JP2023140709A - Negative ion irradiation device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、負イオン照射装置に関する。 The present invention relates to a negative ion irradiation device.
従来、負イオン照射装置として、特許文献1に記載されたものが知られている。この負イオン照射装置は、チャンバ内へ負イオンの原料となるガスを供給するガス供給部と、チャンバ内において、プラズマを生成することで負イオンを生成する負イオン生成部と、を備えている。負イオン生成部は、プラズマによってチャンバ内で負イオンを生成することで、当該負イオンを対象物へ照射している。 Conventionally, as a negative ion irradiation device, one described in Patent Document 1 is known. This negative ion irradiation device includes a gas supply unit that supplies gas as a raw material for negative ions into a chamber, and a negative ion generation unit that generates negative ions by generating plasma in the chamber. . The negative ion generation unit generates negative ions in the chamber using plasma, and irradiates the object with the negative ions.
ここで、負イオンを照射する対象物は、基板のように所定の大きさを有するもののみならず、粉粒材料のように微細で流動性を有するものである場合もある。従って、粉粒材料へ負イオンを照射可能とすることが求められていた。 Here, the object to be irradiated with negative ions may not only have a predetermined size such as a substrate, but may also be a fine and fluid object such as a powder material. Therefore, it has been desired to be able to irradiate negative ions to powdered materials.
そこで本発明は、粉粒材料に対する負イオンの照射を可能とする負イオン照射装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a negative ion irradiation device that makes it possible to irradiate granular materials with negative ions.
上記課題を解決するため、本発明に係る負イオン照射装置は、粉粒材料に負イオンを照射する負イオン照射装置であって、プラズマを生成するプラズマ源と、プラズマ源から生成されるプラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバと、チャンバ内に配置され、粉粒材料を収容可能な容器と、を備え、容器は、収容した粉粒材料への負イオンの照射を可能とする第1の開口を有する。 In order to solve the above problems, a negative ion irradiation device according to the present invention is a negative ion irradiation device that irradiates powder material with negative ions, and includes a plasma source that generates plasma, and a plasma source that generates plasma. A chamber having a space in which negative ions can be supplied to the raw material, and a container disposed within the chamber and capable of accommodating the powdered material, the container capable of irradiating the contained powdered material with negative ions. The first opening has a first opening.
本発明に係る負イオン照射装置は、プラズマを生成するプラズマ源と、プラズマ源から生成されるプラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバと、を備える。そのため、チャンバ内では、プラズマと負イオンの原料とが反応することにより、負イオンが生成される。ここで、粉粒材料は、チャンバ内に配置される容器に収容される。この容器は、収容した粉粒材料への負イオンの照射を可能とする第1の開口を有する。従って、チャンバ内で生成された負イオンは、第1の開口を介して、容器に収容された粉粒材料に照射される。以上により、粉粒材料に対する負イオンの照射を可能とする。 A negative ion irradiation device according to the present invention includes a plasma source that generates plasma, and a chamber that has a space that can supply the plasma generated from the plasma source to a raw material for negative ions. Therefore, in the chamber, negative ions are generated by the reaction between the plasma and the negative ion raw material. Here, the granular material is contained in a container placed within the chamber. The container has a first opening that allows irradiation of the contained granular material with negative ions. Therefore, the negative ions generated within the chamber are irradiated onto the granular material contained in the container through the first opening. The above makes it possible to irradiate the powder material with negative ions.
容器は気体を通過可能な複数の第2の開口が形成されたフィルタ部を有してよい。チャンバに対して真空引きやガスパージを行う際、チャンバ内に空気の流れが形成される。容器は、フィルタ部で粉粒材料の舞い上がりを抑制する一方、第2の開口で気体の通過を可能とする。そのため、第2の開口は、真空引きの際には容器の内部の真空引きを可能とし、ガスパージの際は容器の内部へのガスパージを可能とする。 The container may have a filter portion formed with a plurality of second openings through which gas can pass. When a chamber is evacuated or purged with gas, an air flow is created within the chamber. The container suppresses the floating of powder material in the filter part, while allowing gas to pass through the second opening. Therefore, the second opening allows the inside of the container to be evacuated during evacuation, and allows gas to be purged into the inside of the container during gas purge.
