JP2021173555A - Automatic analyzer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、自動分析装置に関する。 Embodiments of the present invention relate to an automatic analyzer.
生化学検査に用いられる自動分析装置では、複数の反応セルが用意されており、この反応セルの中で被検試料と試薬を撹拌し、反応液の色変化を測定する比色測定法が用いられている。反応セルは反応ディスクに円周上に載置され、分注位置から、撹拌位置、測光位置へ順番に移動するが、反応セルが載置されている反応ディスクの歪みや、取り付け部分の平行度によって、反応セルの高さにばらつきが発生する可能性がある。 In the automatic analyzer used for biochemical tests, multiple reaction cells are prepared, and a colorimetric measurement method is used to measure the color change of the reaction solution by stirring the test sample and reagents in these reaction cells. Has been done. The reaction cell is placed on the reaction disk on the circumference and moves in order from the dispensing position to the stirring position and the photometric position, but the distortion of the reaction disk on which the reaction cell is placed and the parallelism of the mounting part This can cause variations in the height of the reaction cells.
反応セルの高さにばらつきが生じると、撹拌位置における反応セルの高さにばらつきが発生してしまう。しかしながら、撹拌ユニットの撹拌位置は一定のため、反応セルによっては撹拌位置が高すぎて飛び散りが発生したり、うまく撹拌できずに測定データに悪影響を及ぼしたりする可能性がある。 If the height of the reaction cell varies, the height of the reaction cell at the stirring position varies. However, since the stirring position of the stirring unit is constant, the stirring position may be too high depending on the reaction cell to cause scattering, or the stirring may not be performed well and the measurement data may be adversely affected.
また、近年では、生化学検査のコストダウンを図るべく、少量の被検試料で精度よく測定を行うことが求められており、撹拌精度の向上が望まれている。このことは、撹拌ユニットのみならず、分注プローブについても同様に当てはまることである。 Further, in recent years, in order to reduce the cost of biochemical inspection, it has been required to perform accurate measurement with a small amount of a test sample, and improvement of stirring accuracy is desired. This applies not only to the stirring unit, but also to the dispensing probe.
本実施形態の目的は、生化学検査項目の測定精度の向上を図った自動分析装置を提供することにある。 An object of the present embodiment is to provide an automatic analyzer for improving the measurement accuracy of biochemical test items.
本実施形態に係る自動分析装置は、複数の反応セルを保持する保持部と、検体又は試薬を吸引する分注プローブと、前記分注プローブの先端が物理的に前記複数の反応セルの底面に接触したことを検出する接触センサにより、前記複数の反応セルの底面の位置を検出する位置検出手段と、前記反応セルの底面の位置を記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶されている前記反応セルの底面の位置に基づいて、撹拌手段を制御する撹拌制御手段と、を備える。 In the automatic analyzer according to the present embodiment, a holding unit for holding a plurality of reaction cells, a dispensing probe for sucking a sample or a reagent, and a tip of the dispensing probe are physically placed on the bottom surface of the plurality of reaction cells. A position detecting means for detecting the positions of the bottom surfaces of the plurality of reaction cells by a contact sensor for detecting contact, a storage means for storing the positions of the bottom surfaces of the reaction cells, and the storage means stored in the storage means. A stirring control means for controlling the stirring means based on the position of the bottom surface of the reaction cell is provided.
以下、図面を参照しながら、本実施形態に係る自動分析装置を説明する。なお、以下の説明において、略同一の機能及び構成を有する構成要素については、同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行うこととする。 Hereinafter, the automatic analyzer according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. In the following description, components having substantially the same function and configuration are designated by the same reference numerals, and duplicate explanations will be given only when necessary.
〔第１実施形態〕
（自動分析装置）
図１は、本実施形態に係る自動分析装置１の機能構成の例を示すブロック図である。図１に示される自動分析装置１は、例えば、分析機構２と、解析回路３と、駆動機構４と、入力インターフェース５と、出力インターフェース６と、通信インターフェース７と、記憶回路８と、制御回路９とを備えて構成されている。
[First Embodiment]
(Automatic analyzer)
FIG. 1 is a block diagram showing an example of a functional configuration of the
自動分析装置１は、ラテックス凝集法を用いて試料等の濃度を測定する装置であり、試薬に添加する不溶性の担体としては、各種の担体粒子が利用可能である。担体粒子としては、例えば、ラテックス粒子、ポリスチレン、ポリスチレンラテックス、シリカ粒子等を用いることができる。
The
分析機構２は、標準試料、又は、検体である被検試料等の試料に、この試料に設定される各検査項目で用いられる試薬を添加する。分析機構２は、試料に試薬を添加して得られる反応液を測定し、例えば、標準データ、及び、被検データを生成する。本実施形態においては、標準データは、含まれる検出対象の濃度が既知の標準試料についての吸光度の測定データを表す。また、被検データは、検体である被検試料についての吸光度の測定データを表す。
The
解析回路３は、分析機構２により生成される標準データ及び被検データを解析し、検量データ及び分析データ等を生成するプロセッサである。検量データは、例えば、標準データに基づいて生成された検量線に関する情報を含んでいる。また、分析データは、被検データを検量データに基づいて分析することで得られる、例えば、被検試料に含まれる検出対象の濃度に関する情報を含んでいる。
The
解析回路３は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行し、この動作プログラムに対応する機能を実現することで、検量データ及び分析データ等を生成する。例えば、解析回路３は、１）吸光度が既知で濃度が０の標準試料と、濃度が既知である複数の標準試料とについて得られた標準データと、２）これらの標準試料について予め設定された濃度と、３）予め設定された測光タイミング等に基づき、検量線を生成し、この検量線に関する情報を含む検量データを算出する。また、解析回路３は、被検データと、この被検データに対応する検査項目の検量線を含む検量データと、予め設定された測光タイミング等に基づき、分析データを生成する。解析回路３は生成した検量データ及び分析データ等を制御回路９へ出力する。
The
駆動機構４は、制御回路９の制御に従い、分析機構２を駆動させる。駆動機構４は、例えば、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。本実施形態においては、特に、駆動機構４は、サンプル分注プローブ駆動機構４１と、第１試薬分注プローブ駆動機構４２と、第２試薬分注プローブ駆動機構４３と、第１撹拌ユニット駆動機構４４と、第２撹拌ユニット駆動機構４５とを備えている。
The
入力インターフェース５は、例えば、操作者から又は病院内ネットワークＮＷを介して、測定を依頼された試料に係る各検査項目の分析パラメータ等の設定を受け付ける。入力インターフェース５は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インターフェース５は、制御回路９に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路９へ出力する。なお、本実施形態においては、入力インターフェース５は、マウス、及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置１とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路９へ出力する電気信号の処理回路も入力インターフェース５の例に含まれる。
The
出力インターフェース６は、制御回路９に接続され、制御回路９から供給される信号を出力する。出力インターフェース６は、例えば、表示回路、及び印刷回路等により実現される。表示回路には、例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。なお、本実施形態においては、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路も表示回路に含まれる。印刷回路は、例えば、プリンタ等を含む。なお、本実施形態においては、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路も印刷回路に含まれる。
The output interface 6 is connected to the
通信インターフェース７は、例えば、病院内ネットワークＮＷに接続されており、自動分析装置１を病院内ネットワークＮＷに接続する。通信インターフェース７は、病院内ネットワークＮＷを介してＨＩＳ（Hospital Information System）とデータ通信を行う。なお、通信インターフェース７は、病院内ネットワークＮＷと接続する検査部門システム（Laboratory Information System:ＬＩＳ）を介してＨＩＳとデータ通信を行っても構わない。
The communication interface 7 is connected to, for example, the hospital network NW, and connects the
記憶回路８は、磁気的、若しくは、光学的記録媒体、又は、半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記録媒体等により構成されている。なお、記憶回路８は、必ずしも単一の記憶装置により実現される必要は無い。例えば、記憶回路８は、複数の記憶装置により実現することもできる。 The storage circuit 8 is composed of a magnetic or optical recording medium, a recording medium such as a semiconductor memory, or the like that can be read by a processor. The storage circuit 8 does not necessarily have to be realized by a single storage device. For example, the storage circuit 8 can be realized by a plurality of storage devices.
