JP2022543462A - 効果色の堅牢なカラーマッチングと調整工程のための方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
Description
1.目標色、すなわち目標コーティングのスペクトル曲線(スペクトル曲線)を測定する。
2.サンプル色、すなわちサンプルコーティングのスペクトル曲線(スペクトル曲線)を測定する。
3.目標色及びサンプル色、すなわち目標コーティング及びサンプルコーティングの色値を、例えばCIELab*色空間(Lab*値又はLCh*値)で計算する。
4.目標色及びサンプル色、すなわち目標コーティング及びサンプルコーティング間の色差のメトリック(「コスト関数」)を、すべてのジオメトリ例えばCIEdE*について決定する。
5.色差メトリック(「コスト関数」)が最小になるように(一般的にはカラーマッチングアルゴリズムによって行われる)、サンプルコーティングの配合を変更する。
1.最適でない塗料の配合
2.効果顔料の配向の相違/変動
3.効果顔料の配向の系統的な差
a) 少なくとも1つの通信インターフェースを介して、目標コーティングの比色データ及びサンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、目標コーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された目標コーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、サンプルコーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで決定されたサンプルコーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはグロスジオメトリである、工程と;
1つ以上のプロセッサを使用することによって:
b) 非線形スケーリング関数を用いることによって、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された目標コーティングのスペクトル曲線と、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定されたサンプルコーティングのスペクトル曲線のそれぞれを正規化する工程と;
c) 少なくとも、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値について、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定されたサンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、を生成する工程と;
d) 少なくとも、少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値の各波長値について、目標コーティングの正規化された反射率曲線の正規化された1次微分値と、サンプルコーティングの正規化された反射率曲線の正規化された1次微分値との差値を生成する工程と;
e) 少なくとも1つのグロスジオメトリについて生成された差値に少なくとも基づいて、目標コーティング及びサンプルコーティングの第1マッチメトリックを生成する工程と;
f) 第1マッチメトリックに基づいてマッチメトリックを生成し、生成されたマッチメトリックを出力デバイスに出力する工程と、
を含む。
g)少なくとも1つの通信インターフェースを介して、目標コーティングのさらなる比色データ及びサンプルコーティングのさらなる比色データを取得する工程であって、目標コーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された目標コーティングの比色座標を含み、サンプルコーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで決定されたサンプルコーティングの比色座標を含み、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはフロップジオメトリである、工程と;
そして1つ以上のプロセッサを使用することによって:
h)目標コーティングの比色座標とサンプルコーティングの比色座標に基づいて、少なくとも、少なくとも1つのフロップジオメトリについて色差値を生成する工程と;
i)少なくとも1つのフロップジオメトリについて生成された色差値に少なくとも基づいて、目標コーティングとサンプルコーティングの第2マッチメトリックを生成する工程と;
j)増幅する工程、すなわち、第2マッチメトリックによってマッチメトリックを強化する工程と、
をさらに含む。
k)1つ以上のプロセッサを使用して、マッチメトリックを最小化するように、サンプルコーティングの初期配合を変更する工程、
をさらに含む。
A)コンピューティングデバイスと;
B)コンピュータプログラム製品であって、コンピューティングデバイスに機能的に連結されたコンピュータ可読記憶媒体上に格納され、作動時にコンピューティングデバイスにコンピューティング工程を実行させるコンピュータ実行可能コードを含むコンピュータプログラム製品と、を含み、
コンピューティング工程は以下の工程:
B1)目標コーティングの比色データ及びサンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、目標コーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された目標コーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、サンプルコーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで決定されたサンプルコーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはグロスジオメトリである、工程と;
B2)非線形スケーリング関数を使用することによって、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された目標コーティングのスペクトル曲線と、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定されたサンプルコーティングのスペクトル曲線のそれぞれを正規化する工程と;
B3)少なくとも、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値について、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定されたサンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値とを生成する工程と;
