JP2023031797A - 光学ユニット及び光学ユニットの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】磁石及び磁性部材が剥がれたり位置ずれしたりすることを抑制することが可能な光学ユニット及び光学ユニットの製造方法を提供する。【解決手段】光学ユニット１は、可動体２と、支持体３と、揺動機構１２０と、磁石１５１と、磁性部材１５２とを有する。可動体は、光の進行方向を変える光学要素１０を有する。支持体は、揺動軸線を中心として揺動可能に、可動体を支持する。揺動機構は、前記揺動軸線を中心として可動体を揺動する。磁石は、可動体及び支持体の一方に配置される。磁性部材は、可動体及び支持体の他方に配置される。支持体が可動体を支持する方向から見て、磁石と磁性部材とが重なる。可動体及び支持体の少なくとも一方は、磁石と磁性部材との間に配置される被覆部３０１を有し、被覆部は、磁石及び磁性部材の一方の輪郭の少なくとも一部を被覆する。【選択図】図５Ｃ

Description

本発明は、光学ユニット及び光学ユニットの製造方法に関する。

カメラによって静止画又は動画を撮影する際に手振れに起因して像ブレが生じることがある。そして、像ブレを抑制して鮮明な撮影を可能にするための手振れ補正装置が実用化されている。

例えば、特許文献１には、反射部材と、ホルダと、第１のハウジングとを有する反射モジュールが記載されている。ホルダには、反射部材が取り付けられる。第１のハウジングは、ホルダを収容する。ホルダは、第１のハウジング内で第１の軸及び第２の軸に対して自由に回転する。また、ホルダと第１のハウジングとの対向面には、互いに磁気的に引き付けられる第１ヨークと磁石とがそれぞれ配置される。第１ヨークは、磁性材料として提供される。磁石は、ホルダの表面に取り付けられる。第１ヨークは、第１のハウジングの表面に取り付けられる。

米国特許出願公開第２０１８／０１０９６６０号明細書

ところで、特許文献１のような反射モジュールでは、通常、磁石はホルダの表面に接着剤を用いて取り付けられる。また、通常、ヨークはハウジングの表面に接着剤を用いて取り付けられる。

しかしながら、磁石及びヨークをホルダ及びハウジングの表面に接着剤を用いて接着した場合、磁石及びヨークがホルダ及びハウジングの表面から剥がれたり、接着した位置からずれたりする場合がある。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、磁石及び磁性部材が剥がれたり位置ずれしたりすることを抑制することが可能な光学ユニット及び光学ユニットの製造方法を提供することにある。

本発明の例示的な光学ユニットは、可動体と、支持体と、揺動機構と、磁石と、磁性部材とを有する。前記可動体は、光の進行方向を変える光学要素を有する。前記支持体は、揺動軸線を中心として揺動可能に、前記可動体を支持する。前記揺動機構は、前記揺動軸線を中心として前記可動体を揺動する。前記磁石は、前記可動体及び前記支持体の一方に配置される。前記磁性部材は、前記可動体及び前記支持体の他方に配置される。前記磁石と前記磁性部材とは重なる。前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方は、前記磁石と前記磁性部材との間に配置される被覆部を有し、前記被覆部は、前記磁石及び前記磁性部材の一方の輪郭の少なくとも一部を被覆する。

本発明の他の例示的な光学ユニットの製造方法は、可動体と、支持体と、揺動機構と、磁石と、磁性部材とを有する光学ユニットの製造方法である。前記可動体は、光の進行方向を変える光学要素を有する。前記支持体は、揺動軸線を中心として揺動可能に、前記可動体を支持する。前記揺動機構は、前記揺動軸線を中心として前記可動体を揺動する。前記磁石は、前記可動体及び前記支持体の一方に配置される。前記磁性部材は、前記可動体及び前記支持体の他方に配置される。前記磁石と前記磁性部材とは重なる。前記光学ユニットの製造方法は、前記磁石又は前記磁性部材を金型内に配置する工程と、前記金型内に樹脂を射出して、前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方を成型する工程と、前記可動体を前記支持体によって支持させる工程とを有する。前記成型する工程によって、前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方は、前記磁石及び前記磁性部材の輪郭の少なくとも一部を被覆する被覆部を有する。前記支持させる工程において、前記被覆部は、前記磁石と前記磁性部材との間に配置される。

例示的な本発明によれば、磁石及び磁性部材が剥がれたり位置ずれしたりすることを抑制することが可能な光学ユニット及び光学ユニットの製造方法を提供できる。

図１は、本発明の実施形態に係る光学ユニットを備えたスマートフォンを模式的に示す斜視図である。 図２は、本実施形態に係る光学ユニットを示す斜視図である。 図３は、本実施形態に係る光学ユニットを可動体と支持体とに分解した分解斜視図である。 図４は、本実施形態に係る光学ユニットの可動体の分解斜視図である。 図５Ａは、図２のＶＡ－ＶＡ線に沿った断面図である。 図５Ｂは、図２のＶＢ－ＶＢ線に沿った断面図である。 図５Ｃは、図２のＶＣ－ＶＣ線に沿った断面図である。 図５Ｄは、図２のＶＤ－ＶＤ線に沿った断面図である。 図６は、本実施形態に係る光学ユニットの光学要素及びホルダの分解斜視図である。 図７は、本実施形態に係る光学ユニットの光学要素、ホルダ及び予圧部を示す分解斜視図である。 図８は、本実施形態に係る光学ユニットの光学要素、ホルダ、予圧部、第１支持部及び第２磁石を示す分解斜視図である。 図９は、本実施形態に係る光学ユニットの可動体を示す斜視図である。 図１０は、本実施形態に係る光学ユニットの第１支持部を第１方向Ｘの一方側Ｘ１から示す図である。 図１１は、本実施形態に係る光学ユニットの支持体の分解斜視図である。 図１２は、本実施形態に係る光学ユニットの第２支持部周辺を示す斜視図である。 図１３は、本実施形態に係る光学ユニットの第２支持部を第１方向Ｘの他方側Ｘ２から示す図である。 図１４は、本実施形態の第１変形例に係る光学ユニットの構造を示す断面図である。 図１５は、本実施形態の第１変形例に係る光学ユニットの第１支持部の製造方法を説明するための模式的な断面図である。 図１６は、本実施形態の第２変形例に係る光学ユニットの構造を示す断面図である。 図１７は、本実施形態の第３変形例に係る光学ユニットの構造を示す断面図である。 図１８は、本実施形態の第４変形例に係る光学ユニットの構造を示す断面図である。

以下、本発明の例示的な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。

本明細書では、理解の容易のため、互いに交差する第１方向Ｘ、第２方向Ｙ及び第３方向Ｚを適宜記載している。また、本明細書では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ及び第３方向Ｚは互いに直交しているが、直交していなくてもよい。また、第１方向の一方側を第１方向Ｘの一方側Ｘ１と記載し、第１方向の他方側を第１方向Ｘの他方側Ｘ２と記載する。また、第２方向の一方側を第２方向Ｙの一方側Ｙ１と記載し、第２方向の他方側を第２方向Ｙの他方側Ｙ２と記載する。また、第３方向の一方側を第３方向Ｚの一方側Ｚ１と記載し、第３方向の他方側を第３方向Ｚの他方側Ｚ２と記載する。また、便宜上、第１方向Ｘを上下方向として説明する場合がある。第１方向Ｘの一方側Ｘ１は下方向を示し、第１方向Ｘの他方側Ｘ２は上方向を示す。ただし、上下方向、上方向、及び下方向は、説明の便宜上定めるものであり、鉛直方向に一致する必要はない。また、あくまで説明の便宜のために上下方向を定義したに過ぎず、本発明に係る光学ユニットの使用時及び組立時の向きを限定しない。

まず、図１を参照して、光学ユニット１の用途の一例について説明する。図１は、本発明の実施形態に係る光学ユニット１を備えたスマートフォン２００を模式的に示す斜視図である。スマートフォン２００は、光学ユニット１を有する。光学ユニット１は、入射した光を特定の方向に反射する。図１に示すように、光学ユニット１は、例えばスマートフォン２００の光学部品として好適に用いられる。なお、光学ユニット１の用途は、スマートフォン２００に限定されず、デジタルカメラ及びビデオカメラなどの種々の装置に使用できる。

スマートフォン２００は、光の入射するレンズ２０２を有する。スマートフォン２００では、光学ユニット１は、レンズ２０２よりも内側に配置される。光Ｌがレンズ２０２を介してスマートフォン２００の内部に入射すると、光Ｌは光学ユニット１によって進行方向が変更される。そして、光Ｌは、レンズユニット（図示せず）を介して撮像素子（図示せず）で撮像される。

次に、図２から図１３を参照して、光学ユニット１について説明する。図２は、本実施形態に係る光学ユニット１を示す斜視図である。図３は、本実施形態に係る光学ユニット１を可動体２と支持体３とに分解した分解斜視図である。図２及び図３に示すように、光学ユニット１は、可動体２と、支持体３と、第２揺動機構１２０とを少なくとも有する。本実施形態では、光学ユニット１は、磁石１５１と、磁性部材１５２（図４）とを有する。また、本実施形態では、光学ユニット１は、第１揺動機構１１０をさらに有する。また、本実施形態では、光学ユニット１は、予圧部４０をさらに有する。なお、第２揺動機構１２０は、本発明の「揺動機構」の一例である。以下、詳細に説明する。

