JP2022019147A - センサ及びセンサモジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】検出感度を向上可能なセンサ及びセンサモジュールを提供する。【解決手段】実施形態によれば、センサは、基体と、第1センサ部と、を含む。第1センサ部は、固定電極部材と、可動電極部材と、第1支持部材と、第2支持部材と、を含む。可動電極部材は、第1可動部分、第2可動部分、及び、第1可動部分と第2可動部分との間の第3可動部分を含む。第1支持部材は、前記基体に固定され、前記第1可動部分と接続される。第2支持部材は、前記基体に固定され、前記第2可動部分と接続される。固定電極部材は、第1可動部分と対向する第1固定電極部分と、第2可動部分と対向する第2固定電極部分と、第3可動部分と対向する第3固定電極部分と、を含む。第3固定電極部分と第3可動部分との間の距離は、第1固定電極部分と第1可動部分との間の第1方向に沿う距離よりも短い。【選択図】図1

Description

本発明の実施形態は、センサ及びセンサモジュールに関する。
例えば、水素などのガスを検出するセンサがある。センサにおいて、検出感度の向上が望まれる。
特開2019-56607号公報
本発明の実施形態は、検出感度を向上可能なセンサ及びセンサモジュールを提供する。
本発明の実施形態によれば、センサは、基体と、第1センサ部と、を含む。前記第1センサ部は、固定電極部材と、可動電極部材と、第1支持部材と、第2支持部材と、を含む。前記固定電極部材は、前記基体に固定された固定電極を含む。前記可動電極部材は、第1可動部分、第2可動部分、及び、前記第1可動部分と前記第2可動部分との間の第3可動部分を含み、可動電極を含む。前記第1支持部材は、前記基体に固定され、前記第1可動部分と接続される。前記第2支持部材は、前記基体に固定され、前記第2可動部分と接続される。前記第1支持部材及び前記第2支持部材は、前記固定電極部材と前記可動電極部材との間に第1間隙が設けられるように前記可動電極部材を支持する。前記固定電極部材は、前記第1可動部分と対向する第1固定電極部分と、前記第2可動部分と対向する第2固定電極部分と、前記第3可動部分と対向する第3固定電極部分と、を含む。前記第3固定電極部分と前記第3可動部分との間の、前記固定電極部材から前記可動電極部材への第1方向に沿う第3距離は、前記第1固定電極部分と前記第1可動部分との間の前記第1方向に沿う第1距離よりも短く、前記第2固定電極部分と前記第2可動部分との間の前記第1方向に沿う第2距離よりも短い。
図1(a)及び図1(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。 図2は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。 図3(a)及び図3(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。 図4(a)及び図4(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。 図5は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。 図6は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。 図7は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。 図8(a)及び図8(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。 図9(a)及び図9(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。 図10は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。 図11(a)及び図11(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。 図12は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。 図13は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。 図14は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。 図15(a)及び図15(b)は、センサの特性を例示する模式図である。 図16は、第2実施形態に係るセンサを例示するブロック図である。
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1実施形態)
図1(a)及び図1(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。
図1(a)は、平面図である。図1(b)は、図1(a)のA1-A2線断面図である。
図1(a)及び図1(b)に示すように、実施形態に係るセンサ110は、基体50s及び第1センサ部10Aを含む。基体50sは、例えば、基板である。基体50sは、例えば半導体基板(例えばシリコン基板など)で良い。
第1センサ部10Aは、固定電極部材51M、可動電極部材11M、第1支持部材21及び第2支持部材22を含む。
固定電極部材51Mは、固定電極51を含む。固定電極51は、基体50sに固定される。この例では、固定電極部材51Mは、絶縁領域51i及び絶縁領域51jを含む。基体50sと絶縁領域51iとの間に固定電極51が設けられる。基体50sと固定電極51の間に絶縁領域51jが設けられる。
可動電極部材11Mは、第1可動部分11a、第2可動部分11b、及び、第3可動部分11cを含む。第3可動部分11cは、第1可動部分11aと第2可動部分11bとの間にある。例えば、基体50sの一部と、可動電極部材11Mと、の間に、固定電極部材51Mの少なくとも一部がある。
固定電極部材51Mから可動電極部材11Mへの第1方向をZ軸方向とする。Z軸方向に対して垂直な1つの方向をX軸方向とする。Z軸方向及びX軸方向に対して垂直な方向をY軸方向とする。
例えば、基体50sは、基体面50fを含む。基体面50fは、例えば上面である。基体面50fは、X-Y平面に対して実質的に平行である。基体面50fは、第1方向(Z軸方向)に対して、実質的に垂直である。基体面50fの上に固定電極部材51Mが設けられる。
図1(b)に示すように、第1支持部材21は、基体50sに固定され、第1可動部分11aと接続される。この例では、第1支持部材21は、第1固定部21F、第1中間支持部21M及び第1接続部21Cを含む。第1固定部21Fは、基体50sに固定される。第1接続部21Cは、可動電極部材11Mの第1可動部分11aと接続される。第1中間支持部21Mは、第1固定部21Fと第1接続部21Cとの間にある。第1中間支持部21M及び第1接続部21Cは、基体50sから離れる。基体50sと第1中間支持部21Mとの間には、間隙がある。基体50sと第1接続部21Cとの間には、間隙がある。第1固定部21F、第1中間支持部21M及び第1接続部21Cは、互いに連続的で良い。第1接続部21Cは、例えば、ばね部である。
図1(b)に示すように、第2支持部材22は、基体50sに固定され、第2可動部分11bと接続される。この例では、第2支持部材22は、第2固定部22F、第2中間支持部22M及び第2接続部22Cを含む。第2固定部22Fは、基体50sに固定される。第2接続部22Cは、可動電極部材11Mの第2可動部分11bと接続される。第2中間支持部22Mは、第2固定部22Fと第2接続部22Cとの間にある。第2中間支持部22M及び第2接続部22Cは、基体50sから離れる。基体50sと第2中間支持部22Mとの間には、間隙がある。基体50sと第2接続部22Cとの間には、間隙がある。第2固定部22F、第2中間支持部22M及び第2接続部22Cは、互いに連続的で良い。第2接続部22Cは、例えば、ばね部である。
図1(a)及び図1(b)に示すように、この例では、第1支持部材21から第2支持部材22への方向は、X軸方向に沿う。X軸方向において、第1支持部材21と第2支持部材22との間に可動電極部材11Mがある。X軸方向において、第1固定部21Fと可動電極部材11Mとの間に、第1中間支持部21Mがある。X軸方向において、第1中間支持部21Mと可動電極部材11Mとの間に、第1接続部21Cがある。X軸方向において、可動電極部材11Mと第2固定部22Fとの間に、第2中間支持部22Mがある。X軸方向において、可動電極部材11Mと第2中間支持部22Mとの間に、第2接続部22Cがある。
