JP2022057058A - Semiconductor memory device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、ホスト装置に対し挿抜が可能な半導体メモリ装置、ならびにその製造方法に関する。 The present disclosure relates to a semiconductor memory device that can be inserted into and removed from a host device, and a method for manufacturing the same.
近年、フラッシュメモリ等の大容量の不揮発性記憶素子を備え、高速でのデータ処理が可能な、小型、挿抜可能なカード形状のSDカード、USBメモリといった半導体メモリ装置が市場に普及している。このような半導体メモリ装置は、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、デジタルカメラ、オーディオプレーヤ及びカーナビゲーションシステム等のホスト装置と接続して利用されている。 In recent years, semiconductor memory devices such as small, insertable card-shaped SD cards and USB memories, which are equipped with a large-capacity non-volatile storage element such as a flash memory and are capable of high-speed data processing, have become widespread in the market. Such a semiconductor memory device is used by connecting to a host device such as a personal computer, a smartphone, a digital camera, an audio player, and a car navigation system.
図1は、従来SDカード100の端子配置を示した図である。従来SDカード100は、ホスト装置と接続するためのインターフェース(以下I/Fと略記)として、図1(a)に示すように1段目に配置されている9つの端子を有する。これらの各端子には、図1(b)に示すように、3.3V電源であるVDD1(端子番号4)、グラウンドであるVSS1およびVSS2(端子番号3、6)、シングルエンド方式のクロック信号であるCLK(端子番号5)、コマンド信号であるはCMD(端子番号2)、データ信号であるDAT0、DAT1、DAT2、DAT3(端子番号7、8、9、1)が割り当てられる。上記信号、電源、およびグラウンドから構成されるI/FをSD I/Fと呼び、最大バス速度は104MB/sである。
昨今、ギガビットオーダーの高速I/Fとして差動シリアル方式を利用したPCI Express(以下PCIeと略記)が注目されている。差動シリアル方式とは、ある信号Xについて、信号線X+および信号線X-の2本の信号線の組により構成される伝送路を用いて信号を高速に伝送する方式である。
FIG. 1 is a diagram showing a terminal arrangement of a
Recently, PCI Express (hereinafter abbreviated as PCIe) using a differential serial system as a high-speed I / F on the order of gigabit has been attracting attention. The differential serial system is a system in which a signal X is transmitted at high speed by using a transmission line composed of a set of two signal lines, a signal line X + and a signal line X−.
図2は、従来SDカード100にPCIe I/F 2レーンを追加したSD Expressカード200の端子配置を示した図である。このSD Expressカード200は、図2(a)に示すように3段に配置されている計27端子を有する。
FIG. 2 is a diagram showing a terminal arrangement of an SD Express
SD Expressカード200は、ホスト装置からの指示により、SD I/FもしくはPCIe I/Fのいずれか一方を選択してホスト装置と通信を行うことができる。またPCIe I/Fを2レーン有することから、PCIe I/Fが選択された場合、最大2レーンを用いたPCIe I/Fによる通信を行うことができる。
The SD Express
SD Expressカード200における各端子の割り当ては、図2(b)に示す通りである。
The allocation of each terminal in the SD Express
1段目の端子はSD I/Fが選択された場合とPCIe I/Fが選択された場合では各端子の信号割り当てが異なる。SD I/Fが選択された場合の端子割り当ては、従来SDカード100と共通である。一方PCIe I/Fが選択された場合、1段目の端子には、リセット信号であるPERST#信号(端子番号1)、クロック要求信号であるCLKREQ#信号(端子番号9)、差動クロック信号であるREFCLK+、REFCLK-(端子番号7、8)というPCIe制御信号が割り当てられる。なおVDD1、VSS1、VSS2は両I/Fで共通である。
As for the terminals of the first stage, the signal assignment of each terminal is different when SD I / F is selected and when PCIe I / F is selected. The terminal assignment when SD I / F is selected is the same as that of the
さらにPCIe I/Fが選択されたとき、2段目の端子には、1.8V電源であるVDD2(端子番号14)、3.3V電源であるVDD1a(端子番号19)、グラウンドであるVSS3、VSS4、VSS5(端子番号10、13、17)、PCIe I/F 1レーン目の差動データ信号であるTX0+、TX0-、RX0-、RX0+(端子番号11、12、15、16)が割り当てられる。なお端子番号18はReservedとし、将来の拡張に備えるために現在は未割当である。