図４は、本実施形態に係る光学ユニット１の可動体２の分解斜視図である。図２から図４に示すように、光学ユニット１は、可動体２と、支持体３とを有する。支持体３は、第２揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、可動体２を支持する。なお、第２揺動軸線Ａ２は、本発明の「揺動軸線」の一例である。

可動体２は、光学要素１０を有する。また、可動体２は、ホルダ２０と、第１支持部３０とを有する。また、可動体２は、予圧部４０を有する。光学要素１０は、光の進行方向を変える。ホルダ２０は、光学要素１０を保持する。第１支持部３０は、第２揺動軸線Ａ２と交差する第１揺動軸線Ａ１を中心として揺動可能に、ホルダ２０及び光学要素１０を支持する。また、第１支持部３０は、第２揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、支持体３に支持される。より具体的には、第１支持部３０は、第２揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、支持体３の第２支持部６０に支持される。

つまり、ホルダ２０は第１支持部３０に対して揺動可能であり、第１支持部３０は第２支持部６０に対して揺動可能である。従って、第１揺動軸線Ａ１及び第２揺動軸線Ａ２のそれぞれを中心として光学要素１０を揺動できるため、第１揺動軸線Ａ１及び第２揺動軸線Ａ２のそれぞれを中心として光学要素１０の姿勢を補正できる。よって、２つの方向において像ブレを抑制できる。その結果、１つの揺動軸線のみを中心として光学要素１０を揺動させる場合に比べて、補正精度を向上できる。なお、第１揺動軸線Ａ１は、ピッチング軸とも呼ばれる。第２揺動軸線Ａ２は、ロール軸とも呼ばれる。

本実施形態では、上述したように、第１支持部３０は、ホルダ２０及び光学要素１０を支持する。また、第１支持部３０は、第２支持部６０に支持される。すなわち、ホルダ２０及び光学要素１０は、第１支持部３０を介して、間接的に支持体３の第２支持部６０に支持される。なお、ホルダ２０及び光学要素１０は、第１支持部３０を介さずに、直接的に支持体３の第２支持部６０に支持されてもよい。すなわち、可動体２は、第１支持部３０を有しなくてもよい。

第１揺動軸線Ａ１は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに対して交差する第３方向Ｚに沿って延びる軸線である。また、第２揺動軸線Ａ２は、第１方向Ｘに沿って延びる軸線である。従って、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する第１揺動軸線Ａ１を中心として光学要素１０を揺動できる。また、第１方向Ｘに沿って延びる第２揺動軸線Ａ２を中心として光学要素１０を揺動できる。よって、光学要素１０の姿勢を適切に補正できる。また、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、光Ｌ（図５Ａ）の進行方向に沿った方向である。つまり、光の進行方向である第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する第１揺動軸線Ａ１を中心として光学要素１０を揺動できる。従って、光学要素１０の姿勢をより適切に補正できる。

また、第１支持部３０は、第３方向Ｚにホルダ２０を支持する。従って、第１支持部３０を、第３方向Ｚに沿って延びる第１揺動軸線Ａ１を中心として容易に揺動できる。具体的には、本実施形態では、第１支持部３０は、予圧部４０を介して第３方向Ｚにホルダ２０を支持する。

図５Ａは、図２のＶＡ－ＶＡ線に沿った断面図である。図５Ｂは、図２のＶＢ－ＶＢ線に沿った断面図である。図５Ｃは、図２のＶＣ－ＶＣ線に沿った断面図である。図５Ｄは、図２のＶＤ－ＶＤ線に沿った断面図である。図６は、本実施形態に係る光学ユニット１の光学要素１０及びホルダ２０の分解斜視図である。図５Ａから図５Ｄ及び図６に示すように、光学要素１０は、プリズムからなる。プリズムは、空気よりも屈折率の高い透明な材料から形成される。なお、光学要素１０は、例えば、板状の鏡であってもよい。本実施形態では、光学要素１０は、略三角柱形状を有する。具体的には、光学要素１０は、光入射面１１と、光出射面１２と、反射面１３と、一対の側面１４とを有する。光入射面１１には、光Ｌが入射される。光出射面１２は、光入射面１１に接続する。光出射面１２は、光入射面１１に対して垂直に配置される。反射面１３は、光入射面１１及び光出射面１２に接続する。反射面１３は、光入射面１１及び光出射面１２のそれぞれに対して約４５度傾斜する。反射面１３は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に進行する光Ｌを、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙの一方側Ｙ１に反射する。すなわち、光学要素１０は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に進行する光Ｌを、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙの一方側Ｙ１に反射する。一対の側面１４は、光入射面１１、光出射面１２及び反射面１３に接続する。

また、光学要素１０の光軸Ｌ１０と第２揺動軸線Ａ２とは、重なって配置される。なお、本明細書において、光学要素１０の光軸Ｌ１０とは、光学要素１０の光入射面１１に対して垂直で且つ反射面１３の中心を通過する軸線、又は光の入射するレンズ２０２の光軸、又は反射先にあるレンズユニットの光軸と反射面１３との交点を通り、レンズユニットの光軸に対して垂直な方向に延びる軸線、又は、撮像素子の中心を通る直線と反射面１３との交点を通り、撮像素子の中心を通る直線に対して垂直な方向に延びる軸線の少なくともいずれかと一致する軸線を意味する。典型的には、光学要素１０の光入射面１１に対して垂直で且つ反射面１３の中心を通過する軸線と、光の入射するレンズ２０２の光軸と、反射先にあるレンズユニットの光軸と反射面１３との交点を通り、レンズユニットの光軸に対して垂直な方向に延びる軸線と、撮像素子の中心を通る直線と反射面１３との交点を通り、撮像素子の中心を通る直線に対して垂直な方向に延びる軸線とは全て一致する。

ホルダ２０及び第１支持部３０の少なくとも一方は、予圧部４０とは反対側に窪む凹部、又は、予圧部４０に向かって突出する凸部を有する。本実施形態では、ホルダ２０は、予圧部４０とは反対側に窪む軸上凹部２２ｂを有する。

具体的には、ホルダ２０は、例えば樹脂からなる。ホルダ２０は、ホルダ本体２１と、一対の側面部２２とを有する。また、ホルダ２０は、一対の対向側面２２ａと、軸上凹部２２ｂとを有する。

ホルダ本体２１は、第３方向Ｚに延びる。ホルダ本体２１は、支持面２１ａと、複数の凹部２１ｄとを有する。本実施形態では、ホルダ本体２１は、３つの凹部２１ｄを有する。支持面２１ａは、光学要素１０を支持する。支持面２１ａは、光学要素１０の反射面１３に面し、一対の側面部２２に接続される面である。支持面２１ａは、光Ｌの入射方向に対して約４５度傾斜した傾斜面であり、傾斜面の略全域にわたって光学要素１０の反射面１３と接触する。光Ｌの入射方向は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に向かう方向である。凹部２１ｄは、支持面２１ａに配置される。凹部２１ｄは、光学要素１０とは反対側に窪む。なお、ホルダ本体２１は、凹部２１ｄを有しなくてもよい。

また、ホルダ本体２１は、背面２１ｂと、下面２１ｃとを有する。背面２１ｂは、支持面２１ａのうち光Ｌの出射方向とは反対側の端部に接続する。なお、「光Ｌの出射方向」は、第２方向Ｙの一方側Ｙ１である。また、「光Ｌの出射方向とは反対側の端部」は、第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部である。下面２１ｃは、支持面２１ａ及び背面２１ｂに接続する。

一対の側面部２２は、ホルダ本体２１から第３方向Ｚと交差する交差方向に延びる。交差方向は、例えば、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙを含む。一対の側面部２２は、ホルダ本体２１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部２２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。一対の対向側面２２ａは、一対の側面部２２のそれぞれに配置される。一対の対向側面２２ａは、一対の予圧部４０にそれぞれ対向する。予圧部４０の詳細構造については、後述する。軸上凹部２２ｂは、対向側面２２ａに配置される。軸上凹部２２ｂは、第１揺動軸線Ａ１上においてホルダ２０の内側に向かって窪む。軸上凹部２２ｂは、予圧部４０の軸上凸部４５の少なくとも一部を収容する。軸上凹部２２ｂは、凹状の球面の少なくとも一部を有する。

また、ホルダ２０及び第１支持部３０の一方は、制限凹部２２ｃを有する。制限凹部２２ｃは、第１揺動軸線Ａ１と交差する方向に予圧部４０の突出部４６が移動することを制限する。

本実施形態では、ホルダ２０は、制限凹部２２ｃを有する。具体的には、制限凹部２２ｃは、対向側面２２ａに配置される。制限凹部２２ｃは、予圧部４０が側面部２２に沿って所定距離以上移動することを制限する。より具体的には、制限凹部２２ｃは、第３方向Ｚにおいてホルダ２０の内側に向かって窪む。制限凹部２２ｃは、内面２２ｄを有する。例えば、制限凹部２２ｃは、第１方向Ｘの両側、及び、第２方向Ｙの両側が閉じた凹部であってもよい。また、例えば、制限凹部２２ｃは、第１方向Ｘの片側が開放した凹部であってもよいし、第２方向Ｙの片側が開放した凹部であってもよい。