B4)少なくとも、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値の各波長値について、目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、サンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値の間の差値を生成する工程と;
B5)少なくとも1つのグロスジオメトリについて生成された差値に少なくとも基づいて、目標コーティングとサンプルコーティングの第1マッチメトリックを生成する工程と;
B6)第1マッチメトリックに基づいてマッチメトリックを生成し、生成されたマッチメトリックを1つ以上の出力ユニット、すなわち出力デバイスを介して出力する工程と、
を含む。
C)カラー測定デバイスと、
D)コーティング組成物の配合及び相互関連する比色データを含む配合データベースであって;コンピューティングデバイスが、カラー測定デバイス及び配合データベースに機能的に連結されている、配合データベースと、
を含む。コンピューティングデバイスは、入力デバイス及び表示デバイスをさらに含むことができる。
B7)目標コーティングのさらなる比色データ及びサンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、目標コーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された目標コーティングの比色座標を含み、サンプルコーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで決定されたサンプルコーティングの比色座標を含み、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはフロップジオメトリである、工程と;
B8)目標コーティングの比色座標とサンプルコーティングの比色座標に基づいて、少なくとも、少なくとも1つのフロップジオメトリについて色差値を生成する工程と;
B9)少なくとも1つのフロップジオメトリについて生成された色差値に少なくとも基づいて、目標コーティングとサンプルコーティングの第2マッチメトリックを生成する工程と;
B10)増幅する工程、すなわち、第2マッチメトリックによってマッチメトリックを強化する工程と、
をさらに含む。
B11)目標コーティングの比色データに基づいて、配合データベースから1つ以上の予備的マッチング処方を取得する工程と;
B12)マッチメトリックを最小化するように、1つ以上の予備的マッチング処方から少なくとも1つの処方を選択する工程と、
を含む。
B13)マッチメトリックを最小化するように、サンプルコーティングの処方を変更する工程、
をさらに含む。
メタリックコーティングは、自動車産業又は電子製品などのその他の製品の外装仕上げとしてよく使用されている。一般的に、メタリック仕上げは、ポリマーバインダー中に金属フレーク、典型的にはアルミニウムフレークを含む。このようなメタリックコーティングの光学的外観に影響を与える典型的な特性は、金属フレーク及び他の顔料/添加剤のサイズ、形状、表面粗さ、濃度、及び空間的配向である。フレークの配向と、ある程度のフレークの表面粗さは、メタリックコーティングによって散乱される光の分散に影響を与える。フレークの配向は、塗布処理、すなわちコーティング塗布の処理条件に強く依存する。
B1)少なくとも1つの通信インターフェースを介して、目標コーティングの比色データ及びサンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、目標コーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された目標コーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、サンプルコーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで決定されたサンプルコーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはグロスジオメトリである、工程と;
B2)スケーリング関数を使用することによって、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された目標コーティングのスペクトル曲線と、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定されたサンプルコーティングのスペクトル曲線のそれぞれを正規化する工程と;
B3)少なくとも、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値について、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定されたサンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値とを生成する工程と;
B4)少なくとも、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値の各波長値について、目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、サンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値の間の差値を生成する工程と;
B5)少なくとも1つのグロスジオメトリについて生成された差値に少なくとも基づいて、目標コーティングとサンプルコーティングの第1マッチメトリックを生成する工程と;
B6)第1マッチメトリックに基づいてマッチメトリックを生成し、及び生成されたマッチメトリックを、ディスプレイデバイス430などの出力デバイス上/経由でユーザのために出力する工程と;
を含む。
B7)少なくとも1つの通信インターフェースを介して、目標コーティングのさらなる比色データ及びサンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、目標コーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された目標コーティングの比色座標を含み、サンプルコーティングの比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで決定されたサンプルコーティングの比色座標を含み、1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはフロップジオメトリである、工程と;
B8)目標コーティングの比色座標とサンプルコーティングの比色座標に基づいて、少なくとも、少なくとも1つのフロップジオメトリについて色差値を生成する工程と;
B9)少なくとも1つのフロップジオメトリについて生成された色差値に少なくとも基づいて、目標コーティングとサンプルコーティングの第2マッチメトリックを生成する工程と;
B10)第2マッチメトリックによってマッチメトリックを強化する工程と、
