JP2023503475A - （メタ）アクリレートモノマーから作製される組成物 - Google Patents

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Abstract

本発明は、－ 以下を含む組成物Ａ： － 少なくとも１つの還元剤； － 少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー；－ 以下を含む組成物Ｂ： － 少なくとも１つの酸化剤；及び － 任意選択の少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマーを含む二成分組成物であって、－ 組成物Ａ及び／又はＢ中に少なくとも１つのラジカル光開始剤を含み；－ 組成物の総重量に対して０．３重量％以下の量の少なくとも１つの重合阻害剤を含むことを特徴とする、二成分組成物に関する。【選択図】なし

Description

本発明は、（メタ）アクリレートモノマーをベースとする組成物に関する。
本発明はまた、輸送、海上、アセンブリ、電子機器又は建設分野における材料の、修理及び／又は半構造若しくは構造接着結合における前記組成物の使用にも関する。
アクリル組成物は、ラジカル重合によって架橋すると知られている反応系である。これは、接着剤、シーラント及びコーティングとして使用される。ラジカル重合は、典型的には、結果としてラジカルを生成する酸化還元反応によるレドックス系によって開始される。
ほとんどのアクリル系は、二成分系である。第１の成分は、通常、還元剤及び反応性モノマーを含有し、第２の成分は酸化剤を含有する。２つの成分を混合させたら、還元剤は、例えば、有機過酸化物のＯ－Ｏ結合の切断を誘発し、重合が開始される。
しかしながら、この技術の問題の１つとして、酸素による阻害がある。これは、空気中に存在する三重項状態の酸素が、試料の表面に形成されるラジカルと相互作用し、それによって重合の開始を防止することに起因する。曝露されている坪量に応じて酸素の浸透がほとんどない又は全くないため、この阻害は本質的には表面で現れる。加えて、重合反応は、大気中の酸素に曝露された表面では遅いことが多く、該表面は部分的に重合され、粘着性のままであることが多い。
上述の欠点のうち少なくとも１つを少なくとも部分的に解決することを可能にする新規の（メタ）アクリル系組成物が必要とされている。
より具体的には、迅速な深部重合を可能にする新規の（メタ）アクリル系組成物が必要とされている。
反応性と貯蔵安定性の良好なバランスを可能にする新規の（メタ）アクリル系組成物が必要とされている。
組成物Ｎｏ．１（曲線ｂ）及び比較組成物Ｎｏ．２（曲線ａ）で得られるＴ（℃）＝ｆ（秒で表す時間）を表す図である。 組成物Ｎｏ．４（曲線１）及びＮｏ．５（曲線２、比較）についての破壊強度（ＭＰａ）＝ｆ（時間（ｍｉｎ））を表すグラフである。
Ａ．組成物
本発明は：
－ 以下を含む組成物Ａ：
－ 少なくとも１つの還元剤；
－ 少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー；
－ 以下を含む組成物Ｂ：
－ 少なくとも１つの酸化剤；及び
－ 任意選択の少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー
を含む二成分組成物であって、
－ 組成物Ａ及び／又はＢ中に少なくとも１つのラジカル光開始剤を含み；
－ 少なくとも１つの重合阻害剤を、前記組成物の総重量に対して０．３重量％以下の含有量で含む
ことを特徴とする、二成分組成物に関する。
還元剤
還元剤は、第３級アミン、メタ重亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、遷移金属、アゾ化合物、α－アミノスルホン、及びこれらの混合物から選択されてもよい。
アゾ化合物の中では、例えば、アゾイソ酪酸を挙げることができる。
α－スルホンの中でも、例えば、ビス（トリルスルホニルメチル）ベンジルアミンを挙げることができる。
第３級アミンの中では、例えば、ジイソプロパノール－ｐ－トリイジン（ＤＩＩＰＴ）；ジメチル－ｐ－トルイジン；ジプロポキシ－ｐ－トルイジン；ジメチルアニリン；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノメチルフェノール；Ｎ，Ｎ－ジイソプロパノール－ｐ－クロロアニリン；Ｎ，Ｎ－ジイソプロパノール－ｐ－ブロモアニリン；Ｎ，Ｎ－ジイソプロパノール－ｐ－ブロモ－ｍ－メチルアニリン；Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－クロロアニリン；Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－ブロモアニリン；Ｎ，Ｎ－ジエチル－ｐ－クロロアニリン；及びＮ，Ｎ－ジエチル－ｐ－ブロモアニリン；並びにこれらの混合物を挙げることができ、アミンは、以下の式（Ｉ）又は（ＩＩ）を有する：
Figure 2023503475000001
［式中：
－ ｍ及びｎは、互いに独立して、１～１５０、好ましくは１～１００、優先的には１～７２、有利には１～３６、さらにより有利には１～１８の範囲の整数であり；
－ ｒは、１～２００、好ましくは１～１０４、優先的には１～７２、有利には１～３６の範囲の整数であり；
－ Ｒ１は、１～２０個の炭素原子、好ましくは１～１０個の炭素原子を含む線状又は分岐状の飽和又は不飽和アルキル；６～１２個の炭素原子を含む（ヘテロ）アリール；３～１２個の炭素原子を含むシクロアルキルからなる群から選択される基を表し；
－ ｖは、０～５の範囲の整数を表し；
－ Ｒ２及びＲ３は、互いに独立して、ハロゲン原子、水素原子、又は１～１２個の炭素原子を含みかつ少なくとも１個の酸素原子によって中断されていてもよい直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
－ Ｒ４は、水素原子、アリールアルキル基、又は１～２０個の炭素原子を含む直鎖若しくは分岐アルキル基、好ましくは１～１２個の炭素原子、有利には１～６個の炭素原子を含むアルキル基を表し；
－ 但し、ｍ＋ｎ＞２、好ましくはｎ＋ｍ≧２．５を条件とする。］。
上式（Ｉ）中、ｖは、好ましくは１であり、Ｒ１は、好ましくはパラ位にある。
式（Ｉ）のアミンは、好ましくは：
－ Ｒ１が、１～２０個の炭素原子、好ましくは１～１０個の炭素原子を含む線状又は分岐状の飽和又は不飽和アルキルを表し；優先的には、Ｒ１がメチルを表し；
－ ｍ及びｎが、互いに独立して、１～１８、好ましくは１～９、有利には１～５の範囲の整数を表し；
－ Ｒ２及びＲ３が、互いに独立して、水素原子、又は１～１２個の炭素原子を含みかつ少なくとも１個の酸素原子によって中断されていてもよい直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；好ましくは、Ｒ２及びＲ３がそれぞれ水素原子を表し；
－ 但し、ｍ＋ｎ＞２、好ましくはｎ＋ｍ≧２．５である
ものから選択される。
好ましくは、式（Ｉ）のアミンは：
－ Ｒ１が、１～５個の炭素原子を含む直鎖又は分岐アルキルを表し；優先的には、Ｒ１がメチルを表し；
－ ｍ及びｎが、互いに独立して、１～１８、好ましくは１～９、有利には１～５の範囲の整数を表し；
－ Ｒ２及びＲ３が水素原子を表し；
－ 但し、ｍ＋ｎ＞２、好ましくはｎ＋ｍ≧２．５である
ものである。
式（Ｉ）のアミンの中では、例えば、Ｇｅｏ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓより販売されているＢｉｓｏｍｅｒ（登録商標）ＰＴＥ（ＣＡＳ番号：８７８３９１－３０－１）、Ｌａｎｘｅｓｓより販売されているＡｃｃｅｌｅｒａｔｏｒ ＰＴ２５Ｅ（ＣＡＳ番号：８７８３９１－３０－１）、Ｂｉｏｓｙｎｔｈから入手可能なＮ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシプロピル）－ｐ－アニリン（ＣＡＳ番号：３０７７－１３－２）、ＢＡＳＦより販売されているＮ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシプロピル）－ｐ－トルイジン（ＣＡＳ番号：３８６６８－４８－３）、Ｅｔｈｏｘ Ｃｈｅｍｉｃａｌから入手可能なＥｔｈｏｘ ＡＮＡ－１０（ＣＡＳ番号：３６３５６－８３－９）を挙げることができる。
上式（ＩＩ）中、ｖは好ましくは１であり、Ｒ１は好ましくはパラ位にある。
式（ＩＩ）のアミンは、好ましくは：
－ Ｒ１は、１～２０個の炭素原子、好ましくは１～１０個の炭素原子を含む直鎖若しくは分岐の飽和若しくは不飽和アルキルを表し；優先的には、Ｒ１はメチルを表し；
－ ｒは、１～３６、好ましくは１～１８、有利には１～１０の範囲の整数を表し；
－ Ｒ３は、ハロゲン原子、水素原子、又は１～１２個の炭素原子を含みかつ少なくとも１個の酸素原子によって中断されていてもよい直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
－ Ｒ４は、水素原子、アリールアルキル基、又は１～２０個の炭素原子、好ましくは１～６個の炭素原子を含む直鎖若しくは分岐アルキル基を表す