制限凹部２２ｃの内部には、予圧部４０の突出部４６が配置される。予圧部４０の突出部４６は、軸上凸部４５が軸上凹部２２ｂに嵌った状態で、制限凹部２２ｃの内面２２ｄから所定距離をおいて離隔する。その一方、光学ユニット１に衝撃等が加わってホルダ２０が例えば第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに所定距離以上移動しそうになった場合、予圧部４０の突出部４６が制限凹部２２ｃの内面２２ｄに接触する。従って、ホルダ２０が予圧部４０から外れることを抑制できる。制限凹部２２ｃは、本実施形態では、例えば４つ設けられている。制限凹部２２ｃの数は、１つであってもよいが、複数であることが好ましい。

光学ユニット１は、予圧部４０を有する。予圧部４０は、ホルダ２０と第１支持部３０とを接続する。予圧部４０は、弾性変形可能である。また、予圧部４０は、ホルダ２０及び第１支持部３０の少なくとも一方に配置される。予圧部４０は、ホルダ２０及び第１支持部３０の少なくとも他方に対して、第１揺動軸線Ａ１の軸線方向に予圧を付与する。従って、ホルダ２０が第１支持部３０に対して第１揺動軸線Ａ１の軸線方向に位置ズレすることを抑制できる。また、各部材の寸法に製造誤差が生じた場合であっても、第１揺動軸線Ａ１の軸線方向にがたつき等が生じることを抑制できる。言い換えると、例えば、第１揺動軸線Ａ１の軸線方向にホルダ２０の位置が変位することを抑制できる。第１揺動軸線Ａ１の軸線方向は、第３方向Ｚに沿った方向である。なお、本明細書において「予圧を付与する」とは、予め荷重を与えることを意味する。

次に、図７及び図８を参照して、予圧部４０の詳細構造について説明する。図７は、本実施形態に係る光学ユニット１の光学要素１０、ホルダ２０及び予圧部４０を示す分解斜視図である。図８は、本実施形態に係る光学ユニット１の光学要素１０、ホルダ２０、予圧部４０、第１支持部３０及び第２磁石１２１を示す分解斜視図である。図７及び図８に示すように、予圧部４０は、ホルダ２０と第１支持部３０との間に配置される。予圧部４０は、ホルダ２０に対して第１揺動軸線Ａ１の軸線方向に予圧を付与する。

具体的には、本実施形態では、各予圧部４０は、単一の部材である。予圧部４０は、１枚の板部材を折り曲げることによって形成されている。予圧部４０は、本実施形態では板バネである。予圧部４０は、第１支持部３０に配置される。

予圧部４０は、ホルダ２０側に位置する第１面部４１と、第１支持部３０側に位置する第２面部４２と、第１面部４１及び第２面部４２を接続する湾曲部４３とを有する。従って、予圧部４０を第１揺動軸線Ａ１の軸線方向に容易に変形できる。その結果、湾曲部４３のたわみにより弾性力が生じるため、簡素な構成で、ホルダ２０に対して軸線方向に容易に予圧を付与できる。

具体的には、第１面部４１は、第１揺動軸線Ａ１の軸線方向においてホルダ２０に対向する。第１面部４１は、ホルダ２０の側面部２２に対向する。第１面部４１は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに沿って延びる。第１面部４１は、側面部２２に沿って配置される。第２面部４２は、第１揺動軸線Ａ１の軸線方向において第１支持部３０に対向する。第２面部４２は、第１支持部３０の側面部３２に対向する。第２面部４２は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに沿って延びる。第２面部４２は、側面部３２に沿って配置される。

湾曲部４３は、弾性変形可能である。よって、第１面部４１及び第２面部４２は、互いに接近又は離隔する方向に移動可能である。本実施形態では、予圧部４０がホルダ２０と第１支持部３０との間に配置された状態で、第１面部４１及び第２面部４２が互いに接近するように、予圧部４０は第１揺動軸線Ａ１の軸線方向に圧縮変形される。従って、予圧部４０は、変形量に応じた反力によってホルダ２０に予圧を付与する。

予圧部４０は、ホルダ２０及び第１支持部３０の少なくとも一方に向かって突出する凸部、又は、ホルダ２０及び第１支持部３０の少なくとも一方とは反対側に窪む凹部を有する。予圧部４０の凸部又は凹部は、ホルダ２０及び第１支持部３０の少なくとも一方の凹部又は凸部に接触する。本実施形態では、予圧部４０は、軸上凸部４５を有する。軸上凸部４５は、ホルダ２０に向かって突出する。予圧部４０の軸上凸部４５は、ホルダ２０の軸上凹部２２ｂに接触する。

また、本実施形態では、軸上凸部４５は、第１面部４１に配置される。軸上凸部４５は、第１揺動軸線Ａ１上においてホルダ２０に向かって突出する。軸上凸部４５は、球面の少なくとも一部を有する。軸上凸部４５の一部は、軸上凹部２２ｂに収容される。従って、軸上凸部４５と軸上凹部２２ｂとが点接触するので、予圧部４０によってホルダ２０を安定して支持できる。

また、本実施形態では、予圧部４０は一対設けられている。つまり、光学ユニット１は、予圧部４０を一対有する。一対の予圧部４０は、ホルダ２０に対して第１揺動軸線Ａ１の軸線方向の両側に配置される。従って、予圧部４０をホルダ２０の片側のみに配置する場合に比べて、ホルダ２０をより安定して支持できる。

具体的には、一対の予圧部４０の軸上凸部４５は、ホルダ２０の一対の軸上凹部２２ｂにそれぞれ接触する。ホルダ２０は、軸上凸部４５と接触する２つの接点で予圧部４０によって、第１揺動軸線Ａ１の軸線方向の両側から支持される。従って、ホルダ２０は、２つの接点を通過する第１揺動軸線Ａ１を中心として揺動可能である。

また、予圧部４０は、突出部４６をさらに有する。突出部４６は、第１面部４１及び第２面部４２の一方に配置されるとともに、ホルダ２０及び第１支持部３０の一方に向かって突出する。本実施形態では、突出部４６は、軸上凸部４５と同様、第１面部４１に配置される。突出部４６は、第１揺動軸線Ａ１に沿った方向において、ホルダ２０に向かって突出する。突出部４６は、制限凹部２２ｃに対応して設けられる。突出部４６は、各予圧部４０に例えば４つ設けられる。突出部４６の一部は、制限凹部２２ｃに収容される。突出部４６は、軸上凸部４５を囲うように配置される。言い換えると、軸上凸部４５は、４つの突出部４６を含む領域の内部に配置される。なお、突出部４６の数は、例えば、１つ～３つ、又は、５つ以上であってもよい。また、突出部４６は、第１面部４１の端部を折り曲げることによって形成されている。

予圧部４０は、取付部４７を有する。取付部４７は、例えば第２面部４２に配置される。取付部４７は、第２面部４２の上端に配置される。取付部４７は、第１支持部３０の側面部３２の上端に取り付けられる。取付部４７は、例えば、側面部３２の上端を第１方向Ｘに挟み込むことにより、側面部３２に取り付けられる。なお、予圧部４０は、取付部４７を有しなくてもよく、例えば、接着剤等を用いて第１支持部３０に固定されてもよい。

図９は、本実施形態に係る光学ユニット１の可動体２を示す斜視図である。図１０は、本実施形態に係る光学ユニット１の第１支持部３０を第１方向Ｘの一方側Ｘ１から示す図である。図１１は、本実施形態に係る光学ユニット１の支持体３の分解斜視図である。図１２は、本実施形態に係る光学ユニット１の第２支持部６０周辺を示す斜視図である。

図９から図１２に示すように、可動体２及び支持体３の一方は、可動体２及び支持体３の他方に向かって突出する第１凸部７１を有する。具体的には、第１支持部３０及び第２支持部６０の一方は、第１支持部３０及び第２支持部６０の他方に向かって突出する第１凸部７１を有する。可動体２及び支持体３の他方は、第１凸部７１に接触する。第１凸部７１は、第２揺動軸線Ａ２上に配置される。従って、可動体２は、第１凸部７１を中心として揺動する。よって、可動体２と支持体３との接触位置から揺動中心までの長さを小さくできる。可動体２を揺動させる際に必要な力は、接触位置から揺動中心までの長さと摩擦力との積であるので、第１凸部７１を第２揺動軸線Ａ２上に配置することによって、可動体２を揺動させる際に必要な力を低減できる。つまり、光学ユニット１の駆動に必要な力を低減できる。なお、第１凸部７１の材質は、特に限定されるものではないが、第１凸部７１は、例えばセラミック、樹脂又は金属により形成される。

また、第１凸部７１が第２揺動軸線Ａ２上に配置されることによって、可動体２と支持体３との接触位置は、第１凸部７１に対して移動しない。従って、例えば、可動体２が揺動する際に可動体２及び支持体３の他方が第１凸部７１に対して摺動する場合に比べて、可動体２及び支持体３の他方と第１凸部７１との間の摩擦力を小さくできる。また、光軸Ｌ１０と第２揺動軸線Ａ２とが重なって配置されるため、可動体２を揺動させた際に光軸Ｌ１０が第２揺動軸線Ａ２からずれることを抑制できる。

また、本実施形態では、支持体３が、第１凸部７１を有する。従って、可動体２が揺動する際に第１凸部７１が回転することを抑制できる。よって、第１凸部７１によって可動体２を安定して支持できる。その結果、可動体２の揺動が安定する。

