JP2023140709A - Negative ion irradiation device - Google Patents

Negative ion irradiation device Download PDF

Info

Publication number
JP2023140709A
JP2023140709A JP2022046683A JP2022046683A JP2023140709A JP 2023140709 A JP2023140709 A JP 2023140709A JP 2022046683 A JP2022046683 A JP 2022046683A JP 2022046683 A JP2022046683 A JP 2022046683A JP 2023140709 A JP2023140709 A JP 2023140709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container
chamber
negative ion
plasma
ion irradiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022046683A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
雅仁 一色
Masahito Isshiki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2022046683A priority Critical patent/JP2023140709A/en
Publication of JP2023140709A publication Critical patent/JP2023140709A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

To provide a negative ion irradiation device which can irradiate a granular material with negative ions.SOLUTION: A negative ion irradiation device 1 includes: a plasma gun 14 which generates plasma; and a chamber 2 which has a space which can supply plasma p generated by the plasma gun 14 to a raw material of negative ions. Therefore, negative ions are generated by allowing the plasma P to react with the raw material of the negative ions in the chamber 2. In this case, a granular material 11 is stored in a container 20 arranged in the chamber 2. The container 20 has an opening 21c which can irradiate the stored granular material 11 with negative ions. Therefore, the granular material 11 stored in the container 20 is irradiated with the negative ions generated in the chamber 2 through the opening 21c. Thus, the granular material 11 can be irradiated with the negative ions.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、負イオン照射装置に関する。 The present invention relates to a negative ion irradiation device.

従来、負イオン照射装置として、特許文献1に記載されたものが知られている。この負イオン照射装置は、チャンバ内へ負イオンの原料となるガスを供給するガス供給部と、チャンバ内において、プラズマを生成することで負イオンを生成する負イオン生成部と、を備えている。負イオン生成部は、プラズマによってチャンバ内で負イオンを生成することで、当該負イオンを対象物へ照射している。 Conventionally, as a negative ion irradiation device, one described in Patent Document 1 is known. This negative ion irradiation device includes a gas supply unit that supplies gas as a raw material for negative ions into a chamber, and a negative ion generation unit that generates negative ions by generating plasma in the chamber. . The negative ion generation unit generates negative ions in the chamber using plasma, and irradiates the object with the negative ions.

特開2017-025407号公報JP2017-025407A

ここで、負イオンを照射する対象物は、基板のように所定の大きさを有するもののみならず、粉粒材料のように微細で流動性を有するものである場合もある。従って、粉粒材料へ負イオンを照射可能とすることが求められていた。 Here, the object to be irradiated with negative ions may not only have a predetermined size such as a substrate, but may also be a fine and fluid object such as a powder material. Therefore, it has been desired to be able to irradiate negative ions to powdered materials.

そこで本発明は、粉粒材料に対する負イオンの照射を可能とする負イオン照射装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a negative ion irradiation device that makes it possible to irradiate granular materials with negative ions.

上記課題を解決するため、本発明に係る負イオン照射装置は、粉粒材料に負イオンを照射する負イオン照射装置であって、プラズマを生成するプラズマ源と、プラズマ源から生成されるプラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバと、チャンバ内に配置され、粉粒材料を収容可能な容器と、を備え、容器は、収容した粉粒材料への負イオンの照射を可能とする第1の開口を有する。 In order to solve the above problems, a negative ion irradiation device according to the present invention is a negative ion irradiation device that irradiates powder material with negative ions, and includes a plasma source that generates plasma, and a plasma source that generates plasma. A chamber having a space in which negative ions can be supplied to the raw material, and a container disposed within the chamber and capable of accommodating the powdered material, the container capable of irradiating the contained powdered material with negative ions. The first opening has a first opening.

本発明に係る負イオン照射装置は、プラズマを生成するプラズマ源と、プラズマ源から生成されるプラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバと、を備える。そのため、チャンバ内では、プラズマと負イオンの原料とが反応することにより、負イオンが生成される。ここで、粉粒材料は、チャンバ内に配置される容器に収容される。この容器は、収容した粉粒材料への負イオンの照射を可能とする第1の開口を有する。従って、チャンバ内で生成された負イオンは、第1の開口を介して、容器に収容された粉粒材料に照射される。以上により、粉粒材料に対する負イオンの照射を可能とする。 A negative ion irradiation device according to the present invention includes a plasma source that generates plasma, and a chamber that has a space that can supply the plasma generated from the plasma source to a raw material for negative ions. Therefore, in the chamber, negative ions are generated by the reaction between the plasma and the negative ion raw material. Here, the granular material is contained in a container placed within the chamber. The container has a first opening that allows irradiation of the contained granular material with negative ions. Therefore, the negative ions generated within the chamber are irradiated onto the granular material contained in the container through the first opening. The above makes it possible to irradiate the powder material with negative ions.

容器は気体を通過可能な複数の第2の開口が形成されたフィルタ部を有してよい。チャンバに対して真空引きやガスパージを行う際、チャンバ内に空気の流れが形成される。容器は、フィルタ部で粉粒材料の舞い上がりを抑制する一方、第2の開口で気体の通過を可能とする。そのため、第2の開口は、真空引きの際には容器の内部の真空引きを可能とし、ガスパージの際は容器の内部へのガスパージを可能とする。 The container may have a filter portion formed with a plurality of second openings through which gas can pass. When a chamber is evacuated or purged with gas, an air flow is created within the chamber. The container suppresses the floating of powder material in the filter part, while allowing gas to pass through the second opening. Therefore, the second opening allows the inside of the container to be evacuated during evacuation, and allows gas to be purged into the inside of the container during gas purge.

容器は第1の開口を有する容器本体部と、容器本体部の第1の開口を覆う蓋部を備え、蓋部はフィルタ部を有してよい。この場合、容器本体部の第1の開口をフィルタ部で覆う状態と、第1の開口からフィルタ部を退避させる状態を、状況に応じて容易に切り替えることができる。 The container includes a container body having a first opening and a lid that covers the first opening of the container body, and the lid may have a filter. In this case, it is possible to easily switch between a state in which the first opening of the container main body is covered with the filter part and a state in which the filter part is retracted from the first opening depending on the situation.

