JP2022526993A - Ｐｅｃｖｄコーティング又は層でコーティングされたコーヒーポッド等の生分解性及び堆肥化可能容器 - Google Patents

Abstract

本開示の実施形態は、堆肥化可能又は生分解性材料で少なくとも部分的に製作された壁であって、内部空間を取り囲む内側表面及び外側表面並びに内側表面、外側表面又は両方の上のＰＥＣＶＤコーティング群を有する壁を含む容器に関する。ＰＥＣＶＤコーティング群は、ＳｉＯｘ（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約１．５～約２．９である）のバリアコーティング又は層を含む。ＰＥＣＶＤコーティング群は、任意選択により、ＳｉＯｘＣｙ（ここで、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）によって測定されて、ｘは、約０．５～約２．４であり、及びｙは、約０．６～約３である）を含む結合コーティング若しくは層、ＳｉＯｘＣｙ（ここで、ＸＰＳによって測定されて、ｘは、約０．５～約２．４であり、及びｙは、約０．６～約３である）を含むｐＨ保護コーティング若しくは層又は両方をさらに含む。容器は、壁の表面とＰＥＣＶＤコーティング群との間にラッカコーティングも含み得る。幾つかの実施形態において、容器は、使い捨てコーヒー又はティーポッドであり得る。

Description

本願は、（ｉ）２０１９年４月５日に出願された米国仮特許出願第６２／８３０，２９９号明細書、（ｉｉ）２０１９年６月７日に出願された米国仮特許出願第６２／８５８，６２５号明細書、及び（ｉｉｉ）２０１９年６月１１日に出願された米国仮特許出願第６２／８６０，０３６号明細書に対する優先権を主張するものであり、その各々の全体は、参照により本願に援用される。本明細書中で引用される全ての他の参照文献もその全体が参照により援用される。

本発明は、改善された気体及び／又は水蒸気遮蔽特性を有する堆肥化可能又は生分解性材料で製作される、ＰＥＣＶＤでコーティングされた容器の技術分野に関する。本発明は、堆肥化可能又は生分解性材料からの改善された溶出物プロファイルを有する堆肥化可能又は生分解性材料で製作される、ＰＥＣＶＤでコーティングされた容器にも関する。

本発明は、改善された気体及び／又は水蒸気遮蔽特性、改善された溶出物プロファイル、低減されたフレーバスカルピング、ヘッドスペースガスの低減された変化及び／又はより長い保管寿命を提供するＰＥＣＶＤコーティング群でコーティングされた表面を有する使い捨てコーヒーポッドにさらに関する。使い捨てコーヒーポッドは、堆肥化可能又は生分解性材料で製作され得、且つＰＥＣＶＤコーティング群の適用後に堆肥化可能又は生分解可能なままであり得る。

本発明は、コーティングされた容器を製作する方法にさらに関する。本発明は、コーティングされた容器の使用にも関する。

食品、飲料又は医薬品用コンテナの製造における１つの重要な検討事項は、内容物が、通常、長い保管寿命を有していなければならないことである。多くの場合、内容物は、空気、酸素、水分又は他の環境要因の影響を受けやすい。この保管寿命中、コンテナに入った内容物を酸素及び水分等の大気から隔離することが重要である。コンテナの壁材料からの溶出物をブロックすることも重要である。したがって、容器の遮蔽特性は、これらの用途において決定的に重要である。

ガラスは、高い遮蔽特性を提供する。しかしながら、これは、製造中、充填作業中、出荷時及び使用時に壊れやすいか又は内容物の劣化が生じやすく、これは、ガラス粒子が内容物に混入する可能性があることを意味する。ガラス粒子の存在は、多くの場合、ＦＤＡ警告状の発行及び製品リコールの理由となっている。その結果、医薬品及び食品業界では、一部の企業がプラスチック製パッケージに移行しており、これは、ガラスより寸法公差が大きく、壊れにくい。

しかしながら、ガラス及びプラスチックは、何れも環境上の問題の原因となる。これらは、自然分解も消化もできない。食品及び飲料用途において人気の高いプラスチック包装材、例えばポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）は、真の意味で分解することは決してない。ポリエチレンが自然分解するには、最大で１，０００年かかる可能性がある。プラスチックが自然分解するまでの長さは、様々であり得、平均して約４５０年かかる。

従来のプラスチックは、ほぼ永久に存在し、汚染及び毒作用又は動物の被害の原因となる。一層多くの企業が、包装のニーズを満たすために堆肥化可能又は生分解性材料に移行している。多くの堆肥化可能又は生分解性材料は、トウモロコシ、ジャガイモ若しくはタピオカ等のでんぷん、セルロース、大豆たんぱく質、乳酸、木材、竹若しくは他の木材様繊維製品又はひまわり種殻／外皮といった再生可能な原材料から得られる。米国特許出願公開第２０１６／０１０８１８７ Ａ１号明細書及び米国特許第１０，１７３，３５３ Ｂ２号明細書は、例えば、ひまわり種殻又はひまわり種外皮に基づく堆肥化可能又は生分解性材料を記載している。

しかしながら、従来のプラスチックと同様に、医薬品及び食品／飲料業界での堆肥化可能又は生分解性材料の使用には、幾つかの欠点がある。第一に、ほとんどの堆肥化可能又は生分解性材料の遮蔽特性は低い。これらの材料では、酸素等の小分子の気体及び水分子が製品の内部に（又はその中から外に）透過する可能性がある。多くの場合、包装材内の内容物は、酸素及び水分の影響を受けやすい。他の問題は、包装材料からの溶出物が、包装材に収容された薬剤又は食品／飲料中に移動することである。例えば、コーヒー及びティーポッド（カプセルとも呼ばれる）又は他の抽出カップの場合、遮蔽特性は、非常に重要であり、それは、コーヒー及び紅茶が、保管中に風味を変化させる可能性のある酸素、水分及び溶出物の影響をきわめて受けやすいからである。

従来のプラスチック包装材、例えばコーヒーＫ－ＣＵＰＳ（登録商標）、ＮＥＳＰＲＥＳＳＯ（登録商標）コーヒーポッド等並びにケチャップ等の消耗品のためのボトル及び一回分用コンテナの場合、透過性の問題は、多層プラスチック材料の使用で対処されている。同様に、遮蔽特性の問題に対処するために、堆肥化可能又は生分解性多層材料が開発されており、これは、例えば、米国特許出願公開第２００７／００４２２０７ Ａ１号明細書に記載されている。

しかしながら、多層の堆肥可能又は生分解性材料で製作された包装材は、成型が難しく、製造コストが高い。加えて、多層の堆肥化可能又は生分解性材料の使用は、溶出物の問題に対処しない。

本発明は、堆肥化可能又は生分解性材料で製作された容器（すなわち包装材）の壁表面にプラズマ励起化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって堆積される１つ又は複数の薄いコーティング又は層を提供することにより、医薬品又は食品／飲料用包装材の透過性及び溶出物の問題に対処する。

本発明のある態様は、堆肥化可能又は生分解性材料で製作される壁を有する容器である。壁は、内部空間の少なくとも一部を取り囲む内面、外面及び内面若しくは外面又は両方の上のＰＥＣＶＤコーティング群を有する。ＰＥＣＶＤコーティング群は、ＳｉＯｘ（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約１．５～約２．９である）の少なくとも１つのバリアコーティングを含む。任意選択により、内部空間は、閉鎖手段によって閉じられる。

任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、ＳｉＯｘＣｙＨｚ（又はその均等なＳｉＯｘＣｙ）（ここで、ｘは、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）によって測定されて約０．５～約２．４であり、ｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３であり、及びｚ（定義されている場合）は、ラザフォード後方散乱分光測定法（ＲＢＳ）又は水素前方散乱（ＨＦＳ）の少なくとも一方によって測定されて約２～約９である）を含む結合コーティング又は層をさらに含み、ＳｉＯｘバリアコーティング又は層は、結合コーティング又は層の上にあり、すなわち、結合コーティング又は層は、容器の壁とＳｉＯｘバリアコーティング又は層との間に位置付けられる。

任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、ＳｉＯｘＣｙＨｚ（又はその均等なＳｉＯｘＣｙ）（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約０．５～約２．４であり、ｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３であり、及びｚ（定義されている場合）は、ＲＢＳ又はＨＦＳの少なくとも一方によって測定されて約２～約９である）のｐＨ保護コーティング又は層をさらに含み、ｐＨ保護コーティング又は層は、ＳｉＯｘバリアコーティング又は層の上、すなわちバリアコーティング又は層と、コーティング群が容器の内面上又はバリアコーティング若しくは層の上にある場合には内部空間との間及びコーティング群が容器壁の外面上にある場合には容器の外部との間にある。

任意選択により、壁表面処理、例えばラッカコーティング又は層は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下で壁上に直接堆積される。

任意選択により、壁は、単層構造の堆肥化可能又は生分解性材料で製作される。

任意選択により、容器は、食品コンテナ、コーヒー若しくは紅茶抽出カップ、使い捨てコーヒー若しくはティーポッド（カプセル）、管、ボトル、ジャー、食品パッケージ、ブリスタパッケージ、パウチ等の柔軟パッケージなどである。

本発明の他の態様は、以下の説明及び特許請求の範囲から明らかになるであろう。

定義
本発明に関して、以下の定義及び略語が使用される。

本発明に関する「生分解性」とは、細菌、真菌類及び藻類等の自然発生する微生物の作用により分解する（細分される）材料を指す。これには、米国試験材料協会（ＡＳＴＭ）によりＡＳＴＭ Ｄ６４００おいて示された「生分解性プラスチック」のＡＳＴＭ定義（「細菌、真菌類及び藻類等の自然発生する微生物の作用の結果として分解が起こる分解可能プラスチック」）及び／又はＥＮ ＩＳＯ ４７２：２００１において示された国際標準化機関（ＩＳＯ）（「分解により、細菌、真菌類及び藻類等の自然発生する微生物の作用により生成される、より低分子量の断片となる分解可能プラスチック」）を満たす材料が含まれる。

本発明に関する「堆肥化可能」とは、堆肥化中、酸素の存在下で制御された条件下において微生物及びマクロ生物の作用によって起こる生物学的プロセスにより分解し（細分され）、堆肥と呼ばれる腐植土様の物質を生成する材料を指す。これには、米国試験材料協会（ＡＳＴＭ）によりＡＳＴＭ Ｄ６４００において示された「堆肥化可能プラスチック」のＡＳＴＭ定義（「堆肥化中に生物学的プロセスにより分解し、他の既知の堆肥化可能材料と同程度の速度で二酸化炭素、水、無機化合物及びバイオマスを生成し、視覚的に識別可能又は有毒な残留物を残さないプラスチック」）、ＳＩＯ／ＤＩＳ １７０８８に記載された国際標準化機関（ＩＳＯ）（同じ）を満たす材料が含まれる。これには、ＥＮ １３４３２、ＡＳＴＭ Ｄ６４００、ＡＳ ４７３６、ＡＳ ５８１０等により設定されているような、家庭用堆肥化可能性及び／又は商業的／産業的堆肥化可能性に関する標準を満たす材料が含まれる。「堆肥化可能」は、「生分解性」の部分集合であり、すなわち、堆肥化可能材料は、生分解性を有するが、全ての生分解性材料が必ずしも堆肥化可能であるとは限らないことに留意されたい。

欧州規格ＥＮ １３４３２には、（ｉ）材料は、材料から二酸化炭素への実際の代謝変換を測定することによって堆肥化可能であるとみなされること、（ｉｉ）材料は、６カ月未満で材料が９０％生分解した場合に生分解可能と特徴付けられること、（ｉｉｉ）材料はまた、材料を３か月後に２．０－ｍｍのふるいにかけたとき、残留物の高さが２ｍｍを超えてはならない（これは、材料の当初の質量の１０％未満でなければならない）という堆肥化試験（ＥＮ １４０４５）に合格しなければならないこと、（ｉｖ）堆肥化プロセスにマイナスの影響を与えず、重金属のレベルが低くなければならないこと、（ｖ）材料は、試験材料を比較用堆肥と同じでなければならない植物成長試験（改正ＯＥＣＤ ２０８）に合格しなければならないことが明記されている。これらの各種の要求事項の全てを同時に満たさなければ、堆肥化可能と定義して、欧州規格ＥＮ １３４３２を満たすことができない。特に、ＥＮ １３４３２では、堆肥化可能材料の１重量％を超えない添加物に関して、より緩和された制約を規定している。ＥＮ １３４３２によれば、「製品中の存在量が質量で１％を超えない各添加物については、化学物質等安全データシート（ＭＳＤＳ）及び定量的重金属分析による堆肥化プロセスへの適性の指定のみが必要である」。

ＡＳＴＭ Ｄ６４００、堆肥化可能プラスチックの標準仕様の６．２項によれば、プラスチック製品は、制御された堆肥化試験中、１２か月後に２．０－ｍｍふるいにかけて残ったものがその当初の乾燥状態の重量の１０％以下である場合に崩壊したとみなされる。堆肥化条件は、ＣＯ２捕捉コンポーネントを用いずに試験法Ｄ５３３８を実行すること又はＩＳＯ １６９２９を実行することにより実験室の好熱性微生物において生成した。

ＲＦは、無線周波数である。

本発明に関する「少なくとも」という用語は、その用語に続く整数「と等しいか又はそれより多い」ことを意味する。「含む」という単語は、他の要素又はステップを排除せず、不定冠詞「１つの（ａ）」又は「１つの（ａｎ）」は、特に別段の指示がない限り、複数を排除しない。パラメータの範囲が示されている場合には常に、範囲の両端及び前記範囲内に含まれるそのパラメータの全ての値として示されるパラメータの値を開示することが意図される。

例えば潤滑剤の堆積物、加工ステーション又は加工装置への「第一の」及び「第二の」又はこれに類する言及は、存在する最小の数の堆積物、加工ステーション又は加工装置を指すものであり、必ずしも堆積物、加工ステーション及び装置の順序又は総数を表しておらず、また明示されている数を超えた追加の堆積物、加工ステーション及び装置も要求していない。これらの用語は、加工ステーション又はそれぞれのステーションで実行される特定の加工の数を限定しない。例えば、本明細書に関する「第一の」堆積物とは、唯一の堆積物又は複数の堆積物の何れか１つの何れかであり得、またこれらに限定されない。換言すれば、「第一の」堆積の記述により、第二の又はそれ以降の堆積物も有する実施形態が許容され得るが、必ずしも必須ではない。

本発明の解釈において、「誘起シリコン前駆体」とは、以下の連鎖の少なくとも１つを有する化合物である。

これは、４価ケイ素原子が酸素又は窒素原子と有機炭素原子（有機炭素原子は、少なくとも１つの水素原子と結合された炭素原子である）に連結されたものである。ＰＥＣＶＤ装置に蒸気として供給可能な前駆体として定義される揮発性有機ケイ素前駆体は、任意選択の有機ケイ素前駆体である。任意選択により、有機ケイ素前駆体は、直鎖状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン及びこれらの前駆体の何れか２つ以上の組合せからなる群から選択される。

