JP2022175514A - Decontamination liquid supply apparatus - Google Patents

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壮馬 渡辺
Soma Watanabe
祐介 広沢
Yusuke Hirosawa
圭一 竹田
Keiichi Takeda
昇 湯上
Noboru Yugami
克紀 橋本
Katsunori Hashimoto
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Shibuya Corp
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Shibuya Kogyo Co Ltd
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Abstract

To provide a decontamination liquid supply apparatus for supplying an accurate amount of decontamination liquid to a plurality of decontamination gas generators.SOLUTION: A decontamination liquid supply apparatus is equipped with liquid supply units U1 to U3, each of the liquid supply units U1 to U3 including: a sub-storage tank 15 for temporarily storing decontamination liquid W sent from a main storage tank 5; and a weight scale 16 for measuring the weight of the decontamination liquid W stored in sob-storage tank 15. When the pump P1 is actuated, the main storage tank 5 begins supply of the decontamination liquid W to each sub-storage tank 15 through a main supply passage 7 and branched passages 11 to 13. When the weight measured by each weight scale 16 reaches a predetermined weight preset according to a work room, the operation of the pump P1 is stopped, each sub-storage tank 15 is supplied with the predetermined amount of decontamination liquid W therein, and the predetermined amount of decontamination liquid W in each sub-storage tank 15 is supplied to a respective decontamination gas generator 2 through a liquid supply passage 18.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は除染液供給装置に関し、より詳しくは、例えばアイソレータシステムにおいて複数の除染ガス発生装置に正確な量の除染液を供給可能な除染液供給装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a decontamination liquid supply device, and more particularly to a decontamination liquid supply device capable of supplying an accurate amount of decontamination liquid to a plurality of decontamination gas generators in, for example, an isolator system.

従来、アイソレータシステムは、除染ガスを発生させるための除染ガス発生装置（蒸発器）と、この除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置とを備えており、除染ガスとして過酸化水素ガス等を使用してアイソレータ内の除染が行われる。
また、従来、アイソレータシステムとして、各作業室に対応する複数の除染ガス発生装置を備え、この複数の除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置が提案されている（例えば特許文献１）。 Conventionally, an isolator system includes a decontamination gas generator (evaporator) for generating decontamination gas and a decontamination liquid supply device that supplies decontamination liquid to the decontamination gas generator. The inside of the isolator is decontaminated using hydrogen peroxide gas or the like as a decontamination gas.
Further, conventionally, as an isolator system, a decontaminating liquid supply device has been proposed that includes a plurality of decontaminating gas generators corresponding to each work chamber and that supplies decontaminating liquid to the plurality of decontaminating gas generators ( For example, Patent Document 1).

特開２０１８－１１８１８７号公報JP 2018-118187 A

上記特許文献１の除染液供給装置においては、主供給通路とそれから分岐した複数の分岐通路とを備え、主供給通路に除染液を貯溜する貯溜容器（タンク）が接続されるとともに、各分岐通路の下流側の端部に除染ガス発生装置（蒸発器）が接続されている。そして、各分岐通路に送液機構（ポンプ）が設けられており、該送液機構の稼働や運転速度を制御することによって、上記貯溜容器から各作業室用の除染ガス発生装置に好適な量の除染液を供給するようになっている。
しかしながら、特許文献１の装置においては、各分岐通路に設けられたポンプの稼働台数や組み合わせが変わるとポンプ同士の相互作用も変わってしまい、ポンプの回転数が同じであっても各除染ガス発生装置に対して予定した送液量の除染液を供給できないという問題があった。そのため、同時に稼働させる分岐通路のポンプの台数や組み合わせごとに回転数の調整が必要となり、その調整作業が煩雑で多大な労力を要していた。 The decontamination liquid supply device of Patent Document 1 includes a main supply passage and a plurality of branch passages branched from it, and a storage container (tank) for storing the decontamination liquid is connected to the main supply passage, and each A decontamination gas generator (evaporator) is connected to the downstream end of the branch passage. A liquid feeding mechanism (pump) is provided in each branch passage. It is designed to supply a large amount of decontamination liquid.
However, in the device of Patent Document 1, if the number of operating pumps provided in each branch passage or their combination changes, the interaction between the pumps will also change. There was a problem that it was not possible to supply the decontamination liquid in the planned amount to the generator. Therefore, it is necessary to adjust the rotation speed for each number and combination of pumps in the branch passages to be operated at the same time, and the adjustment work is complicated and requires a great deal of labor.

上述した事情に鑑み、本発明は、除染液を貯留する主貯留容器と、上記主貯溜容器内の除染液を、複数の除染ガスを発生させる除染ガス発生装置に供給するために分岐して設けられた複数の分岐通路と、上記主貯溜容器から除染ガス発生装置へと除染液を供給する送液機構とを備えた除染液供給装置において、
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記検出機構による検出結果に基づいて上記副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記副貯留容器に供給された除染液を除染ガス発生装置に供給することを特徴とするものである。 In view of the circumstances described above, the present invention provides a main storage container for storing a decontamination liquid, and a decontamination gas generator for supplying the decontamination liquid in the main storage container to a decontamination gas generator for generating a plurality of decontamination gases. A decontaminating liquid supply device comprising a plurality of branched passages and a liquid feeding mechanism for supplying the decontaminating liquid from the main storage container to the decontaminating gas generator,
A sub-storage container for storing the decontaminating liquid sent from the main storage container and a detection mechanism for detecting the amount of the decontaminating liquid stored in the sub-storage container are provided downstream of each branch passage,
The liquid feeding mechanism supplies the decontaminating liquid so that the amount of the decontaminating liquid stored in the sub-storage container reaches a predetermined set amount based on the detection result of the detection mechanism, and the sub-storage It is characterized in that the decontaminating liquid supplied to the container is supplied to the decontaminating gas generator.

このような構成によれば、各除染ガス発生装置に所定の設定量の除染液を正確に送液することができる。 According to such a configuration, a predetermined set amount of decontaminating liquid can be accurately fed to each decontaminating gas generator.

本発明の第１の実施例を示す全体の構成図。FIG. 1 is an overall configuration diagram showing a first embodiment of the present invention; 図１に示す除染液供給装置の第１工程を示す図。The figure which shows the 1st process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG. 図１に示す除染液供給装置の第２工程を示す図。The figure which shows the 2nd process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG. 図１に示す除染液供給装置の第３工程を示す図。The figure which shows the 3rd process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG. 図１に示す除染液供給装置の第４工程を示す図。The figure which shows the 4th process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG. 本発明の第２実施例を示す全体の構成図。The block diagram of the whole which shows 2nd Example of this invention. 本発明の第３実施例を示す全体の構成図。The block diagram of the whole which shows 3rd Example of this invention. 図７に示す除染液供給装置の第１工程を示す図。The figure which shows the 1st process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG. 図７に示す除染液供給装置の第２工程を示す図。The figure which shows the 2nd process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG. 図７に示す除染液供給装置の第３工程を示す図。The figure which shows the 3rd process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG. 図７に示す除染液供給装置の第４工程を示す図。The figure which shows the 4th process of the decontamination liquid supply apparatus shown in FIG.

