JP2021196218A - Instrument and method of confirmation using the same - Google Patents

Abstract

To provide technology for visually recognizing that a target position on a flat reference plane is irradiated with light.SOLUTION: An instrument comprises: a plate having a roughly processed surface, formed with a material that passes light through and added a marker; and a holder having a flat bottom face being in surface contact with a reference plane, a first and a second stage juxtaposed in the direction perpendicular to the bottom face, and an optical path formed so as to penetrate the bottom face and the first and second stages. Each of the first and second stages has a support face for supporting the plate and being parallel to the bottom face of the holder and a positioning face for fixing the relative positions of the plate, maker and optical path, the positioning faces of the first and second stages being located in the same plane, the holder being arranged on the reference plane such that the optical path matches a target position in the direction perpendicular to the reference plane.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本開示は、器具、及び器具を用いて視認する方法に関する。 The present disclosure relates to an instrument and a method of visual recognition using the instrument.

特許文献１は、光干渉システムを開示する。このシステムは、測定光を発生する光源と、コリメータと、演算装置とを備える。コリメータは、平行光線として調整された測定光を測定対象へ出射する。コリメータは、測定対象からの反射光を取得する。演算装置は、反射光に基づいて測定対象の厚さ又は温度を計測する。 Patent Document 1 discloses an optical interference system. This system includes a light source that generates measurement light, a collimator, and an arithmetic unit. The collimator emits the measurement light adjusted as parallel rays to the measurement target. The collimator acquires the reflected light from the measurement target. The arithmetic unit measures the thickness or temperature of the measurement target based on the reflected light.

特開２０１３−２４２２６７号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-242267

本開示は、平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するための技術を提供する。 The present disclosure provides a technique for visually recognizing that a target position on a flat reference plane is vertically irradiated with light.

一つの例示的実施形態において、平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するための器具が提供される。器具は、プレート及びホルダを備える。プレートは、粗面加工された表面と鏡面加工された裏面とを有し、光を透過する材料で形成され、プレートにおける位置を判別するためのマーカが付与される。ホルダは、基準面に面接触するように構成された平坦な底面と、底面の垂直方向に並設された第１ステージ及び第２ステージと、底面、第１ステージ及び第２ステージを貫通するように形成される光路とを有する。第１ステージ及び第２ステージそれぞれは、底面に平行であってプレートを支持するように構成される支持面と、プレートが突き当てられることでプレートのマーカと光路との相対位置を固定するための位置決め面とを有する。第１ステージの位置決め面と第２ステージの位置決め面とは、同一平面上に位置する。ホルダは、基準面の垂直方向において光路が目標位置と一致するように基準面上に配置される。 In one exemplary embodiment, an instrument is provided for visually recognizing a vertical irradiation of a target position on a flat reference plane. The instrument comprises a plate and a holder. The plate has a roughened front surface and a mirrored back surface, is made of a light-transmitting material, and is provided with a marker for determining a position on the plate. The holder penetrates the flat bottom surface configured to make surface contact with the reference surface, the first stage and the second stage arranged vertically on the bottom surface, and the bottom surface, the first stage, and the second stage. It has an optical path formed in. Each of the first stage and the second stage has a support surface parallel to the bottom surface and is configured to support the plate, and the plate is abutted against the support surface to fix the relative position between the marker of the plate and the optical path. It has a positioning surface. The positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane. The holder is arranged on the reference plane so that the optical path coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane.

一つの例示的実施形態によれば、平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることが視認される。 According to one exemplary embodiment, it is visible that the light is vertically irradiated to the target position on the flat reference plane.

例示的な光干渉システムの一部を示す図である。It is a figure which shows a part of an exemplary optical interference system. 一つの例示的実施形態に係る器具の概略図である。It is a schematic diagram of the appliance which concerns on one exemplary embodiment. プレートの一例の側面図である。It is a side view of an example of a plate. ホルダの一例の断面図及びプレートの一例の上面図である。It is sectional drawing of an example of a holder, and the top view of an example of a plate. 載置台に載置される器具の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the instrument to be mounted on a mounting table. （Ａ）は第２ステージに支持されるプレートの一例を示す上面図である。（Ｂ）は第１ステージに支持されるプレートの一例を示す上面図である。(A) is a top view showing an example of a plate supported by the second stage. (B) is a top view showing an example of a plate supported by the first stage. 載置台に載置される器具の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the instrument to be mounted on a mounting table. （Ａ）は第２ステージに支持されるプレートの他の例を示す上面図である。（Ｂ）は第１ステージに支持されるプレートの他の例を示す上面図である。(A) is a top view showing another example of a plate supported by the second stage. (B) is a top view showing another example of a plate supported by the first stage. センサが取り付けられたプレートを有する器具の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the instrument which has a plate to which a sensor is attached. （Ａ）はセンサが検知した測定光のＸ方向の強度分布を示す一例である。（Ｂ）はセンサが検知した測定光のＹ方向の強度分布を示す一例である。(A) is an example showing the intensity distribution of the measured light detected by the sensor in the X direction. (B) is an example showing the intensity distribution of the measured light detected by the sensor in the Y direction. 一つの例示的実施形態に係る方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the method which concerns on one exemplary Embodiment.

以下、種々の例示的実施形態について説明する。 Hereinafter, various exemplary embodiments will be described.

特許文献１記載の光干渉システムは、半導体装置の基板や半導体製造装置の部品などの測定対象物の物性を測定するために、半導体製造装置に組み込まれることが想定されている。例えば、半導体装置の基板の物性を測定する場合には、基板を支持する載置台に測定光が透過する窓を設け、載置台の下方にコリメータを配置し、基板の裏面に測定光を照射することが考えられる。しかしながら、載置台の下方には下部電極などの構成要素が配置され、周囲が覆われているため、コリメータから出射された測定光が窓に照射されているのか否かを視認することは困難である。よって、反射光が確認されるまで、コリメータの位置調整可能な範囲を総当たりで走査する必要があり、調整に時間がかかるおそれがある。さらに、測定対象物に対して垂直に測定光が照射されているのか否かを視認することも困難である。本開示は、平坦な基準面（測定対象物が載置される面）上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するための技術を提供する。 The optical interference system described in Patent Document 1 is assumed to be incorporated in a semiconductor manufacturing device in order to measure the physical properties of a measurement object such as a substrate of the semiconductor device or a component of the semiconductor manufacturing device. For example, when measuring the physical properties of a substrate of a semiconductor device, a window through which measurement light is transmitted is provided on a mounting table that supports the board, a collimator is placed below the mounting table, and the back surface of the substrate is irradiated with measurement light. Is possible. However, since components such as lower electrodes are placed below the mounting table and the surroundings are covered, it is difficult to visually check whether or not the measurement light emitted from the collimator is shining on the window. be. Therefore, until the reflected light is confirmed, it is necessary to scan the collimator's position-adjustable range in a brute force manner, which may take time for adjustment. Further, it is difficult to visually recognize whether or not the measurement light is irradiated perpendicularly to the object to be measured. The present disclosure provides a technique for visually recognizing that light is vertically irradiated to a target position on a flat reference surface (a surface on which a measurement object is placed).

一つの例示的実施形態において、平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するための器具が提供される。器具は、プレート及びホルダを備える。プレートは、粗面加工された表面を有し、光を透過する材料で形成され、プレートにおける位置を判別するためのマーカが付与される。ホルダは、基準面に面接触するように構成された平坦な底面と、底面の垂直方向に並設された第１ステージ及び第２ステージと、底面、第１ステージ及び第２ステージを貫通するように形成される光路とを有する。第１ステージ及び第２ステージそれぞれは、底面に平行であってプレートを支持するように構成される支持面と、プレートが突き当てられることでプレートのマーカと光路との相対位置を固定するための位置決め面とを有する。第１ステージの位置決め面と第２ステージの位置決め面とは、同一平面上に位置する。ホルダは、基準面の垂直方向において光路が目標位置と一致するように基準面上に配置される。 In one exemplary embodiment, an instrument is provided for visually recognizing a vertical irradiation of a target position on a flat reference plane. The instrument comprises a plate and a holder. The plate has a roughened surface, is made of a material that transmits light, and is provided with a marker for determining its position on the plate. The holder penetrates the flat bottom surface configured to make surface contact with the reference surface, the first stage and the second stage arranged vertically on the bottom surface, and the bottom surface, the first stage, and the second stage. It has an optical path formed in. Each of the first stage and the second stage has a support surface parallel to the bottom surface and is configured to support the plate, and the plate is abutted against the support surface to fix the relative position between the marker of the plate and the optical path. It has a positioning surface. The positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane. The holder is arranged on the reference plane so that the optical path coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane.