また、可動体２及び支持体３の一方は、可動体２及び支持体３の他方に向かって突出する複数の第２凸部７２を有する。具体的には、第１支持部３０及び第２支持部６０の一方は、第１支持部３０及び第２支持部６０の他方に向かって突出する複数の第２凸部７２を有する。複数の第２凸部７２は、第２揺動軸線Ａ２から離隔した位置に配置される。可動体２及び支持体３の他方は、複数の第２凸部７２に接触する。第１凸部７１及び複数の第２凸部７２は、第２揺動軸線Ａ２と交差する同一平面上に配置される。従って、同一平面上に配置される第１凸部７１及び複数の第２凸部７２によって、可動体２を支持できる。その結果、可動体２を安定して支持できる。なお、第１凸部７１及び複数の第２凸部７２が配置される同一平面としては、例えば、対向面６１ａを含む平面、又は、下面３１ｅを含む平面が挙げられる。また、第２凸部７２の材質は、特に限定されるものではないが、第２凸部７２は、例えばセラミック、樹脂又は金属により形成される。

また、第２凸部７２の位置は、一定である。言い換えると、第２凸部７２は、可動体２及び支持体３の一方に対して移動しない。本実施形態では、第２凸部７２は、支持体３に対して移動しない。言い換えると、本実施形態では、可動体２が揺動した場合も、支持体３に対する第２凸部７２の位置は、一定である。従って、可動体２をより安定して支持できる。

また、本実施形態では、第２凸部７２の数は、２つである。従って、３つの凸部（第１凸部７１及び第２凸部７２）で可動体２を支持するため、４つ以上の凸部によって可動体２を支持する場合に比べて、可動体２をより安定して支持できる。また、本実施形態では、３点で可動体２に対して点接触するため、可動体２をさらに安定して支持できる。

可動体２及び支持体３の他方は、第１凸部７１とは反対方向に窪む第１凹部３１ｆを有する。第１凹部３１ｆは、第１凸部７１に接触する。従って、凹状の第１凹部３１ｆで第１凸部７１を受けることによって、第１凸部７１の中心が第１凹部３１ｆの中心軸からずれることを抑制できる。その結果、回転中心がずれることに起因する像ブレを抑制できる。また、回転中心がずれることに起因して可動体２の揺動が不安定になることを、抑制できる。その結果、例えば、揺動に必要な電流値が変動することを抑制できる。

また、本実施形態では、可動体２は第１凹部３１ｆを有し、支持体３は第１凸部７１を有する。従って、第１凸部７１が球体である場合、球体を第２支持部６０に配置した状態で可動体２を支持体３に組み付けることができるため、組立作業を容易にできる。

次に、図８及び図９を参照して、第１支持部３０周辺の構造について詳細に説明する。図８及び図９に示すように、第１支持部３０は、支持本体３１と、一対の側面部３２とを有する。一対の側面部３２は、第１揺動軸線Ａ１の軸線方向においてホルダ２０の両側に配置される。支持本体３１は、一対の側面部３２を接続する。

支持本体３１は、上面３１ａを有する。上面３１ａは、ホルダ２０に対して第１方向Ｘに対向する。なお、上面３１ａは、ホルダ２０の底面に対して離隔する。

一対の側面部３２は、支持本体３１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部３２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。側面部３２は、内側面３２ａを有する。内側面３２ａは、ホルダ２０に対して第３方向Ｚに対向する。

第１支持部３０及びホルダ２０の一方は、溝３２ｂを有する。溝３２ｂは、第１揺動軸線Ａ１上において第１支持部３０及びホルダ２０の他方とは反対側に窪む。従って、予圧部４０を溝３２ｂに沿って移動させることによって、ホルダ２０及び予圧部４０を容易に第１支持部３０に取り付けることができる。本実施形態では、第１支持部３０は、溝３２ｂを有する。溝３２ｂは、第１揺動軸線Ａ１上においてホルダ２０とは反対側に窪む。溝３２ｂは、予圧部４０の少なくとも一部を収容するとともに、第１揺動軸線Ａ１と交差する方向に延びる。

本実施形態では、溝３２ｂは、内側面３２ａに配置される。溝３２ｂは、予圧部４０の一部を収容する。溝３２ｂは、第１方向Ｘに延びる。

各側面部３２は、一対の支柱部３２ｃと、接続部３２ｄとを有する。一対の支柱部３２ｃは、第２方向Ｙに互いに離隔する。支柱部３２ｃは、第１方向Ｘに延びる。接続部３２ｄは、支柱部３２ｃの上部同士を接続する。接続部３２ｄの第３方向Ｚの長さは、支柱部３２ｃの第３方向Ｚの長さよりも短い。そして、一対の支柱部３２ｃと接続部３２ｄとによって、溝３２ｂが構成される。

また、予圧部４０は、溝３２ｂに沿って移動可能である。本実施形態では、予圧部４０は、溝３２ｂに沿って第１方向Ｘに移動可能である。予圧部４０を溝３２ｂに沿って移動させることによって、予圧部４０の取付部４７が接続部３２ｄを第３方向Ｚに挟む。よって、予圧部４０が第１支持部３０に固定される。

また、側面部３２は、外側面３２ｅと、収容凹部３２ｆとを有する。外側面３２ｅは、第３方向Ｚの外側を向く。収容凹部３２ｆは、外側面３２ｅに配置される。収容凹部３２ｆは、第２揺動機構１２０の第２磁石１２１の少なくとも一部を収容する。また、側面部３２は、一対の切欠き部３２ｇを有する。切欠き部３２ｇは、収容凹部３２ｆの第２方向Ｙの端部に配置される。切欠き部３２ｇには、磁石支持板１２２の突起１２２ａが配置される。磁石支持板１２２は、第２磁石１２１を支持する。切欠き部３２ｇは、磁石支持板１２２を支持する。磁石支持板１２２の材質は、特に限定されないが、例えば磁性体を用いてもよい。この場合、磁石支持板１２２は、バックヨークとも呼ばれる。磁性体からなる磁石支持板１２２を用いることによって、磁気漏れを抑制できる。

また、可動体２及び支持体３の他方は、第２凹部３１ｇを有する。本実施形態では、可動体２は、第２凹部３１ｇを有する。具体的には、支持本体３１は、下面３１ｅと、第１凹部３１ｆと、第２凹部３１ｇとを有する。下面３１ｅは、支持体３に対して第１方向Ｘに対向する。第１凹部３１ｆ及び第２凹部３１ｇは、下面３１ｅに配置される。

第１凹部３１ｆは、第２揺動軸線Ａ２上に配置される。第１凹部３１ｆは、凹状の球面の一部を有する。従って、凹状の球面によって第１凸部７１を受けるため、例えば、第１凸部７１が第１凹部３１ｆ内で横ずれしにくくなる。その結果、可動体２を安定して支持できる。その一方、例えば、第１凹部３１ｆを断面矩形状にした場合、第１凸部７１は第１凹部３１ｆに対して横ずれしやすい。また、本実施形態では、例えば、第１凸部７１及び第１凹部３１ｆを断面矩形状にする場合と異なり、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとを容易に点接触させることができる。

第２凹部３１ｇは、第２凸部７２とは反対方向に窪む。第２凹部３１ｇは、第１凹部３１ｆから離隔する。すなわち、第２凹部３１ｇは、第２揺動軸線Ａ２から離隔する。第２凹部３１ｇは、複数設けられる。本実施形態では、第２凹部３１ｇは、２つ設けられる。２つの第２凹部３１ｇは、第２揺動軸線Ａ２までの距離が等しい位置に配置される。第２凹部３１ｇは、摺動面３１ｈと、内側面３１ｉとを有する。

また、第２凹部３１ｇは、第２凸部７２に接触する。具体的には、第２凹部３１ｇの摺動面３１ｈは、第２凸部７２に接触する。摺動面３１ｈは、下面３１ｅと略平行に配置される。すなわち、第２凹部３１ｇの深さは略一定である。

また、図１０に示すように、光軸方向から見て、第２凹部３１ｇの輪郭は、第２凸部７２の外側に配置される。従って、第２凸部７２が第２凹部３１ｇの内側面３１ｉに接触することを抑制できる。その結果、第２凸部７２と第２凹部３１ｇとの間の摩擦を抑制できる。具体的には、内側面３１ｉは、摺動面３１ｈを囲う。内側面３１ｉは、第２凸部７２から離隔する。すなわち、光軸方向から見て、第２凹部３１ｇの輪郭は、第２凸部７２に対して離隔する。また、内側面３１ｉは、第１支持部３０が第２揺動軸線Ａ２を中心として第２揺動機構１２０によって揺動された場合に、第２凸部７２が接触しない位置に配置される。

また、図３及び図５Ａに示すように、第２凸部７２は、第１凹部３１ｆよりも第２方向Ｙの他方側Ｙ２に配置される。従って、光学要素１０の反射面１３に第２凸部７２が接触することを抑制できる。その結果、光学要素１０を配置するスペースを容易に確保できる。また、より大きい光学要素１０を搭載することもできる。具体的には、反射面１３の一部は、下面３１ｅに対して、第１方向Ｘの一方側Ｘ１及び第２方向Ｙの一方側Ｙ１に突出する。従って、第１支持部３０のうち第２凸部７２が配置された部分に光学要素１０が接触することを抑制できる。その結果、光学要素１０を配置するスペースを確保できる。

