JP2022035032A - Diffraction sheet and manufacturing method, and three-dimensional display device - Google Patents

Abstract

To realize diffraction patterns which are arranged with high accuracy even for the case of a large area.SOLUTION: A three-dimensional display device 51 comprises: a diffraction sheet 1 of diagonally 10 inches or more that has a diffraction layer that includes a first diffraction pattern arranged on a transparent substrate in a first arrangement pattern and a second diffraction pattern arranged in a second arrangement pattern; a liquid crystal device LC having a plurality of pixels; and a light source. The first and second diffraction patterns and the pixels overlap in the normal direction of the diffraction sheet, the misalignment amount of which being 1/10 or less of the pixel pitch.SELECTED DRAWING: Figure 16

Description

本発明は、回折シートおよびその製造方法に関する。この回折シートを備えた３次元表示装置についても言及する。 The present invention relates to a diffraction sheet and a method for producing the same. A three-dimensional display device provided with this diffraction sheet will also be referred to.

光の回折現象を用いて光の方向を制御し、３次元像（立体像）を表示する様々な技術が知られている。
特許文献１には、液晶パネル等の遮光手段と回折パターンとを重ねることで、像飛びなく自然に動く３次元像を表示することが記載されている。 Various techniques for displaying a three-dimensional image (three-dimensional image) by controlling the direction of light by using the diffraction phenomenon of light are known.
Patent Document 1 describes that a three-dimensional image that moves naturally without skipping is displayed by superimposing a light-shielding means such as a liquid crystal panel and a diffraction pattern.

特許文献２や特許文献３には、回折格子やホログラムなどの回折素子を複数配置し、光源と回折格子セルとカラーフィルターとを組み合わせることで、自然な色彩の立体像を表示する表示体が記載されている。
このように、複数の回折素子が配置された回折パターンと、液晶やカラーフィルターのような配列されたパターンとを位置合わせしつつ組み合わせることで、３次元像を動かしたりフルカラー表示したりできる。 Patent Document 2 and Patent Document 3 describe a display body that displays a three-dimensional image of natural colors by arranging a plurality of diffraction elements such as diffraction gratings and holograms and combining a light source, a diffraction grating cell, and a color filter. Has been done.
In this way, by combining a diffraction pattern in which a plurality of diffraction elements are arranged and an arranged pattern such as a liquid crystal display or a color filter while aligning them, a three-dimensional image can be moved or displayed in full color.

特開平７－２８７１９２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-287192 特開平８－２１１８２１号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-21821 特開２０１７－２１９８２４号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-21824 特開２００３－３１６２４１号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-316241

上述した技術を用いて、より大きな３次元像を表示したいというニーズが存在する。しかしながら、可視光を回折する回折パターンはサブミクロンオーダーの微細な構造であり、電子線描画装置やレーザー描画装置等を用いて作製されるため、現状では一度に形成できるサイズの上限は１０インチ（長方形の対角線）以下となっている。 There is a need to display a larger three-dimensional image using the above-mentioned technique. However, since the diffraction pattern that diffracts visible light has a fine structure on the order of sub-micron and is manufactured using an electron beam lithography system, a laser lithography system, etc., the upper limit of the size that can be formed at one time is 10 inches (currently). Diagonal line of rectangle) or less.

大面積の回折パターンを作成する方法として、特許文献４には、複数の単位原版からなる多面原版を用いて作成する方法が記載されている。 As a method for creating a diffraction pattern having a large area, Patent Document 4 describes a method for creating a multi-faceted original plate including a plurality of unit original plates.

多面原版においては、複数の単位原版を整列配置する際の精度に限界があり、数十μｍから数百μｍ程度のずれがどうしても生じてしまう。位置を変えながら単位原版の転写を複数回繰り返す場合も同様のずれが避けられない。
単に三次元像を表示するだけであればこのずれは許容できるが、３次元像を動かしたりフルカラー表示したりするためには、回折パターンと、カラーフィルターや液晶画素の配列パターンとを位置合わせする必要がある。良好な表示を行う観点からは、そのずれを配列ピッチの１／１０以下程度に収める必要があるが、上述の状況より、特許文献４に記載の方法だけでは極めて困難であり、ほぼ不可能である。 In the multi-faceted original plate, there is a limit to the accuracy when arranging a plurality of unit original plates in an aligned manner, and a deviation of about several tens of μm to several hundreds of μm inevitably occurs. Similar deviations are unavoidable when the transfer of the unit original plate is repeated multiple times while changing the position.
This deviation can be tolerated if only a three-dimensional image is displayed, but in order to move the three-dimensional image or display it in full color, the diffraction pattern is aligned with the color filter or the arrangement pattern of the liquid crystal pixels. There is a need. From the viewpoint of good display, it is necessary to keep the deviation within about 1/10 of the arrangement pitch, but from the above situation, it is extremely difficult and almost impossible to use only the method described in Patent Document 4. be.

上記事情に鑑み、本発明は、大面積であっても高精度に配列された回折パターンを実現できる回折シートを提供することを目的とする。
本発明の他の目的は、動く３次元像やカラーの３次元像を表示できる大面積の３次元表示装置を提供することである。 In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a diffraction sheet capable of realizing a diffraction pattern arranged with high accuracy even in a large area.
Another object of the present invention is to provide a large-area three-dimensional display device capable of displaying a moving three-dimensional image or a color three-dimensional image.

本発明の第一の態様は、透明な基板上に第一配列パターンで配置された第一回折パターンと、第二配列パターンで配置された第二回折パターンとを含む回折層とを有する、対角１０インチ以上の回折シートと、複数の画素を有する液晶装置、および２種類以上の色フィルタを有するカラーフィルターの何れかとを備える３次元表示装置である。
この３次元表示装置においては、回折シートの法線方向において、第一回折パターンおよび第二回折パターンと、画素または色フィルタとが重なって配置されており、かつそのずれ量が画素又は色フィルタのピッチの１／１０以下である。 A first aspect of the present invention has a pair having a diffraction layer including a first diffraction pattern arranged in a first arrangement pattern and a second diffraction pattern arranged in a second arrangement pattern on a transparent substrate. It is a three-dimensional display device including any of a diffraction sheet having an angle of 10 inches or more, a liquid crystal device having a plurality of pixels, and a color filter having two or more types of color filters.
In this three-dimensional display device, the first diffraction pattern and the second diffraction pattern and the pixel or the color filter are arranged so as to overlap each other in the normal direction of the diffraction sheet, and the amount of deviation thereof is the pixel or the color filter. It is 1/10 or less of the pitch.

