JP2021516441A - 回動可能なステージ - Google Patents
回動可能なステージ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021516441A JP2021516441A JP2020567644A JP2020567644A JP2021516441A JP 2021516441 A JP2021516441 A JP 2021516441A JP 2020567644 A JP2020567644 A JP 2020567644A JP 2020567644 A JP2020567644 A JP 2020567644A JP 2021516441 A JP2021516441 A JP 2021516441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stator
- bearing
- rotor
- rotatable stage
- heat exchanger
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 10
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 33
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003997 Torlon® Polymers 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000007431 microscopic evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
- H01J37/3056—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching for microworking, e.g. etching of gratings, trimming of electrical components
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2001—Maintaining constant desired temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20214—Rotation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3174—Etching microareas
- H01J2237/31745—Etching microareas for preparing specimen to be viewed in microscopes or analyzed in microanalysers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
現在のコールドステージのデザインでは、ステージを液体窒素のリザーバに接続する銅ブレード(銅編組)を使用するか、もしくは、必要とされる温度とするために、接続されているチューブを介して低温の窒素ガスをステージへ流す。劣化を回避するために、生体試料は−165℃未満で保たれなければならない。ガス冷却のコールドステージを使用すると約−191℃までの冷却が可能であり、ブレード冷却のコールドステージを使用すると約−170℃までの冷却が可能となる。
ステータ(固定子)と、
ステータに熱的に接続された熱交換器と、
ロータ(回転子)と、
ステータとロータの間に位置する軸受と、を備え、この軸受により、ステータとロータが熱的に接続される。
ステータと、
ステータに熱的に接続された熱交換器と、
ロータと、
ステータとロータとの間に位置する軸受とを備え、この軸受は、ステータとロータを熱的に接続させるために、約170Wm−1K−1を超える熱伝導率を有する材料を含む。
一実施例では軸受は、軸受とステータ間と、軸受とロータ間とでそれぞれ少なくとも100の接点を提供するように構成されてもよい。
別の実施例では熱交換器は、冷却されたブレードを備えてもよい。ブレードは銅ブレード(銅編組)を備えてもよい。
ステータの温度を示す温度センサからの温度入力を受け取る。
温度入力から、ステータの温度が所定範囲内にあるかどうかを自動的に判定する。
ステータの温度が確実に所定範囲内となるように、熱交換器の温度を制御する。
ステータ温度データ信号を受け取るための電気的入力を有する電子処理回路。(ステータ温度データ信号は、温度センサによって自動的に生成され出力される。)
電子処理回路に電気的に結合されており、格納される指示を有する電子記憶装置。
電子処理回路は、ステータ温度データから、ステータの温度が所定範囲内にあるかどうかを判定するよう機能するように、記憶装置にアクセスし、そこに格納されている指示を実行するように構成される。
上記の方法は、ステータの熱交換器を熱冷却することにより、熱伝導性の軸受を介してロータを冷却するステップを備える。
上記の方法は、ステータの熱交換器を熱冷却することにより、熱伝導性の軸受を介してロータを冷却するステップを含む。
ステータと、
ステータに熱的に接続された熱交換器と、
ロータと、
ステータとロータの間に位置する軸受と、を含み、軸受によりステータとロータが熱的に接続される。
上記方法は、ステータの熱交換器を熱冷却することにより、熱伝導性の軸受を介してロータを冷却するステップを含む。
Claims (22)
- 分析装置のための回動可能なステージであって、前記回動可能なステージは、
ステータと、
前記ステータに熱的に接続された熱交換器と、
ロータと、
前記ステータと前記ロータとの間に位置する軸受とを備え、前記軸受により、前記ステータ及び前記ロータが熱的に接続されることを特徴とする、回動可能なステージ。 - 前記軸受は、約170Wm−1K−1を超える熱伝導率を有する材料を含むことを特徴とする、請求項1記載の回動可能なステージ。
- 前記軸受は、前記軸受と前記ステータ間で複数の接点を提供するように、そして、前記軸受と前記ロータ間で複数の接点を提供するように構成されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の回動可能なステージ。
- 前記軸受は、前記軸受と前記ステータ間で少なくとも12の接点を提供するように、そして、前記軸受と前記ロータ間で少なくとも12の接点を提供するように構成されることを特徴とする、請求項3記載の回動可能なステージ。
- 前記軸受は、1つの連続する構成要素を備えることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の回動可能なステージ。
- 前記軸受は、コイルバネを備えることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の回動可能なステージ。
- 前記コイルバネは、傾斜コイルバネを備えることを特徴とする、請求項6記載の回動可能なステージ。
- 前記軸受の材料は、銅、りん、青銅、及びCuBe2のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の回動可能なステージ。
- 前記熱交換器は、冷却されたガスを受け取るように構成されるガスチューブを備えることを特徴とする、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の回動可能なステージ。
