JP2023085792A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2023085792A5
JP2023085792A5 JP2021200022A JP2021200022A JP2023085792A5 JP 2023085792 A5 JP2023085792 A5 JP 2023085792A5 JP 2021200022 A JP2021200022 A JP 2021200022A JP 2021200022 A JP2021200022 A JP 2021200022A JP 2023085792 A5 JP2023085792 A5 JP 2023085792A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
exterior
reflector
film
heat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021200022A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023085792A (en
JP7477491B2 (en
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2021200022A priority Critical patent/JP7477491B2/en
Priority claimed from JP2021200022A external-priority patent/JP7477491B2/en
Priority to PCT/JP2022/043587 priority patent/WO2023106132A1/en
Priority to TW111146132A priority patent/TW202329249A/en
Publication of JP2023085792A publication Critical patent/JP2023085792A/en
Publication of JP2023085792A5 publication Critical patent/JP2023085792A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7477491B2 publication Critical patent/JP7477491B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本開示は、例えば、半導体・電子部品の分野で、ウエハ、基板等を低温から高温で熱処理する種々の熱処理装置の熱反射板として利用でき、加熱・冷却の1サイクルに要する時間が短く、かつ、高反射率を有することから熱処理装置の省エネルギー化が可能であり、また、汚染を抑制することが可能な熱反射板に関する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present disclosure can be used, for example, in the field of semiconductors and electronic components as a heat reflecting plate for various heat treatment apparatuses that heat treat wafers, substrates, etc. from low to high temperatures, and the time required for one heating/cooling cycle is short. The present invention relates to a heat reflecting plate that has a high reflectance and thus can save energy in a heat treatment apparatus and can suppress contamination.

半導体ウエハの製造または処理工程においては、半導体ウエハに各種の性質を付与するため熱処理作業が行われている。例えば、半導体ウエハを高純度石英製の炉芯管に収納し、炉芯管内の雰囲気を制御して、熱処理作業が行われる。この熱処理工程に使用される熱処理装置では、炉内の高温維持と炉床部への熱放散を防止するため、炉内と炉床との間に炉開口部を塞ぐように保温体(蓋体)が設けられている。 2. Description of the Related Art In manufacturing or processing semiconductor wafers, heat treatment operations are performed to impart various properties to the semiconductor wafers. For example, a semiconductor wafer is housed in a furnace core tube made of high-purity quartz, and the heat treatment operation is performed by controlling the atmosphere inside the furnace core tube. In the heat treatment equipment used in this heat treatment process, a heat insulator (lid ) is provided.

このような保温体としては、熱処理室の開口部を閉塞し、互いに離間して積層され、かつ熱処理室に露出する石英板を有する保温体があり、石英板は表面が平滑で気泡がなく、石英板の内部に金薄膜が形成されていて、金薄膜は、金蒸着により形成されたという特徴がある(例えば、特許文献1を参照。)。 As such a heat insulating body, there is a heat insulating body that has quartz plates that close the opening of the heat treatment chamber, are laminated at a distance from each other, and are exposed to the heat treatment chamber, and the quartz plates have a smooth surface and are free of bubbles. A gold thin film is formed inside the quartz plate, and the gold thin film is characterized by being formed by gold vapor deposition (for example, see Patent Document 1).

また、石英管を中心に通すための孔及び石英ロッドを通すための孔を有する石英板の上に、白金(Pt)及び酸化物(SiOやPbOなど)の混合物に有機物を加えてペースト状にしたものをスクリーン印刷により塗布し、これを焼き固めることにより抵抗発熱体よりなる例えば厚さ5~10ミクロンの反射面を形成する技術の開示がある(例えば、特許文献2を参照。)。 In addition, organic matter is added to a mixture of platinum (Pt) and oxides (SiO, PbO, etc.) and made into a paste on a quartz plate that has a hole for passing a quartz tube through the center and a hole for passing a quartz rod. There is a technique disclosed in which a reflective surface made of a resistive heating element, for example, 5 to 10 microns in thickness is formed by coating the coating by screen printing and baking it to form a reflective surface having a thickness of, for example, 5 to 10 microns (see, for example, Patent Document 2).

縦型熱処理炉の断熱構造体が、複数本の支柱と、これら支柱に上下方向に所定間隔で設けられた複数枚の反射性を有する遮熱板とから構成されている技術の開示がある(例えば、特許文献3を参照。)。特許文献3によれば、遮熱板は、反射膜と、この反射膜の表面を被覆する透明石英層とから形成されている。この遮熱板を形成する一つの方法としては、透明石英層を形成する円形の一対の透明石英板を用い、その一方の透明石英板の片方の面に反射膜を設け、この反射膜をもう一方の透明石英板との間で挟み込み、両透明石英板の周縁部を溶接して密封および一体化する方法がある。 There is a disclosure of a technology in which a heat insulating structure for a vertical heat treatment furnace is composed of a plurality of columns and a plurality of reflective heat shield plates provided on these columns at predetermined intervals in the vertical direction ( For example, see Patent Document 3). According to Patent Document 3, the heat shield plate is formed from a reflective film and a transparent quartz layer covering the surface of the reflective film. One method for forming this heat shield is to use a pair of circular transparent quartz plates that form a transparent quartz layer, provide a reflective film on one side of one of the transparent quartz plates, and then attach the reflective film to the other side. There is a method in which it is sandwiched between one transparent quartz plate and the peripheral edges of both transparent quartz plates are welded to seal and integrate the transparent quartz plate.

特開2001‐102319号公報Japanese Patent Application Publication No. 2001-102319 特開平9‐148315号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-148315 特開平11‐97360号公報Japanese Patent Application Publication No. 11-97360 特開2019‐217530号公報JP2019-217530A 特許4172806号公報Patent No. 4172806 特許6032667号公報Patent No. 6032667

特許文献1では、金属汚染防止の保温体があることで、炉体の加熱・冷却の応答を遅らせてしまい、結果、熱処理サイクルに時間を要してしまう。また、石英板は金属汚染防止のために外周を溶接する必要があり、高い反射率を保持させるためには石英板面積に占める金属膜面積を多くとるために、石英板同士の接合幅を極力小さくすることが必要である。これが行われていない特許文献1では、熱処理温度までの昇温プロファイル、温度保持プロファイル、降温プロファイルを有する熱処理工程において、加熱・冷却の応答を遅らせ、所望の各プロファイルに対してズレを生じさせ、また、熱処理1サイクルに要する時間を長引かせ、結果として生産効率の低下を生じさせるという問題があった。 In Patent Document 1, the presence of a heat insulating body to prevent metal contamination delays the heating and cooling response of the furnace body, resulting in a longer heat treatment cycle. In addition, it is necessary to weld the outer periphery of the quartz plate to prevent metal contamination, and in order to maintain high reflectance, the joint width of the quartz plates should be minimized to increase the area of the metal film in the area of the quartz plate. It is necessary to make it smaller. In Patent Document 1, where this is not done, in a heat treatment process that has a temperature increase profile, a temperature maintenance profile, and a temperature decrease profile up to the heat treatment temperature, the response of heating and cooling is delayed, causing a deviation from each desired profile, Furthermore, there is a problem in that the time required for one heat treatment cycle is prolonged, resulting in a decrease in production efficiency.

特許文献2では、反射板兼ヒーターとしての利用のため、中央に石英管でヒーター導通箇所を設けているが、当構造によって一部輻射熱を遮蔽しきれない箇所が発生する。より高い省エネルギー化のためには、反射面積率を多く取り、尚且つ反射板及び外装となる石英をより薄くし、熱容量を下げる必要がある。 In Patent Document 2, a quartz tube is provided in the center to provide a heater conduction point for use as a reflector and a heater, but this structure results in some areas where the radiant heat cannot be completely shielded. In order to achieve higher energy savings, it is necessary to increase the reflection area ratio, make the quartz used as the reflector and the exterior thinner, and lower the heat capacity.

特許文献3では、石英板で挟み込み、溶接を行う手法がとられているが、熱の影響を受けるため、薄膜で実施する際には膜が剥がれてしまう問題があり、溶接幅を小さくすることも困難である。さらに内部を真空に保ちながら溶接することは難しく、高温使用時の内圧上昇によって薄膜が破損するリスクは避けられない。また透明石英を流し込み作製する手法においても、金属薄膜に実施する場合は熱的、物理的ダメージを避けることはできず、透明石英を薄く作ることも困難である。また、特許文献3においても、遮熱板は、熱処理工程において、加熱・冷却の応答を遅らせ、所望の各プロファイルに対してズレを生じさせ、また、熱処理1サイクルに要する時間を長引かせ、結果として生産効率の低下を生じさせるという問題があった。 Patent Document 3 uses a method of sandwiching quartz plates and welding, but since it is affected by heat, there is a problem that the film peels off when using a thin film, so it is necessary to reduce the welding width. is also difficult. Furthermore, it is difficult to weld while maintaining a vacuum inside, and there is an unavoidable risk that the thin film will be damaged due to the increase in internal pressure during high-temperature use. Furthermore, even in the method of pouring transparent quartz, thermal and physical damage cannot be avoided when applying it to a metal thin film, and it is difficult to make transparent quartz thin. Further, in Patent Document 3, the heat shield plate delays the response of heating and cooling in the heat treatment process, causes deviations from each desired profile, and also prolongs the time required for one heat treatment cycle, resulting in As a result, there was a problem in that it caused a decrease in production efficiency.

本開示は、従来手法よりも反射面積率をより多く確保することができ、熱容量が小さく省エネルギー化が可能で、高反射率を有し、炉内の汚染が抑制され、熱応答性の良い熱反射板を提供することを目的とする。 The present disclosure can secure a larger reflection area ratio than conventional methods, has a small heat capacity and can save energy, has a high reflectance, suppresses contamination inside the furnace, and has a heat sink with good thermal response. The purpose is to provide a reflector.

本発明者らは、鋭意検討した結果、熱反射板の1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量を所定範囲にすることによって上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明に係る熱反射板は、板状外装と、該板状外装の内部に配置されて該板状外装によって外周囲が完全に覆われてなり、かつ、該板状外装の一方の表面に入射した赤外線を反射する反射体と、を有する熱反射板であって、前記反射体は、薄膜、板又は箔であり、前記熱反射板は、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が0.0004~0.0080(J/K)であることを特徴とする。 As a result of extensive studies, the present inventors found that the above problem can be solved by setting the heat capacity in the thickness direction of the plate-like exterior and reflector in a 1 mm 2 range of the heat reflector to a predetermined range, and have developed the present invention. Completed. That is, the heat reflecting plate according to the present invention includes a plate-shaped exterior, and is arranged inside the plate-shaped exterior so that the outer periphery is completely covered by the plate-shaped exterior, and one of the plate-shaped exterior a reflector that reflects infrared rays incident on the surface, the reflector is a thin film, a plate, or a foil, and the heat reflector has a plate-like exterior and a reflector of 1 mm2 . It is characterized by a total heat capacity in the thickness direction of 0.0004 to 0.0080 (J/K).

本発明に係る熱反射板では、前記反射体の少なくとも反射面を含む表面層は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the surface layer including at least the reflective surface of the reflector includes Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, consisting of Au, Ag or Cu, or selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu It is preferable that the alloy be made of an alloy containing at least one of these types.

本発明に係る熱反射板では、前記板状外装の材質はシリカ又はシリコンであることが好ましい。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the material of the plate-like exterior is preferably silica or silicon.

本発明に係る熱反射板では、前記板状外装は、第1外装板と第2外装板とが対向して配置されて周縁部同士が周縁に沿って環状に連続して接合された合わせ板の構造を有することが好ましい。板状外装及び反射体を薄くできるので、熱容量を小さくすることができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the plate-shaped exterior is a laminated plate in which a first exterior plate and a second exterior plate are arranged facing each other and whose peripheral parts are continuously joined in an annular shape along the peripheral edge. It is preferable to have the following structure. Since the plate-like exterior and the reflector can be made thinner, the heat capacity can be reduced.

本発明に係る熱反射板では、前記合わせ板の構造は、前記第1外装板及び前記第2外装板の対向し合う面の間に設けられ、かつ、前記第1外装板側及び前記第2外装板側の少なくとも一方に前記周縁部同士の接合部によって密閉されているキャビティを有し、該キャビティ内に前記反射体が配置されていることが好ましい。反射体が密閉空間であるキャビティ内にあるため、周縁部同士の接合部に、反射体に起因する剥がす方向の応力がかかりにくく、反射体の破損による炉内の汚染を抑制することができる。さらに板状外装と反射体の熱膨張差による破損を回避できる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the structure of the laminated plate is such that the laminated plate is provided between opposing surfaces of the first exterior plate and the second exterior plate, and is provided on the first exterior plate side and the second exterior plate side. It is preferable that at least one of the exterior plates has a cavity that is sealed by a joint between the peripheral edges, and that the reflector is disposed within the cavity. Since the reflector is located in the cavity, which is a sealed space, stress in the peeling direction due to the reflector is not easily applied to the joint between the peripheral edges, and it is possible to suppress contamination in the furnace due to breakage of the reflector. Furthermore, damage due to the difference in thermal expansion between the plate-shaped exterior and the reflector can be avoided.

本発明に係る熱反射板では、前記キャビティを少なくとも前記第1外装板側に有し、前記第1外装板の前記キャビティ内の表面上に前記反射体として形成した薄膜を有し、該薄膜は、前記第1外装板の前記キャビティ内の表面側から順に、下地膜と、前記反射面を含む表面層としての反射膜と、を有する積層膜であり、前記下地膜は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、前記反射膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、前記下地膜と前記反射膜とが異なる組成を有していることが好ましい。第1外装板のキャビティ内の表面上に反射体を形成しているため、周縁部同士の接合部に、反射体に起因する剥がす方向の応力がかかりにくく、反射体の破損による炉内の汚染を抑制することができる。さらに板状外装と反射体の熱膨張差による破損を回避できる。 The heat reflecting plate according to the present invention has the cavity at least on the first exterior plate side, and has a thin film formed as the reflector on the surface inside the cavity of the first exterior plate, and the thin film is , a laminated film including, in order from the surface side in the cavity of the first exterior plate, a base film and a reflective film as a surface layer including the reflective surface, the base film comprising Ta, Mo, and Ti. , Zr, Nb, Cr, W, Co, or Ni, or an alloy containing at least one selected from the group consisting of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni. The reflective film is made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu, or Ir, Pt, The base film is made of an alloy containing at least one selected from the group consisting of Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu; Preferably, the reflective film has a different composition from the reflective film. Since the reflector is formed on the surface inside the cavity of the first exterior plate, stress in the peeling direction caused by the reflector is less likely to be applied to the joint between the peripheral edges, which prevents contamination in the furnace due to breakage of the reflector. can be suppressed. Furthermore, damage due to the difference in thermal expansion between the plate-shaped exterior and the reflector can be avoided.