以下、図示第１の実施例について本発明を説明すると、図１は細胞の培養を行うアイソレータシステム１の要部を示したものである。このアイソレータシステム１は、図示しない複数の無菌作業室毎に設けられた合計３台の除染ガス発生装置２（蒸発器）と、これらの除染ガス発生装置２に除染液Ｗを供給する除染液供給装置３と、除染液供給装置３の構成要素の作動を制御する制御装置４とを備えている。
除染液供給装置３は、除染液Ｗ（過酸化水素水）を貯溜する主貯溜タンク５と、除染液Ｗを貯溜した主貯溜タンク５の重量を計測する重量計６と、主供給通路７から３つに分岐した分岐通路１１～１３と、分岐通路１１～１３に接続されて除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給するための給液ユニットＵ１～Ｕ３とを備えている。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to the first illustrated embodiment. FIG. 1 shows the main part of an isolator system 1 for culturing cells. This isolator system 1 includes a total of three decontaminating gas generators 2 (evaporators) provided for each of a plurality of aseptic work chambers (not shown), and supplies decontaminating liquid W to these decontaminating gas generators 2. A decontaminating liquid supply device 3 and a control device 4 for controlling the operation of the constituent elements of the decontaminating liquid supply device 3 are provided.
The decontamination liquid supply device 3 includes a main storage tank 5 that stores the decontamination liquid W (hydrogen peroxide solution), a weighing scale 6 that measures the weight of the main storage tank 5 that stores the decontamination liquid W, and a main supply Branch passages 11 to 13 branched from the passage 7 into three, and liquid supply units U1 to U3 connected to the branch passages 11 to 13 for supplying the decontaminating liquid W to the decontaminating gas generator 2. there is

主貯溜タンク５には所要量の除染液Ｗが貯溜されており、除染液Ｗの重量は重量計６によって計測されて、常時制御装置４へ伝達されるようになっている。主供給通路７の上流端７Ａは、主貯溜タンク５内の除染液Ｗに浸漬されており、主供給通路７の下流端７Ｂは、給液ユニットＵ１～Ｕ３に対応して３つの分岐通路１１～１３に分岐している。
主供給通路７の途中に外気通路１４の一端が接続されており、この外気通路１４の他端は大気に解放されている。外気通路１４の途中には大気開放弁Ｖ１が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ１の隣接上流位置に大気中の異物を除去するためのフィルタＦ１が設けられている。大気開放弁Ｖ１の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、除染液Ｗの送液時には閉鎖されて所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ１を開放させると、外気通路１４を介して主供給通路７に浄化された大気を導入することができる。その際には、主供給通路７内に溜まった除染液Ｗが主貯溜タンク５及び後述の副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
各分岐通路１１～１３の途中には、ポンプＰ１が設けられるとともにポンプＰ１よりも上流側の位置に常閉の開閉弁Ｖ２が設けられている。これらポンプＰ１、開閉弁Ｖ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。各分岐通路１１～１３の下流端１１Ａ～１３Ａは、各給液ユニットＵ１～Ｕ３が備える副貯溜タンク１５に接続されている。
所要時に制御装置４が開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させると、主貯溜タンク５内の除染液Ｗが主供給通路７と各分岐通路１１～１３を介して各給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に給液されるようになっている。 A required amount of decontaminating liquid W is stored in the main storage tank 5 , and the weight of the decontaminating liquid W is measured by a weighing scale 6 and transmitted to the control device 4 at all times. The upstream end 7A of the main supply passage 7 is immersed in the decontamination liquid W in the main storage tank 5, and the downstream end 7B of the main supply passage 7 has three branch passages corresponding to the liquid supply units U1 to U3. Branches 11-13.
One end of the external air passage 14 is connected to the middle of the main supply passage 7, and the other end of the external air passage 14 is open to the atmosphere. An air release valve V1 is provided in the middle of the outside air passage 14, and a filter F1 for removing foreign matter in the atmosphere is provided at a position adjacent to and upstream of the air release valve V1. The operation of the air release valve V1 is controlled by the control device 4, and is closed when the decontaminating liquid W is sent. Purified atmospheric air can be introduced into the main supply channel 7 via. At that time, the decontamination liquid W accumulated in the main supply passage 7 is returned to the main storage tank 5 and the sub-storage tank 15 which will be described later.
A pump P1 is provided in the middle of each of the branch passages 11 to 13, and a normally closed on-off valve V2 is provided upstream of the pump P1. The operation of the pump P1 and the on-off valve V2 is controlled by the controller 4. As shown in FIG. Downstream ends 11A-13A of the respective branch passages 11-13 are connected to sub-storage tanks 15 provided in the liquid supply units U1-U3.
When the control device 4 opens the on-off valve V2 and operates the pump P1 when required, the decontamination liquid W in the main storage tank 5 flows through the main supply passage 7 and the branch passages 11 to 13 to the liquid supply units U1. ∼U3 is supplied to the sub-storage tank 15.

第１の給液ユニットＵ１は、主貯溜タンク５から主供給通路７と分岐通路１１を介して給送された除染液Ｗを一時貯溜する副貯溜タンク１５と、この副貯溜タンク１５の重量（貯溜される除染液Ｗの重量）を計測する重量計１６と、副貯溜タンク１５と除染ガス発生装置２とを接続する給液通路１８と、給液通路１８内の除染液Ｗを副貯溜タンク１５に戻すための戻し通路１９を備えている。
制御装置４が、所要時に開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主貯溜タンク５から主供給通路７、分岐通路１１を介して副貯溜タンク１５に除染液Ｗが供給される際には、該副貯溜タンク１５の重量が重量計１６によって計測されて、制御装置４に伝達されるようになっている。それにより、制御装置４は、主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５に供給されて貯溜された除染液Ｗの量を認識できるようになっている。そして、制御装置４は、重量計１６による計測重量を認識することで、作業室に応じて予め設定された除染ガス発生装置２に供給すべき除染液Ｗの液量に応じて、ポンプＰ１の稼働や運転速度を制御するようになっている。これにより、副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗを貯溜させるようになっている。 The first liquid supply unit U1 includes a sub-storage tank 15 for temporarily storing the decontaminating liquid W supplied from the main storage tank 5 via the main supply passage 7 and the branch passage 11, and the weight of the sub-storage tank 15. Weighing scale 16 for measuring (the weight of the stored decontaminating liquid W), a liquid supply passage 18 connecting the auxiliary storage tank 15 and the decontamination gas generator 2, and the decontaminating liquid W in the liquid supply passage 18 is provided with a return passage 19 for returning to the sub-storage tank 15.
The control device 4 opens the on-off valve V2 and operates the pump P1 when necessary, so that the decontaminating liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the auxiliary storage tank 15 via the main supply passage 7 and the branch passage 11. In practice, the weight of the auxiliary storage tank 15 is measured by the weighing scale 16 and transmitted to the control device 4 . Thereby, the control device 4 can recognize the amount of the decontaminating liquid W supplied from the main storage tank 5 to the sub-storage tank 15 and stored therein. Then, by recognizing the weight measured by the weighing scale 16, the control device 4 operates the pump according to the liquid amount of the decontamination liquid W to be supplied to the decontamination gas generator 2, which is preset according to the work chamber. It is designed to control the operation and operating speed of P1. As a result, a set amount of the decontamination liquid W is stored in the auxiliary storage tank 15 .