また、記憶回路８は、解析回路３で実行される動作プログラム、及び、制御回路９で実行される動作プログラムを記憶している。記憶回路８は、分析機構２内に保持されている試薬に関する検量線に関する情報を記憶する。分析機構２で使用される試薬に関する検量線は、自動分析装置１にて生成され、検量データとして、記憶回路８に記憶される。また、記憶回路８に記憶される検量データには、例えば、試薬について予め設定された測光タイミングに関するデータも、検査項目毎に含まれている。
Further, the storage circuit 8 stores an operation program executed by the
制御回路９は、自動分析装置１の中枢として機能するプロセッサである。制御回路９は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行することで、この動作プログラムに対応する機能を実現する。なお、制御回路９は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えていてもよい。
The
図２は、図１に示す分析機構２の構成の一例を示す模式図である。この図２に示すように、本実施形態に係る自動分析装置１の分析機構２は、反応ディスク２０１と、恒温部２０２と、サンプルディスク２０３と、第１試薬庫２０４と、第２試薬庫２０５とを備えて構成されている。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the
反応ディスク２０１は、反応セル２０１１を所定の経路に沿って搬送する。具体的には、反応ディスク２０１は、複数の反応セル２０１１を、環状に配列させて保持する。反応ディスク２０１は、駆動機構４により、既定の時間間隔で回動と停止とが交互に繰り返される。
The
反応セル２０１１は、例えば、ガラスにより形成されている。反応セル２０１１は、四角柱状の容器をなしており、上部に開口部を有している。四角柱を形成する第１乃至第４側壁のうち、第１側壁の外面からは、測光ユニット２１４に設けられる光源から照射される光が入射される。第１乃至第４側壁のうち１側壁と対向する第２側壁の外面からは、第１側壁の外面から入射された光が出射される。
The
恒温部２０２は、所定の温度に設定された熱媒体を貯留する。恒温部２０２は、貯留する熱媒体に反応セル２０１１を浸漬させることで、反応セル２０１１に収容される反応液を所定の温度まで昇温し保温する。
The
サンプルディスク２０３は、試料を収容する試料容器を複数保持する。サンプルディスク２０３は、駆動機構４により回動される。本実施形態においては、検出対象の成分を含む試料を適宜、被検試料と言う。
The
第１試薬庫２０４は、標準試料及び被検試料に含まれる所定の成分と反応する第１試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第１試薬は、例えば、ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）等を含む緩衝液である。試薬容器には、試薬ラベルが貼付されている。試薬ラベルには、試薬情報を表す光学式マークが印刷されている。光学式マークには、例えば、１次元画素コード及び２次元画素コード等、任意の画素コードが用いられる。試薬情報は、試薬容器に収容される試薬に関する情報であり、例えば、試薬名、試薬メーカコード、試薬項目コード、ボトル種類、ボトルサイズ、容量、製造ロット番号、及び、有効期間等を含んでいる。
The
また、第１試薬庫２０４は、標準試料を収容する標準試料容器を複数保冷する。複数の標準試料容器のそれぞれには、濃度が異なる同一の成分の標準試料が収容されている。なお、標準試料容器は、サンプルディスク２０３に保持されていても構わない。
In addition, the
第１試薬庫２０４内には、試薬ラック２０４１が回転自在に設けられている。試薬ラック２０４１は、複数の試薬容器及び複数の標準試料容器を、円環状に配列して保持する。試薬ラック２０４１は、駆動機構４により回動される。また、第１試薬庫２０４内には、試薬容器に貼付されている試薬ラベルから試薬情報を読み取るリーダ（図示せず）が設けられている。読み取られた試薬情報は、記憶回路８で記憶される。
A
第１試薬庫２０４上の所定の位置には、第１試薬吸引位置が設定されている。第１試薬吸引位置は、例えば、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、試薬ラック２０４１に円環状に配列される試薬容器及び標準試料容器の開口部の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。
A first reagent suction position is set at a predetermined position on the
第２試薬庫２０５は、２試薬系の第１試薬と対をなす第２試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第２試薬は、試料に含まれる所定の抗原又は抗体と、特異的抗原抗体反応により結合又は乖離する抗原又は抗体が固定化された不溶性担体、例えば、担体粒子を含む溶液である。特異的反応により結合又は乖離するものとして酵素、基質、アプタマー、受容体であっても良い。第２試薬庫２０５内には、試薬ラック２０５１が回転自在に設けられている。
The
試薬ラック２０５１は、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。なお、第２試薬庫２０５において、標準試料を収容する標準試料容器が保冷されていてもよい。試薬ラック２０５１は、駆動機構４により回動される。また、第２試薬庫２０５内には、試薬容器に貼付されている試薬ラベルから試薬情報を読み取るリーダ（図示せず）が設けられている。読み取られた試薬情報は、記憶回路８で記憶される。
The
第２試薬庫２０５上の所定の位置には、第２試薬吸引位置が設定されている。第２試薬吸引位置は、例えば、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、試薬ラック２０５１に円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。
A second reagent suction position is set at a predetermined position on the
また、図２に示す自動分析装置１の分析機構２は、さらに、サンプル分注アーム２０６と、サンプル分注プローブ２０７と、第１試薬分注アーム２０８と、第１試薬分注プローブ２０９と、第２試薬分注アーム２１０と、第２試薬分注プローブ２１１と、第１撹拌ユニット２１２と、第２撹拌ユニット２１３と、測光ユニット２１４と、洗浄ユニット２１５を備えて構成されている。
Further, the
サンプル分注アーム２０６は、反応ディスク２０１とサンプルディスク２０３との間に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、一端にサンプル分注プローブ２０７を保持する。
The
サンプル分注プローブ２０７は、サンプル分注アーム２０６の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部が位置するようになっている。また、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道上には、サンプル分注プローブ２０７が吸引した試料を反応セル２０１１へ吐出するためのサンプル吐出位置が設けられている。サンプル吐出位置は、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応セル２０１１の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。
The
サンプル分注プローブ２０７は、駆動機構４のサンプル分注プローブ駆動機構４１によって駆動され、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部の直上、又は、サンプル吐出位置において上下方向に移動する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、直下に位置する試料容器から試料を吸引する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、吸引した試料を、サンプル吐出位置の直下に位置する反応セル２０１１へ吐出する。
The
第１試薬分注アーム２０８は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、一端に第１試薬分注プローブ２０９を保持している。
The first
第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬分注アーム２０８の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第１試薬吸引位置が設けられている。また、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道上には、第１試薬分注プローブ２０９が吸引した第１試薬又は標準試料を反応セル２０１１へ吐出するための第１試薬吐出位置が設定されている。第１試薬吐出位置は、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応セル２０１１の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。
The first
第１試薬分注プローブ２０９は、駆動機構４の第１試薬分注プローブ駆動機構４２によって駆動され、回動軌道上の第１試薬吸引位置又は第１試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、第１試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第１試薬又は標準試料を吸引する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、吸引した第１試薬又は標準試料を、第１試薬吐出位置の直下に位置する反応セル２０１１へ吐出する。すなわち、第１試薬分注プローブ２０９は、本実施形態における吐出部の一例である。
The first
第２試薬分注アーム２１０は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、一端に第２試薬分注プローブ２１１を保持している。
The second
第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬分注アーム２１０の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第２試薬吸引位置が設けられている。また、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道上には、第２試薬分注プローブ２１１が吸引した第２試薬を反応セル２０１１へ吐出するための第２試薬吐出位置が設定されている。第２試薬吐出位置は、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応セル２０１１の移動軌道とが、交点する位置に設けられる。
The second
第２試薬分注プローブ２１１は、駆動機構４の第２試薬分注プローブ駆動機構４３によって駆動され、回動軌道上の第２試薬吸引位置、又は第２試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路９の制御に従い、第２試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第２試薬を吸引する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路９の制御に従い、吸引した第２試薬を、第２試薬吐出位置の直下に位置する反応セル２０１１へ吐出する。すなわち、第２試薬分注プローブ２１１は、本実施形態における吐出部の一例である。
The second
第１撹拌ユニット２１２は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第１撹拌ユニット２１２は、第１撹拌アーム２１２１及び第１撹拌アーム２１２１の先端に設けられる第１撹拌子を有する。この第１撹拌子は、例えば、第１撹拌アーム２１２１を中心として外周方向に放射状に延びる複数のフィンにより構成されている。
The
第１撹拌ユニット２１２は、駆動機構４の第１撹拌ユニット駆動機構４４によって駆動され、反応セル２０１１に収容されている混合液の撹拌を行う。すなわち、第１撹拌ユニット２１２は、第１撹拌子により、反応ディスク２０１上の第１撹拌位置に位置する反応セル２０１１内に収容されている標準試料と第１試薬との混合液を撹拌する。また、第１撹拌ユニット２１２は、第１撹拌子により、反応ディスク２０１上の第１撹拌位置に位置する反応セル２０１１内に収容されている被検試料と第１試薬との混合液を撹拌する。
The
第２撹拌ユニット２１３は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第２撹拌ユニット２１３は、第２撹拌アーム２１３１及び第２撹拌アーム２１３１の先端に設けられる第２撹拌子を有する。この第２撹拌子は、例えば、第２撹拌アーム２１３１を中心として外周方向に放射状に延びる複数のフィンにより構成されている。