本発明に係る熱反射板では、前記第1外装板が平板であり、前記キャビティを前記第2外装板側に有し、前記第1外装板の表面上に前記反射体として形成した薄膜を有し、該薄膜は、前記第1外装板の表面側から順に、下地膜と、前記反射面を含む表面層としての反射膜と、を有する積層膜であり、前記下地膜は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、前記反射膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、前記下地膜と前記反射膜とが異なる組成を有していることが好ましい。平板である第1外装板に反射体としての薄膜を形成するため、生産性に優れた熱反射板とすることができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the first exterior plate is a flat plate, has the cavity on the second exterior plate side, and has a thin film formed as the reflector on the surface of the first exterior plate. The thin film is a laminated film including, in order from the surface side of the first exterior plate, a base film and a reflective film as a surface layer including the reflective surface, and the base film includes Ta, Mo, An alloy consisting of Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co or Ni, or containing at least one selected from the group consisting of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co and Ni The reflective film is made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt , Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu. It is preferable that the reflective film and the reflective film have different compositions. Since a thin film as a reflector is formed on the first exterior plate, which is a flat plate, a heat reflecting plate with excellent productivity can be obtained.

本発明に係る熱反射板では、前記反射体が、板又は箔であり、かつ、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい。キャビティ内に反射体としての板又は箔が収容された状態となっており、板又は箔の腐食が生じにくい。さらに、周縁部同士の接合部に、板又は箔に起因する剥がす方向の応力がかかりにくい。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the reflector is a plate or a foil, and Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, consisting of Au, Ag or Cu, or selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu It is preferable that the alloy be made of an alloy containing at least one of these types. A plate or foil serving as a reflector is housed in the cavity, and corrosion of the plate or foil is less likely to occur. Furthermore, stress in the peeling direction due to the plate or foil is less likely to be applied to the joint between the peripheral edges.

本発明に係る熱反射板では、前記キャビティ内の圧力は、大気圧未満の減圧となっていることが好ましい。熱処理時にキャビティの内圧が高まることを抑制することができ、炉内の汚染をより抑制することができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, it is preferable that the pressure inside the cavity is reduced to less than atmospheric pressure. It is possible to suppress an increase in the internal pressure of the cavity during heat treatment, and it is possible to further suppress contamination in the furnace.

本発明に係る熱反射板では、(1)前記第1外装板は、前記周縁部に設けられた土手部と該土手部で取り囲まれて前記キャビティを構成する凹部とを有し、前記第2外装板は、平板状であるか、又は、(2)前記第1外装板は、平板状であり、前記第2外装板は、前記周縁部に設けられた土手部と該土手部で取り囲まれて前記キャビティを構成する凹部とを有することが好ましい。第1外装板に凹部を設けることで、板状外装内にキャビティを簡易な構造で設けることができる。あるいは、第2外装板に凹部を設けることで、板状外装内にキャビティを簡易な構造で設けることができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, (1) the first exterior plate has a bank provided at the peripheral edge and a recess surrounded by the bank to constitute the cavity; The exterior plate is flat, or (2) the first exterior plate is flat, and the second exterior plate is surrounded by a bank provided at the peripheral edge and the bank. It is preferable to have a concave portion constituting the cavity. By providing the recess in the first exterior plate, a cavity can be provided within the plate-like exterior with a simple structure. Alternatively, by providing a recess in the second exterior plate, a cavity can be provided within the plate-like exterior with a simple structure.

本発明に係る熱反射板では、前記熱反射板は、前記キャビティ内で前記合わせ板の構造の対向する面同士の間を立設する少なくとも1本の支柱部を有することが好ましい。支柱部によって合わせ板構造の接合強度を高めることができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, it is preferable that the heat reflecting plate has at least one support that stands between opposing surfaces of the structure of the laminated plate within the cavity. The support portions can increase the joint strength of the laminated plate structure.

本発明に係る熱反射板では、前記支柱部が、柱状又は筒状である形態を含む。柱状又は筒状とすることで、接合強度を高めつつ、反射体の面積を広くとることが出来る。 The heat reflecting plate according to the present invention includes a configuration in which the support portion is columnar or cylindrical. By forming the reflector into a columnar or cylindrical shape, the area of the reflector can be increased while increasing the bonding strength.

本発明に係る熱反射板では、前記熱反射板は、前記支柱部を複数有し、該支柱部は筒状であり、かつ、各支柱部は互いに筒壁の一部を共有した3次元空間充填構造を有することが好ましい。3次元空間充填構造とすることで接合強度を高めつつ、反射体の面積を広くとることが出来、さらに反射板そのものの強度を高めることができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the heat reflecting plate has a plurality of support portions, the support portions are cylindrical, and each support portion is a three-dimensional space in which a portion of the cylinder wall is shared with each other. It is preferable to have a filling structure. By having a three-dimensional space-filling structure, the area of the reflector can be increased while increasing the bonding strength, and the strength of the reflector itself can be increased.

本発明に係る熱反射板では、前記3次元空間充填構造は、ハニカム構造、矩形格子構造、方形格子構造又はひし形格子構造である形態を包含する。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the three-dimensional space filling structure includes a honeycomb structure, a rectangular lattice structure, a square lattice structure, or a rhombic lattice structure.

本発明に係る熱反射板では、前記第1外装板及び前記第2外装板の対向し合う面は互いに平坦面であり、前記反射体は、前記第2外装板側の前記第1外装板の表面のうち前記周縁部同士の環状の接合部の内側の領域に形成された薄膜であり、該薄膜は、前記第1外装板の表面側から順に、下地膜と、前記反射面を含む表面層としての反射膜と、を有する積層膜であり、前記下地膜は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、前記反射膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、前記下地膜と前記反射膜とが異なる組成を有していることが好ましい。反射体と第2外装板の部分接触により生じる干渉縞をより抑制することができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, opposing surfaces of the first exterior plate and the second exterior plate are flat surfaces, and the reflector is arranged on the first exterior plate on the side of the second exterior plate. It is a thin film formed on the inner region of the annular joint between the peripheral edges of the surface, and the thin film includes, in order from the surface side of the first exterior plate, a base film and a surface layer including the reflective surface. The base film is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, or Ni, or is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb. , Cr, W, Co, and Ni, and the reflective film includes Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Consisting of Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag It is preferable that the undercoat film and the reflective film have different compositions, and are made of an alloy containing at least one selected from the group consisting of Cu or Cu. Interference fringes caused by partial contact between the reflector and the second exterior plate can be further suppressed.

本発明に係る熱反射板では、前記キャビティを少なくとも前記第1外装板側に有し、前記第1外装板の前記キャビティ内の表面上に前記反射体として形成した薄膜を有し、該薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。これらの金属膜又はこれらの金属を50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。 The heat reflecting plate according to the present invention has the cavity at least on the first exterior plate side, and has a thin film formed as the reflector on the surface inside the cavity of the first exterior plate, and the thin film is , Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re , Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu in an amount of 50% by mass or more. In the case of these metal films or alloy films containing 50% by mass or more of these metals, the thin film formed as a reflector may be a single layer film.

本発明に係る熱反射板では、前記第1外装板が平板であり、前記キャビティを前記第2外装板側に有し、前記第1外装板の表面上に前記反射体として形成した薄膜を有し、該薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。これらの金属膜又はこれらの金属を50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the first exterior plate is a flat plate, has the cavity on the second exterior plate side, and has a thin film formed as the reflector on the surface of the first exterior plate. However, the thin film is a film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, The alloy film preferably contains 50% by mass or more of Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu. In the case of these metal films or alloy films containing 50% by mass or more of these metals, the thin film formed as a reflector may be a single layer film.

本発明に係る熱反射板では、前記第1外装板及び前記第2外装板の対向し合う面は互いに平坦面であり、前記反射体は、前記第2外装板側の前記第1外装板の表面のうち前記周縁部同士の環状の接合部の内側の領域に形成された薄膜であり、該薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。これらの金属膜又はこれらの金属を50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。 In the heat reflecting plate according to the present invention, opposing surfaces of the first exterior plate and the second exterior plate are flat surfaces, and the reflector is arranged on the first exterior plate on the side of the second exterior plate. A thin film formed on the inner surface of the annular joint between the peripheral parts, and the thin film includes Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, A film made of Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or a film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or An alloy film containing 50% by mass or more of Cu is preferable. In the case of these metal films or alloy films containing 50% by mass or more of these metals, the thin film formed as a reflector may be a single layer film.

本発明に係る熱反射板では、前記キャビティを前記第1外装板側及び前記第2外装板側に有し、前記第1外装板の前記キャビティ内の表面上に前記反射体として形成した薄膜を有し、該薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。これらの金属膜又はこれらの金属を50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。 The heat reflecting plate according to the present invention has the cavities on the first exterior plate side and the second exterior plate side, and includes a thin film formed as the reflector on the surface inside the cavity of the first exterior plate. The thin film is a film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or a film made of Ir, Pt. , Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu in an amount of 50% by mass or more. In the case of these metal films or alloy films containing 50% by mass or more of these metals, the thin film formed as a reflector may be a single layer film.

本発明に係る熱反射板では、前記反射体の厚さは、0.01μm以上5mm以下であることが好ましい。反射体による輻射熱の反射効率を保持しつつ、熱反射板の熱容量を小さくすることができる。 In the heat reflecting plate according to the present invention, the thickness of the reflector is preferably 0.01 μm or more and 5 mm or less. The heat capacity of the heat reflecting plate can be reduced while maintaining the efficiency of reflecting radiant heat by the reflector.

本発明に係る熱反射板では、前記周縁部同士の接合部は、表面活性化接合部であることが好ましい。一般的な溶接手法よりも接合幅を短くすることで、より輻射熱を炉内へ反射させることができる。また、反射体である薄膜が接合プロセスによる熱的、物理的ダメージを受けにくい。また、接合部における接合強度が高められており、熱反射板はより長寿命となり、また耐食性が高まり、炉内の汚染が抑制される。 In the heat reflecting plate according to the present invention, it is preferable that the joint between the peripheral portions is a surface activated joint. By making the joint width shorter than in common welding methods, more radiant heat can be reflected back into the furnace. In addition, the thin film that is the reflector is less susceptible to thermal and physical damage caused by the bonding process. Furthermore, the joint strength at the joints is increased, the life of the heat reflecting plate is longer, corrosion resistance is increased, and contamination inside the furnace is suppressed.

本発明に係る熱反射板は、次の熱反射板を包含する。 The heat reflecting plate according to the present invention includes the following heat reflecting plate.
板状外装と、A plate-like exterior,
該板状外装の内部に配置されて該板状外装によって外周囲が完全に覆われてなり、かつ、該板状外装の一方の表面に入射した赤外線を反射する反射体と、を有する熱反射板であって、a heat reflector that is disposed inside the plate-like exterior and whose outer periphery is completely covered by the plate-like exterior, and which reflects infrared rays incident on one surface of the plate-like exterior; A board,
前記板状外装は、平板状の第1外装板の平坦面と平板状の第2外装板の平坦面とが対向して配置されて周縁部同士が周縁に沿って環状に連続して接合された接合部を有する合わせ板の構造を有し、In the plate-shaped exterior, a flat surface of a flat first exterior plate and a flat surface of a flat second exterior plate are arranged to face each other, and the peripheral edges are continuously joined in an annular shape along the peripheral edge. It has a laminated board structure with a joint part,
前記反射体は、前記第1外装板の平坦面のうち前記周縁部同士の環状の接合部の内側の領域に形成された薄膜であり、The reflector is a thin film formed in a region inside the annular joint between the peripheral edges of the flat surface of the first exterior plate,
前記第1外装板及び前記第2外装板の外側板面は全面にわたって平坦面であり、The outer plate surfaces of the first exterior plate and the second exterior plate are flat surfaces over the entire surface,
前記薄膜の周縁に囲まれる全面が反射面であり、かつ、The entire surface surrounded by the periphery of the thin film is a reflective surface, and
前記反射体は、薄膜、板又は箔であり、The reflector is a thin film, plate or foil,
前記熱反射板は、1mmThe heat reflecting plate has a thickness of 1 mm. 2 における板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が0.0004~0.0080(J/K)であることを特徴とする熱反射板。A heat reflecting plate characterized in that the total heat capacity in the thickness direction of the plate-like exterior and the reflector is 0.0004 to 0.0080 (J/K).

本発明に係る熱反射板では、前記薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であり、かつ、前記薄膜が単層膜であることが好ましい。In the heat reflecting plate according to the present invention, the thin film may be a film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu. or an alloy film containing 50% by mass or more of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu, and Preferably, the thin film is a single layer film.

本発明に係る熱反射板では、前記薄膜は、前記第1外装板の表面側から順に、下地膜と、前記反射面を含む表面層としての反射膜と、を有する積層膜であり、In the heat reflecting plate according to the present invention, the thin film is a laminated film having, in order from the surface side of the first exterior plate, a base film and a reflective film as a surface layer including the reflective surface,
前記下地膜は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、The base film is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, or Ni, or selected from the group consisting of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni. consisting of an alloy containing at least one of
前記反射膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、The reflective film is made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu, or Ir, Pt, Rh, Consisting of an alloy containing at least one selected from the group consisting of Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu,
前記下地膜と前記反射膜とが異なる組成を有していることが好ましい。It is preferable that the base film and the reflective film have different compositions.

本発明に係る熱反射板では、前記接合部は、第1外装板及び第2外装板にキャビティを設けずに、平板状の第1外装板の平坦面と平板状の第2外装板の平坦面とが対向して配置されて、第1外装板及び第2外装板の応力変形によって周縁部同士が周縁に沿って環状に連続して接合された接合部である形態を包含する。In the heat reflecting plate according to the present invention, the joint portion is formed between the flat surface of the flat first exterior plate and the flat surface of the flat second exterior plate without providing a cavity in the first exterior plate and the second exterior plate. This includes a form in which the surfaces are arranged facing each other and the peripheral edges are joined continuously in an annular shape along the peripheral edge by stress deformation of the first exterior plate and the second exterior plate.

本発明に係る熱反射板では、前記薄膜は、前記第1外装板の平坦面のうち前記周縁部同士の環状の接合部の内側の領域の全面に形成されていることが好ましい。In the heat reflecting plate according to the present invention, it is preferable that the thin film is formed on the entire area of the flat surface of the first exterior plate inside the annular joint between the peripheral edges.

本発明に係る熱反射板では、前記薄膜の厚さは、10nm以上500nm以下であることが好ましい。In the heat reflecting plate according to the present invention, the thickness of the thin film is preferably 10 nm or more and 500 nm or less.

本開示によれば、従来手法よりも反射面積率をより多く確保することができ、熱容量が小さく省エネルギー化が可能で、高反射率を有し、炉内の汚染が抑制され、熱応答性の良い熱反射板を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to secure a larger reflection area ratio than conventional methods, it has a small heat capacity and can save energy, it has a high reflectance, contamination inside the furnace is suppressed, and thermal responsiveness is improved. It can provide a good heat reflector.

本実施形態に係る熱反射板の一例を示す平面概略図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing an example of a heat reflecting plate according to the present embodiment. A-A断面の第1例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a first example of an AA cross section. A-A断面の第2例を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a second example of the AA cross section. A-A断面の第3例を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a third example of the AA cross section. A-A断面の第4例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a fourth example of the AA cross section. A-A断面の第5例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a fifth example of the AA cross section. A-A断面の第6例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a sixth example of the AA cross section. A-A断面の第7例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a seventh example of the AA cross section. 支柱部がハニカム構造を有する形態の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the form in which a support|pillar part has a honeycomb structure. A-A断面の第8例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing an eighth example of the AA cross section. A-A断面の第9例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a ninth example of the AA cross section. A-A断面の第10例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a tenth example of the AA cross section. A-A断面の第11例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing an 11th example of an AA cross section. A-A断面の第12例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a 12th example of an AA cross section. A-A断面の第13例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a thirteenth example of the AA cross section. 実施例1の反射体の反射率を示すグラフである。3 is a graph showing the reflectance of the reflector of Example 1. 1000℃における物質が放射する黒体放射の波長と放射量との関係を示すグラフである。It is a graph showing the relationship between the wavelength and radiation amount of blackbody radiation emitted by a substance at 1000°C. 実施例5の反射体の反射率を示すグラフである。3 is a graph showing the reflectance of the reflector of Example 5. 実施例6の反射体の反射率を示すグラフである。7 is a graph showing the reflectance of the reflector of Example 6. A-A断面の第14例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing a 14th example of an AA cross section. 比較例1の不透明石英の反射率を示すグラフである。3 is a graph showing the reflectance of opaque quartz of Comparative Example 1.