ものから選択される。
式（ＩＩ）のアミンの中では、例えば、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから入手可能なＮ－（２－ヒドロキシエチル）－Ｎ－メチルアニリン（ＣＡＳ番号：９３－９０－３）及びＰａｒｃｈｅｍから入手可能なＮ－（２－ヒドロキシエチル）－Ｎ－メチル－ｐ－トルイジン（ＭＨＰＴ、ＣＡＳ番号：２８４２－４４－６）を挙げることができる。
好ましくは、組成物Ａは、還元剤として少なくとも１つの第３級アミン、さらにより優先的には上式（Ｉ）のアミンを含む。
組成物Ａは、前記組成物Ａの総重量に対して０．５重量％～５重量％、好ましくは１重量％～３重量％の範囲の総含有量の還元剤を含んでもよい。
酸化剤
酸化剤は、過酸化物、遷移金属の有機塩、不安定塩素を含有する化合物、及びこれらの混合物から選択されてもよい。
過酸化物は、有機過酸化物、無機過酸化物及びこれらの混合物から選択されてもよい。
無機過酸化物の中では、ペルオキソ二硫酸及びその塩（ペルオキソ二硫酸アンモニウム、ペルオキソ二硫酸ナトリウム及びペルオキソ二硫酸カリウムなど）を挙げることができる。
有機過酸化物の中では、クメンヒドロペルオキシド、パラ－メンタンヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシイソブチレート、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ－アミルペルオキシピバレート、過酸化アセチル、過酸化ベンゾイル、過酸化ジベンゾイル、１，３－ビス（ｔ－ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、過酸化ジアセチル、過酸化ｔ－ブチルクミル、ペルオキシ酢酸ｔｅｒｔ－ブチル、過酸化クミル、２，５－ジメチル－２，５－ジ－ｔ－ブチルペルオキシヘキサン、２，５－ジメチル－２，５－ジ－ｔ－ブチルペルオキシヘキシ－３－イン、４－メチル－２，２－ジ－ｔ－ブチルペルオキシペンタン及びこれらの混合物を挙げることができる。
好ましくは、組成物Ｂは、酸化剤として過酸化ベンゾイルを含む。
組成物Ｂは、前記組成物Ｂの総重量に対して０．５重量％～５重量％、好ましくは１重量％～３重量％の範囲の総含有量の酸化剤を含んでもよい。
本発明による組成物は、典型的には、レドックス系を含んでもよく、その還元剤は組成物Ａ中に含まれ、その酸化剤は組成物Ｂ中に含まれる。例えば、以下の組み合わせ：
－ 過硫酸塩（酸化剤）／（メタ重亜硫酸ナトリウム及び／又は重亜硫酸ナトリウム）（還元剤）；
－ 有機過酸化物（酸化剤）／第３級アミン（還元剤）；
－ 有機ヒドロペルオキシド（酸化剤）／遷移金属（還元剤）
を挙げることができる。
ラジカル光開始剤
本発明による組成物は、電磁放射線下で重合又は架橋することができる。
本発明による組成物は、組成物の総重量に対して０．１重量％～５重量％、好ましくは０．５重量％～３重量％、さらにより優先的には１重量％～２重量％のラジカル光開始剤を含んでもよい。
ラジカル光開始剤は、好ましくは、組成物Ａ中に存在する。
ラジカル光開始剤は、当業者に既知の任意のラジカル光開始剤であってもよい。紫外線／可視線の作用下、ラジカル光開始剤は、光重合反応の開始に関与するラジカルを発生し、特に光重合反応の効率を上げることを可能にする。これは、当然ながら、選択した放射線を効率的に吸収する能力にしたがって、使用する光源の機能として選択される。例えば、紫外／可視吸収スペクトルから適当なラジカル光開始剤を選択することが可能である。有利には、ラジカル光開始剤は、可視領域の近距離領域内で発光する照射源と共に作用するのに適当である。有利には、紫外線又は可視線源はＬＥＤであってもよい。
好ましくは、前記少なくとも１つのラジカル光開始剤は：
－ 以下から選択されるタイプＩのラジカル光開始剤：
－ アセトフェノン及びアルコキシアセトフェノンのファミリー、例えば、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン及び２－ジエチル－２－フェニルアセトフェノンなど；
－ ヒドロキシアセトフェノンのファミリー、例えば、２，２－ジメチル－２－ヒドロキシアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－４’－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－メチルプロピオフェノン及び２－ヒドロキシ－４’－（２－ヒドロキシプロポキシ）－２－メチルプロピオフェノンなど；
－ アルキルアミノアセトフェノンのファミリー、例えば、２－メチル－４’－（メチルチオ）－２－モルホリノプロピオフェノン、２－ベンジル－２－（ジメチルアミノ）－４－モルホリノブチロフェノン及び２－（４－メチルベンジル）－２－（ジメチルアミノ）－４－モルホリノブチロフェノンなど；
－ ベンゾインエーテルのファミリー、例えば、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルなど；
－ ホスフィンオキシドのファミリー、例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）など；
－ メタロセンのファミリー、例えば、フェロセン、ビス（エータ５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）フェニル）チタン及び（クメン）（シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェートなど；
－ 以下から選択されるタイプＩＩのラジカル光開始剤：
－ ベンゾフェノンのファミリー、例えば、４－フェニルベンゾフェノン、４－（４’－メチルフェニルチオ）ベンゾフェノン又は１－［４－［（４－ベンゾイルフェニル）チオ］フェニル］－２－メチル－２－［（４－メチルフェニル）スルホニル］－１－プロパノンなど；
－ チオキサントンのファミリー、例えば、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン及び１－クロロ－４－イソプロピルチオキサントンなど；
－ キノンのファミリー、例えば、２－エチルアントラキノン及びカンフルキノンを含めたアントラキノンなど；
－ ベンゾイルギ酸エステルのファミリー、例えば、ベンゾイルギ酸メチルなど；
－ ジベンジリデンケトンのファミリー、例えば、ｐ－ジメチルアミノケトンなど；
－ クマリンのファミリー、例えば、５－メトキシ及び７－メトキシクマリン、７－ジエチルアミノクマリン並びにＮ－フェニルグリシンクマリンなど；
－ 染料のファミリーのラジカル光開始剤、例えば、トリアジン、フルオロン、シアニン、サフラニン、４，５，６，７－テトラクロロ－３’，６’－ジヒドロキシ－２’，４’，５’，７’－テトラヨード－３Ｈ－スピロ［イソベンゾフラン－１，９’－キサンテン］－３－オン、ピリリウム及びチオピリリウム、チアジン、フラビン、ピロニン、オキサジン又はローダミンなど；
－ 並びにこれらの混合物
からなる群から選択される。
より好ましくは、前記少なくとも１つのラジカル光開始剤は：
－ 以下から選択されるタイプＩのラジカル光開始剤：
－ アセトフェノン及びアルコキシアセトフェノンのファミリー、例えば、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン及び２－ジエチル－２－フェニルアセトフェノンなど；
－ ヒドロキシアセトフェノンのファミリー、例えば、２，２－ジメチル－２－ヒドロキシアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－４’－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－メチルプロピオフェノン及び２－ヒドロキシ－４’－（２－ヒドロキシプロポキシ）－２－メチルプロピオフェノンなど；
－ アルキルアミノアセトフェノンのファミリー、例えば、２－メチル－４’－（メチルチオ）－２－モルホリノプロピオフェノン、２－ベンジル－２－（ジメチルアミノ）－４－モルホリノブチロフェノン及び２－（４－メチルベンジル）－２－（ジメチルアミノ）－４－モルホリノブチロフェノンなど；
－ ベンゾインエーテルのファミリー、例えば、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルなど；
－ ホスフィンオキシドのファミリー、例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）など；
－ メタロセンのファミリー、例えば、フェロセン、ビス（エータ５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）フェニル）チタン及び（クメン）（シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェートなど；
－ 以下から選択されるタイプＩＩのラジカル光開始剤：
－ ベンゾフェノンのファミリー、例えば、４－フェニルベンゾフェノン、４－（４’－メチルフェニルチオ）ベンゾフェノン又は１－［４－［（４－ベンゾイルフェニル）チオ］フェニル］－２－メチル－２－［（４－メチルフェニル）スルホニル］－１－プロパノンなど；