Further, when PCIe I / F is selected, the terminals of the second stage include VDD2 (terminal number 14) which is a 1.8V power supply, VDD1a (terminal number 19) which is a 3.3V power supply, and VSS3 which is a ground. VSS4, VSS5 (
加えて3段目の端子には、1.8V電源であるVDD2a(端子番号24)、グラウンドであるVSS6、VSS7、VSS8(端子番号20、23、27)、PCIe I/F 2レーン目の差動データ信号であるTX1+、TX1-、RX1-、RX1+(端子番号21、22、25、26)が割り当てられる。
In addition, for the terminals on the third stage, the difference between VDD2a (terminal number 24), which is a 1.8V power supply, VSS6, VSS7, VSS8 (
SD Expressカード200がサポートするPCIe I/F1レーン当たりのバス速度が約2GB/s(Generation 4)であるとき、2レーンのPCIe I/Fを有するSD Expressカード200の最大バス速度は約4GB/sとなる。
When the bus speed per PCIe I /
図3は、SD Expressカード200の構成の一例を示した図である。図3において、メモリチップ301はホスト装置から入力されたデータを保存するメモリチップである。コントローラチップ302はPCIe I/Fを介してホスト装置とデータ通信を行い、かつメモリチップ301に対しデータの読み書きを制御するコントローラチップである。金属端子303はホスト装置とPCIe I/Fを介してデータを通信するための金属端子である。電子基板304は表面にメモリチップ301およびコントローラチップ302が実装され、裏面に金属端子303が実装された電子基板である。パッケージ305はメモリチップ301、コントローラチップ302、およびこれらの周辺の電子回路に直接手が触れることを避けるためのパッケージである。
FIG. 3 is a diagram showing an example of the configuration of the SD Express
メモリチップ301は、NANDフラッシュメモリをはじめとする不揮発性半導体メモリから構成される。昨今では、データ記録容量を大きくするため、複数の不揮発性半導体メモリを電子基板304に対して垂直に実装する場合が多くなっている。またコントローラチップ302は、少なくともPCIe I/Fを介してホスト装置と通信するための回路、メモリチップ301に対しデータを読み書きするための回路、データを一時的に保持するバッファ、およびこれらの回路もしくはバッファの動作させるため、CPU上で動作するファームウェアが含まれる。
The
電子基板304上に、メモリチップ301やコントローラチップ302など半導体チップを実装する方法は、以下の特許文献1、2に記載されている。
Methods for mounting semiconductor chips such as a
メモリチップ301は、主として3.3V電源を印加することで動作する。従来SDカード100およびSD Expressカード200の端子当たりの最大電流はおよそ500mAである。メモリチップ301の消費電力は、データ読み書き速度にほぼ比例するが、従来SDカード100のように最大バス速度が104MB/sの場合、3.3V電源端子としてVDD1を1個備えれば十分であった。しかしながら、SD Expressカード200が有する最大4GB/sのバス速度に見合うデータ読み書き速度を実現するには、3.3V電源の電流値をより高くしてメモリチップ301がより多くの電力を消費できるようにしなければならない。従ってSD Expressカード200では、3.3V電源端子としてVDD1に加えVDD1aを追加し、3.3V電源全体の電流値合計が500mAを超えることを許容している。
The
また、コントローラチップ302は一般にメモリチップ301より駆動電圧が低いことが多い。従来SDカード100では、3.3V電源でメモリチップ301に加えコントローラチップ302も駆動させていたが、SD Expressカード200では、電圧降下に伴う電力ロスを低減するため、新たに1.8V電源が導入された。またPCIeバスの速度が高くなるほど、コントローラチップ302の消費電力が高くなるため、3.3Vの場合と同様、1.8V電源としてVDD2およびVDD2aの2つの端子が導入された。
Further, the
このようにSD Expressカード200では、従来SDカード100に対して消費電力の最大値を緩和することで、ホスト装置から高速なデータアクセスが可能となっている。
As described above, in the SD Express
一方でSD Expressカード200へのアクセス速度が高くなるほど、メモリチップ301およびコントローラチップ302の消費電力が高くなり、結果として両チップから放出される発熱量が大きくなる。この場合、SD Expressカード200から適切な方法で熱を排出することが望ましい。
On the other hand, as the access speed to the SD Express
以上の課題を鑑み、本発明では、高速データアクセスが可能なSD Expressカードをはじめとする半導体メモリ装置に対し、内部で発生する熱を効果的に排熱する半導体メモリ装置、およびその製造方法を提供する。 In view of the above problems, the present invention provides a semiconductor memory device that effectively exhausts heat generated inside, and a manufacturing method thereof, for a semiconductor memory device such as an SD Express card capable of high-speed data access. offer.