The
第２撹拌ユニット２１３は、駆動機構４の第２撹拌ユニット駆動機構４５によって駆動され、反応セル２０１１に収容されている混合液の撹拌を行う。すなわち、第２撹拌ユニット２１３は、第２撹拌子により、反応ディスク２０１上の第２撹拌位置に位置する反応セル２０１１内に収容されている標準試料、第１試薬、及び第２試薬の混合液を撹拌する。また、第２撹拌ユニット２１３は、第２撹拌子により、第２撹拌位置に位置する反応セル２０１１内に収容されている被検試料、第１試薬、及び第２試薬の混合液を撹拌する。
The
測光ユニット２１４は、反応セル２０１１内に吐出された試料、第１試薬、及び第２試薬の反応液を光学的に測定する。測光ユニット２１４は、光源、及び光検出器を有する。測光ユニット２１４は、制御回路９の制御に従い、光源から光を照射する。照射された光は、反応セル２０１１の第１側壁から入射され、第１側壁と対向する第２側壁から出射される。測光ユニット２１４は、反応セル２０１１から出射された光を、光検出器により検出する。測光ユニット２１４は、本実施形態における測光部の一例である。
The
具体的には、例えば、光検出器は、光源から反応セル２０１１に照射される光の光軸上の位置に配置されている。光検出器は、反応セル２０１１内の標準試料、第１試薬、及び第２試薬の反応液を透過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度により表される標準データを生成する。また、光検出器は、反応セル２０１１内の被検試料、第１試薬、及び第２試薬の反応液を透過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度により表される被検データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した標準データ及び被検データを測定結果として解析回路３へ出力する。
Specifically, for example, the photodetector is arranged at a position on the optical axis of the light emitted from the light source to the
洗浄ユニット２１５は、測光ユニット２１４で反応液の測定が終了した反応セル２０１１の内部を洗浄する。
The
図１に示すように、制御回路９は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行することで、当該プログラムに対応する機能を実現する。例えば、制御回路９は、動作プログラムを実行することで、システム制御機能９１、校正制御機能９２、及び測定制御機能９３を実現する。なお、本実施形態では、単一のプロセッサによってシステム制御機能９１、校正制御機能９２、及び測定制御機能９３が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて制御回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することによりシステム制御機能９１、校正制御機能９２、及び測定制御機能９３を実現するようにしてもよい。
As shown in FIG. 1, the
システム制御機能９１は、入力インターフェース５から入力される入力情報に基づき、自動分析装置１における各部を統括して制御する機能である。
The
校正制御機能９２は、標準データを生成するように、分析機構２及び駆動機構４を制御する機能である。具体的には、制御回路９は、所定のタイミングで校正制御機能９２を実行する。所定のタイミングとは、例えば、初期設定時、装置起動時、メンテナンス時、及び操作者から校正動作開始の指示が入力された際等である。
The
校正制御機能９２を実行すると制御回路９は、分析機構２及び駆動機構４を制御する。分析機構２及び駆動機構４が制御されることで、分析機構２では、標準データが生成される。具体的には、例えば、駆動機構４により駆動されることで、分析機構２の第１試薬分注プローブ２０９は、標準試料を第１試薬庫２０４から吸引し、吸引した標準試料を反応セル２０１１へ吐出する。続いて、第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬を第１試薬庫２０４から吸引し、吸引した第１試薬を、標準試料が吐出された反応セル２０１１へ吐出する。続いて、第１撹拌ユニット２１２は、標準試料に第１試薬が添加された溶液を撹拌する。
When the
次に、第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬を第２試薬庫２０５から吸引し、吸引した第２試薬を、標準試料と第１試薬とが混合された混合液へ吐出する。続いて、第２撹拌ユニット２１３は、混合液に第２試薬が添加された溶液を撹拌する。測光ユニット２１４は、標準試料、第１試薬、及び第２試薬が撹拌されてなる反応液を光学的に測定することで、標準データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した標準データを解析回路３へ出力する。測光ユニット２１４は、予め設定された周期で予め設定された回数、反応液の測定を繰り返し、生成した標準データを解析回路３へ出力する。分析機構２は、予め設定した複数の濃度の標準試料について上記動作を繰り返し、生成した標準データを解析回路３へ出力する。
Next, the second
測定制御機能９３は、被検データを生成するように、分析機構２及び駆動機構４を制御する機能である。具体的には、制御回路９は、所定の指示に応じて測定制御機能９３を実行する。所定の指示とは、例えば、操作者から入力される測定動作開始の指示、及び予め設定した時刻に到達したことを表す指示等である。
The
測定制御機能９３を実行すると制御回路９は、分析機構２及び駆動機構４を制御する。分析機構２及び駆動機構４が制御されることで、分析機構２では、被検データが生成される。具体的には、駆動機構４により駆動されることで、分析機構２のサンプル分注プローブ２０７は、被検試料をサンプルディスク２０３から吸引し、吸引した被検試料を反応セル２０１１へ吐出する。続いて、第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬を第１試薬庫２０４から吸引し、吸引した第１試薬を、被検試料が吐出された反応セル２０１１へ吐出する。続いて、第１撹拌ユニット２１２は、被検試料に第１試薬が添加された溶液を撹拌する。
When the
次に、第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬を第２試薬庫２０５から吸引し、吸引した第２試薬を、被検試料と第１試薬とが混合された混合液へ吐出する。続いて、第２撹拌ユニット２１３は、混合液に第２試薬が添加された溶液を撹拌する。続いて、測光ユニット２１４は、被検試料、第１試薬、及び第２試薬が撹拌されてなる反応液を光学的に測定することで、被検データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した被検データを解析回路３へ出力する。測光ユニット２１４は、予め設定された周期で予め設定された回数、反応液の測定を繰り返し、生成した被検データを解析回路３へ出力する。
Next, the second
詳しくは後述するが、本実施形態においては、測定制御機能９３は、被検データを生成するにあたり、予め測定されて記憶回路８に記憶されている複数の反応セル２０１１の底面２０１１ｘに基づいて、サンプル分注プローブ２０７の降下量、第１試薬分注プローブ２０９の降下量、第２試薬分注プローブ２１１の降下量、第１撹拌アーム２１２１の降下量、及び、第２撹拌アーム２１３１の降下量の制御を行い、反応セル２０１１の高さのばらつきを補正する。
As will be described in detail later, in the present embodiment, the
また、図１に示される解析回路３は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行することで、当該プログラムに対応する機能を実現する。例えば、解析回路３は、動作プログラムを実行することで、検量データ生成機能３１及び分析データ生成機能３２を実現する。なお、本実施形態では、単一のプロセッサによって検量データ生成機能３１、及び分析データ生成機能３２が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて解析回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することにより検量データ生成機能３１、及び分析データ生成機能３２を実現するようにしてもよい。
Further, the
検量データ生成機能３１は、分析機構２で生成された標準データに基づいて検量データを生成する機能である。具体的には、解析回路３は、分析機構２で生成された標準データを受信すると、検量データ生成機能３１を実行する。検量データ生成機能３１を実行すると解析回路３は、異なる複数の濃度の標準試料に関する吸光度を含む測定データである標準データに基づいて、検量線を生成する。この生成された検量線は、検量データとして記憶回路８に記憶させる。
The calibration data generation function 31 is a function of generating calibration data based on the standard data generated by the
分析データ生成機能３２は、分析機構２で生成された被検データを解析することで分析データを生成する機能である。具体的には、解析回路３は、分析機構２で生成された被検データを受信すると、分析データ生成機能３２を実行する。分析データ生成機能３２を実行すると解析回路３は、検量線に関する情報を含む検量データを記憶回路８から読み出す。解析回路３は、これら被検データ及び検量データに基づき、被検試料の検出対象の濃度に関する情報を含む分析データを生成する。
The analysis data generation function 32 is a function of generating analysis data by analyzing the test data generated by the
（位置検出手段）
次に、本実施形態に係る自動分析装置１における位置検出手段について詳細に説明する。図３は、複数ある反応セル２０１１のうちの１つの反応セル２０１１ａについての側方断面図を示している。この図３に示すように、サンプル分注プローブ２０７は、吸引した被検試料を反応セル２０１１に吐出するためのサンプル吐出位置で、上下方向に移動する。
(Position detection means)
Next, the position detecting means in the
すなわち、この図３の例では、ある１つの反応セル２０１１ａの開口部の直上で、サンプル分注プローブ２０７は降下して反応セル２０１１ａの内部に挿入され、被検試料を反応セル２０１１ａに吐出する。その後、サンプル分注プローブ２０７は上昇して反応セル２０１１ａの外部に抜去される。この動作におけるサンプル分注プローブ２０７の降下量と上昇量は同じである。
That is, in the example of FIG. 3, the
本実施形態に係る自動分析装置１では、サンプル分注プローブ２０７が取り付けられたサンプル分注アーム２０６に、接触センサが設けられており、この接触センサが、サンプル分注プローブ２０７と反応セル２０１１との物理的な接触を検知する。すなわち、サンプル分注プローブ２０７が降下して、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが、反応セル２０１１の底面２０１１ｘと接触すると、その物理的な接触を接触センサが検出する。このため、この接触センサが、反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を検出する位置検出手段となる。
In the
本実施形態においては、サンプル分注プローブ２０７が反応セル２０１１の底面２０１１ｘに接触するまでの降下量に基づいて、反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を算出し、それぞれのサンプル分注プローブ２０７毎に記憶回路８に記憶する。ここで、降下量とは、サンプル分注プローブ２０７が降下した距離である。より詳しくは、サンプル分注プローブ２０７が降下を始める前のサンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘの位置を始点とし、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが反応セル２０１１の底面２０１１ｘと接触した際におけるその先端２０７ｘの位置を終点とした場合における、始点から終点までの距離で定義される。
In the present embodiment, the position of the
図４及び図５は、サンプル分注アーム２０６と、サンプル分注プローブ２０７と、これらサンプル分注アーム２０６及びサンプル分注プローブ２０７を上下方向に移動させるサンプル分注プローブ駆動機構４１についての側方からの斜視図である。サンプル分注プローブ駆動機構４１は、駆動機構４の一部を構成している。
4 and 5 show the
