JP2022025676A - Imaging device and processing device including the same - Google Patents

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rotary cover
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万平 田中
Manpei Tanaka
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Abstract

To provide an imaging device which is preferably installed under an environment where a liquid scatters, and to provide a processing device including the imaging device.SOLUTION: An imaging device 70 is disposed under an environment where a liquid scatters. The imaging device 70 includes: an imaging unit 72 which has a lens 72b and captures images of a subject; a rotary cover 74 which is disposed between the lens 72b and the subject and covers the imaging unit 72 and in which at least an area facing the lens 72b is transparent; and a motor 76 which rotates the rotary cover 74 with a rotary shaft 76a extending in an imaging direction from the lens 72b to the subject.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、撮像装置、及び撮像装置を備えた加工装置に関する。 The present invention relates to an image pickup device and a processing device including the image pickup device.

従来、半導体ウェーハなどを加工する切削装置、研削装置、レーザ加工装置等の加工装置の内部の状態を監視するために、撮像装置を配置した加工装置が知られている。 Conventionally, a processing device in which an image pickup device is arranged is known in order to monitor the internal state of a processing device such as a cutting device, a grinding device, a laser processing device, etc. for processing a semiconductor wafer or the like.

例えば、特許文献１では、外装カバーに覆われた加工装置の各構成要素の所要の箇所を撮像する撮像装置（カメラ）を備える構成とし、外装カバーを開けることなく容易に所要の箇所の状態を確認できる加工装置について開示をしている。 For example, in Patent Document 1, a configuration is provided in which an image pickup device (camera) for capturing a required portion of each component of a processing device covered with an exterior cover is provided, and the state of the required portion can be easily obtained without opening the exterior cover. We disclose the processing equipment that can be confirmed.

切削装置や研削装置での加工の際には、加工室内部の加工工具に加工液が供給されつつ被加工物の加工が施され、加工された被加工物は、加工装置に内設された洗浄ユニットにより洗浄液を用いた洗浄が行われる。 When machining with a cutting device or a grinding device, the workpiece is machined while the machining fluid is supplied to the machining tool inside the machining chamber, and the machined workpiece is installed internally in the machining device. Cleaning using the cleaning liquid is performed by the cleaning unit.

特開２０１６－２１５３３８号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-215338

上述のように、加工室内部や洗浄ユニット内部では液体が飛散する環境となるため、特許文献１に開示されるように、従来の一般的な形態の撮像装置（カメラ）の構造を単に配置するだけでは不十分であるといえる。 As described above, since the environment is such that the liquid scatters inside the processing chamber or the cleaning unit, the structure of the conventional general form of an image pickup device (camera) is simply arranged as disclosed in Patent Document 1. It can be said that it is not enough.

即ち、加工室内部や洗浄ユニット内部の状態を撮像するとともに、鮮明な画像で記憶したり、モニタリングするためには、液体が飛散する環境を考慮することが必要となる。 That is, it is necessary to consider the environment in which the liquid is scattered in order to capture the state inside the processing chamber and the inside of the cleaning unit, and to store and monitor the clear image.

特に加工室で飛散する加工液には、被加工物を加工することで生成された加工屑が含まれるため、加工液が撮像装置のレンズカバーに付着し、乾燥すると加工屑がレンズカバーに固着してしまうことになる。この状態で撮像すると、加工屑が撮像画像に写り込んでしまい、必要な箇所が映らないという不具合の発生が懸念される。 In particular, the processing liquid scattered in the processing chamber contains processing waste generated by processing the workpiece, so the processing liquid adheres to the lens cover of the image pickup device, and when it dries, the processing waste adheres to the lens cover. Will be done. If an image is taken in this state, there is a concern that processing scraps will be reflected in the captured image and a problem will occur in which the required portion is not shown.

本発明は以上の問題に鑑み、液体が飛散する環境下に好適に設置される撮像装置、及び、撮像装置を備えた加工装置を提案するものである。 In view of the above problems, the present invention proposes an image pickup device that is suitably installed in an environment where liquids are scattered, and a processing device provided with the image pickup device.

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。 The problem to be solved by the present invention is as described above, and next, the means for solving this problem will be described.

即ち、本発明の一態様によれば、
液体が飛散する環境下に配置される撮像装置であって、
レンズを有し被写体を撮像する撮像ユニットと、
該レンズと該被写体との間に配設されて該撮像ユニットを覆い、少なくとも該レンズに対面する領域が透明な回転式カバーと、
該レンズから該被写体に向かう撮像方向に伸長した回転軸で該回転式カバーを回転させるモータと、を備えた撮像装置とするものである。 That is, according to one aspect of the present invention.
An image pickup device that is placed in an environment where liquids are scattered.
An imaging unit that has a lens and captures the subject,
A rotary cover that is disposed between the lens and the subject and covers the imaging unit, and at least the area facing the lens is transparent.
The image pickup device includes a motor for rotating the rotary cover on a rotation axis extending from the lens in the image pickup direction toward the subject.