容器は第1の開口を有する容器本体部と、容器本体部の第1の開口を覆う蓋部を備え、蓋部はフィルタ部を有してよい。この場合、容器本体部の第1の開口をフィルタ部で覆う状態と、第1の開口からフィルタ部を退避させる状態を、状況に応じて容易に切り替えることができる。 The container includes a container body having a first opening and a lid that covers the first opening of the container body, and the lid may have a filter. In this case, it is possible to easily switch between a state in which the first opening of the container main body is covered with the filter part and a state in which the filter part is retracted from the first opening depending on the situation.
容器本体部に蓋部を近づけた後、チャンバの真空引きを行ってよい。この場合、真空引きを行う際は、容器本体部に蓋部を近づけて覆うことで粉粒材料の舞い上がりを抑制することができる。 After bringing the lid close to the container body, the chamber may be evacuated. In this case, when vacuuming is performed, flying up of the powder material can be suppressed by bringing the lid close to the container body and covering it.
容器は容器本体部を有し、容器本体部は多孔性の材料で構成されることで、容器本体部が複数の第2の開口を有してよい。この場合、容器本体部は、粉粒材料を収容しながら、複数の第2の開口を介して、内部の真空引き等を行うことができる。 The container may have a container body, and the container body may be made of a porous material so that the container body has a plurality of second openings. In this case, the container body can perform vacuuming inside the container body through the plurality of second openings while accommodating the powder material.
チャンバ内を真空に保った状態で、粉粒材料を供給してよい。この場合、粉粒材料を繰り返しチャンバ内に供給する際に、毎回チャンバを大気圧に戻す手間を省略することができる。 The granular material may be supplied while maintaining a vacuum inside the chamber. In this case, when repeatedly supplying powdered material into the chamber, it is possible to omit the effort of returning the chamber to atmospheric pressure each time.
本発明によれば、粉粒材料に対する負イオンの照射を可能とする負イオン照射装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a negative ion irradiation device that makes it possible to irradiate a powder material with negative ions.
以下、添付図面を参照しながら本発明の一実施形態に係る負イオン照射装置について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A negative ion irradiation device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In addition, in the description of the drawings, the same elements are given the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
まず、図1を参照して、本発明の実施形態に係る負イオン照射装置の構成について説明する。図1は、本実施形態に係る負イオン照射装置の構成を示す概略断面図である。なお、説明の便宜上、図1には、XYZ座標系を示す。X軸方向は、対象物である粉粒材料の厚さ方向である。Y軸方向及びZ軸方向は、X軸方向と直交すると共に互いに直交する方向である。 First, with reference to FIG. 1, the configuration of a negative ion irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a negative ion irradiation device according to this embodiment. Note that for convenience of explanation, FIG. 1 shows an XYZ coordinate system. The X-axis direction is the thickness direction of the powder material that is the object. The Y-axis direction and the Z-axis direction are directions that are orthogonal to the X-axis direction and mutually orthogonal.