これら図４及び図５に示すように、サンプル分注アーム２０６には、反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を検出するための位置検出手段として、接触センサ３００が設けられている。すなわち、サンプル分注アーム２０６におけるサンプル分注プローブ２０７の取り付け部分に、接触センサ３００が設けられており、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが何かの障害物に接触した場合に、その接触が検知されるように構成されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
この接触センサ３００は、本来的には、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが、誤って、反応セル２０１１の底面２０１１ｘに接触した場合、この接触を検知して、サンプル分注プローブ２０７の降下を停止するために設けられている。このため、図４に示すように、通常状態における接触センサ３００は、サンプル分注アーム２０６の内部に埋もれて収納された状態になっているが、降下動作において、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが反応セル２０１１の底面２０１１ｘ等の障害物に接触した場合は、その衝撃を吸収すべく、図５に示すように、サンプル分注プローブ２０７が上方に浮かび上がるように構成されている。すなわち、サンプル分注プローブ２０７が降下している際に、例えば、反応セル２０１１の底面２０１１ｘに、その先端２０７ｘが接触した場合には、反応セル２０１１が損傷しないように、接触センサ３００が上方に移動して、その衝撃を吸収するとともに、サンプル分注プローブ駆動機構４１は、サンプル分注プローブ２０７の下降を停止する。
Originally, when the
図６は、接触センサ３００の構成の一例を説明する図である。すなわち、図６（ａ）は、サンプル分注アーム２０６とサンプル分注プローブ２０７についての側方からの斜視図であり、図６（ｂ）は、その接触センサ３００部分を拡大して示す斜視図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the configuration of the
図６（ａ）から分かるように、この図６は、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが障害物に接触して、サンプル分注プローブ２０７の付け根にある接触センサ３００が浮き上がった状態を示している。このため、接触センサ３００は、サンプル分注アーム２０６の上方に移動している。
As can be seen from FIG. 6A, FIG. 6 shows a state in which the
図６（ｂ）から分かるように、この接触センサ３００においては、サンプル分注プローブ２０７は、中継部材３０１を介して、検出板３０２に機械的に接続されている。このため、サンプル分注プローブ２０７が降下している途中で、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが障害物に接触して、それ以上降下できない状態に陥った場合、サンプル分注アーム２０６と比較して相対的に、中継部材３０１及び検出板３０２は上方に移動する。換言すれば、サンプル分注アーム２０６は僅かではあるが降下を続けられるが、障害物に接触したサンプル分注プローブ２０７や、このサンプル分注プローブ２０７に機械的に接続されている中継部材３０１及び検出板３０２は、降下を続けることができずに、その高さ位置で停止する。
As can be seen from FIG. 6B, in the
サンプル分注アーム２０６には、フォトインタラプタ３０３が設けられており、このフォトインタラプタ３０３は、サンプル分注アーム２０６と同じ動きをする。すなわち、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが障害物に接触した場合でも、僅かにではあるが降下を続ける。
The
このフォトインタラプタ３０３は、凹字状の形状をなしており、その窪んだ間隙に、通常の状態では、検出板３０２の先端部が位置する。すなわち、通常の状態では、検出板３０２の先端部がフォトインタラプタ３０３の間隙に位置しており、フォトインタラプタ３０３の光送出側から送出された光が受光側に設けられたセンサに届かない。しかし、検出板３０２が相対的に上方に移動すると、検出板３０２がフォトインタラプタ３０３の間隙から移動して、光を遮らなくなる。このため、フォトインタラプタ３０３の光送出側から送出された光が受光側に設けられたセンサにより検出されるようになる。このため、フォトインタラプタ３０３がオンとなり、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが障害物に接触したことが検知される。この障害物に接触したことを検出した信号は、制御回路９に取り込まれる。そして、この信号を取り込んだ制御回路９は、サンプル分注プローブ駆動機構４１の駆動を停止し、サンプル分注プローブ２０７の降下を停止させる。
The
本実施形態においては、この接触センサ３００は、サンプル分注アーム２０６だけでなく、第１試薬分注アーム２０８や第２試薬分注アーム２１０にも、設けられている。このため、第１試薬分注プローブ２０９の先端が反応セル２０１１の底面２０１１ｘ等の障害物に物理的に接触したことを検出することも可能であり、第２試薬分注プローブ２１１が反応セル２０１１の底面２０１１ｘ等の障害物に物理的に接触したことも検出することが可能である。
In the present embodiment, the
なお、接触センサ３００は、第１撹拌ユニット２１２や第２撹拌ユニット２１３に設けられていてもよい。接触センサ３００が設けられていることにより、第１撹拌アーム２１２１の先端が反応セル２０１１の底面２０１１ｘ等の障害物に物理的に接触したことを検出することが可能となり、第２撹拌アーム２１３１の先端が反応セル２０１１の底面２０１１ｘ等の障害物に物理的に接触したことを検出することが可能となる。
The
（降下量の制御）
本実施形態に係る自動分析装置１においては、この接触センサ３００を利用して、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置を予め測定し、記憶回路８に記憶させる。すなわち、予め、複数の反応セル２０１１のそれぞれの内部に、サンプル分注プローブ２０７を挿入して、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘを反応セル２０１１の底面２０１１ｘに接触させることにより、複数の反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を測定し、記憶回路８に記憶させておく。制御回路９の測定制御機能９３は、この測定した複数の反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置に基づいて、実際に被検試料の生化学検査を行う場合における、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注プローブ２０９、第２試薬分注プローブ２１１、第１撹拌アーム２１２１、及び、第２撹拌アーム２１３１の下降量を制御する。
(Control of descent amount)
In the
すなわち、制御回路９は、記憶回路８に記憶されている、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置から、サンプル分注プローブ２０７と反応セル２０１１の底面２０１１ｘとの相対的な位置が一定になるように制御する。また、制御回路９は、記憶回路８に記憶されている、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置から、第１試薬分注プローブ２０９と反応セル２０１１の底面２０１１ｘとの相対的な位置が一定になるように制御する。また、制御回路９は、記憶回路８に記憶されている、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置から、第２試薬分注プローブ２１１と反応セル２０１１の底面２０１１ｘとの相対的な位置が一定になるように制御する。また、制御回路９は、記憶回路８に記憶されている、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置から、第１撹拌アーム２１２１と反応セル２０１１の底面２０１１ｘとの相対的な位置が一定になるように制御する。また、制御回路９は、記憶回路８に記憶されている、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置から、第２撹拌アーム２１３１と反応セル２０１１の底面２０１１ｘとの相対的な位置が一定になるように制御する。
That is, in the
図７は、反応セル２０１１の高さのばらつきを、予め測定した反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置に基づいて補正する手法を説明するための図である。図７（ａ）は、第１試薬分注プローブ２０９の下降量の制御を説明する図であり、図７（ｂ）は、第１撹拌アーム２１２１の下降量の制御を説明する図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining a method of correcting the variation in height of the
これら図７（ａ）及び図７（ｂ）において、反応セル２０１１ａ、２０１１ｂ、２０１１ｃは、それぞれ高さにばらつきがある。このため、これら反応セル２０１１ａ、２０１１ｂ、２０１１ｃの底面２０１１ｘの位置にもばらつきが生じている。
In FIGS. 7 (a) and 7 (b), the heights of the
図７（ａ）に示すように、本実施形態における自動分析装置１においては、制御回路９の測定制御機能９３は、反応セル２０１１ａの内部に第１試薬分注プローブ２０９を降下させて挿入する際には、記憶回路８から反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘの位置を読み出して、この読み出した反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘの位置に基づいて、第１試薬分注プローブ２０９の降下量を設定する。すなわち、第１試薬分注プローブ２０９が第１試薬を吐出する際の第１試薬分注プローブ２０９の先端２０９ｘと、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘとの間の相対的な位置が、予め定められた所定の距離となるように、第１試薬分注プローブ２０９の降下量を設定する。
As shown in FIG. 7A, in the
同様に、制御回路９の測定制御機能９３は、反応セル２０１１ｂの内部に第１試薬分注プローブ２０９を降下させて挿入する際には、記憶回路８から反応セル２０１１ｂの底面２０１１ｘの位置を読み出して、この読み出した反応セル２０１１ｂの底面２０１１ｘの位置に基づいて、第１試薬分注プローブ２０９の降下量を設定する。すなわち、第１試薬分注プローブ２０９が第１試薬を吐出する際の第１試薬分注プローブ２０９の先端２０９ｘと、反応セル２０１１ｂの底面２０１１ｘとの間の相対的な位置が、予め定められた所定の距離となるように、第１試薬分注プローブ２０９の降下量を設定する。制御回路９の測定制御機能９３は、このような制御を反応セル２０１１ｃや残りのすべての反応セル２０１１に対して行う。
Similarly, the
ここでは、図７（ａ）を用いて、第１試薬分注プローブ２０９の降下量の制御手法を説明したが、第２試薬分注プローブ２１１の降下量の制御手法や、サンプル分注プローブ２０７の降下量の制御手法も、これと同様である。
Here, the method for controlling the amount of descent of the first
また、図７（ｂ）に示すように、本実施形態における自動分析装置１においては、制御回路９の測定制御機能９３は、反応セル２０１１ａの内部に第１撹拌アーム２１２１を降下させて挿入する際には、記憶回路８から反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘの位置を読み出して、この読み出した反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘの位置に基づいて、第１撹拌アーム２１２１の降下量を設定する。すなわち、第１撹拌アーム２１２１が撹拌子を回転させて撹拌を行う際の第１撹拌アーム２１２１の先端２１２１ｘと、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘとの間の相対的な位置が、予め定められた所定の距離となるように、第１撹拌アーム２１２１の降下量を設定する。
Further, as shown in FIG. 7B, in the
同様に、制御回路９の測定制御機能９３は、反応セル２０１１ｂの内部に第１撹拌アーム２１２１を降下させて挿入する際には、記憶回路８から反応セル２０１１ｂの底面２０１１ｘの位置を読み出して、この読み出した反応セル２０１１ｂの底面２０１１ｘの位置に基づいて、第１撹拌アーム２１２１の降下量を設定する。すなわち、第１撹拌アーム２１２１が撹拌子を回転させて撹拌を行う際の第１撹拌アーム２１２１の先端２１２１ｘと、反応セル２０１１ｂの底面２０１１ｘとの間の相対的な位置が、予め定められた所定の距離となるように、第１撹拌アーム２１２１の降下量を設定する。制御回路９の測定制御機能９３は、このような制御を反応セル２０１１ｃや残りのすべての反応セル２０１１に対して行う。