また、本発明の一態様によれば、
該撮像方向と該回転軸とが略平行になるよう該撮像ユニットと、該モータと、を収容する筐体を更に備え、
該筐体は、少なくとも該レンズに対応する領域が透明な透明部を有するとともに、
該筐体には該回転軸が回転自在に挿入される貫通孔が形成される、こととするものである。 Further, according to one aspect of the present invention.
A housing for accommodating the image pickup unit and the motor is further provided so that the image pickup direction and the rotation axis are substantially parallel to each other.
The housing has a transparent portion in which at least the area corresponding to the lens is transparent, and the housing has a transparent portion.
It is assumed that the housing is formed with a through hole into which the rotation shaft is rotatably inserted.

また、本発明の一態様によれば、
被加工物を保持する保持機構と、被加工物に加工を施す加工機構と、液体供給機構と、を備えた加工装置であって、
該加工装置は、
該液体供給機構からの液体が飛散する位置に配設された撮像装置を更に備え、
該撮像装置は、
レンズを有し被写体を撮像する撮像ユニットと、
該レンズと該被写体との間に配設され、該撮像ユニットを覆い、少なくとも該レンズに対面する領域が透明な回転式カバーと、
該レンズから該被写体に向かう撮像方向に伸長した回転軸で該回転式カバーを回転させるモータと、を備えた構成とする、
撮像装置を備えた加工装置とするものである。 Further, according to one aspect of the present invention.
A processing device equipped with a holding mechanism for holding a work piece, a processing mechanism for processing the work piece, and a liquid supply mechanism.
The processing device is
Further, an image pickup device arranged at a position where the liquid from the liquid supply mechanism is scattered is provided.
The image pickup device is
An imaging unit that has a lens and captures the subject,
A rotary cover that is disposed between the lens and the subject, covers the imaging unit, and has at least a transparent area facing the lens.
The configuration includes a motor for rotating the rotary cover on a rotation axis extending from the lens in the imaging direction toward the subject.
It is a processing device equipped with an image pickup device.

また、本発明の一態様によれば、
該加工装置は、加工が施された被加工物を洗浄するための洗浄装置を更に備え、
該撮像装置が、該洗浄装置にも設けられる、こととするものである。 Further, according to one aspect of the present invention.
The processing apparatus further includes a cleaning apparatus for cleaning the processed workpiece.
The image pickup device is also provided in the cleaning device.

本発明の一態様によれば、回転式カバーを回転させることで、回転式カバーの表面に降りかかる液体が、回転式カバーの回転により遠心力によって吹き飛ばされ、表面に液体や、液体に含まれる加工屑が付着して撮像画像に写り込んでしまうことを防止できる。このようにして、液体が飛散する状況においても、被写体を鮮明に撮像することが可能となり、加工や洗浄の状況を鮮明な映像によりモニタリングすることや、録画することができる。 According to one aspect of the present invention, by rotating the rotary cover, the liquid falling on the surface of the rotary cover is blown off by centrifugal force due to the rotation of the rotary cover, and the surface is liquid or processed to be contained in the liquid. It is possible to prevent debris from adhering and being reflected in the captured image. In this way, even in a situation where the liquid is scattered, the subject can be clearly imaged, and the processing and cleaning conditions can be monitored and recorded by a clear image.

撮像装置が設置される加工装置の一実施形態の一側の外観斜視図。The external perspective view of one side of the embodiment of the processing apparatus in which the image pickup apparatus is installed. 撮像装置が設置される加工装置の一実施形態の他側の外観斜視図。The external perspective view of the other side of the embodiment of the processing apparatus in which the image pickup apparatus is installed. 撮像装置の一実施形態について示す図。The figure which shows one Embodiment of an image pickup apparatus. 撮像装置の一実施形態について示す図。The figure which shows one Embodiment of an image pickup apparatus. 撮像装置の他の実施形態について示す図。The figure which shows the other embodiment of the image pickup apparatus. 第一切削ユニットが設置される加工室に撮像装置を設置する例について示す図。The figure which shows the example which installs the image pickup apparatus in the processing room where the first cutting unit is installed. 洗浄装置の洗浄空間に撮像装置を設置する例について示す図。The figure which shows the example which installs the image pickup apparatus in the cleaning space of a cleaning apparatus.

図１は、本発明にかかる撮像装置７０が設置される加工装置の一例である切削装置２の外観斜視図である。 FIG. 1 is an external perspective view of a cutting device 2 which is an example of a processing device in which the image pickup device 70 according to the present invention is installed.

図１及び図２に示すように、切削装置２の機構部は、複数のパネルを組み合わせて形成された外装カバー４内に収容されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the mechanical portion of the cutting device 2 is housed in an exterior cover 4 formed by combining a plurality of panels.