給液通路１８における上流端１８Ａは、上記副貯溜タンク１５内に挿入されており、給液通路１８の下流端１８Ｂは除染ガス発生装置２内に鉛直下方に向けて挿入されている。
除染ガス発生装置２に近い位置の給液通路１８の途中には三方切換え弁Ｖ３が設けられており、それよりも上流側となる給液通路１８の途中にポンプＰ２が設けられている。三方切換え弁Ｖ３には、戻し通路１９の上流端１９Ｂが接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは副貯溜タンク１５内に鉛直下方に向けて挿入されている。これら三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。
この三方切換え弁Ｖ３は、その前後の給液通路１８を連通させ、かつ給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとの連通を阻止する第１位置と、三方切換え弁Ｖ３の前後の給液通路１８の連通を阻止し、かつ三方切換え弁Ｖ３の隣接上流側の給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとを連通させる第２位置とに切り換えられるようになっている。最初の状態では、三方切換え弁Ｖ３は第１位置に位置している。
そして、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある状態で制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置に切り換えられた状態で、制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して三方切換え弁Ｖ３の位置まで給送され、次に該三方切換え弁Ｖ３を流通した後に戻し通路１９に送液されて、さらに、その下流端１９Ａから副貯溜タンク１５内に除染液Ｗが戻されるようになっている。
このように、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある状態でポンプＰ２が作動されると、戻し通路１９、及び三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されるようになっている。この戻し通路１９と、三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８とによって循環通路２０が構成されている。
ポンプＰ２の隣接上流側となる給液通路１８には、外気通路２２の一端が接続されており、この外気通路２２の他端は大気に解放されている。外気通路２２の途中には常閉の大気開放弁Ｖ４が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ４の隣接上流位置に大気中の異物を除去するフィルタＦ２が設けられている。大気開放弁Ｖ４の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ４を開放させると、外気通路２２を介して給液通路１８に浄化した大気を導入することができる。その際には循環通路２０内に溜まった除染液Ｗが給液通路１８の上流端１８Ａと戻し通路１９の下流端１９Ａから副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の間の給液通路１８には、液検知センサＳ１が設けられており、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８には液漏れセンサＳ２が設けられている。
液検知センサＳ１は、給液通路１８内に除染液Ｗが存在するか否かを検知するようになっており、液検知センサＳ１による検知結果は、制御装置４に入力されるようになっている。また、液漏れセンサＳ２は、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８における除染液Ｗの液漏れの有無を検出できるようになっており、液漏れセンサＳ２による検出結果は制御装置４に入力されるようになっている。
制御装置４は、液検知センサＳ１による検出結果によって給液通路１８内における除染液Ｗの有無を認識することができるとともに、液漏れセンサＳ２による検出結果によって、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８での除染液Ｗの液漏れの有無を認識できるようになっている。第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。 An upstream end 18A of the liquid supply passage 18 is inserted into the auxiliary storage tank 15, and a downstream end 18B of the liquid supply passage 18 is inserted into the decontamination gas generator 2 vertically downward.
A three-way switching valve V3 is provided in the middle of the liquid supply passage 18 near the decontamination gas generator 2, and a pump P2 is provided in the middle of the liquid supply passage 18 on the upstream side. The upstream end 19B of the return passage 19 is connected to the three-way switching valve V3, and the downstream end 19A of the return passage 19 is inserted vertically downward into the sub-storage tank 15 . The control device 4 controls the operation of the three-way switching valve V3 and the pump P2.
The three-way switching valve V3 has a first position that allows communication between the liquid supply passage 18 in front of and behind it and blocks communication between the liquid supply passage 18 and the upstream end 19B of the return passage 19. It is designed to be switched to a second position in which communication of the liquid passage 18 is blocked and the liquid supply passage 18 on the adjacent upstream side of the three-way switching valve V3 and the upstream end 19B of the return passage 19 are communicated. In the initial state, the three-way valve V3 is in the first position.
When the control device 4 operates the pump P2 with the three-way switching valve V3 in the first position, the pump P2 sucks the decontaminating liquid W from the sub-storage tank 15 through the liquid supply passage 18. is supplied to the decontamination gas generator 2.
On the other hand, when the pump P2 is operated by the control device 4 with the three-way switching valve V3 switched to the second position, the pump P2 sucks the decontaminating liquid W from the sub-storage tank 15, and the liquid supply passage 18 to the position of the three-way switching valve V3, then after flowing through the three-way switching valve V3, the liquid is sent to the return passage 19, and further decontaminated from the downstream end 19A into the sub-storage tank 15. The liquid W is returned.
Thus, when the pump P2 is operated with the three-way switching valve V3 in the second position, the liquid in the auxiliary storage tank 15 is pumped through the return passage 19 and the liquid supply passage 18 on the upstream side of the three-way switching valve V3. of decontamination liquid W is circulated. A circulation passage 20 is formed by the return passage 19 and the liquid supply passage 18 on the upstream side of the three-way switching valve V3.
One end of an outside air passage 22 is connected to the liquid supply passage 18 adjacent to and upstream of the pump P2, and the other end of the outside air passage 22 is open to the atmosphere. A normally closed air release valve V4 is provided in the middle of the outside air passage 22, and a filter F2 for removing foreign substances in the air is provided at a position adjacent to and upstream of the air release valve V4. The operation of the air release valve V4 is controlled by the control device 4, and when the control device 4 opens the air release valve V4 when required, the purified air is supplied to the liquid supply passage 18 through the outside air passage 22. can be introduced. At that time, the decontaminating liquid W accumulated in the circulation passage 20 is returned to the sub-storage tank 15 from the upstream end 18A of the liquid supply passage 18 and the downstream end 19A of the return passage 19 .
A liquid detection sensor S1 is provided in the liquid supply passage 18 between the three-way switching valve V3 and the pump P2. A leak sensor S2 is provided.
The liquid detection sensor S1 detects whether or not the decontaminating liquid W exists in the liquid supply passage 18, and the detection result of the liquid detection sensor S1 is input to the control device 4. ing. In addition, the liquid leak sensor S2 can detect whether or not the decontaminating liquid W leaks from the liquid supply passage 18 between the three-way switching valve V3 and the decontamination gas generator 2. A detection result is input to the control device 4 .
The control device 4 can recognize the presence or absence of the decontamination liquid W in the liquid supply passage 18 from the detection result of the liquid detection sensor S1, and the three-way switching valve V3 and the decontamination gas can be detected from the detection result of the liquid leakage sensor S2. The presence or absence of leakage of the decontamination liquid W in the liquid supply passage 18 between the generators 2 can be recognized. The first liquid supply unit U1 is configured as described above.

