を適用することによって、焙煎装置(X)が較正される。
好ましくは、較正プロセスにおいて、工程c)と工程d)との間で、
工程c)で少なくとも1つの第2の温度プローブで測定された温度Tcal@tiを、調整された値Tcal@ti-adjustedに調整することができ、調整された値は、較正される焙煎装置のチャンバ内に導入される第2の温度プローブ、又は較正される焙煎装置のチャンバに置き換わる一時的較正チャンバに依存し、
工程d)では、この調整された値Tcal@ti-adjustedを温度Tref@tiと比較することができる。
工程c)で少なくとも1つの第2の温度プローブで測定された温度Tcal@tiを、調整された値Tcal@ti-adjustedに調整することができ、調整された値は、較正される焙煎装置のチャンバ内に導入される第2の温度プローブ、又は較正される焙煎装置のチャンバに置き換わる一時的較正チャンバに依存し、
工程d)では、この調整された値Tcal@ti-adjustedを温度Tref@tiと比較することができる。
焙煎チャンバ内に異なる第2の温度プローブを導入し、当該異なる第2の温度プローブの各々で較正プロセスを動作させることによって、焙煎装置のフィードバックループの異なる補正が達成されたことが観察された。実際、異なるプローブの測定値の差異は非常に小さく数度の差であったものの、これらの差異は、較正プロセスに直接影響を及ぼした。実際には、摂氏数度の差が、いくつかのCTN値(色試験Neuhaus)による、焙煎された豆の最終色、及び明らかに、最終的な焙煎コーヒー豆の味に直接影響を及ぼすことが判明している。マスタ装置に適用される焙煎プロファイルを可能な限り厳密に再現する目的で、これらの測定値の差は、好ましくは較正プロセス中に考慮される。
これらの差異は、一時的較正チャンバ内の第2の温度プローブの位置、及びアセンブリ精度の欠如、生産ラインの差、構成要素の差、構成用の経年劣化に起因する一時的較正チャンバの機械的構成のわずかな違いに関連し得る。
通常、この調節は、第2の一時的温度プローブ自体の前の較正動作において予め決定される。第2の一時的温度プローブのこの較正は、既に調節されたプローブとの比較によって達成される。
2つのプローブの温度間の関係に応じて、異なるタイプの調節を適用することができる。
1つの好ましいプロセスでは、
Tcal@ti-adjusted=K2probe.(Tcal@ti)2+K1probe.Tcal@ti+Tprove
であり、式中、
Tprobeは、予め設定された温度オフセットに対応し、予め設定された温度オフセットは、較正される焙煎装置のチャンバの内部に導入される少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される焙煎装置のチャンバと置き換わる一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで0に等しく、
K1probeは、予め設定された温度比に対応し、予め設定された温度比は、較正される焙煎装置のチャンバの内部に導入された少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される焙煎装置のチャンバと置き換わる一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで1に等しく、
K2probeは、予め設定された温度比に対応し、予め設定された温度比は、較正される焙煎装置のチャンバの内部に導入される少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される焙煎装置のチャンバと置き換わる一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで0に等しい。
Tcal@ti-adjusted=K2probe.(Tcal@ti)2+K1probe.Tcal@ti+Tprove
であり、式中、
Tprobeは、予め設定された温度オフセットに対応し、予め設定された温度オフセットは、較正される焙煎装置のチャンバの内部に導入される少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される焙煎装置のチャンバと置き換わる一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで0に等しく、
K1probeは、予め設定された温度比に対応し、予め設定された温度比は、較正される焙煎装置のチャンバの内部に導入された少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される焙煎装置のチャンバと置き換わる一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで1に等しく、
K2probeは、予め設定された温度比に対応し、予め設定された温度比は、較正される焙煎装置のチャンバの内部に導入される少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される焙煎装置のチャンバと置き換わる一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで0に等しい。
温度調節のプロセスにおいて、工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、Tprobeの値、及び/又はK1probeの値、及び/又はK2probeの値は、時間及び/又は温度とともに変化し得る。
2つの温度プローブ間の測定値の差は、高い温度で増幅されることが観察された。したがって、係数Tprobe、K1probe、及びK2probeの値は、温度の変化に伴って、工程c)の予め設定された曲線Rsetの再現中に変化させることができる。
上記の好ましいモードは、多項式に基づく温度の調節を使用するが、他のタイプの調節も適用することができる。
較正プロセスの上記実施形態の1つの特定のモードでは、
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する比Tref@tref i/Tcal@tref iが計算され、補正が、
再現される焙煎曲線によって提供された温度Tsetであって、当該補正は以下のように定義される乗算係数Kiであり、
式中、K0は予め設定される、若しくはデフォルトで1に等しい、温度Tset、
又は
第1の温度プローブ(5)によって測定された温度Tregであって、当該補正が乗算係数
である、温度Treg、
のいずれかに直ちに適用され、
工程e)では、工程c)で最後に定義された比Kiに基づいて、
焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに当該補正係数Kiを、又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregに当該係数
を
適用することによって、焙煎装置(X)が較正される。
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する比Tref@tref i/Tcal@tref iが計算され、補正が、
再現される焙煎曲線によって提供された温度Tsetであって、当該補正は以下のように定義される乗算係数Kiであり、
式中、K0は予め設定される、若しくはデフォルトで1に等しい、温度Tset、
又は
第1の温度プローブ(5)によって測定された温度Tregであって、当該補正が乗算係数
である、温度Treg、
のいずれかに直ちに適用され、
工程e)では、工程c)で最後に定義された比Kiに基づいて、
焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに当該補正係数Kiを、又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregに当該係数
を
適用することによって、焙煎装置(X)が較正される。
係数K0は、
一連の同様に製造された装置について特別に予め決定された予め設定された係数、又は
特定の周囲条件について予め決定された予め設定された係数、又は
2つの予め設定された乗算係数の組み合わせ、
に対応することができる。
一連の同様に製造された装置について特別に予め決定された予め設定された係数、又は
特定の周囲条件について予め決定された予め設定された係数、又は
2つの予め設定された乗算係数の組み合わせ、
に対応することができる。
K0は、一連の同様に製造された装置について特別に予め決定された予め設定された係数に対応する。
実際には、較正される焙煎装置は通常、一連の同様に製造された装置の一部である。この一連の同様の製造装置は、例えば、装置の特定のモデル又は設計に対応する、又は同じ製造バッチに対応する、同じように組み立てられた同じ要素を備える装置であってもよい。
一連のうちの第1の装置が既に較正されており、その乗算係数補正Kiが予め決定されている場合、当該補正又は当該補正の丸め値を、予め設定された係数K0として一連のうちの他の装置の較正プロセスに直ちに適用することができる。利点は、較正方法がより短縮されることである。
例えば、新しいタイプの焙煎装置の製造に加えて、又は製造における新しいデバイス(新しい空気流ドライバ、新しいヒータ)の使用により、この予め設定された係数K0が未知である場合には、K0は1に設定される。
あるいは、K0は、焙煎装置(X)の外側の温度又は湿度などの周囲条件に関連して定義された予め設定された係数に対応することができる。較正プロセス中に、周囲条件が、20~25℃の温度及び約60%の湿度などの通常の周囲条件に対応する場合、この係数は1に設定することができる。異なる周囲条件における同じ装置の予備較正に基づいて、様々な値を、この係数について周囲条件に応じて予め決定し、さらなる較正動作のためにルックアップテーブルに記憶することができる。
最後に、K0は、一連の装置について具体的に予め決定された上記の予め設定された係数と、周囲条件と関連して定義された上記の予め設定された係数との組み合わせ、すなわち、乗算に対応することができる。
上述したように、上記の特定のモードでは、工程c)で少なくとも1つの第2の温度プローブで測定された温度Tcal@tiを、焙煎装置の較正プロセス中に使用される第2の一時的温度プローブ又は一時的較正チャンバに応じて、調整された値Tcal@ti-adjustedに調整することができる。
上記の特定のモードでは、工程c)で、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが、ある一定値に収束する場合、例えば、Tref@tref i/Tcal@tref iが、Tref@tref i-1/Tcal@tref i-1から2%未満異なる場合、工程c)を停止することができ、最後に計算された補正係数Kiを最後の定義された比として工程d)で使用することができる。
実際には、これは、調節ループにおいて温度の補正が既に達成されており、動作を継続することでより良好な補正をもたらされないことを意味する。
この特定のモードでは、工程c)で、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが、ある一定値に収束しない場合、具体的には、前回計算された比Tref@tref i-1/Tcal@tref i-1、及び次に計算された比Tref@tref i+1/Tcal@tref i+1と大きく異なる場合、較正プロセスを停止することができる。
対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが時間とともに収束しないとき、例えば、変動するとき、調節ループにおいて温度の補正が決定され得ないことを意味する。較正プロセスは実行することができない。
その場合、較正プロセスを再開して、これが一時的な問題であるかどうかを検証し、較正プロセスを正常に実行することができる。そうでない場合、較正のデフォルトは、焙煎装置が、特に加熱デバイスの制御における欠陥を有するという事実を反映し得る。
この特定のモードでは、工程d)の比較は、比Tref@tref i/Tcal@tref iに基づくが、上述したように、他のモードでは他のタイプの比較を適用することができる。
較正プロセスの第1の実行では、
予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプのコーヒー豆及び特定量の当該コーヒー豆の焙煎のためにマスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり得、
工程b)の前に、当該特定のタイプのコーヒー豆及び当該特定の量のコーヒー豆が、焙煎装置(X)のチャンバ内又は一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが当該コーヒー豆を収容している間に、当該予め設定された当該曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御される。
予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプのコーヒー豆及び特定量の当該コーヒー豆の焙煎のためにマスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり得、
工程b)の前に、当該特定のタイプのコーヒー豆及び当該特定の量のコーヒー豆が、焙煎装置(X)のチャンバ内又は一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが当該コーヒー豆を収容している間に、当該予め設定された当該曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御される。