切削装置２は、被加工物を保持する保持テーブル６を有する。保持テーブル６は、その下方に設けられる図示せぬ回転駆動機構により、Ｚ軸を中心とするθ方向に回転可能に設けられる。また、保持テーブル６は、その下方に設けられる図示せぬ加工送り機構により、加工送り方向となるＸ軸方向に移動可能に構成される。保持テーブル６の周囲には、ウェーハユニットＵの環状フレームＦを挟持するクランプ機構７が設けられている。 The cutting device 2 has a holding table 6 for holding the workpiece. The holding table 6 is rotatably provided in the θ direction about the Z axis by a rotation drive mechanism (not shown) provided below the holding table 6. Further, the holding table 6 is configured to be movable in the X-axis direction, which is the machining feed direction, by a machining feed mechanism (not shown) provided below the holding table 6. A clamp mechanism 7 for sandwiching the annular frame F of the wafer unit U is provided around the holding table 6.

切削装置２は、第一切削ユニット１０と第二切削ユニット２０がＹ軸方向に対向して配置してなる対向式切削機構を有する構成としている。このような対向式切削機構を有する切削装置２は、デュアルダイサーとも称される。第一切削ユニット１０及び第二切削ユニット２０は、Ｙ軸方向に移動可能であるとともに、Ｚ軸方向にも移動可能に設けられる。 The cutting device 2 has a configuration having an opposed cutting mechanism in which the first cutting unit 10 and the second cutting unit 20 are arranged so as to face each other in the Y-axis direction. The cutting device 2 having such a facing cutting mechanism is also referred to as a dual dicer. The first cutting unit 10 and the second cutting unit 20 are provided so as to be movable in the Y-axis direction and also in the Z-axis direction.

図１に示すように、保持テーブル６や、第一切削ユニット１０などが収容される加工室８は、開閉可能なカバー９で閉じられており、カバー９に撮像装置７０が設けられる。撮像装置７０は、第一切削ユニット１０などによる加工状況を撮像するものであり、保持テーブル６に向けて設けられる。 As shown in FIG. 1, the processing chamber 8 in which the holding table 6 and the first cutting unit 10 are housed is closed by a cover 9 that can be opened and closed, and the cover 9 is provided with an image pickup device 70. The image pickup device 70 captures a processing state by the first cutting unit 10 and the like, and is provided toward the holding table 6.

なお、カバー９の形態は開閉可能なものとする他、固定式のものであってもよく、特に限定されるものではない。また、アクリルなどの透明な板素材で構成する他、金属などの不透明のものであってもよく、特に限定されるものではない。また、撮像装置７０はカバー９に設置する他、加工室８を形成する側壁や天井に設けてもよく、さらに、これら側壁や天井等に固定用のブラケットを介して設置してもよく、特に限定されるものではない。 The form of the cover 9 is openable and closable, and may be a fixed type, and is not particularly limited. Further, in addition to being composed of a transparent plate material such as acrylic, it may be an opaque material such as metal, and is not particularly limited. In addition to being installed on the cover 9, the image pickup apparatus 70 may be installed on the side wall or ceiling forming the processing chamber 8, and may be further installed on the side wall or ceiling via a bracket for fixing, in particular. Not limited.

図１及び図２に示すように、切削装置２は、内部に複数枚のウェーハユニットＵを収容したカセット５７を載置するカセット載置台５６を有する。カセット載置台５６は、上下方向（Ｚ軸方向）に移動可能に構成されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the cutting device 2 has a cassette mounting table 56 on which a cassette 57 accommodating a plurality of wafer units U is mounted. The cassette mounting table 56 is configured to be movable in the vertical direction (Z-axis direction).

図２に示すように、切削装置２は、カセット５７に収容されたウェーハユニットＵを保持テーブル６に搬送するための搬送装置４２を有する。 As shown in FIG. 2, the cutting device 2 has a transfer device 42 for transporting the wafer unit U housed in the cassette 57 to the holding table 6.

図１及び図２に示すように、ウェーハユニットＵは、被加工物であるウェーハＷと、ウェーハＷが貼着されるテープＴと、ウェーハＷを取り囲むようにテープＴに貼着される環状フレームＦと、を有して構成される。 As shown in FIGS. 1 and 2, the wafer unit U has a wafer W as a workpiece, a tape T to which the wafer W is attached, and an annular frame attached to the tape T so as to surround the wafer W. It is configured to have F and.

図２に示すように、切削装置２は、切削加工が終了したウェーハＷを洗浄するための洗浄装置４６を有する。洗浄装置４６が収容される空間には、撮像装置７０Ａが設けられ、撮像装置７０Ａによって洗浄の様子が撮像できるようになっている。 As shown in FIG. 2, the cutting device 2 has a cleaning device 46 for cleaning the wafer W whose cutting process has been completed. An image pickup device 70A is provided in the space where the cleaning device 46 is housed, and the state of cleaning can be imaged by the image pickup device 70A.

