JP2023167531A

JP2023167531A - 光学積層体及び物品

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Publication number: JP2023167531A
Application number: JP2022078796A
Authority: JP
Inventors: 浩伸森山; Hironobu Moriyama; 智明小林; Tomoaki Kobayashi; 皓平雪下; Kohei YUKISHITA
Original assignee: Dexerials Corp
Current assignee: Dexerials Corp
Priority date: 2022-05-12
Filing date: 2022-05-12
Publication date: 2023-11-24
Also published as: WO2023218894A1; TW202413077A

Abstract

【課題】摺動前後における色変化が目視で目立ちにくい、光学積層体及び物品を提供することを目的とする。【解決手段】この光学積層体は、透明基材とハードコート層と密着層と光学機能層と防汚層とが順に積層され、ショアＤ硬度が４０で直径が０．８ｍｍの摺動具を用いて、荷重２５０ｇで５００往復の摺動試験をした際に、摺動箇所の摺動前後のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるｂ＊値の変化量Δｂ＊の絶対値が１．９以下である。【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体及び物品に関する。

例えば、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、タッチパネル、太陽電池等の表面に、反射防止用の光学積層体を設けることがある。画像は、光学積層体を介して視認されるため、光学積層体が視認性に悪影響を及ぼさないことが求められている。また光学積層体は、各種操作機器のタッチパネル化に伴い、耐擦傷性の向上も求められている。

例えば、特許文献１には、ＣＩＥ－Ｌａｂ表色系におけるａ^＊値とｂ^＊値の差を２以上にすることで、ディスプレイの色むらを低減できることが記載されている。

例えば、特許文献２には、最外層となる低屈折率層の組成を最適化することで、耐ペン摺動性を高めることができることが記載されている。

例えば、特許文献３には、ひっかき傷や指紋に伴って生じる表面欠陥の視認性を低下させることができる反射防止コーティングを有する物品が記載されている。

例えば、特許文献４には、耐擦傷性層を有し、耐久性及び耐擦傷性に優れる物品が記載されている。

特開２０１９－２８３６４号公報特開２００４－８６１９６号公報特開２０２０－１２６２７８号公報特許第６７６１３４８号公報

ペンタッチ方式のタッチパネルの場合、光学積層体の表面をペンが摺動する。ペンが摺動した後の摺動跡が視認性を低下させる場合がある。

本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、摺動前後における色変化が目視で目立ちにくい、光学積層体及び物品を提供することを目的とする。

本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を提供する。

（１）第１の態様にかかる光学積層体は、透明基材とハードコート層と密着層と光学機能層と防汚層とが順に積層され、ショアＤ硬度が４０で直径が０．８ｍｍの摺動具を用いて、荷重２５０ｇで５００往復の摺動試験をした際に、摺動箇所の摺動前後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値の変化量Δｂ^＊値の絶対値が１．９以下である。

（２）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学機能層は、前記密着層に近い側から順に、第１高屈折率層と第１低屈折率層と第２高屈折率層と第２低屈折率層とを備え、前記第１高屈折率層と前記第２高屈折率層のそれぞれは、前記第１低屈折率層と前記第２低屈折率層のそれぞれより屈折率が高く、前記第１高屈折率層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、前記第１低屈折率層の物理膜厚は、２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、前記第２低屈折率層の物理膜厚は、７０ｎｍ以上８５ｎｍ以下であってもよい。

（３）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学機能層は、前記密着層に近い側から順に、第１高屈折率層と第１低屈折率層と第２高屈折率層と第２低屈折率層とを備え、前記第１高屈折率層と前記第２高屈折率層のそれぞれは、前記第１低屈折率層と前記第２低屈折率層のそれぞれより屈折率が高く、前記第１高屈折率層の光学膜厚は、２０ｎｍ以上４８．８ｎｍ以下であり、前記第１低屈折率層の光学膜厚は、２．９ｎｍ以上２１．９ｎｍ以下であり、前記第２低屈折率層の光学膜厚は、１０２ｎｍ以上１２４．１ｎｍ以下であってもよい。

（４）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学機能層の物理膜厚の総厚は、１７０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下でもよい。

（５）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学機能層の光学膜厚の総厚は、３２０ｎｍ以上４１０ｎｍ以下でもよい。

（６）上記態様にかかる光学積層体において、前記防汚層の物理膜厚は、２ｎｍ以上１０ｎｍ以下でもよい。

（７）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学機能層がスパッタリング膜でもよい。

（８）上記態様にかかる光学積層体において、前記防汚層が蒸着膜でもよい。

（９）上記態様にかかる光学積層体において、前記防汚層はフッ素化合物を含んでもよい。

（１０）第２の態様にかかる物品は、上記態様にかかる光学積層体を備える。

上記態様にかかる光学積層体及び物品は、摺動前後における色変化が目視で目立ちにくい。

第１実施形態に係る光学積層体の一例の断面図である。

以下、本実施形態について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、本発明の効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。

「光学積層体」
本実施形態に係る光学積層体１０は、ショアＤ硬度が４０で直径が０．８ｍｍの摺動具を用いて、荷重２５０ｇで５００往復の摺動試験をした際に、摺動箇所の摺動前後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値の変化量Δｂ^＊の絶対値が１．９以下である。