以降、本発明について実施形態を示して詳細に説明するが本発明はこれらの記載に限定して解釈されない。本発明の効果を奏する限り、実施形態は種々の変形をしてもよい。 Hereinafter, the present invention will be described in detail by showing embodiments, but the present invention should not be interpreted as being limited to these descriptions. The embodiments may be modified in various ways as long as the effects of the present invention are achieved.

(反射体が薄膜である形態)
図1及び図2を参照して、本実施形態に係る熱反射板について説明する。本実施形態に係る熱反射板100は、板状外装1と、板状外装1の内部に配置されて板状外装1によって外周囲が完全に覆われてなり、かつ、板状外装1の一方の表面に入射した赤外線を反射する反射体5と、を有する。図1においては、紙面に向かう方向が赤外線の入射方向である。図2においては、上から下に向かう方向が赤外線の入射方向である。反射体5は薄膜であり、反射体5の少なくとも反射面を含む表面層は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい。図2では、反射体5が積層膜である形態が示されており、下地膜3の上に反射面を含む表面層としての反射膜4が形成されている。このとき、反射体5は貫通孔や凹凸などを設けずに該反射体の周縁に囲まれる全面が反射面であることが好ましい。
(form where the reflector is a thin film)
A heat reflecting plate according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The heat reflecting plate 100 according to the present embodiment includes a plate-shaped exterior 1, a plate-shaped exterior 1, which is disposed inside the plate-shaped exterior 1, and whose outer periphery is completely covered by the plate-shaped exterior 1, and one side of the plate-shaped exterior 1. and a reflector 5 that reflects infrared rays incident on the surface of the reflector 5. In FIG. 1, the direction toward the page is the incident direction of infrared rays. In FIG. 2, the direction from top to bottom is the incident direction of infrared rays. The reflector 5 is a thin film, and the surface layer of the reflector 5 including at least the reflective surface is made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au. , Ag or Cu, or at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu. It is preferable that the alloy be made of an alloy containing one of these types. In FIG. 2, a configuration in which the reflector 5 is a laminated film is shown, and a reflective film 4 as a surface layer including a reflective surface is formed on the base film 3. At this time, it is preferable that the reflector 5 has no through holes or irregularities, and the entire surface surrounded by the periphery of the reflector is a reflective surface.

本実施形態に係る熱反射板100は、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が0.0004~0.0080(J/K)であり、好ましくは0.0023~0.0070(J/K)であり、より好ましくは0.0030~0.0060(J/K)である。1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量は、反射体5と反射体5の外周囲を完全に覆う板状外装1とを有する熱反射板100の熱容量を、赤外線の入射面の面積で除した値に相当する。赤外線の入射面の面積とは、図1及び図2を例として説明すると、図1では熱反射板100における赤外線の入射面の全体が示されているが、入射面には、図2によれば、反射体5が見える領域と周縁部同士の接合部2が見える領域とがあるところ、これら両方を含む領域の面積、すなわち、反射体5を正面に見た板状外装1の板面の面積全体を指す。1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が0.0004(J/K)未満であると、板状外装の厚みの不足による破損、または、反射体の厚みの不足による赤外線の透過が発生することで反射性能が低下する可能性があり、0.0080(J/K)を超えると、熱容量の合計が大きすぎて熱処理工程において、加熱・冷却の応答を遅らせ、所望の各プロファイルに対してズレを生じさせ、また、熱処理1サイクルに要する時間を長引かせ、結果として生産効率の低下を生じさせる。 The heat reflecting plate 100 according to the present embodiment has a total heat capacity in the thickness direction of the plate-like exterior and the reflector in 1 mm 2 of 0.0004 to 0.0080 (J/K), preferably 0.0023 to 0.0080 (J/K). It is 0.0070 (J/K), more preferably 0.0030 to 0.0060 (J/K). The heat capacity in the thickness direction of the plate-like exterior and the reflector at 1 mm 2 is the heat capacity of the heat reflecting plate 100 having the reflector 5 and the plate-like exterior 1 that completely covers the outer periphery of the reflector 5, It corresponds to the value divided by the area of . The area of the infrared ray incident surface is explained using FIGS. 1 and 2 as examples. FIG. 1 shows the entire infrared ray incident surface of the heat reflecting plate 100, but the area of the infrared ray incident surface is as shown in FIG. For example, where there is an area where the reflector 5 is visible and an area where the joint 2 between the peripheral edges is visible, the area of the area including both of these areas, that is, the area of the plate surface of the plate-like exterior 1 when the reflector 5 is viewed from the front. Refers to the entire area. If the total heat capacity in the thickness direction of the plate-shaped exterior and reflector at 1 mm 2 is less than 0.0004 (J/K), damage may occur due to insufficient thickness of the plate-shaped exterior or reflector. Reflection performance may deteriorate due to the transmission of infrared rays, and if it exceeds 0.0080 (J/K), the total heat capacity will be too large, delaying the response of heating and cooling in the heat treatment process, and achieving the desired result. In addition, the time required for one cycle of heat treatment is prolonged, resulting in a decrease in production efficiency.

なお、本実施形態における熱反射板は、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が上記範囲を満たすことが必要である。この範囲を満たすことに加えて炉体の熱応答性をさらに良好にするために、面内方向における板状外装に対する反射体の面積の割合が大きいこと及び反射体に用いられる反射材料の反射率が高いことがより好ましい。例えば、使用する炉体及び基板の大きさに合わせて熱反射板を設計するが、熱反射板の大きさは、直径が50mm以上の円板形状もしくは一辺が50mm以上の多角形状における板状外装とすることが好ましい。加えて熱反射板の厚さを、例えば、1~3.4mm、好ましくは1~3mmとなるべく薄くすることが好ましい。加えて前記円板形状もしくは多角形状の面内方向の面積になるべく近い面積、例えば、反射面積率でいえば80%以上となるように反射体を設けることが好ましい。加えて反射体に用いられる金属材料又は合金材料は、高い反射率、例えば80%以上の反射率を持つ金属材料又は合金材料を選定することが好ましい。ここで、「面内方向」の面とは、熱反射板の反射面を含む板面のことをさす。 In addition, in the heat reflecting plate in this embodiment, the total heat capacity in the thickness direction of the plate-like exterior and the reflector at 1 mm 2 needs to satisfy the above range. In addition to satisfying this range, in order to further improve the thermal response of the furnace body, the area ratio of the reflector to the plate-shaped exterior in the in-plane direction is large, and the reflectance of the reflective material used for the reflector is It is more preferable that the value is high. For example, a heat reflector is designed according to the size of the furnace body and substrate to be used. It is preferable that In addition, it is preferable to make the thickness of the heat reflecting plate as thin as possible, for example, 1 to 3.4 mm, preferably 1 to 3 mm. In addition, it is preferable to provide the reflector so that the area is as close as possible to the area in the in-plane direction of the disc-shaped or polygonal shape, for example, the reflection area ratio is 80% or more. In addition, it is preferable to select a metal material or alloy material used for the reflector that has a high reflectance, for example, a reflectance of 80% or more. Here, the "in-plane direction" surface refers to the plate surface including the reflective surface of the heat reflecting plate.

熱反射板100では、板状外装1は、第1外装板1aと第2外装板1bとが対向して配置されて周縁部同士が周縁に沿って環状に連続して接合された合わせ板の構造を有することが好ましい。図2において、第1外装板1aと第2外装板1bとは、周縁部同士の接合部2によって、合わせ板の構造を形成している。周縁部同士の接合部2は、図1に示すように、板状外装1の周縁に沿って環状に連続している。図1では、周縁部同士の接合部2は、第2外装板1bを透視して第1外装板1aと第2外装板1bとの境界部としてみることができ、グレーの領域として図示した。合わせ板の構造とすることで、板状外装を薄くできるので、熱容量を小さくすることができる。 In the heat reflecting plate 100, the plate-like exterior plate 1 is made of a laminated plate in which a first exterior plate 1a and a second exterior plate 1b are arranged facing each other and their peripheral edges are continuously joined in an annular shape along the peripheral edge. It is preferable to have a structure. In FIG. 2, the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b form a laminated plate structure with joints 2 between their peripheral edges. As shown in FIG. 1, the joint 2 between the peripheral edges is continuous in an annular shape along the peripheral edge of the plate-shaped exterior 1. In FIG. 1, the joint 2 between the peripheral edges can be seen as a boundary between the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b when looking through the second exterior plate 1b, and is illustrated as a gray area. By using a laminated plate structure, the plate-like exterior can be made thinner, so the heat capacity can be reduced.

反射体5を正面に見た板状外装1の形状は、例えば、円形、楕円形、長方形又は正方形であり、円形が好ましい。また、反射体5を正面に見たシリカ板1の外側板面は、貫通孔や凹凸などを設けずに平坦面であることが好ましい。円形の直径は、例えば、5~50cmである。周縁部同士の接合部2の環状形状の幅は、例えば0.5~20mmである。板状外装1の肉厚は1~3.4mmであることが好ましく、1~3mmであることがより好ましい。第1外装板1aの肉厚は0.1~1.7mmであることが好ましく、0.5~1.5mmであることがより好ましい。第2外装板1bの肉厚は0.1~1.7mmであることが好ましく、0.5~1.5mmであることがより好ましい。反射体5を正面に見た板状外装1の板面に対する反射体5の反射面積率は、80%以上であることが好ましく、87%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。 The shape of the plate-like exterior 1 when the reflector 5 is viewed from the front is, for example, circular, oval, rectangular, or square, and preferably circular. Further, it is preferable that the outer surface of the silica plate 1 when the reflector 5 is viewed from the front is a flat surface without any through holes or irregularities. The diameter of the circle is, for example, 5 to 50 cm. The width of the annular joint 2 between the peripheral edges is, for example, 0.5 to 20 mm. The wall thickness of the plate-shaped exterior 1 is preferably 1 to 3.4 mm, more preferably 1 to 3 mm. The thickness of the first exterior plate 1a is preferably 0.1 to 1.7 mm, more preferably 0.5 to 1.5 mm. The thickness of the second exterior plate 1b is preferably 0.1 to 1.7 mm, more preferably 0.5 to 1.5 mm. The reflection area ratio of the reflector 5 to the plate surface of the plate-shaped exterior 1 when the reflector 5 is viewed from the front is preferably 80% or more, more preferably 87% or more, and 90% or more. is even more preferable.

板状外装1の材質はシリカ又はシリコンであることが好ましい。材料強度、また赤外線を吸収せずに透過できる点でシリカが好ましく、熱容量が小さい点でシリコンが好ましい。シリカは、結晶性シリカ又は非晶質シリカである形態を包含する。板状外装1の不純物濃度は、100ppm以下、好ましくは90ppm以下である。なお、本実施形態は、板状外装1の材質がシリコンである形態において、シリコンの表面が酸化されてシリカになっている形態を包含する。 The material of the plate-shaped exterior 1 is preferably silica or silicon. Silica is preferable because of its material strength and ability to transmit infrared rays without absorbing it, and silicon is preferable because it has a small heat capacity. Silica includes forms that are crystalline silica or amorphous silica. The impurity concentration of the plate-shaped exterior 1 is 100 ppm or less, preferably 90 ppm or less. Note that the present embodiment includes an embodiment in which the material of the plate-shaped exterior 1 is silicon, and an embodiment in which the surface of the silicon is oxidized to become silica.

熱反射板100では、合わせ板の構造は、第1外装板1a及び第2外装板1bの対向し合う面の間に設けられ、かつ、第1外装板1a側及び第2外装板1b側の少なくとも一方に周縁部同士の接合部2によって密閉されているキャビティ12を有し、キャビティ12内に反射体5が配置されていることが好ましい。キャビティ12は、第1外装板1a側に設けられた形態、第1外装板1a側及び第2外装板1b側の両側に設けられた形態及び第2外装板1b側に設けられた形態がある。図2ではキャビティ12が、第1外装板1a側に設けられた形態を示している。この形態では、第1外装板1aの一方の表面に凹部が設けられており、第2外装板1bは凹部がない平板であり、第1外装板1a及び第2外装板1bの合わせ板の構造とすることで、キャビティ12は、第1外装板1a側に設けられる。その結果、キャビティ12は、第1外装板1a及び第2外装板1bの対向し合う面の第1外装板1a側のみに設けられ、かつ、周縁部同士の接合部2によって密閉されている。反射体5が密閉空間であるキャビティ12内にあるため、周縁部同士の接合部に、反射体に起因する剥がす方向の応力がかかりにくく、反射体の破損による炉内の汚染を抑制することができる。さらに板状外装と反射体の熱膨張差による破損を回避できる。 In the heat reflecting plate 100, the structure of the laminated plate is that it is provided between the opposing surfaces of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b, and that the laminated plates are provided on the first exterior plate 1a side and the second exterior plate 1b side. It is preferable to have a cavity 12 sealed on at least one side by a joint 2 between peripheral parts, and a reflector 5 to be disposed within the cavity 12. The cavity 12 is provided on the first exterior plate 1a side, on both sides of the first exterior plate 1a and second exterior plate 1b, and on the second exterior plate 1b side. . FIG. 2 shows a configuration in which the cavity 12 is provided on the first exterior plate 1a side. In this form, a concave portion is provided on one surface of the first exterior plate 1a, the second exterior plate 1b is a flat plate without a concave portion, and the structure of the mating plates of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b is By doing so, the cavity 12 is provided on the first exterior plate 1a side. As a result, the cavity 12 is provided only on the first exterior plate 1a side of the opposing surfaces of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b, and is sealed by the joint 2 between the peripheral edges. Since the reflector 5 is located in the cavity 12, which is a sealed space, stress in the peeling direction due to the reflector is less likely to be applied to the joint between the peripheral edges, and contamination in the furnace due to breakage of the reflector can be suppressed. can. Furthermore, damage due to the difference in thermal expansion between the plate-shaped exterior and the reflector can be avoided.

図3では、キャビティ12が、第1外装板1a側及び第2外装板1b側の両側にわたって設けられた形態を示している。この形態では、第1外装板1aの一方の表面に凹部が設けられており、第2外装板1bの一方の表面に凹部が設けられており、凹部同士が合わさるように、第1外装板1a及び第2外装板1bの合わせ板の構造とする。その結果、キャビティ12は、第1外装板1a及び第2外装板1bの対向し合う面の第1外装板1a側及び第2外装板1b側の両方に設けられる。 FIG. 3 shows a configuration in which the cavity 12 is provided across both sides of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b. In this form, a concave portion is provided on one surface of the first exterior plate 1a, a concave portion is provided on one surface of the second exterior plate 1b, and the first exterior plate 1a is and the structure of the second exterior plate 1b is a laminated plate. As a result, the cavities 12 are provided on both the first exterior plate 1a side and the second exterior plate 1b side of the opposing surfaces of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b.