－ チオキサントンのファミリー、例えば、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン及び１－クロロ－４－イソプロピルチオキサントンなど；
－ ベンゾイルギ酸エステルのファミリー、例えば、ベンゾイルギ酸メチルなど；
－ ジベンジリデンケトンのファミリー、例えば、ｐ－ジメチルアミノケトンなど；
－ クマリンのファミリー、例えば、５－メトキシ及び７－メトキシクマリン、７－ジエチルアミノクマリン並びにＮ－フェニルグリシンクマリンなど；
－ 染料のファミリーのラジカル光開始剤、例えば、トリアジン、フルオロン、シアニン、サフラニン、４，５，６，７－テトラクロロ－３’，６’－ジヒドロキシ－２’，４’，５’，７’－テトラヨード－３Ｈ－スピロ［イソベンゾフラン－１，９’－キサンテン］－３－オン、ピリリウム及びチオピリリウム、チアジン、フラビン、ピロニン、オキサジン又はローダミンなど；
－ 並びにこれらの混合物
からなる群から選択される。
より好ましくは、ラジカル光開始剤は、以下のラジカル光開始剤：
－ ホスフィンオキシドのファミリー、例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）など；
－ チオキサントンのファミリー、例えば、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン及び１－クロロ－４－イソプロピルチオキサントンなど
から選択され、ラジカル光開始剤は、さらにより優先的には、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）から選択される。
例えば、紫外線又は可視線源がＬＥＤの場合、ラジカル光開始剤は、例えばＬａｍｂｓｏｎから同業者信用照会先Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ（ＣＡＳ：７５９８０－６０－８）で入手可能な２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィン又はＴＰＯ、例えばＬａｍｂｓｏｎから同業者信用照会先Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ－Ｌ（ＣＡＳ：８４４３４－１１－７）で入手可能なエチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィネート又はＴＰＯ－Ｌ、例えばＢＡＳＦから同業者信用照会先Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）８１９で入手可能なフェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド又はＢＡＰＯ（ＣＡＳ：１６２８８１－２６－７）、例えばＢＡＳＦから同業者信用照会先Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９で入手可能な２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－１－ブタノン（ＣＡＳ：１１９３１３－１２－１）、例えばＢＡＳＦから同業者信用照会先Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７で入手可能な２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－（４－モルホリニル）－１－プロパノン（ＣＡＳ：７１８６８－１０－５）、例えばＢＡＳＦから同業者信用照会先Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４で入手可能な１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＣＡＳ：９４７－１９－３）、例えば同業者信用照会先Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ（登録商標）２－ＩＴＸで入手可能な２－イソプロピルチオサキサントン又はＩＴＸ（ＣＡＳ：５４９５－８４－１）、又はこれらの混合物から選択することができる。
重合阻害剤
本発明による組成物は、少なくとも１つの重合阻害剤を含む。したがって、組成物中の重合阻害剤の含有量は、厳密に０ｐｐｍ（重量による百万分率）超である。
重合阻害剤の総含有量は、好ましくは、前記組成物の総重量に対して０．２５重量％以下、優先的には０．２０重量％以下、有利には０．１０重量％以下である。
好ましくは、組成物は、前記組成物の総重量に対して０．０１重量％～０．２０重量％の重合阻害剤を含む。
重合阻害剤は、当業者に既知の任意のタイプの重合阻害剤であってもよい。
重合阻害剤は、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル（４－ヒドロキシアニソール、ＭＥＨＱ）、１，４－ベンゾキノン、１，４－ナフトキノン（napthoquinone）、カテコール、ピロガロール、ビスフェノールＡ、パラ－（ｔｅｒｔ－ブチル）フェノール、フェノチアジン、及びこれらの混合物から選択することができる。
より好ましくは、重合阻害剤は、ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）である。
（メタ）アクリレートモノマー
組成物Ａ中及び組成物Ｂ中の（メタ）アクリレートモノマーは、同一であっても異なっていてもよい。
（メタ）アクリレートモノマーは、１つの（単官能性）又は複数の（多官能性）（メタ）アクリレート官能基を含むことができる。
（メタ）アクリレートモノマーは：
－ 以下の式（ＩＩＩ）を有する化合物：
Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）－ＣＯＯＲ６ （ＩＩＩ）
［式中：
－ Ｒ５は、水素原子又はメチル基を表し；
－ Ｒ６は、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキルアリール、アリールアルキル又はアリールからなる群から選択され、前記アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキルアリール、アリールアルキル又はアリールは、少なくとも１つのシラン、１つのシリコーン、１つの酸素、１つのハロゲン、１つのカルボニル、１つのヒドロキシル、１つのエステル、１つの尿素、１つのウレタン、１つのカーボネート、１つのアミン、１つのアミド、１つの硫黄、１つのスルホネート、又は１つのスルホンで置換されていても、かつ／又は中断されていてもよい］；
－ ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
－ テトラヒドロフラン（メタ）アクリレート；
－ ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；
－ ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；
－ トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；
－ ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
－ トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
－ テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
－ ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート；
－ ジ（ペンタメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート；
－ ジグリセリルテトラ（メタ）アクリレート；
－ テトラメチレンジ（メタ）アクリレート；
－ エチレンジ（メタ）アクリレート；
－ ビスフェノールＡモノ及びジ（メタ）アクリレート；
－ ビスフェノールＦモノ及びジ（メタ）アクリレート；
－ 以下の式（ＩＶ）又は（Ｖ）の化合物：
Figure 2023503475000002
［式中：
－ Ｒ７は、Ｈ又はメチルを表し；
－ Ｒ８は、Ｈ又はエチルを表し；
－ ｐは０又は１を表し；
－ Ｚは、Ｈ、＝Ｏ、直鎖若しくは分岐アルキル基、ベンジル基、アリール基又はアルコキシ基を表す］；
－ これらの混合物
からなる群から選択することができる。