図１１及び図１２に示すように、支持体３は、第２支持部６０と、第１凸部７１と、第２凸部７２とを有する。支持体３は、対向面６１ａを有することが好ましい。

具体的には、第２支持部６０は、第１揺動軸線Ａ１と交差する第２揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、第１支持部３０を支持する。また、第２支持部６０は、第１方向Ｘに第１支持部３０を支持する。つまり、第２支持部６０は、可動体２を第１方向Ｘに支持する。従って、光学要素１０の第１方向Ｘの位置が変化することを抑制できるため、反射光（光学要素１０から出射する光Ｌ）の第１方向Ｘの位置が変化することを抑制できる。

図１３は、本実施形態に係る光学ユニット１の第２支持部６０を第１方向Ｘの他方側Ｘ２から示す図である。図１１から図１３に示すように、第２支持部６０は、支持本体６１と、一対の側面部６２と、背面部６３とを有する。支持本体６１は、対向面６１ａと、第１収容凹部６１ｂと、少なくとも２つの第２収容凹部６１ｃとを有する。本実施形態では、支持本体６１は、１つの第１収容凹部６１ｂと、２つの第２収容凹部６１ｃとを有する。なお、本実施形態では、第２支持部６０が第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃを有する例について説明するが、可動体２及び支持体３の一方が、可動体２及び支持体３の他方とは反対方向に窪む第１収容凹部及び第２収容凹部を有してもよい。また、例えば、可動体２及び支持体３の一方が第１収容凹部を有し、可動体２及び支持体３の他方が第２収容凹部を有してもよい。

対向面６１ａは、第１支持部３０の下面３１ｅに対して第１方向Ｘに対向する。第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、対向面６１ａに配置される。第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、第１方向Ｘにおいて可動体２とは反対方向に窪む。つまり、第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に窪む。第１収容凹部６１ｂは、第１支持部３０の第１凹部３１ｆに対して第１方向Ｘに対向する。第１収容凹部６１ｂは、第２揺動軸線Ａ２を中心とする同一円周Ｃ（図１３参照）上に配置される。第１収容凹部６１ｂは、第１凸部７１の一部を収容する。従って、第１凸部７１は、第２揺動軸線Ａ２上に配置される。

また、第２収容凹部６１ｃは、第１収容凹部６１ｂから離隔する。従って、第２収容凹部６１ｃは、第２揺動軸線Ａ２から離隔する。また、本実施形態では、第２収容凹部６１ｃは、第１収容凹部６１ｂからの距離を隔てて離隔する。また、第２収容凹部６１ｃは、第２凸部７２の一部を収容する。従って、複数の第２凸部７２は、第２揺動軸線Ａ２を中心とする同一円周Ｃ上に配置される。従って、第１凸部７１からの距離が等しい位置で可動体２を支持できる。その結果、可動体２をより安定して支持できる。なお、第２揺動軸線Ａ２の軸線方向は、第１方向Ｘに沿った方向である。

また、２つの第２収容凹部６１ｃは、第３方向Ｚに並んだ状態で、第１収容凹部６１ｂよりも光学要素１０に遠い位置に配置される。

第１収容凹部６１ｂは、第１凸部７１の一部を保持する。本実施形態では、第１凸部７１の下半分が第１収容凹部６１ｂ内に配置される。第１凸部７１は、球面の少なくとも一部を有する。従って、第１凸部７１が可動体２及び支持体３の他方に点接触するため、第１凸部７１と可動体２及び支持体３の他方との間の摩擦力をより小さくできる。本実施形態では、第１凸部７１が可動体２に点接触するため、第１凸部７１と可動体２との間の摩擦力をより小さくできる。

また、本実施形態では、第１凸部７１は、球体である。従って、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとの間の摩擦は転がり摩擦になる。その結果、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとの間の摩擦力が大きくなることを抑制できる。具体的には、第１凸部７１は、第１収容凹部６１ｂ内で回転可能である。従って、第１凸部７１と第１凹部３１ｆとの間の摩擦は、転がり摩擦になる。なお、第１凸部７１は、第１凹部３１ｆに対して例えば接着剤を用いて固定されていてもよい。

第２収容凹部６１ｃは、第２凸部７２の一部を保持する。本実施形態では、第２凸部７２の下半分が第２収容凹部６１ｃ内に配置される。第２凸部７２は、球面の少なくとも一部を有する。従って、第２凸部７２が可動体２及び支持体３の他方に点接触するため、第２凸部７２と可動体２及び支持体３の他方との間の摩擦力を小さくできる。本実施形態では、第２凸部７２が可動体２に対して点接触するため、第２凸部７２と可動体２との間の摩擦力を小さくできる。

また、本実施形態では、第２凸部７２は、球体である。従って、第２凸部７２と可動体２及び支持体３の他方との間の摩擦が転がり摩擦になるため、摩擦力を抑制できる。本実施形態では、第２凸部７２と可動体２との間の摩擦が転がり摩擦になる。具体的には、第２凸部７２は、第２収容凹部６１ｃ内で回転可能である。従って、第２凸部７２と第１支持部３０の第２凹部３１ｇとの間の摩擦は転がり摩擦になる。なお、第２凸部７２は、第２凹部３１ｇに対して例えば接着剤を用いて固定されていてもよい。

また、図５Ｃ及び図１３に示すように、第１収容凹部６１ｂは、中心凹部６１１を有してもよい。中心凹部６１１は、第１収容凹部６１ｂと同心円状に配置される。中心凹部６１１の縁に第１凸部７１が接触する。中心凹部６１１の直径は、第１凸部７１の直径よりも小さい。従って、例えば、第１凸部７１の外周面と第１収容凹部６１ｂの内周面との間に隙間が生じている場合であっても、中心凹部６１１によって第１凸部７１を位置決めできる。すなわち、第１凸部７１の中心を中心凹部６１１の中心軸上に配置できる。その結果、第１凸部７１の中心を第１収容凹部６１ｂの中心軸上に容易に配置できる。

また、図５Ｄ及び図１３に示すように、第２収容凹部６１ｃは、中心凹部６１１を有してもよい。中心凹部６１１は、第２収容凹部６１ｃと同心円状に配置される。中心凹部６１１の縁に第２凸部７２が接触する。中心凹部６１１の直径は、第２凸部７２の直径よりも小さい。従って、例えば、第２凸部７２の外周面と第２収容凹部６１ｃの内周面との間に隙間が生じている場合であっても、中心凹部６１１によって第２凸部７２を位置決めできる。すなわち、第２凸部７２の中心を中心凹部６１１の中心軸上に配置できる。その結果、第２凸部７２の中心を第２収容凹部６１ｃの中心軸上に容易に配置できる。

また、第１凸部７１及び第２凸部７２の材質は、セラミックである。従って、第１凸部７１及び第２凸部７２が摩耗することを抑制できる。なお、第１凸部７１及び第２凸部７２の材質は、金属であってもよい。この場合も、第１凸部７１及び第２凸部７２が摩耗することを抑制できる。また、第１凸部７１及び第２凸部７２の全体が金属によって形成されていてもよいし、例えばメッキ処理により第１凸部７１及び第２凸部７２の表面のみが金属によって形成されていてもよい。また、第１凸部７１及び第２凸部７２は、樹脂によって形成されていてもよい。

また、第１凸部７１は、光学要素１０の反射面１３（図５Ａ参照）に対して第１方向Ｘの一方側Ｘ１に配置される。従って、光路を遮断することなく、第１凸部７１を配置することができる。

図５Ｃ、図８及び図１１に示すように、光学ユニット１は、可動体２及び支持体３の一方に配置される磁石１５１と、可動体２及び支持体３の他方に配置される磁性部材１５２とを有する。磁性部材１５２は、磁性体からなる板状の部材である。そして、磁石１５１と磁性部材１５２とは重なる。具体的には、支持体３が可動体２を支持する方向（第１方向Ｘ）から見て、磁石１５１と磁性部材１５２とは重なる。従って、支持体３が可動体２を支持する方向において、磁石１５１と磁性部材１５２との間に互いに引き合う力（以下、引力とも記載する）を生じさせることができる。

このように、磁石１５１と磁性部材１５２は重なるため、可動体２と支持体３との間には、互いに近づく方向に力が作用する。言い換えると、可動体２及び支持体３には、引力が作用する。従って、第１揺動機構１１０及び第２揺動機構１２０を駆動しない場合、磁石１５１と磁性部材１５２との間の引力によって、可動体２は基準位置に保持される。基準位置は、図５Ｂに示すように、第１支持部３０の側面部３２と第２支持部６０の側面部６２とが平行になる位置である。また、磁石１５１と磁性部材１５２との間に引力が生じることによって、第１方向Ｘの他方側Ｘ２に可動体２が移動することを抑制できる。

また、図５Ｃ、図８及び図１１に示すように、可動体２及び支持体３の少なくとも一方は、磁石１５１と磁性部材１５２との間に配置される被覆部３０１を有する。被覆部３０１は、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方の輪郭の少なくとも一部を被覆する。従って、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方が剥がれたり位置ずれしたりすることを被覆部３０１によって抑制できる。被覆部３０１は、例えば、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方の輪郭の全部を被覆してもよい。

被覆部３０１の材質は、特に限定されるものではなく、例えば樹脂又は金属を用いることができる。本実施形態では、被覆部３０１は、例えば、非磁性体である樹脂により形成される。

また、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方の少なくとも一部は、可動体２及び支持体３の少なくとも一方の内部に配置される。本実施形態では、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方は、全体が可動体２及び支持体３の少なくとも一方の内部に配置される。従って、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方を、例えば可動体２及び支持体３の少なくとも一方の外部に配置する場合と異なり、可動体２及び支持体３の少なくとも一方が大型化することを抑制できる。