図4では、キャビティ12が、第2外装板1b側に設けられた形態を示している。この形態では、第1外装板1aは凹部がない平板であり、第2外装板1bの一方の表面に凹部が設けられており、第1外装板1a及び第2外装板1bの合わせ板の構造とすることで、キャビティ12は、第2外装板1b側に設けられる。その結果、キャビティ12は、第1外装板1a及び第2外装板1bの対向し合う面の第2外装板1b側のみに設けられる。 FIG. 4 shows a configuration in which the cavity 12 is provided on the second exterior plate 1b side. In this form, the first exterior plate 1a is a flat plate without a recess, the second exterior plate 1b is provided with a recess on one surface, and the structure of the mating plate of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b is By doing so, the cavity 12 is provided on the second exterior plate 1b side. As a result, the cavity 12 is provided only on the second exterior plate 1b side of the opposing surfaces of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b.

キャビティ12の高さ(図2では、上下方向の長さ)は、0.1μm~5mmであることが好ましく、0.1μm~1mmであることがより好ましい。キャビティ12は、第1外装板1a側にのみ凹部を設ける形態、第1外装板1a側及び第2外装板1b側の両方に凹部を設ける形態及び第2外装板1b側にのみ凹部を設ける形態の3態様があるが、いずれの形態でも、凹部によって、第1外装板1aの周縁部及び/又は第2外装板1bの周縁部に土手部11が形成される。図2の形態では、第1外装板1aに形成された土手部11の天面は、向い合せに配置される第2外装板1bの平板部分と接合され、周縁部同士の接合部2が形成される。図3の形態では、第1外装板1aと第2外装板1bの土手部11の天面同士が接合され、周縁部同士の接合部2が形成される。また、図4の形態では、第2外装板1bに形成された土手部11の天面は、向い合せに配置される第1外装板1aの平板部分と接合され、周縁部同士の接合部2が形成される。凹部は、例えばエッチング法などによって形成することができる。 The height of the cavity 12 (the length in the vertical direction in FIG. 2) is preferably 0.1 μm to 5 mm, more preferably 0.1 μm to 1 mm. The cavity 12 has a configuration in which the recess is provided only on the first exterior plate 1a side, a configuration in which the recess is provided in both the first exterior plate 1a side and the second exterior plate 1b side, and a configuration in which the recess is provided only in the second exterior plate 1b side. There are three modes, but in any mode, the bank portion 11 is formed by the recess at the peripheral edge of the first exterior plate 1a and/or the peripheral edge of the second exterior plate 1b. In the form of FIG. 2, the top surface of the bank portion 11 formed on the first exterior plate 1a is joined to the flat plate portion of the second exterior plate 1b arranged facing each other, and a joint 2 between the peripheral edges is formed. be done. In the form of FIG. 3, the top surfaces of the bank portions 11 of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b are joined to form a joint 2 between the peripheral edges. In addition, in the form of FIG. 4, the top surface of the bank part 11 formed on the second exterior plate 1b is joined to the flat plate part of the first exterior plate 1a arranged facing each other, and the joint 2 between the peripheral parts is formed. The recessed portion can be formed by, for example, an etching method.

本実施形態に係る熱反射板100では、図2に示すように、第1外装板1aは、周縁部に設けられた土手部11と土手部11で取り囲まれてキャビティ12を構成する凹部とを有し、第2外装板1bは、平板状であることが好ましい。第1外装板1aのみに凹部を設けることで、板状外装内にキャビティ12を簡易な構造で設けることができる。このような形態を有する熱反射板は、図2の他、図5、図8、図12又は図15に例示された熱反射板103,106,109,112がある。 In the heat reflecting plate 100 according to the present embodiment, as shown in FIG. It is preferable that the second exterior plate 1b has a flat plate shape. By providing the recess only in the first exterior plate 1a, the cavity 12 can be provided within the plate-like exterior with a simple structure. Heat reflecting plates having such a configuration include heat reflecting plates 103, 106, 109, and 112 illustrated in FIG. 5, FIG. 8, FIG. 12, or FIG. 15 in addition to FIG. 2.

本実施形態に係る熱反射板102では、図4に示すように、第1外装板1aは、平板状であり、第2外装板1bは、周縁部に設けられた土手部11と土手部11で取り囲まれてキャビティ12を構成する凹部とを有することが好ましい。第2外装板1bのみに凹部を設けることで、板状外装内にキャビティ12を簡易な構造で設けることができる。このような形態を有する熱反射板は、図4の他、図7、図11又は図14に例示された熱反射板105,108,111がある。 In the heat reflecting plate 102 according to the present embodiment, as shown in FIG. It is preferable to have a concave portion surrounded by a concave portion forming the cavity 12. By providing the recess only in the second exterior plate 1b, the cavity 12 can be provided within the plate-like exterior with a simple structure. Heat reflecting plates having such a configuration include heat reflecting plates 105, 108, and 111 illustrated in FIG. 7, FIG. 11, or FIG. 14 in addition to FIG. 4.

図2又は図3に示すように、本実施形態に係る熱反射板100,101では、キャビティ12を少なくとも第1外装板1a側に有し、第1外装板1aのキャビティ12内の表面上に反射体5として形成した薄膜を有し、薄膜は、第1外装板1aのキャビティ12内の表面側から順に、下地膜3と、反射面を含む表面層としての反射膜4と、を有する積層膜であり、下地膜3は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、反射膜4は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、下地膜3と反射膜4とが異なる組成を有していることが好ましい。第1外装板のキャビティ内の表面上に反射体を形成しているため、周縁部同士の接合部に、反射体に起因する剥がす方向の応力がかかりにくく、反射体の破損による炉内の汚染を抑制することができる。さらに板状外装と反射体の熱膨張差による破損を回避できる。反射体5が薄膜であり、薄膜が積層膜である場合は、反射体5の少なくとも反射面を含む表面層は、反射膜4に対応する。積層膜である反射体5は、第1外装板1aのキャビティ12内の表面、すなわち、凹部の底面に形成されている。積層膜である反射体5は、凹部の底面の全面積に対して50~100%の面積で形成されていることが好ましく、80~100%の面積で形成されていることがより好ましい。反射体5の膜厚は、10~1500nmであることが好ましく、20~400nmであることがより好ましい。 As shown in FIG. 2 or 3, the heat reflecting plates 100, 101 according to the present embodiment have a cavity 12 at least on the first exterior plate 1a side, and have a cavity 12 on the inner surface of the cavity 12 of the first exterior plate 1a. It has a thin film formed as a reflector 5, and the thin film is a laminated layer including, in order from the surface side inside the cavity 12 of the first exterior plate 1a, a base film 3 and a reflective film 4 as a surface layer including a reflective surface. The base film 3 is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, or Ni, or is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni. The reflective film 4 is made of an alloy containing at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, and Au. , Ag or Cu, or at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu. It is preferable that the base film 3 and the reflective film 4 are made of an alloy containing one of these and have different compositions. Since the reflector is formed on the surface inside the cavity of the first exterior plate, stress in the peeling direction caused by the reflector is less likely to be applied to the joint between the peripheral edges, which prevents contamination in the furnace due to breakage of the reflector. can be suppressed. Furthermore, damage due to the difference in thermal expansion between the plate-shaped exterior and the reflector can be avoided. When the reflector 5 is a thin film and the thin film is a laminated film, the surface layer of the reflector 5 including at least the reflective surface corresponds to the reflective film 4 . The reflector 5, which is a laminated film, is formed on the surface inside the cavity 12 of the first exterior plate 1a, that is, on the bottom surface of the recess. The reflector 5, which is a laminated film, is preferably formed with an area of 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, of the total area of the bottom surface of the recess. The film thickness of the reflector 5 is preferably 10 to 1500 nm, more preferably 20 to 400 nm.

下地膜3は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい。このような金属又は合金は、融点が高く、かつ、板状外装との密着性に優れている。下地膜3は、例えば、スパッタ膜、塗布膜、CVD、蒸着等で得られる薄膜であることが好ましい。Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金としては、これらの元素のいずれか一種を最多質量にて含む合金であることが好ましく、より好ましくはTa、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiを50質量%以上含有する合金、さらに好ましくは60質量%以上含有する合金、最も好ましくは70質量%以上含有する合金であり、例えば、Ta‐Mo系合金、Ta‐Cr系合金又はCr‐Co系合金である。下地膜3の膜厚は、5~500nmであることが好ましく、10~100nmであることがより好ましい。下地膜3は反射膜4の密着性を向上させる。 The base film 3 is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, or Ni, or selected from the group consisting of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni. It is preferable that the alloy be made of an alloy containing at least one of the following. Such metals or alloys have a high melting point and excellent adhesion to the plate-like exterior. The base film 3 is preferably a thin film obtained by, for example, sputtering, coating, CVD, vapor deposition, or the like. An alloy containing at least one selected from the group consisting of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni is an alloy containing one of these elements in the largest amount by mass. is preferable, more preferably an alloy containing 50% by mass or more of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co or Ni, still more preferably an alloy containing 60% by mass or more, most preferably 70% by mass. It is an alloy containing the above, for example, a Ta-Mo based alloy, a Ta-Cr based alloy, or a Cr-Co based alloy. The thickness of the base film 3 is preferably 5 to 500 nm, more preferably 10 to 100 nm. The base film 3 improves the adhesion of the reflective film 4.

反射膜4は下地膜3の表面に堆積していることが好ましい。反射膜4は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい。このような金属又は合金は、融点が高く、かつ、赤外線の反射率が高い。また下地膜との反応性が少ない。反射膜4は、例えば、スパッタ膜、塗布膜、CVD、蒸着等で得られる薄膜であることが好ましい。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金としては、これらの元素のいずれか一種を最多質量にて含む合金であることが好ましく、より好ましくはIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含有する合金、さらに好ましくは60質量%以上含有する合金、最も好ましくは70質量%以上含有する合金であり、例えば、Ir‐Pt系合金、Ir‐Rh系合金又はPt‐Ru系合金である。反射膜4の膜厚は、5~1000nmであることが好ましく、10~300nmであることがより好ましい。 Preferably, the reflective film 4 is deposited on the surface of the base film 3. The reflective film 4 is made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu, or Ir, Pt, Rh, It is preferable to use an alloy containing at least one selected from the group consisting of Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu. Such metals or alloys have a high melting point and a high reflectance of infrared rays. It also has little reactivity with the underlying film. The reflective film 4 is preferably a thin film obtained by, for example, sputtering, coating, CVD, vapor deposition, or the like. The alloy containing at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, It is preferable that the alloy contains the largest amount of any one of these elements, more preferably Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge. , an alloy containing Au, Ag or Cu in an amount of 50% by mass or more, more preferably an alloy containing 60% by mass or more, and most preferably an alloy containing 70% by mass or more, such as an Ir-Pt alloy, an Ir-Rh Pt-Ru alloy or Pt-Ru alloy. The thickness of the reflective film 4 is preferably 5 to 1000 nm, more preferably 10 to 300 nm.

積層膜としたときの下地膜3と反射膜4の好適な組み合わせとしては、下地膜3/反射膜4は、Ta膜/Ir膜、Ta膜/Pt膜、Mo膜/Ir膜などである。積層膜の膜厚は、10~1500nmであることが好ましく、20~400nmであることがより好ましい。 Preferred combinations of the base film 3 and the reflective film 4 when used as a laminated film include a Ta film/Ir film, a Ta film/Pt film, a Mo film/Ir film, etc. as the base film 3/reflective film 4. The thickness of the laminated film is preferably 10 to 1500 nm, more preferably 20 to 400 nm.

図5又は図6に示すように、反射体5の厚さがキャビティ12の高さと等しい、すなわち、反射膜4が第2外装板1bの表面に接触している形態であってもよい。反射膜4と第2外装板が部分的に接触することで発生する干渉縞が低減される。下地膜3は、第1外装板1aのキャビティ12内の表面(凹部の底面)に堆積していることが好ましく、反射膜4は下地膜3の表面に堆積していることが好ましい。反射膜4は第2外装板1bの表面に接触しているが、第2外装板1bの表面に形成されていない、すなわち堆積したものではないことが好ましい。 As shown in FIG. 5 or 6, the thickness of the reflector 5 may be equal to the height of the cavity 12, that is, the reflective film 4 may be in contact with the surface of the second exterior plate 1b. Interference fringes caused by partial contact between the reflective film 4 and the second exterior plate are reduced. The base film 3 is preferably deposited on the surface inside the cavity 12 of the first exterior plate 1a (the bottom surface of the recess), and the reflective film 4 is preferably deposited on the surface of the base film 3. Although the reflective film 4 is in contact with the surface of the second exterior plate 1b, it is preferable that it is not formed on the surface of the second exterior plate 1b, that is, it is not deposited.

図4に示すように、本実施形態に係る熱反射板102では、第1外装板1aが平板であり、キャビティ12を第2外装板1b側に有し、第1外装板1aの表面上に反射体5として形成した薄膜を有し、薄膜は、第1外装板1aの表面側から順に、下地膜3と、反射面を含む表面層としての反射膜4と、を有する積層膜であり、下地膜3は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、反射膜4は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい。図4に示した形態は、第1外装板1aが平板であり、キャビティ12を第2外装板1b側に有する点が、図2又は図3に示した形態と異なるが、他は同様である。平板である第1外装板1aに反射体としての薄膜を形成するため、生産性に優れた熱反射板とすることができる。 As shown in FIG. 4, in the heat reflecting plate 102 according to the present embodiment, the first exterior plate 1a is a flat plate, and the cavity 12 is provided on the second exterior plate 1b side. It has a thin film formed as a reflector 5, and the thin film is a laminated film having, in order from the surface side of the first exterior plate 1a, a base film 3 and a reflective film 4 as a surface layer including a reflective surface, The base film 3 is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, or Ni, or selected from the group consisting of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni. The reflective film 4 is made of an alloy containing at least one of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu. or at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu. It is preferable that the alloy be made of an alloy containing. The form shown in FIG. 4 differs from the form shown in FIG. 2 or 3 in that the first exterior plate 1a is a flat plate and the cavity 12 is provided on the second exterior plate 1b side, but the other aspects are the same. . Since a thin film as a reflector is formed on the first exterior plate 1a, which is a flat plate, a heat reflecting plate with excellent productivity can be obtained.

図7に示すように、反射体5の厚さがキャビティ12の高さと等しい、すなわち、反射膜4が第2外装板1bの表面(凹部の底面)に接触している形態であってもよい。反射膜4と第2外装板が部分的に接触することで発生する干渉縞が低減される。下地膜3は、第1外装板1aの表面に堆積していることが好ましく、反射膜4は下地膜3の表面に堆積していることが好ましい。図7に示した形態は、第1外装板1aが平板であり、キャビティ12を第2外装板1b側に有する点が、図5又は図6に示した形態と異なるが、他は同様である。平板である第1外装板1aに反射体としての薄膜を形成するため、生産性に優れた熱反射板とすることができる。 As shown in FIG. 7, the thickness of the reflector 5 may be equal to the height of the cavity 12, that is, the reflective film 4 may be in contact with the surface of the second exterior plate 1b (the bottom surface of the recess). . Interference fringes caused by partial contact between the reflective film 4 and the second exterior plate are reduced. The base film 3 is preferably deposited on the surface of the first exterior plate 1a, and the reflective film 4 is preferably deposited on the surface of the base film 3. The form shown in FIG. 7 differs from the form shown in FIG. 5 or 6 in that the first exterior plate 1a is a flat plate and the cavity 12 is provided on the second exterior plate 1b side, but the rest is the same. . Since a thin film as a reflector is formed on the first exterior plate 1a, which is a flat plate, a heat reflecting plate with excellent productivity can be obtained.