較正プロセスのこの第1の実行形態の代替例では、
予め設定された曲線Rsetは、特定のタイプのコーヒー豆及び特定量の当該コーヒー豆の焙煎のためにマスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり得、
工程b)の前に、当該特定のタイプのコーヒー豆及び当該特定の量のコーヒー豆が、焙煎装置(X)のチャンバ内又は一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが当該コーヒー豆を収容している間に、当該予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御され、
工程d)では、温度Tcal@tiが温度Tref@tiと比較され、比Kfinal=Tref@ti/Tcal@tiが、曲線Rref及びRcalの最終時点tfinalで1回計算され、
工程e)では、当該計算された比に対応する補正係数が、
再現される焙煎曲線によって提供された温度Tsetであって、当該補正が乗算係数Kfinalである、温度Tset、
又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregであって、当該補正が乗算係数
である、温度Treg、
のいずれかに適用される。
予め設定された曲線Rsetは、特定のタイプのコーヒー豆及び特定量の当該コーヒー豆の焙煎のためにマスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり得、
工程b)の前に、当該特定のタイプのコーヒー豆及び当該特定の量のコーヒー豆が、焙煎装置(X)のチャンバ内又は一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが当該コーヒー豆を収容している間に、当該予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御され、
工程d)では、温度Tcal@tiが温度Tref@tiと比較され、比Kfinal=Tref@ti/Tcal@tiが、曲線Rref及びRcalの最終時点tfinalで1回計算され、
工程e)では、当該計算された比に対応する補正係数が、
再現される焙煎曲線によって提供された温度Tsetであって、当該補正が乗算係数Kfinalである、温度Tset、
又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregであって、当該補正が乗算係数
である、温度Treg、
のいずれかに適用される。
好ましくは、この第1の実行形態の代替例では、工程a)~e)は、少なくとも1回再現される。
このプロセスの第1の実行形態では、コーヒー豆は、プロセス中にチャンバ内に導入される。
この第1の実行形態の変形例では、
予め設定された曲線Rsetは、粒状不活性物体の焙煎のためにマスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり得、当該粒状不活性物体が、コーヒー豆をシミュレートするように設計されており、
工程b)の前に、当該粒状不活性物体が、焙煎装置(X)のチャンバ内又は一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが粒状不活性物体を収容している間に、当該予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御される。
予め設定された曲線Rsetは、粒状不活性物体の焙煎のためにマスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり得、当該粒状不活性物体が、コーヒー豆をシミュレートするように設計されており、
工程b)の前に、当該粒状不活性物体が、焙煎装置(X)のチャンバ内又は一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが粒状不活性物体を収容している間に、当該予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御される。
不活性とは、これらの物体が、物理的反応又は化学的反応を起こさずに少なくとも250℃の温度に耐えることができる性質を有することを意味する。好ましい実施形態では、これらの粒状不活性物体は、ガラス又はプラスチックビーズである。
これらの物体は、装置(X)の焙煎チャンバ内に汚れが生じないという利点を有する。
これらの粒状不活性物体は、チャンバがコーヒー豆を含んでいない間に熱風流の圧力損失を生成するように構成され、コーヒー豆をシミュレートするように設計されている。
較正プロセスの第2の実行形態では、プロセス中にチャンバ内に豆を導入しない。
この第2の実行形態では、第1の実行形態と比較していくつかの利点が得られる。
操作者が、特定のタイプの豆を計量してチャンバ内に導入する必要がないため、人的エラーのリスクが排除され、操作者の時間が節約され、較正プロセスに使用される豆の無駄が回避される。
2つの較正動作間で焙煎装置を冷却させる時間を要し、多くの時間を無駄にする、正しい補正に近づけるための較正プロセスの連続的な反復が不要である。
装置チャンバは適切なままである。
較正プロセスは、工場又は豆の貯蔵条件(貯蔵中の可変温度及び湿度)の変動など、較正プロセスで使用される特定の豆の特性の影響を受けない。
操作者が、特定のタイプの豆を計量してチャンバ内に導入する必要がないため、人的エラーのリスクが排除され、操作者の時間が節約され、較正プロセスに使用される豆の無駄が回避される。
2つの較正動作間で焙煎装置を冷却させる時間を要し、多くの時間を無駄にする、正しい補正に近づけるための較正プロセスの連続的な反復が不要である。
装置チャンバは適切なままである。
較正プロセスは、工場又は豆の貯蔵条件(貯蔵中の可変温度及び湿度)の変動など、較正プロセスで使用される特定の豆の特性の影響を受けない。
較正プロセスのこの第2の実行形態では、
予め設定された曲線Rsetは、チャンバが豆を含んでいない間に、マスタ焙煎装置(M)のチャンバで確立された曲線であり、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが豆を含んでいない間に、当該予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御される。
予め設定された曲線Rsetは、チャンバが豆を含んでいない間に、マスタ焙煎装置(M)のチャンバで確立された曲線であり、
工程b)では、焙煎装置のチャンバが豆を含んでいない間に、当該予め設定された曲線Rsetを再現するように加熱デバイスが制御される。
この第2の実装態様の一モードでは、工程a)で、チャンバ内のコーヒー豆の存在をシミュレートするように構成された手段が、チャンバ内に導入される、又は一時的較正チャンバ内に存在する。
コーヒー豆の存在をシミュレートするように構成されたこの手段は、チャンバがコーヒー豆を収容していない間の熱風流の圧力損失を生成するように構成された手段であり得る。そのような手段は、グリッド、メッシュ、少なくとも1つの穴を有するプレート、及び/又はベンチュリ設計を有するパイプなどの、チャンバ内の熱風流を制限するように設計されたデバイスであり得る。
第2の代替モードでは、
焙煎装置の加熱デバイスは、空気流ドライバとヒータを備え、焙煎装置の制御システムは、空気流を変化させるように空気流ドライバを制御するように構成され、
工程b)では、空気流ドライバが、焙煎操作中にチャンバ内のコーヒー豆の存在をシミュレートするために、チャンバがコーヒー豆を収容していない間の熱風流の圧力損失を生成するように制御される。
焙煎装置の加熱デバイスは、空気流ドライバとヒータを備え、焙煎装置の制御システムは、空気流を変化させるように空気流ドライバを制御するように構成され、
工程b)では、空気流ドライバが、焙煎操作中にチャンバ内のコーヒー豆の存在をシミュレートするために、チャンバがコーヒー豆を収容していない間の熱風流の圧力損失を生成するように制御される。
第2の実行形態のどのモードでも、マスタ装置で決定される基準曲線Rrefは、焙煎装置Xの較正プロセスに使用される条件と同じ条件で確立される、つまり、Rrefの決定中、マスタ装置は、豆をシミュレートする同じ手段を有する、又は同じ較正ジャグを使用する、又は熱風流の同じ圧力損失を生成するように空気流ドライバを制御する。
第2の実行形態のどのモードでも、好ましくは、予め設定された曲線Rsetの1セットの点(Tset@tseti;tseti)を提供し、連続的に以下を含む。
第1の段階では、一定温度Tset-stab、好ましくは約40℃での温度Tsetの平衡状態、次いで、
第2の段階では、温度TsetのTset-stabからより高い温度Tset-highへの上昇、次いで、
第3の段階では、当該温度Tset-highでの温度Tsetの平衡状態。
任意選択で、Tset-highよりも高い温度での第2及び第3の段階の再現。
第1の段階では、一定温度Tset-stab、好ましくは約40℃での温度Tsetの平衡状態、次いで、
第2の段階では、温度TsetのTset-stabからより高い温度Tset-highへの上昇、次いで、
第3の段階では、当該温度Tset-highでの温度Tsetの平衡状態。
任意選択で、Tset-highよりも高い温度での第2及び第3の段階の再現。
第1の段階では、一定温度Tset-stabは、好ましくは、使用される部屋の周囲温度にかかわらず、焙煎装置によって容易に到達することができる温度として定義される。世界の場所(高温又は低温の地理的地域)及び店舗のタイプ(戸外に開放している又はエアコン付きの室内)に応じて、約40℃の温度Tset-stabは、40℃超の周囲温度の場合は冷却によって容易に到達可能であり、40℃未満の周囲温度の場合は加熱によって容易に到達可能である、と定義することができる。
第2の段階では、上昇は、焙煎装置で使用される加熱デバイスのタイプ、特に加熱デバイスに提供される電力の調節のタイプに依存し得る。
好ましくは、上記の予め設定された曲線は、温度が低下してTset-stabに到達するまで加熱が停止される冷却の最終段階を含む。
少なくとも3つの段階を有する上記の予め設定された曲線が較正プロセスで使用される場合、
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する温度Tref@Tref iとTcal@Tref iとが比較され、焙煎装置の制御システム内の第1の温度プローブによって測定された温度Tregに、又は焙煎装置の制御システム内で再現される予め設定された曲線Rsetによって提供された温度Tset@tiに、補正が直ちに適用され、
工程e)では、工程c)における最後の補正に基づいて、焙煎装置の制御システム内の第1の温度プローブによって測定された温度Tregに、又は焙煎装置の制御システム内で再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに、当該補正を適用することによって、焙煎装置が較正され、
次いで、
少なくとも1つの予め定義された時点tref iが、平衡状態を有する曲線Rsetの部分に定義され、好ましくは、1つの予め定義された時点tref iが第1の段階において定義され、少なくとも2つの予め定義された時点tref iが第3の段階において定義され、任意選択で、少なくとも2つの予め定義された時点tref iが、Tset-highよりも高い温度で第2及び第3の段階の再現において定義される。
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する温度Tref@Tref iとTcal@Tref iとが比較され、焙煎装置の制御システム内の第1の温度プローブによって測定された温度Tregに、又は焙煎装置の制御システム内で再現される予め設定された曲線Rsetによって提供された温度Tset@tiに、補正が直ちに適用され、
工程e)では、工程c)における最後の補正に基づいて、焙煎装置の制御システム内の第1の温度プローブによって測定された温度Tregに、又は焙煎装置の制御システム内で再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに、当該補正を適用することによって、焙煎装置が較正され、
次いで、
少なくとも1つの予め定義された時点tref iが、平衡状態を有する曲線Rsetの部分に定義され、好ましくは、1つの予め定義された時点tref iが第1の段階において定義され、少なくとも2つの予め定義された時点tref iが第3の段階において定義され、任意選択で、少なくとも2つの予め定義された時点tref iが、Tset-highよりも高い温度で第2及び第3の段階の再現において定義される。
少なくとも3つの段階を有する上記の予め設定された曲線が較正プロセスで使用されるとき、
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する比Tref@tref i/Tcal@tref iが計算され、補正が、
再現される焙煎曲線によって提供された温度Tsetであって、当該補正が以下のように定義される乗算係数Kiであり、
式中、K0は予め設定される、若しくはデフォルトで1に等しい、温度Tset、
又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregであって、当該補正が乗算係数
である、温度Treg、
のいずれかに直ちに適用され、
工程e)では、工程c)で最後に定義された比Kiに基づいて、
焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに当該補正係数Kiを、又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregに係数
