JP2022188310A

JP2022188310A - Sample supporting body

Info

Publication number: JP2022188310A
Application number: JP2019210597A
Authority: JP
Inventors: 晃田代; Akira Tashiro; 政弘小谷; Masahiro Kotani; 孝幸大村; Takayuki Omura
Original assignee: Hamamatsu Photonics KK
Current assignee: Hamamatsu Photonics KK
Priority date: 2019-11-21
Filing date: 2019-11-21
Publication date: 2022-12-21
Also published as: WO2021100271A1

Abstract

To provide a sample supporting body that can easily and precisely adjust a position in an imaging mass analysis.SOLUTION: A sample supporting body 1A is used to ionize a sample S. The sample supporting body 1A includes: a substrate 2 having a first surface 2a and a second surface 2b on the side opposite the first surface 2a and also having a measurement region R1 with a plurality of through-holes 2c in the first surface 2a and the second surface 2b; a frame 3 provided on the first surface 2a of the substrate 2, the frame surrounding the measurement region R1 when the frame is viewed from a thickness direction D of the substrate 2; and a marker 6 provided on an outer surface 3g on the side opposite the substrate 2 of the frame 3.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、試料支持体に関する。 The present disclosure relates to sample supports.

従来、試料（例えば生体試料）のイメージング質量分析に用いられる試料支持体が知られている（例えば、特許文献１参照）。試料支持体は、第１表面及び第１表面とは反対側の第２表面に開口する複数の貫通孔が形成された測定領域を有する基板を備えている。試料支持体を用いたイメージング質量分析では、基板の第２表面が試料に対向するように試料上に試料支持体が配置される。これにより、試料支持体の下方（第２表面側）に配置された試料の成分が、毛細管現象によって、基板の第２表面側から貫通孔を介して第１表面側に向けて上昇する。続いて、例えばレーザ光等のエネルギー線が基板の第１表面側に照射されることにより、基板の第１表面側に移動した試料の成分がイオン化される。そして、各位置のイオン化された試料の成分を測定することにより、各位置の試料の分子分布（二次元分布）を画像化すること（イメージング質量分析）が可能となる。 Conventionally, a sample support used for imaging mass spectrometry of a sample (for example, biological sample) is known (see, for example, Patent Document 1). The sample support includes a substrate having a measurement region with a plurality of through-holes opening to a first surface and a second surface opposite the first surface. In imaging mass spectrometry using a sample support, the sample support is placed over the sample such that the second surface of the substrate faces the sample. As a result, the component of the sample placed below the sample support (on the second surface side) rises from the second surface side of the substrate toward the first surface side through the through holes due to capillary action. Subsequently, the first surface side of the substrate is irradiated with an energy beam such as a laser beam, thereby ionizing the components of the sample that have moved to the first surface side of the substrate. By measuring the ionized components of the sample at each position, it is possible to visualize the molecular distribution (two-dimensional distribution) of the sample at each position (imaging mass spectrometry).

特許第６０９３４９２号公報Japanese Patent No. 6093492

上述したイメージング質量分析では、以下のような処理が行われる。まず、試料上に試料支持体が配置された状態で、試料支持体の第１表面側から、測定領域の全体とその周辺領域とを撮像したスキャナ画像が取得される。スキャナ画像から、測定領域内の試料領域（毛細管現象によって試料の成分が第１表面側に吸い上げられた領域であり、エネルギー線を照射すべき領域）が把握される。また、基板の第１表面側にエネルギー線を照射するための前処理として、質量分析装置は、エネルギー線の照射範囲（すなわち、試料領域を含む範囲）を認識する処理を実行する。質量分析装置は、エネルギー線を照射する照射部と、照射部の動作を制御する制御部と、エネルギー線の照射位置を含む領域を撮像したカメラ画像を取得するための小型のカメラ（例えばＣＣＤカメラ等）と、を備えている。制御部は、エネルギー線の照射位置を示す制御用の座標を保持している。試料支持体上の少なくとも３つ以上の複数のポイントについて、スキャナ画像において設定された座標と制御用の座標との対応付け（位置合わせ）が行われる。このような位置合わせを行うことにより、質量分析装置において、スキャナ画像の座標系を用いてエネルギー線の照射位置を設定することが可能となる。すなわち、スキャナ画像において把握された試料領域をエネルギー線の照射範囲として設定することが可能となる。 In the imaging mass spectrometry described above, the following processes are performed. First, with the sample support placed on the sample, a scanner image of the entire measurement area and its peripheral area is acquired from the first surface side of the sample support. From the scanner image, the sample area (the area where the components of the sample are sucked up to the first surface side by capillary action and the area to be irradiated with the energy beam) within the measurement area is grasped. Moreover, as a pretreatment for irradiating the first surface side of the substrate with the energy beam, the mass spectrometer performs a process of recognizing the irradiation range of the energy beam (that is, the range including the sample region). A mass spectrometer includes an irradiation unit that irradiates energy rays, a control unit that controls the operation of the irradiation unit, and a small camera (for example, a CCD camera etc.). The control unit holds control coordinates indicating the irradiation position of the energy beam. At least three or more points on the sample support are associated (registered) between the coordinates set in the scanner image and the control coordinates. By performing such alignment, it is possible to set the irradiation position of the energy beam using the coordinate system of the scanner image in the mass spectrometer. That is, it is possible to set the sample area grasped in the scanner image as the irradiation range of the energy beam.

上述した位置合わせを適切に行うためには、スキャナ画像及びカメラ画像の両方において正確に特定できるポイント（目印等）が必要となる。ここで、特許文献１に記載された試料支持体の測定領域は、測定領域を包囲するように基板の第１表面上に取り付けられるフレームによって規定されている。そこで、測定領域の縁部におけるフレームの角部を上記ポイントとして用いることが考えられる。しかし、基板の厚さ方向から見た場合、測定領域の縁部には、基板とフレームとを接合するための接着剤の一部がはみ出している場合があり、フレームの角部を精度良く特定することが困難な場合がある。また、測定領域は、角部がない形状（例えば円形状）に形成される場合もあり、この場合には測定領域の縁部を上記ポイントとして用いることができない。他の方法として、試料支持体の外側の角部（フレームの外側の角部）を上記ポイントとして用いることも考えられるが、この場合、位置合わせに用いるポイントが測定領域から離れた位置にあることにより、位置合わせの精度が低くなるおそれがある。 In order to properly perform the alignment described above, points (markers, etc.) that can be accurately identified are required in both the scanner image and the camera image. Here, the measurement area of the sample support described in US Pat. No. 6,200,000 is defined by a frame mounted on the first surface of the substrate so as to enclose the measurement area. Therefore, it is conceivable to use the corners of the frame at the edges of the measurement area as the points. However, when viewed from the thickness direction of the board, part of the adhesive used to join the board and frame may protrude from the edges of the measurement area, so it is difficult to accurately identify the corners of the frame. can be difficult to do. Also, the measurement area may be formed in a shape without corners (for example, a circular shape), in which case the edge of the measurement area cannot be used as the point. As another method, it is conceivable to use the outer corner of the sample support (the outer corner of the frame) as the above point. As a result, there is a risk that the accuracy of alignment will be lowered.

そこで、本開示は、イメージング質量分析における位置合わせを容易且つ精度良く行うことができる試料支持体を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present disclosure is to provide a sample support that allows easy and accurate alignment in imaging mass spectrometry.

本開示の一側面に係る試料支持体は、試料のイオン化に用いられる試料支持体であって、第１表面と第１表面とは反対側の第２表面とを有し、第１表面及び第２表面に開口する複数の貫通孔が形成された測定領域を有する基板と、基板の第１表面上に設けられ、基板の厚さ方向から見た場合に測定領域を包囲するように形成されたフレームと、フレームの基板とは反対側の面上に設けられたマーカーと、を備える。 A sample support according to one aspect of the present disclosure is a sample support used for sample ionization, has a first surface and a second surface opposite to the first surface, and a substrate having a measurement region in which a plurality of through-holes opening on two surfaces are formed; A frame and a marker provided on the surface of the frame opposite to the substrate are provided.

上記試料支持体では、基板には、第１表面及び第２表面に開口する複数の貫通孔が形成された測定領域が設けられている。このため、例えば生体試料等の試料上に、基板の第２表面が試料に対向するように試料支持体を配置することにより、毛細管現象を利用して、第２表面側から貫通孔を介して第１表面側に向けて試料の成分を移動させることができる。そして、例えばレーザ光等のエネルギー線を第１表面に対して照射することにより、試料の成分をイオン化することができる。従って、上記試料支持体を用いることにより、試料のイメージング質量分析を容易に行うことができる。 In the sample support described above, the substrate is provided with a measurement region having a plurality of through-holes opening to the first surface and the second surface. For this reason, by placing the sample support on a sample such as a biological sample such that the second surface of the substrate faces the sample, capillary action is utilized to allow the sample to flow from the second surface side through the through holes. A component of the sample can be moved toward the first surface. Then, by irradiating the first surface with an energy beam such as a laser beam, the components of the sample can be ionized. Therefore, by using the sample support, imaging mass spectrometry of the sample can be easily performed.

ところで、上記イメージング質量分析を行う際には、試料上に試料支持体が配置された状態で、試料支持体の第１表面側から、測定領域の全体とその周辺領域とを撮像したスキャナ画像が取得される。また、基板の第１表面側にエネルギー線を照射するための前処理として、共通のポイントにおいて、スキャナ画像において設定された座標と質量分析装置が認識している座標とが取得され、両者の対応関係が把握される。上記試料支持体では、フレームが、基板の第１表面上において、測定領域を包囲するように設けられている。そして、フレームの基板とは反対側の面上に、マーカーが設けられている。従って、上記試料支持体によれば、上記マーカーを利用することにより、上記位置合わせを容易且つ精度良く行うことができる。 By the way, when performing the above-described imaging mass spectrometry, a scanner image obtained by imaging the entire measurement region and its peripheral region from the first surface side of the sample support while the sample support is placed on the sample is generated. is obtained. Further, as a pretreatment for irradiating the first surface side of the substrate with the energy beam, the coordinates set in the scanner image and the coordinates recognized by the mass spectrometer are acquired at a common point, and the correspondence between the two is obtained. relationship is understood. In the sample support, a frame is provided on the first surface of the substrate so as to surround the measurement area. A marker is provided on the surface of the frame opposite to the substrate. Therefore, according to the sample support, the alignment can be performed easily and accurately by using the markers.

上記試料支持体は、フレームの基板とは反対側の面上に貼り付けられ、厚さ方向から見てフレームと重ならない部分を有する導電性テープを更に備えてもよく、マーカーは、厚さ方向から見てフレームと重ならない第１部分と、フレームと導電性テープとの間に設けられた第２部分と、を有してもよい。上記構成では、基板の第１表面上に、フレーム、マーカー、及び導電性テープがこの順に配置される。すなわち、マーカーと導電性テープとが重なる領域においては、マーカーが導電性テープよりも基板側に配置される。上記構成によれば、マーカーのうちフレームと重ならない第１部分（すなわち、外部に露出している部分）を利用することにより、上記位置合わせを実施することができる。また、マーカーが絶縁物によって形成される場合、上記構成によればマーカーの一部（すなわち第２部分）を導電性テープで覆い隠すことができるため、厚さ方向から見た試料支持体の表面において、絶縁物が露出する面積を極力少なくすることができる。すなわち、導電性テープの形状及び配置により、位置合わせに必要十分なマーカー６の部分（すなわち、第１部分）を確保しつつ、絶縁物が露出する面積を低減することができる。これにより、イメージング質量分析時（すなわち、試料支持体に電圧を印加する際）に、電位の乱れが発生することを抑制することができる。 The sample support may further comprise a conductive tape that is attached to the surface of the frame opposite to the substrate and has a portion that does not overlap the frame when viewed in the thickness direction. It may have a first portion that does not overlap the frame when viewed from above, and a second portion provided between the frame and the conductive tape. In the above configuration, the frame, the marker, and the conductive tape are arranged in this order on the first surface of the substrate. That is, in the region where the marker and the conductive tape overlap, the marker is arranged closer to the substrate than the conductive tape. According to the above configuration, the alignment can be performed by using the first portion of the marker that does not overlap the frame (that is, the portion exposed to the outside). Further, when the marker is made of an insulating material, according to the above configuration, part of the marker (that is, the second part) can be covered with the conductive tape. , the exposed area of the insulator can be minimized. That is, depending on the shape and arrangement of the conductive tape, it is possible to reduce the area where the insulator is exposed while securing the portion of the marker 6 necessary and sufficient for alignment (that is, the first portion). Thereby, it is possible to suppress the occurrence of potential disturbance during imaging mass spectrometry (that is, when applying a voltage to the sample support).

第２部分は、厚さ方向から見てフレームと導電性テープとが重なる領域の一部に設けられていてもよい。上記構成では、マーカーの第２部分は、フレームと導電性テープとの間の領域全体に設けられていない。すなわち、フレームと導電性テープとがマーカーを介さずに接触する領域が確保されている。これにより、マーカーが絶縁物によって形成される場合であっても、導電性テープ及びフレーム（或いは、フレーム表面に設けられた導電層）を介して、試料支持体に電圧を適切に印加することができる。 The second portion may be provided in a part of the region where the frame and the conductive tape overlap when viewed in the thickness direction. In the above configuration, the second portion of the marker is not provided over the entire area between the frame and the conductive tape. In other words, a region is secured in which the frame and the conductive tape are in contact with each other without a marker interposed therebetween. As a result, even when the marker is made of an insulating material, it is possible to appropriately apply a voltage to the sample support via the conductive tape and frame (or a conductive layer provided on the surface of the frame). can.