摺動試験は、以下の手順で行う。まず、光学積層体１０の防汚層５が表面にくるように、透明粘着剤シート（リンテック株式会社製）を用いて、１ｍｍ厚のガラスに貼合する。そして、ポリアセタール製のペン（先端形状が０．８ｍｍφ、ショアＤ硬度が４０）を用いて、摺動試験機（井本製作所製）を用いて直線的に摺動試験を行う。荷重は２５０ｇｆ、摺動回数は１０００回（５００回往復）、往復距離は５０ｍｍ、往復の速さは１秒間に２回（１往復）摺動する。

Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系において、Ｌ^＊は明度を表し、ａ^＊値およびｂ^＊値は色度を示す。ａ^＊値およびｂ^＊値の絶対値が大きい座標の色であるほど彩度が大きい。すなわち、ａ^＊値およびｂ^＊値の絶対値が大きい座標の色であるほど鮮やかな色であり、ａ^＊値およびｂ^＊値の絶対値が小さい座標の色であるほど無彩色に近い色である。＋ａ^＊の座標は赤方向の色相であり、－ａ^＊の座標は緑方向の色相であり、＋ｂ^＊の座標は黄方向の色相であり、－ｂ^＊の座標は青方向の色相である。色彩測定は、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を用いて行う。摺動前後のＬ^＊値、ａ^＊値、ｂ^＊値の測定に於ける、測定表面に対する光の入射角は０°とした。

摺動前後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値の変化量Δｂ^＊の絶対値が１．９以下だと、ペン摺動試験後に、摺動跡が視認しにくい。色度を表すパラメータは、上述のようにａ^＊値とｂ^＊値とがあるが、摺動前後の視認性に与える影響が大きいのはｂ^＊値であった。ｂ^＊値の変化量Δｂ^＊の絶対値の変化幅が小さいほど、視認性に与える影響は小さい。ｂ^＊値の変化量Δｂ^＊の絶対値は、好ましくは１．７以下であり、より好ましくは１．３以下である。

摺動前後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるａ^＊値の変化量Δａ^＊の絶対値は、好ましくは３．８以下であり、より好ましくは２．８以下であり、さらに好ましくは２．４以下である。変化量Δａ^＊が小さいほど、摺動に伴う視認性の低下を起こしにくい。なお、摺動前後のａ^＊値の変化量Δａ^＊は、ｂ^＊値の変化量Δｂ^＊の絶対値より視認性に与える影響は小さい。

また光学積層体１０の摺動前後の色差ΔＥ^＊ａｂは、例えば３．４以下であり、好ましくは３．２以下であり、より好ましくは２．９以下であり、さらに好ましくは２．８以下である。摺動前後の色差ΔＥ^＊ａｂは、ΔＥ^＊ａｂ＝（ΔＬ^＊２＋Δａ^＊２＋Δｂ^＊２）^１／２で表される。ここでΔＬ^＊は摺動前後の明度の変化量ΔＬ^＊であり、Δａ^＊は摺動前後のａ^＊値の変化量であり、Δｂ^＊は摺動前後のｂ^＊値の変化量である。

また本実施形態に係る光学積層体１０は、好ましくは、入射角５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値と、入射角４５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値と、の間の変化量Δｂ^＊の絶対値が６．０以下である。色彩測定は、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を用いて行う。

前述の通り、＋ａ^＊の座標は赤方向の色相であり、－ａ^＊の座標は緑方向の色相であり、＋ｂ^＊の座標は黄方向の色相であり、－ｂ^＊の座標は青方向の色相である。一方、視感度に与える影響が高い可視光の波長の中心は５６５ｎｍ近傍にあり、これはＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系に於いては－ａ^＊かつ＋ｂ^＊の座標にあり、黄方向と緑方向からなる座標域の色相である。本実施形態の光学積層体は、入射角の変化による視認上の色相の変化（色むら）を抑制するために、視認しやすい黄方向と緑方向からなる座標方向への色相の変化を抑制し、色むらを視認し難くするものである。

本実施形態にかかる光学積層体は、入射角５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値と、入射角４５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値との間の変化量Δｂ^＊の絶対値が６．０以下であることを満たす。

また、本実施形態に係る光学積層体は、入射角５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値と、入射角４５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値とはそれぞれ、好ましくは－２０≦ｂ^＊≦１０を満たし、より好ましくは－２０≦ｂ^＊≦０を満たす。

さらに、本実施形態に係る光学積層体は、入射角５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるａ^＊値と、入射角４５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるａ^＊値とはそれぞれ、好ましくは－１０≦ａ^＊≦２０を満たし、より好ましくは－３≦ａ^＊≦６を満たす。

また、さらに入射角５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるａ^＊値と、入射角４５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるａ^＊値との間の変化量Δａ^＊の絶対値が１０以下であることを満たすことが、視認角度を変化させることによる色むらがより視認され難くなる点でより好ましい。またこの時、入射角４５°に於けるａ*値から入射角５°でのａ^＊値を引いた差分が正であることが好ましい。

ｂ^＊値は、視感度に与える影響が大きく、物品の色相に影響を及ぼしやすい。視認角度の違いに伴うｂ^＊値の変化量Δｂ^＊が小さいと、視認角度を変化させることによる色相の変化が視認されにくくなり、色むらが視認されにくい。

ｂ^＊値が－１５≦ｂ^＊≦１０を満たし、好ましくは－１５≦ｂ^＊≦０であることにより、ａ^＊値の変化が視認されにくくなる。特に、ｂ≦０であることにより、ａ^＊値の変化が視認されにくくなる。