図8、図10~図14に示すように、本実施形態に係る熱反射板106~111は、キャビティ12内で合わせ板の構造の対向する面同士の間を立設する少なくとも1本の支柱部6を有することが好ましい。支柱部6によって合わせ板の構造の接合強度を高めることができる。支柱部6としては、例えば、図8又は図12に示すように、第1外装板1aの凹部の底面から延び、支柱部6の天面が平板状の第2外装板1bの表面と接合された形態がある。支柱部6が第1外装板1aの凹部の底面のみから延びる形態とするためには、例えば、第1外装板1aのみについてエッチングによって凹部を形成することで土手部11を形成するが、このとき、土手部11を非エッチング箇所とするのと同様に支柱部6を非エッチング箇所とすることによって形成することができる。また支柱部6としては、例えば、図10又は図13に示すように、第1外装板1aの凹部の底面から延び、かつ、第2外装板1bの凹部の底面から延び、支柱部6の天面同士が接合された形態がある。支柱部6が第1外装板1aの凹部の底面及び第2外装板1bの凹部の底面の両方から延びる形態とするためには、例えば、第1外装板1a及び第2外装板1bについてエッチングによって凹部を形成することで土手部11を形成するが、このとき、土手部11を非エッチング箇所とするのと同様に支柱部6を非エッチング箇所とすることによって形成することができる。さらに支柱部6としては、例えば、図11又は図14に示すように、第2外装板1bの凹部の底面から延び、支柱部6の天面が平板状の第1外装板1aの表面と接合された形態がある。支柱部6が第2外装板1bの凹部の底面のみから延びる形態とするためには、例えば、第2外装板1bのみについてエッチングによって凹部を形成することで土手部11を形成し、このとき支柱部6を非エッチング箇所とすることによって形成することができる。図中、支柱部6と第1外装板1a若しくは第2外装板1bとの接合部、又は支柱部6同士の接合部を接合部7で示した。 As shown in FIG. 8, FIG. 10 to FIG. It is preferable to have a portion 6. The support portions 6 can increase the joint strength of the laminated plate structure. For example, as shown in FIG. 8 or 12, the column 6 extends from the bottom of the recess of the first exterior plate 1a, and the top surface of the column 6 is joined to the surface of the flat second exterior plate 1b. There are several forms. In order to make the support column 6 extend only from the bottom of the recess of the first exterior plate 1a, for example, the embankment 11 is formed by etching only the first exterior plate 1a. , can be formed by making the column part 6 a non-etched part in the same way as the bank part 11 is made a non-etched part. Further, as shown in FIG. 10 or 13, for example, the support column 6 extends from the bottom of the recess of the first exterior plate 1a, extends from the bottom of the recess of the second exterior plate 1b, and extends from the top of the support column 6. There is a form in which the surfaces are joined together. In order to make the support column 6 extend from both the bottom of the recess of the first exterior plate 1a and the bottom of the recess of the second exterior plate 1b, for example, the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b are etched. The bank portion 11 is formed by forming a recessed portion, but at this time, it can be formed by making the support portion 6 a non-etched portion in the same way as the bank portion 11 is a non-etched portion. Furthermore, as shown in FIG. 11 or 14, the support column 6 extends from the bottom surface of the recess of the second exterior plate 1b, and the top surface of the support column 6 is joined to the surface of the flat first exterior plate 1a. There is a form that has been made. In order to make the strut portion 6 extend only from the bottom of the recess of the second exterior plate 1b, for example, the bank portion 11 is formed by etching only the second exterior plate 1b. It can be formed by making the portion 6 a non-etched portion. In the figure, the joint portion between the support portion 6 and the first exterior plate 1a or the second exterior plate 1b, or the joint portion between the support portions 6 is indicated as a joint portion 7.

図8、図10~図14に示した熱反射板106~111について、反射体5については、図2~図7に示した熱反射板100~105と同様である。このとき、支柱部6の外側に形成された反射体5には貫通孔や凹凸などを設けずに支柱部6の外側にある該反射体の内周及び該反射体の周縁に囲まれる全面が反射面であることが好ましい。 Regarding the heat reflection plates 106 to 111 shown in FIGS. 8 and 10 to 14, the reflector 5 is the same as the heat reflection plates 100 to 105 shown in FIGS. 2 to 7. At this time, the entire surface surrounded by the inner periphery of the reflector and the periphery of the reflector on the outside of the support column 6 is not provided with through holes or unevenness in the reflector 5 formed on the outside of the support column 6. Preferably, it is a reflective surface.

次に支柱部6の形状について説明する。本実施形態に係る熱反射板106~111では、支柱部6が、柱状又は筒状である形態を含む。支柱部6の主軸の横断面の形状は、円形、楕円形又は三角形以上の多角形であることが好ましい。三角形以上の多角形では正方形又は正六角形であることが好ましい。さらに、熱反射板は、図9に示すように、支柱部6を複数有し、支柱部6は筒状であり、かつ、各支柱部6は互いに筒壁の一部を共有した3次元空間充填構造を有することが好ましい。3次元空間充填構造とすることで接合強度を高めつつ、反射体の面積を広くとることが出来、さらに反射板そのものの強度を高めることが可能である。3次元空間充填構造は、ハニカム構造、矩形格子構造、方形格子構造又はひし形格子構造である形態を包含する。図9では、ハニカム構造の支柱部を有する熱反射板100を図示している。ハニカム構造は、六角筒形を隙間なく並べた構造、好ましくは正六角筒形を隙間なく並べた構造である。矩形格子構造は断面長方形の角筒形を隙間なく並べた構造である。方形格子構造は断面正方形の角筒形を隙間なく並べた構造である。ひし形格子構造は断面ひし形の角筒形を隙間なく並べた構造である。ここで、3次元空間充填構造の支柱部6の筒状の内側に反射体5を形成するときは、形成後の反射体5には貫通孔や凹凸などを設けずに支柱部6の筒状の内側にある該反射体の周縁に囲まれる全面が反射面であることが好ましい。 Next, the shape of the support column 6 will be explained. In the heat reflecting plates 106 to 111 according to the present embodiment, the support portions 6 may have a columnar or cylindrical shape. The cross-sectional shape of the main axis of the support column 6 is preferably circular, elliptical, or a triangular or larger polygon. For polygons larger than triangles, squares or regular hexagons are preferred. Furthermore, as shown in FIG. 9, the heat reflecting plate has a plurality of support portions 6, each support portion 6 is cylindrical, and each support portion 6 is a three-dimensional space in which a portion of the cylinder wall is shared with each other. It is preferable to have a filling structure. By having a three-dimensional space-filling structure, it is possible to increase the area of the reflector while increasing the bonding strength, and it is also possible to increase the strength of the reflector itself. The three-dimensional space-filling structure includes forms that are honeycomb structures, rectangular lattice structures, square lattice structures, or rhombic lattice structures. FIG. 9 shows a heat reflecting plate 100 having pillars having a honeycomb structure. The honeycomb structure is a structure in which hexagonal cylinders are arranged without gaps, preferably regular hexagonal cylinders are arranged without gaps. A rectangular lattice structure is a structure in which rectangular cylinders with a rectangular cross section are arranged without gaps. A rectangular lattice structure is a structure in which rectangular cylinders with a square cross section are arranged without gaps. A rhombic lattice structure is a structure in which rectangular cylinders with a rhombic cross section are arranged without gaps. Here, when forming the reflector 5 inside the cylindrical shape of the support column 6 having a three-dimensional space-filling structure, the reflector 5 after formation is not provided with through holes or unevenness, and the cylindrical shape of the support column 6 is It is preferable that the entire surface surrounded by the periphery of the reflector located inside the reflector is a reflective surface.

本実施形態に係る熱反射板では、図20に示すように、第1外装板1a及び第2外装板1bの対向し合う面は互いに平坦面であり、反射体5は、第2外装板1b側の第1外装板1aの表面のうち周縁部同士の環状の接合部2の内側の領域に形成された薄膜であり、薄膜は、第1外装板1aの表面側から順に、下地膜と、反射面を含む表面層としての反射膜と、を有する積層膜であり、下地膜は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、反射膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、下地膜と反射膜とが異なる組成を有していることが好ましい。なお、図20において、反射体5が積層膜である形態の図示は省略した。下地膜は、第1外装板の表面に堆積していることが好ましく、反射膜は下地膜の表面に堆積していることが好ましい。反射膜は第2外装板の表面に接触しているが、第2外装板の表面に形成されていない、すなわち堆積したものではないことが好ましい。このような構造とすることで、生産性に優れた熱反射板とすることができる。また、反射体を第2外装板により密着させることができ、干渉縞をより抑制することができる。積層膜の膜厚は10~500nmであることが好ましい。積層膜の膜厚を小さくすることで、キャビティ12を設けていなくても、第1外装板及び第2外装板の応力変形によって周縁部同士の環状の接合部を設けることができ、積層膜が板状外装内によって外周囲が完全に覆われることが可能となる。反射体5の金属又は合金の選定理由は、図2~図7に示した熱反射板100~105と同様である。 In the heat reflecting plate according to this embodiment, as shown in FIG. 20, the opposing surfaces of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b are flat surfaces, and the reflector 5 is This is a thin film formed in the inner region of the annular joint 2 between the peripheral edges of the surface of the first exterior plate 1a on the side, and the thin film is formed of a base film and a base film in order from the surface side of the first exterior plate 1a. It is a laminated film having a reflective film as a surface layer including a reflective surface, and the base film is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co or Ni, or Ta, Mo, The reflective film is made of an alloy containing at least one selected from the group consisting of Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni, and the reflective film contains Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Consisting of Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge , Au, Ag, or Cu, and the base film and the reflective film preferably have different compositions. In addition, in FIG. 20, illustration of the form in which the reflector 5 is a laminated film is omitted. The base film is preferably deposited on the surface of the first exterior plate, and the reflective film is preferably deposited on the surface of the base film. Although the reflective film is in contact with the surface of the second exterior plate, it is preferable that it is not formed on the surface of the second exterior plate, that is, it is not deposited on the surface of the second exterior plate. With such a structure, a heat reflecting plate with excellent productivity can be obtained. Moreover, the reflector can be brought into close contact with the second exterior plate, and interference fringes can be further suppressed. The thickness of the laminated film is preferably 10 to 500 nm. By reducing the thickness of the laminated film, even if the cavity 12 is not provided, it is possible to provide an annular joint between the peripheral edges due to stress deformation of the first exterior plate and the second exterior plate, and the laminated film The outer periphery can be completely covered by the inside of the plate-like exterior. The reason for selecting the metal or alloy for the reflector 5 is the same as that for the heat reflecting plates 100 to 105 shown in FIGS. 2 to 7.

(反射体として形成した薄膜が所定の金属膜又は所定の金属を含む合金膜である形態1)
本実施形態に係る熱反射板では、キャビティを少なくとも第1外装板側に有し、第1外装板のキャビティ内の表面上に反射体として形成した薄膜を有し、薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。本実施形態に係る熱反射板は、図2、図5、図8又は図12において、積層膜である反射体5をIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜に置換した構造を有する。また、図3、図6、図10又は図13の板状外装1のように、キャビティ12が、第1外装板1a側及び第2外装板1b側の両側にわたって設けられた形態であってもよい。この形態では、第1外装板1aの一方の表面に凹部が設けられており、第2外装板1bの一方の表面に凹部が設けられており、凹部同士が合わさるように、第1外装板1a及び第2外装板1bの合わせ板の構造とする。その結果、キャビティ12は、第1外装板1a及び第2外装板1bの対向し合う面の第1外装板1a側及び第2外装板1b側の両方に設けられる。なお、本実施形態に係る熱反射板の赤外線の入射方向は、上から下に向かう方向又は下から上に向かう方向のいずれでもよい。
(Form 1 in which the thin film formed as a reflector is a predetermined metal film or an alloy film containing a predetermined metal)
The heat reflecting plate according to the present embodiment has a cavity at least on the first exterior plate side, and has a thin film formed as a reflector on the surface inside the cavity of the first exterior plate, and the thin film includes Ir, Pt, A film made of Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, An alloy film containing 50% by mass or more of Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu is preferable. A film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, If it is an alloy film containing 50% by mass or more of Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, even if the thin film formed as a reflector is a single layer film. good. In the heat reflecting plate according to the present embodiment, in FIG. 2, FIG. 5, FIG. 8, or FIG. , Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au , has a structure in which Ag or Cu is replaced with an alloy film containing 50% by mass or more. Further, even if the cavity 12 is provided across both sides of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b, as in the plate-shaped exterior 1 of FIG. 3, FIG. 6, FIG. 10, or FIG. good. In this form, a concave portion is provided on one surface of the first exterior plate 1a, a concave portion is provided on one surface of the second exterior plate 1b, and the first exterior plate 1a is and the structure of the second exterior plate 1b is a laminated plate. As a result, the cavities 12 are provided on both the first exterior plate 1a side and the second exterior plate 1b side of the opposing surfaces of the first exterior plate 1a and the second exterior plate 1b. Note that the direction of incidence of infrared rays on the heat reflecting plate according to the present embodiment may be either a direction from top to bottom or a direction from bottom to top.

(反射体として形成した薄膜が所定の金属膜又は所定の金属を含む合金膜である形態2)
本実施形態に係る熱反射板では、第1外装板が平板であり、キャビティを第2外装板側に有し、第1外装板の表面上に反射体として形成した薄膜を有し、薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。本実施形態に係る熱反射板は、図4、図7、図11又は図14において、積層膜である反射体5をIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜に置換した構造を有する。なお、本実施形態に係る熱反射板の赤外線の入射方向は、上から下に向かう方向又は下から上に向かう方向のいずれでもよい。
(Form 2 in which the thin film formed as a reflector is a predetermined metal film or an alloy film containing a predetermined metal)
In the heat reflecting plate according to the present embodiment, the first exterior plate is a flat plate, has a cavity on the second exterior plate side, has a thin film formed as a reflector on the surface of the first exterior plate, and has a thin film formed as a reflector on the surface of the first exterior plate. , Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re , Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu in an amount of 50% by mass or more. A film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, If it is an alloy film containing 50% by mass or more of Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, even if the thin film formed as a reflector is a single layer film. good. In the heat reflecting plate according to the present embodiment, in FIG. 4, FIG. 7, FIG. 11 or FIG. , Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au , has a structure in which Ag or Cu is replaced with an alloy film containing 50% by mass or more. Note that the direction of incidence of infrared rays on the heat reflecting plate according to the present embodiment may be either a direction from top to bottom or a direction from bottom to top.

