JP2021193507A - Flow control device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、流量制御装置に関する。 The present invention relates to a flow control device.
従来から、差圧式流量計を備えた流量制御装置がある。差圧式流量計は、オリフィスの上流側及び下流側のそれぞれに圧力センサを備え、オリフィスの上流側の圧力と下流側の圧力との間の圧力差に基づき流量を測定するものである。流量制御装置は、この流量測定値に基づき流量を制御する。 Conventionally, there is a flow control device equipped with a differential pressure type flow meter. The differential pressure type flow meter is provided with pressure sensors on the upstream side and the downstream side of the orifice, respectively, and measures the flow rate based on the pressure difference between the pressure on the upstream side and the pressure on the downstream side of the orifice. The flow rate control device controls the flow rate based on this flow rate measurement value.
例えば、特許文献1には、オリフィスの上流側及び下流側のそれぞれに圧力センサを有する差圧式量計、及び差圧式流量計で測定した流量測定値と、予め定めた目標とする設定流量値との差に基づき流管部の開口面積を制御する流量調整弁を備えた流量制御装置が提案されている。 For example, Patent Document 1 describes a flow rate measurement value measured by a differential pressure type quantimeter and a differential pressure type flow meter having pressure sensors on the upstream side and the downstream side of the orifice, respectively, and a predetermined set target flow rate value. A flow rate control device provided with a flow rate adjusting valve that controls the opening area of the flow pipe portion based on the difference between the two has been proposed.
特許文献1に記載の流量制御装置は、オリフィスの上流側の圧力と下流側の圧力との間の圧力差から流量を算出し、設定流量値に対して測定流量値の差が許容範囲になるように流量調整弁の開度を制御している。流量調整弁は、送流中に常時流体に接触していることから、流量調整弁の加工及び組み立てなどの際に発生した細かい切粉や粉塵、流量調整弁の開閉の際に発生する摩耗粉や潤滑油などが不純物として流体に混入する虞がある。例えば、流体が医療用の薬液、化学薬品などの場合には、このような不純物の混入による流体の汚染は許されない。また、流体が医療用の薬液などの場合には、薬液に接触した流管部は再使用しないことが望ましいが、流管部と制御系を制御ユニットとして分離できる構成にはなっていない。 The flow rate control device described in Patent Document 1 calculates the flow rate from the pressure difference between the pressure on the upstream side and the pressure on the downstream side of the orifice, and the difference in the measured flow rate value with respect to the set flow rate value becomes an allowable range. The opening degree of the flow rate adjusting valve is controlled in this way. Since the flow control valve is in constant contact with the fluid during flow, fine chips and dust generated during processing and assembly of the flow control valve, and wear debris generated when the flow control valve is opened and closed. And lubricating oil may be mixed into the fluid as impurities. For example, when the fluid is a medical liquid, a chemical, or the like, contamination of the fluid due to the inclusion of such impurities is not allowed. Further, when the fluid is a medical liquid or the like, it is desirable not to reuse the flow pipe portion in contact with the chemical liquid, but the structure is such that the flow pipe portion and the control system can be separated as a control unit.
特許文献1の流量制御装置は、オリフィスの開口面積が一定であり、オリフィスの下流側に配設された流量調整弁によって流量を制御している。つまり、流量の制御範囲はオリフィスの開口面積に限定される。例えば、目標とする設定流量値を流量調整弁による流量調整可能範囲を超えて制御したい場合には、オリフィスの開口面積や流量調整弁の規格などを変えなければ実現できない。その結果、設定流量値を変更する場合には、設定流量に対応して流路系全体を交換しなければ実現できないという課題がある。 In the flow rate control device of Patent Document 1, the opening area of the orifice is constant, and the flow rate is controlled by the flow rate adjusting valve arranged on the downstream side of the orifice. That is, the control range of the flow rate is limited to the opening area of the orifice. For example, when it is desired to control the target set flow rate value beyond the flow rate adjustable range by the flow rate adjusting valve, it cannot be realized without changing the opening area of the orifice and the standard of the flow rate adjusting valve. As a result, when changing the set flow rate value, there is a problem that it cannot be realized unless the entire flow path system is replaced in response to the set flow rate.
また、特許文献1に記載の流量制御装置は、流量調整弁によって流量を制御している。流量調整弁は、モータなどのアクチュエータで流路の解放量を制御する。従って、流量調整弁による流路の開閉による場合には、圧力の変化、つまり流量の変化に対する応答性が低いこと、流量制御の分解能が低いことなどから、所望の流量変動幅に制御することは困難である。 Further, the flow rate control device described in Patent Document 1 controls the flow rate by a flow rate adjusting valve. The flow rate adjusting valve controls the amount of release of the flow path by an actuator such as a motor. Therefore, in the case of opening and closing the flow path by the flow rate adjusting valve, it is not possible to control the desired flow rate fluctuation range because the response to the pressure change, that is, the change in the flow rate is low, and the resolution of the flow rate control is low. Have difficulty.
そこで、本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、設定流量値に対する流量変動を抑えて所望の流量変動幅に制御することが可能であり、目標とする設定流量値の大小に容易に対応することができ、制御ユニットを繰り返し使用することが可能であり、かつ、流体を汚染させることなく送流することが可能な流量制御装置を実現しようとするものである。 Therefore, the present invention has been made to solve such a problem, and it is possible to suppress the flow rate fluctuation with respect to the set flow rate value and control it to a desired flow rate fluctuation range, and the target set flow rate value. It is an attempt to realize a flow rate control device that can easily cope with the size of the fluid, can use the control unit repeatedly, and can flow the fluid without contaminating it.
