JP2022126439A - Autoanalyzer - Google Patents

Abstract

To suppress inter-specimen carryover and secure accuracy at minute dispensation time by high cleaning power.SOLUTION: An autoanalyzer comprises a probe, drive means, a cleaning unit, a fine-bubble water supply unit, an ultrasonic wave generation unit, and control means. The probe dispenses a reagent or a sample. The drive means drives the probe. The fine-bubble water supply unit supplies fine-bubble water to the cleaning unit. The ultrasonic wave generation unit irradiates the probe with an ultrasonic wave. The control means controls the drive means so that the probe is brought into contact with the fine-bubble water supplied to the cleaning unit, and controls the ultrasonic wave generation unit so that the probe being in contact with fine-bubble water is irradiated with an ultrasonic wave.SELECTED DRAWING: Figure 14

Description

本明細書及び図面に開示の実施形態は、自動分析装置に関する。 The embodiments disclosed in the specification and drawings relate to automated analyzers.

臨床検査用の自動分析装置では、血液および尿などの生体試料（以下、試料と称する）と試薬とを一定量混合して反応させ、この混合液に光を当てて得られる透過光または散乱光の光量を測定することで、測定対象物質の濃度、活性値、および変化に掛かる時間などを求めている。 In automatic analyzers for clinical tests, a certain amount of biological samples such as blood and urine (hereinafter referred to as samples) and reagents are mixed and reacted. By measuring the amount of light, the concentration, activity value, and change time of the substance to be measured can be obtained.

従来、自動分析装置で用いられるプローブの洗浄は、基本的に流体（流水）による洗浄や、洗剤による洗浄（その他化学的洗浄を含む）が主である。しかし、流水や洗剤だけで洗浄するには限界がある。これに対して、超音波を照射することによって洗浄水中にキャビテーションを発生させ、プローブに付着した汚れを粉砕する技術が知られている。 Conventionally, cleaning of probes used in automatic analyzers has basically been mainly cleaning with fluid (running water) or cleaning with detergent (including other chemical cleaning). However, there is a limit to washing only with running water or detergent. On the other hand, a technique is known in which cavitation is generated in cleaning water by irradiating ultrasonic waves to pulverize dirt adhering to the probe.

特開平４－９６７０号公報JP-A-4-9670

本明細書及び図面に開示の実施形態が解決しようとする課題の一つは、高い洗浄力により検体間キャリーオーバーの抑制や微量分注時の精度を確保することである。ただし、本明細書及び図面に開示の実施形態により解決しようとする課題は上記課題に限られない。後述する実施形態に示す各構成による各効果に対応する課題を他の課題として位置づけることもできる。 One of the problems to be solved by the embodiments disclosed in the present specification and drawings is to suppress carryover between specimens and to ensure accuracy during microdispensing with high detergency. However, the problems to be solved by the embodiments disclosed in this specification and drawings are not limited to the above problems. A problem corresponding to each effect of each configuration shown in the embodiments described later can be positioned as another problem.

実施形態に係る自動分析装置は、プローブと、駆動手段と、洗浄部と、ファインバブル水供給部と、超音波発生部と、制御手段とを備える。プローブは、試薬またはサンプルを分注する。駆動手段は、プローブを移動する。ファインバブル水供給部は、洗浄部にファインバブル水を供給する。超音波発生部は、プローブに超音波を照射する。制御手段は、洗浄部に供給されたファインバブル水にプローブを接触させるように駆動手段を制御し、ファインバブル水に接触しているプローブに超音波を照射するように超音波発生部を制御する。 An automatic analyzer according to an embodiment includes a probe, a driving means, a washing section, a fine bubble water supply section, an ultrasonic wave generating section, and a control means. The probe dispenses reagents or samples. A drive means moves the probe. The fine bubble water supply section supplies fine bubble water to the cleaning section. The ultrasonic generator irradiates the probe with ultrasonic waves. The control means controls the driving means to bring the probe into contact with the fine bubble water supplied to the cleaning part, and controls the ultrasonic wave generating part to irradiate the probe in contact with the fine bubble water with ultrasonic waves. .

図１は、第１の実施形態に係る自動分析装置の機能構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing the functional configuration of the automatic analyzer according to the first embodiment. 図２は、図１の分析機構の構成を例示する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating the configuration of the analysis mechanism of FIG. 1; 図３は、図２のプローブ洗浄ユニットの機能構成を示すブロック図である。3 is a block diagram showing the functional configuration of the probe cleaning unit of FIG. 2. FIG. 図４は、図３の第１の洗浄部の構成を例示する断面図である。4 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the first cleaning unit of FIG. 3. FIG. 図５は、図３の第２の洗浄部および超音波発生部の構成を例示する断面図である。5 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the second cleaning section and the ultrasonic wave generating section in FIG. 3. FIG. 図６は、第１の実施形態におけるサンプル分注プローブの動作の一例を表すフローチャートである。FIG. 6 is a flow chart showing an example of the operation of the sample pipetting probe in the first embodiment. 図７は、第１の実施形態における洗浄動作を説明するための模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram for explaining the cleaning operation in the first embodiment. 図８は、図６のフローチャートの第１の洗浄処理を説明するためのタイムチャートである。FIG. 8 is a time chart for explaining the first cleaning process in the flowchart of FIG. 図９は、図８のタイムチャートの時刻ｔ０から時刻ｔ１までにおける第１の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram for explaining the operation of the first cleaning section from time t0 to time t1 in the time chart of FIG. 図１０は、図８のタイムチャートの時刻ｔ２から時刻ｔ３までにおける第１の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the operation of the first cleaning section from time t2 to time t3 in the time chart of FIG. 図１１は、図６のフローチャートの第２の洗浄処理を説明するためのタイムチャートである。FIG. 11 is a time chart for explaining the second cleaning process in the flowchart of FIG. 図１２は、図１１のタイムチャートの時刻ｔ１０から時刻ｔ１１の直前までにおける第２の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 12 is a schematic diagram for explaining the operation of the second cleaning unit from time t10 to just before time t11 in the time chart of FIG. 図１３は、図１１のタイムチャートの時刻ｔ１１から時刻ｔ１２の直前までにおける第２の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 13 is a schematic diagram for explaining the operation of the second cleaning section from time t11 to just before time t12 in the time chart of FIG. 図１４は、図１１のタイムチャートの時刻ｔ１２から時刻ｔ１３の直前までにおける第２の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 14 is a schematic diagram for explaining the operation of the second cleaning unit from time t12 to just before time t13 in the time chart of FIG. 図１５は、図１１のタイムチャートの時刻ｔ１３から時刻ｔ１４の直前までにおける第２の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 15 is a schematic diagram for explaining the operation of the second cleaning section from time t13 to just before time t14 in the time chart of FIG. 図１６は、図１１のタイムチャートの時刻ｔ１４から時刻ｔ１５の直前までにおける第２の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 16 is a schematic diagram for explaining the operation of the second cleaning unit from time t14 to just before time t15 in the time chart of FIG. 図１７は、図１１のタイムチャートの時刻ｔ１５から時刻ｔ１５以降における第２の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 17 is a schematic diagram for explaining the operation of the second cleaning section from time t15 to after time t15 in the time chart of FIG. 図１８は、第２の実施形態に係る自動分析装置のプローブ洗浄ユニットの機能構成を示すブロック図である。FIG. 18 is a block diagram showing the functional configuration of the probe cleaning unit of the automatic analyzer according to the second embodiment; 図１９は、図１８の第２の洗浄部およびイオン発生部の構成を例示する断面図である。19 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the second cleaning section and the ion generating section of FIG. 18. FIG. 図２０は、第２の実施形態における第２の洗浄処理を説明するためのタイムチャートである。FIG. 20 is a time chart for explaining the second cleaning process in the second embodiment. 図２１は、図２０のタイムチャートの時刻ｔ１０における第２の洗浄部に関する動作を説明するための模式図である。FIG. 21 is a schematic diagram for explaining the operation of the second cleaning section at time t10 in the time chart of FIG.

以下、図面を参照しながら、自動分析装置の実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the automatic analyzer will be described in detail with reference to the drawings.

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る自動分析装置１の機能構成を示すブロック図である。図１に示される自動分析装置１は、分析機構２と、解析回路３と、駆動機構４（駆動手段）と、入力インタフェース５と、出力インタフェース６と、通信インタフェース７と、記憶回路８と、制御回路９（制御部とも称する）とを備える。 (First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing the functional configuration of an automatic analyzer 1 according to the first embodiment. The automatic analyzer 1 shown in FIG. 1 includes an analysis mechanism 2, an analysis circuit 3, a driving mechanism 4 (driving means), an input interface 5, an output interface 6, a communication interface 7, a storage circuit 8, and a control circuit 9 (also referred to as a control unit).

分析機構２は、血液または尿などの試料（サンプル）と、各検査項目で用いられる試薬溶液とを混合する。また、分析機構２は、検査項目によっては、所定の倍率で希釈した標準液と、この検査項目で用いられる試薬溶液とを混合する。分析機構２は、サンプルまたは標準液と、試薬溶液との混合液の光学的な物性値を測定する。この測定により、例えば、透過光強度または吸光度、および散乱光強度などで表される標準データおよび被検データが生成される。 The analysis mechanism 2 mixes a sample such as blood or urine with a reagent solution used for each test item. Further, depending on the test item, the analysis mechanism 2 mixes the standard solution diluted by a predetermined ratio with the reagent solution used for this test item. The analysis mechanism 2 measures optical physical property values of a mixture of a sample or standard solution and a reagent solution. This measurement produces standard and test data expressed, for example, as transmitted light intensity or absorbance, and scattered light intensity.

解析回路３は、分析機構２により生成される標準データおよび被検データを解析することで、検量データおよび分析データを生成するプロセッサである。解析回路３は、例えば、記憶回路８から解析プログラムを読み出し、読み出した解析プログラムに従って標準データおよび被検データを解析する。尚、解析回路３は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えてもよい。 The analysis circuit 3 is a processor that analyzes standard data and test data generated by the analysis mechanism 2 to generate calibration data and analysis data. The analysis circuit 3, for example, reads an analysis program from the storage circuit 8, and analyzes the standard data and the test data according to the read analysis program. Note that the analysis circuit 3 may include a storage area for storing at least part of the data stored in the storage circuit 8 .

駆動機構４は、制御回路９の制御に従い、分析機構２を駆動させる。駆動機構４は、例えば、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベアおよびリードスクリューなどにより実現される。 The drive mechanism 4 drives the analysis mechanism 2 under the control of the control circuit 9 . The drive mechanism 4 is implemented by gears, stepping motors, belt conveyors, lead screws, and the like, for example.

入力インタフェース５は、例えば、操作者が測定を指示したサンプルまたは病院内ネットワークＮＷを介して測定を依頼されたサンプルに係る各検査項目の分析パラメータなどの設定を受け付ける。入力インタフェース５は、例えば、マウス、キーボード、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド、およびタッチパネルなどにより実現される。入力インタフェース５は、制御回路９に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路９へ出力する。 The input interface 5 receives, for example, settings such as analysis parameters for each inspection item related to a sample for which the operator has instructed measurement or a sample for which measurement has been requested via the hospital network NW. The input interface 5 is implemented by, for example, a mouse, a keyboard, a touch pad for inputting instructions by touching an operation surface, a touch panel, or the like. The input interface 5 is connected to the control circuit 9 , converts an operation instruction input by an operator into an electric signal, and outputs the electric signal to the control circuit 9 .

なお、入力インタフェース５は、本明細書において、マウスおよびキーボードなどの物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、入力インタフェース５には、自動分析装置１とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路９へ出力する電気信号の処理回路が含まれてもよい。 It should be noted that the input interface 5 in this specification is not limited to having physical operation parts such as a mouse and a keyboard. For example, the input interface 5 receives an electrical signal corresponding to an operation instruction input from an external input device provided separately from the automatic analyzer 1, and outputs this electrical signal to the control circuit 9. processing circuitry may be included.

