JP2022135851A - Cell string structure, photovoltaic module and manufacturing methods therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光起電力の分野に関し、特に、セルストリング構造及び光起電力モジュール並びにそれらの製造方法に関する。 The present invention relates to the field of photovoltaics, and in particular to cell string structures and photovoltaic modules and methods for their manufacture.
エネルギー欠乏および環境悪化などの問題が顕在化するにつれて、太陽エネルギーはクリーンな再生可能エネルギー源としてますます注目を集めている。光起電力モジュールは、再生可能な太陽エネルギーを電気エネルギーに変換する装置である。 Solar energy is gaining increasing attention as a clean renewable energy source as problems such as energy scarcity and environmental degradation become apparent. A photovoltaic module is a device that converts renewable solar energy into electrical energy.
光起電力モジュールは通常、複数のセルストリング構造からなり、セルストリング構造は通常、複数のセルが直列接続されることで形成される。複数のセルを直列接続してセルストリング構造を形成するプロセスは、セルのインターコネクションプロセス(Interconnection process)と称される。光起電力モジュールの性能の良否は、セルのインターコネクションプロセスの成熟度に関している。 A photovoltaic module typically consists of a plurality of cell string structures, which are typically formed by connecting multiple cells in series. The process of connecting multiple cells in series to form a cell string structure is called a cell interconnection process. The performance of photovoltaic modules is related to the maturity of the cell interconnection process.
しかしながら、現状のセルのインターコネクションプロセスはまだ改良しようとする箇所があり、光起電力モジュールの性能向上が要請されている。 However, the current cell interconnection process still needs improvement, and there is a demand for improved photovoltaic module performance.
本発明は、セルのインターコネクションプロセスを最適化して光起電力モジュールの性能を向上させるセルストリング構造及び光起電力モジュール並びにそれらの製造方法を提供する。 The present invention provides cell string structures and photovoltaic modules and methods of making them that optimize the cell interconnection process to improve the performance of the photovoltaic modules.
上記課題を解決するために、本発明の実施例は一種のセルストリング構造の製造方法を提供し、第1方向に沿って順に配列されかつ互いに直列接続されたN個のセルを含むセルストリング構造の製造方法において、各々が対応する前記セルを固定するために用いられかつ前記第1方向に沿って順に配列されたN個(Nは1より大きい正の整数)の布置エリアを有する第1粘着層を提供することと、前記布置エリアごとに、対応する前記セルが配置されることと、前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面には、隣り合う前記布置エリアに跨って隣り合う2つの前記セルを電気的に接続するための第1導線が敷設されることと、前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面に第2粘着層が設けられ、かつ前記第1導線が前記第2粘着層と前記セルとの間に位置されることと、前記第1粘着層、前記第1導線、前記セルおよび前記第2粘着層を互いに固定するように、圧着処理を行うことと、を含む。 To solve the above problems, an embodiment of the present invention provides a method for manufacturing a cell string structure, which includes N cells arranged in sequence along a first direction and connected in series with each other. A first adhesive having N placement areas (N is a positive integer greater than 1) arranged in order along the first direction, each used for fixing the corresponding cell. providing a layer, arranging a corresponding cell for each placement area, and arranging two adjacent adhesive layers on a surface of the cell remote from the first adhesive layer across the adjacent placement areas; A second adhesive layer is provided on a surface of the cell remote from the first adhesive layer, and the first conductive wire is connected to the first adhesive layer. positioned between two adhesive layers and the cells; and performing a crimping process to fix the first adhesive layer, the first conductive wire, the cells and the second adhesive layer to each other. include.
また、前記第1粘着層がホットメルトを含み、前記第2粘着層がホットメルトを含み、前記圧着処理が加熱処理を含んでおり、あるいは、前記第1粘着層がUV硬化型接着剤を含み、前記第2粘着層がUV硬化型接着剤を含み、前記圧着処理が紫外線照射処理を含んでいる。 In addition, the first adhesive layer contains hot melt, the second adhesive layer contains hot melt, and the compression treatment contains heat treatment, or the first adhesive layer contains a UV curable adhesive. , the second adhesive layer contains a UV curable adhesive, and the compression treatment contains an ultraviolet irradiation treatment.
また、各前記セルは、受光面の向きが同じであり、前記第1導線は、順に接続されている受光導線、接続導線およびバックライト導線を含み、前記第1導線を敷設するステップは、前記受光導線を前記セルの受光面に敷設し、前記受光面が前記第1粘着層から離れるようになされることと、隣り合う前記布置エリアの前記第1粘着層の表面に前記バックライト導線が位置するように、前記接続導線を折り曲げることと、を含む。 Further, each of the cells has the same orientation of the light-receiving surface, the first conducting wire includes a light-receiving conducting wire, a connecting conducting wire and a backlight conducting wire, which are connected in order, and the step of laying the first conducting wire includes the A light-receiving lead wire is laid on the light-receiving surface of the cell so that the light-receiving surface is separated from the first adhesive layer, and the backlight lead wire is positioned on the surface of the first adhesive layer in the adjacent placement areas. bending the connecting conductor so as to do so.
また、前記受光導線は密集グリッド線であり、前記受光面は、間隔をあけて配列された複数本のサブグリッド線をさらに有し、かつ、前記サブグリッド線は、前記密集グリッド線と交差して接触しており、前記サブグリッド線の表面に前記第2粘着層を設けることをさらに含む。 The light-receiving conductors are dense grid lines, the light-receiving surface further has a plurality of sub-grid lines arranged at intervals, and the sub-grid lines intersect the dense grid lines. and further comprising providing the second adhesive layer on the surface of the sub-grid lines.
また、前記セルごとに、前記受光面に8~32本の前記受光導線が間隔をあけて敷設されている。 In addition, 8 to 32 light-receiving conductors are laid at intervals on the light-receiving surface of each cell.
また、隣り合う前記セルの前記受光面は、向きが逆となっており、前記布置エリアに前記セルを配置する前に、前記布置エリアの前記第1粘着層の表面に、隣り合う前記布置エリアに跨って隣り合う2つの前記セルを電気的に接続するための第2導線が敷設されることを、さらに含む。 In addition, the light-receiving surfaces of the adjacent cells are oriented in opposite directions. Laying a second conductor for electrically connecting two adjacent cells across the cell.
また、前記セルストリング構造は、頭尾両端にそれぞれ位置する第1セルおよび第Nセルを含み、前記セルストリング構造の製造方法は、さらに、前記第1セルを配置する前に、前記第1粘着層に、前記第1粘着層と前記第1セルとの間に位置しかつ前記第1セル以外の領域まで延びる頭部導線が敷設されることと、前記第Nセルを配置した後、前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面に、前記第Nセル以外の領域まで延びる尾部導線が敷設され、かつ、前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面に、前記第2粘着層が設置されることと、少なくとも2本のバスバーを形成し、一方の前記バスバーが、前記頭部導線の前記第1セル以外まで延びる領域に接触して接続され、他方の前記バスバーが、前記尾部導線の前記第Nセル以外まで延びる領域に接触して接続され、かつ、前記バスバーの延伸方向が前記第1方向と異なるように設置されることと、を含む。 In addition, the cell string structure includes a first cell and an Nth cell located at both ends of the head and tail, respectively, and the method for manufacturing the cell string structure further includes, before arranging the first cell, the first adhesion a head conductive wire positioned between the first adhesive layer and the first cell and extending to a region other than the first cell; A tail conductor extending to a region other than the N-th cell is laid on a surface of the N cell remote from the first adhesive layer, and a surface of the N-th cell remote from the first adhesive layer is provided with the second adhesive layer. An adhesive layer is provided, and at least two bus bars are formed, one of the bus bars being in contact with and connected to a region of the head conductor extending beyond the first cell, and the other of the bus bars being: contacting and connecting to a region of the tail conductor extending to other than the Nth cell, and setting the bus bar in an extending direction different from the first direction.
本発明の実施例は、一種の光起電力モジュールの製造方法も提供し、前記の製造方法により製造されたセルストリング構造を提供することと、第1基板、第1封止層、前記セルストリング構造、第2封止層、および第2基板を順に積層して設け、積層構造を形成することと、前記積層構造をラミネート処理し、かつ、前記ラミネート処理において前記第1導線と前記セルとが電気的に接続されていることと、を含む。 An embodiment of the present invention also provides a method of manufacturing a photovoltaic module, providing a cell string structure manufactured by the above method, comprising: a first substrate, a first encapsulation layer, and the cell string. A structure, a second sealing layer, and a second substrate are laminated in order to form a laminated structure, and the laminated structure is laminated, and the first conductive wire and the cell are separated from each other in the lamination. and being electrically connected.
また、前記ラミネート処理に用いるプロセス温度は、前記第1導線の融点温度以上である。 Moreover, the process temperature used for the lamination process is equal to or higher than the melting point temperature of the first conductor.
また、前記第1導線は、はんだコアと、前記はんだコアを取り囲む合金層とを有するとともに、前記ラミネート処理に用いるプロセス温度は、前記合金層の融点温度よりも高い。 Further, the first conductor wire has a solder core and an alloy layer surrounding the solder core, and the process temperature used for the lamination process is higher than the melting point temperature of the alloy layer.
また、前記ラミネート処理におけるプロセス温度と前記融点温度との差は、30℃以下である。 Also, the difference between the process temperature and the melting point temperature in the lamination process is 30° C. or less.
また、前記ラミネート処理に用いるプロセス圧力は、-50kPa~200kPaである。 Further, the process pressure used for the lamination process is -50 kPa to 200 kPa.