(反射体として形成した薄膜が所定の金属膜又は所定の金属を含む合金膜である形態3)
本実施形態に係る熱反射板では、第1外装板及び第2外装板の対向し合う面は互いに平坦面であり、反射体は、第2外装板側の第1外装板の表面のうち周縁部同士の環状の接合部の内側の領域に形成された薄膜であり、薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。本実施形態に係る熱反射板は、図20において、反射体5をIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜に置換した構造を有する。なお、本実施形態に係る熱反射板の赤外線の入射方向は、上から下に向かう方向又は下から上に向かう方向のいずれでもよい。
(Form 3 in which the thin film formed as a reflector is a predetermined metal film or an alloy film containing a predetermined metal)
In the heat reflecting plate according to the present embodiment, the opposing surfaces of the first exterior plate and the second exterior plate are flat surfaces, and the reflector is located at the peripheral edge of the surface of the first exterior plate on the second exterior plate side. This is a thin film formed in the inner region of the annular joint between parts, and the thin film includes Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, A film made of Au, Ag or Cu, or 50% by mass or more of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu Preferably, it is an alloy film containing. A film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, If it is an alloy film containing 50% by mass or more of Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, even if the thin film formed as a reflector is a single layer film. good. In the heat reflecting plate according to this embodiment, the reflector 5 is made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or A film made of Cu or an alloy film containing 50% by mass or more of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu. It has a substituted structure. Note that the direction of incidence of infrared rays on the heat reflecting plate according to the present embodiment may be either a direction from top to bottom or a direction from bottom to top.

(反射体として形成した薄膜が所定の金属膜又は所定の金属を含む合金膜である形態4)
本実施形態に係る熱反射板では、キャビティを第1外装板側及び第2外装板側に有し、第1外装板のキャビティ内の表面上に反射体として形成した薄膜を有し、薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であることが好ましい。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であるときは、反射体として形成した薄膜が単層膜であってもよい。本実施形態に係る熱反射板は、図3、図6、図10又は図13において、積層膜である反射体5をIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜に置換した構造を有する。なお、本実施形態に係る熱反射板の赤外線の入射方向は、上から下に向かう方向又は下から上に向かう方向のいずれでもよい。
(Form 4 in which the thin film formed as a reflector is a predetermined metal film or an alloy film containing a predetermined metal)
The heat reflecting plate according to the present embodiment has cavities on the first exterior plate side and the second exterior plate side, and has a thin film formed as a reflector on the surface inside the cavity of the first exterior plate, and the thin film is , Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re , Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu in an amount of 50% by mass or more. A film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, If it is an alloy film containing 50% by mass or more of Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, even if the thin film formed as a reflector is a single layer film. good. In the heat reflecting plate according to the present embodiment, in FIG. 3, FIG. 6, FIG. 10, or FIG. , Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au , has a structure in which Ag or Cu is replaced with an alloy film containing 50% by mass or more. Note that the direction of incidence of infrared rays on the heat reflecting plate according to the present embodiment may be either a direction from top to bottom or a direction from bottom to top.

形態1~4において、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜においてIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuの含有率は、それぞれ50質量%以上であることが好ましいが、60質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜は、積層膜である反射体5と同様の膜厚で形成されることが好ましく、また、凹部の底面への薄膜の形成の面積比率は、積層膜である反射体5と同様の範囲で形成されることが好ましい。 In forms 1 to 4, in the alloy film containing 50% by mass or more of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, Ir, The content of Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu is preferably 50% by mass or more, but 60% by mass % or more, and even more preferably 70% by mass or more. A film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, The alloy film containing 50% by mass or more of Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu must be formed with the same thickness as the reflector 5, which is a laminated film. It is preferable that the area ratio of the thin film formed on the bottom surface of the recess is in the same range as that of the reflector 5 which is a laminated film.

本実施形態に係る熱反射板では、周縁部同士の接合部2は、表面活性化接合部であることが好ましい。さらに支柱部6を含む接合部7は表面活性化接合部であることが好ましい。比較的低温での接合が可能な為、反射膜に熱的、物理的ダメージが無く接合することが可能であり、また、内部を真空に保ったまま接合することで接合部における接合強度が高められており、熱反射板はより長寿命となり、また耐食性が高まり、炉内の汚染が抑制される。表面活性化接合部とは、接合し合う部位の少なくとも一方を表面活性化状態とした後、接合部位同士を、押圧をかけて合わせることにより原子レベルで表面組織を一体化して接合した部位をいう。接合し合う部位の両方を表面活性化状態とした後、接合部位同士を、押圧をかけて合わせることがより好ましい。板状外装同士の接合では、シリコン皮膜を製膜した後、表面活性化状態とし、その後、接合部位同士を、押圧をかけて合わせることとしてもよい。表面活性化接合部には、常温活性化接合部とプラズマ活性化接合部とがある。常温活性化接合部には、例えば、高速原子ビームを用いて表面活性化して接合した接合部、Si等の活性金属を用いてナノ密着層を形成して表面活性化して接合した接合部、イオンビームを用いて表面活性化して接合した接合部がある。プラズマ活性化接合部には、例えば、酸素プラズマを用いて表面活性化して接合した接合部、窒素プラズマを用いて表面活性化して接合した接合部がある。周縁部同士の接合部2を表面活性化接合部とすることで、接合部におけるリークを低減でき、例えば、キャビティ内を真空に保つことで高温時の内圧上昇による板状外装の破損を防ぐことができる。表面活性化接合部を形成する方法については、例えば、特許文献4~6を参照できる。 In the heat reflecting plate according to this embodiment, it is preferable that the joints 2 between the peripheral parts are surface activated joints. Further, it is preferable that the joint section 7 including the strut section 6 is a surface-activated joint section. Since bonding can be performed at relatively low temperatures, it is possible to bond without thermal or physical damage to the reflective film, and by bonding while keeping the interior vacuum, the bonding strength at the bonded part is increased. As a result, the heat reflector has a longer lifespan, is more resistant to corrosion, and contamination inside the furnace is suppressed. A surface-activated joint is a joint where at least one of the parts to be joined is brought into a surface-activated state, and then the joint parts are brought together by applying pressure to integrate the surface structure at the atomic level. . It is more preferable to bring both of the joining parts into a surface activated state and then apply pressure to bring the joining parts together. In joining the plate-shaped exteriors, the silicone film may be formed, the surface activated, and then the joint parts may be pressed together. Surface activated joints include cold activated joints and plasma activated joints. Room-temperature activated joints include, for example, joints whose surface has been activated using a high-speed atomic beam, joints whose surface has been activated by forming a nano-adhesive layer using an active metal such as Si, and joints whose surface has been activated using ionized metals. There are joints that are bonded by surface activation using a beam. Examples of the plasma-activated joint include a joint formed by surface activation using oxygen plasma and a joint formed by surface activation using nitrogen plasma. By making the joint 2 between the peripheral edges a surface-activated joint, it is possible to reduce leakage at the joint, and for example, by keeping the inside of the cavity in a vacuum, it is possible to prevent damage to the plate-shaped exterior due to an increase in internal pressure at high temperatures. I can do it. For methods of forming surface activated junctions, reference may be made, for example, to Patent Documents 4 to 6.

本実施形態に係る熱反射板では、キャビティ12内の圧力は、大気圧未満の減圧となっていることが好ましい。キャビティ12内の圧力は、10-2Pa以下であることがより好ましい。熱処理時にキャビティ12の内圧が高まることを抑制することができ、炉内の汚染をより抑制することができる。また、高温時の反射膜の劣化を抑制できる。 In the heat reflecting plate according to this embodiment, the pressure inside the cavity 12 is preferably reduced to less than atmospheric pressure. More preferably, the pressure inside the cavity 12 is 10 −2 Pa or less. It is possible to suppress an increase in the internal pressure of the cavity 12 during heat treatment, and it is possible to further suppress contamination in the furnace. Furthermore, deterioration of the reflective film at high temperatures can be suppressed.

(反射体が板である形態)
本実施形態に係る熱反射板112では、図15に示すように、反射体8が板であり、かつ、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金としては、これらの元素のいずれか一種を最多質量にて含む合金であることが好ましく、より好ましくはIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含有する合金、さらに好ましくは60質量%以上含有する合金、最も好ましくは70質量%以上含有する合金であり、例えば、Ir‐Pt系合金、Ir‐Rh系合金又はPt‐Ru系合金である。キャビティ12内に反射体としての板が収容された状態となっており、板の腐食が生じにくい。さらに、周縁部同士の接合部に、板に起因する剥がす方向の応力がかかりにくい。板である反射体8は、凹部の底面の全面積に対して50~100%の面積で形成されていることが好ましく、80~100%の面積で形成されていることがより好ましい。反射体が板である形態においても、熱反射板112は、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が0.0004~0.0080(J/K)であり、好ましくは0.0023~0.0070(J/K)であり、より好ましくは0.0030~0.0060(J/K)である。
(form where the reflector is a plate)
In the heat reflecting plate 112 according to the present embodiment, as shown in FIG. 15, the reflector 8 is a plate, and includes Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, consisting of Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu It is preferable that the alloy be made of an alloy containing at least one selected from the group consisting of: The alloy containing at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, It is preferable that the alloy contains the largest amount of any one of these elements, more preferably Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge. , an alloy containing Au, Ag or Cu in an amount of 50% by mass or more, more preferably an alloy containing 60% by mass or more, and most preferably an alloy containing 70% by mass or more, such as an Ir-Pt alloy, an Ir-Rh Pt-Ru alloy or Pt-Ru alloy. A plate serving as a reflector is housed in the cavity 12, and corrosion of the plate is less likely to occur. Furthermore, stress in the peeling direction due to the plate is less likely to be applied to the joint between the peripheral edges. The reflector 8, which is a plate, preferably has an area of 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, of the total area of the bottom of the recess. Even in the case where the reflector is a plate, the heat reflector 112 preferably has a total heat capacity of 0.0004 to 0.0080 (J/K) in the thickness direction of the plate-like exterior and the reflector in 1 mm 2 . is 0.0023 to 0.0070 (J/K), more preferably 0.0030 to 0.0060 (J/K).

(反射体が箔である形態)
本実施形態に係る熱反射板では、反射体が箔であり、かつ、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなることが好ましい(不図示)。Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金としては、これらの元素のいずれか一種を最多質量にて含む合金であることが好ましく、より好ましくはIr、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含有する合金、より好ましくは60質量%以上含有する合金、最も好ましくは70質量%以上含有する合金であり、例えば、Ir‐Pt系合金、Ir‐Rh系合金又はPt‐Ru系合金である。図15において、反射体8が板である代わりに箔がキャビティ12内に収容された状態となっており、箔の腐食が生じにくい。さらに、周縁部同士の接合部に、箔に起因する剥がす方向の応力がかかりにくい。箔である反射体は、凹部の底面の全面積に対して50~100%の面積で形成されていることが好ましく、80~100%の面積で形成されていることがより好ましい。反射体が箔である形態においても、熱反射板112は、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が0.0004~0.0080(J/K)であり、好ましくは0.0023~0.0070(J/K)であり、より好ましくは0.0030~0.0060(J/K)である。
(form where the reflector is foil)
In the heat reflecting plate according to the present embodiment, the reflector is a foil, and Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, or at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu. It is preferable that the alloy be made of an alloy containing one kind (not shown). The alloy containing at least one selected from the group consisting of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, It is preferable that the alloy contains the largest amount of any one of these elements, more preferably Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge. , an alloy containing 50% by mass or more of Au, Ag or Cu, more preferably an alloy containing 60% by mass or more, most preferably an alloy containing 70% by mass or more, such as Ir-Pt alloy, Ir-Rh Pt-Ru alloy or Pt-Ru alloy. In FIG. 15, instead of the reflector 8 being a plate, a foil is housed in the cavity 12, and corrosion of the foil is less likely to occur. Furthermore, stress in the peeling direction due to the foil is less likely to be applied to the joint between the peripheral edges. The reflector, which is a foil, preferably has an area of 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, of the total area of the bottom of the recess. Even in the case where the reflector is a foil, the heat reflector 112 preferably has a total heat capacity of 0.0004 to 0.0080 (J/K) in the thickness direction of the plate-like exterior and the reflector in 1 mm 2 . is 0.0023 to 0.0070 (J/K), more preferably 0.0030 to 0.0060 (J/K).

本実施形態に係る熱反射板では、反射体の厚さは0.01μm~5mmであることが好ましく、0.02μm~2mmであることがより好ましい。反射体による高い反射効率を保持しつつ、熱反射板の熱容量を小さくすることができる。反射体の厚さが0.01μm未満であると反射効率の保持が難しくなり、5mmを超えると反射体の熱量が大きくなりすぎる場合がある。そして、反射体が薄膜である場合、積層膜の膜厚は10nm以上1500nm以下であることが好ましく、20nm以上400nm以下であることがより好ましい。反射体が板である場合、板厚は0.5mm以上5.0mm以下であることが好ましく、0.5mm以上2.0mm以下であることがより好ましい。反射体が箔である場合、箔の厚さは3μm以上2.0mm以下であることが好ましく、8μm以上1.0mm以下であることがより好ましい。 In the heat reflecting plate according to this embodiment, the thickness of the reflector is preferably 0.01 μm to 5 mm, more preferably 0.02 μm to 2 mm. The heat capacity of the heat reflecting plate can be reduced while maintaining high reflection efficiency by the reflector. If the thickness of the reflector is less than 0.01 μm, it will be difficult to maintain the reflection efficiency, and if it exceeds 5 mm, the amount of heat of the reflector may become too large. When the reflector is a thin film, the thickness of the laminated film is preferably 10 nm or more and 1500 nm or less, more preferably 20 nm or more and 400 nm or less. When the reflector is a plate, the plate thickness is preferably 0.5 mm or more and 5.0 mm or less, more preferably 0.5 mm or more and 2.0 mm or less. When the reflector is a foil, the thickness of the foil is preferably 3 μm or more and 2.0 mm or less, more preferably 8 μm or more and 1.0 mm or less.

本実施形態では、キャビティを有するとき、キャビティの高さ(図2では、上下方向の長さ)から反射体の厚さを差し引いた値、すなわちキャビティ内の高さ方向の隙間が200μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましい。キャビティ内の高さ方向の隙間が200μmを超えると、大気圧による板状外装の変形が大きくなり、その結果、接合部付近に掛かる応力が大きくなり、結合部の割れが生じるおそれがある。 In this embodiment, when a cavity is provided, the value obtained by subtracting the thickness of the reflector from the height of the cavity (the length in the vertical direction in FIG. 2), that is, the gap in the height direction within the cavity is 200 μm or less. It is preferably 100 μm or less, and more preferably 100 μm or less. If the gap in the height direction within the cavity exceeds 200 μm, the deformation of the plate-like exterior due to atmospheric pressure will increase, and as a result, the stress applied to the vicinity of the joint will increase, and there is a risk that the joint will crack.

図2~図8、図10~図14においては、赤外線の入射方向は上から下に向かう方向である。図15においては、赤外線の入射方向は上から下に向かう方向又は下から上に向かう方向のいずれでもよい。なお、熱処理装置において、保温体は被加熱基板の温度を保温するために必要ではあるが、本実施形態に係る熱反射板のための保温体は必ずしも必要ではない。保温体がない場合、本実施形態に係る熱反射板は、熱処理温度までの昇温プロファイル、温度保持プロファイル、降温プロファイルを有する熱処理工程において、加熱・冷却の応答を遅らせることなく、所望の各プロファイルに対してズレを生じ難くし、また、熱処理1サイクルに要する時間を長引かせることがなく、結果として生産効率の低下を生じさせない。 In FIGS. 2 to 8 and 10 to 14, the direction of incidence of infrared rays is from top to bottom. In FIG. 15, the direction of incidence of infrared rays may be either from top to bottom or from bottom to top. Note that in the heat treatment apparatus, although the heat insulating body is necessary to maintain the temperature of the substrate to be heated, the heat insulating body is not necessarily required for the heat reflecting plate according to the present embodiment. When there is no heat insulator, the heat reflector according to this embodiment can achieve each desired profile without delaying the heating/cooling response in a heat treatment process that has a temperature increase profile, a temperature maintenance profile, and a temperature decrease profile up to the heat treatment temperature. In addition, the time required for one cycle of heat treatment is not prolonged, and as a result, production efficiency is not reduced.