出力インタフェース６は、制御回路９に接続され、制御回路９から供給される信号を出力する。出力インタフェース６は、例えば、表示回路、印刷回路および音声デバイスなどにより実現される。 The output interface 6 is connected to the control circuit 9 and outputs signals supplied from the control circuit 9 . The output interface 6 is realized by, for example, a display circuit, a printed circuit and an audio device.

表示回路には、例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイおよびプラズマディスプレイなどが含まれる。また、表示回路には、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路が含まれてもよい。印刷回路は、例えば、プリンタなどを含む。また、印刷回路には、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路が含まれてもよい。音声デバイスは、例えば、スピーカなどを含む。また、音声デバイスには、音声信号を外部へ出力する出力回路が含まれてもよい。尚、出力インタフェース６は、入力インタフェース５と共にタッチパネル、或いはタッチスクリーンとして実現されてもよい。 Display circuits include, for example, CRT displays, liquid crystal displays, organic EL displays, LED displays and plasma displays. Further, the display circuit may include a processing circuit that converts data representing an object to be displayed into a video signal and outputs the video signal to the outside. Printed circuits include, for example, printers and the like. The printed circuit may also include an output circuit that outputs data representing a print target to the outside. Audio devices include, for example, speakers and the like. Also, the audio device may include an output circuit that outputs an audio signal to the outside. Note that the output interface 6 may be implemented as a touch panel or a touch screen together with the input interface 5 .

通信インタフェース７は、例えば、病院内ネットワークＮＷと接続する。通信インタフェース７は、病院内ネットワークＮＷを介してＨＩＳ（Ｈｏｓｐｉｔａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ）とデータ通信を行う。尚、通信インタフェース７は、病院内ネットワークＮＷと接続する検査部門システム（Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ：ＬＩＳ）を介してＨＩＳとデータ通信を行ってもよい。 The communication interface 7 connects with, for example, an intra-hospital network NW. The communication interface 7 performs data communication with a HIS (Hospital Information System) via an intra-hospital network NW. Incidentally, the communication interface 7 may perform data communication with the HIS via a laboratory information system (LIS) connected to the intra-hospital network NW.

記憶回路８は、プロセッサにより読み取り可能な記憶媒体などを含む。これらの記憶媒体は、例えば、磁気的記憶媒体、光学的記憶媒体または半導体メモリなどである。尚、記憶回路８は、必ずしも単一の記憶媒体（記憶装置）により実現される必要は無い。例えば、記憶回路８は、複数の記憶装置により実現されてもよい。 The storage circuit 8 includes a processor-readable storage medium and the like. These storage media are, for example, magnetic storage media, optical storage media or semiconductor memories. Note that the storage circuit 8 does not necessarily have to be realized by a single storage medium (storage device). For example, the memory circuit 8 may be realized by a plurality of memory devices.

記憶回路８は、解析回路３で実行される解析プログラム、および制御回路９に備わる機能を実現するための制御プログラムを記憶している。記憶回路８は、解析回路３により生成される検量データを検査項目毎に記憶する。記憶回路８は、解析回路３により生成される分析データをサンプル毎に記憶する。記憶回路８は、操作者から入力された検査オーダ、または通信インタフェース７が病院内ネットワークＮＷを介して受信した検査オーダを記憶する。 The storage circuit 8 stores an analysis program to be executed by the analysis circuit 3 and a control program for realizing the functions of the control circuit 9 . The storage circuit 8 stores the calibration data generated by the analysis circuit 3 for each inspection item. The storage circuit 8 stores the analysis data generated by the analysis circuit 3 for each sample. The storage circuit 8 stores an examination order input by the operator or an examination order received by the communication interface 7 via the intra-hospital network NW.

制御回路９は、自動分析装置１の中枢として機能するプロセッサである。制御回路９は、記憶回路８に記憶されているプログラムを実行することで、実行したプログラムに対応する機能を実現する。尚、制御回路９は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えてもよい。 The control circuit 9 is a processor that functions as the core of the automatic analyzer 1 . The control circuit 9 executes a program stored in the storage circuit 8 to implement a function corresponding to the executed program. Note that the control circuit 9 may include a storage area for storing at least part of the data stored in the storage circuit 8 .

制御回路９は、例えば、制御プログラムを実行することで、システム制御機能９１を有する。尚、本実施形態では、単一のプロセッサによってシステム制御機能９１が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて制御回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することによりシステム制御機能９１を実現しても構わない。 The control circuit 9 has a system control function 91 by executing a control program, for example. In this embodiment, the case where the system control function 91 is implemented by a single processor will be described, but the present invention is not limited to this. For example, a plurality of independent processors may be combined to form a control circuit, and the system control function 91 may be realized by each processor executing an operation program.

システム制御機能９１は、入力インタフェース５から入力される入力情報に基づき、自動分析装置１における各部を統括して制御する機能である。例えば、システム制御機能９１において制御回路９は、検査項目に応じた測定を実施するように駆動機構４を駆動し、分析機構２で生成される標準データおよび被検データを解析するように解析回路３を制御する。 The system control function 91 is a function that controls all the parts in the automatic analyzer 1 based on input information input from the input interface 5 . For example, in the system control function 91, the control circuit 9 drives the driving mechanism 4 so as to perform measurement according to the inspection item, and the analysis circuit 9 so as to analyze the standard data and test data generated by the analysis mechanism 2. 3.

図２は、図１に示される分析機構２の構成の一例を示す模式図である。図２に示される分析機構２は、反応ディスク２０１、恒温部２０２、サンプルディスク２０３、第１試薬庫２０４、および第２試薬庫２０５を備える。また、分析機構２は、サンプル分注アーム２０６、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注アーム２０８、第１試薬分注プローブ２０９、第２試薬分注アーム２１０、第２試薬分注プローブ２１１、電極ユニット２１２、測光ユニット２１３、洗浄ユニット２１４、攪拌ユニット２１５、およびプローブ洗浄ユニット２１６を備える。 FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the analysis mechanism 2 shown in FIG. The analysis mechanism 2 shown in FIG. 2 includes a reaction disk 201 , a constant temperature section 202 , a sample disk 203 , a first reagent storage 204 and a second reagent storage 205 . The analysis mechanism 2 also includes a sample pipetting arm 206 , a sample pipetting probe 207 , a first reagent pipetting arm 208 , a first reagent pipetting probe 209 , a second reagent pipetting arm 210 , a second reagent pipetting probe 211 . , an electrode unit 212 , a photometry unit 213 , a cleaning unit 214 , a stirring unit 215 and a probe cleaning unit 216 .

まず、反応ディスク２０１、恒温部２０２、サンプルディスク２０３、第１試薬庫２０４、第２試薬庫２０５について説明する。 First, the reaction disk 201, constant temperature unit 202, sample disk 203, first reagent storage 204, and second reagent storage 205 will be described.

反応ディスク２０１は、複数の反応容器２０１１を、環状に配列させて保持する。反応ディスク２０１は、複数の反応容器２０１１を所定の経路に沿って搬送する。具体的には、反応ディスク２０１は、駆動機構４により、既定の時間間隔（以下、１周期、或いは１サイクルと称する）、例えば４．５秒または９秒ごとに回動と停止とが交互に繰り返される。反応容器２０１１は、例えば、ガラス、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ：ＰＰ）またはアクリルにより形成されている。尚、反応ディスク２０１上の複数の位置には、サンプル吐出位置、第１試薬吐出位置、第２試薬吐出位置、および攪拌位置などが設定されている。 The reaction disk 201 holds a plurality of reaction vessels 2011 arranged in a ring. A reaction disk 201 conveys a plurality of reaction vessels 2011 along a predetermined route. Specifically, the reaction disk 201 is alternately rotated and stopped at predetermined time intervals (hereinafter referred to as one period or one cycle), for example, every 4.5 seconds or 9 seconds by the driving mechanism 4. Repeated. The reaction vessel 2011 is made of, for example, glass, polypropylene (PP), or acrylic. A sample ejection position, a first reagent ejection position, a second reagent ejection position, an agitation position, and the like are set at a plurality of positions on the reaction disk 201 .

恒温部２０２は、所定の温度に設定された熱媒体を貯留し、貯留する熱媒体に反応容器２０１１を浸漬させることで、反応容器２０１１に収容される混合液を昇温する。 The constant temperature unit 202 stores a heat medium set to a predetermined temperature, and immerses the reaction vessel 2011 in the stored heat medium to raise the temperature of the liquid mixture contained in the reaction vessel 2011 .

サンプルディスク２０３は、測定を依頼されたサンプルを収容する複数のサンプル容器を、環状に配列させて保持する。サンプルディスク２０３は、複数のサンプル容器を所定の経路に沿って搬送する。図２に示す例では、サンプルディスク２０３は、反応ディスク２０１と隣り合って配置されている。尚、サンプルディスク２０３上の所定の位置には、サンプル吸引位置が設定されている。また、サンプルディスク２０３は、着脱自在なカバーにより覆われてもよい。 The sample disk 203 holds a plurality of sample containers containing samples requested for measurement in a circular arrangement. A sample disk 203 conveys a plurality of sample containers along a predetermined route. In the example shown in FIG. 2, the sample disk 203 is arranged adjacent to the reaction disk 201 . A sample suction position is set at a predetermined position on the sample disk 203 . Also, the sample disk 203 may be covered with a detachable cover.

第１試薬庫２０４は、サンプルに含まれる所定の成分と反応する第１試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。図２に示す例では、第１試薬庫２０４は、反応ディスク２０１と隣り合って配置されている。第１試薬庫２０４内には、第１試薬ラックが回転自在に設けられている。第１試薬ラックは、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。第１試薬ラックは、駆動機構４により回動される。尚、第１試薬庫２０４上の所定の位置には、第１試薬吸引位置が設定されている。試薬容器は、試薬ボトルと呼ばれてもよい。また、第１試薬庫２０４は、着脱自在な試薬カバーにより覆われてもよい。 The first reagent storage 204 insulates a plurality of reagent containers containing first reagents that react with predetermined components contained in the sample. In the example shown in FIG. 2, the first reagent storage 204 is arranged adjacent to the reaction disk 201 . A first reagent rack is rotatably provided in the first reagent storage 204 . The first reagent rack holds a plurality of reagent containers arranged in an annular shape. The first reagent rack is rotated by drive mechanism 4 . A first reagent suction position is set at a predetermined position on the first reagent storage 204 . A reagent container may be referred to as a reagent bottle. Also, the first reagent storage 204 may be covered with a detachable reagent cover.

第２試薬庫２０５は、第２試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。図２に示す例では、第２試薬庫２０５は、反応ディスク２０１の内側に配置されている。第２試薬庫２０５内には、第２試薬ラックが回転自在に設けられている。第２試薬ラックは、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。第２試薬ラックは、駆動機構４により回動される。尚、第２試薬庫２０５上の所定の位置には、第２試薬吸引位置が設定されている。また、第２試薬庫２０５は、着脱自在な試薬カバーにより覆われてもよい。 The second reagent storage 205 keeps a plurality of reagent containers containing the second reagent cool. In the example shown in FIG. 2, the second reagent storage 205 is arranged inside the reaction disk 201 . A second reagent rack is rotatably provided in the second reagent storage 205 . The second reagent rack holds a plurality of reagent containers arranged in an annular shape. The second reagent rack is rotated by drive mechanism 4 . A second reagent suction position is set at a predetermined position on the second reagent storage 205 . Also, the second reagent storage 205 may be covered with a detachable reagent cover.