をさらに含む。
B11)前記サンプルコーティングの比色データに基づいて、前記配合データベースから1つ以上の予備的マッチング処方を取得する工程と;
B12)前記マッチメトリックを最小化するように、前記1つ以上の予備的マッチング処方から少なくとも1つを選択する工程と、
を含む。
110 カラーコーティング
111 カラーコーティングの表面
112 効果顔料フレーク
114 光源
115 入射光線
116 光線
117 光線
118 光線
210 横軸
220 縦軸
230 -15°での反射率曲線
240 15°での反射率曲線
250 25°での反射率曲線
260 45°での反射率曲線
270 75°での反射率曲線
280 110°での反射率曲線
305,306,307 二重矢印
310 横軸
320 縦軸
330 -15°での反射率曲線
335 -15°での反射率曲線
340 15°での反射率曲線
345 15°での反射率曲線
350 25°での反射率曲線
355 25°での反射率曲線
360 45°での反射率曲線
365 45°での反射率曲線
370 75°での反射率曲線
375 75°での反射率曲線
380 110°での反射率曲線
385 110°での反射率曲線
410 コンピューティングデバイス
415 コンピュータ可読記憶媒体
420 配合データベース
430 出力デバイス
435 入力デバイス
440 カラー測定デバイス
Claims (15)
- 目標コーティング及び少なくとも1つのサンプルコーティングの色のマッチング及び調整のためのマッチメトリックを提供するコンピュータ実装された方法であって、前記方法は少なくとも以下の工程:
a)少なくとも1つの通信インターフェースを介して、前記目標コーティングの比色データ及び前記サンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、前記目標コーティングの前記比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された前記目標コーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、前記サンプルコーティングの前記比色データは、前記1つ以上の測定ジオメトリで決定された前記サンプルコーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、前記1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはグロスジオメトリである、工程と;
1つ以上のプロセッサを使用することによって:
b)スケーリング関数を用いることによって、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された前記目標コーティングの前記スペクトル曲線と、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定された前記サンプルコーティングの前記スペクトル曲線のそれぞれを正規化する工程と;
c)少なくとも、前記1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値について、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された前記目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定された前記サンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、を生成する工程と;
d)少なくとも、前記少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び前記多数の波長値の各波長値について、前記目標コーティングの正規化された反射率曲線の前記正規化された1次微分値と、前記サンプルコーティングの正規化された反射率曲線の前記正規化された1次微分値との間の差値を生成する工程と;
e)前記少なくとも1つのグロスジオメトリについて生成された前記差値に少なくとも基づいて、前記目標コーティング及び前記サンプルコーティングの第1マッチメトリックを生成する工程と;
f)前記第1マッチメトリックに基づいてマッチメトリックを生成する工程と、
を含む、方法。 - 以下の工程:
g)少なくとも1つの通信インターフェースを介して、前記目標コーティングのさらなる比色データ及び前記サンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、前記目標コーティングの前記比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された前記目標コーティングの比色座標を含み、前記サンプルコーティングの前記比色データは、前記1つ以上の測定ジオメトリで決定された前記サンプルコーティングの比色座標を含み、前記1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはフロップジオメトリである、工程と;
前記1つ以上のプロセッサを使用することによって:
h)前記目標コーティングの前記比色座標と前記サンプルコーティングの前記比色座標に基づいて、少なくとも、前記少なくとも1つのフロップジオメトリについて色差値を生成する工程と;
i)前記少なくとも1つのフロップジオメトリについて生成された前記色差値に少なくとも基づいて、前記目標コーティングと前記サンプルコーティングの第2マッチメトリックを生成する工程と;
j)前記第2マッチメトリックによって前記マッチメトリックを増幅する工程と、
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 以下の工程:
k)前記1つ以上のプロセッサを使用して、前記マッチメトリックを最小化するように、前記サンプルコーティングの配合を変更する工程、
をさらに含む、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記サンプルコーティングの前記配合は前記第1マッチメトリックと前記第2マッチメトリックの両方を最小化するように変更される、請求項2又は3に記載の方法。