また、前記融点温度は、100℃~160℃である。 Further, the melting point temperature is 100.degree. C. to 160.degree.
本発明の実施例は、一種のセルストリング構造も提供し、第1方向に沿って順に配列されたN個(Nは1より大きい正の整数)の布置エリアを含む第1粘着層と、各セルが対応する前記布置エリアに設けられたN個のセルと、前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面に敷設され、かつ隣り合う前記布置エリアに跨って隣り合う2つの前記セルを電気的に接続するための第1導線と、前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面に設けられる第2粘着層であって、前記第1導線が前記第2粘着層と前記セルとの間に位置され、前記第1粘着層、前記第1導線、前記セル及び前記第2粘着層が互いに固定されるようになされる第2粘着層と、を備える。 Embodiments of the present invention also provide a kind of cell string structure, a first adhesive layer comprising N (N is a positive integer greater than 1) placement areas arranged in sequence along a first direction; N cells provided in the placement areas corresponding to the cells, and two cells laid on a surface apart from the first adhesive layer in the cells and adjacent to each other across the adjacent placement areas are electrically connected. and a second adhesive layer provided on a surface of the cell remote from the first adhesive layer, wherein the first conductive wire is between the second adhesive layer and the cell a second adhesive layer positioned at the second adhesive layer such that the first adhesive layer, the first conductive line, the cell and the second adhesive layer are fixed to each other.
また、前記セルストリング構造は、頭尾両端にそれぞれ位置する第1セルおよび第Nセルを備え、前記セルストリング構造は、さらに、前記第1粘着層と前記第1セルとの間に位置しかつ前記第1セル以外の領域まで延びる頭部導線と、前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面に位置しかつ前記第Nセル以外の領域まで延びる尾部導線と、かつ、前記第2粘着層が前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面にも設置され、少なくとも2本のバスバーであって、一方の前記バスバーが、前記頭部導線の前記第1セル以外まで延びる領域に接触して接続され、他方の前記バスバーが、前記尾部導線の前記第Nセル以外まで延びる領域に接触して接続され、かつ、前記バスバーの延伸方向が前記第1方向と異なるように設置される少なくとも2本のバスバーと、を備える、 In addition, the cell string structure includes a first cell and an Nth cell located at both ends of the head and tail, respectively, and the cell string structure is further located between the first adhesive layer and the first cell, and a head conductor extending to a region other than the first cell, a tail conductor located on a surface of the Nth cell remote from the first adhesive layer and extending to a region other than the Nth cell, and the second An adhesive layer is also provided on a surface of the Nth cell remote from the first adhesive layer, and at least two bus bars, one of the bus bars extending beyond the first cell of the head conductor. and the other bus bar is in contact with and connected to a region of the tail conductor extending to other than the N-th cell, and the extending direction of the bus bar is different from the first direction. at least two busbars that
また、前記第1方向において、N個の前記セルの総長さと前記第1粘着層の長さとの差の絶対値は、100mm以下である、 Further, in the first direction, the absolute value of the difference between the total length of the N cells and the length of the first adhesive layer is 100 mm or less.
また、前記第1方向において、前記第2粘着層の長さと前記セルの長さとの差の絶対値は、60mm以下である。 Also, in the first direction, the absolute value of the difference between the length of the second adhesive layer and the length of the cell is 60 mm or less.
また、前記第1粘着層は、支持層と、前記支持層と前記セルとの間に位置する接着層と、を含む。 Also, the first adhesive layer includes a support layer and an adhesive layer positioned between the support layer and the cells.
本発明の実施例は一種の光起電力モジュールも提供し、順に積層して設けられた第1基板、第1封止層、前記のセルストリング構造、第2封止層、および第2基板を含む。 Embodiments of the present invention also provide a photovoltaic module, comprising a first substrate, a first encapsulation layer, the above cell string structure, a second encapsulation layer and a second substrate, which are stacked in sequence. include.
本発明の実施例により提供される技術案は、従来技術と比較して以下の利点がある。 The technical solutions provided by the embodiments of the present invention have the following advantages compared with the prior art.
本発明の実施例は、第1導線でセルを直接電気的に接続するものであり、フレキシブル電気的接続層をプリフォームすることなくセル同士のインターコネクションをを実現することができる。また、第1粘着層と第2粘着層とは、圧着処理後に第1導線の位置を固定して第1導線とセルとを固定することができ、高温溶接プロセスによる導線とセルとの固定が不要となり、溶接プロセスによるプロセス不良のリスクを低減することができる。従って、本発明の実施例によれば、セルストリング構造の性能を向上させ、セルストリング構造の生産プロセスを簡素化し、生産コストを低減することができる。 Embodiments of the present invention provide direct electrical connection of the cells with the first conductor, allowing interconnection between cells without preforming a flexible electrical connection layer. In addition, the first adhesive layer and the second adhesive layer can fix the position of the first conductor wire and fix the first conductor wire and the cell after the crimping process, and fix the conductor wire and the cell by the high temperature welding process. It becomes unnecessary, and the risk of process failure due to the welding process can be reduced. Therefore, according to the embodiments of the present invention, the performance of the cell string structure can be improved, the production process of the cell string structure can be simplified, and the production cost can be reduced.
また、第1導線における受光導線は密集グリッド線であり、かつ、セルの受光面上に8~32本の受光導線が間隔をあけて敷設されており、受光導線の数が多いので、電流輸送経路の低減、内部損失の降下に有利であり、セルストリング構造の性能がさらに改善され、それにより光起電力モジュールの性能が改善される。 In addition, the light-receiving conductors in the first conductor are dense grid lines, and 8 to 32 light-receiving conductors are laid on the light-receiving surface of the cell at intervals. It is advantageous for path reduction, internal loss drop, and the performance of the cell string structure is further improved, thereby improving the performance of the photovoltaic module.
また、第2粘着層はセルの受光面に設けられ、第2粘着層は単層構造であってもよいので、第2粘着層により吸収される光量を減らすことに有利であり、これにより、より多くの光がセルに吸収されることを確保し、セルの光利用効率を高め、さらにセルストリング構造および光起電力モジュールの性能をより改善する。 In addition, the second adhesive layer is provided on the light receiving surface of the cell, and the second adhesive layer may have a single layer structure, which is advantageous for reducing the amount of light absorbed by the second adhesive layer. It ensures that more light is absorbed by the cell, enhances the light utilization efficiency of the cell, and further improves the performance of the cell string structure and photovoltaic module.
また、本発明の実施例では、第1導線とセルとの電気的な接続をラミネート処理により実現するので、溶接によるインターコネクション技術を必要とせず、溶接応力や溶接高温によるセルストリング構造への悪影響を回避し、光起電力モジュールの溶接応力を低減し、光起電力モジュールの性能を改善することができる。 In addition, in the embodiment of the present invention, since the electrical connection between the first conducting wire and the cell is realized by lamination processing, an interconnection technology by welding is not required, and the adverse effect of welding stress and welding temperature on the cell string structure is eliminated. can be avoided, the welding stress of the photovoltaic module can be reduced, and the performance of the photovoltaic module can be improved.
一つ又は複数の実施例は、対応する添付の図面における図で例示的に説明されるが、これらの例示的な説明は、実施例を限定するものではなく、特に断りのない限り、添付の図面における図は縮尺に制限されない。 One or more embodiments are illustrated by way of example in the figures in corresponding accompanying drawings, and these illustrative descriptions are not intended to be limiting of the embodiments, unless otherwise noted in the accompanying drawings. The figures in the drawings are not limited to scale.
背景技術から分かるように、セルのインターコネクションプロセスはまだ改良しようとする箇所があり、光起電力モジュールの性能向上が要請されている。 As can be seen from the background art, there is still room for improvement in the cell interconnection process, and there is a need to improve the performance of photovoltaic modules.
解析したところ、その要因は以下の通りであることがわかった。即ち、従来の光起電力モジュールでは、溶接リボンで溶接することによって光起電力モジュール内部のセル同士のインターコネクションが実現されているが、このようなインターコネクションプロセスには、溶接温度が高すぎたり、溶接応力が大きくなりすぎたりするなどの問題がある。 An analysis revealed that the factors are as follows. That is, in the conventional photovoltaic module, the interconnection between the cells inside the photovoltaic module is realized by welding with a welding ribbon, but such an interconnection process requires too high a welding temperature. , and welding stress becomes too large.
光起電力モジュールへの溶接による悪影響を回避するために、現在ではSmart wireインターコネクション技術と呼ばれるインターコネクション技術が出ている。図1~図2を参照する。図1~図2は、一種のインターコネクション技術における各工程に対応する構成を示す図であり、図1は、フレキシブル電気的接続層の断面図である。Smart wireインターコネクション技術は、以下の通りである。 To avoid the adverse effects of welding to photovoltaic modules, there is now an interconnection technology called smart wire interconnection technology. Please refer to FIGS. 1-2. 1 and 2 are diagrams showing structures corresponding to each step in a kind of interconnection technology, and FIG. 1 is a cross-sectional view of a flexible electrical connection layer. Smart wire interconnection technology is as follows.
