JP2022025712A - Carrier handle and cassette transport structure - Google Patents

Abstract

To provide a carrier handle and cassette transport structure, capable of facilitating transport of a wafer cassette with a plurality of wafers stored into a vertical type diffusion furnace apparatus.SOLUTION: A carrier handle 10 includes a fork member 13 formed from a pair of leg parts 11 and a beam part 12 erected on the pair of leg parts 11; a latching part 112 provided on each of the pair of leg parts 11 and latching with a latched part 222 provided on both side walls of a wafer cassette 20 with an opening part 20A out of/into which a plurality of wafers 30 are carried; a column part 16 rising from the beam part 12; and a holding part 17 extending toward the direction of inserting the wafer 30 from the column part 16 with the latching part 112 latching with the latched part 222.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

開示の技術は、ウェハカセットを保持するキャリアハンドル及びウェハカセットを搬送するカセット搬送構造に関する。 The disclosed technique relates to a carrier handle for holding a wafer cassette and a cassette transport structure for transporting a wafer cassette.

従来から、複数のウェハを収容するウェハカセットを搬送する手段として、ウェハカセットを保持するキャリアハンドルが使用されている。例えば特許文献１には、ウェハカセットに設けられている鍔部にカセット把持溝を嵌合させることにより、ウェハカセットを両側から挟んで保持するキャリアハンドルが開示されている。また、特許文献２には、ウェハカセットにおいてウェハが出し入れされる開口部の両側端に設けられたオーバーハングの部分を囲い込む形で保持するキャリアハンドルが開示されている。 Conventionally, a carrier handle for holding a wafer cassette has been used as a means for transporting a wafer cassette accommodating a plurality of wafers. For example, Patent Document 1 discloses a carrier handle that holds a wafer cassette by sandwiching it from both sides by fitting a cassette grip groove into a flange portion provided on the wafer cassette. Further, Patent Document 2 discloses a carrier handle that encloses and holds overhang portions provided at both ends of an opening in which a wafer is taken in and out of a wafer cassette.

ここで図１１～図１３に従来のキャリアハンドルの使用方法を説明するための説明図を示す。従来のキャリアハンドル４０は、図１１に示されるように、複数のウェハ３０が収容されたウェハカセット２０を保持した際に、ユーザに把持される把持部４１がウェハカセット２０から突出する構造となっている。ユーザがこのキャリアハンドル４０を使用して、縦方向に並列に収容されたウェハ３０を処理する縦型拡散炉装置５０の炉５１にウェハカセット２０をセットする場合を考える。この場合、図１２に示されるように、炉５１の炉口５１Ａの形状によっては、把持部４１が炉口５１Ａの上壁に干渉してしまう。把持部４１が炉口５１Ａの上壁に干渉してしまうと、ウェハカセット２０を炉５１内にセットすることができない。 Here, FIGS. 11 to 13 show explanatory views for explaining how to use the conventional carrier handle. As shown in FIG. 11, the conventional carrier handle 40 has a structure in which the grip portion 41 gripped by the user protrudes from the wafer cassette 20 when the wafer cassette 20 containing a plurality of wafers 30 is held. ing. Consider a case where a user uses the carrier handle 40 to set a wafer cassette 20 in a furnace 51 of a vertical diffusion furnace device 50 that processes wafers 30 housed in parallel in the vertical direction. In this case, as shown in FIG. 12, depending on the shape of the furnace opening 51A of the furnace 51, the grip portion 41 may interfere with the upper wall of the furnace opening 51A. If the grip portion 41 interferes with the upper wall of the furnace opening 51A, the wafer cassette 20 cannot be set in the furnace 51.

また、縦型拡散炉装置５０では、図１１～図１３に示されるように、ウェハ３０を縦方向に並列に収容した状態のウェハカセット２０をセットする必要がある。しかしながら、縦型拡散炉装置５０にセットされる前のウェハカセット２０は、一般的に、ウェハ３０が出し入れされる開口部２０Ａを上にした状態で収納箱６０に入れられている場合（図４参照）が多い。そのため、縦型拡散炉装置５０にウェハカセット２０をセットする際には、開口部２０Ａを上側にした状態のウェハカセット２０を、開口部２０Ａを手前側にした状態にする必要がある。言い換えると、ウェハ３０を横方向に並列して収容した状態のウェハカセット２０を、ウェハ３０を縦方向に並列して収容した状態に回転させなければならない。 Further, in the vertical diffusion furnace device 50, as shown in FIGS. 11 to 13, it is necessary to set the wafer cassette 20 in a state where the wafers 30 are housed in parallel in the vertical direction. However, the wafer cassette 20 before being set in the vertical diffusion furnace device 50 is generally placed in the storage box 60 with the opening 20A into which the wafer 30 is taken in and out facing up (FIG. 4). See). Therefore, when setting the wafer cassette 20 in the vertical diffusion furnace device 50, it is necessary to set the wafer cassette 20 with the opening 20A on the upper side and the wafer cassette 20 with the opening 20A on the front side. In other words, the wafer cassette 20 in which the wafers 30 are housed in parallel in the horizontal direction must be rotated to the state in which the wafers 30 are housed in parallel in the vertical direction.

そこで、従来は、例えば手にミンキー手袋を装着した状態で、ユーザがウェハカセット２０を両手Ｈで把持して、収納箱６０から取り出し、図１３に示されるように、ウェハカセット２０を回転させて向きを変更してから炉５１にセットするという作業をしている。 Therefore, conventionally, for example, with the minky gloves worn on the hands, the user grasps the wafer cassette 20 with both hands H, takes it out of the storage box 60, and rotates the wafer cassette 20 as shown in FIG. After changing the direction, the work is done to set it in the furnace 51.

実開平０６－０１３１４２号公報Jikkenhei 06-013142 Gazette 特開平０４－１４４１５０号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 04-144150

しかしながら、ミンキー手袋を装着した手でウェハカセット２０を把持すると、ウェハ３０を保持するためのウェハ溝の底面が外部と連通している場合には、このウェハ溝からミンキー手袋がウェハ３０に触れてしまう場合がある。ミンキー手袋がウェハ３０に触れてしまうと、縦型拡散炉装置５０内でウェハ３０に対してフィールド酸化膜を成膜した際に、ミンキー手袋が触れたウェハを中心に膜厚が厚くなってしまう場合がある。また、フィールドＶｔ変動の特性に異常が発生してしまう場合もある。 However, when the wafer cassette 20 is gripped by a hand wearing minky gloves, if the bottom surface of the wafer groove for holding the wafer 30 communicates with the outside, the minky gloves touch the wafer 30 from the wafer groove. It may end up. If the minky gloves come into contact with the wafer 30, when a field oxide film is formed on the wafer 30 in the vertical diffusion furnace device 50, the film thickness becomes thick centering on the wafer touched by the minky gloves. In some cases. In addition, an abnormality may occur in the characteristics of the field Vt fluctuation.

