JP2023109268A - Pressure type flow volume control device - Google Patents

Abstract

To provide a pressure type flow volume control device capable of correcting a flow volume on the basis of a self-diagnostic result.SOLUTION: A pressure type flow volume control device 10 includes: a diaphragm 2; a control valve 6 at an upstream side; an upstream-side pressure sensor 3 that detects upstream-side pressure P1; and a control mechanism that has a self-diagnostic function for diagnosis using the pressure reduction data of the upstream-side pressure and reference pressure reduction data, and calculates, using a numerical value prediction calculating formula that acquires a correction value from the pressure reduction data which is composed by calculating a weight from the multiple pieces of pressure reduction data and a corrected value, in-operation correction data from in-operation pressure reduction data obtained at an arbitrary timing in operation so as to control the control valve 6.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、半導体製造設備や化学プラント等に使用される圧力式流量制御装置に関し、特に、自己診断機能を備える圧力式流量制御装置に関する。 The present invention relates to a pressure-type flow control device used in semiconductor manufacturing facilities, chemical plants, etc., and more particularly to a pressure-type flow control device having a self-diagnostic function.

半導体製造装置や化学プラントにおいて、材料ガスやエッチングガス等の流量を制御するために、種々の流量計及び流量制御装置が利用されている。このなかで圧力式流量制御装置は、コントロール弁と絞り部（例えばオリフィスプレートや臨界ノズル）とを組み合せた比較的簡単な機構によって各種流体の質量流量を高精度に制御することができるので広く利用されている。圧力式流量制御装置は、熱式流量制御装置とは異なり、一次側供給圧（コントロール弁の上流側の圧力）が大きく変動しても、安定した流量制御が行えるという、優れた流量制御特性を有している。 2. Description of the Related Art In semiconductor manufacturing equipment and chemical plants, various flowmeters and flow control devices are used to control the flow rates of material gases, etching gases, and the like. Among these, the pressure-type flow control device is widely used because it can control the mass flow rate of various fluids with high accuracy by a relatively simple mechanism combining a control valve and a restrictor (for example, an orifice plate or a critical nozzle). It is Unlike thermal flow controllers, pressure-type flow controllers have excellent flow control characteristics that enable stable flow control even when the primary supply pressure (the pressure on the upstream side of the control valve) fluctuates greatly. have.

圧力式流量制御装置には、絞り部の上流側の流体圧力（以下、上流側圧力Ｐ１と呼ぶことがある）を制御することによって流量を調整するものがある。上流側圧力Ｐ１は、通常、絞り部上流側に設けたコントロール弁の開度を調整することによって制御される。臨界膨張条件（上流側圧力Ｐ１／下流側圧力Ｐ２≧約２：アルゴンガスの場合）を満たすとき、絞り部を流れるガスの速度は音速に固定され、絞り部の下流側に流れるガスの質量流量は、絞り部下流側の下流側圧力Ｐ２の大きさにかかわらず上流側圧力Ｐ１に比例することが知られており、上流側圧力Ｐ１を制御することによって流量の制御が可能である。 Some pressure-type flow control devices adjust the flow rate by controlling the fluid pressure on the upstream side of the restrictor (hereinafter sometimes referred to as upstream pressure P1). The upstream pressure P1 is normally controlled by adjusting the opening of a control valve provided upstream of the throttle section. When the critical expansion condition (upstream pressure P1/downstream pressure P2≧approximately 2: in the case of argon gas) is satisfied, the velocity of the gas flowing through the throttle is fixed at the speed of sound, and the mass flow rate of the gas flowing downstream of the throttle is is known to be proportional to the upstream pressure P1 regardless of the magnitude of the downstream pressure P2 on the downstream side of the throttling portion, and the flow rate can be controlled by controlling the upstream pressure P1.

国際公開第２０１７／１７０１７４号WO2017/170174 国際公開第２０２１／１１１９７９号WO2021/111979

ただし、長期間の使用等、特に使用するガス種によって、圧力式流量制御装置の絞り部には、腐食や目詰まり等が生じることがある。この場合、絞り部の開口面積が変化してしまい、上流側圧力Ｐ１から算出される流量と、当初は適合していた実際の流量とがずれたものとなる。また、圧力式流量制御装置は、典型的には、サーマルセンサなどの流量計を有していないので、絞り部の開口変動後に流路を流れるガスの実際の流量を直接的に測定することはできない。このため、圧力式流量制御装置の構成を利用して、絞り部に異常が生じていないかどうかを判断するための自己診断機能を備えた圧力式流量制御装置が提案されている。 However, depending on the type of gas used, such as long-term use, the throttle section of the pressure-type flow controller may corrode or clog. In this case, the opening area of the constricted portion changes, and the flow rate calculated from the upstream pressure P1 deviates from the actual flow rate, which initially matches. In addition, since the pressure-type flow controller typically does not have a flowmeter such as a thermal sensor, it is impossible to directly measure the actual flow rate of the gas flowing through the flow path after the opening of the restrictor changes. Can not. For this reason, there has been proposed a pressure-type flow control device having a self-diagnostic function for judging whether or not there is an abnormality in the throttling section by utilizing the structure of the pressure-type flow control device.

特許文献１に記載の圧力式流量制御装置では、臨界膨張条件を満足する期間において、コントロール弁を閉じた後の上流側圧力の降下が測定され、これを基準値と比較することによって自己診断が行われる。また、圧力降下期間において、ｌｎ（Ｐ１（ｔ）／Ｐ１ｉ）＝－α・ｔの関係（ここでＰ１（ｔ）は時間ｔに対する上流側圧力Ｐ１の関数、Ｐ１ｉは初期上流側圧力）が成り立つことがわかり、圧力測定結果から得られた傾きαを基準傾きα０と比較することによって、絞り部に異常が生じているか否かを判定できることが開示されている。特許文献１に記載の自己診断方法は、半導体製造プロセスの終了時等において、そのときの流量にかかわらず、任意の流量または任意の初期上流側圧力から自己診断を開始することができるという利点を有する。 In the pressure-type flow control device described in Patent Document 1, the drop in the upstream side pressure after closing the control valve is measured during the period when the critical expansion condition is satisfied, and self-diagnosis is performed by comparing this with the reference value. done. Also, during the pressure drop period, the relationship ln(P1(t)/P1i)=-α t (where P1(t) is a function of the upstream pressure P1 with respect to time t, and P1i is the initial upstream pressure) holds. It is disclosed that whether or not there is an abnormality in the constricted portion can be determined by comparing the slope α obtained from the pressure measurement result with the reference slope α0. The self-diagnostic method described in Patent Document 1 has the advantage that self-diagnosis can be started from any flow rate or any initial upstream pressure regardless of the flow rate at the end of the semiconductor manufacturing process. have.