図1を参照して、フレキシブル電気的接続層34をプリフォームするが、フレキシブル電気的接続層34は、接着層31および支持層32からなる2層構造ポリマーペースト膜と金属ワイヤ33とをホットプレス処理して作製されたものである。
Referring to FIG. 1, a flexible
なお、フレキシブル電気的接続層34の製造過程において、接着層31の製造装置への接着を防止するために、接着層31と製造装置とを隔離するように支持層32を用いる必要があるため、フレキシブル電気的接続層34は2層構造とならなければならない。しかしながら、その後にフレキシブル電気的接続層34がセルの受光面に敷設されると、2層構造はセルの光吸収率の低下を招きやすい。
In the manufacturing process of the flexible
図2を参照して、フレキシブル電気的接続層34を独立したフレキシブル電気的接続層ユニットに断裁した後、セル30を2つ直列繋ぎにする。後でホットプレスなどによりセルストリング構造を製作し、セルストリング構造における頭尾のフレキシブル電気的接続層34を特殊処理することにより、金属ワイヤ33を露出させて後続の作業でのバスバーとの接続を容易にし、電流の収集を行う。
Referring to FIG. 2, after the flexible
Smart wireインターコネクション技術は、ストリング溶接工程を取り消すものの、フレキシブル電気的接続層34をプリフォームし、フレキシブル電気的接続層34を断裁する必要がある。また、セルストリング構造における頭尾のフレキシブル電気的接続層34は、特殊処理を経る必要があり、このように、プロセスの複雑さが増え、量産の潜在的なボトルネックも発生する。Smart wireインターコネクション技術は、通常の溶接方式と大きく異なるので、従来の溶接装置では、Smart wireインターコネクション技術によるセルストリング構造の製造を満足できないため、フレキシブル電気的接続層の生産設備の開発などの新たな設備の開発が必要となるが、新たな設備の開発には失敗リスクがあり、さらに生産コストの増加も招く。
Smart wire interconnection technology cancels the string welding process, but requires preforming the flexible
上記課題を解決するために、本発明の実施例は一種のセルストリング構造の製造方法を提供し、布置エリアが対応するセルを固定するために用いられる第1粘着層を提供することと、各布置エリアには、対応するセルが配置されることと、セルにおける第1粘着層から離れた表面に、隣り合う2つのセルを電気的に接続するための第1導線が敷設されることと、セルにおける第1粘着層から離れた表面に、第2粘着層が設けられることと、第1粘着層、第1導線、セルおよび第2粘着層を互いに固定するように、圧着処理を行うことと、を含む。本発明の実施例は、第1導線でセルを直接電気的に接続するものであり、フレキシブル電気的接続層をプリフォームすることなくセル同士のインターコネクションを可能とし、フレキシブル電気的接続層の生産装置を使用する必要はない。また、溶接によるインターコネクション技術が不要となるため、溶接応力および溶接高温によるセルストリング構造への悪影響を回避できる。また、第1粘着層と第2粘着層とは、圧着処理後に第1導線の位置を固定することができ、第1導線がセルの表面に固定して敷設される。従って、本発明の実施例によれば、セルストリング構造の性能を向上させ、セルストリング構造の生産プロセスを簡素化し、生産コストを低減することができる。 To solve the above problems, an embodiment of the present invention provides a method for manufacturing a cell string structure, providing a first adhesive layer whose placement area is used to fix the corresponding cell; a corresponding cell is arranged in the placement area; a first conducting wire for electrically connecting two adjacent cells is laid on a surface of the cell remote from the first adhesive layer; A second adhesive layer is provided on a surface of the cell separated from the first adhesive layer, and a crimping process is performed to fix the first adhesive layer, the first conductive wire, the cell and the second adhesive layer to each other. ,including. Embodiments of the present invention provide for direct electrical connection of the cells with the first conductor, allowing interconnection between cells without preforming a flexible electrical interconnect layer, thus producing a flexible electrical interconnect layer. No need to use equipment. In addition, since welding interconnection technology is no longer required, it is possible to avoid adverse effects on the cell string structure due to welding stress and welding high temperature. In addition, the first adhesive layer and the second adhesive layer can fix the position of the first conductor wire after the pressure bonding process, and the first conductor wire is fixed and laid on the surface of the cell. Therefore, according to the embodiments of the present invention, the performance of the cell string structure can be improved, the production process of the cell string structure can be simplified, and the production cost can be reduced.
本発明の実施例の目的、技術案及び利点をより明確にするために、以下、図面を参照して本発明の各実施例について詳細に説明する。しかしながら、当業者にとっては、読者に本願をよりよく理解させるように、本発明の各実施例において多くの技術的細部が提案されているが、これらの技術的細部や、以下の各実施例に基づく種々の変更や補正がなくても、本願が保護を要求しようとする技術案を実現できることが理解できる。 In order to make the objects, technical solutions and advantages of the embodiments of the present invention clearer, each embodiment of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. However, for those skilled in the art, many technical details have been proposed in each of the embodiments of the present invention so that the reader may better understand the present application. It can be understood that the technical solution for which this application claims protection can be realized without various modifications and amendments based on this patent.
本発明の一実施例は、一種のセルストリング構造の製造方法を提供し、図3~図11は、本実施例に係るセルストリングの製造方法における各工程に対応する構成を示す図であり、以下、図面を参照して具体的に説明する。 An embodiment of the present invention provides a method for manufacturing a cell string structure, and FIGS. A specific description will be given below with reference to the drawings.
図3を参照して、第1粘着層11が提供され、第1粘着層11は、第1方向Xに沿って順に配列されたN個の布置エリアAを有し、各布置エリアAは、対応するセルを固定するために用いられ、且つNは1より大きい正の整数である。
Referring to FIG. 3, a first
第1粘着層11は、N個のセルを布置するために用いられ、各セルは、対応する布置エリアAに位置されている。
The first
本実施例において、第1粘着層11はホットメルトであり、かつ、後続の圧着処理は加熱処理を含む。ホットメルトは、良好な熱接着性及び熱安定性を有するため、一定の温度条件下で、後に敷設された第1導線、頭部導線及び尾部導線とセルとを密着して一体構造とすることができる。さらに、後続のラミネート過程における、第1導線、頭部導線および尾部導線とセルとの電気的な接続効果にも優れる。
In this embodiment, the first
好ましくは、第1粘着層11の材料は、ホットメルト性能を有するシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アクリル、アイオノマー、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、およびエチレン-酢酸ビニルのうちの1種または複数種であってもよい。
Preferably, the material of the first
他の実施例において、第1粘着層はUV(Ultraviolet)硬化型接着剤であってもよく、後続の圧着処理は紫外線照射処理を含む。紫外光の照射によって、第1粘着層が硬化するとともに、セルを第1導線、頭部導線および尾部導線に密着させることができる。 In another embodiment, the first adhesive layer may be a UV (Ultraviolet) curable adhesive, and the subsequent pressing process includes UV irradiation. The irradiation of ultraviolet light cures the first adhesive layer and allows the cell to adhere to the first conductor, the head conductor and the tail conductor.
好ましくは、第1粘着層の材料は、UV硬化性能を有するシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アクリル、ポリビニルブチラール、およびポリカーボネートのうちの1種または複数種であってもよい。 Preferably, the material of the first adhesive layer may be one or more of silicone resins, epoxy resins, polyurethanes, acrylics, polyvinyl butyrals, and polycarbonates with UV curable properties.
本実施例において、第1粘着層11は、順に積層設置された接着層111と支持層112とを含む2層構造であり、接着層111は、支持層112と後続的に設けられたセルとの間に位置している。
In this embodiment, the first
具体的には、接着層111は、良好な延伸性および接着性を有し、接着の効果を高めることができ、接着層111の材料は、上述したホットメルトまたはUV硬化型接着剤とすることができる。一方、支持層112は、良好な熱安定性を有し、後続の圧着処理において接着層111を保護することができ、接着の効果をより一層高めることができ、支持層112の材料はポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル及びポリカーボネート、ナイロン等の材質のいずれかでもよい。
Specifically, the
第1方向Xに対する垂直方向において、第1粘着層11の総厚さは、0.1mm~0.4mmであり、例えば、0.15mm、0.2mm、0.3mmである。第1粘着層11の総厚さが上記の範囲内にある場合、セルストリング構造の総厚さを小さい範囲に保つことができるとともに、第1粘着層11が、破損の発生を回避するのに十分な機械的強度を有する。具体的には、接着層111の厚さは、50μm~300μmとすることができ、例えば、100μm、150μm、200μmであり、支持層112の厚さは、50μm~300μmとすることができ、例えば、100μm、150μm、200μmである。
In the direction perpendicular to the first direction X, the total thickness of the first
なお、第1粘着層11を敷設する際には、接着層111はセルの一側を向く必要があり、支持層112はセルから離れる側を向く必要がある。
When laying the first
第1方向Xにおいて、第1粘着層11の長さは、製造すべきセルストリング構造の長さの値と略等しい。第1粘着層11の長さとセルの長さとの差が小さいと、第1粘着層11とセルとの接触面積を大きくすることができ、接着のがっちりさを向上させることができる。さらに、第1方向Xにおいて、N個のセルの合計の長さと第1粘着層11の長さとの差の絶対値は、100mm以下である。第1方向Xにおいて、N個のセルの合計の長さは、第1粘着層11の長さよりも長くてもよく、第1粘着層11の長さと等しくてもよく、第1粘着層11の長さよりも短くてもよいと理解できる。
In the first direction X, the length of the first
本実施例において、セルストリング構造の製造を容易にするために、敷設定盤を提供することができ、敷設定盤に第1粘着層11が設けられ、かつ、敷設定盤と第1粘着層11との間に離型フィルムが設けられている。セルストリング構造を形成した後、離型フィルムを除去する。離型フィルムは、第1粘着層11が敷設定盤に貼り付くことを防止するように、敷設定盤と第1粘着層11とを隔離することに用いられる。
In this embodiment, in order to facilitate the production of the cell string structure, a laying board can be provided, the laying board is provided with the first
具体的には、離型フィルムの使用温度が120~300℃であり、離型フィルムの離型力が5G~50Gであり、離型フィルムの厚さが25μm~300μmである。離型フィルムは、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、延伸ポリプロピレン、二軸延伸ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、又はポリスチレンを基材とする片面又は両面離型フィルムであってもよい。 Specifically, the use temperature of the release film is 120 to 300° C., the release force of the release film is 5 G to 50 G, and the thickness of the release film is 25 μm to 300 μm. The release film may be a single-sided or double-sided release film based on polyethylene, polyethylene terephthalate, oriented polypropylene, biaxially oriented polypropylene film, polyvinyl chloride, polycarbonate, or polystyrene.