一方、把持部４１が炉口５１Ａの上壁に干渉しないように、把持部４１をウェハカセット２０の開口部２０Ａ側（手前側）に向かって延出することが考えられる。この構造によれば、キャリアハンドルを使用してウェハカセット２０を炉５１にセットすることが可能となる。しかしながら、把持部４１を開口部２０Ａ側に延出した態様では、キャリアハンドル１０に保持されたウェハカセット２０の重心Ｇ（図１１参照）から把持部４１を把持する手までの距離が長くなってしまう場合がある。重心Ｇから手までの距離が長くなると、キャリアハンドル１０を把持してウェハカセット２０を持ち上げている腕にキャリアハンドル１０を通じて大きなモーメントがかかるため、ウェハカセット２０の炉５１への搬送作業に負担がかかる。 On the other hand, it is conceivable that the grip portion 41 extends toward the opening 20A side (front side) of the wafer cassette 20 so that the grip portion 41 does not interfere with the upper wall of the furnace opening 51A. According to this structure, the wafer cassette 20 can be set in the furnace 51 by using the carrier handle. However, in the embodiment in which the grip portion 41 is extended toward the opening 20A, the distance from the center of gravity G (see FIG. 11) of the wafer cassette 20 held by the carrier handle 10 to the hand gripping the grip portion 41 becomes long. It may end up. When the distance from the center of gravity G to the hand becomes long, a large moment is applied to the arm holding the carrier handle 10 and lifting the wafer cassette 20 through the carrier handle 10, which imposes a burden on the transfer work of the wafer cassette 20 to the furnace 51. It takes.

本開示の技術は上記の点に鑑みてなされたものであり、複数枚のウェハが収容されたウェハカセットを縦型拡散炉装置内に楽に搬送することができるキャリアハンドル及びカセット搬送構造を提供することを目的とする。 The technique of the present disclosure has been made in view of the above points, and provides a carrier handle and a cassette transport structure capable of easily transporting a wafer cassette containing a plurality of wafers into a vertical diffusion furnace apparatus. The purpose is.

本開示に係るキャリアハンドルは、
一対の脚部と、該一対の脚部に架設される梁部とで構成された二股部材と、
前記一対の脚部の各々に設けられ、複数のウェハが出し入れされる開口部を有するウェハカセットの両側壁に設けられた被係止部に係止する係止部と、
前記梁部から立ち上がる支柱部と、
前記被係止部に前記係止部が係止された状態で前記支柱部から前記ウェハを挿入する方向に向かって延出する把持部と、を含む。 The carrier handle pertaining to this disclosure is
A bifurcated member composed of a pair of legs and a beam portion erected on the pair of legs,
A locking portion provided on each of the pair of legs and having an opening for inserting and removing a plurality of wafers, and a locking portion for locking to a locked portion provided on both side walls of the wafer cassette.
The strut part that rises from the beam part and the support part
The included portion includes a grip portion that extends from the strut portion in a direction in which the wafer is inserted in a state where the locked portion is locked to the locked portion.

本開示に係るカセット搬送構造は、
複数のウェハが出し入れされる開口部を有するウェハカセット本体と、
該ウェハカセット本体に形成され、ウェハを並列して保持する保持部と、
前記ウェハカセット本体の側壁に設けられた被係止部と、
を備えてなるウェハカセットと、
一対の脚部と、該一対の脚部に架設される梁部とで構成された二股部材と、
前記一対の脚部の各々に設けられ、前記被係止部に係止する係止部と、
前記梁部から立ち上がる支柱部と、
前記被係止部に前記係止部が係止された状態で前記支柱部から前記ウェハを挿入する方向に向かって延出する把持部と、
を備えてなるキャリアハンドルと、を含み、
前記開口部を上方に位置させて載置された前記ウェハカセットの前記被係止部に、前記係止部を係止させた状態で、前記把持部を手前側から上方に回転させて、前記開口部を手前側に向けた状態で前記ウェハカセットを縦型拡散炉装置にセットする。 The cassette transfer structure according to the present disclosure is
A wafer cassette body with an opening through which multiple wafers can be taken in and out,
A holding unit formed on the wafer cassette body and holding the wafers in parallel,
The locked portion provided on the side wall of the wafer cassette body and
With a wafer cassette and
A bifurcated member composed of a pair of legs and a beam portion erected on the pair of legs,
A locking portion provided on each of the pair of legs and locked to the locked portion,
The strut part that rises from the beam part and the support part
With the locked portion locked to the locked portion, a grip portion extending from the support column portion in the direction in which the wafer is inserted, and a grip portion.
With a carrier handle, including
With the locking portion locked to the locked portion of the wafer cassette placed with the opening positioned upward, the grip portion is rotated upward from the front side to obtain the above. The wafer cassette is set in the vertical diffusion furnace device with the opening facing toward the front.

本開示の技術によれば、キャリアハンドル及びカセット搬送構造において複数枚のウェハが収容されたウェハカセットを縦型拡散炉装置内に楽に搬送することができる。 According to the technique of the present disclosure, a wafer cassette containing a plurality of wafers in a carrier handle and a cassette transfer structure can be easily transferred into a vertical diffusion furnace device.

本開示の第１実施形態に係るキャリアハンドルの一例を示す正面斜視図である。It is a front perspective view which shows an example of the carrier handle which concerns on 1st Embodiment of this disclosure. 本開示の第１実施形態に係るキャリアハンドルの一例を示す背面斜視図である。It is a rear perspective view which shows an example of the carrier handle which concerns on 1st Embodiment of this disclosure. 本開示の第１実施形態に係るウェハカセットの一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the wafer cassette which concerns on 1st Embodiment of this disclosure. 収納箱に収容された状態のウェハカセットの斜視図である。It is a perspective view of the wafer cassette in the state of being housed in a storage box. 収納箱に収容された状態のウェハカセットを保持するキャリアハンドルの斜視図である。It is a perspective view of the carrier handle which holds the wafer cassette in the state which is housed in a storage box. ウェハを横方向に並列して収容したウェハカセットを搬送する際のキャリアハンドルの斜視図である。It is a perspective view of the carrier handle at the time of transporting the wafer cassette which accommodated the wafer in parallel in the lateral direction. ウェハを縦方向に並列して収容したウェハカセットを縦型拡散炉装置へセットする際のキャリアハンドルの斜視図である。It is a perspective view of the carrier handle when the wafer cassette which accommodated the wafer in parallel in the vertical direction is set in the vertical diffusion furnace apparatus. ウェハカセットを縦型拡散炉装置へセットする際のキャリアハンドルの正面図である。It is a front view of the carrier handle at the time of setting a wafer cassette in a vertical diffusion furnace apparatus. ウェハカセットを縦型拡散炉装置へセットする際の本開示の第２実施形態にかかるキャリアハンドルの正面図である。It is a front view of the carrier handle which concerns on the 2nd Embodiment of this disclosure when setting a wafer cassette in a vertical diffusion furnace apparatus. 他の縦型拡散炉装置を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining another vertical diffusion furnace apparatus. 従来のキャリアハンドルの使用方法を説明するための説明図Explanatory drawing for explaining how to use the conventional carrier handle 従来のキャリアハンドルの使用方法を説明するための説明図Explanatory drawing for explaining how to use the conventional carrier handle 従来のキャリアハンドルの使用方法を説明するための説明図Explanatory drawing for explaining how to use the conventional carrier handle

