JP2022181949A - Calibration jig, calibration method, and measuring method - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、校正治具、校正方法、および、測定方法に関する。 The present disclosure relates to calibration jigs, calibration methods, and measurement methods.
特許文献1には、直方体状の校正治具が開示されている。特許文献1において、校正治具は、光干渉測定装置の向きの校正に用いられている。
光干渉測定装置によって、被測定物の測定を行う場合、測定光は被測定物に対して所定の方向に走査される。例えば被測定物が円筒状のローラの周面上に配置されているシートである場合、測定光は、円筒状の周面に沿うシートの表面をローラの中心軸方向に沿って走査される。ローラに対して光干渉測定装置の向きが適切に校正されていないと、走査方向は、ローラの中心軸に対して傾斜していることが考えられる。走査方向がローラの中心軸に対して傾斜している状態で測定光が走査されると、測定光の照射位置がローラの周方向に変位し、かつ、測定光の入射角が変化するため、測定精度が低下する。 When an object to be measured is measured by an optical interference measurement device, measurement light is scanned in a predetermined direction with respect to the object to be measured. For example, when the object to be measured is a sheet placed on the circumferential surface of a cylindrical roller, the measurement light scans the surface of the sheet along the cylindrical circumferential surface along the central axis direction of the roller. If the orientation of the optical interference measurement device with respect to the roller is not properly calibrated, the scanning direction may be tilted with respect to the central axis of the roller. When the measurement light is scanned in a state in which the scanning direction is inclined with respect to the central axis of the roller, the irradiation position of the measurement light is displaced in the circumferential direction of the roller and the incident angle of the measurement light changes. Decreased measurement accuracy.
本開示は、光干渉測定装置の向きの校正を高精度に行うことができる校正治具を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to provide a calibration jig that can calibrate the orientation of an optical interference measurement device with high accuracy.
前記目的を達成するために、本開示における校正治具は、ローラの周面上の被測定物に向けて測定光を照射する光干渉測定装置の校正に用いられる校正治具であって、ローラの周面に沿う円筒面と、円筒面と反対側に円筒面の中心軸に対して平行に設けられ、測定光が照射される主平面と、主平面から第1距離離れて配置されている2つの頂点と、を備え、円筒面は、円筒面上のある1点を通り且つ円筒面の中心軸に直交する直線と、ある1点を通り且つ主平面に直交する直線とのなす角度が、予め定められた角度になる形状である。 To achieve the above object, a calibration jig in the present disclosure is a calibration jig used for calibrating an optical interference measurement device that irradiates measurement light toward an object to be measured on the peripheral surface of a roller, a cylindrical surface along the peripheral surface of the cylindrical surface, a main plane provided parallel to the central axis of the cylindrical surface on the opposite side of the cylindrical surface and irradiated with the measurement light, and a first distance away from the main plane The cylindrical surface has two vertices, and the angle formed by a straight line passing through a certain point on the cylindrical surface and perpendicular to the central axis of the cylindrical surface and a straight line passing through a certain point and perpendicular to the principal plane is , is a shape with a predetermined angle.
また、前記目的を達成するために、本開示における校正方法は、上記の校正治具を用いて光干渉測定装置の向きを校正する校正方法であって、光干渉測定装置の向きは、測定光の光軸と平行なz軸、z軸に直交するx軸、並びに、z軸およびx軸に直交するy軸を有するxyz座標によって定義され、主平面をy軸方向に測定光を走査することによって取得されるプロファイルにおいてz軸の値が等しい値を示すようにθx軸を校正するステップと、θx軸を校正するステップにおいて取得されるプロファイルにおいてz軸の値を所定値と等しくするようにz軸を校正するステップと、y軸方向に測定光を走査することによって取得されるプロファイルが2つの頂点を含むようにy軸およびθz軸を校正するステップと、校正治具における2つの頂点の間の面をx軸方向に測定光を走査することによって取得されるプロファイルにおいてz軸の値が等しい値を示すようにθy軸を校正するステップと、を含む。 Further, in order to achieve the above object, a calibration method in the present disclosure is a calibration method for calibrating the orientation of an optical interference measurement device using the calibration jig described above, wherein the orientation of the optical interference measurement device is defined by xyz coordinates having a z-axis parallel to the optical axis of, an x-axis orthogonal to the z-axis, and a y-axis orthogonal to the z-axis and the x-axis, scanning the measurement light in the y-axis direction in the principal plane calibrating the θ x-axis so that the z-axis values exhibit equal values in the profile obtained by and calibrating the θ x -axis so that the z - axis values in the profile obtained in the step of calibrating the calibrating the y-axis and the θ z- axis so that the profile obtained by scanning the measurement light in the y-axis direction includes two vertices; calibrating the θ y -axis so that the z-axis values exhibit equal values in profiles obtained by scanning the measurement beam in the x-axis direction across the surface between the vertices.