- 前記目標コーティングと前記サンプルコーティングの両方が効果顔料を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのグロスジオメトリは、-15°、15°及び25°を含む測定ジオメトリの群から選択される、請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのフロップジオメトリは、45°、75°及び110°を含む測定ジオメトリの群から選択される、請求項2~6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1マッチメトリックは、前記1つ以上の測定ジオメトリの前記少なくとも1つのグロスジオメトリについての前記目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線の前記正規化された1次微分値と、前記1つ以上の測定ジオメトリの前記少なくとも1つのグロスジオメトリについての前記サンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線の前記正規化された1次微分値との間の前記差値に基づいて生成され、したがってグロスマッチメトリックを形成する、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第2マッチメトリックは、前記少なくとも1つのフロップジオメトリについて生成された前記色差値に基づいて生成され、したがってフロップマッチメトリックを生成する、請求項2~8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記マッチメトリックは、前記少なくとも1つの測定ジオメトリについて、前記第1マッチメトリックと前記第2マッチメトリックの組み合わせに基づいて生成され、特に、各測定ジオメトリについて前記第1マッチメトリックと前記第2マッチメトリックの加重和によって生成される、請求項2~9のいずれか1項に記載の方法。
- 少なくとも1つのサンプルコーティングの色を目標コーティングにマッチング及び調整するマッチメトリックを提供するシステムであって、前記システムは:
以下:
A)コンピューティングデバイス(410)と;
B)コンピュータプログラム製品であって、前記コンピューティングデバイス(410)に機能的に連結されたコンピュータ可読記憶媒体(415)に格納され、作動時に前記コンピューティングデバイス(410)にコンピューティング工程を実行させるコンピュータ実行可能コードを含むコンピュータプログラム製品と、を含み、
前記コンピューティング工程は以下の工程:
B1)前記目標コーティングの比色データ及び前記サンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、前記目標コーティングの前記比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された前記目標コーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、前記サンプルコーティングの前記比色データは、前記1つ以上の測定ジオメトリで決定された前記サンプルコーティングのスペクトル曲線(複数可)を含み、前記1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはグロスジオメトリである、工程と;
B2)スケーリング関数を使用することによって、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された前記目標コーティングの前記スペクトル曲線と、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定された前記サンプルコーティングの前記スペクトル曲線のそれぞれを正規化する工程と;
B3)少なくとも、前記1つ以上の測定ジオメトリの前記少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び多数の波長値について、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで測定された前記目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値と、前記1つ以上の測定ジオメトリのそれぞれ1つで決定された前記サンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの正規化された1次微分値とを生成する工程と;
B4)少なくとも、前記1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つのグロスジオメトリについて、及び前記多数の波長値の各波長値について、前記目標コーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの前記正規化された1次微分値と、前記サンプルコーティングの正規化されたスペクトル曲線それぞれの前記正規化された1次微分値との間の差値を生成する工程と;
B5)前記少なくとも1つのグロスジオメトリについて生成された前記差値に少なくとも基づいて、前記目標コーティングと前記サンプルコーティングの第1マッチメトリックを生成する工程と;
B6)前記第1マッチメトリックに基づいてマッチメトリックを生成する工程と、
を含む、システム。 - C)カラー測定デバイス(440)と、
D)コーティング組成物の配合及び相互関連する比色データを含む配合データベース(420)とをさらに含み、
前記コンピューティングデバイス(410)が、前記カラー測定デバイス(440)及び前記配合データベース(420)に機能的に連結されている、請求項11に記載のシステム。 - 前記コンピューティング工程が、以下の工程:
B7)前記目標コーティングのさらなる比色データ及び前記サンプルコーティングの比色データを取得する工程であって、前記目標コーティングの前記比色データは、1つ以上の測定ジオメトリで測定された前記目標コーティングの比色座標を含み、前記サンプルコーティングの前記比色データは、前記1つ以上の測定ジオメトリで決定された前記サンプルコーティングの比色座標を含み、前記1つ以上の測定ジオメトリの少なくとも1つはフロップジオメトリである、工程と;
B8)前記目標コーティングの前記比色座標と前記サンプルコーティングの前記比色座標に基づいて、少なくとも、前記少なくとも1つのフロップジオメトリについて色差値を生成する工程と;
B9)前記少なくとも1つのフロップジオメトリについて生成された前記色差値に少なくとも基づいて、前記目標コーティングと前記サンプルコーティングの第2マッチメトリックを生成する工程と;
B10)前記第2マッチメトリックによって前記マッチメトリックを増幅する工程と、
をさらに含む、請求項11又は12に記載のシステム。 - 前記コンピューティング工程は、少なくとも1つのサンプルコーティングの色を目標コーティングにマッチングさせるマッチング工程をさらに含み、前記マッチング工程は、少なくとも以下の工程:
B11)前記目標コーティングの前記比色データに基づいて、前記配合データベース(420)から1つ以上の予備的マッチング処方を取得する工程と;
B12)前記マッチメトリックを最小化するように、前記1つ以上の予備的マッチング処方から少なくとも1つを選択する工程と、
を含む、請求項12又は13に記載のシステム。 - 前記コンピューティング工程は、以下の工程:
B13)前記マッチメトリックを最小化するように、前記サンプルコーティングの処方を変更する工程、
をさらに含む、請求項11~14のいずれか1項に記載のシステム。
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