Similarly, the
ここでは、図７（ｂ）を用いて、第１撹拌アーム２１２１の降下量の制御手法を説明したが、第２撹拌アーム２１３１の降下量の制御手法も、これと同様である。
Here, the method for controlling the amount of descent of the
図４及び図５に示したサンプル分注プローブ駆動機構４１は、例えば、電気パルスにより制御されるステッピングモータ等のモータを備えて構成されている。このようなモータは、モータに供給する電気パルスのパルス数を制御することにより、モータが回転する数そのものを制御することができ、これにより、サンプル分注プローブ２０７の降下量を制御することができる。
The sample dispensing
これは、他の駆動機構も同様である。すなわち、第１試薬分注プローブ駆動機構４２、第２試薬分注プローブ駆動機構４３、第１撹拌ユニット駆動機構４４、及び、第２撹拌ユニット駆動機構４５は、それぞれ、電気パルスにより制御されるステッピングモータ等のモータを備えて構成されている。このため、モータに供給する電気パルスのパルス数を制御することにより、モータが回転する数を制御することができ、第１試薬分注プローブ２０９の降下量、第２試薬分注プローブ２１１の降下量、第１撹拌アーム２１２１の降下量、及び、第２撹拌アーム２１３１の下降量を、それぞれ、制御することができる。
This also applies to other drive mechanisms. That is, the first reagent dispensing probe driving mechanism 42, the second reagent dispensing probe driving mechanism 43, the first stirring
このようなモータでは、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘの位置を、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘに接触するまでの電気パルス数として計測することができる。そして、記憶回路８は、この電気パルス数を、サンプル分注プローブ２０７が反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘを検出するまでの降下量として記憶することができる。
In such a motor, the position of the
図８は、記憶回路８に記憶される底面位置テーブルの構成の一例を示す図である。この図８に示す例では、自動分析装置１が備える複数の反応セル２０１１のそれぞれについて、個別に、その底面２０１１ｘの位置が電気パルス数として記憶されている。例えば、１番の反応セル２０１１は、サンプル分注プローブ駆動機構４１において、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘに接触するまでに、５０２６個の電気パルスをモータに供給したことを示している。
FIG. 8 is a diagram showing an example of the configuration of the bottom position table stored in the storage circuit 8. In the example shown in FIG. 8, the position of the
この底面位置テーブルには、自動分析装置１が備えるすべての反応セル２０１１に関して、この電気パルス数が記憶されており、この電気パルス数は、サンプル分注プローブ２０７が反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘを検出するまでの降下量を表している。このため、被検試料の測定を実際に行う際には、制御回路９の測定制御機能９３は、記憶回路８から、これから処理を行う反応セル２０１１の降下量を読み出して、サンプル分注プローブ２０７の降下量、第１試薬分注プローブ２０９の降下量、第２試薬分注プローブ２１１の降下量、第１撹拌アーム２１２１の降下量、及び、第２撹拌アーム２１３１の下降量を決定する。
In this bottom position table, the number of electric pulses is stored for all the
これらの分注プローブや撹拌アームの降下量に関しては、その分注プローブや撹拌アームの長さや機能が考慮された上で、反応セル２０１１が誤差なく理想的に取り付けられている場合の標準降下量が予め設計上設定される。例えば、第１撹拌アーム２１２１の降下量は、その先端２１２１ｘが反応セル２０１１の底面２０１１ｘに接触しない程度の降下量に設定する必要がある。さらには、第１撹拌アーム２１２１の下端部に設けられている撹拌子は、反応セル２０１１に収容されている反応液を撹拌するが、その際に、この反応液が反応セル２０１１の外部へと飛散しないようにする必要がある。これら種々の事情が考慮されて、第１撹拌アーム２１２１の標準降下量が決定され、例えば、記憶回路８に予め記憶されている。制御回路９の測定制御機能９３は、この記憶回路８から第１撹拌アーム２１２１の標準降下量を読み出し、この標準降下量と実際の反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置との差異に基づいて、第１撹拌アーム２１２１の降下量を決定する。
Regarding the amount of descent of these dispensing probes and stirring arms, the standard amount of descent when the
第１撹拌アーム２１２１の降下量は、例えば、電気パルス数で決定することができる。図８の底面位置テーブルの例において、１番の反応セル２０１１に対する第１撹拌アーム２１２１の降下量を決定する際には、まず、サンプル分注プローブ２０７の標準降下量が基準となる。例えば、反応セル２０１１の設計上における標準降下量の底面２０１１ｘの位置が、５０００回の電気パルス数であったと仮定する。しかし、反応セル２０１１の底面２０１１ｘの測定された位置が、５０２６回の電気パルスの位置である。このため、標準的な底面２０１１ｘの位置よりも、２６回多く、電気パルスをサンプル分注プローブ駆動機構４１のモータに供給したことになる。この結果、図８の底面位置テーブルから、標準降下量に対して＋２６回という補正値を導き出すことができる。
The amount of descent of the
そして、例えば、第１撹拌アーム２１２１の標準降下量が、４５００回の電気パルスで定義されていたと仮定する。この場合、４５００回という標準降下量に、＋２６回という補正値を加算すると、４５２６回の電気パルスという降下量を１番の反応セル２０１１に対して決定することができる。このため、制御回路９の測定制御機能９３は、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータを制御して、第１撹拌ユニット２１２を駆動するモータに４５２６回の電気パルスを供給して、第１撹拌アーム２１２１を降下させ、１番の反応セル２０１１に収容されている混合液の撹拌を行う。そして、第１撹拌子を回転させた撹拌が終了すると、制御回路９の測定制御機能９３は、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータを制御して、第１撹拌ユニット２１２用のモータを逆方向に回転させるように、或いは、ギヤを入れ替えて第１撹拌アーム２１２１が上昇するように、同じく４５２６回の電気パルスをモータに供給して、第１撹拌アーム２１２１を１番の反応セル２０１１の外側に抜去する。
Then, for example, it is assumed that the standard drop amount of the
一方、記憶回路８に記憶させる底面位置テーブルは、それぞれの反応セル２０１１について、標準降下量に対する補正値として電気パルス数を保持することも可能である。図９は、標準降下量に対する補正値として、底面位置を記憶させた底面位置テーブルの一例を示す図である。すなわち、この図９の例では、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置が、標準降下量に対する補正値として記憶回路８に記憶されている。
On the other hand, the bottom position table stored in the storage circuit 8 can also hold the number of electric pulses as a correction value for the standard drop amount for each
換言すれば、図９に示す底面位置テーブルは、図８に示した底面位置テーブルを、補正値である補正パルス数に置き換えて、記憶させている。この例では、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが反応セル２０１１の底面２０１１ｘに接触するまでの標準降下量は、５０００電気パルスである。このため、１番の反応セルの補正値は＋２６、２番の反応セルの補正値は＋１３２となる。
In other words, the bottom surface position table shown in FIG. 9 replaces the bottom surface position table shown in FIG. 8 with a correction pulse number which is a correction value and stores it. In this example, the standard drop amount until the
このため、制御回路９の測定制御機能９３は、記憶回路８から該当する反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を読み出した場合、それが補正値で構成されているので、この補正値を、分注プローブや撹拌アームの標準降下量に加算して、実際の降下量を導き出すこととなる。例えば、第１撹拌アーム２１２１の標準降下量が４５００電気パルスであると仮定すると、１番の反応セル２０１１の降下量を決定する場合には、この４５００電気パルスに、補正値である＋２６を加算して、４５２６電気パルスの降下量を導き出すことができる。
Therefore, when the
さらには、記憶回路８に記憶させる底面位置テーブルは、電気パルスのパルス数という基準ではなく、距離という基準で記憶させることもできる。電気パルスのパルス数という基準で反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を記憶する場合、サンプル分注プローブ駆動機構４１が備えるモータ、第１試薬分注プローブ駆動機構４２が備えるモータ、第２試薬分注プローブ駆動機構４３が備えるモータ、第１撹拌ユニット駆動機構４４が備えるモータ、及び、第２撹拌ユニット駆動機構４５が備えるモータは、その電気的特性が同一であることが前提となる。換言すれば、同じ数の電気パルスを印加すれば、同じだけ回転するモータであり、同じだけ分注プローブや撹拌アームが降下することが前提となる。
Further, the bottom position table to be stored in the storage circuit 8 can be stored not by the reference of the number of electric pulses but by the reference of the distance. When the position of the
これに対して、電気パルス数から換算した降下の距離という基準で、底面位置テーブルを構成することにより、このような前提が成立しない場合でも、本実施形態に係る制御を実現することができる。そのような前提の場合、電気パルス数から距離への換算は、そのモータの特性や降下させる分注プローブや撹拌アームの質量等により変動する可能性があるため、駆動機構毎に予め換算式を定めておく必要がある。 On the other hand, by constructing the bottom surface position table based on the descent distance converted from the number of electric pulses, the control according to the present embodiment can be realized even if such a premise is not satisfied. In such a premise, the conversion from the number of electric pulses to the distance may vary depending on the characteristics of the motor, the mass of the dispensing probe to be lowered, the mass of the stirring arm, etc. It needs to be decided.
図１０は、電気パルス数から換算した降下の距離という基準で生成された底面位置テーブルの一例を示す図である。この図１０の例では、１番の反応セル２０１１については、サンプル分注プローブ２０７が降下を開始してから、１０．０５２ｍｍの距離を降下した時点で、その先端２０７ｘが反応セル２０１１の底面２０１１ｘと接触したことを示している。これは、例えば、サンプル分注プローブ駆動機構４１のモータにおける１電気パルスあたりの降下する距離が０．０２ｍｍであると設定されていることを仮定している。つまり、図１０の例では、１番の反応セル２０１１に供給した電気パルス数が５０２６であるので、５０２６×０．０２ｍｍという換算式により、その降下した距離が１００．５２ｍｍであると算出される。このため、図１０に示した底面位置テーブルにおいては、１番の反応セル２０１１に関して、その降下した距離が１００．５２ｍｍと記憶されている。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a bottom position table generated based on the distance of descent converted from the number of electric pulses. In the example of FIG. 10, for the
この底面位置テーブルには、自動分析装置１が備えるすべての反応セル２０１１に関して、この降下した距離が記憶されている。この降下の距離は、サンプル分注プローブ２０７が反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘを検出するまでに降下量した距離を表している。このため、被検試料の測定を実際に行う際には、制御回路９の測定制御機能９３は、記憶回路８から、処理を行う反応セル２０１１の降下した距離を降下量として読み出して、サンプル分注プローブ２０７の降下量、第１試薬分注プローブ２０９の降下量、第２試薬分注プローブ２１１の降下量、第１撹拌アーム２１２１の降下量、及び、第２撹拌アーム２１３１の下降量を決定する。
The bottom position table stores the lowered distance for all
上述したように、これらの分注プローブや撹拌アームの降下量を決定する際には、その分注プローブや撹拌アームの長さや機能が考慮された上で、反応セル２０１１が誤差なく理想的に取り付けられている場合の標準降下量が予め設計上設定される。この場合、第１撹拌アーム２１２１の降下量も、距離で決定することができる。図１０の底面位置テーブルの例において、１番の反応セル２０１１に対する第１撹拌アーム２１２１の降下量を決定する際には、まず、サンプル分注プローブ２０７の標準降下量が基準となる。例えば、反応セル２０１１の設計上の底面２０１１ｘの標準降下量の位置が、１００．００ｍｍの距離であったと仮定する。しかし、反応セル２０１１の底面２０１１ｘの測定された位置が、１００．５２ｍｍの距離の降下量である。このため、標準的な底面２０１１ｘの位置よりも、０．５２ｍｍ長く、サンプル分注プローブ２０７を降下させたこととなる。この結果、図１０の底面位置テーブルから、＋０．５２ｍｍという補正値を導き出すことができる。
As described above, when determining the amount of descent of these dispensing probes and stirring arms, the
そして、例えば、第１撹拌アーム２１２１の標準降下量が、８００．００ｍｍの距離で降下量が定義されていたと仮定する。この場合、８００．００ｍｍという標準降下量に、＋０．５２ｍｍという補正値を加算すると、８００．５２ｍｍという降下量を１番の反応セル２０１１に対して決定することができる。このため、制御回路９の測定制御機能９３は、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータを制御して、第１撹拌ユニット２１２用のモータを第１撹拌アーム２１２１が８００．５２ｍｍだけ降下するように回転させる。例えば、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータが、１電気パルスあたり、第１撹拌アーム２１２１を０．０２５ｍｍ降下させる設定になる場合には、８００．５２ｍｍ／０．０２５という換算式により、４０２０．８という電気パルス数を算出することができる。小数点以下の電気パルス数は、四捨五入、切り捨て、切り上げ等の丸め処理を行う。本実施形態では、電気パル数の小数点以下は、四捨五入することとする。
Then, for example, it is assumed that the standard descent amount of the
制御回路９の測定制御機能９３は、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータに、４０２１回の電気パルスを供給して、第１撹拌アーム２１２１を１番の反応セル２０１１の内部に降下させ、１番の反応セル２０１１に収容されている混合液の撹拌を行う。そして、第１撹拌子を回転させた撹拌が終了すると、制御回路９の測定制御機能９３は、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータを制御して、第１撹拌ユニット２１２用のモータを逆方向に回転させるように、或いは、ギヤを入れ替えて第１撹拌アーム２１２１が上昇するように、同じく４０２１回の電気パルスをモータに供給して、第１撹拌アーム２１２１を１番の反応セル２０１１の外部に抜去する。
The
上述したように、記憶回路８に記憶させる底面位置テーブルは、標準降下量に対する補正値として電気パルス数を保持することも可能である。図１１は、標準降下量に対する補正値として、底面位置を記憶させた底面位置テーブルの一例を示す図である。すなわち、この図１１の例では、複数の反応セル２０１１のそれぞれの底面２０１１ｘの位置が、標準降下量に対する補正値として、距離に換算された上で、記憶されている。
As described above, the bottom position table stored in the storage circuit 8 can also hold the number of electric pulses as a correction value for the standard drop amount. FIG. 11 is a diagram showing an example of a bottom surface position table in which the bottom surface position is stored as a correction value for the standard descent amount. That is, in the example of FIG. 11, the positions of the bottom surfaces 2011x of the plurality of
換言すれば、図１１に示す底面位置テーブルは、図１０に示した底面位置テーブルを、補正値である距離に置き換えて、記憶させている。この例では、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが反応セル２０１１の底面２０１１ｘに接触するまでの標準降下量は、１００ｍｍであると仮定している。このため、１番の反応セルの補正値は＋０．５２ｍｍ、２番の反応セルの補正値は＋２．６４ｍｍとなる。
In other words, the bottom position table shown in FIG. 11 replaces the bottom position table shown in FIG. 10 with a distance which is a correction value and stores it. In this example, it is assumed that the standard drop amount until the
このため、制御回路９の測定制御機能９３は、記憶回路８から処理を行う反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を読み出した場合、それが補正値で構成されているので、この補正値を、分注プローブや撹拌アームの標準降下量に加算して、実際の降下量を導き出すこととなる。例えば、第１撹拌アーム２１２１の標準降下量が８００．００ｍｍの距離であると仮定すると、１番の反応セル２０１１の降下量を決定する場合には、この８００．００ｍｍの標準降下量の距離に、補正値である＋０．５２ｍｍの距離を加算して、８００．５２ｍｍという降下の距離を導き出すことができる。
Therefore, when the
制御回路９の測定制御機能９３は、この決定された８００．５２ｍｍという降下の距離を、電気パル数数に換算する。ここでは、例えば、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータが、１電気パルスあたり、第１撹拌アーム２１２１を０．０２５ｍｍ降下させる設定になっていると仮定しているので、８００．５２ｍｍ／０．０２５という換算式により、４０２０．８という電気パルス数を算出することができる。小数点以下の電気パルス数は、四捨五入、切り捨て、切り上げ等の丸め処理を行う。本実施形態では、上述同様に、電気パル数の小数点以下は、四捨五入することとする。
The
そして、上述同様に、制御回路９の測定制御機能９３は、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータに、４０２１回の電気パルスを供給して、第１撹拌アーム２１２１を１番の反応セル２０１１の内部に降下させ、１番の反応セル２０１１に収容されている混合液の撹拌を行う。そして、第１撹拌子を回転させた撹拌が終了すると、制御回路９の測定制御機能９３は、第１撹拌ユニット駆動機構４４のモータを制御して、第１撹拌ユニット２１２用のモータを逆方向に回転させるように、或いは、ギヤを入れ替えて第１撹拌アーム２１２１が上昇するように、同じく４０２１回の電気パルスをモータに供給して、第１撹拌アーム２１２１を１番の反応セル２０１１の外部に抜去する。
Then, similarly to the above, the
なお、上述した実施形態では、サンプル分注プローブ２０７を用いて、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘを検出するようにしたが、他の分注プローブや撹拌アームを用いて、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘを検出するようにしてもよい。例えば、第１試薬分注プローブ２０９や第２試薬分注プローブ２１１を用いて、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘを検出するようにしてもよい。この場合、第１試薬分注アーム２０８に設けられている接触センサを用いて、或いは、第２試薬分注アーム２１０に設けられている接触センサを用いて、反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘを検出する。
In the above-described embodiment, the
複数ある反応セル２０１１についてそれぞれの底面２０１１ｘの位置を検出する処理は、例えば、分注プローブや撹拌アームの交換をした場合や、自動分析装置１の何らかの部品を交換した場合に、実行することが想定される。或いは、１日１回稼働前に、又は、１週間に１回といった所定の頻度で実行することも想定される。さらには、操作者がこの自動分析装置１に入力インターフェース５を介して実行を指示した場合も想定される。
The process of detecting the position of the
なお、本実施形態においては、反応ディスク２０１が保持部を構成しており、記憶回路８が記憶手段を構成している。サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注プローブ２０９、及び、第２試薬分注プローブ２１１が、試薬又は試薬を吸引する分注プローブを構成している。サンプル分注アーム２０６に設けられた接触センサ３００、第１試薬分注アーム２０８に設けられた接触センサ３００、第２試薬分注アーム２１０に設けられた接触センサ３００が、複数の反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を検出する位置検出手段を構成している。
In the present embodiment, the
また、本実施形態においては、第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３が、撹拌手段を構成している。制御回路９の測定制御機能９３が、第１撹拌ユニット駆動機構４４及び第２撹拌ユニット駆動機構４５の制御を介して、撹拌手段である第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３の制御を行う撹拌制御手段を構成している。
Further, in the present embodiment, the
また、本実施形態においては、サンプル分注プローブ駆動機構４１、第１試薬分注プローブ駆動機構４２、及び、第２試薬分注プローブ駆動機構４３が、分注プローブを降下させ、且つ、上昇させる、プローブ駆動機構を構成している。第１撹拌ユニット駆動機構４４、及び、第２撹拌ユニット駆動機構４５が、撹拌駆動機構を構成している。
Further, in the present embodiment, the sample dispensing
また、本実施形態においては、制御回路９の測定制御機能９３が、記憶回路８に記憶されている反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置に基づいて、分注プローブの降下量を制御するプローブ制御手段を構成している。
Further, in the present embodiment, the
以上のように、本実施形態に係る自動分析装置１によれば、第１撹拌アーム２１２１や第２撹拌アーム２１３１の降下量を、記憶回路８に記憶されている反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置に基づいて制御するようにしたので、複数ある反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置にばらつきがあったとしても、そのばらつきを吸収して、撹拌子を用いた撹拌の位置を一定にすることができる。このため、反応セルの内部に収容されている混合液が飛び散ったり、うまく撹拌できないといった問題を回避することができる。この結果、検体である被検試料が少量であっても、精度よく生化学検査項目の測定を行うことができる。
As described above, according to the
〔第２実施形態〕
上述した第１実施形態では、撹拌子を有する第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３により撹拌手段を構成したが、第２実施形態では、超音波撹拌機構を有する第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３により撹拌手段を構成するようにしたものである。以下、上述した第１実施形態と異なる部分を説明する。
[Second Embodiment]
In the first embodiment described above, the stirring means is configured by the
図１２は、本実施形態に係る第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３が備える超音波撹拌機構４００の構成と配置を説明する図である。この図１２に示すように、超音波撹拌機構４００は、反応セル２０１１の外部に位置して設けられている。すなわち、超音波撹拌機構４００は、反応セル２０１１の内部に収容されている混合液とは非接触の状態で、超音波により混合液の撹拌を行う。
FIG. 12 is a diagram illustrating the configuration and arrangement of the