第２の給液ユニットＵ２及び第３の給液ユニットＵ３の構成は、上記第１の給液ユニットＵ１と同じ構成となっており、これら給液ユニットＵ２、給液ユニットＵ３の構成要素も制御装置４によって作動を制御されるようになっている。そのため、給液ユニットＵ２、給液ユニットＵ３の構成に関する詳細な説明は省略する。給液ユニットＵ２及び給液ユニットＵ３において、上記給液ユニットＵ１と対応する各部材にはそれぞれ同じ部材番号を付している。
各給液ユニットＵ１～Ｕ３によって除染液Ｗを供給される除染ガス発生装置２はヒータとその上面に載置されたヒータプレートとからなり、除染ガス発生装置２が加熱された状態において給液通路１８Ｂの下流端から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されると、除染液Ｗがヒータプレートによって加熱されて蒸発することで除染ガスを発生させるようになっている。
除染液供給装置３とその給液ユニットＵ１～Ｕ３は以上のように構成されている。 The configuration of the second liquid supply unit U2 and the third liquid supply unit U3 is the same as that of the first liquid supply unit U1, and the components of these liquid supply unit U2 and liquid supply unit U3 are also controlled. The operation is controlled by the device 4 . Therefore, a detailed description of the configurations of the liquid supply unit U2 and the liquid supply unit U3 will be omitted. In the liquid supply unit U2 and the liquid supply unit U3, the members corresponding to the liquid supply unit U1 are assigned the same member numbers.
The decontaminating gas generator 2 to which the decontaminating liquid W is supplied by the liquid supply units U1 to U3 is composed of a heater and a heater plate placed on the upper surface thereof. When the decontaminating liquid W is dropped onto the heater plate from the downstream end of the liquid supply passage 18B, the decontaminating liquid W is heated by the heater plate and evaporated to generate decontaminating gas.
The decontamination liquid supply device 3 and its liquid supply units U1 to U3 are configured as described above.

以上の構成において、本実施例においては、先ず、第１の給液ユニットＵ１によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給され、次に第２の給液ユニットＵ２によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給され、次に第３の給液ユニットＵ３によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。具体的な処理工程は以下のとおりである。
すなわち、図２に示すように、第１の分岐通路１１の開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１給液ユニットＵ１の重量計１６が予め設定された設定値となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
ここで第１給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が予め設定された設定値よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１及び開閉弁Ｖ２の作動を停止させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定重量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。 In the above configuration, in this embodiment, first, the decontaminating liquid W in the main storage tank 5 is supplied to the decontaminating gas generator 2 by the first liquid supply unit U1, and then the second liquid supply unit The decontamination liquid W in the main storage tank 5 is supplied to the decontamination gas generator 2 by U2, and then the decontamination liquid W in the main storage tank 5 is supplied to the decontamination gas generator 2 by the third liquid supply unit U3. It is designed to be supplied to Specific processing steps are as follows.
That is, as shown in FIG. 2, the on-off valve V2 of the first branch passage 11 is opened and the pump P1 is operated, and the weighing scale of the first liquid supply unit U1 is fed through the main supply passage 7 and the branch passage 11. The decontamination liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the sub-storage tank 15 until 16 reaches a preset set value.
Here, when the decontaminating liquid W starts to be supplied to the sub-storage tank 15 of the first liquid supply unit U1, the weight of the decontaminating liquid W in the sub-storage tank 15 is measured by the weighing scale 16 and input to the control device 4. be done. As a result, the control device 4 can recognize the amount of decontamination liquid W stored in the sub-storage tank 15, and when the amount of storage reaches a predetermined weight smaller than a preset set value, the air release valve V1 is opened. is opened to replace the main supply passage 7 and the branch passage 11 with the purified air, and then the pump P1 and the on-off valve V2 are stopped. As a result, a predetermined amount of the decontamination liquid W in the main supply passage 7 and the branch passage 11 is sent to the sub-storage tank 15, and the set weight of the decontamination liquid W is accurately stored in the sub-storage tank 15 of the liquid supply unit U1. (above, first step).

次に、図３に示すように、給液ユニットＵ１のポンプＰ２を作動させるとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置に切り換えると、給液通路１８と戻し通路１９とからなる循環通路２０を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環される。これにより、循環通路２０の液漏れ検査が行われる。
つまり、ポンプＰ２よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測値を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ２よりも下流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを循環通路２０で循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出できるようになっている（以上、第２工程）。 Next, as shown in FIG. 3, when the pump P2 of the liquid supply unit U1 is operated and the three-way switching valve V3 is switched to the second position, the liquid is supplied through the circulation passage 20 consisting of the liquid supply passage 18 and the return passage 19. The decontamination liquid W in the sub-storage tank 15 is circulated. As a result, the circulation passage 20 is inspected for liquid leakage.
In other words, if there is a liquid leak in the circulation passage 20 upstream of the pump P2, air will continue to be sucked from the leaking portion, so the amount of the decontaminating liquid W in the sub-storage tank 15 will not change. Therefore, the value measured by the weighing scale 16 does not change. In this case, the control device 4 can recognize the liquid leakage based on the weight measured by the weighing scale 16 . Also, if there is a liquid leak in the circulation passage 20 downstream of the pump P2, the amount of the decontaminating liquid W leaked from the liquid leaking portion does not return to the sub-storage tank 15, so the weighing scale 16 measures it. The measured value to be measured gradually decreases. Thereby, the control device 4 can recognize the liquid leakage in the circulation passage 20 .
By circulating the decontamination liquid W in the sub-storage tank 15 through the circulation passage 20 in this manner, liquid leakage in the circulation passage 20 can be detected (the second step).