本開示における半導体メモリ装置は、板状の半導体メモリ装置であって、前記半導体メモリ装置は、半導体チップが面上に装着された電子基板と、前記電子基板における前記半導体チップが装着された面を覆う接着フィルムと、前記接着フィルムを覆うヒートスプレッダと、前記ヒートスプレッダと前記電子基板に実装された金属パッドとを接続する金属ワイヤーと、を有する。 The semiconductor memory device in the present disclosure is a plate-shaped semiconductor memory device, and the semiconductor memory device includes an electronic substrate on which a semiconductor chip is mounted on a surface and a surface of the electronic substrate on which the semiconductor chip is mounted. It has an adhesive film for covering, a heat spreader for covering the adhesive film, and a metal wire for connecting the heat spreader and a metal pad mounted on the electronic substrate.
また、本開示の半導体メモリ装置の製造方法は、電子基板上面に半導体チップ、および金属パッドを実装し、前記電子基板および前記半導体チップの上に接着フィルムをかぶせ、
前記接着フィルム上にヒートスプレッダをかぶせ、前記ヒートスプレッダおよび前記金属パッドとを金属製ワイヤーで接続する工程を含む。
Further, in the method for manufacturing a semiconductor memory device of the present disclosure, a semiconductor chip and a metal pad are mounted on the upper surface of an electronic substrate, and an adhesive film is placed on the electronic substrate and the semiconductor chip.
The step of covering the adhesive film with a heat spreader and connecting the heat spreader and the metal pad with a metal wire is included.
本開示により、半導体メモリ装置内部のコントロールチップおよびメモリチップ上方から放出される熱を効率的に電子基板に伝導させることで、半導体メモリ装置の排熱効率を高めることができる。 According to the present disclosure, the heat exhaust efficiency of the semiconductor memory device can be improved by efficiently conducting the heat emitted from the control chip inside the semiconductor memory device and the upper part of the memory chip to the electronic substrate.
以下、適宜図面を参照しながら、実施の形態を詳細に説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。なお、同じ符号を付した構成要素については、それぞれの実施の形態において同一の機能を有するものとする。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. However, more detailed explanation than necessary may be omitted. For example, detailed explanations of already well-known matters and duplicate explanations for substantially the same configuration may be omitted. This is to avoid unnecessary redundancy of the following description and to facilitate the understanding of those skilled in the art. It should be noted that the components with the same reference numerals have the same function in each embodiment.
なお、本開示は、当業者が理解するための添付図面及び以下の説明を提供するのであって、これらによって請求の範囲に記載の主題を限定することを意図するものではない。 It should be noted that the present disclosure provides an attached drawing and the following description for those skilled in the art to understand, and is not intended to limit the subject matter described in the claims by these.
[第1の実施の形態]
図4は、本発明の第1の実施の形態にかかる半導体メモリ装置であるSD Expressカード、および上記に接続されるホスト装置の構成について説明した図である。図4において、SD Expressカード400は、メモリチップ401、コントローラチップ402、金属端子403、メタルコア基板404、メタルコア基板404の上面に実装された金属パッド405、およびメタルコア基板404の放熱効果を高めるスルーホール406を有する。また、SD Expressカード400は、内部の熱伝導率を高くするための接着フィルム407、上部の水平方向への熱伝導をよくするためのヒートスプレッダ408、ヒートスプレッダ408から金属パッド405への熱伝導効果を高める金属ワイヤー409、外部を覆うパッケージ410、を有する。SD Expressカード400と接続されるホスト装置450は、ホスト電子基板451、ホスト電子基板451上に実装されたホストコントローラ452、ホスト電子基板451上のホスト信号線453、ホスト電子基板451上に実装され、ホスト信号線453と金属端子403との間で信号および熱を伝達するコネクタピン454、を有する。
[First Embodiment]
FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of an SD Express card, which is a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, and a host device connected to the above. In FIG. 4, the
また図5は、メタルコア基板404の拡大図である。図5においては、メタルコア基板404における金属層501、上部絶縁層502、下部絶縁層503が示されている。
Further, FIG. 5 is an enlarged view of the
以下図4、図5を用いて、本発明の第1の実施の形態について説明する。 Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5.