（第１実施形態）
＜キャリアハンドル＞
以下、開示の第１実施形態のキャリアハンドル１０について、図面を参照しつつ説明する。なお、各図面において同一又は等価な構成要素及び部分には同一の参照符号を付与している。図１、図２は各々本開示の一実施形態に係るキャリアハンドルの一例を示す正面斜視図、及び背面斜視図である。なお、図１は、便宜上、手前側を正面、上側を上方として以下説明する。 (First Embodiment)
<Carrier handle>
Hereinafter, the carrier handle 10 of the first embodiment of the disclosure will be described with reference to the drawings. The same reference numerals are given to the same or equivalent components and parts in each drawing. 1 and 2 are a front perspective view and a rear perspective view showing an example of a carrier handle according to an embodiment of the present disclosure, respectively. Note that FIG. 1 will be described below with the front side as the front side and the upper side as the upper side for convenience.

開示の第１実施形態のキャリアハンドル１０は、図１に示されるように、四角柱で形成された一対の脚部１１と、一対の脚部１１に架設される四角柱で形成された梁部１２とで構成された二股部材１３を備える。二股部材１３は、例えば、塩化ビニルで形成されている。 As shown in FIG. 1, the carrier handle 10 of the first embodiment of the disclosure has a pair of leg portions 11 formed of square pillars and a beam portion formed of a square pillar erected on the pair of leg portions 11. A bifurcated member 13 composed of 12 is provided. The bifurcated member 13 is made of, for example, vinyl chloride.

脚部１１はその下端に、先端に平坦部１１１Ａを有して正面側に突出する突出部１１１を有している。脚部１１はその背面に、図２に示されるように背面側に突出する爪部１１２を有している。爪部１１２は、本開示の係止部に対応し、後述するウェハカセット２０の切欠部２２２に係止する。爪部１１２は、脚部１１から斜め上方に向かって延設された傾斜部１１２Ａと、傾斜部１１２Ａから上方に延設された直線部１１２Ｂを有している。爪部１１２は、直線部１１２Ｂと脚部１１との間隙に形成された凹部１１２Ｃを有している。 The leg portion 11 has a flat portion 111A at the tip thereof and a protruding portion 111 projecting to the front side at the lower end thereof. The leg portion 11 has a claw portion 112 projecting to the back surface side as shown in FIG. 2 on the back surface thereof. The claw portion 112 corresponds to the locking portion of the present disclosure and is locked to the notch portion 222 of the wafer cassette 20 described later. The claw portion 112 has an inclined portion 112A extending diagonally upward from the leg portion 11 and a straight portion 112B extending upward from the inclined portion 112A. The claw portion 112 has a recess 112C formed in the gap between the straight portion 112B and the leg portion 11.

梁部１２は、図２に示されるように、背面の両端部に直方体状に突出して設けられ、後述するウェハカセット２０の庇部２２Ｄの端面２２３が当接する当接部１２１を有している。また、梁部１２は、中央部に一定の間隔で形成された３つの孔部１２２を有している。 As shown in FIG. 2, the beam portion 12 is provided at both ends of the back surface in a rectangular parallelepiped shape, and has a contact portion 121 with which the end surface 223 of the eaves portion 22D of the wafer cassette 20, which will be described later, abuts. .. Further, the beam portion 12 has three holes 122 formed at regular intervals in the central portion.

また、キャリアハンドル１０は、図１に示されるように、梁部１２と接続される接続部１４、接続部１４に固定される土台部１５、土台部１５から立ち上がる支柱部１６、及び支柱部１６から前方に延出する把持部１７とで構成されたハンドル部１８を備える。ハンドル部１８は、例えばアルミニウムで形成されている。 Further, as shown in FIG. 1, the carrier handle 10 has a connecting portion 14 connected to the beam portion 12, a base portion 15 fixed to the connecting portion 14, a strut portion 16 rising from the base portion 15, and a strut portion 16. A handle portion 18 composed of a grip portion 17 extending forward from the handle portion 18 is provided. The handle portion 18 is made of, for example, aluminum.

接続部１４は、Ｌ字状に曲げられた板材で形成されており、梁部１２の前面に当接する前板１４Ａ及び梁部１２の上面に当接する上板１４Ｂを有している。前板１４Ａの背面には上述した梁部１２の孔部１２２に嵌合する円柱部１４１が３つ設けられている。この３つの円柱部１４１を梁部１２の孔部１２２に嵌合することにより、接続部１４と梁部１２とが接続される。また、接続部１４の上板１４Ｂには、土台部１５との接続用のねじ穴（図示せず）が設けられている。 The connecting portion 14 is formed of an L-shaped bent plate material, and has a front plate 14A that abuts on the front surface of the beam portion 12 and an upper plate 14B that abuts on the upper surface of the beam portion 12. On the back surface of the front plate 14A, three columnar portions 141 that fit into the hole portion 122 of the beam portion 12 described above are provided. The connecting portion 14 and the beam portion 12 are connected by fitting the three cylindrical portions 141 into the hole portion 122 of the beam portion 12. Further, the upper plate 14B of the connecting portion 14 is provided with a screw hole (not shown) for connecting to the base portion 15.

土台部１５は矩形状の板材で構成されており、四隅にそれぞれねじ孔１５１が設けられている。前側の２つのねじ孔１５１は、接続部１４の上板１４Ｂに形成されたねじ穴に対応する位置に設けられており、このねじ孔１５１にねじＳを螺合することにより土台部１５が接続部１４に接続される。 The base portion 15 is made of a rectangular plate material, and screw holes 151 are provided at each of the four corners. The two screw holes 151 on the front side are provided at positions corresponding to the screw holes formed in the upper plate 14B of the connection portion 14, and the base portion 15 is connected by screwing the screw S into the screw holes 151. It is connected to the unit 14.