次に、図４に示すように、前述した循環通路２０の液漏れ検査が終了したら、外気通路２２の大気開放弁Ｖ４を開放させた後にポンプＰ２を作動させる。これにより、給液通路１８、戻し通路１９からなる循環通路２０内の除染液Ｗが副貯溜タンク１５内に戻されるようになっている（以上、第３工程）。 Next, as shown in FIG. 4, after the liquid leakage inspection of the circulation passage 20 is completed, the air release valve V4 of the outside air passage 22 is opened, and then the pump P2 is operated. As a result, the decontaminating liquid W in the circulation passage 20 consisting of the liquid supply passage 18 and the return passage 19 is returned to the sub-storage tank 15 (the third step).

次に、図５に示すように、この後、大気開放弁Ｖ４を閉鎖するとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置から第１位置に切り換えると、ポンプＰ２の作動によって給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
なお、除染ガスを発生させる際には、除染ガス発生装置２のヒータ及びヒータプレートは予め所定温度まで加熱されるようになっており、給液通路１８を介しての除染液Ｗの給送時間を短縮するために、ヒータ及びヒータプレートを加熱している間に三方切換え弁Ｖ３の隣接上流位置の給液通路１８内に除染液Ｗが給送されており、該除染液Ｗは液検知センサＳ１で検出されて制御装置４に検出信号が入力されるようになっている。
そして、給液通路１８から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されて供給されると、除染液Ｗが蒸発して除染ガスが発生するようになっている（以上、第４工程）。
以上のようにして、第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に主貯溜タンク５から設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されるようになっている。
この後、前述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同じ処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらにその後、前述した第１の給液ユニットＵ１と同じ処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程を同時併行処理させることも可能であり、その場合においては、上述した作動工程よりも短時間で各除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給することができる。 Next, as shown in FIG. 5, after that, when the air release valve V4 is closed and the three-way switching valve V3 is switched from the second position to the first position, the pump P2 is operated to supply the auxiliary fluid through the supply passage 18. The decontaminating liquid W in the storage tank 15 is supplied to the decontaminating gas generator 2 .
When generating the decontaminating gas, the heater and heater plate of the decontaminating gas generator 2 are heated to a predetermined temperature in advance, and the decontaminating liquid W is supplied through the liquid supply passage 18. In order to shorten the feeding time, the decontaminating liquid W is fed into the liquid feeding passage 18 at the upstream position adjacent to the three-way switching valve V3 while the heater and the heater plate are being heated. W is detected by the liquid detection sensor S1 and a detection signal is input to the control device 4. FIG.
When the decontaminating liquid W is dripped onto the heater plate from the liquid supply passage 18 and supplied, the decontaminating liquid W evaporates and decontaminating gas is generated (above, fourth step). .
As described above, a set amount of decontaminating liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the sub-storage tank 15 of the first liquid supply unit U1. A large amount of decontamination liquid W is supplied.
Thereafter, a set amount of the decontaminating liquid W is supplied to the decontaminating gas generator 2 by the second liquid supplying unit U2 through the same processing steps as in the case of the first liquid supplying unit U1. Furthermore, after that, a set amount of the decontaminating liquid W is supplied to the decontaminating gas generator 2 by the third liquid supply unit U3 in the same process as the first liquid supply unit U1 described above.
It should be noted that it is also possible to concurrently process the processing steps by the liquid supply units U1 to U3. Liquid W can be supplied.

以上のように、除染液供給装置３が備える各給液ユニットＵ１～Ｕ３は副貯溜タンク１５と重量計１６を備えており、主貯溜タンク５から各給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に除染液Ｗを供給する際には、各重量計１６によって正確に除染液Ｗの重量を計測することができる。したがって、正確に計測された所定重量の除染液Ｗを各除染ガス発生装置２に供給できるので予定した量の除染ガスを確実に発生させることができる。
また、本実施例によれば、副貯溜タンク１５に供給される除染液Ｗの重量が重量計１６によって検出されるので、除染液供給装置３が備える複数のポンプＰ１、Ｐ２の運転速度の調整作業を従来よりも簡略化できる。そのため、前述した従来の除染液供給装置と比較してポンプの運転速度の調整時間を短縮することができる。 As described above, each of the liquid supply units U1 to U3 provided in the decontaminating liquid supply device 3 is equipped with the sub-storage tank 15 and the weighing scale 16. When the decontaminating liquid W is supplied to 15 , the weight of the decontaminating liquid W can be accurately measured by each weight scale 16 . Therefore, the accurately measured predetermined weight of the decontaminating liquid W can be supplied to each decontaminating gas generator 2, so that the planned amount of decontaminating gas can be reliably generated.
Further, according to this embodiment, since the weight of the decontaminating liquid W supplied to the sub-storage tank 15 is detected by the weighing scale 16, the operating speed of the plurality of pumps P1 and P2 provided in the decontaminating liquid supply device 3 is adjustment work can be simplified more than before. Therefore, it is possible to shorten the adjustment time of the operating speed of the pump as compared with the conventional decontaminating liquid supply device described above.

次に、図６は本発明の第２実施例を示したものである。この第２実施例は、上述した第１の実施例における各分岐通路１１～１３毎に設けていたポンプＰ１を省略し、その代わりに主供給通路７にポンプＰ１を１台だけ設けたものである。その他の構成は、前述した第１の実施例と同じであり、この第２実施例においては、上記第１の実施例と対応する各構成要素に第１の実施例と同じ部材番号を付している。
この第２実施例における作動は、前述した第１の実施例の作動と同様であり、先ず、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１の給液ユニットＵ１によって設定量の除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給する。次に、第２の給液ユニットＵ２によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給し、最後に、第３の給液ユニットＵ３によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給するようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による第２工程以降の処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第２実施例によれば、正確に計測された所定重量の除染液Ｗを各除染ガス発生装置２に供給することができる。
また、上記第１実施例と比較してポンプＰ１を２台、減少させることができるので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。しかも、上記第１の実施例と比較して複数のポンプＰ１を作動させた際の相互作用による干渉が生じないので、ポンプ同士の相互作用の調整が容易である。 Next, FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention. In this second embodiment, the pumps P1 provided for each of the branch passages 11 to 13 in the above-described first embodiment are omitted, and instead, only one pump P1 is provided in the main supply passage 7. be. Other constructions are the same as those of the first embodiment described above, and in this second embodiment, the same member numbers as in the first embodiment are given to the constituent elements corresponding to those in the first embodiment. ing.
The operation in this second embodiment is the same as the operation in the first embodiment described above. W is supplied to the decontamination gas generator 2 . Next, a set amount of decontaminating liquid W is supplied to the decontaminating gas generator 2 by the second liquid supply unit U2, and finally, a set amount of the decontaminating gas generator 2 is supplied by the third liquid supply unit U3. A decontamination liquid W is supplied. It is also possible to carry out simultaneous parallel processing for the processing steps after the second step by the liquid supply units U1 to U3.
According to the second embodiment as described above, it is possible to supply each decontaminating gas generator 2 with a predetermined weight of decontaminating liquid W that has been accurately measured.
In addition, since the number of pumps P1 can be reduced by two compared with the first embodiment, the manufacturing cost of the decontaminating liquid supply device 3 can be reduced accordingly. Moreover, as compared with the first embodiment, there is no interference due to the interaction when the plurality of pumps P1 are operated, so it is easy to adjust the interaction between the pumps.