一実施形態によれば、（メタ）アクリレートモノマーは、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、２－ｔｅｒｔ－ブチルヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、３－イソプロピルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、５－メチルウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２－メチルドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、５－メチルトリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、２－メチルヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、５－イソプロピルヘプタデシル（メタ）アクリレート、４－ｔｅｒｔ－ブチルオクタデシル（メタ）アクリレート、５－エチルオクタデシル（メタ）アクリレート、３－イソプロピルオクタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、エイコシル（メタ）アクリレート、３－ビニルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、２，４，５－トリ－ｔ－ブチル－３－ビニルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２，３，４，５－テトラ－ｔ－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２－（２－エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、上述の式（ＩＶ）又は（Ｖ）のモノマー、及びこれらの混合物から選択される。
好ましくは、（メタ）アクリレートモノマーは、式（ＩＶ）又は（Ｖ）のモノマー、及びこれらの混合物から選択される。
さらにより好ましくは、（メタ）アクリレートモノマーは、以下のモノマー及びこれらの混合物から選択される：
Figure 2023503475000003
組成物Ａは、組成物Ａの総重量に対して３０重量％以上、好ましくは４０重量％以上、さらにより優先的には６０重量％以上の総含有量の（メタ）アクリレートモノマーを含むことができる。
組成物Ｂが（メタ）アクリレートモノマーを含む場合、その含有量は、組成物Ｂの総重量に対して４０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、有利には６０重量％以上であってもよい。
一実施形態によれば、組成物Ｂは、少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマーを含む。
添加剤
本発明による二成分組成物は、触媒、充填剤、抗酸化剤、光安定剤／ＵＶ吸収剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、造膜防止剤、発泡剤、殺生物剤、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、染料、顔料、レオロジー剤、衝撃改質剤、接着促進剤、光学的光沢剤、難燃剤、防露剤、核形成剤、溶媒及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの添加剤を含んでもよい。
これらの添加剤は、本発明による組成物の組成物Ａ及び／又は組成物Ｂ中に存在しうる。
使用されうる可塑剤の例としては、接着剤の分野において通常使用される任意の可塑剤、例えば、エポキシ樹脂、フタレート、ベンゾエート、トリメチロールプロパンエステル、トリメチロールエタンエステル、トリメチロールメタンエステル、グリセロールエステル、ペンタエリスリトールエステル、ナフテン系鉱油、アジペート、シクロヘキシルジカルボキシレート、パラフィン系油、天然油（エポキシド化されていてもよい）、ポリプロピレン、ポリブチレン、水素化ポリイソプレン、及びこれらの混合物を挙げることができる。
好ましくは：
－ 例えば、ＢＡＳＦより名称Ｐａｌａｔｉｎｏｌ（商標）ＤＩＤＰで販売されている、フタル酸ジイソデシル、
－ 例えば、Ｌａｎｘｅｓｓより名称Ｍｅｓａｍｏｌｌ（登録商標）で販売されている、アルキルスルホン酸とフェノールとのエステル、
－ 例えば、ＢＡＳＦより名称Ｈｅｘａｍｏｌｌ Ｄｉｎｃｈ（登録商標）で販売されている、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジイソノニル、
－ 例えば、Ｐｅｒｓｔｏｒｐより名称Ｐｅｖａｌｅｎ（商標）で販売されている、テトラ吉草酸ペンタエリスリトール、
－ 例えば、Ａｒｋｅｍａより名称Ｖｉｋｏｆｌｅｘ（登録商標）７１７０で販売されている、エポキシド化大豆油
が使用される。
使用されうる（チキソトロープ）レオロジー剤の例として、接着剤組成物の分野において慣習的に使用される任意のレオロジー剤を挙げることができる。
好ましくは、チキソトロープ剤は：
－ ｉｎ ｓｉｔｕで６０℃～８０℃の範囲の温度まで加熱することによって得られる、ＰＶＣと混和性の可塑剤中のＰＶＣの懸濁液に対応する、ＰＶＣプラスチゾル（これらのプラスチゾルは、特に、刊行物Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ Ｓｅａｌａｎｔｓ，Ｒｏｂｅｒｔ Ｍ．Ｅｖａｎｓ，ＩＳＢＮ ０８７７６２－９９８－６に記載されているものであってもよい）、
－ ヒュームドシリカ、例えば、Ｗａｃｋｅｒより名称ＨＤＫ（登録商標）Ｎ２０で販売されているものなど；
－ ４，４’－ＭＤＩなどの芳香族ジイソシアネートモノマーと、ブチルアミンなどの脂肪族アミンとの反応から得られる尿素誘導体。そのような尿素誘導体の調製は、特に出願ＦＲ１５９１１７２に記載されている；
－ Ａｒｋｅｍａより販売されているＣｒａｙｖａｌｌａｃ（登録商標）ＳＬＴ又はＣｒａｙｖａｌｌａｃ（登録商標）ＳＬＡなどの微粉化アミドワックス
から選択される。
本発明による組成物は、少なくとも１つの有機及び／又は無機充填剤も含みうる。
使用されうる無機充填剤は、有利には、架橋状態の本発明による組成物の機械的性能を改善するように選択される。
使用されうる無機充填剤の例として、接着剤組成物の分野において通常使用される任意の無機充填剤を使用することができる。これらの充填剤は、典型的には、多様な形状の粒子の形態である。これらは、例えば、球状若しくは繊維質であってもよく、又は不規則な形状を有していてもよい。
好ましくは、充填剤は、粘土、石英、炭酸塩充填剤、カオリン、石膏、クレイ及びこれらの混合物からなる群から選択され、優先的には、充填剤は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属炭酸塩などの炭酸塩充填剤から選択され、より優先的には炭酸カルシウム又は白亜である。
これらの充填剤は、未処理でもよいが、例えば、ステアリン酸などの有機酸、又は主にステアリン酸からなる有機酸の混合物を使用して処理されていてもよい。
また、中空ガラス微小球体などの中空鉱物微小球体、より具体的にはホウケイ酸カルシウムナトリウム又はアルミノケイ酸塩で作製されたものも使用してよい。
本発明による組成物は、好ましくはアミノシラン、エポキシシラン若しくはアクリロイルシランなどのシランから選択される少なくとも１つの接着促進剤、又は例えば２－ヒドロキシエチルメタクリレートリン酸エステル、リン酸２－メタクリロイルオキシエチル、ビス（２－メタクリロイルオキシエチルホスフェート）、リン酸２－アクリロイルオキシエチル、ビス（２－アクリロイルオキシエチルホスフェート）、メチル－（２－メタクリロイルオキシエチルホスフェート）、エチル－（２－メタクリロイルオキシエチルホスフェート）、２－ヒドロキシエチルメタクリレートモノ及びジリン酸エステルの混合物などのリン酸エステルをベースとする接着促進剤も含んでもよい。
溶媒、特に揮発性溶媒が組成物中に存在するとき、その含有量は、組成物の総重量に対して、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下である。
好ましくは、組成物中の含有量は、０重量％～５重量％の間である。
顔料が組成物中に存在するとき、その含有量は、組成物の総重量に対して、好ましくは３重量％以下、より好ましくは２重量％以下である。存在する場合、顔料は、例えば、組成物の総重量の０．１重量％～３重量％又は０．４重量％～２重量％を占めうる。
顔料は、有機又は無機顔料でありうる。
例えば、顔料は、ＴｉＯ２、トクニＫｒｏｎｏｓより販売されているＫｒｏｎｏｓ（登録商標）２０５９である。
組成物は、０．１重量％～３重量％、好ましくは１重量％～３重量％の量の少なくとも１つのＵＶ安定剤又は抗酸化剤を含みうる。これらの化合物は、典型的には、熱又は光の作用によって形成される傾向にある酸素との反応によってもたらされる分解から組成物を保護するために導入される。これらの化合物は、フリーラジカルを捕捉する一次抗酸化剤を含みうる。一次抗酸化剤は、単独で使用しても、他の二次抗酸化剤又はＵＶ安定剤と組み合わせて使用してもよい。
例えば、ＢＡＳＦより販売されているＩｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）Ｂ５６１、Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）２４５、Ｉｒｇａｆｏｓ（登録商標）１６８、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２８又はＴｉｎｕｖｉｎ（商標）７７０を挙げることができる。