第1固定部21Fから可動電極部材11Mへの方向は、第2方向(例えばX軸方向)に沿う。第2方向は、第1方向(Z軸方向)と交差する。第1方向(Z軸方向)及び第2方向(X軸方向)を含む平面と交差する方向を第3方向とする。第3方向は、例えば、Y軸方向である。図1(a)に示すように、第1接続部21Cの少なくとも一部の第3方向(例えば、Y軸方向)に沿う長さは、第1中間支持部21Mの第3方向に沿う長さよりも短い。例えば、第2接続部22Cの少なくとも一部の第3方向に沿う長さは、第2中間支持部22Mの第3方向に沿う長さよりも短い。
図1(a)に示すように、複数の第1接続部21C、及び、複数の第2接続部22Cが設けられても良い。複数の第1接続部21Cの1つから複数の第1接続部21Cの別の1つへの方向は、Y軸方向に沿う。複数の第2接続部22Cの1つから複数の第2接続部22Cの別の1つへの方向は、Y軸方向に沿う。
図1(b)に示すように、第1支持部材21及び第2支持部材22は、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間に第1間隙g1が設けられるように、可動電極部材11Mを支持する。
図1(b)に示すように、可動電極部材11Mは反っている。例えば、可動電極部材11Mは、第1可動面11fを含む。第1可動面11fは、固定電極部材51Mと対向する。第1可動面11fは、例えば、下面である。第1可動面11fは、凸状である。例えば、第1可動面11fは、固定電極部材51Mに向かって凸状に反っている。
例えば、固定電極部材51Mは、第1可動部分11aと対向する第1固定電極部分51aと、第2可動部分11bと対向する第2固定電極部分51bと、第3可動部分11cと対向する第3固定電極部分51cと、を含む。第1固定電極部分51aと第1可動部分11aとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離を第1距離d1とする。第2固定電極部分51bと第2可動部分11bとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離を第2距離d2とする。第3固定電極部分51cと第3可動部分11cとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離を第3距離d3とする。
実施形態においては、第3距離d3は、第1距離d1よりも短く、第2距離d2よりも短い。
このような構成により、高い検出感度が得易くなる。例えば、後述するように、検出対象の物質の濃度(例えば、水素などの濃度)に応じて、第1支持部材21及び第2支持部材22の形状が変化する。これにより、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の距離が変化する。距離の変化に応じて、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の電気容量が変化する。電気容量の変化を検出することで、検出対象の物質の濃度などを検出できる。第1センサ部10Aは、例えば、電気容量型センサである。
検出対象の物質の濃度の変化に対する電気容量の変化率は、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の距離が短いと高くなる。実施形態においては、第1可動面11fは、凸状である。第3距離d3は、第1距離d1よりも短く、第2距離d2よりも短い。これにより、可動電極部材11Mの中央部で、第3距離d3を短くできる。これにより、電気容量の変化率を高くできる。
例えば、可動電極部材11Mがフラットな参考例がある。この参考例においては、第3距離d3は、第1距離d1と同じであり、第2距離d2と同じである。このような参考例において、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の距離を短くしようとすると、製造プロセスのばらつきなどに対する要求が厳しくなる。
実施形態においては、可動電極部材11Mの中央部で第3距離d3を短くし、周囲の第1距離d1及び第2距離d2を短くしない。これにより、製造プロセスのばらつきなどに対する要求が緩やかなままで、電気容量の変化率を高くできる。
実施形態において、例えば、可動電極部材11Mに生じる応力などを調整することで、第1可動面11fは凸状になり、第3距離d3を第1距離d1よりも短く、第2距離d2よりも短くできる。
上記の参考例などのように、一般に、可動電極部材11Mの応力を抑制して、可動電極部材11Mをフラットにしようという技術思想が採用される。実施形態においては、このような技術思想ではなく、第1可動面11fを凸状にするような技術思想が採用される。これにより、製造を容易としつつ、電気容量の変化率を高くできる。高い検出感度が得られる。
図1(b)に示すように、この例では、可動電極部材11Mは、第1絶縁部11i及び第2絶縁部11jを含む。固定電極部材51Mと第2絶縁部11jとの間に、第1絶縁部11iがある。第1絶縁部11iと第2絶縁部11jとの間に、可動電極11がある。
この例では、第1絶縁部11iのZ軸方向に沿う長さ(厚さ)は、第2絶縁部11jのZ軸方向に沿う長さ(厚さ)とは異なる。例えば、第1絶縁部11iのZ軸方向に沿う長さ(厚さ)は、第2絶縁部11jのZ軸方向に沿う長さ(厚さ)よりも短い。このような厚さの違いにより、可動電極部材11Mに応力が生じ、この応力により、第1可動面11fが凸状になっても良い。
第1絶縁部11iの材料が第2絶縁部11jの材料と異なることで、第1可動面11fが凸状になっても良い。第1絶縁部11iの形成条件(例えば成膜条件)が第2絶縁部11jの形成条件(例えば成膜条件)と異なることで、第1可動面11fが凸状になっても良い。
実施形態において、可動電極11は積層された複数の導電膜を含んでも良い。複数の導電膜の特性が互いに異なることで、第1可動面11fが凸状になっても良い。
第3距離d3と第1距離d1との差が反り量に対応する。実施形態において、第3距離d3と第1距離d1との差は、第3可動部分11cの第1方向(Z軸方向)に沿う厚さ11t(図1(b)参照)の0.1倍以上である。このような反り量により、電気容量の変化率を効果的に高くできる。第3距離d3と第1距離d1との差は、第3可動部分11cの第1方向に沿う厚さ11tの0.5倍以上でも良い。電気容量の変化率を効果的に安定して高くできる。
既に説明したように、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の距離は、可動電極部材11Mの周囲における第1元素の濃度に応じて変化可能である。第1元素は、検出対象の物質の元素である。第1元素は、例えば、水素である。
例えば、第1支持部材21の少なくとも一部は、第1支持部材21の周囲における第1元素の濃度に応じて変形可能である。第2支持部材22の少なくとも一部は、第2支持部材22の周囲における第1元素の濃度に応じて変形可能である。例えば、第1支持部材21及び第2支持部材22に検出対象の第1元素(水素など)が付着することで、第1支持部材21及び第2支持部材22が変形する。例えば、第1元素の濃度に応じて、第1支持部材21及び第2支持部材22の体積が変化する。これにより、第1支持部材21の少なくとも一部、及び、第2支持部材22の少なくとも一部が変形する。変形に応じて、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の距離が変化し、電気容量が変化する。
例えば、第1支持部材21及び第2支持部材22の少なくとも一部は、第1元素を吸着しても良い。第1支持部材21及び第2支持部材22の少なくとも一部は、第1元素を蓄えても良い。
例えば、図1(a)及び図1(b)に示すように、第1支持部材21は、機能膜(第1機能膜21s)を含む。第2支持部材22は、機能膜(第2機能膜22s)を含む。機能膜(第1機能膜21s及び第2機能膜22s)は、例えば、第2元素及び第3元素を含む。第2元素は、例えば、Pd及びPtよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第3元素は、例えば、Siを含む。機能膜(第1機能膜21s及び第2機能膜22s)は、例えば、Pd及びSiを含む。機能膜は、水素(第1元素の例)を効率的に吸着する。効率的な体積の変化が得られる。