図4を参照して、各布置エリアAには、対応するセル10が配置される。
Referring to FIG. 4, in each placement area A, a corresponding
本実施例において、セル10はN型電池であり、例えば全固体電極コンタクト電池、ヘテロ接合電池、あるいはパッシベーションコンタクト電池であってもよい。その他の実施例において、セルはP型電池であってもよい。なお、上述のセルのタイプは単なる一例に過ぎなく、本実施例はセルの具体的なタイプを制限するものではない。
In this embodiment,
本実施例において、セル10は一体片(full piece)である。他の実施例において、セルは分割片であり、分割片は2~12分割片のいずれかであってもよい。
In this embodiment,
セル10の表面は、光の反射率を低減させるために、少なくとも一層の電気伝導性反射防止光学透明膜層(図示せず)及び/又は絶縁反射防止光学透明膜層(図示せず)を有する。
The surface of
さらに、先ず、1番目の布置エリアAにはセル10が配置され、すなわちセルストリング構造は、先頭に位置する第1セル101を含む。
Furthermore, first, the
第1セル101を配置する前に、第1粘着層11に頭部導線12が敷設され、頭部導線12は、第1粘着層11と第1セル101との間に位置し、かつ第1セル101以外の領域まで延びている。
Prior to arranging the
頭部導線12の具体的な敷設方法は、複数本の頭部導線12の一端を治具で固定し、固定された一端を第1粘着層11以外の領域に位置させ、ガイドレールで第1粘着層11に複数本の頭部導線12を平行に敷設し、ガイドレールによって頭部導線12の末端を1つ目の布置エリアAの末端に牽引すると、再び挟角で固定する。これにより、複数本の頭部導線12を第1粘着層11上に平行かつ均一に配列することができる。
A specific method for laying the
その後に、バスバーを用いて、頭部導線の第1セル101以外まで延びる領域に接触して接続し、セルストリング構造の電流を収集する。すなわち、頭部導線12は、第1粘着層11に対して延出している。プリーフォームしたフレキシブル電気的接続層を使用する場合に比べて、本実施例は、頭部に位置する第1粘着層11および頭部導線12を特殊処理する必要がない。本実施例において剥き出しとなった頭部導線12は、後にそのままバスバーに接続することができ、これにより、生産プロセスを簡素化し、生産コストを低減する。
A busbar is then used to contact and connect the area of the top conductor extending beyond the
さらに、第1方向Xにおいて、頭部導線12の長さとセル10の長さとの差の絶対値は、20mm以下である。頭部導線12の長さはセル10の長さに近いため、頭部導線12とセル10との接触面積が大きく、頭部導線12はセル10に生じる電流を十分に収集することができる。
Furthermore, in the first direction X, the absolute value of the difference between the length of the
頭部導線12の形状および材料は、後に敷設される第1導線に類似するが、以下の第1導線の詳細な説明をご参照ください。
The shape and material of the
図5を参照して、セル10における第1粘着層11から離れた表面には、隣り合う布置エリアAに跨って、隣り合う2つのセル10を電気的に接続するための第1導線13が敷設されている。
Referring to FIG. 5, on the surface of the
なお、本実施例では、各セル10の受光面Fの向きが同じであり、すなわち、受光面Fがいずれも上向きであり、バックライト面Bがいずれも下向きである。
In this embodiment, the directions of the light-receiving surfaces F of the
以下、第1導線13について詳細に説明する。
The
第1導線13は、順次接続された受光導線131、接続導線132およびバックライト導線133を含み、第1導線13を敷設するステップには、受光導線131をセル10の受光面Fに敷設し、受光面Fが第1粘着層11から離れるようになされることと、隣り合う布置エリアAの第1粘着層11の表面にバックライト導線133が位置するように、接続導線132を折り曲げることと、が含まれる。
The
本実施例において、受光導線131は密集グリッド線(dense grid line)であり、すなわち、受光導線131はセル10のメイングリッド線となる。スクリーン印刷によるメイングリッドの形成方法に対して、受光導線131がメイングリッドとする場合、電池の受光面積を大きくすることができ、直列抵抗を小さくすることもできる。他の実施例において、受光導線は、メイングリッド線とすることなく、通常の接続線のみとし、1つ前のセルのメイングリッド線と1つ後のセルのバックライト面とを接続してもよい。
In this embodiment, the
図5~図6を参照して、図6は図5の平面図であり、受光面Fは、間隔をあけて配列された複数本のサブグリッド線18をさらに有し、サブグリッド線18は、密集グリッド線と交差して接触している。
5 and 6, FIG. 6 is a plan view of FIG. 5, the light receiving surface F further has a plurality of
セル10ごとに、受光面F上に8~32本の受光導線131が間隔をあけて敷設されている。受光導線131の数が多いので、セル10内部の電流輸送経路を短くでき、内部損失を低減することができる。
8 to 32 light-receiving
第1導線13の長さとセル10の2倍の長さとの差の絶対値は、40mm以下である。第1導線13の長さは2枚のセル10の長さに近いため、第1導線13とセル10との接触面積が大きく、第1導線13はセル10に生じる電流を十分に収集することができる。
The absolute value of the difference between the length of the
図5~図7を参照して、図7は、図5及び図6の第2方向Yにおける断面図であり、第2方向Yは第1方向Xに対して垂直である。本実施例において、第1導線13の断面は円形であり、第1導線13の断面積は0.02mm2~0.15mm2である。他の実施例において、第1導線の断面は、正方形、三角形、台形、長方形のいずれかであってもよい。
5 to 7, FIG. 7 is a cross-sectional view in the second direction Y of FIGS. 5 and 6, the second direction Y being perpendicular to the first direction X. FIG. In this embodiment, the cross-section of the
本実施例において、第1導線13は、はんだコアと、はんだコアを取り囲む合金層とを含む。合金層の材料は、後続のラミネート処理において第1導線13とセル10表面のサブグリッド線18との間の電気的接続および物理的接続を容易にするために、低融点金属である。具体的には、合金層の融点温度は、後続のラミネート処理のプロセス温度以下である。一例では、合金層の融点温度は、100℃~160℃であってもよい。合金層の材料は、Sn、Pb、Bi、In、Zn、Cu、Sb、Agの一種または数種であってもよい。
In this embodiment, the
なお、他の実施例において、第1導電層は単層構造であってもよいと理解できる。 It should be appreciated that in other embodiments, the first conductive layer may be a single layer structure.