図1に示すように、本実施形態の負イオン照射装置1は、チャンバ2、対象物配置部3、負イオン生成部4、ガス供給部6、真空引き部7、ガスパージ部8、容器20、及び移動機構30と、を備えている。
As shown in FIG. 1, the negative ion irradiation device 1 of this embodiment includes a
チャンバ2は、粉粒材料11を収納し負イオンの照射処理を行うための部材である。チャンバ2は、内部で負イオンの生成が行われる部材である。チャンバ2は、プラズマガン14から生成されるプラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有する。チャンバ2は、導電性の材料からなり接地電位に接続されている。
The
チャンバ2は、X軸方向に対向する一対の壁部2a,2bと、Y軸方向に対向する一対の壁部2c,2dと、Z軸方向に対向する一対の壁部(不図示)と、を備える。なお、X軸方向の負側に壁部2aが配置され、正側に壁部2bが配置される。Y軸方向の負側に壁部2cが配置され、正側に壁部2dが配置される。なお、チャンバ2のZ軸方向の正側の壁部は、開閉扉として構成される。
The
対象物配置部3は、負イオンの照射対象物となる粉粒材料11を配置させる。対象物配置部3は、粉粒材料11を収容する容器20の容器本体部21を配置させる。対象物配置部3は、チャンバ2の壁部2aに設けられる。対象物配置部3は、導電性の材料によって構成される。対象物配置部3は、壁部2aに取り付けられて、X軸方向の正側に延びて、上端側で容器本体部21を支持する。対象物配置部3は、負イオンが粉粒材料11に導かれるように、電圧が印加されてよい。
The object arrangement unit 3 arranges a
負イオン照射の対称となる粉粒材料11として、例えば、シリカ粉末、カーボンブラックなどが採用される。粉粒材料11の粒径は特に限定されないが、後述の蓋部22で容器本体部21を覆わない場合に、真空引きによって粉粒の巻き上げが起こり得る大きさであると、本発明の効果がより顕著となる。従って、粉粒材料11の粒径は、例えば5~20μmであってよい。
For example, silica powder, carbon black, etc. are used as the
続いて、負イオン生成部4の構成について詳細に説明する。負イオン生成部4は、チャンバ2内において、プラズマ及び電子を生成し、これによって負イオン及びラジカル等を生成する。負イオン生成部4は、プラズマガン14(プラズマ源)と、陽極16と、を有している。
Next, the configuration of the negative
プラズマガン14は、例えば圧力勾配型のプラズマガンであり、その本体部分がチャンバ2の壁部2cに設けられて、チャンバ2の内部空間に接続されている。プラズマガン14は、チャンバ2内でプラズマPを生成する。プラズマガン14において生成されたプラズマPは、プラズマ口からチャンバ2の内部空間へビーム状に出射される。これにより、チャンバ2の内部空間にプラズマPが生成される。なお、図1は、蓋部22が閉じられた状態であるためプラズマPは生成されず、プラズマPは仮想線で示されている。
The
陽極16は、プラズマガンからのプラズマPを所望の位置へ導く機構である。陽極16は、プラズマPを誘導するための電磁石もしくは磁石を有する機構である。陽極16は、チャンバの壁部2dに設けられて、プラズマガン14とY軸方向に向かい合う位置に配置されている。これにより、プラズマPは、プラズマガン14から出射されてY軸方向の正側へ向かいながらチャンバ2の内部空間で広がった後、収束しながら陽極16へ導かれる。なお、プラズマガン14と陽極16との位置関係は、上述のものに限定されず、負イオンを生成することができる限り、どのような位置関係が採用されてもよい。
The
ガス供給部6は、チャンバ2の外部に配置されている。ガス供給部6は、壁部2dに形成されたガス供給口6aを通し、チャンバ2内へガスを供給する。ガス供給口6aは、負イオン生成部4と対象物配置部3との間に形成される。ここでは、ガス供給口6aは、壁部2dのX軸方向の負側の端部と、陽極16との間の位置に形成される。ただし、ガス供給口6aの位置は、特に限定されない。ガス供給部6は、負イオンの原料となるガスを供給する。ガスとして、例えば、O-などの負イオンの原料となるO2、NH-などの窒化物の負イオンの原料となるNH2、NH4、その他、C-やSi-などの負イオンの原料となるC2H6、SiH4などが採用される。つまり、電子親和力が正である原料が採用されると言える。なお、ガスは、放電を安定されるキャリアガスとしてArなどの希ガスも含む。