本実施形態では、磁石１５１は、支持体３に配置される。磁性部材１５２は、可動体２に配置される。また、本実施形態では、可動体２は、磁石１５１と磁性部材１５２との間に配置される被覆部３０１を有する。被覆部３０１は、磁性部材１５２のうち、磁石１５１側の表面（以下、下面１５２ａと記載することがある）の全域を被覆する。本実施形態では、磁性部材１５２は、全体が可動体２の内部に配置される。

また、可動体２及び支持体３の少なくとも一方は、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方が配置される収容部３０３ａを有する第１部材と、被覆部３０１とを有する。第１部材と被覆部３０１とは、単一の部材である。従って、例えば第１部材と被覆部３０１とを別部材で形成する場合に比べて、部品点数を削減できる。なお、後述するように、第１部材と被覆部３０１とは、互いに異なる部材であってもよい。本実施形態では、可動体２は、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方が配置される収容部３０３ａを有する支持本体３１を有する。なお、支持本体３１は、本発明の「第１部材」の一例である。また、本実施形態では、可動体２は、磁性部材１５２が配置される収容部３０３ａを有する支持本体３１と、被覆部３０１とを有する。

また、第１部材は、可動体２及び支持体３の少なくとも他方とは反対側を向く反対面を有する。収容部３０３ａは、反対面から可動体２及び支持体３の少なくとも他方に向かって窪む。従って、第１部材と被覆部３０１とを容易に単一の部材で形成できる。本実施形態では、支持本体３１は、支持体３とは反対側を向く上面３１ａを有する。すなわち、本実施形態では、支持本体３１は、第１方向Ｘにおいて下面３１ｅとは反対の位置に、第１方向Ｘの他方側Ｘ２を向く上面３１ａを有する。下面３１ｅは、支持体３の対向面６１ａに対して第１方向Ｘの他方側Ｘ２に対向する。収容部３０３ａは、上面３１ａから支持体３に向かって窪む。なお、上面３１ａは、本発明の「反対面」の一例である。

磁性部材１５２は、収容部３０３ａに嵌っている。従って、磁性部材１５２は、収容部３０３ａに固定される。例えば、磁性部材１５２は、接着剤又は圧入によって、収容部３０３ａに固定される。

磁石１５１及び磁性部材１５２は、それぞれ複数設けられていてもよい。言い換えると、光学ユニット１は、複数の磁石１５１及び複数の磁性部材１５２を有してもよい。本実施形態では、光学ユニット１は、２つの磁石１５１及び２つの磁性部材１５２を有する。

本実施形態では、磁石１５１及び磁性部材１５２の各々は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する第３方向Ｚにおいて、第２揺動軸線Ａ２を中心として対称に配置される。従って、第２揺動軸線Ａ２を中心として対称に引力が作用するため、可動体２の揺動が安定する。

磁石１５１及び磁性部材１５２の他方は、可動体２及び支持体３の他方の内部に配置される。本実施形態では、磁石１５１は、支持体３の内部に配置される。具体的には、支持体３は、第３収容凹部６１ｄを有する。支持体３は、複数の第３収容凹部６１ｄを有する。本実施形態では、支持体３は、２つの第３収容凹部６１ｄを有する。

第３収容凹部６１ｄは、支持本体６１の対向面６１ａに配置される。第３収容凹部６１ｄは、第１方向Ｘにおいて可動体２とは反対方向に窪む。つまり、第３収容凹部６１ｄは、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に窪む。第３収容凹部６１ｄは、磁性部材１５２に対して第１方向Ｘに対向する。つまり、第１方向Ｘから見て、第３収容凹部６１ｄと磁性部材１５２とが重なる。

磁石１５１は、第３収容凹部６１ｄに嵌っている。従って、磁石１５１は、第３収容凹部６１ｄに固定される。例えば、磁石１５１は、接着剤又は圧入によって、第３収容凹部６１ｄに固定される。

本実施形態では、磁石１５１は、接着剤によって第３収容凹部６１ｄに固定される。具体的には、図５Ｃ及び図１３に示すように、第３収容凹部６１ｄは、接着剤用凹部６１３を有する。接着剤用凹部６１３は、第３収容凹部６１ｄの中央部に配置される。磁石１５１を第３収容凹部６１ｄに固定する場合、第３収容凹部６１ｄ内に接着剤（図示せず）を配置した後、磁石１５１を第３収容凹部６１ｄの内部に配置する。これにより、接着剤（図示せず）によって、磁石１５１が第３収容凹部６１ｄに固定される。

また、本実施形態では、磁石１５１と第２揺動機構１２０の後述する第２磁石１２１とは、別の部材である。従って、磁石１５１が第２揺動機構１２０を構成する場合と異なり、磁石１５１を磁性部材１５２との間で引力を生じさせる専用の磁石とすることができるため、磁石１５１を磁性部材１５２に接近した位置に配置できる。よって、磁石１５１及び磁性部材１５２を小さくした場合であっても、磁石１５１と磁性部材１５２との間で十分に引力を生じさせることができる。

図１２及び図１３に示すように、第２支持部６０において、一対の側面部６２は、支持本体６１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部６２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。側面部６２は、第２揺動機構１２０の第２コイル１２５が配置される収容穴６２ａを有する。収容穴６２ａは、側面部６２を厚み方向に貫通する。つまり、収容穴６２ａは、側面部６２を第３方向Ｚに貫通する。

背面部６３は、支持本体６１の第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部に配置される。背面部６３は、第１揺動機構１１０の第１コイル１１５が配置される収容穴６３ａを有する。収容穴６３ａは、背面部６３を厚み方向に貫通する。つまり、収容穴６３ａは、背面部６３を第２方向Ｙに貫通する。

ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）８０は、一対の側面部６２の外側及び背面部６３の外側を覆うように配置される。ＦＰＣ８０は、例えば、半導体素子、接続端子及び配線を有する。ＦＰＣ８０は、第１揺動機構１１０の第１コイル１１５及び第２揺動機構１２０の第２コイル１２５に対して、所定のタイミングで電力を供給する。

具体的には、図１１に示すように、ＦＰＣ８０は、基板８１、接続端子８２、補強板８３及び磁性部材８４を有する。基板８１は、例えばポリイミド基板からなる。基板８１は、可撓性を有する。基板８１は、複数のピン挿入孔８１ａを有する。ピン挿入孔８１ａは、第１コイル１１５に対向する。各ピン挿入孔８１ａには、第１コイル１１５のコイルピン（図示せず）が配置される。

接続端子８２は、基板８１に配置される。接続端子８２は、第１揺動機構１１０及び第２揺動機構１２０に対向する。接続端子８２は、図示しないホール素子の端子に電気的に接続される。なお、１つのホール素子に対して例えば４つの接続端子８２が配置される。補強板８３は、基板８１に３つ配置される。補強板８３は、第１揺動機構１１０及び第２揺動機構１２０に対向する。補強板８３は、基板８１が撓むことを抑制する。

磁性部材８４は、基板８１に３つ配置される。２つの磁性部材８４は、第２揺動機構１２０の第２磁石１２１に対向する。第２コイル１２５に通電しない状態において、第２磁石１２１及び磁性部材８４の間には引力が生じる。よって、可動体２は、第２揺動軸線Ａ２を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。また、残り１つの磁性部材８４は、第１揺動機構１１０の第１磁石１１１に対向する。第１コイル１１５に通電しない状態において、第１磁石１１１及び磁性部材８４の間には引力が生じる。よって、可動体２は、第１揺動軸線Ａ１を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。また、第１磁石１１１及び磁性部材８４の間に引力が生じることによって、第２方向Ｙの一方側Ｙ１にホルダ２０が抜け出ることを抑制できる。

図５Ａ及び図５Ｂに示すように、光学ユニット１は、第１揺動機構１１０をさらに有する。第１揺動機構１１０は、第１揺動軸線Ａ１を中心としてホルダ２０を第１支持部３０に対して揺動する。従って、２つの揺動軸線（第１揺動軸線Ａ１及び第２揺動軸線Ａ２）のそれぞれを中心として光学要素１０を容易に揺動できる。第１揺動機構１１０は、第１磁石１１１と、第１コイル１１５とを有する。第１コイル１１５は、第１磁石１１１に対して第２方向Ｙに対向する。

第１磁石１１１は、ホルダ２０及び第２支持部６０の一方に配置される。一方、第１コイル１１５は、ホルダ２０及び第２支持部６０の他方に配置される。従って、第１コイル１１５に電流を流した際に生じる磁場に起因して、第１磁石１１１に力が作用する。そして、ホルダ２０は、第１支持部３０に対して揺動する。よって、第１磁石１１１及び第１コイル１１５を用いた簡素な構成でホルダ２０を揺動できる。本実施形態では、第１磁石１１１は、ホルダ２０に配置される。第１コイル１１５は、第２支持部６０に配置される。第１コイル１１５を第２支持部６０に配置することによって、第１コイル１１５は第２支持部６０に対して揺動しない。従って、第１コイル１１５を例えば第１支持部３０に配置する場合と比較して、第１コイル１１５に対して容易に配線できる。

具体的には、第１磁石１１１は、ホルダ２０の背面２１ｂに配置される。すなわち、第１磁石１１１は、ホルダ２０のうち第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部２０ａに配置される。第１磁石１１１は、ｎ極からなるｎ極部１１１ａと、ｓ極からなるｓ極部１１１ｂとを有する。第１磁石１１１は、第１方向Ｘに分極されている。