次に、サンプル分注アーム２０６、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注アーム２０８、第１試薬分注プローブ２０９、第２試薬分注アーム２１０、第２試薬分注プローブ２１１、電極ユニット２１２、測光ユニット２１３、洗浄ユニット２１４、攪拌ユニット２１５、およびプローブ洗浄ユニット２１６について説明する。 Next, sample pipetting arm 206, sample pipetting probe 207, first reagent pipetting arm 208, first reagent pipetting probe 209, second reagent pipetting arm 210, second reagent pipetting probe 211, electrode unit 212. , photometry unit 213, cleaning unit 214, stirring unit 215, and probe cleaning unit 216 will be described.

サンプル分注アーム２０６は、反応ディスク２０１とサンプルディスク２０３との間に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、且つ水平方向に回動自在に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、一端にサンプル分注プローブ２０７を保持する。 A sample dispensing arm 206 is provided between the reaction disk 201 and the sample disk 203 . The sample dispensing arm 206 is vertically movable and horizontally rotatable by the drive mechanism 4 . A sample dispensing arm 206 holds a sample dispensing probe 207 at one end.

サンプル分注プローブ２０７は、サンプル分注アーム２０６の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、サンプル吐出位置、第１の洗浄位置、第２の洗浄位置、およびサンプル吸引位置がある。サンプル吐出位置は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、反応ディスク２０１に円環状に配列される反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。第１の洗浄位置は、例えば、プローブ洗浄ユニット２１６に設けられた第１の洗浄部３１０の開口部に相当する。第２の洗浄位置は、例えば、プローブ洗浄ユニット２１６に設けられた第２の洗浄部３２０の開口部に相当する。サンプル吸引位置は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、サンプルディスク２０３に円環状に配列されるサンプル容器の移動軌道との交点に相当する。 The sample-dispensing probe 207 rotates along an arc-shaped rotation track as the sample-dispensing arm 206 rotates. A sample ejection position, a first cleaning position, a second cleaning position, and a sample suction position are located on this rotational track. The sample discharge position corresponds to, for example, the intersection of the rotational trajectory of the sample pipetting probe 207 and the movement trajectory of the reaction containers 2011 arranged in an annular shape on the reaction disk 201 . The first cleaning position corresponds to, for example, the opening of the first cleaning section 310 provided in the probe cleaning unit 216 . The second cleaning position corresponds to, for example, the opening of the second cleaning section 320 provided in the probe cleaning unit 216 . The sample aspiration position corresponds to, for example, the intersection of the rotation track of the sample pipetting probe 207 and the movement track of the sample containers arranged in an annular shape on the sample disk 203 .

サンプル分注プローブ２０７は、駆動機構４によって駆動され、反応ディスク２０１に保持される反応容器２０１１の開口部の直上（サンプル吐出位置）、第１の洗浄部３１０の開口部の直上（第１の洗浄位置）、第２の洗浄部３２０の開口部の直上（第２の洗浄位置）、およびサンプルディスク２０３に保持されるサンプル容器の開口部の直上（サンプル吸引位置）においてそれぞれ上下方向に移動する。 The sample pipetting probe 207 is driven by the driving mechanism 4 and is directly above the opening of the reaction container 2011 held by the reaction disk 201 (sample discharge position) and directly above the opening of the first washing unit 310 (first position). washing position), immediately above the opening of the second washing unit 320 (second washing position), and immediately above the opening of the sample container held by the sample disk 203 (sample aspirating position). .

また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、サンプル吸引位置の直下に位置するサンプル容器からサンプルを吸引する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、吸引したサンプルを、サンプル吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。さらに、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、第１の洗浄位置の直下に位置する第１の洗浄部３１０において第１の洗浄を行い、第２の洗浄位置の直下に位置する第２の洗浄部３２０において第２の洗浄を行う。サンプル分注プローブ２０７は、サンプルの吸引および吐出の一連の分注動作、およびサンプルの吐出後に行われる第１の洗浄動作および第２の洗浄動作を、例えば、１サイクルの間に実施する。 Also, the sample pipetting probe 207 aspirates the sample from the sample container positioned directly below the sample aspirating position under the control of the control circuit 9 . Also, the sample pipetting probe 207 discharges the aspirated sample into the reaction container 2011 located directly below the sample discharging position under the control of the control circuit 9 . Furthermore, the sample pipetting probe 207 performs the first cleaning in the first cleaning section 310 positioned directly below the first cleaning position under the control of the control circuit 9, and moves to the position directly below the second cleaning position. A second cleaning is performed in the second cleaning section 320 . The sample pipetting probe 207 performs a series of pipetting operations of aspirating and discharging the sample, and a first washing operation and a second washing operation after discharging the sample, for example, during one cycle.

第１試薬分注アーム２０８は、例えば、反応ディスク２０１と第１試薬庫２０４との間に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、且つ水平方向に回動自在に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、一端に第１試薬分注プローブ２０９を保持する。 The first reagent dispensing arm 208 is provided, for example, between the reaction disk 201 and the first reagent storage 204 . The first reagent dispensing arm 208 is vertically movable and horizontally rotatable by the driving mechanism 4 . A first reagent dispensing arm 208 holds a first reagent dispensing probe 209 at one end.

第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬分注アーム２０８の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第１試薬吸引位置および第１試薬吐出位置がある。第１試薬吸引位置は、例えば、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、第１試薬ラックに円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道との交点に相当する。また、第１試薬吐出位置は、例えば、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、反応ディスク２０１に円環状に配列される反応容器２０１１の移動軌道との交点に相当する。 As the first reagent dispensing arm 208 rotates, the first reagent dispensing probe 209 rotates along an arc-shaped rotation track. A first reagent aspirating position and a first reagent discharging position are located on this rotational track. The first reagent aspirating position corresponds to, for example, the intersection of the rotation trajectory of the first reagent dispensing probe 209 and the movement trajectory of the openings of the reagent containers circularly arranged in the first reagent rack. Also, the first reagent ejection position corresponds to, for example, the intersection of the rotation trajectory of the first reagent dispensing probe 209 and the movement trajectory of the reaction containers 2011 arranged in a ring on the reaction disk 201 .

第１試薬分注プローブ２０９は、駆動機構４によって駆動され、第１試薬ラックに保持される試薬容器の開口部の直上（第１試薬吸引位置）、または反応ディスク２０１に保持される反応容器２０１１の開口部の直上（第１試薬吐出位置）において上下方向に移動する。 The first reagent dispensing probe 209 is driven by the drive mechanism 4 and is directly above the opening of the reagent container held in the first reagent rack (first reagent suction position), or the reaction container 2011 held in the reaction disk 201. (the first reagent discharge position), and moves vertically.

また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、第１試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第１試薬を吸引する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、吸引した第１試薬を、第１試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。第１試薬分注プローブ２０９は、吸引および吐出の一連の分注動作を、例えば、１サイクルの間に１回実施する。尚、これら一連の分注動作は、第１試薬分注プローブ２０９が第２試薬を分注する場合も同様である。 In addition, the first reagent dispensing probe 209 aspirates the first reagent from the reagent container positioned immediately below the first reagent aspirating position under the control of the control circuit 9 . Also, the first reagent dispensing probe 209 discharges the aspirated first reagent into the reaction container 2011 located directly below the first reagent discharging position under the control of the control circuit 9 . The first reagent dispensing probe 209 performs a series of dispensing operations of aspiration and ejection, for example, once during one cycle. The series of dispensing operations is the same when the first reagent dispensing probe 209 dispenses the second reagent.

第２試薬分注アーム２１０は、例えば、反応ディスク２０１と第２試薬庫２０５との間に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、且つ水平方向に回動自在に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、一端に第２試薬分注プローブ２１１を保持する。 The second reagent dispensing arm 210 is provided, for example, between the reaction disk 201 and the second reagent storage 205 . The second reagent dispensing arm 210 is vertically movable and horizontally rotatable by the drive mechanism 4 . A second reagent dispensing arm 210 holds a second reagent dispensing probe 211 at one end.

第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬分注アーム２１０の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第２試薬吸引位置および第２試薬吐出位置がある。第２試薬吸引位置は、例えば第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、第２試薬ラックに円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道との交点に相当する。また、第２試薬吐出位置は、例えば、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、反応ディスク２０１に円環状に配列される反応容器２０１１の移動軌道の交点に相当する。 As the second reagent dispensing arm 210 rotates, the second reagent dispensing probe 211 rotates along an arc-shaped rotation track. A second reagent aspirating position and a second reagent discharging position are located on this rotational track. The second reagent aspirating position corresponds to, for example, the intersection of the rotational trajectory of the second reagent dispensing probe 211 and the movement trajectory of the openings of the reagent containers circularly arranged in the second reagent rack. Also, the second reagent discharge position corresponds to, for example, the intersection of the rotation trajectory of the second reagent dispensing probe 211 and the movement trajectory of the reaction containers 2011 arranged in an annular shape on the reaction disk 201 .

第２試薬分注プローブ２１１は、駆動機構４によって駆動され、第２試薬ラックに保持される試薬容器の開口部の直上（第２試薬吸引位置）、または反応ディスク２０１に保持される反応容器２０１１の開口部の直上（第２試薬吐出位置）において上下方向に移動する。 The second reagent dispensing probe 211 is driven by the drive mechanism 4 and is directly above the opening of the reagent container held in the second reagent rack (second reagent suction position), or the reaction container 2011 held in the reaction disk 201. (the second reagent discharge position), and moves in the vertical direction.

また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路９の制御に従い、第２試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第２試薬を吸引する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路９の制御に従い、吸引した第２試薬を、第２試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。第２試薬分注プローブ２１１は、吸引および吐出の一連の分注動作を、例えば、１サイクルの間に１回実施する。 Also, the second reagent dispensing probe 211 aspirates the second reagent from the reagent container positioned directly below the second reagent aspirating position under the control of the control circuit 9 . In addition, the second reagent dispensing probe 211 discharges the sucked second reagent into the reaction container 2011 located directly below the second reagent discharging position under the control of the control circuit 9 . The second reagent dispensing probe 211 performs a series of dispensing operations of aspiration and ejection, for example, once during one cycle.

電極ユニット２１２は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。電極ユニット２１２は、反応容器２０１１内に吐出されたサンプルと試薬との混合液の電解質濃度を測定する。電極ユニット２１２は、イオン選択性電極（Ｉｏｎ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ：ＩＳＥ）および参照電極を有する。電極ユニット２１２は、制御回路９の制御に従い、測定対象のイオンを含む混合液について、ＩＳＥと参照電極との間の電位を測定する。電極ユニット２１２は、電位を測定したデータを標準データまたは被検データとして解析回路３へと出力する。 The electrode unit 212 is provided near the outer circumference of the reaction disk 201 . The electrode unit 212 measures the electrolyte concentration of the liquid mixture of the sample and the reagent discharged into the reaction vessel 2011 . The electrode unit 212 has an ion selective electrode (ISE) and a reference electrode. Under the control of the control circuit 9, the electrode unit 212 measures the potential between the ISE and the reference electrode for the liquid mixture containing ions to be measured. The electrode unit 212 outputs the data obtained by measuring the potential to the analysis circuit 3 as standard data or test data.

測光ユニット２１３は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。測光ユニット２１３は、反応容器２０１１内に吐出されたサンプルと試薬との混合液における所定の成分を光学的に測定する。測光ユニット２１３は、光源および光検出器を有する。測光ユニット２１３は、制御回路９の制御に従い、光源から光を照射する。照射された光は、反応容器２０１１の第１側壁から入射され、第１側壁と対向する第２側壁から出射される。測光ユニット２１３は、反応容器２０１１から出射された光を、光検出器により検出する。 A photometry unit 213 is provided near the outer periphery of the reaction disk 201 . The photometry unit 213 optically measures a predetermined component in the mixed liquid of the sample and the reagent discharged into the reaction container 2011 . The photometric unit 213 has a light source and a photodetector. The photometry unit 213 emits light from the light source under the control of the control circuit 9 . The irradiated light enters from the first side wall of the reaction vessel 2011 and exits from the second side wall facing the first side wall. The photometry unit 213 detects light emitted from the reaction container 2011 with a photodetector.

