JP2022521057A - 複数のビームレットを有する荷電粒子装置および装置を動作させる方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1.荷電粒子ビーム装置(1)を動作させる方法であって、
複数のビームレット(4A、4D)の各々をデフレクタ(6)およびスキャナ(12)に通すことであり、ビームレットが、デフレクタを通過した後にスキャナを通過する、通すことと、
アレイを形成する複数の焦点(40A、40D)を形成するように、対物レンズ(10)によって、複数のビームレット(4A、4D)の各々をサンプル上に集束させることであり、第1のビームレット(4A)を第1のスポット(40A)上に集束させ、第2のビームレットを第2のスポット(40D)上に集束させることを含む、集束させることと、
装置の集中構成で、
デフレクタ(6)によって、複数のビームレットの各々を光軸に直交する仮想平面(210)上のコマフリー点(100)の方へ誘導することであり、
第1のスポット(40A)が、第1のビームレット(4A)によって形成された正常な第1の焦点(40A)であり、
第1のビームレットが正常な第1の視野を走査し、第2のビームレットが正常な第2の視野を走査することを含めて、ビームレットの各々が正常な視野を走査するように、スキャナ12を走査させる、誘導することと、
装置のビームレット変位構成(図4)で、
第1のビームレット(4A)が、仮想平面(210)上の許容収差点105を通過し、第1のビームレット4Aが、変位させられた第1の視野405Aを走査するように、スキャナを走査することであり、
第1のスポット(40Aまたは45A)が、正常な第1の焦点(40A)から、変位させられた第1の焦点(45A)へ変位させられる、走査することとを含む、荷電粒子ビーム装置(1)を動作させる方法。
ビームレット変位構成で、第1のビームレットが許容収差点を通過するように、スキャナおよびデフレクタを走査させることができる(同期してなど)。
2.ビームレット変位構成で、
変位させられた第1の視野(405A)が、光軸に実質上直交する方向に、正常な第1の視野(400A)から変位させられ、
スキャナが、第2のビームレットが正常な第2の視野を走査するように走査させられる、
実施形態1に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
スキャナは、ビームレットの各々を、たとえばそれぞれの各視野が各ビームレットから同時に走査されるように、同期して走査することができる。
3.集中構成で、正常な第1の焦点(40A)が、第1のビームレット(4A)の正常な第1の視野(400A)内の中心に位置し、
ビームレット変位構成で、変位させられた第1のスポット(45A)が、第1のビームレットの変位させられた視野の中心に位置する、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
4.集中構成およびビームレット変位構成で、第2のスポット(40D)が、第2のビームレットの正常な第2の視野(400D)内の中心に位置する、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
5.集中構成で、アレイが規則的に隔置される、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
ビームレット変位構成で、第1のビームレットなど、ビームレットのうちの少なくとも1つを、その正常なスポットから変位させられた位置で集束させることができる。
6.集中構成が、アレイの各焦点が仮想リング上に配置されるようになっており、
ビームレット変位構成で、第1のスポットが仮想リングから変位させられる、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
7.デフレクタが、デフレクタ(6)の各デフレクタ要素(6A、6D)に少なくとも電気双極子および電気四重極を生成するように構成されたMEMを含み、各デフレクタ要素が、ビームレットのうちの1つを通すように構成される、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
MEMはまた、六重極を生成するように構成することができる。MEMは、8つの極/電極を有することができる。MEMは、最大20個など、さらに多くの多重極を生成するように構成することができる。
8.許容収差点が、仮想平面上のコマフリー点から変位させられ、
コマフリー点が、対物レンズの視野内に位置する、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
9.集中構成およびビームレット変位構成で、ビームレットの各々が、スキャナによって走査され、
ビームレット変位構成で、第1のビームレットが、デフレクタによって走査され、
第2のビームレットが、デフレクタによってコマフリー点の方へ静的に偏向させられる、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