ａ^＊値が－１０≦ａ^＊≦２０を満たし、好ましくは－３≦ａ^＊≦６を満たすことにより、色むらがより視認しやすい緑方向の色彩の影響を回避することができる。

ｂ^＊値の変化量Δｂ^＊に加えてａ^*値の変化量△ａ^＊が小さいと、視認角度を変化させることによる色むらがより一層視認難くなる。

また光学積層体１０の光の入射角の違いに伴う色差ΔＥ^＊ａｂは、例えば１９．４以下であり、好ましくは１５．２以下であり、より好ましくは１３．６以下であり、さらに好ましくは１０以下である。光の入射角の違いに伴う色差ΔＥ^＊ａｂは、入射角５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊値と入射角４５°で入射した際の反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊値とからΔＥ^＊ａｂ＝（ΔＬ^＊２＋Δａ^＊２＋Δｂ^＊２）^１／２で求められる。ここでΔＬ^＊は光の入射角の違いによる明度の変化量ΔＬ^＊であり、Δａ^＊は光の入射角の違いによるａ^＊値の変化量であり、Δｂ^＊は光の入射角の違いによるｂ^＊値の変化量である。

図１は、第１実施形態に係る光学積層体１０の一例の断面図である。光学積層体１０は、透明基材１とハードコート層２と密着層３と光学機能層４と防汚層５とが順に積層されている。

（透明基材）
透明基材１は、可視光域の光を透過可能な透明材料からなる。透明基材１は、例えば、プラスチックフィルムである。プラスチックフィルムの構成材料は、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、である。透明基材１は、無機基材であって、ガラスフィルムでもよい。

透明基材１の構成材料は、好ましくは、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。透明基材１は、例えば、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）基材又はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材が好ましい。

なお、本発明でいう「透明材料」とは、本発明の効果を損なわない範囲で、使用波長域の光の透過率が８０％以上の材料であることをいう。また、本実施形態において「（メタ）アクリル」は、メタクリル及びアクリルを意味する。

透明基材１は、光学特性を著しく損なわない限りにおいて、補強材料を含んでいてもよい。補強材料は、例えば、セルロースナノファイバー、ナノシリカ等である。

透明基材１は、光学的機能および／または物理的機能が付与されたフィルムであっても良い。光学的および／または物理的な機能を有するフィルムは、例えば、偏光板、位相差補償フィルム、熱線遮断フィルム、透明導電フィルム、輝度向上フィルム、バリア性向上フィルム、レンズシートなどである。またこれらのフィルムに帯電防止機能を付与してもよい。

透明基材１の厚みは、特に限定されないが、例えば２５μｍ以上であり、好ましくは４０μｍ以上である。透明基材１の厚みは物理膜厚である。透明基材１の厚みが２５μｍ以上であると、基材自体の剛性が確保され、光学積層体１０に応力が加わっても皺が発生し難くなる。また透明基材１の厚みが２５μｍ以上であると、透明基材１上にハードコート層２を連続的に形成しても、皺が生じにくく製造上の懸念が少ない。透明基材１の厚みが２５μｍ以上であると、光学積層体１０を製造途中にカールしにくく、取り扱いやすい。

透明基材１の厚みは、１ｍｍ以下であることが好ましく、５００μｍ以下であることがより好ましく、３００μｍ以下であることが特に好ましい。透明基材１の厚みが１ｍｍ以下であると、透明基材１の実質的な光学透明性を担保できる。また、透明基材１の厚みが１ｍｍ以下であると、透明基材１上に、枚葉方式であってもロールトウロール方式であっても成膜できる。特に、透明基材１の厚みが３００μｍ以下であると、ロールトウロール方式で光学積層体１０を製造する場合に、ロール状に巻き付けられた透明基材１の１度に投入可能な長さを長くできる。このため、透明基材１の厚みが３００μｍ以下であると、ロールトウロール方式で光学積層体１０を連続的に生産する場合に、生産性に優れる。また、透明基材１の厚みが３００μｍ以下であると、品質の良好な光学積層体１０となるため、好ましい。

透明基材１は、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理および／または下塗り処理が施されていてもよい。これらの処理が予め施されていることで、透明基材１の上に形成されるハードコート層２の密着性が向上する。また透明基材１上にハードコート層２を形成する前に、必要に応じて、透明基材１の表面に対して溶剤洗浄、超音波洗浄等を行うことにより、透明基材１の表面を除塵、清浄化させてもよい。

（ハードコート層）
ハードコート層２は、特に限定されず、公知のものを用いることができる。ハードコート層２は、例えば、バインダー樹脂とフィラーとを含んでもよい。ハードコート層２は、この他、レベリング剤を含んでもよい。

バインダー樹脂は、好ましくは透明性を有するものであり、例えば、紫外線、電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などである。

バインダー樹脂である電離放射線硬化型樹脂の一例は、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニルピロリドン等である。また電離放射線硬化型樹脂は、２以上の不飽和結合を有する化合物でもよい。２以上の不飽和結合を有する電離放射線硬化型樹脂は、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の多官能化合物等である。これらのなかでも、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）及びペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）が、バインダー樹脂に好適に用いられる。なお、「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。また、電離放射線硬化型樹脂として、上述した化合物をＰＯ（プロピレンオキサイド）、ＥＯ（エチレンオキサイド）、ＣＬ（カプロラクトン）等で変性したものでもよい。電離放射線硬化型樹脂は、アクリル系の紫外線硬化型樹脂組成物が好ましい。