上記試料支持体は、フレームの基板とは反対側の面上に貼り付けられ、厚さ方向から見てフレームと重ならない部分を有する導電性テープを更に備えてもよく、マーカーは、フレームと導電性テープとの間には設けられておらず、導電性テープのフレームとは反対側の面上に設けられた部分を有してもよい。上記構成では、基板の第１表面上に、フレーム、導電性テープ、及びマーカーがこの順に配置される。すなわち、マーカーと導電性テープとが重なる領域においては、導電性テープがマーカーよりも基板側に配置される。この場合、フレームと導電性テープとの間にマーカーが配置されないことにより、フレームと導電性テープとの間の電気的接続をより確実に確保することができる。 The sample support may further include a conductive tape attached to the surface of the frame opposite to the substrate and having a portion that does not overlap the frame when viewed in the thickness direction. It may have a portion not provided between the conductive tape and provided on the surface of the conductive tape opposite to the frame. In the above configuration, the frame, the conductive tape, and the markers are arranged in this order on the first surface of the substrate. That is, in the region where the marker and the conductive tape overlap, the conductive tape is arranged closer to the substrate than the marker. In this case, no marker is arranged between the frame and the conductive tape, so that the electrical connection between the frame and the conductive tape can be ensured more reliably.

上記試料支持体は、フレームの基板とは反対側の面上に貼り付けられ、厚さ方向から見てフレームと重ならない部分を有する導電性テープを更に備えてもよく、導電性テープには、厚さ方向に貫通する開口部が形成されていてもよく、マーカーは、フレームの基板とは反対側の面上において、厚さ方向から見て開口部内に設けられていてもよい。上記構成によれば、導電性テープに形成された開口部により、マーカーの位置を規定することができる。また、フレーム上で導電性テープとマーカーとが互いに重ならないように、両者を収まりよく配置することができる。 The sample support may further include a conductive tape that is attached to the surface of the frame opposite to the substrate and has a portion that does not overlap the frame when viewed in the thickness direction. An opening penetrating in the thickness direction may be formed, and the marker may be provided in the opening when viewed in the thickness direction on the surface of the frame opposite to the substrate. According to the above configuration, the positions of the markers can be defined by the openings formed in the conductive tape. Also, the conductive tape and the marker can be arranged so that they do not overlap each other on the frame.

マーカーは、フレームの基板とは反対側の面上に設けられた導電性テープの一部であってもよい。上記構成によれば、導電性テープの一部をマーカーとして利用することにより、導電性テープと異なる部材をマーカーとして設ける必要がない。これにより、試料支持体の部品点数を削減することができる。 The marker may be a piece of conductive tape provided on the side of the frame opposite the substrate. According to the above configuration, by using a part of the conductive tape as a marker, there is no need to provide a member different from the conductive tape as the marker. This makes it possible to reduce the number of parts of the sample support.

マーカーは、導電性テープの一部に印刷又は刻印されていてもよい。上記構成によれば、導電性テープに対する印刷又は刻印により、上記マーカーを容易に形成することができる。 A marker may be printed or imprinted on a portion of the conductive tape. According to the above configuration, the marker can be easily formed by printing or stamping on the conductive tape.

上記試料支持体は、厚さ方向から見て同一直線上に並ばない少なくとも３箇所に設けられた複数のマーカーを備えてもよい。上記構成によれば、同一直線上に並ばない少なくとも３箇所のマーカーを利用した位置合わせを実施することにより、二次元直交座標において、スキャナ画像に設定された座標系と質量分析装置の座標系との対応関係を確実に把握することが可能となる。 The sample support may include a plurality of markers provided at at least three locations that are not arranged on the same straight line when viewed in the thickness direction. According to the above configuration, the coordinate system set in the scanner image and the coordinate system of the mass spectrometer are aligned in two-dimensional orthogonal coordinates by performing alignment using at least three markers that are not aligned on the same straight line. It is possible to reliably grasp the correspondence relationship between

３箇所に設けられたマーカー間の厚さ方向に交差する平面上における間隔は、測定領域を含む最小の正方形領域の一辺の長さの１／３以上であってもよい。上記構成によれば、隣接するマーカー間の間隔を測定領域の大きさに対して一定以上確保することにより、上記位置合わせの精度を向上させることができる。 The distance between the markers provided at three locations on the plane intersecting the thickness direction may be 1/3 or more of the length of one side of the smallest square area including the measurement area. According to the above configuration, it is possible to improve the accuracy of the alignment by ensuring that the distance between the adjacent markers is equal to or greater than a certain value with respect to the size of the measurement area.

複数のマーカーは、４つ以上のマーカーを有してもよい。上記構成によれば、４つ以上のマーカーのうちから任意の３つのマーカー（例えば、画像において視認しやすいマーカー）を選択して、上記位置合わせを精度良く行うことができる。 A plurality of markers may have four or more markers. According to the above configuration, any three markers (for example, easily visible markers in the image) can be selected from four or more markers, and the alignment can be performed with high accuracy.

マーカーは、角部を有してもよい。上記構成によれば、上述したスキャナ画像及びカメラ画像等において位置を特定し易い角部を位置合わせのためのポイントとして用いることにより、上記位置合わせをより一層容易且つ精度良く実施することができる。 The markers may have corners. According to the above configuration, by using the corners of the scanner image, the camera image, etc., whose positions are easy to identify, as points for alignment, the alignment can be performed more easily and accurately.

試料支持体は、厚さ方向から見て、第１方向に延びる辺と第１方向に直交する第２方向に延びる辺とを有する略矩形状に形成されていてもよく、マーカーは、第１方向に沿った第１辺と第２方向に沿った第２辺とを有してもよく、角部は、第１辺と第２辺とによって形成されていてもよい。上記構成によれば、マーカーの角部は、試料支持体の外形に応じて定まった形状を有しているため、上述したスキャナ画像及びカメラ画像等において、マーカーの角部の位置をより一層容易且つ精度良く特定することができる。 The sample support may be formed in a substantially rectangular shape having sides extending in a first direction and sides extending in a second direction orthogonal to the first direction when viewed from the thickness direction, and the marker may be formed in the first direction. It may have a first side along the direction and a second side along the second direction, and the corner may be formed by the first side and the second side. According to the above configuration, the corners of the marker have a shape determined according to the outer shape of the sample support. And it can be specified with high accuracy.

マーカーは、白色の部材であってもよい。上記構成によれば、上述したスキャナ画像及びカメラ画像等におけるマーカーの視認性を向上させることができる。 The marker may be a white member. According to the above configuration, it is possible to improve the visibility of the marker in the above-described scanner image, camera image, or the like.

基板は、測定領域とは別に、測定領域に設けられた複数の貫通孔と同様の複数の貫通孔が形成されたキャリブレーション用の領域を有してもよい。上記構成によれば、測定領域を用いた質量分析を実施する前に、キャリブレーション用の領域を用いた質量校正（マスキャリブレーション）を実施することが可能となる。これにより、試料支持体を用いた質量分析結果の精度を向上させることができる。 The substrate may have an area for calibration in which a plurality of through-holes similar to the plurality of through-holes provided in the measurement area are formed separately from the measurement area. According to the above configuration, it is possible to perform mass calibration using the calibration area before performing mass spectrometry using the measurement area. This can improve the accuracy of mass spectrometry results using the sample support.

基板の第１表面上において貫通孔を塞がないように設けられた導電層を更に備えてもよい。上記構成によれば、絶縁性の基板を用いる場合であっても、イオン化された試料の成分を質量分析装置の検出器へと移動させるための電圧を、導電層を介して基板の第１表面上に適切に印加することが可能となる。 A conductive layer may be provided on the first surface of the substrate so as not to block the through holes. According to the above configuration, even when an insulating substrate is used, the voltage for moving the ionized components of the sample to the detector of the mass spectrometer is applied to the first surface of the substrate through the conductive layer. It becomes possible to apply appropriately to the top.

本開示によれば、イメージング質量分析における位置合わせを容易且つ精度良く行うことができる試料支持体を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a sample support that allows easy and accurate alignment in imaging mass spectrometry.

図１は、第１実施形態の試料支持体の平面図である。FIG. 1 is a plan view of the sample support of the first embodiment. FIG. 図２は、図１に示されるII-II線に沿った試料支持体の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the sample support along line II-II shown in FIG. 図３は、図１に示されるIII-III線に沿った試料支持体の概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the sample support along line III-III shown in FIG. 図４は、図１に示される試料支持体の基板の拡大像を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an enlarged image of the substrate of the sample support shown in FIG. 図５は、図１に示されるV-V線に沿った試料支持体の概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the sample support along line VV shown in FIG. 図６（Ａ）～図６（Ｃ）は、図１に示される試料支持体を用いた質量分析方法の工程を示す図である。FIGS. 6A to 6C are diagrams showing the steps of a mass spectrometry method using the sample support shown in FIG. 1. FIG. 図７は、スキャナ画像の一例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an example of a scanner image. 図８は、図１に示される試料支持体を用いた質量分析方法の工程を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing steps of a mass spectrometry method using the sample support shown in FIG. 図９は、カメラ画像の一例を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing an example of a camera image. 図１０は、第２実施形態の試料支持体の平面図である。FIG. 10 is a plan view of the sample support of the second embodiment. 図１１は、図１０に示されるXI-XI線に沿った試料支持体の概略断面図である。11 is a schematic cross-sectional view of the sample support along line XI-XI shown in FIG. 10; FIG. 図１２は、第３実施形態の試料支持体の平面図である。FIG. 12 is a plan view of the sample support of the third embodiment. 図１３は、第４実施形態の試料支持体の平面図である。FIG. 13 is a plan view of the sample support of the fourth embodiment. 図１４は、第５実施形態の試料支持体の平面図である。FIG. 14 is a plan view of the sample support of the fifth embodiment.

以下、本開示の実施形態について図面を参照しながら説明する。各図において同一又は相当の部分には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。なお、図面においては、一部、実施形態に係る特徴部分を分かり易く説明するために誇張している部分があり、実際の寸法とは異なっている場合がある。また、以下の説明において「上」、「下」等の語は図面に示される状態に基づく便宜的なものである。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In each figure, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations are omitted. In addition, in the drawings, some parts are exaggerated for easy understanding of characteristic parts according to the embodiment, and the dimensions may differ from the actual dimensions. Also, terms such as "upper" and "lower" in the following description are for convenience based on the states shown in the drawings.

［第１実施形態］
図１～図５を参照して、第１実施形態に係る試料支持体１Ａについて説明する。試料支持体１Ａは、例えば薄膜状の生体試料等の試料をイオン化するために用いられるイオン化支援基板である。図１～図３に示されるように、試料支持体１Ａは、基板２と、フレーム３と、導電性テープ４と、導電層５と、マーカー６と、を備えている。図１に示されるように、試料支持体１Ａは、平面視において略矩形状を有している。本実施形態では、試料支持体１Ａの長辺に沿った方向をＸ軸方向（第１方向）と表し、試料支持体１Ａの短辺に沿った方向をＹ軸方向（第２方向）と表し、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向（すなわち、試料支持体１Ａの厚さ方向）をＺ軸方向と表す。本実施形態では一例として、試料支持体１ＡのＸ軸方向の長さは３ｃｍ程度であり、Ｙ軸方向の長さは２ｃｍ程度である。 [First embodiment]
A sample support 1A according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 5. FIG. The sample support 1A is an ionization support substrate used for ionizing a sample such as a thin film biological sample. As shown in FIGS. 1-3, the sample support 1A comprises a substrate 2, a frame 3, a conductive tape 4, a conductive layer 5 and markers 6. FIG. As shown in FIG. 1, the sample support 1A has a substantially rectangular shape in plan view. In this embodiment, the direction along the long side of the sample support 1A is represented as the X-axis direction (first direction), and the direction along the short side of the sample support 1A is represented as the Y-axis direction (second direction). , the direction perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction (that is, the thickness direction of the sample support 1A) is expressed as the Z-axis direction. In this embodiment, as an example, the length of the sample support 1A in the X-axis direction is about 3 cm, and the length in the Y-axis direction is about 2 cm.

基板２は、第１表面２ａと、第１表面２ａとは反対側の第２表面２ｂと、を有している。図３に示されるように、基板２には、複数の貫通孔２ｃが一様に（均一な分布で）形成されている。各貫通孔２ｃは、基板２の厚さ方向Ｄ（第１表面２ａ及び第２表面２ｂが互いに対向する方向であり、Ｚ軸方向と一致する方向）に沿って延在しており、第１表面２ａ及び第２表面２ｂに開口している。 The substrate 2 has a first surface 2a and a second surface 2b opposite the first surface 2a. As shown in FIG. 3, the substrate 2 is formed with a plurality of through holes 2c uniformly (uniformly distributed). Each through-hole 2c extends along the thickness direction D of the substrate 2 (the direction in which the first surface 2a and the second surface 2b face each other and coincides with the Z-axis direction). It is open to the surface 2a and the second surface 2b.

図１に示されるように、基板２は、例えば、絶縁性材料によって矩形板状に形成されている。厚さ方向Ｄから見た場合における基板２の一辺の長さは、例えば数ｃｍ程度である。基板２の厚さは、例えば１μｍ～５０μｍ程度である。厚さ方向Ｄから見た場合における貫通孔２ｃの形状は、例えば略円形である。貫通孔２ｃの幅は、例えば１ｎｍ～７００ｎｍ程度である。 As shown in FIG. 1, the substrate 2 is made of, for example, an insulating material and shaped like a rectangular plate. The length of one side of the substrate 2 when viewed from the thickness direction D is, for example, about several centimeters. The thickness of the substrate 2 is, for example, about 1 μm to 50 μm. The shape of the through-hole 2c when viewed from the thickness direction D is, for example, substantially circular. The width of the through hole 2c is, for example, about 1 nm to 700 nm.