支柱部１６は、矩形の板材で構成されており、短辺側の下端面には２つのねじ孔（図示せず）が設けられている。支柱部１６は、この下端面を土台部１５に当接させて、土台部１５の後ろ側に設けられた２つのねじ孔（図示せず）からねじを螺合することにより、支柱部１６は土台部１５に接続される。また、図２に示されるように、支柱部１６の上方には板材を貫通するねじ孔１６１が設けられている。なお、本開示の技術において「梁部から立ち上がる支柱部」は、接続部１４及び／又は土台部１５を介して支柱部１６が梁部１２から立ち上がっている態様を含むこととする。 The support column 16 is made of a rectangular plate, and has two screw holes (not shown) on the lower end surface on the short side. The support column 16 is formed by bringing the lower end surface into contact with the base portion 15 and screwing screws from two screw holes (not shown) provided on the rear side of the base portion 15. It is connected to the base portion 15. Further, as shown in FIG. 2, a screw hole 161 penetrating the plate material is provided above the support column 16. In the technique of the present disclosure, the "post portion rising from the beam portion" includes a mode in which the support portion 16 rises from the beam portion 12 via the connection portion 14 and / or the base portion 15.

把持部１７は、板材で構成されており、後端から前端に亘って、把持し易いように曲線を有する形状となっている。前端は円弧で形成されており、後端は平坦に形成されている。把持部１７の後端には、ねじ穴（図示せず）が設けられており、図２に示されるように、このねじ孔及び支柱部１６のねじ孔１６１にねじＳを螺合することにより、把持部１７は支柱部１６に固定される。把持部１７の前端部には孔１７１が設けられている。例えば壁等に設けられたフックをこの孔１７１に通すことにより、キャリアハンドル１０を収納することができる。 The grip portion 17 is made of a plate material and has a curved shape from the rear end to the front end so as to be easy to grip. The front end is formed by an arc, and the rear end is formed flat. A screw hole (not shown) is provided at the rear end of the grip portion 17, and as shown in FIG. 2, the screw S is screwed into the screw hole and the screw hole 161 of the strut portion 16. , The grip portion 17 is fixed to the strut portion 16. A hole 171 is provided at the front end of the grip portion 17. For example, the carrier handle 10 can be housed by passing a hook provided on a wall or the like through the hole 171.

以上のようにして第１実施形態のキャリアハンドル１０は構成されている。 As described above, the carrier handle 10 of the first embodiment is configured.

＜ウェハカセット＞
次に、本開示において使用されるウェハカセット２０について以下図面を参照して説明する。図３は本開示の第１実施形態に係るウェハカセットの一例を示す斜視図である。なお、図３は、便宜上、手前側を正面、上側を上方として以下説明する。 <Wafer cassette>
Next, the wafer cassette 20 used in the present disclosure will be described with reference to the following drawings. FIG. 3 is a perspective view showing an example of a wafer cassette according to the first embodiment of the present disclosure. Note that FIG. 3 will be described below with the front side as the front side and the upper side as the upper side for convenience.

ウェハカセット２０は、例えばテフロン（登録商標）で形成されている。ウェハカセット２０は、図３に示されるように、前面に開口部２０Ａを有するウェハカセット本体２１を有している。ウェハカセット本体２１は、両側の側壁２２、上壁２３、及び下壁２４により構成されている。 The wafer cassette 20 is made of, for example, Teflon (registered trademark). As shown in FIG. 3, the wafer cassette 20 has a wafer cassette main body 21 having an opening 20A on the front surface. The wafer cassette main body 21 is composed of side walls 22 on both sides, an upper wall 23, and a lower wall 24.

側壁２２は、前側から後ろ側に向かって直線に延びる主板部２２Ａ、主板部２２Ａの後端から内方に向かって延出された中央部２２Ｂ、中央部２２Ｂの後端から後方に向かって直線に延びる後部２２Ｃ、及び主板部２２Ａの前端から略直角に折れ曲がり外側に向かって延出された庇部２２Ｄを有する。主板部２２Ａ及び中央部２２Ｂの内面には、複数のウェハ３０を並列して保持する保持部２２１が設けられている。保持部２２１は、側壁２２の前端から後端に亘って、上下方向に並列して複数形成された溝で構成されており、この溝にウェハ３０が差し込まれる。また、保持部２２１を形成する溝の底面は外部に向けて貫通する貫通孔２２１Ａを有している。 The side wall 22 has a main plate portion 22A extending straight from the front side to the rear side, a central portion 22B extending inward from the rear end of the main plate portion 22A, and a straight line from the rear end of the central portion 22B toward the rear. It has a rear portion 22C extending toward the surface and an eaves portion 22D that is bent at a substantially right angle from the front end of the main plate portion 22A and extends outward. A holding portion 221 for holding a plurality of wafers 30 in parallel is provided on the inner surfaces of the main plate portion 22A and the central portion 22B. The holding portion 221 is composed of a plurality of grooves formed in parallel in the vertical direction from the front end to the rear end of the side wall 22, and the wafer 30 is inserted into the grooves. Further, the bottom surface of the groove forming the holding portion 221 has a through hole 221A penetrating toward the outside.

庇部２２Ｄは、上下方向の中央よりも上側に矩形状に切り欠かれた切欠部２２２を有している。切欠部２２２は、本開示の係止部に対応し、上述したキャリアハンドル１０の爪部１１２が係止される。 The eaves portion 22D has a notch portion 222 cut out in a rectangular shape on the upper side of the center in the vertical direction. The notch 222 corresponds to the locking portion of the present disclosure, and the claw portion 112 of the carrier handle 10 described above is locked.

上壁２３は、後端から前側に向かって略台形状に一段切り下がった台形部２３１を有している。下壁２４は、前端から後ろ側に向かって略台形状に切り欠かれ、かつ後端から前側に向かって前端側よりも小さな略台形に切り欠かれて形成された長尺状の長尺板部２４１を有している。また、主板部２２Ａの外面前方において、下壁２４から略矩形状に立ち上がる案内部２５を有している。案内部２５は、キャリアハンドル１０が装着される際に、脚部１１の平坦部１１１Ａの上下方向、すなわちキャリアハンドル１０の装着方向の移動を案内する。 The upper wall 23 has a trapezoidal portion 231 that is cut down in a substantially trapezoidal shape from the rear end toward the front side. The lower wall 24 is a long plate formed by being cut out in a substantially trapezoidal shape from the front end to the rear side and cut out in a substantially trapezoidal shape smaller than the front end side from the rear end to the front side. It has a unit 241. Further, in front of the outer surface of the main plate portion 22A, there is a guide portion 25 that rises from the lower wall 24 in a substantially rectangular shape. When the carrier handle 10 is mounted, the guide portion 25 guides the movement of the flat portion 111A of the leg portion 11 in the vertical direction, that is, in the mounting direction of the carrier handle 10.