- 前記熱交換器は、熱伝導性ブレードを備えることを特徴とする、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の回動可能なステージ。
- 前記熱伝導性ブレードは、銅ブレードを備えることを特徴とする、請求項10記載の回動可能なステージ。
- 前記熱交換器と第2の熱交換器間に熱伝導をもたらす接続を備え、
前記接続は可撓性であることを特徴とする、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の回動可能なステージ。 - 前記ステータは、温度センサを備えることを特徴とする、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の回動可能なステージ。
- 請求項13記載の回動可能なステージであって、
前記ステータの温度を表す前記温度センサから、温度入力を受け取り、
前記温度入力から、前記ステータの温度が所定範囲内にあるかどうかを自動的に判定し、
前記ステータの温度が確実に所定範囲内となるように、前記熱交換器の温度を制御するための手段を更に備えることを特徴とする、回動可能なステージ。 - 前記熱交換器の温度を制御することは、前記ガスチューブを介して、冷却されたガスの流量と制御することを含むことを特徴とする、請求項9又は14に記載の回動可能なステージ。
- 真空チャンバと、請求項1乃至15のいずれか一項に記載の回動可能なステージとを備える電子顕微鏡であって、
前記真空チャンバ内に、ステータと、ロータと、軸受とが位置することを特徴とする。 - 請求項16記載の電子顕微鏡であって、試料ステージを備え、
前記ステータは、断熱支持体を介して前記試料ステージに載置されることを特徴とする。 - 請求項16又は17に記載の電子顕微鏡であって、前記試料ステージに取付けられたステージ回転モジュールを備え、
前記ロータは、断熱支持体を介して前記ステージ回転モジュールに取り付けられることを特徴とする。 - 回動可能なステージのロータを冷却する方法であって、
ステータと、前記ステータに熱的に接続された熱交換器と、前記ロータと、前記ステータと前記ロータ間に位置する軸受とを備え、
前記回動可能なステージは、前記軸受により、前記ステータ及び前記ロータが熱的に接続され、
前記方法は、前記ステータの前記熱交換器を熱冷却することにより、熱伝導性の前記軸受を介して前記ロータを冷却するステップを含むことを特徴とする。 - 前記軸受は、約170Wm−1K−1を超える熱伝導率を有する材料を含むことを特徴とする、請求項19記載の方法。
- 前記熱交換器は、ガスチューブを備え、
前記方法は、冷却されたガスを前記ガスチューブに通すステップを備えることを特徴とする、請求項19又は20に記載の方法。 - 前記ガスは、少なくとも−170℃まで冷却されることを特徴とする、請求項21記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1803071.8 | 2018-02-26 | ||
GB1803071.8A GB2571339B (en) | 2018-02-26 | 2018-02-26 | Rotatable stage |
PCT/GB2019/050501 WO2019162693A1 (en) | 2018-02-26 | 2019-02-25 | Rotatable stage |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021516441A true JP2021516441A (ja) | 2021-07-01 |
JP7291730B2 JP7291730B2 (ja) | 2023-06-15 |
Family
ID=61903281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020567644A Active JP7291730B2 (ja) | 2018-02-26 | 2019-02-25 | 回動可能なステージ、当該ステージを備える電子顕微鏡、および当該ステージのロータを冷却する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11810750B2 (ja) |
EP (1) | EP3759729A1 (ja) |
JP (1) | JP7291730B2 (ja) |
GB (1) | GB2571339B (ja) |
WO (1) | WO2019162693A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7511879B2 (ja) | 2020-07-03 | 2024-07-08 | 株式会社メルビル | ステージ |
CN114141595A (zh) * | 2021-10-26 | 2022-03-04 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 一种扫描电镜低温样品台 |
CN114923941A (zh) * | 2022-07-22 | 2022-08-19 | 中国科学院遗传与发育生物学研究所 | 应用于冷冻扫描电镜的样品旋转台 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57186633A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-17 | Honeywell Inc | Clutch |
JPH02144843A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-04 | Oyo Gijutsu Kenkyusho:Kk | 試料冷却型イオンビーム薄膜作製装置 |
JPH04184851A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-07-01 | Jeol Ltd | オージェ電子分析装置 |
JPH11509606A (ja) * | 1995-03-27 | 1999-08-24 | アメリカン ヴァリシール | 改良された傾斜コイルスプリングおよびシール |
JP2000095586A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-04 | Ngk Insulators Ltd | 複合材料及びその製造方法 |
US20050051098A1 (en) * | 2003-09-05 | 2005-03-10 | Tooru Aramaki | Plasma processing apparatus |
US20130288182A1 (en) * | 2010-10-28 | 2013-10-31 | President And Fellows Of Harvard College | Electron Beam Processing With Condensed Ice |
CN103983485A (zh) * | 2013-02-08 | 2014-08-13 | Fei公司 | 样本制备镜台 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5171860B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2013-03-27 | 株式会社日立製作所 | イオン注入装置 |
-
2018
- 2018-02-26 GB GB1803071.8A patent/GB2571339B/en active Active