貫通孔２ｃの幅は、以下のようにして取得される値である。まず、基板２の第１表面２ａ及び第２表面２ｂのそれぞれの画像を取得する。図４は、基板２の第１表面２ａの一部のＳＥＭ画像の一例を示している。当該ＳＥＭ画像において、黒色の部分は貫通孔２ｃであり、白色の部分は貫通孔２ｃ間の隔壁部である。続いて、取得した第１表面２ａの画像に対して例えば二値化処理を施すことで、測定領域Ｒ１内の複数の第１開口（貫通孔２ｃの第１表面２ａ側の開口）に対応する複数の画素群を抽出し、１画素当たりの大きさに基づいて、第１開口の平均面積を有する円の直径を取得する。同様に、取得した第２表面２ｂの画像に対して例えば二値化処理を施すことで、測定領域Ｒ１内の複数の第２開口（貫通孔２ｃの第２表面２ｂ側の開口）に対応する複数の画素群を抽出し、１画素当たりの大きさに基づいて、第２開口の平均面積を有する円の直径を取得する。そして、第１表面２ａについて取得した円の直径と第２表面２ｂについて取得した円の直径との平均値を貫通孔２ｃの幅として取得する。 The width of the through hole 2c is a value obtained as follows. First, an image of each of the first surface 2a and the second surface 2b of the substrate 2 is acquired. FIG. 4 shows an example of a SEM image of part of the first surface 2a of the substrate 2. As shown in FIG. In the SEM image, black portions are the through holes 2c, and white portions are partition walls between the through holes 2c. Subsequently, for example, by performing a binarization process on the acquired image of the first surface 2a, a plurality of first openings in the measurement region R1 (openings on the first surface 2a side of the through holes 2c) correspond to A plurality of pixel groups are extracted, and the diameter of the circle having the average area of the first aperture is obtained according to the size per pixel. Similarly, by performing, for example, binarization processing on the acquired image of the second surface 2b, a plurality of second openings (openings on the second surface 2b side of the through-holes 2c) in the measurement region R1 correspond to A plurality of pixel groups are extracted, and the diameter of the circle having the average area of the second aperture is obtained according to the size per pixel. Then, the average value of the diameter of the circle obtained for the first surface 2a and the diameter of the circle obtained for the second surface 2b is obtained as the width of the through hole 2c.

図４に示されるように、基板２には、略一定の幅を有する複数の貫通孔２ｃが一様に形成されている。図４に示される基板２は、Ａｌ（アルミニウム）を陽極酸化することにより形成されたアルミナポーラス皮膜である。例えば、Ａｌ基板に対して陽極酸化処理が施されることにより、Ａｌ基板の表面部分が酸化されると共に、Ａｌ基板の表面部分に複数の細孔（貫通孔２ｃになる予定の部分）が形成される。続いて、酸化された表面部分（陽極酸化皮膜）がＡｌ基板から剥離され、剥離された陽極酸化皮膜に対して上記細孔を拡幅するポアワイドニング処理が施されることにより、上述した基板２が得られる。なお、基板２は、Ｔａ（タンタル）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｔｉ（チタン）、Ｈｆ（ハフニウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｗ（タングステン）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｓｂ（アンチモン）等のＡｌ以外のバルブ金属を陽極酸化することにより形成されてもよいし、Ｓｉ（シリコン）を陽極酸化することにより形成されてもよい。 As shown in FIG. 4, the substrate 2 is uniformly formed with a plurality of through holes 2c having substantially constant widths. The substrate 2 shown in FIG. 4 is an alumina porous film formed by anodizing Al (aluminum). For example, by anodizing the Al substrate, the surface portion of the Al substrate is oxidized and a plurality of pores (portions to become the through holes 2c) are formed in the surface portion of the Al substrate. be done. Subsequently, the oxidized surface portion (anodic oxide film) is peeled off from the Al substrate, and the peeled anodized film is subjected to a pore widening treatment for widening the pores, thereby forming the substrate 2 described above. is obtained. The substrate 2 contains Ta (tantalum), Nb (niobium), Ti (titanium), Hf (hafnium), Zr (zirconium), Zn (zinc), W (tungsten), Bi (bismuth), and Sb (antimony). It may be formed by anodizing a valve metal other than Al, such as Al, or may be formed by anodizing Si (silicon).

フレーム３は、基板２の第１表面２ａに設けられており、第１表面２ａ側において基板２を支持している。図３に示されるように、フレーム３は、接着層７によって基板２の第１表面２ａに接合されている。接着層７の材料は、例えば放出ガスの少ない接着材料（例えば、低融点ガラス、真空用接着剤等）であることが好ましい。本実施形態では、厚さ方向Ｄから見た場合に、フレーム３は、基板２よりも大きい矩形板状に形成されている。 The frame 3 is provided on the first surface 2a of the substrate 2 and supports the substrate 2 on the first surface 2a side. The frame 3 is bonded to the first surface 2a of the substrate 2 by an adhesive layer 7, as shown in FIG. The material of the adhesive layer 7 is preferably, for example, an adhesive material that emits less gas (for example, low-melting glass, vacuum adhesive, etc.). In this embodiment, the frame 3 is shaped like a rectangular plate that is larger than the substrate 2 when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG.

フレーム３の略中央部には、フレーム３の厚さ方向（すなわち、厚さ方向Ｄ）に貫通する開口部３ａが形成されている。フレーム３の一の隅部と開口部３ａとの間には、フレーム３の厚さ方向に貫通する開口部３ｂが形成されている。フレーム３のＸ軸方向における縁部３ｃ（すなわち、Ｙ軸方向に沿った縁部）の中央部には、Ｘ軸方向の内側に向かって窪んだ凹部３ｄが設けられている。 An opening 3a is formed through the frame 3 in the thickness direction (that is, the thickness direction D) at a substantially central portion of the frame 3 . An opening 3b is formed through the frame 3 in the thickness direction between one corner of the frame 3 and the opening 3a. A recess 3d recessed inward in the X-axis direction is provided in the center of the edge 3c in the X-axis direction of the frame 3 (that is, the edge along the Y-axis direction).

開口部３ａは、略円形状に形成されている。本実施形態では、開口部３ａは、円の一部（一方向において互いに対向する部分）を弓型に切り欠いた形状を有している。具体的には、開口部３ａは、Ｙ軸方向における両側の縁部がＸ軸方向に平行となるように円の一部を弓型に切り欠いた形状を有している。一例として、開口部３ａのＹ軸方向の幅は、１．５ｃｍ程度である。基板２のうち開口部３ａに対応する部分（すなわち、厚さ方向Ｄから見た場合に開口部３ａと重なる部分）は、試料の測定（イオン化）を行うための測定領域Ｒ１として機能する。すなわち、フレーム３に設けられた開口部３ａによって、測定領域Ｒ１が規定されている。言い換えれば、フレーム３は、厚さ方向Ｄから見た場合に基板２の測定領域Ｒ１を包囲するように形成されている。 The opening 3a is formed in a substantially circular shape. In the present embodiment, the opening 3a has a shape obtained by cutting out a part of a circle (parts facing each other in one direction) in a bow shape. Specifically, the opening 3a has a shape in which a part of a circle is notched in an arch shape so that the edges on both sides in the Y-axis direction are parallel to the X-axis direction. As an example, the width of the opening 3a in the Y-axis direction is about 1.5 cm. A portion of the substrate 2 corresponding to the opening 3a (that is, a portion overlapping the opening 3a when viewed in the thickness direction D) functions as a measurement region R1 for measuring (ionizing) the sample. That is, the opening 3a provided in the frame 3 defines the measurement region R1. In other words, the frame 3 is formed so as to surround the measurement region R1 of the substrate 2 when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG.

開口部３ｂは、開口部３ａよりも小さい円形状に形成されている。一例として、開口部３ｂの直径は、１ｍｍ程度である。基板２のうち開口部３ｂに対応する部分（すなわち、厚さ方向Ｄから見た場合に開口部３ｂと重なる部分）は、キャリブレーション用のキャリブレーション領域Ｒ２として機能する。キャリブレーション領域Ｒ２は、質量校正（マスキャリブレーション）のための領域として用いられ得る。例えば、試料の測定（後述する質量分析方法）を開始する前に、キャリブレーション領域Ｒ２に質量校正用の試料（例えばペプチド等）を配置して測定を実施することにより、マススペクトルの補正を行うことが可能となる。このようなマススペクトルの補正を測定対象試料の測定前に行うことにより、当該測定対象試料を測定した際に当該測定対象試料の正確なマススペクトルを得ることが可能となる。 The opening 3b is formed in a circular shape smaller than the opening 3a. As an example, the diameter of the opening 3b is about 1 mm. A portion of the substrate 2 corresponding to the opening 3b (that is, a portion overlapping the opening 3b when viewed in the thickness direction D) functions as a calibration region R2 for calibration. The calibration area R2 can be used as an area for mass calibration. For example, before starting the measurement of the sample (the mass spectrometry method described later), the mass spectrum is corrected by placing a sample for mass calibration (e.g., peptide, etc.) in the calibration region R2 and performing the measurement. becomes possible. By performing such correction of the mass spectrum before measurement of the sample to be measured, it is possible to obtain an accurate mass spectrum of the sample to be measured when the sample to be measured is measured.

上述したように、基板２には複数の貫通孔２ｃが一様に形成されているため、測定領域Ｒ１及びキャリブレーション領域Ｒ２のいずれも、複数の貫通孔２ｃを含む領域である。測定領域Ｒ１における貫通孔２ｃの開口率（厚さ方向Ｄから見た場合に測定領域Ｒ１に対して貫通孔２ｃが占める割合）は、実用上は１０～８０％であり、特に６０～８０％であることが好ましい。複数の貫通孔２ｃの大きさは互いに不揃いであってもよいし、部分的に複数の貫通孔２ｃ同士が互いに連結していてもよい。キャリブレーション領域Ｒ２についても測定領域Ｒ１と同様である。 As described above, since the plurality of through holes 2c are uniformly formed in the substrate 2, both the measurement region R1 and the calibration region R2 are regions including the plurality of through holes 2c. The aperture ratio of the through-holes 2c in the measurement region R1 (the ratio of the through-holes 2c to the measurement region R1 when viewed from the thickness direction D) is practically 10 to 80%, particularly 60 to 80%. is preferably The sizes of the plurality of through holes 2c may be uneven, or the plurality of through holes 2c may be partially connected to each other. The calibration area R2 is similar to the measurement area R1.

フレーム３は、例えば、金属またはセラミックス等である。試料支持体１Ａの外形は、主にフレーム３によって規定されている。すなわち、フレーム３のＸ軸方向の長さは３ｃｍ程度であり、フレーム３のＹ軸方向の長さは２ｃｍ程度である。フレーム３の厚さは、例えば３ｍｍ以下である。一例として、フレーム３の厚さは０．２ｍｍである。 The frame 3 is, for example, metal or ceramics. The outer shape of the sample support 1A is mainly defined by the frame 3. As shown in FIG. That is, the length of the frame 3 in the X-axis direction is about 3 cm, and the length of the frame 3 in the Y-axis direction is about 2 cm. The thickness of the frame 3 is, for example, 3 mm or less. As an example, the thickness of frame 3 is 0.2 mm.

本実施形態では、図１に示されるように、厚さ方向Ｄから見た場合に、基板２は、フレーム３のＸ軸方向に沿った一対の縁部３ｅの間に収まると共に、フレーム３の一対の凹部３ｄの各々の底部３ｆの間に収まっている。すなわち、厚さ方向Ｄから見た場合に、基板２のうち測定領域Ｒ１及びキャリブレーション領域Ｒ２のみが外部に露出している。つまり、基板２のうち測定領域Ｒ１及びキャリブレーション領域Ｒ２以外の部分は、接着層７によってフレーム３に接合されている。このように基板２がフレーム３に接合されて支持されることにより、試料支持体１Ａのハンドリングを容易化できると共に、温度変化等に起因する基板２の変形が抑制される。 In this embodiment, as shown in FIG. 1, the substrate 2 fits between a pair of edges 3e along the X-axis direction of the frame 3 when viewed from the thickness direction D, and It is housed between the bottoms 3f of the pair of recesses 3d. That is, when viewed from the thickness direction D, only the measurement region R1 and the calibration region R2 of the substrate 2 are exposed to the outside. That is, the portion of the substrate 2 other than the measurement region R1 and the calibration region R2 is joined to the frame 3 by the adhesive layer 7. As shown in FIG. By bonding and supporting the substrate 2 to the frame 3 in this manner, the handling of the sample support 1A can be facilitated, and deformation of the substrate 2 due to temperature changes or the like can be suppressed.

導電性テープ４は、試料支持体１Ａを用いた測定を行う際に、試料支持体１Ａを固定するための部材である。本実施形態では、導電性テープ４は、試料支持体１Ａをスライドグラス８の載置面８ａ（図６参照）に固定するために用いられる。ただし、試料支持体１Ａが固定される部材はスライドグラス８に限られない。導電性テープ４は、導電性材料によって形成されている。導電性テープ４は、例えば、アルミテープ、カーボンテープ等である。導電性テープ４の厚さは、例えば１００μｍである。 The conductive tape 4 is a member for fixing the sample support 1A when performing measurement using the sample support 1A. In this embodiment, the conductive tape 4 is used to fix the sample support 1A to the mounting surface 8a of the slide glass 8 (see FIG. 6). However, the member to which the sample support 1A is fixed is not limited to the slide glass 8. The conductive tape 4 is made of a conductive material. The conductive tape 4 is, for example, aluminum tape, carbon tape, or the like. The thickness of the conductive tape 4 is, for example, 100 μm.

導電性テープ４は、フレーム３の外面３ｇ（基板２とは反対側の面）上に貼り付けられている。本実施形態では、導電性テープ４は、フレーム３のＸ軸方向における両側に設けられている。具体的には、導電性テープ４は、フレーム３のＸ軸方向における一方側（図１の図示左側）に設けられた導電性テープ４１と、フレーム３のＸ軸方向における他方側（図１の図示右側）に設けられた導電性テープ４２と、を有している。 The conductive tape 4 is attached to the outer surface 3g of the frame 3 (the surface opposite to the substrate 2). In this embodiment, the conductive tapes 4 are provided on both sides of the frame 3 in the X-axis direction. Specifically, the conductive tape 4 includes a conductive tape 41 provided on one side of the frame 3 in the X-axis direction (the left side in FIG. 1), and a conductive tape 41 provided on the other side of the frame 3 in the X-axis direction (the left side in FIG. 1). and a conductive tape 42 provided on the right side of the drawing).