以上のようにして第１実施形態のウェハカセット２０は構成されている。このように構成されたウェハカセット２０はウェハ３０を収容した後で、収納箱に入れられて保管される。図４は収納箱に収容された状態のウェハカセットの斜視図である。第１実施形態においては、図４に示されるように、収納箱６０に２つのウェハカセット２０が収容される。２つのウェハカセット２０は、ウェハ３０を収容した状態で、開口部２０Ａを上側にして、ウェハ３０が直線状に並ぶように直列に配設される。なお、図示は省略しているが、収納箱６０には蓋が被せられる。 As described above, the wafer cassette 20 of the first embodiment is configured. The wafer cassette 20 configured in this way is stored in a storage box after accommodating the wafer 30. FIG. 4 is a perspective view of a wafer cassette housed in a storage box. In the first embodiment, as shown in FIG. 4, two wafer cassettes 20 are housed in the storage box 60. The two wafer cassettes 20 are arranged in series so that the wafers 30 are arranged in a straight line with the opening 20A facing up in a state where the wafer 30 is housed. Although not shown, the storage box 60 is covered with a lid.

＜カセット搬送構造＞
次に、第１実施形態のキャリアハンドル１０を使用してウェハカセット２０を縦型拡散炉装置５０にセットするカセット搬送構造について説明する。なお、縦型拡散炉装置５０は、各種工程を行う際に、複数のウェハ３０が縦方向に並列に収容された状態のウェハカセット２０をセットして使用する装置である。 <Cassette transfer structure>
Next, a cassette transfer structure for setting the wafer cassette 20 in the vertical diffusion furnace device 50 using the carrier handle 10 of the first embodiment will be described. The vertical diffusion furnace device 50 is a device for setting and using a wafer cassette 20 in which a plurality of wafers 30 are housed in parallel in the vertical direction when performing various processes.

先ずユーザは、キャリアハンドル１０を使用してウェハカセット２０を保持する。図５は収納箱６０に収容された状態のウェハカセット２０を保持するキャリアハンドル１０の斜視図である。図５に示されるように、キャリアハンドル１０の把持部１７はユーザによって把持される。そしてユーザの操作によって、収納箱６０に収容されたウェハカセット２０に対して、庇部２２Ｄと案内部２５との間に、突出部１１１側から一対の脚部１１が挿入される。この際に、突出部１１１の平坦部１１１Ａが案内部２５に当接し、案内部２５が脚部１１の挿入方向の移動を案内する。 First, the user holds the wafer cassette 20 using the carrier handle 10. FIG. 5 is a perspective view of a carrier handle 10 that holds a wafer cassette 20 housed in a storage box 60. As shown in FIG. 5, the grip portion 17 of the carrier handle 10 is gripped by the user. Then, by the user's operation, a pair of leg portions 11 are inserted from the protruding portion 111 side between the eaves portion 22D and the guide portion 25 with respect to the wafer cassette 20 housed in the storage box 60. At this time, the flat portion 111A of the protruding portion 111 comes into contact with the guide portion 25, and the guide portion 25 guides the movement of the leg portion 11 in the insertion direction.

次に、庇部２２Ｄの切欠部２２２に脚部１１の爪部１１２が係止される。具体的には、切欠部２２２の前端に爪部１１２の凹部１１２Ｃの底面が当接し、直線部１１２Ｂが庇部２２Ｄ上に位置することにより、爪部１１２が切欠部２２２に係止する。この際に、ウェハカセット２０の庇部２２Ｄの端面２２３が当接部１２１に当接することによって、ウェハカセット２０の手前方向への移動が制限される。このようにして、キャリアハンドル１０はウェハカセット２０を保持する。 Next, the claw portion 112 of the leg portion 11 is engaged with the notch portion 222 of the eaves portion 22D. Specifically, the bottom surface of the recess 112C of the claw portion 112 abuts on the front end of the notch portion 222, and the straight portion 112B is located on the eaves portion 22D, so that the claw portion 112 is locked to the notch portion 222. At this time, the end surface 223 of the eaves portion 22D of the wafer cassette 20 abuts on the abutting portion 121, so that the movement of the wafer cassette 20 toward the front is restricted. In this way, the carrier handle 10 holds the wafer cassette 20.

図６はウェハ３０を横方向に並列して収容したウェハカセット２０を搬送する際のキャリアハンドル１０の斜視図である。次に、キャリアハンドル１０によって保持されたウェハカセット２０は、図６に示されるように、縦型拡散炉装置５０に搬送される。図６に示される状態においては、ウェハカセット２０に収容されたウェハ３０は、横方向に並列に並んでいる。すなわち、ウェハ３０は、縦型拡散炉装置５０の炉５１の挿入方向に沿って並んでいるので、ウェハ３０を縦方向に並んだ状態にする必要がある。そのため、ユーザは図６に示される矢印Ｍの方向に手を回転させることにより、ウェハカセット２０の向きを回転させる。 FIG. 6 is a perspective view of a carrier handle 10 for transporting a wafer cassette 20 in which wafers 30 are housed in parallel in the horizontal direction. Next, the wafer cassette 20 held by the carrier handle 10 is transferred to the vertical diffusion furnace device 50 as shown in FIG. In the state shown in FIG. 6, the wafers 30 housed in the wafer cassette 20 are arranged in parallel in the horizontal direction. That is, since the wafers 30 are lined up along the insertion direction of the furnace 51 of the vertical diffusion furnace device 50, it is necessary to arrange the wafers 30 in the vertical direction. Therefore, the user rotates the direction of the wafer cassette 20 by rotating the hand in the direction of the arrow M shown in FIG.

図７はウェハ３０を縦方向に並列して収容したウェハカセット２０を縦型拡散炉装置５０へセットする際のキャリアハンドル１０の斜視図である。ユーザが図６に示される矢印Ｍの方向に手を回転させることにより、ウェハカセット２０は開口部２０Ａを手前側にした状態になる。すなわち、ウェハカセット２０は、ウェハ３０を横方向に並列して収容した状態から、ウェハ３０を縦方向に並列して収容した状態に回転される。そして、ウェハ３０を縦方向に並列して収容した状態でキャリアハンドル１０に保持されたウェハカセット２０は、炉口５１Ａから縦型拡散炉装置５０の炉５１にセットされる。 FIG. 7 is a perspective view of a carrier handle 10 when a wafer cassette 20 containing wafers 30 in parallel in the vertical direction is set in the vertical diffusion furnace device 50. When the user rotates his / her hand in the direction of the arrow M shown in FIG. 6, the wafer cassette 20 is in a state where the opening 20A is on the front side. That is, the wafer cassette 20 is rotated from a state in which the wafers 30 are housed in parallel in the horizontal direction to a state in which the wafers 30 are housed in parallel in the vertical direction. Then, the wafer cassette 20 held in the carrier handle 10 in a state where the wafers 30 are housed in parallel in the vertical direction is set in the furnace 51 of the vertical diffusion furnace device 50 from the furnace port 51A.