またバインダー樹脂である熱可塑性樹脂の一例は、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等である。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマー、硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶である。特に、透明性および耐候性という観点から、バインダー樹脂は、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等であることが好ましい。

バインダー樹脂である熱硬化性樹脂は、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン－尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂（かご状、ラダー状などのいわゆるシルセスキオキサン等を含む）等でもよい。

ハードコート層２は、有機樹脂と無機材料を含んでいても良く、有機無機ハイブリッド材料でもよい。一例としては、ゾルゲル法で形成されたものが挙げられる。無機材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニアが挙げられる。有機材料としては、例えば、アクリル樹脂が挙げられる。

フィラーは、有機物からなるものでもよいし、無機物からなるものでもよいし、有機物および無機物からなるものでもよい。ハードコート層２に含まれるフィラーは、防眩性、後述する光学機能層４との密着性、アンチブロッキング性の観点等から、光学積層体１０の用途に応じて種々のものを選択できる。具体的にはフィラーとして、例えば、シリカ（Ｓｉの酸化物）粒子、アルミナ（酸化アルミニウム）粒子、有機微粒子など公知のものを用いることができる。

フィラーがシリカ粒子および／またはアルミナ粒子の場合、フィラーの平均粒子径は、例えば８００ｎｍ以下であり、好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは４０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。フィラーが有機微粒子の場合、有機微粒子の平均粒子径は、例えば１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下である。

ハードコート層２の厚みは、例えば、０．５μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以上である。ハードコート層２の厚みは、１００μｍ以下であることが好ましい。ハードコート層２の厚みは、物理膜厚である。ハードコート層２は、単一の層からなるものであってもよいし、複数の層が積層されたものであってもよい。

（密着層）
密着層３は、ハードコート層２と光学機能層４との間にある。密着層３は。ハードコート層２と光学機能層４との密着を良好にする。

密着層３は、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム、インジウム等の金属；これらの金属の合金；これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物；から選ばれるいずれか１種または２種以上からなるものである。

密着層３は、非化学量論組成の無機酸化物を含んでもよい。密着層３は、例えば、酸素欠乏状態にある金属酸化物でもよく、例えばＳｉＯ_ｘ（Ｓｉ酸化物）を主成分とするものでもよい。密着層３は、Ｓｉ酸化物のみからなるものであってもよいし、Ｓｉ酸化物とは別に、５０質量％以下の範囲、好ましくは１０質量％以下の範囲で、別の元素を含んでいてもよい。別の元素としては、密着層３の耐久性を向上させるためにＮａを含んでいてもよいし、密着層３の硬度を向上させるためにＺｒ、Ａｌ、Ｎから選ばれる１種または２種以上の元素を含んでいてもよい。

密着層３の厚みは、例えば、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることがより好ましい。密着層３の厚みは、物理膜厚である。密着層３の厚みが上記範囲内であると、光学機能層４とハードコート層２との密着性が高まる。

（光学機能層）
光学機能層４は、光学機能を発現させる層である。光学機能とは、光の性質である反射と透過、屈折をコントロールする機能であり、例えば、反射防止機能、選択反射機能、防眩機能、レンズ機能などが挙げられる。

光学機能層４は、例えば、密着層３側から順に、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された積層膜である。高屈折率層は、低屈折率層より屈折率が高い。それぞれの高屈折率層の屈折率は、同じでも異なっていてもよい。それぞれの低屈折率層の屈折率は、同じでも異なっていてもよい。

光学機能層４における低屈折率層と高屈折率層の積層数の合計は、特に問わない。例えば、図１に示すように、各層の積層数は４層でもよく、３層以下でもよく、５層以上でもよい。光学機能層４における低屈折率層と高屈折率層の積層数の合計は、４層以上１０層以下であることが好ましく、４層以上６層以下であることがより好ましく、４層であることが最も好ましい。光学機能層４の積層数が４層の場合、積層数が少なく、厚みが薄いため、積層数が５層以上である場合と比較して、生産性に優れる。また、光学機能層４の積層数が４層の場合、積層数が３層以下である場合と比較して、反射防止性が高く、反射光の色相をより一層ニュートラル（無彩色）に近づけることができる。

光学機能層４は、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された積層体の界面のそれぞれで反射した反射光が干渉すること、及び、防汚層５側から入射した光を拡散することで、反射防止機能を示す。

以下、光学機能層４が、密着層３に近い側から順に、第１高屈折率層４１ａ、第１低屈折率層４１ｂ、第２高屈折率層４２ａ、第２低屈折率層４２ｂの４層が積層された積層体である場合を例に挙げて説明する。第１高屈折率層４１ａと第２高屈折率層４２ａのそれぞれは、第１低屈折率層４１ｂと第２低屈折率層４２ｂのそれぞれより屈折率が高い。

第１高屈折率層４１ａ及び第２高屈折率層４２ａの屈折率は、例えば、２．００以上２．６０以下であり、好ましくは２．１０以上２．４５以下である。第１高屈折率層４１ａと第２高屈折率層４２ａの屈折率は、同じでも、異なっていてもよい。