本発明の第二の態様は、回折シートの製造方法である。
この製造方法は、対角１０インチ以上の透明な基板上に、第一未硬化樹脂層を形成するステップＡと、第一版の一方の面に対角１０インチ以上の矩形範囲にわたり形成された第一回折パターンを第一未硬化樹脂層に接触させるステップＢと、第一配列パターンに基づいて形成された複数の第一開口を有する第一マスクを第一版上に配置し、光を照射して第一未硬化樹脂層のうち第一開口と重なる部位を硬化させるステップＣと、基板上の第一未硬化樹脂層が形成された側に第二未硬化樹脂層を形成するステップＤと、第二版の一方の面に対角１０インチ以上の矩形範囲にわたり形成された、第一回折パターンと異なる第二回折パターンを第二未硬化樹脂層に接触させるステップＥと、第一配列パターンと異なる第二配列パターンに基づいて形成された複数の第二開口を有する第二マスクを第二版上に配置し、光を照射して第二未硬化樹脂層のうち第二開口と重なる部位を硬化させるステップＦとを備える。 A second aspect of the present invention is a method for manufacturing a diffraction sheet.
In this manufacturing method, step A for forming the first uncured resin layer on a transparent substrate having a diagonal of 10 inches or more and a rectangular range having a diagonal of 10 inches or more on one surface of the first plate were formed. Step B, in which the first diffraction pattern is brought into contact with the first uncured resin layer, and a first mask having a plurality of first openings formed based on the first arrangement pattern are placed on the first plate and irradiated with light. Then, step C of curing the portion of the first uncured resin layer that overlaps with the first opening, and step D of forming the second uncured resin layer on the side of the substrate on which the first uncured resin layer is formed. Step E, in which a second diffraction pattern different from the first diffraction pattern, which is formed on one surface of the second plate over a rectangular range of 10 inches or more diagonally, is brought into contact with the second uncured resin layer, and the first arrangement pattern. A second mask having a plurality of second openings formed based on a second arrangement pattern different from the above is placed on the second plate and irradiated with light to a portion of the second uncured resin layer that overlaps with the second opening. The step F for curing the light is provided.

本発明の第三の態様は、透明な基板と、基板上に第一配列パターンで配置された第一回折パターンと、基板上であって第一回折パターンと同じ側に第一回折パターンと異なる第二配列パターンで配置された第二回折パターンとを含む回折層とを備え、第二回折パターンが第一回折パターンよりも厚い回折シートである。 The third aspect of the present invention is different from the transparent substrate, the first diffraction pattern arranged in the first arrangement pattern on the substrate, and the first diffraction pattern on the substrate on the same side as the first diffraction pattern. It is a diffraction sheet having a diffraction layer including a second diffraction pattern arranged in a second arrangement pattern, and the second diffraction pattern is thicker than the first diffraction pattern.

本発明によれば、大面積であっても高精度に配列された回折パターンを実現できる。
これにより、動く３次元像やカラーの３次元像を表示できる大面積の３次元表示装置の実現に寄与できる。 According to the present invention, it is possible to realize a diffraction pattern arranged with high accuracy even in a large area.
This can contribute to the realization of a large-area 3D display device capable of displaying a moving 3D image or a color 3D image.

本発明の第一実施形態に係る回折シートの製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method of the diffraction sheet which concerns on 1st Embodiment of this invention. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 同製造方法の一過程を示す図である。It is a figure which shows one process of the manufacturing method. 完成した同回折シートを示す図である。It is a figure which shows the completed diffraction sheet. 同回折シートの変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the diffraction sheet. 同回折シートの変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the diffraction sheet. 本発明の第二実施形態に係る回折シートを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the diffraction sheet which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明に係る三次元表示装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the 3D display device which concerns on this invention. 本発明に係る三次元表示装置の他の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows another example of the 3D display device which concerns on this invention.

以下、本発明の第一実施形態について、図１から図１４を参照しながら説明する。
まず、本実施形態に係る回折シート１の製造方法について説明する。
ステップＡとして、図１に示すように、透明な基板１０上に、光硬化樹脂を層状に配置して未硬化樹脂層（第一未硬化樹脂層）２０を形成する。基板１０としては、ガラスや各種樹脂を使用できる。光硬化樹脂の典型例は紫外線硬化樹脂であるが、それ以外の材料も使用できる。 Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 14.
First, a method for manufacturing the diffraction sheet 1 according to the present embodiment will be described.
As step A, as shown in FIG. 1, a photocurable resin is arranged in a layer on a transparent substrate 10 to form an uncured resin layer (first uncured resin layer) 20. As the substrate 10, glass or various resins can be used. A typical example of a photocurable resin is an ultraviolet curable resin, but other materials can also be used.

ステップＢとして、図２に示すように、第一版１００を未硬化樹脂層２０に接近させ、第一版１００に形成された第一回折パターン１００ａを未硬化樹脂層２０に接触させる。
第一版１００は、対角１０インチを超える大面積の透明版であり、特許文献４に記載された技術を用いて作製できる。例えば、対角１０インチの単位原版を３×３で二次元マトリクス状に配列あるいは転写すると、対角３０インチ程度の第一版１００を作製できる。第一回折パターン１００ａは、第一版１００の一方の面において、対角１０インチ以上の矩形範囲に形成されており、作製しようとする回折シートとほぼ同様の寸法を有する。 As step B, as shown in FIG. 2, the first plate 100 is brought close to the uncured resin layer 20, and the first diffraction pattern 100a formed on the first plate 100 is brought into contact with the uncured resin layer 20.
The first edition 100 is a transparent plate having a large area of more than 10 inches diagonally, and can be manufactured by using the technique described in Patent Document 4. For example, by arranging or transferring a unit original plate having a diagonal of 10 inches in a 3 × 3 two-dimensional matrix, a first plate 100 having a diagonal of about 30 inches can be produced. The first diffraction pattern 100a is formed in a rectangular range having a diagonal of 10 inches or more on one surface of the first plate 100, and has substantially the same dimensions as the diffraction sheet to be manufactured.