この器具においては、基準面の垂直方向においてホルダの光路が目標位置と一致するように、ホルダが基準面上に載置される。ホルダの底面と基準面が面接触することで、ホルダの底面と基準面とが平行になる。これにより、基準面、第１ステージの支持面及び第２ステージの支持面が平行となる。プレートは、ホルダの第１ステージの支持面上に載置され、第１ステージの位置決め面に突き当てられて固定される。これにより、プレートのマーカと光路との相対位置が固定される。ホルダの第１ステージの支持面にプレートが支持された状態で、目標位置に向けて光が照射される。目標位置に光が照射されている場合には、光は光路を通り、第１ステージに支持されたプレートに到達する。プレートに到達した光は、プレートの粗面加工された表面で散乱され、形成された光のスポットが視認可能となる。このため、形成された光のスポットを視認できるか否かに基づいて、目標位置に光が照射されていることを確認することができる。 In this instrument, the holder is placed on the reference plane so that the optical path of the holder coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane. When the bottom surface of the holder and the reference surface come into surface contact, the bottom surface of the holder and the reference surface become parallel. As a result, the reference surface, the support surface of the first stage, and the support surface of the second stage become parallel. The plate is placed on the support surface of the first stage of the holder, and is abutted against and fixed to the positioning surface of the first stage. As a result, the relative position between the marker of the plate and the optical path is fixed. With the plate supported by the support surface of the first stage of the holder, light is irradiated toward the target position. When the target position is illuminated with light, the light passes through the optical path and reaches the plate supported by the first stage. The light that reaches the plate is scattered on the roughened surface of the plate, and the formed spots of light become visible. Therefore, it can be confirmed that the target position is irradiated with the light based on whether or not the formed spot of the light can be visually recognized.

続いて、プレートはホルダの第１ステージの支持面から第２ステージの支持面へ移動させられ、第２ステージの位置決め面に突き当てられて固定される。これにより、プレートのマーカと光路との相対位置が固定される。第１ステージの位置決め面と第２ステージの位置決め面とは同一平面上に位置するため、第１ステージ及び第２ステージにおいてプレートのマーカと光路との相対位置は同一となる。ホルダの第２ステージの支持面にプレートが支持された状態で、目標位置に向けて光が照射される。目標位置に光が照射されている場合には、光は光路を通り、第２ステージに支持されたプレートに到達する。プレートに到達した光は、プレートの粗面加工された表面で散乱され、光のスポットが視認可能となる。基準面、第１ステージの支持面及び第２ステージの支持面は平行である。このため、光が基準面の垂直方向に沿って光路を通る場合、第１ステージに支持されたプレートに形成された光のスポットと、第２ステージに支持されたプレートに形成された光のスポットとは、マーカを基準とする位置又は形状が略同一となる。光が基準面の垂直方向に対して傾いて光路を通る場合、第１ステージに支持されたプレートに形成された光のスポットと、第２ステージに支持されたプレートに形成された光のスポットとは、マーカを基準とする位置又は形状が略同一とはならない。このように、マーカを基準にして第１ステージに支持されたプレートに形成された光のスポットと、第２ステージに支持されたプレートに形成された光のスポットとを比較することにより、光が基準面の垂直方向に沿って光路を通っているか否かが視認される。 Subsequently, the plate is moved from the support surface of the first stage of the holder to the support surface of the second stage, and is abutted against and fixed to the positioning surface of the second stage. As a result, the relative position between the marker of the plate and the optical path is fixed. Since the positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane, the relative positions of the marker of the plate and the optical path are the same in the first stage and the second stage. With the plate supported by the support surface of the second stage of the holder, light is irradiated toward the target position. When the target position is illuminated with light, the light passes through the optical path and reaches the plate supported by the second stage. The light that reaches the plate is scattered on the roughened surface of the plate, and the spot of light becomes visible. The reference plane, the support plane of the first stage, and the support plane of the second stage are parallel. Therefore, when light passes through the optical path along the vertical direction of the reference plane, the spot of light formed on the plate supported by the first stage and the spot of light formed on the plate supported by the second stage. The position or shape with respect to the marker is substantially the same. When the light is tilted with respect to the vertical direction of the reference plane and passes through the optical path, the spot of light formed on the plate supported by the first stage and the spot of light formed on the plate supported by the second stage. Do not have substantially the same position or shape with respect to the marker. In this way, by comparing the spot of light formed on the plate supported by the first stage with the marker as a reference, and the spot of light formed on the plate supported by the second stage, the light can be generated. Whether or not it passes through the optical path along the vertical direction of the reference plane is visually recognized.

別の例示的実施形態において、平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するための器具が提供される。器具は、プレートとホルダとモニタとを備える。プレートは、所定領域内の面内位置に対応する光の強度を検出するセンサが設けられる。ホルダは、基準面に面接触するように構成された平坦な底面と、底面の垂直方向に並設された第１ステージ及び第２ステージと、底面、第１ステージ及び第２ステージを貫通するように形成される光路とを有する。モニタは、センサの検出結果を表示する。第１ステージ及び第２ステージそれぞれは、ホルダの底面に平行であってプレートを支持するように構成される支持面と、プレートが突き当てられることでプレートのマーカと光路との相対位置を固定するための位置決め面とを有する。第１ステージの位置決め面と第２ステージの位置決め面とは、同一平面上に位置する。ホルダは、基準面の垂直方向において光路が目標位置と一致するように基準面上に配置される。 In another exemplary embodiment, an instrument is provided for visually recognizing a vertical irradiation of a target position on a flat reference plane. The instrument comprises a plate, a holder and a monitor. The plate is provided with a sensor that detects the intensity of light corresponding to an in-plane position within a predetermined area. The holder penetrates the flat bottom surface configured to make surface contact with the reference surface, the first stage and the second stage arranged vertically on the bottom surface, and the bottom surface, the first stage, and the second stage. It has an optical path formed in. The monitor displays the detection result of the sensor. Each of the first stage and the second stage fixes the relative position between the marker of the plate and the optical path by abutting the plate with the support surface which is parallel to the bottom surface of the holder and is configured to support the plate. With a positioning surface for. The positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane. The holder is arranged on the reference plane so that the optical path coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane.

この器具においては、基準面の垂直方向においてホルダの光路が目標位置と一致するように、ホルダが基準面上に載置される。ホルダの底面と基準面が面接触することで、ホルダの底面と基準面とが平行になる。これにより、基準面、第１ステージの支持面及び第２ステージの支持面が平行となる。プレートは、ホルダの第１ステージの支持面上に載置され、第１ステージの位置決め面に突き当てられて固定される。これにより、プレートのセンサと光路との相対位置が固定される。ホルダの第１ステージの支持面にプレートが支持された状態で、目標位置に向けて光が照射される。目標位置に光が照射されている場合には、光は光路を通り、第１ステージに支持されたプレートに到達する。センサによって、所定領域内の面内位置に対応する光の強度が検出され、モニタによって検出結果が表示される。このため、光の強度が検出されたか否かに基づいて、目標位置に光が照射されていることを確認することができる。 In this instrument, the holder is placed on the reference plane so that the optical path of the holder coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane. When the bottom surface of the holder and the reference surface come into surface contact, the bottom surface of the holder and the reference surface become parallel. As a result, the reference surface, the support surface of the first stage, and the support surface of the second stage become parallel. The plate is placed on the support surface of the first stage of the holder, and is abutted against and fixed to the positioning surface of the first stage. As a result, the relative position between the sensor of the plate and the optical path is fixed. With the plate supported by the support surface of the first stage of the holder, light is irradiated toward the target position. When the target position is illuminated with light, the light passes through the optical path and reaches the plate supported by the first stage. The sensor detects the intensity of the light corresponding to the in-plane position in the predetermined area, and the monitor displays the detection result. Therefore, it can be confirmed that the light is radiated to the target position based on whether or not the light intensity is detected.