真空引き部7は、チャンバ2内の真空引きを行うことによって、チャンバ2の内部空間を真空に保つ。真空引き部7は、真空ポンプ7aと、真空引き口7bと、を有する。ここでは、真空引き口7bは、壁部2dのX軸方向の負側の端部と、陽極16との間の位置に形成される。真空引き口7bは、容器本体部21よりもX軸方向の負側に配置されている。ただし、真空引き口7bの位置は、特に限定されない。
The
ガスパージ部8は、チャンバ2内をパージすることで、チャンバ2の内部空間を大気圧まで加圧する。ガスパージ部8は、窒素などをパージガスとして供給する。ここで、ガスパージ部8のパージ口8aは、壁部2cのX軸方向の負側の端部と、プラズマガン14との間の位置に形成される。パージ口8aは、容器本体部21よりもX軸方向の負側に配置されている。ただし、パージ口8aの位置は、特に限定されない。
The gas purge unit 8 pressurizes the internal space of the
容器20は、チャンバ2内に配置され、粉粒材料11を収容可能な部材である。容器20は、容器本体部21と、蓋部22と、を備える。容器本体部21は、対象物配置部3上に配置される。容器本体部21は、X軸方向の負側においてYZ平面と平行に広がる底壁部21aと、底壁部21aの外周縁からX軸方向の正側へ立ち上がる側壁部21bと、を有する。容器本体部21は、底壁部21a及び側壁部21bで形成される内部空間内に粉粒材料11を収容する。容器本体部21のX軸方向の正側の端部には壁部が設けられておらず、開口21c(第1の開口)が形成されている。開口21cは、負イオン生成部4で負イオンが生成された場合に、粉粒材料11への負イオンの照射を可能とする。開口21cは、負イオンを通過させるための通路となる(図6参照)。容器本体部21の材質は特に限定されないが、例えば、タングステン、カーボンなどが採用されてよい。
The
蓋部22は、容器本体部21のX軸方向の正側の端部に着脱可能に取り付けられる部材である。蓋部22は、容器本体部21の開口21cを覆う部材である。ここで、容器20は複数の開口23(第2の開口)によって構成されるフィルタ部24を有する。本実施形態では、蓋部22が複数のフィルタ部24を有する。フィルタ部24の複数の開口23は、チャンバ2内の気体が通過可能であって、粉粒材料11を通過させない大きさを有している。複数の開口23の目の大きさは、粉粒材料11の粒子一つ分よりも小さいことが好ましい。そのため、容器本体部21の開口21cを蓋部22で閉じた場合、フィルタ部24は、真空引きの際に容器20内部の空気をチャンバ2の内部空間へ排出し、粉粒材料11がチャンバ2の内部空間に巻き上がることを抑制できる。このようなフィルタ部24の材料として、例えば高融点金属繊維かセラミックなどの繊維状フィルタ材料、タングステン、モリブデンなどの焼結体などが採用されてよい。また、粉粒材料11の粒子の粒径は、例えば5~20μmである。従って、フィルタ部24は、当該粉粒材料11の粒子よりも細かい目の開口23を有する。
The
図2を参照して、容器20の構成についてより詳細に説明する。図2に示すように、容器本体部21は、円板状の底壁部21aと、円筒状の側壁部21bと、を備える。また、容器本体部21は、円形の開口21cを有する。蓋部22は、円環状のフレーム26と、円板状のフィルタ部24を有する。フレーム26は、容器本体部21と同様な材料で構成される。フレーム26は上面側に、フィルタ部24を保持するための円形の溝部26aを有する。また、フレーム26は、容器本体部21に対しての、フィルタ部24を搭載したフレーム26の位置決めを行う円筒状のストッパ部26bを有する。なお、ストッパ部26bの形状は限定されず、テーパ形状などであってもよい。蓋部22は、ストッパ部26bよりも外周側の下面が側壁部21bの上面と接触することで、容器本体部21の開口21cを塞ぐ。
With reference to FIG. 2, the configuration of the
図1に戻り、移動機構30は、蓋部22をチャンバ2内で移動させる機構である。移動機構30は、蓋部22による容器本体部21の開口21cの開閉を切り替えるように、蓋部22を移動させる。本実施形態では、移動機構30は、蓋部22をX軸方向に沿って往復移動させる。具体的に、移動機構30は、蓋部22をX軸方向の正側の壁部2b付近へ退避させる退避位置PG1と、蓋部22で容器本体部21の開口21cを塞ぐ閉位置PG2と、の間で蓋部22を往復移動させる。本実施形態では、移動機構30は、壁部2bと蓋部22とを連結する多節のリンク機構によって構成される。移動機構30は、図示されない駆動源によってリンク機構をX軸方向に伸縮させることで、蓋部22をX軸方向に往復移動させる。移動機構30の端部は、蓋部22のうち、フレーム26に接続される(図2(b)参照)。