ただし、自己診断を行った結果、絞り部に詰まりや開口拡大が生じていることが判明したとしても、使用者に警告を与えることは可能であるが、そのまま装置の使用を続けることは困難である。このため、従来、絞り部の異常が検知されたときは、絞り部の交換を必要としていたが、絞り部のみの交換は容易ではなかった。そこで、現実的な対応としては、圧力式流量制御装置の全体を新しいものと交換することが多かった。 However, even if the result of self-diagnosis shows that clogging or opening expansion has occurred in the restrictor, it is possible to give a warning to the user, but it is difficult to continue using the device as it is. be. For this reason, conventionally, when an abnormality in the diaphragm is detected, it is necessary to replace the diaphragm, but it is not easy to replace only the diaphragm. Therefore, as a practical countermeasure, it has often been the case that the entire pressure-type flow control device is replaced with a new one.

このように圧力式流量制御装置を都度取り換えるとなると、コストが大幅にかさみ、また、利便性も低下する。特に、使用するガスの腐食性が高い場合など、絞り部の口径が変化しやすい使用環境にあっては、圧力式流量制御装置の取り換えの頻度が高くなるので大きな問題となる。したがって、絞り部の口径が変化しやすい場合にも、より長期間にわたって安定的に使用することができる圧力式流量制御装置への要望があった。 Replacing the pressure-type flow control device each time in this manner significantly increases costs and reduces convenience. In particular, when the gas used is highly corrosive and in a usage environment where the diameter of the restrictor is likely to change, the frequency of replacement of the pressure-type flow control device becomes high, which poses a serious problem. Therefore, there is a demand for a pressure-type flow control device that can be used stably for a longer period of time even when the diameter of the throttle portion is likely to change.

本件出願人は、初期の基準となる圧力降下データと、装置稼働中の圧力降下データを比較し、機銃力の誤差を加味して流量制御を行う行う手法を開発し製品展開を行なうこととともに、回帰型ニューラルネットワークを用いたＡＩ制御を使って、装置稼働中の圧力降下データから最適な流量補正値を計算する手法に着目した。 The applicant of the present application compares the pressure drop data, which is the initial reference, with the pressure drop data during operation of the device, develops a method of controlling the flow rate by taking into account the error of the machine gun power, and develops products. We focused on the method of calculating the optimum flow rate correction value from the pressure drop data during the operation of the device using AI control using a recursive neural network.

本発明は、係る点に鑑みなされたもので、ＡＩ制御を使いより安定的に継続的に使用できる圧力式流量制御装置を提供することを主たる目的とする。 The present invention has been made in view of the above points, and a main object of the present invention is to provide a pressure-type flow rate control device that uses AI control and can be used more stably and continuously.

本発明の実施形態による圧力式流量制御装置は、
絞り部と、
前記絞り部の上流側に設けられたコントロール弁と、
前記絞り部と前記コントロール弁との間の流路の圧力である上流側圧力を検出する上流側圧力センサと、
該上流側圧力センサによって測定される上流側圧力の圧力降下データを用いて診断する自己診断機能を有する制御機構とを備える、圧力式流量制御装置であって、
前記制御機構は、
複数の圧力式流量制御装置から取得した、コントロール弁の開度を決定する初期設定値に対し、実測した流量誤差から求めた補正値及び所定圧からコントロール弁を閉じた後の上流側圧力の経時的変化データを用い、回帰型ニューラルネットワークを構成する複数のノード間を接続する重みの値に基づいて構築した圧力降下データから補正値を求める数値予測計算式を実行する計算部と、
稼働中の任意のタイミングでコントロール弁を閉じた後に取得する上流側圧力の経時的変化の運用中圧力降下データから、前記計算部によって、運用中補正データを計算するようにしている。 A pressure-based flow controller according to an embodiment of the present invention comprises:
a diaphragm;
a control valve provided upstream of the restrictor;
an upstream pressure sensor that detects an upstream pressure, which is the pressure in a flow path between the restrictor and the control valve;
and a control mechanism having a self-diagnostic function for diagnosing using pressure drop data of the upstream pressure measured by the upstream pressure sensor, wherein
The control mechanism is
The time course of the upstream pressure after closing the control valve from the correction value obtained from the actually measured flow rate error and the initial setting value that determines the opening of the control valve obtained from multiple pressure-type flow control devices. a calculation unit that executes a numerical prediction calculation formula for obtaining a correction value from pressure drop data constructed based on values of weights connecting a plurality of nodes constituting a regressive neural network using the change data;
The calculation unit calculates the correction data during operation from the pressure drop data during operation of the temporal change of the upstream side pressure acquired after the control valve is closed at an arbitrary timing during operation.

出荷時の検査で取得する圧力降下データと補正値からＡＩ予測の計算式を構築し、運用中の圧力式流量制御装置の圧力降下データから補正値を求め直し正確な流量制御を行う。 A calculation formula for AI prediction is constructed from the pressure drop data and the correction value obtained in the inspection at the time of shipment, and the correction value is recalculated from the pressure drop data of the pressure type flow control device in operation to perform accurate flow control.

上記構成において、前記絞り部の下流側流路の圧力である下流側圧力を検出する下流側圧力センサを更に備え、前記運用中圧力降下データは、前記コントロール弁を閉鎖してから、前記下流側圧力に対する前記上流側圧力の圧力比が規定値以上であることを示す臨界膨張条件を満足している期間において取得する。 The above configuration further includes a downstream pressure sensor that detects the downstream pressure, which is the pressure in the downstream flow path of the restrictor, and the pressure drop data during operation is obtained from the downstream pressure after the control valve is closed. Obtained during a period when a critical expansion condition indicating that the pressure ratio of the upstream side pressure to the pressure is equal to or greater than a specified value is satisfied.

また、この場合において、前記制御機構は、前記運用中圧力降下データ及び運用中補正データを記録するデータ記録部を備え、前記計算部が更に前記重みの値を計算し更新することができる。 Also, in this case, the control mechanism may include a data recording section for recording the operating pressure drop data and the operating correction data, and the calculating section may further calculate and update the weight values.

さらに、これらの場合において、前記制御機構は、他の圧力制御装置の運用中圧力降下データ及び／又は補正データを取得し、前記重みの値を更新することもできる。 Further, in these cases, the control mechanism may also obtain operational pressure drop data and/or correction data for other pressure control devices to update the weight values.