続くステップＣにおいて、図３に示すように第一マスク１１０を第一版１００上に配置し、未硬化樹脂層２０を硬化させる光を照射する。
第一マスク１１０は、第一配列パターンに基づいて形成された複数の開口（第一開口）１１０ａを有する。第一配列パターンは、例えばＲＧＢカラーフィルターの赤フィルタの配列である。第一マスクは、カラーフィルターを形成するためのマスクと概ね同様であり、大面積のものも公知の方法で比較的簡便に作製できる。
ステップＣにより、未硬化樹脂層２０のうち、平面視において開口１１０aと重なり開口１１０a内に露出した部分のみが硬化する。第一版１００および第一マスク１１０を移動させて硬化していない未硬化樹脂層を洗浄等により除去すると、図４に示すように、第一配列パターンにパターニングされた第一回折パターン２１が基板１０上に形成される。
なお、本明細書における開口は光が透過する部位を意味する。したがって、マスクに穴（空間）があることは必須ではない。 In the subsequent step C, as shown in FIG. 3, the first mask 110 is placed on the first plate 100 and irradiated with light for curing the uncured resin layer 20.
The first mask 110 has a plurality of openings (first openings) 110a formed based on the first arrangement pattern. The first array pattern is, for example, an array of red filters of an RGB color filter. The first mask is almost the same as the mask for forming the color filter, and a mask having a large area can be relatively easily manufactured by a known method.
By step C, only the portion of the uncured resin layer 20 that overlaps with the opening 110a and is exposed in the opening 110a in a plan view is cured. When the uncured resin layer that has not been cured is removed by moving the first plate 100 and the first mask 110 by washing or the like, as shown in FIG. 4, the first diffraction pattern 21 patterned in the first arrangement pattern becomes a substrate. Formed on 10.
The opening in the present specification means a portion through which light is transmitted. Therefore, it is not essential that the mask has holes (spaces).

続くステップＤにおいて、基板１０上の第一回折パターン２１が形成された側に、光硬化樹脂を配置し、図５に示すように、未硬化樹脂層（第二未硬化樹脂層）２０Ａを形成する。この未硬化樹脂層２０Ａを構成する光硬化樹脂は、ステップＡで用いたものと同一でもよいし、異なってもよい。未硬化樹脂層２０Ａは、第一回折パターン２１の一部または全部を覆ってもよい。 In the following step D, the photocurable resin is arranged on the side of the substrate 10 on which the first diffraction pattern 21 is formed, and as shown in FIG. 5, an uncured resin layer (second uncured resin layer) 20A is formed. do. The photocurable resin constituting the uncured resin layer 20A may be the same as that used in step A, or may be different. The uncured resin layer 20A may cover a part or all of the first diffraction pattern 21.

続くステップＥとして、図６に示すように、第二版２００を未硬化樹脂層２０Ａに接近させ、第二版２００に形成された第二回折パターン２００aを未硬化樹脂層２０Ａに接触させる。
第二版２００は、第一版１００と同様のサイズの透明な版である。第二回折パターン２００ａは、第一回折パターン１００ａと異なる回折パターンであり、第二版２００の一方の面において、対角１０インチ以上の矩形範囲に形成されている。 As a subsequent step E, as shown in FIG. 6, the second plate 200 is brought close to the uncured resin layer 20A, and the second diffraction pattern 200a formed on the second plate 200 is brought into contact with the uncured resin layer 20A.
The second edition 200 is a transparent plate having the same size as the first edition 100. The second diffraction pattern 200a is a diffraction pattern different from the first diffraction pattern 100a, and is formed in a rectangular range of 10 inches or more diagonally on one surface of the second plate 200.

続くステップＦにおいて、図７に示すように第二マスク２１０を第二版２００上に配置し、未硬化樹脂層２０Ａを硬化させる光を照射する。
第二マスク２１０は、第一配列パターンと異なる第二配列パターンに基づいて形成された複数の開口（第二開口）２１０ａを有する。第二配列パターンは、例えばＲＧＢカラーフィルターの緑フィルタの配列である。
ステップＦにより、未硬化樹脂層２０Ａのうち、平面視において開口２１０aと重なり開口２１０a内に露出した部分のみが硬化する。第二版２００および第二マスク２１０を移動させて硬化していない未硬化樹脂層を洗浄等により除去すると、図８に示すように、第二配列パターンにパターニングされた第二回折パターン２２が基板１０上に形成される。このとき、第一回折パターン２１の一部または全部を覆っていた未硬化樹脂も除去される。 In the subsequent step F, as shown in FIG. 7, the second mask 210 is placed on the second plate 200 and irradiated with light for curing the uncured resin layer 20A.
The second mask 210 has a plurality of openings (second openings) 210a formed based on a second arrangement pattern different from the first arrangement pattern. The second array pattern is, for example, an array of green filters of an RGB color filter.
By step F, of the uncured resin layer 20A, only the portion of the uncured resin layer 20A that overlaps with the opening 210a and is exposed in the opening 210a is cured in a plan view. When the second plate 200 and the second mask 210 are moved to remove the uncured resin layer by washing or the like, as shown in FIG. 8, the second diffraction pattern 22 patterned in the second arrangement pattern is formed on the substrate. Formed on 10. At this time, the uncured resin covering a part or all of the first diffraction pattern 21 is also removed.

続くステップＧにおいて、基板１０上の第二回折パターン２２が形成された側に、光硬化樹脂を配置し、図９に示すように、未硬化樹脂層（第三未硬化樹脂層）２０Ｂを形成する。未硬化樹脂層２０Ｂを構成する光硬化樹脂は、ステップＡおよびＤで用いたもののいずれかと同一でもよいし、いずれとも異なってもよい。未硬化樹脂層２０Ｂは、第一回折パターン２１および第二回折パターン２２の一部または全部を覆ってもよい。 In the following step G, the photocurable resin is arranged on the side of the substrate 10 on which the second diffraction pattern 22 is formed, and as shown in FIG. 9, the uncured resin layer (third uncured resin layer) 20B is formed. do. The photocurable resin constituting the uncured resin layer 20B may be the same as or different from those used in steps A and D. The uncured resin layer 20B may cover a part or all of the first diffraction pattern 21 and the second diffraction pattern 22.