Returning to FIG. 1, the moving
なお、蓋部22のフィルタ部24の材料によっては、退避位置PG1に退避しても、プラズマPの熱を受けることで許容温度を超えてしまう可能性がある。従って、蓋部22自体や退避位置PG1付近に熱保護カバーや冷却構造を設け、フィルタ部24を冷却してもよい。
Note that depending on the material of the
次に、負イオン照射装置1の動作の一例について説明する。装置駆動前においては、チャンバ2内は大気開放された状態である。また、容器20には粉粒材料11が収容されていない状態である。まず、チャンバ2のZ軸方向の正側の開閉扉を開放し、図3に示すように、容器本体部21に粉粒材料11を収容する。このとき、蓋部22は退避位置PG1に退避されている。
Next, an example of the operation of the negative ion irradiation device 1 will be described. Before the device is driven, the inside of the
次に、チャンバ2の開閉扉を閉じる。また、図4に示すように、移動機構30によって蓋部22をX軸方向の負側へ移動させ、蓋部22を閉位置PG2へ配置する。これにより、容器本体部21の開口21cが蓋部22によって閉じられる。そして、真空引き部7は、バルブ7cを開いて真空ポンプ7aを動作させることで、チャンバ2の内部空間の真空引きを行う。チャンバ2内の空気G1は、真空引き口7bから排出される。このとき、容器20内の空気もフィルタ部24を通過して真空引き口7bへ吸引される。その一方、容器20内の粉粒材料11は、フィルタ部24で堰き止められることで、容器20内からチャンバ2内へ舞い上がることが抑制される。
Next, the door of
チャンバ2の内部空間の圧力が設計到達圧力に達したら、図5に示すように、移動機構30は、蓋部22をX軸方向の正側へ移動させて、蓋部22を退避位置PG1へ配置する。これにより、蓋部22のフィルタ部24は、プラズマに晒される空間から退避することができる。なお、その後も真空引き部7による真空引きは継続する。
When the pressure in the internal space of the
次に、図6に示すように、負イオン生成部4は、プラズマガン14でプラズマPを発生させると共に、陽極16で導く。また、ガス供給部6が、チャンバ2内に負イオンの原料となるガスG2を供給する。これにより、容器本体部21の上側の空間にプラズマPが通過すると共に、当該位置にて負イオンNが発生する。これにより、負イオンNは、開口21cを介して容器本体部21に収容された粉粒材料11に照射される。
Next, as shown in FIG. 6, the negative
図7に示すように、負イオンNの照射によって粉粒材料11への照射が完了したら、プラズマPの生成及び負イオンNの照射を停止する。また、真空引き部7は、バルブ7cを閉じて真空ポンプ7aを停止することで、真空引きを終了する。また、移動機構30によって蓋部22をX軸方向の負側へ移動させ、蓋部22を閉位置PG2へ配置する。これにより、容器本体部21の開口21cが蓋部22によって閉じられる。
As shown in FIG. 7, when the irradiation of the
更に、ガスパージ部8は、バルブ8bを開け、N2ガスなどのパージガスG3をチャンバ2の内部空間へパージする。これにより、チャンバ2内を大気圧まで加圧する。このとき、パージガスG3は、フィルタ部24を通過して容器20内へパージされる。その一方、容器20内の粉粒材料11は、フィルタ部24で堰き止められることで、容器20内からチャンバ2内へ舞い上がることが抑制される。チャンバ2内が大気圧まで加圧されたら、ガスパージ部8は、バルブ8bを閉じてパージを停止する。その後、移動機構30が蓋部22を退避位置PG1まで退避させて、再び図3から処理を繰り返す。
Furthermore, the gas purge unit 8 opens the
次に、本実施形態に係る負イオン照射装置1の作用・効果について説明する。 Next, the functions and effects of the negative ion irradiation device 1 according to this embodiment will be explained.