容器本体部に蓋部を近づけた後、チャンバの真空引きを行ってよい。この場合、真空引きを行う際は、容器本体部に蓋部を近づけて覆うことで粉粒材料の舞い上がりを抑制することができる。 After bringing the lid close to the container body, the chamber may be evacuated. In this case, when vacuuming is performed, flying up of the powder material can be suppressed by bringing the lid close to the container body and covering it.

容器は容器本体部を有し、容器本体部は多孔性の材料で構成されることで、容器本体部が複数の第2の開口を有してよい。この場合、容器本体部は、粉粒材料を収容しながら、複数の第2の開口を介して、内部の真空引き等を行うことができる。 The container may have a container body, and the container body may be made of a porous material so that the container body has a plurality of second openings. In this case, the container body can perform vacuuming inside the container body through the plurality of second openings while accommodating the powder material.

チャンバ内を真空に保った状態で、粉粒材料を供給してよい。この場合、粉粒材料を繰り返しチャンバ内に供給する際に、毎回チャンバを大気圧に戻す手間を省略することができる。 The granular material may be supplied while maintaining a vacuum inside the chamber. In this case, when repeatedly supplying powdered material into the chamber, it is possible to omit the effort of returning the chamber to atmospheric pressure each time.

本発明によれば、粉粒材料に対する負イオンの照射を可能とする負イオン照射装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a negative ion irradiation device that makes it possible to irradiate a powder material with negative ions.

本実施形態に係る負イオン照射装置の構成を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a negative ion irradiation device according to the present embodiment. 容器の詳細な構成を示す図である。It is a figure showing the detailed structure of a container. 負イオン照射装置の動作の手順を示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing the procedure of operation of a negative ion irradiation device. 負イオン照射装置の動作の手順を示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing the procedure of operation of a negative ion irradiation device. 負イオン照射装置の動作の手順を示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing the procedure of operation of a negative ion irradiation device. 負イオン照射装置の動作の手順を示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing the procedure of operation of a negative ion irradiation device. 負イオン照射装置の動作の手順を示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing the procedure of operation of a negative ion irradiation device. 変形例に係る負イオン照射装置を示す図である。It is a figure showing a negative ion irradiation device concerning a modification. 変形例に係る負イオン照射装置を示す図である。It is a figure showing a negative ion irradiation device concerning a modification.

以下、添付図面を参照しながら本発明の一実施形態に係る負イオン照射装置について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A negative ion irradiation device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In addition, in the description of the drawings, the same elements are given the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

まず、図1を参照して、本発明の実施形態に係る負イオン照射装置の構成について説明する。図1は、本実施形態に係る負イオン照射装置の構成を示す概略断面図である。なお、説明の便宜上、図1には、XYZ座標系を示す。X軸方向は、対象物である粉粒材料の厚さ方向である。Y軸方向及びZ軸方向は、X軸方向と直交すると共に互いに直交する方向である。 First, with reference to FIG. 1, the configuration of a negative ion irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a negative ion irradiation device according to this embodiment. Note that for convenience of explanation, FIG. 1 shows an XYZ coordinate system. The X-axis direction is the thickness direction of the powder material that is the object. The Y-axis direction and the Z-axis direction are directions that are orthogonal to the X-axis direction and mutually orthogonal.

図1に示すように、本実施形態の負イオン照射装置1は、チャンバ2、対象物配置部3、負イオン生成部4、ガス供給部6、真空引き部7、ガスパージ部8、容器20、及び移動機構30と、を備えている。 As shown in FIG. 1, the negative ion irradiation device 1 of this embodiment includes a chamber 2, an object placement section 3, a negative ion generation section 4, a gas supply section 6, a vacuum evacuation section 7, a gas purge section 8, a container 20, and a moving mechanism 30.

チャンバ2は、粉粒材料11を収納し負イオンの照射処理を行うための部材である。チャンバ2は、内部で負イオンの生成が行われる部材である。チャンバ2は、プラズマガン14から生成されるプラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有する。チャンバ2は、導電性の材料からなり接地電位に接続されている。 The chamber 2 is a member for storing the powder material 11 and performing negative ion irradiation treatment. The chamber 2 is a member in which negative ions are generated. The chamber 2 has a space in which plasma generated from the plasma gun 14 can be supplied to the raw material of negative ions. Chamber 2 is made of conductive material and is connected to ground potential.

チャンバ2は、X軸方向に対向する一対の壁部2a,2bと、Y軸方向に対向する一対の壁部2c,2dと、Z軸方向に対向する一対の壁部(不図示)と、を備える。なお、X軸方向の負側に壁部2aが配置され、正側に壁部2bが配置される。Y軸方向の負側に壁部2cが配置され、正側に壁部2dが配置される。なお、チャンバ2のZ軸方向の正側の壁部は、開閉扉として構成される。 The chamber 2 includes a pair of walls 2a and 2b facing each other in the X-axis direction, a pair of walls 2c and 2d facing each other in the Y-axis direction, and a pair of walls (not shown) facing each other in the Z-axis direction. Equipped with Note that the wall portion 2a is placed on the negative side in the X-axis direction, and the wall portion 2b is placed on the positive side. The wall portion 2c is arranged on the negative side in the Y-axis direction, and the wall portion 2d is arranged on the positive side. Note that the wall portion on the positive side of the chamber 2 in the Z-axis direction is configured as an opening/closing door.

対象物配置部3は、負イオンの照射対象物となる粉粒材料11を配置させる。対象物配置部3は、粉粒材料11を収容する容器20の容器本体部21を配置させる。対象物配置部3は、チャンバ2の壁部2aに設けられる。対象物配置部3は、導電性の材料によって構成される。対象物配置部3は、壁部2aに取り付けられて、X軸方向の正側に延びて、上端側で容器本体部21を支持する。対象物配置部3は、負イオンが粉粒材料11に導かれるように、電圧が印加されてよい。 The object arrangement unit 3 arranges a powder material 11 that becomes an object to be irradiated with negative ions. The object arrangement section 3 arranges the container body section 21 of the container 20 that accommodates the powdered material 11 . The object placement section 3 is provided on the wall 2 a of the chamber 2 . The object placement section 3 is made of a conductive material. The object arrangement section 3 is attached to the wall section 2a, extends toward the positive side in the X-axis direction, and supports the container main body section 21 at the upper end side. A voltage may be applied to the object placement section 3 so that negative ions are guided to the powder material 11.