また、前記目的を達成するために、本開示における測定方法は、上記の校正方法によって校正された光干渉測定装置を用いて被測定物の測定を行う測定方法であって、ある1点のy軸の値を取得するステップによって取得したy軸の値を、被測定物に対する測定光の照射位置におけるy軸の値に設定するステップと、測定光の照射位置に、測定光を主平面に直交する方向に沿って射出するステップと、測定光をローラの中心軸に沿って走査して被測定物のプロファイルを取得するステップと、を含む。 Further, in order to achieve the above object, a measurement method in the present disclosure is a measurement method for measuring an object to be measured using an optical interference measurement device calibrated by the above calibration method, wherein a certain point y setting the y-axis value acquired in the step of acquiring the axis value to the y-axis value at the irradiation position of the measurement light on the object to be measured; and scanning the measurement light along the central axis of the roller to acquire the profile of the object to be measured.
本開示の校正治具によれば、光干渉測定装置の向きの校正を高精度に行うことができる。 According to the calibration jig of the present disclosure, it is possible to calibrate the orientation of the optical interference measurement device with high accuracy.
以下、本開示の校正治具、校正方法、および、測定方法について、図面を参照しながら説明する。図1は、校正治具1がローラ2に周面2aに配置され、光干渉測定装置3の向きの校正が行われている状態を示す図である。図1には、校正治具1、ローラ2、および、光干渉測定装置3が示されている。なお、図中に示されているxyz座標は、光干渉測定装置3の向きを表している(詳細は後述する)。
The calibration jig, calibration method, and measurement method of the present disclosure will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a state in which the
<校正治具>
校正治具1は、ローラ2の周面2a上の被測定物に向けて測定光Rを照射する光干渉測定装置3の校正に用いられる。校正治具1は、光干渉測定装置3の向きの校正に用いられる。被測定物は、例えばシートSである。シートSは、図2に示されるように、ローラ2の周面2a上に配置され、ローラ2が回転することで搬送される。シートSは、例えば、セロハン樹脂およびポリイミド樹脂などの樹脂シート、並びに、綿、樹脂繊維、および、ガラス繊維などで作製された布または不織布である。
<Calibration jig>
A
校正治具1は、図3および図4に示されるように、平面視矩形状に設けられている。校正治具1は、円筒面10、主平面11、2つの頂点12,13、および、副平面14を有している。
As shown in FIGS. 3 and 4, the
円筒面10は、ローラ2の周面2aに沿うように設けられている。円筒面10がローラ2の周面2aに接触することで、校正治具1がローラ2の周面2aに配置される。校正治具1がローラ2の周面2aに配置された場合、円筒面10の中心軸10aはローラ2の中心軸2bと一致する。
主平面11は、円筒面10と反対側に円筒面10の中心軸10aに対して平行に設けられている。光干渉測定装置3の校正が行われる場合、測定光Rが主平面11に照射される。
The
2つの頂点12,13は、主平面11と円筒面10との間に配置されている。2つの頂点12,13は、主平面11から第1距離h離れて配置されている。また、2つの頂点12,13は、円筒面10の中心軸10aに直交する平面上に設けられている。
Two
2つの頂点12,13は、2つの円錐面15,16それぞれによって構成される円錐の頂点である。2つの円錐面15,16は、主平面11から凹むように設けられている。2つの円錐面15,16の形状は、互いに等しくなるように設けられている。具体的には、2つの円錐面15,16それぞれによって構成される円錐の高さは、第1距離hである。また、2つの円錐面15,16それぞれによって構成される円錐の底面の直径は、第2距離dである。なお、2つの円錐面15,16は、主平面11から突出するように設けられてもよい。また、2つの頂点12,13は、角錐面の頂点でもよい。
The two
副平面14は、溝17の底面である。溝17は、2つの円錐面15,16の間において、円筒面10の中心軸10aに沿って延びる断面矩形状に形成されている。副平面14は、主平面11と第1距離h離れて、主平面11と平行に設けられている。つまり、副平面14は、主平面11から見た場合に2つの頂点12,13の間に設けられ、2つの頂点12,13と同一平面上に位置する。なお、2つの円錐面15,16が主平面11から突出するように設けられている場合、副平面14は、主平面11から断面矩形状に突出する突出部の先端面によって構成される。
The
また、円筒面10は、円筒面10上のある1点Pを通り且つ円筒面10の中心軸10aに直交する直線Aと、ある1点Pを通り且つ主平面11に直交する直線Bとのなす角度が、予め定められた角度αになる形状である。また、ある1点Pを通り且つ主平面11に直交する直線Bは、2つの頂点12,13を結ぶ線分の中点Cを通る。さらに、2つの頂点12,13の中点Cは、副平面14上において、溝17の幅方向の中点と一致する。副平面14は、ある1点Pに対向している。
The
また、ある1点Pは、光干渉測定装置3によって被測定物を測定する場合における測定光Rの照射位置に対応する点である(詳細は後述する)。また、予め定められた角度αは、光干渉測定装置3によって被測定物を測定する場合において、作業者が所望する測定光Rの入射角に定められている(詳細は後述する)。 A certain point P is a point corresponding to the irradiation position of the measurement light R when the object to be measured is measured by the optical interference measurement device 3 (details will be described later). The predetermined angle α is determined to be the incident angle of the measurement light R desired by the operator when measuring the object to be measured by the optical interference measurement device 3 (details will be described later).