ホスト装置450がSD Expressカード400にデータを記録するとき、ホストコントローラ452は、ホスト電子基板451上のホスト信号線453、コネクタピン454、およびの金属端子403を介して、SD Expressカード400にデータを送信する。金属端子403を介して受信されたデータは、コントローラチップ402の制御の下、メモリチップ401に伝送され、記録される。この時、データ伝送およびデータ記録速度が2GB/sから4GB/sと非常に高速である場合、メモリチップ401およびコントローラチップ402にて発生する熱を適切に排出することが望ましい。
When the
発熱体の各面から放出される熱量は、各面の表面積に比例する。通常、メモリチップ401およびコントローラチップ402は、ともに上面および下面の表面積が他の面に比べはるかに大きいため、これら各チップから熱が排出される方向は、図4の上方および下方が支配的である。よって以後の説明では、各チップでの排熱の方向は、図4の上方および下方のみを考える。
The amount of heat released from each surface of the heating element is proportional to the surface area of each surface. Normally, both the
本実施の形態においては、図5に示す構造によって放熱性能を高めている。 In the present embodiment, the heat dissipation performance is enhanced by the structure shown in FIG.
メタルコア基板404は、金属層501を上部絶縁層502および下部絶縁層503で挟むことで形成される電子基板である。金属層501として、銅、アルミニウム、もしくはこれらの化合物を用いることで、基板内の熱伝導率が高くなる。また上部絶縁層502および下部絶縁層503は、ガラスエポキシなどの樹脂が用いられることが多い。
The
本実施の形態においては、メタルコア基板404とヒートスプレッダ408とを接続する金属ワイヤー409によって放熱性能を高めている。
In the present embodiment, the heat dissipation performance is enhanced by the
またメタルコア基板404にはスルーホール406という金属製の小孔が上下方向に貫通しており、これによりメタルコア基板404の上下方向の放熱性能がさらに向上している。
Further, a small metal hole called a through
以下、本実施の形態にかかるSD Expressカードにおいて、主としてメモリチップ401およびコントローラチップ402から排出される熱を効率よく半導体メモリ装置外に放出する方法についてさらに詳しく説明する。
Hereinafter, in the SD Express card according to the present embodiment, a method of efficiently discharging the heat discharged mainly from the
<金属ワイヤー409の作用について>
メモリチップ401およびコントローラチップ402の下方から放出される熱は、メモリチップ401、コントローラチップ402、金属端子403間で電源や信号を送受信するために上部絶縁層502上に配線された導線を介して、メタルコア基板404に伝わる。そしてメタルコア基板404に伝導された熱は、上部絶縁層502、金属層501、下部絶縁層503の順に伝わってSD Expressカード400の下部に伝導する。
<About the action of
The heat released from below the
一方で、メモリチップ401およびコントローラチップ402の上方から放出される熱に関して説明すると、SD Expressカード400の上方には空気が存在し、通常その空気層の厚さはかなり大きい。従ってSD Expressカード400の上方から熱を放出しても空気の熱伝導率の低さ故、SD Expressカード400の温度上昇を効果的に抑止することが困難である。そこで、メモリチップ401およびコントローラチップ402の上方から放出される熱についても、SD Expressカード400の下方より排熱することを考える。
On the other hand, regarding the heat released from above the
メモリチップ401およびコントローラチップ402の上方から放出された熱は、接着フィルム407を介してSD Expressカード400の上部全体を覆っているヒートスプレッダ408に伝導する。
The heat released from above the
接着フィルム407がない場合、パッケージ410内に空気の層が生じることになり、SD Expressカード400上方への熱伝導率が低下する。接着フィルムを導入することで、コントローラチップ402、メモリチップ401の上方からの放熱効果を高めることができる。
Without the
更にヒートスプレッダ408は熱伝導率の高い銅またはベリリウム銅(BeCu)などの銅化合物で構成されており、SD Expressカード400上方で水平方向に効率よく熱が伝導する。その後、ヒートスプレッダ408の熱は、金属ワイヤー409を介してメタルコア基板404上面に伝導後、ホスト装置450のホスト電子基板451に排出される。なお、金属ワイヤー409は、メタルコア基板404の上部に実装されている金属パッド405と接続することで、SD Expressカード400下方への放熱効率を高めることができる。
Further, the
<スルーホール406の作用について>