図８はウェハカセット２０を縦型拡散炉装置５０へセットする際のキャリアハンドル１０の正面図である。ユーザがキャリアハンドル１０を使用して、縦型拡散炉装置５０の炉５１に中にウェハカセット２０がセットされる際、図８に示されるように、ユーザによってキャリアハンドル１０の把持部１７が把持されたままの状態でセットされる。以上のようにして第１実施形態のキャリアハンドル１０を使用してウェハカセット２０が縦型拡散炉装置５０にセットされる。 FIG. 8 is a front view of the carrier handle 10 when the wafer cassette 20 is set in the vertical diffusion furnace device 50. When the wafer cassette 20 is set in the furnace 51 of the vertical diffusion furnace device 50 by the user using the carrier handle 10, the grip portion 17 of the carrier handle 10 is gripped by the user as shown in FIG. It is set as it is. As described above, the wafer cassette 20 is set in the vertical diffusion furnace device 50 using the carrier handle 10 of the first embodiment.

なお、ウェハカセット２０を炉５１から取り出す場合には、図７に示すように把持部１７を上方に位置させた状態で把持部１７が把持されて、ウェハカセット２０が炉５１から取り出される。 When the wafer cassette 20 is taken out from the furnace 51, the grip portion 17 is gripped with the grip portion 17 positioned upward as shown in FIG. 7, and the wafer cassette 20 is taken out from the furnace 51.

＜第１実施形態の作用効果＞
次に第１実施形態のキャリアハンドル１０による作用効果について説明する。キャリアハンドル１０の把持部１７は、切欠部２２２に爪部１１２が係止された状態で支柱部１６からウェハ３０を挿入する方向に向かって延出する。これにより、把持部１７を縦型拡散炉装置５０の炉５１に干渉させずにウェハカセット２０を炉５１の中に挿入させたり、炉５１の中から取り出したりすることが可能となる。そのため、ユーザがミンキー手袋を装着した両手でウェハカセット２０をつかんで縦型拡散炉装置５０の炉５１内にセットしたり、炉５１の中から取り出したりする必要がない。これにより、ミンキー手袋がウェハ３０に触れるのを防止することができるので、良好な状態のウェハ３０が収容されたウェハカセット２０を搬送することができる。 <Action and effect of the first embodiment>
Next, the action and effect of the carrier handle 10 of the first embodiment will be described. The grip portion 17 of the carrier handle 10 extends from the strut portion 16 toward the insertion direction of the wafer 30 with the claw portion 112 locked to the notch portion 222. This makes it possible to insert the wafer cassette 20 into the furnace 51 or take it out of the furnace 51 without causing the grip portion 17 to interfere with the furnace 51 of the vertical diffusion furnace device 50. Therefore, it is not necessary for the user to grab the wafer cassette 20 with both hands wearing minky gloves and set it in the furnace 51 of the vertical diffusion furnace device 50 or take it out of the furnace 51. As a result, it is possible to prevent the minky gloves from touching the wafer 30, so that the wafer cassette 20 containing the wafer 30 in good condition can be conveyed.

また、キャリアハンドル１０の把持部１７はウェハ３０を挿入する方向、すなわちウェハカセット２０の開口部２０Ａとは反対側の面側に向かって延出されている。このような構造では、炉５１に手を入れないとウェハカセット２０を炉５１にセットすることができないため、使い勝手の観点から、把持部１７をウェハ３０を取り出す方向、すなわちウェハカセット２０の開口部２０Ａ側に向かって延出することが考えられる。この構造によれば、炉５１に手をいれなくてもウェハカセット２０を炉５１にセットすることが可能となる。 Further, the grip portion 17 of the carrier handle 10 extends in the direction in which the wafer 30 is inserted, that is, toward the surface side opposite to the opening 20A of the wafer cassette 20. In such a structure, the wafer cassette 20 cannot be set in the furnace 51 unless the furnace 51 is touched. Therefore, from the viewpoint of usability, the grip portion 17 is in the direction of taking out the wafer 30, that is, the opening of the wafer cassette 20. It is conceivable to extend toward the 20A side. According to this structure, the wafer cassette 20 can be set in the furnace 51 without touching the furnace 51.

しかしながら、把持部１７を開口部２０Ａ側に延出した態様では、キャリアハンドル１０に保持されたウェハカセット２０の重心Ｇ（図７参照）から把持部１７を把持する手までの距離が、上記第１実施形態よりも長くなってしまう。重心Ｇから手までの距離が長くなると、キャリアハンドル１０を把持してウェハカセット２０を持ち上げている腕にキャリアハンドル１０を通じて大きなモーメントがかかる。 However, in the embodiment in which the grip portion 17 extends toward the opening 20A, the distance from the center of gravity G (see FIG. 7) of the wafer cassette 20 held by the carrier handle 10 to the hand gripping the grip portion 17 is the above-mentioned first. It will be longer than one embodiment. When the distance from the center of gravity G to the hand becomes long, a large moment is applied to the arm holding the carrier handle 10 and lifting the wafer cassette 20 through the carrier handle 10.

これに対して、上記第１実施形態においては、キャリアハンドル１０に保持されたウェハカセット２０の重心Ｇ（図７参照）から把持部１７を把持する手までの距離をより短くすることができる。そのため、キャリアハンドル１０を把持してウェハカセット２０を持ち上げている腕にキャリアハンドル１０を通じてかかるモーメントを小さくすることができるので、ウェハカセット２０の炉５１への搬送作業が楽になる。 On the other hand, in the first embodiment, the distance from the center of gravity G (see FIG. 7) of the wafer cassette 20 held by the carrier handle 10 to the hand holding the grip portion 17 can be further shortened. Therefore, the moment applied to the arm holding the carrier handle 10 and lifting the wafer cassette 20 through the carrier handle 10 can be reduced, so that the work of transporting the wafer cassette 20 to the furnace 51 becomes easier.

また、上記第１実施形態のキャリアハンドル１０は、ウェハカセット２０の切欠部２２２に引っ掛かる爪部１１２を有し両側からウェハカセット２０を把持する。これにより、爪部１１２をウェハカセット２０の切欠部２２２に引っ掛けることで、キャリアハンドル１０をウェハカセット２０に対して係止できるので、ウェハカセット２０にキャリアハンドル１０を容易に取り付けることができる。 Further, the carrier handle 10 of the first embodiment has a claw portion 112 that is hooked on the notch portion 222 of the wafer cassette 20, and grips the wafer cassette 20 from both sides. As a result, the carrier handle 10 can be locked to the wafer cassette 20 by hooking the claw portion 112 to the notch portion 222 of the wafer cassette 20, so that the carrier handle 10 can be easily attached to the wafer cassette 20.