導電性テープ４１は、フレーム３のＸ軸方向における中央部よりも一方側（図１の図示左側）において、測定領域Ｒ１及びキャリブレーション領域Ｒ２を覆わないように設けられている。導電性テープ４１には、キャリブレーション領域Ｒ２を露出させるための円形状の開口部４ａが設けられている。図１に示されるように、本実施形態では、導電性テープ４１の縁部は、フレーム３の縁部３ｃ，３ｅ、フレーム３の開口部３ａの縁部、及びフレーム３の開口部３ｂの縁部から若干離間している。一方、導電性テープ４１は、厚さ方向Ｄから見た場合に、フレーム３の凹部３ｄによって形成された空間と重なる位置にも設けられている。すなわち、導電性テープ４１は、厚さ方向Ｄから見てフレーム３と重ならない部分４ｂ（すなわち、凹部３ｄによって形成された空間と重なる部分）を有する。 The conductive tape 41 is provided so as not to cover the measurement region R1 and the calibration region R2 on one side (the left side in FIG. 1) of the central portion of the frame 3 in the X-axis direction. The conductive tape 41 is provided with a circular opening 4a for exposing the calibration region R2. As shown in FIG. 1, in this embodiment, the edges of the conductive tape 41 are the edges 3c and 3e of the frame 3, the edge of the opening 3a of the frame 3, and the edge of the opening 3b of the frame 3. slightly away from the department. On the other hand, the conductive tape 41 is also provided at a position overlapping the space formed by the recess 3d of the frame 3 when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG. That is, the conductive tape 41 has a portion 4b that does not overlap the frame 3 when viewed in the thickness direction D (that is, a portion that overlaps the space formed by the recess 3d).

導電性テープ４２は、フレーム３のＸ軸方向における中央部よりも他方側（図１の図示右側）において、測定領域Ｒ１を覆わないように設けられている。図１に示されるように、本実施形態では、導電性テープ４２の縁部は、フレーム３の縁部３ｃ，３ｅ、及びフレーム３の開口部３ａの縁部から若干離間している。一方、導電性テープ４２は、厚さ方向Ｄから見た場合に、フレーム３の凹部３ｄと重なる位置にも設けられている。すなわち、導電性テープ４２は、厚さ方向Ｄから見てフレーム３と重ならない部分４ｂ（すなわち、凹部３ｄによって形成された空間と重なる部分）を有する。 The conductive tape 42 is provided on the other side (the right side in FIG. 1) of the center portion of the frame 3 in the X-axis direction so as not to cover the measurement region R1. As shown in FIG. 1, in this embodiment, the edges of the conductive tape 42 are slightly separated from the edges 3c and 3e of the frame 3 and the edge of the opening 3a of the frame 3. As shown in FIG. On the other hand, the conductive tape 42 is also provided at a position overlapping the recess 3d of the frame 3 when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG. That is, the conductive tape 42 has a portion 4b that does not overlap the frame 3 when viewed in the thickness direction D (that is, a portion that overlaps the space formed by the recess 3d).

導電性テープ４１，４２それぞれの部分４ｂがスライドグラス８の載置面８ａに貼り付けられることにより、試料支持体１Ａがスライドグラス８に固定される（図６参照）。 The sample support 1A is fixed to the slide glass 8 by attaching the portions 4b of the conductive tapes 41 and 42 to the mounting surface 8a of the slide glass 8 (see FIG. 6).

導電層５は、基板２の第１表面２ａに設けられている。図２においては、導電層５が形成される部分を太線で示している（図５及び図１１についても同様）。図３に示されるように、導電層５は、基板２の第１表面２ａのうちフレーム３の開口部３ａに対応する領域（すなわち、測定領域Ｒ１）、開口部３ａの内面、及び開口部３ａの周縁部のフレーム３の外面３ｇに一続きに（一体的に）形成されている。導電層５は、測定領域Ｒ１において、基板２の第１表面２ａのうち貫通孔２ｃが形成されていない部分を覆っている。つまり、導電層５は、各貫通孔２ｃを塞がないように設けられている。従って、測定領域Ｒ１においては、各貫通孔２ｃが開口部３ａに露出している。また、導電層５は、基板２の第１表面２ａのうちフレーム３の開口部３ｂに対応する領域（すなわち、キャリブレーション領域Ｒ２）、開口部３ｂの内面、及び開口部３ｂの周縁部のフレーム３の外面３ｇにも一続きに（一体的に）形成されている。導電層５は、キャリブレーション領域Ｒ２において、基板２の第１表面２ａのうち貫通孔２ｃが形成されていない部分を覆っている。つまり、導電層５は、各貫通孔２ｃを塞がないように設けられている。従って、キャリブレーション領域Ｒ２においても、測定領域Ｒ１と同様に、各貫通孔２ｃが開口部３ｂに露出している。 A conductive layer 5 is provided on the first surface 2 a of the substrate 2 . In FIG. 2, the portion where the conductive layer 5 is formed is indicated by a thick line (the same applies to FIGS. 5 and 11). As shown in FIG. 3, the conductive layer 5 includes a region (that is, measurement region R1) corresponding to the opening 3a of the frame 3 on the first surface 2a of the substrate 2, the inner surface of the opening 3a, and the opening 3a. is formed continuously (integrally) on the outer surface 3g of the frame 3 at the peripheral edge of the frame. The conductive layer 5 covers the portion of the first surface 2a of the substrate 2 where the through hole 2c is not formed in the measurement region R1. That is, the conductive layer 5 is provided so as not to block each through hole 2c. Therefore, each through hole 2c is exposed to the opening 3a in the measurement region R1. In addition, the conductive layer 5 includes a region of the first surface 2a of the substrate 2 corresponding to the opening 3b of the frame 3 (that is, the calibration region R2), the inner surface of the opening 3b, and the frame of the peripheral portion of the opening 3b. 3 is also formed continuously (integrally) on the outer surface 3g. The conductive layer 5 covers the portion of the first surface 2a of the substrate 2 where the through hole 2c is not formed in the calibration region R2. That is, the conductive layer 5 is provided so as not to block each through hole 2c. Therefore, in the calibration region R2 as well, the through holes 2c are exposed to the openings 3b as in the measurement region R1.

導電層５は、導電性材料によって形成されている。導電層５は、例えば、Ｐｔ（白金）又はＡｕ（金）によって形成されている。導電層５の材料としては、以下に述べる理由により、試料との親和性（反応性）が低く且つ導電性が高い金属が用いられることが好ましい。 The conductive layer 5 is made of a conductive material. The conductive layer 5 is made of Pt (platinum) or Au (gold), for example. As the material of the conductive layer 5, it is preferable to use a metal having low affinity (reactivity) with the sample and high conductivity for the reasons described below.

例えば、タンパク質等の試料と親和性が高いＣｕ（銅）等の金属によって導電層５が形成されていると、後述する試料（生体試料）のイオン化の過程において、試料分子にＣｕ原子が付着した状態で試料がイオン化され、Ｃｕ原子が付着した分だけ、後述する質量分析法において検出結果がずれるおそれがある。したがって、導電層５の材料としては、試料との親和性が低い金属が用いられることが好ましい。 For example, when the conductive layer 5 is formed of a metal such as Cu (copper) that has a high affinity with a sample such as protein, Cu atoms adhere to the sample molecules in the process of ionizing the sample (biological sample), which will be described later. The sample is ionized in this state, and there is a possibility that the detection result in the mass spectrometry, which will be described later, will deviate by the amount of the attached Cu atoms. Therefore, it is preferable to use a metal having a low affinity for the sample as the material of the conductive layer 5 .

一方、導電性の高い金属ほど一定の電圧を容易に且つ安定して印加し易くなる。そのため、導電性が高い金属によって導電層５が形成されていると、測定領域Ｒ１において基板２の第１表面２ａに均一に電圧を印加することが可能となる。また、導電性の高い金属ほど熱伝導性も高い傾向にある。そのため、導電性が高い金属によって導電層５が形成されていると、基板２に照射されたレーザ光（エネルギー線）のエネルギーを、導電層５を介して試料に効率的に伝えることが可能となる。したがって、導電層５の材料としては、導電性の高い金属が用いられることが好ましい。 On the other hand, metals with higher conductivity are more easily and stably applied with a constant voltage. Therefore, if the conductive layer 5 is formed of a metal having high conductivity, it becomes possible to uniformly apply a voltage to the first surface 2a of the substrate 2 in the measurement region R1. Also, metals with higher conductivity tend to have higher thermal conductivity. Therefore, if the conductive layer 5 is made of a highly conductive metal, the energy of the laser beam (energy ray) applied to the substrate 2 can be efficiently transmitted to the sample via the conductive layer 5 . Become. Therefore, it is preferable to use a highly conductive metal as the material of the conductive layer 5 .

以上の観点から、導電層５の材料としては、例えば、Ｐｔ、Ａｕ等が用いられることが好ましい。導電層５は、例えば、メッキ法、原子層堆積法（ＡＬＤ：Atomic Layer Deposition）、蒸着法、スパッタ法等によって、厚さ１ｎｍ～３５０ｎｍ程度に形成される。なお、導電層５の材料としては、例えば、Ｃｒ（クロム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｔｉ（チタン）等が用いられてもよい。 From the above point of view, it is preferable to use, for example, Pt, Au, or the like as the material of the conductive layer 5 . The conductive layer 5 is formed to a thickness of about 1 nm to 350 nm by, for example, plating, atomic layer deposition (ALD), vapor deposition, sputtering, or the like. As the material of the conductive layer 5, for example, Cr (chromium), Ni (nickel), Ti (titanium), or the like may be used.

マーカー６は、フレーム３の外面３ｇ上に設けられている。図１及び図５に示されるように、マーカー６は、厚さ方向Ｄから見てフレーム３と重ならない第１部分６１と、フレーム３と導電性テープ４との間に設けられた第２部分６２と、を有している。つまり、基板２の第１表面２ａ上に、フレーム３、マーカー６、及び導電性テープ４がこの順に配置されている。すなわち、マーカー６と導電性テープ４とが重なる領域においては、マーカー６が導電性テープ４よりも基板２側に配置されている。 A marker 6 is provided on the outer surface 3 g of the frame 3 . As shown in FIGS. 1 and 5, the marker 6 has a first portion 61 that does not overlap the frame 3 when viewed in the thickness direction D, and a second portion provided between the frame 3 and the conductive tape 4. 62 and . That is, the frame 3, the marker 6, and the conductive tape 4 are arranged on the first surface 2a of the substrate 2 in this order. That is, in the region where the marker 6 and the conductive tape 4 overlap, the marker 6 is arranged closer to the substrate 2 than the conductive tape 4 is.

マーカー６の材料は、後述するスキャナ画像（スキャナ装置による取り込み画像）及びカメラ画像（質量分析装置１０（図８参照）が備えるカメラ１６（図８参照）により撮像される画像）において視認性に優れた材料であることが好ましい。マーカー６は、好ましくは、光を乱反射する構造を有している。例えば、マーカー６は、白色（例えば蛍光白色）の部材である。白色は、光を散乱し易い性質を有している。このため、白色のマーカー６を利用することにより、スキャナ画像及びカメラ画像において、マーカー６を他の部分と区別して視認することが容易となる。マーカー６は、例えば、インク、修正液等の液状部材であってもよいし、シール、ラベル等の貼付部材であってもよい。前者の場合、マーカー６は、フレーム３の外面３ｇ上（本実施形態では、外面３ｇに設けられた導電層５上。以下同じ。）に塗布及び乾燥させられることによって形成される。後者の場合、マーカー６は、フレーム３の外面３ｇ上に貼り付けられることによって形成される。マーカー６の厚さは、例えば７５μｍである。 The material of the marker 6 has excellent visibility in a scanner image (image captured by a scanner device) and a camera image (image captured by the camera 16 (see FIG. 8) provided in the mass spectrometer 10 (see FIG. 8)), which will be described later. It is preferable that the material is The marker 6 preferably has a structure that diffusely reflects light. For example, the marker 6 is a white (for example, fluorescent white) member. White has the property of easily scattering light. Therefore, by using the white marker 6, it becomes easy to visually distinguish the marker 6 from other portions in the scanner image and the camera image. The marker 6 may be, for example, a liquid member such as ink or correction fluid, or an affixing member such as a sticker or label. In the former case, the marker 6 is formed by coating and drying on the outer surface 3g of the frame 3 (on the conductive layer 5 provided on the outer surface 3g in this embodiment; hereinafter the same). In the latter case, the marker 6 is formed by sticking it on the outer surface 3g of the frame 3. FIG. The thickness of the marker 6 is, for example, 75 μm.

図１に示されるように、試料支持体１Ａは、厚さ方向Ｄから見て同一直線上に並ばない少なくとも３箇所に設けられた複数（本実施形態では３つ）のマーカー６を備えている。３つのマーカー６は、測定領域Ｒ１の周縁部（近傍）に配置されている。本実施形態では、図１の図示上において、測定領域Ｒ１の上部右側、下部左側、及び下部右側のそれぞれにマーカー６が設けられている。一例として、各マーカー６は、厚さ方向Ｄから見て矩形状を有している。より具体的には、マーカー６は、Ｘ軸方向に沿った第１辺６ａとＹ軸方向に沿った第２辺６ｂとを有しており、第１辺６ａと第２辺６ｂとによって形成された角部６ｃを有している。すなわち、マーカー６は、略直角に形成された角部６ｃを有している。本実施形態では、各マーカー６の第１部分６１の角部６ｃのうち測定領域Ｒ１に近い方の角部６ｃ（すなわち、Ｙ軸方向における内側に位置する角部６ｃ）が、後述する位置合わせのためのポイントとして用いられる。 As shown in FIG. 1, the sample support 1A has a plurality of (three in this embodiment) markers 6 provided at least three locations that are not aligned on the same straight line when viewed in the thickness direction D. . The three markers 6 are arranged on the periphery (near) the measurement area R1. In the present embodiment, markers 6 are provided on each of the upper right, lower left, and lower right sides of the measurement region R1 in the illustration of FIG. As an example, each marker 6 has a rectangular shape when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG. More specifically, the marker 6 has a first side 6a along the X-axis direction and a second side 6b along the Y-axis direction, and is formed by the first side 6a and the second side 6b. It has rounded corners 6c. That is, the marker 6 has a corner portion 6c formed substantially at a right angle. In the present embodiment, of the corners 6c of the first portion 61 of each marker 6, the corner 6c closer to the measurement region R1 (that is, the corner 6c positioned inside in the Y-axis direction) is aligned with the position alignment described later. used as points for

３箇所に設けられたマーカー６間のＸＹ平面（厚さ方向Ｄに交差する平面）上における間隔は、測定領域Ｒ１を含む最小の正方形領域の一辺の長さの１／３以上である。本実施形態において、マーカー６間の間隔とは、各マーカー６の角部６ｃ間の間隔である。また、測定領域Ｒ１を含む最小の正方形領域の一辺の長さは、略円形状の測定領域Ｒ１の直径ｄ１（測定領域Ｒ１のＸ軸方向の長さ）である。従って、本実施形態では、マーカー６間の最小の間隔である測定領域Ｒ１の下部左側のマーカー６の角部６ｃと下部右側のマーカー６の角部６ｃとの距離ｄ２について、「ｄ２≧ｄ１／３」の関係が成立している。 The distance between the three markers 6 on the XY plane (the plane intersecting the thickness direction D) is 1/3 or more of the length of one side of the smallest square area including the measurement area R1. In the present embodiment, the interval between markers 6 is the interval between corners 6c of each marker 6. As shown in FIG. The length of one side of the smallest square area including the measurement area R1 is the diameter d1 of the substantially circular measurement area R1 (the length of the measurement area R1 in the X-axis direction). Therefore, in the present embodiment, regarding the distance d2 between the corner 6c of the lower left marker 6 and the corner 6c of the lower right marker 6 in the measurement region R1, which is the minimum distance between the markers 6, "d2≧d1/ 3” relationship is established.