スキャナは、ビームレットの各々を同期して走査することができる。デフレクタは、第1のビームレットをスキャナと同期して走査することができる。
10.第1のビームレットに、第1のビームレットの像面湾曲を補正するレンズレットを通過させること
をさらに含む、上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
レンズレットは、スキャナの走査と同期して調整することができる。
11.第1のビームレットの像面湾曲の補正が、スキャナおよび/またはデフレクタの走査と同期させられ、レンズレットが、スキャナおよび/またはデフレクタと同期して走査される、
実施形態10に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
12.デフレクタが、ビームレット変位構成で、
許容収差点が最小収差点になり、
第1のビームレットが、スキャナの走査およびデフレクタの走査中に最小収差点を連続的に通過するように、第1のMEMおよび第2のMEMを含む、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
13.ビームレット変位構成で、デフレクタを走査させることが、
第1のビームレットを動的に偏向させながら、第2のビームレットを静的に偏向させるように、第1のビームレットを走査することを含む、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
14.ビームレット変位構成で、スキャナおよびデフレクタが、第1のビームレットが許容収差点を連続的に通過するように、同期して走査させられる、
上述した実施形態のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。
15.荷電粒子源および多開孔板であり、多開孔板が複数の開孔を含み、各開孔がビームレットを通し、多開孔板が荷電粒子の複数のビームレットを形成する、荷電粒子源および多開孔板と、
デフレクタと、
スキャナと、
複数のビームレットを複数の焦点上に集束させて、第1のスポット上に集束させられた第1のビームレットおよび第2のスポット上に集束させられた第2のビームレットを含むアレイを形成するように構成された対物レンズとを備える、
荷電粒子ビーム装置であって、
荷電粒子ビーム装置が、集中構成およびビームレット変位構成を有し、
集中構成で、
デフレクタが、複数のビームレットの各々を光軸に直交する仮想平面上のコマフリー点の方へ誘導するように構成され、
複数の焦点が、第1のビームレットによって形成された正常な第1の焦点である第1のスポットを含み、
ビームレット変位構成で、
スキャナおよびデフレクタが各々、
デフレクタが、仮想平面上の許容収差点を通るように第1のビームレットを偏向させ、
第1のビームレットが、変位させられた第1の視野を走査するように、走査させられるように構成され、
第1のスポットが、正常な第1の焦点から、変位させられた第1の焦点へ変位させられる、
荷電粒子ビーム装置。
16.荷電粒子ビーム装置がビームレット変位構成にあるとき、第2のビームレットから独立して、第1のビームレットの像面湾曲収差を補正するように構成されたレンズレットアレイ
をさらに含む、実施形態15に記載の荷電粒子ビーム装置。
17.スキャナが、複数のビームレットの各々を同期して同時に走査するように構成され、
ビームレット変位構成で、
デフレクタが、スキャナと同期して、第1のビームレットを動的に偏向させるように構成され、
デフレクタが、第2のビームレットをコマフリー点の方へ静的に偏向させるように構成される、
実施形態15または16に記載の荷電粒子ビーム装置。
18.デフレクタが、
ビームレット変位構成で、許容収差点が最小収差点になるように構成された第1のMEMおよび第2のMEMを含み、
デフレクタおよびスキャナが、第1のビームレットが最小収差点を連続的に通過するように、同期するように構成される、
実施形態15、16、または17に記載の荷電粒子ビーム装置。
19.デフレクタが、第1のMEMおよび第2のMEMを含み、
第1のMEMおよび第2のMEMが、ビームレット変位構成で、スキャナの走査と同期して、非点収差を動的に補正するように構成される、
実施形態15、16、17、または18に記載の荷電粒子ビーム装置。
各MEMは、双極子、四重極、六重極、およびそれらの組合せを生成するように構成することができる。各MEMはまた、最大20個など、より大きい多重極を生成することができる。
20.荷電粒子ビーム装置の構成を制御するコントローラを含み、スキャナおよびデフレクタが、コントローラによって制御され、コントローラが、スキャナおよびデフレクタを同期させる、
実施形態15~19のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置。
21.デフレクタが、電気双極子以上(双極子、四重極、および六重極など)を生成するように構成されたMEMを含み、