第１高屈折率層４１ａ及び第２高屈折率層４２ａの材料としては、例えば、五酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５、屈折率２．３３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率２．３３～２．５５）、酸化タングステン（ＷＯ_３、屈折率２．２）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率２．２）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５、屈折率２．１６）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率２．１）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、屈折率２．０６）、酸化ジルコニウム(ＺｒＯ_２、屈折率２．２)などが挙げられる。第１高屈折率層４１ａおよび第２高屈折率層４２ａは、好ましくは、五酸化ニオブである。第１高屈折率層４１ａと第２高屈折率層４２ａを構成する材料は、同じでも、異なっていてもよい。

第１低屈折率層４１ｂ及び第２低屈折率層４２ｂの屈折率は、例えば１．２０以上１．６０以下であり、好ましくは１．３０以上１．５０以下である。第１低屈折率層４１ｂと第２低屈折率層４２ｂの屈折率は、同じでも、異なっていてもよい。

第１低屈折率層４１ｂ及び第２低屈折率層４２ｂは、例えば、Ｓｉの酸化物を含む。第１低屈折率層４１ｂ及び第２低屈折率層４２ｂは、例えば、ＳｉＯ_２（Ｓｉの酸化物）を主成分とした層である。Ｓｉの酸化物は、入手が容易でコストの面で有利である。ＳｉＯ_２単層膜は、無色透明である。本実施形態において、主成分とは、層に含まれる成分のうち５０質量％以上を占める成分である。第１低屈折率層４１ｂと第２低屈折率層４２ｂの屈折率は、同じでも、異なっていてもよい。

第１低屈折率層４１ｂ及び第２低屈折率層４２ｂは、Ｓｉの酸化物が主成分の場合に、５０質量％未満の別の元素を含んでも良い。Ｓｉの酸化物とは別の元素の含有量は、好ましくは１０％以下である。別の元素は、例えば、Ｎａ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｎである。Ｎａは、第１低屈折率層４１ｂ及び第２低屈折率層４２ｂの耐久性を高める。Ｚｒ、Ａｌ、Ｎは、第１低屈折率層４１ｂ及び第２低屈折率層４２ｂの硬度を高め、耐アルカリ性を高める。

第１高屈折率層４１ａの物理膜厚は、例えば、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。第１高屈折率層４１ａの物理膜厚は、好ましくは１０ｎｍ以上１７ｎｍ以下である。第１高屈折率層４１ａの光学膜厚は、例えば、２０ｎｍ以上４８．８ｎｍ以下である。第１高屈折率層４１ａの光学膜厚は、好ましくは２３．８ｎｍ以上４４．３ｎｍ以下である。光学膜厚は、物理膜厚にその層の屈折率を乗じたものである。

第１低屈折率層４１ｂの物理膜厚は、例えば、２ｎｍ以上１５ｎｍ以下である。第１低屈折率層４１ｂの物理膜厚は、好ましくは４ｎｍ以上９ｎｍ以下であり、より好ましくは７ｎｍ以上９ｎｍ以下である。第１低屈折率層４１ｂの光学膜厚は、例えば、２．９ｎｍ以上２１．９ｎｍ以下である。第１低屈折率層４１ｂの光学膜厚は、好ましくは５．８ｎｍ以上１３．７ｎｍ以下であり、より好ましくは１０．２２ｎｍ以上１３．７２ｎｍ以下である。

第２高屈折率層４２ａの物理膜厚は、例えば、３０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下である。第２高屈折率層４２ａの物理膜厚は、好ましくは７４ｎｍ以上１０２ｎｍ以下である。第２高屈折率層４２ａの光学膜厚は、例えば、６０ｎｍ以上２７７．２ｎｍ以下である。第２高屈折率層４２ａの光学膜厚は、好ましくは１７２．４ｎｍ以上２２６．８ｎｍ以下であり、より好ましくは１７２．４ｎｍ以上２１７．９ｎｍ以下である。

第２低屈折率層４２ｂの物理膜厚は、例えば、７０ｎｍ以上８５ｎｍ以下である。第２低屈折率層４２ｂの物理膜厚は、好ましくは７３ｎｍ以上８１ｎｍ以下である。第２低屈折率層４２ｂの光学膜厚は、例えば、１０２ｎｍ以上１２４．１ｎｍ以下である。第２低屈折率層４２ｂの光学膜厚は、好ましくは１０６．６ｎｍ以上１１８．３ｎｍ以下である。

第１高屈折率層４１ａ、第１低屈折率層４１ｂ、第２高屈折率層４２ａ、第２低屈折率層４２ｂのそれぞれの膜厚が規定の範囲内とすることで、表面からの反射光のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値が摺動試験で変動しにくい光学積層体１０を実現することができる。この時、第１低屈折率層４１ｂの膜厚は、光学機能層４の各層の中で最薄となる。

光学機能層４の物理膜厚の総厚は、例えば１７０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下であり、好ましくは１８０ｎｍ以上２１０ｎｍ以下であり、より好ましくは１８９ｎｍ以上１９８ｎｍ以下である。光学機能層４の光学膜厚の総厚は、例えば３２０ｎｍ以上４１０ｎｍ以下であり、好ましくは３４１．４ｎｍ以上３９９．０ｎｍ以下であり、より好ましくは３６２．８ｎｍ以上３８６．８ｎｍ以下である。光学機能層４の総厚が所定の範囲内であることで、反射光の色相をニュートラルに近づけることができると共に、効率的に生産できる。