図１及び図２に示すように、切削装置２は、タッチパネル式の表示モニタ６０を有する。表示モニタ６０を通じてオペレータは装置の操作指令を入力できるとともに、装置の稼働状況が表示モニタ６０上に表示される。なお、タッチパネル式の表示モニタ６０とする他、入力装置と表示装置が別に設けられる構成としてもよい。 As shown in FIGS. 1 and 2, the cutting device 2 has a touch panel type display monitor 60. The operator can input an operation command of the device through the display monitor 60, and the operating status of the device is displayed on the display monitor 60. In addition to the touch panel type display monitor 60, an input device and a display device may be provided separately.

図１に示される撮像装置７０や、図２に示される撮像装置７０Ａで撮像される映像は、表示モニタ６０にリアルタイムで表示することが可能に構成される。また、各撮像装置７０，７０Ａで撮像される映像は、図示せぬ記録装置に録画され、表示モニタ６０において必要に応じて再生可能に構成される。 The image captured by the image pickup device 70 shown in FIG. 1 and the image pickup device 70A shown in FIG. 2 can be displayed on the display monitor 60 in real time. Further, the images captured by the image pickup devices 70 and 70A are recorded in a recording device (not shown) and playable on the display monitor 60 as needed.

次に、図３及び図４に示すように、撮像装置７０の構成例について説明する。
撮像装置７０は、撮像ユニット７２と、回転式カバー７４と、モータ７６と、を有する一つのユニットして構成される。 Next, as shown in FIGS. 3 and 4, a configuration example of the image pickup apparatus 70 will be described.
The image pickup apparatus 70 is configured as one unit including an image pickup unit 72, a rotary cover 74, and a motor 76.

撮像ユニット７２は、レンズカバー７２ａと、レンズ７２ｂ（対物レンズ）と、イメージセンサ７２ｃと、を有して構成される。レンズカバー７２ａを透過して入射する外部の光は、レンズ７２ｂを通じてイメージセンサ７２ｃに受光される。レンズ７２ｂは図示せぬ駆動装置によって光軸方向に移動して焦点合わせができるように構成される。 The image pickup unit 72 includes a lens cover 72a, a lens 72b (objective lens), and an image sensor 72c. External light transmitted through the lens cover 72a and incident is received by the image sensor 72c through the lens 72b. The lens 72b is configured to be able to move in the optical axis direction and focus by a driving device (not shown).

回転式カバー７４は透明素材からなる円盤状の板材にて構成され、その中心がモータ７６の回転軸７６ａの先端に固定される。モータ７６の駆動により、回転軸７６ａとともに回転式カバー７４が回転する。回転式カバー７４の形状、及び、回転軸７６ａの配置は、回転式カバー７４が回転した状態において常にレンズカバー７２ａの箇所を覆うことができるように設計される。 The rotary cover 74 is made of a disk-shaped plate made of a transparent material, and its center is fixed to the tip of the rotary shaft 76a of the motor 76. By driving the motor 76, the rotary cover 74 rotates together with the rotating shaft 76a. The shape of the rotary cover 74 and the arrangement of the rotary shaft 76a are designed so that the portion of the lens cover 72a can always be covered when the rotary cover 74 is rotated.

回転式カバー７４はレンズカバー７２ａを覆う形状であれば特に円盤状に限定されず、他の形状であってもよい。また、図４に示すように、回転式カバー７４の円盤状の中心７４ｃがモータ７６と反対側に膨らむ凸型の表面７４ａとすることで、表面７４ａに付着した加工液が中心７４ｃから外側に向かってより移動しやすい構成となる。 The rotary cover 74 is not particularly limited to a disk shape as long as it has a shape that covers the lens cover 72a, and may have another shape. Further, as shown in FIG. 4, the disk-shaped center 74c of the rotary cover 74 is formed as a convex surface 74a that swells on the opposite side to the motor 76, so that the processing liquid adhering to the surface 74a moves outward from the center 74c. The configuration makes it easier to move toward.

回転式カバー７４は透明素材に構成されることで全体が透明であることとする他、図５に示す回転式カバー７４Ａのように、中心部分は非透明部７４ｍとするとともに、レンズカバー７２ａに対面する領域７４ｎのみが透明で構成されるものであってもよい。また、図５に示すように、回転式カバー７４Ａは表面７４ｆが平坦な面で構成されることとしてもよい。 The rotary cover 74 is made of a transparent material so that the entire surface is transparent. In addition, as in the rotary cover 74A shown in FIG. 5, the central portion is a non-transparent portion 74 m, and the lens cover 72a is covered. Only the facing region 74n may be transparent. Further, as shown in FIG. 5, the rotary cover 74A may have a surface 74f formed of a flat surface.

図３、及び、図４に示すように撮像ユニット７２、及び、モータ７６は、筐体７８内に収容される。図４に示すように、筐体７８に設けた貫通孔７８ａを通じてモータ７６の回転軸７６ａが筐体７８の外部に突出され、回転軸７６ａの先端に回転式カバー７４の裏面７４ｂの中心７４ｃの箇所が固定される。 As shown in FIGS. 3 and 4, the image pickup unit 72 and the motor 76 are housed in the housing 78. As shown in FIG. 4, the rotation shaft 76a of the motor 76 is projected to the outside of the housing 78 through the through hole 78a provided in the housing 78, and the center 74c of the back surface 74b of the rotary cover 74 is located at the tip of the rotation shaft 76a. The location is fixed.

図３、及び、図４に示すように、筐体７８内に撮像ユニット７２、及び、モータ７６が収容されることで、設置環境に応じて撮像装置７０に要求される防水性能、あるいは、防滴性能を確保することができ、加工液が飛散する環境下に幅広く設置することが可能となる。 As shown in FIGS. 3 and 4, the image pickup unit 72 and the motor 76 are housed in the housing 78, so that the waterproof performance or prevention required for the image pickup device 70 depending on the installation environment is achieved. The drip performance can be ensured, and it can be widely installed in an environment where the processing liquid is scattered.

また、図４に示すように、筐体７８には、少なくともレンズ７２ｂ（レンズカバー７２ａ）に対向する領域に透明部７８ｂが設けられ、光を透明部７８ｂを通じてレンズ７２ｂに入射させることができるように構成される。 Further, as shown in FIG. 4, the housing 78 is provided with a transparent portion 78b at least in a region facing the lens 72b (lens cover 72a) so that light can be incident on the lens 72b through the transparent portion 78b. It is composed of.

撮像ユニット７２は、コントローラ８０に接続される。コントローラ８０の画像処理部８１にてイメージセンサ７２ｃにより取得された画像が処理され、表示モニタ６０（図１）へと出力され、リアルタイムでのモニタリングが可能となる。また、画像処理されたデータは記憶部８２に録画データとして記憶され、後に任意に再生されることができる。また、コントローラ８０には、レンズ７２ｂの焦点合わせをする図示せぬ駆動装置を制御する焦点制御部８３が設けられる。 The image pickup unit 72 is connected to the controller 80. The image acquired by the image sensor 72c is processed by the image processing unit 81 of the controller 80 and output to the display monitor 60 (FIG. 1), enabling real-time monitoring. Further, the image-processed data is stored in the storage unit 82 as recorded data, and can be arbitrarily reproduced later. Further, the controller 80 is provided with a focus control unit 83 for controlling a drive device (not shown) for focusing the lens 72b.

モータ７６は、コントローラ８０に接続され、コントローラ８０のモータ駆動制御部８４により駆動の開始／停止、速度制御などが行われる。 The motor 76 is connected to the controller 80, and the motor drive control unit 84 of the controller 80 performs drive start / stop, speed control, and the like.

以上のように構成された撮像装置７０は、加工状況の撮像が必要となる箇所に設置される。図６は、第一切削ユニット１０が設置される加工室８（図１）に撮像装置７０を設置する例を示すものである。 The image pickup apparatus 70 configured as described above is installed at a place where imaging of the processing state is required. FIG. 6 shows an example in which the image pickup apparatus 70 is installed in the processing chamber 8 (FIG. 1) in which the first cutting unit 10 is installed.

被加工部であるウェーハＷは保持テーブル６に吸引保持され、第一切削ユニット１０を所定の高さに位置付けた後、切削ブレード１１を図６において時計回り方向に回転させつつ、保持テーブル６を加工送り方向Ｋに移動させることで、ウェーハＷに切削加工が施される。 The wafer W to be machined is sucked and held by the holding table 6, and after the first cutting unit 10 is positioned at a predetermined height, the holding table 6 is held while rotating the cutting blade 11 in the clockwise direction in FIG. By moving the wafer W in the machining feed direction K, the wafer W is machined.

撮像装置７０は、被写体となるウェーハＷ、保持テーブル６、第一切削ユニット１０に対向する位置において、回転軸７６ａが被写体に向かう撮像方向Ｓ１に伸長するように配置される。 The image pickup apparatus 70 is arranged so that the rotation axis 76a extends in the image pickup direction S1 toward the subject at a position facing the wafer W to be the subject, the holding table 6, and the first cutting unit 10.

この切削加工の際には、第一切削ユニット１０の切削ブレード１１や加工点に加工液９０が連続的に供給され、切削ブレード１１の回転（図６において時計回り方向）に伴って、主に撮像装置７０側へと飛散する。加工液９０は、加工液供給源９１から第一切削ユニット１０に設けられるシャワーノズル１０ａやスプレーノズル１０ｂを通じて噴射される。 During this cutting process, the machining fluid 90 is continuously supplied to the cutting blade 11 and the machining point of the first cutting unit 10, and mainly as the cutting blade 11 rotates (clockwise in FIG. 6). It scatters to the image pickup device 70 side. The machining fluid 90 is sprayed from the machining fluid supply source 91 through the shower nozzle 10a and the spray nozzle 10b provided in the first cutting unit 10.