次に、図７は本発明の第３実施例を示したものであり、この第３実施例は、前述した図１の第１の実施例において、各給液ユニットＵ１～Ｕ３にポンプＰ１を１台だけ設ける構成としたものである。各給液ユニットＵ１～Ｕ３の構成そのものは同じであり、１台のポンプＰ１によって主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５への除染液Ｗの給液と、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２への給液を行うようになっている。
以下、先ず、第１の給液ユニットＵ１の構成について説明すると、分岐通路１１の下流端１１Ａは副貯溜タンク１５内に挿入されており、分岐通路１１の上流端は主供給通路７に接続されている。
分岐通路１１の途中にポンプＰ１が設けられており、このポンプＰ１よりも上流側となる分岐通路１１に三方切換え弁Ｖ５が設けられるとともに、ポンプＰ１の下流側に三方切換え弁Ｖ６が設けられている。三方切換え弁Ｖ５よりも上流側に開閉弁Ｖ２が設けられている。
上流側の三方切換え弁Ｖ５には、給液通路２４の下流端２４Ａが接続されており、この給液通路２４の上流端２４Ｂは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
ポンプＰ１及び三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６と開閉弁Ｖ２の作動は、制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ５が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ５が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止される一方、三方切換え弁Ｖ５より下流の分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａが連通するようになっている。
給液通路１８の上流端１８Ａは三方切換え弁Ｖ６に接続されており、給液通路１８の下流端１８Ｂは、除染ガス発生装置２内に挿入されている。給液通路１８の除染ガス発生装置２に近い位置に三方切換え弁Ｖ３が設けられており、その前後に液検知センサＳ１と液漏れセンサＳ２が設けられている。戻し通路１９の上流端１９Ｂが三方切換え弁Ｖ３に接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
三方切換え弁Ｖ６，Ｖ３の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ６が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路１８の上流端１８Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ６が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ６の上流となる分岐通路１１と給液通路１８が連通するようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある時には、その前後の給液通路１８が連通するともに給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある時には、その前後の給液通路１８の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ３の上流側となる給液通路１８と戻し通路１９が連通するようになっている。
この第３実施例においては、戻し通路１９と、給液通路２４と、三方切換え弁Ｖ５とＶ６との間の分岐通路１１、及び三方切換え弁Ｖ６とＶ３との間の給液通路１８によって循環通路２０が形成されている。
ポンプＰ１と三方切換え弁Ｖ５の間の分岐通路１１には、外気通路２２が接続されており、この外気通路に大気開放弁Ｖ４とフィルタＦ２が設けられている。所要時に外気開放弁Ｖ４が開放されると、循環通路２０内の除染液Ｗを副貯溜タンク１５に戻すことができるようになっている。この第３実施例における第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。
また、この第３実施例における第２の給液ユニットＵ２及び第３の給液ユニットＵ３の構成は、上記第１の給液ユニットＵ１と同じなので、構成に関する詳細な説明は省略する。また、これらの給液ユニットＵ２及び給液ユニットＵ３の構成要素には、給液ユニットＵ１の構成要素と対応する部材に同じ部材番号を付している。 Next, FIG. 7 shows a third embodiment of the present invention. In this third embodiment, each liquid supply unit U1 to U3 has a pump P1 in the first embodiment of FIG. The configuration is such that only one unit is provided. The liquid supply units U1 to U3 have the same structure. One pump P1 supplies the decontaminating liquid W from the main storage tank 5 to the sub-storage tank 15 and generates decontamination gas from the sub-storage tank 15. Liquid supply to the device 2 is performed.
The downstream end 11A of the branch passage 11 is inserted into the auxiliary storage tank 15, and the upstream end of the branch passage 11 is connected to the main supply passage 7. ing.
A pump P1 is provided in the middle of the branch passage 11, a three-way switching valve V5 is provided in the branch passage 11 upstream of the pump P1, and a three-way switching valve V6 is provided downstream of the pump P1. there is An on-off valve V2 is provided upstream of the three-way switching valve V5.
A downstream end 24 A of the liquid supply passage 24 is connected to the upstream three-way switching valve V 5 , and an upstream end 24 B of the liquid supply passage 24 is inserted into the auxiliary storage tank 15 .
The operation of the pump P1, the three-way switching valves V5 and V6, and the on-off valve V2 is controlled by the controller 4. FIG. When the three-way switching valve V5 is in the first position, the branch passages 11 before and after it communicate with each other, while communication between the branch passage 11 and the downstream end 24A of the liquid supply passage 24 is blocked. On the other hand, when the three-way switching valve V5 is in the second position, communication between the branch passages 11 before and after it is blocked, while the branch passage 11 downstream from the three-way switching valve V5 communicates with the downstream end 24A of the liquid supply passage 24. It's like
An upstream end 18A of the liquid supply passage 18 is connected to a three-way switching valve V6, and a downstream end 18B of the liquid supply passage 18 is inserted into the decontamination gas generator 2. A three-way switching valve V3 is provided at a position near the decontamination gas generator 2 in the liquid supply passage 18, and a liquid detection sensor S1 and a liquid leakage sensor S2 are provided before and after it. An upstream end 19B of the return passage 19 is connected to the three-way switching valve V3, and a downstream end 19A of the return passage 19 is inserted into the auxiliary storage tank 15.
The operation of the three-way switching valves V6 and V3 is controlled by the controller 4. FIG. When the three-way switching valve V6 is in the first position, the branch passages 11 before and after it communicate with each other, while communication between the branch passage 11 and the upstream end 18A of the liquid supply passage 18 is blocked. On the other hand, when the three-way switching valve V6 is in the second position, communication between the branch passages 11 before and after it is blocked, and the branch passage 11 upstream of the three-way switching valve V6 communicates with the liquid supply passage 18. there is
Further, when the three-way switching valve V3 is in the first position, the fluid supply passage 18 before and after it communicates with each other, and the communication between the fluid supply passage 18 and the upstream end 19B of the return passage 19 is blocked. On the other hand, when the three-way switching valve V3 is in the second position, communication between the liquid supply passage 18 before and after it is blocked, and the liquid supply passage 18 upstream of the three-way switching valve V3 and the return passage 19 communicate with each other. It's becoming
In this third embodiment, the liquid is circulated through the return passage 19, the liquid supply passage 24, the branch passage 11 between the three-way switching valves V5 and V6, and the liquid supply passage 18 between the three-way switching valves V6 and V3. A passage 20 is formed.
An outside air passage 22 is connected to the branch passage 11 between the pump P1 and the three-way switching valve V5, and the outside air passage is provided with an air release valve V4 and a filter F2. The decontaminating liquid W in the circulation passage 20 can be returned to the sub-storage tank 15 when the outside air release valve V4 is opened when necessary. The first liquid supply unit U1 in this third embodiment is constructed as described above.
Further, since the configurations of the second liquid supply unit U2 and the third liquid supply unit U3 in the third embodiment are the same as those of the first liquid supply unit U1, detailed description of the configuration will be omitted. Further, the constituent elements of the liquid supply unit U2 and the liquid supply unit U3 are given the same member numbers as those corresponding to the constituent elements of the liquid supply unit U1.