ＰＥＣＶＤ前駆体、ガス状反応物質又はプロセスガス及び搬送ガスの供給量は、本明細書及び特許請求の範囲において「標準状態体積」として表現されることがある。チャージの標準状態体積又はガスの他の一定量とは、一定量のガスが標準温度及び圧力（実際の供給温度及び圧力を考慮しない）で占める体積である。標準状態体積は、異なる体積単位を用いて測定でき、それも依然として本開示及び特許請求の範囲の範囲に含まれる。例えば、同じ一定量のガスは、標準状態立方センチメートルの数、標準状態立方メートルの数又は標準状態立方フィートの数として表現できる。標準状態体積は、異なる標準温度及び圧力を用いて定義することもでき、それも依然として本開示及び特許請求の範囲の範囲に含まれる。例えば、標準温度は、０℃であり得るか、標準圧力は、７６０トール（従来どおり）であり得るか、又は標準温度は、２０℃であり得、標準圧力は、１トールであり得る。しかし、各場合に何れの標準状態が使用されても、特定のパラメータを指定せずに２つ以上の異なるガスの相対量を比較する際、特に別段の指示がない限り、各ガスに同じ体積、標準温度及び標準圧力の同じ体積が使用されることになる。

ＰＥＣＶＤ前駆体、ガス状反応物質又はプロセスガス及び搬送ガスの対応する供給速度は、本明細書では単位時間あたりの標準状態体積で表現される。例えば、実施例において、供給速度は、標準状態立方センチメートル毎分、略してｓｃｃｍで表される。他のパラメータと同様に、秒又は時間等の他の時間単位も使用できるが、２つ以上のガスの流量を比較する際、別段の指示がない限り、一貫したパラメータを使用するものとする。

本発明に関する「容器」とは、少なくとも１つの開口及び内面又は内側表面を画定する壁を有するあらゆる種類の容器であり得る。基板は、内部空間を有する容器の壁であり得る。基板表面は、少なくとも１つの開口及び内面又は内側表面を有する容器の内面又は内側表面の一部又は全部であり得る。本発明は、必ずしも特定の容積の医薬品用パッケージ又は他の容器に限定されないが、内部空間の空隙容積が０．５～５０ｍＬ、任意選択により１～１０ｍＬ、任意選択により０．５～５ｍＬ、任意選択により１～３ｍＬである医薬品用パッケージ又は他の容器が想定される。医薬品用パッケージの幾つかの例としては、バイアル、プラスチックコートバイアル、シリンジ、プラスチックコートシリンジ、ブリスタパック、アンプル、プラスチックコートアンプル、カートリッジ、ボトル、プラスチックコートポトル、パウチ、ポンプ、スプレイヤ、ストッパ、針、プランジャ、キャップ、管、ステント、カテーテル又はインプラントが含まれるが、これらに限定されない。同様に、本発明は、特定の形状又は容積の食品若しくは飲料用コンテナ又は他の容器に限定されないが、コーヒー又は紅茶抽出カップ、使い捨てコーヒー又はティーポッド（カプセル）、ボトル、ジャー、柔軟な食品用パッケージ（例えば、パウチ）及び他の食品用コンテナも想定される。

本発明に関する「少なくとも」という用語は、この用語に続く整数「と等しいか又はそれより多い」ことを意味する。したがって、本発明に関する容器は、１つ又は複数の開口を有する。サンプルチューブ（１つの開口）又はシリンジバレル（２つの開口）のように１つ又は複数の開口が好ましい。容器が２つの開口を有する場合、これらは、同じ又は異なるサイズであり得る。２つ以上の開口がある場合、１つの開口は、本発明によるＰＥＣＶＤコーティング群方法のためのガス吸込み口として使用でき、他の開口は、キャップが付けられるか又は開放している。

容器は、何れの形状でもあり得、その開放端の少なくとも一方に隣接する実質的に円筒形の壁を有する容器が好ましい。一般に、容器の内壁は、例えば、コーヒー又はティーポッドのように円筒形である。

ｗ、ｘ、ｙ及びｚのこれらの値は、本明細書全体を通して実験的組成物ＳｉｗＯｘＣｙＨｚに適用される。本明細書を通して使用されるｗ、ｘ、ｙ及びｚの値は、分子中の原子の数又は種類に関する限定としてではなく、比又は経験式（例えば、コーティング又は層の）として理解すべきである。例えば、分子組成Ｓｉ４Ｏ４Ｃ８Ｈ２４を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、分子式におけるｗ、ｘ、ｙ及びｚの各々を最大公約数４で割ることによって得られる以下の経験式により説明できる：Ｓｉ１Ｏ１Ｃ２Ｈ６。ｗ、ｘ、ｙ及びｚの値はまた、整数に限定されない。例えば、分子組成Ｓｉ３Ｏ２Ｃ８Ｈ２４の（非環式）オクタメチルトリシロキサンは、Ｓｉ１Ｏ０．６７Ｃ２．６７Ｈ８に換算できる。また、ＳｉＯｘＣｙＨｚは、ＳｉＯｘＣｙの均等物として説明されるが、それは、必ずしもＳｉＯｘＣｙの存在を示すために何れかの割合での水素の存在を示すとは限らない。

ＢＩＦは、コーティングなしの基板を通したガス等加速度対コーティング基板を通したガス等加速度の比と定義される。例えば、コーティング容器の水蒸気透過に関するＢＩＦは、ＷＶＴＲ（コーティングなし）／ＷＶＴＲ（コーティング）の比である。

本明細書に関する「水蒸気バリアコーティング又は層（ＷＶＢＣ）」とは、コーティング基板の水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）をコーティングなしの基板と比較して低下させるコーティング又は層を意味する。

「水蒸気バリアコーティング又は層（ＷＶＢＣ）」は、「水蒸気バリアコーティング又は層（ＷＢＣ）」とも呼ばれることがある。本明細書において、ＷＶＢＣは、ＷＢＣと互換可能である。

「ぬれ張力」とは、表面の疎水性又は親水性の特定量である。本発明に関する任意選択によるぬれ張力測定方法は、ＡＳＴＭ Ｄ ２５７８又はＡＳＴＭ Ｄ ２５７８に記載されている方法の変更型である。この方法は、標準的ぬれ張力試験液（ダイン溶液と呼ばれる）を用いて、プラスチックフィルム表面を正確に２秒間ぬらすのに最も近い溶液を特定するものである。これは、そのフィルムのぬれ張力である。採用される手順は、基板が、平坦なプラスチックフィルムではなく、「ＰＥＴ管体形成に関するプロトコル」に従って製作され、「管体内部を疎水性コーティング又は層で被覆することに関するプロトコル」（欧州特許第２２５１６７１Ａ２号明細書の実施例９を参照されたい）に従って被覆された管体である点でＡＳＴＭ Ｄ ２５７８と異なる。

原子比率は、ＸＰＳにより特定できる。そのため、ＸＰＳでは測定されないＨ原子を考慮すると、コーティング又は層は、１つの態様において、例えばＳｉｗＯｘＣｙＨｚ（またその均等なＳｉＯｘＣｙ）（ここで、ｗは、１であり、ｘは、約０．５～約２．４であり、ｙは、約０．６～約３であり、及びｚは、約２～約９である）を有し得る。典型的に、このようなコーティング又は層は、したがって、炭素プラス酸素プラスケイ素１００％に正規化される３６％～４１％の炭素を含む。

「三重コーティング又は層」とは、結合層、ＳｉＯｘバリアコーティング又は層及びｐＨ保護層を含むＰＥＣＶＤコーティング群を指す。

「含む」という単語は、他の要素又はステップを排除しない。

不定冠詞「１つの（ａ）」又は「１つの（ａｎ）」は、複数を排除しない。

医薬品又は食品用包装業界では、「ヘッドスペース」とは、製品で占有されていないパッケージの内側空間を指す。この空間内の大気は、ヘッドスペースガスと呼ばれる。ヘッドスペース（ガス）分析は、ヘッドスペースガス、例えばガスの成分の測定である。ヘッドスペースガス分析は、食品、飲料及び医薬品業界の品質管理プロセスにとって重要である。

この種のヘッドスペース分析を行うために、ガスクロマトグラフィ（ＧＣ）又はガス液体クロマトグラフィ（ＧＬＣ）法が使用されることが多い。

例えば、パッケージに入れられたコーヒーは、ヘッドスペース中に香りを発生させる。ヘッドスペース分析は、保管中に品質、例えば風味をモニタし、保持するために重要である。

フレーバスカルピングとは、包装材中の内容物の風味が、その揮発性の風味が包装材により吸収若しくは吸着されるか、又は内容物がその包装材料からの望ましくない風味を吸収することの何れかにより変化することを説明するために使用される。古典的な例は、食品又はドリンクがプラスチック容器に長期間保管された場合に包装のプラスチックの風味が吸収又は吸着されることである。

コンテナ材料、例えばプラスチック、生分解性／堆肥化可能壁材料からの溶出物は、コーヒーの品質のマイナスの影響を与える可能性がある。

本発明において、ＰＥＣＶＤコーティングは、容器壁の材料の溶出物が内容物又はヘッドスペース中に入ることをブロックできる。加えて、ＰＥＣＶＤコーティングは、フレーバスカルピングも防止できる。

ＰＥＣＶＤコーティング群でコーティングされた容器壁を有する容器の断面略図である。 図１の詳細図であり、図１によるオプション、すなわち壁２１４上の内側及び外側コーティングを示す。 図２と同様の詳細図であり、図１による他のオプション、すなわち壁２１４上の内側コーティングのみを示す。 図１により任意選択によってコーティング可能なコーヒーポッドの斜視図である。 図１により任意選択によってコーティング可能な使い捨てケチャップコンテナの斜視図である。 図１～５の容器をＰＥＣＶＤコーティングするために有用な装置の概略斜視図である。

下記の参照符号が本明細書で使用される。

ここで、幾つかの実施形態が示されている添付の図面を参照しながら、本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明は、様々な形態で具現化でき、本明細書に記載の実施形態に限定されないと解釈すべきである。さらに、これらの実施形態は、本発明の例であり、その完全な範囲は、特許請求の範囲の文言により示される。全体を通して、同様の番号は、同様の又は対応する要素を示す。以下の本開示は、明確に特定の実施形態に限定されない限り、全ての実施形態に関係する。米国特許第７，９８５，１８８号明細書、ＰＣＴ国際特許出願米国特許出願公開第２０１６／０４７６２２号明細書、ＰＣＴ国際特許出願米国特許出願公開第２０１４／０２３８１３号明細書、米国特許第９，５５４，９６８号明細書、ＰＣＴ国際特許出願米国特許出願公開第２０１７／０２６５７５号明細書及び国際公開第２０１７／０８７０３２号パンフレットの全体及び図面が参照により本願に援用される。援用する特許及び出願は、本発明を、場合により本願において改変された状態で実行するなかで一般的に使用可能な装置、容器、前駆体、コーティング又は層及び方法（特にコーティング方法及びコーティング又は層を検査するための試験方法）を記載している。

ＰＥＣＶＤを実行するための様々な種類の装置が当業者の間で知られている。本開示は、明確な別段の断りがない限り、何れの特定の装置又は方法にも限定されない。図６は、例えば、ＰＥＣＶＤコーティング、層又は処理を複数の容器３２の内側及び／又は外側表面に適用するために使用可能な１つのこのようなＰＥＣＶＤコーティング機９を示す。図６において容器を処理するために使用されるプロセスでは、無線周波数（ＲＦ）プラズマシステムが用いられる。システムは、ガス送達入口、真空ポンプ及びマッチングネットワークを有するＲＦ電源を有する。容器は、内側表面がプラズマに面し、外側表面がプラズマと反対に面し、それから遮断される向きで示されている。

図６は、プラズマＰＥＣＶＤコーティング機９を示し、流体源１２（この例では、処理空間１０内に軸方向に突出する管状流体入口１３であるが、他の流体源、例えば「シャワーヘッド」型流体源も想定される）を有する、反応室壁１１により画定され、取り囲まれる処理空間１０を含む。この実施形態の反応室壁１１には、着脱式の蓋１９が設けられており、これは、容器を挿入するか又は取り出すように開けることができ、またプロセスを収容し、任意選択により処理空間を空にするように密閉することができる。１つの実施形態において、流体源１２は、金属材料で製作され、電気的に接地され、また内部電極の形態でアプリケータとしての機能も果たし得る。周知のように、プラズマは、任意選択により、内部電極なしに生成され得る。

供給ガスが処理空間１０に供給された。プラズマ反応室は、処理空間１０を少なくとも部分的に空にするために真空源２２の任意選択の特徴を含んでいた。図のように、プラズマ反応室壁１１は、プラズマ反応室の少なくとも一部を取り囲む外側アプリケータ又は電極の形態のアプリケータ２３としても機能した。プラズマエネルギ源１８は、この例では、無線周波数（ＲＦ）源であり、反応室壁１１により画定されるアプリケータ２３及び流体源１２に連結され、ガスを励起してプラズマを形成するためのパワーを提供した。プラズマゾーン１５は、目に見えるグロー放電を形成し、これは、流体源１２に近接するプラズマ境界２０によって限定された。遠隔変換プラズマ領域２４としても知られるアフタグロー領域は、目に見えるグロー放電の境界２０の半径方向又は軸方向に外側にあり、処理される基板を越えて延びる領域である。

外側表面２８及び内側表面３０を有するコーヒーポッド又は他の容器３２は、ポッドホルダ１４の前面１６上のウェルにセットされたとき、処理が望まれる表面（例えば、図の実施形態の内側表面３０）が流体源１２に面し、反対の表面（例えば、図の実施形態の外側表面２８）が流体源１２と反対に面するような向きにされ得る。容器３２の外側表面２８は、それ自体の内側表面３０によってシールドされて、外側表面２８が流体源１２の直接的な「視線」内に入らないようになっていることができる。このようにして、プロセスは、容器３２の外側表面２８を処理するために遠隔変換プラズマ（直接プラズマと対照的）に依存し得る。他の実施形態において、外側表面２８は、ポッドホルダ１４又は他の何れかの外側要素の一部によって取り囲まれ得、それにより、これらは、プラズマ（遠隔プラズマを含む）から完全に又は実質的に完全にシールドされ、コーティングされないままとなる。

また別の実施形態において、ポッドホルダ１４は、逆転され得、それにより、ポッドホルダ１４の前面１６及びしたがってウェルは、流体源１２の反対に面し、この場合、処理が望まれる表面（例えば、内側表面３０）は、遠隔プラズマによってコーティングされ得る。このような実施形態において、外側表面２８は、例えば、上述のようにポッドホルダ１４又は他の外側要素の一部によりシールドされ得、コーティングされないままとなる。そうでなければ、外側表面２８は、直接プラズマにさらされ得る。

前述の実施形態は、内側表面３０が、処理が望まれる表面であるものとして説明されているが、他の実施形態では、容器３２の外側表面が、処理が望まれる表面であり得ることが認識されるべきである。また別の実施形態において、処理は、容器３２の内側表面３０と外側表面２８との両方で望ましいことがあり得、この場合、容器ホルダ１４は、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティングプロセス中に（例えば、各層の堆積中に自動的に又は層若しくはコーティング群の堆積中の１つ若しくは複数の時点で手作業により）回転され得る。