続いて、プレートはホルダの第１ステージの支持面から第２ステージの支持面へ移動させられ、第２ステージの位置決め面に突き当てられて固定される。これにより、プレートのセンサと光路との相対位置が固定される。第１ステージの位置決め面と第２ステージの位置決め面とは同一平面上に位置するため、第１ステージ及び第２ステージにおいてプレートのセンサと光路との相対位置は同一となる。ホルダの第２ステージの支持面にプレートが支持された状態で、目標位置に向けて光が照射される。目標位置に光が照射されている場合には、光は光路を通り、第２ステージに支持されたプレートに到達する。センサによって、所定領域内の面内位置に対応する光の強度が検出され、モニタによって検出結果が表示される。基準面、第１ステージの支持面及び第２ステージの支持面は平行である。このため、光が基準面の垂直方向に沿って光路を通る場合、第１ステージにおいて検出された強度分布と、第２ステージにおいて検出された強度分布とは、ピーク位置が略同一となる。光が基準面の垂直方向に対して傾いて光路を通る場合、第１ステージにおいて検出された強度分布と、第２ステージにおいて検出された強度分布とは、ピーク位置が略同一とはならない。このように、第１ステージにおいて検出された強度分布と、第２ステージにおいて検出された強度分布とを比較することにより、光が基準面の垂直方向に沿って光路を通っているか否かが確認される。 Subsequently, the plate is moved from the support surface of the first stage of the holder to the support surface of the second stage, and is abutted against and fixed to the positioning surface of the second stage. As a result, the relative position between the sensor of the plate and the optical path is fixed. Since the positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane, the relative positions of the sensor of the plate and the optical path are the same in the first stage and the second stage. With the plate supported by the support surface of the second stage of the holder, light is irradiated toward the target position. When the target position is illuminated with light, the light passes through the optical path and reaches the plate supported by the second stage. The sensor detects the intensity of the light corresponding to the in-plane position in the predetermined area, and the monitor displays the detection result. The reference plane, the support plane of the first stage, and the support plane of the second stage are parallel. Therefore, when the light passes through the optical path along the vertical direction of the reference plane, the peak position of the intensity distribution detected in the first stage and the intensity distribution detected in the second stage are substantially the same. When the light is inclined with respect to the vertical direction of the reference plane and passes through the optical path, the peak positions of the intensity distribution detected in the first stage and the intensity distribution detected in the second stage are not substantially the same. In this way, by comparing the intensity distribution detected in the first stage with the intensity distribution detected in the second stage, it is confirmed whether or not the light passes through the optical path along the vertical direction of the reference plane. Will be done.

さらに別の例示的実施形態において、平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを、器具を用いて視認する方法が提供される。器具は、プレート及びホルダを備える。プレートは、粗面加工された表面と鏡面加工された裏面とを有し、光を透過する材料で形成され、プレートにおける位置を判別するためのマーカが付与される。ホルダは、基準面に面接触するように構成された平坦な底面と、底面の垂直方向に並設された第１ステージ及び第２ステージと、底面、第１ステージ及び第２ステージを貫通するように形成される光路とを有する。第１ステージ及び第２ステージそれぞれは、ホルダの底面に平行であってプレートを支持するように構成される支持面と、プレートが突き当てられることでプレートのマーカと光路との相対位置を固定するための位置決め面とを有する。第１ステージの位置決め面と第２ステージの位置決め面とは、同一平面上に位置する。方法は、基準面の垂直方向において光路が目標位置と一致するように基準面にホルダの底面を面接触させ、基準面上にホルダを配置するステップを備える。方法は、プレートを第１ステージの支持面に配置するステップを更に備える。方法は、基準面に光を照射し、第１ステージに支持されたプレートにおける光のスポットの位置または形状を視認するステップを更に備える。方法は、プレートを第１ステージの支持面から取り外し、プレートを第２ステージの支持面に配置するステップを更に備える。方法は、基準面に光を入射し、第２ステージに支持されたプレートにおける光のスポットの位置または形状を視認するステップを更に備える。この方法によれば、上述した器具を用いて平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを確認することができる。 Yet another exemplary embodiment provides a method of visually recognizing the vertical irradiation of a target position on a flat reference plane with an instrument. The instrument comprises a plate and a holder. The plate has a roughened front surface and a mirrored back surface, is made of a light-transmitting material, and is provided with a marker for determining a position on the plate. The holder penetrates the flat bottom surface configured to make surface contact with the reference surface, the first stage and the second stage arranged vertically on the bottom surface, and the bottom surface, the first stage, and the second stage. It has an optical path formed in. Each of the first stage and the second stage fixes the relative position between the marker of the plate and the optical path by abutting the plate with the support surface which is parallel to the bottom surface of the holder and is configured to support the plate. With a positioning surface for. The positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane. The method comprises a step of bringing the bottom surface of the holder into surface contact with the reference plane so that the optical path coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane, and placing the holder on the reference plane. The method further comprises the step of placing the plate on the support surface of the first stage. The method further comprises a step of irradiating the reference plane with light to visually recognize the position or shape of the spot of light on the plate supported by the first stage. The method further comprises the step of removing the plate from the support surface of the first stage and placing the plate on the support surface of the second stage. The method further comprises a step of incident light on the reference plane and visually recognizing the position or shape of the spot of light on the plate supported by the second stage. According to this method, it is possible to confirm that the light is vertically irradiated to the target position on the flat reference plane by using the above-mentioned instrument.

以下、図面を参照して、本開示の実施形態について説明する。なお、以下の説明において、同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明は繰り返さない。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。「上」「下」「左」「右」の語は、図示する状態に基づくものであり、便宜的なものである。図中において示されるＸ方向及びＹ方向は水平方向を示し、Ｚ方向は鉛直方向を示す。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In the following description, the same or equivalent elements are designated by the same reference numerals, and duplicate explanations will not be repeated. The dimensional ratios in the drawings do not always match those described. The terms "top," "bottom," "left," and "right" are based on the states shown and are for convenience. The X and Y directions shown in the figure indicate the horizontal direction, and the Z direction indicates the vertical direction.

実施形態に係る器具は、測定対象に測定光を入射する装置の光軸調整の際に用いられる。測定対象に測定光を入射する装置とは、測定光を出射する素子を含む装置である。測定対象に測定光を入射する装置は、一例として、光干渉システム、位置測定器、光電センサ、又は白色位置変位計である。本開示では、光干渉を利用して測定対象の厚さ又は温度などの物性値を計測する光干渉システムを、測定対象に測定光を入射する装置の一例として説明する。 The instrument according to the embodiment is used when adjusting the optical axis of the device that injects the measurement light into the measurement target. The device that injects the measurement light into the measurement target is a device that includes an element that emits the measurement light. The device that injects the measurement light onto the measurement target is, for example, an optical interference system, a position measuring instrument, a photoelectric sensor, or a white position displacement meter. In the present disclosure, an optical interference system that measures a physical property value such as a thickness or temperature of a measurement target by using optical interference will be described as an example of a device that injects measurement light into the measurement target.

［光干渉システム］
図１は、例示的な光干渉システムの一部を示す図である。図１に示されるように、光干渉システムは、フォーカサ５を有する。フォーカサ５は、光源に接続され、測定光Ｌを出射するとともに反射光を入射する素子である。光干渉システムにおいては、測定対象Ｗからの反射光に基づいて測定対象Ｗの物性値を計測する。 [Optical interference system]
FIG. 1 is a diagram showing a part of an exemplary optical interference system. As shown in FIG. 1, the optical interference system has a focuser 5. The focuser 5 is an element that is connected to a light source, emits measurement light L, and incidents reflected light. In the optical interference system, the physical property value of the measurement target W is measured based on the reflected light from the measurement target W.