以上の構成において、この第３実施例においては、先ず、第１の給液ユニットＵ１によって主貯溜タンク５から除染ガス発生装置２に除染液Ｗが供給され、次に第２の給液ユニットＵ２によって除染ガス発生装置２に主貯溜タンク５から除染液Ｗが供給され、最後に第３の給液ユニットＵ３によって除染ガス発生装置２に主貯溜タンク５から除染液Ｗが供給されるようになっている。具体的な処理工程は以下のとおりである。
先ず、図８に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２を開放させてポンプＰ１を作動させるとともに、三方切換え弁Ｖ５，Ｖ６を第１位置に位置させる。これにより、主供給通路７と分岐通路１１を介して重量計１６が各作業室に応じて予め設定された設定重量となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が設定重量よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１の作動を停止させるとともに開閉弁Ｖ２を閉鎖させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。
次に、図９に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２の作動を停止させる一方、ポンプＰ１を作動させた状態において、三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６、Ｖ３をそれぞれ第２位置に切り換える。これにより、循環通路２０を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されて循環通路２０の液漏れ検査が行われる。
ここで、ポンプＰ１よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ１よりも下流側となる循環通路２０で液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを、循環通路２０を介して循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出することができる（以上、第２工程）。
次に、図１０に示すように、前述した循環通路２０の液漏れ検査が終了したら、外気通路２２の大気開放弁Ｖ４を開放させた後にポンプＰ１を作動させる。これにより、分岐通路１１、給液通路１８、２４、戻し通路１９からなる循環通路２０内の除染液Ｗが副貯溜タンク１５内に戻される（以上、第３工程）。
次に、図１１に示すように、この後、大気開放弁Ｖ４を閉鎖するとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置から第１位置に切り換えると、ポンプＰ１を作動させて給液通路２４、分岐通路１１及び給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の所定重量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。これにより、除染液Ｗが除染ガス発生装置２のヒートプレート上に滴下されて、除染ガスが発生するようになっている。なお、液漏れセンサＳ２によって三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８の液漏れを検出することができる（以上、第４工程）。
以上のようにして、主貯溜タンク５から第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されて除染ガスが発生するようになっている。
この後、上述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらに、その後、上記給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第３実施例によれば、各作業室に応じて設定された除染液Ｗを、給液ユニットＵ１～Ｕ３を介して各除染ガス発生装置２に正確に供給することができる。
また、この第３実施例においては、上記第１の実施例及び第２実施例と比較してポンプＰ１の台数が少ないので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。 In the above configuration, in the third embodiment, first, the decontaminating liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the decontaminating gas generator 2 by the first liquid supply unit U1, and then the second liquid supply. The unit U2 supplies the decontaminating gas generator 2 with the decontaminating liquid W from the main storage tank 5, and finally the third liquid supply unit U3 supplies the decontaminating gas generator 2 with the decontaminating liquid W from the main storage tank 5. supplied. Specific processing steps are as follows.
First, as shown in FIG. 8, in the liquid supply unit U1, the on-off valve V2 is opened to operate the pump P1, and the three-way switching valves V5 and V6 are positioned at the first position. As a result, the decontamination liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the sub storage tank 15 through the main supply passage 7 and the branch passage 11 until the weighing scale 16 reaches the set weight preset for each work chamber. do.
When the decontaminating liquid W starts to be supplied to the sub-storage tank 15 , the weight of the decontaminating liquid W in the sub-storage tank 15 is measured by the weighing scale 16 and input to the control device 4 . As a result, the control device 4 can recognize the storage amount of the decontaminating liquid W in the auxiliary storage tank 15, and when the storage amount reaches a predetermined weight smaller than the set weight, the atmospheric relief valve V1 is opened. After replacing the main supply passage 7 and the branch passage 11 with the purified air, the operation of the pump P1 is stopped and the on-off valve V2 is closed. As a result, a predetermined amount of the decontaminating liquid W in the main supply passage 7 and the branch passage 11 is sent to the sub-storage tank 15, and the set amount of the decontaminating liquid W is accurately stored in the sub-storage tank 15 of the liquid supply unit U1. (above, first step).
Next, as shown in FIG. 9, in the liquid supply unit U1, the operation of the on-off valve V2 is stopped, and the three-way switching valves V5, V6, and V3 are each switched to the second position while the pump P1 is in operation. . As a result, the decontaminating liquid W in the sub-storage tank 15 is circulated through the circulation passage 20, and the liquid leakage inspection of the circulation passage 20 is performed.
Here, if there is a liquid leak in the circulation passage 20 upstream of the pump P1, air will continue to be sucked from the liquid leaking portion, so the amount of the decontaminating liquid W in the sub-storage tank 15 will change. Therefore, the value measured by the weighing scale 16 does not change. In this case, the control device 4 can recognize the liquid leakage based on the weight measurement by the weighing scale 16 . Also, if there is a liquid leak in the circulation passage 20 downstream of the pump P1, the amount of the decontaminating liquid W leaked from the leaking portion does not return to the sub-storage tank 15, so it is measured by the weight scale 16. The measured value to be measured gradually decreases. Thereby, the control device 4 can recognize the liquid leakage in the circulation passage 20 .
By circulating the decontamination liquid W in the sub-storage tank 15 through the circulation passage 20 in this manner, liquid leakage in the circulation passage 20 can be detected (the second step).
Next, as shown in FIG. 10, after the liquid leakage inspection of the circulation passage 20 is completed, the air release valve V4 of the outside air passage 22 is opened, and then the pump P1 is operated. As a result, the decontaminating liquid W in the circulation passage 20 consisting of the branch passage 11, the liquid supply passages 18 and 24, and the return passage 19 is returned to the sub-storage tank 15 (the third step).
Next, as shown in FIG. 11, after that, when the air release valve V4 is closed and the three-way switching valve V3 is switched from the second position to the first position, the pump P1 is operated to open the liquid supply passage 24 and the branch passage. 11 and the liquid supply passage 18 , a predetermined weight of the decontaminating liquid W in the auxiliary storage tank 15 is supplied to the decontaminating gas generator 2 . As a result, the decontaminating liquid W is dripped onto the heat plate of the decontaminating gas generator 2 to generate the decontaminating gas. The liquid leak sensor S2 can detect liquid leak in the liquid supply passage 18 between the three-way switching valve V3 and the decontamination gas generator 2 (the above is the fourth step).
As described above, a set amount of decontaminating liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the sub-storage tank 15 of the first liquid supply unit U1. A quantity of decontamination liquid W is supplied to generate decontamination gas.
After that, a predetermined amount of decontaminating liquid W is supplied to the decontaminating gas generator 2 by the second liquid supplying unit U2 through the same processing steps as in the case of the first liquid supplying unit U1. Further, after that, a predetermined amount of decontaminating liquid W is supplied to the decontaminating gas generator 2 by the third liquid feeding unit U3 through the same processing steps as in the case of the liquid feeding unit U1. Incidentally, the processing steps by the liquid supply units U1 to U3 can be concurrently processed.
According to the third embodiment as described above, the decontaminating liquid W set according to each work chamber can be accurately supplied to each decontaminating gas generator 2 via the liquid supply units U1 to U3. .
Also, in the third embodiment, the number of pumps P1 is smaller than in the first and second embodiments, so the manufacturing cost of the decontaminating liquid supply device 3 can be reduced accordingly. .