本発明の１つの態様は、堆肥化可能又は生分解性材料で製作された壁を有する容器である。壁は、内部空間の少なくとも一部を取り囲む内側表面、外側表面及び内側表面若しくは外側表面又は両方の上のプラズマ励起化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によるコーティング群を有する。ＰＥＣＶＤコーティング群は、ＳｉＯｘ（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約１．５～約２．９である）の少なくとも１つのバリアコーティング又は層を含む。任意選択により、内部空間は、閉鎖手段によって閉鎖される。

任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、壁内側表面上にＳｉＯｘＣｙＨｚ（又はその均等なＳｉＯｘＣｙ）（ここで、ｘは、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）によって測定されて約０．５～約２．４であり、ｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３であり、及びｚ（定義されている場合）は、ラザフォード後方散乱分光測定法（ＲＢＳ）又は水素前方散乱（ＨＦＳ）の少なくとも一方によって測定されて約２～約９である）の結合コーティング又は層をさらに含み、ＳｉＯｘバリアコーティング又は層は、結合コーティング又は層の上にある。

任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、ＳｉＯｘＣｙＨｚ（又はその均等なＳｉＯｘＣｙ）（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約０．５～約２．４であり、ｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３であり、及びｚ（定義されている場合）は、ＲＢＳ又はＨＦＳの少なくとも一方によって測定されて約２～約９である）のｐＨ保護コーティング又は層をさらに含み、バリアコーティング又は層と内部空間との間に位置付けられる。

任意選択により、表面処理コーティング又は層、例えばラッカコーティング又は層は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下で生分解性壁上に直接堆積される。場合により、生分解性／堆肥化可能壁上に直接堆積されたＰＥＣＶＤコーティング又は層は、最適な遮蔽特性を提供しないことがあり得る。例えば、ＰＥＣＶＤコーティング又は層が、ひまわり種子の殻／外皮で製作された容器壁（例えば、ドイツ、ラドベルゲンのＴｈｅ Ｇｏｌｄｅｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ ＧｍｂＨからＧｏｌｄｅｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ Ｇｒｅｅｎ（商標）として入手可能）の上に直接堆積された場合、最適な遮蔽特性が得られなかった。理論に拘束されることなく、これは、壁の表面粗さによる可能性が高いと考えられ、これは、生分解性及び堆肥化可能材料において一般的である。これは、一部に天然の生分解性／堆肥化可能材料からの油脂にもより得、これは、ＰＥＣＶＤコーティング又は層が壁に接着することを妨害する。この問題に対処するために、壁の表面は、表面の平滑さを高めるために処理され、例えばラッカ又は他のコーティングが生分解性／堆肥化可能壁上に直接堆積され、その後、表面コーティング上にＰＥＣＶＤコーティング又は層が堆積される。表面処理は、刷毛塗り塗装、浸漬、噴霧等により適用できる。

任意選択により、表面処理（例えば、ラッカ）及びＰＥＣＶＤコーティング群は、壁の内側表面若しくは壁の外側表面又は両方に堆積される。

図１により最も広く示されている本発明のある態様は、容器２１０であり、これは、内部空間２１２を取り囲み、少なくとも１つの容器コーティング群２８５又は３０１、任意選択により両方を支持する壁２１４を含む。容器は、例えば、食品コンテナ、コーヒーカップ、使い捨てコーヒーポッド、任意選択によりバイアル、管、ボトル、ジャー、食品パッケージ、ブリスタパッケージ又は柔軟パッケージであり得る。容器は、任意選択により、蓋２２６を有する。

任意選択により、図１～３に示されているように、容器２１０は、壁２１４の内表面２７８に適用された内表面処理（例えば、ラッカ）コーティング又は層２２４と、任意選択により内側ラッカコーティング又は層２２４に適用された内側ＰＥＣＶＤコーティング群２８５とを有する。他の選択肢として、図１及び２のみに示されているように、容器２１０は、壁２１４の外表面２１６に適用された外側表面処理（例えば、ラッカ）コーティング又は層２２４と、外側ラッカコーティング又は層２２４に任意選択により適用された三層２２０等の外側ＰＥＣＶＤコーティング群とを有する。また別の選択肢として、図１及び２のみに示されているように、容器は、壁２１４の内及び外表面２７８及び２１６に適用された内及び外表面処理（例えば、ラッカ）コーティング又は層２８８と、内側及び外側ラッカコーティング又は層２８８に任意選択により適用された三層２２０等の内側及び外側ＰＥＣＶＤコーティング群とを有する。

ＰＥＣＶＤコーティング群は、任意選択により、使用される場合にラッカコーティング又は層２２４の上の少なくとも１つの結合コーティング又は層を含み、ラッカコーティング若しくは層２２４の上に直接又は結合コーティング若しくは層の上に少なくとも１つのバリアコーティング又は層２８８を確実に含み、任意選択によりバリアコーティング又は層の上の少なくとも１つのｐＨ保護コーティング又は層２８６をさらに含む。図１～３の容器のコーティング群に関するこの選択肢は、「三層コーティング」と呼ばれることがあり、その中では、ＳｉＯｘのバリアコーティング又は層２８８は、本来であれば、それがｐＨ保護コーティング又は層２８６と結合コーティング又は層との間に挟まれることで、それが除去されるのに十分に高いｐＨを有する内容物に対して保護され、それぞれ本明細書中で定義されるＳｉＯｘＣｙの有機層である。この三層コーティングの具体的な例は、本明細書中で提供されている。それぞれの層のｎｍ単位での想定される厚さ（括弧内は、好ましい範囲である）が「三層厚さ表」に記されている。ＰＥＣＶＤコーティング群全体は、５００ｎｍ未満の厚さ、代替的に４００ｎｍ未満の厚さ、代替的に３００ｎｍ未満の厚さ、代替的に２００ｎｍ未満の厚さ、代替的に１００ｎｍ未満の厚さ、代替的に９０ｎｍ未満、代替的に８０ｎｍ未満であり得る。これは、本明細書において詳細に説明されているように、コーヒーカップ／ポッド等の生分解性及び／又は堆肥化可能容器を製造するために重要である。

任意選択により、コーティング又は層は、壁の内側表面上にある。任意選択により、コーティング又は層は、壁の内側表面と外側表面との両方にある。任意選択により、コーティング又は層は、壁の内側表面と外側表面との両方にある。

任意選択により、何れの実施形態でも、それぞれのコーティング及び層は、様々な順番であり得る。

容器
容器は、様々な形態で具現化でき、本明細書に記載されている実施形態に限定されないことが理解されるべきである。むしろ、これらの実施形態は、本発明の例であり、本発明の最大の範囲は、特許請求の範囲の文言により示される。

任意選択により、何れの実施形態でも、容器２１０は、例えば、食品コンテナ、コーヒーカップ、使い捨てコーヒーポッド、バイアル、管、ボトル、ジャー、食品パッケージ、ブリスタパッケージ、柔軟パッケージ又はマイクロプレートであり得る。

任意選択により、何れの実施形態でも、容器は、堆肥化可能又は生分解性材料で製作され得る。

堆肥化可能又は生分解性材料は、再生可能資源から得ることができる。例えば、何れの実施形態でも、堆肥化可能又は生分解性材料は、トウモロコシ、ジャガイモ、タピオカ等のでんぷん、セルロース、大豆たんぱく質、乳酸、リグニン、木材、竹若しくは他の木材状繊維製品又はひまわり種殻／外皮といった再生可能な原材料から得ることができる。再生可能資源由来の生分解性ポリマには、ポリ乳酸（ｐｏｌｙｌａｃｔｉｄｅ）（ポリ乳酸（ｐｏｌｙｌａｃｔｉｃ ａｃｉｄ）（ＰＬＡ）とも呼ばれる）、ポリ（３－ヒドロキシブチル酸）（ＰＨＢ）及びＰＨＢコポリマ等のポリヒドロキシアルカン酸（ＰＨＡ）、ポリ（ブチレンサクシネート）（ＰＢＳ）、熱可塑性でんぷん（ＴＰＳ）、でんぷんブレンド、セルロース又はセルロースエステル、キトサン並びにたんぱく質が含まれる。これらは、多くの場合、バイオプラスチック、バイオポリマ又はバイオベースプラスチック若しくはポリマと呼ばれる。幾つかの実施形態において、堆肥化可能又は生分解性材料は、これらの再生可能資源由来の生分解性ポリマの１つ又は複数を含み得る。

堆肥化可能又は生分解性材料は、石油資源から得ることもできる。このような材料には、ポリ（ブチレンサクシネート）（ＰＢＳ）、ポリ（ブチレンサクシネートアジペート）（ＰＢＳＡ）、ポリ（エチレンサクシネート）（ＰＥＳ）及びポリ（エチレンサクシネートアジペート）（ＰＥＳＡ）等の脂肪族ポリエステル及びコポリエステル、ポリ（ブチレンアジペートテレフタレート（ＰＢＡＴ）、ポリブチレンサクシネートテレフタレート（ＰＢＳＴ）及びポリ（トリメチレンテレフタレート）（ＰＴＴ）等の芳香族コポリエステル、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリエステルアミド（ＰＥＡ）並びにポリ（ビニルアルコール）（ＰＶＡ）が含まれる。幾つかの実施形態において、堆肥化可能又は生分解性材料は、これらの石油由来の生分解性ポリマの１つ又は複数を含み得る。

堆肥化可能又は生分解性材料は、再生可能な資源から得られた１つ又は複数の堆肥化可能又は生分解性材料と、石油資源から得られた１つ又は複数の堆肥化可能又は生分解性材料とのフレンドでもあり得る。例えば、堆肥化可能又は生分解性材料は、ポリ乳酸（ｐｏｌｙｌａｃｔｉｄｅ）（ポリ乳酸（ｐｏｌｙｌａｃｔｉｃ ａｃｉｄ）（ＰＬＡ）とも呼ばれる）、ポリ（３－ヒドロキシブチル酸）（ＰＨＢ）及びＰＨＢコポリマ等のポリヒドロキシアルカン酸（ＰＨＡ）、ポリ（ブチレンサクシネート）（ＰＢＳ）、熱可塑性でんぷん（ＴＰＳ）、でんぷんブレンド、セルロース又はセルロースエステル、キトサン、たんぱく質ベースのポリマ、ポリ（ブチレンサクシネート）（ＰＢＳ）、ポリ（ブチレンサクシネートアジペート）（ＰＢＳＡ）、ポリ（エチレンサクシネート）（ＰＥＳ）及びポリ（エチレンサクシネートアジペート）（ＰＥＳＡ）等の脂肪族ポリエステル及びコポリエステル、ポリ（ブチレンアジペートテレフタレート（ＰＢＡＴ）、ポリブチレンサクシネートテレフタレート（ＰＢＳＴ）及びポリ（トリメチレンテレフタレート）（ＰＴＴ）等の芳香族コポリエステル、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリエステルアミド（ＰＥＡ）並びにポリ（ビニルアルコール）（ＰＶＡ）の何れかの１つ又は複数を含み得る。例えば、堆肥化可能又は生分解性材料は、１つ又は複数のでんぷんベースのポリマと、上述の何れかの１つ又は複数とのブレンドを含み得る（例えば、熱可塑性でんぷん及びポリカプロラクトン、熱可塑性でんぷん及びＰＬＡ、熱可塑性でんぷん及びセルロースエステル等）。

上述の材料及びブレンドの全てに加えて、堆肥化可能又は生分解性材料は、１つ又は複数の再生可能資源（コーンスターチ、サトウキビ又はその他）から得られるポリ乳酸、結晶化ポリ乳酸、脂肪族ポリ乳酸コポリマ又はこれらの組合せを含むか又はそれからなり得る。堆肥化可能又は生分解性材料は、セルロース系製紙原料の上の再生可能資源（コーンスターチ、サトウキビ又はこれらの組合せ）から得られるポリ乳酸、結晶化ポリ乳酸、脂肪酸ポリ乳酸コポリマ又はこれらの組合せを含むか又はそれからなり得る。堆肥化可能又は生分解性材料は、１つ又は複数の再生可能資源（コーンスターチ、サトウキビ又はその他）から得られるポリ乳酸を含むか又はそれからなり得る。堆肥化可能又は生分解性材料は、（ｉ）ポリブチレンサクシネート（ＰＢＳ）又はポリブチレンサクシネートアジペート（ＰＢＳＡ）、及び（ｉｉ）ひまわり種殻粉を含む複合材料を含むか又はそれからなり得る。

任意選択により、何れの実施形態でも、容器２１０は、コーヒー粉等の酸素又は水分の影響を受けやすい材料を含むことができる。任意選択により、容器は、プラスチック又は金属箔で製作された閉鎖手段によって閉じられる。任意選択により、何れの実施形態でも、容器２１０は、使い捨てコーヒーポッド（カプセル）であり得、これは、１つ又は複数の堆肥化可能又は生分解性材料から製作される壁２１４を有する。

任意選択により、何れの実施形態でも、容器壁２１４の外面がＰＥＣＶＤコーティング又は層を有さないようにすることができる。代替的に、外側ＰＥＣＶＤコーティング群３０１は、本明細書に記載のＰＥＣＶＤコーティング又は層の何れか又は全部を含むコーティング等のコーティングを含むことができる。

任意選択により、何れの実施形態でも、容器は、食品、飲料又はコーヒー粉等、空気／酸素／水分の影響を受けやすい内容物をさらに収容する。

水蒸気バリアコーティング又は層
任意選択により、何れの実施形態でも、水蒸気バリアコーティング又は層３００は、１ｎｍ～５００ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～４００ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～３００ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～２００ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～１００ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～８０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～６０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～５０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～４０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～３０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～２０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～１０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～５ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～５００ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～４００ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～３００ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～２００ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～１００ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～８０ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～６０ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～５０ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～４０ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～３０ｎｍの厚さ、代替的に１０ｎｍ～２０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～１０ｎｍの厚さ、代替的に１ｎｍ～５ｎｍの厚さ、代替的に５０ｎｍ～５００ｎｍの厚さ、代替的に５０ｎｍ～４００ｎｍの厚さ、代替的に５０ｎｍ～３００ｎｍの厚さ、代替的に５０ｎｍ～２００ｎｍの厚さ、代替的に５０ｎｍ～１００ｎｍの厚さ、代替的に５０ｎｍ～８０ｎｍの厚さ、代替的に５０ｎｍ～６０ｎｍの厚さ、代替的に１００ｎｍ～５００ｎｍの厚さ、代替的に１００ｎｍ～４００ｎｍの厚さ、代替的に１００ｎｍ～３００ｎｍの厚さ、代替的に１００ｎｍ～２００ｎｍの厚さである。