続くステップＨとして、図１０に示すように、第三版３００を未硬化樹脂層２０Ｂに接近させ、第三版３００に形成された第三回折パターン３００aを未硬化樹脂層２０Ｂに接触させる。
第三版３００は、第一版１００および第二版２００と同様のサイズの透明な版である。第三回折パターン３００ａは、第一回折パターン１００ａおよび第二回折パターン２００ａのいずれとも異なる回折パターンであり、第三版３００の一方の面において、対角１０インチ以上の矩形範囲に形成されている。 As a subsequent step H, as shown in FIG. 10, the third plate 300 is brought close to the uncured resin layer 20B, and the third diffraction pattern 300a formed on the third plate 300 is brought into contact with the uncured resin layer 20B.
The third edition 300 is a transparent plate of the same size as the first edition 100 and the second edition 200. The third diffraction pattern 300a is a diffraction pattern different from both the first diffraction pattern 100a and the second diffraction pattern 200a, and is formed in a rectangular range of 10 inches or more diagonally on one surface of the third plate 300. ..

続くステップＩにおいて、図１１に示すように第三マスク３１０を第三版３００上に配置し、未硬化樹脂層２０Ｂを硬化させる光を照射する。
第三マスク３１０は、第一配列パターンおよび第二配列パターンのいずれとも異なる第三配列パターンに基づいて形成された複数の開口（第三開口）３１０ａを有する。第三配列パターンは、例えばＲＧＢカラーフィルターの青フィルタの配列である。
ステップＩにより、未硬化樹脂層２０Ｂのうち、平面視において開口３１０aと重なり開口３１０a内に露出した部分のみが硬化する。第三版３００および第三マスク３１０を移動させて硬化していない未硬化樹脂層を洗浄等により除去すると、図１２に示すように、第三配列パターンにパターニングされた第三回折パターン２３が基板１０上に形成される。 In the following step I, as shown in FIG. 11, the third mask 310 is placed on the third plate 300 and irradiated with light for curing the uncured resin layer 20B.
The third mask 310 has a plurality of openings (third openings) 310a formed based on a third arrangement pattern that is different from both the first arrangement pattern and the second arrangement pattern. The third array pattern is, for example, an array of blue filters of an RGB color filter.
By step I, of the uncured resin layer 20B, only the portion of the uncured resin layer 20B that overlaps with the opening 310a and is exposed in the opening 310a in a plan view is cured. When the uncured resin layer that has not been cured is removed by moving the third plate 300 and the third mask 310 by washing or the like, as shown in FIG. 12, the third diffraction pattern 23 patterned in the third arrangement pattern is formed on the substrate. Formed on 10.

以上の工程を経て、本実施形態の回折シート１が製造される。回折シート１は、図１２に示すように、基板１０上に、第一回折パターン２１、第二回折パターン２２、および第三回折パターン２３を含む回折層３０を備えて構成されている。
第一回折パターン２１、第二回折パターン２２、および第三回折パターン２３は、回折シート１の平面視において、それぞれ第一配列パターン、第二配列パターン、および第三配列パターンに基づいて精度良く配置されている。したがって、第一配列パターン、第二配列パターン、および第三配列パターンに基づいて三色の色フィルタが配置されたカラーフィルターや、開口１１０ａ、開口２１０ａ、および開口３１０aと同一サイズの画素が配列された、液晶層と駆動基板とを有する液晶装置に、位置合わせしつつ取り付けることにより、回折シート１の法線方向において各回折パターン２１、２２、２３を色フィルタや画素と重ね合わせ、かつそのずれ量を色フィルタや画素のピッチの１／１０以下に抑えることができる。 Through the above steps, the diffraction sheet 1 of the present embodiment is manufactured. As shown in FIG. 12, the diffraction sheet 1 is configured to include a diffraction layer 30 including a first diffraction pattern 21, a second diffraction pattern 22, and a third diffraction pattern 23 on the substrate 10.
The first diffraction pattern 21, the second diffraction pattern 22, and the third diffraction pattern 23 are accurately arranged based on the first arrangement pattern, the second arrangement pattern, and the third arrangement pattern, respectively, in the plan view of the diffraction sheet 1. Has been done. Therefore, a color filter in which three color filters are arranged based on the first arrangement pattern, the second arrangement pattern, and the third arrangement pattern, and pixels having the same size as the opening 110a, the opening 210a, and the opening 310a are arranged. Further, by attaching the diffraction patterns 21, 22, and 23 to the liquid crystal device having the liquid crystal layer and the drive substrate while aligning them, the diffraction patterns 21, 22, and 23 are superimposed on the color filter and the pixels in the normal direction of the diffraction sheet 1, and the deviation thereof. The amount can be suppressed to 1/10 or less of the color filter and the pitch of the pixels.

本実施形態に係る回折シートの製造方法によれば、ステップＢ、Ｅ、Ｈで用いる各版においては、パターニングされていない全面回折パターンを用い、ステップＣ、Ｆ、Ｉにおけるマスクを用いた光照射により、未硬化樹脂層をパターニングしつつ硬化させる。
これにより、対角１０インチ以上の大面積であっても、高いパターニング精度を実現しつつ複数の回折パターンを含む回折層３０を形成できる。 According to the method for manufacturing a diffraction sheet according to the present embodiment, in each of the plates used in steps B, E, and H, an unpatterned full-face diffraction pattern is used, and light irradiation using a mask in steps C, F, and I is performed. Allows the uncured resin layer to be cured while being patterned.
This makes it possible to form the diffraction layer 30 including a plurality of diffraction patterns while achieving high patterning accuracy even with a large area having a diagonal of 10 inches or more.

本実施形態では、版とマスクとを用いた回折パターンの形成を３セット行う例を説明したが、これは一例に過ぎない。回折パターンの形成回数は、２以上の所望の回数とできる。例えば、再生される３次元像が少しずつ異なる複数のパターンを形成し、液晶装置に取り付けて表示装置を構成することにより、動く三次元像を表示することが可能になる。 In this embodiment, an example of forming three sets of diffraction patterns using a plate and a mask has been described, but this is only an example. The number of times the diffraction pattern is formed can be a desired number of two or more. For example, a moving three-dimensional image can be displayed by forming a plurality of patterns in which the reproduced three-dimensional images are slightly different and attaching them to a liquid crystal device to form a display device.

図１３に示す変形例の回折シート１Ａは、基板１０と回折層３０との間に複数種類の色フィルタを含むカラーフィルター４０を備えている。
回折シート１Ａの製造時は、カラーフィルターの各色フィルタを形成する際のマスクを、そのまま第一マスク１１０、第二マスク２１０、および第三マスク３１０として使用できるため、各回折パターンと対応する色フィルタとのずれ量を色フィルタのピッチの１／１０以下に抑えつつ、簡便に製造できる。 The diffraction sheet 1A of the modification shown in FIG. 13 includes a color filter 40 including a plurality of types of color filters between the substrate 10 and the diffraction layer 30.
At the time of manufacturing the diffraction sheet 1A, the mask used for forming each color filter of the color filter can be used as it is as the first mask 110, the second mask 210, and the third mask 310. Therefore, the color filter corresponding to each diffraction pattern is used. It can be easily manufactured while suppressing the amount of deviation from the color filter to 1/10 or less of the pitch of the color filter.