具体的には、例えば、光検出器は、反応容器２０１１内の標準試料（標準サンプル）と試薬との混合液を通過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度などにより表される標準データを生成する。また、光検出器は、反応容器２０１１内の被検試料（被検サンプル）と試薬との混合液を通過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度などにより表される被検データを生成する。測光ユニット２１３は、生成した標準データおよび被検データを解析回路３へ出力する。 Specifically, for example, the photodetector detects light passing through a mixture of a standard sample (standard sample) and a reagent in the reaction container 2011, and the intensity of the detected light is represented by absorbance or the like. Generates standard data that In addition, the photodetector detects light that has passed through a mixture of the test sample (test sample) and the reagent in the reaction container 2011, and detects the light intensity of the test sample represented by the absorbance or the like based on the intensity of the detected light. Generate data. The photometry unit 213 outputs the generated standard data and test data to the analysis circuit 3 .

洗浄ユニット２１４は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。洗浄ユニット２１４は、電極ユニット２１２または測光ユニット２１３において混合液の測定が終了した反応容器２０１１の内部を洗浄する。この洗浄ユニット２１４は、反応容器２０１１を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給ポンプ（図示せず）を備えている。また、洗浄ユニット２１４は、洗浄液供給ポンプから供給された洗浄液の反応容器２０１１内への吐出や、反応容器２０１１内の混合液、及び洗浄液の各液体の吸引を行う洗浄ノズルを備えている。 The cleaning unit 214 is provided near the outer circumference of the reaction disk 201 . The cleaning unit 214 cleans the inside of the reaction vessel 2011 after the measurement of the mixed liquid in the electrode unit 212 or the photometry unit 213 has been completed. The cleaning unit 214 includes a cleaning liquid supply pump (not shown) that supplies cleaning liquid for cleaning the reaction vessel 2011 . The cleaning unit 214 also includes a cleaning nozzle that discharges the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply pump into the reaction vessel 2011 and sucks the mixed liquid and the cleaning liquid in the reaction vessel 2011 .

攪拌ユニット２１５は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。攪拌ユニット２１５は、攪拌子を有し、この攪拌子により、反応ディスク２０１上の攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されているサンプルと第１試薬との混合液を攪拌する。または、攪拌ユニット２１５は、反応容器２０１１内に収容されているサンプル、第１試薬、および第２試薬の混合液を攪拌する。 The stirring unit 215 is provided near the outer circumference of the reaction disk 201 . The stirring unit 215 has a stirrer that stirs the mixture of the sample and the first reagent contained in the reaction container 2011 located at the stirring position on the reaction disk 201 . Alternatively, the stirring unit 215 stirs the mixture of the sample, first reagent, and second reagent contained in the reaction container 2011 .

プローブ洗浄ユニット２１６は、反応ディスク２０１とサンプルディスク２０３との間に設けられている。プローブ洗浄ユニット２１６は、サンプルを吐出した後のサンプル分注プローブ２０７を洗浄する。プローブ洗浄ユニット２１６の具体的な構成について、図３を用いて説明する。 A probe cleaning unit 216 is provided between the reaction disk 201 and the sample disk 203 . The probe cleaning unit 216 cleans the sample dispensing probe 207 after discharging the sample. A specific configuration of the probe cleaning unit 216 will be described with reference to FIG.

図３は、図２のプローブ洗浄ユニット２１６の機能構成を示すブロック図である。図３に示されるプローブ洗浄ユニット２１６は、第１の洗浄部３１０、第２の洗浄部３２０、超音波発生部３３０、純水供給部３４０、およびファインバブル水発生部３５０を備える。尚、ファインバブル水発生部３５０は、必ずしもプローブ洗浄ユニット２１６に備えられていなくてもよい。ファインバブル水発生部３５０は、例えば、自動分析装置１内に備えられていてもよいし、自動分析装置１とは別の外部装置であってもよい。 FIG. 3 is a block diagram showing the functional configuration of the probe cleaning unit 216 of FIG. 2. As shown in FIG. The probe cleaning unit 216 shown in FIG. 3 includes a first cleaning section 310 , a second cleaning section 320 , an ultrasonic wave generating section 330 , a pure water supply section 340 and a fine bubble water generating section 350 . It should be noted that the fine bubble water generator 350 does not necessarily have to be provided in the probe cleaning unit 216 . The fine bubble water generator 350 may be provided in the automatic analyzer 1, or may be an external device separate from the automatic analyzer 1, for example.

第１の洗浄部３１０は、サンプルを吐出した直後のサンプル分注プローブ２０７を洗浄する。第１の洗浄部３１０は、例えば、純水を用いたシャワーにより、サンプル分注プローブ２０７の表面に付着した汚れを洗浄する。第１の洗浄部３１０で用いられる純水は、例えば、純水供給部３４０からチューブを介して供給される。 The first cleaning section 310 cleans the sample pipetting probe 207 immediately after the sample is discharged. The first cleaning unit 310 cleans stains adhering to the surface of the sample dispensing probe 207 by showering with pure water, for example. Pure water used in the first cleaning unit 310 is supplied from a pure water supply unit 340 through a tube, for example.

第２の洗浄部３２０は、第１の洗浄部３１０による洗浄後のサンプル分注プローブ２０７を洗浄する。第２の洗浄部３２０は、例えば、ファインバブル水を用いたシャワーにより、サンプル分注プローブ２０７の表面に付着した汚れを洗浄する。さらに、第２の洗浄部３２０は、ファインバブル水が貯留された貯留部（洗浄プール）内において超音波洗浄を行うことにより、サンプル分注プローブ２０７の表面および内部に付着した汚れを洗浄する。第２の洗浄部３２０で用いられるファインバブル水は、例えば、ファインバブル水発生部３５０からチューブを介して供給される。 The second cleaning section 320 cleans the sample dispensing probe 207 after cleaning by the first cleaning section 310 . The second cleaning unit 320 cleans the surface of the sample pipetting probe 207 by showering with fine bubble water, for example. Further, the second cleaning unit 320 cleans dirt adhering to the surface and inside of the sample pipetting probe 207 by performing ultrasonic cleaning in a reservoir (cleaning pool) in which fine bubble water is stored. The fine bubble water used in the second cleaning section 320 is supplied from the fine bubble water generating section 350 through a tube, for example.

ファインバブル水は、例えば、ファインバブルを含む純水である。ファインバブルには、バブルの直径を基準として、マイクロバブルおよびウルトラファインバブルの２つに大別できる。ファインバブル水は、マイクロバブルおよびウルトラファインバブルのいずれかが含まれていればよい。また、ファインバブルは、純水中では負に帯電する性質を有する。 Fine bubble water is, for example, pure water containing fine bubbles. Fine bubbles can be roughly classified into microbubbles and ultrafine bubbles based on the bubble diameter. The fine-bubble water may contain either microbubbles or ultra-fine bubbles. In addition, fine bubbles have the property of being negatively charged in pure water.

超音波洗浄では、例えば、プール内へ放射する超音波の強度（超音波強度）の違いによって、２種類の洗浄（第１の超音波洗浄および第２の超音波洗浄）が用いられる。第１の超音波洗浄は、マイクロストリーミングを発生させる洗浄であり、第２の超音波洗浄よりも超音波強度が小さい。第２の超音波洗浄は、キャビテーションを発生させる洗浄であり、第１の超音波洗浄よりも超音波強度が大きい。第２の超音波洗浄を行う場合、プローブへのダメージを軽減させるため、短時間（例えば、０．１～０．３秒）の照射を行うことが望ましく、また定在波がプローブの同一箇所に集中しないように、周波数をスイープすることが望ましい。 In ultrasonic cleaning, for example, two types of cleaning (first ultrasonic cleaning and second ultrasonic cleaning) are used depending on the difference in the intensity of ultrasonic waves radiated into the pool (ultrasonic intensity). The first ultrasonic cleaning is cleaning that generates microstreaming, and has a lower ultrasonic intensity than the second ultrasonic cleaning. The second ultrasonic cleaning is cleaning that generates cavitation, and has a higher ultrasonic intensity than the first ultrasonic cleaning. When performing the second ultrasonic cleaning, in order to reduce damage to the probe, it is desirable to perform irradiation for a short time (for example, 0.1 to 0.3 seconds), and the standing wave is the same point on the probe. It is desirable to sweep the frequencies so as not to concentrate on .

なお、サンプル分注プローブ２０７は、基本的に電荷的に中立の状態、即ち、正にも負にも帯電していない状態である。よって、サンプル分注プローブ２０７は、ファインバブル水に含まれるファインバブルを吸着することがある。そして、上述のマイクロストリーミングは、振動する気泡の周囲に発生するため、プローブに吸着したファインバブルの周囲でも発生することから、洗浄効果が見込める。また、キャビテーションでは、プローブに吸着したファインバブルを破裂させ、その破壊力によって汚れを剥離させることから、同様に洗浄効果が見込める。 Note that the sample pipetting probe 207 is basically in an electrically neutral state, that is, in a state that it is neither positively nor negatively charged. Therefore, the sample pipetting probe 207 may adsorb fine bubbles contained in fine bubble water. Since the micro-streaming described above is generated around the vibrating bubbles, it is also generated around the fine bubbles adsorbed to the probe, so a cleaning effect can be expected. In addition, in cavitation, the fine bubbles adsorbed to the probe are burst, and the destructive power of the cavitation removes dirt, so a similar cleaning effect can be expected.

超音波発生部３３０は、超音波を発生させる。超音波発生部３３０は、第２の洗浄部３２０において超音波洗浄を行う。超音波発生部３３０は、例えば、第２の洗浄部３２０の洗浄プールを構成する側面に隣接して配置される。また、超音波発生部３３０は、サンプル分注プローブ２０７の延伸方向に垂直な方向から超音波を照射するように配置される。超音波発生部３３０は、制御回路９の制御に従い、超音波の発生を制御する。 The ultrasonic generator 330 generates ultrasonic waves. The ultrasonic generator 330 performs ultrasonic cleaning in the second cleaning unit 320 . The ultrasonic generator 330 is arranged, for example, adjacent to the side surface forming the cleaning pool of the second cleaning unit 320 . Also, the ultrasonic wave generator 330 is arranged so as to emit ultrasonic waves in a direction perpendicular to the extending direction of the sample pipetting probe 207 . The ultrasonic generator 330 controls the generation of ultrasonic waves under the control of the control circuit 9 .

純水供給部３４０は、第１の洗浄部３１０およびファインバブル水発生部３５０に純水を供給する。純水供給部３４０は、例えば、ポンプおよび電磁バルブを用いて純水の供給を制御する。純水供給部３４０は、制御回路９の制御に従い、第１の洗浄部３１０で用いられる純水の供給を制御する。尚、純水供給部３４０は、ボトルに注入された純水を用いてもよいし、水から不純物を除去することによって純水を生成してもよい。 Pure water supply unit 340 supplies pure water to first cleaning unit 310 and fine bubble water generation unit 350 . The pure water supply unit 340 controls the supply of pure water using, for example, a pump and an electromagnetic valve. The pure water supply unit 340 controls the supply of pure water used in the first cleaning unit 310 under the control of the control circuit 9 . The pure water supply unit 340 may use pure water that has been poured into a bottle, or may generate pure water by removing impurities from water.