コーティング又は層前駆体は、フルオロカーボン、炭化水素又はハイドロフルオロカーボンを含む。フルオロカーボンは、フッ化化合物であり得、例えば１分子あたり１～１０個、任意選択により１～６個、任意選択により２～６個の炭素原子及び４～２０個のフッ素原子を有する飽和又は不飽和直鎖又は環状脂肪族フルオロカーボン前駆体であり得る。適当なフッ化化合物の幾つかの具体的な例には、フッ化ガス、例えばヘキサフルオロプロピレン（Ｃ３Ｆ６）、オクタフルオロシクロブタン（Ｃ４Ｆ８）、テトラフルオロエチレン（Ｃ２Ｆ４）若しくはヘキサフルオロエタン（Ｃ２Ｆ６）、任意選択によりヘキサフルオロプロピレン（Ｃ３Ｆ６）若しくはオクタフルオロシクロブタン（Ｃ４Ｆ８）、又はフッ化液体、例えばパーフルオロ－２－メチル－２－ペンテン（Ｃ６Ｆ１２）又はパーフルオロヘキサン（Ｃ６Ｆ１４）、又はこれらの何れかの組合せが含まれる。炭化水素は、１～４個の炭化原子を有する低級アルカン、２～４個の炭素原子を有するアルケン又はアルキン、例えばアセチレン（Ｃ２Ｈ２）又はメタン（ＣＨ４）、任意選択によりアセチレン（Ｃ２Ｈ２）であり得る。ハイドロフルオロカーボンは、飽和又は不飽和、１分子あたり１～６個の炭素原子、少なくとも１個の水素原子及び少なくとも１個のフッ素原子を有するか、又は上記材料の何れか２つ以上の何れかの組合せ、合成物又はブレンドであり得る。

フルオロカーボン又はハイドロフルオロカーボンを前駆体として使用して堆積される水蒸気バリアコーティングに関して、典型的なコーティングプロセス条件は、以下のとおりである。
〇電源周波数：１３．５６ＭＨｚ
〇前駆体：ヘキサフルオロプロピレン（Ｃ３Ｆ６）又はオクタフルオロシクロブタン（Ｃ４Ｆ８）
〇ガス流量：５～１０ｓｃｃｍ
〇搬送ガス流量：２～１０ｓｃｃｍ
〇基準圧力：２０～３００ｍトール
〇コーティング圧力：８０～９００ｍトール
〇コーティング時間：５～３０秒

炭化水素を前駆体として使用して堆積される水蒸気バリアコーティング又は層に関して、典型的なコーティングプロセス条件は、以下のとおりである。
〇電源周波数：１３．５６ＭＨｚ
〇前駆体：アセチレン（Ｃ２Ｈ２）
〇ガス流量：１～１０ｓｃｃｍ
〇搬送ガス流量：２～５ｓｃｃｍ
〇基準圧力：２０～３００ｍトール
〇コーティング圧力：８０～９００ｍトール
〇コーティング時間：５～３０秒

任意選択により、プロセス中、入口は、静止又は移動式であり得る。

水蒸気バリアコーティング又は層は、ＦＴ－ＩＲ、水接触角及びＸＰＳにより特徴付けることができる。

一般に、本明細書において定義される何れの実施形態の水蒸気バリアコーティング又は層も、任意選択により、（特定の例において別段の明記がない限り）ＰＣＴ国際特許出願米国特許出願公開第２０１９／０２４３３９号明細書で示されているようにＰＥＣＶＤにより堆積されるコーティング又は層である。

結合コーティング又は層
結合コーティング又は層２８９には、少なくとも２つの機能がある。結合コーティング又は層２８９の１つの機能は、バリアコーティング又は層２８８の基板、特に生分解性／堆肥化可能基板への接着性を改善することであるが、結合層は、ガラス基板又は他のコーティング若しくは層への接着性を改善するために使用できる。例えば、結合コーティング又は層は、接着コーティング又は層とも呼ばれ、基板上に堆積させることができ、バリア層は、接着層に堆積させて、バリアコーティング又は層の基板への接着性を改善できる。

結合コーティング又は層２８９の他の機能が発見されており、すなわち、バリアコーティング又は層２８８の下に堆積される結合コーティング又は層２８９は、バリアコーティング又は層２８８上に堆積されるｐＨ保護コーティング又は層２８６の機能を改善できる。

結合コーティング又は層２８９は、ＳｉＯｘＣｙ（又はその均等なＳｉＯｘＣｙＨｚ）（ここで、ＸＰＳによって測定されて、ｘは、０．５～２．４であり、及びｙは、０．６～３である（及びｚは、定義されている場合、ＲＢＳ、ＨＦＳ又は両方によって測定されて約２～約９である））で構成されるか、それを含むか又は基本的にそれからなることができる。代替的に、結合コーティングのためのｘは、ＸＰＳによって測定されて約１～約２であり、及び結合コーティングのためのｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約１．５であり、定義されている場合、結合コーティングのためのｚは、ＲＢＳ、ＨＦＳ又は両方によって測定されて約２～約５である。

代替的に、原子比は、式ＳｉｗＯｘＣｙとして表現できる。結合コーティング又は層２８９のＳｉ、Ｏ及びＣの原子比は、幾つかの選択肢として以下のとおりである：
Ｓｉ １００：Ｏ ５０～１５０：Ｃ ９０～２００（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．５～１．５、ｙ＝０．９～２）、
Ｓｉ １００：Ｏ ７０～１３０：Ｃ ９０～２００（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．７～１．３、ｙ＝０．９～２）、
Ｓｉ １００：Ｏ ８０～１２０：Ｃ ９０～１５０（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．８～１．２、ｙ＝０．９～１．５）、
Ｓｉ １００：Ｏ ９０～１２０：Ｃ ９０～１４０（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．９～１．２、ｙ＝０．９～１．４）、又は
Ｓｉ １００：Ｏ ９２～１０７：Ｃ １１６～１３３（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．９２～１．０７、ｙ＝１．１６～１．３３）。

原子比は、ＸＰＳにより特定できる。そのため、ＸＰＳにより測定されないＨ原子を考慮に入れると、結合コーティング又は層２８９は、１つの態様において、式ＳｉｗＯｘＣｙＨｚ（又はその均等なＳｉＯｘＣｙ）（例えば、ここで、ｗは、１であり、ｘは、約０．５～約２．４であり、ｙは、約０．６～約３であり、及びｚ（定義されている場合）は、約２～約９である）を有し得る。典型的に、結合コーティング又は層２８９は、したがって、炭素プラス酸素プラスケイ素１００％に正規化される３６％～４１％の炭素を含む。

任意選択により、結合コーティング又は層は、本明細書の別の箇所に記載されているｐＨ保護コーティング又は層２８６と組成の点で同様又は同じであり得るが、これは、要求事項ではない。

結合コーティング又は層２８９は、何れの実施形態でも、特に化学気相成長法により堆積される場合、概して５ｎｍ～１００ｎｍの厚さ、好ましくは５～２０ｎｍの厚さであることが想定される。これらの厚さは、重要ではない。一般的に、ただし必ずしもそうとは限らないが、結合コーティング又は層２８９は、比較的薄く、これは、その機能が基板の表面特性を変化させることであるからである。

バリア層
バリアコーティング又は層２８８は、任意選択により、プラズマ励起化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）又は他の化学気相成長プロセスにより、医薬品用パッケージ、特に堆肥化可能又は生分解性パッケージの容器に堆積させて、酸素、二酸化炭素又は他のガスが容器に入ることを防止し、且つ／又は医薬品材料がパッケージの壁内に又はそれを通して浸出することを防止できる。

本明細書において定義される何れかの実施形態のためのバリアコーティング又は層は、任意選択により、（特定の例において別段の明示がない限り）米国特許第７，９８５，１８８号明細書、国際特許出願ＰＣＴ／米国特許出願公開第２０１４／０２３８１３号明細書又は国際特許出願ＰＣＴ／米国特許出願公開第１６／４７６２２号明細書において示されているようなＰＥＣＶＤにより堆積されるコーティング又は層である。バリアコーティング又は層は、任意選択により、「ＳｉＯｘ」コーティング又は層として特徴付けることができ、ケイ素、酸素及び任意選択により他の元素を含み、ｘ、すなわちケイ素原子に対する酸素原子の比は、約１．５～約２．９、代替的に１．５～約２．６、代替的に約１．５～約２である。ｘのこれらの代替的な定義は、本明細書におけるＳｉＯｘの用語の何れの使用にも当てはまる。

バリアコーティング又は層２８８は、ｘが１．５～２．９のＳｉＯｘを含むか又は基本的にそれからなり、厚さ２～１０００ｎｍであり、ＳｉＯｘのバリアコーティング又は層２８８が、内部空間２１２に面する内側表面と、壁２１４製品表面２５４に面する外面２２２とを有し、バリアコーティング又は層２８８が、大気ガスが内部空間２１２に進入することを減少させることにおいて、コーティングなしの容器２５０と比較して有効である。１つの適当なバリア組成物は、例えばｘが２．３のものである。例えば、何れかの実施形態の２８８等のバリアコーティング又は層は、少なくとも２ｎｍ、又は少なくとも４ｎｍ、又は少なくとも７ｎｍ、又は少なくとも１０ｎｍ、又は少なくとも２０ｎｍ、又は少なくとも３０ｎｍ、又は少なくとも４０ｎｍ、又は少なくとも５０ｎｍ、又は少なくとも１００ｎｍ、又は少なくとも１５０ｎｍ、又は少なくとも２００ｎｍ、又は少なくとも３００ｎｍ、又は少なくとも４００ｎｍ、又は少なくとも５００ｎｍ、又は少なくとも６００ｎｍ、又は少なくとも７００ｎｍ、又は少なくとも８００ｎｍ、又は少なくとも９００ｎｍの厚さに堆積させることができる。バリアコーティング又は層は、１０００ｎｍまで、又は最大で９００ｎｍ、又は最大で８００ｎｍ、又は最大で７００ｎｍ、又は最大で６００ｎｍ、又は最大で５００ｎｍ、又は最大で４００ｎｍ、又は最大で３００ｎｍ、又は最大で２００ｎｍ、又は最大で１００ｎｍ、又は最大で９０ｎｍ、又は最大で８０ｎｍ、又は最大で７０ｎｍ、又は最大で６０ｎｍ、又は最大で５０ｎｍ、又は最大で４０ｎｍ、又は最大で３０ｎｍ、又は最大で２０ｎｍ、又は最大で１０ｎｍ、又は最大で５ｎｍの厚さであり得る。２０～２００ｎｍ、任意選択により２０～３０ｎｍの範囲が想定される。上述の最小厚さの何れか１つプラス上述の最大厚さの１つ以上で構成される具体的な厚さ範囲が明示的に想定される。

ＳｉＯｘ又は他のバリアコーティング又は層の厚さは、例えば、透過型電子顕微鏡検査法（ＴＥＭ）により測定可能であり、その組成は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定可能である。本明細書に記載のプライマコーティング又は層は、様々な医薬品用パッケージ又は例えばプラスチック若しくはガラス製の他の容器、例えばプラスチック管体、バイアル及びシリンジに堆積させることができる。

ｘが１．５～２．９のＳｉＯｘのバリアコーティング又は層２８８は、プラズマ励起化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって堆肥化可能又は生分解性壁２１４に直接又は間接に（例えば、結合コーティング又は層２８９をそれらの間に介在させることができる）堆積され、それにより、充填されたパッケージ又は他の容器２１０において、バリアコーティング又は層２８８は、堆肥化可能又は生分解性壁２１４の内面又は内側表面と、内部空間内に収容される流体、粉末又は他の製品との間に位置付けられる。

ＳｉＯｘのバリアコーティング又は層２８８は、堆肥化可能又は生分解性壁２１４により支持される。本明細書の他の箇所又は米国特許第７，９８５，１８８号明細書、国際特許出願ＰＣＴ／米国特許出願公開第２０１４／０２３８１３号明細書若しくは国際特許出願ＰＣＴ／米国特許出願公開第１６／４７６２２号明細書に記載のバリアコーティング又は層２８８は、何れの実施形態においても使用できる。

本明細書において定義されるようなＳｉＯｘ等の特定のバリアコーティング又は層２８８は、本明細書の他の箇所に記載されているように、コーティング容器の比較的高いｐＨの内容物による攻撃の結果として、特にバリアコーティング又は層が内容物と直接接触する場合、６カ月未満で遮蔽改善係数が測定できる程度に減少するという特徴を有することが分かった。この問題には、本明細書で論じられているｐＨ保護コーティング又は層を用いて対処できる。

ＳｉＯｘのバリアコーティング又は層２８８は、本明細書の他の箇所で論じられているように、プライマコーティング又は層としても機能できる。

ｐＨ保護コーティング又は層
本発明者らは、ＳｉＯｘのバリアコーティング又は層が、ある流体、例えばｐＨが約５より高い水性組成物により腐食又は溶解することを発見した。気相化学成長法により堆積されるコーティング又は層は、非常に薄く、数十～数百ナノメートルの厚さであり得るため、比較的低速の腐食でも、製品パッケージの所望の有効保存期限より前にバリア層の有効性が消失するか又は低下する可能性がある。これは、特に流体の医薬品組成物にとって問題であるが、これは、それらの多くのｐＨが血液及び他の人間又は動物の体液のｐＨと同様にほぼ７、より広くは５～９の範囲であるからである。医薬品調製物のｐＨが高いほど、より急速にＳｉＯｘコーティング又は層を腐食又は溶解させる。任意選択により、この問題には、バリアコーティング若しくは層２８８又は他のｐＨの影響を受けやすい材料をｐＨ保護コーティング又は層２８６で保護することによって対処できる。

任意選択により、ｐＨ保護コーティング又は層２８６は、それぞれ先に定義したＳｉｗＯｘＣｙＨｚ（若しくはその均等なＳｉＯｘＣｙ）又はＳｉｗＮｘＣｙＨｚ若しくはその均等なＳｉ（ＮＨ）ｘＣｙ）で構成されるか、それを含むか又は基本的にそれからなることができる。Ｓｉ：Ｏ：Ｃ又はＳｉ：Ｎ：Ｃの原子比は、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光計）により特定できる。そのため、Ｈ原子を考慮すると、ｐＨ保護コーティング又は層は、１つの態様において、式ＳｉｗＯｘＣｙＨｚ又はその均等なＳｉＯｘＣｙ（例えば、ここで、ｗは、１であり、ｘは、約０．５～約２．４であり、ｙは、約～約３であり、及びｚ（定義されている場合）は、約２～約９である）を有し得る。

典型的に、式ＳｉｗＯｘＣｙとして表現されるＳｉ、Ｏ及びＣの原子比は、幾つかの選択肢として以下のとおりである：
・Ｓｉ １００：Ｏ ５０～１５０：Ｃ ９０～２００（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．５～１．５、ｙ＝０．９～２）、
・Ｓｉ １００：Ｏ ７０～１３０：Ｃ ９０～２００（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．７～１．３、ｙ＝０．９～２）、
・Ｓｉ １００：Ｏ ８０～１２０：Ｃ ９０～１５０（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．８～１．２、ｙ＝０．９～１．５）、
・Ｓｉ １００：Ｏ ９０～１２０：Ｃ ９０～１４０（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．９～１．２、ｙ＝０．９～１．４）、
・Ｓｉ １００：Ｏ ９２～１０７：Ｃ １１６～１３３（すなわちｗ＝１、ｘ＝０．９２～１．０７、ｙ＝１．１６～１．３３）、又は
・Ｓｉ １００： ８０～１３０：Ｃ ９０～１５０。