本実施形態に係る負イオン照射装置1は、プラズマを生成するプラズマガン14と、プラズマガン14から生成されるプラズマPを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバ2と、を備える。そのため、チャンバ2内では、プラズマPと負イオンの原料とが反応することにより、負イオンが生成される。ここで、粉粒材料11は、チャンバ2内に配置される容器20に収容される。この容器20は、収容した粉粒材料11への負イオンの照射を可能とする開口21cを有する。従って、チャンバ2内で生成された負イオンは、開口21cを介して、容器20に収容された粉粒材料11に照射される。以上により、粉粒材料11に対する負イオンの照射を可能とする。
The negative ion irradiation device 1 according to the present embodiment includes a
容器20は気体を通過可能な複数の開口23が形成されたフィルタ部24を有してよい。チャンバ2に対して真空引きやガスパージを行う際、チャンバ2内に空気の流れが形成される。容器20は、フィルタ部24で粉粒材料11の舞い上がりを抑制する一方、開口23で気体の通過を可能とする。そのため、開口23は、真空引きの際には容器20の内部の真空引きを可能とし、ガスパージの際は容器20の内部へのガスパージを可能とする。
The
容器20は開口21cを有する容器本体部21と、容器本体部21の開口21cを覆う蓋部22を備え、蓋部22はフィルタ部24を有してよい。この場合、容器本体部21の開口21cをフィルタ部24で覆う状態と、開口21cからフィルタ部24を退避させる状態を、状況に応じて容易に切り替えることができる。
The
容器本体部21に蓋部22を近づけた後、チャンバ2の真空引きを行ってよい。この場合、真空引きを行う際は、容器本体部21に蓋部22を近づけて覆うことで粉粒材料11の舞い上がりを抑制することができる。
After bringing the
容器20は容器本体部21を有し、容器本体部21は高融点材料であって多孔性の材料で構成されることで、容器本体部21が複数の開口23を有してよい。この場合、容器本体部21は、粉粒材料11を収容しながら、複数の開口23を介して、内部の真空引き等を行うことができる。なお、容器本体部21は、高融点材料に限られるものではなく、容器本体部21を冷却可能な冷却構造を備えてもよい。
The
本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。 The invention is not limited to the embodiments described above.