光学機能層４の各層は、例えば、スパッタリング膜である。スパッタリング膜は、一般的な真空蒸着法または塗布法を用いて形成された膜と比較して、緻密である。例えば、光学機能層４の水蒸気透過性は、１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下となる。緻密なスパッタリング膜は、水蒸気透過率が低い。スパッタリング膜は、緻密であり、摺動跡が残りにくい。例えば、ペン摺動により防汚層５の一部が剥離した場合でも、光学機能層４が緻密であることでペン摺動の跡が付きにくくなる。

光学機能層４を形成している層のうち防汚層５側には、例えば、低屈折率層４ｂが配置される。光学機能層４の低屈折率層４ｂが防汚層５と接している場合、光学機能層４の反射防止性能が良好となる。

（防汚層）
防汚層５は、光学機能層４の密着層３と接する面と反対側の面上にある。防汚層５は、光学機能層４の最外面上にある。防汚層５は、光学機能層４の汚損を防止する。また、防汚層５は、タッチパネル等に適用する際のペン摺動によって光学機能層４が損耗することを抑制する。

防汚層５は、例えば、防汚性材料を蒸着させた蒸着膜である。防汚層５は、例えば、光学機能層４を構成する第２低屈折率層４２ｂの一面に、防汚性材料としてフッ素系化合物を真空蒸着することによって形成される。防汚層５がフッ素系化合物を含むと、ペンによる入力時に摺動を滑らかにすると同時に光学積層体１０のペン摺動耐性がより向上する。

防汚層５に含まれるフッ素系化合物は、例えばフッ素系有機化合物である。フッ素系有機化合物は、例えば、フッ素変性有機基と反応性シリル基（例えば、アルコキシシラン）とからなる化合物である。防汚層５に用いることができる市販品としては、オプツールＤＳＸ（ダイキン株式会社製）、ＫＹ－１００シリーズ（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。

防汚層５にフッ素変性有機基と反応性シリル基（例えば、アルコキシシラン）とからなる化合物を用い、光学機能層４の第２低屈折率層４２ｂにＳｉＯ_２を用いた場合、フッ素系有機化合物の骨格であるシラノール基とＳｉＯ_２と間でシロキサン結合が形成される。シロキサン結合は、光学機能層４と防汚層５との密着性を高める。

防汚層５の厚みは、例えば、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、好ましくは３ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。防汚層の厚みは、物理膜厚である。防汚層５の厚みが１ｎｍ以上であると、光学積層体１０をタッチパネル用途などに適用した際に、耐摩耗性を十分に確保できる。また防汚層５の厚みが２０ｎｍ以下であると、蒸着に要する時間が短時間で済み、効率よく製造できる。

防汚層５は、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤などの添加剤を含んでいてもよい。

蒸着によって形成された防汚層５は、光学機能層４と強固に結合し、空隙が少なく緻密である。そのため蒸着によって形成された防汚層５は、防汚性材料の塗布などの他の方法によって形成された防汚層５とは異なる特性を示す。蒸着によって形成された防汚層５は、摩耗しにくい。

次いで、本実施形態に係る光学積層体の製造方法について説明する。まず透明基材１を準備する。透明基材は、例えば、市販品を購入することで入手できる。

次いで、透明基材１の一面にハードコート層２を形成する。透明基材１上にハードコート層２となる材料を含むスラリーを塗布し、ハードコート層２となる材料を公知の方法により硬化させることで、ハードコート層２が得られる。透明基材１上にハードコート層２を形成する前に、必要に応じて表面を洗浄してもよい。透明基材１の表面の洗浄方法としては、例えば、溶剤洗浄、超音波洗浄などが挙げられる。透明基材１の洗浄を行うことにより、透明基材１の表面を除塵でき、表面が清浄化されるため、好ましい。また市販されているハードコート層２が形成された透明基材１を購入してもよい。

次いで、ハードコート層２上に、密着層３を形成する。密着層３の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いて製造できる。密着層３は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

次いで、ハードコート層２上に、光学機能層４を形成する。光学機能層４は、例えば、密着層３上に、第１高屈折率層４１ａ、第１低屈折率層４１ｂ、第２高屈折率層４２ａ、第２低屈折率層４２ｂを順に成膜する。第１高屈折率層４１ａ、第１低屈折率層４１ｂ、第２高屈折率層４２ａ、第２低屈折率層４２ｂのそれぞれは、例えば、スパッタリング法を用いて作製する。スパッタリング法の電源方法としてはＤＣ（直流）、ＲＦ（高周波）、ＭＦ（中周波）が挙げられる。光学機能層が酸化物膜からなる場合、ＤＣではスパッタリングできず、ＲＦでは生産性に劣る。このため、酸化物膜をスパッタリングする場合、スパッタリング装置としてはＭＦ電源を使用したデュアルマグネトロンスパッタ装置が好ましい。スパッタリング時の周波数として、２０ＫＨｚから６０ＫＨｚが好ましい。スパッタリング時の真空度は、例えば１．０Ｐａ以下である。またロールトゥロール方式で光学機能層４を形成する場合は、搬送速度（ラインスピード）を例えば、０．５ｍ／ｍｉｎ以上２０ｍ／ｍｉｎ以下とする。このような条件で光学機能層４を形成すると、光学機能層４の各層が緻密になる。