組成物は、少なくとも１つのアクリル系ブロックコポリマーを含んでもよい。アクリル系ブロックコポリマーは、典型的には、衝撃改質剤である。
アクリル系ブロックコポリマーは：
－ １重量％～９９重量％の、ガラス転移温度が常温より少なくとも２０℃高い、少なくとも１つの剛性ブロック（Ａ）、
－ １重量％～９９重量％の、ガラス転移温度が常温より少なくとも１０℃低い、少なくとも１つの軟質ブロック（Ｂ）
を含むコポリマーであってもよい。
好ましくは、コポリマーは、剛性ブロック／弾性ブロック／剛性ブロックを含むトリブロックであって：
－ コポリマーの少なくとも１つの剛性ブロック（Ａ）が、有利には、式ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）－ＣＯＯＲｉ［式中、Ｒｉは、直鎖若しくは分岐Ｃ１～Ｃ３アルキル基、分岐Ｃ４基、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ２０アリール基、Ｃ１～Ｃ４アルキル基を含有するＣ７～Ｃ３０アリールアルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルキル基を含有する複素環式基又はヘテロシクリルアルキル基である］の少なくとも１つのメタクリレートに由来するモノマー単位からなり；
－ 弾性ブロック（Ｂ）が、有利には：
（ｉ）式ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯＲｊ［式中、Ｒｊは直鎖又は分岐Ｃ１～Ｃ１２アルキル基である］の少なくとも１つのアルキルアクリレートに由来するモノマー単位、及び／又は
（ｉｉ）式ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）－ＣＯＯＲｋ［式中、Ｒｋは直鎖Ｃ４～Ｃ１２アルキル基又は分岐Ｃ５～Ｃ１２アルキル基である］の少なくとも１つのメタクリレートに由来するモノマー単位
を含有する、トリブロックである。
剛性ブロック（Ａ）は、好ましくは、メチル（メタ）アクリレートモノマー由来のモノマー単位を含む。
剛性ブロック（Ａ）は、その直鎖又は分岐アルキル基が１～１０個の炭素原子を含む、少なくとも１つのジアルキルアクリルアミドモノマー、例えばＮ，Ｎ－ジメチルアクリルアミドも含んでもよい。
弾性ブロック（Ｂ）は、好ましくは、ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、及びこれらの混合物から選択される少なくとも１つのモノマーに由来するモノマー単位を含む。
優先的には、コポリマーは、ポリメチルメタクリレート／ポリ（ｎ－ブチルアクリレート）／ポリメチルメタクリレートブロックコポリマーである。
アクリル系ブロックコポリマーの中でも、例えば、Ａｒｋｅｍａより販売されているＮａｎｏｓｔｒｅｎｇｔｈ（登録商標）（５２重量％のポリ（ｎ－ブチルアクリレート）を含むＭ５２、又は約７５重量％のポリ（ｎ－ブチルアクリレート）を含むＭ７５、又は約６５重量％のポリ（ｎ－ブチルアクリレート）を含むＭ６５）を挙げることができる。
組成物は、２０００ｇ／ｍｏｌ以上、優先的には４０００ｇ／ｍｏｌ以上の数平均分子量を有する少なくとも１つのウレタン－アクリレートを含んでもよい。
ウレタン－アクリレートは、ポリオールとポリイソシアネートとの間の反応後、例えばヒドロキシメチルメタクリレートによる官能化によって得ることができる。
多数のウレタン－アクリレートが市販されている。
組成物Ｂは、少なくとも１つのエポキシ樹脂を含んでもよい。
エポキシ樹脂は、脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族でありうる。
エポキシ樹脂は、単量体であっても多量体であってもよい。
エポキシ樹脂は、好ましくは１モルの樹脂当たり２～６個のグリシジルエーテルを含むポリフェノール化合物のポリグリシジルエーテルから選択することができる。
フェノール化合物は、少なくとも２つの芳香族ヒドロキシル基を有する化合物である。
フェノール化合物は、レソルシノール、カテコール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ（２，２－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡＰ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルエタン）、ビスフェノールＡＦ（２，２－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン）、ビスフェノールＢ（（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）、ビスフェノールＢＰ（ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン）、ビスフェノールＣ（２，２－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＣＩＩ（ビス（４－ヒドロキシフェニル）－２，２－ジクロロエチレン）、ビスフェノールＥ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン）、ビスフェノールＦ（ビス（４－ヒドロキシフェニル）－２，２－ジクロロエチレン）、ビスフェノールＦＬ（４，４’－（９Ｈ－フルオレン－９－イリデン）ビスフェノール、ビスフェノールＧ（２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－イソプロピルフェニル）プロパン）、ビスフェノールＭ（１，３－ビス（２－（４－ヒドロキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン）、ビスフェノールＰ（１，４－ビス（２－４－ヒドロキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン）、ビスフェノールＰＨ（５，５’－（１－メチルエチリデン）－ビス［１，１’－（ビスフェニル）－２オール］プロパン）、ビスフェノールＳ（ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン）、ビスフェノールＴＭＣ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン）；ビスフェノールＺ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン）、ビスフェノールＫ、テトラエチルビスフェノール、及びこれらの混合物からなる群から選択することができる。
エポキシ樹脂は、樹脂１グラム当たり０．３～１０．８ｍｅｑの範囲のエポキシ官能基含有量を有してもよい。
多数のエポキシ樹脂は、典型的には、市販されている。例えば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌより販売されているＤ．Ｅ．Ｒ．（商標）３３１及びＤ．Ｅ．Ｒ．（商標）３８３樹脂、Ｈｅｘｉｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓより販売されているＥｐｏｎ８６２樹脂、ＳＩＲ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌより販売されているビスフェノールＡをベースとするＥｐｏｓｉｒ（登録商標）樹脂（例えば、Ｅｐｏｓｉｒ（登録商標）７１２０）、及びビスフェノールＡ／ビスフェノールＦをベースとするＥｐｏｓｉｒ（登録商標）樹脂（例えば、Ｅｐｏｓｉｒ（登録商標）Ｆ５５６）を挙げることができる。
好ましい一実施形態によれば、組成物Ｂはエポキシ樹脂を含まない。
一実施形態によれば、本発明の組成物中の組成物Ａ／組成物Ｂの体積比は、２０／１～１／１、優先的には１０／１～１／１の範囲である。本発明は、好ましくは：
－ 以下を含む組成物Ａ：
－ 少なくとも１つの還元剤；
－ 少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー；
－ 以下を含む組成物Ｂ：
－ 少なくとも１つの酸化剤；及び
－ 任意選択の少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー
を含む二成分組成物であって、
－ 組成物Ａ及び／又はＢ中に少なくとも１つのラジカル光開始剤を含み；
－ 少なくとも１つの重合阻害剤を、前記組成物の総重量に対して０．３重量％以下の含有量で含む
ことを特徴とし、
ラジカル光開始剤が、以下のラジカル光開始剤：
－ ホスフィンオキシドのファミリー、例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）など；
－ チオキサントンのファミリー、例えば、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン及び１－クロロ－４－イソプロピルチオキサントンなど