デフレクタを走査することが、デフレクタによって、スキャナの走査と同期するなど、少なくとも1つのビームレットを動的に偏向させることである、
実施形態15~20のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置。
Claims (20)
- 荷電粒子ビーム装置を動作させる方法であって、
複数のビームレットの各々をデフレクタおよびスキャナに通すことであり、前記ビームレットが、前記デフレクタを通過した後に前記スキャナを通過する、通すことと、
アレイを形成する複数の焦点を形成するように、対物レンズによって、前記複数のビームレットの各々をサンプル上に集束させることであり、第1のビームレットを第1のスポット上に集束させ、第2のビームレットを第2のスポット上に集束させることを含む、集束させることと、
前記装置の集中構成で、
前記デフレクタによって、前記複数のビームレットの各々を光軸に直交する仮想平面上のコマフリー点の方へ誘導することであり、
前記第1のスポットが、前記第1のビームレットによって形成された正常な第1の焦点であり、
前記第1のビームレットが正常な第1の視野を走査し、前記第2のビームレットが正常な第2の視野を走査することを含めて、前記ビームレットの各々が正常な視野を走査するように、前記スキャナを走査させる、誘導することと、
前記装置のビームレット変位構成で、
前記第1のビームレットが前記仮想平面上の許容収差点を通過し、前記第1のビームレットが変位させられた第1の視野を走査するように、前記スキャナを走査することであり、
前記第1のスポットが、前記正常な第1の焦点から変位させられた第1の焦点へ変位させられる、走査することとを含む、荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記ビームレット変位構成で、
前記変位させられた第1の視野が、前記光軸に実質上直交する方向に、前記正常な第1の視野から変位させられ、
前記スキャナが、前記第2のビームレットが前記正常な第2の視野を走査するように走査させられる、
請求項1に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記集中構成で、前記正常な第1の焦点が、前記第1のビームレットの正常な第1の視野の中心に位置し、
前記ビームレット変位構成で、前記変位させられた第1のスポットが、前記第1のビームレットの変位させられた視野の中心に位置する、
請求項1または2に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記集中構成および前記ビームレット変位構成で、前記第2のスポットが、前記第2のビームレットの正常な第2の視野の中心に位置する、
請求項1~3のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記集中構成で、前記アレイが規則的に隔置される、
請求項1~4のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記集中構成が、前記アレイの各焦点が仮想リング上に配置されるようになっており、
前記ビームレット変位構成で、前記第1のスポットが前記仮想リングから変位させられる、
請求項1~5のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記デフレクタが、前記デフレクタの各デフレクタ要素に少なくとも電気双極子および電気四重極を生成するように構成されたMEMを含み、各デフレクタ要素が、前記ビームレットのうちの1つを通すように構成される、
請求項1~6のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記許容収差点が、前記仮想平面上の前記コマフリー点から変位させられ、
前記コマフリー点が、
前記対物レンズの視野内に位置する、
請求項1~7のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記集中構成および前記ビームレット変位構成で、前記ビームレットの各々が、前記スキャナによって走査され、
前記ビームレット変位構成で、前記第1のビームレットが、前記デフレクタによって走査され、
前記第2のビームレットが、前記デフレクタによって前記コマフリー点の方へ静的に偏向させられる、
請求項1~8のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記第1のビームレットに、前記第1のビームレットの像面湾曲を補正するレンズレットを通過させること
をさらに含む、請求項1~9のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記第1のビームレットの像面湾曲の補正が、前記スキャナおよび/または前記デフレクタの前記走査と同期させられ、前記レンズレットが、前記スキャナおよび/またはデフレクタと同期して走査される、