次いで、光学機能層４の第２低屈折率層４２ｂ上に、防汚層５を形成する。防汚層５の形成前に、光学機能層４の表面に対してプラズマ処理を行うことが好ましい。プラズマ処理によって第２低屈折率層４２の表面を改質すると、光学機能層４と防汚層５との密着性が高まる。プラズマ処理の際の積算出力は１３０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以上２０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２以下であることが好ましい。この範囲にあることで、耐摺動性が向上する。

防汚層５は、例えば、蒸着によって形成する。蒸着は、防汚層５となる材料を蒸気圧温度に加熱することで行う。蒸着時の真空度は、例えば１．０Ｐａ以下である。このような条件で防汚層５を形成すると、防汚層５が緻密になり、摩耗しにくくなる。

密着層３、光学機能層４の各層、防汚層５の成膜は、ロールトゥロールで減圧環境下で行うことが好ましい。上記手順を経ることで、光学積層体１０を作製できる。

第１実施形態にかかる光学積層体１０は、摺動前後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値の変化量Δｂ^＊値の絶対値が所定値以下である。摺動前後のｂ^＊値の変化量Δｂ^＊値が小さいと、明確な理由は分からないが、摺動試験後の摺動跡を視認しにくい。

以上、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。

光学積層体１０は、透明基材１、ハードコート層２、密着層３、光学機能層４及び防汚層５以外の層を有してもよい。また光学積層体１０は、透明基材１の光学機能層４などが形成された面と対向する面に、必要に応じて各種の層を有してもよい。例えば、他の部材との接着に用いられる粘着剤層が設けられていても良い。また、この粘着剤層を介して他の光学フィルムが設けられていても良い。他の光学フィルムは、例えば偏光フィルム、位相差補償フィルム、１／２波長板、１／４波長板として機能するフィルムなどがある。

また透明基材１の対向する面に、反射防止、選択反射、防眩、偏光、位相差補償、視野角補償又は拡大、導光、拡散、輝度向上、色相調整、導電などの機能を有する層が直接形成されていても良い。光学積層体１０の表面には、モスアイ、防眩機能を発現するナノオーダーの凹凸構造を形成してもよい。光学積層体１０の表面には、レンズ、プリズムなどのマイクロからミリオーダーの幾何学形状が形成されていてもよい。

また光学積層体１０は、様々な物品に適用できる。例えば、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネルなど、画像表示部の画面に光学積層体１０を設けてもよい。これにより、例えば、スマートフォンや操作機器のタッチパネル表示部が高い耐擦傷性を示し、実使用に好適な画像表示装置が得られる。

また物品は画像表示装置に限定されず、窓ガラス、ゴーグル、太陽電池の受光面、スマートフォンの画面やパーソナルコンピューターのディスプレイ、情報入力端末、タブレット端末、ＡＲ（拡張現実）デバイス、ＶＲ（仮想現実）デバイス、電光表示板、ガラステーブル表面、遊技機、航空機や電車などの運行支援装置、ナビゲーションシステム、計器盤、光学センサーの表面などに光学積層体１０を適用できる。

「実施例１」
透明基材１として、厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）からなるフィルムを用意した。そして、透明基材１上に、物理膜厚５μｍのハードコート層２を形成した。ハードコート層２は、表１に示す組成を有する塗布液を、バーコーターを用いて透明基材１上に塗布し、紫外線を照射して光重合させて、硬化させる方法により形成した。

続いて、ハードコート層２上に、スパッタリングターゲットとしてＳｉターゲットとＮｂターゲットとを用い、ＡｒガスとＯ_２ガスとの混合ガスを用いて反応性スパッタ法により、密着層３と、光学機能層４とを連続して形成した。

密着層３として、物理膜厚が３ｎｍで、酸素欠乏したＳｉ酸化物（ＳｉＯ_ｘ）を成膜した。光学機能層４の各層は、Ｎｂ_２Ｏ_５からなる第１高屈折率層４１ａと、ＳｉＯ_２からなる第１低屈折率層４１ｂと、Ｎｂ_２Ｏ_５からなる第２高屈折率層４２ａと、ＳｉＯ_２からなる第２低屈折率層４２ｂとをこの順に成膜した。それぞれの層の物理膜厚及び光学膜厚は表２及び表３に示す。密着層３及び光学機能層４は、ロールトゥロール方式で作成し、ラインスピードは２．０ｍ／ｍｉｎとした。スパッタリング装置としてＭＦデュアルマグネトロンスパッタ装置を用い、周波数は４０ＫＨｚとした。

次に、光学機能層４上に、蒸着チャンバー内圧力０．０１Ｐａ以下、蒸着温度２３０℃、ラインスピード２．０ｍ／ｍｉｎ、フッ素を有する有機化合物であるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物（ＫＹ－１９０１、信越化学工業株式会社製）からなる防汚層５を蒸着によって形成した。防汚層５の厚みは、５ｎｍとした。その後、ロール状に巻き取り、実施例１の光学積層体（反射防止フィルム）を得た。

作製した光学積層体の表面粗さＲａ、反射率、鉛筆硬度を測定した。表面粗さＲａは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定した。これらの結果を表４及び表５にまとめた。反射率は、分光光度計（日本分光株式会社製Ｖ－７７０）を用いて、反射スペクトルから求めた。鉛筆硬度は、ＪＩＳＫ５６００－５－４に準じて測定した。