図8を参照して、セル10における第1粘着層11から離れた表面には、第2粘着層14が設けられ、第1導線13は、第2粘着層14とセル10との間に位置している。
Referring to FIG. 8 , a second
第2粘着層14は、第1導線13とセル10とを固定するために用いられる。具体的には、セル10の表面にはサブグリッド線18(図6を参照)も設けられているため、第2粘着層14は、第1導線11の表面に加えて、サブグリッド線18の表面にも位置している。
The second
同一のセル10の表面における第2粘着層14は、ベタフィルム層構造であってもよく、第2粘着層14は、別個(分けて設ける)のフィルム層構造であってもよく、各フィルム層構造が対応する第1導線13を覆うように保たれている。別個のフィルム層構造は、第2粘着層14がセル10の受光面を遮る面積を小さくすることに有利であり、セル10の光吸収能力のさらなる向上に有利である。
The second
本実施例において、第2粘着層14はホットメルトであり、後続の圧着処理は加熱処理を含む。他の実施例において、第2粘着層はUV硬化型接着剤であり、後続の圧着処理は紫外線照射処理を含む。第2粘着層14の材料は、第1粘着層11の材料と同様であり、第2粘着層14の具体的な材料については、前記した第1粘着層11に関する記載をご参照ください。ここでは再び贅言しない。
In this embodiment, the second
本実施例において、第2粘着層14は単層構造であり、すなわち、第2粘着層14は接着層である。2層構造に比べて、単層構造は、セル10の光吸収率を増大させるように光透過率を向上させることができる。また、単層構造はより薄いので、セルストリング構造の厚さおよび重量を低減することができる。他の実施例において、第2粘着層は2層構造であってもよい。
In this embodiment, the second
第2粘着層14の材料属性は、第1粘着層11の材料属性と同じ、すなわち、いずれもホットメルト、または、いずれもUV硬化型接着剤であってもよい。このように、後続の同一の圧着処理において、第1粘着層11と第2粘着層14の材料特性を同時に変化させることができ、第1粘着層11と第2粘着層14が粘着特性を有するようになる。
The material attributes of the second
第1方向Xに対する垂直方向において、第2粘着層14の厚さは、0.1mm~0.4mmであり、例えば、0.2mm、0.25mm、0.3mmである。第2粘着層14の総厚さが前記の範囲内にある場合、セルストリング構造の重量および厚さを比較的小さい範囲に保つことができるとともに、比較的大きい接着力を提供することができる。
In the direction perpendicular to the first direction X, the thickness of the second
第1方向Xにおいて、第2粘着層14の長さとセル10の長さとの差の絶対値は、60mm以下である。第2粘着層14の長さとセル10の長さとの差が小さいと、第2粘着層14とセル10との接触面積を大きくすることができ、接着のがっちりさを向上させることができる。
In the first direction X, the absolute value of the difference between the length of the second
第1粘着層11、第1導線13、頭部導線12、セル10及び第2粘着層14を互いに固定するように、圧着処理を行う。具体的には、第1粘着層11と第2粘着層14との表面に一定の圧力を加え、温度や紫外線照射処理等の特定の条件により、上記構造を密着して、一体構造とする。
The first
本実施例において、第1粘着層11及び第2粘着層14の材料がホットメルトであるため、これに応じて、圧着処理は加熱処理を含むべきである。他の実施例において、第1粘着層および第2粘着層の材料がUV硬化型接着剤であれば、これに応じて、圧着処理は紫外線照射処理を含むべきである。あるいは、第1粘着層と第2粘着層の材料は、ホットメルトとUV硬化型接着剤との複合材料であってもよく、これに応じて、圧着処理は加熱処理と紫外線照射処理とを含むべきである。
In this embodiment, the material of the first
図9を参照して、第1導線13が尾部の布置エリアAに敷設されるまで、前述のセル10の配置、第1導線13の敷設、第2粘着層14の設置、及び圧着処理の手順を繰り返す。
Referring to FIG. 9, until the
図10を参照して、尾部の布置エリアAに第Nセル102が配置され、すなわち、セルストリング構造には、尾端にある第Nセル102がさらに含まれる。
Referring to FIG. 10, the
第Nセル102を配置した後、第Nセル102における第1粘着層11から離れた表面に、第Nセル102以外の領域まで延びる尾部導線15が敷設される。複数の尾部導線15は、第Nセル102の上面に平行に並べられている。
After placing the
さらに、第Nセル102における第1粘着層11から離れた表面に、第2粘着層14が設けられる。第2粘着層14の詳細な説明については、前述の対応する説明を参照できるが、ここでは再び贅言しない。
Furthermore, the second
圧着処理を行い、一定の圧力の条件下で、温度や紫外線照射処理などの特定の条件により、第Nセル102、第1粘着層11、第1導線13、尾部導線15、及び第2粘着層14を互いに固定する。
A pressure bonding process is performed, and under certain pressure conditions, depending on specific conditions such as temperature and ultraviolet irradiation treatment, the
つまり、本実施例では、1枚のセル10を敷設した毎にラミネート処理を1回行い、ラミネート処理の回数はセル10の数量と同じであるので、頭部導線12、尾部導線15及び第1導線13と、セル10の位置とが相対的に固定でき、後のセル10の敷設により前のセル10と前記導線との相対位置を変えることはない。
That is, in the present embodiment, the lamination process is performed once each time one
他の実施例において、全てのセルの敷設が完了した後に、1回のラミネート処理を行ってもよい。あるいは、2枚の隣接するセルを敷設した後に、1回のラミネート処理を行い、ラミネート処理の回数は、セルの数量の2分の1に等しい。 In another embodiment, one lamination process may be performed after all cells have been laid. Alternatively, one lamination process is performed after laying two adjacent cells, and the number of lamination processes is equal to one-half the number of cells.
その後に、バスバーを用いて、尾部導線15の第Nセル102以外まで延びる領域に接触して接続し、セルストリング構造の電流を収集する。なお、尾部導線15は、第2粘着層14に対して延出しているので、プリーフォームしたフレキシブル電気的接続層を使用する場合に比べて、本実施例は、尾部に位置する第2粘着層14および尾部導線15を特殊処理する必要がなく、剥き出しとなった尾部導線15は、後にそのままバスバーに接続することができ、これにより、生産プロセスを簡素化し、生産コストを低減する。
A busbar is then used to contact and connect the region of the
図11を参照して、少なくとも2本のバスバー19を形成しており、一方のバスバー19は、頭部導線12(図10を参照)の第1セル101以外まで延びる領域に接触して接続され、他方のバスバー19は、尾部導線15(図10を参照)の第Nセル102以外まで延びる領域に接触して接続され、バスバー19の延伸方向は第1方向Xと異なっている。
Referring to FIG. 11, at least two
すなわち、一方のバスバー19は、全ての頭部導線12に接続され、他方のバスバー19は、全ての尾部導線15に接続されており、これにより、セルストリング構造全体の内部の電流を収集することを実現する。
That is, one
本実施例において、頭部導線12および尾部導線15とバスバー19との接続は、ラミネート方式によって実現される。他の実施例において、頭部導線および尾部導線とバスバーとの接続を溶接によって実現してもよい。
In this embodiment, the connection between the
上述したように、本実施例では、セル10が第1配線13、頭部導線12および尾部導線15によって直接電気的に接続されることになり、フレキシブル電気的接続層をプリーフォームすることを必要とせず、セル10同士のインターコネクションを実現することができるので、デバイスの開発難易度を著しく低下させることができ、従来のストリング溶接機に改良を行い、第1粘着層11の搬送機構と第2粘着層14の敷設機構を増設するだけでよい。また、セルストリング構造の頭部の第1粘着層11および尾部の第2粘着層14に対して特殊処理を行う必要がなく、頭部導線12および尾部導線15をセル10以外の領域に延出させるだけで、頭部導線12および尾部導線15を露出させることができる。また、本実施例では、第1導線13とセル10との電気的接続を溶接により実現する必要がないため、溶接高温や溶接応力によるセル10への悪影響を回避できる。また、1枚のセル10を敷設したごとに、1回のラミネート処理が行われるので、第1導線13とセル10との位置は相対的に固定できる。したがって、本発明の実施例は、セルストリング構造の生産プロセスを簡素化し、生産コストを低減し、セルストリング構造の性能を向上することができる。
As mentioned above, in this embodiment the
本発明の他の実施例は、一種のセルストリング構造の製造方法を提供し、本実施例は前の実施例とほぼ同じであるが、主な相違点は、本実施例において隣り合うセルの受光面の向きが逆となり、これにより第1導線および第2粘着層の敷設方式が第1実施例と異なっていることにある。図12~図13は、本実施例に係る製造方法における各工程に対応する構成を示す図である。以下、図面を参照して具体的に説明する。 Another embodiment of the present invention provides a kind of cell string structure manufacturing method, this embodiment is almost the same as the previous embodiment, but the main difference is that the adjacent cells in this embodiment The direction of the light-receiving surface is reversed, so that the laying method of the first conductive wire and the second adhesive layer is different from that of the first embodiment. 12 and 13 are diagrams showing the configuration corresponding to each step in the manufacturing method according to this embodiment. A specific description will be given below with reference to the drawings.
図12を参照して、第1粘着層21が提供され、第1粘着層21は、第1方向Xに沿って順に配列されたN個の布置エリアAを有し、各布置エリアAは、対応するセル20を固定するために用いられ、且つNは1より大きい正の整数である。
Referring to FIG. 12, a first
本実施例において、第1粘着層21は2層構造であり、接着層211と支持層212とを含む。他の実施例において、第1粘着層は単層構造であってもよい。
In this embodiment, the first
第1粘着層21およびセル20の具体的な説明は、前の実施例をご参照ください。ここでは再び贅言しない。
For a specific description of the first
各布置エリアAには、対応するセル20が配置される。具体的には、本実施例では、全てのセル20が一度に敷設されており、隣り合うセル20の受光面Fの向きが逆となる。すなわち、隣り合うセル20に対して、一方のセル20の受光面Fが上向きとなり、他方のセル20のバックライト面Bが上向きとなる。
In each placement area A, a corresponding
さらに、布置エリアAにセル20を配置する前に、布置エリアAの第1粘着層21の表面に第2導線22を敷設し、かつ、第2導線22が、隣り合う布置エリアAに跨って、隣り合う2つのセル20を電気的に接続するために用いられる。
Furthermore, before arranging the
本実施例において、第2導線22は、セルストリング構造の全てのセル20にも電気的に接続されている。
In this embodiment, the
本実施例において、頭部位置にある第2導線22がセル20以外の領域まで延びており、後に、セル20以外の領域まで延びる第2導線22がバスバーに電気的に接続されて、セルストリング構造内部の電流が収集される。他の実施例において、尾部位置にある第2導線はセル以外の領域まで延び、バスバーに電気的に接続されていてもよい。
In this embodiment, the
セル20以外の領域まで延びる第2導線22は、第1粘着層21によって露出されているため、第1粘着層21に対して特殊処理を実施して第2導線22を露出させる必要がなく、生産プロセスを簡素化できることが理解できる。
Since the second
図13を参照して、セル20における第1粘着層21から離れた表面には、第1導線23が敷設され、第1導線23は、隣り合う布置エリアA(図12を参照)に跨って、隣り合う2つのセル20を電気的に接続するために用いられる。
Referring to FIG. 13, a
本実施例において、第1導線23は、全てのセル20にも電気的に接続されている。
In this embodiment, the
本実施例において、尾部位置にある第1導線23がセル20以外の領域まで延びており、後に、セル20以外の領域まで延びる第1導線23がバスバーに電気的に接続されて、セルストリング構造内部の電流が収集される。他の実施例において、頭部位置にある第1導線はセル以外の領域まで延び、バスバーに電気的に接続されていてもよい。
In this embodiment, the
さらに、セル20における第1粘着層21から離れた表面には、第2粘着層24が設けられ、第1導線23は、第2粘着層24とセル20との間に位置している。
Furthermore, a second
第1粘着層21、第1導線23、第2導線22、セル20及び第2粘着層24を互いに固定するように、圧着処理を行う。圧着処理は、圧力、及び温度や紫外線照射などの特定の条件により、上記の構造を密着して、一体構造とすることができる。
The first
本実施例では、隣り合うセル20の受光面の向きが異なるため、第1導線23を折り曲げる必要がなく、1本の第1導線23は全てのセル20を接続することができ、1本の第2導線22も全てのセル20を接続することができ、さらに頭部導線と尾部導線とを設ける必要もない。また、全てのセル20が敷設された後にラミネート処理を行うので、ラミネートの回数を減らし、生産効率を向上させることができる。したがって、本実施例は、生産プロセスを簡素化し、生産コストを低減することができる。
In this embodiment, since the directions of the light-receiving surfaces of the
本発明の別の実施例は、さらに、前記実施例に提供される製造方法によって製造され得るセルストリング構造を提供し、図10~図11は、本実施例に提供されるセルストリング構造を示す図である。 Another embodiment of the present invention further provides a cell string structure that can be manufactured by the manufacturing method provided in the above embodiment, and FIGS. 10-11 show the cell string structure provided in this embodiment. It is a diagram.