次に、メモリチップ401およびコントローラチップ402の下方から放出される熱について説明する。コントローラチップ402の下方から放出される熱は、<金属ワイヤー409の作用について>で説明した経路に加え、スルーホール406を介してより効率よくSD Expressカード400の下部に熱が伝導する。
<About the action of through
Next, the heat released from below the
SD Expressカード400の下部に伝導された熱は、空気、もしくはコネクタピン454を介してホスト電子基板451に伝導する。空気は熱伝導率が低い物質であるが、SD Expressカード400およびホスト電子基板451との間は非常に近接しているため、熱伝導率を低下させる大きな要因とはならない。
The heat conducted to the lower part of the
通常、ホスト電子基板451は、SD Expressカード400よりはるかに表面積が大きい。従ってSD Expressカード400内部で排出された熱がホスト電子基板451に伝導すれば、速やかに熱が放出され、SD Expressカード400の温度上昇を抑止することができる。
Normally, the host
図3に示す従来のSD Expressカードでは電子基板304は非金属の絶縁層のみで構成され、かつ熱伝導率を高めるためのスルーホールが存在しない。これに対し、本実施の形態にかかるSD Expressカード400では、金属層501および熱伝導効果を高めるためのスルーホール406を有するメタルコア基板404を使用することで、SD Expressカード400の下方へ効率よく熱を伝導させることができる。
In the conventional SD Express card shown in FIG. 3, the
なお、本実施の形態においては、金属ワイヤー409が接続する金属パッド405の下部に更にスルーホール406を形成している。このようにすることで、上述したような金属ワイヤー409が奏する放熱作用と、スルーホール406が奏する放熱作用とを相乗させることができ、より一層放熱効果を向上させることができる。
In the present embodiment, a through
<本実施の形態にかかるSD Expressカード400の製造方法の一例>
以下、本実施の形態にかかるSD Expressカード400の製造方法について説明する。
<An example of a method for manufacturing the
Hereinafter, a method for manufacturing the
第1工程は、メタルコア基板404にスルーホール406を開けることである。スルーホールは、メモリチップ401、コントローラチップ402の下部に設けるほか、メタルコア基板404上面に実装される金属パッド405、もしくはメタルコア基板404下面に実装される金属端子に接続されるよう設けることが望ましい。
The first step is to make a through
第2工程は、必要な配線を施した上記メタルコア基板404の上面にメモリチップ401、コントローラチップ402を装着してハンダ実装することである。昨今のメモリチップ401は基板垂直方向に積層して実装されることが多いので、このようなメモリチップ401とメタルコア基板404とはワイヤーボンディングで接続される。
The second step is to mount the
第3工程は、第2工程で得られた中間物の上部に接着フィルム407、ヒートスプレッダ408をかぶせ、ヒートスプレッダ408とメタルコア基板404上部の金属パッド405とを金属ワイヤー409で接続することである。接着フィルム407は、SD Expressカード400内から空気層を可能な限り排除するように実装される。また、金属ワイヤー409は、上記ワイヤーボンディング実装可能な製造装置で実装できる。
The third step is to cover the
最後に各種部品が実装されたメタルコア基板404をパッケージ化することでパッケージ410が構成される。この際、SD Expressカード400内部の空洞は接着フィルム407で充填し、空気を排除することで熱伝導効率を高める。
Finally, the
これら一連の実装操作は、従来SDカード100もしくは従来のSD ExpressカードであるSD Expressカード200の実装操作を流用可能である。従って本実施の形態にかかるSD Expressカード400を製造するにあたって大きな設備投資を行う必要がなく、製造コスト増大を抑止することができる。
For these series of mounting operations, the mounting operation of the
以上説明したように、本実施の形態によれば、スルーホール406が存在するメタルコア基板404を用いることでSD Expressカード400下方への熱伝導率を高め、SD Expressカード400の温度上昇を抑止することができる。またメタルコア基板404上部に空気より熱伝導率の高い物質で構成される接着フィルム407と銅もしくは銅化合物製のヒートスプレッダ408を覆いかぶせてパッケージ化することで、メモリチップ401、コントローラチップ402上方から放出される熱を効率的にSD Expressカード400の下部に伝導し、さらに温度上昇抑止効果を高めることができる。
As described above, according to the present embodiment, by using the
[第2の実施の形態]
図6は、本発明の第2の実施の形態にかかる半導体メモリ装置であるSD Expressカード、および上記に接続されるホスト装置の構成について説明した図である。図6においては、SD Expressカード600、温度センサー601、コントローラチップ602が示されている。