光干渉システムの対象となる測定対象Ｗは、載置台４に載置されている。載置台４は、一例として、半導体処理装置の真空チャンバ内に配置される。載置台４は、その表面に、測定対象Ｗを支持する平坦な載置面４ａを有する。載置台４には、載置台４の厚さ方向に貫通するようにピン４ｂが設けられる。ピン４ｂは、載置台４の下方から載置面４ａに向かって連通する貫通孔に嵌合する、測定光Ｌを通過する材質で形成される窓である。載置台４の下方には、光干渉システムのフォーカサ５が一例として設けられる。これにより、フォーカサ５から出射された測定光Ｌは、ピン４ｂを通過して、測定対象Ｗに照射される。測定対象Ｗは、測定光Ｌに対して透過性を有する材質によって形成される部品である。材質は、例えば、Ｓｉ、ＳｉＯ_２、ＳｉＣ及びＡｌ_２Ｏ_３などが用いられる。部品は、例えば、基板又はフォーカスリングである。 The measurement target W, which is the target of the optical interference system, is mounted on the mounting table 4. As an example, the mounting table 4 is arranged in the vacuum chamber of the semiconductor processing apparatus. The mounting table 4 has a flat mounting surface 4a on its surface that supports the measurement target W. The mounting table 4 is provided with pins 4b so as to penetrate the mounting table 4 in the thickness direction. The pin 4b is a window made of a material that passes through the measurement light L and fits into a through hole that communicates from below the mounting table 4 toward the mounting surface 4a. Below the mounting table 4, a focuser 5 of an optical interference system is provided as an example. As a result, the measurement light L emitted from the focuser 5 passes through the pin 4b and is irradiated to the measurement target W. The measurement target W is a component formed of a material having transparency with respect to the measurement light L. As the material, for example, Si, SiO ₂ , SiC, Al ₂ O _{3 and the} like are used. The component is, for example, a substrate or a focus ring.

光干渉システムのフォーカサ５から出射される測定光Ｌは集束光に調整される。集束光線とは、設定された距離で焦点を結ぶ非平行の光線である。測定光Ｌが集束光線である場合、集束光線が測定対象Ｗに入射するように、そして、測定対象Ｗからの反射光がフォーカサ５へ入射するように、フォーカサ５の光軸が調整されなければならない。この作業は、測定対象Ｗに対して測定光Ｌが垂直に入射されるように測定光Ｌの光軸が調整されなければならない。また、測定光Ｌが照射された位置が可視化されず、現在の光軸が傾いているか分からないため、一旦反射光を見失うとフォーカサ５の光軸は総当たりのように調整されなければならず、調整に多大な時間を要する。 The measurement light L emitted from the focuser 5 of the optical interference system is adjusted to the focused light. Focused rays are non-parallel rays that focus at a set distance. When the measurement light L is a focused ray, the optical axis of the focuser 5 must be adjusted so that the focused ray is incident on the measurement target W and the reflected light from the measurement target W is incident on the focuser 5. It doesn't become. In this work, the optical axis of the measurement light L must be adjusted so that the measurement light L is vertically incident on the measurement target W. Further, since the position where the measurement light L is irradiated is not visualized and it is not known whether the current optical axis is tilted, once the reflected light is lost, the optical axis of the focuser 5 must be adjusted like a brute force attack. , It takes a lot of time to adjust.

［器具の詳細］
器具は、平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するために用いられる。基準面とは、器具が載置される面であり、かつ、測定対象Ｗの光照射面と平行な面である。図１の例では、基準面は載置面４ａであり、目標位置がピン４ｂの取付位置中央となる。器具は、載置面４ａと平行で垂直方向に離間する複数の平面において、測定光Ｌが照射された位置を示す光のスポットを可視化する。垂直方向に離間する複数の平面における光のスポットの相対的な位置や形状の変化が可視化されるため、器具は、載置面４ａ上のピン４ｂの取付位置に光が垂直に照射されることを視認させることができる。フォーカサ５の光軸は、器具により可視化された光のスポット位置を確認しつつ、調整される。 [Details of equipment]
The instrument is used to visually indicate that the light is vertically radiated to a target position on a flat reference plane. The reference surface is a surface on which the instrument is placed and is parallel to the light irradiation surface of the measurement target W. In the example of FIG. 1, the reference surface is the mounting surface 4a, and the target position is the center of the mounting position of the pin 4b. The instrument visualizes a spot of light indicating a position where the measurement light L is irradiated on a plurality of planes parallel to the mounting surface 4a and vertically separated from each other. Since the relative position and shape change of the spots of light on a plurality of planes separated in the vertical direction are visualized, the instrument is to be irradiated with light vertically to the mounting position of the pin 4b on the mounting surface 4a. Can be visually recognized. The optical axis of the focuser 5 is adjusted while confirming the spot position of the light visualized by the instrument.

図２は、一つの例示的実施形態に係る器具の概略図である。図２に示されるように、器具１は、プレート２及びホルダ３を備える。プレート２及びホルダ３は、別体であるが組み合わせて使用されることで器具１として機能する。 FIG. 2 is a schematic diagram of an instrument according to one exemplary embodiment. As shown in FIG. 2, the instrument 1 includes a plate 2 and a holder 3. Although the plate 2 and the holder 3 are separate bodies, they function as an instrument 1 when used in combination.

ホルダ３は、一例として略直方体状を呈する。ホルダ３は、例えば、ポリアセタール、フッ素樹脂、ポリエーテルエーテルケトンなどの樹脂部材によって作製される。ホルダ３は、載置面４ａと面接触するように構成される平坦な底面１０を有する。ホルダ３が載置台４に載置される場合、載置面４ａと底面１０とは面接触する。 The holder 3 exhibits a substantially rectangular parallelepiped shape as an example. The holder 3 is made of a resin member such as polyacetal, fluororesin, or polyetheretherketone, for example. The holder 3 has a flat bottom surface 10 configured to be in surface contact with the mounting surface 4a. When the holder 3 is mounted on the mounting table 4, the mounting surface 4a and the bottom surface 10 are in surface contact with each other.

ホルダ３は、底面１０の垂直方向に並設された第１ステージ２０及び第２ステージ３０を備える。第１ステージ２０は、底面１０の上方に垂直方向へ離間して設けられる。第２ステージ３０は、底面１０及び第１ステージ２０の上方に垂直方向へ離間して設けられる。第１ステージ２０は、底面１０と平行な支持面２１と、支持面２１の垂直方向に沿って設けられる位置決め面２２とを有する。支持面２１は、プレート２を支持する。位置決め面２２は、プレート２の側部が突き当てられ、プレート２の位置決めを行う面である。位置決め面２２は、第１位置決め面２３（２２）、及び第１位置決め面２３（２３）に直交する第２位置決め面２４（２２）によって構成される。第２ステージ３０は、底面１０と平行な支持面３１と、支持面３１の垂直方向に沿って設けられる位置決め面３２とを有する。支持面３１は、プレート２を支持する。位置決め面３２は、プレート２の側部が突き当てられ、プレート２の位置決めを行う面である。位置決め面３２は、第１位置決め面３３（３２）、及び第１位置決め面３３（３２）に直交する第２位置決め面３４（３２）によって構成される。 The holder 3 includes a first stage 20 and a second stage 30 arranged side by side in the vertical direction of the bottom surface 10. The first stage 20 is provided above the bottom surface 10 at a distance in the vertical direction. The second stage 30 is provided above the bottom surface 10 and the first stage 20 so as to be vertically spaced apart from each other. The first stage 20 has a support surface 21 parallel to the bottom surface 10 and a positioning surface 22 provided along the vertical direction of the support surface 21. The support surface 21 supports the plate 2. The positioning surface 22 is a surface on which the side portion of the plate 2 is abutted to position the plate 2. The positioning surface 22 is composed of a first positioning surface 23 (22) and a second positioning surface 24 (22) orthogonal to the first positioning surface 23 (23). The second stage 30 has a support surface 31 parallel to the bottom surface 10 and a positioning surface 32 provided along the vertical direction of the support surface 31. The support surface 31 supports the plate 2. The positioning surface 32 is a surface on which the side portion of the plate 2 is abutted to position the plate 2. The positioning surface 32 is composed of a first positioning surface 33 (32) and a second positioning surface 34 (32) orthogonal to the first positioning surface 33 (32).

位置決め面２２及び位置決め面３２は、同一平面上に位置する。図２では、第１ステージ２０の第１位置決め面２３（２２）及び第２ステージ３０の第１位置決め面３３（３２）は、同一平面上に位置する。第１ステージ２０の第２位置決め面２４（２２）及び第２ステージ３０の第２位置決め面３４（３２）は、同一平面上に位置する。 The positioning surface 22 and the positioning surface 32 are located on the same plane. In FIG. 2, the first positioning surface 23 (22) of the first stage 20 and the first positioning surface 33 (32) of the second stage 30 are located on the same plane. The second positioning surface 24 (22) of the first stage 20 and the second positioning surface 34 (32) of the second stage 30 are located on the same plane.