［試料支持体１Ａを用いた質量分析方法］
次に、図６～図９を参照して、試料支持体１Ａを用いた質量分析方法（イオン化方法を含む）について説明する。なお、図６及び図８においては、貫通孔２ｃ及び導電層５の図示を省略している。 [Mass Spectrometry Method Using Sample Support 1A]
Next, a mass spectrometry method (including an ionization method) using the sample support 1A will be described with reference to FIGS. 6 to 9. FIG. 6 and 8, illustration of the through hole 2c and the conductive layer 5 is omitted.

まず、図６（Ａ）に示されるように、試料Ｓが用意される。具体的には、試料Ｓがスライドグラス８（載置部）の載置面８ａに載置される。スライドグラス８は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide)膜等の透明導電膜が形成されたガラス基板であり、透明導電膜の表面が載置面８ａとなっている。なお、試料Ｓが載置される載置部はスライドグラス８に限定されず、導電性を確保し得る部材（例えば、ステンレス等の金属材料等からなる基板等）を載置部として用いることができる。ここで、試料Ｓは、例えば生体試料（含水試料）である。試料Ｓは、例えばマウスの肝臓切片等である。試料Ｓの成分Ｓ１（図６（Ｃ）参照）の移動をスムーズにするために、成分Ｓ１の粘性を低くするための溶液（例えばアセトニトリル混合液、アセトン等）が、試料Ｓに添加されてもよい。 First, as shown in FIG. 6A, a sample S is prepared. Specifically, the sample S is mounted on the mounting surface 8a of the slide glass 8 (mounting portion). The slide glass 8 is a glass substrate on which a transparent conductive film such as an ITO (Indium Tin Oxide) film is formed, and the surface of the transparent conductive film serves as a mounting surface 8a. Note that the mounting portion on which the sample S is mounted is not limited to the slide glass 8, and a member capable of ensuring conductivity (for example, a substrate made of a metal material such as stainless steel, etc.) may be used as the mounting portion. can. Here, the sample S is, for example, a biological sample (water-containing sample). The sample S is, for example, a mouse liver section or the like. In order to smooth the movement of the component S1 of the sample S (see FIG. 6C), a solution for reducing the viscosity of the component S1 (eg, acetonitrile mixture, acetone, etc.) may be added to the sample S. good.

続いて、図６（Ｂ）に示されるように、基板２の第２表面２ｂが試料Ｓに対向するように、試料Ｓ上に試料支持体１Ａが配置される。試料支持体１Ａの導電性テープ４の部分４ｂが載置面８ａに貼り付けられることにより、試料支持体１Ａがスライドグラス８に固定される。 Subsequently, the sample support 1A is placed on the sample S so that the second surface 2b of the substrate 2 faces the sample S, as shown in FIG. 6(B). The sample support 1A is fixed to the slide glass 8 by attaching the portion 4b of the conductive tape 4 of the sample support 1A to the mounting surface 8a.

続いて、図６（Ｃ）に示されるように、試料Ｓの成分Ｓ１は、毛細管現象によって、基板２の第２表面２ｂ側から貫通孔２ｃ（図３参照）を介して基板２の第１表面２ａ側に向けて移動する。そして、基板２の第１表面２ａ側に移動した成分Ｓ１は、表面張力によって第１表面２ａ側に留まる。この状態において、スライドグラス８上に固定された試料支持体１Ａは、質量分析装置１０（図８参照）に挿入される前に、図示しないスキャナー装置によって撮像される。以下、上述のように一体的に固定されたスライドグラス８、試料Ｓ、及び試料支持体１Ａのことを測定プレートＭＰという。 Subsequently, as shown in FIG. 6C, the component S1 of the sample S flows from the second surface 2b side of the substrate 2 through the through holes 2c (see FIG. 3) to the first portion of the substrate 2 by capillary action. It moves toward the surface 2a side. Then, the component S1 that has moved to the first surface 2a side of the substrate 2 stays on the first surface 2a side due to surface tension. In this state, the sample support 1A fixed on the slide glass 8 is imaged by a scanner device (not shown) before being inserted into the mass spectrometer 10 (see FIG. 8). Hereinafter, the slide glass 8, the sample S, and the sample support 1A that are integrally fixed as described above will be referred to as a measurement plate MP.

図７は、スキャナー装置によって撮像されたスキャナ画像Ｐ１の一例を示す図である。スキャナ画像Ｐ１は、例えば、縦２０ｍｍ×横２５ｍｍ程度の大きさの画像である。スキャナ画像Ｐ１は、少なくとも測定領域Ｒ１と各マーカー６とを撮像範囲に含む画像である。上述したように、マーカー６は、スキャナ画像Ｐ１において視認性に優れているため、図７に示されるように、スキャナ画像Ｐ１において、マーカー６と他の部分とを識別することができる。すなわち、スキャナ画像Ｐ１において、マーカー６の角部６ｃの位置を容易に特定することができる。また、スキャナ画像Ｐ１においては、測定領域Ｒ１のうち試料Ｓが配置された領域（すなわち、第１表面２ａ側に移動した試料Ｓの成分Ｓ１が存在する領域）である試料領域Ｒｓを特定することも可能となっている。例えば、試料Ｓを特定し易くなるようにスキャナ画像Ｐ１の撮像条件等を設定することにより、スキャナ画像において試料領域Ｒｓを特定することができる。 FIG. 7 is a diagram showing an example of a scanner image P1 captured by a scanner device. The scanner image P1 is, for example, an image having a size of approximately 20 mm long by 25 mm wide. The scanner image P1 is an image including at least the measurement region R1 and each marker 6 in its imaging range. As described above, the marker 6 has excellent visibility in the scanner image P1, so as shown in FIG. 7, the marker 6 and other portions can be distinguished from each other in the scanner image P1. That is, the position of the corner 6c of the marker 6 can be easily specified in the scanner image P1. Further, in the scanner image P1, a sample region Rs, which is the region where the sample S is placed (that is, the region where the component S1 of the sample S that has moved toward the first surface 2a exists) in the measurement region R1, can be specified. is also possible. For example, by setting the imaging conditions of the scanner image P1 so that the sample S can be easily identified, the sample region Rs can be identified in the scanner image.

続いて、図８に示されるように、スキャナ画像Ｐ１が取得された後、測定プレートＭＰが、質量分析装置１０の支持部１２上に載置される。 Subsequently, as shown in FIG. 8, the measurement plate MP is placed on the support section 12 of the mass spectrometer 10 after the scanner image P1 is obtained.

質量分析装置１０は、支持部１２と、試料ステージ１８と、カメラ１６と、照射部１３と、電圧印加部１４と、イオン検出部１５と、制御部１７と、を備えている。測定プレートＭＰは、支持部１２上に載置される。支持部１２は、試料ステージ１８上に載置される。照射部１３は、試料支持体１Ａの第１表面２ａに対してレーザ光Ｌ等のエネルギー線を照射する。電圧印加部１４は、試料支持体１Ａの第１表面２ａに対して電圧を印加する。イオン検出部１５は、イオン化された試料Ｓの成分（試料イオンＳ２）を検出する。カメラ１６は、照射部１３によるレーザ光Ｌの照射位置を含むカメラ画像を取得する装置である。カメラ１６は、例えば、照射部１３に付随する小型のＣＣＤカメラである。 The mass spectrometer 10 includes a support section 12 , a sample stage 18 , a camera 16 , an irradiation section 13 , a voltage application section 14 , an ion detection section 15 and a control section 17 . A measurement plate MP is placed on the support 12 . The support section 12 is placed on the sample stage 18 . The irradiation unit 13 irradiates the first surface 2a of the sample support 1A with an energy beam such as a laser beam L. As shown in FIG. The voltage applying section 14 applies a voltage to the first surface 2a of the sample support 1A. The ion detection unit 15 detects ionized components of the sample S (sample ions S2). The camera 16 is a device that acquires a camera image including the irradiation position of the laser light L by the irradiation unit 13 . The camera 16 is, for example, a small CCD camera attached to the irradiation unit 13 .

図９は、カメラ１６によって撮像されたカメラ画像Ｐ２の一例を示す図である。カメラ画像Ｐ２は、例えば、縦１．５ｍｍ×横１．５ｍｍ程度の大きさの画像である。すなわち、カメラ１６の撮像範囲（視野）は、スキャナー装置の撮像範囲よりも非常に小さい。これは、照射部１３によるレーザ光Ｌの照射位置を精度良く設定するためである。 FIG. 9 is a diagram showing an example of a camera image P2 captured by the camera 16. As shown in FIG. The camera image P2 is, for example, an image having a size of about 1.5 mm long×1.5 mm wide. That is, the imaging range (field of view) of the camera 16 is much smaller than the imaging range of the scanner device. This is for accurately setting the irradiation position of the laser light L by the irradiation unit 13 .

制御部１７は、試料ステージ１８、カメラ１６、照射部１３、電圧印加部１４、イオン検出部１５の動作を制御する。制御部１７は、例えば、プロセッサ（例えば、ＣＰＵ等）、及びメモリ（例えば、ＲＯＭ、ＲＡＭ等）等を備えるコンピュータ装置である。 The control unit 17 controls operations of the sample stage 18 , the camera 16 , the irradiation unit 13 , the voltage application unit 14 and the ion detection unit 15 . The control unit 17 is, for example, a computer device including a processor (eg, CPU, etc.), memory (eg, ROM, RAM, etc.), and the like.

まず、制御部１７は、照射部１３のレーザ照射範囲（すなわち、試料領域Ｒｓ）を認識するために、スキャナ画像Ｐ１において設定されている座標系（以下「第１座標系」という。）と制御部１７が認識している制御用の座標系（以下「第２座標系」という。）との対応関係を把握するための処理（位置合わせ）を実行する。このために、まず、制御部１７は、スキャナ画像Ｐ１における３つのマーカー６の角部６ｃの二次元の座標Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３（第１座標系における座標）を取得する。座標Ｘ１～Ｘ３は、例えば、スキャナ画像Ｐ１を解析することにより得られる。また、制御部１７は、各マーカー６の角部６ｃにレーザ照射位置を合わせる処理を順次行う。制御部１７は、例えば、試料ステージ１８を移動させ、カメラ１６によってレーザ照射位置を観察することにより、各マーカー６の角部６ｃの二次元の座標Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３（第２座標系における座標）が取得される。これにより、第１座標系と第２座標系との間で、異なる３点についての座標の対応関係（すなわち、「Ｘ１⇔Ｙ１」、「Ｘ２⇔Ｙ２」、「Ｘ３⇔Ｙ３」）が得られる。制御部１７は、当該対応関係に基づいて所定の演算を行うことにより、第１座標系における任意の座標を第２座標系における座標に変換するための変換式を導出する。そして、制御部１７は、スキャナ画像Ｐ１に示される試料領域Ｒｓの範囲（第１座標系により示される範囲）を上記変換式を用いて第２座標系における範囲に変換することにより、当該変換後の範囲をレーザ照射範囲（第２座標系により示される範囲）として取得することができる。以上により、質量分析測定の前準備が完了する。 First, the control unit 17 controls the coordinate system (hereinafter referred to as “first coordinate system”) set in the scanner image P1 in order to recognize the laser irradiation range of the irradiation unit 13 (that is, the sample region Rs). A process (alignment) for grasping the correspondence with the control coordinate system (hereinafter referred to as the “second coordinate system”) recognized by the unit 17 is executed. For this purpose, the control unit 17 first acquires the two-dimensional coordinates X1, X2, and X3 (coordinates in the first coordinate system) of the corners 6c of the three markers 6 in the scanner image P1. The coordinates X1-X3 are obtained, for example, by analyzing the scanner image P1. Further, the control unit 17 sequentially performs processing for aligning the laser irradiation position with the corner 6 c of each marker 6 . For example, by moving the sample stage 18 and observing the laser irradiation position with the camera 16, the control unit 17 obtains two-dimensional coordinates Y1, Y2, and Y3 (coordinates in the second coordinate system) of the corners 6c of the markers 6. ) is obtained. As a result, between the first coordinate system and the second coordinate system, a correspondence relationship of coordinates for three different points (that is, "X1 ⇔ Y1", "X2 ⇔ Y2", and "X3 ⇔ Y3") is obtained. . The control unit 17 derives a conversion formula for converting arbitrary coordinates in the first coordinate system into coordinates in the second coordinate system by performing predetermined calculations based on the correspondence. Then, the control unit 17 converts the range of the sample region Rs shown in the scanner image P1 (the range shown by the first coordinate system) into the range in the second coordinate system using the conversion formula, thereby obtaining can be acquired as the laser irradiation range (range indicated by the second coordinate system). With the above, preparation for mass spectrometric measurement is completed.