撮像装置７０では、回転式カバー７４を回転させることで、回転式カバー７４の表面７４ａに降りかかる加工液９０が、回転式カバー７４の回転による遠心力によって吹き飛ばされ、表面７４ａに加工液９０や、加工液９０に含まれる加工屑が付着して撮像画像に写り込んでしまうことを防止できる。このようにして、加工液９０が飛散する状況においても、被写体を鮮明に撮像することが可能となり、加工の状況を鮮明な映像によりモニタリングすることや、録画することができる。 In the image pickup apparatus 70, by rotating the rotary cover 74, the machining fluid 90 that falls on the surface 74a of the rotary cover 74 is blown off by the centrifugal force due to the rotation of the rotary cover 74, and the machining fluid 90 and the machining fluid 90 fall on the surface 74a. It is possible to prevent the processing debris contained in the processing liquid 90 from adhering to the image and being reflected in the captured image. In this way, even in a situation where the processing liquid 90 is scattered, it is possible to clearly image the subject, and it is possible to monitor and record the processing situation with a clear image.

図７は、切削加工が終了したウェーハＷを洗浄するための洗浄装置４６の洗浄空間４８に撮像装置７０Ａを設置する例を示すものである。 FIG. 7 shows an example in which the image pickup device 70A is installed in the cleaning space 48 of the cleaning device 46 for cleaning the wafer W for which the cutting process has been completed.

洗浄装置４６は、洗浄空間４８内にモータ４６ａで回転駆動される保持テーブル４６ｂが配置され、保持テーブル４６ｂで保持するウェーハＷの上方から液体供給機構を構成するノズル９５を通じて洗浄液９２を滴下しつつ、保持テーブル４６ｂを高速回転させることで、ウェーハＷの表面に残存した加工屑を除去するように構成される。 In the cleaning device 46, a holding table 46b rotationally driven by a motor 46a is arranged in the cleaning space 48, and the cleaning liquid 92 is dropped from above the wafer W held by the holding table 46b through a nozzle 95 constituting a liquid supply mechanism. By rotating the holding table 46b at high speed, the work chips remaining on the surface of the wafer W are removed.

洗浄空間４８を形成する円筒状の側壁４８ａにおいて、被写体となるウェーハＷや保持テーブル４６ｂに対向する位置に撮像装置７０Ａが設けられ、その回転軸７６ａが被写体に向かう撮像方向Ｓ２に伸長するように配置される。 In the cylindrical side wall 48a forming the cleaning space 48, the image pickup device 70A is provided at a position facing the wafer W to be the subject and the holding table 46b, and the rotation axis 76a extends in the image pickup direction S2 toward the subject. Be placed.

撮像装置７０Ａでは、回転式カバー７４を回転させることで、回転式カバー７４の表面７４ａに降りかかる洗浄液９２が、回転式カバー７４の回転により遠心力によって吹き飛ばされ、表面７４ａに洗浄液９２や、洗浄液９２に含まれる加工屑が付着して撮像画像に写り込んでしまうことを防止できる。このようにして、洗浄液９２が飛散する状況においても、被写体を鮮明に撮像することが可能となり、洗浄の状況を鮮明な映像によりモニタリングすることや、録画することができる。 In the image pickup apparatus 70A, by rotating the rotary cover 74, the cleaning liquid 92 that falls on the surface 74a of the rotary cover 74 is blown off by centrifugal force due to the rotation of the rotary cover 74, and the cleaning liquid 92 and the cleaning liquid 92 are blown onto the surface 74a. It is possible to prevent the processing debris contained in the image from adhering to the image and being reflected in the captured image. In this way, even in a situation where the cleaning liquid 92 is scattered, it is possible to clearly image the subject, and it is possible to monitor and record the cleaning situation with a clear image.

以上のようにして本発明を実現することができる。
即ち、図３及び図４に示すように、
液体が飛散する環境下に配置される撮像装置７０であって、
レンズ７２ｂを有し被写体を撮像する撮像ユニット７２と、
レンズ７２ｂと被写体との間に配設されて撮像ユニット７２を覆い、少なくともレンズ７２ｂに対面する領域が透明な回転式カバー７４と、
レンズ７２ｂから被写体に向かう撮像方向に伸長した回転軸７６ａで回転式カバー７４を回転させるモータ７６と、を備えた撮像装置７０とするものである。 The present invention can be realized as described above.
That is, as shown in FIGS. 3 and 4.
An image pickup device 70 arranged in an environment where liquids are scattered.
An image pickup unit 72 having a lens 72b and taking an image of a subject,
A rotary cover 74 that is disposed between the lens 72b and the subject to cover the image pickup unit 72 and has a transparent region facing at least the lens 72b.
The image pickup device 70 includes a motor 76 for rotating the rotary cover 74 on a rotation shaft 76a extending in the image pickup direction from the lens 72b toward the subject.

この構成によれば、回転式カバー７４を回転させることで、回転式カバー７４の表面７４ａに降りかかる液体が、回転式カバー７４の回転により遠心力によって吹き飛ばされ、表面７４ａに液体や、液体に含まれる加工屑が付着して撮像画像に写り込んでしまうことを防止できる。このようにして、液体が飛散する状況においても、被写体を鮮明に撮像することが可能となり、加工や洗浄の状況を鮮明な映像によりモニタリングすることや、録画することができる。 According to this configuration, by rotating the rotary cover 74, the liquid falling on the surface 74a of the rotary cover 74 is blown off by centrifugal force due to the rotation of the rotary cover 74, and the liquid or the liquid is contained in the surface 74a. It is possible to prevent the processing debris from adhering to the image and being reflected in the captured image. In this way, even in a situation where the liquid is scattered, the subject can be clearly imaged, and the processing and cleaning conditions can be monitored and recorded by a clear image.

また、図３及び図４に示すように、
撮像方向と回転軸７６ａとが略平行になるよう撮像ユニット７２と、モータ７６と、を収容する筐体７８を更に備え、
筐体７８は、少なくともレンズ７２ｂに対応する領域が透明な透明部７８ｂを有するとともに、
筐体７８には回転軸７６ａが回転自在に挿入される貫通孔７８ａが形成される、こととするものである。 Also, as shown in FIGS. 3 and 4.
A housing 78 for accommodating the image pickup unit 72 and the motor 76 is further provided so that the image pickup direction and the rotation axis 76a are substantially parallel to each other.
The housing 78 has a transparent portion 78b in which at least the region corresponding to the lens 72b is transparent, and the housing 78 has a transparent portion 78b.
A through hole 78a into which the rotation shaft 76a is rotatably inserted is formed in the housing 78.

この構成によれば、筐体７８内に撮像ユニット７２、及び、モータ７６が収容されることで、設置環境に応じて撮像装置７０に要求される防水性能、あるいは、防滴性能を確保することができ、液体が飛散する環境下に幅広く設置することが可能となる。 According to this configuration, the image pickup unit 72 and the motor 76 are housed in the housing 78 to ensure the waterproof performance or the drip-proof performance required for the image pickup apparatus 70 according to the installation environment. It can be widely installed in an environment where liquids are scattered.

また、図１乃至図４、及び図６に示すように、
被加工物であるウェーハＷを保持する保持機構としての保持テーブル６と、ウェーハＷに加工を施す加工機構としての第一切削ユニット１０と、液体供給機構としてのシャワーノズル１０ａやスプレーノズル１０ｂと、を備えた加工装置である切削装置２であって、
切削装置２は、
液体供給機構からの液体（加工液９０）が飛散する位置に配設された撮像装置７０を更に備え、
レンズ７２ｂを有し被写体を撮像する撮像ユニット７２と、
レンズ７２ｂと被写体との間に配設されて撮像ユニット７２を覆い、少なくともレンズ７２ｂに対面する領域が透明な回転式カバー７４と、
レンズ７２ｂから被写体に向かう撮像方向Ｓ１に伸長した回転軸７６ａで回転式カバー７４を回転させるモータ７６と、を備える構成とするものである。 Further, as shown in FIGS. 1 to 4, and FIG.
A holding table 6 as a holding mechanism for holding the wafer W as a workpiece, a first cutting unit 10 as a processing mechanism for processing the wafer W, a shower nozzle 10a and a spray nozzle 10b as a liquid supply mechanism, and the like. It is a cutting device 2 which is a processing device equipped with
The cutting device 2
Further, an image pickup device 70 arranged at a position where the liquid (processing liquid 90) from the liquid supply mechanism is scattered is provided.
An image pickup unit 72 having a lens 72b and taking an image of a subject,
A rotary cover 74 that is disposed between the lens 72b and the subject to cover the image pickup unit 72 and has a transparent region facing at least the lens 72b.
It is configured to include a motor 76 for rotating the rotary cover 74 on a rotation shaft 76a extending from the lens 72b in the image pickup direction S1 toward the subject.

これにより、加工液９０が飛散する状況においても、被写体を鮮明に撮像することが可能となり、加工の状況を鮮明な映像によりモニタリングすることや、録画することができる。 As a result, even in a situation where the processing liquid 90 is scattered, it is possible to clearly image the subject, and it is possible to monitor and record the processing situation with a clear image.

また、図２及び図７に示すように、
加工装置としての切削装置２は、加工が施された被加工物であるウェーハＷを洗浄するための洗浄装置４６を更に備え、
撮像装置７０Ａが、洗浄装置４６にも設けられる、こととするものである。 Also, as shown in FIGS. 2 and 7.
The cutting device 2 as a processing device further includes a cleaning device 46 for cleaning the wafer W which is a machined object to be machined.
The image pickup device 70A is also provided in the cleaning device 46.