[Second Embodiment]
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an SD Express card, which is a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention, and a host device connected to the above. In FIG. 6, an
以下、本発明の第2の実施の形態について、主として第1の実施の形態と異なる部分について説明する。 Hereinafter, the second embodiment of the present invention will be described mainly with respect to parts different from the first embodiment.
メタルコア基板404上面に実装された温度センサー601は、コントローラチップ602と信号通信ができるよう接続される。
The
温度センサー601で計測されたSD Expressカード600内の温度の実測値が、所定の頻度でコントローラチップ602に通知される。コントローラチップ602は、温度センサー601から通知された温度が所定の温度T1以上であると検知したとき、これ以上温度が上昇すると、メモリチップ401およびコントローラチップ602が熱による破壊を起こす恐れがあるため、メモリチップ401へのデータアクセス速度を低下させ、メモリチップ401およびコントローラチップ602の消費電力を低減させることで温度上昇抑止を図る。上記を実現するには、例えば、メモリチップ401とコントローラチップ602のデータアクセスを行うためのクロック周波数を下げたり、メモリチップ401とコントローラチップ602およびクロックやデータの送受信を一時的に止めることで、全体としてのデータアクセス速度を低下させたりする方法がある。
The measured value of the temperature in the
メモリチップ401へのアクセス速度が低下することでメモリチップ401およびコントローラチップ602の消費電力が低減し、温度センサー601から通知された温度が所定の温度T2以下であると検知したとき、コントローラチップ602は、メモリチップ401へのアクセスを元の方法に戻す。これによりメモリチップ401に対するアクセス速度は元に戻る。
The power consumption of the
本実施の形態において、メモリチップ401もしくはコントローラチップ602で発生する熱の外部への放出は、第1の実施の形態と同様に行われる。
In the present embodiment, the heat generated by the
以上説明したように、本実施の形態によれば、温度センサー601により検知されたSD Expressカード600内の温度がT1以上になったとき、コントローラチップ602はメモリチップ401へのアクセス速度を低下させ、コントローラチップ602およびメモリチップ401からの発熱量を低減させることで、これ以上の温度上昇を抑止する。またSD Expressカード600内の温度がT2以下になったとき、コントローラチップ602はメモリチップ401へのアクセス速度を元に戻し、通常のアクセス性能を実現する。
As described above, according to the present embodiment, when the temperature in the
なお閾値温度であるT1、T2は、SD Expressカードの構成、メモリチップ401およびコントローラチップ602の温度特性に応じて自由に設定することが可能である。ただし実用上、T1>T2と設定することが好ましい。
The threshold temperatures T1 and T2 can be freely set according to the configuration of the SD Express card and the temperature characteristics of the
なお本実施の形態の説明では、温度センサー601は温度の実測値(摂氏、華氏、絶対温度など、単位は問わない)をコントローラチップ602に通知しているが、T1以上になったこと、およびT2以下になったことがコントローラチップ602で識別できる信号であってもよい。
In the description of the present embodiment, the
また本実施の形態の説明では、SD Expressカード600内に温度センサー601は1個実装されているものとして説明したが、温度センサー601は複数個実装されていてもよい。この場合、例えばすべての温度センサー601の実測値の最大値をSD Expressカード600内の温度とみなすことができる。
Further, in the description of the present embodiment, it is assumed that one
さらに、本発明にかかる実施の形態は、SD Expressカードのみならず、半導体製メモリチップ、もしくはコントローラチップが搭載された電子機器にも適用可能である。 Further, the embodiment according to the present invention can be applied not only to an SD Express card but also to an electronic device equipped with a semiconductor memory chip or a controller chip.