続いて、図８に示されるように、電圧印加部１４によって、スライドグラス８の載置面８ａ及び導電性テープ４を介して試料支持体１Ａの導電層５（図２参照）に電圧が印加される。続いて、制御部１７が、第２座標系によって認識されたレーザ照射範囲に基づいて、照射部１３を動作させる。具体的には、制御部１７は、レーザ照射範囲内の第１表面２ａに対してレーザ光Ｌが照射されるように照射部１３を動作させる。 Subsequently, as shown in FIG. 8, the voltage applying unit 14 applies a voltage to the conductive layer 5 (see FIG. 2) of the sample support 1A through the mounting surface 8a of the slide glass 8 and the conductive tape 4. be done. Subsequently, the control unit 17 operates the irradiation unit 13 based on the laser irradiation range recognized by the second coordinate system. Specifically, the control unit 17 operates the irradiation unit 13 so that the first surface 2a within the laser irradiation range is irradiated with the laser light L. As shown in FIG.

一例として、制御部１７は、試料ステージ１８を移動させると共に、照射部１３によるレーザ光Ｌの照射動作（照射タイミング等）を制御する。すなわち、制御部１７は、試料ステージ１８が所定間隔移動したことを確認した後に、照射部１３にレーザ光Ｌの照射を実行させる。例えば、制御部１７は、レーザ照射範囲内をラスタスキャンするように試料ステージ１８の移動（走査）と照射部１３によるレーザ光Ｌの照射とを繰り返す。なお、第１表面２ａに対する照射位置の変更は、試料ステージ１８ではなく照射部１３を移動させることによって行われてもよいし、試料ステージ１８及び照射部１３の両方を移動させることによって行われてもよい。 As an example, the control unit 17 moves the sample stage 18 and controls the irradiation operation (such as irradiation timing) of the laser light L by the irradiation unit 13 . That is, the control unit 17 causes the irradiation unit 13 to irradiate the laser light L after confirming that the sample stage 18 has moved by a predetermined distance. For example, the control unit 17 repeats movement (scanning) of the sample stage 18 and irradiation of the laser light L by the irradiation unit 13 so as to perform raster scanning within the laser irradiation range. The irradiation position on the first surface 2a may be changed by moving the irradiation unit 13 instead of the sample stage 18, or by moving both the sample stage 18 and the irradiation unit 13. good too.

このように、導電層５に電圧が印加されつつレーザ照射範囲内の第１表面２ａに対してレーザ光Ｌが照射されることにより、第１表面２ａ側に移動した成分Ｓ１がイオン化され、試料イオンＳ２（イオン化された成分Ｓ１）が放出される。具体的には、レーザ光Ｌのエネルギーを吸収した導電層５から、基板２の第１表面２ａ側に移動した成分Ｓ１にエネルギーが伝達され、エネルギーを獲得した成分Ｓ１が気化すると共に電荷を獲得して、試料イオンＳ２となる。以上の各工程が、試料支持体１Ａを用いた試料Ｓのイオン化方法（ここでは一例として、質量分析方法の一部としてのレーザ脱離イオン化法）に相当する。 In this way, by applying the voltage to the conductive layer 5 and irradiating the first surface 2a within the laser irradiation range with the laser light L, the component S1 that has moved toward the first surface 2a is ionized, and the sample is Ions S2 (ionized component S1) are released. Specifically, energy is transmitted from the conductive layer 5 that has absorbed the energy of the laser light L to the component S1 that has moved toward the first surface 2a of the substrate 2, and the component S1 that has acquired the energy is vaporized and acquires electric charges. Then, it becomes the sample ion S2. Each of the steps described above corresponds to the ionization method of the sample S using the sample support 1A (here, as an example, the laser desorption ionization method as part of the mass spectrometry method).

放出された試料イオンＳ２は、試料支持体１Ａとイオン検出部１５との間に設けられたグランド電極（図示省略）に向かって加速しながら移動する。つまり、試料イオンＳ２は、電圧が印加された導電層５とグランド電極との間に生じた電位差によって、グランド電極に向かって加速しながら移動する。そして、イオン検出部１５によって試料イオンＳ２が検出される。 The emitted sample ions S2 move toward a ground electrode (not shown) provided between the sample support 1A and the ion detection section 15 while being accelerated. That is, the sample ions S2 move while being accelerated toward the ground electrode due to the potential difference generated between the conductive layer 5 to which the voltage is applied and the ground electrode. Then, the sample ions S2 are detected by the ion detection unit 15 .

イオン検出部１５による試料イオンＳ２の検出結果は、レーザ光Ｌの照射位置に関連付けられる。具体的には、イオン検出部１５は、レーザ照射範囲内の各位置について個別に試料イオンＳ２を検出する。各位置について個別に検出された試料イオンＳ２のデータ（検出結果）には、各位置を示す識別番号（例えば、上述した第２座標系における座標等）が付与される。これにより、試料Ｓの質量分布を示す分布画像（ＭＳマッピングデータ）が取得される。さらに、試料Ｓを構成する分子の二次元分布を画像化することができる。なお、ここでの質量分析装置１０は、飛行時間型質量分析法（ＴＯＦ－ＭＳ：Time-of-Flight Mass Spectrometry）を利用する質量分析装置である。 The detection result of the sample ions S2 by the ion detection unit 15 is associated with the irradiation position of the laser light L. As shown in FIG. Specifically, the ion detector 15 individually detects the sample ions S2 at each position within the laser irradiation range. The data (detection result) of the sample ions S2 individually detected at each position is given an identification number (for example, coordinates in the above-described second coordinate system) indicating each position. Thereby, a distribution image (MS mapping data) indicating the mass distribution of the sample S is obtained. Furthermore, the two-dimensional distribution of the molecules that make up the sample S can be imaged. The mass spectrometer 10 here is a mass spectrometer that uses time-of-flight mass spectrometry (TOF-MS).

［作用効果］
以上述べたように、試料支持体１Ａでは、基板２には、第１表面２ａ及び第２表面２ｂに開口する複数の貫通孔２ｃが形成された測定領域Ｒ１が設けられている。このため、例えば生体試料等の試料Ｓ上に、基板２の第２表面２ｂが試料Ｓに対向するように試料支持体１Ａを配置することにより、毛細管現象を利用して、第２表面２ｂ側から貫通孔２ｃを介して第１表面２ａ側に向けて試料Ｓの成分Ｓ１を移動させることができる。そして、レーザ光Ｌを第１表面２ａに対して照射することにより、試料Ｓの成分Ｓ１をイオン化することができる。従って、試料支持体１Ａを用いることにより、試料Ｓのイメージング質量分析を容易に行うことができる。 [Effect]
As described above, in the sample support 1A, the substrate 2 is provided with the measurement region R1 in which the plurality of through-holes 2c opening to the first surface 2a and the second surface 2b are formed. Therefore, by arranging the sample support 1A on the sample S such as a biological sample so that the second surface 2b of the substrate 2 faces the sample S, the second surface 2b side of the substrate 2 can be obtained by utilizing capillary action. , the component S1 of the sample S can be moved toward the first surface 2a side through the through hole 2c. By irradiating the first surface 2a with the laser light L, the component S1 of the sample S can be ionized. Therefore, by using the sample support 1A, the imaging mass spectrometry of the sample S can be easily performed.

上記イメージング質量分析を行う際には、試料Ｓ上に試料支持体１Ａが配置された状態で、試料支持体１Ａの第１表面２ａ側から、測定領域Ｒ１の全体とその周辺領域とを撮像したスキャナ画像Ｐ１（図７参照）が取得される。また、基板２の第１表面２ａ側にレーザ光Ｌを照射するための前処理として、共通のポイント（本実施形態では、マーカー６の角部６ｃ）において、スキャナ画像Ｐ１において設定された座標と質量分析装置１０が認識している座標（レーザ光Ｌの照射位置）とが取得され、両者の対応関係が把握される。試料支持体１Ａでは、フレーム３が、基板２の第１表面２ａ上において、測定領域Ｒ１を包囲するように設けられている。そして、フレーム３の外面３ｇ上に、上述したマーカー６が設けられている。従って、試料支持体１Ａによれば、マーカー６を利用することにより、上記位置合わせを容易且つ精度良く行うことができる。 When performing the imaging mass spectrometry, the entire measurement region R1 and its peripheral region were imaged from the first surface 2a side of the sample support 1A with the sample support 1A placed on the sample S. A scanner image P1 (see FIG. 7) is acquired. Further, as a pretreatment for irradiating the first surface 2a side of the substrate 2 with the laser beam L, a common point (in this embodiment, the corner 6c of the marker 6) is coordinated with the coordinates set in the scanner image P1. The coordinates (irradiation position of the laser beam L) recognized by the mass spectrometer 10 are obtained, and the correspondence between the two is grasped. In the sample support 1A, a frame 3 is provided on the first surface 2a of the substrate 2 so as to surround the measurement region R1. The marker 6 described above is provided on the outer surface 3g of the frame 3. As shown in FIG. Therefore, according to the sample support 1A, by using the markers 6, the alignment can be performed easily and accurately.

また、試料支持体１Ａは、フレーム３の外面３ｇ上に貼り付けられ、厚さ方向Ｄから見てフレーム３と重ならない部分４ｂを有する導電性テープ４を備えている。そして、マーカー６は、厚さ方向Ｄから見てフレーム３と重ならない第１部分６１と、フレーム３と導電性テープ４との間に設けられた第２部分６２と、を有する。上記構成では、基板２の第１表面２ａ上に、フレーム３、マーカー６、及び導電性テープ４がこの順に配置される。すなわち、マーカー６と導電性テープ４とが重なる領域においては、マーカー６が導電性テープ４よりも基板２側に配置される。上記構成によれば、マーカー６のうちフレーム３と重ならない第１部分６１（すなわち、外部に露出している部分）を利用することにより、上記位置合わせを実施することができる。また、マーカー６が絶縁物によって形成される場合、上記構成によればマーカー６の一部（すなわち第２部分６２）を導電性テープ４で覆い隠すことができるため、厚さ方向Ｄから見た試料支持体１Ａの表面において、絶縁物が露出する面積を極力少なくすることができる。すなわち、導電性テープ４の形状及び配置により、位置合わせに必要十分なマーカー６の部分（すなわち、第１部分６１）を確保しつつ、絶縁物が露出する面積を低減することができる。これにより、イメージング質量分析時（すなわち、試料支持体１Ａに電圧を印加する際）に、電位の乱れが発生することを抑制することができる。また、マーカー６の第２部分６２をフレーム３と導電性テープ４とで挟み込むことにより、マーカー６が試料支持体１Ａから剥離してしまうことを抑制することもできる。 Moreover, the sample support 1A is provided with a conductive tape 4 that is attached onto the outer surface 3g of the frame 3 and has a portion 4b that does not overlap the frame 3 when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG. The marker 6 has a first portion 61 that does not overlap the frame 3 when viewed in the thickness direction D, and a second portion 62 provided between the frame 3 and the conductive tape 4 . In the above configuration, the frame 3, the marker 6, and the conductive tape 4 are arranged on the first surface 2a of the substrate 2 in this order. That is, in the region where the marker 6 and the conductive tape 4 overlap, the marker 6 is arranged closer to the substrate 2 than the conductive tape 4 is. According to the above configuration, by using the first portion 61 of the marker 6 that does not overlap the frame 3 (that is, the portion exposed to the outside), the alignment can be performed. Further, when the marker 6 is formed of an insulating material, according to the above configuration, a portion of the marker 6 (that is, the second portion 62) can be covered with the conductive tape 4, so that when viewed from the thickness direction D The exposed area of the insulator on the surface of the sample support 1A can be minimized. That is, depending on the shape and arrangement of the conductive tape 4, it is possible to reduce the area where the insulator is exposed while securing the portion of the marker 6 necessary and sufficient for alignment (that is, the first portion 61). Thereby, it is possible to suppress the occurrence of potential disturbance during imaging mass spectrometry (that is, when applying a voltage to the sample support 1A). Further, by sandwiching the second portion 62 of the marker 6 between the frame 3 and the conductive tape 4, it is possible to prevent the marker 6 from peeling off from the sample support 1A.

また、マーカー６の第２部分６２は、厚さ方向Ｄから見てフレーム３と導電性テープ４とが重なる領域の一部に設けられている。上記構成では、マーカー６の第２部分６２は、フレーム３と導電性テープ４との間の領域全体に設けられていない。すなわち、フレーム３と導電性テープ４とがマーカー６を介さずに接触する領域（本実施形態では、フレーム３と導電性テープ４とが導電層５を介して接触する領域）が確保されている。これにより、マーカー６が絶縁物によって形成される場合であっても、導電性テープ４及びフレーム３（或いは、導電層５）を介して、試料支持体１Ａに電圧を適切に印加することができる。本実施形態では、導電性テープ４とフレーム３の外面３ｇ上の導電層５とが電気的に接触していることにより、スライドグラス８から導電性テープ４を介して導電層５へと電圧が印加される。 Also, the second portion 62 of the marker 6 is provided in a part of the region where the frame 3 and the conductive tape 4 overlap when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG. In the configuration described above, the second portion 62 of the marker 6 is not provided over the entire area between the frame 3 and the conductive tape 4 . That is, a region where the frame 3 and the conductive tape 4 are in contact with each other without the marker 6 (in this embodiment, a region where the frame 3 and the conductive tape 4 are in contact with each other with the conductive layer 5 interposed therebetween) is secured. . Thereby, even if the marker 6 is made of an insulating material, a voltage can be appropriately applied to the sample support 1A via the conductive tape 4 and the frame 3 (or the conductive layer 5). . In this embodiment, since the conductive tape 4 and the conductive layer 5 on the outer surface 3g of the frame 3 are in electrical contact, a voltage is applied from the slide glass 8 to the conductive layer 5 via the conductive tape 4. applied.

また、試料支持体１Ａは、厚さ方向Ｄから見て同一直線上に並ばない少なくとも３箇所に設けられた複数のマーカー６を備えている。上記構成によれば、同一直線上に並ばない少なくとも３箇所のマーカー６を利用した位置合わせを実施することにより、二次元直交座標において、スキャナ画像Ｐ１に設定された座標系と質量分析装置１０の座標系との対応関係を確実に把握することが可能となる。 In addition, the sample support 1A has a plurality of markers 6 provided at at least three locations that are not arranged on the same straight line when viewed in the thickness direction D. As shown in FIG. According to the above configuration, alignment is performed using at least three markers 6 that are not aligned on the same straight line. It is possible to reliably grasp the correspondence with the coordinate system.

また、３箇所に設けられたマーカー６間の厚さ方向Ｄに交差するＸＹ平面上における間隔（距離ｄ２）は、測定領域Ｒ１を含む最小の正方形領域の一辺の長さ（直径ｄ１）の１／３以上である。上記構成によれば、隣接するマーカー６間の間隔を測定領域Ｒ１の大きさに対して一定以上確保することにより、上記位置合わせの精度を向上させることができる。 The distance (distance d2) on the XY plane intersecting the thickness direction D between the markers 6 provided at three locations is 1 of the length of one side (diameter d1) of the smallest square area including the measurement area R1. /3 or more. According to the above configuration, it is possible to improve the accuracy of the alignment by ensuring that the interval between the adjacent markers 6 is equal to or greater than a certain size with respect to the size of the measurement region R1.

また、マーカー６は、角部６ｃを有している。上記構成によれば、上述したスキャナ画像Ｐ１及びカメラ画像Ｐ２等において位置を特定し易い角部６ｃを位置合わせのためのポイントとして用いることにより、上記位置合わせをより一層容易且つ精度良く実施することができる。 Moreover, the marker 6 has a corner portion 6c. According to the above configuration, by using the corner 6c whose position can be easily specified in the above-described scanner image P1, camera image P2, etc., as a point for alignment, the alignment can be performed more easily and accurately. can be done.

また、試料支持体１Ａは、厚さ方向Ｄから見て、Ｘ軸方向に延びる辺とＹ軸方向に延びる辺とを有する略矩形状に形成されている。マーカー６は、Ｘ軸方向に沿った第１辺６ａとＹ軸方向に沿った第２辺６ｂとを有している。そして、角部６ｃは、第１辺６ａと第２辺６ｂとによって形成されている。上記構成によれば、マーカー６の角部６ｃは、試料支持体１Ａの外形に応じて定まった形状を有しているため、上述したスキャナ画像Ｐ１及びカメラ画像Ｐ２等において、マーカー６の角部６ｃの位置をより一層容易且つ精度良く特定することができる。 Moreover, the sample support 1A is formed in a substantially rectangular shape having a side extending in the X-axis direction and a side extending in the Y-axis direction when viewed from the thickness direction D. As shown in FIG. The marker 6 has a first side 6a along the X-axis direction and a second side 6b along the Y-axis direction. The corner portion 6c is formed by the first side 6a and the second side 6b. According to the above configuration, the corner 6c of the marker 6 has a shape determined according to the outer shape of the sample support 1A. The position of 6c can be specified more easily and accurately.

また、マーカー６は、白色の部材である。上記構成によれば、上述したスキャナ画像Ｐ１及びカメラ画像Ｐ２等におけるマーカー６の視認性を向上させることができる。 Moreover, the marker 6 is a white member. According to the above configuration, it is possible to improve the visibility of the marker 6 in the above-described scanner image P1, camera image P2, and the like.

また、基板２は、測定領域Ｒ１とは別に、測定領域Ｒ１に設けられた複数の貫通孔２ｃと同様の複数の貫通孔２ｃが形成されたキャリブレーション領域Ｒ２を有している。上記構成によれば、測定領域Ｒ１を用いた質量分析を実施する前に、キャリブレーション領域Ｒ２を用いた質量校正（マスキャリブレーション）を実施することが可能となる。これにより、試料支持体１Ａを用いた質量分析結果の精度を向上させることができる。 In addition to the measurement region R1, the substrate 2 has a calibration region R2 in which a plurality of through holes 2c similar to the plurality of through holes 2c provided in the measurement region R1 are formed. According to the above configuration, it is possible to perform mass calibration using the calibration region R2 before performing mass spectrometry using the measurement region R1. Thereby, the precision of the mass spectrometry result using the sample support 1A can be improved.

また、試料支持体１Ａは、基板２の第１表面２ａ上において貫通孔２ｃを塞がないように設けられた導電層５を備えている。上記構成によれば、本実施形態のように絶縁性の基板２（アルミナポーラス皮膜）を用いる場合であっても、イオン化された試料Ｓの成分Ｓ１を質量分析装置１０のイオン検出部１５へと移動させるための電圧を、導電層５を介して基板２の第１表面２ａ上に適切に印加することが可能となる。 The sample support 1A also has a conductive layer 5 provided on the first surface 2a of the substrate 2 so as not to block the through holes 2c. According to the above configuration, even when the insulating substrate 2 (alumina porous film) is used as in the present embodiment, the ionized component S1 of the sample S is transferred to the ion detection unit 15 of the mass spectrometer 10. A voltage for movement can be appropriately applied on the first surface 2 a of the substrate 2 via the conductive layer 5 .

［第２実施形態］
図１０及び図１１を参照して、第２実施形態に係る試料支持体１Ｂについて説明する。試料支持体１Ｂは、マーカー６がフレーム３と導電性テープ４との間には設けられておらず、マーカー６が導電性テープ４の外面４ｃ（フレーム３とは反対側の面）上に設けられた部分を有している点において、試料支持体１Ａと相違している。試料支持体１Ｂの他の構成は、試料支持体１Ａと同様である。試料支持体１Ｂでは、基板２の第１表面２ａ上に、フレーム３、導電性テープ４、及びマーカー６がこの順に配置されている。すなわち、マーカー６と導電性テープ４とが重なる領域においては、導電性テープ４がマーカー６よりも基板２側に配置されている。この場合、フレーム３と導電性テープ４との間にマーカー６が配置されないことにより、フレーム３と導電性テープ４との間の電気的接続をより確実に確保することができる。 [Second embodiment]
A sample support 1B according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 10 and 11. FIG. In the sample support 1B, the marker 6 is not provided between the frame 3 and the conductive tape 4, and the marker 6 is provided on the outer surface 4c of the conductive tape 4 (the surface opposite to the frame 3). It is different from the sample support 1A in that it has a recessed portion. Other configurations of the sample support 1B are the same as those of the sample support 1A. In the sample support 1B, a frame 3, a conductive tape 4, and markers 6 are arranged on the first surface 2a of the substrate 2 in this order. That is, in the region where the marker 6 and the conductive tape 4 overlap, the conductive tape 4 is arranged closer to the substrate 2 than the marker 6 is. In this case, since the marker 6 is not arranged between the frame 3 and the conductive tape 4, electrical connection between the frame 3 and the conductive tape 4 can be ensured more reliably.

［第３実施形態］
図１２を参照して、第３実施形態に係る試料支持体１Ｃについて説明する。試料支持体１Ｃは、４つ以上（本実施形態では６つ）のマーカー６を備える点において、試料支持体１Ｂと相違している。試料支持体１Ｃの他の構成は、試料支持体１Ｂと同様である。具体的には、試料支持体１Ｃでは、６つの同形状（矩形状）のマーカー６が、測定領域Ｒ１の周囲において、略均等な間隔で配置されている。より具体的には、試料支持体１Ｃは、試料支持体１Ｂが備える測定領域Ｒ１の上部右側、下部左側、及び下部右側のマーカー６に加えて、測定領域Ｒ１の上部左側のマーカー６Ａと、Ｙ軸方向における中央部において測定領域Ｒ１を挟んでＸ軸方向に対向する一対のマーカー６Ｂと、を備えている。このように、試料支持体１Ｃには、４つ以上のマーカー６が設けられてもよい。この場合、４つ以上のマーカー６のうちから任意の３つのマーカー６（例えば、スキャナ画像Ｐ１及びカメラ画像Ｐ２において視認（特定）し易いマーカー）を選択し、選択されたマーカー６を用いて上述した位置合わせを精度良く行うことができる。また、上述した位置合わせは、なるべく試料領域Ｒｓ（図７参照）から近いポイントを用いて行われることが精度の観点から好ましい。試料支持体１Ｃのように測定領域Ｒ１の周囲に４つ以上のマーカー６を略等間隔に分布させることにより、試料領域Ｒｓの位置に応じて適切なマーカー６（すなわち、試料領域Ｒｓからなるべく近い位置にあるマーカー６）を選択して、精度良く位置合わせを行うことが可能となる。 [Third Embodiment]
A sample support 1C according to the third embodiment will be described with reference to FIG. The sample support 1C differs from the sample support 1B in that it has four or more (six in this embodiment) markers 6 . Other configurations of the sample support 1C are the same as those of the sample support 1B. Specifically, in the sample support 1C, six same-shaped (rectangular) markers 6 are arranged at substantially equal intervals around the measurement region R1. More specifically, the sample support 1C includes, in addition to the upper right, lower left, and lower right markers 6 of the measurement region R1 provided in the sample support 1B, an upper left marker 6A of the measurement region R1 and a Y A pair of markers 6B facing each other in the X-axis direction with the measurement region R1 interposed therebetween is provided at the central portion in the axial direction. Thus, four or more markers 6 may be provided on the sample support 1C. In this case, any three markers 6 (for example, markers that are easily visible (identifiable) in the scanner image P1 and the camera image P2) are selected from among the four or more markers 6, and the selected markers 6 are used as described above. Alignment can be performed with high precision. Moreover, it is preferable from the viewpoint of accuracy that the above-described alignment is performed using a point as close as possible to the sample region Rs (see FIG. 7). By distributing four or more markers 6 around the measurement region R1 at approximately equal intervals like the sample support 1C, appropriate markers 6 (that is, It is possible to select a marker 6) at a position and perform accurate alignment.

なお、マーカー６Ｂは、その全体が導電性テープ４上に配置されている。このように、試料支持体には、導電性テープ４上に全体が配置されるマーカー６が設けられてもよい。また、試料支持体１Ｃの６つのマーカー６のうち一対のマーカー６Ｂ以外のマーカー６は、試料支持体１Ａにおけるマーカー６と同様の構成（すなわち、マーカー６と導電性テープ４とが重なる部分において、マーカー６が基板２側に配置される構成）を備えていてもよい。 The marker 6B is entirely placed on the conductive tape 4. As shown in FIG. Thus, the sample support may be provided with markers 6 which are entirely arranged on the conductive tape 4 . In addition, among the six markers 6 on the sample support 1C, the markers 6 other than the pair of markers 6B have the same configuration as the markers 6 on the sample support 1A (that is, in the portion where the marker 6 and the conductive tape 4 overlap, A configuration in which the marker 6 is arranged on the substrate 2 side) may be provided.

［第４実施形態］
図１３を参照して、第４実施形態に係る試料支持体１Ｄについて説明する。試料支持体１Ｄは、導電性テープ４の代わりに導電性テープ４Ａを備えると共に、マーカー６の代わりにマーカー６Ｃを備える点において、試料支持体１Ａと相違している。試料支持体１Ｄの他の構成は、試料支持体１Ａと同様である。導電性テープ４Ａは、フレーム３のＸ軸方向における一方側（図１３の図示左側）に設けられた導電性テープ４１Ａと、フレーム３のＸ軸方向における他方側（図１３の図示右側）に設けられた導電性テープ４２Ａと、を有している。導電性テープ４１Ａ，４２Ａは、厚さ方向Ｄに貫通する開口部４ｄを有する点で、導電性テープ４１，４２と相違している。導電性テープ４１Ａ，４２Ａの他の構成は、導電性テープ４１，４２と同様である。本実施形態では、導電性テープ４１Ａには、測定領域Ｒ１の下部左側に開口部４ｄが設けられている。また、導電性テープ４１Ｂには、測定領域Ｒ１の上部右側及び下部右側のそれぞれに開口部４ｄが設けられている。一例として、開口部４ｄの形状は、矩形状である。 [Fourth Embodiment]
A sample support 1D according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG. The sample support 1D differs from the sample support 1A in that the conductive tape 4A is provided instead of the conductive tape 4 and the marker 6C is provided instead of the marker 6. FIG. Other configurations of the sample support 1D are the same as those of the sample support 1A. The conductive tape 4A includes a conductive tape 41A provided on one side of the frame 3 in the X-axis direction (the left side in FIG. 13) and a conductive tape 41A provided on the other side of the frame 3 in the X-axis direction (the right side in FIG. 13). and a conductive tape 42A. The conductive tapes 41A, 42A differ from the conductive tapes 41, 42 in that they have openings 4d penetrating in the thickness direction D. As shown in FIG. Other configurations of the conductive tapes 41A and 42A are the same as those of the conductive tapes 41 and 42. FIG. In this embodiment, the conductive tape 41A is provided with an opening 4d on the lower left side of the measurement region R1. Further, the conductive tape 41B is provided with openings 4d on the upper right side and the lower right side of the measurement region R1. As an example, the shape of the opening 4d is rectangular.

マーカー６Ｃは、フレーム３の外面３ｇ（図３等参照）上において、厚さ方向Ｄから見て開口部４ｄ内に設けられている。マーカー６Ｃは、開口部４ｄよりも小さい矩形状に形成されている。マーカー６Ｃの縁部は、開口部４ｄの縁部から若干離間している。すなわち、厚さ方向Ｄから見て、マーカー６Ｃの縁部と開口部４ｄの縁部との間に隙間が形成されている。 The marker 6C is provided in the opening 4d when viewed from the thickness direction D on the outer surface 3g of the frame 3 (see FIG. 3, etc.). The marker 6C is formed in a rectangular shape smaller than the opening 4d. The edge of the marker 6C is slightly separated from the edge of the opening 4d. That is, when viewed from the thickness direction D, a gap is formed between the edge of the marker 6C and the edge of the opening 4d.

試料支持体１Ｄによれば、導電性テープ４Ａに形成された開口部４ｄにより、マーカー６Ｃの位置を規定することができる。また、フレーム３上で導電性テープ４Ａとマーカー６Ｃとが互いに重ならないように、両者を収まりよく配置することができる。 According to the sample support 1D, the positions of the markers 6C can be defined by the openings 4d formed in the conductive tape 4A. In addition, the conductive tape 4A and the marker 6C can be placed on the frame 3 so as to fit well so that they do not overlap each other.

［第５実施形態］
図１４を参照して、第５実施形態に係る試料支持体１Ｅについて説明する。試料支持体１Ｅは、導電性テープ４の代わりに導電性テープ４Ｂを備えると共に、マーカー６の代わりにマーカー６Ｄを備える点において、試料支持体１Ａと相違している。試料支持体１Ｅの他の構成は、試料支持体１Ａと同様である。具体的には、マーカー６Ｄは、フレーム３の外面３ｇ上に設けられた導電性テープ４Ｂの一部とされている。例えば、マーカー６Ｄは、導電性テープ４Ｂの一部に印刷又は刻印されている。本実施形態では一例として、左側の導電性テープ４１Ｂのうち測定領域Ｒ１の下部左側の領域に、「×」の印の印刷又は刻印が施されている。また、右側の導電性テープ４２Ｂのうち測定領域Ｒ１の上部右側及び下部右側の領域においても、同様に「×」の印の印刷又は刻印が施されている。これらの印の各々が、マーカー６Ｄとして機能する。例えば、本実施形態の場合、「×」の中央部分（２つの線分が交差する点）を位置合わせのためのポイントとして用いることができる。 [Fifth embodiment]
A sample support 1E according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG. The sample support 1E is different from the sample support 1A in that it has a conductive tape 4B instead of the conductive tape 4 and a marker 6D instead of the marker 6. FIG. Other configurations of the sample support 1E are the same as those of the sample support 1A. Specifically, the marker 6D is a part of the conductive tape 4B provided on the outer surface 3g of the frame 3. As shown in FIG. For example, the marker 6D is printed or engraved on part of the conductive tape 4B. In the present embodiment, as an example, an "x" mark is printed or stamped on the area on the lower left side of the measurement area R1 of the left conductive tape 41B. Also, in the upper right and lower right regions of the measurement region R1 of the right conductive tape 42B, the "x" mark is printed or stamped in the same manner. Each of these markings functions as a marker 6D. For example, in the case of this embodiment, the central portion of "x" (point where two line segments intersect) can be used as a point for alignment.

試料支持体１Ｅによれば、導電性テープ４Ｂの一部をマーカー６Ｂとして利用することにより、導電性テープ４Ｂと異なる部材をマーカーとして設ける必要がない。これにより、試料支持体１Ｅの部品点数を削減することができる。また、導電性テープ４Ｂの一部としてのマーカー６Ｂは、導電性テープ４Ｂに対する印刷又は刻印によって容易に形成することができる。 According to the sample support 1E, by using a part of the conductive tape 4B as the marker 6B, there is no need to provide a member different from the conductive tape 4B as the marker. Thereby, the number of parts of the sample support 1E can be reduced. Also, the marker 6B as a part of the conductive tape 4B can be easily formed by printing or engraving on the conductive tape 4B.

以上、本開示の一実施形態について説明したが、本開示は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、各構成の材料及び形状には、上述した材料及び形状に限らず、様々な材料及び形状を採用することができる。 An embodiment of the present disclosure has been described above, but the present disclosure is not limited to the above-described embodiment. For example, the material and shape of each configuration are not limited to the materials and shapes described above, and various materials and shapes can be adopted.

例えば、上記実施形態では、フレーム３に設けられた１つの開口部３ａによって１つの測定領域Ｒ１が規定されていたが、試料支持体には複数の測定領域Ｒ１が設けられてもよい。 For example, in the above embodiment, one measurement region R1 is defined by one opening 3a provided in the frame 3, but a plurality of measurement regions R1 may be provided in the sample support.

また、基板２に設けられる導電層５は、少なくとも第１表面２ａに設けられていればよい。従って、導電層５は、第１表面２ａに加えて、例えば、第２表面２ｂにも設けられてもよいし、各貫通孔２ｃの内面の全体又は一部にも設けられてもよい。 Moreover, the conductive layer 5 provided on the substrate 2 may be provided on at least the first surface 2a. Therefore, the conductive layer 5 may be provided on, for example, the second surface 2b in addition to the first surface 2a, or may be provided on all or part of the inner surface of each through hole 2c.

また、基板２は、導電性を有していてもよい。例えば、基板２は、半導体等の導電性材料によって形成されていてもよい。この場合、基板２の第１表面２ａ側に電圧を印加するための導電層５は省略されてもよい。ただし、基板２が導電性を有する場合であっても、基板２の第１表面２ａ側に好適に電圧を印加するために、導電層５が設けられてもよい。 Further, the substrate 2 may have conductivity. For example, the substrate 2 may be made of a conductive material such as a semiconductor. In this case, the conductive layer 5 for applying voltage to the first surface 2a side of the substrate 2 may be omitted. However, even if the substrate 2 has conductivity, the conductive layer 5 may be provided in order to suitably apply a voltage to the first surface 2a side of the substrate 2 .

また、試料支持体を用いた質量分析方法において、電圧印加部１４によって電圧が印加される対象は、載置面８ａに限られない。例えば、電圧は、フレーム３又は導電層５に直接印加されてもよい。 In addition, in the mass spectrometry method using the sample support, the object to which the voltage is applied by the voltage applying section 14 is not limited to the mounting surface 8a. For example, the voltage may be applied directly to frame 3 or conductive layer 5 .

また、試料支持体を用いた質量分析方法において、照射部１３は、測定領域Ｒ１に対してレーザ光Ｌを一括で照射してもよい。つまり、質量分析装置１０は、投影型質量分析装置であってもよい。また、上述したイオン化方法は、イオンモビリティ測定等の他の測定・実験にも利用することができる。 Further, in the mass spectrometry method using the sample support, the irradiation section 13 may irradiate the measurement region R1 with the laser light L all at once. That is, the mass spectrometer 10 may be a projection mass spectrometer. In addition, the ionization method described above can also be used for other measurements and experiments such as ion mobility measurements.

また、試料支持体の用途は、レーザ光Ｌの照射による試料のイオン化に限定されない。試料支持体は、レーザ光、イオンビーム、電子線等のエネルギー線の照射による試料のイオン化に用いることができる。上述したイオン化方法及び質量分析方法では、エネルギー線の照射によって試料をイオン化することができる。 Further, the application of the sample support is not limited to the ionization of the sample by the irradiation of the laser light L. The sample support can be used for ionizing a sample by irradiation with energy beams such as laser light, ion beams, and electron beams. In the ionization method and mass spectrometry method described above, the sample can be ionized by irradiation with energy rays.

１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ…試料支持体、２…基板、２ａ…第１表面、２ｂ…第２表面、２ｃ…貫通孔、３…フレーム、４ｄ…開口部、４，４Ａ，４Ｂ，４１，４１Ａ，４１Ｂ，４２，４２Ａ，４２Ｂ…導電性テープ、４ｂ…部分、５…導電層、６，６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ…マーカー、６ａ…第１辺、６ｂ…第２辺、６ｃ…角部、６１…第１部分、６２…第２部分、Ｄ…厚さ方向、Ｒ１…測定領域、Ｒ２…キャリブレーション領域、Ｓ…試料。 1A, 1B, 1C, 1D, 1E... sample support, 2... substrate, 2a... first surface, 2b... second surface, 2c... through hole, 3... frame, 4d... opening, 4, 4A, 4B, 41, 41A, 41B, 42, 42A, 42B... conductive tape, 4b... portion, 5... conductive layer, 6, 6A, 6B, 6C, 6D... marker, 6a... first side, 6b... second side, 6c ... corner, 61 ... first portion, 62 ... second portion, D ... thickness direction, R1 ... measurement region, R2 ... calibration region, S ... sample.

Claims

試料のイオン化に用いられる試料支持体であって、
第１表面と前記第１表面とは反対側の第２表面とを有し、前記第１表面及び前記第２表面に開口する複数の貫通孔が形成された測定領域を有する基板と、
前記基板の前記第１表面上に設けられ、前記基板の厚さ方向から見た場合に前記測定領域を包囲するように形成されたフレームと、
前記フレームの前記基板とは反対側の面上に設けられたマーカーと、を備える試料支持体。 A sample support for ionizing a sample, comprising:
a substrate having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and having a measurement region in which a plurality of through holes opening to the first surface and the second surface are formed;
a frame provided on the first surface of the substrate and formed to surround the measurement area when viewed from the thickness direction of the substrate;
and markers provided on the opposite side of the frame from the substrate.

前記フレームの前記基板とは反対側の面上に貼り付けられ、前記厚さ方向から見て前記フレームと重ならない部分を有する導電性テープを更に備え、
前記マーカーは、前記厚さ方向から見て前記フレームと重ならない第１部分と、前記フレームと前記導電性テープとの間に設けられた第２部分と、を有する、請求項１に記載の試料支持体。 further comprising a conductive tape attached to the surface of the frame opposite to the substrate and having a portion that does not overlap the frame when viewed in the thickness direction;
The sample according to claim 1, wherein the marker has a first portion that does not overlap the frame when viewed in the thickness direction, and a second portion that is provided between the frame and the conductive tape. support.

前記第２部分は、前記厚さ方向から見て前記フレームと前記導電性テープとが重なる領域の一部に設けられている、請求項２に記載の試料支持体。 3. The sample support according to claim 2, wherein said second portion is provided in a part of a region where said frame and said conductive tape overlap when viewed from said thickness direction.

前記フレームの前記基板とは反対側の面上に貼り付けられ、前記厚さ方向から見て前記フレームと重ならない部分を有する導電性テープを更に備え、
前記マーカーは、前記フレームと前記導電性テープとの間には設けられておらず、前記導電性テープの前記フレームとは反対側の面上に設けられた部分を有する、請求項１に記載の試料支持体。 further comprising a conductive tape attached to the surface of the frame opposite to the substrate and having a portion that does not overlap the frame when viewed in the thickness direction;
2. The marker according to claim 1, wherein said marker has a portion not provided between said frame and said conductive tape, but provided on a surface of said conductive tape opposite said frame. sample support.

前記フレームの前記基板とは反対側の面上に貼り付けられ、前記厚さ方向から見て前記フレームと重ならない部分を有する導電性テープを更に備え、
前記導電性テープには、前記厚さ方向に貫通する開口部が形成されており、
前記マーカーは、前記フレームの前記基板とは反対側の面上において、前記厚さ方向から見て前記開口部内に設けられている、請求項１に記載の試料支持体。 further comprising a conductive tape attached to the surface of the frame opposite to the substrate and having a portion that does not overlap the frame when viewed in the thickness direction;
The conductive tape is formed with an opening penetrating in the thickness direction,
2. The sample support according to claim 1, wherein the marker is provided in the opening viewed from the thickness direction on the surface of the frame opposite to the substrate.

前記マーカーは、前記フレームの前記基板とは反対側の面上に設けられた導電性テープの一部である、請求項１に記載の試料支持体。 2. The sample support of claim 1, wherein the marker is a piece of conductive tape provided on the opposite side of the frame from the substrate.

前記マーカーは、前記導電性テープの一部に印刷又は刻印されている、請求項６に記載の試料支持体。 7. A sample support according to claim 6, wherein said marker is printed or imprinted on a portion of said conductive tape.

前記厚さ方向から見て同一直線上に並ばない少なくとも３箇所に設けられた複数の前記マーカーを備える、請求項１～７のいずれか一項に記載の試料支持体。 The sample support according to any one of claims 1 to 7, comprising a plurality of said markers provided at at least three locations not aligned on the same straight line when viewed in said thickness direction.

前記３箇所に設けられた前記マーカー間の前記厚さ方向に交差する平面上における間隔は、前記測定領域を含む最小の正方形領域の一辺の長さの１／３以上である、請求項８に記載の試料支持体。 9. The method according to claim 8, wherein the distance between the markers provided at the three locations on the plane intersecting the thickness direction is 1/3 or more of the length of one side of the smallest square area including the measurement area. Specimen support as described.

前記複数の前記マーカーは、４つ以上の前記マーカーを有する、請求項８又は９に記載の試料支持体。 10. A sample support according to claim 8 or 9, wherein said plurality of said markers comprises four or more said markers.

前記マーカーは、角部を有する、請求項１～１０のいずれか一項に記載の試料支持体。 A sample support according to any one of claims 1 to 10, wherein the markers have corners.

前記試料支持体は、前記厚さ方向から見て、第１方向に延びる辺と前記第１方向に直交する第２方向に延びる辺とを有する略矩形状に形成されており、
前記マーカーは、前記第１方向に沿った第１辺と前記第２方向に沿った第２辺とを有し、
前記角部は、前記第１辺と前記第２辺とによって形成されている、請求項１１に記載の試料支持体。 When viewed from the thickness direction, the sample support is formed in a substantially rectangular shape having sides extending in a first direction and sides extending in a second direction perpendicular to the first direction,
the marker has a first side along the first direction and a second side along the second direction;
12. The sample support according to claim 11, wherein said corner is formed by said first side and said second side.

前記マーカーは、白色の部材である、請求項１～１２のいずれか一項に記載の試料支持体。 The sample support according to any one of claims 1 to 12, wherein said marker is a white member.

前記基板は、前記測定領域とは別に、前記測定領域に設けられた前記複数の貫通孔と同様の複数の貫通孔が形成されたキャリブレーション用の領域を有する、請求項１～１３のいずれか一項に記載の試料支持体。 14. The substrate according to any one of claims 1 to 13, wherein the substrate has an area for calibration in which a plurality of through-holes similar to the plurality of through-holes provided in the measurement area are formed separately from the measurement area. A sample support according to claim 1.

前記基板の前記第１表面上において前記貫通孔を塞がないように設けられた導電層を更に備える、請求項１～１４のいずれか一項に記載の試料支持体。 The sample support according to any one of claims 1 to 14, further comprising a conductive layer provided on said first surface of said substrate so as not to block said through-hole.