光学積層体の表面に対してペン摺動試験を行った。ペン摺動試験は、以下の手順で行う。まず、光学積層体１０を防汚層５が表面にくるように、透明粘着剤シート（リンテック株式会社製）を用いて、１ｍｍ厚のガラスに貼合した。そして、ポリアセタール製のペン（先端形状が０．８ｍｍφ、ショアＤ硬度が４０）を用いて、摺動試験機（井本製作所製）を用いて直線的に摺動試験を行った。荷重は２５０ｇｆ、摺動回数は１０００回（５００回往復）、往復距離は５０ｍｍ、往復の速さは１秒間に２回（１往復）摺動した。

摺動試験前後の反射光の色度変化は、次のように求めた。ペン摺動試験サンプルのガラス裏面側に粘着剤付き黒色ＰＥＴフィルムを貼合し、オリンパス株式会社製ＵＳＰＭ－ＲＵ－Ｗを用いて、摺動前と摺動後のサンプルのそれぞれについて測定した。入射する光は、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光とした。光の入射角は０°とした。その結果を表４及び表５に示す。

また、得られた光学積層体について、光学積層体の表面に対する光の入射角を変えて、反射光の色度変化を求めた。反射光の色度変化は、アクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に光学積層体の透明基材側の面を貼付し、分光光度計（日本分光株式会社製Ｖ－７７０）を用いて測定した。入射する光は、標準光源Ｄ６５による波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光とした。光の入射角は５°と４５°のそれぞれで行った。その結果を表４及び表５に示す。

「実施例２～１３」
実施例２～１３は、透明基材１の材料、第１高屈折率層４１ａの厚さ、第１低屈折率層４１ｂの厚さ、第２高屈折率層４２ａの厚さ、第２低屈折率層４２ｂの厚さ、第１高屈折率層４１ａの材料、第２高屈折率層４２ａの材料、防汚層５の膜厚のうちの少なくとも一つを変更した点が実施例１と異なる。実施例１との変更点は、表２及び表３にまとめた。その他の条件は、実施例１と同様にし、実施例１と同様の評価を行った。その結果を表４及び表５にまとめた。

「比較例１～４」
実施例１～４は、透明基材１の材料、第１高屈折率層４１ａの厚さ、第１低屈折率層４１ｂの厚さ、第２高屈折率層４２ａの厚さ、第２低屈折率層４２ｂの厚さのうちの少なくとも一つを変更した点が実施例１と異なる。実施例１との変更点は、表２及び表３にまとめた。その他の条件は、実施例１と同様にし、実施例１と同様の評価を行った。その結果を表４及び表５にまとめた。

ペン摺動試験における目視判定は、目視で反射色にほとんど変化がない場合を「◎」、反射色がわずかに変化した場合を「〇」、反射色が著しく変化又は光学機能層４の一部が剥離した場合を「×」とした。

角度分光に於ける判定は以下のように行ない、総合評価とした。Δｂ^＊値の絶対値が６以下であるものを「○」、Δｂ^＊値の絶対値が６以下且つΔａ^＊値の絶対値が１０以下であるものを「◎」、｜ｂ^＊｜値が６以上であった場合を「×」とした。

１…透明基材、２…ハードコート層、３…密着層、４…光学機能層、４１ａ…第１高屈折率層、４１ｂ…第１低屈折率層、４２ａ…第２高屈折率層、４２ｂ…第２低屈折率層、５…防汚層、１０…光学積層体

Claims

透明基材とハードコート層と密着層と光学機能層と防汚層とが順に積層され、
ショアＤ硬度が４０で直径が０．８ｍｍの摺動具を用いて、荷重２５０ｇで５００往復の摺動試験をした際に、摺動箇所の摺動前後のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系におけるｂ^＊値の変化量Δｂ^＊の絶対値が１．９以下である、光学積層体。
前記光学機能層は、前記密着層に近い側から順に、第１高屈折率層と第１低屈折率層と第２高屈折率層と第２低屈折率層とを備え、
前記第１高屈折率層と前記第２高屈折率層のそれぞれは、前記第１低屈折率層と前記第２低屈折率層のそれぞれより屈折率が高く、
前記第１高屈折率層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、
前記第１低屈折率層の物理膜厚は、２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、
前記第２低屈折率層の物理膜厚は、７０ｎｍ以上８５ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
前記光学機能層は、前記密着層に近い側から順に、第１高屈折率層と第１低屈折率層と第２高屈折率層と第２低屈折率層とを備え、
前記第１高屈折率層と前記第２高屈折率層のそれぞれは、前記第１低屈折率層と前記第２低屈折率層のそれぞれより屈折率が高く、
前記第１高屈折率層の光学膜厚は、２０ｎｍ以上４８．８ｎｍ以下であり、
前記第１低屈折率層の光学膜厚は、２．９ｎｍ以上２１．９ｎｍ以下であり、
前記第２低屈折率層の光学膜厚は、１０２ｎｍ以上１２４．１ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
前記光学機能層の物理膜厚の総厚は、１７０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
前記光学機能層の光学膜厚の総厚は、３２０ｎｍ以上４１０ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
前記防汚層の物理膜厚は、２ｎｍ以上１０ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
前記光学機能層がスパッタリング膜である、請求項１に記載の光学積層体。
前記防汚層が蒸着膜である、請求項１に記載の光学積層体。
前記防汚層は、フッ素系化合物を含む、請求項１に記載の光学積層体。
請求項１～９のいずれか一項に記載の光学積層体を備える、物品。