を
適用することによって、焙煎装置(X)が較正され、
次いで、好ましくは、工程c)で、
第1の段階中に、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが収束する場合、例えば、Tref@tref i/Tcal@tref iが、前回の計算された比Tref@tref i-1/Tcal@tref i-1から2%未満異なる場合、第1の段階が短縮される。
その場合、予め設定された曲線の第2の段階が、より早く適用される。
工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する比Tref@tref i/Tcal@tref iが計算され、補正が、
再現される焙煎曲線によって提供された温度Tsetであって、当該補正が以下のように定義される乗算係数Kiであり、
式中、K0は予め設定される、若しくはデフォルトで1に等しい、温度Tset、
又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregであって、当該補正が乗算係数
である、温度Treg、
のいずれかに直ちに適用され、
工程e)では、工程c)で最後に定義された比Kiに基づいて、
焙煎装置(X)によって再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに当該補正係数Kiを、又は
第1の温度プローブによって測定された温度Tregに係数
を
適用することによって、焙煎装置(X)が較正され、
次いで、好ましくは、工程c)で、
第1の段階中に、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが収束する場合、例えば、Tref@tref i/Tcal@tref iが、前回の計算された比Tref@tref i-1/Tcal@tref i-1から2%未満異なる場合、第1の段階が短縮される。
その場合、予め設定された曲線の第2の段階が、より早く適用される。
同様に、好ましくは、工程c)中、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが第3の段階中に収束する場合、例えば、Tref@tref i/Tcal@tref iが、前回の計算された比Tref@tref i-1/Tcal@tref i-1から2%未満異なる場合、第3の段階が短縮される。
その場合、予め設定された曲線が少なくとも1つのさらなる段階を含む場合、当該さらなる段階がより早く適用される。
同様に、好ましくは、工程c)中、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが第3の段階中にある一定値に収束しない場合、第3の段階が延長される。
どんな実行形態でも、較正プロセスは、焙煎装置の外側の温度及び/又は湿度などの周囲条件に対する情報を取得する工程を含むことができる。
工程e)では、当該情報に基づいて補正を修正することができる。例えば、補正はオフセットを含む。
又は
予め設定された曲線が、温度にオフセットを適用することによって修正される。例えば、この予め設定された曲線が第1の段階で平衡状態を有する場合、この平衡状態はオフセットされる。
工程e)では、当該情報に基づいて補正を修正することができる。例えば、補正はオフセットを含む。
又は
予め設定された曲線が、温度にオフセットを適用することによって修正される。例えば、この予め設定された曲線が第1の段階で平衡状態を有する場合、この平衡状態はオフセットされる。
どんな実行形態でも、好ましくは較正プロセスでは、予め設定された曲線Rsetが再現される工程c)の後で、焙煎装置が約40℃の温度まで冷却される。
この冷却工程は、焙煎装置がその後の焙煎動作又は別の較正動作のいずれかを可能にする状態に戻ることを保証する。この冷却は、通常、加熱を停止するが、チャンバ内の空気流を維持することによって達成される。
どの実行形態でも、較正方法は、加熱デバイス及び加熱デバイスと装置内のチャンバとの関係に直接的な影響を及ぼすため、要求に応じて、具体的には、焙煎装置の製造後、当該装置の修理若しくは保守の動作後、又は装置が衝撃を受けた可能性のある装置の移動若しくは輸送後に、始めて実行することができる。
較正プロセスは、例えば、一定時間間隔で、又は一定時間の使用後に自動的に実行することができる。ガスケット又はシールのような焙煎装置のいくつかの部品は、特定の動作時間後に、特に、装置の較正に直接影響を及ぼす高温焙煎環境において、損傷する場合がある。空気流は汚れの存在に対して変化して、維持及び較正を必要とし得る。
装置の制御システムは、操作者に較正プロセスを動作させるよう促すときに警告を表示するように構成することができる。
較正動作の終了時に、補正を決定できないために較正が失敗した場合、装置の制御システムは、操作者に較正プロセスを再開始させるよう、及び/又は装置を制御して最終的に修復させるよう促すために、警告を表示するように構成することができる。
装置がリモートリソースと通信するための通信インタフェースを備える場合、操作者は必要に応じて警告を表示することができる。
好ましくは、装置は、ユーザインタフェースを備え、制御システムは、ユーザインタフェースを介してアクセス可能な較正プロセスを実行する較正モードを行うように構成することができる。
較正モードでは、制御システムは、少なくとも1つの第2の温度プローブをチャンバ内に導入する、又はチャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた較正チャンバと置き換えることを、操作者に求めるように構成することができる。ユーザインタフェースは、第2の一時的温度プローブ又は一時的較正チャンバを導入する動作を示す図を表示することができる。
この方法は、焙煎装置の制御システムにおいて、又はコンピュータ上で、又はスマートフォン若しくはテーブルアプリのようなモバイルデバイス上で直接実行することができ、これらのデバイスは、焙煎装置に接続されている。接続は、リモート又は有線であり得る。
好ましくは、焙煎装置の加熱デバイスが、空気流ドライバ及びヒータを備える実施形態では、較正プロセスの工程a)を実行する前に、空気流ドライバが較正される。
較正は、焙煎装置内に供給される空気流の値を、マスタ焙煎装置内に供給される空気流の値に調整する工程を含む。
第2の態様では、コーヒー豆焙煎装置が提供され、この装置は、
コーヒー豆を収容するためのチャンバと、
チャンバに供給される空気を加熱する加熱デバイスと、
加熱デバイスによって供給される温度を調節するための少なくとも1つの第1の温度プローブであって、チャンバの外に配置されている、少なくとも1つの第1の温度プローブと、
加熱デバイスを制御するように構成され、かつ焙煎曲線を再現するように構成された制御システムであって、各焙煎曲線が、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供し、加熱デバイスの制御が、第1の温度プローブによって調節された温度Tregに基づき、
当該装置が、焙煎装置のチャンバ内に少なくとも1つの第2の温度プローブを一時的に導入する手段を備えており、又は少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた較正チャンバとのチャンバの一時的交換を可能にするように構成されており、
制御システムは、当該少なくとも1つの第2の温度プローブによって測定された温度の入力を受信するように構成されており、
制御システムは、上記のような較正プロセスを実行するように動作可能である。
コーヒー豆を収容するためのチャンバと、
チャンバに供給される空気を加熱する加熱デバイスと、
加熱デバイスによって供給される温度を調節するための少なくとも1つの第1の温度プローブであって、チャンバの外に配置されている、少なくとも1つの第1の温度プローブと、
加熱デバイスを制御するように構成され、かつ焙煎曲線を再現するように構成された制御システムであって、各焙煎曲線が、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供し、加熱デバイスの制御が、第1の温度プローブによって調節された温度Tregに基づき、
当該装置が、焙煎装置のチャンバ内に少なくとも1つの第2の温度プローブを一時的に導入する手段を備えており、又は少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた較正チャンバとのチャンバの一時的交換を可能にするように構成されており、
制御システムは、当該少なくとも1つの第2の温度プローブによって測定された温度の入力を受信するように構成されており、
制御システムは、上記のような較正プロセスを実行するように動作可能である。
好ましくは、焙煎装置のチャンバは取り外し可能であり、豆を導入及び除去する動作中に装置のハウジングから取り外されるように構成されている。
一般に、コーヒー豆を収容する当該チャンバは、いかなる温度プローブも含まない。
この装置では、少なくとも1つの第2の温度プローブが存在し、装置の較正モード中にのみ焙煎チャンバ内で動作可能である。通常の焙煎動作中、この第2のプローブは、チャンバ内に配置されていない。
チャンバは、いかなる温度プローブも含まない。温度を測定し、焙煎操作中の調節フィードバックループの入力としてこの測定値を使用するためにチャンバ内に配置される温度プローブは存在しない。
好ましくは、装置は、ユーザインタフェースを備え、制御システムは、ユーザインタフェースを介してアクセス可能な較正プロセスを実行する較正モードを行うように構成することができる。
較正モードでは、制御システムは、少なくとも1つの第2の温度プローブをチャンバ内に導入する、又はチャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた較正チャンバと置き換えることを、操作者に求めるように構成することができる。ユーザインタフェースは、第2の一時的温度プローブ又は一時的較正チャンバを導入する動作を示す図を表示することができる。
1つのモードでは、少なくとも1つの第2の温度プローブは、コーヒー豆焙煎装置の外部のデバイスであり、コーヒー豆装置は、チャンバ内に気密に、又は次に好ましくは、チャンバの出口に接続された導管内に、少なくとも1つの第2の温度プローブを導入するように設計された開口部を備える。
そのモードでは、少なくとも1つの第2の温度プローブは、焙煎装置の一部ではない。それは別個のデバイスである。
焙煎装置は、チャンバ内に少なくとも1つの第2の温度プローブを摺動させるための開口部を備える。開口部に導入されると、プローブと開口部との間の接続は、例えば、緊密な弾性シールによって気密になる。
別のモードでは、
焙煎装置のコーヒー豆を含むチャンバは、焙煎装置から取り外し可能であり、
コーヒー豆焙煎装置は、取り外し可能なチャンバを受け入れて保持するように設計された領域を備え、
少なくとも1つの第2の温度プローブは、較正チャンバの一部であり、較正チャンバは、専用焙煎チャンバの代わりに保持及び受容領域内に一時的に導入されるように構成されている。
焙煎装置のコーヒー豆を含むチャンバは、焙煎装置から取り外し可能であり、
コーヒー豆焙煎装置は、取り外し可能なチャンバを受け入れて保持するように設計された領域を備え、
少なくとも1つの第2の温度プローブは、較正チャンバの一部であり、較正チャンバは、専用焙煎チャンバの代わりに保持及び受容領域内に一時的に導入されるように構成されている。
したがって、焙煎チャンバ内に少なくとも1つの第2の温度プローブを配置する必要がある場合、焙煎専用の通常のチャンバは、装置から取り外され、少なくとも1つの第2の温度プローブを保持する較正チャンバによって置き換えられる。
第3の態様では、コンピュータ、プロセッサ、又は制御ユニットによって実行されると、コンピュータ、プロセッサ、又は制御ユニットに上述したような較正プロセスを実行させる命令を含むコンピュータプログラムが提供される。
好ましくは、コンピュータプログラムの命令は、焙煎装置の処理ユニットによって実行される。
一実施形態では、コンピュータプログラムの命令は、モバイルデバイスなどの、コーヒー豆焙煎装置の外部のデバイスの処理ユニットによって実行することができる。
第4の態様では、コンピュータ、プロセッサ、又は制御ユニットによって実行されたときに、コンピュータ、プロセッサ、又は制御ユニットに上記のような較正プロセスを実行させる命令を含むコンピュータ可読記憶媒体が提供される。
本明細書において、曲線、プロファイル、又はレシピという用語は、同等に使用され、連続する別個の時点tiで適用される温度T@tiを表す少なくとも1セットの個別の点(T@ti;ti)を定義することができる。
本発明の上記の諸態様は、任意の好適な組み合わせで組み合わせることができる。更には、本明細書における様々な特徴を、上記の諸態様のうちの1つ以上と組み合わせることにより、具体的に図示及び説明されたもの以外の組み合わせを提供することができる。本発明の更なる目的及び有利な特徴は、「特許請求の範囲」、「発明を実施するための形態」、及び添付図面から明らかとなるであろう。
本発明の特定の実施形態が、以下の図面を参照して、例として更にここで記載される。
本発明の方法を実行することができる焙煎装置の概略図である。
図1による装置の制御システムのブロック図である。
温度調節のフィードバックループを示す。
図1による装置における較正方法の実行を示す図である。
較正方法の実行を可能にするための図3の装置の制御システムのブロック図である。
較正方法の実行を示す図である。
較正方法の実行を示す図である。
較正方法の実行を示す図である。
較正方法の実行を示す図である。