本開示は、PCIeなど高速な外部インターフェースを持つ、SDメモリカードをはじめとする半導体メモリ装置、及び前記半導体メモリ装置の製造方法に関するものである。 The present disclosure relates to a semiconductor memory device such as an SD memory card having a high-speed external interface such as PCIe, and a method for manufacturing the semiconductor memory device.
100 従来SDカード
200 SD Expressカード
301 メモリチップ
302 コントローラチップ
303 金属端子
304 電子基板
305 パッケージ
400 SD Expressカード
401 メモリチップ
402 コントローラチップ
403 金属端子
404 メタルコア基板
405 金属パッド
406 スルーホール
407 接着フィルム
408 ヒートスプレッダ
409 金属ワイヤー
410 パッケージ
450 ホスト装置
451 ホスト電子基板
452 ホストコントローラ
453 ホスト信号線
454 コネクタピン
501 金属層
502 上部絶縁層
503 下部絶縁層
600 SD Expressカード
601 温度センサー
602 コントローラチップ
100
Claims (6)
半導体チップが面上に装着された電子基板と、
前記電子基板における前記半導体チップが装着された面を覆う接着フィルムと、
前記接着フィルムを覆うヒートスプレッダと、
前記ヒートスプレッダと前記電子基板に実装された金属パッドとを接続する金属ワイヤーと、
を有する半導体メモリ装置。 It is a plate-shaped semiconductor memory device.
An electronic board with a semiconductor chip mounted on the surface,
An adhesive film covering the surface of the electronic substrate on which the semiconductor chip is mounted, and
The heat spreader that covers the adhesive film and
A metal wire connecting the heat spreader and the metal pad mounted on the electronic board, and
A semiconductor memory device having.
前記ホスト装置から受信したデータを格納するメモリチップを含む、請求項1に記載の半導体メモリ装置。 The electronic substrate has a plurality of the semiconductor chips mounted on the surface, and the plurality of semiconductor chips include a controller chip that controls data transmitted to and received from a host device.
The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a memory chip for storing data received from the host device.
前記温度センサーが前記半導体メモリ装置の内部の温度が第1の所定温度以上であることを検知したとき、データ処理速度を通常時より低下させ、
前記半導体チップは、前記半導体メモリ装置の内部の温度が第2の所定温度以下であることを検知したとき、前記データ処理速度を前記通常時に戻す制御を行う、
請求項1に記載の半導体メモリ装置。 A temperature sensor is further provided inside the semiconductor memory device, and the temperature sensor is further provided.
When the temperature sensor detects that the temperature inside the semiconductor memory device is equal to or higher than the first predetermined temperature, the data processing speed is lowered from the normal time.
When the semiconductor chip detects that the temperature inside the semiconductor memory device is equal to or lower than the second predetermined temperature, the semiconductor chip controls to return the data processing speed to the normal time.
The semiconductor memory device according to claim 1.
電子基板上面に半導体チップ、および金属パッドを実装し、
前記電子基板および前記半導体チップの上に接着フィルムをかぶせ、
前記接着フィルム上にヒートスプレッダをかぶせ、
前記ヒートスプレッダおよび前記金属パッドとを金属製ワイヤーで接続する工程を含む、半導体メモリ装置製造方法。
It is a manufacturing method of semiconductor memory equipment.
A semiconductor chip and a metal pad are mounted on the upper surface of the electronic board,
An adhesive film is put on the electronic substrate and the semiconductor chip, and the adhesive film is put on the electronic substrate and the semiconductor chip.
Cover the adhesive film with a heat spreader.
A method for manufacturing a semiconductor memory device, which comprises a step of connecting the heat spreader and the metal pad with a metal wire.
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