図１４に示す変形例の回折シート１Ｂは、回折層に代えて回折層４０Ａを備えている。回折層４０Ａは、赤色の色材を含有する第一回折パターン４１と、緑色の色材を含有する第二回折パターン４２と、青色の色材を含有する第三回折パターン４３とを有する。すなわち、回折層４０Ａは、カラーフィルターとしても機能する。
回折シート１Ｂは、未硬化樹脂層の材料に対応する色材を混合するだけで、上述と同様の手順により作製できる。回折シート１Ｂにおいては、カラーフィルターと回折パターンとのずれが全く生じないという利点がある。 The diffraction sheet 1B of the modified example shown in FIG. 14 includes a diffraction layer 40A instead of the diffraction layer. The diffraction layer 40A has a first diffraction pattern 41 containing a red color material, a second diffraction pattern 42 containing a green color material, and a third diffraction pattern 43 containing a blue color material. That is, the diffraction layer 40A also functions as a color filter.
The diffraction sheet 1B can be produced by the same procedure as described above only by mixing the coloring material corresponding to the material of the uncured resin layer. The diffraction sheet 1B has an advantage that the color filter and the diffraction pattern do not deviate at all.

本発明の第二実施形態について、図１５から図１７を参照して説明する。以降の説明において、既に説明したものと共通する構成については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。 A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 15 to 17. In the following description, the same reference numerals will be given to the configurations common to those already described, and duplicate description will be omitted.

図１５は、本実施形態に係る回折シート２を示す模式図である。回折シート２は、回折層３０に代えて回折層３０Ａを備えている。
回折層３０Ａを構成する３つの回折パターンのうち、第一回折パターン２１は、第一実施形態と同一である。第二回折パターン２２Ａは、パターン自体は第二回折パターン２２と同一であるものの、第二回折パターン２２より厚く形成されている。第三回折パターン２３Ａは、パターン自体は第三回折パターン２３と同一であり、第二回折パターン２２Ａよりもさらに厚く形成されている。 FIG. 15 is a schematic view showing the diffraction sheet 2 according to the present embodiment. The diffraction sheet 2 includes a diffraction layer 30A instead of the diffraction layer 30.
Of the three diffraction patterns constituting the diffraction layer 30A, the first diffraction pattern 21 is the same as that of the first embodiment. Although the pattern itself is the same as the second diffraction pattern 22, the second diffraction pattern 22A is formed thicker than the second diffraction pattern 22. The pattern itself of the third diffraction pattern 23A is the same as that of the third diffraction pattern 23, and is formed to be thicker than the second diffraction pattern 22A.

回折シート２は、概ね第一実施形態と同様の手順で製造できる。第一実施形態からの変更点は、以下の通りである。
・ステップＥにおいて、未硬化樹脂層２０Ａを未硬化樹脂層２０よりも厚く形成する。
・ステップＦにおいて、第二版２００は第一版１００よりも高い位置で停止される。
・ステップＧにおいて、未硬化樹脂層２０Ｂを未硬化樹脂層２０Ａよりも厚く形成する。
・ステップＨにおいて、第三版３００は第二版２００よりも高い位置で停止される。
回折層における回折パターンの種類が増える場合は、同様に、新しく形成する未硬化樹脂層を、直前に形成した未硬化樹脂層よりも厚く形成すればよい。 The diffraction sheet 2 can be manufactured by substantially the same procedure as in the first embodiment. The changes from the first embodiment are as follows.
-In step E, the uncured resin layer 20A is formed thicker than the uncured resin layer 20.
-In step F, the second edition 200 is stopped at a position higher than the first edition 100.
-In step G, the uncured resin layer 20B is formed thicker than the uncured resin layer 20A.
-In step H, the third edition 300 is stopped at a higher position than the second edition 200.
Similarly, when the types of diffraction patterns in the diffraction layer increase, the newly formed uncured resin layer may be formed thicker than the uncured resin layer formed immediately before.

本実施形態に係る回折シートおよびその製造方法は、第一実施形態と同様の効果を奏する。
さらに、後に形成される回折パターンが、より厚く形成されるため、版が既に形成された回折パターンと接触しにくい。その結果、形成済みの回折パターンの変形や損傷等を好適に抑制できる。 The diffraction sheet and the method for manufacturing the diffraction sheet according to the present embodiment have the same effects as those of the first embodiment.
Further, since the diffraction pattern formed later is formed thicker, it is difficult for the plate to come into contact with the already formed diffraction pattern. As a result, deformation and damage of the formed diffraction pattern can be suitably suppressed.

本実施形態において、回折パターン間の段差の寸法は適宜設定でき、例えば１００ｎｍ以上１０μｍ以下とできる。段差が大きすぎると、隣接する色フィルタや画素に入射して迷光となる漏れ光が増加する点に注意する。
回折パターンの平均ピッチをｄ、光の波長をλ、回折角θとすると、以下の式１が成り立つ。
Ｓｉｎ(θ)＝λ／ｄ …（１）
このとき、回折シート１の平面視における漏れ光の幅ｗは、以下の式２により算出できる。ｗの値を色フィルタや画素のピッチの１／１０以下に抑えることにより、迷光の影響を問題ない程度に小さくできる。
ｗ＝ｈ×ｔａｎ（θ） …（２） In the present embodiment, the size of the step between the diffraction patterns can be appropriately set, and can be, for example, 100 nm or more and 10 μm or less. Note that if the step is too large, the amount of leaked light that enters the adjacent color filter or pixel and becomes stray light increases.
Assuming that the average pitch of the diffraction pattern is d, the wavelength of light is λ, and the diffraction angle θ, the following equation 1 holds.
Sin (θ) = λ / d ... (1)
At this time, the width w of the leaked light in the plan view of the diffraction sheet 1 can be calculated by the following equation 2. By suppressing the value of w to 1/10 or less of the color filter or the pitch of the pixels, the influence of stray light can be reduced to the extent that there is no problem.
w = h × tan (θ)… (2)

他の観点として、段差の寸法は、後から形成される回折パターンの高さ、すなわち表面凹凸の深さ以上であることが好ましく、表面凹凸の深さの１．５倍以上であることが好ましい。このようにすると、より厚い未硬化樹脂層に版を接触させる際に、版が既に形成された回折パターンに接触しにくく、形成済みの回折パターンが好適に保持される。 From another viewpoint, the dimension of the step is preferably the height of the diffraction pattern formed later, that is, the depth of the surface unevenness or more, and preferably 1.5 times or more the depth of the surface unevenness. .. By doing so, when the plate is brought into contact with the thicker uncured resin layer, the plate is less likely to come into contact with the already formed diffraction pattern, and the formed diffraction pattern is preferably retained.

