JP2022501794A - マルチビーム粒子ビームシステム、及びマルチビーム粒子ビームシステムを動作させる方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- マルチビーム粒子ビームシステムを動作させる方法であって、
多数の粒子ビームの各粒子ビームが多極子素子を通過するように多数の粒子ビームを生成するステップであって、各多極子素子は、前記多極子素子の中心の周りで周方向に分布配置される複数の偏向素子を有し、前記多極子素子の各々は無傷又は欠陥であるステップと、
前記粒子ビームを所定の平面に集束させるステップと、
前記多極子素子を通過する前記粒子ビームに影響を与えるために、前記多極子素子の前記偏向素子に対する励起を判定するステップであって、前記所定の平面における前記粒子ビームの各々の前記集束が所定の基準を満たすように、前記多極子素子の各々の前記偏向素子に対する前記励起を判定するステップと、
前記判定励起で無傷である前記多極子素子の前記偏向素子を励起するステップと、
欠陥である前記多極子素子のうち少なくとも1つの多極子素子の前記偏向素子に対する前記判定励起を修正し、前記修正励起で前記欠陥多極子素子の前記偏向素子を励起するステップと
を含み、
前記修正ステップは、補正励起を前記判定励起に追加するステップを含み、前記補正励起は、前記欠陥多極子素子の全偏向素子に対して同じである、方法。 - 前記欠陥多極子素子は、欠陥偏向素子を有し、その前記励起は、設定不可能であり、欠陥によって規定される指定励起であり、前記修正ステップは、前記欠陥偏向素子が励起されるべきである前記励起が前記指定励起と等しいように、前記補正励起を判定するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記偏向素子は、電極であり、
前記励起を判定するステップは、電圧を判定するステップを含み、
前記電極を励起するステップは、前記電圧を前記電極に印加するステップを含む、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記多極子素子を検査し、前記検査に基づいて前記無傷多極子素子及び前記欠陥多極子素子を判定するステップを更に含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 提供データセットを評価し、前記提供データセットの前記評価に基づいて前記無傷多極子素子及び前記欠陥多極子素子を判定するステップを更に含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記多極子素子の各々に対して前記多極子素子を通過する前記粒子ビームの所望の影響を表す変数を判定するステップを更に含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記多極子素子の前記偏向素子に対する前記励起を判定するステップは、前記多極子素子の前記偏向素子を前記判定励起で励起する場合、前記多極子素子を通過する前記粒子ビームに対する前記偏向素子の効果が、前記変数によって表される前記粒子ビームの前記影響を達成するようなものであるように行われる、請求項6に記載の方法。
- 前記変数は、補償されるべき前記粒子ビームの少なくとも1つの非点収差を含む、請求項6又は7に記載の方法。
- 多数の開口部を各々が有する複数のマルチアパーチャ板であって、少なくとも1つの制御可能偏向素子は、前記複数のマルチアパーチャ板の各々における前記開口部の第1のサブセットに設けられており、前記複数のマルチアパーチャ板はビーム経路に順々に配置されている複数のマルチアパーチャ板と、
各粒子ビームが前記開口部を介して前記複数のマルチアパーチャ板を連続的に通過するような方法で多数の粒子ビームを生成するマルチビーム粒子源と
を含み、
前記複数のマルチアパーチャ板における前記開口部の前記第1のサブセットは、前記少なくとも1つの制御可能偏向素子が設けられている前記複数のマルチアパーチャ板における丁度1つの開口部を各粒子ビームが通過するような方法で配置されている、マルチビーム粒子ビームシステム。 - 設定可能な励起で前記少なくとも1つの制御可能偏向素子を励起するように構成されている制御器を更に含む、請求項9に記載の粒子ビームシステム。
- 前記複数のマルチアパーチャ板のうち少なくとも1つのマルチアパーチャ板における前記開口部の第2のサブセットにおいて、前記励起が指定され設定不可能である少なくとも1つの偏向素子が設けられている、請求項9又は10に記載の粒子ビームシステム。
- 前記少なくとも1つの制御可能偏向素子は、電気伝導的に電圧供給システムに接続されている少なくとも1つの電極を含む、請求項9〜11のいずれか一項に記載の粒子ビームシステム。
- 特に請求項9〜12のいずれか一項に記載のマルチビーム粒子ビームシステムと組み合わせた、マルチビーム粒子ビームシステムであって、
多数の開口部を有する少なくとも1つのマルチアパーチャ板であって、少なくとも1つの制御可能偏向素子は、前記少なくとも1つのマルチアパーチャ板における前記開口部の各々に設けられている少なくとも1つのマルチアパーチャ板と、
供給線を介して前記偏向素子に設定可能な励起を供給するように構成されている電圧供給システムと
を含み、
前記マルチアパーチャ板における複数の前記開口部は、開口部の複数のグループに割り当てられることができ、
開口部の前記グループのうち1つに含まれている各開口部は、開口部の前記グループのうち任意の他のグループに含まれておらず、
開口部の任意の所与のグループの前記全開口部は各々、複数の偏向素子が所与の供給線に一緒に接続されているように所与の供給線に接続されている少なくとも1つの偏向素子を有する、マルチビーム粒子ビームシステム。 - 前記複数のグループのうち任意の所与のグループの複数の開口部は各々、開口部の前記所与のグループに同様に属する最も近い隣接物として開口部を有する、請求項13に記載のマルチビーム粒子ビームシステム。
- 前記開口部は各々、前記開口部の周りで周方向に分布配置されている同一の多数の偏向素子を有する、請求項13又は14に記載のマルチビーム粒子ビームシステム。
- 前記開口部は各々、8つの偏向素子を有する、請求項15に記載のマルチビーム粒子ビームシステム。
- 開口部の前記同じグループに属する多数の開口部は、全グループにわたる算術平均で、2から3である、請求項13〜16のいずれか一項に記載のマルチビーム粒子ビームシステム。
- 各粒子ビームが前記開口部のうち1つを介して前記マルチアパーチャ板を通過するように多数の粒子ビームを生成するマルチビーム粒子源と、
前記マルチビーム粒子ビームシステムの動作中に前記マルチアパーチャ板における前記開口部を部分的に通過する粒子を生成する粒子源と、
前記マルチアパーチャ板の上流又は下流の前記粒子のビーム経路に配置されている複数のレンズと
を更に含み、
前記マルチアパーチャ板における前記開口部の前記偏向素子は、前記供給線に接続されており、前記電圧供給システムは、前記複数のレンズによって生成されているフィールド非点収差を補償するような方法で前記開口部を通過する前記粒子ビームに各開口部の前記偏向素子が影響を与えるように構成されている、請求項13〜17のいずれか一項に記載のマルチビーム粒子ビームシステム。
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