以下、実施例を示しながら本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定して解釈されない。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail while showing examples, but the present invention should not be interpreted as being limited to the examples.

(比較例1)
まず、外周300mm、厚み4.0mmの不透明石英を準備した。次に、紫外可視分光光度計((株))島津製作所製 型式:UV-3100PC)を用いて不透明石英の反射率を測定した。測定した反射率の結果を図21示す。1000℃のときに本比較例における不透明石英では2000nm以上の波長において5%以下の反射率を有することが確認できた。このとき、比較例1における熱反射板全体の厚さは4.0000mm、反射面積率は100.00%であった。次に、前記不透明石英の1mmにおける板厚外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0092(J/K)であった。
(Comparative example 1)
First, opaque quartz with an outer circumference of 300 mm and a thickness of 4.0 mm was prepared. Next, the reflectance of the opaque quartz was measured using a UV-visible spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model: UV-3100PC). FIG. 21 shows the measured reflectance results. At 1000° C., it was confirmed that the opaque quartz in this comparative example had a reflectance of 5% or less at wavelengths of 2000 nm or more. At this time, the overall thickness of the heat reflection plate in Comparative Example 1 was 4.0000 mm, and the reflection area ratio was 100.00%. Next, the total heat capacity of the opaque quartz in the thickness direction of the plate exterior and the reflector in a thickness of 1 mm 2 was calculated to be 0.0092 (J/K).

(実施例1)
(反射体が積層膜である形態)
図2に示した熱反射板を作製する。まず、外周300mm、厚み1.2mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅10mmを第2外装板との接合部として残し、それ以外の箇所についてはエッチングを行い、深さ1μmのキャビティのための凹部を設けた。次に、第1外装板の凹部の底面に下地膜としてTaをスパッタリング法によって50nm成膜し、下地膜の上に反射膜としてIrをスパッタリング法によって150nm成膜し、反射体を形成した。次に、紫外可視分光光度計((株)島津製作所製 型式:UV-3100PC)を用いて反射体の反射率を測定した。測定した反射率の結果を図16に示す。測定は、反射体の表面に測定のための光を直接当てて行った。また、(数1)を用いて1000℃における物質が放射する黒体放射の波長と放射量の関係を算出した。算出結果を図17に示す。
但し、hはプランク定数(6.62607015×10-34J・s)、kはボルツマン定数(1.380649×10-23J/K)、cは光速度(299792458m/s)、λは波長(nm)である。図17の結果、1000℃において輻射熱を反射することが必要であり、波長が2000nm~2600nmで放射量が多いことが確認できる。また、図16の結果、1000℃のときに本実施例における反射体では2000nm以上の波長において90%以上の反射率を有することが確認できた。次に、反射体を形成した第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、真空度10-2Pa以下の真空中で、高速原子ビームを第1外装板の接合部に照射して表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで熱反射板を作製した。このとき、実施例1における熱反射板全体の厚さは2.4000mm、反射面積率は93.33%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板厚外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0055(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例1の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を40.22%削減することができた。
(Example 1)
(form in which the reflector is a laminated film)
A heat reflecting plate shown in FIG. 2 is manufactured. First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 300 mm and a thickness of 1.2 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, a 10 mm width from the outer periphery of the first exterior plate was left as a joint with the second exterior plate, and the other parts were etched to provide a recessed part for a cavity with a depth of 1 μm. Next, a 50 nm thick Ta film was formed by sputtering as a base film on the bottom of the recess of the first exterior plate, and a 150 nm thick Ir film was formed on top of the base film by sputtering to form a reflector. Next, the reflectance of the reflector was measured using a UV-visible spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model: UV-3100PC). The measured reflectance results are shown in FIG. 16. The measurement was performed by directly shining light for measurement onto the surface of the reflector. Furthermore, the relationship between the wavelength of blackbody radiation emitted by a substance at 1000° C. and the amount of radiation was calculated using (Equation 1). The calculation results are shown in FIG.
However, h is Planck's constant (6.62607015×10 -34 J・s), kB is Boltzmann's constant (1.380649×10 -23 J/K), c is the speed of light (299792458 m/s), and λ is the wavelength (nm). As a result of FIG. 17, it can be confirmed that it is necessary to reflect radiant heat at 1000° C., and that the amount of radiation is large at wavelengths of 2000 nm to 2600 nm. Moreover, as a result of FIG. 16, it was confirmed that the reflector in this example had a reflectance of 90% or more at a wavelength of 2000 nm or more at 1000°C. Next, in order to join the first exterior plate on which the reflector is formed and the second flat exterior plate, a high-speed atomic beam is applied to the joint of the first exterior plate in a vacuum of 10 -2 Pa or less. The surface was activated by irradiation, and a heat reflecting plate was produced by pressing the second exterior plate against the first exterior plate. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 1 was 2.4000 mm, and the reflection area ratio was 93.33%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate exterior and the reflector at a thickness of 1 mm 2 was calculated to be 0.0055 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of the heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 1 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1 and reduces power consumption by 40. We were able to reduce this by 22%.

(実施例2)
(反射体が積層膜である形態)
まず、外周300mm、厚み1.2mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅5mm分を第2外装板との接合部としてマスキングした。次に、マスキングした第1外装板の面に下地膜としてTaをスパッタリング法によって50nm成膜し、下地膜の上に反射膜としてIrをスパッタリング法によって150nm成膜し、反射体を形成した。次に、マスキングを除去した。反射体は実施例1の反射体と同じであり、図16に示した反射特性と同じ特性を有していた。次に、反射体を形成した平板状の第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、真空度10-2Pa以下の真空中で、高速原子ビームを第1外装板の接合部に照射して表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで熱反射板を作製した。このとき、実施例2における熱反射板全体の厚さは2.4002mm、反射面積率は96.67%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板厚外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0055(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例2の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を40.22%削減することができた。
(Example 2)
(form in which the reflector is a laminated film)
First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 300 mm and a thickness of 1.2 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, a 5 mm width from the outer periphery of the first exterior plate was masked as a joint with the second exterior plate. Next, a 50 nm thick Ta film was formed as a base film on the masked surface of the first exterior plate by a sputtering method, and a 150 nm thick Ir film was formed on the base film as a reflective film by a sputtering method to form a reflector. Next, the masking was removed. The reflector was the same as the reflector of Example 1 and had the same reflection characteristics as shown in FIG. Next, in order to bond the flat first exterior plate on which the reflector is formed and the flat second exterior plate, a high-speed atomic beam is applied to the first exterior plate in a vacuum with a degree of vacuum of 10 -2 Pa or less. A heat reflecting plate was produced by irradiating the joint portion to activate the surface and pressing the second exterior plate against the first exterior plate. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 2 was 2.4002 mm, and the reflection area ratio was 96.67%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate exterior and the reflector at a thickness of 1 mm 2 was calculated to be 0.0055 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of the heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 2 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1 and reduces power consumption by 40. We were able to reduce this by 22%.

(実施例3)
(反射体が積層膜である形態)
まず、外周300mm、厚み1.2mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅5mm分を第2外装板との接合部としてマスキングした。次に、マスキングした第1外装板の面に下地膜としてTaをスパッタリング法によって50nm成膜し、前記下地膜の上に反射膜としてIrをスパッタリング法によって150nm成膜し、反射体を形成した。次に、マスキングを除去した。反射体は実施例1の反射体と同じであり、図16に示した反射特性と同じ特性を有していた。次に、反射体を形成した平板状の第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、酸素プラズマを第1外装板の接合部に接触させて表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで熱反射板を作製した。このとき、実施例3における熱反射板全体の厚さは2.4002mm、反射面積率は96.67%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0055(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例3の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を40.22%削減することができた。
(Example 3)
(form in which the reflector is a laminated film)
First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 300 mm and a thickness of 1.2 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, a 5 mm width from the outer periphery of the first exterior plate was masked as a joint with the second exterior plate. Next, a 50 nm thick Ta film was formed as a base film on the masked surface of the first exterior plate by a sputtering method, and a 150 nm thick Ir film was formed on the base film by a sputtering method as a reflective film to form a reflector. Next, the masking was removed. The reflector was the same as the reflector of Example 1 and had the same reflection characteristics as shown in FIG. Next, in order to join the flat first exterior plate on which the reflector is formed and the flat second exterior plate, oxygen plasma is brought into contact with the joint part of the first exterior plate to activate the surface, and the first exterior plate A heat reflecting plate was produced by pressing a second exterior plate onto the plate. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 3 was 2.4002 mm, and the reflection area ratio was 96.67%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate-shaped exterior and the reflector at 1 mm 2 was calculated to be 0.0055 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of the heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 3 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1 and reduces power consumption by 40. We were able to reduce this by 22%.

(実施例4)
(反射体が積層膜であり、ハニカム形状の支柱部がある形態)
図12に示した熱反射板を作製する。まず、外周300mm、厚み1.2mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅10mm分をマスキングし、その後、それ以外の箇所で、正六角形の幅10mm(1辺の長さは5.77mm)、壁柱厚み0.3mmのハニカム形状の支柱部に相当する箇所にマスキングをした後、エッチングを行い、深さ1μmのキャビティのための凹部を設けた。次に、マスキングした第1外装板の凹部の底面に下地膜としてTaをスパッタリング法によって50nm成膜し、下地膜の上に反射膜としてIrをスパッタリング法によって150nm成膜し、反射体を形成した。次に、マスキングを除去した。本実施例の反射体は実施例1の反射体に対してハニカム構造を持たせたものである。図16に示した反射率は、全面が反射膜である形態の値を示しているところ、本実施例のハニカム構造を有する反射膜は、全面に対して反射膜部分の面積比率が94.34%であるため、本実施例の反射特性は図16に示す反射率に対して、0.9434を乗じた反射率を有するものと考えられる。次に、反射体を形成した第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、真空度10-2Pa以下の真空中で、高速原子ビームを第1外装板の接合部2及び支柱部に照射して表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで接合し、熱反射板を作製した。このとき、実施例4における熱反射板全体の厚さは2.4000mm、反射面積率は88.05%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0055(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例4の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を40.22%削減することができた。
(Example 4)
(The reflector is a laminated film and has honeycomb-shaped pillars)
A heat reflecting plate shown in FIG. 12 is manufactured. First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 300 mm and a thickness of 1.2 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, mask a 10 mm width from the outer periphery of the first exterior plate, and then make a regular hexagonal honeycomb with a width of 10 mm (one side length is 5.77 mm) and a wall pillar thickness of 0.3 mm. After masking the portions corresponding to the pillars of the shape, etching was performed to provide a recessed portion for a cavity with a depth of 1 μm. Next, a 50 nm thick Ta film was formed by sputtering as a base film on the bottom of the recess of the masked first exterior plate, and a 150 nm thick Ir film was formed on the base film by sputtering as a reflective film to form a reflector. . Next, the masking was removed. The reflector of this example has a honeycomb structure compared to the reflector of Example 1. The reflectance shown in FIG. 16 shows the value when the entire surface is a reflective film, and the reflective film with the honeycomb structure of this example has an area ratio of the reflective film portion to the entire surface of 94.34. %, it is considered that the reflection characteristics of this example have a reflectance obtained by multiplying the reflectance shown in FIG. 16 by 0.9434. Next, in order to join the first exterior plate on which the reflector is formed and the flat second exterior plate, a high-speed atomic beam is applied to the joint part 2 of the first exterior plate in a vacuum with a degree of vacuum of 10 -2 Pa or less. A heat reflecting plate was produced by irradiating the pillars with irradiation to activate the surface, and pressing the second exterior plate onto the first exterior plate to join them. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 4 was 2.4000 mm, and the reflection area ratio was 88.05%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate-shaped exterior and the reflector at 1 mm 2 was calculated to be 0.0055 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of the heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 4 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1 and reduces power consumption by 40. We were able to reduce this by 22%.

(実施例5)
(反射体がPt箔である形態)
図15に示した熱反射板を作製する。まず、外周300mm、厚み1.2mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅7mmを第2外装板との接合部として残し、それ以外の箇所については切削加工を行い、深さ0.2mmのキャビティのための凹部を設けた。次に、第1外装板の凹部の底面に、外周284mm、厚み100μmのPt箔を配置し、反射体を形成した。次に、紫外可視分光光度計((株)島津製作所製 型式:UV-3100PC)を用いて前記反射体の反射率を測定した。測定した反射率を図18に示す。測定は、反射体の表面に測定のための光を直接当てて行った。図18の結果、1000℃のときに本実施例における反射体では2000nm以上の波長において80%以上の反射率を有することが確認できた。次に、反射体を配置した第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、真空度10-2Pa以下の真空中で、高速原子ビームを第1外装板の接合部に照射して表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで接合し、熱反射板を作製した。このとき、実施例5における熱反射板全体の厚さは2.4000mm、反射面積率は95.33%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0056(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例5の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を39.13%削減することができた。
(Example 5)
(form in which the reflector is Pt foil)
A heat reflecting plate shown in FIG. 15 is manufactured. First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 300 mm and a thickness of 1.2 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, a width of 7 mm from the outer periphery of the first exterior plate was left as a joint with the second exterior plate, and the other parts were cut to provide a recessed part for a cavity with a depth of 0.2 mm. Next, a Pt foil having an outer circumference of 284 mm and a thickness of 100 μm was placed on the bottom of the recessed portion of the first exterior plate to form a reflector. Next, the reflectance of the reflector was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model: UV-3100PC). The measured reflectance is shown in FIG. The measurement was performed by directly shining light for measurement onto the surface of the reflector. As a result of FIG. 18, it was confirmed that the reflector in this example had a reflectance of 80% or more at a wavelength of 2000 nm or more at 1000°C. Next, in order to join the first exterior plate on which the reflector is arranged and the flat second exterior plate, a high-speed atomic beam is applied to the joint of the first exterior plate in a vacuum with a degree of vacuum of 10 -2 Pa or less. The surface was activated by irradiation, and the second exterior plate was pressed and bonded to the first exterior plate to produce a heat reflecting plate. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 5 was 2.4000 mm, and the reflection area ratio was 95.33%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate-shaped exterior and the reflector at 1 mm 2 was calculated to be 0.0056 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of the heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 5 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1 and reduces power consumption by 39. We were able to reduce this by 13%.