さらに、これらの場合において、前記制御機構は、複数の圧力制御装置を制御することもできる。 Further, in these cases, the control mechanism may also control multiple pressure control devices.

本発明の実施形態の圧力式流量制御装置によれば、複数の圧力式流量制御装置から取得した圧力降下データ及び補正値を用いて重みを決定し導いた計算式を用い、可動中の圧力式流量制御装置の圧力降下データから最適な補正値を計算することができ、より継続的に精度よく流量制御を行うことが可能である。 According to the pressure-type flow control device of the embodiment of the present invention, the weight is determined using the pressure drop data and the correction value obtained from a plurality of pressure-type flow control devices, and the derived calculation formula is used to determine the pressure expression during movement. An optimum correction value can be calculated from the pressure drop data of the flow control device, and it is possible to control the flow more continuously and accurately.

本発明の実施形態による圧力式流量制御装置を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing a pressure-type flow control device according to an embodiment of the present invention; FIG. ガス供給状態から閉弁動作を行ったときの、上流側圧力Ｐ１及び下流側圧力Ｐ２の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the upstream pressure P1 and the downstream pressure P2 when performing valve closing operation from a gas supply state. 開口部に異常が生じている場合の上流側圧力の圧力降下の変化を示すグラフである。4 is a graph showing changes in pressure drop of the upstream side pressure when an abnormality occurs in the opening. ＡＩによる補正値の計算式の求め方に関し、（ａ）は、各流量設定に対する補正の初期値を、（ｂ）は初期補正値で値で実際の流量を、（ｃ）は実際の流量から計算した流量制御の補正値を示す。Regarding the calculation formula for the correction value by AI, (a) is the initial correction value for each flow rate setting, (b) is the initial correction value and the actual flow rate, and (c) is the value from the actual flow rate. Indicates the calculated flow control correction value. ニューラルネットワークの概要図を示す。1 shows a schematic diagram of a neural network; FIG. 本発明の実施形態による流量自己診断及び補正値決定の一実施形態を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flow chart illustrating one embodiment of flow self-diagnosis and correction value determination according to an embodiment of the present invention; FIG.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the embodiments described below.

図１は、本実施形態による圧力式流量制御装置１０を示す。圧力式流量制御装置１０は、流路１に設けられた絞り部２と、絞り部２の上流側に設けられたコントロール弁６と、絞り部２とコントロール弁６との間の上流側圧力Ｐ１を検出する上流側圧力センサ３と、絞り部２の下流側の下流側圧力Ｐ２を検出する下流側圧力センサ４と、絞り部２とコントロール弁６との間の温度を検出する温度センサ５とを備えている。 FIG. 1 shows a pressure-type flow control device 10 according to this embodiment. The pressure-type flow control device 10 includes a throttle portion 2 provided in a flow path 1, a control valve 6 provided upstream of the throttle portion 2, and an upstream pressure P1 between the throttle portion 2 and the control valve 6. a downstream pressure sensor 4 for detecting the downstream pressure P2 on the downstream side of the restrictor 2; and a temperature sensor 5 for detecting the temperature between the restrictor 2 and the control valve 6. It has

上流側圧力センサ３及び下流側圧力センサ４としては、例えば、半導体ピエゾ抵抗拡散圧力センサやキャパシタンスマノメータが用いられ、温度センサ５としては、例えば測温抵抗体やサーミスタが用いられる。コントロール弁６としては、例えば金属製ダイヤフラム弁体をピエゾアクチュエータによって開閉するピエゾ素子駆動型バルブ（以下、ピエゾバルブと称することがある）が用いられる。ピエゾバルブは、ピエゾ素子に印加する駆動電圧を調整することによって任意開度に開くことができる弁（比例弁）である。また、絞り部２としては、例えばオリフィスプレートや臨界ノズルが用いられ、絞り部２の開口径は、例えば１０～２０００μmに設定される。 As the upstream pressure sensor 3 and the downstream pressure sensor 4, for example, a semiconductor piezoresistive diffusion pressure sensor or a capacitance manometer is used, and as the temperature sensor 5, for example, a resistance thermometer or a thermistor is used. As the control valve 6, for example, a piezo element driven valve (hereinafter sometimes referred to as a piezo valve) that opens and closes a metal diaphragm valve element by means of a piezo actuator is used. A piezo valve is a valve (proportional valve) that can be opened to an arbitrary degree of opening by adjusting the drive voltage applied to the piezo element. An orifice plate or a critical nozzle, for example, is used as the constricted portion 2, and the opening diameter of the constricted portion 2 is set to, for example, 10 to 2000 μm.

圧力式流量制御装置１０はまた、各センサ３、４、５及びコントロール弁６に接続された制御機構（または制御回路）７を備えている。制御機構７は、半導体製造装置のプロセス終了時（プロセスチャンバへのガス供給停止時）にコントロール弁６を閉鎖し、じょぷ流圧力の圧力を測定する、自己診断機能を実行することができるように構成されている。本実施形態の制御機構７は、回路基板上に設けられたＣＰＵ、メモリ、Ａ／Ｄコンバータ等を内蔵し、後述する動作を実行するためのコンピュータプログラムを含んでおり、ハードウェア及びソフトウェアの組み合わせによって実現される。本実施形態では、制御機構７は圧力式流量制御装置１０の内部に配設された例を示すが、制御機構７の一部または全ての構成要素は、圧力式流量制御装置１０の外部に設けられていても良い。 The pressure-based flow controller 10 also includes a control mechanism (or control circuit) 7 connected to each sensor 3 , 4 , 5 and control valve 6 . The control mechanism 7 can execute a self-diagnostic function of closing the control valve 6 and measuring the pressure of the flow pressure at the end of the process of the semiconductor manufacturing apparatus (when the gas supply to the process chamber is stopped). is configured as The control mechanism 7 of the present embodiment incorporates a CPU, a memory, an A/D converter, etc. provided on the circuit board, and includes a computer program for executing operations described later, and is a combination of hardware and software. realized by In this embodiment, the control mechanism 7 is provided inside the pressure-type flow control device 10, but some or all of the components of the control mechanism 7 are provided outside the pressure-type flow control device 10. It's okay to be.