第１コイル１１５は、第２支持部６０の背面部６３の収容穴６３ａに配置される。すなわち、第１コイル１１５は、第２支持部６０のうち第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部６０ａに配置される。従って、第１コイル１１５及び第１磁石１１１が光路上に配置されることを抑制できる。よって、第１コイル１１５及び第１磁石１１１によって光路が遮断されることを抑制できる。

第１コイル１１５に通電することによって、第１コイル１１５の周辺に磁場が生じる。そして、第１磁石１１１には磁場に起因する力が作用する。その結果、ホルダ２０及び光学要素１０は、第１揺動軸線Ａ１を中心として、第１支持部３０及び第２支持部６０に対して揺動する。

第２揺動機構１２０は、第２揺動軸線Ａ２を中心として可動体２を揺動する。具体的には、第２揺動機構１２０は、第２揺動軸線Ａ２を中心として第１支持部３０を第２支持部６０に対して揺動する。第２揺動機構１２０は、第２磁石１２１と、第２磁石１２１に対向する第２コイル１２５とを有する。なお、第２磁石１２１は、本発明の「揺動磁石」の一例である。また、第２コイル１２５は、本発明の「揺動コイル」の一例である。第２磁石１２１は、可動体２又は支持体３に配置される。第２コイル１２５は、支持体３又は可動体２に配置される。本実施形態では、第２磁石１２１は、第１支持部３０及び第２支持部６０の一方に配置される。一方、第２コイル１２５は、第１支持部３０及び第２支持部６０の他方に配置される。従って、第２コイル１２５に電流を流した際に生じる磁場により、第１支持部３０は第２支持部６０に対して揺動する。よって、第２磁石１２１及び第２コイル１２５を用いた簡素な構成で第１支持部３０を揺動できる。本実施形態では、第２磁石１２１は、第１支持部３０に配置される。第２コイル１２５は、第２支持部６０に配置される。第２コイル１２５を第２支持部６０に配置することによって、第２コイル１２５は第２支持部６０に対して揺動しない。従って、第２コイル１２５を例えば第１支持部３０に配置する場合と比較して、第２コイル１２５に対して容易に配線できる。

具体的には、第２磁石１２１は、第１支持部３０の側面部３２の収容凹部３２ｆ（図８参照）に配置される。すなわち、第２磁石１２１は、第１支持部３０のうち第１方向Ｘと交差する方向の端部３０ａに配置される。本実施形態では、第２磁石１２１は、第３方向Ｚの端部３０ａに配置される。第２磁石１２１は、ｎ極からなるｎ極部１２１ａと、ｓ極からなるｓ極部１２１ｂとを有する。第２磁石１２１は、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙに分極されている。従って、光の入射方向に沿った第２揺動軸線Ａ２を中心として、可動体２を揺動できる。

第２コイル１２５は、第２磁石１２１に対して第３方向Ｚに対向する。第２コイル１２５は、第２支持部６０の側面部６２の収容穴６２ａ（図１２参照）に配置される。すなわち、第２コイル１２５は、第２支持部６０のうち第３方向Ｚの端部６０ｂに配置される。

第２コイル１２５に通電することによって、第２コイル１２５の周辺に磁場が生じる。そして、第２磁石１２１には磁場に起因する力が作用する。その結果、第１支持部３０、ホルダ２０及び光学要素１０は、第２揺動軸線Ａ２を中心として、第２支持部６０に対して揺動する。

なお、図１に示したように光学ユニット１をスマートフォン２００に用いる場合、スマートフォン２００内のホール素子（図示せず）がスマートフォン２００の姿勢を検知する。そして、第１揺動機構１１０及び第２揺動機構１２０は、スマートフォン２００の姿勢に応じて制御される。また、光学ユニット１は、第２支持部６０に対するホルダ２０の姿勢を検知可能であることが好ましい。この場合、第２支持部６０に対するホルダ２０の姿勢を高精度に制御できる。なお、スマートフォン２００の姿勢を検知するセンサとして、例えばジャイロセンサを用いてもよい。

以下、図１４から図１８を参照して、本実施形態の第１変形例から第４変形例について説明する。以下では、図１から図１３で示した本実施形態と異なる点を主に説明する。

（第１変形例）
図１４及び図１５を参照して、本発明の実施形態の第１変形例を説明する。図１４は、本実施形態の第１変形例に係る光学ユニット１の構造を示す断面図である。第１変形例では、図１から図１３に示した実施形態とは異なり、磁性部材１５２をインサート部品として第１支持部３０を成型する例について説明する。

図１４に示すように、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方は、略全体が可動体２及び支持体３の少なくとも一方に覆われている。言い換えると、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方の表面の略全域が、可動体２及び支持体３の少なくとも一方に覆われている。また、可動体２及び支持体３の少なくとも一方は、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方をインサート部品としてインサート成型することによって形成される。従って、磁石１５１及び磁性部材１５２が剥がれたり位置ずれしたりすることをより抑制できる。

第１変形例では、磁性部材１５２は、略全体が第１支持部３０に覆われている。言い換えると、磁性部材１５２の表面の略全域が、第１支持部３０に覆われている。可動体２及び支持体３の少なくとも一方は、磁性部材１５２をインサート部品としてインサート成型することによって形成される。第１変形例では、第１支持部３０は、磁性部材１５２をインサート部品としてインサート成型することによって形成される。つまり、第１部品（ここでは第１支持部３０）の収容部３０３ａには、磁性部材１５２が配置される。従って、磁石１５１をインサート部品としてインサート成型する場合と異なり、インサート時の熱によって磁石１５１が減磁することを抑制できる。

次に、図１５を参照して、インサート成型について簡単に説明する。図１５は、本実施形態の第１変形例に係る光学ユニット１の第１支持部３０の製造方法を説明するための模式的な断面図である。

図１５に示すように、光学ユニット１の製造方法は、磁石１５１又は磁性部材１５２を金型１０００内に配置する工程と、金型１０００内に樹脂を射出して、可動体２及び支持体３の少なくとも一方を成型する工程と、可動体２を支持体３によって支持させる工程とを有する。可動体２及び支持体３の少なくとも一方を成型する工程によって、可動体２及び支持体３の少なくとも一方は、磁石１５１及び磁性部材１５２の輪郭（縁部）の少なくとも一部を被覆する被覆部３０１を有する。

第１変形例では、磁性部材１５２を金型１０００内に配置する工程と、金型１０００内に樹脂を射出して支持体３を成型する工程と、可動体２を支持体３によって支持させる工程とを有する。第１変形例では、支持体３を成型する工程は、第１支持部３０を成型する工程を有する。

具体的には、金型１０００は、下型である第１金型１００１と、第１金型１００１上に配置される第２金型１００２と、第２金型１００２上に配置される第３金型１００３とを有する。

第１支持部３０を成型する場合、まず、第１金型１００１上の所定位置に磁性部材１５２を配置する。なお、第１金型１００１は、磁性部材１５２を支持する突起等を有するが、図１５では省略している。そして、第１金型１００１上に第２金型１００２を配置する。その後、第２金型１００２上に第３金型１００３を配置する。これにより、図１５に示すように、金型１０００によって第１支持部３０と略同じ形状の空間Ｓ１０００が形成される。磁性部材１５２は、空間Ｓ１０００内に配置される。

次に、空間Ｓ１０００内に樹脂を射出することによって、磁性部材１５２をインサート部品とするインサート成型が行われる。これにより、磁性部材１５２が一体となった第１支持部３０が製造される。

その後、第１支持部３０に、ホルダ２０、予圧部４０及び第２磁石１２１等を取り付けることによって、可動体２を組み立てる。そして、可動体２を支持体３内に配置することによって、被覆部３０１は、磁石１５１と磁性部材１５２との間に配置される。言い換えると、可動体２を支持体３によって支持させる工程において、被覆部３０１は、磁石１５１と磁性部材１５２との間に配置される。

第１変形例のその他の構造及び効果は、図１から図１３に示した実施形態と同様である。

（第２変形例）
図１６を参照して、本発明の実施形態の第２変形例を説明する。図１６は、本実施形態の第２変形例に係る光学ユニット１の構造を示す断面図である。第２変形例では、図１から図１３に示した実施形態とは異なり、収容部３０３ａが可動体２及び支持体３の少なくとも他方側を向く面に配置される例について説明する。

図１６に示すように、第１部材は、可動体２及び支持体３の少なくとも他方側を向く対向面を有する。収容部３０３ａは、対向面から可動体２及び支持体３の少なくとも他方とは反対側に向かって窪む。第２変形例では、第１部材である第１支持部３０は、支持体３側を向く下面３１ｅを有する。収容部３０３ａは、下面３１ｅから支持体３とは反対側（第１方向Ｘの他方側Ｘ２）に向かって窪む。

第２変形例では、第１部材と被覆部３０１とは、互いに異なる部材である。従って、被覆部３０１の材質を第１部材とは異ならせたり、被覆部３０１の厚みを変更したりすることができる。つまり、第１部材及び被覆部３０１の設計自由度を向上できる。第２変形例では、第１部材である第１支持部３０と被覆部３０１とは、互いに異なる部材である。具体的には、収容部３０３ａは、磁性部材１５２及び被覆部３０１を収容する。被覆部３０１は、例えば、磁性部材１５２の下面１５２ａよりも大きい面積を有する板状の部材である。被覆部３０１は、例えば、磁性部材１５２の下面１５２ａの略全域を被覆する。被覆部３０１は、例えば、ネジ等の固定具を用いて第１支持部３０に固定されてもよい。