から選択され、ラジカル光開始剤が、さらにより優先的には、ジフェニル－（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル－（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス－（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）
から選択され；
（メタ）アクリレートモノマーが、以下の式（ＩＶ）又は（Ｖ）の化合物：
Figure 2023503475000004
［式中：
－ Ｒ７は、Ｈ又はメチルを表し；
－ Ｒ８は、Ｈ又はエチルを表し；
－ ｐは、０又は１を表し；
－ Ｚは、Ｈ、＝Ｏ、直鎖若しくは分岐アルキル基、ベンジル基、アリール基又はアルコキシ基を表す］
から選択される、二成分組成物に関する。
Ｂ．即時使用可能なキット
本発明はまた、２つの別々の区画中に包装された、一方では上記の組成物Ａ、他方では上記の組成物Ｂを含む即時使用可能なキットにも関する。これは、例えば、二成分カートリッジであってもよい。
特に、本発明による組成物は、例えば定量ポンプによって二成分を直接混合するのに好適な比率で、例えば、一方では組成物Ａが第１の区画又はドラム中に含まれ、他方では組成物Ｂが第２の区画又はドラム中に含まれる即時使用可能なキット中の二成分形態であってもよい。
本発明の一実施形態によれば、キットは、組成物Ａ及びＢの混合のための１つ以上の手段も含む。好ましくは、混合手段は、使用量に適した直径の定量ポンプ及び静的ミキサーから選択される。
Ｃ．組成物の使用
本発明はまた、接着剤、シーラント又はコーティングとしての、好ましくは接着剤としての、上記組成物の使用にも関する。
本発明はまた、輸送、自動車（車、バス又はトラック）、アセンブリ、海上、電子機器又は建設分野における材料の、修理及び／又は構造若しくは半構造接着結合における前記組成物の使用にも関する。
本発明はまた、輸送、自動車（車、バス又はトラック）、アセンブリ、海上又は建設分野における材料の、修理及び／又は構造若しくは半構造接着結合における前記組成物の使用にも関する。
本発明はまた、接着結合によって２つの基材を組み立てるための方法であって、
－ 組み立てられる２つの基材のうちの少なくとも１つに、上記組成物Ａ及びＢを混合することによって得られた組成物をコーティングすることと、
－ ２つの基材を実際に接触させることと、
－ 電磁照射に供することによって組成物を架橋させることと
を含む、方法にも関する。
架橋工程は、０℃～２００℃の間、好ましくは１０℃～１５０℃の間、好ましくは２３℃～８０℃の間、特に２０℃～２５℃の間の温度で実施することができる。
電磁照射は、紫外線源又はＬＥＤで作製することができる。
電磁照射下の架橋工程は、２００～５００ｎｍの範囲の波長で実施することができる。
好ましくは、電磁照射工程は、３００ｍＷ／ｃｍ２以下、優先的には２００ｍＷ／ｃｍ２以下、例えば１００ｍＷ／ｃｍ２以下の強度で実施される。
適当な基材は、例えば、コンクリート、金属又は合金（アルミニウム合金、鋼鉄、非鉄金属及び亜鉛めっき金属など）などの無機基材；又は木材、プラスチック（ＰＶＣ、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、エポキシ樹脂など）などの有機基材；金属製基材及び塗料でコーティングされた複合材料である。
本発明による組成物は、有利には、迅速な重合並びに表面及び深いところで生じる重合を可能にする。加えて、架橋組成物の表面が迅速に乾燥し、粘着性がないことにより、有利には、産業プロセスの生産性を上げることを可能にする。
本発明による組成物は、有利には、貯蔵安定性と高い反応性との良好なバランスを可能にする。
その上、本発明の組成物の利点の１つは、照射されなかった影領域の表面架橋及び深部架橋を可能にすることである。
本発明による組成物は、有利には、架橋後、良好な接着特性を示す。
上記のすべての実施形態は、互いに組み合わせることができる。特に、組成物の種々の上記構成成分、とりわけ、組成物の好ましい実施形態を互いに組み合わせることができる。
本発明との関係において、用語「ｘ～ｙの間」又は「ｘ～ｙの範囲」は、上下限値ｘ及びｙが含まれる間隔を意味すると理解される。例えば、「０％～２５％の間」の範囲は、具体的には、０％及び２５％の値を含む。
ここで本発明を以下の実施例において説明するが、これらの実施例は、単に例示する目的で記載され、その範囲を限定するとは解釈すべきでない。
以下の成分を使用した：
－ Ｌａｍｂｓｏｎより販売されているＳｐｅｅｄｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ（ＣＡＳ：７５９８０－６０－８）：２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィン；
－ Ｌａｍｂｓｏｎより販売されているＳｐｅｅｄｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ－Ｌ（ＣＡＳ：８４４３４－１１－７）：エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィネート；
－ Ｇｅｏ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓより販売されているＢｉｓｏｍｅｒｅ（登録商標）ＰＴＥ（ＣＡＳ番号：１０３６７１－４４－９）；
－ Ａｒｋｅｍａより販売されているＲｅｔｉｃ（商標）ＢＰ５０は、イソノニルベンゾエート（１２～１５％）／エチレングリコール（８～１０％）混合物中の過酸化ベンゾイル（４８～５２％重量／重量）である；
－ Ａｒｋｅｍａより販売されているＣｒａｙｖａｌｌａｃ（登録商標）ＳＬＴは、レオロジー剤として使用される微粉化アミドワックスである；
－ Ｅｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓより販売されている、１７２．２ｇ／ｍｏｌに等しいモル質量を有するＶｉｓｉｏｍｅｒ（登録商標）Ｇｌｙｆｏｍａ（ＣＡＳ：１６２０３２９－５７－９）、２００ｐｐｍのＭＥＨＱ（４－ヒドロキシアニソール又はヒドロキノンモノメチルエーテル）の含有量を占めるグリセロールホルマールメタクリレート異性体の混合物；
－ Ｓａｒｔｏｍｅｒより販売されているＳＲ９０５４（ＣＡＳ番号：１６２８７７８－８１－３）：二官能性アクリル酸接着促進剤；
－ Ａｅｒｏｓｉｌ（登録商標）Ｒ２０２（ＣＡＳ番号：６７７６２－９０－７）：Ｅｖｏｎｉｋより販売されている、１００±２０ｍ２／ｇに等しい比表面積（ＢＥＴ）を有する疎水性ヒュームドシリカ（後処理ＰＤＭＳ）；
－ Ａｒｋｅｍａより販売されているＭＢＳ Ｃｌｅａｒｓｔｒｅｎｇｔｈ（登録商標）ＸＴ１００：ＭＢＳ（ＭＭＡ－ブタジエン－スチレン）をベースとするコアシェル衝撃改質剤；
－ Ａｒｋｅｍａより販売されているＶｉｋｏｆｌｅｘ（登録商標）７１７０は、可塑剤として使用されるエポキシド化大豆油である；
－ ウレタン－アクリレートＵ１：２０００ｇ／ｍｏｌのモル質量を有するポリプロピレングリコールジオールとＭＤＩとの反応後、ヒドロキシメチルメタクリレートによる官能化によって得られる。重量平均分子量は６５００ｇ／ｍｏｌであり、多分散性は２．９である。
実施例１：トリメチロールプロパンホルマールアクリレート（ＣＡＳ：６６４９２－５１－１）の調製
この生成物は、ＪＰ５７４４２７３に記載されるとおりに、以下のスキームにしたがって、トリメチロールプロパンホルマールを使用したメチルアクリレートのエステル交換によって調製し、収率は９４％だった。
Figure 2023503475000005
実施例２：組成物の調製
Ｃｒａｙｖａｌｌａｃ（登録商標）及び実施例１のトリメチロールプロパンホルマールアクリレート、並びにＭＥＨＱを、終始攪拌されたままの窒素下にある反応容器中で、５５℃にて１時間混合する。次いで反応混合物を２３℃まで冷却し、成分Ａを構成する他の成分を、２３℃の温度で、以下の表に示す比率で添加する。
成分Ｂを構成する種々の成分を、２３℃の温度で、終始攪拌されたままの窒素下にある反応容器中で、以下の表に示す比率で混合する。
Figure 2023503475000006
上記成分Ａ及び成分Ｂを、１：１の体積比で混合した。
混合は、静的ミキサーを用いて、所与の体積比に応じて、約２３℃の温度で実施し、次いで混合物を、１００ｍＷ／ｃｍ２の強度で、４０５ｎｍにてＬＥＤ下で照射した。
Figure 2023503475000007
上記成分Ａ及び成分Ｂを、１：１の体積比で混合した。
混合は、静的ミキサーを用いて、所与の体積比に応じて、約２３℃の温度で実施する。
図１は、組成物Ｎｏ．１（曲線ｂ）及び比較組成物Ｎｏ．２（曲線ａ）で得られるＴ（℃）＝ｆ（秒で表す時間）を表す。この光高温測定試験は、反応発熱性及び遅れ時間（すなわち、重合を開始するために試料が必要とする時間）の決定を可能にする。この時間はポットライフである。
図１は、比較組成物Ｎｏ．２（光開始剤が存在しない、曲線ａ）が、光開始剤の不在下、ＬＥＤによる照射で重合しないことを示す。逆に、本発明による組成物Ｎｏ．１（曲線ｂ）は、照射の最初の数秒から発熱（温度ピーク）が観察されるため、非常に迅速に重合する。
加えて、得られるポリマーは、表面で有利に乾燥する（粘着性なし）ことが観察された。