これにより、洗浄液９２が飛散する状況においても、被写体を鮮明に撮像することが可能となり、洗浄の状況を鮮明な映像によりモニタリングすることや、録画することができる。 As a result, even in a situation where the cleaning liquid 92 is scattered, the subject can be clearly imaged, and the cleaning situation can be monitored and recorded with a clear image.

２ 切削装置
６ 保持テーブル
８ 加工室
９ カバー
１０ 第一切削ユニット
１０ａ シャワーノズル
１０ｂ スプレーノズル
１１ 切削ブレード
２０ 第二切削ユニット
４６ 洗浄装置
４８ 洗浄空間
４８ａ 側壁
６０ 表示モニタ
７０ 撮像装置
７０Ａ 撮像装置
７２ 撮像ユニット
７２ａ レンズカバー
７２ｂ レンズ
７２ｃ イメージセンサ
７４ 回転式カバー
７４ａ 表面
７４ｂ 裏面
７４ｃ 中心
７６ モータ
７６ａ 回転軸
７８ 筐体
７８ａ 貫通孔
７８ｂ 透明部
８０ コントローラ
９０ 加工液
９１ 加工液供給源
９２ 洗浄液

2 Cutting device 6 Holding table 8 Machining chamber 9 Cover 10 First cutting unit 10a Shower nozzle 10b Spray nozzle 11 Cutting blade 20 Second cutting unit 46 Cleaning device 48 Cleaning space 48a Side wall 60 Display monitor 70 Imaging device 70A Imaging device 72 Imaging unit 72a Lens cover 72b Lens 72c Image sensor 74 Rotary cover 74a Front side 74b Back side 74c Center 76 Motor 76a Rotating shaft 78 Housing 78a Through hole 78b Transparent part 80 Controller 90 Processing liquid 91 Processing liquid supply source 92 Cleaning liquid

Claims (4)

液体が飛散する環境下に配置される撮像装置であって、
レンズを有し被写体を撮像する撮像ユニットと、
該レンズと該被写体との間に配設されて該撮像ユニットを覆い、少なくとも該レンズに対面する領域が透明な回転式カバーと、
該レンズから該被写体に向かう撮像方向に伸長した回転軸で該回転式カバーを回転させるモータと、を備えた撮像装置。 An image pickup device that is placed in an environment where liquids are scattered.
An imaging unit that has a lens and captures the subject,
A rotary cover that is disposed between the lens and the subject and covers the imaging unit, and at least the area facing the lens is transparent.
An image pickup apparatus including a motor for rotating the rotary cover on a rotation axis extending from the lens toward the subject in the image pickup direction. 該撮像方向と該回転軸とが略平行になるよう該撮像ユニットと、該モータと、を収容する筐体を更に備え、
該筐体は、少なくとも該レンズに対応する領域が透明な透明部を有するとともに、
該筐体には該回転軸が回転自在に挿入される貫通孔が形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。 A housing for accommodating the image pickup unit and the motor is further provided so that the image pickup direction and the rotation axis are substantially parallel to each other.
The housing has a transparent portion in which at least the area corresponding to the lens is transparent, and the housing has a transparent portion.
A through hole is formed in the housing into which the rotation shaft is rotatably inserted.
The image pickup apparatus according to claim 1. 被加工物を保持する保持機構と、被加工物に加工を施す加工機構と、液体供給機構と、を備えた加工装置であって、
該加工装置は、
該液体供給機構からの液体が飛散する位置に配設された撮像装置を更に備え、
該撮像装置は、
レンズを有し被写体を撮像する撮像ユニットと、
該レンズと該被写体との間に配設され、該撮像ユニットを覆い、少なくとも該レンズに対面する領域が透明な回転式カバーと、
該レンズから該被写体に向かう撮像方向に伸長した回転軸で該回転式カバーを回転させるモータと、を備えた構成とする、
撮像装置を備えた加工装置。 A processing device equipped with a holding mechanism for holding a work piece, a processing mechanism for processing the work piece, and a liquid supply mechanism.
The processing device is
Further, an image pickup device arranged at a position where the liquid from the liquid supply mechanism is scattered is provided.
The image pickup device is
An imaging unit that has a lens and captures the subject,
A rotary cover that is disposed between the lens and the subject, covers the imaging unit, and has at least a transparent area facing the lens.
The configuration includes a motor for rotating the rotary cover on a rotation axis extending from the lens in the imaging direction toward the subject.
A processing device equipped with an image pickup device. 該加工装置は、加工が施された被加工物を洗浄するための洗浄装置を更に備え、
該撮像装置が、該洗浄装置にも設けられる、
ことを特徴とする請求項３に記載の撮像装置を備えた加工装置。
The processing apparatus further includes a cleaning apparatus for cleaning the processed workpiece.
The image pickup device is also provided in the cleaning device.
The processing apparatus provided with the image pickup apparatus according to claim 3.
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