代替的に、ｐＨ保護コーティング又は層は、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）により特定される、炭素、酸素及びケイ素１００％に正規化される炭素５０％未満及びケイ素２５％超の原子濃度を有することができる。代替的に、原子濃度は、炭素２５～４５％、ケイ素２５～６５％、酸素１０～３５％である。

代替的に、原子濃度は、炭素３０～４０％、ケイ素３２～５２％及び酸素２０～２７％である。代替的に、原子濃度は、炭素３３～３７％、ケイ素３７～４７％及び酸素２２～２６％である。

ｐＨ保護コーティング又は層の厚さは、例えば、以下であり得る：１０ｎｍ～１０００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～１０００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～９００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～８００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～７００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～６００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～５００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～４００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～３００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～２００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～１００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～５０ｎｍ、代替的に２０ｎｍ～１０００ｎｍ、代替的に５０ｎｍ～１０００ｎｍ、代替的に１０ｎｍ～１０００ｎｍ、代替的に５０ｎｍ～８００ｎｍ、代替的に１００ｎｍ～７００ｎｍ、代替的に３００ｎｍ～６００ｎｍ。

任意選択により、保護層の、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いた特定による、炭素、酸素及びケイ素１００％に正規化される炭素の原子濃度は、有機ケイ素前駆体の原子式における炭素の原子濃度より大きくすることができる。例えば、炭素の原子濃度が１～８０原子パーセント、代替的に１０～７０原子パーセント、代替的に２０～６０原子パーセント、代替的に３０～５０原子パーセント、代替的に３５～４５原子パーセント、代替的に３７～４１原子パーセントだけ増大している実施形態が想定される。

任意選択により、ｐＨ保護コーティング又は層の炭素対酸素の原子比は、有機ケイ素前駆体と比較して増大させることができ、且つ／又は酸素対ケイ素の原子比は有機ケイ素前駆体と比較して減少させることができる。

任意選択により、ｐＨ保護コーティング又は層の、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いた特定による、炭素、酸素及びケイ素１００％に正規化されるケイ素の原子濃度は、供給ガスのための原子式におけるケイ素の原子濃度より低くすることができる。例えば、ケイ素の原子濃度が１～８０原子パーセント、代替的に１０～７０原子パーセント、代替的に２０～６０原子パーセント、代替的に３０～５５原子パーセント、代替的に４０～５０原子パーセント、代替的に４２～４６原子パーセントだけ減少している実施形態が想定される。

他の選択肢として、何れの実施形態でも、有機ケイ素前駆体の和公式と比較して原子比Ｃ：Ｏを増大させることができ、且つ／又はＳｉ：Ｏの原子比を減少させることのできる和公式により特徴付けられるｐＨ保護コーティング又は層が想定される。

ｐＨ保護コーティング又は層２８６は、一般に、バリアコーティング又は層２８８と完成品中の流体との間に位置付けられる。ｐＨ保護コーティング又は層２８６は、堆肥化可能又は生分解性壁２１４により支持される。

ｐＨ保護コーティング又は層２８６は、任意選択により、バリアコーティング又は層２８８を、流体２１８による攻撃の結果として少なくとも実質的に溶解されない状態に少なくとも６カ月間保つことにおいて有効である。

ｐＨ保護コーティング又は層の濃度は、Ｘ線反射率法（ＸＲＲ）を用いた特定により、１．２５～１．６５ｇ／ｃｍ３、代替的に１．３５～１．５５ｇ／ｃｍ３、代替的に１．４～１．５ｇ／ｃｍ３、代替的に１．４～１．５ｇ／ｃｍ３、代替的に１．４４～１．４８ｇ／ｃｍ３であり得る。任意選択により、有機ケイ素化合物は、オクタメチルシクロテトラシロキサンであり得、ｐＨ保護コーティング又は層は、同じＰＥＣＶＤ反応条件下で有機ケイ素化合物としてＨＭＤＳＯから製作されたｐＨ保護コーティング又は層の濃度より高くすることができる濃度を有することができる。

ｐＨ保護の内側表面の（蒸留水との）接触角は、ＡＳＴＭ Ｄ７３３４－０８“Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ ｆｏｒ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｗｅｔｔａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ ｂｙ Ａｄｖａｎｃｉｎｇ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ”に準じたｐＨ保護表面上の水滴のゴニオメータ角度測定を用いた測定により、任意選択により９０°～１１０°、任意選択により８０°～１２０°、任意選択により７０°～１３０°であり得る。

パシベーション層又はｐＨ保護コーティング又は層２８６は、任意選択により、以下のように測定される、０．４未満の減衰全反射（ＡＴＲ）で測定されるＯパラメータを示す。

Ｏパラメータは、米国特許第８，０６７，０７０号明細書で定義されており、この特許は、最も広い０．４～０．９のＯパラメータ値を特許請求している。これは、他の箇所で示され且つ説明されるように、ＦＴＩＲ振幅対波数のグラフの物理的分析から測定して、上記表現の分子と分母とを求めことができる。Ｏパラメータは、デジタル波数対吸光度データからも測定できる。

米国特許第８，０６７，０７０号明細書は、特許請求されているＯパラメータの範囲が、優れたｐＨ保護コーティング又は層を提供すると、何れも非環状シロキサンであるＨＭＤＳＯ及びＨＭＤＳＮのみを用いた実験に基づいて主張している。驚くべきことに、本発明者らにより、ＰＥＣＶＤ前駆体が環状シロキサン、例えばＯＭＣＴＳであると、米国特許第８，０６７，０７０号明細書において特許請求されている範囲の外のＯパラメータは、ＯＭＣＴＳの使用により、米国特許第８，０６７，０７０号明細書においてＨＭＤＳＯで得られたものよりはるかによい結果が得られることを認識した。

代替的に、この実施形態では、Ｏパラメータの値は、０．１～０．３９、又は０．１５～０．３７、又は０．１７～０．３５である。

本発明のまた別の態様は、上述の合成材料であり、パシベーション層は、以下のように測定される、０．７未満の減衰全反射（ＡＴＲ）でのＮパラメータを示す。

Ｎパラメータも米国特許第８，０６７，０７０号明細書に記載されており、Ｏパラメータと同様に測定されるが、例外として、２つの具体的な波数での強度が使用され、これらの波数の何れも範囲ではない。米国特許第８，０７８，０７０号明細書は、０．７～１．６のＮパラメータを有するパシベーション層を特許請求している。再び、本発明者らは、前述のように、Ｎパラメータが０．７より低いｐＨ保護コーティング又は層２８６を用いてよりよいコーティングを製作した。代替的に、Ｎパラメータの値は、少なくとも０．３、又は０．４～０．６、又は少なくとも０．５３である。

流体２１８と直接接触する場合のｐＨ保護コーティング又は層２８６の腐食、溶解又は浸出（関係する概念の異なる名称）の速度は、流体２１８と直接接触する場合のバリアコーティング又は層２８８の腐食速度より遅い。

何れの実施形態でも、５０～５００ｎｍのｐＨ保護コーティング又は層の厚さが想定され、好ましい範囲は、１００～２００ｎｍである。

ｐＨ保護コーティング又は層２８６は、医薬品用若しくは食品パッケージ又は他の容器２１０の有効保存期間中にバリアコーティング又は層がバリアとして機能できるのに十分な時間にわたり、バリアコーティング又は層２８８から流体２１８を隔離するのに有効である。

本発明者らは、ｐＨ保護コーティング又は層が実質的な有機成分を有する、ポリシロキサン前駆体から形成されるＳｉＯｘＣｙ又はＳｉ（ＮＨ）ｘＣｙの特定のｐＨ保護コーティング又は層が、流体にさらされたときに急速に腐食せず、実際に流体が５～９の範囲内でより高いｐＨを有するとき、よりゆっくりと腐食又は溶解することをさらに認識した。例えば、ｐＨ８において、オクタメチルシクロテトラシロキサン、すなわちＯＭＣＴＳで製作されたｐＨ保護コーティング又は層の溶解速度は、非常に遅い。したがって、これらのＳｉＯｘＣｙ又はＳｉ（ＮＨ）ｘＣｙのｐＨ保護コーティング又は層は、ＳｉＯｘのバリア層を覆うために使用でき、容器内の流体、粉末又は他の製品からそれを保護することにより、バリア層の利点を保持する。保護層は、ＳｉＯｘ層の少なくとも一部に堆積されて、ＳｉＯｘ層を容器内に保管される内容物から保護するが、それがなければ、内容物は、ＳｉＯｘ層と接触する。

ＳｉＯｘＣｙ又はＳｉ（ＮＨ）ｘＣｙコーティング又は層は、直鎖シロキサン又は直鎖シラザン前駆体、例えばヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）又はテトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）からも堆積され得る。

任意選択により、何れかの実施形態のｐＨ保護コーティング又は層２８６のＦＴＩＲ吸光スペクトルでは、通常、約１０００～１０４０ｃｍ－１であるＳｉ－Ｏ－Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、通常、約１０６０～約１１００ｃｍ－１であるＳｉ－Ｏ－Ｓｉ非対象伸縮ピークの最大振幅との間の比が０．７５より大きい。代替的に、何れの実施形態でも、この比は、少なくとも０．８、又は少なくとも０．９、又は少なくとも１．０、又は少なくとも１．１、又は少なくとも１．２であり得る。代替的に、何れの実施形態でも、この比は、最大で１．７、又は最大で１．６、又は最大で１．５、又は最大で１．４、又は最大で１．３であり得る。代替的実施形態のように、ここに明記される最小比の何れも、ここに明記される何れの最大比と組み合わせることができる。

任意選択により、何れの実施形態でも、ｐＨ保護コーティング又は層２８６は、容器内に液体内容物がないと、非油質の外観を有する。この外観は、幾つかの例において、有効なｐＨ保護コーティング又は層を、場合により油質の（すなわち光沢のある）外観を有するように観察されている潤滑層から区別することが観察されている。

任意選択により、何れかの実施形態におけるｐＨ保護コーティング又は層２８６に関して、ｐＨ保護コーティング又は層及びバリアコーティング又は層のケイ素の総含有量は、容器からｐＨ８の試験組成物中に溶解したとき、６６ｐｐｍ未満、又は６０ｐｐｍ未満、又は５０ｐｐｍ未満、又は４０ｐｐｍ未満、又は３０ｐｐｍ未満、又は２０ｐｐｍ未満である。

幾つかの実施形態において、ＰＥＣＶＤコーティング群を含む容器は、使い捨てコーヒーポッドであり、ＰＥＣＶＤコーティング群は、ポッドの壁の内側表面上にある。これらの実施形態において、ｐＨ保護コーティング又は層２８６は、コーヒー抽出プロセス中にバリア層を保護する。コーヒー抽出プロセス中、熱湯及び蒸気がコーヒーポッドの内部空間中に導入され、そこでこれらが容器内に収容されていたコーヒー粉と混合される。抽出プロセス中に生成された蒸気及び高温の液体（コーヒーのｐＨは、典型的には４．６～６であり、より典型的には、そのｐＨは、約５である）は、ＳｉＯｘバリア層を腐食及び／又は溶解させる能力を有し得る。本明細書に記載のｐＨ保護層の実施形態は、ＳｉＯｘバリア層より堅牢であり、流体、特に抽出プロセス中にコーヒーポッドの液体内容物のものと同等のｐＨを有する流体にさらされることにより、低速な腐食を提供することが判明した。

抽出プロセスは、典型的には、比較的短時間で（特に調合された薬剤溶液を収容したプレフィルドシリンジ又はバイアルと比較して）で行われるため、ｐＨ保護コーティング又は層は、任意選択により、比較的薄い厚さが提供されながら、依然として所望の結果を実現する、すなわちバリア層の腐食及び／又は溶解を防止するのに適しているようにし得ることが想定される。例えば、ｐＨ保護コーティング又は層の厚さは、任意選択により、１００ｎｍ未満、代替的に７５ｎｍ未満、代替的に５０ｎｍ未満であり得る。例えば、ｐＨ保護コーティング又は層の厚さは、約５ｎｍ～約１００ｎｍ、代替的に約５ｎｍ～約７５ｎｍ、代替的に約５ｎｍ～約５０ｎｍであり得る。

サンプルコーティングプロトコル
任意選択により、コーティングプロセスは、図６に示される反応室９内において、流体入口と対面するコーティング表面が中央に位置するような状態で行われる。図６に示されるような反応室９を用いて、複数の容器３２、例えばコーヒーポッドが同時にコーティングされ得る。

図６は、三層プラズマコーティング装置の概略図である。図のように、ポッドの内側表面３０は、入口に面している。

境界２０を有するプラズマゾーン１５内のプラズマ（プラズマは、本願では目に見えるグロー放電と定義される）の生成をサポートすることのできる流体源１２からのプラズマガスは、流体入口１３を介してプラズマゾーン１５に導入され、プラズマエネルギ源１８からのプラズマエネルギがプラズマゾーン１５に提供されて、プラズマゾーン１５内に境界２０を有するプラズマを発生させる。

任意選択により、何れの実施形態でも、結合又は接着コーティング又は層（存在する場合）、バリアコーティング又は層、ｐＨ保護層（存在する場合）及び／又は水蒸気バリアコーティング（存在する場合）は、同じ装置で堆積され得る。これは、任意選択により、２つ以上のコーティングステップ間、例えば接着コーティング又は層及びバリアコーティング又は層のそれぞれの堆積間、バリアコーティング又は層及びｐＨ保護層又は層間、ｐＨ保護コーティング又は層及び水蒸気バリアコーティング又は層間で真空を破壊せずに行われ得る。

プロセス中、ＰＥＣＶＤ反応室は、部分真空に引かれ得、その中に複数の容器、例えばコーヒーポッドが提供される。内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながら、ＳｉＯｘＣｙの結合コーティング又は層がＰＥＣＶＤコーティング群プロセスによって堆積され得る。このプロセスは、コーティング又は層の堆積に適したガスを供給しながら、プラズマを生成するのに十分なパワーを印加することによって行われる。ガス供給には、線形シロキサン前駆体、任意選択により酸素及び任意選択により不活性ガス希釈剤が含まれる。ｘ及びｙの値は、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）により特定されるとおりである。したがって、任意選択により、内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながら、プラズマが消沈され得る。その結果、ｘが約０．５～約２．４、ｙが約０．６～約３であるＳｉＯｘＣｙの結合コーティング又は層が内部表面上に生成される。