負イオン照射の対称となる粉粒材料11として、例えば、シリカ粉末、カーボンブラックなどが採用される。粉粒材料11の粒径は特に限定されないが、後述の蓋部22で容器本体部21を覆わない場合に、真空引きによって粉粒の巻き上げが起こり得る大きさであると、本発明の効果がより顕著となる。従って、粉粒材料11の粒径は、例えば5~20μmであってよい。 For example, silica powder, carbon black, etc. are used as the powder material 11 to which negative ion irradiation is applied. The particle size of the powdered material 11 is not particularly limited, but the effect of the present invention can be improved if the particle size is such that the powder particles may be rolled up by vacuuming when the container body 21 is not covered with the lid 22 described below. It becomes more noticeable. Therefore, the particle size of the powder material 11 may be, for example, 5 to 20 μm.

続いて、負イオン生成部4の構成について詳細に説明する。負イオン生成部4は、チャンバ2内において、プラズマ及び電子を生成し、これによって負イオン及びラジカル等を生成する。負イオン生成部4は、プラズマガン14(プラズマ源)と、陽極16と、を有している。 Next, the configuration of the negative ion generation section 4 will be explained in detail. The negative ion generation unit 4 generates plasma and electrons in the chamber 2, thereby generating negative ions, radicals, and the like. The negative ion generation unit 4 includes a plasma gun 14 (plasma source) and an anode 16.

プラズマガン14は、例えば圧力勾配型のプラズマガンであり、その本体部分がチャンバ2の壁部2cに設けられて、チャンバ2の内部空間に接続されている。プラズマガン14は、チャンバ2内でプラズマPを生成する。プラズマガン14において生成されたプラズマPは、プラズマ口からチャンバ2の内部空間へビーム状に出射される。これにより、チャンバ2の内部空間にプラズマPが生成される。なお、図1は、蓋部22が閉じられた状態であるためプラズマPは生成されず、プラズマPは仮想線で示されている。 The plasma gun 14 is, for example, a pressure gradient type plasma gun, and its main body is provided on the wall 2c of the chamber 2 and connected to the internal space of the chamber 2. The plasma gun 14 generates plasma P within the chamber 2 . The plasma P generated in the plasma gun 14 is emitted into the interior space of the chamber 2 from the plasma port in the form of a beam. As a result, plasma P is generated in the internal space of the chamber 2. In addition, in FIG. 1, since the lid portion 22 is in a closed state, plasma P is not generated, and the plasma P is shown by a virtual line.

陽極16は、プラズマガンからのプラズマPを所望の位置へ導く機構である。陽極16は、プラズマPを誘導するための電磁石もしくは磁石を有する機構である。陽極16は、チャンバの壁部2dに設けられて、プラズマガン14とY軸方向に向かい合う位置に配置されている。これにより、プラズマPは、プラズマガン14から出射されてY軸方向の正側へ向かいながらチャンバ2の内部空間で広がった後、収束しながら陽極16へ導かれる。なお、プラズマガン14と陽極16との位置関係は、上述のものに限定されず、負イオンを生成することができる限り、どのような位置関係が採用されてもよい。 The anode 16 is a mechanism that guides plasma P from the plasma gun to a desired position. The anode 16 is a mechanism having an electromagnet or a magnet for inducing plasma P. The anode 16 is provided on the wall 2d of the chamber and is disposed at a position facing the plasma gun 14 in the Y-axis direction. Thereby, the plasma P is emitted from the plasma gun 14, spreads in the internal space of the chamber 2 while heading toward the positive side in the Y-axis direction, and is then guided to the anode 16 while converging. Note that the positional relationship between the plasma gun 14 and the anode 16 is not limited to that described above, and any positional relationship may be adopted as long as negative ions can be generated.

ガス供給部6は、チャンバ2の外部に配置されている。ガス供給部6は、壁部2dに形成されたガス供給口6aを通し、チャンバ2内へガスを供給する。ガス供給口6aは、負イオン生成部4と対象物配置部3との間に形成される。ここでは、ガス供給口6aは、壁部2dのX軸方向の負側の端部と、陽極16との間の位置に形成される。ただし、ガス供給口6aの位置は、特に限定されない。ガス供給部6は、負イオンの原料となるガスを供給する。ガスとして、例えば、Oなどの負イオンの原料となるO、NHなどの窒化物の負イオンの原料となるNH、NH、その他、CやSiなどの負イオンの原料となるC、SiHなどが採用される。つまり、電子親和力が正である原料が採用されると言える。なお、ガスは、放電を安定されるキャリアガスとしてArなどの希ガスも含む。 Gas supply unit 6 is arranged outside chamber 2 . The gas supply section 6 supplies gas into the chamber 2 through a gas supply port 6a formed in the wall section 2d. The gas supply port 6 a is formed between the negative ion generation section 4 and the object placement section 3 . Here, the gas supply port 6a is formed at a position between the negative end of the wall portion 2d in the X-axis direction and the anode 16. However, the position of the gas supply port 6a is not particularly limited. The gas supply unit 6 supplies gas that is a raw material for negative ions. Gases include, for example, O 2 which is a raw material for negative ions such as O - , NH 2 and NH 4 which are raw materials for negative ions of nitrides such as NH - , and other raw materials for negative ions such as C - and Si - . C 2 H 6 , SiH 4 and the like are used. In other words, it can be said that raw materials with positive electron affinity are used. Note that the gas also includes a rare gas such as Ar as a carrier gas that stabilizes the discharge.

