JP2022063075A - ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に係る第1実施形態について説明する。図1は、本実施形態における露光装置60の構成を示す概略図である。露光装置60は、例えば、半導体デバイスの製造工程に使用され、ステップ・アンド・スキャン方式により基板Wを露光して原版Rのパターンを基板W上に転写する走査露光装置とする。本実施形態の露光装置60は、例えば、照明系61と、原版Rを保持する原版ステージ62と、投影光学系63と、基板Wを保持する基板ステージ64と、制御部65とを備える。なお、以下では、投影光学系63から射出されて基板Wに照射される光(露光光)の光軸と平行な方向をZ軸方向とし、当該光軸に垂直な面内で互いに直交する方向をX軸方向およびY軸方向とする。また、基板Wの走査露光時における基板Wの走査方向をY軸方向(+Y方向または-Y方向)とする。
本発明に係る第2実施形態について説明する。微動ステージSTG2の目標傾き量を、第1目標傾き量T1と第2目標傾き量T2との間で急速に(瞬時に)変化させてしまうと、その目標傾き量の急速な変化に起因して傾き量の制御偏差が増大し、間隙の大きさが許容範囲外になる虞がある。そのため、図6の期間δで示すように、微動ステージSTG2の目標傾き量を徐々に変化させることが好ましい。例えば、制御部65(設定部55)は、事前の実験等において、微動ステージSTG2の目標傾き量を第1目標傾き量T1と第2目標傾き量T2との間で変化させ、そのときの間隙の大きさを検出部16に検出させる。これにより、制御部65は、検出部16の検出結果に基づいて、間隙の大きさが許容範囲内を維持することができるように目標傾き量の変化速度を決定することができる。なお、本実施形態は、第1実施形態を基本的に引き継ぐものであり、特に言及されない限り、第1実施形態と同様の構成および処理が適用されうる。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記のリソグラフィ装置(露光装置)を用いて基板上にパターンを形成する形成工程と、形成工程でパターンが形成された基板を加工する加工工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
Claims (12)
- 移動可能な第1ステージと、
前記第1ステージの上で移動可能な第2ステージと、
前記第1ステージに対する前記第2ステージの傾き量を目標傾き量に制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第1ステージの移動区間に応じて前記目標傾き量を設定して前記傾き量を制御する、ことを特徴とするステージ装置。 - 前記制御部は、前記第1ステージを等速移動させる等速区間では、第1目標傾き量に基づいて前記傾き量を制御し、前記第1ステージを加速または減速させる加減速区間では、前記第1目標傾き量より小さい第2目標傾き量に基づいて前記傾き量を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記第1ステージおよび前記第2ステージは、前記傾き量の変化に応じて前記第1ステージと前記第2ステージとの間隙の大きさが変化するように構成されている、ことを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記第2目標傾き量は、前記傾き量の制御偏差により前記間隙の大きさが許容範囲外になることが回避されるように設定されている、ことを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。
- 前記制御部は、前記加減速区間における前記第1ステージの移動中に前記間隙の大きさが許容範囲外になることを回避するように、前記第2目標傾き量を設定する、ことを特徴とする請求項3又は4に記載のステージ装置。
- 前記間隙の大きさを検出する検出部を更に備え、
前記制御部は、前記第1ステージを事前に移動させた際に得られた前記検出部の検出結果に基づいて、前記第2目標傾き量を設定する、ことを特徴とする請求項5に記載のステージ装置。 - 前記制御部は、前記第1ステージを加速する加速区間、および前記第1ステージを減速する減速区間の各々について、前記第2目標傾き量を個別に設定する、ことを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記等速区間は、前記第2ステージにより保持された基板に対して走査露光が行われる区間であり、
前記加減速区間は、前記走査露光の開始前に前記第1ステージを加速する加速区間、および/または、前記走査露光の終了後に前記第1ステージを減速する減速区間を含む、ことを特徴とする請求項3乃至7のいずれか1項に記載のステージ装置。 - 前記等速区間では、露光光の光軸に対して前記基板の法線を傾けた状態で前記走査露光が行われ、
前記第1目標傾き量は、前記走査露光において必要となる前記基板の傾きが得られるように設定されている、ことを特徴とする請求項8に記載のステージ装置。 - 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
請求項1乃至9のいずれか1項に記載のステージ装置を含み、
前記基板は、前記ステージ装置の前記第2ステージによって保持される、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
請求項1乃至9のいずれか1項に記載のステージ装置を含み、
前記原版は、前記ステージ装置の前記第2ステージによって保持される、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項10又は11に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する形成工程と、
前記形成工程でパターンが形成された前記基板を加工する加工工程と、を含み、
前記加工工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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