圧力式流量制御装置１０の上流側は図示しないガス供給源に接続されており、下流側は遮断弁１１（典型的にはオンオフ弁）を介して半導体製造装置のプロセスチャンバ１２に接続されている。プロセスチャンバ１２には真空ポンプ１３が接続されており、圧力式流量制御装置１０の上流側から供給されるガスの供給時にプロセスチャンバ１２の内部を真空引きすることができる。なお、図１に示す態様では、遮断弁１１が圧力式流量制御装置１０の外側に配置されているが、遮断弁１１は圧力式流量制御装置１０に内蔵されていてもよい。遮断弁１１としては、例えばＡＯＶ（空気駆動弁）や電磁弁が用いられる。 The upstream side of the pressure type flow control device 10 is connected to a gas supply source (not shown), and the downstream side is connected to a process chamber 12 of a semiconductor manufacturing apparatus via a shutoff valve 11 (typically an on/off valve). . A vacuum pump 13 is connected to the process chamber 12 so that the inside of the process chamber 12 can be evacuated when gas is supplied from the upstream side of the pressure type flow controller 10 . In the embodiment shown in FIG. 1, the shutoff valve 11 is arranged outside the pressure type flow control device 10, but the shutoff valve 11 may be built in the pressure type flow control device 10. FIG. As the cutoff valve 11, for example, an AOV (air driven valve) or a solenoid valve is used.

半導体製造プロセスにおいて、プロセスチャンバ１２にガスを供給するとき、制御機構７は、上流側圧力センサ３（及び下流側圧力センサ４や温度センサ５）の出力を用いて、演算により流量を求めるとともに、絞り部２を通過する流量が設定流量になるようにコントロール弁６を制御する。演算により求められた流量は、外部制御装置の表示部に流量出力値として表示されてもよい。 In the semiconductor manufacturing process, when gas is supplied to the process chamber 12, the control mechanism 7 uses the output of the upstream pressure sensor 3 (and the downstream pressure sensor 4 and temperature sensor 5) to calculate the flow rate, The control valve 6 is controlled so that the flow rate passing through the restrictor 2 becomes the set flow rate. The calculated flow rate may be displayed as a flow rate output value on the display section of the external control device.

より具体的には、臨界膨張条件（Ｐ１／Ｐ２≧約２：アルゴンガスの場合）を満たすときには、流量Ｑ＝Ｋ１Ｐ１（Ｋ１は流体の種類と流体温度に依存する比例係数）の関係にしたがって上流側圧力センサ３の出力から演算流量を求め、演算流量が設定流量と同じになるようにコントロール弁６をフィードバック制御する。また、非臨界膨張条件下では、流量Ｑ＝Ｋ２Ｐ２^ｍ（Ｐ１－Ｐ２）^ｎ（Ｋ２は流体の種類と流体温度に依存する比例係数、指数ｍ、ｎは実際の流量から導出された値）の関係にしたがって演算流量を求め、演算流量が設定流量と同じになるようにコントロール弁６をフィードバック制御する。 More specifically, when the critical expansion condition (P1/P2≧approximately 2: for argon gas) is satisfied, the flow rate Q=K1P1 (K1 is a coefficient of proportionality that depends on the type of fluid and the temperature of the fluid). A calculated flow rate is obtained from the output of the side pressure sensor 3, and the control valve 6 is feedback-controlled so that the calculated flow rate becomes the same as the set flow rate. Also, under non-critical expansion conditions, the flow rate Q = K2P2 ^m (P1-P2) ⁿ A calculated flow rate is obtained according to the relationship, and the control valve 6 is feedback-controlled so that the calculated flow rate becomes the same as the set flow rate.

また、本実施形態の圧力式流量制御装置１０は、コントロール弁６が閉状態へと移行してガス供給を停止するプロセス終了時において、圧力降下データを取得する自己診断を行うように構成されている。プロセス終了時においてコントロール弁６に加えて遮断弁１１をも閉じて自己診断を行うこともでき、この場合には、任意のガス供給ラインにおいて、他のガス供給ラインを用いた半導体製造に影響を及ぼすことなく自己診断工程を実行することができる。 Further, the pressure-type flow control device 10 of the present embodiment is configured to perform self-diagnosis to acquire pressure drop data at the end of the process in which the control valve 6 is closed and the gas supply is stopped. there is At the end of the process, the shutoff valve 11 can also be closed in addition to the control valve 6 for self-diagnosis. A self-diagnostic process can be performed without any adverse effects.

図２の実線で示すグラフは、コントロール弁６を閉じたときの、上流側圧力Ｐ１及び下流側圧力Ｐ２の変化を示すグラフである。図２に示すように、コントロール弁６が、時刻ｔ１に閉命令を受け、その後も閉状態に維持されているとき、上流側圧力Ｐ１はガス流通時の初期上流側圧力Ｐ１ｉから降下し、下流側圧力Ｐ２も初期下流側圧力Ｐ２ｉから降下する。 A graph indicated by a solid line in FIG. 2 is a graph showing changes in the upstream pressure P1 and the downstream pressure P2 when the control valve 6 is closed. As shown in FIG. 2, when the control valve 6 receives a close command at time t1 and is kept closed thereafter, the upstream pressure P1 drops from the initial upstream pressure P1i during gas flow, and reaches the downstream pressure P1i. The side pressure P2 also drops from the initial downstream side pressure P2i.

そして、本実施形態では、臨界膨張条件を満足する時刻ｔ１～ｔ２の間の臨界膨張期間Δｔ、すなわち、Ｐ１／Ｐ２≧約２（アルゴンガスの場合）が成立する期間内において測定したＰ１（ｔ）に基づく自己診断を行う。このように、実際に臨界膨張条件下であるかどうかを確認しながら自己診断を行うことによって、流体供給制御系の設計や半導体製造プロセスの内容にかかわらず、診断に有効な最大限の圧力降下データ取得期間を確保することが可能になる。また、近年では、ガス供給時の下流側圧力Ｐ２（すなわち、図２のおける初期下流側圧力Ｐ２ｉ）が比較的高いときもあるが、実際に臨界膨張条件下であるか否かを判定したうえで自己診断を行うので、診断精度を向上させることができるとともに、コントロール弁６のみを閉じることで、臨界膨張条件を維持できる期間がより長くなるため、より容易に自己診断を行い得る。 In the present embodiment, P1(t ) to perform self-diagnosis. In this way, by performing self-diagnosis while confirming whether or not it is actually under the critical expansion condition, the maximum pressure drop effective for diagnosis can be achieved regardless of the design of the fluid supply control system or the content of the semiconductor manufacturing process. It becomes possible to secure the data acquisition period. In recent years, the downstream pressure P2 at the time of gas supply (that is, the initial downstream pressure P2i in FIG. 2) is sometimes relatively high. Since the self-diagnosis is performed at , the diagnostic accuracy can be improved, and by closing only the control valve 6, the period in which the critical expansion condition can be maintained becomes longer, so the self-diagnosis can be performed more easily.