ファインバブル水発生部３５０は、純水からファインバブル水を発生させる。具体的には、ファインバブル水発生部３５０は、例えば、純水中の気泡をせん断することによってファインバブルを発生させてもよいし、圧力を上げることによってガスを溶かした純水を減圧させ発泡させることによってファインバブルを発生させてもよい。 Fine bubble water generator 350 generates fine bubble water from pure water. Specifically, the fine bubble water generating section 350 may generate fine bubbles by, for example, shearing air bubbles in the pure water, or depressurize the pure water in which gas is dissolved by increasing the pressure to form bubbles. Fine bubbles may be generated by

ファインバブル水発生部３５０は、第２の洗浄部３２０にファインバブルを供給する。ファインバブル水発生部３５０は、例えば、ポンプおよび電磁バルブを用いてファインバブル水の供給を制御する。このことから、ファインバブル水発生部３５０は、ファインバブル水供給部と呼ばれてもよい。ファインバブル水発生部３５０で用いられる純水は、例えば、純水供給部３４０からチューブを介して供給される。 The fine bubble water generating section 350 supplies fine bubbles to the second cleaning section 320 . The fine bubble water generator 350 controls the supply of fine bubble water using, for example, a pump and an electromagnetic valve. For this reason, the fine bubble water generator 350 may be called a fine bubble water supply unit. The pure water used in the fine bubble water generating section 350 is supplied from the pure water supply section 340 through a tube, for example.

次に、第１の洗浄部３１０および第２の洗浄部３２０の具体的な構成について、図４および図５を用いて説明する。 Next, specific configurations of the first cleaning section 310 and the second cleaning section 320 will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG.

図４は、図３の第１の洗浄部３１０の構成を例示する断面図である。図４に示される第１の洗浄部３１０は、上部に開口部を有し、内部に空間（以降では、シャワー洗浄空間３１１と称する）を有し、下部に排出口３１４を有する。 FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the first cleaning section 310 of FIG. The first cleaning section 310 shown in FIG. 4 has an opening at the top, a space inside (hereinafter referred to as a shower cleaning space 311), and an outlet 314 at the bottom.

第１の洗浄部３１０には、シャワー洗浄空間３１１を挟んで、噴射口３１２ａおよび噴射口３１２ｂが対向して形成されている。噴射口３１２ａおよび噴射口３１２ｂは、シャワー用ノズル３１３ａおよびシャワー用ノズル３１３ｂのそれぞれの内部貫通孔の一方の開口である。排出口３１４には、廃液パイプ３１５が接続されている。 In the first cleaning section 310, a shower cleaning space 311 is interposed and an ejection port 312a and an ejection port 312b are formed to face each other. The injection port 312a and the injection port 312b are one openings of the internal through-holes of the shower nozzle 313a and the shower nozzle 313b, respectively. A waste liquid pipe 315 is connected to the outlet 314 .

シャワー用ノズル３１３ａおよびシャワー用ノズル３１３ｂには、図示していないチューブが接続され、純水供給部３４０から純水が供給される。 A tube (not shown) is connected to shower nozzle 313 a and shower nozzle 313 b , and pure water is supplied from pure water supply section 340 .

図５は、図３の第２の洗浄部３２０および超音波発生部３３０の構成を例示する断面図である。図５に示される第２の洗浄部３２０は、上部に開口部を有し、内部に空間（以降では、空間の上方をシャワー洗浄空間３２１ａと称し、空間の下方を洗浄プール３２１ｂと称する）を有し、下部に排出口３２４を有する。 FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the second cleaning section 320 and the ultrasonic wave generating section 330 of FIG. The second washing unit 320 shown in FIG. 5 has an opening at the top and a space inside (hereinbelow, the upper space will be referred to as shower washing space 321a, and the lower space will be referred to as washing pool 321b). and has an outlet 324 at the bottom.

第２の洗浄部３２０には、シャワー洗浄空間３２１ａを挟んで、噴射口３２２ａおよび噴射口３２２ｂが対向して形成されている。噴射口３２２ａおよび噴射口３２２ｂは、シャワー用ノズル３２３ａおよびシャワー用ノズル３２３ｂのそれぞれの内部貫通孔の一方の開口である。 In the second cleaning part 320, an injection port 322a and an injection port 322b are formed to face each other with a shower cleaning space 321a interposed therebetween. The injection port 322a and the injection port 322b are one openings of the internal through-holes of the shower nozzle 323a and the shower nozzle 323b, respectively.

また、第２の洗浄部３２０には、洗浄プール３２１ｂが形成される側面において、流入口３２７が形成されている。流入口３２７は、貯留水用ノズル３２８の内部貫通孔の一方の開口である。排出口３２４には、廃液パイプ３２５および廃液バルブ３２６が接続されている。 In addition, the second cleaning section 320 is formed with an inlet 327 on the side surface where the cleaning pool 321b is formed. The inflow port 327 is one opening of the internal through hole of the nozzle 328 for retained water. A waste liquid pipe 325 and a waste liquid valve 326 are connected to the outlet 324 .

さらに、第２の洗浄部３２０には、洗浄プール３２１ｂに対して超音波を放射する超音波発生部３３０が取り付けられている。超音波発生部３３０は、超音波振動子３３１を有する。超音波振動子３３１は、洗浄プール３２１ｂを形成する側面に密着して配置される。 Further, the second cleaning unit 320 is attached with an ultrasonic wave generating unit 330 that emits ultrasonic waves to the cleaning pool 321b. The ultrasonic generator 330 has an ultrasonic transducer 331 . The ultrasonic transducer 331 is arranged in close contact with the side surface forming the cleaning pool 321b.

シャワー用ノズル３２３ａ、シャワー用ノズル３２３ｂ、および貯留水用ノズル３２８には、図示していないチューブが接続され、ファインバブル水発生部３５０からファインバブル水が供給される。 A tube (not shown) is connected to the shower nozzle 323 a , the shower nozzle 323 b , and the stored water nozzle 328 , and fine bubble water is supplied from the fine bubble water generator 350 .

次に、以上のように構成された第１の実施形態に係る自動分析装置１の動作について制御回路９の処理手順に従って説明する。 Next, the operation of the automatic analyzer 1 according to the first embodiment configured as described above will be described according to the processing procedure of the control circuit 9. FIG.

図６は、第１の実施形態におけるサンプル分注プローブの動作の一例を表すフローチャートである。具体的には、図６のフローチャートは、検査中におけるサンプル分注プローブ２０７の１サイクル間の動作を表している。図６のフローチャートは、サンプル分注プローブ２０７がサンプルをプローブ内に維持し、サンプル吐出位置の直上に位置した状態で開始する。 FIG. 6 is a flow chart showing an example of the operation of the sample pipetting probe in the first embodiment. Specifically, the flowchart in FIG. 6 represents the operation of the sample dispensing probe 207 during one cycle during testing. The flow chart of FIG. 6 begins with the sample dispense probe 207 holding sample within the probe and positioned directly above the sample dispensing position.

図６のフローチャートは、図７の模式図を用いて具体的な動作について説明される。図７は、第１の実施形態における洗浄動作を説明するための模式図である。 The flow chart of FIG. 6 explains specific operations using the schematic diagram of FIG. FIG. 7 is a schematic diagram for explaining the cleaning operation in the first embodiment.

なお、以降では、サンプル分注プローブ２０７などの動作において、駆動機構４が各部を駆動させる際の「駆動機構４により」という文言、或いは「駆動機構４によって駆動され」などの文言の記載を省略する。また、特に記載しない限り、いずれの動作も、制御回路９が各部を制御するものとする。 Hereinafter, in the operation of the sample pipetting probe 207 and the like, the description of the phrase "by the drive mechanism 4" or the phrase "driven by the drive mechanism 4" when the drive mechanism 4 drives each part will be omitted. do. In addition, unless otherwise specified, the control circuit 9 controls each part in any operation.

（ステップＳＴ１１０）
制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を用いて反応容器２０１１にサンプルを吐出させる。具体的には、サンプル分注プローブ２０７は、サンプル吐出位置（位置Ｐ１）の直下にある反応容器２０１１にサンプルを吐出する。サンプルを吐出した後、サンプル分注プローブ２０７は、回動軌道ＴＲに沿って、位置Ｐ１から第１の洗浄位置（位置Ｐ２）まで回動する。 (Step ST110)
The control circuit 9 uses the sample pipetting probe 207 to discharge the sample into the reaction container 2011 . Specifically, the sample pipetting probe 207 discharges the sample into the reaction container 2011 immediately below the sample discharge position (position P1). After discharging the sample, the sample dispensing probe 207 rotates from the position P1 to the first cleaning position (position P2) along the rotation track TR.

（ステップＳＴ１２０）
サンプル分注プローブ２０７が位置Ｐ２まで回動した後、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７に対して第１の洗浄を実施する。以降では、ステップＳＴ１２０の処理を第１の洗浄処理と称する。第１の洗浄処理の具体的な動作について図８のタイムチャート、ならびに図９および図１０の模式図を用いて説明する。 (Step ST120)
After the sample pipetting probe 207 is rotated to the position P2, the control circuit 9 performs the first cleaning of the sample pipetting probe 207. FIG. Henceforth, the process of step ST120 is called a 1st cleaning process. A specific operation of the first cleaning process will be described with reference to the time chart of FIG. 8 and the schematic diagrams of FIGS. 9 and 10. FIG.

図８は、図６のフローチャートの第１の洗浄処理を説明するためのタイムチャートである。図８のタイムチャートは、サンプル分注プローブ２０７の上昇および下降に関するグラフと、第１の洗浄部３１０のシャワーのＯＮおよびＯＦＦに関するグラフとが対応付けられている。尚、シャワーのＯＮおよびＯＦＦは、制御回路９が純水供給部３４０を制御することによって行われる。 FIG. 8 is a time chart for explaining the first cleaning process in the flowchart of FIG. In the time chart of FIG. 8, a graph relating to raising and lowering of the sample pipetting probe 207 and a graph relating to ON and OFF of the shower of the first cleaning section 310 are associated with each other. The shower is turned on and off by the control circuit 9 controlling the pure water supply section 340 .

時刻ｔ０において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を下降させ、第１の洗浄部３１０のシャワーをＯＮ状態にする。図９（ａ）は、時刻ｔ０における第１の洗浄部３１０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。一点鎖線の矢印は、プローブの移動方向を示し、実線の矢印は流水方向を示す。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の下降が開始したとことを契機として、シャワーをＯＮ状態とする。シャワーがＯＮ状態となることにより、シャワー用ノズル３１３ａおよびシャワー用ノズル３１３ｂは、純水を噴射する。 At time t0, the control circuit 9 lowers the sample pipetting probe 207 and turns on the shower of the first cleaning section 310 . FIG. 9(a) shows the state of the first cleaning unit 310 and the sample dispensing probe 207 at time t0. The dashed-dotted arrow indicates the direction of movement of the probe, and the solid arrow indicates the direction of water flow. The control circuit 9 turns on the shower when the sample dispensing probe 207 starts to descend, for example. By turning on the shower, the shower nozzle 313a and the shower nozzle 313b jet pure water.

時刻ｔ０から時刻ｔ１までの間において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を下降させ続ける。図９（ｂ）は、時刻ｔ０から時刻ｔ１までの間の任意の時刻における第１の洗浄部３１０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。サンプル分注プローブ２０７が噴射口３１２ａおよび噴射口３１２ｂの位置に到達すると、純水がサンプル分注プローブ２０７の表面に付着した汚れを洗浄する。洗浄後の廃液は、廃液パイプ３１５により図示していない廃液ボトルへ貯留される。 From time t0 to time t1, the control circuit 9 continues to lower the sample dispensing probe 207. As shown in FIG. FIG. 9(b) shows the state of the first cleaning unit 310 and the sample dispensing probe 207 at an arbitrary time between time t0 and time t1. When the sample pipetting probe 207 reaches the position of the injection port 312a and the injection port 312b, the pure water cleans the surface of the sample pipetting probe 207 from dirt. After washing, the waste liquid is stored in a waste liquid bottle (not shown) via a waste liquid pipe 315 .