本実施形態においては、この超音波撹拌機構４００は、第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３のそれぞれに設けられている。但し、この超音波撹拌機構４００は、反応セル２０１１の内部にある混合液とは非接触であることから、第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３に対して共通に１つだけ設けることも可能である。
In the present embodiment, the
また、本実施形態においては、この超音波撹拌機構４００は、恒温部２０２の内部に設けられている。上述したように、恒温部２０２には所定の温度に設定された熱媒体が貯留されているため、この超音波撹拌機構４００も、この熱媒体に浸漬されている。つまり、超音波撹拌機構４００は、液体に浸漬されても使用可能な耐水性を有している。
Further, in the present embodiment, the
超音波撹拌機構４００は、例えば、圧電素子により構成されている。すなわち、本実施形態においては、この圧電素子に高い周波数の交流電圧を印加することにより、超音波を発生させて、反応セル２０１１に向けて照射する。その際、この圧電素子の共振周波数となるように交流電圧の周波数を設定することにより、大きな振幅の超音波を得ることができる。
The
さらに、本実施形態においては、第１撹拌ユニット駆動機構４４及び第２撹拌ユニット駆動機構４５により、超音波撹拌機構４００は高さ方向の位置が変更可能に構成されている。例えば、第１撹拌ユニット２１２を例にとると、図１３に示すように、制御回路９の測定制御機能９３は、標準位置より取り付け位置の高い反応セル２０１１に対しては、第１撹拌ユニット駆動機構４４を制御して、第１撹拌ユニット２１２の超音波撹拌機構４００の位置を高い方向へ移動する。一方、図１４に示すように、標準位置より取り付け位置の低い反応セル２０１１に対しては、第１撹拌ユニット２１２を制御して、第１撹拌ユニット２１２の超音波撹拌機構４００の位置を低い方向へ移動する。
Further, in the present embodiment, the
より詳細には、制御回路９の測定制御機能９３は、上述した図８乃至図１１に示した底面位置テーブルのいずれかを記憶回路８から読み出して、超音波撹拌機構４００の高さ方向の位置を制御する。例えば、図８に示した底面位置テーブルを用いる場合、制御回路９の測定制御機能９３は、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘに接触するまでの電気パルス数に基づいて、超音波撹拌機構４００の高さ方向の位置を補正する。
More specifically, the
例えば、反応セル２０１１の標準降下量が５０００電気パルスであると仮定すると、１番の反応セル２０１１は５０２６電気パルスの降下量であるので、標準的な底面２０１１ｘの位置よりも、２６回多く、電気パルスをサンプル分注プローブ駆動機構４１のモータに供給したことになる。このため、この２６回分の電気パルスでサンプル分注プローブ２０７が降下する降下量だけ、超音波撹拌機構４００の高さ方向の位置を、標準位置よりも低くする。すなわち、制御回路９の測定制御機能９３は、反応セル２０１１の標準降下量と測定された降下量との差分である電気パルス数を距離に換算して、この換算された距離を補正するように、超音波撹拌機構４００の高さ方向の位置を制御する。この点は、図９に示す底面位置テーブルを用いる場合も同様である。
For example, assuming that the standard drop of
図１０及び図１１に示す底面位置テーブルのいずれかを用いる場合には、すでに距離に換算された反応セル２０１１の底面２０１１ｘが記憶されているので、この距離に基づいて、測定制御機能９３は、超音波撹拌機構４００の高さ方向の位置の調整を行う。
When any of the bottom position tables shown in FIGS. 10 and 11 is used, the
或いは、本実施形態においては、第１撹拌ユニット駆動機構４４及び第２撹拌ユニット駆動機構４５により、超音波撹拌機構４００の向きが変更可能に構成されていてもよい。例えば、第１撹拌ユニット２１２を例にとると、図１５に示すように、制御回路９の測定制御機能９３は、標準位置より取り付け位置の高い反応セル２０１１に対しては、第１撹拌ユニット駆動機構４４を制御して、第１撹拌ユニット２１２の超音波撹拌機構４００の向きを、超音波が高い方向に向けて照射されるように設定する。一方、図１６に示すように、標準位置より取り付け位置の低い反応セル２０１１に対しては、第１撹拌ユニット２１２を制御して、第１撹拌ユニット２１２の超音波撹拌機構４００の向きを、超音波が低い方向に向けて照射されるように設定する。
Alternatively, in the present embodiment, the direction of the
より詳細には、制御回路９の測定制御機能９３は、上述した図８乃至図１１に示した底面位置テーブルのいずれかを記憶回路８から読み出して、超音波撹拌機構４００の超音波を照射する向き制御する。例えば、図８に示した底面位置テーブルを用いる場合、制御回路９の測定制御機能９３は、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘが反応セル２０１１ａの底面２０１１ｘに接触するまでの電気パルス数に基づいて、反応セル２０１１が標準位置よりもどの程度の距離離れているのかを算出し、この算出された距離に基づいて、超音波撹拌機構４００の方向を調整する。この点は、図９に示す底面位置テーブルを用いる場合も同様である。
More specifically, the
図１０及び図１１に示す底面位置テーブルのいずれかを用いる場合には、すでに距離に換算された反応セル２０１１の底面２０１１ｘが記憶されているので、この距離に基づいて、測定制御機能９３は、超音波撹拌機構４００の方向を調整する。
When any of the bottom position tables shown in FIGS. 10 and 11 is used, the
なお、超音波撹拌機構４００は、高さ方向の位置と超音波の照射方向の双方を制御できるようにしてもよい。この場合、制御回路９の測定制御機能９３は、記憶回路８から読み出した底面位置テーブルに示されている反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置に関する情報に基づいて、超音波撹拌機構４００の高さ方向の位置と向きの双方を調整することとなる。
The
本実施形態においては、上述した第１実施形態と異なり、超音波撹拌機構４００を有する第１撹拌ユニット２１２及び超音波撹拌機構４００を有する第２撹拌ユニット２１３が、撹拌手段を構成している。制御回路９の測定制御機能９３が、第１撹拌ユニット駆動機構４４及び第２撹拌ユニット駆動機構４５の制御を介して、撹拌手段である第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３の制御を行う撹拌制御手段を構成している。
In the present embodiment, unlike the first embodiment described above, the
以上のように、本実施形態に係る自動分析装置１によれば、記憶回路８に記憶されている反応セルの底面の位置に基づいて、超音波撹拌機構４００の高さ方向の位置と超音波の照射方向の少なくとも一方を制御するようにしたので、複数ある反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置にばらつきがあったとしても、そのばらつきを吸収して、超音波を用いた撹拌の位置を一定にすることができる。このため、反応セルの内部に収容されている反応液が飛び散ったり、うまく撹拌できないといったりする問題を回避することができる。この結果、検体である被検試料が少量であっても、精度よく生化学検査項目の測定を行うことができる。
As described above, according to the
〔第３実施形態〕
上述した第１実施形態及び第２実施形態においては、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注プローブ２０９、及び、第２試薬分注プローブ２１１のいずれかの分注プローブを用いて、複数ある反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を予め測定し、被検試料の分析を行う場合には、この予め測定した反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置に基づいて、制御回路９の測定制御機能９３は、反応セル２０１１の高さのばらつきを吸収するようにした。
[Third Embodiment]
In the first embodiment and the second embodiment described above, there are a plurality of using any of the
このことから分かるように、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注プローブ２０９、及び、第２試薬分注プローブ２１１の分注プローブの取り付けには、高い精度が要求される。すなわち、これらの分注プローブの長さや高さにばらつきがあっては、精度よく、反応セル２０１１の底面２０１１ｘを検出することはできない。このため、第３実施形態においては、第１実施形態及び第２実施形態に係る自動分析装置１に、追加的に、プローブ補正機構を設け、これら分析プローブを交換した際に、取り付け誤差や長さ等の個体差を補正できるようにしたものである。以下、上述した第１実施形態及び第２実施形態と異なる部分を説明する。
As can be seen from this, high accuracy is required for attaching the
図１７は、本実施形態に係る自動分析装置１における分析機構２の部分的な斜視図である。この図１７に示すように、本実施形態においては、分析機構２の基部となる反応ベース２２０に、１又は複数のターゲット２２２が設けられている。本実施形態においては、特に、このターゲット２２２は、反応ベース２２０と一体構造で製作されている。このため、反応ベース２２０とターゲット２２２の相対的な位置関係、特に高さ関係は、固定的なものとる。このため、反応ベース２２０に配置される種々の機構とターゲット２２２との相対的な位置関係も、固定的なものとなる。
FIG. 17 is a partial perspective view of the
また、本実施形態においては、ターゲット２２２は、水平な上面を有する円柱状の固定部材で構成されている。このターゲット２２２の形状や大きさは任意であるが、分注プローブに取り付け誤差や長さ等の個体差が生じたとしても、その先端が接触し得る程度の面積は必要となる。また、分注プローブの先端が接触した際に、高さや位置がずれない程度の安定性が必要となる。
Further, in the present embodiment, the
さらに、本実施形態においては、このターゲット２２２は、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注プローブ２０９、及び、第２試薬分注プローブ２１１のそれぞれの分注プローブの回動軌道上に位置している。すなわち、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道上に１つのターゲット２２２が設けられており、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道上にも１つのターゲット２２２が設けられている。図示はされていないが、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道上にも１つのターゲット２２２が設けられている。但し、すべての分注プローブに対してターゲット２２２が設けられている必要はなく、例えば、反応セル２０１１の底面２０１１ｘの位置を検出するために用いる分注プローブに対してターゲット２２２が設けられていれば足りる。
Further, in the present embodiment, the
そして、サンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注プローブ２０９、及び、第２試薬分注プローブ２１１の分注プローブを交換した場合には、制御回路９は、これらの分注プローブの先端をターゲット２２２に接触させて、分注プローブの取り付け誤差や長さ等の個体差を測定する。
Then, when the
例えば、サンプル分注プローブ２０７を交換した場合、操作者等からの指示に基づいて、制御回路９は、サンプル分注プローブ駆動機構４１を制御して、サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘをターゲット２２２に接触させる。サンプル分注プローブ２０７の先端２０７ｘがターゲット２２２に接触するまでの降下量は、設計上定まっている。設計上の降下量を標準降下量とすると、この標準降下量と、測定された降下量との誤差を補正値として保持する。この補正値は、サンプル分注プローブ補正値として、例えば、記憶回路８に記憶させる。
For example, when the
制御回路９の測定制御機能９３は、被検試料の分析を行う際には、記憶回路８から、このサンプル分注プローブ補正値を読み出して、サンプル分注プローブ２０７を降下させる動作を行う際には、その降下量の補正を行う。これにより、サンプル分注プローブ２０７の取り付け誤差や長さ等の個体差を吸収して、高い精度でサンプル分注プローブ２０７の降下量を制御することができる。
The
このことは、第１試薬分注プローブ２０９や第２試薬分注プローブ２１１についても同様である。さらには、第１実施形態における第１撹拌ユニット２１２及び第２撹拌ユニット２１３にも、同様にターゲット２２２を配置し、第１撹拌アーム２１２１及び第２撹拌アーム２１３１の取り付け誤差や長さ等の個体差を測定した上で、これらの誤差を被検試料の測定の際には補正して吸収するようにしてもよい。
This also applies to the first
以上のように、本実施形態に係る自動分析装置１によれば、分析機構２の反応ベース２２０にターゲット２２２を設け、このターゲット２２２を用いてサンプル分注プローブ２０７、第１試薬分注プローブ２０９、及び、第２試薬分注プローブ２１１の分注プローブの取り付け誤差や長さ等の個体差を測定し、これらの誤差を、被検試料を用いた実際の測定の際には、補正により吸収するようにした。このため、高い精度で分注プローブの降下量の制御を行うことができ、分注精度や撹拌精度をより高めることができる。
As described above, according to the
以上、いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例としてのみ提示したものであり、発明の範囲を限定することを意図したものではない。本明細書で説明した新規な装置および方法は、その他の様々な形態で実施することができる。また、本明細書で説明した装置および方法の形態に対し、発明の要旨を逸脱しない範囲内で、種々の省略、置換、変更を行うことができる。添付の特許請求の範囲およびこれに均等な範囲は、発明の範囲や要旨に含まれるこのような形態や変形例を含むように意図されている。 Although some embodiments have been described above, these embodiments are presented only as examples and are not intended to limit the scope of the invention. The novel devices and methods described herein can be implemented in a variety of other forms. In addition, various omissions, substitutions, and changes can be made to the forms of the apparatus and method described in the present specification without departing from the gist of the invention. The appended claims and their equivalent scope are intended to include such forms and variations contained within the scope and gist of the invention.