請求項10に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記デフレクタが、前記ビームレット変位構成で、
前記許容収差点が最小収差点になり、
前記第1のビームレットが、前記スキャナの走査および前記デフレクタの走査中に、前記最小収差点を連続的に通過するように、第1のMEMおよび第2のMEMを含む、
請求項1~11のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記ビームレット変位構成で、前記デフレクタを走査させることが、
前記第1のビームレットを動的に偏向させながら、前記第2のビームレットを静的に偏向させるように、前記第1のビームレットを走査することを含む、
請求項1~12のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記ビームレット変位構成で、前記スキャナおよびデフレクタが、前記第1のビームレットが前記許容収差点を連続的に通過するように、同期して走査させられる、
請求項1~13のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置を動作させる方法。 - 荷電粒子源および多開孔板であり、前記多開孔板が複数の開孔を含み、各開孔がビームレットを通し、前記多開孔板が荷電粒子の複数のビームレットを形成する、荷電粒子源および多開孔板と、
デフレクタと、
スキャナと、
前記複数のビームレットを複数の焦点上に集束させて、第1のスポット上に集束させられた第1のビームレットおよび第2のスポット上に集束させられた第2のビームレットを含むアレイを形成するように構成された対物レンズとを備える、
荷電粒子ビーム装置であって、
前記荷電粒子ビーム装置が、集中構成およびビームレット変位構成を有し、
前記集中構成で、
前記デフレクタが、前記複数のビームレットの各々を光軸に直交する仮想平面上のコマフリー点の方へ誘導するように構成され、
前記複数の焦点が、前記第1のビームレットによって形成された正常な第1の焦点である前記第1のスポットを含み、
前記ビームレット変位構成で、
前記スキャナおよびデフレクタが各々、
前記デフレクタが前記仮想平面上の許容収差点を通るように前記第1のビームレットを偏向させ、
前記第1のビームレットが、変位させられた第1の視野を走査するように、走査させられるように構成され、
前記第1のスポットが、前記正常な第1の焦点から、変位させられた第1の焦点へ変位させられる、
荷電粒子ビーム装置。 - 前記荷電粒子ビーム装置が前記ビームレット変位構成にあるとき、前記第2のビームレットから独立して、前記第1のビームレットの像面湾曲収差を補正するように構成されたレンズレットアレイ
をさらに含む、請求項15に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記スキャナが、前記複数のビームレットの各々を同期して同時に走査するように構成され、
前記ビームレット変位構成で、
前記デフレクタが、前記スキャナと同期して、前記第1のビームレットを動的に偏向させるように構成され、
前記デフレクタが、前記第2のビームレットを前記コマフリー点の方へ静的に偏向させるように構成される、
請求項15または16に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記デフレクタが、
前記ビームレット変位構成で、前記許容収差点が最小収差点になるように構成された第1のMEMおよび第2のMEMを含み、
前記デフレクタおよび前記スキャナが、前記第1のビームレットが前記最小収差点を連続的に通過するように、同期するように構成される、
請求項15、16、または17に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記デフレクタが、第1のMEMおよび第2のMEMを含み、
前記第1のMEMおよび前記第2のMEMが、前記ビームレット変位構成で、前記スキャナの前記走査と同期して非点収差を動的に補正するように構成される、
請求項15~18のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記荷電粒子ビーム装置の構成を制御するコントローラを含み、前記スキャナおよび前記デフレクタが、前記コントローラによって制御され、前記コントローラが、前記スキャナおよび前記デフレクタを同期させ、任意選択で前記デフレクタが、電気双極子以上を生成するように構成されたMEMを含み、前記デフレクタを走査することが、前記デフレクタによって、前記スキャナの前記走査と同期するなど、少なくとも1つのビームレットを動的に偏移させることである、
請求項15~19のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム装置。
Applications Claiming Priority (3)
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