時刻ｔ１において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７の下降を停止させる。図９（ｃ）は、時刻ｔ１における第１の洗浄部３１０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７が所定の位置（例えば、シャワー洗浄空間３１１の下端付近）に到達したことを契機として、サンプル分注プローブ２０７の下降を停止させる。 At time t1, the control circuit 9 stops the sample dispensing probe 207 from descending. FIG. 9(c) shows the state of the first cleaning unit 310 and the sample dispensing probe 207 at time t1. For example, when the sample pipetting probe 207 reaches a predetermined position (for example, near the lower end of the shower cleaning space 311), the control circuit 9 stops the sample pipetting probe 207 from descending.

時刻ｔ１から時刻ｔ２までにおいて、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を停止させたままとする。尚、洗浄精度が所定の精度を満たす場合、サンプル分注プローブ２０７を停止する動作は省略されてもよい。 From time t1 to time t2, the control circuit 9 keeps the sample dispensing probe 207 stopped. It should be noted that the operation of stopping the sample pipetting probe 207 may be omitted when the washing accuracy satisfies a predetermined accuracy.

時刻ｔ２において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を上昇させる。図１０（ａ）は、時刻ｔ２における第１の洗浄部３１０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、所定の時間停止したことを契機として、サンプル分注プローブ２０７の上昇を開始させる。 At time t2, the control circuit 9 raises the sample pipetting probe 207. As shown in FIG. FIG. 10(a) shows the state of the first cleaning unit 310 and the sample dispensing probe 207 at time t2. For example, the control circuit 9 starts lifting the sample pipetting probe 207 when it stops for a predetermined time.

時刻ｔ２から時刻ｔ３までの間において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を上昇させ続ける。図１０（ｂ）は、時刻ｔ２から時刻ｔ３までの間の任意の時刻における第１の洗浄部３１０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。 From time t2 to time t3, the control circuit 9 keeps raising the sample pipetting probe 207 . FIG. 10(b) shows the state of the first cleaning unit 310 and the sample dispensing probe 207 at an arbitrary time between time t2 and time t3.

時刻ｔ３において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７の上昇を停止させ、第１の洗浄部３１０のシャワーをＯＦＦ状態にする。図１０（ｃ）は、時刻ｔ３における第１の洗浄部３１０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の上昇が停止したとことを契機として、シャワーをＯＦＦ状態とする。 At time t3, the control circuit 9 stops raising the sample pipetting probe 207 and turns off the shower of the first cleaning section 310 . FIG. 10(c) shows the state of the first cleaning unit 310 and the sample dispensing probe 207 at time t3. The control circuit 9 turns off the shower, for example, when the sample dispensing probe 207 stops rising.

第１の洗浄部３１０において第１の洗浄が終了した後、サンプル分注プローブ２０７は、回動軌道ＴＲに沿って、位置Ｐ２から第２の洗浄位置（位置Ｐ３）まで回動する。 After the first cleaning in the first cleaning section 310 is completed, the sample dispensing probe 207 rotates from the position P2 to the second cleaning position (position P3) along the rotation track TR.

（ステップＳＴ１３０）
サンプル分注プローブ２０７が位置Ｐ３まで回動した後、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７に対して第２の洗浄を実施する。以降では、ステップＳＴ１３０の処理を第２の洗浄処理と称する。第２の洗浄処理の具体的な動作について図１１のタイムチャートおよび図１２から図１７までの模式図を用いて説明する。 (Step ST130)
After the sample pipetting probe 207 is rotated to the position P3, the control circuit 9 performs the second cleaning of the sample pipetting probe 207. FIG. Henceforth, the process of step ST130 is called a 2nd cleaning process. A specific operation of the second cleaning process will be described with reference to the time chart of FIG. 11 and the schematic diagrams of FIGS. 12 to 17. FIG.

図１１は、図６のフローチャートの第２の洗浄処理を説明するためのタイムチャートである。図１１のタイムチャートは、サンプル分注プローブ２０７の上昇および下降に関するグラフと、第２の洗浄部３２０のシャワーのＯＮおよびＯＦＦに関するグラフと、サンプル分注プローブ２０７の吸引および吐出に関するグラフと、超音波振動子３３１のＯＮおよびＯＦＦに関するグラフと、廃液バルブ３２６のＯＮおよびＯＦＦに関するグラフとが対応付けられている。尚、シャワーのＯＮおよびＯＦＦは、制御回路９がファインバブル水発生部３５０を制御することによって行われる。 FIG. 11 is a time chart for explaining the second cleaning process in the flowchart of FIG. The time chart of FIG. 11 includes a graph relating to raising and lowering of the sample pipetting probe 207, a graph relating to ON and OFF of the shower of the second cleaning unit 320, a graph relating to suction and discharge of the sample pipetting probe 207, A graph relating to ON and OFF of the sonic oscillator 331 is associated with a graph relating to ON and OFF of the waste liquid valve 326 . The shower is turned on and off by the control circuit 9 controlling the fine bubble water generator 350 .

時刻ｔ１０において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を下降させ、第２の洗浄部３２０のシャワーをＯＮ状態にする。この時、超音波振動子３３１および廃液バルブはＯＦＦ状態である。また、第２の洗浄部３２０の洗浄プール３２１ｂには既にファインバブル水が貯留されている。図１２（ａ）は、時刻ｔ１０における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。一点鎖線の矢印は、プローブの移動方向を示し、実線の矢印は流水方向を示す。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の下降が開始したことを契機として、シャワーをＯＮ状態とする。シャワーがＯＮ状態となることにより、シャワー用ノズル３２３ａおよびシャワー用ノズル３２３ｂは、ファインバブル水を噴射する。 At time t10, the control circuit 9 lowers the sample dispensing probe 207 and turns on the shower of the second cleaning section 320. FIG. At this time, the ultrasonic transducer 331 and the waste liquid valve are in the OFF state. In addition, fine bubble water is already stored in the washing pool 321b of the second washing section 320 . FIG. 12(a) shows the state of the second cleaning section 320 and the sample dispensing probe 207 at time t10. The dashed-dotted arrow indicates the direction of movement of the probe, and the solid arrow indicates the direction of water flow. The control circuit 9 turns on the shower when the sample dispensing probe 207 starts to descend, for example. By turning on the shower, the shower nozzle 323a and the shower nozzle 323b jet fine bubble water.

時刻ｔ１０から時刻ｔ１１までの間において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を下降させ続ける。図１２（ｂ）は、時刻ｔ１０から時刻ｔ１１までの間の任意の時刻における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。サンプル分注プローブ２０７が噴射口３２２ａおよび噴射口３２２ｂの位置に到達すると、ファインバブル水がサンプル分注プローブ２０７の表面に付着した汚れを洗浄する。 From time t10 to time t11, the control circuit 9 continues to lower the sample dispensing probe 207. As shown in FIG. FIG. 12(b) shows the states of the second cleaning section 320 and the sample dispensing probe 207 at an arbitrary time from time t10 to time t11. When the sample pipetting probe 207 reaches the position of the injection port 322a and the injection port 322b, the fine bubble water cleans the dirt adhering to the surface of the sample pipetting probe 207. FIG.

時刻ｔ１１において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を下降させ続け、サンプル分注プローブ２０７の吸引を開始させる。図１３（ａ）は、時刻ｔ１１における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７が洗浄プール３２１ｂに貯留されたファインバブル水（貯留水）に浸水したことを契機として、サンプル分注プローブ２０７の吸引を開始させる。 At time t11, the control circuit 9 continues to lower the sample pipetting probe 207 and causes the sample pipetting probe 207 to start sucking. FIG. 13(a) shows the state of the second cleaning section 320 and the sample dispensing probe 207 at time t11. For example, when the sample pipetting probe 207 is immersed in fine bubble water (reserved water) stored in the cleaning pool 321b, the control circuit 9 causes the sample pipetting probe 207 to start sucking.

時刻ｔ１１から時刻ｔ１２までの間において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を下降および吸引させ続ける。図１３（ｂ）は、時刻ｔ１１から時刻ｔ１２までの間の任意の時刻における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７に貯留水を吸引させることによって、管内にファインバブル水ＦＢＷを保持させる。 From time t11 to time t12, the control circuit 9 continues to lower and aspirate the sample dispensing probe 207 . FIG. 13(b) shows the state of the second cleaning section 320 and the sample dispensing probe 207 at an arbitrary time from time t11 to time t12. The control circuit 9 causes the sample pipetting probe 207 to suck the stored water, thereby holding the fine bubble water FBW in the tube.

時刻ｔ１２において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７の下降を停止させ、シャワーをＯＦＦ状態にし、サンプル分注プローブ２０７の吸引を停止させ、超音波振動子３３１をＯＮ状態にする。図１４（ａ）は、時刻ｔ１２における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７と超音波振動子３３１との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７が所定の位置（例えば、洗浄プール３２１ｂの下端付近）に到達したことを契機として、サンプル分注プローブ２０７の下降および吸引を停止させ、超音波振動子３３１を駆動（超音波の照射を開始）させる。 At time t12, the control circuit 9 stops the downward movement of the sample pipetting probe 207, turns off the shower, stops the suction of the sample pipetting probe 207, and turns on the ultrasonic transducer 331. FIG. 14(a) shows the state of the second cleaning unit 320, the sample dispensing probe 207, and the ultrasonic transducer 331 at time t12. For example, when the sample pipetting probe 207 reaches a predetermined position (for example, near the lower end of the cleaning pool 321b), the control circuit 9 stops the sample pipetting probe 207 from descending and sucking, and ultrasonically vibrates. drive the child 331 (start irradiation of ultrasonic waves).

時刻ｔ１２から時刻ｔ１３までの間において、制御回路９は、ファインバブル水ＦＢＷを保持したサンプル分注プローブ２０７に超音波を照射させ続ける。図１４（ｂ）は、時刻ｔ１２から時刻ｔ１３までの間の任意の時刻における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７と超音波振動子３３１との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、所定の時間（例えば、０．１秒から０．３秒までの任意の時間）に亘ってサンプル分注プローブ２０７に超音波を照射させる。尚、超音波を照射する時間は、超音波の強度によって変更してもよい。例えば、上記の時間は第２の超音波洗浄を想定したものであるが、第１の超音波洗浄であれば、プローブへのダメージが無いため、制御回路９は、上記の時間以上（例えば、０．３秒以上）の照射を行ってもよい。 From time t12 to time t13, the control circuit 9 continues to irradiate the sample dispensing probe 207 holding the fine bubble water FBW with ultrasonic waves. FIG. 14(b) shows the states of the second cleaning unit 320, the sample dispensing probe 207, and the ultrasonic transducer 331 at an arbitrary time from time t12 to time t13. For example, the control circuit 9 causes the sample dispensing probe 207 to irradiate ultrasonic waves for a predetermined time (for example, any time from 0.1 seconds to 0.3 seconds). In addition, the time for irradiating ultrasonic waves may be changed according to the intensity of the ultrasonic waves. For example, the above time is for the second ultrasonic cleaning, but the first ultrasonic cleaning does not damage the probe. 0.3 seconds or longer) may be performed.

時刻ｔ１３において、制御回路９は、超音波振動子３３１をＯＦＦ状態にし、サンプル分注プローブ２０７を上昇させ、第２の洗浄部３２０のシャワーをＯＮ状態にする。図１５（ａ）は、時刻ｔ１３における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７と超音波振動子３３１との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、超音波の照射が停止したことを契機として、サンプル分注プローブ２０７の上昇を開始させ、第２の洗浄部３２０のシャワーをＯＮ状態にする。 At time t13, the control circuit 9 turns off the ultrasonic transducer 331, raises the sample dispensing probe 207, and turns on the shower of the second cleaning section 320. FIG. FIG. 15(a) shows the state of the second cleaning section 320, the sample dispensing probe 207, and the ultrasonic transducer 331 at time t13. For example, when the irradiation of ultrasonic waves is stopped, the control circuit 9 starts to raise the sample dispensing probe 207 and turns on the shower of the second cleaning section 320 .

時刻ｔ１３から時刻ｔ１４までの間において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を上昇させ続ける。図１５（ｂ）は、時刻ｔ１３から時刻ｔ１４までの間の任意の時刻における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。 From time t13 to time t14, the control circuit 9 keeps raising the sample dispensing probe 207. As shown in FIG. FIG. 15(b) shows the state of the second cleaning section 320 and the sample dispensing probe 207 at an arbitrary time from time t13 to time t14.

時刻ｔ１４において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を上昇させ続け、サンプル分注プローブ２０７の吐出を開始させる。図１６（ａ）は、時刻ｔ１４における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７が水面から出たことを契機として、サンプル分注プローブ２０７の吐出を開始させる。 At time t14, the control circuit 9 continues to raise the sample pipetting probe 207 and causes the sample pipetting probe 207 to start discharging. FIG. 16(a) shows the state of the second cleaning section 320 and the sample dispensing probe 207 at time t14. The control circuit 9 causes the sample pipetting probe 207 to start discharging, for example, when the sample pipetting probe 207 comes out of the water surface.

時刻ｔ１４から時刻ｔ１５までの間において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を上昇および吐出佐瀬続ける。図１６（ｂ）は、時刻ｔ１４から時刻ｔ１５までの間の任意の時刻における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を吐出させることによって、管内に保持されたファインバブル水ＦＢＷを吐出させる。 From time t14 to time t15, the control circuit 9 continues to raise and discharge the sample dispensing probe 207. FIG. FIG. 16(b) shows the state of the second cleaning unit 320 and the sample dispensing probe 207 at an arbitrary time from time t14 to time t15. The control circuit 9 discharges the fine bubble water FBW held in the pipe by causing the sample pipetting probe 207 to discharge.

時刻ｔ１５において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７の上昇を停止させ、第２の洗浄部３２０のシャワーをＯＦＦ状態にし、サンプル分注プローブ２０７の吐出を停止させ、廃液バルブ３２６をＯＮ状態にする。図１７（ａ）は、時刻ｔ１５における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の上昇が停止したことを契機として、シャワーをＯＦＦ状態とし、サンプル分注プローブ２０７の吐出を停止させ、廃液バルブ３２６を開放させる。 At time t15, the control circuit 9 stops lifting the sample pipetting probe 207, turns off the shower of the second cleaning unit 320, stops discharging the sample pipetting probe 207, and turns on the waste liquid valve 326. to FIG. 17(a) shows the state of the second cleaning section 320 and the sample dispensing probe 207 at time t15. For example, when the sample pipetting probe 207 stops rising, the control circuit 9 turns off the shower, stops the sample pipetting probe 207 from discharging, and opens the waste liquid valve 326 .

時刻ｔ１５以降において、制御回路９は、洗浄プール３２１ｂに貯留されたファインバブル水が排出し終わるまで廃液バルブ３２６をＯＮ状態にする。図１７（ｂ）は、時刻ｔ１５以降における第２の洗浄部３２０の状態を示したものである。この時、サンプル分注プローブ２０７は、既に第２の洗浄部３２０の直上から移動している。制御回路９は、貯留水の排出が無くなったことを契機として、廃液バルブ３２６を閉鎖する。また、制御回路９は、廃液バルブ３２６の閉鎖を契機として、貯留水用ノズル３２８からファインバブル水の供給を制御する。 After time t15, the control circuit 9 turns on the waste liquid valve 326 until the fine bubble water stored in the washing pool 321b is completely discharged. FIG. 17B shows the state of the second cleaning section 320 after time t15. At this time, the sample pipetting probe 207 has already moved from directly above the second washing section 320 . The control circuit 9 closes the waste liquid valve 326 when the stored water is no longer discharged. In addition, the control circuit 9 controls the supply of fine bubble water from the nozzle 328 for stored water when the waste liquid valve 326 is closed.

第２の洗浄部３２０において第２の洗浄が終了した後、サンプル分注プローブ２０７は、回動軌道ＴＲに沿って、位置Ｐ３からサンプル吸引位置（位置Ｐ４）まで回動する。 After the second cleaning in the second cleaning section 320 is completed, the sample dispensing probe 207 rotates along the rotation track TR from the position P3 to the sample aspiration position (position P4).

（ステップＳＴ１４０）
サンプル分注プローブ２０７が位置Ｐ４まで回動した後、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を用いて位置Ｐ４の直下にあるサンプル容器からサンプルを吸引する。サンプルを吸引した後、サンプル分注プローブ２０７は、回動軌道ＴＲに沿って、位置Ｐ４から位置Ｐ１まで回動する。サンプル分注プローブ２０７が再び位置Ｐ１に戻ることによって、図６のフローチャートの処理は終了する。 (Step ST140)
After the sample pipetting probe 207 is rotated to the position P4, the control circuit 9 uses the sample pipetting probe 207 to aspirate the sample from the sample container located directly below the position P4. After aspirating the sample, the sample pipetting probe 207 rotates from position P4 to position P1 along the rotation track TR. The sample dispensing probe 207 returns to the position P1 again, and the processing of the flowchart of FIG. 6 ends.

概括すると、第１の実施形態に係る自動分析装置は、サンプル分注プローブ２０７をファインバブル水に浸水させ、且つファインバブル水を吸引させたサンプル分注プローブ２０７に超音波を照射する。 Generally speaking, the automatic analyzer according to the first embodiment immerses the sample pipetting probe 207 in fine bubble water and irradiates ultrasonic waves to the sample pipetting probe 207 sucked from the fine bubble water.

以上説明したように、第１の実施形態に係る自動分析装置は、ファインバブル水に接触しているサンプル分注プローブに超音波を照射することによって、キャビテーションを発生させる程の超音波強度を必要とせずに、プローブを洗浄することができる。 As described above, the automatic analyzer according to the first embodiment requires an ultrasonic wave intensity high enough to generate cavitation by irradiating the sample pipetting probe in contact with fine bubble water with ultrasonic waves. The probe can be washed without

従って、第１の実施形態に係る自動分析装置は、高い洗浄力により検体間キャリーオーバーの抑制や微量分注時の精度を確保することができる。従来の自動分析装置では、０．１ｐｐｍまでの洗浄が限界であったが、第１の実施形態に係る自動分析装置では、０．０１ｐｐｍまでの洗浄が見込める。 Therefore, the automatic analyzer according to the first embodiment can suppress carryover between specimens and ensure accuracy during microdispensing due to its high detergency. In the conventional automatic analyzer, cleaning to 0.1 ppm was the limit, but in the automatic analyzer according to the first embodiment, cleaning to 0.01 ppm can be expected.

（第２の実施形態）
第１の実施形態では、ファインバブル水に接触しているサンプル分注プローブに超音波を照射することについて説明した。他方、第２の実施形態では、洗浄力向上のため、サンプル分注プローブを帯電させることについて説明する。第２の実施形態に係る自動分析装置は、プローブ洗浄ユニットの構成が第１の実施形態に係る自動分析装置と異なる。 (Second embodiment)
In the first embodiment, the application of ultrasonic waves to the sample dispensing probe in contact with fine bubble water has been described. On the other hand, in the second embodiment, charging the sample pipetting probe for improving detergency will be described. The automatic analyzer according to the second embodiment differs from the automatic analyzer according to the first embodiment in the configuration of the probe cleaning unit.

図１８は、第２の実施形態に係る自動分析装置のプローブ洗浄ユニット２１６Ａの機能構成を示すブロック図である。図１８に示されるプローブ洗浄ユニット２１６Ａは、第１の洗浄部３１０、第２の洗浄部３２０、超音波発生部３３０、純水供給部３４０、ファインバブル水発生部３５０、およびイオン発生部４００（帯電部）を備える。 FIG. 18 is a block diagram showing the functional configuration of the probe cleaning unit 216A of the automatic analyzer according to the second embodiment. The probe cleaning unit 216A shown in FIG. 18 includes a first cleaning section 310, a second cleaning section 320, an ultrasonic wave generating section 330, a pure water supplying section 340, a fine bubble water generating section 350, and an ion generating section 400 ( charging unit).

イオン発生部４００は、サンプル分注プローブ２０７に帯電させる。イオン発生部４００は、例えば、コロナ放電により気体中のイオンを増加（発生）させる。イオン発生部４００は、発生させたイオンをサンプル分注プローブ２０７へ放出することによって、サンプル分注プローブ２０７を任意の極性に帯電させる。ファインバブル水に含まれるファインバブルは、主に負に帯電していることから、本実施形態では、イオン発生部４００は、正イオンを放出することによって、サンプル分注プローブ２０７を正に帯電させる。これにより、ファインバブルがサンプル分注プローブ２０７に吸着し易くなる。 The ion generator 400 charges the sample dispensing probe 207 . The ion generator 400 increases (generates) ions in the gas by, for example, corona discharge. The ion generating section 400 charges the sample pipetting probe 207 to an arbitrary polarity by emitting the generated ions to the sample pipetting probe 207 . Since fine bubbles contained in fine bubble water are mainly negatively charged, in the present embodiment, the ion generating section 400 charges the sample dispensing probe 207 positively by emitting positive ions. . This makes it easier for the fine bubbles to be adsorbed to the sample pipetting probe 207 .

次に、第２の洗浄部３２０とイオン発生部４００との具体的な構成について、図１９を用いて説明する。 Next, specific configurations of the second cleaning section 320 and the ion generating section 400 will be described with reference to FIG. 19 .

図１９は、図１８の第２の洗浄部３２０およびイオン発生部４００の構成を例示する断面図である。図１９に示される第２の洗浄部３２０は、例えば、プローブ洗浄ユニット２１６Ａの筐体２１６１に埋没するように配置される。また、筐体２１６１には、第２の洗浄部３２０の開口部に隣接するようにイオン発生部４００が配置されている。イオン発生部４００を用いた第２の洗浄処理の具体的な動作について図２０のタイムチャートおよび図２１の模式図を用いて説明する。 FIG. 19 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the second cleaning section 320 and the ion generating section 400 of FIG. The second cleaning section 320 shown in FIG. 19 is arranged, for example, so as to be embedded in the housing 2161 of the probe cleaning unit 216A. Further, the ion generating section 400 is arranged in the housing 2161 so as to be adjacent to the opening of the second cleaning section 320 . A specific operation of the second cleaning process using the ion generator 400 will be described with reference to the time chart of FIG. 20 and the schematic diagram of FIG.

図２０は、第２の実施形態における第２の洗浄処理を説明するためのタイムチャートである。図２０のタイムチャートは、図１１のタイムチャートに更にイオン発生のＯＮおよびＯＦＦに関するグラフが対応付けられている。 FIG. 20 is a time chart for explaining the second cleaning process in the second embodiment. The time chart of FIG. 20 is associated with the time chart of FIG. 11 with graphs relating to ON and OFF of ion generation.

時刻ｔ１０において、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７を下降させ、イオン発生部４００をＯＮ状態にし、第２の洗浄部３２０のシャワーをＯＮ状態にする。この時、超音波振動子３３１および廃液バルブはＯＦＦ状態である。また、第２の洗浄部３２０の洗浄プール３２１ｂには既にファインバブル水が貯留されている。図２１は、時刻ｔ１０における第２の洗浄部３２０とサンプル分注プローブ２０７とイオン発生部４００との状態を示したものである。制御回路９は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の下降が開始したことを契機として、イオンの発生およびシャワーをＯＮ状態とする。イオンの発生がＯＮ状態となることにより、サンプル分注プローブ２０７は、ファインバブル水に含まれるファインバブルを吸着し易くなる。 At time t10, the control circuit 9 lowers the sample pipetting probe 207, turns on the ion generating section 400, and turns on the shower of the second washing section 320. FIG. At this time, the ultrasonic transducer 331 and the waste liquid valve are in the OFF state. In addition, fine bubble water is already stored in the washing pool 321b of the second washing section 320 . FIG. 21 shows the state of the second cleaning section 320, the sample dispensing probe 207, and the ion generating section 400 at time t10. The control circuit 9 turns ion generation and showering on, for example, when the sample pipetting probe 207 starts to descend. By turning on the generation of ions, the sample pipetting probe 207 easily adsorbs the fine bubbles contained in the fine bubble water.

制御回路９は、時刻ｔ１０から時刻ｔ１２までにかけてイオン発生部４００をＯＮ状態にし続け、時刻ｔ１２以降はＯＦＦ状態とする。これは、時刻ｔ１２において、サンプル分注プローブ２０７に超音波が照射されることにより、帯電が無くなるためである。換言すると、制御回路９は、超音波の照射を開始することを契機として、帯電を停止させる。尚、イオン発生部４００以外の動作は、図１１のタイムチャートと同様であるため説明を省略する。 The control circuit 9 keeps the ion generator 400 ON from time t10 to time t12, and turns it OFF after time t12. This is because, at time t12, the sample pipetting probe 207 is irradiated with ultrasonic waves, so that the sample dispensing probe 207 is no longer charged. In other words, the control circuit 9 stops charging when the irradiation of ultrasonic waves is started. Operations other than the ion generating section 400 are the same as those in the time chart of FIG.

以上説明したように、第２の実施形態に係る自動分析装置は、サンプル分注プローブを帯電させることによって、ファインバブル水に含まれるファインバブルを効率良く吸着させることによって、超音波を照射させた際のキャビテーションおよびマイクロストリーミングによる洗浄力を向上させることができる。 As described above, the automatic analyzer according to the second embodiment charges the sample pipetting probe to efficiently adsorb the fine bubbles contained in the fine bubble water, thereby irradiating ultrasonic waves. It is possible to improve the detergency due to cavitation and micro-streaming during cleaning.

従って、第２の実施形態に係る自動分析装置は、高い洗浄力により検体間キャリーオーバーの抑制や微量分注時の精度を確保することができる。 Therefore, the automatic analyzer according to the second embodiment can suppress carryover between specimens and ensure accuracy during minute-amount dispensing due to its high detergency.

（他の実施形態）
第１の実施形態では、プローブ洗浄ユニット２１６を用いて、サンプル分注プローブ２０７を洗浄することについて説明したがこれに限らない。例えば、プローブ洗浄ユニット２１６と同等の機能を有するプローブ洗浄ユニットを用いて、試薬分注プローブ（第１試薬分注プローブ２０９および第２試薬分注プローブ２１１）を洗浄させてもよい。 (Other embodiments)
In the first embodiment, cleaning of the sample dispensing probe 207 using the probe cleaning unit 216 has been described, but the present invention is not limited to this. For example, a probe cleaning unit having the same function as probe cleaning unit 216 may be used to clean reagent dispensing probes (first reagent dispensing probe 209 and second reagent dispensing probe 211).

第１の実施形態および第２の実施形態では、制御回路９は、サンプル分注プローブ２０７をファインバブル水に浸水させ、且つファインバブル水を吸引させたサンプル分注プローブ２０７に超音波を照射させたがこれに限らない。例えば、超音波を照射する条件はいずれか一方でもよく、具体的には、制御回路９は、ファインバブル水に浸水させたサンプル分注プローブ２０７に超音波を照射させてもよいし、ファインバブル水を吸引させたサンプル分注プローブ２０７に超音波を照射させてもよい。換言すると、制御回路９は、ファインバブル水に接触しているサンプル分注プローブ２０７に超音波を照射させる。 In the first and second embodiments, the control circuit 9 causes the sample pipetting probe 207 to be submerged in the fine bubble water and to irradiate the sample pipetting probe 207 sucked with the fine bubble water with ultrasonic waves. However, it is not limited to this. For example, either one of the conditions for irradiating ultrasonic waves may be used. Specifically, the control circuit 9 may irradiate ultrasonic waves to the sample pipetting probe 207 submerged in fine bubble water. Ultrasonic waves may be applied to the sample pipetting probe 207 sucked with water. In other words, the control circuit 9 causes the sample dispensing probe 207 in contact with the fine bubble water to irradiate ultrasonic waves.

第１の実施形態および第２の実施形態では、ファインバブル水発生部３５０によって発生させたファインバブル水を用いていたがこれに限らない。例えば、交換式のボトルに封入されたファインバブル水を用いてもよい。 In the first embodiment and the second embodiment, fine bubble water generated by the fine bubble water generator 350 is used, but the present invention is not limited to this. For example, fine bubble water enclosed in a replaceable bottle may be used.

第１の実施形態および第２の実施形態では、制御回路９は、第１の洗浄処理および第２の洗浄処理の両方を実施するがこれに限らない。例えば、洗浄精度が所定の精度を満たす場合、制御回路９は、第１の洗浄処理を省略してもよい。 In the first and second embodiments, the control circuit 9 performs both the first cleaning process and the second cleaning process, but the invention is not limited to this. For example, when the cleaning accuracy satisfies a predetermined accuracy, the control circuit 9 may omit the first cleaning process.

第２の実施形態では、制御回路９は、コロナ放電を用いてサンプル分注プローブ２０７を帯電させたがこれに限らない。例えば、サンプル分注プローブ２０７を構成する材質と、この材質とは異なる材質とを摩擦することによって、サンプル分注プローブ２０７を帯電させてもよい。具体的には、帯電部は、サンプル分注プローブ２０７の管に取り付け可能なリング状部材を有し、制御回路９は、リング状部材を回転させることによってサンプル分注プローブ２０７を帯電させてもよい。 In the second embodiment, the control circuit 9 uses corona discharge to charge the sample dispensing probe 207, but the present invention is not limited to this. For example, the sample pipetting probe 207 may be charged by rubbing the material forming the sample pipetting probe 207 with a different material. Specifically, the charging section has a ring-shaped member that can be attached to the tube of the sample pipetting probe 207, and the control circuit 9 can charge the sample pipetting probe 207 by rotating the ring-shaped member. good.

以上説明した少なくとも一つの実施形態によれば、高い洗浄力により検体間キャリーオーバーの抑制や微量分注時の精度を確保することができる。 According to at least one of the embodiments described above, it is possible to suppress carryover between specimens and ensure accuracy during minute-amount dispensing due to high detergency.

いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、実施形態同士の組み合わせを行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 While several embodiments have been described, these embodiments are provided by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, changes, and combinations of embodiments can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention, as well as the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.

１ 自動分析装置
２０１ 反応ディスク
２０１１ 反応容器
２０２ 恒温部
２０３ サンプルディスク
２０４ 第１試薬庫
２０５ 第２試薬庫
２０６ サンプル分注アーム
２０７ サンプル分注プローブ
２０８ 第１試薬分注アーム
２０９ 第１試薬分注プローブ
２１０ 第２試薬分注アーム
２１１ 第２試薬分注プローブ
２１２ 電極ユニット
２１３ 測光ユニット
２１４ 洗浄ユニット
２１５ 攪拌ユニット
２１６，２１６Ａ プローブ洗浄ユニット
２１６１ 筐体
３１０ 第１の洗浄部
３１１ シャワー洗浄空間
３１２ａ，３１２ｂ 噴射口
３１３ａ，３１３ｂ シャワー用ノズル
３１４ 排出口
３１５ 廃液パイプ
３２０ 第２の洗浄部
３２１ａ シャワー洗浄空間
３２１ｂ 洗浄プール
３２２ａ，３２２ｂ 噴射口
３２３ａ，３２３ｂ シャワー用ノズル
３２４ 排出口
３２５ 廃液パイプ
３２６ 廃液バルブ
３２７ 流入口
３２８ 貯留水用ノズル
３３０ 超音波発生部
３３１ 超音波振動子
３４０ 純水供給部
３５０ ファインバブル水発生部
４００ イオン発生部
ＦＢＷ ファインバブル水
ＮＷ 病院内ネットワーク
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４ 位置
ＴＲ 回動軌道 1 Automatic analyzer 201 Reaction disk 2011 Reaction vessel 202 Constant temperature unit 203 Sample disk 204 First reagent storage 205 Second reagent storage 206 Sample pipetting arm 207 Sample pipetting probe 208 First reagent pipetting arm 209 First reagent pipetting probe 210 Second reagent dispensing arm 211 Second reagent dispensing probe 212 Electrode unit 213 Photometric unit 214 Cleaning unit 215 Stirring units 216, 216A Probe cleaning unit 2161 Housing 310 First cleaning section 311 Shower cleaning spaces 312a, 312b Injection port 313a, 313b Shower nozzle 314 Discharge port 315 Waste liquid pipe 320 Second washing part 321a Shower washing space 321b Washing pool 322a, 322b Injection ports 323a, 323b Shower nozzle 324 Discharge port 325 Waste liquid pipe 326 Waste liquid valve 327 Inflow port 328 Storage Water nozzle 330 Ultrasonic generator 331 Ultrasonic oscillator 340 Pure water supply unit 350 Fine bubble water generator 400 Ion generator FBW Fine bubble water NW Hospital network P1, P2, P3, P4 Position TR Rotation trajectory

Claims (7)

試薬またはサンプルを分注するプローブと、
前記プローブを移動する駆動手段と、
洗浄部と、
前記洗浄部にファインバブル水を供給するファインバブル水供給部と、
前記プローブに超音波を照射する超音波発生部と、
前記洗浄部に供給されたファインバブル水に前記プローブを接触させるように前記駆動手段を制御し、前記ファインバブル水に接触している前記プローブに前記超音波を照射するように前記超音波発生部を制御する制御手段と
を具備する、自動分析装置。 a probe for dispensing reagents or samples;
drive means for moving the probe;
a cleaning unit;
a fine bubble water supply unit that supplies fine bubble water to the cleaning unit;
an ultrasonic generator for irradiating the probe with ultrasonic waves;
The ultrasonic wave generating unit controls the driving means so as to bring the probe into contact with the fine bubble water supplied to the cleaning unit, and irradiates the probe in contact with the fine bubble water with the ultrasonic wave. and a control means for controlling 前記制御手段は、
前記プローブが前記ファインバブル水を吸引するように前記駆動手段を制御し、
前記ファインバブル水を吸引した前記プローブに前記超音波を照射するように前記超音波発生部を制御する、
請求項１に記載の自動分析装置。 The control means is
controlling the driving means so that the probe sucks the fine bubble water;
controlling the ultrasonic generator to irradiate the ultrasonic wave to the probe that has sucked the fine bubble water;
The automatic analyzer according to claim 1. 前記超音波発生部は、前記洗浄部に隣接して設けられる、
請求項１または請求項２に記載の自動分析装置。 The ultrasonic generator is provided adjacent to the cleaning unit,
The automatic analyzer according to claim 1 or 2. 前記制御手段は、前記プローブの延伸方向に垂直な方向から前記超音波を照射するように前記超音波発生部を制御する、
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の自動分析装置。 The control means controls the ultrasonic wave generator so as to irradiate the ultrasonic wave from a direction perpendicular to the extending direction of the probe.
The automatic analyzer according to any one of claims 1 to 3. 前記制御手段は、前記プローブが所定の位置に到達したことを契機として、前記超音波の照射を開始するように前記超音波発生部を制御する、
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の自動分析装置。 The control means controls the ultrasonic generator to start irradiating the ultrasonic waves when the probe reaches a predetermined position.
An automatic analyzer according to any one of claims 1 to 4. 前記プローブを正に帯電させる帯電部
を更に具備し、
前記制御手段は、前記超音波の照射を開始することを契機として、前記帯電部による帯電を停止させる、
請求項５に記載の自動分析装置。 further comprising a charging unit that positively charges the probe,
The control means stops charging by the charging unit when the irradiation of the ultrasonic wave is started.
The automatic analyzer according to claim 5. 前記帯電部は、正イオンを放出することによって前記プローブを正に帯電させる、
請求項６に記載の自動分析装置。
the charging unit positively charges the probe by emitting positive ions;
The automatic analyzer according to claim 6.

Images