予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプ及び重量のコーヒー豆に対して定義される焙煎レシピに対応する較正プロセスの一実施形態を示す図である。
較正プロセスがコーヒー豆を使用する必要なく実行される較正プロセスの実施形態を示す図である。
図7に示される実施形態で取得される曲線を示す図である。
図7に示される実施形態で取得される曲線を示す図である。
図7に示される実施形態で取得される曲線を示す図である。
図7に示される実施形態で取得される曲線を示す図である。
図7及び図8A~図8Dの較正プロセス中の温度調節の閉フィードバックループを示す図である。
図8Dに示される曲線の代替の曲線を示す。
図8Dに示される曲線の代替の曲線を示す。
焙煎装置
図1は、焙煎装置10の例示的な側面図を示す。機能的には、焙煎装置10は、チャンバ1内に保持されたコーヒー豆を、このチャンバ内部に導入された熱風流によって焙煎するように動作可能である。第1のレベルにおいて、装置は、ハウジング4と、焙煎ユニットと、制御システム80とを備える。次に、これらの構成要素を順次説明する。
図1は、焙煎装置10の例示的な側面図を示す。機能的には、焙煎装置10は、チャンバ1内に保持されたコーヒー豆を、このチャンバ内部に導入された熱風流によって焙煎するように動作可能である。第1のレベルにおいて、装置は、ハウジング4と、焙煎ユニットと、制御システム80とを備える。次に、これらの構成要素を順次説明する。
焙煎装置の焙煎ユニット
焙煎ユニットは、コーヒー豆を受け入れ、焙煎するように動作可能である。
焙煎ユニットは、コーヒー豆を受け入れ、焙煎するように動作可能である。
焙煎ユニットは、焙煎装置10の第2のレベルでは、典型的には、チャンバ1と加熱デバイス2とを備え、これらは順次説明される。
チャンバ1は、操作者によって導入されたコーヒー豆を受け入れ、保持するように構成されている。好ましい実施形態では、チャンバ1は、ハウジング4から取り外し可能である。チャンバは、
コーヒー豆の導入又は除去のため、又は
いったんチャンバを取り外して、チャンバを洗浄及びメンテナンスするため、又は
チャンバの背後にある垂直のハウジング部分43を洗浄するために、
焙煎装置から外しておくことができる。
コーヒー豆の導入又は除去のため、又は
いったんチャンバを取り外して、チャンバを洗浄及びメンテナンスするため、又は
チャンバの背後にある垂直のハウジング部分43を洗浄するために、
焙煎装置から外しておくことができる。
チャンバの底部開口部11は、空気が通過できるように構成されており、具体的には、豆を上に置くことができる多孔板を備え、空気が多孔板を通って上方に流れることができる。チャンバ1は、ユーザがハウジングからチャンバを取り外し、ハウジングの外側に保持することを可能にするために、ハンドルを備える。
チャフ収集器(図示せず)は、チャンバ1と流れ連通しており、豆から徐々に分離し、密度が小さいためにチャフコレクタへと吹き飛ばされる殻(チャフ)を受け止める。
加熱デバイス2は、空気流ドライバ21及びヒータ22を備える。
空気ドライバ21は、チャンバの底部11の方向に空気流(点線矢印)を生成するように動作可能である。生成された流れは、豆を加熱し、撹拌して持ち上げるように構成されている。その結果、豆は均質に加熱される。具体的には、空気流ドライバは、モーターを動力源とするファンであり得る。ハウジング内部に空気を供給するために、ハウジングの基部内に空気入口42を設けることができ、空気流ドライバは、点線矢印で示されるように、この空気を通路23を通して上方に、空気出口孔41へとチャンバ1の方向に吹き出すことができる。
ヒータ22は、空気流ドライバ21によって生成された空気流を加熱するように動作可能である。図示した具体的な実施形態では、ヒータは、ファン21とチャンバの底部開口部11との間に配置された電気抵抗であり、その結果、空気流がチャンバ1に入る前に加熱され、豆を加熱し、持ち上げる。電気抵抗器、セラミックヒータ、ハロゲン源、赤外線源、及び/又はマイクロ波源などの他の種類のヒータが使用されてもよい。
ヒータ22及び/又は空気流ドライバ21は、焙煎プロファイルを豆に適用するように動作可能であり、この焙煎プロファイルは、時間に対する温度曲線として定義される。
チャンバがハウジングに取り付けられると、接続部において熱風流が漏れないようにチャンバの底部は、空気出口孔41に緊密に接続される。
チャンバの頂部開口部12は、煙及び微粒子排出デバイス(図示せず)に接続される。
本発明は、熱風の流動床を実施するロースターについて説明されているが、本発明は、この特定のタイプの焙煎装置に限定されない。ドラムロースター及び他の種類のロースターを使用することができる。
焙煎装置は、加熱デバイス2によって供給される空気の温度を調節する少なくとも1つの第1の温度プローブ5を備える。この第1の温度プローブは、加熱デバイス2によって供給される熱風をチャンバの上流であるチャンバの底部11に案内する、チャンバ1の外側の導管23内に配置される。
代替のあまり好ましくないモードでは、加熱デバイス2によって供給される空気の温度を調節する少なくとも1つの第1の温度プローブ51をチャンバの下流に配置することができる。このプローブは、焙煎操作中に煙によって汚れる可能性がある。
別の代替のあまり好ましくないモードでは、装置は、加熱デバイス2によって供給される空気の温度を調節するために、第1の温度プローブ5、51の両方を備えることができる。測定された温度の平均を使用して、加熱デバイス2を調節する。
焙煎装置10は、通常、情報の表示と入力を可能にするユーザインタフェース6を備える。
焙煎装置は、例えば、コーヒー豆のパッケージ上にある、コーヒー豆の種類に関連付けられたコードを読み取るコードリーダ7を備えることができる。好ましくは、このコードリーダは、操作者がコードリーダの正面にコードを容易に位置決めすることができるように、装置に配置される。コードリーダは、好ましくは、装置の前面、例えば、装置のユーザインタフェース6に近接して配置される。したがって、コードによって提供される情報は、そばに配置されたユーザインタフェース6の表示部を介して即座に表示することができる。
焙煎装置の制御システム
図1、図2A、及び図2Bを参照すると、制御システム80が論じられ、ここで、制御システム80は、コーヒー豆を焙煎するために装置の構成要素を制御するように動作可能である。制御システム80は、典型的には、焙煎装置の第2のレベルにおいて、ユーザインタフェース6、処理ユニット8、外部温度プローブ5、電源9、メモリユニット63、任意選択のデータベース62、センサ19、リモート接続用の通信インタフェース61、コードリーダ7、又はこれらのデバイスの任意の組み合わせを備える。
図1、図2A、及び図2Bを参照すると、制御システム80が論じられ、ここで、制御システム80は、コーヒー豆を焙煎するために装置の構成要素を制御するように動作可能である。制御システム80は、典型的には、焙煎装置の第2のレベルにおいて、ユーザインタフェース6、処理ユニット8、外部温度プローブ5、電源9、メモリユニット63、任意選択のデータベース62、センサ19、リモート接続用の通信インタフェース61、コードリーダ7、又はこれらのデバイスの任意の組み合わせを備える。
ユーザインタフェース6は、ユーザがユーザインタフェース信号によって処理ユニット8と接続できるようにするハードウェアを含む。より具体的には、ユーザインタフェースがユーザからコマンドを受信し、ユーザインタフェース信号が、当該コマンドを入力として処理ユニット8に転送する。コマンドは、例えば、焙煎プロセスを実行するための命令、焙煎装置10の動作パラメータを調節するための命令、及び/又は焙煎装置10の電源をオン若しくはオフにするための命令であってもよい。処理ユニット8はまた、焙煎プロセスの一部として、ユーザインタフェース6にフィードバックを出力してもよい。これは例えば、焙煎プロセスが開始されたこと、若しくはプロセスに関連付けられたパラメータが選択されたことを示すため、プロセス中にパラメータが展開したことを示すため、又はアラームを生成するためである。
さらに、ユーザインタフェースを使用して、焙煎装置の較正モードを開始することができる。
ユーザインタフェースのハードウェアは、任意の好適なデバイス(複数可)を含んでもよく、例えば、ハードウェアは、以下の、ジョイスティックボタン、ノブ若しくは押しボタンなどのボタン、ジョイスティック、LED、グラフィックLDC若しくは文字LDC、タッチ感知ボタン及び/若しくはスクリーンエッジボタンを有するグラフィックスクリーン、のうちの1つ以上を含む。ユーザインタフェース6は、1つのユニット又は複数の別個のユニットとして形成することができる。
ユーザインタフェースの一部はまた、以下に記載されるように、装置に通信インタフェース61が設けられている場合、モバイルアプリ上にあってもよい。その場合、入力及び出力の少なくとも一部は、通信インタフェース61を介してモバイルデバイスに送信することができる。
センサ19及び温度プローブ5は、焙煎プロセス及び/又は焙煎装置の状態を調節するために、処理ユニット8に入力信号を提供するように動作可能である。入力信号は、アナログ信号又はデジタル信号であってもよい。センサ19は、典型的には、少なくとも1つの温度センサ5と、任意選択で、以下の、チャンバ1に関連付けられたレベルセンサ、空気流量センサ、チャンバ及び/又はチャフコレクタに関連付けられた位置センサなどのセンサのうちの1つ以上と、を備える。
コードリーダ7が設けられ、これは、例えばコーヒー豆パッケージ上のコードを読み取り、チャンバ1に導入されたタイプCnコーヒー豆の識別子である入力を自動的に提供するように動作可能であり得る。
処理ユニット8は、一般的に、メモリと、通常はマイクロプロセッサ又はマイクロコントローラなどの集積回路として構成されている入出力システム構成要素と、を備える。処理ユニット8は、例えば、ASIC、PAL、CPLD、FPGA、などのプログラマブルロジックデバイス、PSoC、システムオンチップ(SoC)、コントローラなどのアナログ集積回路など、他の適切な集積回路を備えることができる。そのようなデバイスに関しては、適切な場合には、前述のプログラムコードは、プログラムされた論理とみなすことができ、又はプログラムされた論理を追加的に含むことができる。処理ユニット8はまた、前述の集積回路のうち1つ以上を備えてもよい。後者の例では、いくつかの集積回路がモジュール式に互いに通信するように構成されており、例えば、ユーザインタフェース6を制御するためのスレーブ集積回路が、焙煎装置10を制御するためのマスタ集積回路と通信する。
電源9は、制御される構成要素及び処理ユニット8に電気エネルギーを供給するように動作可能である。電源9は、バッテリー又は主電源を受電し調節するためのユニットなど、様々な手段を含むことができる。電源9は、焙煎装置10の電源をオン又はオフにするためにユーザインタフェース6の一部に動作可能に接続されてもよい。
処理ユニット8は一般に、プログラムコードとしての命令、及び任意選択でデータを記憶するためのメモリユニット63を備える。この目的のために、メモリユニットは、通常、例えば、命令としてのプログラムコード及び動作パラメータを記憶するためのEPROM、EEPROM、又はFlashなどの不揮発性メモリと、一時的にデータを記憶するための揮発性メモリ(RAM)とを備える。メモリユニットは、別個の及び/又は(例えば、半導体のダイ上に)集積されたメモリを備えることができる。プログラマブルロジックデバイスについては、命令をプログラムされた論理として記憶することができる。
メモリユニット63に記憶された命令は、コーヒー豆焙煎プログラムを含むものとして理想化することができる。
制御システム80は、外部温度プローブ5の信号を使用して加熱デバイス2を制御することによって、即ち、図1の特定の例示された実施形態では、空気流ドライバ21及び/又はヒータ22を制御することによって、このコーヒー豆焙煎プログラムを適用するように動作可能である。
コーヒー豆焙煎プログラムは、コード上に符号化された抽出情報、メモリユニット63上にデータとして記憶されていてもよい、若しくは通信インタフェース61を介したリモートソースからの他の情報、ユーザインタフェース6を介して提供された入力、及び/又はセンサ19の信号を使用して、構成要素の制御を行うことができる。
具体的には、制御システム80は、連続する別個の時点t1、t2、...、tfinalでそれぞれ適用される温度T@t1、T@t2、...、T@finalを提供する焙煎曲線Rを適用するように構成されている。
その目的で、処理ユニット8は、以下のように動作可能である。
外部温度プローブ5の入力Treg@tiを受信する、
焙煎曲線Rに従って入力を処理する、
焙煎曲線Rである出力を提供する。より具体的には、出力は、少なくともヒータ22及び空気流ドライバ21の動作を含む。
外部温度プローブ5の入力Treg@tiを受信する、
焙煎曲線Rに従って入力を処理する、
焙煎曲線Rである出力を提供する。より具体的には、出力は、少なくともヒータ22及び空気流ドライバ21の動作を含む。
例えば、図2Bに示されるように、この焙煎曲線を豆に適用するために、温度プローブ5によって測定された温度を使用して、ヒータ22の電力及び/又は空気駆動器21の電力がフィードバックループで適合される。
図示されるフィードバックループ調節では、外部温度プローブ5で測定された温度Treg@tiが、再現される焙煎曲線の温度T@tiと比較される。その差に応じて、加熱デバイス2は、差を補正するように操作される。
ロースターに適用される制御の種類に応じて、ヒータ22に、1つの予め定義された電力を供給することができ、これはヒータの温度が一定であることを意味し、その場合、空気ドライバ21の電力は、空気流の移動中にヒータを通る空気流の接触時間を変化させるために、プローブ5で調節された温度に基づいて制御することができる。