その後、プロセス中、任意選択により、反応室内の部分真空が破壊されない状態を保持しながら、バリアコーティング又は層がバリアＰＥＣＶＤコーティング群プロセスによって堆積される。バリアＰＥＣＶＤコーティング群プロセスは、ガスの供給中にプラズマを生成するのに十分なパワーを印加することによって実行される。ガス供給には、線形シロキサン前駆体及び酸素が含まれる。その結果、ＸＰＳを用いた特定によりｘが１．５～２．９であるＳｉＯｘのバリアコーティング又は層が結合コーティング又は層と内部空間との間に生成される。したがって、任意選択により、内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながら、プラズマが消沈され得る。

その後、さらなる選択肢として、ＳｉＯｘＣｙのｐＨ保護コーティング又は層を堆積できる。この式でも、ｘは、約０．５～約２．４であり、及びｙは、約０．６～約３であり、それぞれＸＰＳにより特定される。ｐＨ保護コーティング又は層は、任意選択により、バリアコーティング又は層と内部空間との間にｐＨ保護ＰＥＣＶＤコーティング群プロセスによって堆積される。このプロセスは、内部空間内にプラズマを発生させるのに十分な電力を印加しながら、直鎖シロキサン前駆体、任意選択により酸素及び任意選択により不活性ガス希釈剤を含むガスを供給することを含む。

その後、プロセス中、任意選択により、部分真空が破壊されない状態を保持しながら、水蒸気バリアコーティング又は層が水蒸気バリアコーティング又は層ＰＥＣＶＤプロセスによって堆積され得る。水蒸気バリアＰＥＣＶＤコーティング群プロセスは、ガスを供給しながらプラズマを発生させるのに十分なパワーを印加することによって行われる。ガス供給には、１つ又は複数のフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン及び／又は炭化水素前駆体が含まれ得る。その結果、水蒸気バリアコーティング又は層がｐＨ保護コーティング又は層の上に生成され得る。

驚くべきことに、この加工の結果として、部分真空が破壊されない状態を保持されるプロセスにより製作されたコーティングされた容器２１０の内部空間へのガス浸透速度定数は、コーティング又は層の堆積とバリアコーティング又は層の堆積との間で内部空間内の部分真空が破壊されること以外には同じプロセスで製作された同等の容器２１０より遅い。

驚くべきことに、この加工の結果として、このプロセスにより製作されたコーティング容器２１０は、同じプロセスであるが、例外として結合コーティング又は層の堆積とバリアコーティング又は層の堆積との間で内部空間内の部分真空を中断させて製作された同等の容器２１０より、内部空間へのガス透過速度定数が低い。

代替的に、任意選択のステップを含むこのプロセスにより製作されたコーティング容器は、同じプロセスであるが、例外として結合コーティング又は層の堆積とバリアコーティング又は層の堆積との間で内部空間内の部分真空を中断させ、またバリアコーティング又は層及びｐＨ保護コーティング又は層の堆積間で内部空間内の部分真空を中断させて製作された同等の容器より、内部空間へのガス透過速度定数が低い。

任意選択により、本発明のこの実施形態に記載したような三層コーティングは、各層間で単独の有機ケイ素モノマ（例えば、ＨＭＤＳＯ）と酸素の流れを調整し、またＰＥＣＶＤ生成電力を変化させることによって（任意選択により何れの２つの層間でも真空を中断することなく）適用される。

幾つかの実施形態において、堆肥化可能又は生分解性材料で製作された壁を有する容器は、反応室内の容器ホルダにセットされ、反応室内が真空に引かれる。真空に引いた後、前駆体、酸素及びアルゴンのガス供給が導入され、その後、「プラズマ遅延」の終了時、連続（すなわちパルス状でない）ＲＦ電源がオンにされて、結合コーティング又は層が形成される。その後、電源がオフにされ、ガス流量が調整され、プラズマ遅延後、第二の層、すなわちＳｉＯｘバリアコーティング又は層のために電源がオンにされる。その後、これが第三の層についても繰り返され、その後、ガスが切断され、真空が開封されて、容器が容器ホルダから取り出される。層は、結合層、その後、バリア層、その後、ｐＨ保護層の順序で堆積される。

任意選択により、何れの実施形態でも、結合コーティング若しくは層、バリアコーティング若しくは層、又はｐＨ保護コーティング若しくは層、又は水蒸気バリアコーティング若しくは層或いはこれらの２つ以上の何れかの組合せを堆積させるためのＰＥＣＶＤプロセスも、内部空間内でプラズマを発生させるためにパルスパワー（代替的に、同じ考えは、本明細書において「エネルギ」と呼ばれる）を印加することによって行われる。

代替的に、結合ＰＥＣＶＤコーティング群プロセス、若しくはバリアＰＥＣＶＤコーティング群プロセス、若しくはｐＨ保護ＰＥＣＶＤコーティング群プロセス、若しくはは水蒸気バリアコーティング群プロセス又はこれらの２つ以上の組合せは、内部空間内でプラズマを発生させるために連続パワーを印加することによって実行できる。

任意選択により、任意選択により、堆積ステップ全体を通して、電磁エネルギを加えながら、容器の付近に磁界を印加できる。磁界は、概して円柱形の内面上のガスバリアコーティング又は層の平均厚さの標準偏差を縮小するのに有効な条件下で印加される。磁界の印加は、コーティングの均一性を改善し得る。関係する装置及び方法は、国際公開第２０１４０８５３４８Ａ２号パンフレットに記載されており、その全体が参照により本願に援用される。

任意選択により、何れの実施形態でも、結合コーティング若しくは層、バリアコーティング若しくは層、又はｐＨ保護コーティング若しくは層、又は水蒸気バリアコーティング若しくは層或いはこれらの２つ以上の何れかの組合せを堆積させるためのＰＥＣＶＤプロセスは、反応室内にプラズマを保持しながら、隣接する層を堆積させるために使用される供給ガスを変化させることにより、１つ又は複数の隣接層間の勾配を含むＰＥＣＶＤコーティング群を作ることも含み得る。

サンプルコーティングパラメータ
任意選択により、何れの実施形態でも、反応室の大きさ及び１回のコーティングプロセス中に同時にコーティングされる容器の数に応じて、ＰＥＣＶＤコーティング群を堆積させるために反応室内にプラズマを発生させるために提供されるＲＦパワーは、例えば、１０Ｗ～６００Ｗ、代替的に５０Ｗ～６００Ｗ、代替的に１００Ｗ～６００Ｗ、代替的に２００Ｗ～６００Ｗであり得る。

任意選択により、何れの実施形態でも、ＰＥＣＶＤコーティング群の１つ又は複数の層は、例えば、０．５～３．５トール、代替的に１～２．５トール、代替的に１～２トール、代替的に１～１．５トールの圧力を用いて印加され得る。

任意選択により、何れの実施形態でも、バリアコーティング又は層、任意選択による結合コーティング又は層及び任意選択によるｐＨ保護コーティング又は層は、以下の例示的な範囲に含まれる供給ガス流量、ＲＦパワー及び／又はコーティング時間の何れか１つを用いて堆積され得る。

壁表面処理
幾つかの実施形態において、ＰＥＣＶＤコーティング群を堆積させる前に、ＰＥＣＶＤコーティング群がその上に堆積され得る、より平滑な表面を提供するために、生分解性又は堆肥化可能壁の表面が処理され得、例えばコーティングされ得る。

生分解性又は堆肥化可能材料で製作された多くの基板、例えば容器の壁は、比較的高い程度の表面粗さを有する。本開示の実施形態によって堆積されるＰＥＣＶＤコーティング群、例えば三層コーティングの薄さ（ナノメートル単位、例えば５００ｎｍ未満）から、基板の表面粗さは一貫したコーティングの提供に対する、したがってその結果として得られるコーティングの遮蔽特性に対する重大な有害影響を有する可能性がある。

より一貫したＰＥＣＶＤコーティング群を有する基板（例えば、容器の壁）を得るために、ＰＥＣＶＤコーティング群を堆積させる前に表面処理を提供することが望ましいことがあり得、表面処理は、その上にＰＥＣＶＤコーティング群を堆積させることのできるより平滑な表面を提供するように構成される。表面処理は、その上にＰＥＣＶＤコーティング群が後に堆積される表面上に比較的平滑なコーティング又は層（下地となる生分解性又は堆肥化可能材料の表面と比較して）を提供することを含み得る。表面コーティングには、それ自体が基板の表面粗さより小さい粗さを有する表面を有する、コーティングされた基板を作るために、基板、例えば容器の壁に堆積させることのできる何れの材料も使用され得る。

材料の好適例には、ラッカ、すなわちシェラック及び特にコーティングされる基板（例えば、容器）の所期の用途に応じて食品用ラッカ並びにラッカの代替品、例えばツェイン（トウモロコシの実に見られるたんぱく質から作られた、菜食主義になじむシェラックの代替品）が含まれる。幾つかの実施形態において、表面コーティングに使用される１つ又は複数の材料は、それ自体が生分解性又は堆肥化可能であり得る。他の実施形態において、表面コーティングに使用される１つ又は複数の材料は、生分解性又は堆肥化可能でなくてもよい。任意選択により、幾つかの実施形態において、例えば容器が使い捨てコーヒーポッドである場合、表面コーティングは、食品用ラッカ又はツェイン等のラッカ代替品であり得る。

表面コーティングは、何れの既知の方法によっても堆積され得、これには、例えば、噴霧、刷毛塗り塗装、浸漬、その他が含まれる。多くの実施形態において、例えば容器が使い捨てコーヒーポッドである場合、表面コーティングは、大量の容器をコーティングするように構成されたシステム、例えば噴霧システムによって堆積されることが望ましいことがあり得る。例えば、幾つかの実施形態において、複数の容器、任意選択により使い捨てコーヒーポッドは、プラズマ又は静電気噴霧コーティングプロセス及びシステムによって表面コーティングでコーティングされ得る。

表面コーティングの厚さは、多くの要素に基づいて選択され得る。第一に、下地となる生分解性又は堆肥化可能基板の表面粗さの程度は、所望の平滑さを有する表面を生成するのにどの程度の表面コーティングが必要かを大きく決定付ける。例えば、より大きい山及び谷を有する表面には、一般に、比較的小さい山及び谷を有する表面より厚いコーティングを堆積させることが必要となる。幾つかの実施形態において、例えば表面コーティングに使用される材料が生分解性又は堆肥化可能でない場合、堆積される表面コーティングの量（例えば、重量）は、表面コーティングとＰＥＣＶＤコーティング群との組合せを、完全にコーティングされた容器の壁に占める割合として見たとき、表面コート容器壁が生分解性又は堆肥化可能とみなされるための関連規格から外れることになるような量を超えないことも重要であり得る。換言すれば、表面コーティングの厚さは、容器壁の厚さ及び重量等の要素により、且つこれらほどではないが、その後、堆積されるＰＥＣＶＤコーティング群の厚さにより制御され得る。

任意選択により、幾つかの実施形態において、表面コーティングの厚さは、２０μｍ未満、代替的に１５μｍ未満、代替的に１０μｍ未満、代替的に５μｍ未満であり得る。例えば、幾つかの実施形態において、表面コーティングの厚さは、約１μｍ～１２μｍ、代替的に約１μｍ～約１０μｍ、代替的に約１μｍ～約８μｍ、代替的に約１μｍ～約６μｍ、代替的に約１μｍ～約５μｍ、代替的に約１μｍ～約４μｍ、代替的に約１μｍ～約３μｍであり得る。

幾つかの実施形態において、表面コーティングは、水蒸気バリア層及び／又は溶出物に対するバリアとしても機能し得る。

遮蔽特性
任意選択により、本明細書において開示される実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられた容器は、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器より酸素透過速度（ＯＴＲ）が低く、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、三層コーティングであり、任意選択により、壁表面処理は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下にも堆積され、任意選択により、容器は、使い捨てコーヒーポッドである。

任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群の下に壁表面処理が堆積された容器は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下に堆積された壁表面処理を有さない、それ以外には同じ容器よりＯＴＲが低い。

任意選択により、本明細書において開示された実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられた容器は、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器より水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）が低く、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、水蒸気バリア層又はコーティングを含み、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、三層コーティングを含み、任意選択により、壁表面処理は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下にも堆積され、任意選択により、容器は、使い捨てコーヒーポッドである。

任意選択により、本明細書において開示された実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられた容器は、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器より溶出物プロファイルが低く、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、三層コーティングであり、任意選択により、壁表面処理は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下にも堆積され、任意選択により、容器は、使い捨てコーヒーポッドである。

任意選択により、本明細書において開示された実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられた容器の化学的ヘッドスペースは、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器より長期にわたる変化が小さく、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、三層コーティングであり、任意選択により、壁表面処理は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下にも堆積され、任意選択により、容器は、使い捨てコーヒーポッドであり、任意選択により、化学物質プロファイルは、ヘッドスペース分析により特定され、任意選択により、ヘッドスペース分析は、ＧＣ又はＧＬＣ方式で行われる。

任意選択により、本明細書において開示された実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられた容器の内容物は、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器よりフレーバスカルピングが少なく、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、三層コーティングであり、任意選択により、壁表面処理は、ＰＥＣＶＤコーティング群の下にも堆積され、任意選択により、容器は、使い捨てコーヒーポッドであり、任意選択により、容器の内容物に生じるフレーバスカルピングの量は、従来のコーヒー業界の新鮮さ及び／又は味覚検査方法及び／又はパネルによって特定される。

幾つかの実施形態において、容器は、生分解性又は堆肥化可能壁を有する使い捨てコーヒーポッドであり得る。任意選択により、本明細書において開示された実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられたコーヒーポッドは、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じコーヒーポッドより保管寿命が長いことができ、任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、三層コーティングであり、任意選択により壁表面処理も堆積される。

コーヒーは、酸素及び水分の影響を非常に受けやすいため、コーヒーポッドは、多くの場合、保管寿命が短い。コーヒーが酸素及び／又は水素の影響を受けると、コーヒーの新鮮さ及び味覚は、ステーリングと呼ばれることのあるプロセスにおいて劣化する。ステーリングの特徴的な風味の１つは、酸敗臭であり、これは、脂肪分及び関係する化合物の化学的酸化又は熱分解によって生じる。香りに寄与する揮発性化合物のほとんどは、酸化及び水分の影響をきわめて受けやすい。これらの揮発性成分の喪失及び反応は、古くなったコーヒーに見られる酸敗臭の大きい誘因である。

研究者は、コーヒーの保管寿命を左右する最も重要な要因が酸素であると特定し、コーヒー容器内の酸素を０．５％まで削減すれば、保管寿命が２０倍延びることを証明した。研究者は、同様に、酸素が１％増加するたびに劣化速度が１０％速まることも発見した。Ｌａｂｕｚａ ＴＰ，Ｃａｒｄｅｌｌｉ Ｃ，Ａｎｄｅｒｓｏｎ Ｂ＆Ｓｈｉｍｏｎｉ Ｅ．２００１．Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｒｏａｓｔｅｄ ａｎｄ Ｇｒｏｕｎｄ Ｃｏｆｆｅｅ：Ｓｈｅｌｆ Ｌｉｆｅ Ｉｍｐｒｏｖｅｍｅｎｔ ｆｏｒ Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐａｃｋａｇｉｎｇ．Ｐｒｏｃ．１９ｔｈ ＡＳＩＣ．Ｔｒｉｅｓｔｅを参照されたい。コーヒー豆及びコーヒー豆粉末のステーリング又は劣化は、訓練を受けた官能評価者によって定常的に評価され、評価者は、コーヒーの香りと味との両方を評価する。