図10~図11を参照して、セルストリング構造は、第1方向Xに沿って順に配列されたN個の布置エリアA(Nは1より大きい正の整数)を含む第1粘着層11と、各々が対応する布置エリアAに設けられたN個のセル10と、セル10における第1粘着層11から離れた表面に敷設され、かつ隣り合う布置エリアAに跨って隣り合う2つのセル10を電気的に接続するための第1導線13と、セル10における第1粘着層11から離れた表面に設けられた第2粘着層14と、を含み、かつ、第1導線13が第2粘着層14とセル10との間に位置し、第1粘着層11、第1導線13、セル10及び第2粘着層14が互いに固定されている。
10 to 11, the cell string structure includes a first
以下、図面を参照して具体的に説明する。 A specific description will be given below with reference to the drawings.
図10を参照して、本実施例では、セルストリング構造におけるセル10の受光面Fは、向きが同じであり、すなわち、受光面Fがいずれも上向きであり、バックライト面Bがいずれも下向きである。セルストリング構造は、さらに、頭尾両端にそれぞれ位置された第1セル101および第Nセル102を含む。なお、セル10の詳細な説明については、前述した実施例の説明をご参照ください。ここでは再び贅言しない。
Referring to FIG. 10, in this embodiment, the directions of the light receiving surfaces F of the
第1導線13は、隣り合う2つのセル10を電気的に接続するためのものである。具体的には、第1導線13は、順次接続された受光導線、接続導線およびバックライト導線を含む。受光導線は、一方のセル10の受光面Fに位置し、バックライト導線は、他方のセル10のバックライト面Bに位置し、接続導線は、隣接するセル10の間に位置する。
The
セルストリング構造は、さらに、第1粘着層11と第1セル101との間に位置し、かつ第1セル101以外の領域まで延びる頭部導線12を備える。第1セル101以外の領域まで延びる頭部導線12は、第1粘着層11によって露出されている。
The cell string structure further includes a
セルストリング構造は、さらに、第Nセル102における第1粘着層11から離れた表面に位置し、かつ第Nセル102以外の領域まで延びる尾部導線15を備え、かつ第2粘着層14が、第Nセル102における第1粘着層11から離れた表面にも位置する。第Nセル102以外の領域まで延びる尾部導線15は、第2粘着層14によって露出されている。
The cell string structure further comprises a
図10および図11を参照して、セルストリング構造は、少なくとも2本のバスバー19をさらに備え、一方のバスバー19は、頭部導線12の第1セル101以外まで延びる領域に接触して接続され、他方のバスバー19は、尾部導線15の第Nセル以外まで延びる領域に接触して接続され、バスバー19の延伸方向は第1方向Xと異なっている。
10 and 11, the cell string structure further includes at least two
第1導線13、頭部導線12及び尾部導線15についての具体的な説明は、前述した実施例をご参照ください。ここでは再び贅言しない。
For a detailed description of the
続いて図10を参照して、第1粘着層11は、セルストリング構造の全てのセル10を固定することに用いられる。第1方向Xにおいて、第1粘着層11の長さは、製造しようとするセルストリング構造の長さの値とほぼ等しくなる。第1粘着層11の長さとセル10の長さとの差が小さいと、第1粘着層11とセル10との接触面積を大きくすることができ、接着のがっちりさを向上させることができる。さらに、第1方向Xにおいて、N個のセル10の合計の長さと第1粘着層11の長さとの差の絶対値は、100mm以下である。
Subsequently, referring to FIG. 10, the first
第1粘着層11は、第1導線13及び頭部導線12をセル10の表面に固定して、上記導線が均一に配列されることを確保するためにも用いられ、これにより、上記導線がセル10に生じる電流を十分に収集することができる。
The first
第1粘着層11は、支持層112と、支持層112とセル10との間に位置する接着層111とを含む。支持層112及び接着層111についての具体的な説明は、前述した実施例をご参照ください。
The first
各第2粘着層14は、一つのセル10に対応して、第1導線13及び尾部導線15をセル10の表面に固定するために用いられる。
Each second
第1方向Xにおいて、第2粘着層14の長さとセル10の長さとの差の絶対値は、60mm以下である。第2粘着層14の長さとセル10の長さとの差が小さいと、第2粘着層14とセル10との接触面積を大きくすることができ、これにより、接着のがっちりさを向上させることができる。
In the first direction X, the absolute value of the difference between the length of the second
本実施例において、第2粘着層14は単層構造であり、2層構造に比べて、単層構造は光透過性がより優れ、セル10の光吸収率を大きくすることができる。
In this embodiment, the second
本実施例において、セル10ごとに、第2粘着層14がベタフィルム層構造である。つまり、第2粘着層14は、第1導線に対応するセル10の表面だけでなく、隣り合う第1導線13間のセル10の表面も覆っているので、被覆面積を大きくすることができ、接着のがっちりさを向上させて、第1導線13の変位を回避することができる。
In this embodiment, for each
他の実施例において、セルごとに、第1導線の本数が複数本であり、第2粘着層が互いに独立したフィルム層構造であり、かつ各フィルム層構造の位置が相応の第1導線の位置に対応する。つまり、第2粘着層は、第1導線に対応するセルの表面のみを被覆し、隣り合う第1導線間のセルの表面を被覆しない。被覆面積の減少は、セルの光吸収率を増大させることができる。 In another embodiment, each cell has a plurality of first conductor lines, the second adhesive layer is a film layer structure independent of each other, and the position of each film layer structure is corresponding to the position of the first conductor line. corresponds to That is, the second adhesive layer covers only the surfaces of the cells corresponding to the first conductors and does not cover the surfaces of the cells between the adjacent first conductors. A reduction in area coverage can increase the light absorption of the cell.
また、上記から分かるように、頭部導線12と尾部導線15は、それぞれ第1粘着層11と第2粘着層14によって露出されているため、頭部導線12および尾部導線15とバスバー19(図11参照)とを接続する前に、第1粘着層11と第2粘着層14に対して特殊処理を行う必要がなく、露出された頭部導線12および尾部導線15は、バスバー19に直接繋がっていてもよい。
Moreover, as can be seen from the above, the
その他の実施例では、図13を参照して、セルストリング構造における隣り合うセル20の受光面Fの向きが異なっており、すなわち、隣り合うセル20における、一方のセル20の受光面Fが上向きとなり、他方のセル20のバックライト面Bが下向きとなっている。そして、第1導線23は、全てのセル20の同一側に位置し、全てのセル20を電気的に接続しており、第2導線22も、全てのセル20の同じ側に位置し、全てのセル20を電気的に接続している。第2粘着層24は、全てのセル20を覆っている。
In another embodiment, referring to FIG. 13, the directions of the light-receiving surfaces F of
以上のように、本実施例では、セルストリング構造における頭部の第1粘着層11および尾部の第2粘着層14に対して特殊処理を行う必要がなく、頭部導線12および尾部導線15をセル10以外の領域に延出させるだけで、頭部導線12および尾部導線15を露出させることができる。また、本実施例では、第1導線13とセル10との電気的接続を溶接により実現する必要がないので、溶接高温や溶接応力によるセル10への悪影響を回避することができる。
As described above, in this embodiment, there is no need to perform special treatment on the first
本発明の別の実施例は、一種の光起電力モジュールの製造方法を提供する。図14は、本発明の実施例に係る製造方法に対応する構成を示す図である。以下、図面を参照して具体的に説明する。 Another embodiment of the present invention provides a method of manufacturing a photovoltaic module. FIG. 14 is a diagram showing the configuration corresponding to the manufacturing method according to the embodiment of the present invention. A specific description will be given below with reference to the drawings.