代替として、空気ドライバ21に、1つの予め定義された電力を供給することができ、これは空気の流量が一定であることを意味し、その場合、空気がヒータを通過する間に、より多くの又はより少ない空気を加熱するために、プローブ5で調節された温度に基づいてヒータ22の電力を制御することができる。
最後の代替形態では、ヒータ22及び空気ドライバ21の両方を、プローブ5による温度の調節に基づいて制御することができる。
制御システム80は、サーバシステム、モバイルデバイス、及び/又は物理的に分離された測定デバイス3などの別のデバイス及び/又はシステムと焙煎装置10とのデータ通信用の通信インタフェース61を備えることができる。通信インタフェース61は、焙煎プロセス情報、豆の種類、豆の量などのコーヒー豆焙煎プロセスに関する情報を提供及び/又は受信するために使用することができる。通信インタフェース61は、複数のデバイスとの同時データ通信又は様々な媒体を介する通信のために、第1及び第2の通信インタフェースを備えることができる。
通信インタフェース61は、ケーブルメディア若しくはワイヤレスメディア又はそれらの組み合わせのために構成することができ、これらは、例えば、RS-232、USB、I2C、IEEE802.3で定義されたイーサネット(登録商標)などの有線接続、無線LAN(例えば、IEEE802.11)若しくは近距離通信(NFC)のような無線接続、又はGPRS若しくはGSM(登録商標)のようなセルラシステムである。通信インタフェース61は、通信インタフェース信号によって処理ユニット8と接続する。一般的に、通信インタフェースは、通信ハードウェア(例えば、アンテナ)をマスタ処理ユニット8とインタフェースするように制御するための別個の処理ユニット(その例を上記に提示した)を備える。ただし、処理ユニット8と直接シリアル通信するための単純な有線接続のように、あまり複雑でない構成を使用することができる。
処理ユニット8は、異なる予め定義された焙煎レシピ(RMA、RMB、...)へのアクセスを可能にし、レシピは、特定のタイプのコーヒー豆又はコーヒーブレンド(CA、CB、...)、及び好ましくは特定の量(MA、MB、...)の上記コーヒー豆又はコーヒーブレンドの焙煎に適合されている。
これらのレシピは、処理ユニット8のメモリ13に記憶することができる。あるいは、これらのデータは遠隔サーバに記憶されてもよく、処理ユニット8は、通信インタフェース61を介して、直接的に又はリモートサーバと処理ユニットとの間の接続を確立するモバイルデバイスを介して間接的に、この遠隔サーバにアクセスすることができる。
制御システム80は、コーヒー豆に関する情報、特に、本明細書に記載されるような特定のコーヒー豆を焙煎するための動作条件を記憶するデータベース62を備えることができる。データベース62は、焙煎装置の制御システムのメモリ63にローカルで、又は通信インタフェース63を介してアクセス可能なサーバにリモートで記憶することができる。
1つの代替の実施形態では、制御システムに、コード読み取り動作中、焙煎レシピRMn(及び実施形態に応じて、それらに関連付けられた特定の量Mn)を提供することができ、これらの情報はコード内で符号化され、制御システムによって復号される。
特定のタイプのコーヒー豆又はコーヒーブレンド、及び当該豆の特定の重量に適合された予め定義された焙煎レシピ(RMA、RMB、...)は、マスタ焙煎装置(M)として定義される特定の焙煎装置内のこれらの特定の豆を焙煎する最初の動作中に定義される。通常、この動作は、自分の焙煎の専門知識に基づいて、特定の豆を最適に焙煎するために温度及び時間のパラメータを定義することができ、結果として、予め定義された対応する連続する時点t1、t2、...でそれぞれ適用される温度T@t1、T@t2、...を表す1セットの点(T@ti;ti)を提供する焙煎レシピを定義することができるコーヒー専門家によって実行される。
これらの焙煎レシピがマスタ焙煎装置で予め定義されると、それらの焙煎レシピは、マスタ焙煎装置と同様の焙煎装置で自動的に再現することができる。
論理的には、マスタ焙煎装置と同様の焙煎装置で、同じ豆から始めて、同じ焙煎レシピを適用すると、同じ焙煎コーヒー豆が得られるはずである。しかし、焙煎の再現は体系的に一貫していないことが観察されている。温度プローブ5は、正しい温度を測定するように完全に較正されているものの、同じ豆の焙煎における非一貫性が同様の焙煎装置間で観察された。
本発明の過程で、製造中に各装置間に小さな差異が現れていることが疑われた。これらの差異は、装置の異なる主要構成要素(ファン、ヒータ、温度センサ)の使用、さらには、供給源の変更又は各装置の組み立てのわずかな差異に関連する可能性があり、例えば、主要構成要素の相対位置の小さな差異により、様々な場所で非常に小さな空気漏れを生成する。
結果として、チャンバの内部に導入された空気流は、温度プローブ5によって測定された正確な温度を有するが、この熱風流は、チャンバ内で異なって受け入れられ、豆の焙煎に直接影響を及ぼしていた。
この問題を解決するために、本装置が特定のマスタ焙煎装置で定義された焙煎レシピを一貫して再現できるように、新たに製造された焙煎装置の較正を可能にする方法が開発されている。
この方法を、図3、図4、及び図5A~図5Cに示す。
図3は、較正動作中の図1の焙煎装置と同様の焙煎装置Xを示す。較正は、焙煎装置Xが、1つの特定の同様のマスタ焙煎装置Mで定義されるコーヒー豆焙煎レシピを再現することを可能にすることを目的としている。この較正動作中、二次温度プローブ5がチャンバ1の内部に一時的に導入される。
一時的にとは、この二次温度プローブ5は、コーヒー豆を焙煎する通常動作中ではなく、較正動作中にのみ、又は他の一時的動作(メンテナンスチェックのような)に導入されることを意味する。
二次温度プローブ5は、チャンバTcal内の温度の測定値が、図4に示されるような焙煎装置の制御システムへの入力として提供されるように、処理ユニット8に接続されている。
装置Xの較正プロセスが開始される前に、予備段階で、予め決定された較正曲線Rrefが、図5Aに示されるようなマスタ焙煎装置で確立される。
この段階中、予め設定された曲線Rsetを再現するように焙煎装置Mの加熱デバイス2が制御され、この予め設定された曲線は、予め定義された対応する連続する時点t1、t2、...、tfinalでそれぞれ適用される温度tset@t1、Tset@t2、...、Tset@tfinalを表す1セットの点(Tset@ti;ti)を提供する。この制御は、第1の温度プローブ5によって調節された温度Tregに基づく。
予め設定された曲線Rsetの再現中、チャンバ内の温度Trefが、第2の一時的温度プローブ3において時間の関数として測定される。この測定により、予め決定された較正曲線Rrefに対応する曲線Trefによって、図5Cに示される少なくとも1セットの点(Tref@ti;ti)の決定が可能になる。
同様に、図5Bに示される較正プロセス中、同じ予め設定された曲線Rsetを再現するように焙煎装置Xの加熱デバイス2が制御される。この制御は、第1の温度プローブ5によって調節された温度Tregに基づく。
予め設定された曲線Rsetの再現中、チャンバ1内の温度Tcalが、第2の一時的温度プローブ3において時間の関数として測定される。この測定により、曲線Tcalによって図5Cに示される少なくとも1セットの点(Tcal@ti;ti)の決定が可能になる。
焙煎装置Xの較正プロセスでは、温度Tcal@tiが、少なくとも1つの同じ時点tiで、マスタ焙煎装置Mで取得される温度Tref@tiと比較される。図5Cは、以下の、
予め設定された曲線Rset、
予め設定された曲線Rsetの再現中、予め決定された較正曲線Rrefを確立するマスタ焙煎装置のチャンバ内の温度Tref@ti、
同じ予め設定された曲線Rsetの再現中、焙煎装置Xのチャンバ内の温度Tcal@ti、
に対応する曲線又は点のセットを示す。
予め設定された曲線Rset、
予め設定された曲線Rsetの再現中、予め決定された較正曲線Rrefを確立するマスタ焙煎装置のチャンバ内の温度Tref@ti、
同じ予め設定された曲線Rsetの再現中、焙煎装置Xのチャンバ内の温度Tcal@ti、
に対応する曲線又は点のセットを示す。
図5Cは、同じ予め設定された曲線Rsetの再生が、装置毎にどのように異なるかを明らかにする。この差異は、製造プロセスにおける差異によって説明することができる。
焙煎装置Xの較正を完了させるため、TcalとTrefとの比較に基づいて、装置Xのフィードバックループ調節に補正が適用されて、それにより、装置Xの制御システムが予め設定された曲線Rsetを再現するとき、図5Dに概略的に示されるように、装置Xのチャンバ内で所望の温度Trefが取得される。
TcalとTrefとの関係に応じて、異なるタイプの補正を適用することができる。関係の複雑さは、別のタイプのヒータ、別の形状のチャンバ、ヒータを制御して、例えば、より精密な制御を提供するためにヒータを制御する別の制御ルール又はアルゴリズム(例えば、空気流ドライバ及びヒータに対して2段階の制御がある場合、より複雑になる)の使用などの焙煎装置とマスタ焙煎装置との間の構造の違いに左右され得る。
その関係は通常、回帰分析によって決定され、線形回帰、重回帰、非線形回帰、多項回帰などの周知の分析モデルを使用して回帰分析ソフトウェアによって実行される。
いったんTcalとTref間の関係が定義されると、フィードバックループ調節によって適用されるルール又はアルゴリズムに対して補正を適用することができる。このルールの複雑さに応じて、ルールの異なる工程で補正を適用することができる。最も単純な実施形態では、好ましくは、補正は、第1の温度プローブ5によって測定された温度Treg、又は再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに適用される。
図5A及び図5Bに示されるように、両方のロースターが非常に類似した構成要素を備えるロースターM及びXの場合、温度プローブ5によって測定された温度に基づいてのみヒータ22を動作させる単純なフィードバックループ制御で、時点tfinalにおいて比Kにより補正係数を定義することができる。
この比は、フィードバックループ調節においてTregと比較される前に、再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiの単純な乗算係数として使用することができる。
この比は、フィードバックループ調節においてTregと比較される前に、再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiの単純な乗算係数として使用することができる。
本発明の別の実施形態では、上記比の逆数、すなわち、
を、フィードバックループ調節においてT@tiと比較される前に、第1の温度プローブ5によって測定された温度Tregの乗算係数として使用することができる。
を、フィードバックループ調節においてT@tiと比較される前に、第1の温度プローブ5によって測定された温度Tregの乗算係数として使用することができる。
補正により、装置Xの制御システムが、マスタ装置で取得された温度Trefに近い温度でチャンバ内に熱風を供給することを可能にする。
したがって、較正プロセスに加えて、焙煎装置Xでの焙煎動作中に、マスタ焙煎装置Mで特定の豆に対して定義された予め定義されたコーヒー豆焙煎レシピRは、加熱デバイス5を制御するために第1のプローブ5で調節された温度の測定値、又は再現される焙煎曲線によって提供された温度T@tiに上記の比を適用する制御システムによって正確に再現することができる。
較正プロセスは、以下の
温度TrefとTcalと間の比較のタイプ、及び/又は
さらにより精密な補正でプロセスを反復する較正プロセスにおける反復の実行、及び/又は
プロセスで使用される予め設定された曲線Rsetのタイプ、及び/又は
較正プロセス中のチャンバ内のコーヒー豆の存在の有無、
に対して異なる代案で適用され得る。
温度TrefとTcalと間の比較のタイプ、及び/又は
さらにより精密な補正でプロセスを反復する較正プロセスにおける反復の実行、及び/又は
プロセスで使用される予め設定された曲線Rsetのタイプ、及び/又は
較正プロセス中のチャンバ内のコーヒー豆の存在の有無、
に対して異なる代案で適用され得る。
これらの代案は、較正にある程度の精度と、焙煎レシピのさらに一貫した再現とを提供することができる。
図6は、予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプ及び量のコーヒー豆について定義された焙煎レシピに対応する較正プロセスの一実施形態を示す。このプロセスでは、
第1の予備段階6aで、焙煎レシピに対応する予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプ及び量のコーヒー豆を焙煎するマスタ焙煎装置Mで作成される。この作成は通常、コーヒー専門家が、最終的に特定のタイプの抽出(エスプレッソ、フィルター、水出し、...)を考慮して、焙煎されるコーヒー豆に最適な味を提供する目的で行う作業である。
次の予備工程6bで、これらの特定のタイプ及び量のコーヒー豆は、第1の温度プローブ5での温度の測定値に基づいて上記曲線Rsetを再現するために加熱デバイスを制御することによって、再びマスタ焙煎装置M内で焙煎され、それと同時に、温度Trefが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される。