上述の実施形態では、新たな粉粒材料11を容器20に供給する時には、チャンバ2内を大気圧に戻している。これに対し、チャンバ2内を真空に保った状態で、粉粒材料11を供給してよい。この場合、粉粒材料11を繰り返しチャンバ2内に供給する際に、毎回チャンバ2を大気圧に戻す手間を省略することができる。
In the embodiment described above, when supplying
例えば、上記実施形態では、プラズマガン14を圧力勾配型のプラズマガンとしたが、プラズマガン14は、チャンバ2内にプラズマを生成できればよく、圧力勾配型のものには限られない。
For example, in the above embodiment, the
また、上記実施形態では、プラズマガン14とプラズマPを導く陽極16の組がチャンバ2内に一組だけ設けられていたが、複数組設けてもよい。また、一箇所に対して、複数のプラズマガン14からプラズマPを供給してもよい。
Further, in the above embodiment, only one set of the
気体を通過可能な複数の開口23を容器20のどこに設けるかは特に限定されない。図8に示すように、例えば、容器本体部21自体が、フィルタ部24を構成してもよい。この場合、図8(a)に示すように、容器本体部21は高融点材料であって多孔性の材料(モリブデン、タングステンなど)で構成されることで、容器本体部21がフィルタ部24を有する。容器本体部21は、側壁部21bの先端部から外周へ広がるフランジ部22dを有する。図8(b)に示すように、蓋部22は、円板状の本体部22aと、本体部22aの外周部に設けられた爪部22bと、を有する。これにより、移動機構30が蓋部22を閉位置PG2まで移動させたら、蓋部22の爪部22bが容器本体部21のフランジ部21dと係合する。当該状態で移動機構30が蓋部22を退避位置PG1まで移動させたら、容器本体部21も退避位置PG1まで移動する。この場合、容器本体部21自体が、真空引き部7の真空引きの影響を受けない位置まで退避できる。これにより、容器本体部21からの粉粒材料11の舞い上がりを抑制できる。また、容器本体部21自体がフィルタ部24を有しているため、容器本体部21の内部空間の真空引きが行われる。
There is no particular limitation on where in the
また、移動機構30は、蓋部22を移動可能なものであれば、上述のようなリンク機構に限定されない。例えば、シリンダなどのアクチュエータを用いて移動機構30を構成してもよい。
Furthermore, the moving
また、上述の実施形態では、移動機構30は、蓋部22をX軸方向に移動させていたが、移動機構が蓋部22をどのように移動させるかも特に限定されない。例えば、図9に示すように、移動機構は、蓋部22をY軸方向へスライド移動させてもよい。移動機構は、蓋部22をチャンバ2の端部側の退避位置PG3まで移動させてよい。更に、折り畳み可能な蓋部22である場合は、折り畳んでコンパクトにした上で、負イオン照射や真空引きの邪魔にならない退避位置PG4へ退避させてよい。
Furthermore, in the above embodiment, the moving
1…負イオン照射装置、2…チャンバ、11…粉粒材料、14…プラズマガン(プラズマ源)、20…容器、21…容器本体部、21c…開口(第1の開口)、22…蓋部、23...開口(第2の開口)。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Negative ion irradiation device, 2... Chamber, 11... Powder material, 14... Plasma gun (plasma source), 20... Container, 21... Container body part, 21c... Opening (1st opening), 22... Lid part , 23. .. .. Aperture (second aperture).
Claims (6)
プラズマを生成するプラズマ源と、
前記プラズマ源から生成される前記プラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバと、
前記チャンバ内に配置され、前記粉粒材料を収容可能な容器と、を備え、
前記容器は、収容した前記粉粒材料への前記負イオンの照射を可能とする第1の開口を有する、負イオン照射装置。 A negative ion irradiation device that irradiates powder material with negative ions,
a plasma source that generates plasma;
a chamber having a space capable of supplying the plasma generated from the plasma source to a raw material for negative ions;
a container disposed within the chamber and capable of accommodating the powder material;
A negative ion irradiation device, wherein the container has a first opening that enables irradiation of the negative ions to the contained powder material.
The negative ion irradiation device according to any one of claims 1 to 5, wherein the powder material is supplied while the inside of the chamber is kept in a vacuum.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022046683A JP2023140709A (en) | 2022-03-23 | 2022-03-23 | Negative ion irradiation device |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2022046683A JP2023140709A (en) | 2022-03-23 | 2022-03-23 | Negative ion irradiation device |
Publications (1)
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JP2023140709A true JP2023140709A (en) | 2023-10-05 |
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ID=88205328
Family Applications (1)
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JP2022046683A Pending JP2023140709A (en) | 2022-03-23 | 2022-03-23 | Negative ion irradiation device |
Country Status (1)
Country | Link |
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-
2022
- 2022-03-23 JP JP2022046683A patent/JP2023140709A/en active Pending
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