また、上記第１実施形態のカセット搬送構造によれば、開口部２０Ａを上方に位置させて載置されたウェハカセット２０にキャリアハンドル１０が装着されるので、把持部１７が手前側に位置する（図５参照）。そのため、ユーザは、手前側の把持部１７を把持して回転することにより、把持部１７を上側に位置させることができる。これにより、把持部１７を縦型拡散炉装置５０の炉５１に干渉させずにウェハカセット２０を炉５１の中に挿入させることが可能となる。そのため、ユーザがミンキー手袋を装着した両手でウェハカセット２０をつかんで炉５１内にセットする必要がない。これにより、ミンキー手袋がウェハ３０に触れるのを防止することができるので、良好な状態のウェハ３０が収容されたウェハカセット２０を搬送することができる。 Further, according to the cassette transport structure of the first embodiment, since the carrier handle 10 is mounted on the wafer cassette 20 placed with the opening 20A positioned upward, the grip portion 17 is located on the front side. (See FIG. 5). Therefore, the user can position the grip portion 17 on the upper side by gripping and rotating the grip portion 17 on the front side. This makes it possible to insert the wafer cassette 20 into the furnace 51 without causing the grip portion 17 to interfere with the furnace 51 of the vertical diffusion furnace device 50. Therefore, it is not necessary for the user to grab the wafer cassette 20 with both hands wearing minky gloves and set it in the furnace 51. As a result, it is possible to prevent the minky gloves from touching the wafer 30, so that the wafer cassette 20 containing the wafer 30 in good condition can be conveyed.

（第２実施形態）
＜キャリアハンドル＞
以下、開示の第２実施形態のキャリアハンドル１０Ａについて、図面を参照しつつ説明する。図９はウェハカセットを縦型拡散炉装置へセットする際の本開示の第２実施形態にかかるキャリアハンドルの正面図である。なお、第２実施形態のキャリアハンドル１０Ａは上記第１の実施形態のキャリアハンドル１０に対してカバーを備えた構成である。そのため、図９において同一又は等価な構成要素及び部分には同一の参照符号を付与し、以下説明は省略する。 (Second Embodiment)
<Carrier handle>
Hereinafter, the carrier handle 10A of the second embodiment of the disclosure will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a front view of the carrier handle according to the second embodiment of the present disclosure when the wafer cassette is set in the vertical diffusion furnace device. The carrier handle 10A of the second embodiment is configured to have a cover for the carrier handle 10 of the first embodiment. Therefore, the same reference numerals are given to the same or equivalent components and parts in FIG. 9, and the description thereof will be omitted below.

開示の第２実施形態のキャリアハンドル１０Ａは、図９に示されるように、カバー７０を有している。カバー７０は、矩形状の透明なアクリル板で構成されており、ウェハカセット２０の切欠部２２２にキャリアハンドル１０の爪部１１２が係止された状態で、キャリアハンドル１０の土台部１５の前端に対応する位置に２つの取付孔７０Ａが設けられている。また、土台部１５の前端にはこの取付孔７０Ａに対応する位置に、ねじ穴が２つ設けられている。カバー７０は、このねじ穴及び取付孔７０Ａにねじを螺合することによりウェハカセット２０の開口部２０Ａを臨むようにキャリアハンドル１０に取り付けられている。 The carrier handle 10A of the second embodiment of the disclosure has a cover 70 as shown in FIG. The cover 70 is made of a rectangular transparent acrylic plate, and the claw portion 112 of the carrier handle 10 is locked to the cutout portion 222 of the wafer cassette 20 at the front end of the base portion 15 of the carrier handle 10. Two mounting holes 70A are provided at corresponding positions. Further, two screw holes are provided at the front end of the base portion 15 at positions corresponding to the mounting holes 70A. The cover 70 is attached to the carrier handle 10 so as to face the opening 20A of the wafer cassette 20 by screwing a screw into the screw hole and the mounting hole 70A.

＜第２実施形態の作用効果＞
次に第２実施形態のキャリアハンドル１０による作用効果について説明する。第２実施形態のキャリアハンドル１０によれば、開口部２０Ａ側にカバー７０が設けられるので、パーティクル、すなわち塵、ホコリ、異物、及びダスト等のウェハ３０への付着を防止することができる。また、カバー７０を透明部材で形成することにより、ウェハカセット２０に収容されたウェハ３０を視認することができる。 <Action and effect of the second embodiment>
Next, the action and effect of the carrier handle 10 of the second embodiment will be described. According to the carrier handle 10 of the second embodiment, since the cover 70 is provided on the opening 20A side, it is possible to prevent particles, that is, dust, dust, foreign matter, dust, and the like from adhering to the wafer 30. Further, by forming the cover 70 with a transparent member, the wafer 30 housed in the wafer cassette 20 can be visually recognized.

なお、上記第１、第２の実施形態においては、ハンドル部１８は、接続部１４、土台部１５、支柱部１６、及び把持部１７が各々別体で構成されるものとしたが、本開示の技術はこれに限られない。ハンドル部１８は、接続部１４、土台部１５、支柱部１６、及び把持部１７を全て一体的に形成してもよいし、何れかの部品を一体的に形成してもよい。 In the first and second embodiments, the handle portion 18 is composed of a connecting portion 14, a base portion 15, a strut portion 16, and a grip portion 17 as separate bodies. Technology is not limited to this. The handle portion 18 may integrally form the connection portion 14, the base portion 15, the strut portion 16, and the grip portion 17, or may integrally form any of the parts.

また、上記第１、第２の実施形態においては、二股部材１３とハンドル部１８とが別体で構成されるものとしたが、本開示の技術はこれに限られず、一体的に形成してもよい。 Further, in the first and second embodiments, the bifurcated member 13 and the handle portion 18 are configured as separate bodies, but the technique of the present disclosure is not limited to this, and the bifurcated member 13 and the handle portion 18 are integrally formed. May be good.

また、上記第１、第２の実施形態においては、係止部として爪部１１２を採用しているが、本開示の技術はこれに限られない。例えばウェハカセット２０に設けられた被係止部が切欠部２２２ではなく凸部である場合には、係止部を凸部と嵌合する凹部とすることができる。また、ウェハカセット２０に設けられた被係止部が凹部である場合には、係止部を凹部と嵌合する凸部とすることができる。キャリアハンドル１０に設けられる係止部は、被係止部に着脱可能に係止できる構造であればよく、被係止部の形状に合わせて適宜変更することができる。 Further, in the first and second embodiments, the claw portion 112 is adopted as the locking portion, but the technique of the present disclosure is not limited to this. For example, when the locked portion provided on the wafer cassette 20 is a convex portion instead of the notch 222, the locking portion can be a concave portion that fits with the convex portion. Further, when the locked portion provided on the wafer cassette 20 is a concave portion, the locking portion can be a convex portion that fits with the concave portion. The locking portion provided on the carrier handle 10 may have a structure that can be detachably locked to the locked portion, and can be appropriately changed according to the shape of the locked portion.