第２変形例のその他の構造及び効果は、図１から図１３に示した実施形態と同様である。

（第３変形例）
図１７を参照して、本発明の実施形態の第３変形例を説明する。図１７は、本実施形態の第３変形例に係る光学ユニット１の構造を示す断面図である。第３変形例では、図１６に示した第２変形例とは異なり、被覆部３０１がコーティング剤によって構成される例について説明する。

図１７に示すように、第１部材である第１支持部３０と被覆部３０１とは、互いに異なる部材である。具体的には、被覆部３０１は、例えば、コーティング剤によって構成される。被覆部３０１は、例えば、磁性部材１５２の下面１５２ａの輪郭（縁部）の全域を被覆する。被覆部３０１は、例えば、磁性部材１５２の下面１５２ａの全域を被覆してもよい。なお、図１７では、収容部３０３ａを図１６に示した形状と異なる形状に示しているが、収容部３０３ａは図１６に示した形状と同じ形状であってもよい。

第３変形例のその他の構造及び効果は、第２変形例と同様である。

（第４変形例）
図１８を参照して、本発明の実施形態の第４変形例を説明する。図１８は、本実施形態の第４変形例に係る光学ユニット１の構造を示す断面図である。第４変形例では、図１から図１３に示した実施形態とは異なり、被覆部６１５が支持体３に配置される例について説明する。

図１８に示すように、第４変形例では、支持体３は、磁石１５１及び磁性部材１５２の一方が配置される収容部６１２を有する支持本体６１を有する。なお、支持本体６１は、本発明の「第１部材」の一例である。第４変形例では、支持体３は、磁石１５１が配置される収容部６１２を有する支持本体６１と、被覆部６１５とを有する。また、支持本体６１は、可動体２とは反対側を向く反対面（以下、下面６１６と記載する場合がある）を有する。すなわち、第４変形例では、支持本体６１は、第１方向Ｘにおいて対向面６１ａとは反対の位置に、第１方向Ｘの一方側Ｘ１を向く下面６１６を有する。収容部６１２は、下面６１６に配置される。

磁石１５１は、収容部６１２に嵌っている。従って、磁石１５１は、収容部６１２に固定される。例えば、磁石１５１は、接着剤又は圧入によって、収容部６１２に固定される。

なお、収容部６１２は、例えば、図５Ｃに示した収容部３０３ａを第１方向Ｘに反転した構造を有してもよい。また、収容部６１２は、第１変形例から第３変形例の収容部３０３ａを第１方向Ｘに反転した構造を有してもよい。

また、可動体２の収容部３０３ａは、例えば、図５Ｃと同様の構造を有してもよい。また、収容部３０３ａは、第１変形例から第３変形例と同様の構造を有してもよい。また、収容部３０３ａは、図１８に示す構造を有してもよい。この場合、例えば、磁性部材１５２は、接着剤又は圧入によって、収容部３０３ａに固定されてもよい。

第４変形例のその他の構造及び効果は、図１から図１３に示した実施形態と同様である。

以上、図面を参照しながら本発明の実施形態（変形例を含む。）について説明した。但し、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。また、上記の実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることによって、種々の発明の形成が可能である。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。例えば、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の材質、形状、寸法等は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

例えば、上記した実施形態では、磁性部材１５２を可動体２に配置し、磁石１５１を支持体３に配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、磁性部材１５２を支持体３に配置し、磁石１５１を可動体２に配置してもよい。

また、上記した実施形態では、磁性部材１５２全体を収容部３０３ａの内部に配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。磁性部材１５２の一部を収容部３０３ａの内部に配置してもよい。

また、上記した実施形態では、磁石１５１と磁性部材１５２とを、支持体３が可動体２を支持する方向から見て重なるように配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。磁石１５１と磁性部材１５２とを、支持体３が可動体２を支持する方向に対して交差する方向から見て重なるように配置してもよい。

また、上記した実施形態では、光Ｌが光学要素１０に入射する方向に沿った方向（第１方向Ｘ）に、支持体３が可動体２を支持する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、光Ｌが光学要素１０から出射する方向に沿った方向（第２方向Ｙ）に、支持体３が可動体２を支持してもよい。また、光Ｌが光学要素１０に入射する方向及び光学要素１０から出射する方向に対して交差する方向（第３方向Ｚ）に、支持体３が可動体２を支持してもよい。

また、例えば上記した実施形態では、被覆部３０１が磁性部材１５２の輪郭の全域を被覆する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、被覆部３０１が磁性部材１５２の輪郭の一部を被覆してもよい。この場合、例えば、磁性部材１５２の輪郭を等間隔に被覆する複数の被覆部３０１を配置してもよい。

また、上記した実施形態では、磁性部材１５２が磁性体からなる例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、磁性部材１５２は、磁石であってもよい。

本発明は、例えば、光学ユニット及び光学ユニットの製造方法に利用できる。

１ ：光学ユニット
２ ：可動体
３ ：支持体
１０ ：光学要素
３１ ：支持本体（第１部材）
３１ａ ：上面（反対面）
６１ ：支持本体（第１部材）
１２０ ：第２揺動機構（揺動機構）
１２１ ：第２磁石（揺動磁石）
１２５ ：第２コイル（揺動コイル）
１５１ ：磁石
１５２ ：磁性部材
３０１ ：被覆部
３０３ａ ：収容部
６１２ ：収容部
６１５ ：被覆部
６１６ ：下面（反対面）
１０００ ：金型
Ａ２ ：第２揺動軸線（揺動軸線）
Ｌ ：光
Ｘ ：第１方向
Ｘ１ ：一方側
Ｙ ：第２方向
Ｙ１ ：一方側
Ｚ ：第３方向

Claims (11)

1. 光の進行方向を変える光学要素を有する可動体と、
   揺動軸線を中心として揺動可能に、前記可動体を支持する支持体と、
   前記揺動軸線を中心として前記可動体を揺動する揺動機構と、
   前記可動体及び前記支持体の一方に配置される磁石と、
   前記可動体及び前記支持体の他方に配置される磁性部材と
   を有し、
   前記磁石と前記磁性部材とは重なり、
   前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方は、前記磁石と前記磁性部材との間に配置される被覆部を有し、
   前記被覆部は、前記磁石及び前記磁性部材の一方の輪郭の少なくとも一部を被覆する、光学ユニット。
2. 前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方は、前記磁石及び前記磁性部材の一方が配置される収容部を有する第１部材と、前記被覆部とを有し、
   前記第１部材と前記被覆部とは、単一の部材である、請求項１に記載の光学ユニット。
3. 前記第１部材は、前記可動体及び前記支持体の少なくとも他方とは反対側を向く反対面を有し、
   前記収容部は、前記反対面から前記可動体及び前記支持体の少なくとも他方に向かって窪む、請求項２に記載の光学ユニット。
4. 前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方は、前記磁石及び前記磁性部材の一方が配置される収容部を有する第１部材と、前記被覆部とを有し、
   前記第１部材と前記被覆部とは、互いに異なる部材である、請求項１に記載の光学ユニット。
5. 前記磁石及び前記磁性部材の一方は、全体が前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方の内部に配置される、請求項１に記載の光学ユニット。
6. 前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方は、前記磁石及び前記磁性部材の一方が配置される収容部を有する第１部材と、前記被覆部とを有し、
   前記収容部には、前記磁性部材が配置される、請求項５に記載の光学ユニット。
7. 前記磁石と前記磁性部材とは、前記支持体が前記可動体を支持する方向から見て重なる、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学ユニット。
8. 前記光学要素は、第１方向の一方側に進行する光を前記第１方向と交差する第２方向の一方側に反射し、
   前記支持体は、前記可動体を前記第１方向に支持する、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の光学ユニット。
9. 複数の前記磁石及び複数の前記磁性部材を有し、
   前記磁石及び前記磁性部材の各々は、前記第１方向及び前記第２方向と交差する第３方向において、前記揺動軸線を中心として対称に配置される、請求項８に記載の光学ユニット。
10. 前記揺動機構は、
    前記可動体又は前記支持体に配置される揺動磁石と、
    前記支持体又は前記可動体に配置される揺動コイルと
    を有する、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の光学ユニット。
11. 光の進行方向を変える光学要素を有する可動体と、揺動軸線を中心として揺動可能に、前記可動体を支持する支持体と、前記揺動軸線を中心として前記可動体を揺動する揺動機構と、前記可動体及び前記支持体の一方に配置される磁石と、前記可動体及び前記支持体の他方に配置される磁性部材とを有する光学ユニットの製造方法であって、
    前記磁石と前記磁性部材とは重なり、
    前記光学ユニットの製造方法は、
    前記磁石又は前記磁性部材を金型内に配置する工程と、
    前記金型内に樹脂を射出して、前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方を成型する工程と、
    前記可動体を前記支持体によって支持させる工程と
    を有し、
    前記成型する工程によって、前記可動体及び前記支持体の少なくとも一方は、前記磁石及び前記磁性部材の輪郭の少なくとも一部を被覆する被覆部を有し、
    前記支持させる工程において、前記被覆部は、前記磁石と前記磁性部材との間に配置される、光学ユニットの製造方法。

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