次いで、装置Xの較正プロセスが実行され、これらの特定のタイプ及び量のコーヒー豆は、第1の温度プローブ5を用いた温度の測定値に基づいて曲線Rsetを再現するために加熱デバイスを制御することによって較正されるように焙煎装置X内で焙煎され、それと同時に、温度Tcalが、第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される(図6の6c)。
第1の予備段階6aで、焙煎レシピに対応する予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプ及び量のコーヒー豆を焙煎するマスタ焙煎装置Mで作成される。この作成は通常、コーヒー専門家が、最終的に特定のタイプの抽出(エスプレッソ、フィルター、水出し、...)を考慮して、焙煎されるコーヒー豆に最適な味を提供する目的で行う作業である。
次の予備工程6bで、これらの特定のタイプ及び量のコーヒー豆は、第1の温度プローブ5での温度の測定値に基づいて上記曲線Rsetを再現するために加熱デバイスを制御することによって、再びマスタ焙煎装置M内で焙煎され、それと同時に、温度Trefが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される。
次いで、装置Xの較正プロセスが実行され、これらの特定のタイプ及び量のコーヒー豆は、第1の温度プローブ5を用いた温度の測定値に基づいて曲線Rsetを再現するために加熱デバイスを制御することによって較正されるように焙煎装置X内で焙煎され、それと同時に、温度Tcalが、第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される(図6の6c)。
さらなる工程で、第2の一時的プローブ3によってそれぞれのチャンバで測定された温度Tref@tiとTcal@tiとが比較される。好ましい一実施形態では、比較は、曲線RrefとRcalの最終時点tfinalにおける比Tref@ti/Tcal@tiを計算することと、補正係数としてこの比を再現される温度Tsetに適用すること、又は補正係数としてこの比の逆数を焙煎装置Xの温度プローブ5によって測定された温度Tregに適用すること(図6の6d)とを含む。
好ましくは、工程6cは、この決定されたばかりの補正係数を適用しながら再現され、フィードバックループ調節において、新しいより正確な補正係数を決定することができる。動作は再度繰り返すことができる。
この実施形態は、いくつかの欠点を有する可能性がある。
相当量のコーヒー豆の無駄な焙煎を必要とする。これは廃棄物となる。
操作者が豆を導入し、連続する反復を実行する時間を必要とする。具体的には、焙煎装置を冷却させ、常に同じ条件下で焙煎動作を繰り返すことができるように、2つの焙煎動作間で待機することが推奨される。
人的操作は、較正に直接影響を及ぼすエラー(例えば、豆の計量)を引き起こす可能性がある。
較正は、時間とともに変化し得る豆の特性に依存する。
新しい装置は、販売される前に洗浄を必要とする。
相当量のコーヒー豆の無駄な焙煎を必要とする。これは廃棄物となる。
操作者が豆を導入し、連続する反復を実行する時間を必要とする。具体的には、焙煎装置を冷却させ、常に同じ条件下で焙煎動作を繰り返すことができるように、2つの焙煎動作間で待機することが推奨される。
人的操作は、較正に直接影響を及ぼすエラー(例えば、豆の計量)を引き起こす可能性がある。
較正は、時間とともに変化し得る豆の特性に依存する。
新しい装置は、販売される前に洗浄を必要とする。
これらの欠点を解決するために、コーヒー豆は、ガラスビーズのような粒状の不活性物体に置き換えることができる。
図7は、較正プロセスが、コーヒー豆を使用する必要なしに実行される較正プロセスの実施形態を示す。
このプロセスでは、予め設定された曲線Rsetは、コーヒー豆の特定のタイプ又は重量に関係なく確立された曲線である。
前述の実施形態と同様に、
第1の予備段階7aで、予め設定された曲線Rsetが、第1の温度プローブ5を用いた温度の調節nに基づいてマスタ焙煎装置Mで再現され、それと同時に、温度Trefが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される。時間の関数としてTrefを表す較正曲線Rref又は1セットの点が確立される。
次に、焙煎装置Xの較正プロセスが実行される。
装置Xの加熱デバイスが、第1の温度プローブ5を用いた温度の調節に基づいて曲線Rsetを再現するために制御され、それと同時に、温度Tcalが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される(図7の7b)。曲線又は時間の関数としてTcalを表す1セットの点Rcalが確立される。
さらなる工程で、又は同時に、第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定されたこの温度Tcal@tiは、以前に決定されたTref@tiと比較され、較正補正Kが推定される(図7の7c)。
第1の予備段階7aで、予め設定された曲線Rsetが、第1の温度プローブ5を用いた温度の調節nに基づいてマスタ焙煎装置Mで再現され、それと同時に、温度Trefが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される。時間の関数としてTrefを表す較正曲線Rref又は1セットの点が確立される。
次に、焙煎装置Xの較正プロセスが実行される。
装置Xの加熱デバイスが、第1の温度プローブ5を用いた温度の調節に基づいて曲線Rsetを再現するために制御され、それと同時に、温度Tcalが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される(図7の7b)。曲線又は時間の関数としてTcalを表す1セットの点Rcalが確立される。
さらなる工程で、又は同時に、第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定されたこの温度Tcal@tiは、以前に決定されたTref@tiと比較され、較正補正Kが推定される(図7の7c)。
図8A~図8Dは、図7に示される実施形態で取得することができる曲線を示す。
図8Aは、焙煎レシピに対応するプロファイルを再現する必要がない予め設定された曲線Rsetの好ましいプロファイルを示す。好ましくは、この曲線は、1セットの(Tset@tset i;tset i)を提供し、連続的に以下の
第1の段階では、一定温度Tset-stabでの温度Tsetの平衡状態、次いで、
第2の段階では、温度TsetのTset-stabからより高い温度Tset-highへの上昇、次いで、
第3の段階では、当該温度Tset-highでの温度Tsetの平衡状態、
第4の段階では、加熱が停止される冷却
を含む。
第1の段階では、一定温度Tset-stabでの温度Tsetの平衡状態、次いで、
第2の段階では、温度TsetのTset-stabからより高い温度Tset-highへの上昇、次いで、
第3の段階では、当該温度Tset-highでの温度Tsetの平衡状態、
第4の段階では、加熱が停止される冷却
を含む。
結果として、この予め設定された曲線Rsetは、3つの点(Tset-stab;tstab)、(Tset-high;thigh)、及び(Tset-high、tend)で定義することができる。
前述のように、第1の段階では、一定温度Tset-stabは好ましくは、焙煎装置が使用される部屋の周囲温度が何度であれ、焙煎装置が急速に到達できる温度、例えば、約40℃の温度に定義される。この第1の段階の長さは、(先に使用されている場合)安定状態まで低温装置の加熱又は高温装置の冷却を可能にするのに十分でなければならない。この長さは、装置のタイプ毎に、特に加熱デバイスの、外部との熱交換の電力毎に変化し得る。
一般には、数分は十分であり得る。
第2及び第3の段階で、到達かつ維持されるべき温度Tset-highは、ここでも、焙煎装置に使用される電熱デバイスのタイプ、特に、加熱デバイスに提供される電力の調節タイプに依存し得る。送風機が同じ速度で保持され、電気抵抗のパワーを適合させることによってのみ調節が行われる電熱デバイスの場合、温度Tset-highは好ましくは、電気抵抗の安定した動作領域内に設定される。したがって、当該領域内の電気抵抗を維持することは、調節中に重要な偏差を生じさせない。
第3の段階における平衡状態の存在により、第2の段階の開始時の増加のように温度が急速に変化する領域とは異なり、この平衡状態に沿った温度の安定化と、Rcalとのより信頼性の高い比較が可能になる。
図1に例示されるような焙煎装置では、曲線Rsetは、以下のように定義することができる。
Tset-stab=40℃
7~10分の範囲内のtstab
100~200℃の範囲内のTset-high
4~6分の範囲内のtend。
Tset-stab=40℃
7~10分の範囲内のtstab
100~200℃の範囲内のTset-high
4~6分の範囲内のtend。
図8Bは、第1の予備段階の実行中に取得される(図7の工程7aに示される)曲線Rrefを示し、予め設定された曲線Rsetは、第1の温度プローブ5で測定された温度に基づいてマスタ焙煎装置Mに再現され、同時に温度Trefが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される。の関数としてTrefを表す1セットの点(Tref@ti;ti)を含む較正曲線Rrefは、白色ドットによって示されるように決定される。好ましくは、複数の点は、平衡状態を含む曲線Rsetの部分中にある予め定義された時点tref iで決定される。
図8Bに示されるように、少なくとも1つの予め定義された時点tref1が第1の段階で定義され、少なくとも2つの予め定義された時点tref2~tref7が第3の段階で定義される。
図8Cは、焙煎装置Xの較正プロセスの実行中に取得される曲線Rcalを示し、第1の温度プローブ5の温度の測定値に基づいて曲線Rsetを再現するために装置Xの加熱デバイスが制御され、それと同時に、温度Tcalが、チャンバ内に導入された第2の一時的プローブ3によってチャンバ内で測定される(図7の工程7bに示す)。時間に応じたTcalを表す1セットの点(Tcal@ti;ti)を含む曲線Rcalが、図示されるように確立され、Tcalが予め定義された時点tref iで測定されて、黒色ドットによって示される、時間の関数としてTcalを表す1セットの点(Tcal@tref i;tref i)を確立する。
図8Cの実施形態では、予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref iで、対応する温度Tref@tref iとTcal@tref iとを比較することができ、焙煎装置の制御システム内で補正を直ちに適用することができる。
1つの好ましい実施形態では、図8Dの曲線に示されるように、装置Xによる予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref i(図8Cで決定される)で、対応する比Tref@tref i/Tcal@tref iが計算され、焙煎装置Xによって再現されるように補正係数が温度Tset@t1に直ちに適用され、比Kiに対応する当該補正係数は、以下のように定義される。
図8Dは、異なる予め定義された時点tref iでのこの比Kiの進展を示す。各比の計算後、制御システムにおいて補正を即時適用することにより、1回の較正動作でこの比の収束値を決定することができる。
図8Dは、異なる予め定義された時点tref iでのこの比Kiの進展を示す。各比の計算後、制御システムにおいて補正を即時適用することにより、1回の較正動作でこの比の収束値を決定することができる。
tcal7で取得された最終収束値K7を使用して、マスタ焙煎装置Mで確立され、焙煎装置Xによって再現される焙煎曲線の温度T@tiに乗算係数を適用することによって、焙煎装置を較正する。
計算された比Kの一定値への収束の進展に応じて、較正プロセスを早期に停止することができる。
図9Aは、図7(工程7b、7c)及び図8A~図8Dの較正プロセス中の温度調節の閉フィードバックループを示す。
予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref i(i=1~n)で、温度Tcal@tref iが、第2の温度プローブ3を用いてチャンバ内で測定され、制御ユニット8に入力される。その温度は、対応する予め決定された温度Tref@tref iと比較され、ここで、比較は、以下のように比Kiを計算することからなる。
次いで、この比Kiを直ちに使用して、温度調節のフィードバックループにおいて温度Tsetを補正する。それに応じて、図示される例では、入力値Tset@tiが、フィードバックループにおいてTreg@tiと比較されるとき、Ki×Tset@tiとして入力される。
次いで、この比Kiを直ちに使用して、温度調節のフィードバックループにおいて温度Tsetを補正する。それに応じて、図示される例では、入力値Tset@tiが、フィードバックループにおいてTreg@tiと比較されるとき、Ki×Tset@tiとして入力される。
図9Bは、図9Aで実行されるものと代替の較正方法を示す。図9Bは、図7(工程7b、7c)及び図8A~図8Dの較正プロセス中の温度調節の閉フィードバックループを示す。
予め設定された曲線Rsetの再現中、予め定義された時点tref i(i=1~n)で、温度Tcal@tref iが、第2の温度プローブ3でチャンバ内で測定され、制御ユニット8に入力される。その温度は、対応する予め決定された温度Tref@tref iと比較され、ここで、比較は、以下のように比Kiを計算することからなる。
次いで、この比Kiを直ちに使用して、温度調節のフィードバックループにおいて温度Tregを補正する。それに応じて、図示される例では、入力値Treg@tiが、フィードバックループにおいてTset@tiと比較されるとき、