１…自動分析装置、２…分析機構、３…解析回路、４…駆動機構、５…入力インターフェース、６…出力インターフェース、７…通信インターフェース、８…記憶回路、９…制御回路、３１…検量データ生成機能、３２…分析データ生成機能、４１…サンプル分注プローブ駆動機構、４２…第１試薬分注プローブ駆動機構、４３…第２試薬分注プローブ駆動機構、４４…第１撹拌ユニット駆動機構、４５…第２撹拌ユニット駆動機構、９１…システム制御機能、９２…校正制御機能、９３…測定制御機能、２０１…反応ディスク、２０２…恒温部、２０３…サンプルディスク、２０４…第１試薬庫、２０５…第２試薬庫、２０６…サンプル分注アーム、２０７…サンプル分注プローブ、２０７ｘ…先端、２０８…第１試薬分注アーム、２０９…第１試薬分注プローブ、２０９ｘ…先端、２１０…第２試薬分注アーム、２１１…第２試薬分注プローブ、２１２…第１撹拌ユニット、２１３…第２撹拌ユニット、２１４…測光ユニット、２１５…洗浄ユニット、２２０…反応ベース、２２２…ターゲット、３００…接触センサ、３０１…中継部材、３０２…検出板、３０３…フォトインタラプタ、４００…超音波撹拌機構、２０１１…反応セル、２０１１ａ…反応セル、２０１１ｂ…反応セル、２０１１ｃ…反応セル、２０１１ｘ…底面、２０４１…試薬ラック、２０５１…試薬ラック、２１２１…第１撹拌アーム、２１２１ｘ…先端、２１３１…第２撹拌アーム、ＮＷ…病院内ネットワーク 1 ... Automatic analyzer, 2 ... Analysis mechanism, 3 ... Analysis circuit, 4 ... Drive mechanism, 5 ... Input interface, 6 ... Output interface, 7 ... Communication interface, 8 ... Storage circuit, 9 ... Control circuit, 31 ... Calibration data Generation function, 32 ... Analytical data generation function, 41 ... Sample dispensing probe driving mechanism, 42 ... First reagent dispensing probe driving mechanism, 43 ... Second reagent dispensing probe driving mechanism, 44 ... First stirring unit driving mechanism, 45 ... 2nd stirring unit drive mechanism, 91 ... system control function, 92 ... calibration control function, 93 ... measurement control function, 201 ... reaction disk, 202 ... constant temperature part, 203 ... sample disk, 204 ... first reagent storage, 205 ... Second reagent storage, 206 ... Sample dispensing arm, 207 ... Sample dispensing probe, 207x ... Tip, 208 ... First reagent dispensing arm, 209 ... First reagent dispensing probe, 209x ... Tip, 210 ... Second Reagent dispensing arm, 211 ... 2nd reagent dispensing probe, 212 ... 1st stirring unit, 213 ... 2nd stirring unit, 214 ... Photometric unit, 215 ... Washing unit, 220 ... Reaction base, 222 ... Target, 300 ... Contact Sensor, 301 ... Relay member, 302 ... Detection plate, 303 ... Photo interrupter, 400 ... Ultrasonic stirring mechanism, 2011 ... Reaction cell, 2011a ... Reaction cell, 2011b ... Reaction cell, 2011c ... Reaction cell, 2011x ... Bottom surface, 2041 ... Reagent rack, 2051 ... Reagent rack, 2121 ... 1st stirring arm, 2121x ... Tip, 2131 ... 2nd stirring arm, NW ... In-hospital network
Claims (14)
検体又は試薬を吸引する分注プローブと、
前記分注プローブの先端が物理的に前記複数の反応セルの底面に接触したことを検出する接触センサにより、前記複数の反応セルの底面の位置を検出する位置検出手段と、
前記反応セルの底面の位置を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶されている前記反応セルの底面の位置に基づいて、撹拌手段を制御する撹拌制御手段と、
を備える自動分析装置。 A holding unit that holds multiple reaction cells,
With a dispensing probe that sucks the sample or reagent,
A position detecting means for detecting the positions of the bottom surfaces of the plurality of reaction cells by a contact sensor that detects that the tip of the dispensing probe physically touches the bottom surfaces of the plurality of reaction cells.
A storage means for storing the position of the bottom surface of the reaction cell and
A stirring control means for controlling the stirring means based on the position of the bottom surface of the reaction cell stored in the storage means, and a stirring control means.
An automatic analyzer equipped with.
前記記憶手段は、前記位置検出手段が検出した前記複数の反応セルの底面の位置を、前記プローブ駆動機構が前記分注プローブを、前記複数の反応セルの底面の位置を検出するまでの降下量として記憶する、
請求項１又は請求項２に記載の自動分析装置。 It further includes a probe drive mechanism that lowers and raises the dispensing probe.
The storage means is the amount of descent until the probe driving mechanism detects the position of the bottom surface of the plurality of reaction cells detected by the position detecting means, the dispensing probe, and the position of the bottom surface of the plurality of reaction cells. Remember as,
The automatic analyzer according to claim 1 or 2.
前記複数の反応セルの底面の位置は、前記プローブ駆動機構が前記分注プローブを前記複数の反応セルの底面を検出するまで前記分注プローブを降下させた電気パルス数として計測される、請求項３に記載の自動分析装置。 The probe drive mechanism is configured to include a motor controlled by an electric pulse.
The position of the bottom surface of the plurality of reaction cells is measured as the number of electric pulses in which the dispensing probe is lowered until the probe driving mechanism detects the bottom surface of the plurality of reaction cells. The automatic analyzer according to 3.
前記撹拌駆動機構は、電気パルスにより制御されるモータを備えて構成されており、
前記撹拌制御手段は、前記記憶手段に記憶されている前記複数の反応セルの底面の位置から、前記撹拌駆動機構のモータを駆動する電気パルス数を算出し、この算出された電気パルス数に基づいて、前記撹拌手段を降下させる、
請求項４に記載の自動分析装置。 A stirring drive mechanism for lowering and raising the stirring means is further provided.
The stirring drive mechanism is configured to include a motor controlled by an electric pulse.
The stirring control means calculates the number of electric pulses for driving the motor of the stirring driving mechanism from the positions of the bottom surfaces of the plurality of reaction cells stored in the storage means, and is based on the calculated number of electric pulses. To lower the stirring means.
The automatic analyzer according to claim 4.
前記分注プローブに前記ターゲットに接触させて、前記分注プローブの誤差を測定し、この誤差に基づいて前記分注プローブの降下量を補正する、請求項１乃至請求項１３のいずれかに記載の自動分析装置。 It further comprises a target provided on the reaction base which is the base of the holding and the placement of the dispensing probe.
13. Automatic analyzer.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024075437A1 (en) * | 2022-10-06 | 2024-04-11 | 株式会社日立ハイテク | Dispensing device and probe state confirmation method |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11352132A (en) * | 1998-06-05 | 1999-12-24 | Aloka Co Ltd | Nozzle device |
| JP2002228670A (en) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Arkray Inc | Method and apparatus for supplying very small amount of liquid, and apparatus for mixing the very small amount of liquid |
| JP2010127712A (en) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Toshiba Corp | Autoanalyzer |
| JP2010175417A (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | Automatic analyzer |
| JP2010236967A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Hitachi High-Technologies Corp | Automatic analyzer |
| JP2013064673A (en) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Hitachi High-Technologies Corp | Automatic analyzer |
| US20160195457A1 (en) * | 2014-11-07 | 2016-07-07 | Theranos, Inc. | Methods, devices, and systems for mixing fluids |
-
2020
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11352132A (en) * | 1998-06-05 | 1999-12-24 | Aloka Co Ltd | Nozzle device |
| JP2002228670A (en) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Arkray Inc | Method and apparatus for supplying very small amount of liquid, and apparatus for mixing the very small amount of liquid |
| JP2010127712A (en) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Toshiba Corp | Autoanalyzer |
| JP2010175417A (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | Automatic analyzer |
| JP2010236967A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Hitachi High-Technologies Corp | Automatic analyzer |
| JP2013064673A (en) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Hitachi High-Technologies Corp | Automatic analyzer |
| US20160195457A1 (en) * | 2014-11-07 | 2016-07-07 | Theranos, Inc. | Methods, devices, and systems for mixing fluids |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024075437A1 (en) * | 2022-10-06 | 2024-04-11 | 株式会社日立ハイテク | Dispensing device and probe state confirmation method |
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| Publication number | Publication date |
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