ホルダ３は、底面１０、第１ステージ２０及び第２ステージ３０を貫通するように形成される光路３５を有する。光路３５は、底面１０、支持面２１及び支持面３１に形成された同軸の開口（貫通孔）によって定義される。底面１０及び支持面２１には、貫通孔２１ａが設けられる。支持面３１には、貫通孔３１ａが設けられる。光路３５が測定光Ｌを通過させるように、ホルダ３は、載置面４ａの垂直方向において光路３５がピン４ｂの取付位置と一致するように載置面４ａ上に配置される。 The holder 3 has an optical path 35 formed so as to penetrate the bottom surface 10, the first stage 20, and the second stage 30. The optical path 35 is defined by a coaxial opening (through hole) formed in the bottom surface 10, the support surface 21, and the support surface 31. Through holes 21a are provided in the bottom surface 10 and the support surface 21. The support surface 31 is provided with a through hole 31a. The holder 3 is arranged on the mounting surface 4a so that the optical path 35 coincides with the mounting position of the pin 4b in the vertical direction of the mounting surface 4a so that the optical path 35 passes through the measurement light L.

図３は、プレート２の一例の側面図である。プレート２は、粗面加工された表面４０と鏡面加工された裏面４１と、表面４０及び裏面４１を連結する側面４２を有する。プレート２の表面４０及び裏面４１は互いに平行である。粗面加工とは、測定光Ｌが散乱するように微細な凹凸を設ける処理である。粗面加工は、例えば、研削加工、サンドブラスト処理である。メンディングテープなどの予め粗面として形成された部材をプレート２の表面に貼り付けすることによって、粗面加工された表面４０としてもよい。プレート２に入射された測定光Ｌは、粗面加工された表面４０において散乱し、光のスポットＬＳが可視化される。なお、裏面４１からではなく表面４０から測定光Ｌが入射される場合であっても、光のスポットＬＳは可視化される。プレート２は、測定光Ｌを透過する材料で形成される。測定光Ｌが可視光を含む場合、プレート２は、透明な材質によって構成される。プレート２は、一例として石英ガラスである。 FIG. 3 is a side view of an example of the plate 2. The plate 2 has a roughened front surface 40, a mirrored back surface 41, and a side surface 42 connecting the front surface 40 and the back surface 41. The front surface 40 and the back surface 41 of the plate 2 are parallel to each other. The rough surface processing is a process of providing fine irregularities so that the measurement light L is scattered. The rough surface processing is, for example, a grinding process or a sandblasting process. A roughened surface 40 may be obtained by attaching a member previously formed as a rough surface such as a mending tape to the surface of the plate 2. The measurement light L incident on the plate 2 is scattered on the roughened surface 40, and the spot LS of the light is visualized. Even when the measurement light L is incident from the front surface 40 instead of the back surface 41, the spot LS of the light is visualized. The plate 2 is made of a material that transmits the measurement light L. When the measurement light L contains visible light, the plate 2 is made of a transparent material. The plate 2 is, for example, quartz glass.

図４は、ホルダ３の一例の断面図及びプレート２の一例の上面図である。プレート２には、プレート２における位置を判別するためのマーカ４５が付与される。マーカ４５は、例えば、レーザ刻印、エッチング、切削、研削、ペンなどによって表面４０に設けられる印である。一例として、マーカ４５は、直交する２つの直線の交点によって表面４０の中央を示す印と、表面４０の中央を中心とした複数の同心円とを含む。マーカ４５が付与されたプレート２が位置決め面２２及び位置決め面３２によって位置決めされることにより、マーカ４５と光路３５との相対位置が固定される。これにより、マーカ４５を基準にして光のスポットＬＳの位置の変化が可視化される。 FIG. 4 is a cross-sectional view of an example of the holder 3 and a top view of an example of the plate 2. The plate 2 is provided with a marker 45 for determining the position on the plate 2. The marker 45 is a mark provided on the surface 40 by, for example, laser engraving, etching, cutting, grinding, a pen, or the like. As an example, the marker 45 includes a mark indicating the center of the surface 40 by the intersection of two orthogonal straight lines, and a plurality of concentric circles centered on the center of the surface 40. The plate 2 to which the marker 45 is attached is positioned by the positioning surface 22 and the positioning surface 32, so that the relative position between the marker 45 and the optical path 35 is fixed. As a result, the change in the position of the spot LS of light is visualized with reference to the marker 45.

図４では、プレート２は、第１ステージ２０に支持される。プレート２は、第１側面４３（４２）及び第２側面４４（４２）を有する。第１ステージ２０の第１位置決め面２３（２２）は、第１側面４３（４２）と面接触するように構成される。第１ステージ２０の第２位置決め面２４（２２）は、第２側面４４（４２）と面接触するように構成される。第１ステージ２０の支持面２１は、プレート２の表面４０及び裏面４１の何れか一方と面接触するように構成される。つまり、第１ステージ２０では、第１ステージ２０を画成し交差する３つの平面に基づいて、板状部材であるプレート２が位置決めされる。第２ステージ３０においても、プレート２は、第１位置決め面３３（３２）と第２位置決め面３４（３２）と支持面３１とに基づいて、板状部材であるプレート２が位置決めされる。 In FIG. 4, the plate 2 is supported by the first stage 20. The plate 2 has a first side surface 43 (42) and a second side surface 44 (42). The first positioning surface 23 (22) of the first stage 20 is configured to be in surface contact with the first side surface 43 (42). The second positioning surface 24 (22) of the first stage 20 is configured to be in surface contact with the second side surface 44 (42). The support surface 21 of the first stage 20 is configured to be in surface contact with either the front surface 40 or the back surface 41 of the plate 2. That is, in the first stage 20, the plate 2 which is a plate-shaped member is positioned based on the three planes that define and intersect the first stage 20. Also in the second stage 30, in the plate 2, the plate 2 which is a plate-shaped member is positioned based on the first positioning surface 33 (32), the second positioning surface 34 (32), and the support surface 31.

第１位置決め面２３（２２）、第２位置決め面２４（２２）、第１位置決め面３３（３２）、及び第２位置決め面３４（３２）は、いずれも底面１０に対して垂直に設けられる。また、第１位置決め面２３（２２）及び第１位置決め面３３（３２）は同一平面上に設けられる。第２位置決め面２４（２２）及び第２位置決め面３４（３２）は同一平面上に設けられる。これにより、第１ステージ２０に支持されたプレート２と第２ステージ３０に支持されたプレート２とは、底面１０と平行なＸＹ平面内において、同じ座標に配置される。よって、プレート２が第１ステージ２０に支持される場合の光のスポットＬＳと、プレート２が第２ステージ３０に支持される場合の光のスポットＬＳとのＸＹ面内での相対的な位置の変化がマーカ４５によって判別され、測定光Ｌの傾きが可視化される。 The first positioning surface 23 (22), the second positioning surface 24 (22), the first positioning surface 33 (32), and the second positioning surface 34 (32) are all provided perpendicular to the bottom surface 10. Further, the first positioning surface 23 (22) and the first positioning surface 33 (32) are provided on the same plane. The second positioning surface 24 (22) and the second positioning surface 34 (32) are provided on the same plane. As a result, the plate 2 supported by the first stage 20 and the plate 2 supported by the second stage 30 are arranged at the same coordinates in the XY plane parallel to the bottom surface 10. Therefore, the relative positions of the spot LS of light when the plate 2 is supported by the first stage 20 and the spot LS of light when the plate 2 is supported by the second stage 30 in the XY plane. The change is discriminated by the marker 45, and the inclination of the measurement light L is visualized.

図５は、載置台４に載置される器具１の一例を示す断面図である。図５では、第１ステージ２０にプレート２が支持される場合、及び第２ステージ３０にプレート２が支持される場合が、一つの図面で示される。図５の第２ステージ３０にプレート２が支持される場合の上面図は、図６の（Ａ）に示される。図６の（Ａ）は、第２ステージ３０に支持されるプレート２の一例を示す上面図である。図５の第１ステージ２０にプレート２が支持される場合の上面図は、図６の（Ｂ）に示される。図６の（Ｂ）は、第１ステージ２０に支持されるプレート２の一例を示す上面図である。 FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of the instrument 1 mounted on the mounting table 4. In FIG. 5, a case where the plate 2 is supported by the first stage 20 and a case where the plate 2 is supported by the second stage 30 are shown in one drawing. A top view of the case where the plate 2 is supported by the second stage 30 of FIG. 5 is shown in FIG. 6 (A). FIG. 6A is a top view showing an example of the plate 2 supported by the second stage 30. A top view of the case where the plate 2 is supported by the first stage 20 of FIG. 5 is shown in FIG. 6 (B). FIG. 6B is a top view showing an example of the plate 2 supported by the first stage 20.