真空引き部7は、チャンバ2内の真空引きを行うことによって、チャンバ2の内部空間を真空に保つ。真空引き部7は、真空ポンプ7aと、真空引き口7bと、を有する。ここでは、真空引き口7bは、壁部2dのX軸方向の負側の端部と、陽極16との間の位置に形成される。真空引き口7bは、容器本体部21よりもX軸方向の負側に配置されている。ただし、真空引き口7bの位置は、特に限定されない。 The evacuation unit 7 maintains the internal space of the chamber 2 in a vacuum by evacuating the inside of the chamber 2 . The evacuation section 7 includes a vacuum pump 7a and a vacuum evacuation port 7b. Here, the vacuum outlet 7b is formed at a position between the negative end of the wall portion 2d in the X-axis direction and the anode 16. The vacuum outlet 7b is arranged on the negative side of the container main body 21 in the X-axis direction. However, the position of the vacuum outlet 7b is not particularly limited.

ガスパージ部8は、チャンバ2内をパージすることで、チャンバ2の内部空間を大気圧まで加圧する。ガスパージ部8は、窒素などをパージガスとして供給する。ここで、ガスパージ部8のパージ口8aは、壁部2cのX軸方向の負側の端部と、プラズマガン14との間の位置に形成される。パージ口8aは、容器本体部21よりもX軸方向の負側に配置されている。ただし、パージ口8aの位置は、特に限定されない。 The gas purge unit 8 pressurizes the internal space of the chamber 2 to atmospheric pressure by purging the inside of the chamber 2 . The gas purge unit 8 supplies nitrogen or the like as a purge gas. Here, the purge port 8a of the gas purge section 8 is formed at a position between the negative end of the wall section 2c in the X-axis direction and the plasma gun 14. The purge port 8a is arranged on the negative side of the container body 21 in the X-axis direction. However, the position of the purge port 8a is not particularly limited.

容器20は、チャンバ2内に配置され、粉粒材料11を収容可能な部材である。容器20は、容器本体部21と、蓋部22と、を備える。容器本体部21は、対象物配置部3上に配置される。容器本体部21は、X軸方向の負側においてYZ平面と平行に広がる底壁部21aと、底壁部21aの外周縁からX軸方向の正側へ立ち上がる側壁部21bと、を有する。容器本体部21は、底壁部21a及び側壁部21bで形成される内部空間内に粉粒材料11を収容する。容器本体部21のX軸方向の正側の端部には壁部が設けられておらず、開口21c(第1の開口)が形成されている。開口21cは、負イオン生成部4で負イオンが生成された場合に、粉粒材料11への負イオンの照射を可能とする。開口21cは、負イオンを通過させるための通路となる(図6参照)。容器本体部21の材質は特に限定されないが、例えば、タングステン、カーボンなどが採用されてよい。 The container 20 is a member that is disposed within the chamber 2 and is capable of accommodating the granular material 11. The container 20 includes a container body 21 and a lid 22. The container main body part 21 is arranged on the object arrangement part 3. The container main body part 21 has a bottom wall part 21a that extends parallel to the YZ plane on the negative side of the X-axis direction, and a side wall part 21b that rises from the outer peripheral edge of the bottom wall part 21a toward the positive side of the X-axis direction. The container main body part 21 accommodates the granular material 11 in an internal space formed by a bottom wall part 21a and a side wall part 21b. A wall is not provided at the positive end of the container main body 21 in the X-axis direction, and an opening 21c (first opening) is formed. The opening 21c enables irradiation of the powder material 11 with negative ions when negative ions are generated in the negative ion generating section 4. The opening 21c becomes a passage for passing negative ions (see FIG. 6). Although the material of the container body 21 is not particularly limited, for example, tungsten, carbon, etc. may be used.

蓋部22は、容器本体部21のX軸方向の正側の端部に着脱可能に取り付けられる部材である。蓋部22は、容器本体部21の開口21cを覆う部材である。ここで、容器20は複数の開口23(第2の開口)によって構成されるフィルタ部24を有する。本実施形態では、蓋部22が複数のフィルタ部24を有する。フィルタ部24の複数の開口23は、チャンバ2内の気体が通過可能であって、粉粒材料11を通過させない大きさを有している。複数の開口23の目の大きさは、粉粒材料11の粒子一つ分よりも小さいことが好ましい。そのため、容器本体部21の開口21cを蓋部22で閉じた場合、フィルタ部24は、真空引きの際に容器20内部の空気をチャンバ2の内部空間へ排出し、粉粒材料11がチャンバ2の内部空間に巻き上がることを抑制できる。このようなフィルタ部24の材料として、例えば高融点金属繊維かセラミックなどの繊維状フィルタ材料、タングステン、モリブデンなどの焼結体などが採用されてよい。また、粉粒材料11の粒子の粒径は、例えば5~20μmである。従って、フィルタ部24は、当該粉粒材料11の粒子よりも細かい目の開口23を有する。 The lid portion 22 is a member that is detachably attached to the positive end of the container body portion 21 in the X-axis direction. The lid portion 22 is a member that covers the opening 21c of the container body portion 21. Here, the container 20 has a filter section 24 formed by a plurality of openings 23 (second openings). In this embodiment, the lid part 22 has a plurality of filter parts 24. The plurality of openings 23 of the filter section 24 have a size that allows the gas in the chamber 2 to pass therethrough, but does not allow the granular material 11 to pass therethrough. The size of the plurality of openings 23 is preferably smaller than one particle of the powdered material 11. Therefore, when the opening 21c of the container main body part 21 is closed with the lid part 22, the filter part 24 discharges the air inside the container 20 into the internal space of the chamber 2 when vacuuming, and the particulate material 11 enters the chamber 2. It is possible to prevent the material from rolling up into the internal space. As a material for such a filter portion 24, for example, a fibrous filter material such as high melting point metal fiber or ceramic, a sintered body of tungsten, molybdenum, etc. may be employed. Further, the particle size of the powder material 11 is, for example, 5 to 20 μm. Therefore, the filter section 24 has openings 23 that are finer than the particles of the powder material 11.