また、上記第２実施形態においては、カバー７０を矩形状としたが本開示の技術はこれに限られない。開口部２０Ａをカバーできる形状であれば、楕円状、円形状、及び高く形状等、何れの形状であってもよい。 Further, in the second embodiment, the cover 70 has a rectangular shape, but the technique of the present disclosure is not limited to this. Any shape such as an elliptical shape, a circular shape, and a high shape may be used as long as the shape can cover the opening 20A.

なお、上記第１、第２の実施形態においては、縦型拡散炉装置５０として複数のウェハ３０が縦方向に並列に収容された状態のウェハカセット２０をセットして使用する装置を例にして説明したが、本開示のキャリアハンドルは他の縦型拡散炉装置にも使用することができる。図１０は他の縦型拡散炉装置５０Ａを説明する説明図である。 In the first and second embodiments, a device in which a wafer cassette 20 in which a plurality of wafers 30 are housed in parallel in the vertical direction is set and used as the vertical diffusion furnace device 50 is taken as an example. As described above, the carrier handles of the present disclosure can also be used in other vertical diffusion furnace devices. FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating another vertical diffusion furnace device 50A.

他の縦型拡散炉装置５０Ａの炉５１の内部には、ウェハカセット２０の向きを複数のウェハ３０が縦方向に並列に収容された状態に回転させる自動搬送装置が搭載されている。そのため、他の縦型拡散炉装置５０Ａにおいては、図１０に示されるように、複数のウェハ３０が横方向に並列に収容された状態のウェハカセット２０、すなわち開口部２０Ａを上側に向けたウェハカセット２０を炉５１にセットして使用する。 Inside the furnace 51 of the other vertical diffusion furnace device 50A, an automatic transfer device for rotating the direction of the wafer cassette 20 so that a plurality of wafers 30 are housed in parallel in the vertical direction is mounted. Therefore, in the other vertical diffusion furnace device 50A, as shown in FIG. 10, the wafer cassette 20 in which a plurality of wafers 30 are housed in parallel in the horizontal direction, that is, the wafer with the opening 20A facing upward. The cassette 20 is set in the furnace 51 and used.

以上、本発明の実施形態の一例について説明したが、本発明の実施形態は、上記に限定されるものでなく、一実施形態及び各種の変形例を適宜組み合わせて用いても良いし、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施し得ることは勿論である。 Although an example of the embodiment of the present invention has been described above, the embodiment of the present invention is not limited to the above, and one embodiment and various modifications may be used in combination as appropriate, and the present invention may be used. Of course, it can be carried out in various embodiments as long as it does not deviate from the gist of the above.

１０ キャリアハンドル
１１ 脚部
１１２ 爪部（係止部）
１２ 梁部
１３ 二股部材
１６ 支柱部
１７ 把持部
２０ ウェハカセット
２０Ａ 開口部
２２２ 切欠部（被係止部）
３０ ウェハ
４０ キャリアハンドル
５０ 縦型拡散炉装置
５１ 炉
５１Ａ 炉口 10 Carrier handle 11 Leg 112 Claw (locking part)
12 Beam part 13 Bifurcated member 16 Strut part 17 Grip part 20 Wafer cassette 20A Opening part 222 Notch part (locked part)
30 Wafer 40 Carrier handle 50 Vertical diffusion furnace device 51 Furnace 51A Furnace mouth

Claims (6)

一対の脚部と、該一対の脚部に架設される梁部とで構成された二股部材と、
前記一対の脚部の各々に設けられ、複数のウェハが出し入れされる開口部を有するウェハカセットの両側壁に設けられた被係止部に係止する係止部と、
前記梁部から立ち上がる支柱部と、
前記被係止部に前記係止部が係止された状態で前記支柱部から前記ウェハを挿入する方向に向かって延出する把持部と、
を含むキャリアハンドル。 A bifurcated member composed of a pair of legs and a beam portion erected on the pair of legs,
A locking portion provided on each of the pair of legs and having an opening for inserting and removing a plurality of wafers, and a locking portion for locking to a locked portion provided on both side walls of the wafer cassette.
The strut part that rises from the beam part and the support part
With the locked portion locked to the locked portion, a grip portion extending from the support column portion in the direction in which the wafer is inserted, and a grip portion.
Carrier handle including. 前記係止部は、前記被係止部に引っ掛かる爪部を有し両側から前記ウェハカセットを把持する請求項１に記載のキャリアハンドル。 The carrier handle according to claim 1, wherein the locking portion has a claw portion that is hooked on the locked portion and grips the wafer cassette from both sides. 前記被係止部に前記係止部が係止された状態で、前記開口部を臨むカバーを含む請求項１又は２に記載のキャリアハンドル。 The carrier handle according to claim 1 or 2, which includes a cover facing the opening in a state where the locking portion is locked to the locked portion. 前記カバーは、透明部材で形成される請求項３に記載のキャリアハンドル。 The carrier handle according to claim 3, wherein the cover is made of a transparent member. 複数のウェハが出し入れされる開口部を有するウェハカセット本体と、
該ウェハカセット本体に形成され、ウェハを並列して保持する保持部と、
前記ウェハカセット本体の側壁に設けられた被係止部と、
を備えてなるウェハカセットと、
一対の脚部と、該一対の脚部に架設される梁部とで構成された二股部材と、
前記一対の脚部の各々に設けられ、前記被係止部に係止する係止部と、
前記梁部から立ち上がる支柱部と、
前記被係止部に前記係止部が係止された状態で前記支柱部から前記ウェハを挿入する方向に向かって延出する把持部と、
を備えてなるキャリアハンドルと、
を含み、
前記開口部を上方に位置させて載置された前記ウェハカセットの前記被係止部に、前記係止部を係止させた状態で、前記把持部を手前側から上方に回転させて、前記開口部を手前側に向けた状態で前記ウェハカセットを縦型拡散炉装置にセットするカセット搬送構造。 A wafer cassette body with an opening through which multiple wafers can be taken in and out,
A holding unit formed on the wafer cassette body and holding the wafers in parallel,
The locked portion provided on the side wall of the wafer cassette body and
With a wafer cassette and
A bifurcated member composed of a pair of legs and a beam portion erected on the pair of legs,
A locking portion provided on each of the pair of legs and locked to the locked portion,
The strut part that rises from the beam part and the support part
With the locked portion locked to the locked portion, a grip portion extending from the support column portion in the direction in which the wafer is inserted, and a grip portion.
With a carrier handle,
Including
With the locking portion locked to the locked portion of the wafer cassette placed with the opening positioned upward, the grip portion is rotated upward from the front side to obtain the above. A cassette transfer structure in which the wafer cassette is set in a vertical diffusion furnace device with the opening facing toward the front. 前記把持部を上方に位置させた状態で、前記ウェハカセットを前記縦型拡散炉装置から取り出す請求項５に記載のカセット搬送構造。 The cassette transfer structure according to claim 5, wherein the wafer cassette is taken out from the vertical diffusion furnace device with the grip portion positioned upward.

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