図６の（Ｂ）に示されるように、第１ステージ２０においてプレート２に入射する測定光Ｌの光のスポットＬＳは、マーカ４５のほぼ中心に位置する。光のスポットＬＳの形状は略円形である。この光のスポットＬＳの位置及び形状は、載置台４の下方に配置されるフォーカサ５から出射される測定光Ｌが、ピン４ｂ及び貫通孔２１ａを通過して、第１ステージ２０に支持されるプレート２に入射していることを可視化している。 As shown in FIG. 6B, the spot LS of the measurement light L incident on the plate 2 in the first stage 20 is located substantially at the center of the marker 45. The shape of the light spot LS is substantially circular. The position and shape of the spot LS of the light is such that the measurement light L emitted from the focuser 5 arranged below the mounting table 4 passes through the pin 4b and the through hole 21a and is supported by the first stage 20. It visualizes that it is incident on the plate 2.

図６の（Ａ）は、第１ステージ２０がプレート２を支持しない場合に、第２ステージ３０においてプレート２に入射する測定光Ｌの光のスポットＬＳを示す。光のスポットＬＳの位置はマーカ４５の中心に対して、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に変位した位置を示す。光のスポットＬＳの形状は略円形を示す。この光のスポットＬＳの位置及び形状は、測定光Ｌが、貫通孔３１ａを通過して、第２ステージ３０に支持されるプレート２に入射していること、及び測定光Ｌが垂直方向に対して傾いていることを可視化する。 FIG. 6A shows the spot LS of the light of the measurement light L incident on the plate 2 in the second stage 30 when the first stage 20 does not support the plate 2. The position of the light spot LS indicates a position displaced in the X-axis direction and the Y-axis direction with respect to the center of the marker 45. The shape of the light spot LS is substantially circular. The position and shape of the spot LS of the light are such that the measurement light L passes through the through hole 31a and is incident on the plate 2 supported by the second stage 30, and the measurement light L is perpendicular to the vertical direction. Visualize that it is tilted.

図７は、載置台４に載置される器具１の他の例を示す断面図である。図７では、第１ステージ２０にプレート２が支持される場合、及び第２ステージ３０にプレート２が支持される場合が、一つの図面で示される。図７の第２ステージ３０にプレート２が支持される場合の上面図は、図８の（Ａ）に示される。図８の（Ａ）は、第２ステージ３０に支持されるプレート２の一例を示す上面図である。図７の第１ステージ２０にプレート２が支持される場合の上面図は、図８の（Ｂ）に示される。図８の（Ｂ）は、第１ステージ２０に支持されるプレート２の一例を示す上面図である。 FIG. 7 is a cross-sectional view showing another example of the instrument 1 mounted on the mounting table 4. In FIG. 7, a case where the plate 2 is supported by the first stage 20 and a case where the plate 2 is supported by the second stage 30 are shown in one drawing. A top view of the case where the plate 2 is supported by the second stage 30 of FIG. 7 is shown in FIG. 8 (A). FIG. 8A is a top view showing an example of the plate 2 supported by the second stage 30. A top view of the case where the plate 2 is supported by the first stage 20 of FIG. 7 is shown in FIG. 8 (B). FIG. 8B is a top view showing an example of the plate 2 supported by the first stage 20.

図８の（Ｂ）は、第１ステージ２０においてプレート２に入射する測定光Ｌの光のスポットＬＳを示す。光のスポットＬＳはマーカ４５の中心に対して、Ｘ軸方向に変位した位置を示す。光のスポットＬＳの形状は略楕円形を示す。この光のスポットＬＳの位置及び形状は、載置台４の下方に配置されるフォーカサ５から出射される測定光Ｌが、ピン４ｂ又は貫通孔２１ａを通過する途中で反射したことを可視化する。また、測定光Ｌがピン４ｂ又は貫通孔２１ａを通過する途中で反射する程度に傾いていることが可視化される。 FIG. 8B shows the spot LS of the light of the measurement light L incident on the plate 2 in the first stage 20. The light spot LS indicates a position displaced in the X-axis direction with respect to the center of the marker 45. The shape of the light spot LS is substantially elliptical. The position and shape of the spot LS of the light visualizes that the measurement light L emitted from the focuser 5 arranged below the mounting table 4 is reflected while passing through the pin 4b or the through hole 21a. Further, it is visualized that the measurement light L is tilted to the extent that it is reflected while passing through the pin 4b or the through hole 21a.

図８の（Ａ）は、第２ステージ３０においてプレート２に測定光Ｌが入射しないことを示す。光のスポットＬＳがプレート２に示されないことは、測定光Ｌが、貫通孔３１ａを通過しないことを可視化している。また、測定光Ｌが貫通孔３１ａを通過しない程度に傾いていることが可視化される。 FIG. 8A shows that the measurement light L is not incident on the plate 2 in the second stage 30. The fact that the spot LS of light is not shown on the plate 2 visualizes that the measured light L does not pass through the through hole 31a. Further, it is visualized that the measurement light L is tilted to the extent that it does not pass through the through hole 31a.

［器具の他の例］
図９は、センサが取り付けられたプレートを有する器具の一例を示す断面図である。図９に示されるように、器具１Ａは、プレート２Ａ及びホルダ３を備える。プレート２Ａは、領域内の面内位置に対応する光の強度を検出するセンサ６が設けられる。センサ６は、所定領域内の面内位置に対応する光の強度を検出するセンサであり、一例としてビームプロファイラである。ビームプロファイラは、カメラと、カメラと通信可能に接続される制御部５０とに構成される。具体的には、ＣＣＤ（Ｃｈａｎｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）又はＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）などの光電素子である受光面を有するカメラである。制御部５０はカメラの出力をグラフ又は２次元画像などに変換するコンピュータである。制御部５０は、モニタ５１に接続される。モニタ５１は、制御部５０の指令に基づいて、センサ６の検出結果を表示する。モニタ５１の一例として、ディスプレイが用いられる。器具１Ａのその他の構成は、器具１と同一である。図９では、第１ステージ２０にプレート２Ａが支持される場合、及び第２ステージ３０にプレート２Ａが支持される場合が、一つの図面で示される。 [Other examples of appliances]
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of an instrument having a plate to which a sensor is attached. As shown in FIG. 9, the instrument 1A comprises a plate 2A and a holder 3. The plate 2A is provided with a sensor 6 that detects the intensity of light corresponding to the in-plane position in the region. The sensor 6 is a sensor that detects the intensity of light corresponding to an in-plane position in a predetermined region, and is, for example, a beam profiler. The beam profiler is composed of a camera and a control unit 50 that is communicably connected to the camera. Specifically, it is a camera having a light receiving surface which is a photoelectric element such as a CCD (Change Coupled Device) or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor). The control unit 50 is a computer that converts the output of the camera into a graph, a two-dimensional image, or the like. The control unit 50 is connected to the monitor 51. The monitor 51 displays the detection result of the sensor 6 based on the command of the control unit 50. A display is used as an example of the monitor 51. Other configurations of the instrument 1A are the same as those of the instrument 1. In FIG. 9, a case where the plate 2A is supported by the first stage 20 and a case where the plate 2A is supported by the second stage 30 are shown in one drawing.

図１０の（Ａ）はセンサ６が検知した光のスポットＬＳのＸ方向の強度分布を示す一例である。Ｗ１は、第１ステージ２０に支持されるセンサ６が出力したＸ方向の強度分布である。Ｗ２は、第２ステージ３０に支持されるセンサ６が出力したＸ方向の強度分布である。Ｗ１とＷ２とのピークにはｄｘの差分がある。この差分は、測定光ＬがＸ軸方向に傾いていることを示唆する。 FIG. 10A is an example showing the intensity distribution of the spot LS of light detected by the sensor 6 in the X direction. W1 is the intensity distribution in the X direction output by the sensor 6 supported by the first stage 20. W2 is the intensity distribution in the X direction output by the sensor 6 supported by the second stage 30. There is a difference in dx between the peaks of W1 and W2. This difference suggests that the measurement light L is tilted in the X-axis direction.