本発明に係る回折シートを適用した３次元表示装置について説明する。図１６は、液晶装置ＬＣの入射側に回折シート１を配置した３次元表示装置５１の模式図である。回折層３０から射出する光は不図示の光源から回折シート１に入射した光よりも回折シート１に対して垂直に近い角度を有するため、回折シート１の回折パターンと液晶装置ＬＣの画素とを適切にアライメントすることにより、液晶装置ＬＣや液晶装置にＬＣに取り付けられたカラーフィルターに対して精度よく光を導ける。 A three-dimensional display device to which the diffraction sheet according to the present invention is applied will be described. FIG. 16 is a schematic view of a three-dimensional display device 51 in which the diffraction sheet 1 is arranged on the incident side of the liquid crystal device LC. Since the light emitted from the diffraction layer 30 has an angle closer to perpendicular to the diffraction sheet 1 than the light incident on the diffraction sheet 1 from a light source (not shown), the diffraction pattern of the diffraction sheet 1 and the pixels of the liquid crystal apparatus LC are combined. With proper alignment, light can be accurately guided to the liquid crystal device LC or the color filter attached to the liquid crystal device LC.

図１７は、液晶装置ＬＣの出射側に回折シート１を配置した３次元表示装置５２の模式図である。液晶装置ＬＣに入射する光は、回折シート１を通ることにより指向性の強い光となるため、高いコントラストや優れた発色の表示をすることが可能になる。
３次元表示装置５１、５２のいずれの場合においても、回折シートと液晶装置やカラーフィルターとの距離が５００μｍ以下であると、両者の間で生じる光線のずれを抑制できるため好ましい。回折シートと液晶装置等は、密着して（すなわち距離ゼロ）配置されてもよい。この場合、回折の効果を十分に発揮させる観点からは、回折パターンと液晶装置との間にわずかに空気層もしくは真空層が存在してもよい。
回折シートと液晶装置等を接着剤または粘着剤を介して密着させる場合は、回折パターンの樹脂の屈折率と、接着剤または粘着剤の屈折率とを異ならせる必要がある。 FIG. 17 is a schematic view of a three-dimensional display device 52 in which the diffraction sheet 1 is arranged on the emission side of the liquid crystal device LC. Since the light incident on the liquid crystal device LC passes through the diffraction sheet 1 and becomes light with strong directivity, it is possible to display high contrast and excellent color development.
In any of the three-dimensional display devices 51 and 52, it is preferable that the distance between the diffraction sheet and the liquid crystal device or the color filter is 500 μm or less because the deviation of light rays generated between the two can be suppressed. The diffraction sheet and the liquid crystal display or the like may be arranged in close contact with each other (that is, at zero distance). In this case, from the viewpoint of fully exerting the effect of diffraction, a slight air layer or vacuum layer may be present between the diffraction pattern and the liquid crystal display.
When the diffraction sheet and the liquid crystal device are brought into close contact with each other via an adhesive or an adhesive, it is necessary to make the refractive index of the resin of the diffraction pattern different from the refractive index of the adhesive or the adhesive.

以上、本発明の各実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の構成の変更、組み合わせなども含まれる。以下にいくつか変更を例示するが、これらはすべてではなく、それ以外の変更も可能である。これらの変更が２以上適宜組み合わされてもよい。 Although each embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the specific configuration is not limited to this embodiment, and changes and combinations of configurations within a range that does not deviate from the gist of the present invention are also possible. included. Some changes are illustrated below, but not all, and other changes are possible. Two or more of these changes may be combined as appropriate.

・回折パターンの弾性率を適切に設定することにより、回折パターン間に段差を設けない場合も、形成済みの回折パターンが版により破損することや、新たに形成する回折パターンにおいて圧力ムラにより転写不良が生じることを抑制できる。このような観点からは、形成された（すなわち硬化後の）回折パターンの弾性率（硬度）が、室温で０．５ＭＰａ～１００ＧＰａであることが好ましく、２５００ＭＰａ～１３ＧＰａであることがより好ましい。 -By appropriately setting the elastic modulus of the diffraction pattern, even if there is no step between the diffraction patterns, the formed diffraction pattern will be damaged by the plate, and transfer defects will occur due to pressure unevenness in the newly formed diffraction pattern. Can be suppressed. From such a viewpoint, the elastic modulus (hardness) of the formed (that is, after curing) diffraction pattern is preferably 0.5 MPa to 100 GPa at room temperature, and more preferably 2500 MPa to 13 GPa.

・製造方法において使用する各版の回折パターン表面に離型層を設けてもよい。このようにすると、ステップＣ、Ｆ、Ｉ等において、未硬化樹脂層の硬化後に版を容易に剥離でき、回折パターンを好適に形成できる。
離形層の材料としては、シリコーン、フッ素系樹脂、アルキル基を有する高分子等の、滑りをよくするものや、加熱により脆くなる熱硬化性樹脂等を例示できる。
後者の場合は、光照射により未硬化樹脂層の硬化した後に版を加熱して離型層を硬化する。その後、版を移動させると、脆くなった離型層が版から剥離して回折パターン上に残留することにより、版が容易に回折パターンから剥離される。その後、剥離した離型層を洗浄等により回折パターン上から除去する。回折シートの製造後、次回の製造に備えて版に新しい離型層を配置しておく。加熱して版から剥離させる離型層の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１μｍ以下とできる。 -A release layer may be provided on the surface of the diffraction pattern of each plate used in the manufacturing method. By doing so, in steps C, F, I and the like, the plate can be easily peeled off after the uncured resin layer is cured, and a diffraction pattern can be suitably formed.
Examples of the material of the release layer include silicone, a fluororesin, a polymer having an alkyl group, and the like that improve slipperiness, and a thermosetting resin that becomes brittle by heating.
In the latter case, the uncured resin layer is cured by light irradiation, and then the plate is heated to cure the release layer. After that, when the plate is moved, the brittle release layer is separated from the plate and remains on the diffraction pattern, so that the plate is easily separated from the diffraction pattern. Then, the peeled release layer is removed from the diffraction pattern by washing or the like. After manufacturing the diffractive sheet, a new release layer is placed on the plate for the next manufacturing. The thickness of the release layer to be peeled off from the plate by heating can be, for example, 10 nm or more and 1 μm or less.