なお、上記各実施例においては、給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に検出器として重量計１６を設けているが、これに限定されるものではなく、重量計（天秤、スケール、ロードセル）を用いる以外に、除染液Ｗの液量の検出器として例えばレベルセンサなどにより容積を検出するようにしても良い。
また、上記各実施例においては、主貯溜タンク５に貯留された除染液Ｗを、主供給通路７から３分岐して３つの無菌作業室に対応する３台の除染ガス発生装置２に除染液Ｗを供給しているが、これに限定されるものではなく、２台や４台以上の除染ガス発生装置２に分岐して除染液Ｗを供給するものであっても良い。
また、上記各実施例においては、除染ガス発生装置２として加熱したヒータプレート上に除染液Ｗを滴下して除染ガスを発生させる蒸発器を用いているが、これに限定されるものではなく、他の除染ガス発生装置を用いても良い。
さらに、上記各実施例において、主貯溜タンク５用の重量計６は必ずしも必要とせず、それを省略してもよい。 In each of the above embodiments, the sub-storage tanks 15 of the liquid supply units U1 to U3 are provided with the weight scales 16 as detectors. ), the volume of the decontaminating liquid W may be detected by a level sensor, for example.
Further, in each of the above embodiments, the decontaminating liquid W stored in the main storage tank 5 is branched from the main supply passage 7 into three decontamination gas generators 2 corresponding to the three aseptic work chambers. Although the decontaminating liquid W is supplied, it is not limited to this, and the decontaminating liquid W may be supplied by branching to two or four or more decontaminating gas generators 2 . .
In each of the above embodiments, an evaporator is used as the decontaminating gas generator 2 to generate decontaminating gas by dripping the decontaminating liquid W onto a heated heater plate. Instead, another decontamination gas generator may be used.
Furthermore, in each of the above embodiments, the weighing scale 6 for the main storage tank 5 is not necessarily required and may be omitted.

２…除染ガス発生装置 ３…除染液供給装置
５…主貯溜タンク ７…主供給通路
１１～１３…分岐通路 １５…副貯溜タンク
１６…重量計（検出機構） Ｐ１～Ｐ２…ポンプ（送液機構）
Ｕ１～Ｕ３…給液ユニット Ｗ…除染液 2 Decontamination gas generator 3 Decontamination liquid supply device 5 Main storage tank 7 Main supply passage 11 to 13 Branch passage 15 Sub storage tank 16 Weighing scale (detection mechanism) P1 to P2 Pump (feed liquid mechanism)
U1 to U3: Liquid supply unit W: Decontamination liquid

Claims (4)

除染液を貯留する主貯留容器と、上記主貯溜容器内の除染液を、複数の除染ガスを発生させる除染ガス発生装置に供給するために分岐して設けられた複数の分岐通路と、上記主貯溜容器から除染ガス発生装置へと除染液を供給する送液機構とを備えた除染液供給装置において、
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記検出機構による検出結果に基づいて上記副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記副貯留容器に供給された除染液を除染ガス発生装置に供給することを特徴とする除染液供給装置。 A main storage container for storing decontaminating liquid, and a plurality of branch passages branching and provided for supplying the decontaminating liquid in the main storage container to a decontamination gas generator for generating a plurality of decontamination gases. and a liquid feeding mechanism for supplying the decontaminating liquid from the main storage container to the decontaminating gas generator,
A sub-storage container for storing the decontaminating liquid sent from the main storage container and a detection mechanism for detecting the amount of the decontaminating liquid stored in the sub-storage container are provided downstream of each branch passage,
The liquid feeding mechanism supplies the decontaminating liquid so that the amount of the decontaminating liquid stored in the sub-storage container reaches a predetermined set amount based on the detection result of the detection mechanism, and the sub-storage A decontaminating liquid supply device, characterized by supplying a decontaminating liquid supplied to a container to a decontaminating gas generator. 上記検出機構は、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の重量を検出する重量計であることを特徴とする請求項１に記載の除染液供給装置。 2. The decontaminating liquid supply device according to claim 1, wherein the detection mechanism is a weighing scale that detects the weight of the decontaminating liquid stored in the sub-storage container. 上記各副貯溜容器内に貯溜された除染液を各除染ガス発生装置に供給する給液通路には、上記副貯留容器に供給された除染液を循環させる循環通路が設けられることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の除染液供給装置。 A circulation passage for circulating the decontamination liquid supplied to the sub-storage container is provided in the liquid supply passage for supplying the decontamination liquid stored in each sub-storage container to each decontamination gas generator. 3. The decontaminating liquid supply device according to claim 1 or 2. 上記循環通路に接続された外気通路と、上記外気通路を開閉させる開閉弁を備え、上記開閉弁が開放されて上記外気通路を介して循環通路に大気が導入されることによって、上記循環通路内の除染液が上記副貯溜容器に戻されることを特徴とする請求項３に記載の除染液供給装置。 An outside air passage connected to the circulation passage and an on-off valve for opening and closing the outside air passage are provided. 4. The decontaminating liquid supply device according to claim 3, wherein the decontaminating liquid is returned to the sub-storage container.
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