[1]本発明の流量制御装置は、非圧縮性の流体を送流する流管部の流路に配置されるオリフィスと、前記オリフィスより上流側の前記流路内の圧力である一次圧力を測定する圧力センサ、及び前記オリフィスより下流側の前記流路内の圧力である二次圧力の圧力を測定する圧力センサと、前記一次圧力と前記二次圧力との間の圧力差の変化を検出したときに、設定流量値に対応する圧力差を保持するように、前記オリフィスの開口面積を変更するアクチュエータと、を有していることを特徴とする。 [1] The flow control device of the present invention has an orifice arranged in a flow path of a flow tube portion for flowing an incompressible fluid and a primary pressure which is a pressure in the flow path on the upstream side of the orifice. A pressure sensor for measuring, a pressure sensor for measuring the pressure of the secondary pressure which is the pressure in the flow path downstream of the orifice, and a change in the pressure difference between the primary pressure and the secondary pressure are detected. It is characterized by having an actuator that changes the opening area of the orifice so as to maintain a pressure difference corresponding to a set flow rate value.
[2]本発明の流量制御装置においては、前記アクチェータは、電歪素子又は磁歪素子で構成されていることが好ましい。 [2] In the flow rate control device of the present invention, it is preferable that the actuator is composed of an electrostrictive element or a magnetostrictive element.
[3]本発明の流量制御装置においては、前記流管部は、シリコンMEMSチップで形成された下部プレート及び上部プレートを有し、前記下部プレートと前記上部プレートが接合されたオリフィスユニットで構成され、前記下部プレートは、前記アクチュエータが変位することによって前記オリフィスの開口面積を変更する第1変位部、前記流路内の圧力に応じて変位する第2変位部及び第3変位部を有し、前記流路の一部は、前記上部プレートに形成されたオリフィス溝で構成されていることが好ましい。 [3] In the flow control device of the present invention, the flow pipe portion has a lower plate and an upper plate formed of a silicon MEMS chip, and is composed of an orifice unit to which the lower plate and the upper plate are joined. The lower plate has a first displacement portion that changes the opening area of the orifice by displacement of the actuator, a second displacement portion and a third displacement portion that are displaced according to the pressure in the flow path. It is preferable that a part of the flow path is composed of an orifice groove formed in the upper plate.
[4]本発明の流量制御装置においては、前記上部プレートには、前記第1変位部に対向する位置に、前記第1変位部の変位形状に倣う斜面を有する凹部が形成されていることが好ましい。 [4] In the flow control device of the present invention, the upper plate is formed with a recess having a slope that imitates the displacement shape of the first displacement portion at a position facing the first displacement portion. preferable.
[5]本発明の流量制御装置においては、前記オリフィスユニットを着脱自在に装着することが可能な制御ユニットが、前記圧力センサ、前記アクチュエータ、及びこれらを支持するための支持手段によって構成されていることが好ましい。 [5] In the flow rate control device of the present invention, the control unit to which the orifice unit can be detachably attached is composed of the pressure sensor, the actuator, and a support means for supporting them. Is preferable.
[6]本発明の流量制御装置においては、開口面積が異なる流路を有する前記オリフィスユニットが複数種類準備されており、前記制御ユニットには、前記設定流量値に対応した開口面積の前記流路を有する前記オリフィスユニットが装着されることが好ましい。 [6] In the flow control device of the present invention, a plurality of types of orifice units having flow paths having different opening areas are prepared, and the control unit has the flow path having an opening area corresponding to the set flow rate value. It is preferable that the orifice unit having the above is mounted.
本発明の流量制御装置によれば、設定流量値に対する流量変動を抑えて所望の流量変動幅に制御することが可能であり、目標とする設定流量値を実現する仕様に容易に交換することができ、制御ユニットを繰り返し使用することが可能であり、かつ、流体を汚染させることなく送流することが可能となる。 According to the flow rate control device of the present invention, it is possible to suppress the flow rate fluctuation with respect to the set flow rate value and control the flow rate fluctuation range to a desired value, and it is possible to easily replace the specification with a specification that realizes the target set flow rate value. The control unit can be used repeatedly, and the fluid can be sent without contaminating the fluid.
以下、本発明に係る流量制御装置について、図1〜図9を参照しながら説明する。なお、以下に説明する各図は、実際の形状及び構成を簡略化して表す模式図及び説明図である。 Hereinafter, the flow rate control device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9. It should be noted that each of the figures described below is a schematic diagram and an explanatory diagram showing the actual shape and configuration in a simplified manner.
[流量制御装置1の構成]
図1は、流量制御装置1の概略構成を示す概念図である。流量制御装置1は、設定流量値を目標の値として流体を流すよう制御する装置である。設定流量値とは、例えば、流体が医療用の薬剤の場合、医師が処方した流量であって、予め設定された指定流量である。流量制御装置1は、流体を送流する流管部10を有し、流管部10の途中にはオリフィス11が配置されている。図1において、矢印で示す方向が送流方向である。オリフィス11は、オリフィス11の開口面積(流体が流通する部分となるオリフィスにおける開口部の面積)を変えることが可能な可変型オリフィスである。オリフィス11の上流側には圧力センサ12が配設され、下流側には圧力センサ13が配設されている。オリフィス11の近傍には、オリフィス11の開口面積及び断面形状を変更するためのアクチュエータ14が配設される。流量制御装置1は、流量制御装置1の全体を制御するための制御部15を有している。
[Structure of flow rate control device 1]
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a schematic configuration of the flow rate control device 1. The flow rate control device 1 is a device that controls the flow of a fluid with a set flow rate value as a target value. The set flow rate value is, for example, a flow rate prescribed by a doctor when the fluid is a medical drug, and is a preset designated flow rate. The flow rate control device 1 has a
流管部10は、流体の送流方向(図1、図3に矢印で示す)に対して直交する断面の形状が円形又は矩形などの流路16を有している。流管部10は、オリフィス11の上流側及び下流側において流路16の内部を流通する流体の圧力の変動に対応して変位することが可能な変位部10a及び変位部10bを有し、オリフィス11はアクチュエータ14によって変位することが可能な変位部10cを有している。流管部10には、オリフィス11より上流側から一定の圧力で、非圧縮性の流体が送流される。
The
圧力センサ12は、オリフィス11より上流側の流路内圧力(一次圧力P1とする)の変動に対応して変位する変位部10aの変位量を検出し、圧力値に変換する。圧力センサ13は、オリフィス11より下流側の流路内圧力(二次圧力とする)の変動に対応して変位する変位部10bの変位量を検出し、圧力値に変換する。変位量を検出する手段としては、半導体歪ゲージ、FBG光ファイバ式センサなどの接触式変位センサ、或いは、超音波変位センサ、光学式変位センサなどの非接触式変位センサを使用することが可能である。これらのセンサは、流量制御装置1の構造や変位部10a,10bの変位量、要求される圧力測定精度に対応して適宜選択することが可能である。
The
アクチュエータ14は、電歪素子又は磁歪素子で構成される。電歪素子としては、外部から電圧を印加することによって1方向に伸長する圧電素子が好適である。一方、磁歪素子としては、外部から磁界を与えることによって1方向に伸長する素子が好適である。電歪素子及び磁歪素子は、電圧又は磁界を与えることによって、オリフィス11の開口面積を制御する。電歪素子及び磁歪素子は共に動作分解能を0.1μm以下に制御することが可能であり、測定流量の分解能を1μl/minに制御することが可能である。
The
図2は、制御部15の主要構成を示すブロック図である。制御部15は、一次圧力P1及び二次圧力P2それぞれを取り込む一対の圧力検出部20、一次圧力P1と二次圧力P2との間の圧力差ΔPを算出する差圧検出部21、及び送流中における圧力差ΔPの変動を検出する差圧比較部22を有している。また、制御部15は、差圧比較部22の検出結果に基づき、圧力差ΔPが設定流量値に対応する圧力差ΔP0になるようにオリフィス11の開口面積を算出する開口面積算出部23を有し、開口面積算出部23の計算値に基づきアクチュエータ14の変位量を決定しアクチュエータ14を駆動するアクチュエータ制御部24を有している。
FIG. 2 is a block diagram showing a main configuration of the
流体を送流する場合において、オリフィス11の開口面積が既知であって、一次圧力P1と二次圧力P2が分かれば、ベルヌーイの定理によって流量を算出することが可能である。流量制御装置1は、一次圧力P1と二次圧力P2との間の圧力差ΔP及びオリフィス11の開口面積に基づき流量を演算することにより、随時又は定期的に流量を検知することが可能である。圧力検出部20、差圧検出部21及び流量演算部25は、いわゆる差圧式流量計を構成している。オリフィス11が流量に影響を与える要素としては、開口面積が支配的である。しかし、実際の流量は、オリフィス11の断面形状などに影響される。そのことについて、図3を参照して説明する。なお、流量制御装置1は、流量演算部25において算出した測定流量を時刻又は経過時間とともに表示する流量計、累積流量を記録する記録装置を付加する構成とすることが可能である。
When the fluid is sent, if the opening area of the
図3は、アクチュエータ14が流管部10を押圧し、流路16にオリフィス11を形成した状況を概念的に示す説明図である。なお、図3は、オリフィス11の断面形状を模式的に説明するための図である。オリフィスプレートでオリフィスを形成する従来の一般的な構成と異なり、流量制御装置1においては、アクチュエータ14が流管部10を外側から直接押圧し、任意の開口面積を有するオリフィス11を形成する。オリフィス11は、送流方向(送流方向に直交する方向も含めて)になだらかに湾曲しつつ形成される。
FIG. 3 is an explanatory diagram conceptually showing a situation in which the
流量制御装置1における実際の流量は、オリフィス11の開口面積、図3においてLで示すオリフィス11の変位領域(流路16の変形領域)を含む三次元の断面形状と、動粘性などの流体の物性が影響した流量である。アクチュエータ14の押し量によってオリフィス11の開口面積が変化し、オリフィス11の断面形状も変化する。従って、オリフィス11の開口面積を直接測定したり、算出したりすることは困難である。そこで設定流量値で送流したときの一次圧力P1と二次圧力P2との間の圧力差ΔPに基づき設定流量値で送流しているときの開口面積を推定し、この開口面積を実現するアクチュエータ14の変位量を設定する。このようにすることによって、設定流量値で送流するための、基礎データとしての、圧力差ΔP、オリフィス11の開口面積、及びアクチュエータ14の変位量などを制御パラメータとして設定する。なお、以降の説明において記載するオリフィス11の開口面積は、オリフィス11の断面形状及び流体の物性の影響を含めた実質的な開口面積を表している。次いで、流量制御の方法について図4を参照して説明する。
The actual flow rate in the flow rate control device 1 is the opening area of the
[流量制御方法]
図4は、流量制御装置1を使用し、設定流量値に対して許容範囲内に流量を制御する方法を示すフローチャートである。流量制御装置1の稼働開始に先立ち、設定流量値で流体を送流することを可能にする制御パラメータを設定しておく。すなわち、設定流量値で送流するときの圧力差ΔP0、オリフィス11の実質的な開口面積、この開口面積を決定するアクチュエータ14の変位量(印加する電圧)を設定する。流量制御装置1は、一次圧力P1と二次圧力P2との間の圧力差ΔPの変化を検出した場合に、検出した圧力差ΔPを圧力差ΔP0に近づけるようにアクチュエータ14によってオリフィス11の開口面積を変化させ、流量変動を一定範囲内に抑えて送流する。
[Flow control method]
FIG. 4 is a flowchart showing a method of controlling the flow rate within an allowable range with respect to the set flow rate value by using the flow rate control device 1. Prior to the start of operation of the flow rate control device 1, a control parameter that enables the fluid to be sent at the set flow rate value is set. That is, the pressure difference ΔP0 when flowing at the set flow rate value, the substantial opening area of the
複数の設定流量値(例えば、1μl/min、2μl/min・・・10μl/min)に対応するためには、設定流量値毎に対応する制御パラメータを設定する。この制御パラメータには、オリフィス11の実質的な開口面積、圧力差ΔP0、アクチュエータ14の変位量、及びアクチュエータ14の変位量を決定するための電圧などが含まれる。図4に示すフローチャートに沿って流量制御方法について説明する。
In order to correspond to a plurality of set flow rate values (for example, 1 μl / min, 2 μl / min ... 10 μl / min), the corresponding control parameters are set for each set flow rate value. This control parameter includes a substantial opening area of the
まず、目標となる設定流量値を設定する(ステップS1)。具体的には、設定流量値に対応するオリフィス11の開口面積を有する流量制御装置1を選択する。制御装置1は、アクチュエータ14による開口面積の制御可能な範囲の設定流量値毎に準備されており、設定流量値毎に対応する制御パラメータが設定されているものとする。送流を開始すると、圧力検出部20は、一次圧力P1及び二次圧力P2を電気信号として取り込む(ステップS2)。次いで、差圧検出部21は、一次圧力P1と二次圧力P2とを比較し圧力差ΔPを算出する(ステップS3)。
First, a target set flow rate value is set (step S1). Specifically, the flow rate control device 1 having the opening area of the
次いで、送流中の圧力差ΔPの変化を検出する(ステップS4)。圧力差ΔPの変化がない場合、又は、圧力差ΔPに変化があったとしても、検出した圧力差ΔPと設定流量値に対応する圧力差ΔP0との差が許容可能な範囲であれば(NO)、その時の実際の流量が設定流量値と実質的に同等であると判断できることから、そのまま送流を継続する。 Next, the change in the pressure difference ΔP during the flow is detected (step S4). If there is no change in the pressure difference ΔP, or even if there is a change in the pressure difference ΔP, the difference between the detected pressure difference ΔP and the pressure difference ΔP0 corresponding to the set flow rate value is within an acceptable range (NO). ), Since it can be judged that the actual flow rate at that time is substantially the same as the set flow rate value, the flow rate is continued as it is.
圧力差ΔPの変化があり、圧力差ΔPと設定流量値に対応する圧力差ΔP0との差が許容可能な範囲を超えている場合には(YES)、実際の流量が設定流量値との差に許容できない差があると判断し、アクチュエータ14を変位させ、設定流量値に対応する圧力差ΔP0に近づけるようにオリフィス11の開口面積を変更し(ステップS5)、ステップS2から以降の工程を繰り返す。ここでいうオリフィス11の開口面積は、前述したようにオリフィス11の断面形状及び流体物性を考慮した実質的な開口面積である。なお、流量は、圧力差ΔPの平方根(流速)とオリフィスの開口面積の積で計算することができる。ここでいう流量は体積流量及び質量流量のどちらにも対応可能である。
If there is a change in the pressure difference ΔP and the difference between the pressure difference ΔP and the pressure difference ΔP0 corresponding to the set flow rate value exceeds the allowable range (YES), the actual flow rate is the difference from the set flow rate value. The
設定流量値で送流する際の制御パラメータが既知であることから、設定流量値で送流する際の圧力差ΔP0と、実際に送流した時の圧力差ΔPを比較することによって流量値の変化を算出することができる。逆に、流量値及び圧力差ΔPに基づきオリフィス11の実質的な開口面積を算出することができる。そこで、オリフィス11の適切な開口面積となるように変位させる電圧又は磁界をアクチュエータ14に与える。なお、アクチュエータ14は、圧力差ΔPが圧力差ΔP0から外れたことが検出されるまで初期の変位状態を維持している。
Since the control parameters for sending at the set flow rate value are known, the pressure difference ΔP0 for sending at the set flow rate value and the pressure difference ΔP for actually sending at the set flow rate value are compared to obtain the flow rate value. The change can be calculated. On the contrary, the substantial opening area of the
[流量制御装置1の具体例]
図5は、流量制御装置1の具体例の1例を示す断面図である。図5は、アクチュエータ14が流路16を開放している状態を表している。なお、流量制御装置1が送流可能な流体としては、非圧縮性の流体であれば特に限定されない。但し、以降の説明においては、流量制御装置1を医療用の薬液を送流するための装置として説明する。流量制御装置1は、流管部としてのオリフィスユニット30及び制御ユニット31を有している。また、流量制御装置1は、オリフィスユニット30と制御ユニット31とを着脱自在に固定する固定手段としてのホルダー32を有している。
[Specific example of flow rate control device 1]
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a specific example of the flow rate control device 1. FIG. 5 shows a state in which the
図5に示すように、オリフィスユニット30は、下部プレート33と上部プレート34とから構成されている。下部プレート33と上部プレート34とは互いに接合されている。流路16及びオリフィス11は、下部プレート33及び上部プレート34の接合面に形成されている。なお、オリフィスユニット30の詳しい構成については図6を参照して説明する。制御ユニット31は、圧力センサ12,13、アクチュエータ14、制御部15及びこれらを支持する支持手段35で構成されている。圧力センサ12,13、アクチュエータ14、制御部15は、回路基板36で電気的に接続されると共に構造的に固定されている。支持手段35は、ベースプレート37及び押えプレート38で構成されている。なお、支持手段35は、ベースプレート37のみで構成することも可能である。
As shown in FIG. 5, the
ホルダー32には、薬液をオリフィスユニット30に供給する流入ポート39、及びオリフィスユニット30から薬液を送り出す流出ポート40を有している。流入ポート39及び流出ポート40は、流路16を経由して連通している。図示は省略するが、流入ポート39には、点滴装置又は輸液ポンプが接続され、流出ポート40は注射針などを介して生体の静脈などに接続される。流入ポート39からは、薬液が流路16に対して一定の圧力で供給される。
The
ホルダー32は、オリフィスユニット30及び制御ユニット31の対向する側面に沿って上部から下部まで延在された支持板部41,42を有している。支持板部41,42の先端部には内側を向く突起部41a,42aが設けられており、突起部41a,42aをベースプレート37に係着させることによって、流入ポート39及び流出ポート40はオリフィスユニット30に密着し流路16に連通する。一方、オリフィスユニット30は、制御ユニット31に密着し、圧力センサ12,13は流路16の圧力を検出することが可能状態となり、アクチュエータ14はオリフィス11の開口面積を制御することが可能な状態となる。突起部41a,42aとベースプレート37との間の係合を解除すれば、オリフィスユニット30と制御ユニット31を分解することができる。
The
以上説明した構造によって、流量制御装置1は、自在に組み立てたり、分解したりすることが可能となる。薬液の設定流量値は、薬液の種類、粘性、患者の対格差などに応じて適宜設定される。設定流量値の大小によっては、これまで使用していた仕様のオリフィスユニットでは制御できない場合が生ずることがある。そのような場合にも、設定流量値に対応する流路16の開口面積を有するオリフィスユニット30を適宜選択し、ホルダー32によって制御ユニット31に装着すれば、所望の設定流量値に対応可能な流量制御装置1とすることができる。また、薬液に接触したオリフィスユニット30及びホルダー32は使用後に分別廃却する。圧力センサ12,13、アクチュエータ14及び制御部15を有する制御ユニット31は、繰り返し使用することが可能であり、経済的な負担を抑えることや流量制御装置全体を廃却することによる環境負荷の低減を図ることが可能となる。
With the structure described above, the flow rate control device 1 can be freely assembled and disassembled. The set flow rate value of the chemical solution is appropriately set according to the type of the chemical solution, the viscosity, the patient's disparity, and the like. Depending on the magnitude of the set flow rate value, it may not be possible to control with the orifice unit of the specifications used so far. Even in such a case, if the
なお、図5に示す流量制御装置1は、ホルダー32を用いた係着構造によって組み立てる構成としているが、これは1例であってホルダーなどによる係着構造に限定されるものではない。例えば、ねじ固定構造などにすることが可能であり、オリフィスユニット30と制御ユニット31との組み立てや分解が容易であれば、これらの組み立て構造に限定されない。また、流量制御装置1は、ホルダー32を用いない構造も可能である。例えば、オリフィスユニット30に流入ポート39及び流出ポート40を直接取り付け、オリフィスユニット30及び制御ユニット31の支持手段35に、ねじなどの固定手段を使用することが可能なスペースを設けることによって、着脱自在な構成とすることが可能である。
The flow rate control device 1 shown in FIG. 5 is configured to be assembled by an anchoring structure using a
[オリフィスユニット30の構成]
図6は、オリフィスユニット30の構成例を示す断面図である。図7は、下部プレート33の裏面33a側を見たときの平面図、図8は、上部プレート34を示し、図8(a)は接合面34a側を見たときの平面図、図8(b)は図8(a)のA−A切断線で切断した断面図であり、一部を拡大して表す図である。図6〜図8を参照してオリフィスユニット30の構成を説明する。流管部としてのオリフィスユニット30は、下部プレート33と上部プレート34とから構成されている。オリフィスユニット30は、フォトリソグラフィ技術を用いてシリコン基板を加工した所謂シリコンMEMSチップで形成される下部プレート33及び上部プレート34で構成されている。下部プレート33及び上部プレート34は、互いに接合面で密着接合されている。
[Structure of Orifice Unit 30]
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a configuration example of the
下部プレート33には、裏面33aの中央部、裏面33aの右側及び左側のそれぞれに円盤状の薄肉の第1変位部45、第2変位部46及び第3変位部47が形成されている(図6及び図7参照)。図6において矢印で示す方向は、薬液を送流する方向を表している。第1変位部45はアクチュエータ14によって変位可能なダイアフラムであり、以降ダイアフラム45と記載する。第2変位部46は一次圧力P1によって変位可能なダイアフラムであり、以降ダイアフラム46と記載する。第3変位部47は圧力P2によって変位可能なダイアフラムであり、以降ダイアフラム47と記載する。なお、ダイアフラム45,46,47の周囲は剛体で形成されている。
The
図6に示すように、ダイアフラム45は2段構造を有し、最も薄い部分の中央に裏面33a側に突出する円柱形状の突起部48を有している。突起部48の先端面はアクチュエータ14に当接する。ダイアフラム45を2段構造にすることによって、アクチュエータ14によって押上げられたときに、ダイアフラム45をドーム型に変位させることが可能となり、流体の送流圧力によって変形しない形状となる。ダイアフラム46の中央には、裏面33a側に突出する円柱形状の突起部49を有している。突起部49の先端面は、圧力センサ12の変位検出面となる。また、ダイアフラム47の中央には、裏面33a側に突出する円柱形状の突起部50を有している。突起部50の先端面は、圧力センサ13の変位検出面となる。下部プレート33の上部プレート34との接合面33bは、平滑な平坦面である。圧力センサ12,13は、前述した接触式変位センサ又は非接触変位センサを使用する。
As shown in FIG. 6, the
上部プレート34の接合面34a側には、オリフィス形成部の右側及び左側のそれぞれに円柱を抜いた形状の凹部51,52が形成されている(図6及び図8参照)。凹部51の中央には、孔53が開口されている。孔53は、流入ポート39(図5参照)に連通する孔である。凹部51は下部プレート33のダイアフラム46の配置位置に重なるように配置されており、凹部52は下部プレート33のダイアフラム47の配置位置に重なるように配置されている。凹部52の中央には、孔54が開口されている。孔54は、流出ポート40(図5参照)に連通する孔である。
On the
凹部51及び凹部52は、オリフィス溝55によって連通されている。オリフィス溝55は、上部プレート34を下部プレート33に接合した状態で流路16を構成する。オリフィス溝55(流路16)は、上部プレート34を下部プレート33に接合した状態、及びアクチュエータ14が初期状態(電圧を印加しないとき)のときにオリフィス11を構成する。凹部51と凹部52との中間位置には、上部プレート34を下部プレート33に接合したときにオリフィス11の開口面積(断面形状)を変更することを可能にする変位可能領域17が構成される(図8(b)参照)。変位可能領域17において、上部プレート34には、ダイアフラム45に対して対向する位置に、オリフィス溝55を横切るように、ダイアフラム45が変位したときのダイアフラム45の形状に倣う斜面56を有する凹部57が形成されている、この斜面56と下部プレート33のダイアフラム45によって実質的なオリフィス11が構成される。次に、オリフィス11の開口面積を変更する作用について図9を参照して説明する。
The
図9は、オリフィス11の開口面積を変更する状況を示す断面図であり、図6のB−B切断線で切断した断面の一部である。図9に示すように、アクチュエータ14が初期位置にあるときには、ダイアフラム45は仮想線45aで示す位置にあり、オリフィス溝55は解放状態である。アクチュエータ14を変位させると、ダイアフラム45は上部プレート34側に押し上げられ、ダイアフラム45は45bに示す位置に変位し、オリフィス11の実質的な開口面積を縮小する。このことによって、流量を減少させることが可能となる。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a situation in which the opening area of the
以上説明した流量制御装置1は、非圧縮性の流体を送流する流管部10の流路16に配置されるオリフィス11と、オリフィス11より上流側の流路16内の圧力である一次圧力P1を測定する圧力センサ12、及びオリフィス11より下流側の流路16内の圧力である二次圧力P2を測定する圧力センサ13と、一次圧力P1と二次圧力P2との間の圧力差ΔPの変化を検出したときに、設定流量値に対応する圧力差ΔP0を保持するように、オリフィス11の開口面積を変更するアクチュエータ14を有している。
In the flow control device 1 described above, the
従来技術の流量制御装置は、オリフィスの開口面積を一定とし、流量調整弁によって流量を制御する構成である。このような構成では、流量調整弁の加工及び組み立てなどの際に発生した細かい切粉や粉塵、流量調整弁の開閉の際に発生する摩耗粉や潤滑油などが不純物として流体に混入し、流体を汚染させる虞がある。しかし、本発明の流量制御装置1は、流路16を変形させてオリフィス11の開口面積を変更し流量を制御する装置であり、流量制御装置1の内部において、流体は流路16の内壁にのみ接触することになるため、流体を汚染させることなく送流することが可能となる。
The flow control device of the prior art has a configuration in which the opening area of the orifice is constant and the flow rate is controlled by a flow rate adjusting valve. In such a configuration, fine chips and dust generated when processing and assembling the flow control valve, wear debris and lubricating oil generated when opening and closing the flow control valve are mixed into the fluid as impurities, and the fluid is mixed. May contaminate. However, the flow rate control device 1 of the present invention is a device that controls the flow rate by deforming the
また、一次圧力P1と二次圧力P2との間の圧力差ΔPに変化があったときに、流量の変動があったと判断し、圧力差ΔPが予め設定されている設定流量値に対応する圧力差ΔP0になるようにアクチュエータ14の変位量を制御し、オリフィス11の実質的な開口面積を変更することによって、設定流量値に対する流量変動を抑え、所望の流量変動幅に制御することが可能となる。目標とする設定流量値を切り替えるためには、設定流量値の大小に対応する開口面積を有する流管部10を選択することによって、容易に設定流量値の大小に対応することが可能となる。また、アクチュエータ14は、流管部10の外側からオリフィス11を形成する構成であり、流体は流管部10のみに接触することになるため、流体が汚染されることがない。また、流体が接触する流管部10のみを使い捨てとし、圧力センサ12,13及びアクチュエータ14などは、繰り返し使用することが可能となる。
Further, when the pressure difference ΔP between the primary pressure P1 and the secondary pressure P2 changes, it is determined that the flow rate has fluctuated, and the pressure difference ΔP corresponds to the preset set flow rate value. By controlling the displacement amount of the
以上説明したように、流量制御装置1を用いることによって、設定流量値に対する流量変動を抑えて所望の流量変動幅に制御することが可能であり、目標とする設定流量値の大小に容易に対応することができ、圧力センサ12,13及びアクチュエータ14などは繰り返し使用することが可能であり、かつ、流体を汚染させることなく送流することが可能となる。
As described above, by using the flow rate control device 1, it is possible to suppress the flow rate fluctuation with respect to the set flow rate value and control it to the desired flow rate fluctuation range, and it is possible to easily correspond to the magnitude of the target set flow rate value. The
流量制御装置1においては、アクチュエータ14は、電歪素子又は磁歪素子で構成されている。電歪素子及び磁歪素子は、電圧又は磁界を与えることによって、一方方向に伸長し、オリフィス11の開口面積を制御する。電歪素子及び磁歪素子は共に動作分解能を0.1μm以下に制御するが可能であり、実際の流量を1μl/min単位で制御することが可能となり、設定流量値に対する流量変動を抑えて所望の流量変動幅に制御することが可能となる。
In the flow rate control device 1, the
また、流管部10は、シリコンMEMSチップで形成された下部プレート33及び上部プレート34を有し、下部プレート33と上部プレート34が接合されたオリフィスユニット30で構成され、下部プレート33は、アクチュエータ14が変位することによってオリフィス11の開口面積を変更する第1変位部であるダイアフラム45、流路16内の圧力に応じて変位する第2変位部であるダイアフラム45及び第3変位部であるダイアフラム47を有し、流路16の一部は、上部プレート34に形成されたオリフィス溝55で構成されている。
Further, the
下部プレート33及び上部プレート34は、半導体製造プロセスと同じ厳しいクリーン度の環境下でフォトリソグラフィ技術を用いてシリコン基板を加工した所謂シリコンMEMSチップで形成される。従って、オリフィスユニットからは金属加工などに伴う切粉や粉塵、流量調整弁の開閉の際に発生する摩耗粉や潤滑油などが不純物として流体に混入することがなく、流体(薬液など)を汚染させることなく送流することが可能となる。また、フォトリソグラフィ技術を用いることによって、ダイアフラム45,46、47を任意の厚みや形状を高精度に形成することが可能であり、シリコンは耐薬性に優れているため、薬液などによって変質する虞がない。また、フォトリソグラフィ技術を用いることによって、下部プレート33及び上部プレート34を、機械加工などで形成うるよりも低コストで製造することができる。
The
また、上部プレート34には、ダイアフラム45に対向する位置に、ダイアフラム45の変位形状に倣う斜面56を有する凹部57が形成されている。この斜面56及びオリフィス溝55を含む凹部57と、ダイアフラム45とによって実質的なオリフィス11が構成される。ダイアフラム45はドーム形状に変位し、上部プレート34側もドーム形状に倣った形状の凹部57を有している。そのことによって、オリフィス11の開口面積を縮小していっても流体抵抗の極端な増加を抑えることが可能となる。
Further, the
流量制御装置1は、オリフィスユニット30を着脱自在に装着することが可能な制御ユニットが、圧力センサ12,13、アクチュエータ14、及びこれらを支持するための支持手段35によって構成されている。
In the flow rate control device 1, the control unit to which the
このように構成することによって、オリフィスユニット30と制御ユニット31とは、容易に組み立てたり、分解したりすることが可能となる。従って、薬液が流れたオリフィスユニット30を廃却(使い捨て)とし、圧力センサ12,13、アクチュエータ14及び制御部15などを含むオリフィスユニットより高価な制御ユニット31は繰り返し使用することが可能となる。そのことによって、経済的な負担を抑えることや流量制御装置1全体を廃却することによる環境負荷の低減を図ることが可能となる。
With this configuration, the
また、流量制御装置1においては、開口面積が異なる流路16を有するオリフィスユニット30が複数種類準備されており、制御ユニット31には、設定流量値に対応した開口面積の流路16を有するオリフィスユニット30が装着される。
Further, in the flow rate control device 1, a plurality of types of
このような構成にすることによって、設定流量値を変更する場合に、流量制御装置1を設定流量値に対応して複数種類準備する必要はなく、流路16の開口面積が異なるオリフィスユニット30を複数種類準備しておき、設定流量値に対応するオリフィスユニット30を選択することによって、設定流量値の大小に容易に対応することが可能となる。つまり、設定流量値の大小に対応して流量制御装置1全体を変更することなく、オリフィスユニット30のみを適宜変更すればよい。
With such a configuration, when changing the set flow rate value, it is not necessary to prepare a plurality of types of the flow rate control device 1 corresponding to the set flow rate value, and the
1…流量制御装置、10…流管部、10a,10b,10c…変位部、11…オリフィス、12、13…圧力センサ、14…アクチュエータ、15…制御部、16…流路、17…変位可能領域、20…圧力検出部、21…差圧検出部、22…差圧比較部、23…開口面積算出部、24…アクチュエータ制御部、25…流量演算部、30…オリフィスユニット、31…制御ユニット、32…ホルダー、33…下部プレート、33a…裏面、33b…接合面、34…上部プレート、34a…接合面、35…支持手段、37…ベースプレート、38…押えプレート、39…流入ポート、40…流出ポート、45…ダイアフラム(第1変位部)、46…ダイアフラム(第2変位部)、47…ダイアフラム(第3変位部)、48,49,50…突起部、55…オリフィス溝、56…斜面、57…凹部、P1…一次圧力、P2…二次圧力、ΔP…圧力差、ΔP0…設定流量値に対応する圧力差 1 ... Flow control device, 10 ... Flow pipe section, 10a, 10b, 10c ... Displacement section, 11 ... Orifice, 12, 13 ... Pressure sensor, 14 ... Actuator, 15 ... Control section, 16 ... Flow path, 17 ... Displaceable Region, 20 ... Pressure detection unit, 21 ... Differential pressure detection unit, 22 ... Differential pressure comparison unit, 23 ... Opening area calculation unit, 24 ... Actuator control unit, 25 ... Flow calculation unit, 30 ... Orifice unit, 31 ... Control unit , 32 ... holder, 33 ... lower plate, 33a ... back surface, 33b ... joint surface, 34 ... upper plate, 34a ... joint surface, 35 ... support means, 37 ... base plate, 38 ... presser plate, 39 ... inflow port, 40 ... Outflow port, 45 ... diaphragm (first displacement part), 46 ... diaphragm (second displacement part), 47 ... diaphragm (third displacement part), 48, 49, 50 ... protrusion, 55 ... orifice groove, 56 ... slope , 57 ... concave, P1 ... primary pressure, P2 ... secondary pressure, ΔP ... pressure difference, ΔP0 ... pressure difference corresponding to the set flow rate value
Claims (6)
前記オリフィスより上流側の前記流路内の圧力である一次圧力を測定する圧力センサ、及び前記オリフィスより下流側の前記流路内の圧力である二次圧力の圧力を測定する圧力センサと、
前記一次圧力と前記二次圧力との間の圧力差の変化を検出したときに、設定流量値に対応する圧力差を保持するように、前記オリフィスの開口面積を変更するアクチュエータと、
を有している、
ことを特徴とする流量制御装置。 An orifice placed in the flow path of the flow pipe that sends incompressible fluid,
A pressure sensor that measures the primary pressure, which is the pressure in the flow path upstream of the orifice, and a pressure sensor that measures the pressure of the secondary pressure, which is the pressure in the flow path downstream of the orifice.
An actuator that changes the opening area of the orifice so as to maintain the pressure difference corresponding to the set flow rate value when the change in the pressure difference between the primary pressure and the secondary pressure is detected.
have,
A flow control device characterized by this.
前記アクチェータは、電歪素子又は磁歪素子で構成されている、
ことを特徴とする流量制御装置。 In the flow rate control device according to claim 1,
The actuator is composed of an electrostrictive element or a magnetostrictive element.
A flow control device characterized by this.
前記流管部は、シリコンMEMSチップで形成された下部プレート及び上部プレートを有し、前記下部プレートと前記上部プレートが接合されたオリフィスユニットで構成され、
前記下部プレートは、前記アクチュエータが変位することによって前記オリフィスの開口面積を変更する第1変位部、前記流路内の圧力に応じて変位する第2変位部及び第3変位部を有し、
前記流路の一部は、前記上部プレートに形成されたオリフィス溝で構成されている、
ことを特徴とする流量制御装置。 In the flow rate control device according to claim 1 or 2.
The flow tube portion has a lower plate and an upper plate formed of a silicon MEMS chip, and is composed of an orifice unit to which the lower plate and the upper plate are joined.
The lower plate has a first displacement portion that changes the opening area of the orifice by displacement of the actuator, a second displacement portion and a third displacement portion that are displaced according to the pressure in the flow path.
A part of the flow path is composed of an orifice groove formed in the upper plate.
A flow control device characterized by this.
前記上部プレートには、前記第1変位部に対向する位置に、前記第1変位部の変位形状に倣う斜面を有する凹部が形成されている、
ことを特徴とする流量制御装置。 In the flow rate control device according to claim 3,
The upper plate is formed with a recess having a slope that imitates the displacement shape of the first displacement portion at a position facing the first displacement portion.
A flow control device characterized by this.
前記オリフィスユニットを着脱自在に装着することが可能な制御ユニットが、前記圧力センサ、前記アクチュエータ、及びこれらを支持するための支持手段によって構成されている、
ことを特徴とする流量制御装置。 The flow rate control device according to any one of claims 1 to 4.
The control unit to which the orifice unit can be detachably attached is composed of the pressure sensor, the actuator, and a support means for supporting them.
A flow control device characterized by this.
開口面積が異なる流路を有する前記オリフィスユニットが複数種類準備されており、
前記制御ユニットには、前記設定流量値に対応した開口面積の前記流路を有する前記オリフィスユニットが装着される、
ことを特徴とする流量制御装置。 The flow rate control device according to any one of claims 1 to 5.
A plurality of types of the orifice units having flow paths having different opening areas are prepared.
The control unit is equipped with the orifice unit having the flow path having an opening area corresponding to the set flow rate value.
A flow control device characterized by this.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020099498A JP2021193507A (en) | 2020-06-08 | 2020-06-08 | Flow control device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020099498A JP2021193507A (en) | 2020-06-08 | 2020-06-08 | Flow control device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
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Country | Link |
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2020
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