・回折パターン上に回折パターンを形成する樹脂と屈折率が異なる透明材料を配置することにより、回折層の表面を平坦にしてもよい。透明材料として粘着性の樹脂材料を使用することにより、回折層を直接液晶装置やカラーフィルター等に接合できる。
回折パターンは、空気等の気体層または真空層と隣接させることにより、入射した光を好適に回折させることができる。 -The surface of the diffraction layer may be flattened by arranging a transparent material having a refractive index different from that of the resin forming the diffraction pattern on the diffraction pattern. By using an adhesive resin material as the transparent material, the diffraction layer can be directly bonded to a liquid crystal display, a color filter, or the like.
By adjoining the diffraction pattern with a gas layer such as air or a vacuum layer, the incident light can be suitably diffracted.

・未硬化樹脂層は、熱硬化性樹脂で形成されてもよい。この場合は、配列パターンに対応する領域のみを加熱することにより、各回折パターンを形成できる。この場合、版は透明でなくてもよいため、ニッケル等の金属で形成することにより、耐久性を向上できる。 -The uncured resin layer may be formed of a thermosetting resin. In this case, each diffraction pattern can be formed by heating only the region corresponding to the arrangement pattern. In this case, since the plate does not have to be transparent, durability can be improved by forming it from a metal such as nickel.

・本発明の回折シートにおいて、複数の回折パターンは、隙間なく配置されてもよいし、一定幅の隙間（ギャップ）を空けて配置されてもよい。ギャップの幅が液晶画素における隔壁や、カラーフィルターに形成されたブラックマトリクスの平面視における幅以下であれば、表示品質に及ぼす影響を最小限とできる。隔壁やブラックマトリクスの一般的な寸法に鑑みると、ギャップの幅は１μｍ～１００μｍ程度が好ましく、５μｍ～４０μｍ程度がさらに好ましい。 -In the diffraction sheet of the present invention, a plurality of diffraction patterns may be arranged without a gap, or may be arranged with a gap of a certain width. If the width of the gap is equal to or less than the width in the plan view of the partition wall in the liquid crystal pixel or the black matrix formed in the color filter, the influence on the display quality can be minimized. Considering the general dimensions of the partition wall and the black matrix, the width of the gap is preferably about 1 μm to 100 μm, more preferably about 5 μm to 40 μm.

１、１Ａ、１Ｂ、２ 回折シート
１０ 基板
２０ 未硬化樹脂層（第一未硬化樹脂層）
２０Ａ 未硬化樹脂層（第二未硬化樹脂層）
２０Ｂ 未硬化樹脂層（第三未硬化樹脂層）
２１、４１ 第一回折パターン
２２、２２Ａ、４２ 第二回折パターン
３０、４０Ａ 回折層
４０ カラーフィルター
５１、５２ ３次元表示装置
１００ 第一版
１００ａ 第一回折パターン
１１０ 第一マスク
１１０a 開口（第一開口）
２００ 第二版
２００ａ 第二回折パターン
２１０ 第二マスク
２１０a 開口（第二開口）
ＬＣ 液晶装置 1, 1A, 1B, 2 Diffractive sheet 10 Substrate 20 Uncured resin layer (first uncured resin layer)
20A uncured resin layer (second uncured resin layer)
20B uncured resin layer (third uncured resin layer)
21, 41 First diffraction pattern 22, 22A, 42 Second diffraction pattern 30, 40A Diffraction layer 40 Color filter 51, 52 Three-dimensional display device 100 First edition 100a First diffraction pattern 110 First mask 110a Aperture (first aperture) )
200 Second edition 200a Second diffraction pattern 210 Second mask 210a Aperture (second aperture)
LC liquid crystal display

Claims (18)

透明な基板上に第一配列パターンで配置された第一回折パターンと、第二配列パターンで配置された第二回折パターンとを含む回折層とを有する、対角１０インチ以上の回折シートと、
複数の画素を有する液晶装置、および２種類以上の色フィルタを有するカラーフィルターの何れかと、
光源と、
を備え、
前記回折シートの法線方向において、前記第一回折パターンおよび前記第二回折パターンと、前記画素又は前記色フィルタとが重なって配置されており、かつそのずれ量が前記画素又は前記色フィルタのピッチの１／１０以下である、
３次元表示装置。 A diffraction sheet having a diagonal of 10 inches or more and having a diffraction layer including a first diffraction pattern arranged in a first arrangement pattern and a second diffraction pattern arranged in a second arrangement pattern on a transparent substrate.
A liquid crystal display having a plurality of pixels, or a color filter having two or more types of color filters.
Light source and
Equipped with
The first diffraction pattern and the second diffraction pattern are arranged so as to overlap the pixel or the color filter in the normal direction of the diffraction sheet, and the amount of deviation thereof is the pitch of the pixel or the color filter. Is less than 1/10 of
3D display device. 前記回折シートは、前記光源と前記液晶装置または前記カラーフィルターとの間に配置されている、
請求項１に記載の３次元表示装置。 The diffraction sheet is arranged between the light source and the liquid crystal display or the color filter.
The three-dimensional display device according to claim 1. 前記液晶装置または前記カラーフィルターは、前記光源と前記回折シートとの間に配置されている、
請求項１に記載の３次元表示装置。 The liquid crystal display or the color filter is arranged between the light source and the diffraction sheet.
The three-dimensional display device according to claim 1. 前記回折層は、透明な粘着材料により前記液晶装置または前記カラーフィルターに接合されている、
請求項１に記載の３次元表示装置。 The diffraction layer is bonded to the liquid crystal display or the color filter by a transparent adhesive material.
The three-dimensional display device according to claim 1. 気体層または真空層が前記回折層に隣接している、
請求項１に記載の３次元表示装置。 A gas layer or a vacuum layer is adjacent to the diffractive layer,
The three-dimensional display device according to claim 1. 対角１０インチ以上の透明な基板上に、第一未硬化樹脂層を形成するステップＡと、
第一版の一方の面に対角１０インチ以上の矩形範囲にわたり形成された第一回折パターンを前記第一未硬化樹脂層に接触させるステップＢと、
第一配列パターンに基づいて形成された複数の第一開口を有する第一マスクを前記第一版上に配置し、光を照射して前記第一未硬化樹脂層のうち前記第一開口と重なる部位を硬化させるステップＣと、
前記基板上の第一未硬化樹脂層が形成された側に第二未硬化樹脂層を形成するステップＤと、
第二版の一方の面に対角１０インチ以上の矩形範囲にわたり形成された、前記第一回折パターンと異なる第二回折パターンを前記第二未硬化樹脂層に接触させるステップＥと、
前記第一配列パターンと異なる第二配列パターンに基づいて形成された複数の第二開口を有する第二マスクを前記第二版上に配置し、光を照射して前記第二未硬化樹脂層のうち前記第二開口と重なる部位を硬化させるステップＦと、
を備える、
回折シートの製造方法。 Step A for forming the first uncured resin layer on a transparent substrate with a diagonal of 10 inches or more,
Step B, in which the first diffraction pattern formed on one surface of the first plate over a rectangular range of 10 inches or more diagonally is brought into contact with the first uncured resin layer,
A first mask having a plurality of first openings formed based on the first arrangement pattern is placed on the first plate and irradiated with light so as to overlap with the first opening of the first uncured resin layer. Step C to cure the site and
Step D of forming the second uncured resin layer on the side of the substrate on which the first uncured resin layer is formed, and
Step E, in which a second diffraction pattern different from the first diffraction pattern formed on one surface of the second plate over a rectangular range of 10 inches or more diagonally is brought into contact with the second uncured resin layer,
A second mask having a plurality of second openings formed based on a second arrangement pattern different from the first arrangement pattern is placed on the second plate and irradiated with light to form the second uncured resin layer. Of these, step F, which cures the portion overlapping the second opening, and
To prepare
Diffractive sheet manufacturing method. 前記第一未硬化樹脂層の硬化後の硬度が、室温において０．５ＭＰａ～１００ＧＰａである、
請求項６に記載の回折シートの製造方法。 The hardness of the first uncured resin layer after curing is 0.5 MPa to 100 GPa at room temperature.
The method for manufacturing a diffraction sheet according to claim 6. 前記ステップＤにおいて、前記第二未硬化樹脂層が前記第一未硬化樹脂層よりも厚く形成される、
請求項６に記載の回折シートの製造方法。 In step D, the second uncured resin layer is formed thicker than the first uncured resin layer.
The method for manufacturing a diffraction sheet according to claim 6. 前記第二未硬化樹脂層と前記第一未硬化樹脂層との厚みの差は、前記第二回折パターンの高さ以上である、
請求項８に記載の回折シートの製造方法。 The difference in thickness between the second uncured resin layer and the first uncured resin layer is equal to or greater than the height of the second diffraction pattern.
The method for manufacturing a diffraction sheet according to claim 8. 前記第一版および前記第二版の少なくとも一方は、前記一方の面に離型層を有する、
請求項６に記載の回折シートの製造方法。 At least one of the first and second editions has a release layer on one of the surfaces.
The method for manufacturing a diffraction sheet according to claim 6. 前記離型層は、熱硬化性樹脂、シリコーン、フッ素系樹脂、およびアルキル基を含む高分子のいずれかを主成分とする、
請求項１０に記載の回折シートの製造方法。 The release layer contains any one of a thermosetting resin, a silicone, a fluororesin, and a polymer containing an alkyl group as a main component.
The method for manufacturing a diffraction sheet according to claim 10. 透明な基板と、
前記基板上に第一配列パターンで配置された第一回折パターンと、前記基板上であって前記第一回折パターンと同じ側に前記第一配列パターンと異なる第二配列パターンで配置された第二回折パターンと、を含む回折層と、
を備え、
前記第二回折パターンは前記第一回折パターンよりも厚い、
回折シート。 With a transparent board,
The first diffraction pattern arranged on the substrate in the first arrangement pattern, and the second arrangement on the substrate on the same side as the first diffraction pattern in a second arrangement pattern different from the first arrangement pattern. Diffraction patterns, including diffraction layers,
Equipped with
The second diffraction pattern is thicker than the first diffraction pattern.
Diffraction sheet. 前記第二回折パターンと前記第一回折パターンとの厚みの差は、前記第二回折パターンの表面凹凸の深さ以上である、
請求項１２に記載の回折シート。 The difference in thickness between the second diffraction pattern and the first diffraction pattern is greater than or equal to the depth of the surface unevenness of the second diffraction pattern.
The diffraction sheet according to claim 12. 前記第二回折パターンと前記第一回折パターンとの厚みの差は、１００ｎｍ以上１０μｍ以下である、
請求項１２に記載の回折シート。 The difference in thickness between the second diffraction pattern and the first diffraction pattern is 100 nm or more and 10 μm or less.
The diffraction sheet according to claim 12. 前記第一回折パターンおよび前記第二回折パターンと前記基板との間に設けられ、複数の色フィルタを含むカラーフィルターをさらに備え、
平面視において、前記第一回折パターンおよび前記第二回折パターンと前記色フィルタとのずれが、前記色フィルタのピッチの１／１０以下である、
請求項１２に記載の回折シート。 A color filter provided between the first diffraction pattern and the second diffraction pattern and the substrate and including a plurality of color filters is further provided.
In a plan view, the deviation between the first diffraction pattern and the second diffraction pattern and the color filter is 1/10 or less of the pitch of the color filter.
The diffraction sheet according to claim 12. 前記第一回折パターンおよび前記第二回折パターンは色材を含有し、
前記回折層がカラーフィルターとして機能する、
請求項１２に記載の回折シート。 The first diffraction pattern and the second diffraction pattern contain a coloring material, and the first diffraction pattern and the second diffraction pattern contain a coloring material.
The diffraction layer functions as a color filter.
The diffraction sheet according to claim 12. 前記第一回折パターンと前記第二回折パターンとの間に１μｍ以上１００μｍ以下のギャップを有する、
請求項１２に記載の回折シート。 It has a gap of 1 μm or more and 100 μm or less between the first diffraction pattern and the second diffraction pattern.
The diffraction sheet according to claim 12. 平面視形状が対角１０インチ以上の矩形である、
請求項１２に記載の回折シート。 The plan view shape is a rectangle with a diagonal of 10 inches or more.
The diffraction sheet according to claim 12.

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