実施例３：組成物Ｎｏ．３
Ｃｒａｙｖａｌｌａｃ（登録商標）及びＶｉｓｉｏｍｅｒ Ｇｌｙｆｏｍａを、終始攪拌したままの窒素下にある反応容器中で、５５℃にて、１時間混合する。次いで反応混合物を２３℃まで冷却し、成分Ａを構成する他の成分を、２３℃の温度で、以下の表に示す比率で添加する。
成分Ｂを構成する種々の成分を、２３℃の温度で、終始攪拌したままの窒素下にある反応容器中にて、以下の表に示す比率で混合する。
Figure 2023503475000008
上記成分Ａ及び成分Ｂを、１：１の体積比で混合した。
混合は、静的ミキサーを用いて、所与の体積比に応じて、約２３℃の温度で実施し、次いで混合物を、１００ｍＷ／ｃｍ２の強度で、４０５ｎｍにてＬＥＤ下で照射した。
照射の最初の数秒から発熱（１０４℃の温度ピーク）が観察されるため（ポットライフ＝３０ｓ）、高温測定によるモニタリングにより、本発明による組成物Ｎｏ．３が非常に迅速に重合することが観察された。加えて、得られるポリマーが、表面で有利に乾燥する（粘着性なし）ことが観察され、したがって酸素が表面を阻害する時間がなかった。光活性レドックス系の組み合わせは、有利には、大気下の表面重合を改善することを可能にする。
実施例４：加速劣化試験
加速劣化試験を、実施例１の組成物Ｎｏ．１の組成物Ａに対して、５０℃の暗所で実施した。組成物を５０℃のインキュベーター中に１２日間入れた。
１２日目の終わりに、静的ミキサーを用いて、組成物Ｎｏ．１の組成物Ａ及びＢの混合を、２３℃で、１：１の体積比で実施し、次いで混合物を、強度１００ｍＪ／ｃｍ２で、４０５ｎｍのＬＥＤ下にて照射した。
高温測定によるモニタリングにより、本発明による組成物Ｎｏ．１が、加速劣化を経た組成物Ｎｏ．１（温度ピーク１０１℃、ポットライフ３２ｓ）と実質的に同一であることが観察された。したがって、組成物Ｎｏ．１の反応性は、有利には、経時的に安定性である。
実施例５：影領域内の重合
組成物Ｎｏ．１（実施例１）及びＮｏ．３（実施例３）を、影領域中の重合において試験した。試料（混合物）の一部を、照明効果の障害を有するように隠す。他の部分を、強度１００ｍＷ／ｃｍ２、４０５ｎｍのＬＥＤで２分間照射する。次いで試料を暗所に静置し、種々の時間にモニタリングして、光を要しないレドックス反応の第２の機構による非照射領域内の重合の伝播を確認する。試料の完全重合（影領域を含む）は、１ｈ３０内に観察された。
実施例６：接着結合試験－組成物Ｎｏ．４及びＮｏ．５
Ｃｒａｙｖａｌｌａｃ（登録商標）及びＶｉｓｉｏｍｅｒ Ｇｌｙｆｏｍａを、終始攪拌されたままで窒素下にある反応容器中で、５５℃にて１時間混合する。次いで混合物を２３℃に戻し、成分Ａを構成する他の成分を、２３℃の温度で、以下の表に示す比率で添加する。
成分Ｂを構成する種々の成分を、２３℃の温度で、終始攪拌されたままで窒素下にある反応容器中にて、以下の表に示す比率で混合する。
Figure 2023503475000009
Figure 2023503475000010
上記成分Ａ及び成分Ｂを、１：１の体積比で混合した。
混合は、静的ミキサーを用いて、所与の体積比に応じて、約２３℃の温度で実施し、次いで混合物を、１００ｍＷ／ｃｍ２の強度で、４０５ｎｍにてＬＥＤ下で照射した。
接着結合試験
接着結合は、Ｒｏｃｈｏｌｌ由来のアルミニウム製のストリップ上で作製される。厚さ２５０μｍのテフロン製のウェッジを使用して、ストリップ上の面積２５×１２．５ｍｍを区切った。この部分を試験組成物で充填し、次いで、同じ材料の第２のストリップを積層した。万能試験機での引張試験に先立って、組み合わせをクランプで保持し、２３℃又は１００℃及び５０％ＲＨ（相対湿度）に温度及び湿度が調節された室内で１週間置いた。その区域を３０秒間、日射した。万能試験機での引張試験は、組立品を分離するために組立品にかけられる最大力（ＭＰａ）を評価することを目的とする。引張試験機を用いることは、２つの固定支持体の間に位置する重ね継ぎに、組立品の表面及び試験標本の主軸に平行な支持体に張力をかけることによって破損するまで剪断応力を印加することを可能にする。記録される結果は、破壊力又は応力である。剪断応力は、５ｍｍ／ｍｉｎの速度で変位する引張試験機の可動式掴み具を介して印加される。この引張試験法は、規格ＥＮ１４６５（２００９）により定義されるとおりに実施される。
図２は、組成物Ｎｏ．４（曲線１）及びＮｏ．５（曲線２、比較）についての破壊強度（ＭＰａ）＝ｆ（時間（ｍｉｎ））を表すグラフを記載する。
図２は、本発明による組成物Ｎｏ．４（曲線１）が、比較組成物Ｎｏ．５（曲線２）より速い粘着力の増加を示すことを示す。

Claims (17)

  1. － 以下を含む組成物Ａ：
    － 少なくとも１つの還元剤；
    － 少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー；
    － 以下を含む組成物Ｂ：
    － 少なくとも１つの酸化剤；及び
    － 任意選択の少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー
    を含む二成分組成物であって、
    － 組成物Ａ及び／又はＢ中に少なくとも１つのラジカル光開始剤を含み；
    － 少なくとも１つの重合阻害剤を、前記組成物の総重量に対して０．３重量％以下の含有量で含む
    ことを特徴とし、
    ラジカル光開始剤が、
    － 以下から選択されるタイプＩのラジカル光開始剤：
    － アセトフェノン及びアルコキシアセトフェノンのファミリー、例えば、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン及び２－ジエチル－２－フェニルアセトフェノンなど；
    － ヒドロキシアセトフェノンのファミリー、例えば、２，２－ジメチル－２－ヒドロキシアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－４’－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－メチルプロピオフェノン及び２－ヒドロキシ－４’－（２－ヒドロキシプロポキシ）－２－メチルプロピオフェノンなど；
    － アルキルアミノアセトフェノンのファミリー、例えば、２－メチル－４’－（メチルチオ）－２－モルホリノプロピオフェノン、２－ベンジル－２－（ジメチルアミノ）－４－モルホリノブチロフェノン及び２－（４－メチルベンジル）－２－（ジメチルアミノ）－４－モルホリノブチロフェノンなど；
    － ベンゾインエーテルのファミリー、例えば、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルなど；
    － ホスフィンオキシドのファミリー、例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）など；
    － メタロセンのファミリー、例えば、フェロセン、ビス（エータ５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）フェニル）チタン及び（クメン）（シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスフェートなど；
    － 以下から選択されるタイプＩＩのラジカル光開始剤：
    － ベンゾフェノンのファミリー、例えば、４－フェニルベンゾフェノン、４－（４’－メチルフェニルチオ）ベンゾフェノン又は１－［４－［（４－ベンゾイルフェニル）チオ］フェニル］－２－メチル－２－［（４－メチルフェニル）スルホニル］－１－プロパノンなど；
    － チオキサントンのファミリー、例えば、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン及び１－クロロ－４－イソプロピルチオキサントンなど；
    － ベンゾイルギ酸エステルのファミリー、例えば、ベンゾイルギ酸メチルなど；
    － ジベンジリデンケトンのファミリー、例えば、ｐ－ジメチルアミノケトンなど；
    － クマリンのファミリー、例えば、５－メトキシ及び７－メトキシクマリン、７－ジエチルアミノクマリン並びにＮ－フェニルグリシンクマリンなど；
    － 染料のファミリーのラジカル光開始剤、例えば、トリアジン、フルオロン、シアニン、サフラニン、４，５，６，７－テトラクロロ－３’，６’－ジヒドロキシ－２’，４’，５’，７’－テトラヨード－３Ｈ－スピロ［イソベンゾフラン－１，９’－キサンテン］－３－オン、ピリリウム及びチオピリリウム、チアジン、フラビン、ピロニン、オキサジン又はローダミンなど；
    － 並びにこれらの混合物
    からなる群から選択される、二成分組成物。
  2. 重合阻害剤の総含有量が、前記組成物の総重量に対して０．２５重量％以下、優先的には０．２０重量％以下、有利には０．１０重量％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
  3. 重合阻害剤の総含有量が、前記組成物の総重量に対して０．０１重量％～０．２０重量％の範囲であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の組成物。