図2を参照して、容器20の構成についてより詳細に説明する。図2に示すように、容器本体部21は、円板状の底壁部21aと、円筒状の側壁部21bと、を備える。また、容器本体部21は、円形の開口21cを有する。蓋部22は、円環状のフレーム26と、円板状のフィルタ部24を有する。フレーム26は、容器本体部21と同様な材料で構成される。フレーム26は上面側に、フィルタ部24を保持するための円形の溝部26aを有する。また、フレーム26は、容器本体部21に対しての、フィルタ部24を搭載したフレーム26の位置決めを行う円筒状のストッパ部26bを有する。なお、ストッパ部26bの形状は限定されず、テーパ形状などであってもよい。蓋部22は、ストッパ部26bよりも外周側の下面が側壁部21bの上面と接触することで、容器本体部21の開口21cを塞ぐ。 With reference to FIG. 2, the configuration of the container 20 will be described in more detail. As shown in FIG. 2, the container body 21 includes a disk-shaped bottom wall 21a and a cylindrical side wall 21b. Further, the container main body portion 21 has a circular opening 21c. The lid part 22 has an annular frame 26 and a disc-shaped filter part 24. The frame 26 is made of the same material as the container body 21. The frame 26 has a circular groove 26a on the upper surface side for holding the filter section 24. Further, the frame 26 has a cylindrical stopper portion 26b that positions the frame 26 on which the filter portion 24 is mounted with respect to the container body portion 21. Note that the shape of the stopper portion 26b is not limited, and may be a tapered shape or the like. The lid part 22 closes the opening 21c of the container main body part 21 by having the lower surface on the outer peripheral side of the stopper part 26b contacting the upper surface of the side wall part 21b.

図1に戻り、移動機構30は、蓋部22をチャンバ2内で移動させる機構である。移動機構30は、蓋部22による容器本体部21の開口21cの開閉を切り替えるように、蓋部22を移動させる。本実施形態では、移動機構30は、蓋部22をX軸方向に沿って往復移動させる。具体的に、移動機構30は、蓋部22をX軸方向の正側の壁部2b付近へ退避させる退避位置PG1と、蓋部22で容器本体部21の開口21cを塞ぐ閉位置PG2と、の間で蓋部22を往復移動させる。本実施形態では、移動機構30は、壁部2bと蓋部22とを連結する多節のリンク機構によって構成される。移動機構30は、図示されない駆動源によってリンク機構をX軸方向に伸縮させることで、蓋部22をX軸方向に往復移動させる。移動機構30の端部は、蓋部22のうち、フレーム26に接続される(図2(b)参照)。 Returning to FIG. 1, the moving mechanism 30 is a mechanism that moves the lid part 22 within the chamber 2. The moving mechanism 30 moves the lid 22 so that the lid 22 opens and closes the opening 21c of the container body 21. In this embodiment, the moving mechanism 30 reciprocates the lid portion 22 along the X-axis direction. Specifically, the moving mechanism 30 has a retracted position PG1 in which the lid 22 is retracted to the vicinity of the positive side wall 2b in the X-axis direction, and a closed position PG2 in which the lid 22 closes the opening 21c of the container body 21. The lid portion 22 is moved back and forth between the two locations. In this embodiment, the moving mechanism 30 is configured by a multi-joint link mechanism that connects the wall portion 2b and the lid portion 22. The moving mechanism 30 moves the lid part 22 back and forth in the X-axis direction by expanding and contracting the link mechanism in the X-axis direction by a drive source (not shown). An end portion of the moving mechanism 30 is connected to the frame 26 of the lid portion 22 (see FIG. 2(b)).

なお、蓋部22のフィルタ部24の材料によっては、退避位置PG1に退避しても、プラズマPの熱を受けることで許容温度を超えてしまう可能性がある。従って、蓋部22自体や退避位置PG1付近に熱保護カバーや冷却構造を設け、フィルタ部24を冷却してもよい。 Note that depending on the material of the filter section 24 of the lid section 22, even if the filter section 24 is evacuated to the evacuation position PG1, the temperature may exceed the allowable temperature due to the heat of the plasma P. Therefore, the filter section 24 may be cooled by providing a thermal protection cover or a cooling structure on the lid section 22 itself or in the vicinity of the retracted position PG1.

次に、負イオン照射装置1の動作の一例について説明する。装置駆動前においては、チャンバ2内は大気開放された状態である。また、容器20には粉粒材料11が収容されていない状態である。まず、チャンバ2のZ軸方向の正側の開閉扉を開放し、図3に示すように、容器本体部21に粉粒材料11を収容する。このとき、蓋部22は退避位置PG1に退避されている。 Next, an example of the operation of the negative ion irradiation device 1 will be described. Before the device is driven, the inside of the chamber 2 is open to the atmosphere. Further, the container 20 is in a state where the powder material 11 is not accommodated. First, the opening/closing door on the positive side in the Z-axis direction of the chamber 2 is opened, and the powder material 11 is accommodated in the container body 21 as shown in FIG. At this time, the lid portion 22 is retracted to the retracted position PG1.

次に、チャンバ2の開閉扉を閉じる。また、図4に示すように、移動機構30によって蓋部22をX軸方向の負側へ移動させ、蓋部22を閉位置PG2へ配置する。これにより、容器本体部21の開口21cが蓋部22によって閉じられる。そして、真空引き部7は、バルブ7cを開いて真空ポンプ7aを動作させることで、チャンバ2の内部空間の真空引きを行う。チャンバ2内の空気G1は、真空引き口7bから排出される。このとき、容器20内の空気もフィルタ部24を通過して真空引き口7bへ吸引される。その一方、容器20内の粉粒材料11は、フィルタ部24で堰き止められることで、容器20内からチャンバ2内へ舞い上がることが抑制される。 Next, the door of chamber 2 is closed. Further, as shown in FIG. 4, the moving mechanism 30 moves the lid portion 22 toward the negative side in the X-axis direction, and the lid portion 22 is placed in the closed position PG2. As a result, the opening 21c of the container body 21 is closed by the lid 22. Then, the evacuation section 7 evacuates the internal space of the chamber 2 by opening the valve 7c and operating the vacuum pump 7a. Air G1 in the chamber 2 is exhausted from the vacuum outlet 7b. At this time, the air within the container 20 also passes through the filter section 24 and is sucked into the vacuum port 7b. On the other hand, the particulate material 11 in the container 20 is dammed up by the filter part 24, so that it is suppressed from rising from the inside of the container 20 into the chamber 2.