任意選択により、幾つかの実施形態において、本明細書で開示された実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられ、コーヒー粉製品を収容したコーヒーポッドは、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じコーヒーポッドより保管寿命が少なくとも２倍長い、代替的に少なくとも３倍長い、代替的に少なくとも４倍長い、代替的に少なくとも５倍長いことができる。このような寿命の延長は、この分野で知られ、理解されているように、コーヒーポッド内に収容されたコーヒー粉の劣化の、訓練を受けた官能評価者による評価によって特定できる。

研究は、酸素吸収及びコーヒーの保管寿命を関係付ける予測的アルゴリズムの策定にも至っており、これは、例えば、Ｃａｒｄｅｌｌｉ，Ｃ．＆Ｌａｂｕｚａ，Ｔ．Ｐ．により、“Ｐｒｅｄｉｃｔｉｎｇ Ａｌｇｏｒｉｔｈｍｓ ｆｏｒ Ｏｘｙｇｅｎ Ｕｐｔａｋｅ ａｎｄ Ｓｈｅｌｆ Ｌｉｆｅ ｏｆ Ｄｒｙ Ｆｏｏｄｓ ａｎｄ ｔｈｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｔｏ Ｃｏｆｆｅｅ”（２０００年）で提示されている。Ｃａｒｄｅｌｌｉ及びＬａｂｕｚａは、推定保管寿命θ_sを計算するための以下のアルゴリズム（アルゴリズム１’とする）が実験データと強い相関関係を有することを開示している。

可変数及びこれらの可変数を特定する方法は、Ｃａｒｄｅｌｌｉ及びＬａｂｕｚａにより提供されており、その全体が参照により本願に援用される。

任意選択により、幾つかの実施形態において、本明細書で開示された実施形態のＰＥＣＶＤコーティング群が設けられ、コーヒー粉製品を収容したコーヒーポッドの、アルゴリズム１’により計算された推定保管寿命θ_sは、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じコーヒーポッドより少なくとも２倍長く、代替的に少なくとも３倍長く、代替的に少なくとも４倍長く、代替的に少なくとも５倍長いことができる。

生分解性及び／又は堆肥化可能性の保持
本発明の実施形態により解決される主要な問題の１つは、容器の生分解性又は堆肥化可能性に有害な影響を与えるバリア材料を有さない、生分解性又は堆肥化可能容器にガス（例えば、酸素）及び／又は水（例えば、水蒸気）遮蔽特性を提供することである。

本開示の実施形態により、基板、例えば容器壁に全体の厚さがナノメートル単位（例えば、全体の厚さが５００ｎｍ未満）である１つ又は複数のバリア層を、ＰＥＣＶＤを用いて堆積させ得る。これにより、基板、例えば容器壁に関して、ＰＥＣＶＤコーティング群が基板、例えば容器壁の全体としての生分解性又は堆肥化可能性の指定に影響を与えないように十分に小さい割合だけ存在するバリアコーティングの提供が可能となる。

このようにして、容器壁が生分解性材料で製作される場合、ＰＥＣＶＤコーティング群を有する壁も生分解性を有し得る（例えば、ＡＳＴＭ Ｄ６４００若しくはＥＮ ＩＳＯ ４７２：２００１又は他のこのような規格の定義による）。換言すれば、容器壁の生分解性という性質／指定は、ＰＥＣＶＤコーティング群が堆積された後も保持され得る。したがって、容器全体が生分解性材料で製作される場合、ＰＥＣＶＤコーティング群を有する容器も生分解性を有し得る（例えば、ＡＳＴＭ Ｄ６４００若しくはＥＮ ＩＳＯ ４７２：２００１又は他のこのような規格の定義による）。

同様に、容器壁が堆肥化可能材料で製作される場合、ＰＥＣＶＤコーティング群を有する壁も堆肥化可能性を有し得る（例えば、ＡＳＴＭ Ｄ６４００若しくはＳＩＯ／ＤＩＳ １７０８８又は他のこのような規格の定義による）。換言すれば、壁の堆肥化可能性という性質／指定は、ＰＥＣＶＤコーティング群が堆積された後も保持され得る。したがって、容器全体が堆肥化可能材料で製作される場合、ＰＥＣＶＤコーティング群を有する容器も堆肥化可能性を有し得る（例えば、ＡＳＴＭ Ｄ６４００若しくはＳＩＯ／ＤＩＳ １７０８８又は他のこのような規格の定義による）。

これは、本発明の実施形態により達成され得、それは、ＰＥＣＶＤコーティング群の１つ又は複数の層の厚さにより、ＰＥＣＶＤコーティング群により追加される材料の量がごく少量であり得るからである。

それ自体の量が、コーティングされた容器壁の特定の重量％を占めるＰＥＣＶＤコーティング群を提供することにより、バリア材料（及び結合層、ｐＨ保護層又は両方を含めることによって追加され得るもの等の何れかの追加材料）は、例えば、ＥＮ １３４３２により規定されている、容器壁の生分解性又は堆肥化可能性に影響を与えない添加剤の分類に含まれ得る。任意選択により、ＰＥＣＶＤコーティング群は、コーティング基板、例えばコーティング容器壁の１重量％未満を占め得、代替的に、ＰＥＣＶＤコーティング群は、コーティング基板、例えばコーティング容器壁の０．７５重量％未満を占め得、代替的に、ＰＥＣＶＤコーティング群は、コーティング基板、例えばコーティング容器壁の０．５重量％未満を占め得、代替的に、ＰＥＣＶＤコーティング群は、コーティング基板、例えばコーティング容器壁の０．２５重量％未満を占め得、代替的に、ＰＥＣＶＤコーティング群は、コーティング基板、例えばコーティング容器壁の０．１重量％未満を占め得、代替的に、ＰＥＣＶＤコーティング群は、コーティング基板、例えばコーティング容器壁の０．０７重量％未満を占め得、代替的に、ＰＥＣＶＤコーティング群は、コーティング基板、例えばコーティング容器壁の０．０５重量％未満を占め得る。例えば、幾つかの実施形態において、特に例えば容器壁が使い捨てコーヒーポッドである場合、ＰＥＣＶＤコーティング群は、容器壁の約０．０１重量％～約０．１重量％、代替的に約０．０１重量％～約０．０８重量％、代替的に約０．０１重量％～約０．０６重量％、代替的に約０．０１重量％～約０．０４重量％、代替的に約０．０１重量％～約０．０３重量％を占め得る。

例えば、容器壁が使い捨てコーヒーポッドのものである場合、ＰＥＣＶＤコーティング群の重量は、任意選択により、８００マイクログラム未満、代替的に７００マイクログラム未満、代替的に６００マイクログラム未満、代替的に５００マイクログラム未満、代替的に４５０マイクログラム未満、代替的に４００マイクログラム未満、代替的に３５０マイクログラム未満、代替的に３００マイクログラム未満であり得る。例えば、ＰＥＣＶＤコーティング群は、任意選択により、使い捨てコーヒーポッドの壁上に約５０～約７００マイクログラム、代替的に約５０～約６００のマイクログラム、代替的に約１００～約５００マイクログラム、代替的に約２００～約５００マイクログラム、代替的に約２５０～約５００マイクログラム、代替的に約３００～約５００マイクログラムの量で存在し得る。

任意選択により、表面処理コーティングがＰＥＣＶＤコーティング群より前に堆積される場合、その表面処理コーティングは、容器壁の生分解性又は堆肥化可能という性質／指定を保持するような方法において、すなわちそのような厚さで堆積され得る（表面コーティング自体は、生分解性又は堆肥化可能ではないと仮定する）。例えば、表面処理は、容器壁の１．０重量％未満、代替的に０．９重量％未満、代替的に０．８重量％未満、代替的に０．７重量％未満、代替的に０．６重量％未満、代替的に０．５重量％未満を占める量で堆積され得る。例えば、容器壁が使い捨てコーヒーポッドのものである場合、表面処理コーティングの重量は、任意選択により、２５ミリグラム未満、代替的に２２ミリグラム未満、代替的に２０ミリグラム未満、代替的に１９ミリグラム未満、代替的に１８ミリグラム未満、代替的に１６ミリグラム未満、代替的に１５ミリグラム未満であり得る。

さらに、幾つかの実施形態において、容器壁の内側表面のみがコーティングされ得るか、又は容器壁の外側表面のみがコーティングされ得、それにより、容器壁のコーティングされていない表面は、生分解又は堆肥化プロセス中に元素にさらされる。

実施例１
この実施例では、ひまわり種殻で製作され、Ｓｈｅｌｌａｃ ＳＳＢ ５５ Ｐｈａｒｍａ ＦＬ（Ｃ₃₀Ｈ₅₀Ｏ₁₁、「ラッカ１」）及び三層でコーティングされたコーヒーポッド、ひまわり種殻で製作され、ラッカ１のみでコーティングされたコーヒーポッド及びコーティングされず、それ以外には同じコーヒーポッドのＯＴＲ／ＷＶＴＲを評価した。

Ｇｏｌｄｅｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄの生分解性及び堆肥化可能コーヒーポッドをまず噴霧によりその内側表面上にラッカ１でコーティングした。

ポッドが完全に乾いてから、三層コーティングを以下のプロトコルに従ってラッカ１の上に堆積させた。

ポッドを、５つの垂直壁上にポッドを確実に着座させるように設計された、既製の穴を有する５面取付具（図６を参照されたい）に装填した。ポッドは、３×４の構成、すなわち片面１２ポッド（横に３つのポッド×縦に４つのポッド）であり、各々の内側が入口と面するような向きとした。本願では、各ポッドの内側のみがバリアコーティングを有していればよいため、各々の外側表面は、コーティングプロセス中、コーティング対象ポッドを他のマスキング用ポッドの内側にセットしてマスキングしてから、２つ積み重ねたものを固定具内に装填した。

境界２０を有するプラズマゾーン１５内のプラズマの生成をサポートできる流体源１２からのプラズマガスを、流体入口１３を介してプラズマゾーン１５に導入し、プラズマエネルギ源１８からのプラズマエネルギをプラズマゾーン１５に供給して、プラズマゾーン１５内に境界２０を有するプラズマを発生させた（プラズマは、ここで、目に見えるグロー放電と定義される）。

内部空間を部分真空に引いた。内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながら、ＳｉＯｘＣｙの結合コーティング又は層２８９を、線形シロキサン前駆体、ここではＨＭＤＳＯを含むガスを供給しながら、内部空間内にプラズマを発生させるのに十分なパワー（ここでは３００Ｗ）を印加することを含む結合ＰＥＣＶＤプロセスによって堆積させた。指定された堆積時間後、内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながらプラズマを消沈させ、これは、ＳｉＯｘＣｙの結合コーティング又は層の堆積を停止させる効果を有し、供給ガスを停止した。

依然として内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながら、その後、バリアコーティング又は層２８８を、線形シロキサン前駆体、ここではＨＭＤＳＯ及び酸素を含むガスを供給しながら、内部空間内にプラズマを発生させるのに十分なパワー（ここでは２００Ｗ）を印加することを含むバリアＰＥＣＶＤプロセスによって堆積させた。指定された堆積時間後、内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながらプラズマを消沈させ、これは、バリアコーティング又は層の堆積を停止させる効果を有し、供給ガスを停止した。

依然として内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながら、その後、ＳｉＯｘＣｙのｐＨ保護コーティング又は層２８６をｐＨ保護ＰＥＣＶＤプロセスによって堆積させた。ｐＨ保護ＰＥＣＶＤプロセスは、線形シロキサン前駆体、ここではＨＭＤＳＯを含むガスを供給しながら、内部空間内にプラズマを発生させるのに十分なパワー（ここでは２００Ｗ）を印加することを含んだ。指定された堆積時間後、内部空間内の部分真空が破壊されない状態を保持しながらプラズマを消沈させ、これは、ｐＨ保護コーティング又は層の堆積を停止させる効果を有し、供給ガスを停止した。

この実施例の１３．６１ｍＬのコーヒーポッドに使用された具体的なコーティングパラメータを表１に示す。

上記のパラメータの使用により、ＰＥＣＶＤコーティング群の全体的厚さは、約５００ｎｍ以下となる。前述のラッカコーティングの堆積の結果、コーティングの厚さは、約１２μｍとなった。

コーティング完了後、コーティングされたポッドとコーティングなしのポッドとの両方について、そのＯＴＲ及びＷＶＴＲを下記の試験プロトコルに従って試験した。結果を表２に示す。

結果は、ラッカ１及び三層でコーティングされたコーヒーポッドがコーティングなし又はラッカ１でのみコーティングされたポッドより優れたＯＴＲを提供することを実証している。

酸素透過速度（ＯＴＲ）の試験プロトコル
本明細書に記載の手順は、密閉可能なあらゆる容器又はパッケージに関する酸素進入を評価するために使用される。
・ツール及び設備
〇Ｍｏｃｏｎ ＯｐＴｅｃｈ Ｐｒｏｂｅ － Ｏ₂センサを読み取り、密閉されたコンテナ内部の分圧（ｍｂａｒ）を特定する光学ユニット
〇Ｍｏｃｏｎ ＯｐＴｅｃｈ Ｏ₂センサ － 試験対象の密閉されたコンテナ内部に取り付けられた酸素感知蛍光センサ
〇環境室
〇ガラススライドでポッドを密閉
〇２部式エポキシでポッドを密閉
〇試験サンプル：コーヒーポッド
・手順
〇シャーピ油性ペンを用いてコンテナに直接表示する
〇Ｏ₂センサをガラススライドに載せる
〇試験コンテナを低酸素環境のグローブボックス内に入れる
〇Ｏ₂を収容したコンテナをガラススライドと共に２部式エポキシで密閉する
〇３０分以上かけてエポキシを硬化させる
〇新たな試験を開始し、Ｍｏｃｏｎ ＯｐＴｅｃｈ Ｐｒｏｂｅを較正する
〇Ｍｏｃｏｎ ＯｐＴｅｃｈ Ｐｒｏｂｅを用いて、密閉されたコンテナの内部分圧を測定する
〇試験コンテナを適当な環境室（２５℃、６０％ ＲＨ）内に置く
〇１２時間おきに試験サンプルを環境室から取り出し、内部分圧を測定した後、サンプルを環境室に戻す
〇毎日の測定を７日以上繰り返す
〇０．２５ｂａｒでの１日の分圧（ｍｂａｒ）の変化を１ｂａｒでのｃｃ／ｐｏｄ／日に変換することにより酸素進入速度を計算する