  4. 還元剤が、第３級アミン、メタ重亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、遷移金属、アゾ化合物、α－アミノスルホン、及びこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
  5. 還元剤が、第３級アミン、さらにより優先的には、式（Ｉ）のアミン：
    Figure 2023503475000011
    ［式中：
    － ｍ及びｎは、互いに独立して、１～１５０、好ましくは１～１００、優先的には１～７２、有利には１～３６、さらにより有利には１～１８の範囲の整数であり；
    － Ｒ１は、１～２０個の炭素原子、好ましくは１～１０個の炭素原子を含む線状又は分岐状の飽和又は不飽和アルキル；６～１２個の炭素原子を含む（ヘテロ）アリール；３～１２個の炭素原子を含むシクロアルキルからなる群から選択される基を表し；
    － ｖは、０～５の範囲の整数を表し；
    － Ｒ２及びＲ３は、互いに独立して、ハロゲン原子、水素原子、又は１～１２個の炭素原子を含みかつ少なくとも１個の酸素原子によって中断されていてもよい直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
    － 但し、ｍ＋ｎ＞２、好ましくはｎ＋ｍ≧２．５を条件とする。］
    であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。
  6. 酸化剤が、過酸化物、遷移金属の有機塩、不安定塩素を含有する化合物、及びこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物。
  7. ラジカル光開始剤が、
    － ホスフィンオキシドのファミリー、例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）など；
    － チオキサントンのファミリー、例えば、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン及び１－クロロ－４－イソプロピルチオキサントンなど
    から選択され；
    ラジカル光開始剤が、さらにより優先的には、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ）、エチル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＴＰＯ－Ｌ）及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）から選択されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の組成物。
  8. 組成物Ｂが、エポキシ樹脂を含まないことを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の組成物。
  9. 組成物の総重量に対して０．１重量％～５重量％、好ましくは０．５重量％～３重量％、さらにより優先的には１重量％～２重量％のラジカル光開始剤を含むことを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の組成物。
  10. （メタ）アクリレートモノマーが、
    － 以下の式（ＩＩＩ）を有する化合物：
    Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）－ＣＯＯＲ６ （ＩＩＩ）
    ［式中：
    － Ｒ５は、水素原子又はメチル基を表し；
    － Ｒ６は、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキルアリール、アリールアルキル又はアリールからなる群から選択され、前記アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキルアリール、アリールアルキル又はアリールは、少なくとも１つのシラン、１つのシリコーン、１つの酸素、１つのハロゲン、１つのカルボニル、１つのヒドロキシル、１つのエステル、１つの尿素、１つのウレタン、１つのカーボネート、１つのアミン、１つのアミド、１つの硫黄、１つのスルホネート、又は１つのスルホンで置換されていても、かつ／又は中断されていてもよい。］；
    － ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
    － テトラヒドロフラン（メタ）アクリレート；
    － ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；
    － ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；
    － トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；
    － ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
    － トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
    － テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；
    － ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート；
    － ジ（ペンタメチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート；
    － ジグリセリルテトラ（メタ）アクリレート；
    － テトラメチレンジ（メタ）アクリレート；
    － エチレンジ（メタ）アクリレート；
    － ビスフェノールＡモノ及びジ（メタ）アクリレート；
    － ビスフェノールＦモノ及びジ（メタ）アクリレート；
    － 以下の式（ＩＶ）又は（Ｖ）の化合物：
    Figure 2023503475000012
    ［式中：
    － Ｒ７は、Ｈ又はメチルを表し；
    － Ｒ８は、Ｈ又はエチルを表し；
    － ｐは０又は１を表し；
    － Ｚは、Ｈ、＝Ｏ、直鎖若しくは分岐アルキル基、ベンジル基、アリール基又はアルコキシ基を表す］；
    － これらの混合物
    からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の組成物。
  11. （メタ）アクリレートモノマーが、以下のモノマー及びこれらの混合物：
    Figure 2023503475000013
    から選択されることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の組成物。
  12. 組成物Ａが、組成物Ａの総重量に対して３０重量％以上、好ましくは４０重量％以上、さらにより優先的には６０重量％以上の総含有量の（メタ）アクリレートモノマーを含むことを特徴とする、請求項１から１１のいずれか一項に記載の組成物。
  13. 組成物Ｂが、組成物Ｂの総重量に対して４０重量以上、好ましくは５０重量％以上、有利には６０重量％以上の総含有量の（メタ）アクリレートモノマーを含むことを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載の組成物。
  14. 触媒、充填剤、抗酸化剤、光安定剤／ＵＶ吸収剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、造膜防止剤、発泡剤、殺生物剤、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、染料、顔料、レオロジー剤、衝撃改質剤、接着促進剤、光学的光沢剤、難燃剤、防露剤、核形成剤、溶媒及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの添加剤を含むことを特徴とする、請求項１から１３のいずれか一項に記載の組成物。
  15. 組成物Ａ／組成物Ｂの体積比が、２０／１～１／１、優先的には１０／１～１／１の範囲であることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか一項に記載の組成物。
  16. 接着剤、シーラント又はコーティングとしての、好ましくは接着剤としての、請求項１から１５のいずれかに記載の組成物の使用。
  17. 接着結合によって２つの基材を組み立てるための方法であって、
    － 組み立てられる２つの基材のうちの少なくとも１つに、請求項１から１５のいずれか一項に記載の組成物Ａ及びＢを混合することによって得られた組成物をコーティングすることと、
    － ２つの基材を実際に接触させることと、
    － 電磁照射に供することによって組成物を架橋させることと
    を含む、方法。
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