機能膜(第1機能膜21s及び第2機能膜22s)は、例えば、第4元素をさらに含んでも良い。第4元素は、Cuを含む。機能膜(第1機能膜21s及び第2機能膜22s)は、例えば、PdCuSiを含む。PdCuSiは、例えば、水素(第1元素の例)を効率的に吸着する。効率的な体積の変化が得られる。
図1(b)に示すように、この例では、第1支持部材21は、導電層21p、導電層21q、絶縁層21i、絶縁層21j及び絶縁層21kを含む。例えば、絶縁層21iと第1機能膜21sとの間に、絶縁層21jがある。絶縁層21jと第1機能膜21sとの間に絶縁層21kがある。絶縁層21iと絶縁層21jとの間に導電層21pがある。絶縁層21jと絶縁層21kとの間に導電層21qがある。例えば、可動電極11は、導電層21p及び導電層21qの一方と電気的に接続され、電気的に外部に取り出されも良い。後述するように、第1支持部材21は、ヒータを含んでも良い。ヒータは、導電層21p及び導電層21qの他方と電気的に接続され、電気的に外部に取り出されも良い。
図1(b)に示すように、この例では、第2支持部材22は、導電層22p、導電層22q、絶縁層22i、絶縁層22j及び絶縁層22kを含む。例えば、絶縁層22iと第2機能膜22sとの間に、絶縁層22jがある。絶縁層22jと第2機能膜22sとの間に絶縁層22kがある。絶縁層22iと絶縁層22jとの間に導電層22pがある。絶縁層22jと絶縁層22kとの間に導電層22qがある。例えば、可動電極11は、導電層22p及び導電層22qの一方と電気的に接続され、電気的に外部に取り出されも良い。後述するように、第2支持部材22は、ヒータを含んでも良い。ヒータは、導電層22p及び導電層22qの他方と電気的に接続され、電気的に外部に取り出されも良い。
図1(a)に示すように、可動電極部材11Mは、孔11Hを含んでも良い。
図2は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。
図2に示すように、センサ110は、電気回路70を含んでも良い。電気回路70は、固定電極51及び可動電極11と電気的に接続される。例えば、電気回路70は、配線70aを介して固定電極51と電気的に接続される。例えば、電気回路70は、配線70bを介して可動電極11と電気的に接続される。例えば、電気回路70は、第1支持部材21及び第2支持部材22の少なくともいずれかに設けられる導電層(導電部材)を介して、可動電極11と電気的に接続されても良い。配線70bは、第1支持部材21及び第2支持部材22の少なくともいずれかに設けられる導電層を含んでも良い。
電気回路70は、第1信号S1を出力可能である。第1信号S1は、固定電極51と可動電極11との間の電気容量に応じている。上記のように、第1信号S1は、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の距離の変化に応じて変化する。第1信号S1は、第1支持部材21及び第2支持部材22の周囲に含まれる第1元素の濃度に応じて、変化する。
図3(a)及び図3(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
これらの図は、図1(a)のA1-A2線断面に対応する断面図である。図3(a)に示すように、実施形態に係るセンサ111において、第1絶縁部11iのZ軸方向に沿う長さ(厚さ)は、第2絶縁部11jのZ軸方向に沿う長さ(厚さ)よりも長い。このような厚さの違いにより、可動電極部材11Mに応力が生じ、この応力により、第1可動面11fが凸状になっても良い。
図3(b)に示すように、実施形態に係るセンサ111において、導電層21pのX-Y平面内の面積が、導電層21qのX-Y平面内の面積と異なっても良い。例えば、導電層21pのX-Y平面内の面積は、導電層21qのX-Y平面内の面積よりも小さい。導電層22pのX-Y平面内の面積が、導電層22qのX-Y平面内の面積と異なっても良い。例えば、導電層22pのX-Y平面内の面積は、導電層22qのX-Y平面内の面積よりも小さい。このような面積の違いは、例えば、これらの導電層の少なくとも一部に設けられる孔の面積及び数の少なくともいずれかにより設けられても良い。面積の違いにより、第1中間支持部21M及び第2中間支持部22Mの少なくともいずれかが、基体50sに向かって曲がっても良い。例えば、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間の距離(例えば第3距離d3でも良い)がより短くなる。導電層21p及び導電層22pは、例えば、ヒータでも良い。
図4(a)及び図4(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
図4(a)及び図4(b)は、図1(a)のA1-A2線断面に対応する断面図である。
図4(a)に示すように、実施形態に係るセンサ110Aにおいては、可動電極11は積層された複数の導電膜を含む。例えば、可動電極部材11Mが、可動電極11、及び、別の可動電極11Aを含む、と見なしても良い。可動電極11から別の可動電極11Aへの方向は、Z軸方向に沿う。可動電極11と、別の可動電極11Aと、の間に第3絶縁部11kが設けられる。
1つの例において、可動電極11の面積と、別の可動電極11Aの面積とは、互いに異なる。1つの例において、可動電極11の厚さと、別の可動電極11Aの厚さとは、互いに異なる。例えば、可動電極11と、別の可動電極11Aとは、互いに異なる応力を有する。第1可動面11fが凸状になる。
図4(b)に示すように、実施形態に係るセンサ110Bにおいても、例えば、可動電極部材11Mは、可動電極11、及び、別の可動電極11Aを含む。可動電極11及び別の可動電極11Aの少なくともいずれかは、孔11hを含んで良い。孔11hの面積により、可動電極11の面積と、及び、別の可動電極11Aの面積とが互いに異なっても良い。これらの電極の開口率(または被覆率)が、孔11hなどにより、互いに異なっても良い。第1可動面11fが凸状になる。
図5は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
図5は、図1(a)のA1-A2線断面に対応する断面図である。図5に示す実施形態に係るセンサ110Cのように、第2中間支持部22Mが省略されても良い。センサ110A~110Cにおいても、検出感度を向上可能なセンサが提供できる。
図6及び図7は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。
図6及び図7に示すように、実施形態に係るセンサ110D及び110Eにおいては、第1支持部材21及び第2支持部材22に加えて、第3支持部材23及び第4支持部材24が設けられる。第1~第4支持部材21~24は、固定電極部材51Mと可動電極部材11Mとの間に第1間隙g1が設けられるように、可動電極部材11Mを支持する。例えば、第1支持部材21から第2支持部材22への方向は、第3支持部材23から第4支持部材24への方向と交差する。例えば、第3支持部材23は、第3固定部23F、第3中間支持部23M及び第3接続部23Cを含む。例えば、第4支持部材24は、第4固定部24F、第4中間支持部24M及び第4接続部24Cを含む。第3支持部材23及び第4支持部材24の構成は、第1支持部材21及び第2支持部材22の構成と同様で良い。
図7に示すセンサ110Eのように、第1~第4固定部21F~24Fは、互いに連続して良い。センサ110D及び110Eにおいても、検出感度を向上可能なセンサが提供できる。
図8(a)及び図8(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。
図8(a)は、平面図である。図8(b)は、図8(a)のB1-B2線断面図である。
図8(a)及び図8(b)に示すように、実施形態に係るセンサ112も、基体50s及び第1センサ部10Aを含む。この例においても、第1センサ部10Aは、固定電極部材51M、可動電極部材11M、第1支持部材21及び第2支持部材22を含む。図8(b)に示すように、センサ112においては、第1支持部材21及び第2支持部材22は、曲面状である。
図8(b)に示すように、センサ112において、第1支持部材21の第1中間支持部21Mは、第1固定部側部分21fs及び第1接続部側部分21csを含む。第1固定部側部分21fsは、第1固定部21Fと接続される。第1接続部側部分21csは、第1接続部21Cと接続される。
図8(b)に示すように、基体50sを基準にしたときに、第1固定部側部分21fsの高さは、第1接続部側部分21csの高さと異なる。基体50sと第1接続部側部分21csとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離d1cは、基体50sと第1固定部側部分21fsとの間の第1方向に沿う距離d1fよりも長い。
図8(b)に示すように、センサ112において、第2支持部材22の第2中間支持部22Mは、第2固定部側部分22fs及び第2接続部側部分22csを含む。第2固定部側部分22fsは、第2固定部22Fと接続される。第2接続部側部分22csは、第2接続部22Cと接続される。
図8(b)に示すように、基体50sと第2接続部側部分22csとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離d2cは、基体50sと第2固定部側部分22fsとの間の第1方向に沿う距離d2fよりも長い。
第1接続部側部分21cs及び第2接続部側部分22csの高さを高くすることで、例えば、第1可動面11fが凸状になりやすくても良い。電気容量の変化率を高くし易い。
後述するように、第1支持部材21及び第2支持部材22は、ヒータを含んでも良い。ヒータにより、機能膜(第1機能膜21s及び第1機能膜22sなど)の温度が上昇する。例えば、機能膜に吸着された水が機能膜から離れ、例えば、機能膜の第1元素の吸着特性が回復する。第1接続部側部分21cs及び第2接続部側部分22csを高くすることで、第1中間支持部21Mと基体50sとの間の距離、及び、第2中間支持部22Mと基体50sとの間の距離を長くできる。これにより、例えば、機能膜の温度を効率的に上昇させることができる。
図8(a)に示すように、第1接続部21Cの少なくとも一部の第3方向(例えば、Y軸方向)に沿う長さは、第1中間支持部21Mの第3方向に沿う長さよりも短い。例えば、第2接続部22Cの少なくとも一部の第3方向に沿う長さは、第2中間支持部22Mの第3方向に沿う長さよりも短い。
図8(a)に示すように、この例では、第1固定部側部分21fsは、梁21Bにより支持されている。第2固定部側部分22fsは、梁22Bにより支持されている。梁21B及び梁22Bは、Y軸方向に延びる。この例では、2つの梁21Bの間に、第1固定部側部分21fsがある。2つの梁22Bの間に、第2固定部側部分22fsがある。例えば、第1固定部側部分21fs及び第2固定部側部分22fsの位置が安定する。
センサ111及び112における上記以外の構成には、センサ110に関して説明した構成が適用できる。
図9(a)及び図9(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。
図9(a)は、平面図である。図9(b)は、図9(a)のC1-C2線断面図である。
実施形態に係るセンサ113は、上記の第1センサ部10Aに加えて、第2センサ部10Bをさらに含んでも良い。センサ113において、第1センサ部10Aについて、センサ110、111、111A、112、及び、110A~110Eに関して説明した構成が適用できる。以下、第2センサ部10Bの例について説明する。
図9(a)及び図9(b)に示すように、第2センサ部10Bは、センサ部材31Mと、第1支持部41と、第2支持部42と、を含む。
センサ部材31Mは、第1センサ部分31a及び第2センサ部分31bを含む。センサ部材31Mは、導電部材(例えば第1導電部材31)を含む。
第1支持部41は、基体50sに固定され、第1センサ部分31aと接続される。第2支持部42は、基体50sに固定され、第2センサ部分31bと接続される。第1支持部41及び第2支持部42は、基体50sとセンサ部材31Mとの間に第2間隙g2が設けられるようにセンサ部材31Mを支持する。
導電部材(例えば第1導電部材31)の電気抵抗は、センサ部材31Mの周囲における検出対象の物質の濃度により変化する。例えば、濃度が高いと、導電部材の熱が検出対象の物質を介して散逸し易い。導電部材の電気抵抗は、導電部材の温度に応じて変化する。導電部材の電気抵抗の変化を検出することで、検出対象の物質の濃度に関する情報が得られる。第2センサ部10Bは、例えば、熱伝導型の電気抵抗型センサである。
一般に、熱伝導型の電気抵抗型センサにおいては、検出対象の物質(元素)の濃度が比較的高い領域で、高い精度で検出対象の物質を検出できる。一方、電気容量型センサは、検出対象の物質の濃度が低い領域で、高い精度で検出対象を検出できる。第1センサ部10Aと第2センサ部10Bとを併用することで、広い濃度範囲で、高い精度で濃度を検出できる。広いダイナミックレンジの検出が可能になる。第2センサ部10Bにおける検出対象の物質は、第1元素(例えば水素など)でも良く、別の物質(例えば二酸化炭素など)でも良い。例えば、第1センサ部10A及び第2センサ10Bが設けられることで、第1元素と、第1元素とは異なる物質と、が検出できても良い。
図9(b)に示すように、センサ部材31Mは、ヒータ32をさらに含んでも良い。ヒータ32によりセンサ部材31Mの温度を上昇させる。例えば、ヒータ32に供給される電力に対しての導電部材31の抵抗の変化の程度から、検出対象の元素の濃度に関する情報が得られる。
図9(a)及び図9(b)に示すように、第1支持部41は、第1支持固定部41F及び第1支持接続部41Cを含む。第1支持固定部41Fは、基体50sに固定される。第1支持接続部41Cの一端は、第1支持固定部41Fに支持される。第1支持接続部41Cは、センサ部材31Mを支持する。第2支持部42は、第2支持固定部42F及び第2支持接続部42Cを含む。第2支持固定部42Fは、基体50sに固定される。第2支持接続部42Cの一端は、第2支持固定部42Fに支持される。第2支持接続部42Cは、センサ部材31Mを支持する。第1支持接続部41C及び第2支持接続部42Cは、例えば、ばね部である。
図10は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。
図10に示すように、センサ113は、電気回路70を含んでも良い。電気回路70は、センサ部材31Mに含まれる導電部材(例えば第1導電部材31)と電気的に接続される。例えば、電気回路70は、配線70cを介して第1導電部材31の一端と電気的に接続される。例えば、電気回路70は、配線70dを介して第1導電部材31の他端と電気的に接続される。
電気回路70は、第2信号S2を出力可能である。第2信号S2は、導電部材(第1導電部材31)の電気抵抗に応じる。上記のように、導電部材(第1導電部材31)の電気抵抗は、センサ部材31Mの周囲に含まれる検出対象の物質(第1元素)の濃度に応じて、変化する。
センサ113において、電気回路70は、第1信号S1(図2参照)及び第2信号S2の少なくともいずれかを出力しても良い。電気回路70は、第1信号S1及び第2信号S2から導出された信号を出力しても良い。広いダイナミックレンジの検出信号が得られる。
図11(a)及び図11(b)は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式図である。
図11(a)は、平面図である。図11(b)は、図11(a)のD1-D2線断面図である。
図11(a)及び図11(b)に示すように、センサ114において、センサ部材31Mが曲面状でも良い。例えば、センサ部材31Mは、基体対向面31fを含む。基体対向面31fは、基体50sに対向する。基体対向面31fは、凹状である。
例えば、センサ部材31Mは、第1センサ部分31a及び第2センサ部分31bに加えて、第3センサ部分31cを含む。第3センサ部分31cは、第1センサ部分31aと第2センサ部分31bとの間にある。
図11(b)に示すように、基体50sは、第1対向部分50a、第2対向部分50b及び第3対向部分50cを含む。第1対向部分50aは、第1センサ部分31aと対向する。第2対向部分50bは、第2センサ部分31bと対向する。第3対向部分50cは、第3センサ部分31cと対向する。
第1対向部分50aと第1センサ部分31aとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離を第1対向距離dz1とする。第2対向部分50bと第2センサ部分31bとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離を第2対向距離dz2とする。第3対向部分50cと第3センサ部分31cとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離を第3対向距離dz3とする。センサ114においては、第3対向距離dz3は、第1対向距離dz1よりも長い。第3対向距離dz3は、第2対向距離dz2よりも長い。
このように、基体対向面31fが凹状で、第3対向距離dz3が第1対向距離dz1よりも長く第2対向距離dz1よりも長いことで、例えば、センサ部材31Mの中央部と基体50sとの間の距離を長くできる。
上記のように、例えば、センサ部材31Mの電気抵抗が、検出対象の物質の濃度に応じて変化する。センサ部材31Mの中央部と基体50sとの間の距離が過度に短いと、センサ部材31Mからの熱が基体50sなどに伝わりやすい。このため、検出対象の物質の濃度の変化に対する電気伝導の変化率を高くすることが困難になる。これに対して、センサ部材31Mの中央部と基体50sとの間の距離が長いと、センサ部材31Mからの熱が基体50sなどに伝わることが抑制できる。これにより、検出対象の元素の濃度の変化に対する電気伝導の変化率を高くすることができる。
実施形態において、例えば、1つの基体50sに、第1センサ部10Aと第2センサ部10Bとが設けられる。この場合、第1センサ部10Aの可動電極部材11Mと、第2センサ部10Bのセンサ部材31Mと、を同じ製造プロセスで形成することで、高い生産性が得られる。例えば、基体50sと可動電極部材11Mとの間に設けられる犠牲層の厚さと、基体50sとセンサ部材31Mとの間に設けられる犠牲層の厚さと、は、実質的に同じである。
実施形態においては、例えば、可動電極部材11Mの下面(第1可動面11f)を基体50sに向かって凸状とし、センサ部材31Mの下面(基体対向面31f)を基体50sに向かって凹状とする。これにより、基体50sと、可動電極部材11Mの中央部と、の間の距離(第3距離d3)は短くなり、基体50sと、センサ部材31Mの中央部と、の間の距離(第3対向距離dz3)は長くなる。このような長さの違いが、同じ厚さの犠牲層により得られる。これにより、電気容量の検出における高い感度と、電気抵抗の検出における高い感度と、が得られる。実施形態によれば、広いダイナミックレンジで、高い感度の検出が可能である。
例えば、第3対向距離dz3と第1対向距離dz1との差は、第3センサ部分31cの第1方向(Z軸方向)に沿う厚さの0.1倍以上である。第3対向距離dz3と第1対向距離dz1との差は、第3センサ部分31cの第1方向(Z軸方向)に沿う厚さの0.5倍以上でも良い。
図12は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
図12に示すように、実施形態に係るセンサ115においては、第1センサ部10Aとして、センサ110に関して説明した第1センサ部10Aの構成が適用される。センサ115において、第2センサ部10Bとして、センサ114に関して説明した第2センサ部10Bの構成が適用される。図12に示すように、第1可動面11fは凸状であり、基体対向面31fは凹状である。
図13は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
図13に示すように、実施形態に係るセンサ116においては、第1センサ部10Aとして、センサ112に関して説明した第1センサ部10Aの構成が適用される。センサ116において、第2センサ部10Bとして、センサ114に関して説明した第2センサ部10Bの構成が適用される。図13に示すように、第1可動面11fは凸状であり、基体対向面31fは凹状である。図13に示すように、第1接続部21C及び第2接続部22Cは、上方に向けて曲面状に反っている。
図14は、第1実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
図14は、実施形態に係るセンサ117の一部を例示している。センサ117において、第1支持部材21は、第1固定部21F、第1中間支持部21M及び第1接続部21Cを含む。第1中間支持部21Mの一部に、ヒータ21hが設けられている。第1中間支持部21Mは、第1中間領域21Ma及び第2中間領域21Mbを含む。第1中間領域21Maは、ヒータ21hを含む。第2中間領域21Mbは、ヒータ21hを含まない。第1中間領域21Maは、第1接続部21Cと接続される。第1固定部21Fと第1中間領域21Maとの間に第2中間領域21Mbがある。第2中間領域21Mbを設けることで、第1中間領域21Maのヒータ21hによる熱が散逸しにくい。第2中間領域21Mbにより熱抵抗を高くできる。ヒータ21hにより、温度を効果的に上昇できる。例えば、第1機能膜21sを効果的に加熱できる。例えば、第1機能膜21sに含まれる各種の元素を効果的に除去し易い。
例えば、第1中間支持部21Mに第1中間領域21Ma及び第2中間領域21Mbを設けることで、第1中間支持部21Mの反りの量を大きくし易い。
図14に示すように、第1固定部21Fは、ヒータ21hと電気的に接続された配線21hwを含んでも良い。第1固定部21Fは、可動電極11(図1(b)などを参照)と電気的に接続された配線11wを含んでも良い。
上記のような第1支持部材21の構成は、第2支持部材22に適用されても良い。
第1実施形態において、第1可動面11fが実質的にフラットで、第1支持部材21が、図8(b)に関して説明した構成を有しても良い。例えば、基体50sに固定され第1可動部分11aと接続された第1支持部材21と、基体50sに固定され第2可動部分11bと接続された前記第2支持部材と、が設けられる。第1支持部材21は、第1固定部側部分21fsと第1接続部側部分21csとを含む。第1接続部側部分21csは、第1固定部側部分21fsと第1可動部分11aとの間にある。第2支持部材22は、第2固定部側部分22fsと第2接続部側部分22csとを含む。第2接続部側部分22csは、第2固定部側部分22fsと第2可動部分11bとの間にある。図8(b)に示すように、例えば、基体50sと第1接続部側部分21csとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離d1cは、基体50sと第1固定部側部分21fsとの間の第1方向に沿う距離d1fよりも長くても良い。例えば、基体50sと第2接続部側部分22csとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う距離d2cは、基体50sと第2固定部側部分22fsとの間の第1方向に沿う距離d2fよりも長くても良い。距離d1cと距離d1fとの差は、例えば、第1接続部側部分21csの第1方向に沿う長さ(厚さ)の0.1倍以上よりも大きくても良い。差は、例えば、第1接続部側部分21csの第1方向に沿う長さ(厚さ)の0.5倍以上よりも大きくても良い。このような例において、第1固定部21Fから可動電極部材11Mへの方向は、第1方向(Z軸方向)と交差する第2方向(例えばX軸方向)に沿う。第1接続部21Cの少なくとも一部の第3方向(Y軸方向)に沿う長さは、第1中間支持部21Mの第3方向に沿う長さよりも短い。第3方向は、第1方向及び第2方向を含む平面と交差する。
実施形態において、第1センサ部10Aが設けられず、第2センサ部10Bが設けられても良い。この場合、センサ(例えば図9(b)に例示したセンサ113)は、基体50sと、センサ部(例えば、第2センサ部10B)と、を含む。センサ部(第2センサ部10B)は、センサ部材31M、第1支持部41及び第2支持部42を含む(図9(b)参照)。センサ部材31Mは、第1センサ部分31a、第2センサ部分31b、及び、第1センサ部分31aと第2センサ部分31bとの間の第3センサ部分31cを含む。第1支持部41は、基体50sに固定され、第1センサ部分31aと接続される。第2支持部42は、基体50sに固定され、第2センサ部分31bと接続される。第1支持部41及び第2支持部42は、基体50sとセンサ部材31Mとの間に第2間隙g2が設けられるようにセンサ部材31Mを支持する(図9(b)参照)。
図9(b)に示すように、基体50sは、第1センサ部分31aと対向する第1対向部分50aと、第2センサ部分31bと対向する第2対向部分50bと、第3センサ部分31cと対向する第3対向部分50cと、を含む。第3対向部分50cと第3センサ部分31cとの間の第1方向(Z軸方向)に沿う第3対向距離dz3は、第1対向部分50aと第1センサ部分31aとの間の第1方向に沿う第1対向距離dz1よりも長く、第2対向部分50bと第2センサ部分31bとの間の第1方向に沿う第2対向距離dz2よりも長くても良い(図9(b)参照)。
図15(a)及び図15(b)は、センサの特性を例示する模式図である。
これらの図は、第1センサ部10Aの表面の凹凸(Z軸方向における高さ)の測定結果を例示している。図15(a)は、第1試料SP01に対応する。図15(b)は、第2試料SP02に対応する。第1試料SP01における層の構成は、第2試料SP02における層の構成と異なる。これらの図の横軸は、X軸方向における位置pXである。これらの図の縦軸は、Z軸方向における位置pZ(高さ)である。
図15(a)に示すように、第1試料SP01においては、可動電極部材11Mは、下に凸状に反っている。第1試料SP01においては、第1接続部側部分21csは、第1固定部側部分21fsよりも高い。第2接続部側部分22csは、第2固定部側部分22fsよりも高い。
図15(b)に示すように、第2試料SP02においては、可動電極部材11Mは、上に凸状に反っている。第1試料SP01及び第2試料SP02におけるこのような違いは、層の構成などを変更することなどにより得られる。
(第2実施形態)
図16は、第2実施形態に係るセンサを例示するブロック図である。
図16に示すように、実施形態に係るセンサモジュール210は、実施形態に係るセンサ(この例では、センサ110)と、電池71と、無線通信回路73と、アンテナ75と、筐体77と、を含む。
例えば、センサ110、電池71及び無線通信回路73は、筐体77の内部に設けられる。アンテナ75の少なくとも一部は、筐体77の外部に設けられる。筐体77は、例えば、地面、床、または壁などに取り付けられる。
電池71は、センサ110に接続される。電池71は、センサ110に電力を供給可能である。無線通信回路73は、センサ110に接続される。無線通信回路73は、センサ110で検出された値に応じた信号を送信可能である。アンテナ75は、無線通信回路73と接続される。アンテナ75を介して、信号が送信される。
実施形態は、以下の構成(例えば技術案)を含んでも良い。
(構成1)
基体と、
第1センサ部と、
を備え、
前記第1センサ部は、
前記基体に固定された固定電極を含む固定電極部材と、
第1可動部分、第2可動部分、及び、前記第1可動部分と前記第2可動部分との間の第3可動部分を含み、可動電極を含む可動電極部材と、
前記基体に固定され、前記第1可動部分と接続された第1支持部材と、
前記基体に固定され、前記第2可動部分と接続された第2支持部材と、
を含み、
前記第1支持部材及び前記第2支持部材は、前記固定電極部材と前記可動電極部材との間に第1間隙が設けられるように前記可動電極部材を支持し、
前記固定電極部材は、前記第1可動部分と対向する第1固定電極部分と、前記第2可動部分と対向する第2固定電極部分と、前記第3可動部分と対向する第3固定電極部分と、を含み、
前記第3固定電極部分と前記第3可動部分との間の、前記固定電極部材から前記可動電極部材への第1方向に沿う第3距離は、前記第1固定電極部分と前記第1可動部分との間の前記第1方向に沿う第1距離よりも短く、前記第2固定電極部分と前記第2可動部分との間の前記第1方向に沿う第2距離よりも短い、センサ。
(構成2)
前記可動電極部材は、前記固定電極部材と対向する第1可動面を含み、
前記第1可動面は、凸状である、構成1記載のセンサ。
(構成3)
前記第3距離と前記第1距離との差は、前記第3可動部分の前記第1方向に沿う厚さの0.1倍以上である、構成2記載のセンサ。
(構成4)
前記第3距離と前記第1距離との差は、前記第3可動部分の前記第1方向に沿う厚さの0.5倍以上である、構成2記載のセンサ。
(構成5)
前記第1支持部材は、第1固定部側部分と第1接続部側部分とを含み、前記第1固定部側部分は、前記第1接続部側部分と前記第1可動部分との間にあり、
前記基体と前記第1接続部側部分との間の前記第1方向に沿う距離は、前記基体と前記第1固定部側部分との間の前記第1方向に沿う距離よりも長い、構成1~4のいずれか1つに記載のセンサ。
(構成6)
前記第1支持部材は、第1固定部、第1中間支持部及び第1接続部を含み、
前記第1固定部は、前記基体に固定され、
前記第1接続部は前記第1可動部分と接続され、
前記第1中間支持部は前記第1固定部と前記第1接続部との間にあり、
前記第1中間支持部及び前記第1接続部は前記基体から離れ、
前記第1中間支持部は、前記第1固定部側部分と前記第1接続部側部分とを含み、
前記第1固定部側部分は、前記第1固定部と接続され、
前記第1接続部側部分は、前記第1接続部と接続された、構成5記載のセンサ。
(構成7)
前記第2支持部材は、第2固定部側部分と第2接続部側部分とを含み、前記第2固定部側部分は、前記第2接続部側部分と前記第2可動部分との間にあり、
前記基体と前記第2接続部側部分との間の前記第1方向に沿う距離は、前記基体と前記第2固定部側部分との間の前記第1方向に沿う距離よりも長い、構成5または6に記載のセンサ。
(構成8)
前記第2支持部材は、第2固定部、第2中間支持部及び第2接続部を含み、
前記第2固定部は、前記基体に固定され、
前記第2接続部は前記第2可動部分と接続され、
前記第2中間支持部は前記第2固定部と前記第2接続部との間にあり、
前記第2中間支持部及び前記第2接続部は前記基体から離れ、
前記第2中間支持部は、前記第2固定部側部分と前記第2接続部側部分とを含み、
前記第2固定部側部分は、前記第2固定部と接続され、
前記第2接続部側部分は、前記第2接続部と接続された、構成7記載のセンサ。
(構成9)
前記第1固定部から前記可動電極部材への方向は、前記第1方向と交差する第2方向に沿い、
前記第1接続部の少なくとも一部の第3方向に沿う長さは、前記第1中間支持部の前記第3方向に沿う長さよりも短く、
前記第3方向は、前記第1方向及び前記第2方向を含む平面と交差する、構成6~8のいずれか1つに記載のセンサ。
(構成10)
前記固定電極部材と前記可動電極部材との間の距離は、前記可動電極部材の周囲における第1元素の濃度に応じて変形可能である、構成1~9のいずれか1つに記載のセンサ。
(構成11)
前記第1支持部材の少なくとも一部は、前記第1支持部材の周囲における第1元素の濃度に応じて変形可能である、構成1~9のいずれか1つに記載のセンサ。
(構成12)
前記第1支持部材及び前記第2支持部材の少なくともいずれかは、機能膜を含み、
前記機能膜は、第2元素及び第3元素を含み、
前記第2元素は、Pd及びPtよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第3元素は、Siを含む、構成1~11のいずれか1つに記載のセンサ。
(構成13)
前記機能膜は、第4元素をさらに含み、
前記第4元素は、Cuを含む、構成12記載のセンサ。
(構成14)
第2センサ部さらに備え、
前記第2センサ部は、
第1センサ部分、第2センサ部分、及び、前記第1センサ部分と前記第2センサ部分との間の第3センサ部分を含み、導電部材を含むセンサ部材と、
前記基体に固定され前記第1センサ部分と接続された第1支持部と、
前記基体に固定され前記第2センサ部分と接続された第2支持部と、
を含み、
前記第1支持部及び前記第2支持部は、前記基体と前記センサ部材との間に第2間隙が設けられるように前記センサ部材を支持する、構成1~13のいずれか1つに記載のセンサ。
(構成15)
前記基体は、前記第1センサ部分と対向する第1対向部分と、前記第2センサ部分と対向する第2対向部分と、前記第3センサ部分と対向する第3対向部分と、を含み、
前記第3対向部分と前記第3センサ部分との間の前記第1方向に沿う第3対向距離は、前記第1対向部分と前記第1センサ部分との間の前記第1方向に沿う第1対向距離よりも長く、前記第2対向部分と前記第2センサ部分との間の前記第1方向に沿う第2対向距離よりも長い、構成14記載のセンサ。
(構成16)
前記第3対向距離と前記第1対向距離との差は、前記第3センサ部分の前記第1方向に沿う厚さの0.1倍以上である、構成15記載のセンサ。
(構成17)
前記センサ部材は前記基体に対向する基体対向面を含み、
前記基体対向面は、凹状である、構成14~16のいずれか1つ記載のセンサ。
(構成18)
電気回路をさらに備え、
前記電気回路は、第1信号及び第2信号の少なくともいずれかを出力可能であり、
前記第1信号は、前記固定電極と前記可動電極との間の電気容量に応じており、
前記第2信号は、前記導電部材の電気抵抗に応じた、構成14~17のいずれか1つに記載のセンサ。
(構成19)
基体と、
第1センサ部と、
を備え、
前記第1センサ部は、
前記基体に固定された固定電極を含む固定電極部材と、
第1可動部分、第2可動部分、及び、前記第1可動部分と前記第2可動部分との間の第3可動部分を含み、可動電極を含む可動電極部材と、
前記基体に固定され、前記第1可動部分と接続された前記第1支持部材と、
前記基体に固定され、前記第2可動部分と接続された前記第2支持部材と、
を含み、
前記第1支持部材及び前記第2支持部材は、前記固定電極部材と前記可動電極部材との間に第1間隙が設けられるように前記可動電極部材を支持し、
前記第1支持部材は、第1固定部側部分と第1接続部側部分とを含み、前記第1接続部側部分は、前記第1固定部側部分と前記第1可動部分との間にあり、
前記基体と前記第1接続部側部分との間の前記第1方向に沿う距離は、前記基体と前記第1固定部側部分との間の前記第1方向に沿う距離よりも長い、センサ。
(構成20)
前記第1支持部材は、第1固定部、第1中間支持部及び第1接続部を含み、前記第1固定部は、前記基体に固定され、前記第1接続部は前記第1可動部分と接続され、前記第1中間支持部は前記第1固定部と前記第1接続部との間にあり、前記第1中間支持部及び前記第1接続部は前記基体から離れ、
前記第1中間支持部は、前記第1固定部側部分と前記第1接続部側部分とを含み、
前記第1固定部側部分は、前記第1固定部と接続され、
前記第1接続部側部分は、前記第1接続部と接続された、構成19記載のセンサ。
(構成21)
前記基体と前記第1接続部側部分との間の前記第1方向に沿う前記距離と、前記基体と前記第1固定部側部分との間の前記第1方向に沿う前記距離と、の差は、前記第1接続部側部分の前記第1方向に沿う長さの0.1倍以上よりも大きい、構成19または20に記載のセンサ。
(構成22)
前記第1固定部から前記可動電極部材への方向は、前記第1方向と交差する第2方向に沿い、
前記第1接続部の少なくとも一部の第3方向に沿う長さは、前記第1中間支持部の前記第3方向に沿う長さよりも短く、
前記第3方向は、前記第1方向及び前記第2方向を含む平面と交差する、構成20記載のセンサ。
(構成23)
基体と、
センサ部と、
を備え、
前記センサ部は、
第1センサ部分、第2センサ部分、及び、前記第1センサ部分と前記第2センサ部分との間の第3センサ部分を含み、導電部材を含むセンサ部材と、
前記基体に固定され前記第1センサ部分と接続された第1支持部と、
前記基体に固定され前記第2センサ部分と接続された第2支持部と、
を含み、
前記第1支持部及び前記第2支持部は、前記基体と前記センサ部材との間に第2間隙が設けられるように前記センサ部材を支持し、
前記基体は、前記第1センサ部分と対向する第1対向部分と、前記第2センサ部分と対向する第2対向部分と、前記第3センサ部分と対向する第3対向部分と、を含み、
前記第3対向部分と前記第3センサ部分との間の前記第1方向に沿う第3対向距離は、前記第1対向部分と前記第1センサ部分との間の前記第1方向に沿う第1対向距離よりも長く、前記第2対向部分と前記第2センサ部分との間の前記第1方向に沿う第2対向距離よりも長い、センサ。
実施形態によれば、検出感度を向上可能なセンサ及びセンサモジュールが提供できる。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、センサに含まれる基体、固定電極部材、可動電極部材、支持部材、センサ部材、支持部及び電気回路などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
その他、本発明の実施の形態として上述したセンサ及びセンサモジュールを基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全てのセンサ及びセンサモジュールも、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10A、10B…第1、第2センサ部、 11…可動電極、 11A…別の可動電極、 11H、11h…孔、 11M…可動電極部材、 11a~11c…第1~第3可動部分、 11f…可動面、 11i~11j、11k…第1~第3絶縁部、 11t…厚さ、 11w…配線、 21~24…第1~第4支持部材、 21B、22B…梁、 21C~24C…第1~第4接続部、 21F~24F…第1~第4固定部、 21M~24M…第1~第4中間支持部、 21Ma、21Mb…第1、第2中間領域、 21cs、22cs…第1、第2接続部側部分、 21fs、22fs…第1、第2固定部側部分、 21h…ヒータ、 21hw…配線、 21i~21k、22i~22k…絶縁層、 21p、21q、22p、22q…導電層、 21s、22s…第1、第2機能膜(機能膜)、 31…導電部材、 31M…センサ部材、 31a~31c…第1~第3センサ部分、 31f…基体対向面、 32…ヒータ、 41、42…第1、第2支持部、 41C、42C…第1、第2支持接続部、 41F、42F…第1、第2支持固定部、 50a~50c…第1~第3対向部分、 50f…基体面、 50s…基体、 51…固定電極、 51M…固定電極部材、 51a~51c…第1~第3固定電極部分、 51i、51j…絶縁領域、 70…電気回路、 70a~70d…配線、 71…電池、 73…無線通信回路、 75…アンテナ、 77…筐体、 110~117、110A~110E、111A…センサ、 210…センサモジュール、 S1、S2…第1、第2信号、 SP01、SP02…第1、第2試料、 d1~d3…第1~第3距離、 d1c、d1f、d2c、d2f…距離、 dz1~dz3…第1~第3対向距離、 g1、g2…第1、第2間隙、 pX、pZ…位置

Claims (9)

  1. 基体と、
    第1センサ部と、
    を備え、
    前記第1センサ部は、
    前記基体に固定された固定電極を含む固定電極部材と、
    第1可動部分、第2可動部分、及び、前記第1可動部分と前記第2可動部分との間の第3可動部分を含み、可動電極を含む可動電極部材と、
    前記基体に固定され、前記第1可動部分と接続された第1支持部材と、
    前記基体に固定され、前記第2可動部分と接続された第2支持部材と、
    を含み、
    前記第1支持部材及び前記第2支持部材は、前記固定電極部材と前記可動電極部材との間に第1間隙が設けられるように前記可動電極部材を支持し、
    前記固定電極部材は、前記第1可動部分と対向する第1固定電極部分と、前記第2可動部分と対向する第2固定電極部分と、前記第3可動部分と対向する第3固定電極部分と、を含み、
    前記第3固定電極部分と前記第3可動部分との間の、前記固定電極部材から前記可動電極部材への第1方向に沿う第3距離は、前記第1固定電極部分と前記第1可動部分との間の前記第1方向に沿う第1距離よりも短く、前記第2固定電極部分と前記第2可動部分との間の前記第1方向に沿う第2距離よりも短い、センサ。
  2. 前記第1支持部材は、第1固定部側部分と第1接続部側部分とを含み、前記第1固定部側部分は、前記第1接続部側部分と前記第1可動部分との間にあり、
    前記基体と前記第1接続部側部分との間の前記第1方向に沿う距離は、前記基体と前記第1固定部側部分との間の前記第1方向に沿う距離よりも長い、請求項1記載のセンサ。
  3. 前記第1支持部材は、第1固定部、第1中間支持部及び第1接続部を含み、
    前記第1固定部は、前記基体に固定され、
    前記第1接続部は前記第1可動部分と接続され、
    前記第1中間支持部は前記第1固定部と前記第1接続部との間にあり、
    前記第1中間支持部及び前記第1接続部は前記基体から離れ、
    前記第1中間支持部は、前記第1固定部側部分と前記第1接続部側部分とを含み、
    前記第1固定部側部分は、前記第1固定部と接続され、
    前記第1接続部側部分は、前記第1接続部と接続された、請求項2記載のセンサ。
  4. 前記第1支持部材及び前記第2支持部材の少なくともいずれかは、機能膜を含み、
    前記機能膜は、第2元素及び第3元素を含み、
    前記第2元素は、Pd及びPtよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
    前記第3元素は、Siを含む、請求項1~3のいずれか1つに記載のセンサ。