として入力される。
次いで、この比Kiを直ちに使用して、温度調節のフィードバックループにおいて温度Tregを補正する。それに応じて、図示される例では、入力値Treg@tiが、フィードバックループにおいてTset@tiと比較されるとき、
として入力される。
図7(工程7b、7c)、8A~8D、並びに9A及び9Bに示されるプロセスでは、較正される装置Xが、較正方法が既に実行されている一連の同様に製造された装置の一部である場合、予め設定された係数K0を、その一連に対して予め決定することができる。したがって、装置Xの較正プロセスを短縮するために、この係数K0を以下のように、図8Dに示される補正係数の計算に使用することができる。
図10A及び10Bは2つの異なる状況を示す。
図10A及び10Bは2つの異なる状況を示す。
図10Aは、連続的な計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが、時間とともに互いに近づいていく状況を示す。1つのtref iで、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが以前に計算された比Tref@tref i-1/Tcal@tref i-1と2%未満異なる場合、図8Cに示されるように、予め設定された曲線Rsetの再現を停止することができる。最後の計算された比Kiは、装置Xの補正係数として使用することができる。図示された曲線では、比tref@tref5/Tcal@tref5は、Tref@tref4/Tcal@tref4に非常に近く、これは、較正プロセスの工程c)をtcal5で停止することができることを意味する。
図10Bは、連続的な計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが収束していない状況を示す。連続的なtref iで、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが20%を超えて増加すると、較正プロセスが停止されるように設定することができる。図示された曲線では、比Tref@tref i/Tcal@tref iは、t6後に収束せず、これは、係数Kを定義することができないことを意味する。較正プロセスは失敗であり、停止する必要がある。そのような状況は、方法が正しく動作していないこと、又は装置が故障している、又は正常に動作せず較正することができない初期状態を有することを明らかにするものである。
較正プロセスを再開するように提案することができる。較正プロセスが再び失敗した場合、メンテナンスが必要となる。
操作者は、自動的に装置のディスプレイを介してこれらの様々な工程を実行するように案内することができる。
あるいは、比が予め決定された上限及び下限値に達したとき、例えば、0.5未満である又は2を超える場合、連続的な計算された比は収束しないと推定することができる。そのような比が観察された場合、プロセスは停止される。
好ましくは、較正プロセスが豆を含んでいない装置で実行される実施形態では、コーヒー豆の存在をシミュレートするように構成された手段が、装置Xのチャンバ内に導入される、又は較正プロセス中に装置X内に配置された一時的較正チャンバ内に存在する。
その場合、マスタ装置で決定される基準曲線Rrefは、焙煎装置Xの較正プロセスに使用される条件と同じ条件で確立され、マスタ装置は、豆をシミュレートするのと同じ手段を有する、又は同じ較正ジャグを使用する。
あるいは、較正プロセスが豆を含んでいない装置で実行され、焙煎装置Xの制御システムが、チャンバに供給される空気流を制御するように加熱デバイスを制御するよう構成される実施形態では、較正プロセスの工程b)で、加熱デバイスは、好ましくは、チャンバ内にコーヒー豆が存在する際に生成される空気流の値を再現するように制御される。
その場合、マスタ装置で決定される基準曲線Rsetは、マスタ装置が同じ熱風流を有する同じ条件で確立される。
較正プロセスの上記の実施形態では、第2の温度プローブ3で測定された温度Tcal@tiの値を、当該第2の温度プローブに固有の調整された値Tcal@ti-adjustedに調整することができる。
図6の予備工程6b及び較正工程6cに示されるように、マスタ焙煎装置で取得された予め決定された基準曲線Rrefを決定し、続いてすべての焙煎装置を較正するために単独の第2の一時的プローブ3が存在する場合、この温度調節は不要である。
しかし、複数の異なる第2の一時的プローブ3又は一時的較正チャンバが存在する場合(大量の焙煎装置が市販されるときには必要となる)、これらのプローブ又はチャンバの測定値が、元の第2の一時的プローブ3又は別の既に較正された第2の一時的プローブ3の測定値と比較される。この比較に基づいて、新しい第2の一時的プローブ3を、上記のような焙煎装置の較正プロセスに使用することができる。
好ましくは、
工程c)で、新しい第2の温度プローブで測定された温度Tcal@tiの値を、調整された値Tcal@ti-adjustedに調整することができる、
及び
工程d)では、この調整された値Tcal@ti-adjustedを温度Tref@tiと比較することができる。
工程c)で、新しい第2の温度プローブで測定された温度Tcal@tiの値を、調整された値Tcal@ti-adjustedに調整することができる、
及び
工程d)では、この調整された値Tcal@ti-adjustedを温度Tref@tiと比較することができる。
新しい第2の一時的プローブの測定値を元の第2の一時的プローブ3又は別の既に較正された第2の一時的プローブ3の測定値と比較する動作のために、例えば、図8Aに示されるような温度対時間の基準曲線が再現される。次いで、この比較に基づいて、新しい第2の一時的プローブの温度の測定値の調節を定義することができる。
2つのプローブの温度間の関係に応じて、異なるタイプの調節を適用することができる。この関係の複雑さは、新しいタイプのプローブの使用、別の形状のチャンバ、一時的チャンバ内のプローブの新しい位置などの、2つのプローブ間の構造の差異に依存し得る。
その関係は、回帰分析によって決定され、線形回帰、重回帰、非線形回帰、多項回帰などの周知の分析モデルを使用して回帰分析ソフトウェアによって実行され得る。
1つの好ましいプロセスでは、
Tcal@ti-adjusted=K2probe.(Tcal@ti)2+K1probe.Tcal@ti+Tprove
予め設定された温度オフセットTprobe、並びに予め設定された温度比K1probe及びK2probeは、回帰分析ソフトウェアによって定義される。
Tcal@ti-adjusted=K2probe.(Tcal@ti)2+K1probe.Tcal@ti+Tprove
予め設定された温度オフセットTprobe、並びに予め設定された温度比K1probe及びK2probeは、回帰分析ソフトウェアによって定義される。
本発明の較正プロセスは、図1の装置の特徴を有する焙煎装置のモデルに対して実行された。
一連の焙煎装置が、焙煎レシピが確立されたマスタ焙煎装置のコピーとして製造された。マスタ焙煎装置と同様の一連の焙煎装置に較正プロセスを適用しない場合、同じ焙煎レシピに従う同じ豆の焙煎が、装置毎に異なる色の焙煎豆を生成することが観察され、これは、一貫した焙煎を欠いている証拠である。これらの異なる装置のチャンバ内の温度の測定値は、200℃の温度が要求されたとき、マスタ装置と約10%の差、すなわち、20~25℃の差を示した。
一連の焙煎装置の各装置内で較正方法を実行することによって、この差は約1℃に低減され、同じ色の豆が得られることが確認された。
本発明の較正プロセスは、以下の利点を有する。
任意の同様の新しく製造された焙煎装置で、マスタ焙煎装置で専門家によって定義されるコーヒー豆レシピの一貫した再現を可能にする、
自動的な実行を可能にする、
いくつかの実施形態では、コーヒー及びオペレータの時間を無駄にすることを回避し、いかなる洗浄動作も必要としない、
任意の同様の新しく製造された焙煎装置で、マスタ焙煎装置で専門家によって定義されるコーヒー豆レシピの一貫した再現を可能にする、
自動的な実行を可能にする、
いくつかの実施形態では、コーヒー及びオペレータの時間を無駄にすることを回避し、いかなる洗浄動作も必要としない、
本発明は、上記で例示された実施形態を参照して説明されているが、特許請求される本発明は、決してこれらの例示された実施形態によって限定されるものではないことが理解されるであろう。
「特許請求の範囲」で定義されるような本発明の範囲を逸脱することなく、変形及び修正が実施可能である。更に、既知の均等物が特定の特徴に対して存在する場合、かかる均等物は、本明細書で具体的に言及されているかのように組み込まれる。
本明細書で使用するとき、用語「備える」、「備えている」、及び同様の語は、排他的又は網羅的な意味で解釈されるべきではない。換言すれば、これらは、「~を含むが、それらに限定されない」ことを意味するものとする。
10 焙煎装置
1 チャンバ
11 底部開口部
12 頂部開口部
2 加熱デバイス
21 空気流ドライバ
22 ヒータ
23 通路
3 第2の温度プローブ
4 ハウジング
41 空気出口孔
42 空気入口
43 垂直ハウジング部
5、51 第1の温度プローブ
6 ユーザインタフェース
7 コードリーダ
8 処理ユニット
80 制御システム
9 電源
19 センサ
61 通信インタフェース
62 データベース
63 メモリユニット
1 チャンバ
11 底部開口部
12 頂部開口部
2 加熱デバイス
21 空気流ドライバ
22 ヒータ
23 通路
3 第2の温度プローブ
4 ハウジング
41 空気出口孔
42 空気入口
43 垂直ハウジング部
5、51 第1の温度プローブ
6 ユーザインタフェース
7 コードリーダ
8 処理ユニット
80 制御システム
9 電源
19 センサ
61 通信インタフェース
62 データベース
63 メモリユニット
Claims (19)
- 1つの特定のマスタ焙煎装置(M)で定義されたコーヒー豆焙煎レシピを再現するためのコーヒー豆焙煎装置(X)の較正プロセスであって、
前記コーヒー豆焙煎装置(X)が、
コーヒー豆を収容するためのチャンバ(1)と、
前記チャンバに熱風を供給するように構成された加熱デバイス(2)と、
前記加熱デバイスによって供給される空気の温度を測定するための少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)であって、前記チャンバの外に配置されている、少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)と、
前記加熱デバイス(2)を制御するように構成され、かつ焙煎曲線を再現するように構成された制御システム(80)であって、前記焙煎曲線が、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供し、前記加熱デバイス(2)の前記制御が、前記少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)によって測定された温度Tregに基づいてフィードバックループ調節を実行する、制御システムと、
を備え、
前記較正プロセスが、
a-較正される前記焙煎装置の前記チャンバ内に少なくとも1つの第2の一時的温度プローブを導入する、又は前記チャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた一時的較正チャンバと置き換える工程と、
b-予め設定された曲線Rsetを再現するように前記加熱デバイスを制御する工程であって、前記予め設定された曲線が、予め設定された対応する連続する時点t1、t2、...、tfinalでそれぞれ適用される温度Tset@t1、Tset@t2、...、Tset@tfinalを表す一連の点(Tset@ti;ti)を提供し、前記制御が、前記少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)によって測定された前記温度Tregに基づく、工程と、
c-前記予め設定された曲線Rsetの前記再現中、前記少なくとも1つの第2の温度プローブで前記チャンバ内の温度Tcalを時間の関数として測定して、少なくとも1セットの点(Tcal@ti;ti)の決定を可能にする工程と、
d-少なくとも1つの時点tiで測定された前記温度Tcal@tiと、前記マスタ焙煎装置(M)で取得された予め決定された基準曲線Rrefの同じ時点tiにおける温度Tref@tiとを比較する工程であって、前記基準曲線Rrefが、前記予め設定された曲線Rsetを再現するように前記マスタ装置の前記加熱デバイスを制御している間に、前記特定のマスタ装置(M)の前記チャンバ内で測定された前記温度Trefを表す、工程と、
e-前記比較に基づいて、前記フィードバックループ調節に補正を適用することによって、好ましくは、前記第1の温度プローブ(5)によって測定された前記温度Tregに補正を適用することによって、又は前記焙煎装置(X)によって再現される前記焙煎曲線によって提供された前記温度T@tiに補正を適用することによって、前記焙煎装置(X)を較正する工程と、
を含む、較正プロセス。 - 工程d)は、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、前記予め設定された曲線Rsetの前記再現中、予め定義された時点tref iで、対応する温度Tref@tref iとTcal@tref iとが比較され、補正が前記フィードバックループ調節に直ちに適用され、好ましくは、補正が前記第1の温度プローブ(5)によって調節された前記温度Tregに適用され、又は補正が前記予め設定された曲線Rsetによって提供された前記温度Tset@tiに適用され、