(実施例6)
(反射体がMo膜である形態)
まず、外周300mm、厚み1.2mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅5mm分を第2外装板との接合部としてマスキングした。次に、マスキングした第1外装板の面に反射体としてMoをスパッタリング法によって200nm成膜した。次に、マスキングを除去した。次に、紫外可視分光光度計((株))島津製作所製 型式:UV-3100PC)を用いて反射体の反射率を測定した。測定した反射率の結果を図19に示す。測定は、反射体の表面に測定のための光を直接当てて行った。また、図19の結果、1000℃のときに本実施例における反射体では2000nm以上の波長において80%以上の反射率を有することが確認できた。次に、反射体を形成した第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、真空度10‐2Pa以下の真空中で、高速原子ビームを第1外装板の接合部に照射して表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで熱反射板を作製した。このとき、実施例6における熱反射板全体の厚さは2.4002mm、反射面積率は96.67%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0055(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例6の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を40.22%削減することができた。
(Example 6)
(Form in which the reflector is a Mo film)
First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 300 mm and a thickness of 1.2 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, a 5 mm width from the outer periphery of the first exterior plate was masked as a joint with the second exterior plate. Next, a 200 nm film of Mo was formed as a reflector on the masked surface of the first exterior plate by sputtering. Next, the masking was removed. Next, the reflectance of the reflector was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model: UV-3100PC). The results of the measured reflectance are shown in FIG. The measurement was performed by directly shining light for measurement onto the surface of the reflector. Moreover, as a result of FIG. 19, it was confirmed that the reflector in this example had a reflectance of 80% or more at a wavelength of 2000 nm or more at 1000°C. Next, in order to join the first exterior plate on which the reflector was formed and the flat second exterior plate, a high-speed atomic beam was applied to the joint of the first exterior plate in a vacuum with a degree of vacuum of 10-2 Pa or less. The surface was activated by irradiation, and a heat reflecting plate was produced by pressing the second exterior plate against the first exterior plate. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 6 was 2.4002 mm, and the reflection area ratio was 96.67%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate-shaped exterior and the reflector at 1 mm 2 was calculated to be 0.0055 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of the heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 6 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1 and reduces power consumption by 40. We were able to reduce this by 22%.

(実施例7)
(反射体がMo膜、かつ石英板厚みが1.7mmである形態)
まず、外周300mm、厚み1.7mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅5mm分を第2外装板との接合部としてマスキングした。次に、マスキングした第1外装板の面に反射体としてMoをスパッタリング法によって200nm成膜した。次に、マスキングを除去した。反射体は実施例6の反射体と同じであり、図19に示した反射特性と同じ特性を有していた。次に、反射体を形成した第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、真空度10‐2Pa以下の真空中で、高速原子ビームを第1外装板の接合部に照射して表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで熱反射板を作製した。このとき、実施例7における熱反射板全体の厚さは3.4002mm、反射面積率は96.67%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0079(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例7の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を14.13%削減することができた。
(Example 7)
(A configuration in which the reflector is a Mo film and the quartz plate thickness is 1.7 mm)
First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 300 mm and a thickness of 1.7 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, a 5 mm width from the outer periphery of the first exterior plate was masked as a joint with the second exterior plate. Next, a 200 nm film of Mo was formed as a reflector on the masked surface of the first exterior plate by sputtering. Next, the masking was removed. The reflector was the same as the reflector of Example 6 and had the same reflection characteristics as shown in FIG. Next, in order to join the first exterior plate on which the reflector was formed and the flat second exterior plate, a high-speed atomic beam was applied to the joint of the first exterior plate in a vacuum with a degree of vacuum of 10-2 Pa or less. The surface was activated by irradiation, and a heat reflecting plate was produced by pressing the second exterior plate against the first exterior plate. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 7 was 3.4002 mm, and the reflection area ratio was 96.67%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate-shaped exterior and the reflector at 1 mm 2 was calculated to be 0.0079 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of the heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 7 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1, and reduces power consumption by 14. We were able to reduce this by 13%.

(実施例8)
(反射体がMo膜、かつ石英板厚みが0.5mmである形態)
まず、外周100mm、厚み0.5mmの板状外装2枚を準備し、それぞれ第1外装板、第2外装板とした。次に、第1外装板の外周から幅5mm分を第2外装板との接合部としてマスキングした。次に、マスキングした第1外装板の面に反射体としてMoをスパッタリング法によって200nm成膜した。次に、マスキングを除去した。反射体は実施例6の反射体と同じであり、図19に示した反射特性と同じ特性を有していた。次に、反射体を形成した第1外装板と平板状の第2外装板を接合するために、真空度10‐2Pa以下の真空中で、高速原子ビームを第1外装板の接合部に照射して表面活性化し、第1外装板に第2外装板を押し付けることで熱反射板を作製した。このとき、実施例8における熱反射板全体の厚さは1.0002mm、反射面積率は90.00%であった。熱反射板を作製後、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計を算出したところ、0.0023(J/K)であった。熱反射板を1000℃まで昇温する際の必要な熱量は熱容量に比例するため、実施例8の熱反射板は、比較例1の不透明石英より熱反射性が高いとともに電力消費量を75.00%削減することができた。
(Example 8)
(A configuration in which the reflector is a Mo film and the quartz plate thickness is 0.5 mm)
First, two plate-shaped exterior plates having an outer circumference of 100 mm and a thickness of 0.5 mm were prepared, and were used as a first exterior plate and a second exterior plate, respectively. Next, a 5 mm width from the outer periphery of the first exterior plate was masked as a joint with the second exterior plate. Next, a 200 nm film of Mo was formed as a reflector on the masked surface of the first exterior plate by sputtering. Next, the masking was removed. The reflector was the same as the reflector of Example 6 and had the same reflection characteristics as shown in FIG. Next, in order to join the first exterior plate on which the reflector was formed and the flat second exterior plate, a high-speed atomic beam was applied to the joint of the first exterior plate in a vacuum with a degree of vacuum of 10-2 Pa or less. The surface was activated by irradiation, and a heat reflecting plate was produced by pressing the second exterior plate against the first exterior plate. At this time, the total thickness of the heat reflection plate in Example 8 was 1.0002 mm, and the reflection area ratio was 90.00%. After producing the heat reflecting plate, the total heat capacity in the thickness direction of the plate-shaped exterior and the reflector at 1 mm 2 was calculated to be 0.0023 (J/K). Since the amount of heat required to raise the temperature of a heat reflector to 1000°C is proportional to its heat capacity, the heat reflector of Example 8 has higher heat reflectivity than the opaque quartz of Comparative Example 1 and reduces power consumption by 75. We were able to reduce this by 00%.

100~112 熱反射板
1 板状外装
1a 第1外装板
1b 第2外装板
2 周縁部同士の接合部
3 下地膜
4 反射膜
5 反射体
6 支柱部
7 支柱部を含む接合部
8 反射体
11 土手部
12 キャビティ
100 to 112 Heat reflecting plate 1 Plate-like exterior 1a First exterior plate 1b Second exterior plate 2 Joint portion between peripheral parts 3 Base film 4 Reflective film 5 Reflector 6 Support column 7 Joint portion 8 including the support column Reflector 11 Bank part 12 cavity

Claims (8)

板状外装と、
該板状外装の内部に配置されて該板状外装によって外周囲が完全に覆われてなり、かつ、該板状外装の一方の表面に入射した赤外線を反射する反射体と、を有する熱反射板であって、
前記板状外装は、平板状の第1外装板の平坦面と平板状の第2外装板の平坦面とが対向して配置されて周縁部同士が周縁に沿って環状に連続して接合された接合部を有する合わせ板の構造を有し、
前記反射体は、前記第1外装板の平坦面のうち前記周縁部同士の環状の接合部の内側の領域に形成された薄膜であり、
前記第1外装板及び前記第2外装板の外側板面は全面にわたって平坦面であり、
前記薄膜の周縁に囲まれる全面が反射面であり、かつ、
前記反射体は、薄膜、板又は箔であり、
前記熱反射板は、1mmにおける板状外装及び反射体の厚さ方向の熱容量の合計が0.0004~0.0080(J/K)であることを特徴とする熱反射板。
A plate-like exterior,
a heat reflector that is disposed inside the plate-like exterior and whose outer periphery is completely covered by the plate-like exterior, and which reflects infrared rays incident on one surface of the plate-like exterior; A board,
In the plate-shaped exterior, a flat surface of a flat first exterior plate and a flat surface of a flat second exterior plate are arranged to face each other, and the peripheral edges are continuously joined in an annular shape along the peripheral edge. It has a laminated board structure with a joint part,
The reflector is a thin film formed in a region inside the annular joint between the peripheral edges of the flat surface of the first exterior plate,
The outer plate surfaces of the first exterior plate and the second exterior plate are flat surfaces over the entire surface,
The entire surface surrounded by the periphery of the thin film is a reflective surface, and
The reflector is a thin film, plate or foil,
The heat reflecting plate is characterized in that the total heat capacity in the thickness direction of the plate-like exterior and the reflector at 1 mm 2 is 0.0004 to 0.0080 (J/K).
前記薄膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる膜か、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuを50質量%以上含む合金膜であり、かつ、前記薄膜が単層膜であることを特徴とする請求項1に記載の熱反射板。The thin film is a film made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu, or Ir, Pt, Rh, It is an alloy film containing 50% by mass or more of Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu, and the thin film is a single layer film. The heat reflecting plate according to claim 1. 前記薄膜は、前記第1外装板の表面側から順に、下地膜と、前記反射面を含む表面層としての反射膜と、を有する積層膜であり、The thin film is a laminated film including, in order from the surface side of the first exterior plate, a base film and a reflective film as a surface layer including the reflective surface,
前記下地膜は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co又はNiからなるか、又は、Ta、Mo、Ti、Zr、Nb、Cr、W、Co及びNiからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、The base film is made of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, or Ni, or selected from the group consisting of Ta, Mo, Ti, Zr, Nb, Cr, W, Co, and Ni. consisting of an alloy containing at least one of
前記反射膜は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなるか、又は、Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag又はCuからなる群から選ばれる少なくともいずれか1種を含む合金からなり、The reflective film is made of Ir, Pt, Rh, Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag, or Cu, or Ir, Pt, Rh, Consisting of an alloy containing at least one selected from the group consisting of Ru, Re, Hf, Mo, Al, Mg, Co, Ni, Fe, Sn, Ge, Au, Ag or Cu,
前記下地膜と前記反射膜とが異なる組成を有していることを特徴とする請求項1に記載の熱反射板。The heat reflecting plate according to claim 1, wherein the base film and the reflective film have different compositions.
前記接合部は、第1外装板及び第2外装板にキャビティを設けずに、平板状の第1外装板の平坦面と平板状の第2外装板の平坦面とが対向して配置されて、第1外装板及び第2外装板の応力変形によって周縁部同士が周縁に沿って環状に連続して接合された接合部であることを特徴とする請求項1~3のいずれか一つに記載の熱反射板。In the joint portion, the flat surface of the flat first exterior plate and the flat surface of the flat second exterior plate are arranged to face each other without providing a cavity in the first exterior plate and the second exterior plate. According to any one of claims 1 to 3, the joint portion is a joint portion in which peripheral portions are continuously joined in an annular shape along the peripheral edges by stress deformation of the first exterior plate and the second exterior plate. Heat reflector as described. 前記薄膜は、前記第1外装板の平坦面のうち前記周縁部同士の環状の接合部の内側の領域の全面に形成されていることを特徴とする請求項1~4のいずれか一つに記載の熱反射板。According to any one of claims 1 to 4, the thin film is formed on the entire surface of the flat surface of the first exterior plate inside the annular joint between the peripheral edges. Heat reflector as described. 前記板状外装の材質はシリカ又はシリコンであることを特徴とする請求項1~5のいずれか一つに記載の熱反射板。 The heat reflecting plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the material of the plate-like exterior is silica or silicon. 前記薄膜の厚さは、10nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項1~のいずれか一つに記載の熱反射板。 The heat reflecting plate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the thickness of the thin film is 10 nm or more and 500 nm or less. 前記周縁部同士の接合部は、表面活性化接合部であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一つに記載の熱反射板。 The heat reflecting plate according to any one of claims 1 to 7 , wherein the joint between the peripheral portions is a surface-activated joint.
JP2021200022A 2021-12-09 2021-12-09 Heat reflector Active JP7477491B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021200022A JP7477491B2 (en) 2021-12-09 2021-12-09 Heat reflector
PCT/JP2022/043587 WO2023106132A1 (en) 2021-12-09 2022-11-25 Heat reflection plate
TW111146132A TW202329249A (en) 2021-12-09 2022-12-01 Heat reflection plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021200022A JP7477491B2 (en) 2021-12-09 2021-12-09 Heat reflector

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2023085792A JP2023085792A (en) 2023-06-21
JP2023085792A5 true JP2023085792A5 (en) 2024-02-19
JP7477491B2 JP7477491B2 (en) 2024-05-01

Family

ID=86730207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021200022A Active JP7477491B2 (en) 2021-12-09 2021-12-09 Heat reflector

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7477491B2 (en)
TW (1) TW202329249A (en)
WO (1) WO2023106132A1 (en)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3423131B2 (en) * 1995-11-20 2003-07-07 東京エレクトロン株式会社 Heat treatment equipment and treatment equipment
JP4185194B2 (en) 1997-07-31 2008-11-26 コバレントマテリアル株式会社 Carbon heater
JPH1197448A (en) * 1997-09-18 1999-04-09 Kemitoronikusu:Kk Apparatus and method for heat treatment of semiconductor crystal
JPH11340157A (en) * 1998-05-29 1999-12-10 Sony Corp Apparatus and method for optical irradiation heat treatment
JP3467565B2 (en) * 1998-11-16 2003-11-17 坂口電熱株式会社 Heating furnace with heat radiation reflector
JP2001102319A (en) 1999-09-29 2001-04-13 Toshiba Ceramics Co Ltd Heat treatment apparatus
JP2002100462A (en) 2000-09-25 2002-04-05 Ibiden Co Ltd Hot plate
JP2010212160A (en) 2009-03-11 2010-09-24 Sumitomo Heavy Ind Ltd Reflecting plate for heater

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0494173A (en) Substrate for solar cell
CN102393252B (en) Two-layer micrometering bolometer and manufacturing method thereof
JPWO2011161714A1 (en) Method for crystallizing silicon thin film and method for manufacturing silicon TFT device
WO2023106132A1 (en) Heat reflection plate
JP2023085792A5 (en)
US20130098437A1 (en) Photovoltaic Cell Having a Structured Back Surface and Associated Manufacturing Method
JP7096409B1 (en) Silica heat reflector
WO2022145255A1 (en) Silica heat reflection plate
JP2018095488A (en) Heat radiation element for space and design method thereof and manufacturing method thereof
KR20240091098A (en) heat reflector
US20210045195A1 (en) Infrared radiation device
JP5543525B2 (en) Optical device and manufacturing method thereof
JP7029567B1 (en) Silica heat reflector
AU2011364489A1 (en) Heat receiver tube, method for manufacturing the heat receiver tube, parabolic trough collector with the receiver tube and use of the parabolic trough collector
Xu et al. Optimization of the dielectric layer thickness for surface-plasmon-induced light absorption for silicon solar cells
CN116457920A (en) Silicon oxide heat reflecting plate
WO2021065556A1 (en) Heat-reflecting member, and method for manufacturing glass member having heat-reflecting layer included therein
JPH04196364A (en) Manufacture of photovoltage device
CN112577612B (en) Black silicon plasmon auxiliary absorption thermopile chip and manufacturing method thereof
CN108594340A (en) A kind of wide-angle wide range flexibility antireflection film and preparation method
CN111106509A (en) Laser heat dissipation device, preparation method thereof and solid laser
US20220324740A1 (en) Reflective member and glass layered member production method
TWI375000B (en) Solar thermal absorptive layer and high temperature solar thermal absorptive layer structures and fabrication methods thereof
EP2606289B1 (en) Heat receiver tube, method for manufacturing the heat receiver tube, parabolic trough collector with the receiver tube and use of the parabolic trough collector
JP2002076401A (en) Method of manufacturing hybrid solar battery