図14を参照して、セルストリング構造1が提供され、セルストリング構造1は、前記実施例により提供されるセルストリング構造1である。セルストリング構造1は、セル10、頭部導線12、第1導線13、尾部導線15、第1粘着層11、および第2粘着層14を備えており、そのうち、第1粘着層11は、接着層111と支持層112とを含む2層構造であり、第2粘着層14は単層構造である。
Referring to FIG. 14, a
続いて図14を参照して、第1基板171、第1封止層161、セルストリング構造1、第2封止層162、および第2基板172を順に積層して設け、積層構造を形成する。
Subsequently, referring to FIG. 14, a
セルストリング構造1は、1つまたは複数個であってもよく、セルストリング構造1が複数個である場合、バスバーを用いて複数個のセルストリング構造1を電気的および物理的に接続する。具体的には、溶接またはホットプレスによってバスバーとセルストリング構造1とを接続することができる。複数個のセルストリング構造1は、平行に配列されてもよい。
There may be one or more
バスバーは、低抵抗率材質からなり、Ag、Cu、Ti、Sn、Ni、Al、Auの一種又は複数種であってもよく、その断面は円形、正方形、三角形、台形、長方形のいずれかであってもよく、その表面に厚さ5~100μmの合金材を一層コーティングしてもよく、合金材料はSn、Pb、Bi、In、Zn、Cu、Sb、Agの一種又は複数種であってもよい。 The busbar is made of a low-resistivity material and may be one or more of Ag, Cu, Ti, Sn, Ni, Al, and Au, and has a circular, square, triangular, trapezoidal, or rectangular cross section. The surface may be coated with a single layer of alloy material having a thickness of 5 to 100 μm, and the alloy material is one or more of Sn, Pb, Bi, In, Zn, Cu, Sb, and Ag. good too.
第1基板171は、高い光透過率または高い反射率を有するフレキシブルまたはリジッドな材質であり、片面または両面にフッ素含有バックシート、強化ガラスおよびエチレン-テトラフルオロエチレン共重合体などの材質であってもよい。
The
第2基板172は、高い光透過率を有するフレキシブルまたはリジッドな材質であり、ポリエチレンテレフタレート、強化ガラス又はエチレン-テトラフルオロエチレン共重合体などの材質であってもよい。
The
第1封止層161の材料は、ポリエチレン-ポリ酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン又はポリビニルブチラール等の材料の1種又は複数種である。
The material of the
第2封止層162の材料は、ポリエチレン-ポリ酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン又はポリビニルブチラール等の材料の1種又は複数種である。 The material of the second sealing layer 162 is one or more of materials such as polyethylene-polyvinyl acetate copolymer, polyolefin or polyvinyl butyral.
積層構造に対してラミネート処理を行い、かつ、ラミネート処理において第1導線13とセル10との間が電気的に接続されている。頭部導線12および尾部導線15も、ラミネート処理においてセル10と電気的に接続されている。高温溶接によるインターコネクションプロセスをキャンセルするので、溶接応力を低減し、さらにプロセスリスクを低減することができる。
A lamination process is performed on the laminated structure, and the
以下、ラミネート処理について具体的に説明する。 The lamination process will be specifically described below.
ラミネート処理に用いるプロセス温度は、第1導線13の融点温度以上であり、このように、ラミネート処理において第1導線13が溶融することにより、第1導線13とセル10との間が電気的に接続される。さらに、本実施例では、第1導線13は、はんだコアと、はんだコアを取り囲む合金層とを含み、ラミネート処理に用いるプロセス温度は、合金層の融点温度以上である。プロセス温度が合金層の融点温度よりも高い場合には、合金層が溶融し、かつ、圧力の作用により、溶融した合金層とセル10とが電気的に接続される。
The process temperature used for the lamination process is equal to or higher than the melting point temperature of the
合金層は低融点金属であり、その融点温度は100℃~160℃であり、例えば120℃、130℃または150℃である。合金層の材料は、Sn、Pb、Bi、In、Zn、Cu、Sb、Agの一種または数種であってもよい。 The alloy layer is a low melting point metal and has a melting point temperature of 100°C to 160°C, for example 120°C, 130°C or 150°C. The material of the alloy layer may be one or more of Sn, Pb, Bi, In, Zn, Cu, Sb and Ag.
ラミネート処理におけるプロセス温度と融点温度との差は、30℃以下である。本実施例において、融点温度とは、合金層の融点温度である。プロセス温度が上記の範囲にあると、合金層を十分に溶解することができ、合金層とセル10とを電気的に接続する効果を高めることができる。また、過高温度においてセルストリング構造1が割れる虞を低減することもできる。
The difference between the process temperature and the melting point temperature in the lamination process is 30°C or less. In this embodiment, the melting point temperature is the melting point temperature of the alloy layer. When the process temperature is within the above range, the alloy layer can be sufficiently melted, and the effect of electrically connecting the alloy layer and the
はんだコアの材料は、低抵抗金属であり、例えばAg、Cu、Ti、Sn、Ni、Al、Auとすることができる。なお、他の実施例において、第1導線は、はんだコア1層の構造のみを有してもよく、融点温度とは、はんだコアの融点温度であり、すなわち、ラミネート処理におけるプロセス温度が、はんだコアの融点温度以上である。 The material of the solder core is a low resistance metal and can be Ag, Cu, Ti, Sn, Ni, Al, Au, for example. It should be noted that in another embodiment, the first conductor may only have a structure of one layer of solder core, and the melting point temperature is the melting point temperature of the solder core, that is, the process temperature in the lamination process is above the melting temperature of the core.
ラミネート処理に用いるプロセス圧力は、-50kPa~200kPaである。プロセス圧が上記の範囲内にあると、第1導線13とセル10との接続強度を大きくすることができるとともに、過大な圧力がセルストリング構造1に損傷を与えることも回避できる。好ましくは、プロセス圧力は、-20kPa~150kPaである。
The process pressure used for lamination is -50 kPa to 200 kPa. When the process pressure is within the above range, it is possible to increase the connection strength between the
以上により、本実施例では、ラミネート処理を採用して第1導線13とセル10との電気的接続を実現し、溶接高温や溶接応力によるセルストリング構造1への悪影響を回避することができる。
As described above, in the present embodiment, the lamination process is employed to achieve electrical connection between the
また、本発明の別の実施例は、一種の光起電力モジュールを提供し、本実施例に提供される光起電力モジュールは、前の実施例に提供される光起電力モジュールの製造方法を用いて製造することができる。図14は、本実施例に係る光起電力モジュールの構成を示す図である。 In addition, another embodiment of the present invention provides a photovoltaic module, the photovoltaic module provided in this embodiment comprises the method for manufacturing the photovoltaic module provided in the previous embodiment. can be manufactured using FIG. 14 is a diagram showing the configuration of a photovoltaic module according to this example.
図14を参照して、光起電力モジュールは、順に積層して設けられた第1基板171、第1封止層161、前述した実施例に係るセルストリング構造1、第2封止層162、および第2基板172を備える。
Referring to FIG. 14, the photovoltaic module includes a
光起電力モジュールに関する具体的な説明は、前の実施例をご参照ください。ここでは再び贅言しない。 For a specific description of the photovoltaic module, please refer to the previous example. I won't exaggerate here again.
当業者であれば、前記各実施形態は、本発明を実現する具体的な実施例であり、実用上では、本発明の精神と範囲を逸脱することなく、形態及び細部において様々な変更を実施できることが理解できる。いずれの当業者は、本発明の精神と範囲を逸脱しない限り、それぞれ変更及び修正を加えることが可能であるため、本発明の保護範囲は請求の範囲に限定された範囲を基準にすべきである。 Those skilled in the art will appreciate that the foregoing embodiments are specific examples for implementing the present invention, and in practice various changes can be made in form and detail without departing from the spirit and scope of the present invention. I understand what you can do. Since any person skilled in the art can make changes and modifications without departing from the spirit and scope of the present invention, the scope of protection of the present invention should be based on the scope defined in the claims. be.
Claims (19)
各々が対応する前記セルを固定するために用いられかつ前記第1方向に沿って順に配列されたN個(Nは1より大きい正の整数)の布置エリアを有する第1粘着層を提供することと、
前記布置エリアごとに、対応する前記セルが配置されることと、
前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面には、隣り合う前記布置エリアに跨って、隣り合う2つの前記セルを電気的に接続するための第1導線が敷設されることと、
前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面に第2粘着層が設けられ、かつ前記第1導線が前記第2粘着層と前記セルとの間に位置されることと、
前記第1粘着層、前記第1導線、前記セルおよび前記第2粘着層を互いに固定するように、圧着処理を行うことと、
を含むことを特徴とするセルストリング構造の製造方法。 In a method for manufacturing a cell string structure including N cells arranged in order along a first direction and connected in series with each other,
providing a first adhesive layer having N (N is a positive integer greater than 1) placement areas arranged in order along the first direction, each used for fixing the corresponding said cell; When,
arranging the corresponding cells for each of the placement areas;
a first conductive wire for electrically connecting two adjacent cells is laid across the adjacent placement areas on a surface of the cell remote from the first adhesive layer;
A second adhesive layer is provided on a surface of the cell remote from the first adhesive layer, and the first conductive wire is positioned between the second adhesive layer and the cell;
performing a crimping process so as to fix the first adhesive layer, the first conductive wire, the cell and the second adhesive layer to each other;
A method of manufacturing a cell string structure, comprising:
あるいは、前記第1粘着層がUV硬化型接着剤を含み、前記第2粘着層がUV硬化型接着剤を含み、前記圧着処理が紫外線照射処理を含んでいる、
ことを特徴とする請求項1に記載のセルストリング構造の製造方法。 The first adhesive layer contains hot melt, the second adhesive layer contains hot melt, and the pressure bonding process includes heat treatment,
Alternatively, the first adhesive layer contains a UV curable adhesive, the second adhesive layer contains a UV curable adhesive, and the compression treatment includes ultraviolet irradiation treatment.
2. The method of manufacturing a cell string structure according to claim 1, wherein:
前記第1導線を敷設するステップは、
前記受光導線を前記セルの受光面に敷設し、前記受光面が前記第1粘着層から離れるようになされることと、
隣り合う前記布置エリアの前記第1粘着層の表面に前記バックライト導線が位置するように、前記接続導線を折り曲げることと、を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のセルストリング構造の製造方法。 each of the cells has the same orientation of the light-receiving surface, and the first conducting wire includes a light-receiving conducting wire, a connecting conducting wire and a backlight conducting wire, which are connected in order;
The step of laying the first conductor comprises:
Laying the light-receiving lead wire on the light-receiving surface of the cell so that the light-receiving surface is separated from the first adhesive layer;
bending the connecting wires so that the backlight wires are positioned on the surfaces of the first adhesive layers of the adjacent placement areas;
2. The method of manufacturing a cell string structure according to claim 1, wherein:
前記サブグリッド線の表面に前記第2粘着層を設けることをさらに含む、
ことを特徴とする請求項3に記載のセルストリング構造の製造方法。 The light-receiving conductors are dense grid lines, the light-receiving surface further has a plurality of sub-grid lines arranged at intervals, and the sub-grid lines intersect and contact the dense grid lines. and
further comprising providing the second adhesive layer on the surface of the sub-grid lines;
4. The method of manufacturing a cell string structure according to claim 3, wherein:
ことを特徴とする請求項3に記載のセルストリング構造の製造方法。 8 to 32 light-receiving conductors are laid at intervals on the light-receiving surface for each of the cells,
4. The method of manufacturing a cell string structure according to claim 3, wherein:
前記布置エリアに前記セルを配置する前に、前記布置エリアの前記第1粘着層の表面に、隣り合う前記布置エリアに跨って隣り合う2つの前記セルを電気的に接続するための第2導線が敷設されることを、さらに含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のセルストリング構造の製造方法。 The light-receiving surfaces of the adjacent cells are oriented in opposite directions,
Before arranging the cells in the placement area, a second conductive wire for electrically connecting two adjacent cells across the adjacent placement areas is provided on the surface of the first adhesive layer in the placement area. further comprising:
2. The method of manufacturing a cell string structure according to claim 1, wherein:
前記セルストリング構造の製造方法は、さらに、
前記第1セルを配置する前に、前記第1粘着層に、前記第1粘着層と前記第1セルとの間に位置しかつ前記第1セル以外の領域まで延びる頭部導線が敷設されることと、
前記第Nセルを配置した後、前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面に、前記第Nセル以外の領域まで延びる尾部導線が敷設され、かつ、前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面に、前記第2粘着層が設置されることと、
少なくとも2本のバスバーを形成し、一方の前記バスバーが、前記頭部導線の前記第1セル以外まで延びる領域に接触して接続され、他方の前記バスバーが、前記尾部導線の前記第Nセル以外まで延びる領域に接触して接続され、かつ、前記バスバーの延伸方向が前記第1方向と異なるように設置されることと、を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のセルストリング構造の製造方法。 The cell string structure includes a first cell and an Nth cell located at both ends of the head and tail,
The method for manufacturing the cell string structure further comprises:
Prior to arranging the first cell, a head conductor located between the first adhesive layer and the first cell and extending to a region other than the first cell is laid on the first adhesive layer. and
After arranging the N-th cell, a tail conductor extending to a region other than the N-th cell is laid on a surface of the N-th cell remote from the first adhesive layer, and the first adhesive layer of the N-th cell placing the second adhesive layer on a surface away from the adhesive layer;
At least two busbars are formed, one said busbar contacting and connecting to a region of said head conductor extending other than said first cell, and the other said busbar connecting said tail conductor other than said Nth cell. and being connected in contact with a region extending to the bus bar, and being installed such that the extending direction of the bus bar is different from the first direction,
2. The method of manufacturing a cell string structure according to claim 1, wherein:
第1基板、第1封止層、前記セルストリング構造、第2封止層、および第2基板を順に積層して設け、積層構造を形成することと、
前記積層構造をラミネート処理し、かつ、前記ラミネート処理において前記第1導線と前記セルとが電気的に接続されていることと、
を含むことを特徴とする光起電力モジュールの製造方法。 Providing a cell string structure manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 7;
Laminating a first substrate, a first sealing layer, the cell string structure, a second sealing layer, and a second substrate in order to form a stacked structure;
laminating the laminated structure, and electrically connecting the first conducting wire and the cell in the laminating process;
A method of manufacturing a photovoltaic module, comprising:
ことを特徴とする請求項8に記載の光起電力モジュールの製造方法。 The process temperature used for the lamination process is equal to or higher than the melting point temperature of the first conductor,
The method for manufacturing a photovoltaic module according to claim 8, characterized in that:
ことを特徴とする請求項9に記載の光起電力モジュールの製造方法。 The first conductor wire has a solder core and an alloy layer surrounding the solder core, and the process temperature used for the lamination process is higher than the melting point temperature of the alloy layer.
The method for manufacturing a photovoltaic module according to claim 9, characterized in that:
ことを特徴とする請求項9または10に記載の光起電力モジュールの製造方法。 The difference between the process temperature and the melting point temperature in the lamination process is 30° C. or less.
The method of manufacturing a photovoltaic module according to claim 9 or 10, characterized in that:
ことを特徴とする請求項9または10に記載の光起電力モジュールの製造方法。 The process pressure used for the lamination process is -50 kPa to 200 kPa.
The method of manufacturing a photovoltaic module according to claim 9 or 10, characterized in that:
ことを特徴とする請求項9または10に記載の光起電力モジュールの製造方法。 The melting point temperature is 100° C. to 160° C.
The method of manufacturing a photovoltaic module according to claim 9 or 10, characterized in that:
各セルが対応する前記布置エリアに設けられたN個のセルと、
前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面に敷設され、かつ隣り合う前記布置エリアに跨って隣り合う2つの前記セルを電気的に接続するための第1導線と、
前記セルにおける前記第1粘着層から離れた表面に設けられる第2粘着層であって、前記第1導線が前記第2粘着層と前記セルとの間に位置され、前記第1粘着層、前記第1導線、前記セル及び前記第2粘着層が互いに固定されるようになされる第2粘着層と、を備える、
ことを特徴とするセルストリング構造。 a first adhesive layer including N (N is a positive integer greater than 1) placement areas arranged in order along a first direction;
N cells provided in the placement area to which each cell corresponds;
a first conductor laid on a surface of the cell remote from the first adhesive layer and for electrically connecting two adjacent cells across the adjacent placement areas;
A second adhesive layer provided on a surface of the cell remote from the first adhesive layer, wherein the first conductive wire is positioned between the second adhesive layer and the cell, the first adhesive layer, the a second adhesive layer adapted to secure the first conductor, the cell and the second adhesive layer to each other;
A cell string structure characterized by:
前記セルストリング構造は、さらに、
前記第1粘着層と前記第1セルとの間に位置しかつ前記第1セル以外の領域まで延びる頭部導線と、
前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面に位置しかつ前記第Nセル以外の領域まで延びる尾部導線と、かつ、前記第2粘着層が前記第Nセルにおける前記第1粘着層から離れた表面にも設置され、
少なくとも2本のバスバーであって、一方の前記バスバーが、前記頭部導線の前記第1セル以外まで延びる領域に接触して接続され、他方の前記バスバーが、前記尾部導線の前記第Nセル以外まで延びる領域に接触して接続され、かつ、前記バスバーの延伸方向が前記第1方向と異なるように設置される少なくとも2本のバスバーと、を備える、
ことを特徴とする請求項14に記載のセルストリング構造。 The cell string structure comprises a first cell and an Nth cell located at both ends of the head and tail,
The cell string structure further comprises:
a head conductor positioned between the first adhesive layer and the first cell and extending to a region other than the first cell;
a tail conductor located on a surface remote from the first adhesive layer in the Nth cell and extending to a region other than the Nth cell, and wherein the second adhesive layer extends from the first adhesive layer in the Nth cell It is also installed on a distant surface,
At least two bus bars, one said bus bar being in contact with and connected to a region of said head conductor extending other than said first cell, and the other said bus bar connecting said tail conductor other than said Nth cell. and at least two bus bars connected in contact with a region extending to the first direction, and installed such that the extending direction of the bus bars is different from the first direction.
15. The cell string structure of claim 14, wherein:
ことを特徴とする請求項14に記載のセルストリング構造。 In the first direction, the absolute value of the difference between the total length of the N cells and the length of the first adhesive layer is 100 mm or less.
15. The cell string structure of claim 14, wherein:
ことを特徴とする請求項14に記載のセルストリング構造。 In the first direction, the absolute value of the difference between the length of the second adhesive layer and the length of the cell is 60 mm or less.
15. The cell string structure of claim 14, wherein:
前記第2粘着層は、単層構造である、
ことを特徴とする請求項14に記載のセルストリング構造。 The first adhesive layer includes a support layer and an adhesive layer positioned between the support layer and the cells,
The second adhesive layer has a single layer structure,
15. The cell string structure of claim 14, wherein:
It comprises a first substrate, a first sealing layer, the cell string structure according to any one of claims 14 to 18, a second sealing layer, and a second substrate, which are laminated in order. and photovoltaic modules.
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