  5. 第2センサ部さらに備え、
    前記第2センサ部は、
    第1センサ部分、第2センサ部分、及び、前記第1センサ部分と前記第2センサ部分との間の第3センサ部分を含み、導電部材を含むセンサ部材と、
    前記基体に固定され前記第1センサ部分と接続された第1支持部と、
    前記基体に固定され前記第2センサ部分と接続された第2支持部と、
    を含み、
    前記第1支持部及び前記第2支持部は、前記基体と前記センサ部材との間に第2間隙が設けられるように前記センサ部材を支持する、請求項1~4のいずれか1つに記載のセンサ。
  6. 前記基体は、前記第1センサ部分と対向する第1対向部分と、前記第2センサ部分と対向する第2対向部分と、前記第3センサ部分と対向する第3対向部分と、を含み、
    前記第3対向部分と前記第3センサ部分との間の前記第1方向に沿う第3対向距離は、前記第1対向部分と前記第1センサ部分との間の前記第1方向に沿う第1対向距離よりも長く、前記第2対向部分と前記第2センサ部分との間の前記第1方向に沿う第2対向距離よりも長い、請求項5記載のセンサ。
  7. 前記第3対向距離と前記第1対向距離との差は、前記第3センサ部分の前記第1方向に沿う厚さの0.1倍以上である、請求項6記載のセンサ。
  8. 基体と、
    第1センサ部と、
    を備え、
    前記第1センサ部は、
    前記基体に固定された固定電極を含む固定電極部材と、
    第1可動部分、第2可動部分、及び、前記第1可動部分と前記第2可動部分との間の第3可動部分を含み、可動電極を含む可動電極部材と、
    前記基体に固定され、前記第1可動部分と接続された前記第1支持部材と、
    前記基体に固定され、前記第2可動部分と接続された前記第2支持部材と、
    を含み、
    前記第1支持部材及び前記第2支持部材は、前記固定電極部材と前記可動電極部材との間に第1間隙が設けられるように前記可動電極部材を支持し、
    前記第1支持部材は、第1固定部側部分と第1接続部側部分とを含み、前記第1接続部側部分は、前記第1固定部側部分と前記第1可動部分との間にあり、
    前記基体と前記第1接続部側部分との間の前記第1方向に沿う距離は、前記基体と前記第1固定部側部分との間の前記第1方向に沿う距離よりも長い、センサ。
  9. 基体と、
    センサ部と、
    を備え、
    前記センサ部は、
    第1センサ部分、第2センサ部分、及び、前記第1センサ部分と前記第2センサ部分との間の第3センサ部分を含み、導電部材を含むセンサ部材と、
    前記基体に固定され前記第1センサ部分と接続された第1支持部と、
    前記基体に固定され前記第2センサ部分と接続された第2支持部と、
    を含み、
    前記第1支持部及び前記第2支持部は、前記基体と前記センサ部材との間に第2間隙が設けられるように前記センサ部材を支持し、
    前記基体は、前記第1センサ部分と対向する第1対向部分と、前記第2センサ部分と対向する第2対向部分と、前記第3センサ部分と対向する第3対向部分と、を含み、
    前記第3対向部分と前記第3センサ部分との間の前記第1方向に沿う第3対向距離は、前記第1対向部分と前記第1センサ部分との間の前記第1方向に沿う第1対向距離よりも長く、前記第2対向部分と前記第2センサ部分との間の前記第1方向に沿う第2対向距離よりも長い、センサ。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7500480B2 (ja) * 2021-03-15 2024-06-17 株式会社東芝 センサ
JP2023127778A (ja) * 2022-03-02 2023-09-14 株式会社東芝 センサ及びキャパシタ装置
JP2024085275A (ja) * 2022-12-14 2024-06-26 株式会社東芝 センサ

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080092649A1 (en) * 2006-10-18 2008-04-24 Industrial Technology Research Institute Resistive-type humidity sensing structure with microbridge and method therefor
EP2169400A1 (en) * 2008-09-25 2010-03-31 IEE INTERNATIONAL ELECTRONICS & ENGINEERING S.A. Hydrogen sensor
JP2017215170A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 株式会社東芝 ガス検出装置
JP2019056607A (ja) * 2017-09-20 2019-04-11 株式会社東芝 ガスセンサおよびその製造方法
JP2019152451A (ja) * 2018-02-28 2019-09-12 株式会社東芝 ガスセンサ
JP2020034290A (ja) * 2018-08-27 2020-03-05 株式会社東芝 センサ、構造および電気機器
JP2020041893A (ja) * 2018-09-10 2020-03-19 株式会社東芝 水素センサ、水素検出方法およびプログラム

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1179098B (it) * 1984-09-06 1987-09-16 Cselt Centro Studi Lab Telecom Perfezionamenti alle apparecchiature a condensatore per la misura del diametro di fibre dielettriche
JP4334581B2 (ja) * 2007-04-27 2009-09-30 株式会社東芝 静電型アクチュエータ
US8207586B2 (en) * 2008-09-22 2012-06-26 Alps Electric Co., Ltd. Substrate bonded MEMS sensor
JP5921477B2 (ja) * 2013-03-25 2016-05-24 株式会社東芝 Mems素子
WO2018163255A1 (ja) * 2017-03-06 2018-09-13 株式会社 トライフォース・マネジメント 力覚センサ
WO2019143769A1 (en) * 2018-01-19 2019-07-25 Trans Tech Systems, Inc. Electromagnetic impedance spectroscopy apparatus and related planar sensor system

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080092649A1 (en) * 2006-10-18 2008-04-24 Industrial Technology Research Institute Resistive-type humidity sensing structure with microbridge and method therefor
EP2169400A1 (en) * 2008-09-25 2010-03-31 IEE INTERNATIONAL ELECTRONICS & ENGINEERING S.A. Hydrogen sensor
JP2017215170A (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 株式会社東芝 ガス検出装置
JP2019056607A (ja) * 2017-09-20 2019-04-11 株式会社東芝 ガスセンサおよびその製造方法
JP2019152451A (ja) * 2018-02-28 2019-09-12 株式会社東芝 ガスセンサ
JP2020034290A (ja) * 2018-08-27 2020-03-05 株式会社東芝 センサ、構造および電気機器
JP2020041893A (ja) * 2018-09-10 2020-03-19 株式会社東芝 水素センサ、水素検出方法およびプログラム

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