チャンバ2の内部空間の圧力が設計到達圧力に達したら、図5に示すように、移動機構30は、蓋部22をX軸方向の正側へ移動させて、蓋部22を退避位置PG1へ配置する。これにより、蓋部22のフィルタ部24は、プラズマに晒される空間から退避することができる。なお、その後も真空引き部7による真空引きは継続する。 When the pressure in the internal space of the chamber 2 reaches the designed ultimate pressure, as shown in FIG. 5, the moving mechanism 30 moves the lid 22 to the positive side in the X-axis direction to move the lid 22 to the retracted position PG1. Deploy. Thereby, the filter section 24 of the lid section 22 can be evacuated from the space exposed to plasma. Note that the evacuation by the evacuation section 7 continues even after that.

次に、図6に示すように、負イオン生成部4は、プラズマガン14でプラズマPを発生させると共に、陽極16で導く。また、ガス供給部6が、チャンバ2内に負イオンの原料となるガスG2を供給する。これにより、容器本体部21の上側の空間にプラズマPが通過すると共に、当該位置にて負イオンNが発生する。これにより、負イオンNは、開口21cを介して容器本体部21に収容された粉粒材料11に照射される。 Next, as shown in FIG. 6, the negative ion generation unit 4 generates plasma P with the plasma gun 14 and guides it with the anode 16. Further, the gas supply section 6 supplies gas G2, which is a raw material for negative ions, into the chamber 2. As a result, the plasma P passes through the space above the container body 21, and negative ions N are generated at the position. Thereby, the negative ions N are irradiated onto the granular material 11 accommodated in the container body 21 through the opening 21c.

図7に示すように、負イオンNの照射によって粉粒材料11への照射が完了したら、プラズマPの生成及び負イオンNの照射を停止する。また、真空引き部7は、バルブ7cを閉じて真空ポンプ7aを停止することで、真空引きを終了する。また、移動機構30によって蓋部22をX軸方向の負側へ移動させ、蓋部22を閉位置PG2へ配置する。これにより、容器本体部21の開口21cが蓋部22によって閉じられる。 As shown in FIG. 7, when the irradiation of the powder material 11 with the negative ions N is completed, the generation of the plasma P and the irradiation of the negative ions N are stopped. Further, the evacuation unit 7 completes evacuation by closing the valve 7c and stopping the vacuum pump 7a. Further, the moving mechanism 30 moves the lid portion 22 to the negative side in the X-axis direction, and the lid portion 22 is placed in the closed position PG2. As a result, the opening 21c of the container body 21 is closed by the lid 22.

更に、ガスパージ部8は、バルブ8bを開け、NガスなどのパージガスG3をチャンバ2の内部空間へパージする。これにより、チャンバ2内を大気圧まで加圧する。このとき、パージガスG3は、フィルタ部24を通過して容器20内へパージされる。その一方、容器20内の粉粒材料11は、フィルタ部24で堰き止められることで、容器20内からチャンバ2内へ舞い上がることが抑制される。チャンバ2内が大気圧まで加圧されたら、ガスパージ部8は、バルブ8bを閉じてパージを停止する。その後、移動機構30が蓋部22を退避位置PG1まで退避させて、再び図3から処理を繰り返す。 Furthermore, the gas purge unit 8 opens the valve 8b and purges the internal space of the chamber 2 with a purge gas G3 such as N 2 gas. This pressurizes the inside of the chamber 2 to atmospheric pressure. At this time, the purge gas G3 passes through the filter section 24 and is purged into the container 20. On the other hand, the particulate material 11 in the container 20 is blocked by the filter part 24, so that it is suppressed from floating up from the inside of the container 20 into the chamber 2. When the inside of the chamber 2 is pressurized to atmospheric pressure, the gas purge section 8 closes the valve 8b and stops purging. Thereafter, the moving mechanism 30 retracts the lid portion 22 to the retracted position PG1, and the process is repeated from FIG. 3 again.

次に、本実施形態に係る負イオン照射装置1の作用・効果について説明する。 Next, the functions and effects of the negative ion irradiation device 1 according to this embodiment will be explained.

本実施形態に係る負イオン照射装置1は、プラズマを生成するプラズマガン14と、プラズマガン14から生成されるプラズマPを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバ2と、を備える。そのため、チャンバ2内では、プラズマPと負イオンの原料とが反応することにより、負イオンが生成される。ここで、粉粒材料11は、チャンバ2内に配置される容器20に収容される。この容器20は、収容した粉粒材料11への負イオンの照射を可能とする開口21cを有する。従って、チャンバ2内で生成された負イオンは、開口21cを介して、容器20に収容された粉粒材料11に照射される。以上により、粉粒材料11に対する負イオンの照射を可能とする。 The negative ion irradiation device 1 according to the present embodiment includes a plasma gun 14 that generates plasma, and a chamber 2 that has a space that can supply plasma P generated from the plasma gun 14 to a raw material for negative ions. Therefore, in the chamber 2, negative ions are generated by the reaction between the plasma P and the negative ion raw material. Here, the granular material 11 is accommodated in a container 20 disposed within the chamber 2 . This container 20 has an opening 21c that allows negative ions to be irradiated onto the contained particulate material 11. Therefore, the negative ions generated within the chamber 2 are irradiated onto the granular material 11 housed in the container 20 through the opening 21c. The above makes it possible to irradiate the powder material 11 with negative ions.

容器20は気体を通過可能な複数の開口23が形成されたフィルタ部24を有してよい。チャンバ2に対して真空引きやガスパージを行う際、チャンバ2内に空気の流れが形成される。容器20は、フィルタ部24で粉粒材料11の舞い上がりを抑制する一方、開口23で気体の通過を可能とする。そのため、開口23は、真空引きの際には容器20の内部の真空引きを可能とし、ガスパージの際は容器20の内部へのガスパージを可能とする。 The container 20 may have a filter section 24 formed with a plurality of openings 23 through which gas can pass. When the chamber 2 is evacuated or gas purged, an air flow is formed within the chamber 2. In the container 20, the filter part 24 suppresses the floating of the powder material 11, while the opening 23 allows gas to pass through. Therefore, the opening 23 allows the inside of the container 20 to be evacuated during evacuation, and allows gas to be purged into the inside of the container 20 during gas purging.

容器20は開口21cを有する容器本体部21と、容器本体部21の開口21cを覆う蓋部22を備え、蓋部22はフィルタ部24を有してよい。この場合、容器本体部21の開口21cをフィルタ部24で覆う状態と、開口21cからフィルタ部24を退避させる状態を、状況に応じて容易に切り替えることができる。 The container 20 includes a container body 21 having an opening 21c and a lid 22 that covers the opening 21c of the container body 21, and the lid 22 may have a filter 24. In this case, the state in which the opening 21c of the container body 21 is covered by the filter part 24 and the state in which the filter part 24 is retracted from the opening 21c can be easily switched depending on the situation.

容器本体部21に蓋部22を近づけた後、チャンバ2の真空引きを行ってよい。この場合、真空引きを行う際は、容器本体部21に蓋部22を近づけて覆うことで粉粒材料11の舞い上がりを抑制することができる。 After bringing the lid 22 close to the container body 21, the chamber 2 may be evacuated. In this case, when vacuuming is performed, the powder material 11 can be suppressed from flying up by bringing the lid 22 closer to the container body 21 to cover it.

容器20は容器本体部21を有し、容器本体部21は高融点材料であって多孔性の材料で構成されることで、容器本体部21が複数の開口23を有してよい。この場合、容器本体部21は、粉粒材料11を収容しながら、複数の開口23を介して、内部の真空引き等を行うことができる。なお、容器本体部21は、高融点材料に限られるものではなく、容器本体部21を冷却可能な冷却構造を備えてもよい。 The container 20 has a container body 21, and the container body 21 is made of a porous material with a high melting point, so that the container body 21 may have a plurality of openings 23. In this case, the container main body 21 can perform internal evacuation or the like through the plurality of openings 23 while accommodating the powder material 11 . In addition, the container main body part 21 is not limited to a high melting point material, and may be provided with a cooling structure capable of cooling the container main body part 21.

本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。 The invention is not limited to the embodiments described above.

上述の実施形態では、新たな粉粒材料11を容器20に供給する時には、チャンバ2内を大気圧に戻している。これに対し、チャンバ2内を真空に保った状態で、粉粒材料11を供給してよい。この場合、粉粒材料11を繰り返しチャンバ2内に供給する際に、毎回チャンバ2を大気圧に戻す手間を省略することができる。 In the embodiment described above, when supplying new powder material 11 to container 20, the inside of chamber 2 is returned to atmospheric pressure. On the other hand, the powder material 11 may be supplied while the chamber 2 is kept in a vacuum. In this case, when repeatedly supplying the granular material 11 into the chamber 2, it is possible to omit the effort of returning the chamber 2 to atmospheric pressure each time.

例えば、上記実施形態では、プラズマガン14を圧力勾配型のプラズマガンとしたが、プラズマガン14は、チャンバ2内にプラズマを生成できればよく、圧力勾配型のものには限られない。 For example, in the above embodiment, the plasma gun 14 is a pressure gradient type plasma gun, but the plasma gun 14 is not limited to a pressure gradient type as long as it can generate plasma within the chamber 2.

また、上記実施形態では、プラズマガン14とプラズマPを導く陽極16の組がチャンバ2内に一組だけ設けられていたが、複数組設けてもよい。また、一箇所に対して、複数のプラズマガン14からプラズマPを供給してもよい。 Further, in the above embodiment, only one set of the plasma gun 14 and the anode 16 for guiding the plasma P is provided in the chamber 2, but a plurality of sets may be provided. Alternatively, plasma P may be supplied to one location from a plurality of plasma guns 14.

気体を通過可能な複数の開口23を容器20のどこに設けるかは特に限定されない。図8に示すように、例えば、容器本体部21自体が、フィルタ部24を構成してもよい。この場合、図8(a)に示すように、容器本体部21は高融点材料であって多孔性の材料(モリブデン、タングステンなど)で構成されることで、容器本体部21がフィルタ部24を有する。容器本体部21は、側壁部21bの先端部から外周へ広がるフランジ部22dを有する。図8(b)に示すように、蓋部22は、円板状の本体部22aと、本体部22aの外周部に設けられた爪部22bと、を有する。これにより、移動機構30が蓋部22を閉位置PG2まで移動させたら、蓋部22の爪部22bが容器本体部21のフランジ部21dと係合する。当該状態で移動機構30が蓋部22を退避位置PG1まで移動させたら、容器本体部21も退避位置PG1まで移動する。この場合、容器本体部21自体が、真空引き部7の真空引きの影響を受けない位置まで退避できる。これにより、容器本体部21からの粉粒材料11の舞い上がりを抑制できる。また、容器本体部21自体がフィルタ部24を有しているため、容器本体部21の内部空間の真空引きが行われる。 There is no particular limitation on where in the container 20 the plurality of openings 23 through which gas can pass are provided. As shown in FIG. 8, for example, the container main body part 21 itself may constitute the filter part 24. In this case, as shown in FIG. 8(a), the container body 21 is made of a porous material (molybdenum, tungsten, etc.) that has a high melting point, so that the container body 21 can cover the filter part 24. have The container body 21 has a flange 22d that extends from the tip of the side wall 21b to the outer periphery. As shown in FIG. 8(b), the lid part 22 has a disc-shaped main body part 22a and a claw part 22b provided on the outer periphery of the main body part 22a. Thereby, when the moving mechanism 30 moves the lid part 22 to the closed position PG2, the claw part 22b of the lid part 22 engages with the flange part 21d of the container body part 21. When the moving mechanism 30 moves the lid part 22 to the retracted position PG1 in this state, the container main body part 21 also moves to the retracted position PG1. In this case, the container body 21 itself can be retracted to a position where it is not affected by the evacuation of the evacuation unit 7. Thereby, it is possible to suppress the powder material 11 from flying up from the container main body part 21. Furthermore, since the container body 21 itself has the filter portion 24, the internal space of the container body 21 is evacuated.

また、移動機構30は、蓋部22を移動可能なものであれば、上述のようなリンク機構に限定されない。例えば、シリンダなどのアクチュエータを用いて移動機構30を構成してもよい。 Furthermore, the moving mechanism 30 is not limited to the link mechanism described above as long as it is capable of moving the lid portion 22. For example, the moving mechanism 30 may be configured using an actuator such as a cylinder.

また、上述の実施形態では、移動機構30は、蓋部22をX軸方向に移動させていたが、移動機構が蓋部22をどのように移動させるかも特に限定されない。例えば、図9に示すように、移動機構は、蓋部22をY軸方向へスライド移動させてもよい。移動機構は、蓋部22をチャンバ2の端部側の退避位置PG3まで移動させてよい。更に、折り畳み可能な蓋部22である場合は、折り畳んでコンパクトにした上で、負イオン照射や真空引きの邪魔にならない退避位置PG4へ退避させてよい。 Furthermore, in the above embodiment, the moving mechanism 30 moves the lid 22 in the X-axis direction, but there is no particular limitation on how the moving mechanism moves the lid 22. For example, as shown in FIG. 9, the moving mechanism may slide the lid 22 in the Y-axis direction. The moving mechanism may move the lid part 22 to the retracted position PG3 on the end side of the chamber 2. Furthermore, if the lid part 22 is foldable, it may be folded to make it compact and then evacuated to the retraction position PG4 where it does not interfere with negative ion irradiation or evacuation.

1…負イオン照射装置、2…チャンバ、11…粉粒材料、14…プラズマガン(プラズマ源)、20…容器、21…容器本体部、21c…開口(第1の開口)、22…蓋部、23...開口(第2の開口)。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Negative ion irradiation device, 2... Chamber, 11... Powder material, 14... Plasma gun (plasma source), 20... Container, 21... Container body part, 21c... Opening (1st opening), 22... Lid part , 23. .. .. Aperture (second aperture).

Claims (6)

粉粒材料に負イオンを照射する負イオン照射装置であって、
プラズマを生成するプラズマ源と、
前記プラズマ源から生成される前記プラズマを負イオンの原料へ供給可能な空間を有するチャンバと、
前記チャンバ内に配置され、前記粉粒材料を収容可能な容器と、を備え、
前記容器は、収容した前記粉粒材料への前記負イオンの照射を可能とする第1の開口を有する、負イオン照射装置。
A negative ion irradiation device that irradiates powder material with negative ions,
a plasma source that generates plasma;
a chamber having a space capable of supplying the plasma generated from the plasma source to a raw material for negative ions;
a container disposed within the chamber and capable of accommodating the powder material;
A negative ion irradiation device, wherein the container has a first opening that enables irradiation of the negative ions to the contained powder material.
前記容器は気体を通過可能な複数の第2の開口が形成されたフィルタ部を有する、請求項1に記載の負イオン照射装置。 The negative ion irradiation device according to claim 1, wherein the container has a filter portion in which a plurality of second openings through which gas can pass are formed. 前記容器は前記第1の開口を有する容器本体部と、前記容器本体の前記第1の開口を覆う蓋部を備え、前記蓋部は前記フィルタ部を有する、請求項2に記載の負イオン照射装置。 Negative ion irradiation according to claim 2, wherein the container includes a container main body having the first opening, and a lid that covers the first opening of the container main body, and the lid has the filter part. Device. 前記容器本体部に前記蓋部を近づけた後、前記チャンバの真空引きを行う、請求項3に記載の負イオン照射装置。 The negative ion irradiation device according to claim 3, wherein the chamber is evacuated after the lid is brought close to the container body. 前記容器は容器本体部を有し、前記容器本体部は多孔性の材料で構成されることで、前記容器本体部が複数の前記第2の開口を有する、請求項2に記載の負イオン照射装置。 The negative ion irradiation method according to claim 2, wherein the container has a container body, and the container body is made of a porous material, and the container body has a plurality of the second openings. Device. 前記チャンバ内を真空に保った状態で、前記粉粒材料を供給する、請求項1~5の何れか一項に記載の負イオン照射装置。
The negative ion irradiation device according to any one of claims 1 to 5, wherein the powder material is supplied while the inside of the chamber is kept in a vacuum.
JP2022046683A 2022-03-23 2022-03-23 Negative ion irradiation device Pending JP2023140709A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022046683A JP2023140709A (en) 2022-03-23 2022-03-23 Negative ion irradiation device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022046683A JP2023140709A (en) 2022-03-23 2022-03-23 Negative ion irradiation device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023140709A true JP2023140709A (en) 2023-10-05

Family

ID=88205328

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022046683A Pending JP2023140709A (en) 2022-03-23 2022-03-23 Negative ion irradiation device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023140709A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6737812B2 (en) Plasma processing apparatus
JP4355314B2 (en) Substrate processing apparatus and lid fishing support apparatus
US5976328A (en) Pattern forming method using charged particle beam process and charged particle beam processing system
JP6169327B2 (en) Method and structure for quickly switching between different process gases in a plasma ion source
US8945340B2 (en) Plasma processing apparatus, and maintenance method and assembling method of the same
CN106024563A (en) Charged particle beam processing using process gas and cooled surface
JP3923649B2 (en) Suction plate for charged particle beam device, deflection electrode for charged particle beam device, and charged particle beam device
EP3514260A1 (en) Thin film deposition apparatus
CN110858559A (en) Buffer unit and apparatus and method for processing substrate using the same
JP2015088500A (en) Load port device
JP2023140709A (en) Negative ion irradiation device
JP2011018821A (en) Surface processing method
US20150167166A1 (en) Thin film deposition apparatus
US20220259736A1 (en) Processing apparatus
JP7273665B2 (en) Heat medium circulation system and substrate processing equipment
CN107614740B (en) Processing device and collimator
KR102299883B1 (en) Apparatus and Method for treating substrate
JP7222950B2 (en) Substrate processing equipment
JP5718011B2 (en) Plasma processing apparatus and processing gas supply structure thereof
JP2007287546A (en) Vacuum container and electron beam device
JPWO2011077662A1 (en) Vacuum deposition apparatus and maintenance method thereof
JP4915621B2 (en) Ion source for ion implanter
JP4561814B2 (en) Milling device
KR102152905B1 (en) Method and Apparatus for cleaning component
JP2019009358A (en) Substrate holding device and manufacturing method thereof