図１０の（Ｂ）はセンサ６が検知した光のスポットＬＳのＹ方向の強度分布を示す一例である。Ｗ１は、第１ステージ２０に支持されるセンサ６が出力したＹ方向の強度分布である。Ｗ２は、第２ステージ３０に支持されるセンサ６が出力したＹ方向の強度分布である。Ｗ１とＷ２とのピークにはｄｙの差分がある。この差分は、測定光ＬがＹ軸方向に傾いていることを示唆する。図１０の（Ａ）及び図１０の（Ｂ）は、モニタ５１に表示され、測定光ＬがＸ軸方向及びＹ軸方向に傾いていることが可視化される。 FIG. 10B is an example showing the intensity distribution of the spot LS of light detected by the sensor 6 in the Y direction. W1 is the intensity distribution in the Y direction output by the sensor 6 supported by the first stage 20. W2 is the intensity distribution in the Y direction output by the sensor 6 supported by the second stage 30. There is a difference in dy between the peaks of W1 and W2. This difference suggests that the measurement light L is tilted in the Y-axis direction. (A) of FIG. 10 and (B) of FIG. 10 are displayed on the monitor 51, and it is visualized that the measurement light L is tilted in the X-axis direction and the Y-axis direction.

［器具を用いて視認する方法］
図１１は、一つの例示的実施形態に係る方法を示すフローチャートである。この測定方法は、器具１を使用する。図１１に示されるフローチャートは、例えば光干渉システムの光軸調整前後に実行される。 [How to visually recognize using an instrument]
FIG. 11 is a flowchart showing a method according to one exemplary embodiment. This measuring method uses instrument 1. The flowchart shown in FIG. 11 is executed, for example, before and after adjusting the optical axis of the optical interference system.

図１１に示されるように、最初に、ホルダ３が載置台４の載置面４ａに載置される（ステップＳ１０）。ホルダ３は、ピン４ｂと光路３５（貫通孔２１ａ及び貫通孔３１ａを含む）とが載置面４ａの垂直方向に重なるように載置される。 As shown in FIG. 11, the holder 3 is first mounted on the mounting surface 4a of the mounting table 4 (step S10). The holder 3 is placed so that the pin 4b and the optical path 35 (including the through hole 21a and the through hole 31a) overlap each other in the vertical direction of the mounting surface 4a.

次に、プレート２が第１ステージ２０に支持される（ステップＳ２０）。プレート２は、表面４０及び裏面４１の何れか一方が第１ステージ２０の支持面２１と面接触するように支持される。プレート２は、側面４２と第１ステージ２０の位置決め面２２とが面接触するように位置決めされる。 Next, the plate 2 is supported by the first stage 20 (step S20). The plate 2 is supported so that either the front surface 40 or the back surface 41 is in surface contact with the support surface 21 of the first stage 20. The plate 2 is positioned so that the side surface 42 and the positioning surface 22 of the first stage 20 are in surface contact with each other.

次に、第１ステージ２０に支持されるプレート２に測定光Ｌが入射される（ステップＳ３０）。プレート２に入射した測定光Ｌは、表面４０において光のスポットＬＳとして可視化される。例えば、垂直に表面４０へ入射する測定光Ｌは、略円形の光のスポットＬＳを示す。傾いて表面４０へ入射する測定光Ｌは、略楕円形の光のスポットＬＳを示す。光のスポットＬＳの形状を確認することによって、測定光Ｌの傾きが視認される。 Next, the measurement light L is incident on the plate 2 supported by the first stage 20 (step S30). The measurement light L incident on the plate 2 is visualized as a spot LS of light on the surface 40. For example, the measurement light L vertically incident on the surface 40 indicates a spot LS of substantially circular light. The measured light L tilted and incident on the surface 40 indicates a spot LS of substantially elliptical light. By confirming the shape of the light spot LS, the inclination of the measured light L is visually recognized.

次に、プレート２が第２ステージ３０に支持される（ステップＳ４０）。プレート２は、表面４０及び裏面４１の何れか一方が第２ステージ３０の支持面３１と面接触するように支持される。プレート２は、側面４２と第２ステージ３０の位置決め面３２とが面接触するように位置決めされる。 Next, the plate 2 is supported by the second stage 30 (step S40). The plate 2 is supported so that either the front surface 40 or the back surface 41 is in surface contact with the support surface 31 of the second stage 30. The plate 2 is positioned so that the side surface 42 and the positioning surface 32 of the second stage 30 are in surface contact with each other.

最後に、第２ステージ３０に支持されるプレート２に測定光Ｌが入射される（ステップＳ５０）。プレート２に入射した測定光Ｌは、表面４０において光のスポットＬＳとして可視化される。垂直に表面４０へ入射する測定光Ｌは、略円形の光のスポットＬＳを示す。例えば、傾いて表面４０へ入射する測定光Ｌは、略楕円形の光のスポットＬＳを示す。よって、光のスポットＬＳの形状を確認することによって、測定光Ｌの傾きが視認される。また、第１ステージ２０において可視化された光のスポットＬＳの位置と、第２ステージ３０において可視化された光のスポットＬＳの位置との相対的な位置関係に基づいて、測定光Ｌの傾きが視認される。 Finally, the measurement light L is incident on the plate 2 supported by the second stage 30 (step S50). The measurement light L incident on the plate 2 is visualized as a spot LS of light on the surface 40. The measurement light L perpendicularly incident on the surface 40 indicates a spot LS of substantially circular light. For example, the measured light L tilted and incident on the surface 40 indicates a spot LS of substantially elliptical light. Therefore, by confirming the shape of the light spot LS, the inclination of the measured light L can be visually recognized. Further, the inclination of the measured light L is visually recognized based on the relative positional relationship between the position of the light spot LS visualized in the first stage 20 and the position of the light spot LS visualized in the second stage 30. Will be done.

［まとめ］
以上、種々の例示的実施形態について説明してきたが、上述した例示的実施形態に限定されることなく、様々な省略、置換、及び変更がなされてもよい。また、異なる実施形態における要素を組み合わせて他の実施形態を形成することが可能である。 [summary]
Although various exemplary embodiments have been described above, various omissions, substitutions, and changes may be made without being limited to the above-mentioned exemplary embodiments. It is also possible to combine elements in different embodiments to form other embodiments.

載置台４の下方には、コリメータが設けられてもよい。コリメータから出射される測定光は平行光線に調整される。平行光線とは、拡散することなく直進する光線である。測定光が平行光線である場合、平行光線が測定対象物に入射するように、そして、測定対象物からの反射光がコリメータへ入射するように、コリメータの光軸が調整されなければならない。 A collimator may be provided below the mounting table 4. The measurement light emitted from the collimator is adjusted to parallel rays. A parallel ray is a ray that travels straight without being diffused. If the light to be measured is a parallel ray, the optical axis of the collimator must be adjusted so that the parallel ray is incident on the object to be measured and the reflected light from the object to be measured is incident on the collimator.

器具１は、複数の種類のプレート２を備えてもよい。プレート２は、ホルダ３に取付けられたり取り外されたりするが、一連の作業において同一のプレートを用いる必要はなく、複数のプレートを用意し、各作業において選択された１のプレートを使用してもよい。プレート２は、マーカ４５を有さなくてもよい。マーカ４５が有する印の間隔は、必要とされる測定光Ｌの垂直度に基づいて定められてもよい。光のスポットＬＳの位置は、位置決め面２２及び位置決め面３２に基づいて可視化されてもよい。センサ６は、測定光Ｌの強度分布を２次元画像によって可視化してもよい。測定光Ｌの強度は、明暗及び色彩に基づいて可視化されてもよい。 The instrument 1 may include a plurality of types of plates 2. The plate 2 can be attached to or detached from the holder 3, but it is not necessary to use the same plate in a series of operations. Even if a plurality of plates are prepared and one plate selected in each operation is used. good. The plate 2 does not have to have the marker 45. The spacing between the marks on the marker 45 may be determined based on the required verticality of the measurement light L. The position of the spot LS of light may be visualized based on the positioning surface 22 and the positioning surface 32. The sensor 6 may visualize the intensity distribution of the measurement light L by a two-dimensional image. The intensity of the measured light L may be visualized based on lightness and darkness and color.