一方、図２の破線で示すグラフは、コントロール弁６と同時に遮断弁１１を閉じたときの、上流側圧力Ｐ１及び下流側圧力Ｐ２の変化を示すグラフである。上流側圧力Ｐ１はガス流通時の初期上流側圧力Ｐ１ｉから降下し、下流側圧力Ｐ２はガス流通時の初期下流側圧力Ｐ２ｉから上昇する。すなわち、絞り部２の上流側と下流側とで差圧が解消するように圧力変動が生じ、上流側圧力Ｐ１と下流側圧力Ｐ２とは、時間の経過とともに実質的に同じ平衡圧力値Ｐ’’へと収束する。臨界膨張条件を満足する時刻ｔ１～ｔ２‘の間の臨界膨張期間Δｔ’は、実線の場合と比べ短いものの、遮断弁１１を閉じているので、他のガス供給ラインを用いた半導体製造に影響を及ぼすことなく自己診断工程を実行することができる。 On the other hand, the graph indicated by the dashed line in FIG. 2 is a graph showing changes in the upstream side pressure P1 and the downstream side pressure P2 when the shutoff valve 11 is closed simultaneously with the control valve 6 . The upstream pressure P1 drops from the initial upstream pressure P1i during gas flow, and the downstream pressure P2 rises from the initial downstream pressure P2i during gas flow. That is, pressure fluctuations occur so that the differential pressure between the upstream side and the downstream side of the throttle section 2 is eliminated, and the upstream side pressure P1 and the downstream side pressure P2 become substantially the same equilibrium pressure value P' with the lapse of time. ' converges to Although the critical expansion period Δt′ between times t1 and t2′ that satisfies the critical expansion condition is shorter than in the case of the solid line, since the shutoff valve 11 is closed, it affects semiconductor manufacturing using other gas supply lines. A self-diagnostic process can be performed without affecting the

臨界膨張条件の下限を示す圧力比Ｐ１／Ｐ２は、ガス種によって異なり、例えば、アルゴンガスの場合は２．０５であるが、水素では１．９０、窒素では１．８９というように、ガス種それぞれで決まった値がある。また、臨界膨張条件は、上流ガス温度によっても変化する。このため、制御機構７は、ガスの種類及びガス温度のうちの少なくとも一方に基づいて、自己診断時における臨界膨張条件の判定式を決定するように構成されていてもよい。 The pressure ratio P1/P2, which indicates the lower limit of the critical expansion condition, differs depending on the gas type. Each has a fixed value. Also, the critical expansion condition changes depending on the upstream gas temperature. Therefore, the control mechanism 7 may be configured to determine the critical expansion condition determination formula at the time of self-diagnosis based on at least one of the gas type and gas temperature.

以下、自己診断の具体例を説明する。制御機構７は、コントロール弁６を閉じた後、測定された上流側圧力Ｐ１及び下流側圧力Ｐ２から臨界膨張条件下であるか否かを確認するとともに、臨界膨張期間Δｔにおいて測定された上流側圧力Ｐ１の圧力降下データＰ１（ｔ）と、予め記憶された基準圧力降下データＹ（ｔ）とを比較する。基準圧力降下データＹ（ｔ）は、一般には、工場出荷前に予め計測され、制御機構７のメモリに記憶されている。基準圧力降下データＹ（ｔ）は、ここでは工場出荷前に予め計測された正常時の圧力降下データであるが、異常状態時の測定データ、前回測定データ、または、測定によらない設定データなどであってもよい。 A specific example of self-diagnosis will be described below. After closing the control valve 6, the control mechanism 7 confirms whether or not the critical expansion condition exists from the measured upstream pressure P1 and the downstream pressure P2. The pressure drop data P1(t) of the pressure P1 is compared with pre-stored reference pressure drop data Y(t). The reference pressure drop data Y(t) is generally measured in advance before shipment from the factory and stored in the memory of the control mechanism 7 . Here, the reference pressure drop data Y(t) is pressure drop data in a normal state previously measured before shipment from the factory, but may also be data measured in an abnormal state, data previously measured, or set data not based on measurement. may be

図３は、コントロール弁６を閉じた後の、正常時の上流側圧力Ｐ１の圧力降下曲線Ａ１、絞り部に目詰まりが生じているときの圧力降下曲線Ａ２、及び、絞り部に腐食等による開口拡大が生じているときの圧力降下曲線Ａ３を示す。 FIG. 3 shows the pressure drop curve A1 of the upstream pressure P1 in the normal state after the control valve 6 is closed, the pressure drop curve A2 when the throttle is clogged, and the pressure drop curve A2 when the throttle is clogged. FIG. 3 shows a pressure drop curve A3 when opening widening occurs; FIG.

図３からわかるように、絞り部２に目詰まりが生じている場合、ガスがより流れにくくなっているので、正常時の圧力降下曲線Ａ１に対して圧力降下曲線Ａ２は上側にずれる。このとき、上流側圧力Ｐ１が所定値まで低下するまでに必要な時間がより長くなる。また、コントロール弁６を閉じた後の所定時間経過後の上流側圧力Ｐ１が正常時に比べて高くなる。 As can be seen from FIG. 3, when the throttle portion 2 is clogged, the gas becomes more difficult to flow, so the pressure drop curve A2 shifts upward from the pressure drop curve A1 in the normal state. At this time, the time required for the upstream pressure P1 to decrease to the predetermined value becomes longer. In addition, the upstream pressure P1 after a predetermined time has elapsed after the control valve 6 is closed becomes higher than in the normal state.

一方、絞り部２の開口拡大が生じている場合、ガスがより流れやすくなっているので、正常時の圧力降下曲線Ａ１に対して圧力降下曲線Ａ３は下側にずれる。このとき、上流側圧力Ｐ１が所定値まで低下するまでに必要な時間がより短くなる。また、コントロール弁６を閉じた後の所定時間経過後の上流側圧力Ｐ１が正常時に比べて低くなる。 On the other hand, when the opening of the constricted portion 2 is expanded, the gas flows more easily, so the pressure drop curve A3 shifts downward from the pressure drop curve A1 in the normal state. At this time, the time required for the upstream pressure P1 to drop to the predetermined value becomes shorter. In addition, the upstream pressure P1 after a predetermined time has elapsed after the control valve 6 is closed becomes lower than in the normal state.

次に、本発明での回帰型ニューラルネットワークを用いたＡＩによる補正値の計算式の求め方について説明する。 Next, a description will be given of how to obtain a correction value calculation formula by AI using a recursive neural network according to the present invention.

通常、圧力式流量制御装置では、装置の出荷前試験として、流量の校正作業を行う。具体的には、上流側圧力を制御するために、コントロール弁６の開閉制御を行う設定値の補正を行うものである。圧力式流量制御装置を使用する場合、圧力式流量制御装置が制御できる最大流量を１００％として、外部(例えば、半導体製造設備）からの流量設定値の要求(例えば、最大流量の５０％流量が必要なときは５０％）に応じて制御機構７が上流側圧力を設定する。これは、例えば、外部からの要求が設定１００％のとき、制御機構７の演算部（例えば、ＣＰＵ等）は４８０００ｄｉｇｉｔｓとしてコントロール弁６の開度指令を発信する。この４８０００ｄｉｇｉｔｓという値は、制御機構７内でのデジタル信号の値で、臨界膨張条件を満たす場合、上流側圧力を制御することで流量は制御され、絞り部２であるオリフィス径等によって異なるが、例えば、１００％の流量を流す際には、上流側圧力を３００ｋＰａに設定するようにコントロール弁６を制御するために便宜的に内部指令用の値として決められた値ある。更に、具体的には、コントロール弁６がピエゾバルブの場合、４８０００ｄｉｇｉｔｓでは、例えば、ピエゾ電圧を８０Ｖに設定するように指令を出すものである。また、図４（ａ）に示すように、設定１０％流量の場合は、４８００ｄｉｇｉｔｓ、１％流量の場合は、４８０ｄｉｇｉｔｓの指令を発信して上流側圧力を制御するためにコントロール弁６を制御する。 Normally, pressure-type flow controllers are tested for flow rate before shipment. Specifically, in order to control the upstream pressure, the set value for opening/closing control of the control valve 6 is corrected. When using a pressure type flow control device, the maximum flow rate that the pressure type flow control device can control is set to 100%, and a request for a flow rate setting value from the outside (e.g., semiconductor manufacturing equipment) (e.g., 50% of the maximum flow rate is 50% if necessary), the control mechanism 7 sets the upstream pressure accordingly. For example, when the request from the outside is set to 100%, the computing part (for example, CPU, etc.) of the control mechanism 7 issues an opening command for the control valve 6 as 48000 digits. This value of 48000 digits is the value of the digital signal in the control mechanism 7. When the critical expansion condition is satisfied, the flow rate is controlled by controlling the upstream pressure. For example, there is a value determined as an internal command value for convenience to control the control valve 6 so as to set the upstream pressure to 300 kPa when the flow rate is 100%. More specifically, when the control valve 6 is a piezo valve, 48000 digits gives a command to set the piezo voltage to 80V, for example. In addition, as shown in FIG. 4(a), in the case of a set flow rate of 10%, a command of 4800 digits is sent, and in the case of a flow rate of 1%, a command of 480 digits is sent to control the control valve 6 in order to control the upstream pressure. .

圧力式流量制御装置の種類によって異なるものの、本実施形態で使用した圧力式流量制御装置では、１００％設定の時、６００ｓｃｃｍ流れるよう設計されている（以下、設計された流量値を基準値という）。実際に制御機構７から表に示す１、３、５、１０、２０、４０、６０、１００％設定値に応じた指令を受けることで上流側圧力を制御するために図４（ａ）に示す右欄のｄｉｇｉｔｓに応じてコントロール弁６を制御する。この際に、実際に流れる流量を測定すると基準値に対して、図４（ｂ）に示すように、±０．１～０．４程度の誤差が生じる。これは、機器ごとに絞り部であるオリフィス径が径寸法の誤差範囲で若干異なることや、装置毎の器差があるために発生するものである。そして、設定値毎に生じた誤差を加味して図４（ｃ）に示す補正値を決定する。ついで、絞り部２であるオリフィスの特性を知るために、上流側圧力が３００ｋＰａ（制御機構の内部では４８０００ｄｉｇｉｔｓ）のときコントロールバルブを閉じて、図４（ｄ）に示す、上流側圧力の経時的変化の圧力降下データを記録する。 Although it varies depending on the type of pressure-type flow control device, the pressure-type flow control device used in this embodiment is designed to flow 600 sccm when set to 100% (hereinafter, the designed flow rate value is referred to as the reference value). . In order to control the upstream pressure by actually receiving commands according to the set values 1, 3, 5, 10, 20, 40, 60, 100% shown in the table from the control mechanism 7, the pressure shown in FIG. The control valve 6 is controlled according to the digits in the right column. At this time, when the actual flow rate is measured, there is an error of about ±0.1 to 0.4 with respect to the reference value, as shown in FIG. 4(b). This is because the diameter of the orifice, which is the constricted portion, differs slightly from device to device within the range of error in the diameter size, and because there are differences between devices. Then, the correction values shown in FIG. 4(c) are determined taking into consideration the error that occurs for each set value. Next, in order to know the characteristics of the orifice that is the restrictor 2, the control valve was closed when the upstream pressure was 300 kPa (48000 digits inside the control mechanism), and the upstream pressure was measured over time as shown in Fig. 4(d). Record the changing pressure drop data.

この圧力降下データ及び補正値をワンセットとして、例えば１０００件のデータを使用し、回帰型ニューラルネットワークを構成する複数のノード間を接続する重みの値を計算する。 Using the pressure drop data and the correction value as one set, for example, 1000 data are used to calculate the weight value connecting a plurality of nodes constituting the regressive neural network.

図５は、回帰型ニューラルネットワークの模式図である。入力層８０は、本実施形態では圧力降下データ、出力層８２は補正値である。入力層の数は４９個であり、４９個の圧力降下データから、図４（ｃ）の補正値の数である９個の出力層の値を計算により求めるものである。中間層８１の数は、特に限定されるものではないが、本実施形態では、ａ層に６４ｎｏｄｅ、b層１２８ｎｏｄｅ、ｃ層２５６ｎｏｄｅ、ｄ層１２８ｎｏｄｅ、ｅ層６４ｎｏｄｅの例を示す。（ｘｎのｎは４８、ａｎのｎは６３となり以下、ｎの数はｎｏｄｅ数に応じて変化する。） FIG. 5 is a schematic diagram of a recurrent neural network. The input layer 80 is pressure drop data in this embodiment, and the output layer 82 is correction values. The number of input layers is 49, and from the 49 pressure drop data, the values of 9 output layers, which are the number of correction values in FIG. 4(c), are obtained by calculation. The number of intermediate layers 81 is not particularly limited, but in this embodiment, an example of 64 nodes in the a layer, 128 nodes in the b layer, 256 nodes in the c layer, 128 nodes in the d layer, and 64 nodes in the e layer is shown. (n of xn is 48, n of an is 63, and the number of n changes according to the number of nodes.)

中間層の各ｎｏｄｅの数によりｎｏｄｅ間を結ぶ重みの数が変化する。重みの数(中間層の層数と各層のｎｏｄｅの数）が増えるほどニューラルネットワークの表現力が向上するが計算に多大な時間を要する。近年のコンピュータの高速化により中間層の数を大幅に拡大が可能となっている。入力層８０に値を入力し、出力層８２に出力値を得るためには、まず重みを決定する必要がある。この重みの値を学習することで、良好な予測が可能となる。本実施形態では、事前に出荷前試験で入手した約１０００件の圧力降下データ及び補正値（入力層の値（圧力降下データ）と出力層の値（補正値））から各ｎｏｄｅ間を接続する重みを計算し、中間層での数値予測計算式ｙ＝ｆ（ｘ）を構築する。 The number of weights connecting the nodes changes depending on the number of each node in the intermediate layer. As the number of weights (the number of intermediate layers and the number of nodes in each layer) increases, the expressive power of the neural network improves, but the calculation takes a long time. The number of intermediate layers can be greatly increased due to the recent increase in computer speed. In order to input values into the input layer 80 and obtain output values into the output layer 82, the weights must first be determined. By learning the value of this weight, good prediction becomes possible. In this embodiment, each node is connected from about 1000 pressure drop data and correction values (input layer value (pressure drop data) and output layer value (correction value)) obtained in pre-shipment tests. Calculate the weights and construct the numerical prediction formula y=f(x) in the hidden layer.

以下、本実施形態における流量制御の具体例について説明する。図６は圧力式流量制御装置１０で行った自己診断の結果である圧力降下データに基づき、上述した数値予測計算式ｙ＝ｆ（ｘ）を用いて補正値を導出する工程を示すフローチャートである。 A specific example of flow rate control in this embodiment will be described below. FIG. 6 is a flow chart showing a process of deriving a correction value using the numerical prediction calculation formula y=f(x) based on the pressure drop data which is the result of the self-diagnosis performed by the pressure type flow controller 10. .

図６に示すように、圧力式流量制御装置１０では絞り部２の状態を判定するための自己診断が行われる。まずステップＳ１に示すように、設定流量、例えば１００％設定流量でガスが流されている状態で制御機構７がガス供給の停止命令を受け取り、コントロール弁６に閉命令（例えば流量０％命令）を出す。 As shown in FIG. 6, the pressure-type flow control device 10 performs self-diagnosis to determine the state of the throttle section 2. As shown in FIG. First, as shown in step S1, the control mechanism 7 receives a command to stop gas supply in a state in which gas is flowing at a set flow rate, for example, a set flow rate of 100%, and a close command to the control valve 6 (for example, a flow rate of 0% command). out.

次に、ステップＳ２に示すように、上流側圧力センサ３の出力に基づいて、上流側圧力の圧力降下データ（運用中圧力降下データ）を計測する。運用中圧力降下データは、上流側圧力センサ３及び下流側圧力センサ４の出力に基づいて臨界膨張条件を満たしているか否かを判定しながら、上流側圧力センサ３の出力をサンプリングし、圧力降下データＰ１（ｔ）を取得することが好ましい。臨海膨張条件を満足していない場合、圧力が抜けにくくなり、降下特性が変化することから、ニューラルネットワークの学習と予測に不都合が生じる可能性があるためである。 Next, as shown in step S2, based on the output of the upstream pressure sensor 3, pressure drop data of the upstream pressure (pressure drop data during operation) is measured. The pressure drop data during operation is obtained by sampling the output of the upstream pressure sensor 3 while judging whether or not the critical expansion condition is satisfied based on the outputs of the upstream pressure sensor 3 and the downstream pressure sensor 4. It is preferable to obtain data P1(t). This is because if the critical expansion condition is not satisfied, it becomes difficult to release the pressure and the descent characteristics change, which may cause problems in learning and prediction of the neural network.

次に、ステップＳ３に示すように、制御機構７に運用中圧力降下データを送信し、出荷時に記録した初期の圧力降下データ（データ更新されていた場合、その更新データ）と比較し、その変化が許容範囲か否かを判定する。送信された圧力降下データＰ１（ｔ）が許容範囲と判定した場合、ステップＳ７に示すように、絞り部に異常が発生しておらず、流量制御信号の補正は必要ないものと判断して診断工程を終了する。 Next, as shown in step S3, the pressure drop data during operation is transmitted to the control mechanism 7, compared with the initial pressure drop data recorded at the time of shipment (if the data has been updated, the updated data), and the change is within the allowable range. If it is determined that the transmitted pressure drop data P1(t) is within the allowable range, as shown in step S7, it is determined that there is no abnormality in the throttle section and correction of the flow rate control signal is unnecessary. End the process.

一方、ステップＳ４において、変化が許容範囲ではないと判断されたときは、ステップＳ５に示すように、回帰型ニューラルネットワークの入力層８０のｘ０～ｘ４８に４９個のＰ１（ｔ）（ｔは、例えば、測定開始時を０として、２秒ごとに取得した上流側の圧力値）を入力し、入力層８０、中間層８１及び出力層８２を構成する複数のノード間を接続する重みの値に基づいて構築した数値予測計算式を実行する計算部によって、出力層８２から９つの補正値ｙ０～ｙ８が出力される。出力された補正値（運用中補正データ）は、出荷時に設定されている補正値（例えば、図４（ｃ）に示す補正値）を更新し、ステップＳ６に示すように、新たな補正値として制御機構７の記憶部に記憶される。 On the other hand, when it is determined in step S4 that the change is not within the allowable range, as shown in step S5, 49 P1(t) (t is For example, the pressure value on the upstream side obtained every 2 seconds with the measurement start time set to 0 is input, and the value of the weight that connects the multiple nodes that make up the input layer 80, the intermediate layer 81, and the output layer 82 is set to Nine correction values y0 to y8 are output from the output layer 82 by the calculation unit that executes the numerical prediction calculation formula built based on the above. The output correction value (correction data during operation) updates the correction value set at the time of shipment (for example, the correction value shown in FIG. 4C), and as shown in step S6, as a new correction value It is stored in the storage section of the control mechanism 7 .

このようにして、自己診断工程の結果である圧力降下データＰ１（ｔ）から補正値が求められる。そして、次回以降の流量制御で用いる内部流量制御信号を生成するための補正式が決定される。 In this manner, the correction value is obtained from the pressure drop data P1(t), which is the result of the self-diagnostic process. Then, a correction formula is determined for generating an internal flow rate control signal to be used in subsequent flow rate controls.

また、制御機構７は、運用中圧力降下データ及び運用中補正データを記録するデータ記録部を備え、計算部が更に重みの値を計算し更新することで、ニューラルネットワークによるＡＩ予測の正確性が向上する。更に、ネットワークで接続された他の圧力制御装置の運用中圧力降下データ及び／又は補正データを取得し、重みの値を更新することでＡＩ予測の正確性はより向上する。ネットワークで接続された他の圧力制御装置は同じ工場内に設置されている圧力制御装置のみならず、他工場に設置されている圧力制御装置のデータを用いることもできる。 In addition, the control mechanism 7 has a data recording unit that records the pressure drop data during operation and the correction data during operation. improves. Furthermore, by acquiring pressure drop data and/or correction data during operation of other pressure control devices connected via a network and updating weight values, the accuracy of AI prediction is further improved. Other pressure controllers connected via a network can use data not only from pressure controllers installed in the same factory, but also from pressure controllers installed in other factories.

また、制御機構７は、複数の圧力制御装置を制御するように高速ＣＰＵ、大容量メモリ及び大容量記憶装置を備えたコンピュータシステムを用いることもできる。この場合も、同じ工場内のみならず、ネットワーク接続された他工場に配置される圧力制御装置を一元的に管理することもできる。 The control mechanism 7 can also use a computer system with a high speed CPU, large memory and mass storage devices to control multiple pressure control devices. Also in this case, pressure control devices installed not only in the same factory but also in other factories connected to the network can be centrally managed.

本発明の実施形態による圧力式流量制御装置は、半導体製造設備等において供給するガスの流量を長期間にわたり精度よく制御するための好適に利用される。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The pressure-type flow rate control device according to the embodiment of the present invention is suitably used for accurately controlling the flow rate of gas supplied in a semiconductor manufacturing facility or the like over a long period of time.

１ 流路
２ 絞り部
３ 上流側圧力センサ
４ 下流側圧力センサ
５ 温度センサ
６ コントロール弁
７ 制御機構
１０ 圧力式流量制御装置
１１ 遮断弁
１２ プロセスチャンバ
１３ 真空ポンプ Reference Signs List 1 Flow path 2 Throttle 3 Upstream pressure sensor 4 Downstream pressure sensor 5 Temperature sensor 6 Control valve 7 Control mechanism 10 Pressure-type flow controller 11 Shutoff valve 12 Process chamber 13 Vacuum pump

Claims (5)

絞り部と、
該絞り部の上流側に設けられたコントロール弁と、
前記絞り部と前記コントロール弁との間の流路の圧力である上流側圧力を検出する上流側圧力センサと、
該上流側圧力センサによって測定される上流側圧力の圧力降下データを用いて診断する自己診断機能を有する制御機構とを備える圧力式流量制御装置であって、
前記制御機構は、
複数の圧力式流量制御装置から取得した、コントロール弁の開度を決定する初期設定値に対し、実測した流量誤差から求めた補正値及び所定圧からコントロール弁を閉じた後の上流側圧力の経時的変化データを用い、回帰型ニューラルネットワークを構成する複数のノード間を接続する重みの値に基づいて構築した圧力降下データから補正値を求める数値予測計算式を実行する計算部を備え、
稼働中の任意のタイミングでコントロール弁を閉じた後に取得する上流側圧力の経時的変化の運用中圧力降下データから、前記計算部によって、運用中補正データを計算するようにした圧力式流量制御装置。 a diaphragm;
a control valve provided upstream of the throttle;
an upstream pressure sensor that detects an upstream pressure, which is the pressure in a flow path between the restrictor and the control valve;
and a control mechanism having a self-diagnostic function for diagnosing using pressure drop data of the upstream pressure measured by the upstream pressure sensor,
The control mechanism is
The time course of the upstream pressure after closing the control valve from the correction value obtained from the measured flow rate error and the initial setting value that determines the opening of the control valve obtained from multiple pressure-type flow control devices. a calculation unit that executes a numerical prediction calculation formula for obtaining a correction value from pressure drop data constructed based on weight values connecting a plurality of nodes constituting a regressive neural network using the change data,
A pressure-type flow control device in which the calculation unit calculates correction data during operation from pressure drop data during operation of changes in upstream pressure over time obtained after the control valve is closed at an arbitrary timing during operation. . 前記絞り部の下流側流路の圧力である下流側圧力を検出する下流側圧力センサを更に備え、
前記運用中圧力降下データは、前記コントロール弁を閉鎖してから、前記下流側圧力に対する前記上流側圧力の圧力比が規定値以上であることを示す臨界膨張条件を満足している期間において取得するようにした請求項１に記載の圧力式流量制御装置。 further comprising a downstream pressure sensor that detects the downstream pressure, which is the pressure in the downstream channel of the narrowed portion;
The pressure drop data during operation is obtained during a period after the control valve is closed, when a critical expansion condition indicating that the pressure ratio of the upstream pressure to the downstream pressure is equal to or greater than a specified value is satisfied. The pressure type flow control device according to claim 1, wherein 前記制御機構は、
前記運用中圧力降下データ及び運用中補正データを記録するデータ記録部を備え、前記計算部が更に前記重みの値を計算し更新するようにした請求項１又は２に記載の圧力式流量制御装置。 The control mechanism is
3. The pressure-type flow control device according to claim 1, further comprising a data recording unit for recording the pressure drop data during operation and the correction data during operation, wherein the calculation unit further calculates and updates the value of the weight. . 前記制御機構は、他の圧力制御装置の運用中圧力降下データ及び／又は補正データを取得し、前記重みの値を更新するようにした請求項３に記載の圧力式流量制御装置。 4. The pressure type flow control device according to claim 3, wherein the control mechanism acquires pressure drop data and/or correction data during operation of another pressure control device and updates the value of the weight. 前記制御機構は、複数の圧力制御装置を制御するようにした請求項３又は４に記載の圧力式流量制御装置。 5. The pressure type flow control device according to claim 3, wherein said control mechanism controls a plurality of pressure control devices.

Images