校正治具1の材質は、ミクロン単位の加工精度が実現でき、かつ測定光Rの反射率が10%以下であることが好ましい。校正治具1の材質は、例えばジルコニアなどのセラミック、黒アルマイト加工など反射率を低減させる処理を施した金属、および、ABSや6―6ナイロンのような樹脂などである。
It is preferable that the material of the
上記のように、主平面11と、2つ頂点12,13および副平面14との距離である第1距離hは、光干渉測定装置3において、後述する測定光Rの光軸(z軸)方向の測定可能範囲に含まれる距離である。また、2つの円錐面15,16は、光干渉測定装置3において、後述する測定光Rの光軸に直交する軸線(y軸)方向の測定可能範囲に含まれるように設けられている。
As described above, the first distance h between the
<光干渉測定装置>
光干渉測定装置3は、波長走査型オプティカルコヒーレンストモグラフィー(SS-OCT:Swept Source Optical Coherence Tomography)を用いた光干渉信号測定装置である。光干渉測定装置3は、図5に示されるように、光ファイバ干渉計31、および、測定ヘッド32を備えている。
<Optical interference measurement device>
The optical
光ファイバ干渉計31は、放射光と参照光との光路長差により生じる干渉光を測定に用いる測距手段である。光ファイバ干渉計31は、波長走査型光源31aおよびOCT演算部31bを備えている。
The
波長走査型光源31aは、放射光を射出するとともに、光の波長を時間的に変化させるものである。波長走査型光源31aからの放射光は測定光Rと参照光とに分光される。測定光Rは、測定ヘッド32に入射する。
The wavelength
測定ヘッド32は、照射コリメートレンズ32a、ガルバノミラー対32b、および、fθレンズ32cを備えている。測定ヘッド32に入射した測定光Rは、照射コリメートレンズ32a、ガルバノミラー対32b、および、fθレンズ32cを経て、図1において光干渉測定装置3が設置されている設置面の上方から設置面に向けて射出される。図5においては、測定光Rは、図5の上側から下側に向けて射出される。
The
ガルバノミラー対32bは測定ヘッド32から射出される測定光Rの光軸回りに回転する第一のミラー32b1および測定光Rの光軸に直交する軸線回りに回転する第二のミラー32b2を有している。第一のミラー32b1および第二のミラー32b2が回転することにより、測定光Rは、測定光Rの光軸に直交し且つ互いに直交する2つの軸線方向に走査される。また、測定光Rの光軸の向きは、fθレンズ32cにより、ガルバノミラー対32bの角度によらず常に一定になる。
The
そして、被測定物にて反射した測定光Rは、同じ光路を辿って光ファイバ干渉計31に入射し、参照光と合成され、干渉光となる。干渉光は、光ビート信号として、OCT演算部31bで解析される。
Then, the measurement light R reflected by the object to be measured follows the same optical path, enters the
OCT演算部31bは、光ビート信号の時間波形をフーリエ変換して、周波数解析を行うことで、干渉光の強度分布を表すSS-OCT信号を得る。OCT演算部31bは、このSS-OCT信号から、被測定物の測定光Rの光軸に沿う位置(高さ)を測定する。
The
光干渉測定装置3において、参照光の光路長と、測定光Rの光路長とが等しいとき、検出される干渉光の光ビート信号の周波数はゼロとなる。このときの測定光Rの反射面の位置を、便宜上、ゼロ点とする。
In the optical
ゼロ点から被測定物までの距離が波長走査型光源31aのコヒーレンス長より大きい場合、測定光Rは参照光と干渉を起こさず、光ビート信号を検出することはできない。また、コヒーレンス長より小さくても、高さに比例する光ビート信号の周波数がOCT演算部31bの応答周波数を超えると、正しい信号を検出することはできない。つまり、光干渉測定装置3の光軸方向の測定可能範囲は、波長走査型光源31aのコヒーレンス長とOCT演算部31bの応答周波数との両者によって制限される。
If the distance from the zero point to the object to be measured is greater than the coherence length of the wavelength
また、ガルバノミラー対32bの回転による走査角度と、fθレンズ32cの直径によって、測定光Rの光軸に直交し且つ互いに直交する2つの軸線方向の走査可能範囲が制限される。光干渉測定装置3において、上記の光軸方向の測定可能範囲、および、2つの軸線方向の走査可能範囲は、OCT演算部31bに予め記憶されている。
Also, the scannable range in two axial directions perpendicular to the optical axis of the measurement light R and perpendicular to each other is limited by the scanning angle due to the rotation of the
また、光干渉測定装置3は、図1に示されるように、角度調整機構33および直動調整機構34に接続されている。角度調整機構33および直動調整機構34は、光干渉測定装置3の向きを調整するものである。光干渉測定装置3の向きは、x軸、y軸、z軸を有するxyz座標にて定義される。
The optical
z軸は、測定ヘッドから射出される測定光Rの光軸と平行な軸である。x軸は、z軸に直交する軸線である。y軸は、z軸およびx軸に直交する軸線である。 The z-axis is parallel to the optical axis of the measurement light R emitted from the measurement head. The x-axis is an axis perpendicular to the z-axis. The y-axis is the axis perpendicular to the z-axis and the x-axis.
角度調整機構33は、例えばステッピングモータが用いられた回転機構およびゴニオ機構などを利用した角度調整ステージである。角度調整機構33は、θx軸調整機構33a、θy軸調整機構33b、および、θz軸調整機構33cを備えている。θx軸調整機構33aは、光干渉測定装置3のx軸回りの角度を調整する。θy軸調整機構33bは、光干渉測定装置3のy軸回りの角度を調整する。θz軸調整機構33cは、光干渉測定装置3のz軸回りの角度を調整する。
The
直動調整機構34は、例えばリニアガイドなどの摺動機構を利用した直線ステージである。直動調整機構34は、x軸調整機構34a、y軸調整機構34b、および、z軸調整機構34cを備えている。x軸調整機構34aは、光干渉測定装置3のx軸方向の位置を調整する。y軸調整機構34bは、光干渉測定装置3のy軸方向の位置を調整する。z軸調整機構34cは、光干渉測定装置3のz軸方向の位置を調整する。角度調整機構33および直動調整機構34によって、光干渉測定装置3の向きが調整されることによって、測定光Rの照射位置および入射角が調整される。
The linear
<校正方法>
次に、校正治具1を用いて光干渉測定装置3の向きを校正する校正方法について、図6のフローチャートを用いて説明する。作業者は、z軸が主平面11に直交するように(すなわちx軸およびy軸が主平面11と平行になるように)、x軸がローラ2の中心軸2bと平行になるように、且つ、y軸が2つの頂点12,13を通る直線と平行になるように、光干渉測定装置3の向きを校正する。
<Calibration method>
Next, a calibration method for calibrating the orientation of the optical
はじめに、校正治具1は、ローラ2の周面2a上に、主平面11をおよそ水平にするように配置される。さらに、校正治具1における主平面11、副平面14、および、2つの頂点12,13を含む2つの円錐面15,16が、z軸方向の測定可能範囲内、並びに、x軸方向およびy軸方向の走査可能範囲内に位置するように、光干渉測定装置3の位置が調整される。また、光干渉測定装置3の向きは、x軸がおよそローラ2の中心軸2bに沿うように調整される。
First, the
作業者は、光干渉測定装置の向きの校正を行う際に、校正治具1に測定光Rを照射し且つ測定光Rを走査してSS-OCT測定を行う。SS-OCT測定によって、測定光Rが走査された方向におけるz軸方向(高さ)のプロファイルを得ることができる。作業者は、得られたプロファイルをモニタ(不図示)などで確認することができる。作業者は、得られたプロファイルが所望のプロファイルになるように、光干渉測定装置3の向きを校正する。
When calibrating the orientation of the optical interference measurement apparatus, the operator irradiates the
具体的には、作業者は、S10にて、測定光Rを主平面11に照射し且つy軸方向に走査して、SS-OCT測定を行う。図7Aは、S10のSS-OCT測定によって得られたプロファイルである。なお、図7Aおよび図7Bにおいて、2つの円錐面15,16および溝17のプロファイルは省略されている。
Specifically, in S10, the operator irradiates the
図7Aに示されるように、得られたプロファイルが走査方向(y軸方向)に対して傾斜している場合、y軸が主平面11に対して傾斜している。そこで、作業者は、S11において、y軸が主平面11に対して平行になるように、θx軸回りの角度を調整する。
As shown in FIG. 7A, when the obtained profile is tilted with respect to the scanning direction (y-axis direction), the y-axis is tilted with respect to the
続けて、作業者は、S12にて、測定光Rを主平面11に照射し且つy軸方向に走査して、SS-OCT測定を行う。作業者は、S13にて、θx軸の校正が完了したか否かを判定する。具体的には、作業者は、S12にて得られたプロファイルが、図7Bに示されるように、走査方向(y軸方向)に対して平行な所望のプロファイルであるか否かを判定する。
Subsequently, in S12, the operator irradiates the
S12にて得られたプロファイルが走査方向(y軸方向)に対して傾斜している場合(S13にてNO)、作業者は、S11およびS12を再度行う。 If the profile obtained in S12 is inclined with respect to the scanning direction (y-axis direction) (NO in S13), the operator repeats S11 and S12.
一方、S12にて得られたプロファイルが走査方向(y軸方向)に対して平行な所望するプロファイルである場合、θx軸の校正が完了する(S13にてYES)。このように、作業者は、所望するプロファイルが得られるまで光干渉測定装置3の向きを繰り返し調整する。
On the other hand, if the profile obtained in S12 is a desired profile parallel to the scanning direction (y-axis direction), calibration of the θ x- axis is completed (YES in S13). Thus, the operator repeatedly adjusts the orientation of the optical
続けて、作業者は、S14にて、光干渉測定装置3の主平面11に対するz軸方向の位置を調整するために、S12にて得られたプロファイルを参照してz軸の値が所定値と等しくなるようにz軸を調整する。作業者は、S15にて、測定光Rを主平面11に照射し且つy軸方向に走査して、SS-OCT測定を行う。
Subsequently, in S14, in order to adjust the position of the optical
作業者は、S16にて、z軸の校正が完了したか否かを判定する。具体的には、作業者は、S15にて得られたプロファイルが、z軸の値が所定値と等しい所望のプロファイルであるか否かを判定する。 At S16, the operator determines whether or not the z-axis calibration has been completed. Specifically, the operator determines whether the profile obtained in S15 is a desired profile in which the z-axis value is equal to a predetermined value.
S15にて得られたプロファイルにおいてz軸の値が所定値と異なる場合(S16にてNO)、作業者は、S14およびS15を再度行う。 If the z-axis value in the profile obtained in S15 is different from the predetermined value (NO in S16), the operator performs S14 and S15 again.
一方、S15にて得られたプロファイルにおいてz軸の値が所定値と等しい場合、z軸の校正が完了する(S16にてYES)。 On the other hand, if the z-axis value in the profile obtained in S15 is equal to the predetermined value, z-axis calibration is completed (YES in S16).
続けて、作業者は、S17にて、2つの頂点12,13に対するx軸方向の位置を調整するために、S15で得られたプロファイルを参照して、2つの頂点12,13のうち1つの頂点が現れる所望のプロファイルが得られるように、x軸を調整する。作業者は、S18にて、測定光Rを主平面11に照射し且つy軸方向に走査して、SS-OCT測定を行う。
Subsequently, in S17, the operator refers to the profile obtained in S15 to adjust the position of the two
作業者は、S19にて、x軸の校正が完了したか否かを判定する。具体的には、作業者は、S18にて得られたプロファイルが、2つの頂点12,13のうち1つの頂点が現れている所望のプロファイルであるか否かを判定する。
The operator determines in S19 whether or not the x-axis calibration has been completed. Specifically, the operator determines whether the profile obtained in S18 is a desired profile in which one of the two
図8Aに示されるように、測定光Rが2つの円錐面15,16を走査しているが、2つの頂点12,13のいずれも走査していない場合、図8Bに示されるように、プロファイルには、2つの放物線形状が現れており、頂点が現れていない。つまり、図8Bに示されるプロファイルは、S19における所望のプロファイルでない。なお、図8Aおよび図8Bにおいて、溝17のプロファイルは省略されている。
If the measuring beam R scans the two
S18にて得られたプロファイルが、図8Bに示される2つの放物線形状を有するプロファイルであり、所望のプロファイルでない場合(S19にてNO)、作業者は、S17およびS18を再度行う。 If the profile obtained in S18 is the profile having the two parabolic shapes shown in FIG. 8B and is not the desired profile (NO in S19), the operator performs S17 and S18 again.
一方、図9Aに示されるように、測定光Rが2つの頂点12,13のうち1つの頂点12を走査している場合、図9Bに示されるように、プロファイルには、1つの三角形状と1つの放物線形状が現れる。この1つの三角形状の高さが第1距離hであり、かつ、1つの三角形状の走査方向の幅が第2距離dである場合、1つの三角形状は、1つの頂点を示している。つまり、図9Bに示されるプロファイルは、S19における所望のプロファイルである。なお、図9Aおよび図9Bにおいて、溝17のプロファイルは省略されている。
On the other hand, as shown in FIG. 9A, when the measurement light R scans one
S18にて得られたプロファイルが、図9Bに示される1つの三角形状を有する所望のプロファイルである場合、x軸の校正が完了する(S19にてYES)。 If the profile obtained in S18 is the desired profile having one triangular shape shown in FIG. 9B, x-axis calibration is completed (YES in S19).
続けて、作業者は、S20にて、2つの頂点12,13に対するy軸の向きを調整するために、S19で得られたプロファイルを参照して、2つの頂点12,13が現れる所望のプロファイルが得られるように、θz軸を調整する。作業者は、S21にて、測定光Rを主平面11に照射し且つy軸方向に走査して、SS-OCT測定を行う。
Subsequently, in S20, the operator refers to the profile obtained in S19 in order to adjust the orientation of the y-axis with respect to the two
作業者は、S22にて、θz軸の校正が完了したか否かを判定する。具体的には、作業者は、S21にて得られたプロファイルが、2つの頂点12,13が現れている所望のプロファイルであるか否かを判定する。
The operator determines in S22 whether or not the calibration of the θ z- axis has been completed. Specifically, the operator determines whether the profile obtained in S21 is a desired profile in which two
S21にて得られたプロファイルが、図9Bに示される放物線形状を有するプロファイルであり、2つの頂点12,13が現れている所望のプロファイルでない場合(S22にてNO)、作業者は、S20およびS21を再度行う。
If the profile obtained in S21 is the profile having the parabolic shape shown in FIG. 9B and is not the desired profile in which two
一方、図10Aに示されるように、測定光Rが2つの頂点12,13を走査している場合、図10Bに示されるように、プロファイルには、2つの三角形状が現れる。この2つの三角形状の高さが第1距離hであり、かつ、2つの三角形状の走査方向の幅が第2距離dである場合、2つの三角形状は、2つの頂点12,13を示している。つまり、図10Bに示されるプロファイルは、S22における所望のプロファイルである。なお、図10Aおよび図10Bにおいて、溝17のプロファイルは省略されている。
On the other hand, when the measurement light R scans two
S21にて得られたプロファイルが、図10Bに示される2つの三角形状を有する所望のプロファイルである場合、θz軸の校正が完了する(S22にてYES)。 If the profile obtained in S21 is the desired profile having the two triangular shapes shown in FIG. 10B, calibration of the θ z- axis is completed (YES in S22).
なお、S22まで終了した時点において、y軸は、2つの頂点12,13を結ぶ直線と平行になっている。図10Bに示されるように、2つの頂点12,13のy軸の値をそれぞれY1およびY2とする。また、2つの頂点12,13の中点Cのy軸の値をY3とする。上記のように、2つの頂点12,13の中点Cは、円筒面10上のある1点Pとともに、主平面11に直交する直線Bを通る。つまり、Y3は、円筒面10上のある1点Pのy軸の値である。
It should be noted that the y-axis is parallel to the straight line connecting the two
作業者は、S23にて、円筒面10上のある1点Pのy軸の値であるY3を取得して、光干渉測定装置3の記憶部(不図示)に格納する。Y3は、後述する光干渉測定装置3による被測定物の測定に用いられる。
In S23, the operator acquires Y3, which is the y-axis value of a certain point P on the
作業者は、S24にて、z軸が主平面11に対して直交するように、θy軸回りの角度を調整する。作業者は、S25にて、測定光Rを副平面14に照射し且つx軸方向に走査して、SS-OCT測定を行う。
The operator adjusts the angle around the θ y- axis so that the z-axis is orthogonal to the
作業者は、S26にて、θy軸の校正が完了したか否かを判定する。具体的には、作業者は、S25にて得られたプロファイルが、走査方向(x軸方向)に対して平行な所望のプロファイルであるか否かを判定する。 The operator determines in S26 whether or not the calibration of the θ y- axis has been completed. Specifically, the operator determines whether the profile obtained in S25 is a desired profile parallel to the scanning direction (x-axis direction).
z軸が副平面14に直交する方向から傾斜していることにより、図11Aに示されるように、S25にて得られたプロファイルが走査方向(x軸方向)に対して傾斜している場合(S26にてNO)、作業者は、S24およびS25を再度行う。 When the profile obtained in S25 is inclined with respect to the scanning direction (x-axis direction) as shown in FIG. NO in S26), the operator performs S24 and S25 again.
一方、z軸が副平面14に対して直交していることにより、図11Bに示されるように、S25にて得られたプロファイルが、走査方向(x軸方向)に対して平行な所望のプロファイルである場合(S26にてYES)、θy軸の校正が完了する。これにより、作業者は、光干渉測定装置3の向きの校正を終了する。
On the other hand, since the z-axis is orthogonal to the sub-plane 14, the profile obtained in S25 is a desired profile parallel to the scanning direction (x-axis direction), as shown in FIG. 11B. (YES in S26), the calibration of the θ y- axis is completed. Thus, the operator completes the orientation calibration of the optical
上記のようにローラ2の周面2a上に配置可能な校正治具1を用いることで、ローラ2の周面2a上の被測定物に向けて測定光Rを照射する光干渉測定装置3の向きの校正を高精度に行うことができる。また、θx軸およびθy軸は、校正治具1の寸法ではなく、走査方向に対するプロファイルの傾斜に基づいて校正が行われている。よって、θx軸およびθy軸の校正を、光干渉測定装置3の測定可能範囲に関わらずに、高精度に校正することができる。
By using the
<測定方法>
次に、上記の校正方法によって校正された光干渉測定装置3を用いて被測定物の測定を行う測定方法について説明する。被測定物は、例えば、ローラ2の周面2a上に配置されているシートSである(図2)。
<Measurement method>
Next, a measurement method for measuring an object to be measured using the optical
光干渉測定装置3を用いて被測定物の測定を行う場合、被測定物からの反射光によって光ビート信号が飽和することを避けるため、測定光Rの入射角は、ローラ2に対して0度より大きい角度にて行われる。測定光Rの入射角は、予め定められた角度α(例えば8°)に設定される。
When the object to be measured is measured using the optical
はじめに、作業者は、上記のS23で取得したy軸の値であるY3を、被測定物に対する測定光Rの照射位置におけるy軸の値に設定する。 First, the operator sets Y3, which is the y-axis value acquired in S23, to the y-axis value at the irradiation position of the measurement light R on the object to be measured.
そして、作業者は、測定光Rの照射位置におけるy軸の値がY3となるように、y軸調整機構34bを調整する。さらに、作業者は、測定光Rが被測定物に照射されるように、x軸調整機構34aおよびz軸調整機構34cを調整する。
Then, the operator adjusts the y-
続けて、作業者は、図2に示されるように、測定光Rを主平面11に直交する方向に沿って射出する。上記の校正方法によって、測定光Rの光軸(すなわちz軸)が主平面11に直交するように校正されている。よって、測定光Rの射出する角度を調整する角度調整機構33の操作を不要にすることができる。
Subsequently, the operator emits measurement light R along a direction perpendicular to the
また、測定光Rの照射位置におけるy軸の値がY3は、円筒面10のある1点Pのy軸の値である。よって、測定光Rの入射角は、予め定められた角度αであり、作業者が所望する測定光Rの入射角となる。つまり、測定光Rの照射位置におけるy軸の値を、上記のS23において格納されたY3に設定することで、角度調整機構33の操作をすることなく簡便に、測定光Rの入射角を予め定められた角度αに調整することができる。
The y-axis value Y3 at the irradiation position of the measurement light R is the y-axis value of one point P on the
さらに、作業者は、測定光Rをローラ2の中心軸2bに沿って走査して被測定物のプロファイルを取得する。x軸がローラ2の中心軸2bと一致するように校正されているため、作業者は、x軸に沿って測定光Rを走査する。つまり、測定光Rの走査方向を調整する角度調整機構33の操作を不要とすることができる。
Further, the operator scans the measurement light R along the
上記の校正治具1を用いた校正方法は、ローラ2の周面2a上の被測定物の測定における角度調整機構33の操作を不要にできるため、ローラ2の周面2a上の被測定物の測定を簡便にすることができる。
The calibration method using the above-described
本開示は、これまでに説明した実施の形態に限定されるものではない。本開示の主旨を逸脱しない限り、各種変形を本実施の形態に施したものも、本開示の範囲内に含まれる。 The present disclosure is not limited to the embodiments described above. Various modifications to the present embodiment are also included within the scope of the present disclosure as long as they do not depart from the gist of the present disclosure.
例えば、2つの頂点12,13は、円筒面10の中心軸10aに直交する平面上に設けられてなくてもよい。この場合、x軸の向きは、上記の校正方法において、主平面11に平行、かつ、ローラ2の中心軸2bに対して傾斜して校正される。よって、上記の測定方法において、測定光Rをローラ2の中心軸2b方向に沿って走査できるように、2つの頂点12,13を結ぶ直線とローラ2の中心軸2bとの傾斜角度を予め把握しておく。
For example, the two
また、副平面14は、光干渉測定装置3の測定可能範囲内において、主平面11との距離を第1距離hと異なるように設けられてもよい。
Further, the sub-plane 14 may be provided such that the distance from the
また、校正治具1は、副平面14を構成する溝17を有さないように設けられてもよい。この場合、校正方法のS25において、測定光Rは主平面11に照射される。
Further, the
また、校正方法において、ある1点Pのy軸の値であるY3を格納するS23は、S26より後に行われてもよい。 In the calibration method, S23 for storing Y3, which is the y-axis value of a certain point P, may be performed after S26.
また、校正方法において、ある1点Pのy軸の値であるY3を格納するS23を実行しなくてもよい。この場合、ある1点Pのy軸の値であるY3は、2つの頂点12,13のy軸の値であるY1およびY2の中点であるため、光干渉測定装置3によって、Y1およびY2から簡便に算出することができる。
Also, in the calibration method, it is not necessary to execute S23 for storing Y3, which is the y-axis value of a certain point P. In this case, Y3, which is the y-axis value of a certain point P, is the middle point of Y1 and Y2, which are the y-axis values of the two
また、ある1点Pのy軸の値であるY3は、y軸において2つの頂点12,13の中点Cであるが、2つの頂点12,13を結ぶ直線上の任意の位置でもよい。この場合においても、ある1点Pのy軸の値であるY3は、Y1およびY2から簡便に算出することができる。
Y3, which is the y-axis value of a certain point P, is the middle point C between the two
また、ある1点Pは、2つの頂点12,13を結ぶ直線から外れて設けられてもよい。この場合、ある1点Pと2つの頂点12,13との相対位置を光干渉測定装置3に格納しておくことで、被測定物の測定時に、ある1点Pの位置を、2つの頂点12,13の位置から算出することができる。
Also, one point P may be provided off the straight line connecting the two
本発明は、ローラの周面上の被測定物に向けて測定光を照射する光干渉測定装置の校正に用いられる校正治具、当該校正治具を用いた校正方法、および、当該校正方法によって校正された光干渉測定装置を用いて被測定物の測定を行う測定方法に広く利用可能である。 The present invention provides a calibration jig used for calibration of an optical interference measurement device that irradiates measurement light toward an object to be measured on the peripheral surface of a roller, a calibration method using the calibration jig, and the calibration method. It can be widely used for measurement methods for measuring an object to be measured using a calibrated optical interference measurement device.
1 校正治具
2 ローラ
2a 周面
2b 中心軸
3 光干渉測定装置
10 円筒面
10a 円筒面の中心軸
11 主平面
12 頂点
13 頂点
14 副平面
A ある1点を通り且つ円筒面の中心軸に直交する直線
B ある1点を通り且つ主平面に直交する直線
h 第1距離
P ある1点
R 測定光
α 予め定められた角度
1
Claims (7)
前記ローラの周面に沿う円筒面と、
前記円筒面と反対側に前記円筒面の中心軸に対して平行に設けられ、前記測定光が照射される主平面と、
前記主平面から第1距離離れて配置されている2つの頂点と、を備え、
前記円筒面は、前記円筒面上のある1点を通り且つ前記円筒面の中心軸に直交する直線と、前記ある1点を通り且つ前記主平面に直交する直線とのなす角度が、予め定められた角度になる形状である、
校正治具。 A calibration jig used for calibration of an optical interference measurement device that irradiates measurement light toward an object to be measured on the peripheral surface of a roller,
a cylindrical surface along the peripheral surface of the roller;
a main plane provided parallel to the central axis of the cylindrical surface on the opposite side of the cylindrical surface and irradiated with the measurement light;
two vertices positioned a first distance from the principal plane;
The cylindrical surface has a predetermined angle formed by a straight line passing through a certain point on the cylindrical surface and perpendicular to the central axis of the cylindrical surface and a straight line passing through the certain point and perpendicular to the principal plane. is a shape with an angle
Calibration jig.
請求項1に記載の校正治具。 The two vertices are provided on a plane perpendicular to the central axis of the cylindrical surface,
The calibration jig according to claim 1.
請求項1または2に記載の校正治具。 The two vertices are provided between the main plane and the cylindrical surface,
The calibration jig according to claim 1 or 2.
請求項1から3の何れか1項に記載の校正治具。 A sub-plane provided between the two vertices when viewed from the main plane and parallel to the main plane,
The calibration jig according to any one of claims 1 to 3.
前記光干渉測定装置の向きは、前記測定光の光軸と平行なz軸、前記z軸に直交するx軸、並びに、前記z軸および前記x軸に直交するy軸を有するxyz座標によって定義され、
前記主平面をy軸方向に測定光を走査することによって取得されるプロファイルにおいてz軸の値が等しい値を示すようにθx軸を校正するステップと、
前記θx軸を校正するステップにおいて取得されるプロファイルにおいて前記z軸の値を所定値と等しくするようにz軸を校正するステップと、
前記y軸方向に前記測定光を走査することによって取得されるプロファイルが前記2つの頂点を含むように前記y軸およびθz軸を校正するステップと、
前記校正治具における前記2つの頂点の間の面をx軸方向に前記測定光を走査することによって取得されるプロファイルにおいてz軸の値が等しい値を示すようにθy軸を校正するステップと、を含む、
校正方法。 A calibration method for calibrating the orientation of the optical interference measurement device using the calibration jig according to any one of claims 1 to 4,
The orientation of the optical interference measurement device is defined by xyz coordinates having a z-axis parallel to the optical axis of the measurement light, an x-axis orthogonal to the z-axis, and a y-axis orthogonal to the z-axis and the x-axis. is,
a step of calibrating the θ x- axis so that the z-axis values in a profile obtained by scanning the principal plane in the y-axis direction with the measurement light show equal values;
calibrating the z-axis to make the z-axis value equal to a predetermined value in the profile obtained in the step of calibrating the θ x- axis;
calibrating the y-axis and the θ z- axis such that a profile obtained by scanning the measurement light in the y-axis direction includes the two vertices;
calibrating the θ y -axis so that the z-axis values in the profile obtained by scanning the measurement light in the x-axis direction on the surface between the two vertices of the calibration jig show equal values; ,including,
Calibration method.
前記ある1点の前記y軸の値を取得するステップと、をさらに含む、
請求項5に記載の校正方法。 After performing the steps of calibrating the θ x- axis, calibrating the z-axis, and calibrating the y-axis and θ z- axis,
obtaining the y-axis value of the point;
The calibration method according to claim 5.
前記ある1点の前記y軸の値を取得するステップによって取得した前記y軸の値を、前記被測定物に対する前記測定光の照射位置におけるy軸の値に設定するステップと、
前記測定光の照射位置に、前記測定光を前記主平面に直交する方向に沿って射出するステップと、
前記測定光を前記ローラの中心軸に沿って走査して前記被測定物のプロファイルを取得するステップと、を含む、
測定方法。
A measurement method for measuring the object to be measured using an optical interference measurement device calibrated by the calibration method according to claim 6,
setting the y-axis value obtained by the step of obtaining the y-axis value of one point as the y-axis value at the irradiation position of the measurement light on the object to be measured;
a step of emitting the measurement light along a direction orthogonal to the principal plane to the irradiation position of the measurement light;
scanning the measurement light along the central axis of the roller to acquire the profile of the object to be measured;
Measuring method.
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009069075A (en) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Ricoh Co Ltd | Oblique incidence interferometer and method for calibrating the same |
JP2013024756A (en) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Mitsutoyo Corp | Abscissa calibration tool of laser interferometry measuring device and abscissa calibration method |
JP2014235074A (en) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | パナソニック株式会社 | Calibration jig and calibration method of optical interference measurement device |
JP2018077154A (en) * | 2016-11-10 | 2018-05-17 | 日東電工株式会社 | Reference device, spectroscopic interference type measuring device, coating device, measurement accuracy assurance method of spectroscopic interference type measuring device, and coating film manufacturing method |
-
2021
- 2021-05-27 JP JP2021089201A patent/JP7340762B2/en active Active
-
2022
- 2022-03-21 TW TW111110291A patent/TW202248594A/en unknown
- 2022-04-19 CN CN202210413192.3A patent/CN115406348A/en active Pending
- 2022-05-09 KR KR1020220056611A patent/KR20220160481A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009069075A (en) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Ricoh Co Ltd | Oblique incidence interferometer and method for calibrating the same |
JP2013024756A (en) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Mitsutoyo Corp | Abscissa calibration tool of laser interferometry measuring device and abscissa calibration method |
JP2014235074A (en) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | パナソニック株式会社 | Calibration jig and calibration method of optical interference measurement device |
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