ホルダ３は、略直方体状に限定されない。ホルダ３は、例えば、略円柱状を呈してもよい。位置決め面は、曲面であってもよい。プレート２の側面は曲面であってもよい。位置決め面は、３つ以上の面によって構成されてもよい。プレート２は、位置決め面に挟持されてもよい。ホルダ３は、３つ以上のステージを有してもよい。 The holder 3 is not limited to a substantially rectangular parallelepiped shape. The holder 3 may have a substantially columnar shape, for example. The positioning surface may be a curved surface. The side surface of the plate 2 may be curved. The positioning surface may be composed of three or more surfaces. The plate 2 may be sandwiched between the positioning surfaces. The holder 3 may have three or more stages.

以上の説明から、本開示の種々の実施形態は、本開示の範囲及び主旨から逸脱することなく種々の変更をなし得ることが、理解されるであろう。したがって、本明細書に開示した種々の実施形態は限定することを意図しておらず、真の範囲と主旨は、添付の特許請求の範囲によって示される。 From the above description, it will be understood that the various embodiments of the present disclosure may make various modifications without departing from the scope and gist of the present disclosure. Accordingly, the various embodiments disclosed herein are not intended to be limiting, and the true scope and gist is set forth by the appended claims.

１…器具、２…プレート、３…ホルダ、４…載置台、４ａ…載置面、６…センサ、１０…底面、２０…第１ステージ、２１…支持面、２１ａ…貫通孔、２２…位置決め面、３０…第２ステージ、３１…支持面、３１ａ…貫通孔、３２…位置決め面、４０…表面、４１…裏面、４２…側面、４５…マーカ。 1 ... Instrument, 2 ... Plate, 3 ... Holder, 4 ... Mounting stand, 4a ... Mounting surface, 6 ... Sensor, 10 ... Bottom, 20 ... First stage, 21 ... Support surface, 21a ... Through hole, 22 ... Positioning Surface, 30 ... Second stage, 31 ... Support surface, 31a ... Through hole, 32 ... Positioning surface, 40 ... Front surface, 41 ... Back surface, 42 ... Side surface, 45 ... Marker.

Claims (3)

平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するための器具であって、
粗面加工された表面と鏡面加工された裏面とを有し、前記光を透過する材料で形成され、プレートにおける位置を判別するためのマーカが付与されるプレートと、
前記基準面に面接触するように構成された平坦な底面と、前記底面の垂直方向に並設された第１ステージ及び第２ステージと、前記底面、前記第１ステージ及び前記第２ステージを貫通するように形成される光路とを有するホルダと、
を備え、
前記第１ステージ及び前記第２ステージそれぞれは、
前記ホルダの前記底面に平行であって前記プレートを支持するように構成される支持面と、
前記プレートが突き当てられることで前記プレートの前記マーカと前記光路との相対位置を固定するための位置決め面と、
を有し、
前記第１ステージの位置決め面と前記第２ステージの位置決め面とは、同一平面上に位置し、
前記ホルダは、前記基準面の垂直方向において前記光路が前記目標位置と一致するように前記基準面上に配置される、器具。 It is an instrument for visually recognizing that light is emitted vertically to a target position on a flat reference surface.
A plate having a roughened front surface and a mirrored back surface, formed of the light-transmitting material, and provided with a marker for determining a position on the plate.
It penetrates the flat bottom surface configured to make surface contact with the reference surface, the first stage and the second stage arranged side by side in the vertical direction of the bottom surface, and the bottom surface, the first stage, and the second stage. With a holder having an optical path formed to
Equipped with
Each of the first stage and the second stage
A support surface parallel to the bottom surface of the holder and configured to support the plate,
A positioning surface for fixing the relative position of the marker and the optical path of the plate by being abutted against the plate, and
Have,
The positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane.
The holder is an instrument that is arranged on the reference plane so that the optical path coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane. 平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを視認するための器具であって、
所定領域内の面内位置に対応する前記光の強度を検出するセンサが設けられるプレートと、
前記基準面に面接触するように構成された平坦な底面と、前記底面の垂直方向に並設された第１ステージ及び第２ステージと、前記底面、前記第１ステージ及び前記第２ステージを貫通するように形成された光路とを有するホルダと、
前記センサの検出結果を表示するモニタと、
を備え、
前記第１ステージ及び前記第２ステージそれぞれは、
前記ホルダの前記底面に平行であって前記プレートを支持するように構成される支持面と、
前記プレートが突き当てられることで前記プレートの前記センサと前記光路との相対位置を固定するための位置決め面と、
を有し、
前記第１ステージの位置決め面と前記第２ステージの位置決め面とは、同一平面上に位置し、
前記ホルダは、前記基準面の垂直方向において前記光路が前記目標位置と一致するように前記基準面上に配置される、器具。 It is an instrument for visually recognizing that light is emitted vertically to a target position on a flat reference surface.
A plate provided with a sensor for detecting the intensity of the light corresponding to an in-plane position in a predetermined area, and a plate.
It penetrates the flat bottom surface configured to make surface contact with the reference surface, the first stage and the second stage arranged side by side in the vertical direction of the bottom surface, and the bottom surface, the first stage, and the second stage. With a holder having an optical path formed to
A monitor that displays the detection result of the sensor and
Equipped with
Each of the first stage and the second stage
A support surface parallel to the bottom surface of the holder and configured to support the plate,
A positioning surface for fixing the relative position of the sensor and the optical path of the plate by being abutted against the plate, and
Have,
The positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane.
The holder is an instrument that is arranged on the reference plane so that the optical path coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference plane. 平坦な基準面上の目標位置に光が垂直に照射されることを、器具を用いて視認する方法であって、
前記器具は、
粗面加工された表面と鏡面加工された裏面とを有し、前記光を透過する材料で形成され、プレートにおける位置を判別するためのマーカが付与されるプレートと、
前記基準面に面接触するように構成された平坦な底面と、前記底面の垂直方向に並設された第１ステージ及び第２ステージと、前記底面、前記第１ステージ及び前記第２ステージを貫通するように形成される光路とを有するホルダと、
を備え、
前記第１ステージ及び前記第２ステージそれぞれは、
前記ホルダの前記底面に平行であって前記プレートを支持するように構成される支持面と、
前記プレートが突き当てられることで前記プレートと前記光路との相対位置を固定するための位置決め面と、
を有し、
前記第１ステージの位置決め面と前記第２ステージの位置決め面とは、同一平面上に位置し、
前記方法は、
前記基準面の垂直方向において前記光路が前記目標位置と一致するように前記基準面に前記ホルダの底面を面接触させ、前記基準面上に前記ホルダを配置するステップと、
前記プレートを前記第１ステージの前記支持面に配置するステップと、
前記基準面に前記光を照射し、前記第１ステージに支持された前記プレートにおける前記光のスポットの位置または形状を視認するステップと、
前記プレートを前記第１ステージの前記支持面から取り外し、前記プレートを前記第２ステージの前記支持面に配置するステップと、
前記基準面に前記光を入射し、前記第２ステージに支持された前記プレートにおける前記光のスポットの位置または形状を視認するステップと、
を備える方法。 It is a method of visually recognizing that light is vertically irradiated to a target position on a flat reference surface using an instrument.
The instrument is
A plate having a roughened front surface and a mirrored back surface, formed of the light-transmitting material, and provided with a marker for determining a position on the plate.
It penetrates the flat bottom surface configured to make surface contact with the reference surface, the first stage and the second stage arranged side by side in the vertical direction of the bottom surface, and the bottom surface, the first stage, and the second stage. With a holder having an optical path formed to
Equipped with
Each of the first stage and the second stage
A support surface parallel to the bottom surface of the holder and configured to support the plate,
A positioning surface for fixing the relative position between the plate and the optical path by abutting the plate, and
Have,
The positioning surface of the first stage and the positioning surface of the second stage are located on the same plane.
The method is
A step of bringing the bottom surface of the holder into surface contact with the reference surface so that the optical path coincides with the target position in the direction perpendicular to the reference surface, and arranging the holder on the reference surface.
A step of arranging the plate on the support surface of the first stage, and
A step of irradiating the reference surface with the light and visually recognizing the position or shape of the spot of the light on the plate supported by the first stage.
A step of removing the plate from the support surface of the first stage and placing the plate on the support surface of the second stage.
A step of incident the light on the reference plane and visually recognizing the position or shape of the spot of the light on the plate supported by the second stage.
How to prepare.

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