工程e)では、工程c)における最後の補正に基づいて、前記フィードバックループ調節に前記最後の補正を適用することによって、好ましくは、前記1の温度プローブ(5)によって測定された前記温度Tregに前記最後の補正を適用することによって、又は前記焙煎装置(X)によって再現される前記焙煎曲線によって提供された前記温度T@tiに前記最後の補正を適用することによって、前記焙煎装置(X)が較正される、
請求項1に記載の較正プロセス。 - 工程c)と工程d)との間で、
工程c)で前記少なくとも1つの第2の温度プローブで測定された前記温度Tcal@tiの値を、調整された値Tcal@ti-adjustedに調整し、前記調整された値は、較正される前記焙煎装置の前記チャンバの内部に導入される前記第2の温度プローブ、又は較正される前記焙煎装置の前記チャンバと置き換わる前記一時的較正チャンバに依存し、
工程d)では、前記調整された値Tcal@ti-adjustedが、前記温度Tref@tiと比較される、
請求項1又は2に記載の較正プロセス。 - Tcal@ti-adjusted=K2probe.(Tcal@ti)2+K1probe.Tcal@ti+Tprobe
であり、式中、
Tprobeは、予め設定された温度オフセットに対応し、前記予め設定された温度オフセットは、較正される前記焙煎装置の前記チャンバの内部に導入される前記少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される前記焙煎装置の前記チャンバと置き換わる前記一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで0に等しく、
K1probeは、予め設定された温度比に対応し、前記予め設定された温度比は、較正される前記焙煎装置の前記チャンバの内部に導入された前記少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される前記焙煎装置の前記チャンバと置き換わる前記一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで1に等しく、
K2probeは、予め設定された温度比に対応し、前記予め設定された温度比は、較正される前記焙煎装置の前記チャンバの内部に導入される前記少なくとも1つの第2の一時的温度プローブについて、若しくは較正される前記焙煎装置の前記チャンバと置き換わる前記一時的較正チャンバについて、特別に予め決定される、又はデフォルトで0に等しい、
請求項3に記載の較正プロセス。 - 工程c)では、前記予め設定された曲線Rsetの前記再現中、Tprobeの値、K1probeの値、及び/又はK2probeの値は、時間及び/又は温度とともに変化する、請求項4に記載の較正プロセス。
- 工程d)が、工程c)と同時に行われ、
工程c)では、前記予め設定された曲線Rsetの前記再現中、予め定義された時点tref iで、対応する比Tref@tref i/Tcal@tref iが計算され、補正が、
再現される前記焙煎曲線によって提供された前記温度Tsetであって、前記補正が以下のように定義される乗算係数Kiであり、
式中、
K0は予め設定される、若しくはデフォルトで1に等しい、前記温度Tset、
又は
前記第1の温度プローブ(5)によって測定された前記温度Tregであって、前記補正が乗算係数
である、前記温度Treg、
の何れかに直ちに適用され、
工程e)では、工程c)で最後に定義された比Kiに基づいて、
前記焙煎装置(X)によって再現される前記焙煎曲線によって提供された前記温度T@tiに補正係数Kiを、又は
前記第1の温度プローブ(5)によって測定された前記温度Tregに前記係数
を
適用することによって、前記焙煎装置(X)が較正される、
請求項1~5のいずれか一項に記載の較正プロセス。 - K0が、
一連の同様に製造された装置について特別に予め決定された予め設定された係数、
特定の周囲条件について予め決定された予め設定された係数、又は
2つの前記予め設定された乗算係数の組み合わせ、
に対応する、
請求項6に記載の較正プロセス。 - 工程c)では、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが、ある一定値に収束する場合、工程c)が停止され、最後に計算された補正係数Kiが、工程d)で最後に定義された比として使用される、請求項6又は7に記載の較正プロセス。
- 工程c)では、連続するtref iについて、対応する計算された比Tref@tref i/Tcal@tref iが、ある一定値に収束しない場合、前記較正プロセスが停止される、請求項6又は7に記載の較正プロセス。
- 前記予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプのコーヒー豆及び特定量の前記コーヒー豆の焙煎のために前記マスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり、
工程b)の前に、前記特定のタイプ及び前記特定の量のコーヒー豆が、前記焙煎装置(X)の前記チャンバ内又は前記一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、前記焙煎装置(X)の前記チャンバが前記コーヒー豆を収容している間に、前記予め設定された曲線Rsetを再現するように前記加熱デバイスが制御される、
請求項1~9のいずれか一項に記載の較正プロセス。 - 前記予め設定された曲線Rsetが、特定のタイプのコーヒー豆及び特定量の前記コーヒー豆のコーヒー豆焙煎のために前記マスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり、
工程b)の前に、前記特定のタイプ及び前記特定の量のコーヒー豆が、前記焙煎装置(X)の前記チャンバ内又は前記一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、前記焙煎装置(X)の前記チャンバが前記コーヒー豆を収容している間に、前記予め設定された曲線Rsetを再現するように前記加熱デバイスが制御され、
工程d)では、前記温度Tcal@tiが、前記温度Tref@tiと比較され、比Kfinal=Tref@tfinal/Tcal@tfinalが、前記曲線Rref及びRcalの最終時点tfinalで計算され、
工程e)では、前記計算された比に対応する補正係数が、
再現される前記焙煎曲線によって提供された前記温度Tsetであって、前記補正が乗算係数Kfinalである、前記温度Tset、
又は
前記第1の温度プローブによって測定された前記温度Tregであって、前記補正が乗算係数
である、前記温度Treg、
のいずれかに適用され、
任意選択的に、前記工程a)~e)が、少なくとも1回再現される、
請求項1に記載の較正プロセス。 - 前記予め設定された曲線Rsetが、粒状不活性物体の焙煎のために前記マスタ焙煎装置(M)で確立された曲線であり、前記粒状不活性物体が、コーヒー豆をシミュレートするように設計されており、
工程b)の前に、前記粒状不活性物体が、前記焙煎装置(X)の前記チャンバ内又は前記一時的較正チャンバ内に導入され、
工程b)では、前記焙煎装置の前記チャンバが前記粒状不活性物体を収容している間に、前記予め設定された曲線Rsetを再現するように前記加熱デバイスが制御される、
請求項1~9のいずれか一項に記載の較正プロセス。 - 前記予め設定された曲線Rsetが、豆を含んでいない前記マスタ焙煎装置(X)の前記チャンバで確立された曲線であり、
工程b)では、前記焙煎装置の前記チャンバが豆を含んでいない間に、前記予め設定された曲線Rsetを再現するように前記加熱デバイスが制御される、
請求項1~9のいずれか一項に記載の較正プロセス。 - 1セットの点(Tset@tseti;tseti)を提供する前記予め設定された曲線Rsetが、
第1の段階では、一定温度Tset-stab、好ましくは約40℃での前記温度Tsetの平衡状態、次いで、
第2の段階では、温度TsetのTset-stabからより高い温度Tset-highへの上昇、次いで、
第3の段階では、前記温度Tset-highでの前記温度Tsetの平衡状態、
任意選択で、Tset-highよりも高い温度での前記第2及び第3の段階の再現、
を連続して含む、
請求項13に記載の較正プロセス。 - 前記予め設定された曲線Rsetが再現される工程c)の後で、前記焙煎装置が約40℃の温度まで冷却される、
請求項1~14のいずれか一項に記載の較正プロセス。 - 前記コーヒー豆焙煎装置(X)が、
コーヒー豆を収容するためのチャンバ(1)と、
前記チャンバに熱風を供給するように構成された加熱デバイス(2)と、
前記加熱デバイスによって供給される空気の温度を測定するための少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)であって、前記チャンバの外に配置されている、少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)と、
前記加熱デバイス(2)を制御するように構成され、かつ焙煎曲線を再現するように構成された制御システム(80)であって、前記焙煎曲線が、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供し、前記加熱デバイス(2)の前記制御が、前記少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)によって測定された温度Tregに基づいてフィードバックループ調節を実行する、制御システムと、
を備え、
前記較正プロセスが、
a-較正される前記焙煎装置の前記チャンバ内に少なくとも1つの第2の一時的温度プローブを導入する、又は前記チャンバを少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた一時的較正チャンバと置き換える工程と、
b-予め設定された曲線Rsetを再現するように前記加熱デバイスを制御する工程であって、前記予め設定された曲線が、予め設定された対応する連続する時点t1、t2、...、tfinalでそれぞれ適用される温度Tset@t1、Tset@t2、...、Tset@tfinalを表す一連の点(Tset@ti;ti)を提供し、前記制御が、前記少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)によって測定された前記温度Tregに基づく、工程と、
c-前記予め設定された曲線Rsetの前記再現中、前記少なくとも1つの第2の温度プローブで前記チャンバの内部の温度Tcalを時間の関数として測定して、少なくとも1セットの点(Tcal@ti;ti)の決定を可能にする工程と、
d-少なくとも1つの時点tiで測定された前記温度Tcal@tiと、前記マスタ焙煎装置(M)で取得された予め決定された基準曲線Rrefの同じ時点tiにおける温度Tref@tiとを比較する工程であって、前記基準曲線Rrefが、前記予め設定された曲線Rsetを再現するように前記マスタ装置の前記加熱デバイスを制御している間に、前記特定のマスタ装置(M)の前記チャンバで測定された前記温度Trefを表す、工程と、
e-前記比較に基づいて、前記フィードバックループ調節に補正を適用することによって、好ましくは、前記第1の温度プローブ(5)によって測定された前記温度Tregに補正を適用することによって、又は前記焙煎装置(X)によって再現される前記焙煎曲線によって提供された前記温度T@tiに補正を適用することによって、前記焙煎装置(X)を較正する工程と、
を含む、
請求項1~15のいずれか一項に記載の較正プロセス。 - コーヒー豆焙煎装置であって、
コーヒー豆を収容するためのチャンバ(1)と、
前記チャンバに供給される空気を加熱するための加熱デバイス(2)と、
前記加熱デバイスによって供給される温度を調節するための少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)であって、前記チャンバの外に配置されている、少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)と、
前記加熱デバイスを制御するように構成され、かつ焙煎曲線を再現するように構成された制御システム(80)であって、前記焙煎曲線が、連続する別個の時点tiでそれぞれ適用される温度を表す少なくとも1セットの点(T@ti;ti)を提供し、前記加熱デバイスの前記制御が、前記少なくとも1つの第1の温度プローブ(5)によって測定された温度Tregに基づいてフィードバックループ調節を実行する、制御システムと、
を備え、
前記装置が、前記焙煎装置の前記チャンバ内に少なくとも1つの第2の温度プローブを一時的に導入する手段を備えており、又は少なくとも1つの第2の温度プローブを備えた較正チャンバとの前記チャンバの一時的交換を可能にするように構成されており、
前記制御システムが、前記第2の温度プローブによって測定された温度の入力を受信するように構成されており、
前記制御システムが、請求項1~16のいずれか一項に記載の較正プロセスを実行するように動作可能である、
コーヒー豆焙煎装置。 - コンピュータ、プロセッサ、又は制御ユニットによって実行されると、前記コンピュータ、前記プロセッサ、又は前記制御ユニットに、コーヒー豆焙煎装置において請求項1~16のいずれか一項に記載の較正プロセスを実行させる命令を含む、コンピュータプログラム。
- コンピュータ、プロセッサ、又は制御ユニットによって実行されると、前記コンピュータ、前記プロセッサ、又は前記制御ユニットに請求項1~16のいずれか一項に記載の較正プロセスを実行させる命令を含む、コンピュータ可読記憶媒体。
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