水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）の試験プロトコル
本明細書に記載の手順は、密閉可能なあらゆる容器又はパッケージに関する水分進入を評価するために使用される。
・ツール及び機器
〇乾燥剤（又は評価対象物質）
〇環境室
〇ポッドを密閉するためのガラススライド
〇ポッドを密閉するための２部式エポキシ
〇試験サンプル：コーヒーポッド
〇化学天秤
〇ニトリルグローブ
・手順
〇シャーピ油性ペンを用いてコンテナに直接表示する
〇乾燥剤又は評価対象物質を各コンテナに入れる
〇コンテナをガラススライド及び２部式エポキシで密閉する
〇少なくとも４位天秤でコンテナを計量し、時間０としてその重量を記録する
〇計量したコンテナを適当な環境室に置く
〇試験手順書／プロトコル／ＤＢに明示されたタイミングでコンテナを環境室から取り出す
〇試験手順書／プロトコル／ＤＢに別段の明示がない限り、コンテナを少なくとも１０分間、室温で平衡化させる
〇コンテナを計量し、時系列で重量を記録する
〇コンテナを環境室に戻す
〇コンテナの初期重量を最終重量から差し引き、ミリグラムに変換することにより、コンテナ内の水の量を計算する
〇重量を環境室に入れていた日数で割ったものとして水分進入速度を計算する

Claims (48)

1. ＡＳＴＭ Ｄ６４００又はＥＮ ＩＳＯ ４７２：２００１によって定義される生分解性材料で少なくとも部分的に製作される壁であって、内部空間を取り囲む内側表面、外側表面及び前記内側表面若しくは前記外側表面又は両方の上のＰＥＣＶＤコーティング群を有する壁を含む容器であって、前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、
   ・任意選択により、ＳｉＯ_xＣ_y（ここで、ｘは、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）によって測定されて約０．５～約２．４であり、及びｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３である）を含む結合コーティング又は層、
   ・結合コーティング又は層が存在する場合、前記結合コーティング又は層の上に位置付けられる、ＳｉＯ_x（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約１．５～約２．９、代替的に約１．５～約２．６、代替的に約１．５～約２．０である）のバリアコーティング又は層、
   ・任意選択により、前記バリアコーティング又は層の上に位置付けられる、ＳｉＯ_xＣ_y（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約０．５～約２．４であり、及びｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３である）のｐＨ保護コーティング又は層
   を含む、容器。
2. 前記壁は、ＡＳＴＭ Ｄ６４００又はＥＮ ＩＳＯ ４７２：２００１によって定義される生分解性材料である、請求項１に記載の容器。
3. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群を有する前記壁も、ＡＳＴＭ Ｄ６４００又はＥＮ ＩＳＯ ４７２：２００１によって定義される生分解性材料である、請求項２に記載の容器。
4. ＡＳＴＭ Ｄ６４００又はＳＩＯ／ＤＩＳ １７０８８によって定義される堆肥化可能材料で少なくとも部分的に製作される壁であって、内部空間を取り囲む内側表面、外側表面及び前記内側表面若しくは前記外側表面又は両方の上のＰＥＣＶＤコーティング群を有する壁を含む容器であって、前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、
   ・任意選択により、ＳｉＯ_xＣ_y（ここで、ｘは、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）によって測定されて約０．５～約２．４であり、及びｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３である）を含む結合コーティング又は層、
   ・結合コーティング又は層が存在する場合、前記結合コーティング又は層の上に位置付けられる、ＳｉＯ_x（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約１．５～約２．９、代替的に約１．５～約２．６、代替的に約１．５～約２．０である）のバリアコーティング又は層、
   ・任意選択により、前記バリアコーティング又は層の上に位置付けられる、ＳｉＯ_xＣ_y（ここで、ｘは、ＸＰＳによって測定されて約０．５～約２．４であり、及びｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約３である）のｐＨ保護コーティング又は層
   を含む、容器。
5. 前記壁は、ＡＳＴＭ Ｄ６４００又はＳＩＯ／ＤＩＳ １７０８８によって定義される堆肥化可能材料である、請求項４に記載の容器。
6. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群を有する前記壁も、ＡＳＴＭ Ｄ６４００又はＳＩＯ／ＤＩＳ １７０８８によって定義される堆肥化可能材料である、請求項５に記載の容器。
7. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記壁の前記内側表面上にのみある、請求項１～６の何れか一項に記載の容器。
8. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記壁の前記外側表面上にのみある、請求項１～７の何れか一項に記載の容器。
9. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群の第一のインスタンスは、前記壁の前記外側表面上にあり、及び前記ＰＥＣＶＤコーティング群の前記第一のインスタンスと同じであるか又は異なる前記ＰＥＣＶＤコーティング群の第二のインスタンスは、前記壁の前記内側表面上にある、請求項１～８の何れか一項に記載の容器。
10. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、ＰＥＣＶＤにより、任意選択によりフルオロカーボン前駆体、炭化水素前駆体、ハイドロフルオロカーボン前駆体又はそれらの何れかの組合せを用いて堆積された水蒸気バリアコーティング又は層をさらに含む、請求項１～９の何れか一項に記載の容器。
11. 前記結合コーティング又は層は、存在し、任意選択により、前記結合コーティングのためのｘは、Ｘ線光電子分光計（ＸＰＳ）によって測定されて約１～約２であり、及び前記結合コーティングのためのｙは、ＸＰＳによって測定されて約０．６～約１．５である、請求項１～１０の何れか一項に記載の容器。
12. 前記結合コーティング又は層は、有機シリコン前駆体を含む前駆体供給のＰＥＣＶＤによって堆積される、請求項１～１１の何れか一項に記載の容器。
13. 前記有機シリコン前駆体は、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）又はこれらの組合せを含むか又はそれからなる、請求項１２に記載の容器。
14. 前記結合コーティング又は層は、平均して約５～約２００ｎｍの厚さ、任意選択により約５～約１００ｎｍの厚さ、任意選択により約５～約５０ｎｍの厚さ、任意選択により約５～約２０ｎｍの厚さである、請求項１～１３の何れか一項に記載の容器。
15. 前記ＳｉＯｘバリアコーティング又は層は、平均して約２～約１０００ｎｍの厚さ、任意選択により４ｎｍ～５００ｎｍの厚さ、任意選択により１０～２００ｎｍの厚さ、任意選択により２０～２００ｎｍの厚さ、任意選択により２０～１００ｎｍの厚さ、任意選択により２０～３０ｎｍの厚さである、請求項１～１４の何れか一項に記載の容器。
16. 流体組成物と接触する前記ｐＨ保護コーティング又は層は、存在し、且つ任意選択により約１０～約１０００ｎｍの厚さ、任意選択により約１０～約５００ｎｍの厚さ、任意選択により約１０～約４００ｎｍの厚さ、任意選択により約１０～約３００ｎｍの厚さ、任意選択により約１０～約２００ｎｍの厚さ、任意選択により約１０～約１００ｎｍの厚さである、請求項１～１５の何れか一項に記載の容器。
17. 前記ｐＨ保護コーティング又は層は、有機シリコン前駆体を含む前駆体供給のＰＥＣＶＤによって堆積される、請求項１～１６の何れか一項に記載の容器。
18. 前記有機シリコン前駆体は、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）又はこれらの組合せを含むか又はそれからなる、請求項１７に記載の容器。
19. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群全体の厚さは、５００ｍ未満、任意選択により４００ｎｍ未満、任意選択により３００ｎｍ未満、任意選択により２００ｎｍ未満、任意選択により１００ｎｍ未満である、請求項１～１８の何れか一項に記載の容器。
20. 表面平滑化コーティング又は層は、前記ＰＥＣＶＤコーティング群の下で前記壁上に直接堆積され、任意選択により、前記表面平滑化コーティング又は層は、ラッカ及びツェイン等のラッカ代替品から選択される１つ又は複数の材料を含み、任意選択により、前記表面コーティング又は層は、ラッカコーティングである、請求項１～１９の何れか一項に記載の容器。
21. 前記堆肥化可能又は生分解性材料は、単層構造である、請求項１～２０の何れか一項に記載の容器。
22. 前記堆肥化可能又は生分解性材料は、コーンスターチ、片栗粉、キャッサバでんぷん若しくはタピオカ等のでんぷん、リグニン、セルロース、大豆たんぱく質、乳酸、竹若しくは竹から製作される木材様繊維製品等の木材、ひまわり種殻若しくは外皮又はこれらの何れか２つ以上の組合せから選択される再生可能原材料から得られる、請求項１～２１の何れか一項に記載の容器。
23. 前記堆肥化可能又は生分解性材料は、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリ（３－ヒドロキシブチル酸）（ＰＨＢ）及びＰＨＢコポリマ等のポリヒドロキシアルカン酸（ＰＨＡ）、ポリ（ブチレンサクシネート）（ＰＢＳ）、熱可塑性でんぷん（ＴＰＳ）、でんぷんブレンド、セルロース又はセルロースエステル、キトサン、たんぱく質ベースのポリマ、ポリ（ブチレンサクシネート）（ＰＢＳ）、ポリ（ブチレンサクシネートアジペート）（ＰＢＳＡ）、ポリ（エチレンサクシネート）（ＰＥＳ）及びポリ（エチレンサクシネートアジペート）（ＰＥＳＡ）等の脂肪族ポリエステル及びコポリエステル、ポリ（ブチレンアジペートテレフタレート（ＰＢＡＴ）、ポリブチレンサクシネートテレフタレート（ＰＢＳＴ）及びポリ（トリメチレンテレフタレート）（ＰＴＴ）等の芳香族コポリエステル、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリエステルアミド（ＰＥＡ）並びにポリ（ビニルアルコール）（ＰＶＡ）の１つ又は複数を含む、請求項１～２２の何れか一項に記載の容器。
24. 前記堆肥化可能又は生分解性材料は、
    １つ又は複数の再生可能資源から得られるポリ乳酸、結晶化ポリ乳酸、脂肪酸ポリ乳酸コポリマ又はこれらの組合せ、
    セルロース系製紙原料上の再生可能資源から得られるポリ乳酸、結晶化ポリ乳酸、脂肪酸ポリ乳酸コポリマ又はこれらの組合せ、及び
    （ｉ）ポリブチレンサクシネート（ＰＢＳ）又はポリブチレンサクシネートアジペート（ＰＢＳＡ）、及び（ｉｉ）ひまわり種殻粉を含む複合材料
    の何れかを含むか又はそれからなる、請求項１～２３の何れか一項に記載の容器。
25. 前記内部空間を閉じる閉鎖手段をさらに含む、請求項１～２４の何れか一項に記載の容器。
26. 前記閉鎖手段は、プラスチック、金属箔又はこれらの組合せを含む、請求項２５に記載の容器。
27. 食品コンテナ、コーヒー若しくはティーカップ、使い捨てコーヒー若しくはティーポッド、バイアル、管、ボトル、ジャー、食品パッケージ、ブリスタパッケージ又はパウチ等の柔軟パッケージである、請求項１～２６の何れか一項に記載の容器。
28. 使い捨てコーヒー又はティーポッドである、請求項２７に記載の容器。
29. 空気の影響を受けやすいか、水分の影響を受けやすいか又は両方である充填材料を収容する、請求項１～２８の何れか一項に記載の容器。
30. 前記充填材料は、食品、飲料又は水を接触させることによって飲料が作られ得る飲料生成材料、任意選択によりコーヒー粉、茶葉若しくは脱水飲料粉末の少なくとも１つである、請求項２９に記載の容器。
31. ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器より低い酸素伝送速度（ＯＴＲ）を有する、請求項１～３０の何れか一項に記載の容器。
32. ラッカコーティング又は層を有さない、それ以外には同じ容器より低い酸素伝送速度（ＯＴＲ）を有する、請求項１～３１の何れか一項に記載の容器。
33. ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器より低い水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）を有する、請求項１～３２の何れか一項に記載の容器。
34. ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器より低い溶出物プロファイルを有する、請求項１～３３の何れか一項に記載の容器。
35. 前記ＰＥＣＶＤコーティングは、フレーバスカルピングを防止又は低減する、請求項１～３４の何れか一項に記載の容器。
36. 充填材料を収容し、ヘッドスペースを有し、及び前記ヘッドスペースは、前記ヘッドスペース内の１つ又は複数の材料のアイデンティティ及び濃度によって規定される化学物質プロファイルを有し、前記化学物質プロファイルは、長い期間中、ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じ容器のものより小さい、前記材料のアイデンティティの変化、少なくとも１つの材料の濃度の変化又は両方を示し、任意選択により、前記化学物質プロファイルは、ヘッドスペース化学物質分析によって特定される、請求項１～３５の何れか一項に記載の容器。
37. 前記長い期間は、６カ月、１２カ月、１８カ月、２４カ月又は３６カ月である、請求項３６に記載の容器。
38. 前記ヘッドスペース化学物質分析は、ガスクロマトグラフィ（ＧＣ）又はガス液体クロマトグラフィ（ＧＬＣ）の少なくとも一方によって行われる、請求項３６又は３７に記載の容器。
39. 使い捨てコーヒーポッドであり、前記堆肥化可能又は生分解性材料は、ひまわり種殻／外皮から得られた材料を含むか又はそれからなり、及び内容物は、コーヒー粉である、請求項１～３８の何れか一項に記載の容器。
40. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記結合コーティング又は層を含む、請求項３９に記載の容器。
41. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記ｐＨ保護コーティング又は層を含む、請求項３９又は４０に記載の容器。
42. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、水蒸気バリアコーティング又は層を含む、請求項３９～４１の何れか一項に記載の容器。
43. 前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記コーティングされた容器壁の１重量％未満を占め、代替的に、前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記コーティングされた容器壁の０．９重量％未満を占め、代替的に、前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記コーティングされた容器壁の０．８重量％未満を占め、代替的に、前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記コーティングされた容器壁の０．７重量％未満を占め、代替的に、前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記コーティングされた容器壁の０．６重量％未満を占め、代替的に、前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、前記コーティングされた容器壁の０．５重量％未満を占める、請求項１～４２の何れか一項に記載の容器。
44. 使い捨てコーヒーポッドであり、及び前記ＰＥＣＶＤコーティング群は、６００マイクログラム未満、代替的に５００マイクログラム未満、代替的に４００マイクログラム未満の重量である、請求項１～４３の何れか一項に記載の容器。
45. コーヒー粉を収容する使い捨てコーヒーポッドであり、前記使い捨てコーヒーポッドは、前記ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じコーヒーポッドを上回る保管寿命を有し、任意選択により、前記使い捨てコーヒーポッドは、前記ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じコーヒーポッドより少なくとも２倍長い保管寿命を有し、任意選択により、前記使い捨てコーヒーポッドは、前記ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じコーヒーポッドより少なくとも３倍長い保管寿命を有し、任意選択により、前記使い捨てコーヒーポッドは、前記ＰＥＣＶＤコーティング群を有さない、それ以外には同じコーヒーポッドより少なくとも４倍長い保管寿命を有する、請求項１～４４の何れか一項に記載の容器。
46. 請求項１～４５の何れか一項に記載の容器を製造するプロセス。
47. 請求項１～４５の何れか一項に記載の容器を製造するように適合された容器加工システム。
48. 酸素の影響を受けやすい内容物のためのコンテナとしての、請求項１～４５の何れか一項に記載の容器の使用。

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