-
2019
- 2019-02-25 EP EP19715181.4A patent/EP3759729A1/en active Pending
- 2019-02-25 WO PCT/GB2019/050501 patent/WO2019162693A1/en unknown
- 2019-02-25 US US16/975,585 patent/US11810750B2/en active Active
- 2019-02-25 JP JP2020567644A patent/JP7291730B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57186633A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-17 | Honeywell Inc | Clutch |
JPH02144843A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-04 | Oyo Gijutsu Kenkyusho:Kk | 試料冷却型イオンビーム薄膜作製装置 |
JPH04184851A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-07-01 | Jeol Ltd | オージェ電子分析装置 |
JPH11509606A (ja) * | 1995-03-27 | 1999-08-24 | アメリカン ヴァリシール | 改良された傾斜コイルスプリングおよびシール |
JP2000095586A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-04 | Ngk Insulators Ltd | 複合材料及びその製造方法 |
US20050051098A1 (en) * | 2003-09-05 | 2005-03-10 | Tooru Aramaki | Plasma processing apparatus |
US20130288182A1 (en) * | 2010-10-28 | 2013-10-31 | President And Fellows Of Harvard College | Electron Beam Processing With Condensed Ice |
CN103983485A (zh) * | 2013-02-08 | 2014-08-13 | Fei公司 | 样本制备镜台 |
JP2014153362A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Fei Co | 試料調製ステージ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7291730B2 (ja) | 2023-06-15 |
US20200411276A1 (en) | 2020-12-31 |
WO2019162693A1 (en) | 2019-08-29 |
GB201803071D0 (en) | 2018-04-11 |
US11810750B2 (en) | 2023-11-07 |
GB2571339B (en) | 2020-12-16 |
EP3759729A1 (en) | 2021-01-06 |
GB2571339A (en) | 2019-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101067993B (zh) | 具有温度开关的粒子光学设备 | |
JP2021516441A (ja) | 回動可能なステージ | |
US5986270A (en) | Particle-optical apparatus including a low-temperature specimen holder | |
JP6043476B2 (ja) | イオン源およびそれを用いたイオンビーム装置 | |
US8455841B2 (en) | Ion microscope | |
JP2014521976A (ja) | 改良型低温試料ホルダ | |
Pawley et al. | A chamber attached to the SEM for fracturing and coating frozen biological samples | |
CN111684564A (zh) | 真空转移组件 | |
US10163602B2 (en) | Ion beam system | |
US20160223803A1 (en) | Mounting device for a sample and method for removing a sample | |
JP2015001530A (ja) | 凍結含水試料をマイクロプローブへ結合する方法 | |
JP6172690B2 (ja) | アンチコンタミネーショントラップおよび真空応用装置 | |
JP2022013294A (ja) | ステージ | |
EP1852889A2 (en) | Particle-optical apparatus with temperature switch | |
US7518125B2 (en) | Processing apparatus using focused charged particle beam | |
JP2016095895A (ja) | イオンミリング装置を用いた試料の加工方法、及びイオンミリング装置 | |
US11538656B2 (en) | Sample holder and charged particle beam device | |
Rubino et al. | Cryo-electron microscopy specimen preparation by means of a focused ion beam | |
WO2022004514A1 (ja) | 試料ホルダー | |
Giordani et al. | Design and implementation of a custom built variable temperature stage for a secondary ion mass spectrometer | |
JP6894486B2 (ja) | イオンビーム装置 | |
US20240255447A1 (en) | Electron diffraction system for characterizing nanocrystalline structures | |
JP2024017051A (ja) | 試料ホルダーおよび荷電粒子線装置 | |
JP2000277045A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JPH08250057A (ja) | 走査電子顕微鏡の試料ホルダー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220203 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230509 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230605 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7291730 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |