JP2021166281A - Organic thin film and organic thin film manufacturing method, organic electroluminescent element, display device, lighting device, organic thin-film solar battery, photoelectric conversion element, thin-film transistor, coating composition, and organic electroluminescent element material - Google Patents

Organic thin film and organic thin film manufacturing method, organic electroluminescent element, display device, lighting device, organic thin-film solar battery, photoelectric conversion element, thin-film transistor, coating composition, and organic electroluminescent element material Download PDF

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Hirohiko Fukagawa
翼 佐々木
Tasuku Sasaki
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Munehiro Hasegawa
克行 森井
Katsuyuki Morii
裕樹 福留
Hiroki Fukutome
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Abstract

To provide an organic thin film that can expand choice of materials used between a luminescent layer and a negative electrode in an organic EL element.SOLUTION: The organic thin film is either a single film containing a first material, which is a compound with a structure represented by general formula (1), and a second material, which is a compound without any structure of coordination to alkali metal in a molecule, or a laminated film of a film containing the first material and a film containing the second material. (In general formula (1), X1 and X2 are identical or different and each represent a nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom or divalent linking group optionally having substituents.)SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、有機薄膜及び有機薄膜の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス(以下、エレクトロルミネッセンス(電界発光)を「EL」と記す場合がある。)素子、表示装置、照明装置、有機薄膜太陽電池、光電変換素子、薄膜トランジスタ、塗料組成物、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料に関する。 The present invention relates to an organic thin film, a method for producing an organic thin film, an organic electroluminescence (hereinafter, electroluminescence (electroluminescence) may be referred to as "EL") element, a display device, a lighting device, an organic thin film solar cell, and a photoelectric system. The present invention relates to a conversion element, a thin film, a coating composition, and a material for an organic electroluminescence element.

有機EL素子は、薄く、柔軟でフレキシブルである。また、有機EL素子を用いた表示装置は、現在主流となっている液晶表示装置及びプラズマ表示装置と比べて、高輝度、高精細な表示が可能である。また、有機EL素子を用いた表示装置は、液晶表示装置に比べて視野角が広い。このため、有機EL素子を用いた表示装置は、今後、テレビや携帯電話のディスプレイ等としての利用の拡大が期待されている。
また、有機EL素子は、照明装置としての利用も期待されている。
Organic EL devices are thin, flexible and flexible. Further, a display device using an organic EL element is capable of high-luminance and high-definition display as compared with the liquid crystal display device and the plasma display device which are currently mainstream. Further, the display device using the organic EL element has a wider viewing angle than the liquid crystal display device. Therefore, display devices using organic EL elements are expected to be widely used as displays for televisions and mobile phones in the future.
Further, the organic EL element is also expected to be used as a lighting device.

有機EL素子は、陰極と発光層と陽極とが積層されたものである。有機EL素子では、陽極の仕事関数と発光層の最高占有軌道(HOMO)とのエネルギー差は、陰極の仕事関数と発光層の最低非占有軌道(LUMO)とのエネルギー差と比較して小さい。従って、発光層に、陽極から正孔を注入することと比較して、陰極から電子を注入することは困難である。このため、従来の有機EL素子では、陰極と発光層との間に、電子注入層を配置して、陰極から発光層への電子の注入を促進している。該電子注入層に最も広く使われている材料は、フッ素化リチウム(LiF)等のアルカリ金属の塩や、リチウムキノリン(Liq)等のアルカリ金属を含む錯体である(例えば、非特許文献1、非特許文献2参照)。
また、発光層と電子注入層の間に、更に電子輸送層を設けることも広く行われており、該電子輸送層の材料としては、電子を輸送し易い材料として、ピリジン等の窒素を含む複素環を有する化合物が用いられてきた(例えば、非特許文献3参照)。これら電子を輸送し易い材料中に含まれる複素環中の窒素とLiとの間の相互作用が、陰極からの電子注入障壁を下げることが報告されている(非特許文献2参照)。そして、電子を輸送し易い材料におけるLiと配位可能な部位に立体障害があると、電子注入がし難くなることが報告されている(非特許文献4参照)
The organic EL element is a stack of a cathode, a light emitting layer, and an anode. In the organic EL element, the energy difference between the work function of the anode and the highest occupied orbital (HOMO) of the light emitting layer is small as compared with the energy difference between the work function of the cathode and the lowest unoccupied orbital (LUMO) of the light emitting layer. Therefore, it is difficult to inject electrons from the cathode as compared to injecting holes into the light emitting layer from the anode. Therefore, in the conventional organic EL element, an electron injection layer is arranged between the cathode and the light emitting layer to promote the injection of electrons from the cathode to the light emitting layer. The most widely used material for the electron injection layer is a complex containing an alkali metal salt such as lithium fluorinated (LiF) or an alkali metal such as lithium quinoline (Liq) (for example, Non-Patent Document 1, Non-Patent Document 1, See Non-Patent Document 2).
Further, it is widely practiced to further provide an electron transport layer between the light emitting layer and the electron injection layer, and the material of the electron transport layer is a complex containing nitrogen such as pyridine as a material that easily transports electrons. Compounds having a ring have been used (see, for example, Non-Patent Document 3). It has been reported that the interaction between nitrogen and Li in a heterocycle contained in a material that easily transports electrons lowers the electron injection barrier from the cathode (see Non-Patent Document 2). It has been reported that if there is a steric hindrance at a site that can coordinate with Li in a material that easily transports electrons, it becomes difficult to inject electrons (see Non-Patent Document 4).

複素環中の窒素とLiとの間の相互作用を利用した電子注入手法に対し、近年、リチウム等の不安定なアルカリ金属を用いない、電子注入手法が幾つか提案されている。そのうちの一つが、塩基性材料と有機化合物との間の水素結合を利用した電子注入手法である(例えば、非特許文献5参照)。もう一つの手法として、フェナントロリン誘導体と金属との間の配位結合を利用することで、電極/有機層界面での電子注入障壁を大きく下げることが、非特許文献6及び7に報告されており、電極と電子を輸送する材料との界面に、フェナントロリン誘導体からなる有機薄膜を形成することが広く行われている。 In contrast to the electron injection method that utilizes the interaction between nitrogen and Li in the heterocycle, several electron injection methods that do not use an unstable alkali metal such as lithium have been proposed in recent years. One of them is an electron injection method using a hydrogen bond between a basic material and an organic compound (see, for example, Non-Patent Document 5). As another method, it has been reported in Non-Patent Documents 6 and 7 that the electron injection barrier at the electrode / organic layer interface is significantly lowered by utilizing the coordination bond between the phenanthroline derivative and the metal. It is widely practiced to form an organic thin film made of a phenanthroline derivative at the interface between an electrode and a material that transports electrons.

L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997)L. S. Hung, C.I. W. Tang, and M. et al. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997) Sato, S. et al. Air−Stable and High−Performance Solution−Processed Organic Light−Emitting Devices Based on Hydrophobic Polymeric Ionic Liquid Carrier−Injection Layers. Adv Mater 30, e1705915, (2014)Sato, S.M. et al. Air-Stable and High-Performance Solution-Proceeded Organic Light-Emitting Devices Based on Hydrophobic Polymeric Ionic Liquid Carrier-Injection. Advanced Materials 30, e1705915, (2014) Lixin xiao, Zhijian Chen , Bo Qu , Jiaxiu Luo , Sheng Kong , Qihuang Gong , and Junji Kido, Adv Mater 23, 926−952 (2011)Lixin xiao, Zhijian Chen, Bo Qu, Jiaxiu Luo, Sheng Kong, Qihang Gong, and Junji Kido, Adv Matter 23, 926-95 Yong−Jin Pu, Makoto Yoshizaki, Takahiro Akiniwa, Junji Kido, Organic Electronics, 10, 877−882 (2009)Yong-Jin Pu, Makoto Yoshizaki, Takahiro Akiniwa, Junji Kido, Organic Electronics, 10, 877-882 (2009) ヒロヒコ フカガワ(Hirohiko Fukagawa)、外5名、「アドバンスト マテリアルズ(Advanced Materials)」、第31巻、2019年、p1904201Hirohiko Fukagawa, 5 outsiders, "Advanced Materials", Vol. 31, 2019, p1904201 ヒロユキ ヨシダ、「ジャーナル オブ フィジカル ケミストリー(J. Phys. Chem. C20151194324459−24464)」、第119巻、2015年、p24459Hiroyuki Yoshida, "Journal of Physical Chemistry (J. Phys. Chem. C201511943244459-24464)", Vol. 119, 2015, p24459 ゼンヤン ビン(Zhengyang Bin)、外7名、「ネイチャー コミュニケーションズ(Nature Communications)」、第10巻、2019年、p866Zhengyang Bin, 7 outsiders, "Nature Communications", Volume 10, 2019, p866

上記の通り、有機EL素子において、発光層と陰極との間(電子輸送層)に用いられる材料は、電子を輸送し易い材料として、ピリジン等の窒素を含む複素環を有する化合物に限られており、使える材料の自由度が低かった。ピリジン等の窒素を含む複素環を有する必要がなければ、材料設計の自由度も向上し、デバイスの駆動安定性の向上、駆動電圧の低下、発光効率の向上等が期待できる。 As described above, in the organic EL element, the material used between the light emitting layer and the cathode (electron transport layer) is limited to a compound having a heterocycle containing nitrogen such as pyridine as a material that easily transports electrons. The degree of freedom of usable materials was low. If it is not necessary to have a heterocycle containing nitrogen such as pyridine, the degree of freedom in material design is improved, and it can be expected that the driving stability of the device is improved, the driving voltage is lowered, and the luminous efficiency is improved.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、有機EL素子において発光層と陰極との間に用いる材料の選択肢を広げることが可能な有機薄膜、該有機薄膜の製造方法、該有機薄膜の製造に好適に用いることができる塗料組成物、並びに、これら有機薄膜や塗料組成物の原料となる有機EL素子用材料を提供することを課題とする。
また、本発明は、前記有機薄膜を用いた有機EL素子、該有機EL素子を具えた表示装置及び照明装置、並びに、前記有機薄膜を含む有機薄膜太陽電池、光電変換素子及び有機薄膜トランジスタを提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is an organic thin film capable of expanding the choice of materials used between the light emitting layer and the cathode in an organic EL device, a method for producing the organic thin film, and the organic thin film. It is an object of the present invention to provide a coating composition which can be suitably used for the production of the above, and a material for an organic EL device which is a raw material of these organic thin films and coating compositions.
The present invention also provides an organic EL element using the organic thin film, a display device and a lighting device provided with the organic EL element, an organic thin film solar cell including the organic thin film, a photoelectric conversion element, and an organic thin film transistor. That is the issue.

本発明者等は、これまでの有機EL素子の電子注入層及び電子輸送層に用いられる材料及び電子注入メカニズムに注目した。陰極からの電子注入障壁を下げる電子注入層として、LiFに代表されるアルカリ金属塩を用いることが主流となったことにより、電子輸送層は、Liと効果的に相互作用できるピリジン等の窒素を含む複素環を有する化合物に限られていると考えた。そして、本発明者等は、鋭意検討した結果、陰極に隣接するように、フェナントロリン誘導体を成膜した際の配位結合の形成により、陰極から電子輸送層に電子が入り易い状態を作っておけば、電子輸送層にピリジン等の窒素を含む複素環を有する化合物を用いる必要がなくなり、電子輸送層に使える材料の選択肢が大きく広がることを見出した。
即ち、下記の一般式(1)で表される化合物と陰極間の配位相互作用により、陰極から有機層への電子注入障壁が下がっていれば、電子輸送層に使える材料は、従来のピリジン等の窒素を含む複素環を有する化合物に限定されることがなく、例えば、芳香族炭化水素化合物、窒素−ホウ素結合を有する化合物、π電子過剰系複素芳香族化合物、シロール環を含む化合物、等も有機EL素子における電子輸送層に用いることができる。
本発明は、上記の知見に基づいて完成されたものであり、その要旨は、以下のとおりである。
The present inventors have paid attention to the materials and the electron injection mechanism used for the electron injection layer and the electron transport layer of the organic EL element so far. Since it has become mainstream to use alkali metal salts typified by LiF as the electron injection layer that lowers the electron injection barrier from the cathode, the electron transport layer contains nitrogen such as pyridine that can effectively interact with Li. It was considered that it was limited to compounds having a heterocycle containing it. Then, as a result of diligent studies, the present inventors should create a state in which electrons can easily enter the electron transport layer from the cathode by forming a coordination bond when the phenanthroline derivative is formed so as to be adjacent to the cathode. For example, it has been found that it is no longer necessary to use a compound having a heterocycle containing nitrogen such as pyridine in the electron transport layer, and the choice of materials that can be used in the electron transport layer is greatly expanded.
That is, if the electron injection barrier from the cathode to the organic layer is lowered by the coordination interaction between the compound represented by the following general formula (1) and the cathode, the material that can be used for the electron transport layer is the conventional pyridine. The compound is not limited to a compound having a heterocycle containing nitrogen, for example, an aromatic hydrocarbon compound, a compound having a nitrogen-boron bond, a π-electron-rich heteroaromatic compound, a compound containing a silol ring, and the like. Can also be used as an electron transport layer in an organic EL element.
The present invention has been completed based on the above findings, and the gist thereof is as follows.

[1] 下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜との積層膜であることを特徴とする、有機薄膜。

Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。) [1] A single material containing a first material which is a compound having a structure represented by the following general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. An organic thin film, which is a film or a laminated film of a film containing the first material and a film containing the second material.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).

[2] 前記第2材料が、構造中に炭素−窒素二重結合を有しない芳香族複素環を有する化合物である、[1]に記載の有機薄膜。 [2] The organic thin film according to [1], wherein the second material is a compound having an aromatic heterocycle having no carbon-nitrogen double bond in the structure.

[3] 前記第2材料が、分子中にπ電子不足系芳香族複素環を有しない化合物である、[1]に記載の有機薄膜。 [3] The organic thin film according to [1], wherein the second material is a compound having no π-electron-deficient aromatic heterocycle in the molecule.

[4] 前記第2材料が、下記一般式(2)で表される化合物である、[1]〜[3]のいずれかに記載の有機薄膜。

Figure 2021166281
(一般式(2)中、Yは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環、π電子過剰芳香族複素環、ケイ素及び/又はホウ素を構成元素として含むπ共役系環状構造を表す。Wは、連結基又は直接結合を表す。Zは、構造中に炭素−窒素二重結合を含まないアリール基を表す。rは1〜6の整数である。sは1〜6の整数である。) [4] The organic thin film according to any one of [1] to [3], wherein the second material is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 2021166281
(In the general formula (2), Y is a π-conjugated cyclic structure containing an aromatic hydrocarbon ring, a π-electron excess aromatic heterocycle, silicon and / or boron as constituent elements, which may have a substituent. W represents a linking group or a direct bond. Z represents an aryl group that does not contain a carbon-nitrogen double bond in the structure. R is an integer of 1 to 6. S is an integer of 1 to 6. It is an integer.)

[5] 前記第1材料は、一般式(1)におけるnが0の化合物である、[1]〜[4]のいずれかに記載の有機薄膜。 [5] The organic thin film according to any one of [1] to [4], wherein the first material is a compound in which n in the general formula (1) is 0.

[6] 前記第2材料は、芳香族炭化水素化合物、窒素−ホウ素結合を有する化合物、π電子過剰系複素芳香族化合物、シロール環を含む化合物、のいずれかもしくは複数である、[1]〜[5]のいずれかに記載の有機薄膜。 [6] The second material is one or more of an aromatic hydrocarbon compound, a compound having a nitrogen-boron bond, a π-electron excess complex aromatic compound, and a compound containing a silol ring, [1] to The organic thin film according to any one of [5].

[7] 酸化物層と、該酸化物層上に形成された[1]〜[6]のいずれかに記載の有機薄膜の層と、からなることを特徴とする、積層膜。 [7] A laminated film comprising an oxide layer and a layer of an organic thin film according to any one of [1] to [6] formed on the oxide layer.

[8] 陰極と陽極との間に、発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陰極と前記発光層との間に、[1]〜[6]のいずれかに記載の有機薄膜又は[7]に記載の積層膜を有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
[8] An organic electroluminescence device having a light emitting layer between a cathode and an anode.
An organic electroluminescence device comprising the organic thin film according to any one of [1] to [6] or the laminated film according to [7] between the cathode and the light emitting layer.

[9] 前記陰極と前記有機薄膜との間に、酸化物層を有する、[8]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [9] The organic electroluminescence device according to [8], which has an oxide layer between the cathode and the organic thin film.

[10] 前記陰極と前記発光層との間に、前記第1材料と第2材料とを含む膜と、前記第2材料を含む膜と、の積層膜を有する、[8]又は[9]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [10] [8] or [9] having a laminated film of a film containing the first material and the second material and a film containing the second material between the cathode and the light emitting layer. The organic electroluminescence element described in 1.

[11] 前記発光層と、前記第1材料と第2材料とを含む膜との間に、前記第2材料を含む膜を有する、[10]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [11] The organic electroluminescence device according to [10], which has a film containing the second material between the light emitting layer and the film containing the first material and the second material.

[12] 前記陰極と、前記第1材料と第2材料とを含む膜との間に、前記第2材料を含む膜を有する、[10]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [12] The organic electroluminescence device according to [10], which has a film containing the second material between the cathode and a film containing the first material and the second material.

[13] 前記陽極と前記発光層との間に、前記第2材料を含む層を有する、[8]〜[12]のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [13] The organic electroluminescence device according to any one of [8] to [12], which has a layer containing the second material between the anode and the light emitting layer.

[14] 前記発光層が、前記第2材料を含む、[8]〜[13]のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [14] The organic electroluminescence device according to any one of [8] to [13], wherein the light emitting layer contains the second material.

[15] 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。

Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。) [15] An organic electroluminescence element containing a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. Material for.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )

[16] 陰極と陽極との間に、発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陰極と前記陽極との間に、下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物、及び/又は、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物を含む材料層を有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。

Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。) [16] An organic electroluminescence device having a light emitting layer between a cathode and an anode.
A material layer containing a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and / or a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule between the cathode and the anode. An organic electroluminescence element characterized by having.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )

[17] 前記陰極と前記発光層との間に、前記材料層を有する、[16]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [17] The organic electroluminescence device according to [16], which has the material layer between the cathode and the light emitting layer.

[18] 前記陰極と前記材料層との間に、酸化物層を有する、[16]又は[17]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 [18] The organic electroluminescence device according to [16] or [17], which has an oxide layer between the cathode and the material layer.

[19] [8]〜[14]、[16]〜[18]のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする、表示装置。 [19] A display device comprising the organic electroluminescence device according to any one of [8] to [14] and [16] to [18].

[20] [8]〜[14]、[16]〜[18]のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする、照明装置。 [20] A lighting device comprising the organic electroluminescence device according to any one of [8] to [14] and [16] to [18].

[21] 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、有機薄膜太陽電池用材料。

Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。) [21] An organic thin-film solar cell comprising a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. Material for.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )

[22] [1]〜[6]のいずれかに記載の有機薄膜、[7]に記載の積層膜、又は[21]に記載の有機薄膜太陽電池用材料を含む層のいずれかを含むことを特徴とする、有機薄膜太陽電池。 [22] Includes any of the organic thin film according to any one of [1] to [6], the laminated film according to [7], or the layer containing the organic thin film solar cell material according to [21]. An organic thin-film solar cell characterized by.

[23] 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、光電変換素子用材料。

Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。) [23] For a photoelectric conversion element, which comprises a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. material.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )

[24] [1]〜[6]のいずれかに記載の有機薄膜、[7]に記載の積層膜、又は[23]に記載の光電変換素子用材料を含む層のいずれかを含むことを特徴とする、光電変換素子。 [24] The inclusion of any of the organic thin film according to any one of [1] to [6], the laminated film according to [7], or the layer containing the material for a photoelectric conversion element according to [23]. A featured photoelectric conversion element.

[25] 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、有機トランジスタ用材料。

Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。) [25] A material for an organic transistor, which comprises a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. ..
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )

[26] [1]〜[6]のいずれかに記載の有機薄膜、[7]に記載の積層膜、又は[25]に記載の有機トランジスタ用材料を含む層のいずれかを含むことを特徴とする、薄膜トランジスタ。 [26] It is characterized by including any of the organic thin film according to any one of [1] to [6], the laminated film according to [7], or the layer containing the organic transistor material according to [25]. Thin film transistor.

[27] 下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含むことを特徴とする、塗料組成物。

Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。) [27] It is characterized by containing a first material which is a compound having a structure represented by the following general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. The paint composition.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).

[28] 下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む単一の膜を被形成面上に形成する工程、又は、
前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、を被形成面上に順に形成する工程、を含むことを特徴とする、有機薄膜の製造方法。

Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。) [28] A single material containing a first material which is a compound having a structure represented by the following general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. The process of forming a film on the surface to be formed, or
A method for producing an organic thin film, which comprises a step of sequentially forming a film containing the first material and a film containing the second material on a surface to be formed.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).

[29] 下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料含む膜を、第2材料を含む被形成面上に形成する工程を含むことを特徴とする、有機薄膜の製造方法。

Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。) [29] An organic thin film comprising a step of forming a film containing a first material, which is a compound having a structure represented by the following general formula (1), on a surface to be formed containing the second material. Production method.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).

本発明の有機薄膜は、電子供与性の特定の有機材料からなる第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む。このため、本発明の有機薄膜を、例えば、有機EL素子の電子注入層に用いた場合、従来のアルカリ金属からの電子注入を前提とした電子輸送層に比べ、材料の選択肢が大きく広がる。これにより、優れた電子注入性、電子輸送性が得られ、更に有機EL素子を長寿命化させる効果も得られる。 The organic thin film of the present invention includes a first material made of a specific electron-donating organic material and a second material which is a compound having no structure of coordinating to an alkali metal in the molecule. Therefore, when the organic thin film of the present invention is used, for example, in the electron injection layer of an organic EL element, the choice of materials is greatly expanded as compared with the conventional electron transport layer premised on electron injection from an alkali metal. As a result, excellent electron injection and electron transport properties can be obtained, and the effect of extending the life of the organic EL device can also be obtained.

また、本発明の有機EL素子は、陰極と発光層との間に本発明の有機薄膜を有するため、有機薄膜によって優れた電子注入性、電子輸送性が得られ、更に有機EL素子を長寿命化させる効果も得られる。 Further, since the organic EL device of the present invention has the organic thin film of the present invention between the cathode and the light emitting layer, excellent electron injection and electron transport properties can be obtained by the organic thin film, and the organic EL device has a long life. You can also get the effect of making it.

また、電子供与性の窒素原子を複素環内に含む多座配位可能な有機材料である、複数のピリジン環を骨格に含む特定の構造の化合物からなる第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む本発明の有機薄膜は、塗布及び蒸着のいずれの方法によっても形成することが可能であるため、本発明の有機薄膜を含む有機EL素子を製造する場合のプロセス上の制約が少なく、有機EL素子を構成する層の材料として使用し易いものである。本発明の有機薄膜の製造方法は、このような本発明の有機薄膜を製造する方法である。 In addition, a first material composed of a compound having a specific structure containing a plurality of pyridine rings in the skeleton, which is an organic material capable of polydentation containing an electron-donating nitrogen atom in the heterocycle, and an alkali metal in the molecule. Since the organic thin film of the present invention containing the second material, which is a compound having no structure for coordinating to, can be formed by either a coating method or a vapor deposition method, the organic thin film of the present invention is included. There are few process restrictions when manufacturing an organic EL element, and it is easy to use as a material for a layer constituting the organic EL element. The method for producing an organic thin film of the present invention is such a method for producing an organic thin film of the present invention.

また、本発明の塗料組成物は、電子供与性の窒素原子を複素環内に含む多座配位可能な特定の有機材料からなる第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む。従って、本発明の塗料組成物を有機薄膜の被形成面上に塗布することにより、有機EL素子の電子注入層に好適な有機薄膜が得られる。 Further, the coating composition of the present invention has a first material composed of a specific organic material capable of polydentation, which contains an electron-donating nitrogen atom in a heterocycle, and a structure in which the molecule is coordinated to an alkali metal. Includes a second material, which is a compound that does not have. Therefore, by applying the coating composition of the present invention on the surface to be formed of the organic thin film, an organic thin film suitable for the electron injection layer of the organic EL element can be obtained.

本発明の有機EL素子用材料は、有機EL素子等の作製に用いられる本発明の有機薄膜や塗料組成物に用いられる有用な材料である。また、本材料は、単独で電子注入層又は電子輸送層として用いることが可能な点でも有用な材料である。 The material for an organic EL element of the present invention is a useful material used for the organic thin film and the coating composition of the present invention used for producing an organic EL element and the like. In addition, this material is also useful in that it can be used alone as an electron injection layer or an electron transport layer.

本発明の表示装置及び照明装置は、本発明の有機EL素子を具えているため、駆動電圧が低く、優れた特性を有する。
また、本発明の有機薄膜太陽電池、光電変換素子及び有機薄膜トランジスタは、本発明の有機薄膜を含むものであるため、優れた特性を有する。
Since the display device and the lighting device of the present invention include the organic EL element of the present invention, the drive voltage is low and they have excellent characteristics.
Further, since the organic thin film solar cell, the photoelectric conversion element and the organic thin film transistor of the present invention contain the organic thin film of the present invention, they have excellent characteristics.

量子化学計算を用いて算出されたフェナントロリン誘導体(構造式(7)の化合物)に亜鉛原子が隣接した際の電荷分布を示した図である。It is a figure which showed the charge distribution at the time of adjoining a zinc atom to a phenanthroline derivative (compound of structural formula (7)) calculated by using quantum chemistry calculation. 量子化学計算を用いて算出されたフェナントロリン誘導体の静電ポテンシャル、フェナントロリン誘導体に亜鉛原子が隣接した際の電荷移動量、紫外光電子分光法を用いて測定したZnO基板上にフェナントロリン誘導体を成膜した際の仕事関数の変化量を示した図である。Electrostatic potential of phenanthroline derivative calculated using quantum chemistry calculation, charge transfer amount when zinc atom is adjacent to phenanthroline derivative, when phenanthroline derivative is formed on a ZnO substrate measured by ultraviolet photoelectron spectroscopy. It is a figure which showed the change amount of the work function of. 紫外光電子分光法により測定した、各薄膜の仕事関数に相当する二次電子のカットオフ領域のスペクトルである。It is a spectrum of the cutoff region of secondary electrons corresponding to the work function of each thin film measured by ultraviolet photoelectron spectroscopy. 本発明の有機EL素子の一例を説明するための概略断面図である。It is the schematic sectional drawing for demonstrating an example of the organic EL element of this invention. 本発明の有機EL素子の他の一例を説明するための概略断面図である。It is the schematic sectional drawing for demonstrating another example of the organic EL element of this invention. 本発明の有機薄膜の積層構造の一例を示す概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which shows an example of the laminated structure of the organic thin film of this invention. 本発明の有機薄膜の積層構造の他の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the laminated structure of the organic thin film of this invention. 本発明の有機薄膜の積層構造の他の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the laminated structure of the organic thin film of this invention. 本発明の有機薄膜の積層構造の他の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the laminated structure of the organic thin film of this invention. 本発明の有機薄膜の積層構造の他の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the laminated structure of the organic thin film of this invention. 本発明の有機薄膜の積層構造の他の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the laminated structure of the organic thin film of this invention. 本発明の有機EL素子の積層構造の他の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the laminated structure of the organic EL element of this invention. 本発明の有機EL素子の積層構造の他の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the laminated structure of the organic EL element of this invention. 実施例及び比較例に用いた有機薄膜の積層構造を示す概略断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the laminated structure of the organic thin film used in an Example and a comparative example. 実施例1及び比較例1の有機EL素子の印加電圧と輝度の関係を示したグラフである。It is a graph which showed the relationship between the applied voltage and the brightness of the organic EL element of Example 1 and Comparative Example 1. 実施例6及び比較例3の有機EL素子の印加電圧と輝度の関係を示したグラフである。It is a graph which showed the relationship between the applied voltage and the brightness of the organic EL element of Example 6 and Comparative Example 3. 実施例7〜10及び比較例4の有機EL素子の印加電圧と輝度の関係を示したグラフである。3 is a graph showing the relationship between the applied voltage and the brightness of the organic EL elements of Examples 7 to 10 and Comparative Example 4. 実施例11及び比較例5の有機EL素子の印加電圧と輝度の関係を示したグラフである。It is a graph which showed the relationship between the applied voltage and the brightness of the organic EL element of Example 11 and Comparative Example 5.

以下に、本発明の有機薄膜及び有機薄膜の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置、有機薄膜太陽電池、薄膜トランジスタ、塗料組成物、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を、その実施形態に基づき、詳細に例示説明する。 Hereinafter, the organic thin film and the method for producing the organic thin film of the present invention, the organic electroluminescence element, the display device, the lighting device, the organic thin film solar cell, the thin film transistor, the coating composition, and the material for the organic electroluminescence element are described as embodiments thereof. A detailed example will be given based on the above.

<有機薄膜、有機EL素子用材料>
本発明の有機薄膜は、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む。本発明の有機薄膜は、第1材料と第2材料とを含む単一層の膜であってもよく、第1材料を含む層と第2材料を含む層とが積層された積層膜であってもよい。
<Materials for organic thin films and organic EL devices>
The organic thin film of the present invention comprises a first material which is a compound having a structure represented by the following general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. include. The organic thin film of the present invention may be a single-layer film containing a first material and a second material, or is a laminated film in which a layer containing the first material and a layer containing the second material are laminated. May be good.

Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。)
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).

本発明の有機薄膜を構成している第1材料は、電子供与性の窒素原子を複素環内に含む多座配位可能な材料であるため、陰極となる金属原子と強い配位結合を形成し、陰極から有機層への電子注入障壁を低減する大きな界面電気二重層を生じさせる能力を有する。第1材料は、電子供与部である窒素部位に大きな負の静電ポテンシャルを有し、金属に多くの電荷を移動できることが好ましい。第1材料は、静電ポテンシャルが大きく金属への電荷移動量が多い材料である程、界面電気二重層を生じさせる能力がより高いものとなる(ウィンファ チョウ(Yinhua Zho)、外21名、「サイエンス(Science)」、第336巻、2012年、p327参照)。
従って、本発明の有機薄膜は、有機化合物のみから構成される素子だけではなく、特に、有機化合物と無機化合物とで構成される素子に対しても用いることができ、電子注入性や大気安定性を高め、更に素子を長寿命化させる効果を発揮することができる。
Since the first material constituting the organic thin film of the present invention is a multidentate-coordinateable material containing an electron-donating nitrogen atom in a heterocycle, it forms a strong coordination bond with a metal atom serving as a cathode. It has the ability to create a large interfacial electric double layer that reduces the electron injection barrier from the cathode to the organic layer. It is preferable that the first material has a large negative electrostatic potential at the nitrogen moiety, which is an electron donating portion, and can transfer a large amount of electric charge to the metal. As the first material, the larger the electrostatic potential and the larger the amount of charge transfer to the metal, the higher the ability to generate the interfacial electric double layer (Yinhua Zho), 21 outsiders, " See Science, Vol. 336, 2012, p327).
Therefore, the organic thin film of the present invention can be used not only for an element composed of only an organic compound but also for an element composed of an organic compound and an inorganic compound, and has electron injectability and atmospheric stability. It is possible to exert the effect of increasing the life of the element and further extending the life of the element.

本発明の有機薄膜は、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物を第1材料として含むことを特徴の1つとし、本発明の有機薄膜を電子注入層に用いた場合、優れた電子注入性、電子輸送性が得られる。このような上記一般式(1)で表される構造を有する化合物は、有機EL素子用材料として好適な化合物である。また、上記一般式(1−1)で表されるフェナントロリン化合物は、上記一般式(1)で表される化合物に含まれ、このような上記一般式(1−1)で表されるフェナントロリン化合物を含む有機EL素子用材料も、本発明の1つである。 One of the features of the organic thin film of the present invention is that it contains a compound having a structure represented by the above general formula (1) as a first material, and it is excellent when the organic thin film of the present invention is used for an electron injection layer. Excellent electron injectability and electron transportability can be obtained. Such a compound having a structure represented by the general formula (1) is a suitable compound as a material for an organic EL device. Further, the phenanthroline compound represented by the general formula (1-1) is included in the compound represented by the general formula (1), and such a phenanthroline compound represented by the general formula (1-1) is included. A material for an organic EL element containing the above is also one of the present inventions.

なお、本発明において述べる、「静電ポテンシャル」、「金属への電荷移動量」は、例えばGAUSSIAN等の量子化学計算プログラムを用いて計算することができる。計算値の絶対量は、計算に用いる基底関数等に依存して変化するものの、同じ計算手法を用いて計算された大小の相対値を用いて、相関を議論することが可能である。 The "electrostatic potential" and "charge transfer amount to metal" described in the present invention can be calculated using, for example, a quantum chemistry calculation program such as GAUSSIAN. Although the absolute quantity of the calculated value changes depending on the basis function used in the calculation, it is possible to discuss the correlation using the relative values of large and small values calculated using the same calculation method.

本発明の第1の材料の例として、以下の条件で各種第1材料に含まれるフェナントロリン中の窒素部位の静電ポテンシャルを算出した。
−フェナントロリン化合物の最安定化構造・静電ポテンシャルの計算に使用した関数−
B3LYP/6−31G(d,p)
As an example of the first material of the present invention, the electrostatic potential of the nitrogen portion in phenanthroline contained in various first materials was calculated under the following conditions.
-The function used to calculate the most stabilized structure and electrostatic potential of the phenanthroline compound-
B3LYP / 6-31G (d, p)

本発明の第1の材料の例として、以下の条件で各種第1材料と亜鉛原子間で発生する金属への電荷移動量を、フェナントロリン化合物近傍に亜鉛原子を配置し、最安定化構造を計算した後の電荷分布から分かる。
−金属への電荷移動量の計算に使用した関数−
B3LYP/LanL3DZ
As an example of the first material of the present invention, the amount of charge transfer to the metal generated between various first materials and the zinc atom under the following conditions is calculated by arranging the zinc atom in the vicinity of the phenanthroline compound and calculating the most stabilized structure. It can be seen from the charge distribution after this.
-Function used to calculate the amount of charge transfer to metal-
B3LYP / LanL3DZ

具体例として、図1に、構造式(7)で表される化合物と亜鉛原子との最安定化構造における電荷分布を示す。本来は電荷の総和がゼロである構造式(7)の化合物の電荷の総和は0.114であり、Znも−0.114の電荷を持つことで、全体の総和がゼロとなっている。従って、この結果より、構造式(7)の化合物の場合には、0.114eの電荷がZnに移動していることが分かる。 As a specific example, FIG. 1 shows the charge distribution in the most stabilized structure of the compound represented by the structural formula (7) and the zinc atom. Originally, the total charge of the compound of the structural formula (7) is zero. The total charge of the compound is 0.114, and Zn also has a charge of −0.114, so that the total charge is zero. Therefore, from this result, it can be seen that in the case of the compound of the structural formula (7), the charge of 0.114e is transferred to Zn.

上記静電ポテンシャル・電荷移動量の計算結果を、下記構造式(3)〜(7):

Figure 2021166281
で表される、5種のフェナントロリン化合物についてまとめた結果を図2に示す。点線で囲った配位性窒素原子が近接した部分の静電ポテンシャルの計算値を示している。他の化合物についても、静電ポテンシャルの値は、点線で囲った配位性窒素原子部分の値である。 The calculation results of the electrostatic potential and charge transfer amount are obtained from the following structural formulas (3) to (7):
Figure 2021166281
The results of summarizing the five types of phenanthroline compounds represented by are shown in FIG. The calculated value of the electrostatic potential of the part where the coordinating nitrogen atom surrounded by the dotted line is close is shown. For other compounds, the electrostatic potential value is the value of the coordinating nitrogen atom portion surrounded by the dotted line.

図2に示す通り、静電ポテンシャルの値は、フェナントロリンにおいては付与する置換基に大きく依存する。
電子供与性の置換基である、ピロリジノ基を付与した構造式(7)で表される化合物、ジメチルアミン基を付与した構造式(6)で表される化合物、メトキシ基を付与した構造式(5)で表される化合物で、大きい静電ポテンシャルの値が得られており、これらは電子供与性の置換基がフェナントロリン骨格の電子密度を高めることで、窒素原子の水素結合能力及び無機化合物への配位能力を向上させることができるため、特に第1材料として好適である。
図2には、電荷移動量の値も示すが、基本的には静電ポテンシャルが大きい程、電荷移動量も大きくなる傾向があることが分かる。しかしながら、式(6)の化合物と式(7)の化合物については、その大小関係が異なっている。
As shown in FIG. 2, the value of the electrostatic potential largely depends on the substituent to be added in phenanthroline.
A compound represented by the structural formula (7) to which a pyrrolidino group is added, which is an electron-donating substituent, a compound represented by the structural formula (6) to which a dimethylamine group is added, and a structural formula to which a methoxy group is added ( The compounds represented by 5) have large electrostatic potential values, and these have electron-donating substituents that increase the electron density of the phenanthroline skeleton to increase the hydrogen-bonding ability of nitrogen atoms and to inorganic compounds. It is particularly suitable as a first material because it can improve the coordinating ability of hydrogen.
FIG. 2 also shows the value of the charge transfer amount, but it can be seen that basically, the larger the electrostatic potential, the larger the charge transfer amount tends to be. However, the magnitude relationship between the compound of the formula (6) and the compound of the formula (7) is different.

静電ポテンシャル・電荷移動量が電子注入障壁に及ぼす影響を調べるため、ガラス基板上にITO/ZnO電極を成膜した上に、各種フェナントロリン化合物を5nm真空蒸着により成膜し、紫外光電子分光法により表面の仕事関数の変化を調べた。Znとの配位反応が強い程、仕事関数が小さくなり、電子注入障壁が小さくなるはずである。得られた紫外光電子分光スペクトルの二次電子のカットオフ領域を図3に示す。
ここでは、一例として、基板であるITO/ZnOと、その上に式(7)の化合物を成膜した試料のデータを示す。
In order to investigate the effect of electrostatic potential and charge transfer on the electron injection barrier, an ITO / ZnO electrode was formed on a glass substrate, various phenanthroline compounds were formed by 5 nm vacuum deposition, and ultraviolet photoelectron spectroscopy was performed. We investigated changes in the work function on the surface. The stronger the coordination reaction with Zn, the smaller the work function and the smaller the electron injection barrier should be. The cutoff region of secondary electrons in the obtained ultraviolet photoelectron spectroscopy spectrum is shown in FIG.
Here, as an example, the data of ITO / ZnO, which is a substrate, and a sample in which the compound of the formula (7) is formed on the substrate are shown.

図3に示す通り、二次電子のカットオフより仕事関数(WF)を求めることができ、式(7)の化合物の成膜により、1.67eV仕事関数が小さくなっていることが分かる。他の化合物についても同様の測定を行った結果を図2に示す。 As shown in FIG. 3, the work function (WF) can be obtained from the cutoff of secondary electrons, and it can be seen that the 1.67 eV work function is reduced by the film formation of the compound of the formula (7). The results of similar measurements for other compounds are shown in FIG.

静電ポテンシャル・電荷移動量共に、仕事関数変化との相関が見られるが、式(6)の化合物と式(7)の化合物の結果より、電荷移動量の方が仕事関数変化との相関が高いことが分かる。静電ポテンシャルも電子注入障壁の低減を議論するにあたり有効な指標であるが、電荷移動量を計算することで、より精度良くフェナントロリン化合物が引き起こす電子注入障壁の低減をシミュレートできると考えられる。 Both the electrostatic potential and the charge transfer amount are correlated with the work function change, but the charge transfer amount is more correlated with the work function change than the results of the compound of the formula (6) and the compound of the formula (7). It turns out to be expensive. Although the electrostatic potential is also an effective index for discussing the reduction of the electron injection barrier, it is considered that the reduction of the electron injection barrier caused by the phenanthroline compound can be more accurately simulated by calculating the amount of charge transfer.

図1及び図2に示すフェナントロリンを一つだけ有する化合物に加え、下記構造式(8−1)〜(8−4)に示すようなフェナントロリンを複数個有する化合物も、マイナス電荷の発生に有効であると考えられ、第1材料として好適である。

Figure 2021166281
In addition to the compounds having only one phenanthroline shown in FIGS. 1 and 2, compounds having a plurality of phenanthrolines as shown in the following structural formulas (8-1) to (8-4) are also effective in generating a negative charge. It is considered that there is, and it is suitable as a first material.
Figure 2021166281

上記一般式(1)におけるX1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。
2価の連結基としては、2価の炭化水素基及び炭化水素基の炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子、硫黄原子のいずれかのヘテロ原子で置換された基が挙げられる。
炭化水素基としては、炭素数1〜6のものが好ましく、炭素数1、2、又は6のものがより好ましい。
炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、環状及びこれらを組み合わせたもののいずれのものであってもよい。
2価の炭化水素基は、飽和炭化水素基であるアルキレン基でもよく、アルケニレン基、アルキニレン基等の不飽和炭化水素基でもよい。
2価の炭化水素基として、具体的には下記式(9−1)〜(9−4)で表されるものが好ましい。下記式における(9−1)〜(9−4)におけるRは、置換基を表す。(9−1)〜(9−4)におけるRも含め、X1、X2における置換基の具体例としては、後述するR1〜R3の1価の置換基と同様の基が挙げられる。
X 1 and X 2 in the above general formula (1) represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have a substituent, which may be the same or different.
Examples of the divalent linking group include a divalent hydrocarbon group and a group in which a part of carbon atoms of the hydrocarbon group is replaced with a hetero atom of any one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
The hydrocarbon group preferably has 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1, 2 or 6 carbon atoms.
The hydrocarbon group may be linear, branched chain, cyclic or a combination thereof.
The divalent hydrocarbon group may be an alkylene group which is a saturated hydrocarbon group, or an unsaturated hydrocarbon group such as an alkenylene group or an alkynylene group.
Specifically, as the divalent hydrocarbon group, those represented by the following formulas (9-1) to (9-4) are preferable. R in (9-1) to (9-4) in the following formula represents a substituent. Specific examples of the substituents in X 1 and X 2 , including R in (9-1) to (9-4), include the same groups as the monovalent substituents in R 1 to R 3 described later. ..

Figure 2021166281
Figure 2021166281

上記一般式(1)におけるLは、直接結合又はp価の連結基を表す。なお、Lが直接結合となるのは、pが2の場合のみである。
p価の連結基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、炭素原子の他、炭化水素基や炭化水素基の炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子、硫黄原子のいずれかのヘテロ原子で置換された基から水素原子をp個除いてできる基が挙げられる。
p価の連結基が炭素原子を有するものである場合、炭素数1〜30のものが好ましい。より好ましくは、炭素数1〜20のものである。
炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、環状及びこれらを組み合わせたもののいずれのものであってもよい。
炭化水素基としては、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基のいずれのものであってもよい。
L in the above general formula (1) represents a direct bond or a p-valent linking group. It should be noted that L is a direct bond only when p is 2.
As the p-valent linking group, in addition to a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a carbon atom, a part of the carbon atom of the hydrocarbon group or the hydrocarbon group is a hetero atom of any one of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Examples thereof include groups formed by removing p hydrogen atoms from the groups substituted with.
When the p-valent linking group has a carbon atom, those having 1 to 30 carbon atoms are preferable. More preferably, it has 1 to 20 carbon atoms.
The hydrocarbon group may be linear, branched chain, cyclic or a combination thereof.
The hydrocarbon group may be any of a saturated hydrocarbon group, an unsaturated hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group.

上記一般式(1)におけるR1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。また、m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。
1価の置換基としては、フッ素原子;フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜20の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数5〜7の環状アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数1〜20の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基;ニトロ基;シアノ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の炭素数1〜10のアルキル基を有するアルキルアミノ基;ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等の環状アミノ基;ジフェニルアミノ基、カルバゾリル基等のジアリールアミノ基;アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等のアシル基;スチリル基等の炭素数2〜30のアルケニル基;フッ素原子等のハロゲン原子や炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アミノ基等で置換されていてもよい炭素数5〜20のアリール基(アリール基の具体例は、上記芳香族炭化水素基と同様);フッ素原子等のハロゲン原子や炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アミノ基等で置換されていてもよい炭素数4〜20の窒素原子、硫黄原子、酸素原子のいずれか1つ以上を含む複素環基(複素環基は、1つの環のみからなるものであってもよく、1つの芳香族複素環のみからなる化合物が1つの炭素原子同士で複数直接結合した化合物であってもよく、縮合複素環基であってもよい。複素環基の具体例には、上記芳香族複素環基の具体例が含まれる。);エステル基、チオエーテル基等が挙げられる。なお、これらの基は、ハロゲン原子やヘテロ元素、アルキル基、芳香環等で置換されていてもよい。
R 1 to R 3 in the above general formula (1) represent the same or different monovalent substituents. Further, m 1 to m 3 represent the same or different numbers from 0 to 3.
The monovalent substituent includes a fluorine atom; a haloalkyl group such as a fluoromethyl group, a difluoromethyl group and a trifluoromethyl group; a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and a tert-butyl group. Linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; cyclic alkyl group having 5 to 7 carbon atoms such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy A linear or branched alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as a group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, and an octyloxy group; a nitro group; a cyano group. Group; Alkylamino group having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group and diethylamino group; cyclic amino group such as pyrrolidino group, piperidino group and morpholino group; diphenylamino group, Diarylamino groups such as carbazolyl groups; acyl groups such as acetyl groups, propionyl groups and butyryl groups; alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms such as styryl groups; halogen atoms such as fluorine atoms and alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, An aryl group having 5 to 20 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group, an amino group or the like (specific examples of the aryl group are the same as the above aromatic hydrocarbon group); a halogen atom such as a fluorine atom or 1 to 1 carbon atoms. A heterocyclic group containing any one or more of a nitrogen atom, a sulfur atom and an oxygen atom having 4 to 20 carbon atoms which may be substituted with 20 alkyl groups, alkoxy groups, amino groups and the like (the heterocyclic group is 1). It may be composed of only one ring, a compound composed of only one aromatic heterocycle may be a compound in which a plurality of carbon atoms are directly bonded to each other, or a fused heterocyclic group may be used. Specific examples of the heterocyclic group include the above-mentioned specific examples of the aromatic heterocyclic group.); Examples thereof include an ester group and a thioether group. These groups may be substituted with a halogen atom, a hetero element, an alkyl group, an aromatic ring or the like.

上記一般式(1−1)におけるR4、R5は、同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。また、m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。
ジアルキルアミノ基としては、メチル基、エチル基等の炭素数1〜20のアルキル基を有するものが好ましい。より好ましくは、炭素数1〜10のアルキル基を有するものである。また、ジアルキルアミノ基が有する2つのアルキル基は、炭素数が同じであってもよく、異なっていてもよい。また、2つのアルキル基が連結したアミノ基、例えばピペリジノ基やピロリジノ基、モルホリノ基のような環状アミノ基も好ましい。
アルコキシ基としては、上記一般式(1)におけるR1〜R3がアルコキシ基である場合と同様のものが挙げられる。
R 4 and R 5 in the above general formula (1-1) represent the same or different dialkylamino group or alkoxy group. Further, m 4 and m 5 represent the same or different numbers of 1 or 2.
As the dialkylamino group, those having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group are preferable. More preferably, it has an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Further, the two alkyl groups of the dialkylamino group may have the same carbon number or different carbon atoms. Further, an amino group in which two alkyl groups are linked, for example, a cyclic amino group such as a piperidino group, a pyrrolidino group, or a morpholino group is also preferable.
Examples of the alkoxy group include the same as in the case where R 1 to R 3 in the above general formula (1) are alkoxy groups.

上記一般式(1)におけるpは、1〜4の数を表すが、1〜3の数であることが好ましい。一般式(1)のpが1である化合物の具体例としては、例えば、下記構造式(10−1)〜(10−9)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2021166281
Although p in the general formula (1) represents a number of 1 to 4, it is preferably a number of 1 to 3. Specific examples of the compound in which p is 1 in the general formula (1) include compounds represented by the following structural formulas (10-1) to (10-9).
Figure 2021166281

上記一般式(1)におけるnは、0又は1の数を表すが、上記一般式(1)で表される化合物が、nが0の化合物であることは本発明の好適な実施形態の1つである。一般式(1)のnが0の化合物の具体例としては、例えば、上記式(10−1)〜(10−6)で表される化合物が挙げられる。 Although n in the general formula (1) represents 0 or a number of 1, it is one of the preferred embodiments of the present invention that the compound represented by the general formula (1) is a compound in which n is 0. It is one. Specific examples of the compound in which n of the general formula (1) is 0 include compounds represented by the above formulas (10-1) to (10-6).

本発明の有機薄膜を構成する第2材料は、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である。ここで、前記第2材料としては、構造中に炭素−窒素二重結合を有しない芳香族複素環を有する化合物や、分子中にπ電子不足系芳香族複素環を有しない化合物が好ましい。また、前記第2材料としては、下記一般式(2)で表される化合物が好ましい。

Figure 2021166281
(一般式(2)中、Yは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環、π電子過剰芳香族複素環、ケイ素及び/又はホウ素を構成元素として含むπ共役系環状構造を表す。Wは、連結基又は直接結合を表す。Zは、構造中に炭素−窒素二重結合を含まないアリール基を表す。rは1〜6の整数である。sは1〜6の整数である。) The second material constituting the organic thin film of the present invention is a compound having no structure of coordinating to an alkali metal in the molecule. Here, as the second material, a compound having an aromatic heterocycle having no carbon-nitrogen double bond in the structure or a compound having no π-electron deficient aromatic heterocycle in the molecule is preferable. Further, as the second material, a compound represented by the following general formula (2) is preferable.
Figure 2021166281
(In the general formula (2), Y is a π-conjugated cyclic structure containing an aromatic hydrocarbon ring, a π-electron excess aromatic heterocycle, silicon and / or boron as constituent elements, which may have a substituent. W represents a linking group or a direct bond. Z represents an aryl group that does not contain a carbon-nitrogen double bond in the structure. R is an integer of 1 to 6. S is an integer of 1 to 6. It is an integer.)

一般式(2)中、Yは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環、π電子過剰芳香族複素環、ケイ素及び/又はホウ素を構成元素として含むπ共役系環状構造を表す。
芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ビフェニル環、トリフェニレン環、フルオランテン環、フルオレン環、クリセン環、ジベンゾクリセン環、等が挙げられる。
π電子過剰芳香族複素環としては、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ジベンゾチオフェン環、ジベンゾフラン環、カルバゾール環、等が挙げられる。
ケイ素及び/又はホウ素を構成元素として含むπ共役系環状構造としては、シロール環、ジベンゾ[g,p]クリセン環の一部を窒素−ホウ素置換した環状構造、スピロ−ビフルオレン環の一部を窒素−ホウ素置換した環状構造、等が挙げられる。
前記芳香族炭化水素環、π電子過剰芳香族複素環、ケイ素及び/又はホウ素を構成元素として含むπ共役系環状構造は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前述の一般式(1)中のR1〜R3の1価の置換基と同様の基が挙げられる。
In the general formula (2), Y has a π-conjugated cyclic structure containing an aromatic hydrocarbon ring, a π-electron excess aromatic heterocycle, silicon and / or boron as constituent elements, which may have a substituent. show.
Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a biphenyl ring, a triphenylene ring, a fluoranthene ring, a fluorene ring, a chrysene ring, a dibenzochrysene ring, and the like.
Examples of the π-electron excess aromatic heterocycle include a thiophene ring, a furan ring, a pyrrole ring, a dibenzothiophene ring, a dibenzofuran ring, a carbazole ring, and the like.
The π-conjugated cyclic structure containing silicon and / or boron as constituent elements includes a silol ring, a cyclic structure in which a part of the dibenzo [g, p] chrysene ring is substituted with nitrogen-boron, and a part of the spiro-bifluorene ring is nitrogen. − Boron-substituted cyclic structure, etc. can be mentioned.
The π-conjugated cyclic structure containing an aromatic hydrocarbon ring, a π-electron excess aromatic heterocycle, silicon and / or boron as constituent elements may have a substituent, and the substituent may be described above. Examples thereof include groups similar to the monovalent substituents of R 1 to R 3 in the general formula (1).

一般式(2)中、Wは、連結基又は直接結合を表す。なお、Wが連結基の場合、Wは、(r+1)価の連結基となる。
ここで、連結基としては、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、エテニレン基、エチニレン基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ホウ素原子、等が挙げられる。これらの連結基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前述の一般式(1)中のR1〜R3の1価の置換基と同様の基が挙げられる。
In general formula (2), W represents a linking group or a direct bond. When W is a linking group, W is a linking group having a (r + 1) valence.
Here, examples of the linking group include an arylene group, a heteroarylene group, an ethenylene group, an ethynylene group, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a boron atom, and the like. These linking groups may have a substituent, and examples of the substituent include groups similar to the monovalent substituents of R 1 to R 3 in the above general formula (1).

一般式(2)中、Zは、構造中に炭素−窒素二重結合を含まないアリール基を表す。
ここで、構造中に炭素−窒素二重結合を含まないアリール基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基、トリフェニレニル基、フルオランテニル基、ジベンゾチオフェニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基、等が挙げられる。
前記アリール基は、構造中に炭素−窒素二重結合を含まない限り、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前述の一般式(1)中のR1〜R3の1価の置換基と同様の基が挙げられる。
In the general formula (2), Z represents an aryl group that does not contain a carbon-nitrogen double bond in the structure.
Here, examples of the aryl group that does not contain a carbon-nitrogen double bond in the structure include a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group, a triphenylenyl group, a fluoranthenyl group, a dibenzothiophenyl group, a dibenzofuranyl group, and a carbazolyl group. And so on.
The aryl group may have a substituent as long as the structure does not contain a carbon-nitrogen double bond, and the substituent may be R 1 to R 3 in the above general formula (1). Examples thereof include groups similar to monovalent substituents.

一般式(2)中、rは1〜6の整数であり、sは1〜6の整数である。
ここで、rが2〜6の整数の場合、複数存在するZは、それぞれ同一でも、異なってもよい。
また、sが2〜6の整数の場合、複数存在するWは、それぞれ同一でも、異なってもよく、複数存在するZは、それぞれ同一でも、異なってもよい。
In the general formula (2), r is an integer of 1 to 6, and s is an integer of 1 to 6.
Here, when r is an integer of 2 to 6, a plurality of Zs existing may be the same or different.
Further, when s is an integer of 2 to 6, a plurality of Ws may be the same or different, and a plurality of Zs may be the same or different.

本発明では、金属と第1材料の配位反応により、陰極と有機層間の電子のやりとりがスムーズに行われる。従って、本発明における第2材料は、これまで有機EL素子や有機薄膜太陽電池において発光層や光電変換層と陰極との間に用いられてきた、アルカリ金属との相互作用で電子を注入できる材料である必要はない。
これまでは、第2材料としては、フェニル−ジピレニルホスフィンオキサイド(POPy2)のようなホスフィンオキサイド誘導体、トリス−1,3,5−(3’−(ピリジン−3”−イル)フェニル)ベンゼン(TmPhPyB)のようなピリジン誘導体、2−(3−(9−カルバゾリル)フェニル)キノリン(mCQ)のようなキノリン誘導体、2−フェニル−4,6−ビス(3,5−ジピリジルフェニル)ピリミジン(BPyPPM)のようなピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、バソフェナントロリン(BPhen)のようなフェナントロリン誘導体、2,4−ビス(4−ビフェニル)−6−(4’−(2−ピリジニル)−4−ビフェニル)−[1,3,5]トリアジン(MPT)のようなトリアジン誘導体、3−フェニル−4−(1’−ナフチル)−5−フェニル−1,2,4−トリアゾール(TAZ)のようなトリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル−1,3,4−オキサジアゾール)(PBD)のようなオキサジアゾール誘導体、2,2’,2”−(1,3,5−ベントリイル)−トリス(1−フェニル−1−H−ベンズイミダゾール)(TPBI)のようなイミダゾール誘導体、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq3)等に代表される各種金属錯体が広く用いられてきた。
In the present invention, the coordination reaction between the metal and the first material facilitates the smooth exchange of electrons between the cathode and the organic layer. Therefore, the second material in the present invention is a material capable of injecting electrons by interaction with an alkali metal, which has been used between a light emitting layer or a photoelectric conversion layer and a cathode in an organic EL element or an organic thin film solar cell. It does not have to be.
So far, the second material has been a phosphine oxide derivative such as phenyl-dipyrenylphosphine oxide (POPy 2 ), tris-1,3,5- (3'-(pyridine-3 "-yl) phenyl). Pyridine derivatives such as benzene (TmPhPyB), quinoline derivatives such as 2- (3- (9-carbazolyl) phenyl) quinoline (mCQ), 2-phenyl-4,6-bis (3,5-dipyridylphenyl) pyrimidine Pyrimidine derivatives such as (BPyPPM), pyrazine derivatives, phenanthroline derivatives such as vasophenantroline (BPhen), 2,4-bis (4-biphenyl) -6- (4'-(2-pyridinyl) -4-biphenyl) -[1,3,5] Triazine derivatives such as triazine (MPT), triazole derivatives such as 3-phenyl-4- (1'-naphthyl) -5-phenyl-1,2,4-triazole (TAZ) , Oxazole derivatives, oxaziazole derivatives such as 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl-1,3,4-oxadiazole) (PBD), 2,2', 2 " Represented by imidazole derivatives such as-(1,3,5-ventryyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole) (TPBI), tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq 3 ) and the like. Various metal complexes have been widely used.

従って、本発明において第2材料として用いることができる材料は、先述の材料群とは大きく異なり、選択肢が大きく広がる。例えば、芳香族炭化水素化合物、窒素−ホウ素結合を有する化合物、π電子過剰系複素芳香族化合物、シロール環を含む化合物、等がこれに当たる。
なお、π電子過剰系複素芳香環、π電子不足系芳香族複素環とは、講談社サイエンティフィック編、「新編ヘテロ環化合物 基礎編」、p.1〜5に記載されている通り分類される複素芳香環である。
π電子過剰系複素芳香環(π過剰系ヘテロ芳香環)とは、ベンゼンを基準とした場合に比べて、各炭素上のπ電子密度が高い複素芳香環である。例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環等が、π電子過剰系複素芳香環に相当し、該複素芳香環は、環を構成するヘテロ原子が孤立電子対を有するため、6個のπ電子を有し、6個のπ電子が5個の原子上に分布するため、π電子過剰となる。上述の「π電子過剰系複素芳香族化合物」とは、かかるπ電子過剰系複素芳香環を有する化合物である。
一方、π電子不足系芳香族複素環(π不足系ヘテロ芳香環)とは、ベンゼンを基準とした場合に比べて、各炭素上のπ電子密度が低い複素芳香環である。例えば、ピリジン環等が、π電子不足系芳香族複素環に相当し、該複素芳香環は、環内窒素の孤立電子対を利用しなくても、6個のπ電子が存在する一方、環内窒素が電子求引効果を有し、この効果が各炭素に及ぼされるため、π電子不足となる。上述の「分子中にπ電子不足系芳香族複素環を有しない化合物」とは、かかるπ電子不足系芳香族複素環を有しない化合物である。
Therefore, the material that can be used as the second material in the present invention is significantly different from the above-mentioned material group, and the options are greatly expanded. For example, an aromatic hydrocarbon compound, a compound having a nitrogen-boron bond, a π-electron excess heteroaromatic compound, a compound containing a silol ring, and the like correspond to this.
The π-electron-rich heterocyclic ring and the π-electron-deficient aromatic heterocycle are described in Kodansha Scientific, "New Heterocyclic Compound Basics," p. It is a heteroaromatic ring classified as described in 1 to 5.
The π-electron-rich heteroaromatic ring (π-electron-rich heteroaromatic ring) is a heteroaromatic ring having a higher π-electron density on each carbon than when benzene is used as a reference. For example, a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, etc. correspond to a π-electron-rich heteroaromatic ring, and the heteroaromatic ring has six π-electrons because the heteroatoms constituting the ring have a lone electron pair. Since 6 π electrons are distributed on 5 atoms, there is an excess of π electrons. The above-mentioned "π-electron-rich heteroaromatic compound" is a compound having such a π-electron-rich heteroaromatic ring.
On the other hand, the π-electron-deficient aromatic heterocycle (π-electron-deficient heteroaromatic ring) is a heteroaromatic ring having a lower π-electron density on each carbon than when benzene is used as a reference. For example, a pyridine ring or the like corresponds to a π-electron-deficient aromatic heterocycle, and the heteroaromatic ring has 6 π electrons while the ring does not utilize the lone electron pair of nitrogen in the ring. Internal nitrogen has an electron attracting effect, and this effect is exerted on each carbon, resulting in a π electron deficiency. The above-mentioned "compound having no π-electron-deficient aromatic heterocycle in the molecule" is a compound having no such π-electron-deficient aromatic heterocycle.

前記芳香族炭化水素化合物としては、特に限定されず、芳香環を有する種々の炭化水素化合物を使用できる。 The aromatic hydrocarbon compound is not particularly limited, and various hydrocarbon compounds having an aromatic ring can be used.

前記窒素−ホウ素結合を有する化合物としては、ジベンゾ[g,p]クリセンの一部を窒素−ホウ素置換した以下の化合物(構造式(11−1))や、スピロ−ビフルオレンの一部を窒素−ホウ素置換した以下の化合物(構造式(11−2))、更には、これらの複素環構造を分子中に含む化合物が例として挙げられる。

Figure 2021166281
Examples of the compound having a nitrogen-boron bond include the following compound (structural formula (11-1)) in which a part of dibenzo [g, p] chrysene is substituted with nitrogen-boron and a part of spiro-bifluorene is nitrogen-. Examples thereof include the following compounds substituted with boron (structural formula (11-2)), and compounds containing these heterocyclic structures in the molecule.
Figure 2021166281

前記π電子過剰系複素芳香族化合物としては、ジベンゾチオフェン、下記構造式(11−3)で表される化合物、ジベンゾフラン(構造式(11−4))、ベンゾ[b]ベンゾ[4,5]チエノ[2,3−d]チオフェン(構造式(11−5))、更には、これらの複素環構造を分子中に含む化合物等が例として挙げられる。

Figure 2021166281
Examples of the π-electron-rich heterocyclic compound include dibenzothiophene, a compound represented by the following structural formula (11-3), dibenzofuran (structural formula (11-4)), and benzo [b] benzo [4,5]. Examples include thiophene [2,3-d] thiophene (structural formula (11-5)), and compounds containing these heterocyclic structures in their molecules.
Figure 2021166281

前記シロール環を含む化合物としては、例えば、1,1,2,3,4,5−ヘキサフェニルシロール等が挙げられる。 Examples of the compound containing a siror ring include 1,1,2,3,4,5-hexaphenyl siror.

本発明の有機薄膜に含まれる第1材料と第2材料との比率は、特に限定されるものではなく、第1材料及び第2材料のそれぞれに使用する化合物の種類に応じて適宜決定できる。第1材料と第2材料との比率は、質量比(第1材料:第2材料)で0.1:99.9〜20:1であることが好ましい。より好ましくは、0.5:99.5〜10:1である。上記比率である場合、有機薄膜に第1材料と第2材料とが含まれていることによる電子輸送性及び電子注入性の向上効果が顕著となる。 The ratio of the first material to the second material contained in the organic thin film of the present invention is not particularly limited, and can be appropriately determined depending on the type of the compound used for each of the first material and the second material. The ratio of the first material to the second material is preferably 0.1: 99.9 to 20: 1 in terms of mass ratio (first material: second material). More preferably, it is 0.5: 99.5 to 10: 1. In the case of the above ratio, the effect of improving the electron transport property and the electron injection property due to the inclusion of the first material and the second material in the organic thin film becomes remarkable.

本発明における有機薄膜は、第1材料と第2材料とを含む単一の膜であってもよく、第1材料を少なくとも含む膜と、第2材料を少なくとも含む膜との積層膜であってもよい。積層膜である場合、第1材料のみを含む膜と、第2材料のみを含む膜との積層膜であってもよく、第1材料と第2材料とを含む膜と、第1材料と第2材料のいずれか一方のみを含む膜との積層膜であってもよい。第1材料と第2材料とを含む膜と、第1材料と第2材料のいずれか一方のみを含む膜との積層膜である場合、第1材料と第2材料のいずれか一方のみを含む膜は、第1材料、第2材料のいずれを含むものであってもよいが、第2材料を含むものであることが好ましい。
また、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する層として、このような有機薄膜を使用する場合、第1材料と第2材料とを含む膜と、第1材料と第2材料のいずれか一方のみを含む膜のいずれが陰極側にあってもよいが、第1材料と第2材料のいずれか一方のみを含む膜が陰極側にある方が好ましい。
The organic thin film in the present invention may be a single film containing a first material and a second material, and is a laminated film of a film containing at least the first material and a film containing at least the second material. May be good. In the case of a laminated film, it may be a laminated film of a film containing only the first material and a film containing only the second material, a film containing the first material and the second material, and the first material and the first material. It may be a laminated film with a film containing only one of the two materials. In the case of a laminated film of a film containing the first material and the second material and a film containing only one of the first material and the second material, the film contains only one of the first material and the second material. The film may contain either the first material or the second material, but it is preferable that the film contains the second material.
Further, when such an organic thin film is used as a layer constituting the organic electroluminescence element, a film containing only one of the first material and the second material and a film containing only one of the first material and the second material are used. Either of the above may be on the cathode side, but it is preferable that the film containing only one of the first material and the second material is on the cathode side.

本発明における有機薄膜が、第1材料と第2材料とを含む膜と、第1材料のみを含む膜との積層膜である場合、積層された2つの膜の両方に第1材料が含まれることになるが、2つの膜に含まれる第1材料は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
同様に、本発明における有機薄膜が、第1材料と第2材料とを含む膜と、第2材料のみを含む膜との積層膜である場合、積層された2つの膜の両方に第2材料が含まれることになるが、2つの膜に含まれる第2材料は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
When the organic thin film in the present invention is a laminated film of a film containing a first material and a second material and a film containing only the first material, both of the two laminated films contain the first material. However, the first material contained in the two films may be the same or different.
Similarly, when the organic thin film in the present invention is a laminated film of a film containing the first material and the second material and a film containing only the second material, the second material is applied to both of the two laminated films. However, the second material contained in the two films may be the same or different.

<有機薄膜の製造方法>
次に、本発明の有機薄膜の製造方法について、例を挙げて説明する。
本発明の有機薄膜は、上記一般式(1)で表される構造を有する電子供与性の化合物からなる第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含むものである。第1材料、第2材料ともに分子量が比較的大きいことに起因して、本発明の有機薄膜は、塗布だけでなく、蒸着によっても形成することが可能である。このため、本発明の有機薄膜を含む有機EL素子を製造する場合のプロセス上の制約が少なく、有機EL素子を構成する層の材料として使用し易いものである。
有機薄膜を蒸着により製造する場合、有機EL素子を構成する他の層を蒸着により製造する場合と同様の方法により行うことができ、第1材料、第2材料を同時に蒸着してもよく、順に蒸着してもよい。順に蒸着する場合、第1材料、第2材料のいずれを先に蒸着してもよい。また、いずれか一方を先に蒸着した後に、これら両方を共蒸着してもよく、両方を共蒸着した後に、いずれか一方を蒸着してもよい。このような、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を同時に有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程を含む有機薄膜の製造方法は、本発明の有機薄膜の製造方法の好適な実施形態の1つである。
また、第1材料又は第2材料のいずれかを先に有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程と、その後にもう一方又は両方の材料を蒸着する工程とを含む有機薄膜の製造方法、又は、第1材料と第2材料とを同時に有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程と、その後に第1材料又は第2材料のいずれかを有機薄膜の被形成面上に蒸着する工程とを含む有機薄膜の製造方法もまた、本発明の有機薄膜の製造方法の好適な実施形態の1つである。
<Manufacturing method of organic thin film>
Next, the method for producing an organic thin film of the present invention will be described with an example.
The organic thin film of the present invention is a first material composed of an electron-donating compound having a structure represented by the above general formula (1) and a second compound having no structure coordinating with an alkali metal in the molecule. Including materials. Due to the relatively large molecular weight of both the first material and the second material, the organic thin film of the present invention can be formed not only by coating but also by thin film deposition. Therefore, there are few process restrictions when manufacturing an organic EL device containing the organic thin film of the present invention, and it is easy to use as a material for a layer constituting the organic EL device.
When the organic thin film is manufactured by thin-film deposition, it can be carried out by the same method as when the other layers constituting the organic EL element are manufactured by thin-film deposition, and the first material and the second material may be vapor-deposited at the same time, in order. It may be vapor-deposited. When vapor deposition is performed in order, either the first material or the second material may be vapor-deposited first. Further, either one may be vapor-deposited first and then both may be co-deposited, or both may be co-deposited and then either one may be vapor-deposited. The first material, which is a compound having a structure represented by the general formula (1), and the second material, which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule, are simultaneously formed into an organic thin film. The method for producing an organic thin film including the step of depositing on the surface to be formed is one of the preferred embodiments of the method for producing an organic thin film of the present invention.
Further, a method for producing an organic thin film, or a method for producing an organic thin film, which comprises a step of first depositing either the first material or the second material on the surface to be formed of the organic thin film, and then a step of depositing the other or both materials. , A step of simultaneously depositing the first material and the second material on the surface to be formed of the organic thin film, and then a step of depositing either the first material or the second material on the surface to be formed of the organic thin film. The method for producing an organic thin film containing the mixture is also one of the preferred embodiments of the method for producing an organic thin film of the present invention.

また、本発明の有機薄膜は、塗布により製造することも可能であり、この場合も、第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む塗料組成物を作製して、該塗料組成物を塗布するか、又は、第1材料を含む塗料組成物、第2材料を含む塗料組成物をそれぞれ作製して、これらを順に塗布することで有機薄膜を製造することができる。順に塗布する場合、第1材料を含む塗料組成物、第2材料を含む塗料組成物のいずれを先に塗布してもよい。また、いずれか一方の材料のみを含む塗料組成物を塗布した後に、これら両方の材料を含む塗料組成物を塗布してもよく、これら両方の材料を含む塗料組成物を塗布した後に、いずれか一方の材料のみを含む塗料組成物を塗布してもよい。このような、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む塗料組成物を有機薄膜の被形成面上に塗布する工程を含む有機薄膜の製造方法は、本発明の有機薄膜の製造方法の好適な実施形態の1つである。
また、第1材料のみを含む塗料組成物又は第2材料のみを含む塗料組成物のいずれかを先に有機薄膜の被形成面上に塗布する工程と、該工程によって形成された塗膜の上にもう一方又は両方の材料を含む塗料組成物を塗布する工程と、を含む有機薄膜の製造方法、又は、第1材料と第2材料の両方の材料を含む塗料組成物を塗布する工程と、該工程によって形成された塗膜の上に第1材料又は第2材料のいずれか一方のみを含む塗料組成物を塗布する工程と、を含む有機薄膜の製造方法もまた、本発明の有機薄膜の製造方法の好適な実施形態の1つである。
以下においては、一般式(1)で表される構造を有する化合物からなる第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む塗料組成物を作製して、該塗料組成物を塗布することで有機薄膜を製造する方法について説明する。
Further, the organic thin film of the present invention can also be produced by coating, and in this case as well, the first material and the second material, which is a compound having no structure coordinated to the alkali metal in the molecule, are used. By preparing a coating composition containing the same and applying the coating composition, or by preparing a coating composition containing the first material and a coating composition containing the second material and applying them in order. An organic thin film can be produced. When they are applied in order, either the coating composition containing the first material or the coating composition containing the second material may be applied first. Further, a coating composition containing only one of these materials may be applied, and then a coating composition containing both of these materials may be applied. After applying a coating composition containing both of these materials, either of them may be applied. A coating composition containing only one of the materials may be applied. A coating composition containing such a first material which is a compound having a structure represented by the general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. The method for producing an organic thin film, which comprises a step of applying a compound onto the surface to be formed of the organic thin film, is one of the preferred embodiments of the method for producing an organic thin film of the present invention.
Further, a step of first applying either a coating composition containing only the first material or a coating composition containing only the second material onto the surface to be formed of the organic thin film, and on the coating film formed by the step. A step of applying a coating composition containing the other or both materials, a method for producing an organic thin film containing the same, or a step of applying a coating composition containing both the first material and the second material. A method for producing an organic thin film, which comprises a step of applying a coating composition containing only one of the first material or the second material on the coating film formed by the step, is also the method for producing the organic thin film of the present invention. It is one of the preferred embodiments of the manufacturing method.
In the following, a coating composition containing a first material composed of a compound having a structure represented by the general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. Will be described, and a method for producing an organic thin film by applying the coating composition will be described.

塗料組成物は、例えば、容器に入れた溶媒中に第1材料と第2材料をそれぞれ所定量供給して撹拌し、溶解させる方法により得られる。
第1材料及び第2材料を溶解するために用いる溶媒としては、例えば、無機溶媒や有機溶媒、又はこれらを含む混合溶媒等を用いることができる。
無機溶媒としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素等が挙げられる。
The coating composition is obtained, for example, by a method in which a predetermined amount of each of the first material and the second material is supplied to a solvent contained in a container, and the mixture is stirred and dissolved.
As the solvent used for dissolving the first material and the second material, for example, an inorganic solvent, an organic solvent, or a mixed solvent containing these can be used.
Examples of the inorganic solvent include nitric acid, sulfuric acid, ammonia, hydrogen peroxide, water, carbon disulfide and the like.

有機溶媒としては、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、ジイソブチルケトン、3,5,5−トリメチルシクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール(DEG)、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン(THP)、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグリム)、ジエチレングリコールエチルエーテル(カルビトール)等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル、エチレンカーボネート等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒等が挙げられ、これらの中でもメチルエチルケトン(MEK)、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、ジイソブチルケトン、3,5,5−トリメチルシクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、シクロペンタノン等のケトン系溶媒が好ましい。 Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone (MEK), acetone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl isopropyl ketone (MICK), diisobutyl ketone, 3,5,5-trimethylcyclohexanone, diacetone alcohol, cyclopentanone, and cyclohexanone. Etc., Ketone solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol, diethylene glycol (DEG), alcohol solvents such as glycerin, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane (DME), 1,4-dioxane, tetrahydrofuran. Ether-based solvents such as (THF), tetrahydropyran (THP), anisole, diethylene glycol dimethyl ether (digrim), diethylene glycol ethyl ether (carbitol), cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, phenyl cellosolve, hexane, pentane, heptane. , Aliper hydrocarbon solvents such as cyclohexane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, benzene, aromatic heterocyclic solvents such as pyridine, pyrazine, furan, pyrrole, thiophene, methylpyrrolidone, N, N -Amid solvents such as dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMA), halogen compound solvents such as chlorobenzene, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride, ethyl acetate, methyl acetate, etc. Ester solvents such as ethyl formate and ethylene carbonate, sulfur compound solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO) and sulfolane, nitrile solvents such as acetonitrile, propionitrile and acrylonitrile, formic acid, acetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid and the like. Examples thereof include various organic solvents such as organic acid solvents, among which methyl ethyl ketone (MEK), acetone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl isopropyl ketone (MICK), diisobutyl ketone, 3, 5, 5 -Ketone-based solvents such as trimethylcyclohexanone, diacetone alcohol, and cyclopentanone are preferable.

第1材料及び第2材料を含む塗料組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることができる。 Examples of the method for applying the coating composition containing the first material and the second material include a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, and a wire bar coating method. Various coating methods such as a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an inkjet printing method can be used.

このようにして塗料組成物を塗布した後、アニール処理を施すことが好ましい。アニール処理の条件は、70〜200℃で0.1〜5時間、窒素雰囲気又は大気下で行うことが好ましい。このようなアニール処理を施すことにより、溶媒を気化させて有機薄膜を成膜できる。 After applying the coating composition in this way, it is preferable to perform an annealing treatment. The conditions for the annealing treatment are preferably 70 to 200 ° C. for 0.1 to 5 hours in a nitrogen atmosphere or an atmosphere. By performing such an annealing treatment, the solvent can be vaporized to form an organic thin film.

<有機EL素子>
本発明は、また、陰極と陽極との間に発光層を有し、更に本発明の有機薄膜の層、該有機薄膜の層と金属酸化物層との積層膜の層、又は、一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物及び/又は分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物を含む材料層のいずれかを含む有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子でもある。
上記有機薄膜の層、該有機薄膜の層と金属酸化物層との積層膜の層、一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物及び/又は分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物を含む材料層は、いずれも本発明の有機EL素子中において、陰極と発光層との間にあってもよく、陽極と発光層との間にあってもよいが、陰極と発光層との間にあることが好ましい。
また、一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物及び/又は分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物を含む材料層は、上述した一般式(1−1)で表される構造を有する化合物及び/又は分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物を含む限り、その他の成分を含んでいてもよいが、一般式(1−1)で表される構造を有する化合物及び/又は分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物のみからなる層であることが好ましい。
<Organic EL element>
The present invention also has a light emitting layer between the cathode and the anode, and further comprises a layer of the organic thin film of the present invention, a layer of a laminated film of the organic thin film layer and a metal oxide layer, or a general formula ( It is also an organic electroluminescence (EL) element containing any of a material layer containing a phenanthroline compound having a structure represented by 1-1) and / or a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule.
The organic thin film layer, the laminated film layer of the organic thin film layer and the metal oxide layer, the phenanthroline compound having the structure represented by the general formula (1-1), and / or the coordination to the alkali metal in the molecule. In the organic EL element of the present invention, the material layer containing the compound having no such structure may be between the cathode and the light emitting layer, or between the anode and the light emitting layer, but the cathode and the light emitting layer may be present. It is preferably between and.
Further, the material layer containing the phenanthroline compound having the structure represented by the general formula (1-1) and / or the compound having no structure coordinated to the alkali metal in the molecule is the above-mentioned general formula (1-1). As long as it contains a compound having a structure represented by and / or a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule, other components may be contained, but it is represented by the general formula (1-1). It is preferable that the layer is composed of only a compound having such a structure and / or a compound having no structure for coordinating to an alkali metal in the molecule.

次に、本発明の有機EL素子について、例を挙げて詳細に説明する。
図4は、本発明の有機EL素子の一例を説明するための概略断面図である。図4に示す本実施形態の有機EL素子1は、陽極3と陰極9との間に発光層6を有する。図4に示す有機EL素子1では、陰極9と発光層6との間に、本発明の有機薄膜、又は、一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物及び/又は分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物からなる電子注入層8を有している。
本実施形態の有機EL素子1は、基板2上に、陽極3と、正孔注入層4と、正孔輸送層5と、発光層6と、電子輸送層7と、電子注入層8と、陰極9と、がこの順に形成された積層構造を有する。
Next, the organic EL device of the present invention will be described in detail with reference to an example.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the organic EL device of the present invention. The organic EL element 1 of the present embodiment shown in FIG. 4 has a light emitting layer 6 between the anode 3 and the cathode 9. In the organic EL element 1 shown in FIG. 4, the organic thin film of the present invention or the phenanthroline compound and / or the molecule having a structure represented by the general formula (1-1) between the cathode 9 and the light emitting layer 6 is used. It has an electron injection layer 8 made of a compound having no structure of coordinating to an alkali metal.
The organic EL element 1 of the present embodiment has an anode 3, a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, a light emitting layer 6, an electron transport layer 7, an electron injection layer 8, and an electron injection layer 8 on a substrate 2. It has a laminated structure in which the cathode 9 and the cathode 9 are formed in this order.

図4に示す有機EL素子1は、基板2側に陽極3を有する典型的な有機EL素子であるが、図5に示すように、基板2と発光層6との間に、陰極9が配置された逆構造の有機EL素子1も、本発明の有機EL素子の好適な実施形態の1つである。
また、陰極9と、本発明の有機薄膜、又は、一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物及び/又は分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物からなる電子注入層8との間に、無機の酸化物層10を有する態様も、本発明の有機EL素子の好適な実施形態の1つである。
The organic EL element 1 shown in FIG. 4 is a typical organic EL element having an anode 3 on the substrate 2 side, but as shown in FIG. 5, a cathode 9 is arranged between the substrate 2 and the light emitting layer 6. The reverse-structured organic EL device 1 is also one of the preferred embodiments of the organic EL device of the present invention.
Further, an electron composed of the cathode 9 and the organic thin film of the present invention, a phenanthroline compound having a structure represented by the general formula (1-1), and / or a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. An embodiment having an inorganic oxide layer 10 between the injection layer 8 and the injection layer 8 is also one of the preferred embodiments of the organic EL element of the present invention.

図4及び図5に示す有機EL素子1は、基板2と反対側に光を取り出すトップエミッション型のものであってもよいし、基板2側に光を取り出すボトムエミッション型のものであってもよい。 The organic EL element 1 shown in FIGS. 4 and 5 may be a top emission type that extracts light to the side opposite to the substrate 2, or a bottom emission type that extracts light to the substrate 2 side. good.

「基板」
基板2の材料としては、樹脂材料、ガラス材料等が挙げられる。
基板2に用いられる樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等が挙げられる。基板2の材料として、樹脂材料を用いた場合、柔軟性に優れた有機EL素子1が得られるため好ましい。
基板2に用いられるガラス材料としては、石英ガラス、ソーダガラス等が挙げられる。
"substrate"
Examples of the material of the substrate 2 include a resin material and a glass material.
Examples of the resin material used for the substrate 2 include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyether sulfone, polymethylmethacrylate, polycarbonate, polyarylate and the like. When a resin material is used as the material of the substrate 2, the organic EL element 1 having excellent flexibility can be obtained, which is preferable.
Examples of the glass material used for the substrate 2 include quartz glass and soda glass.

有機EL素子1がボトムエミッション型のものである場合には、基板2の材料として、透明基板を用いる。
有機EL素子1がトップエミッション型のものである場合には、基板2の材料として、透明基板だけでなく、不透明基板を用いてもよい。不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料からなる基板、ステンレス鋼のような金属板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成した基板、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。
When the organic EL element 1 is a bottom emission type, a transparent substrate is used as the material of the substrate 2.
When the organic EL element 1 is of the top emission type, not only a transparent substrate but also an opaque substrate may be used as the material of the substrate 2. Examples of the opaque substrate include a substrate made of a ceramic material such as alumina, a substrate having an oxide film (insulating film) formed on the surface of a metal plate such as stainless steel, and a substrate made of a resin material.

基板2の平均厚さは、基板2の材料等に応じて決定でき、0.1〜30mmであることが好ましく、0.1〜10mmであることがより好ましい。基板2の平均厚さは、デジタルマルチメーター、ノギスにより測定できる。 The average thickness of the substrate 2 can be determined according to the material of the substrate 2 and the like, and is preferably 0.1 to 30 mm, more preferably 0.1 to 10 mm. The average thickness of the substrate 2 can be measured with a digital multimeter and a caliper.

「陽極」
図4に示す陽極3は、基板2上に直接接触して形成されているが、図5に示すような逆構造の有機EL素子の場合は、基板2上に直接接触して形成されていなくてもよい。
陽極3の材料としては、ITO(インジウム酸化錫)、IZO(インジウム酸化亜鉛)、FTO(フッ素酸化錫)、In33、SnO2、Sb含有SnO2、Al含有ZnO等の酸化物の導電材料が挙げられる。この中でも、陽極3の材料として、ITO、IZO、FTOを用いることが好ましい。
陽極3の平均厚さは、特に制限されないが、10〜500nmであることが好ましく、100〜200nmであることがより好ましい。
陽極3の平均厚さは、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定できる。
"anode"
The anode 3 shown in FIG. 4 is formed in direct contact with the substrate 2, but in the case of an organic EL element having an inverted structure as shown in FIG. 5, it is not formed in direct contact with the substrate 2. You may.
As the material of the anode 3, the conductivity of oxides such as ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), FTO (fluorinated tin oxide), In 3 O 3 , SnO 2 , Sb-containing SnO 2 , and Al-containing ZnO Materials can be mentioned. Among these, it is preferable to use ITO, IZO, and FTO as the material of the anode 3.
The average thickness of the anode 3 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 100 to 200 nm.
The average thickness of the anode 3 can be measured by a stylus type step meter and spectroscopic ellipsometry.

「正孔注入層」
正孔注入層4は、無機材料からなるものであってもよいし、有機材料からなるものであってもよい。
無機材料としては、特に制限されないが、例えば、酸化バナジウム(V25)、酸化モリブテン(MoO3)、酸化ルテニウム(RuO2)等の金属酸化物を1種又は2種以上を用いることができる。
有機材料としては、ジピラジノ[2,3−f:2’,3’−h]キノキサリン−2,3,6,7,10,11−ヘキサカルボニトリル(HAT−CN)や2,3,5,6−テトラフルオロ−7,7,8,8−テトラシアノ−キノジメタン(F4−TCNQ)等の低分子材料や、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホネート(PEDOT:PSS)等を用いることができる。
"Hole injection layer"
The hole injection layer 4 may be made of an inorganic material or an organic material.
The inorganic material is not particularly limited, and for example, one or more metal oxides such as vanadium oxide (V 2 O 5 ), molybdenum oxide (MoO 3 ), and ruthenium oxide (RuO 2) may be used. can.
Organic materials include dipyrazino [2,3-f: 2', 3'-h] quinoxaline-2,3,6,7,10,11-hexacarbonitrile (HAT-CN) and 2,3,5. Use low molecular weight materials such as 6-tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyano-quinodimethane (F4-TCNQ), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonate (PEDOT: PSS), etc. be able to.

正孔注入層4の平均厚さは、特に限定されないが、1〜1000nmであることが好ましく、5〜50nmであることがより好ましい。
正孔輸送層4の平均厚さは、例えば、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定することができる。
The average thickness of the hole injection layer 4 is not particularly limited, but is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 5 to 50 nm.
The average thickness of the hole transport layer 4 can be measured by, for example, a stylus type profilometer or spectroscopic ellipsometry.

「正孔輸送層」
正孔輸送層5に用いる正孔輸送性有機材料としては、各種p型の高分子材料(有機ポリマー)、各種p型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。
具体的には、正孔輸送層5の材料として、例えば、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(α−NPD)、N4,N4’−ビス(ジベンゾ[b,d]チオフェン−4−イル)−N4,N4’−ジフェニルビフェニル−4,4’−ジアミン(DBTPB)、ポリアリールアミン、フルオレン−アリールアミン共重合体、フルオレン−ビチオフェン共重合体、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリチエニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられる。これらの正孔輸送層5の材料は、他の化合物との混合物として用いることもできる。一例として、正孔輸送層5の材料として用いられるポリチオフェンを含有する混合物として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン/スチレンスルホン酸)(PEDOT/PSS)等が挙げられる。
"Hole transport layer"
As the hole-transporting organic material used for the hole-transporting layer 5, various p-type polymer materials (organic polymers) and various p-type low-molecular-weight materials can be used alone or in combination.
Specifically, as the material of the hole transport layer 5, for example, N, N'-di (1-naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (α). -NPD), N4, N4'-bis (dibenzo [b, d] thiophene-4-yl) -N4, N4'-diphenylbiphenyl-4,4'-diamine (DBTPB), polyarylamine, fluorene-arylamine Copolymers, Fluorene-bitiophene copolymers, Poly (N-vinylcarbazole), Polyvinylpyrene, Polyvinylanthracene, Polythiophene, Polyalkylthiophene, Polyhexylthiophene, Poly (p-phenylenebinylene), Polythienylene vinylene, Pyreneformaldehyde Examples thereof include resins, ethylcarbazole formaldehyde resins or derivatives thereof. The material of these hole transport layers 5 can also be used as a mixture with other compounds. As an example, as a mixture containing polythiophene used as a material for the hole transport layer 5, poly (3,4-ethylenedioxythiophene / styrenesulfonic acid) (PEDOT / PSS) and the like can be mentioned.

正孔輸送層5の平均厚さは、特に限定されないが、10〜150nmであることが好ましく、20〜100nmであることがより好ましい。
正孔輸送層5の平均厚さは、例えば、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定することができる。
The average thickness of the hole transport layer 5 is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 nm, more preferably 20 to 100 nm.
The average thickness of the hole transport layer 5 can be measured by, for example, a stylus type profilometer or spectroscopic ellipsometry.

「発光層」
発光層6を形成する材料としては、発光層6の材料として通常用いることのできるいずれの材料を用いてもよく、これらを混合して用いてもよい。具体的には、例えば、発光層6として、ビス[2−(2−ベンゾチアゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(Zn(BTZ)2)と、トリス[1−フェニルイソキノリン]イリジウム(III)(Ir(piq)3)とを含むものとすることができる。
また、発光層6を形成する材料は、低分子化合物であってもよいし、高分子化合物であってもよい。なお、本発明において低分子材料とは、高分子材料(重合体)ではない材料を意味し、分子量が低い有機化合物を必ずしも意味するものではない。
"Light emitting layer"
As the material for forming the light emitting layer 6, any material that can be usually used as the material for the light emitting layer 6 may be used, or these may be mixed and used. Specifically, for example, as the light emitting layer 6, bis [2- (2-benzothiazolyl) phenolato] zinc (II) (Zn (BTZ) 2 ) and tris [1-phenylisoquinoline] iridium (III) (Ir ( It can include piq) 3) and.
Further, the material forming the light emitting layer 6 may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound. In the present invention, the small molecule material means a material that is not a polymer material (polymer), and does not necessarily mean an organic compound having a low molecular weight.

発光層6を形成する高分子材料としては、例えば、トランス型ポリアセチレン、シス型ポリアセチレン、ポリ(ジ−フェニルアセチレン)(PDPA)、ポリ(アルキルフェニルアセチレン)(PAPA)のようなポリアセチレン系化合物;ポリ(パラ−フェニレンビニレン)(PPV)、ポリ(2,5−ジアルコキシ−パラ−フェニレンビニレン)(RO−PPV)、シアノ−置換−ポリ(パラ−フェニレンビニレン)(CN−PPV)、ポリ(2−ジメチルオクチルシリル−パラ−フェニレンビニレン)(DMOS−PPV)、ポリ(2−メトキシ,5−(2’−エチルヘキソキシ)−パラ−フェニレンビニレン)(MEH−PPV)のようなポリパラフェニレンビニレン系化合物;ポリ(3−アルキルチオフェン)(PAT)、ポリ(オキシプロピレン)トリオール(POPT)のようなポリチオフェン系化合物;ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)(PDAF)、ポリ(ジオクチルフルオレン−アルト−ベンゾチアジアゾール)(F8BT)、α,ω−ビス[N,N’−ジ(メチルフェニル)アミノフェニル]−ポリ[9,9−ビス(2−エチルヘキシル)フルオレン−2,7−ジイル](PF2/6am4)、ポリ(9,9−ジオクチル−2,7−ジビニレンフルオレニル−オルト−コ(アントラセン−9,10−ジイル))のようなポリフルオレン系化合物;ポリ(パラ−フェニレン)(PPP)、ポリ(1,5−ジアルコキシ−パラ−フェニレン)(RO−PPP)のようなポリパラフェニレン系化合物;ポリ(N−ビニルカルバゾール)(PVK)のようなポリカルバゾール系化合物;ポリ(メチルフェニルシラン)(PMPS)、ポリ(ナフチルフェニルシラン)(PNPS)、ポリ(ビフェニリルフェニルシラン)(PBPS)のようなポリシラン系化合物;更には特開2011−184430号公報、特開2012−151148号公報に記載のホウ素化合物系高分子材料等が挙げられる。 Examples of the polymer material forming the light emitting layer 6 include polyacetylene compounds such as trans-type polyacetylene, cis-type polyacetylene, poly (di-phenylacetylene) (PDPA), and poly (alkylphenylacetylene) (PAPA); (Para-phenylene vinylene) (PPV), poly (2,5-dialkoxy-para-phenylene vinylene) (RO-PPV), cyano-substituted-poly (para-phenylene vinylene) (CN-PPV), poly (2) Polyparaphenylene vinylene compounds such as -dimethyloctylsilyl-para-phenylene vinylene) (DMOS-PPV), poly (2-methoxy, 5- (2'-ethylhexoxy) -para-phenylene vinylene) (MEH-PPV). Polythiophene compounds such as poly (3-alkylthiophene) (PAT), poly (oxypropylene) triol (POPT); poly (9,9-dialkylfluorene) (PDAF), poly (dioctylfluorene-alto-benzothiazol) ) (F8BT), α, ω-bis [N, N'-di (methylphenyl) aminophenyl] -poly [9,9-bis (2-ethylhexyl) fluorene-2,7-diyl] (PF2 / 6am4) , Polyfluorene compounds such as poly (9,9-dioctyl-2,7-dibinylene fluorenyl-ortho-co (anthracene-9,10-diyl)); poly (para-phenylene) (PPP), Polyparaphenylene compounds such as poly (1,5-dialkoxy-para-phenylene) (RO-PPP); polycarbazole compounds such as poly (N-vinylcarbazole) (PVK); poly (methylphenylsilane) ) (PMPS), poly (naphthylphenylsilane) (PNPS), poly (biphenylylphenylsilane) (PBPS) and other polysilane compounds; Examples thereof include the above-mentioned boron compound-based polymer materials.

発光層6を形成する低分子材料としては、例えば、配位子に2,2’−ビピリジン−4,4’−ジカルボン酸を持つ、3配位のイリジウム錯体、ファクトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3)、8−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3)、トリス(4−メチル−8−キノリノレート)アルミニウム(III)(Almq3)、8−ヒドロキシキノリン亜鉛(Znq2)、(1,10−フェナントロリン)−トリス−(4,4,4−トリフルオロ−1−(2−チエニル)−ブタン−1,3−ジオネート)ユーロピウム(III)(Eu(TTA)3(phen))、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィンプラチナム(II)のような各種金属錯体;ジスチリルベンゼン(DSB)、ジアミノジスチリルベンゼン(DADSB)のようなベンゼン系化合物;ナフタレン、ナイルレッドのようなナフタレン系化合物;フェナントレンのようなフェナントレン系化合物;クリセン、6−ニトロクリセンのようなクリセン系化合物;ペリレン、N,N’−ビス(2,5−ジ−t−ブチルフェニル)−3,4,9,10−ペリレン−ジ−カルボキシイミド(BPPC)のようなペリレン系化合物;コロネンのようなコロネン系化合物;アントラセン、ビススチリルアントラセンのようなアントラセン系化合物;ピレンのようなピレン系化合物;4−(ジ−シアノメチレン)−2−メチル−6−(パラ−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)のようなピラン系化合物;アクリジンのようなアクリジン系化合物;スチルベンのようなスチルベン系化合物;2,5−ジベンゾオキサゾールチオフェンのようなチオフェン系化合物;ベンゾオキサゾールのようなベンゾオキサゾール系化合物;ベンゾイミダゾールのようなベンゾイミダゾール系化合物;2,2’−(パラ−フェニレンジビニレン)−ビスベンゾチアゾールのようなベンゾチアゾール系化合物;ビスチリル(1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン)、テトラフェニルブタジエンのようなブタジエン系化合物;ナフタルイミドのようなナフタルイミド系化合物;クマリンのようなクマリン系化合物;ペリノンのようなペリノン系化合物;オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物;アルダジン系化合物;1,2,3,4,5−ペンタフェニル−1,3−シクロペンタジエン(PPCP)のようなシクロペンタジエン系化合物;キナクリドン、キナクリドンレッドのようなキナクリドン系化合物;ピロロピリジン、チアジアゾロピリジンのようなピリジン系化合物;2,2’,7,7’−テトラフェニル−9,9’−スピロビフルオレンのようなスピロ化合物;フタロシアニン(H2Pc)、銅フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物;更には特開2009−155325号公報、特開2011−184430号公報及び特開2012−151149号公報に記載のホウ素化合物材料等が挙げられる。 Examples of the low molecular weight material forming the light emitting layer 6 include a tricoordinated iridium complex having 2,2'-bipyridine-4,4'-dicarboxylic acid as a ligand, and factories (2-phenylpyridine). Iridium (Ir (ppy) 3 ), 8-hydroxyquinolin aluminum (Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolate) aluminum (III) (Almq 3 ), 8-hydroxyquinolin zinc (Znq 2 ), (1) , 10-Phenantroline) -Tris- (4,4,4-trifluoro-1- (2-thienyl) -butane-1,3-geonate) Europium (III) (Eu (TTA) 3 (phen)), 2 , 3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-21H, 23H-Various metal complexes such as porphin platinum (II); such as distyrylbenzene (DSB), diaminodistyrylbenzene (DADSB). Benzene-based compounds; naphthalene-based compounds such as naphthalene and Nile Red; phenanthrene-based compounds such as phenanthrene; chrysene-based compounds such as chrysene and 6-nitrochrycene; perylene, N, N'-bis (2,5-di) Perylene compounds such as -t-butylphenyl) -3,4,9,10-perylene-di-carboxyimide (BPPC); coronene compounds such as coronen; anthracene compounds such as anthracene and bisstyrylanthracene Pyrene compounds such as pyrene; Pyran compounds such as 4- (di-cyanomethylene) -2-methyl-6- (para-dimethylaminostyryl) -4H-pyran (DCM); Stylene-based compounds; Stilben-based compounds such as Stilben; thiophene-based compounds such as 2,5-dibenzoxazolethiophene; benzoxazole-based compounds such as benzoxazole; benzoimidazole-based compounds such as benzoimidazole; 2,2'- (Para-phenylenedivinylene) -benzothiazole compounds such as bisbenzothiazole; butadiene compounds such as bistilyl (1,4-diphenyl-1,3-butadiene), tetraphenylbutadiene; Phtalimide-based compounds; coumarin-based compounds such as coumarin; perinone-based compounds such as perinone; oxaziazole-based compounds such as oxadiazole; aldazine-based compounds; 1,2,3,4,5-pentaphenyl- Cyclopentadiene compounds such as 1,3-cyclopentadiene (PPCP); quinacridone compounds such as quinacridone and quinacridone red; pyridine compounds such as spirolopyridine and thiadiazolopyridine; 2,2', 7,7 Spiro compounds such as'-tetraphenyl-9,9'-spirobifluorene; metallic or metal-free phthalocyanine compounds such as phthalocyanine (H 2 Pc), copper phthalocyanine; Examples thereof include the boron compound materials described in JP-A-2011-184430 and JP-A-2012-151149.

発光層6の平均厚さは、特に限定されないが、10〜150nmであることが好ましく、20〜100nmであることがより好ましい。
発光層6の平均厚さは、触針式段差計により測定してもよいし、水晶振動子膜厚計により発光層6の成膜時に測定してもよい。
The average thickness of the light emitting layer 6 is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 nm, and more preferably 20 to 100 nm.
The average thickness of the light emitting layer 6 may be measured by a stylus type step meter or may be measured by a crystal oscillator film thickness meter at the time of film formation of the light emitting layer 6.

「電子輸送層」
電子輸送層7としては、電子注入層8の第2材料として用いる、これまで電子輸送層の材料として通常用いられてきた、アルカリ金属を添加すれば陰極からの電子注入が可能な材料とは異なる材料を用いることができる。
具体的には、前記第2材料は、芳香族炭化水素化合物、窒素−ホウ素結合を有する化合物、π電子過剰系複素芳香族化合物、シロール環を含む化合物、等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
一方、有機EL素子の作製に必要な材料の数は増えるものの、例えば、発光層6と電子輸送層7の間に正孔阻止層として、これまで電子輸送層の材料として通常用いられてきたアルカリ金属からの電子注入が可能な化合物を用いてもよい。
電子輸送層7の平均厚さは、特に限定されないが、10〜150nmであることが好ましく、20〜100nmであることが、より好ましい。
電子輸送層7の平均厚さは、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定できる。
一方、後述するが、本発明の第1材料と第2材料を混合した有機薄膜を電子注入層8兼電子輸送層7として取り扱う場合、電子輸送層はなくても良い。
"Electronic transport layer"
The electron transport layer 7 is different from the material used as the second material of the electron injection layer 8, which has been usually used as the material of the electron transport layer, and which can be electron-injected from the cathode by adding an alkali metal. Materials can be used.
Specifically, the second material includes an aromatic hydrocarbon compound, a compound having a nitrogen-boron bond, a π-electron excess heteroaromatic compound, a compound containing a silol ring, and the like, and one of them or Two or more types can be used.
On the other hand, although the number of materials required for producing an organic EL element increases, for example, an alkali which has been usually used as a material for an electron transport layer as a hole blocking layer between a light emitting layer 6 and an electron transport layer 7. A compound capable of electron injection from a metal may be used.
The average thickness of the electron transport layer 7 is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 nm, and more preferably 20 to 100 nm.
The average thickness of the electron transport layer 7 can be measured by a stylus type step meter and spectroscopic ellipsometry.
On the other hand, as will be described later, when the organic thin film in which the first material and the second material of the present invention are mixed is treated as the electron injection layer 8 and the electron transport layer 7, the electron transport layer may not be provided.

「電子注入層」
電子注入層8は、陰極9から発光層6への電子の注入の速度・電子輸送性を改善するものである。電子注入層8は、上述の有機薄膜からなる。
電子注入層8の平均厚さは、0.5〜100nmであることが好ましく、1〜50nmであることがより好ましい。第1材料と第2材料とを含む塗料組成物を塗布する方法、第1材料を含む塗料組成物と第2材料と含む塗料組成物とを順に塗布する方法のいずれかを用いて、電子注入層8を形成することにより、表面の平滑な電子注入層8が得られる。もしくは、真空蒸着法を用いて共蒸着することにより、第1材料と第2材料からなる電子注入層8が得られる。また、電子注入層8の平均厚さが100nm以下である場合、電子注入層8を設けることによる有機EL素子1の駆動電圧の上昇を十分に抑制できる。
"Electron injection layer"
The electron injection layer 8 improves the speed and electron transportability of electron injection from the cathode 9 to the light emitting layer 6. The electron injection layer 8 is made of the above-mentioned organic thin film.
The average thickness of the electron injection layer 8 is preferably 0.5 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm. Electron injection using either a method of applying a coating composition containing a first material and a second material, or a method of sequentially applying a coating composition containing a first material and a coating composition containing a second material. By forming the layer 8, an electron-injected layer 8 having a smooth surface can be obtained. Alternatively, by co-depositing using a vacuum vapor deposition method, an electron injection layer 8 composed of a first material and a second material can be obtained. Further, when the average thickness of the electron injection layer 8 is 100 nm or less, an increase in the drive voltage of the organic EL element 1 due to the provision of the electron injection layer 8 can be sufficiently suppressed.

なお、上記第1材料と第2材料とを含む膜を成膜する場合、陰極9と発光層6の間の構造は、図6〜11に示すいずれの構造であってもよい。例えば、第1材料と第2材料の混合膜を電子注入層8とし、第2材料からなる膜を電子輸送層7とする構成であってもよく(図6)、第1材料のみからなる膜を電子注入層8とし、第2材料のみからなる膜を電子輸送層7とする構成であってもよく(図7)、第2材料と第1材料の積層膜を電子注入層8とし、第2材料のみからなる膜を電子輸送層7とする構成であってもよく(図8)、陰極9側に第2材料からなる膜を有し、これと第1材料・第2材料の混合膜との積層膜を電子注入層8とし、第2材料のみからなる膜を電子輸送層7とする構成であってもよく(図9)、上述の通り、第1材料と第2材料との混合膜を電子注入層8兼電子輸送層7としてもよい(図10、図11)。なお、図6、図9又は図11のように、隣接する2つの膜の両方に第2材料が含まれる場合、これら2つの膜に含まれる第2材料は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
電子注入層8の平均厚さは、例えば、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定できる。
When forming a film containing the first material and the second material, the structure between the cathode 9 and the light emitting layer 6 may be any of the structures shown in FIGS. 6 to 11. For example, the mixed film of the first material and the second material may be the electron injection layer 8 and the film made of the second material may be the electron transport layer 7 (FIG. 6), or the film made of only the first material. May be the electron injection layer 8 and the film made of only the second material may be the electron transport layer 7 (FIG. 7), and the laminated film of the second material and the first material may be the electron injection layer 8 and the first material. The electron transport layer 7 may be a film composed of only two materials (FIG. 8), and a film composed of a second material is provided on the cathode 9 side, and a mixed film of this and the first material and the second material is used. The laminated film with and may be the electron injection layer 8 and the film composed of only the second material as the electron transport layer 7 (FIG. 9), and as described above, the first material and the second material are mixed. The membrane may be an electron injection layer 8 and an electron transport layer 7 (FIGS. 10 and 11). When the second material is contained in both of the two adjacent films as shown in FIGS. 6, 9 or 11, the second materials contained in these two films may be the same or different. May be.
The average thickness of the electron injection layer 8 can be measured by, for example, a stylus type step meter or spectroscopic ellipsometry.

有機薄膜に金属を蒸着した場合、また、陰極上に有機薄膜を蒸着した場合のどちらにおいても、有機薄膜側へ金属が数ナノメートルの距離拡散することが報告されている(Lee, J. H., Yi, Y. & Moon, D. W. Direct evidence of Al diffusion into tris-(8-hydroquinoline) aluminum layer: medium energy ion scattering analysis. Applied Physics Letters 93, doi:10.1063/1.3002290 (2008).及びFukagawa, H. et al. Long-Lived Flexible Displays Employing Efficient and Stable Inverted Organic Light-Emitting Diodes. Adv Mater 30, e1706768, doi:10.1002/adma.201706768 (2018).参照)。従って、図8、図9、図11に示すように、陰極9側に第2材料が存在するような積層構造であっても、金属の拡散により第1材料との配位反応による電子注入の効果を得ることができる。つまり、第1材料を陰極9上に直接形成しなくても、本発明の効果を得ることができる。有機EL素子が積層構造中に陰極と、陰極下に形成された本発明の有機薄膜の層とを含む場合、該有機EL素子は、本発明の積層膜を含んで構成されているということができる。このような本発明の積層膜を含んで構成される有機EL素子もまた、本発明の1つである。 It has been reported that the metal diffuses to the organic thin film side at a distance of several nanometers in both the case where the metal is deposited on the organic thin film and the case where the organic thin film is deposited on the cathode (Lee, JH, Yi). , Y. & Moon, DW Direct evidence of Al diffusion into tris-(8-hydroquinoline) aluminum layer: medium energy ion scattering analysis. Applied Physics Letters 93, doi: 10.1063 / 1.3002290 (2008). And Fukagawa, H. et al Long-Lived Flexible Displays Employing Efficient and Stable Inverted Organic Light-Emitting Diodes. Adv Mater 30, e1706768, doi: 10.1002 / adma. 201706768 (2018).). Therefore, as shown in FIGS. 8, 9, and 11, even in a laminated structure in which the second material is present on the cathode 9 side, electron injection is performed by the coordination reaction with the first material due to the diffusion of the metal. The effect can be obtained. That is, the effect of the present invention can be obtained without forming the first material directly on the cathode 9. When the organic EL element includes a cathode and a layer of the organic thin film of the present invention formed under the cathode in the laminated structure, the organic EL element is configured to include the laminated film of the present invention. can. An organic EL device including such a laminated film of the present invention is also one of the present inventions.

本発明の有機EL素子は、電子注入層8として、図6、図9、図10、図11のような積層膜を有するものであってもよい。すなわち、陰極9と前記発光層6との間に、前記第1材料と第2材料とを含む膜と、前記第2材料を含む膜との積層膜を有することは、本発明の有機EL素子の好適な実施形態の1つである。
この場合、発光層6と、第1材料と第2材料とを含む膜との間に、第2材料を含む層を有する有機EL素子、及び、陰極9と、第1材料と第2材料とを含む膜との間に、第2材料を含む層を有する有機EL素子のいずれも本発明の有機EL素子の好適な実施形態の1つである。
The organic EL device of the present invention may have an electron injection layer 8 having a laminated film as shown in FIGS. 6, 9, 10, and 11. That is, having a laminated film of the film containing the first material and the second material and the film containing the second material between the cathode 9 and the light emitting layer 6 is the organic EL device of the present invention. Is one of the preferred embodiments of.
In this case, an organic EL device having a layer containing a second material between the light emitting layer 6 and a film containing the first material and the second material, a cathode 9, and the first material and the second material. Any of the organic EL devices having a layer containing the second material between the film and the film containing the above is one of the preferred embodiments of the organic EL device of the present invention.

「陰極」
陰極9に用いられる材料としては、ITO、IZO、Au、Pt、Ag、Cu、Al、Mg、又はこれらを含む合金等が挙げられる。この中でも、陰極9の材料として、ITO、IZO、Au、Ag、Alを用いることが好ましい。
陰極9の平均厚さは、特に限定されないが、10〜1000nmであることが好ましく、30〜150nmであることがより好ましい。また、陰極9の材料として不透過な材料を用いる場合でも、例えば、平均厚さを10〜30nm程度にすることで、トップエミッション型の有機EL素子における透明な陰極として使用できる。
陰極9の平均厚さは、水晶振動子膜厚計により陰極9の成膜時に測定できる。
"cathode"
Examples of the material used for the cathode 9 include ITO, IZO, Au, Pt, Ag, Cu, Al, Mg, and alloys containing these. Among these, it is preferable to use ITO, IZO, Au, Ag, and Al as the material of the cathode 9.
The average thickness of the cathode 9 is not particularly limited, but is preferably 10 to 1000 nm, more preferably 30 to 150 nm. Further, even when an opaque material is used as the material of the cathode 9, for example, by setting the average thickness to about 10 to 30 nm, it can be used as a transparent cathode in a top emission type organic EL element.
The average thickness of the cathode 9 can be measured by a crystal oscillator film thickness meter at the time of film formation of the cathode 9.

「電子注入用酸化物層」
図5に示す逆構造有機EL素子に本発明の有機薄膜を適用する場合、陰極9上に無機の酸化物層10を有することが好ましい。この酸化物層10は、電子注入層8としての機能及び/又は陰極9としての機能を備えている。図6〜図11に示す発光層6と陰極9の間に用いる電子注入層8は、逆構造有機EL素子にも適用可能であるが、陰極9と有機層の間に酸化物層10を挿入することとなる。
酸化物層10は、半導体もしくは絶縁体積層薄膜の層である。具体的には、酸化物層10は、単体の金属酸化物からなる層、二種類以上の金属酸化物を混合した層と単体の金属酸化物からなる層のいずれか一方または両方を積層した層、二種類以上の金属酸化物を混合した層のいずれであってもよい。
"Oxide layer for electron injection"
When the organic thin film of the present invention is applied to the inverted structure organic EL device shown in FIG. 5, it is preferable to have an inorganic oxide layer 10 on the cathode 9. The oxide layer 10 has a function as an electron injection layer 8 and / or a function as a cathode 9. The electron injection layer 8 used between the light emitting layer 6 and the cathode 9 shown in FIGS. 6 to 11 can also be applied to an inverted organic EL device, but an oxide layer 10 is inserted between the cathode 9 and the organic layer. Will be done.
The oxide layer 10 is a layer of a semiconductor or insulator laminated thin film. Specifically, the oxide layer 10 is a layer obtained by laminating either or both of a layer made of a single metal oxide, a layer made of a mixture of two or more types of metal oxides, and a layer made of a single metal oxide. , It may be any of the layers in which two or more kinds of metal oxides are mixed.

酸化物層10を形成する金属酸化物を構成する金属元素としては、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、インジウム、ガリウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、カドミウム、アルミニウム、ケイ素が挙げられる。 The metal elements constituting the metal oxide forming the oxide layer 10 include magnesium, calcium, strontium, barium, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, indium, gallium, and the like. Examples include iron, cobalt, nickel, copper, zinc, cadmium, aluminum and silicon.

酸化物層10が、二種類以上の金属酸化物を混合した層を含む場合、金属酸化物を構成する金属元素の少なくとも一つが、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、ジルコニウム、ハフニウム、ケイ素、チタン、亜鉛からなる層であることが好ましい。
酸化物層10が、単体の金属酸化物からなる層である場合、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛からなる群から選ばれる金属酸化物からなる層であることが好ましい。
When the oxide layer 10 contains a layer in which two or more kinds of metal oxides are mixed, at least one of the metal elements constituting the metal oxide is composed of magnesium, aluminum, calcium, zirconium, hafnium, silicon, titanium, and zinc. It is preferable that the layer is composed of.
When the oxide layer 10 is a layer made of a single metal oxide, a layer made of a metal oxide selected from the group consisting of magnesium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, silicon oxide, titanium oxide, and zinc oxide. Is preferable.

酸化物層10が、二種類以上の金属酸化物を混合した層と単体の金属酸化物からなる層のいずれか一方又は両方を積層した層、または二種類以上の金属酸化物を混合した層である場合、酸化チタン/酸化亜鉛、酸化チタン/酸化マグネシウム、酸化チタン/酸化ジルコニウム、酸化チタン/酸化アルミニウム、酸化チタン/酸化ハフニウム、酸化チタン/酸化ケイ素、酸化亜鉛/酸化マグネシウム、酸化亜鉛/酸化ジルコニウム、酸化亜鉛/酸化ハフニウム、酸化亜鉛/酸化ケイ素、酸化カルシウム/酸化アルミニウム、から選ばれる二種の金属酸化物の組合せを積層及び/又は混合したもの、酸化チタン/酸化亜鉛/酸化マグネシウム、酸化チタン/酸化亜鉛/酸化ジルコニウム、酸化チタン/酸化亜鉛/酸化アルミニウム、酸化チタン/酸化亜鉛/酸化ハフニウム、酸化チタン/酸化亜鉛/酸化ケイ素、酸化インジウム/酸化ガリウム/酸化亜鉛、から選ばれる三種の金属酸化物の組合せを積層及び/又は混合したもの等が挙げられる。 The oxide layer 10 is a layer in which one or both of a layer in which two or more types of metal oxides are mixed and a layer composed of a single metal oxide are laminated, or a layer in which two or more types of metal oxides are mixed. In some cases, titanium oxide / zinc oxide, titanium oxide / magnesium oxide, titanium oxide / zirconium oxide, titanium oxide / aluminum oxide, titanium oxide / hafnium oxide, titanium oxide / silicon oxide, zinc oxide / magnesium oxide, zinc oxide / zirconium oxide , Zinc oxide / Hafnium oxide, Zinc oxide / Silicon oxide, Calcium oxide / Aluminum oxide, Laminated and / or a mixture of two metal oxides, Titanium oxide / Zinc oxide / Magnesium oxide, Titanium oxide / Zinc oxide / Zirconium oxide, Titanium oxide / Zinc oxide / Aluminum oxide, Titanium oxide / Zinc oxide / Hafnium oxide, Titanium oxide / Zinc oxide / Silicon oxide, Indium oxide / Gallium oxide / Zinc oxide Examples thereof include laminated and / or mixed combinations of substances.

酸化物層10は、特殊な組成として良好な特性を示す酸化物半導体であるIGZO(酸化インジウムガリウム亜鉛)及び/又はエレクトライドである12CaO・7Al23を含むものであってもよい。
酸化物層10の平均厚さは、特に限定されないが、1〜1000nmであることが好ましく、2〜100nmであることがより好ましい。
酸化物層10の平均厚さは、触針式段差計、分光エリプソメトリーにより測定できる。
The oxide layer 10 may contain IGZO (indium gallium oxide zinc), which is an oxide semiconductor exhibiting good properties as a special composition, and / or 12CaO · 7Al 2 O 3 which is an electride.
The average thickness of the oxide layer 10 is not particularly limited, but is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 2 to 100 nm.
The average thickness of the oxide layer 10 can be measured by a stylus type step meter and spectroscopic ellipsometry.

「封止」
図4及び図5に示す有機EL素子1は、必要に応じて、封止されていてもよい。
例えば、図4及び図5に示す有機EL素子1は、有機EL素子1を収容する凹状の空間を有する封止容器(不図示)と、封止容器の縁部と基板2とを接着する接着剤とによって封止されていてもよい。また、封止容器に有機EL素子1を収容し、紫外線(UV)硬化樹脂等からなるシール材を充填することにより封止してもよい。
また、例えば、図4に示す有機EL素子1は、陰極9上に配置された板部材(不図示)と、板部材の陰極9と対向する側の縁部に沿って配置された枠部材(不図示)とからなる封止部材と、板部材と枠部材との間及び枠部材と基板2との間とを接着する接着剤とを用いて封止されていてもよい。
また、図5に示す有機EL素子1は、陽極3上に配置された板部材(不図示)と、板部材の陽極3と対向する側の縁部に沿って配置された枠部材(不図示)とからなる封止部材と、板部材と枠部材との間及び枠部材と基板2との間とを接着する接着剤とを用いて封止されていてもよい。
"Sealing"
The organic EL element 1 shown in FIGS. 4 and 5 may be sealed, if necessary.
For example, the organic EL element 1 shown in FIGS. 4 and 5 adheres to a sealing container (not shown) having a concave space for accommodating the organic EL element 1 and an edge of the sealing container and a substrate 2. It may be sealed with an agent. Alternatively, the organic EL element 1 may be housed in a sealing container and sealed by filling with a sealing material made of an ultraviolet (UV) curable resin or the like.
Further, for example, the organic EL element 1 shown in FIG. 4 has a plate member (not shown) arranged on the cathode 9 and a frame member (not shown) arranged along the edge of the plate member facing the cathode 9. It may be sealed by using a sealing member made of (not shown) and an adhesive that adheres between the plate member and the frame member and between the frame member and the substrate 2.
Further, the organic EL element 1 shown in FIG. 5 has a plate member (not shown) arranged on the anode 3 and a frame member (not shown) arranged along the edge of the plate member facing the anode 3. ), And an adhesive that adheres between the plate member and the frame member and between the frame member and the substrate 2 may be used for sealing.

封止容器又は封止部材を用いて有機EL素子1を封止する場合、封止容器内又は封止部材の内側に、水分を吸収する乾燥材を配置してもよい。また、封止容器又は封止部材として、水分を吸収する材料を用いてもよい。また、封止された封止容器内又は封止部材の内側には、空間が形成されていてもよい。 When the organic EL element 1 is sealed using the sealing container or the sealing member, a desiccant that absorbs moisture may be arranged in the sealing container or inside the sealing member. Further, a material that absorbs moisture may be used as the sealing container or the sealing member. Further, a space may be formed in the sealed sealing container or inside the sealing member.

図4及び図5に示す有機EL素子1を封止する場合に用いる封止容器又は封止部材の材料としては、樹脂材料、ガラス材料等を用いることができる。封止容器又は封止部材に用いられる樹脂材料及びガラス材料としては、基板2に用いる材料と同様のものが挙げられる。 As the material of the sealing container or the sealing member used when sealing the organic EL element 1 shown in FIGS. 4 and 5, a resin material, a glass material, or the like can be used. Examples of the resin material and the glass material used for the sealing container or the sealing member include the same materials as those used for the substrate 2.

本実施形態の有機EL素子1において、有機薄膜として、上記一般式(1)で表される電子供与性の有機材料である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、からなるものを用いて電子注入層8を形成した場合には、例えば、電子注入層8として大気中で不安定な材料であるアルカリ金属を用いた場合と比較して、優れた耐久性が得られる。このため、封止容器又は封止部材の水蒸気透過率が10-3〜10-4g/m2/day程度であれば、有機EL素子1の劣化を十分に抑制できる。従って、封止容器又は封止部材の材料として、水蒸気透過率が10-4g/m2/day程度を超える樹脂材料を用いることが可能であり、柔軟性に優れた有機EL素子1を実現できる。 The organic EL element 1 of the present embodiment does not have a first material, which is an electron-donating organic material represented by the above general formula (1), and a structure that coordinates to an alkali metal in the molecule as an organic thin film. When the electron injection layer 8 is formed by using a second material which is a compound, as compared with the case where an alkali metal which is an unstable material in the atmosphere is used as the electron injection layer 8, for example. Therefore, excellent durability can be obtained. Therefore, if the water vapor transmittance of the sealing container or the sealing member is about 10 -3 to 10 -4 g / m 2 / day, the deterioration of the organic EL element 1 can be sufficiently suppressed. Therefore, as the material of the sealing container or the sealing member, it is possible to use a resin material having a water vapor transmittance of more than about 10 -4 g / m 2 / day, and the organic EL element 1 having excellent flexibility is realized. can.

「有機EL素子の製造方法」
次に、本発明の有機EL素子の製造方法の一例として、図4に示す有機EL素子1の製造方法を説明する。
図4に示す有機EL素子1を製造するには、まず、基板2上に陽極3を形成する。
陽極3は、スパッタ法、真空蒸着法、ゾルゲル法、スプレー熱分解(SPD)法、原子層堆積(ALD)法、気相成膜法、液相成膜法等により形成することができる。陽極3の形成には、金属箔を接合する方法を用いてもよい。
"Manufacturing method of organic EL element"
Next, as an example of the method for manufacturing the organic EL element of the present invention, the method for manufacturing the organic EL element 1 shown in FIG. 4 will be described.
In order to manufacture the organic EL element 1 shown in FIG. 4, first, the anode 3 is formed on the substrate 2.
The anode 3 can be formed by a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, a sol-gel method, a spray pyrolysis (SPD) method, an atomic layer deposition (ALD) method, a vapor phase deposition method, a liquid phase film formation method, or the like. A method of joining metal foils may be used for forming the anode 3.

次に、陽極3上に正孔注入層4を形成する。
正孔注入層4は、上述した有機薄膜の製造方法により形成できる。
Next, the hole injection layer 4 is formed on the anode 3.
The hole injection layer 4 can be formed by the above-mentioned method for producing an organic thin film.

次に、正孔注入層4上に、正孔輸送層5と、発光層6と、電子輸送層7と、電子注入層8と、をこの順で形成する。
正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8の形成方法は、特に限定されず、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8のそれぞれに用いられる材料の特性に合わせて、従来公知の種々の形成方法を適宜用いることができる。
Next, the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 are formed on the hole injection layer 4 in this order.
The method for forming the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 is not particularly limited, and each of the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 is formed. Various conventionally known forming methods can be appropriately used according to the characteristics of the material used in the above.

具体的には、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8の各層を形成する方法として、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8となる有機化合物を含む有機化合物溶液を塗布する塗布法、真空蒸着法、ESDUS(Evaporative Spray Deposition from Ultra−dilute Solution)法等が挙げられる。 Specifically, as a method for forming each of the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8, the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer are formed. Examples thereof include a coating method for applying an organic compound solution containing an organic compound according to No. 8, a vacuum vapor deposition method, and an ESDUS (Evolaactive Spray Depositionion from Ultra-dilute Solution) method.

塗布法を用いて正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8を形成する場合には、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8となる有機化合物をそれぞれ溶媒に溶解することにより、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8となる有機化合物をそれぞれ含む有機化合物溶液を形成する。 When the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 are formed by the coating method, the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 are formed. By dissolving each of the organic compounds to be used in a solvent, an organic compound solution containing the organic compounds to be the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 is formed.

正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8となる有機化合物を溶解するために用いる溶媒としては、例えば、キシレン、トルエン、シクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が好ましく、これらを単独または混合して用いることができる。 Examples of the solvent used for dissolving the organic compound to be the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 include xylene, toluene, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, and tetra. Aromatic hydrocarbon solvents such as methylbenzene, aromatic heterocyclic solvents such as pyridine, pyrazine, furan, pyrrole, thiophene, and methylpyrrolidone, and aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, pentane, heptane, and cyclohexane are used. Preferably, these can be used alone or in combination.

正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8となる有機化合物を含む有機化合物溶液を塗布する方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることができる。これらの塗布法の中でも、膜厚をより制御し易いという点で、スピンコート法やスリットコート法を用いることが好ましい。 Examples of the method for applying the organic compound solution containing the organic compound to be the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer 8 include a spin coat method, a casting method, a micro gravure coat method, and a gravure coat method. , Bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen printing method, flexographic printing method, offset printing method, inkjet printing method and the like can be used. Among these coating methods, it is preferable to use the spin coating method or the slit coating method because the film thickness can be more easily controlled.

次に、陰極9を形成する。
陰極9は、例えば、陽極3と同様にして形成できる。
以上の工程により、図4に示す有機EL素子1が得られる。
Next, the cathode 9 is formed.
The cathode 9 can be formed in the same manner as the anode 3, for example.
By the above steps, the organic EL element 1 shown in FIG. 4 is obtained.

「封止方法」
図4に示す有機EL素子1を封止する場合には、有機EL素子の封止に用いられる通常の方法を使用して封止できる。
"Seal method"
When the organic EL element 1 shown in FIG. 4 is sealed, it can be sealed by using the usual method used for sealing the organic EL element.

本実施形態の有機EL素子1は、上述した電子供与性の有機材料である第1材料と隣接する陰極材料とが配位結合を形成することにより、マイナス電荷が生じ、優れた電子注入性が得られる。従って、陰極9から発光層6への電子注入・電子輸送の速度が速く、駆動電圧の低い有機EL素子1となる。
また、上述したように、上述した電子供与性の有機材料である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む有機薄膜が積層膜であって、第2材料によって形成される層が第1材料によって形成される電子注入層とは異なる層である有機EL素子1も、本発明の有機EL素子の別の実施形態である。このような実施形態の有機EL素子においても、陰極9から発光層6への電子注入・電子輸送の速度が速く、駆動電圧の低い有機EL素子1となる。
In the organic EL element 1 of the present embodiment, a negative charge is generated by forming a coordination bond between the first material, which is the above-mentioned electron-donating organic material, and the adjacent cathode material, and excellent electron injection property is obtained. can get. Therefore, the organic EL element 1 has a high electron injection / electron transport speed from the cathode 9 to the light emitting layer 6 and a low drive voltage.
Further, as described above, the organic thin film containing the above-mentioned first material which is an electron-donating organic material and the second material which is a compound which does not have a structure of coordinating to an alkali metal in the molecule is a laminated film. The organic EL element 1 in which the layer formed by the second material is different from the electron injection layer formed by the first material is also another embodiment of the organic EL element of the present invention. Even in the organic EL element of such an embodiment, the organic EL element 1 has a high speed of electron injection / electron transport from the cathode 9 to the light emitting layer 6 and a low drive voltage.

「他の例」
本発明の有機EL素子は、上述した実施形態において説明した有機EL素子に限定されるものではない。
具体的には、上述した実施形態においては、有機薄膜が電子注入層として機能する場合を例に挙げて説明したが、本発明の有機EL素子は、陰極と発光層との間に有機薄膜を有していればよい。従って、有機薄膜は、電子注入層に限定されるものではなく、電子注入層と電子輸送層とを兼ねる層として設けられていてもよいし、電子輸送層として設けられていてもよい。
"Other examples"
The organic EL device of the present invention is not limited to the organic EL device described in the above-described embodiment.
Specifically, in the above-described embodiment, the case where the organic thin film functions as an electron injection layer has been described as an example, but the organic EL device of the present invention has an organic thin film between the cathode and the light emitting layer. You just have to have it. Therefore, the organic thin film is not limited to the electron injection layer, and may be provided as a layer that also serves as an electron injection layer and an electron transport layer, or may be provided as an electron transport layer.

また、図4に示す有機EL素子1においては、電子輸送層7、正孔輸送層5、正孔注入層4は、必要に応じて形成すればよく、設けられていなくてもよい。
また、陽極3、正孔注入層4、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8、陰極9の各層は、1層で形成されているものであってもよいし、2層以上からなるものであってもよい。
Further, in the organic EL element 1 shown in FIG. 4, the electron transport layer 7, the hole transport layer 5, and the hole injection layer 4 may be formed as needed and may not be provided.
Further, each of the anode 3, the hole injection layer 4, the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, the electron injection layer 8 and the cathode 9 may be formed of one layer. However, it may be composed of two or more layers.

また、図4に示す有機EL素子1においては、図4に示す各層の間に他の層を有するものであってもよい。具体的には、有機EL素子の特性を更に向上させる等の理由から、必要に応じて、正孔阻止層等を有していてもよい。 Further, in the organic EL element 1 shown in FIG. 4, another layer may be provided between the layers shown in FIG. Specifically, a hole blocking layer or the like may be provided, if necessary, for the purpose of further improving the characteristics of the organic EL element.

図12及び図13に、本発明の有機EL素子の積層構造の他の例を説明するための概略断面図を示す。 12 and 13 show schematic cross-sectional views for explaining another example of the laminated structure of the organic EL element of the present invention.

上述した通り、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料は、電子注入性に極めて優れているため、該第1材料を電子注入層8に用いた場合には、発光層6に用いる材料に対しても直接電子を注入することが可能である。従って、発光層6に用いる材料を電子輸送層7に用いても、低い駆動電圧で動作することが可能となる。そのため、図12に示すように、発光層6に用いる材料を電子輸送層7に用いた単純構造の有機EL素子1であっても、低い駆動電圧で動作することが可能となる。この場合、典型的な有機EL素子に比べると、1つ使用する材料を減らすことが可能となる。 As described above, the first material, which is a compound having the structure represented by the general formula (1), is extremely excellent in electron injection property. Therefore, when the first material is used for the electron injection layer 8, the first material is used. , It is possible to directly inject electrons into the material used for the light emitting layer 6. Therefore, even if the material used for the light emitting layer 6 is used for the electron transport layer 7, it is possible to operate at a low driving voltage. Therefore, as shown in FIG. 12, even an organic EL element 1 having a simple structure in which the material used for the light emitting layer 6 is used for the electron transport layer 7 can operate at a low drive voltage. In this case, it is possible to reduce the number of materials used by one as compared with a typical organic EL element.

従って、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料を電子注入層8に用い、電子輸送層7に第2材料を用いた場合、発光層6にも第2材料を用いることができる。換言すれば、発光層6が、前記第2材料を含む態様も、本発明の有機EL素子の一好適態様である。 Therefore, when the first material, which is a compound having the structure represented by the general formula (1), is used for the electron injection layer 8 and the second material is used for the electron transport layer 7, the light emitting layer 6 also has the second material. Can be used. In other words, the mode in which the light emitting layer 6 includes the second material is also a preferred mode of the organic EL device of the present invention.

更に、正孔注入層4から発光層6に用いる材料へは、比較的容易に正孔を注入できるため、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料を電子注入層8に用いた場合には、発光層6に用いる材料を正孔輸送層5に用いても、低い駆動電圧で動作することが可能である。そのため、図13に示すように、発光層6に用いる材料を電子輸送層7及び正孔輸送層5に用いた単純構造の有機EL素子1であっても、低い駆動電圧で動作することが可能となる。この場合、典型的な有機EL素子に比べると、2つ使用する材料を減らすことが可能となる。 Further, since holes can be relatively easily injected from the hole injection layer 4 to the material used for the light emitting layer 6, the first material, which is a compound having a structure represented by the above general formula (1), is electron-injected. When used for the layer 8, even if the material used for the light emitting layer 6 is used for the hole transport layer 5, it is possible to operate at a low driving voltage. Therefore, as shown in FIG. 13, even an organic EL element 1 having a simple structure in which the material used for the light emitting layer 6 is used for the electron transport layer 7 and the hole transport layer 5 can operate at a low drive voltage. It becomes. In this case, it is possible to reduce the number of two materials used as compared with a typical organic EL element.

従って、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料を電子注入層8に用い、電子輸送層7に第2材料を用いた場合、発光層6及び正孔輸送層5にも第2材料を用いることができる。換言すれば、発光層6が、前記第2材料を含む態様も、本発明の有機EL素子の一好適態様である。また、陽極3と発光層6との間に、前記第2材料を含む層(例えば、正孔輸送層5)を有する態様も、本発明の有機EL素子の一好適態様である。 Therefore, when the first material, which is a compound having the structure represented by the general formula (1), is used for the electron injection layer 8 and the second material is used for the electron transport layer 7, the light emitting layer 6 and the hole transport layer are used. A second material can also be used for 5. In other words, the mode in which the light emitting layer 6 includes the second material is also a preferred mode of the organic EL device of the present invention. Further, an embodiment in which a layer containing the second material (for example, a hole transport layer 5) is provided between the anode 3 and the light emitting layer 6 is also a preferred embodiment of the organic EL device of the present invention.

また、上述した実施形態では、基板2上に陽極3、発光層6、陰極9がこの順に配置された通常構造の有機EL素子を例に挙げて説明したが、基板2と発光層6との間に陰極9が配置された逆構造のもの(例えば、図5参照)であってもよい。
また、図5に示す有機EL素子においては、無機の酸化物層10、電子輸送層7、正孔輸送層5、正孔注入層4は、必要に応じて形成すればよく、設けられていなくてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the organic EL element having a normal structure in which the anode 3, the light emitting layer 6, and the cathode 9 are arranged in this order on the substrate 2 has been described as an example, but the substrate 2 and the light emitting layer 6 are described. It may have an inverted structure in which a cathode 9 is arranged between them (see, for example, FIG. 5).
Further, in the organic EL device shown in FIG. 5, the inorganic oxide layer 10, the electron transport layer 7, the hole transport layer 5, and the hole injection layer 4 may be formed as needed and are not provided. You may.

<表示装置、照明装置>
本発明の有機EL素子は、発光層等の材料を適宜選択することによって発光色を変化させることができるし、カラーフィルター等を併用して所望の発光色を得ることもできる。そのため、表示装置の発光部位や照明装置として好適に用いることができる。
<Display device, lighting device>
The organic EL device of the present invention can change the emission color by appropriately selecting a material such as a light emitting layer, and can also obtain a desired emission color by using a color filter or the like in combination. Therefore, it can be suitably used as a light emitting part of a display device or a lighting device.

本発明の表示装置は、陰極と発光層との間に有機薄膜を有し、生産性に優れ、駆動電圧が低い本発明の有機EL素子を具える。このため、表示装置として好ましいものである。 The display device of the present invention includes the organic EL element of the present invention, which has an organic thin film between the cathode and the light emitting layer, is excellent in productivity, and has a low driving voltage. Therefore, it is preferable as a display device.

また、本発明の照明装置は、生産性に優れ、駆動電圧が低い本発明の有機EL素子を具える。このため、照明装置として好ましいものである。 Further, the lighting device of the present invention includes the organic EL element of the present invention, which is excellent in productivity and has a low drive voltage. Therefore, it is preferable as a lighting device.

<有機薄膜太陽電池、光電変換素子、薄膜トランジスタ>
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の有機薄膜は、例えば、有機薄膜太陽電池、光電変換素子、薄膜トランジスタ等のデバイスに用いることができる。
<Organic thin film solar cells, photoelectric conversion elements, thin film transistors>
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the organic thin film of the present invention can be used for devices such as organic thin film solar cells, photoelectric conversion elements, and thin film transistors.

本発明の有機薄膜太陽電池や光電変換素子は、有機薄膜を含む。例えば、有機薄膜を有機薄膜太陽電池や光電変換素子の電子注入層に用いた場合、有機薄膜の第1材料と第2材料の間で水素結合を形成することにより、マイナス電荷が生じるため、電子輸送の速度が速く、高い発電効率が得られる。従って、有機薄膜太陽電池や光電変換素子として好ましいものである。 The organic thin film solar cell and the photoelectric conversion element of the present invention include an organic thin film. For example, when an organic thin film is used for an electron injection layer of an organic thin film solar cell or a photoelectric conversion element, a negative charge is generated by forming a hydrogen bond between the first material and the second material of the organic thin film, so that electrons are generated. The transportation speed is fast and high power generation efficiency can be obtained. Therefore, it is preferable as an organic thin-film solar cell or a photoelectric conversion element.

また、本発明の薄膜トランジスタは、有機薄膜を含む。例えば、薄膜トランジスタのチャネル層を有機薄膜で形成した場合、電子移動度の高いチャネル層が得られる。
また、電極上に該有機薄膜を形成した場合、接触抵抗の低減が期待できる。
Further, the thin film transistor of the present invention includes an organic thin film. For example, when the channel layer of the thin film transistor is formed of an organic thin film, a channel layer having high electron mobility can be obtained.
Further, when the organic thin film is formed on the electrode, reduction of contact resistance can be expected.

このように本発明の有機薄膜は、有機薄膜太陽電池、光電変換素子や薄膜トランジスタの材料として好適なものであり、したがって、該有機薄膜を構成する上記一般式(1)で表される構造を有する化合物と分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物もまた、これらの材料として好適なものである。このような、上記一般式(1)で表される構造を有する化合物と分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物を含む有機薄膜太陽電池用材料、光電変換素子用材料や薄膜トランジスタ用材料もまた、本発明の1つである。 As described above, the organic thin film of the present invention is suitable as a material for an organic thin film solar cell, a photoelectric conversion element, and a thin film, and therefore has a structure represented by the above general formula (1) constituting the organic thin film. Compounds and compounds that do not have a structure that coordinates to alkali metals in the molecule are also suitable as these materials. A material for an organic thin-film solar cell, a material for a photoelectric conversion element, and a thin film containing a compound having a structure represented by the general formula (1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. The material is also one of the present inventions.

以下に、実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」は「モル%」を意味するものとする。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Unless otherwise specified, "%" shall mean "mol%".

(合成例1)
構造式(7)で表される化合物を、以下に示す方法により合成した。

Figure 2021166281
(Synthesis Example 1)
The compound represented by the structural formula (7) was synthesized by the method shown below.
Figure 2021166281

100mLなすフラスコ中、4,7−ジクロロ−1,10−フェナントロリン(3.00g)とピロリジン(19.5mL)の混合物をオイルバス100℃にて1時間加熱還流した。室温に戻した混合物を減圧濃縮し、水を加えてから超音波処理することで析出した固体を濾取した。得られた固体を減圧乾燥後、メタノール(100mL)に溶解させた。混合物に活性炭を加えて室温にて1時間撹拌後、不溶物を濾別した。濾液を減圧濃縮し、得られた固体をメタノール(9mL)にて再結晶した。得られた固体を少量のメタノールにて洗浄後、減圧乾燥することで、構造式(7)で表される化合物(1.69g,44%)を白色固体として得た。 A mixture of 4,7-dichloro-1,10-phenanthroline (3.00 g) and pyrrolidine (19.5 mL) was heated to reflux in an oil bath at 100 ° C. for 1 hour in a 100 mL flask. The mixture returned to room temperature was concentrated under reduced pressure, water was added, and the solid was collected by sonication. The obtained solid was dried under reduced pressure and then dissolved in methanol (100 mL). Activated carbon was added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then the insoluble material was filtered off. The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained solid was recrystallized from methanol (9 mL). The obtained solid was washed with a small amount of methanol and then dried under reduced pressure to obtain a compound (1.69 g, 44%) represented by the structural formula (7) as a white solid.

第1材料であるフェナントロリン誘導体として、構造式(7)で表される化合物及び下記構造式(5)で表される化合物を用いた。構造式(5)で表される化合物としては、市販品を用いた。

Figure 2021166281
As the phenanthroline derivative as the first material, a compound represented by the structural formula (7) and a compound represented by the following structural formula (5) were used. As the compound represented by the structural formula (5), a commercially available product was used.
Figure 2021166281

(実施例1〜5及び比較例1〜2)
以下に示す方法により、図4に示す有機EL素子1を製造し、評価した。
[工程1]
基板2として、厚さ100nmのITOからなる幅3mmにパターニングされた電極(陽極3)を有する平均厚さ0.7mmの市販の透明ガラス基板を用意した。
そして、陽極3を有する基板2を、アセトン中、イソプロパノール中でそれぞれ10分間ずつ超音波洗浄し、イソプロパノール中で5分間煮沸した。その後、陽極3を有する基板2を、イソプロパノール中から取り出し、窒素ブローにより乾燥させ、UVオゾン洗浄を20分間行った。
(Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 2)
The organic EL element 1 shown in FIG. 4 was manufactured and evaluated by the method shown below.
[Step 1]
As the substrate 2, a commercially available transparent glass substrate having an average thickness of 0.7 mm and having an electrode (anode 3) patterned with a width of 3 mm made of ITO having a thickness of 100 nm was prepared.
Then, the substrate 2 having the anode 3 was ultrasonically cleaned in acetone and isopropanol for 10 minutes each, and boiled in isopropanol for 5 minutes. Then, the substrate 2 having the anode 3 was taken out from isopropanol, dried by nitrogen blow, and UV ozone washing was performed for 20 minutes.

[工程2]
[工程1]において洗浄した陽極3の形成されている基板2を、スピンコーターにセットし、正孔注入層4として、へレウス社製正孔注入材料「Clevios HIL1.3N」を膜厚10nmとなるように成膜した。その後、180℃に熱したホットプレート上で一時間加熱した。
[Step 2]
The substrate 2 on which the anode 3 cleaned in [Step 1] is formed is set on a spin coater, and a hole injection material "Clevios HIL1.3N" manufactured by Heleus Co., Ltd. is used as a hole injection layer 4 with a film thickness of 10 nm. The film was formed so as to become. Then, it was heated for 1 hour on a hot plate heated to 180 ° C.

[工程3]
次に、正孔注入層4まで形成された基板2を、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
また、下記構造式(12)で示される2,4−ジフェニル−6−ビス(12−フェニルインドロ)[2,3−a]カルバゾール−11−イル)−1,3,5−トリアジン(DIC−TRZ)と、
下記構造式(13)で示されるfac−トリス(3−メチル−2−フェニルピリジナト−N,C2’−)イリジウム(III)(Ir(mppy)3)と、
下記構造式(14)で示されるN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(α−NPD)と、
下記構造式(15)で示されるN3,N3'''−ビス(ジベンゾ[b,d]チオフェン−4−イル)−N3,N3'''−ジフェニル−[1,1':2',1'':2'',1'''−クアテルフェニル]−3,3'''−ジアミン(4DBTP3Q)と、
第1材料となる構造式(7)で表される化合物及び構造式(5)で表される化合物と、
第2材料となる各種材料と、
Alと、をそれぞれアルミナルツボに入れて蒸着源としてセットした。

Figure 2021166281
[Step 3]
Next, the substrate 2 formed up to the hole injection layer 4 was fixed to the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus.
In addition, 2,4-diphenyl-6-bis (12-phenylindro) [2,3-a] carbazole-11-yl) -1,3,5-triazine (DIC) represented by the following structural formula (12) -TRZ) and
Fac-tris (3-methyl-2-phenylpyridinato-N, C2'-) iridium (III) (Ir (mppy) 3 ) represented by the following structural formula (13), and
N, N'-di (1-naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (α-NPD) represented by the following structural formula (14), and
N3, N3'''-bis (dibenzo [b, d] thiophene-4-yl) -N3, N3'''-diphenyl- [1,1': 2', 1 represented by the following structural formula (15) '': 2'', 1'''-Quaterphenyl] -3,3'''-diamine (4DBTP3Q),
The compound represented by the structural formula (7) and the compound represented by the structural formula (5), which are the first materials,
Various materials that are the second material,
Al and Al were placed in an alumina crucible and set as a vapor deposition source.
Figure 2021166281

第2材料については、芳香族炭化水素化合物の例として、下記構造式(16)又は(17)で示される化合物を、
窒素−ホウ素結合を有する化合物の例として、下記構造式(18)で示される化合物を、
π電子過剰系複素芳香族化合物の例として、下記構造式(19)で示される化合物を、
シロール環を含む化合物の例として、下記構造式(20)で示される化合物を、
また、従来材料であるアルカリ金属からの電子注入が可能な化合物の例として、下記構造式(21)又は(22)で示される化合物を用いた。

Figure 2021166281
Regarding the second material, as an example of the aromatic hydrocarbon compound, a compound represented by the following structural formula (16) or (17) is used.
As an example of a compound having a nitrogen-boron bond, a compound represented by the following structural formula (18) is used.
As an example of the π-electron excess heteroaromatic compound, a compound represented by the following structural formula (19) is used.
As an example of a compound containing a siror ring, a compound represented by the following structural formula (20) is used.
Further, as an example of a compound capable of electron injection from an alkali metal which is a conventional material, a compound represented by the following structural formula (21) or (22) was used.
Figure 2021166281

そして、真空蒸着装置のチャンバー内を1×10-5Paの圧力となるまで減圧して、抵抗加熱による真空蒸着法により、正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7、電子注入層8、陰極9を連続して形成した。 Then, the inside of the chamber of the vacuum vapor deposition apparatus is depressurized to a pressure of 1 × 10 -5 Pa, and the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, the electron transport layer 7, and the electron injection layer are subjected to the vacuum vapor deposition method by resistance heating. 8. The cathode 9 was formed continuously.

具体的には、まず、α−NPD 20nmと4DBTP3Q 10nmからなる厚み30nmの正孔輸送層5を形成した。
続いて、DIC−TRZをホスト、Ir(mppy)3をドーパントとして25nm共蒸着し、発光層6を成膜した。この時、ドープ濃度は、Ir(mppy)3が発光層6全体に対して3質量%となるようにした。
次に、発光層6まで形成した基板2上に、図14に示す構成A〜Fの電子輸送層7、電子注入層8を形成した。
次に、電子注入層8まで形成した基板2上に、真空蒸着法によりアルミニウムからなる膜厚100nmの陰極9を成膜した。なお、陰極9は、ステンレス製の蒸着マスクを用いて蒸着面が幅3mmの帯状になるように形成し、作製した有機EL素子の発光面積を9mm2とした。
Specifically, first, a hole transport layer 5 having a thickness of 30 nm composed of α-NPD 20 nm and 4DBTP3Q 10 nm was formed.
Subsequently, DIC-TRZ was used as a host and Ir (mppy) 3 was used as a dopant for co-depositing at 25 nm to form a light emitting layer 6. At this time, the doping concentration was such that Ir (mppy) 3 was 3% by mass with respect to the entire light emitting layer 6.
Next, the electron transport layers 7 and the electron injection layers 8 of the configurations A to F shown in FIG. 14 were formed on the substrate 2 formed up to the light emitting layer 6.
Next, a cathode 9 made of aluminum and having a film thickness of 100 nm was formed on the substrate 2 formed up to the electron injection layer 8 by a vacuum vapor deposition method. The cathode 9 was formed by using a stainless steel vapor deposition mask so that the vapor deposition surface had a band shape with a width of 3 mm, and the light emitting area of the produced organic EL element was 9 mm 2 .

構成A〜Fの詳細は、以下の通りである。
構成A:第2材料となる材料を40nm成膜後、典型的な電子注入材料であるフッ化リチウム(LiF)を0.8nm蒸着した後に、陰極9を形成した。
構成B:第2材料となる材料を40nm成膜後、典型的な電子注入材料である8−キノリノラトリチウム(Liq)を1nm蒸着した後に、陰極9を形成した。
構成C:第2材料となる材料を40nm成膜後、第1材料として構造式(7)の化合物を1nm蒸着した後に、陰極9を形成した。
構成C−2:第2材料となる材料を40nm成膜後、第1材料として構造式(5)の化合物を1nm蒸着した後に、陰極9を形成した。
構成D:第2材料となる材料を40nm成膜後、第1材料(構造式(7)の化合物)と第2材料の混合膜を質量比6:4(第1材料:第2材料)で共蒸着により5nm蒸着した後に、陰極9を形成した。
構成E:第2材料となる材料を40nm成膜後、第1材料として構造式(7)の化合物を1nm蒸着した後に、第2材料となる材料を1nm成膜後、陰極9を形成した。
構成F:第2材料となる材料を40nm成膜後、電子注入層を成膜せずに、陰極9を形成した。
The details of the configurations A to F are as follows.
Configuration A: A cathode 9 was formed after a 40 nm film was formed on a material to be a second material and then 0.8 nm of lithium fluoride (LiF), which is a typical electron injection material, was vapor-deposited.
Configuration B: A material to be a second material was deposited at 40 nm, and then 8-quinolinolatritium (Liq), which is a typical electron-injected material, was vapor-deposited at 1 nm, and then a cathode 9 was formed.
Constituent C: A cathode 9 was formed after a 40 nm film was formed on a material to be a second material and then a 1 nm film was deposited on the compound of the structural formula (7) as the first material.
Structure C-2: A cathode 9 was formed after a 40 nm film was formed on the material to be the second material and then 1 nm was vapor-deposited on the compound of the structural formula (5) as the first material.
Composition D: After forming a 40 nm film of the material to be the second material, a mixed film of the first material (compound of structural formula (7)) and the second material has a mass ratio of 6: 4 (first material: second material). The cathode 9 was formed after 5 nm vapor deposition by co-evaporation.
Structure E: A material to be a second material was deposited at 40 nm, a compound of structural formula (7) was deposited at 1 nm as a first material, and a material to be a second material was deposited at 1 nm to form a cathode 9.
Configuration F: After forming a film of a material to be a second material at 40 nm, a cathode 9 was formed without forming an electron injection layer.

また、各実施例及び比較例において、第2材料として使用した化合物は、以下のとおりである。
実施例1:第2材料として、構造式(16)の化合物を用いて有機EL素子を作製した。
実施例2:第2材料として、構造式(17)の化合物を用いて有機EL素子を作製した。
実施例3:第2材料として、構造式(18)の化合物を用いて有機EL素子を作製した。
実施例4:第2材料として、構造式(19)の化合物を用いて有機EL素子を作製した。
実施例5:第2材料として、構造式(20)の化合物を用いて有機EL素子を作製した。
比較例1:第2材料として、構造式(21)の化合物を用いて有機EL素子を作製した。
比較例2:第2材料として、構造式(22)の化合物を用いて有機EL素子を作製した。
In addition, the compounds used as the second material in each Example and Comparative Example are as follows.
Example 1: As a second material, an organic EL device was produced using the compound of the structural formula (16).
Example 2: As a second material, an organic EL device was produced using the compound of the structural formula (17).
Example 3: An organic EL device was produced using the compound of the structural formula (18) as the second material.
Example 4: An organic EL device was produced using the compound of the structural formula (19) as the second material.
Example 5: An organic EL device was produced using the compound of the structural formula (20) as the second material.
Comparative Example 1: An organic EL device was produced using the compound of the structural formula (21) as the second material.
Comparative Example 2: An organic EL device was produced using the compound of the structural formula (22) as the second material.

[工程4]
次に、陰極9までの各層を形成した基板2を、凹状の空間を有するガラスキャップ(封止容器)に収容し、紫外線(UV)硬化樹脂からなるシール材を充填することにより封止し各有機EL素子を得た。
[Step 4]
Next, the substrate 2 on which each layer up to the cathode 9 is formed is housed in a glass cap (sealing container) having a concave space, and sealed by filling with a sealing material made of an ultraviolet (UV) curable resin. An organic EL element was obtained.

このようにして得られた実施例1〜5及び比較例1〜2の有機EL素子に対して、ケースレー社製の「2400型ソースメーター」を用いて電圧を印加し、コニカミノルタ社製の「LS−100」を用いて輝度を測定し、印加電圧と輝度の関係を調べた。得られた結果を表1に示す。
構成A−Eでは、多くの素子で10000nit以上の輝度が得られたため、10000nit時の印加電圧を示すが、構成Fでは、多くの素子で駆動電圧が高いため、1nit時の印加電圧を表1示す。また、代表的なデータとして、実施例1と比較例1の輝度−印加電圧特性を図15に示す。
A voltage was applied to the organic EL elements of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 thus obtained by using a "2400 type source meter" manufactured by Caseley Co., Ltd., and "2400 type source meter" manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. The brightness was measured using "LS-100", and the relationship between the applied voltage and the brightness was investigated. The results obtained are shown in Table 1.
In the configurations A to E, since the brightness of 10000 nits or more was obtained in many elements, the applied voltage at 10000 nits is shown. However, in the configuration F, the applied voltage at 1 nit is shown in Table 1 because the drive voltage is high in many elements. show. Further, as typical data, the luminance-applied voltage characteristics of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in FIG.

Figure 2021166281
Figure 2021166281

図15に示す実施例1と比較例1の輝度−印加電圧特性より、ほぼ類似の構造を持つ構造式(16)の化合物と構造式(21)の化合物について、ピリジン基の有無によって特性が全く異なることが分かる。構造式(21)の化合物を用いた比較例1に比べ、構造式(16)の化合物を用いた実施例1は、構成Fにおいて、輝度1nit時の印加電圧が大幅に高い。更に、構造式(21)の化合物を用いた比較例1では、LiFやLiqを用いた構成AやBで、低い電圧で10000nitが得られているのに対し、ピリジンを持たない芳香族炭化水素化合物である構造式(16)の化合物を用いた実施例1では、LiFやLiqを用いた構成AやBでは、電子が入らず、10000nitを得るのに必要な電圧は大幅に高い。ピリジン基が特性に及ぼす影響について、類似の傾向が実施例3と比較例2についても観測された。更に、その他の実施例についても、構成AやBでは、駆動電圧が高い。従って、ピリジン基含有化合物等、これまでの有機EL素子において電子輸送層として広く用いられてきた化合物は、アルカリ金属を添加すれば陰極からの電子注入が容易な化合物であると言える。これは先述の通り、ピリジン等とLi等アルカリ金属との相互作用に起因する。 From the luminance-applied voltage characteristics of Example 1 and Comparative Example 1 shown in FIG. 15, the characteristics of the compound of the structural formula (16) and the compound of the structural formula (21) having substantially similar structures are completely different depending on the presence or absence of the pyridine group. You can see that they are different. Compared with Comparative Example 1 using the compound of the structural formula (21), in Example 1 using the compound of the structural formula (16), the applied voltage at the brightness of 1 nit is significantly higher in the configuration F. Further, in Comparative Example 1 using the compound of the structural formula (21), 10000 nits were obtained at a low voltage in the configurations A and B using LiF and Liq, whereas aromatic hydrocarbons having no pyridine were obtained. In Example 1 using the compound of the structural formula (16), which is a compound, in the configurations A and B using LiF and Liq, electrons do not enter and the voltage required to obtain 10000 nits is significantly high. Similar tendencies were observed in Example 3 and Comparative Example 2 regarding the effect of the pyridine group on the properties. Further, also in other embodiments, the drive voltage is high in the configurations A and B. Therefore, it can be said that a compound that has been widely used as an electron transport layer in conventional organic EL devices, such as a pyridine group-containing compound, is a compound in which electrons can be easily injected from the cathode by adding an alkali metal. This is due to the interaction between pyridine and the like and alkali metals such as Li, as described above.

一方、実施例1〜5において、構成AやBでは、駆動電圧が高いことから、芳香族炭化水素化合物(実施例1及び2)、窒素−ホウ素結合を有する化合物(実施例3)、π電子過剰系複素芳香族化合物(実施例4)、シロール環を含む化合物(実施例5)は、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物であると言える。 On the other hand, in Examples 1 to 5, since the driving voltage is high in the configurations A and B, aromatic hydrocarbon compounds (Examples 1 and 2), compounds having a nitrogen-boron bond (Example 3), and π electrons. It can be said that the excess heteroaromatic compound (Example 4) and the compound containing a silol ring (Example 5) are compounds that do not have a structure that coordinates with an alkali metal in the molecule.

これに対し、実施例1の構成C及び構成Dでは、構造式(7)の化合物を使うことで、電子をスムーズに注入でき、大幅に低い駆動電圧で10000nitを得ることができている。これは、構造式(7)の化合物と陰極との強い配位反応の結果、高い電子注入性が得られた結果であると考えられる。
実施例2でも、同様の結果が得られており、構造式(7)の化合物を用いることで、芳香族炭化水素から有機層への電子注入が可能である。
On the other hand, in the configurations C and D of the first embodiment, by using the compound of the structural formula (7), electrons can be smoothly injected, and 10000 nits can be obtained with a significantly low drive voltage. It is considered that this is a result of obtaining high electron injectability as a result of a strong coordination reaction between the compound of structural formula (7) and the cathode.
Similar results were obtained in Example 2, and by using the compound of the structural formula (7), it is possible to inject electrons from the aromatic hydrocarbon into the organic layer.

次に、窒素−ホウ素結合を有する構造式(18)の化合物と構造式(22)の化合物を用いた実施例3と比較例2の結果に注目する。先述の通り、ビピリジンを持つ構造式(22)の化合物を用いた比較例2では、LiFやLiqを用いた素子で、低い電圧で10000nitが得られているのに対し、ビピリジンを持たない窒素−ホウ素結合を有する化合物である構造式(18)の化合物を用いた実施例3では、LiFやLiqを用いた構成AやBでは電子が入らず、10000nitを得るのに必要な電圧は大幅に高い。
従って、Li等のアルカリ金属からの電子注入には、ビピリジン等とアルカリ金属の相互作用が必要であり、窒素−ホウ素結合を有する化合物とアルカリ金属の組み合わせでは、素子への電子注入が困難であることが分かる。
これに対し、実施例3の構成C及び構成Eでは、構造式(7)の化合物を使うことで、電子をスムーズに注入でき、大幅に低い駆動電圧で10000nitを得ることができている。これは、構造式(7)の化合物と陰極との強い配位反応の結果、高い電子注入性が得られた結果であると考えられる。このように、構造式(7)の化合物を用いることで、窒素−ホウ素結合を有する化合物から有機層への電子注入が可能である。
Next, attention will be paid to the results of Example 3 and Comparative Example 2 using the compound of structural formula (18) and the compound of structural formula (22) having a nitrogen-boron bond. As described above, in Comparative Example 2 using the compound of the structural formula (22) having bipyridine, 10000 nits were obtained at a low voltage with the element using LiF or Liq, whereas nitrogen- without bipyridine-. In Example 3 using the compound of the structural formula (18), which is a compound having a boron bond, electrons do not enter in the configurations A and B using LiF and Liq, and the voltage required to obtain 10000 nits is significantly high. ..
Therefore, electron injection from an alkali metal such as Li requires an interaction between the alkali metal and bipyridine, and it is difficult to inject electrons into the device with a combination of a compound having a nitrogen-boron bond and an alkali metal. You can see that.
On the other hand, in the configurations C and E of the third embodiment, by using the compound of the structural formula (7), electrons can be smoothly injected, and 10000 nits can be obtained with a significantly low drive voltage. It is considered that this is a result of obtaining high electron injectability as a result of a strong coordination reaction between the compound of structural formula (7) and the cathode. As described above, by using the compound of the structural formula (7), it is possible to inject electrons from the compound having a nitrogen-boron bond into the organic layer.

また、比較例2における、構成Cと構成C−2の結果に注目する。配位反応が強い構造式(7)の化合物では、LiFやLiqと同等の駆動電圧が得られているものの、構造式(5)の化合物では、やや駆動電圧が高い。従って、本発明に用いる第1材料としては、構造式(5)の化合物よりも配位反応が強い材料を用いることが好ましいといえる。
配位反応の強さは、分子軌道計算から計算される静電ポテンシャルやZnへの電子移動量、金属や金属酸化物上にフェナントロリンを成膜した際の真空準位シフト量から相対的に判断することが可能である。
Also, pay attention to the results of configuration C and configuration C-2 in Comparative Example 2. The compound of structural formula (7), which has a strong coordination reaction, has a drive voltage equivalent to that of LiF or Liq, but the compound of structural formula (5) has a slightly higher drive voltage. Therefore, as the first material used in the present invention, it can be said that it is preferable to use a material having a stronger coordination reaction than the compound of the structural formula (5).
The strength of the coordination reaction is relatively judged from the electrostatic potential calculated from the molecular orbital calculation, the amount of electron transfer to Zn, and the amount of vacuum level shift when phenanthroline is formed on a metal or metal oxide. It is possible to do.

次に、π電子過剰系複素芳香族化合物の例として、構造式(19)の化合物を用いた実施例4に注目する。構造式(19)の化合物に対しては、極めて電子注入が困難であり、構成Fにおいて、1nit時の印加電圧も、他の実施例や比較例に比べ大幅に高い。また、LiFを用いた構成Aでは、15Vもの高い電圧でようやく10000nitが得られ、Liqを用いた構成Bにおいては、得られた最大輝度は2000nit程度である。
これに対し、構造式(7)の化合物を用いた構成Eとすることで、大幅な低電圧化が観測され、他の実施例に比べれば電圧は高いものの、10000nitの輝度を得ることができた。このように、本発明は、電子の注入が極めて困難な、π電子過剰系複素芳香族化合物を、電子輸送層に用いた有機EL素子に対しても有効である。
Next, as an example of the π-electron excess heteroaromatic compound, attention will be paid to Example 4 using the compound of the structural formula (19). It is extremely difficult to inject electrons into the compound of the structural formula (19), and in the configuration F, the applied voltage at 1 nit is also significantly higher than in other examples and comparative examples. Further, in the configuration A using LiF, 10000 nits can be finally obtained at a voltage as high as 15 V, and in the configuration B using Liq, the maximum brightness obtained is about 2000 nits.
On the other hand, by adopting the configuration E using the compound of the structural formula (7), a significantly reduced voltage was observed, and although the voltage was higher than that of the other examples, a brightness of 10000 nits could be obtained. rice field. As described above, the present invention is also effective for an organic EL device in which a π-electron excess heteroaromatic compound, which is extremely difficult to inject electrons, is used in the electron transport layer.

次に、シロール環を含む化合物の例として、構造式(20)の化合物を用いた実施例5に注目する。ピリジン等、Liと相互作用ができる置換基を有していないため、LiFやLiqを用いた構成AやBでは、電子が入らず、10000nitを得るのに必要な電圧は大幅に高い。
これに対し、実施例5の構成C及び構成Eでは、構造式(7)の化合物を使うことで、電子をスムーズに注入でき、大幅に低い駆動電圧で10000nitを得ることができている。これは、構造式(7)の化合物と陰極との強い配位反応の結果、高い電子注入性が得られた結果であると考えられる。このように、構造式(7)の化合物を用いることで、シロール環を含む化合物から有機層への電子注入が可能である。
Next, as an example of the compound containing a siror ring, attention will be paid to Example 5 using the compound of the structural formula (20). Since it does not have a substituent such as pyridine that can interact with Li, electrons do not enter in the configurations A and B using LiF and Liq, and the voltage required to obtain 10000 nits is significantly high.
On the other hand, in the configurations C and E of the fifth embodiment, by using the compound of the structural formula (7), electrons can be smoothly injected, and 10000 nits can be obtained with a significantly low drive voltage. It is considered that this is a result of obtaining high electron injectability as a result of a strong coordination reaction between the compound of structural formula (7) and the cathode. As described above, by using the compound of the structural formula (7), it is possible to inject electrons from the compound containing the siror ring into the organic layer.

(実施例6及び比較例3)
本発明が図5に示す逆構造の有機EL素子にも応用可能であることを示すため、フェナントロリン誘導体である構造式(7)の化合物と、芳香族炭化水素である構造式(16)の化合物を電子注入層に用いた逆構造の有機EL素子を作製した。
(Example 6 and Comparative Example 3)
In order to show that the present invention can be applied to the organic EL element having the reverse structure shown in FIG. 5, the compound of the structural formula (7) which is a phenanthroline derivative and the compound of the structural formula (16) which is an aromatic hydrocarbon Was used for the electron injection layer to prepare an organic EL element having an inverted structure.

[工程1]
実施例1〜5及び比較例1〜2と同様にして、[工程1]を行い、洗浄した陰極9の形成されている基板2を準備した。
[Step 1]
[Step 1] was carried out in the same manner as in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, and the substrate 2 on which the washed cathode 9 was formed was prepared.

[工程2]
[工程1]において洗浄した陰極9の形成されている基板2を、亜鉛金属ターゲットを持つミラトロンスパッタ装置の基板ホルダーに固定した。スパッタ装置のチャンバー内を、約1×10-4Paの圧力となるまで減圧した後、アルゴンと酸素を導入した状態でスパッタし、基板2の陰極9上に膜厚約3nmの酸化亜鉛層(酸化物層10)を作製した。なお、酸化亜鉛層を作製する際には、電極取り出しのために、ITO電極(陰極9)上の一部に酸化亜鉛が成膜されないようにした。酸化物層10を成膜した基板2に、大気下で400℃、1時間のアニールを行った。
[Step 2]
The substrate 2 on which the cathode 9 washed in [Step 1] was formed was fixed to a substrate holder of a Miratron sputtering apparatus having a zinc metal target. After reducing the pressure in the chamber of the sputtering apparatus to a pressure of about 1 × 10 -4 Pa, sputtering is performed with argon and oxygen introduced, and a zinc oxide layer having a thickness of about 3 nm (a zinc oxide layer having a thickness of about 3 nm) is placed on the cathode 9 of the substrate 2. An oxide layer 10) was prepared. When the zinc oxide layer was produced, zinc oxide was prevented from being formed on a part of the ITO electrode (cathode 9) in order to take out the electrode. The substrate 2 on which the oxide layer 10 was formed was annealed in the air at 400 ° C. for 1 hour.

[工程3]
次に、酸化物層10上に電子注入層8として、以下に示す方法により、第1材料と第2材料とを含む有機薄膜を形成した(実施例6)。
まず、構造式(16)の化合物と構造式(7)の化合物を、質量比1:0.1(構造式(16)の化合物:構造式(7)の化合物)でシクロペンタノンに溶解し(濃度は1質量%)、塗料組成物を得た。
次に、[工程2]で作製した陰極9および酸化物層10の形成されている基板2をスピンコーターに設置した。そして、塗料組成物を酸化物層10上に滴下しながら、基板2を毎分3000回転で30秒間回転させて塗膜を形成した。その後、ホットプレートを用いて窒素雰囲気下で150℃、1時間のアニール処理を施し、電子注入層8を形成した。得られた電子注入層8の平均厚さは20nmであった。
[Step 3]
Next, an organic thin film containing the first material and the second material was formed on the oxide layer 10 as the electron injection layer 8 by the method shown below (Example 6).
First, the compound of structural formula (16) and the compound of structural formula (7) are dissolved in cyclopentanone at a mass ratio of 1: 0.1 (compound of structural formula (16): compound of structural formula (7)). (Concentration is 1% by mass), a coating composition was obtained.
Next, the substrate 2 on which the cathode 9 and the oxide layer 10 produced in [Step 2] were formed was placed on the spin coater. Then, while dropping the coating composition onto the oxide layer 10, the substrate 2 was rotated at 3000 rpm for 30 seconds to form a coating film. Then, an electron injection layer 8 was formed by subjecting it to annealing treatment at 150 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere using a hot plate. The average thickness of the obtained electron injection layer 8 was 20 nm.

比較例として、構造式(7)の化合物を含まない混合溶媒を作製し、その他の工程は同様にして電子注入層8を形成した(比較例3)。 As a comparative example, a mixed solvent containing no compound of the structural formula (7) was prepared, and the electron injection layer 8 was formed in the same manner in other steps (Comparative Example 3).

[工程4]
次に、電子注入層8までの各層が形成された基板2を、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
また、下記構造式(25)で示されるビス[2−(2−ベンゾチアゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(Zn(BTZ)2)と、
下記構造式(24)で示されるトリス[1−フェニルイソキノリン]イリジウム(III)(Ir(piq)3)と、
上記構造式(14)で示されるN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(α−NPD)と、
下記構造式(23)で示されるN4,N4’−ビス(ジベンゾ[b,d]チオフェン−4−イル)−N4,N4’−ジフェニルビフェニル−4,4’−ジアミン(DBTPB)と、
下記構造式(26)で示される1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−ヘキサカルボニトリル(HAT−CN)と、
Alと、をそれぞれアルミナルツボに入れて蒸着源としてセットした。
[Step 4]
Next, the substrate 2 on which each layer up to the electron injection layer 8 was formed was fixed to the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus.
In addition, bis [2- (2-benzothiazolyl) phenolato] zinc (II) (Zn (BTZ) 2 ) represented by the following structural formula (25) and
Tris [1-phenylisoquinoline] iridium (III) (Ir (piq) 3 ) represented by the following structural formula (24),
N, N'-di (1-naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (α-NPD) represented by the above structural formula (14), and
N4, N4'-bis (dibenzo [b, d] thiophene-4-yl) -N4, N4'-diphenylbiphenyl-4,4'-diamine (DBTPB) represented by the following structural formula (23), and
1,4,5,8,9,12-hexaazatriphenylene-2,3,6,7,10,11-hexacarbonitrile (HAT-CN) represented by the following structural formula (26), and
Al and Al were placed in an alumina crucible and set as a vapor deposition source.

Figure 2021166281
Figure 2021166281

そして、真空蒸着装置のチャンバー内を1×10-5Paの圧力となるまで減圧して、抵抗加熱による真空蒸着法により、電子輸送層7、発光層6、正孔輸送層5、正孔注入層4、陽極3を連続して形成した。 Then, the inside of the chamber of the vacuum vapor deposition apparatus is depressurized to a pressure of 1 × 10 -5 Pa, and the electron transport layer 7, the light emitting layer 6, the hole transport layer 5, and the hole are injected by the vacuum vapor deposition method by resistance heating. The layer 4 and the anode 3 were continuously formed.

まず、Zn(BTZ)2からなる厚み10nmの電子輸送層7を形成した。
続いて、Zn(BTZ)2をホスト、Ir(piq)3をドーパントとして20nm共蒸着し、発光層6を成膜した。この時、ドープ濃度は、Ir(piq)3が発光層6全体に対して6質量%となるようにした。
次に、発光層6まで形成した基板2上に、DBTPBを10nm、α−NPDを40nm成膜し、正孔輸送層5を形成した。
さらに、HAT−CNを10nm成膜し、正孔注入層4を形成した。
次に、正孔注入層4まで形成した基板2上に、真空蒸着法によりアルミニウムからなる膜厚100nmの陽極3を成膜した。
これらをガラスキャップにより封止し、実施例6と比較例3の有機EL素子を得た。
First, an electron transport layer 7 having a thickness of 10 nm made of Zn (BTZ) 2 was formed.
Subsequently, Zn (BTZ) 2 was used as a host and Ir (piq) 3 was used as a dopant for co-depositing at 20 nm to form a light emitting layer 6. At this time, the doping concentration was such that Ir (piq) 3 was 6% by mass with respect to the entire light emitting layer 6.
Next, DBTPB at 10 nm and α-NPD at 40 nm were formed on the substrate 2 on which the light emitting layer 6 was formed to form the hole transport layer 5.
Further, HAT-CN was formed into a 10 nm film to form a hole injection layer 4.
Next, an anode 3 made of aluminum having a film thickness of 100 nm was formed on the substrate 2 formed up to the hole injection layer 4 by a vacuum vapor deposition method.
These were sealed with a glass cap to obtain the organic EL elements of Example 6 and Comparative Example 3.

実施例6及び比較例3の有機EL素子の輝度−電圧特性を評価した結果を図16に示す。
図16に示す通り、フェナントロリン誘導体を電子注入層にドープした実施例6の有機EL素子では、比較例3の有機EL素子に比べ、大幅に低い印加電圧で高い輝度が得られている。酸化亜鉛から、芳香族炭化水素である構造式(16)の化合物への直接の電子注入は困難である一方、フェナントロリン誘導体と亜鉛との配位反応を利用することで、電子を効率的に注入でき、芳香族炭化水素を電子注入層の一部に用いた場合でも低い電圧で駆動可能な逆構造の有機EL素子が実現できる。
The results of evaluating the luminance-voltage characteristics of the organic EL elements of Example 6 and Comparative Example 3 are shown in FIG.
As shown in FIG. 16, the organic EL device of Example 6 in which the electron injection layer is doped with the phenanthroline derivative obtains high brightness at a significantly lower applied voltage than the organic EL device of Comparative Example 3. While it is difficult to directly inject electrons from zinc oxide into a compound of structural formula (16), which is an aromatic hydrocarbon, electrons are efficiently injected by utilizing the coordination reaction between a phenanthroline derivative and zinc. It is possible to realize an organic EL element having a reverse structure that can be driven with a low voltage even when an aromatic hydrocarbon is used as a part of the electron injection layer.

(実施例7〜10及び比較例4)
以下に示す方法により、図12及び図13に示す有機EL素子1を製造し、評価した。
(Examples 7 to 10 and Comparative Example 4)
The organic EL element 1 shown in FIGS. 12 and 13 was manufactured and evaluated by the method shown below.

[工程1]
基板2として、厚さ70nmのITOからなる幅3mmにパターニングされた電極(陽極3)を有する平均厚さ0.7mmの市販の透明ガラス基板を用意した。
そして、陽極3を有する基板2を、アセトン中、イソプロパノール中でそれぞれ10分間ずつ超音波洗浄し、イソプロパノール中で5分間煮沸した。その後、陽極3を有する基板2を、イソプロパノール中から取り出し、窒素ブローにより乾燥させ、UVオゾン洗浄を20分間行った。
[Step 1]
As the substrate 2, a commercially available transparent glass substrate having an average thickness of 0.7 mm and having an electrode (anode 3) patterned with a width of 3 mm made of ITO having a thickness of 70 nm was prepared.
Then, the substrate 2 having the anode 3 was ultrasonically cleaned in acetone and isopropanol for 10 minutes each, and boiled in isopropanol for 5 minutes. Then, the substrate 2 having the anode 3 was taken out from isopropanol, dried by nitrogen blow, and UV ozone washing was performed for 20 minutes.

[工程2]
[工程1]において洗浄した陽極3の形成されている基板2を、スピンコーターにセットし、正孔注入層4の一部として、へレウス社製正孔注入材料「Clevios HIL1.3N」を膜厚10nmとなるように製膜した。その後、180℃に熱したホットプレート上で一時間加熱した。更に、5nmのHAT−CN(上記構造式(26)で示される1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−ヘキサカルボニトリル)を製膜し、合計15nmの正孔注入層4を形成した。
[Step 2]
The substrate 2 on which the anode 3 cleaned in [Step 1] is formed is set on a spin coater, and a hole injection material "Clevios HIL1.3N" manufactured by Heleus is coated as a part of the hole injection layer 4. A film was formed so as to have a thickness of 10 nm. Then, it was heated for 1 hour on a hot plate heated to 180 ° C. Further, 5 nm HAT-CN (1,4,5,8,9,12-hexaazatriphenylene-2,3,6,7,10,11-hexacarbonitrile represented by the above structural formula (26)) was added. A film was formed to form a hole injection layer 4 having a total diameter of 15 nm.

[工程3]
次に、正孔注入層4まで形成された基板2を、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
また、下記構造式(27)で表される化合物[発光層のホスト材料、9−(ナフタレン−1−イル)−10−(ナフタレン−2−イル)アントラセン]と、
下記構造式(28)で表される化合物(青色発光材料)と、
メルク社製材料正孔輸送材料「HTM−081」と、
上記構造式(7)で表される化合物と、
リチウムキノリンと、
Alとを、それぞれアルミナルツボに入れて蒸着源としてセットした。
[Step 3]
Next, the substrate 2 formed up to the hole injection layer 4 was fixed to the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus.
Further, the compound represented by the following structural formula (27) [host material of the light emitting layer, 9- (naphthalene-1-yl) -10- (naphthalene-2-yl) anthracene] and
The compound (blue light emitting material) represented by the following structural formula (28) and
Merck's material hole transport material "HTM-081" and
The compound represented by the above structural formula (7) and
Lithium quinoline and
Al and Al were each placed in an alumina crucible and set as a vapor deposition source.

Figure 2021166281
Figure 2021166281

そして、真空蒸着装置のチャンバー内を1×10-5Paの圧力となるまで減圧して、抵抗加熱による真空蒸着法により、30nmの正孔輸送層5、25nmの発光層6、25nmの電子輸送層7、1nmの電子注入層8、陰極9を連続して形成した。
構造式(27)で表される化合物をホスト、構造式(28)で表される化合物をドーパントとして25nm共蒸着し、発光層6を成膜した。この時、ドープ濃度は、構造式(28)で表される化合物が発光層6全体に対して3質量%となるようにした。
実施例7〜10及び比較例4において各層に用いた材料を表2にまとめた。
Then, the inside of the chamber of the vacuum vapor deposition apparatus is depressurized to a pressure of 1 × 10 -5 Pa, and the hole transport layer at 30 nm, the light emitting layer at 25 nm, and the electrons at 25 nm are transported by the vacuum vapor deposition method by resistance heating. The layer 7, the electron injection layer 8 having a diameter of 1 nm, and the cathode 9 were continuously formed.
The light emitting layer 6 was formed by co-depositing 25 nm using the compound represented by the structural formula (27) as a host and the compound represented by the structural formula (28) as a dopant. At this time, the doping concentration was adjusted so that the compound represented by the structural formula (28) was 3% by mass with respect to the entire light emitting layer 6.
The materials used for each layer in Examples 7 to 10 and Comparative Example 4 are summarized in Table 2.

Figure 2021166281
Figure 2021166281

実施例7では、電子輸送層7にあたる部分に、発光層ホストである構造式(27)で表される化合物を用いている。
また、実施例8においては、ホストである構造式(27)で表される化合物に構造式(28)で表される化合物をドープした発光層と同じ層を電子輸送層7にあたる部分にも用い、発光層から一貫で蒸着形成している。
実施例7と実施例8は、図12に相当する構造である。
In Example 7, a compound represented by the structural formula (27), which is a light emitting layer host, is used in the portion corresponding to the electron transport layer 7.
Further, in Example 8, the same layer as the light emitting layer obtained by doping the compound represented by the structural formula (27), which is the host, with the compound represented by the structural formula (28) is also used for the portion corresponding to the electron transport layer 7. , It is consistently vapor-deposited from the light emitting layer.
Example 7 and Example 8 have a structure corresponding to FIG.

一方、実施例9では、正孔輸送層5及び電子輸送層7にあたる部分に、発光層ホストである構造式(27)で表される化合物を用いている。
さらに、実施例10では、ホストである構造式(27)で表される化合物に構造式(28)で表される化合物をドープした発光層と同じ層を正孔輸送層5及び電子輸送層7にあたる部分にも用い、全て一貫で蒸着形成している。
実施例9と実施例10は、図13に相当する構造である。
On the other hand, in Example 9, a compound represented by the structural formula (27), which is a light emitting layer host, is used in the portions corresponding to the hole transport layer 5 and the electron transport layer 7.
Further, in Example 10, the hole transport layer 5 and the electron transport layer 7 are formed by the same layer as the light emitting layer obtained by doping the compound represented by the structural formula (27), which is the host, with the compound represented by the structural formula (28). It is also used for the corresponding part, and all are consistently vapor-deposited.
Example 9 and Example 10 have a structure corresponding to FIG.

比較例4のみ、電子注入層8をリチウムキノリンから構成し、実施例7〜10は、電子注入層8を構造式(7)で表される化合物から構成した。電子注入層8を蒸着後、陰極9を蒸着により形成した。 In Comparative Example 4, the electron injection layer 8 was composed of lithium quinoline, and in Examples 7 to 10, the electron injection layer 8 was composed of the compound represented by the structural formula (7). After the electron injection layer 8 was vapor-deposited, the cathode 9 was formed by thin-film deposition.

実施例7〜10、比較例4の有機EL素子に対して、他の実施例、比較例と同様の方法により輝度−電圧特性を測定した結果を図17に示す。 FIG. 17 shows the results of measuring the luminance-voltage characteristics of the organic EL devices of Examples 7 to 10 and Comparative Example 4 by the same method as in the other Examples and Comparative Examples.

比較例4においては、リチウムキノリンから芳香族炭化水素である構造式(27)で表される化合物への電子注入が困難であるため、駆動電圧が高いのに対し、実施例7〜10においては、電子が効率的に注入できており、低い駆動電圧で動作できていることが分かる。
更に、正孔輸送層5が発光層ホスト又は発光層と同じ構成である実施例9及び実施例10においても、比較例4に比べ、大幅に低い駆動電圧で動作していることが分かる。
このように、電子注入性に優れた材料を用いることで、有機EL素子の構造を簡素化し、必要な材料の数を減らすことが可能となる。
In Comparative Example 4, since it is difficult to inject electrons from lithium quinoline into the compound represented by the structural formula (27) which is an aromatic hydrocarbon, the driving voltage is high, whereas in Examples 7 to 10, the driving voltage is high. , It can be seen that electrons can be injected efficiently and can operate at a low drive voltage.
Further, it can be seen that even in Examples 9 and 10 in which the hole transport layer 5 has the same configuration as the light emitting layer host or the light emitting layer, the hole transport layer 5 operates at a significantly lower drive voltage than that of Comparative Example 4.
As described above, by using the material having excellent electron injection property, it is possible to simplify the structure of the organic EL element and reduce the number of required materials.

(実施例11及び比較例5)
実施例10は、発光層がホストとドーパントの2種類の材料からなる構成であったが、発光層が1種類の材料から構成される有機EL素子でも、図13に示す簡易の構造が実現可能であることを実証するため、実施例11及び比較例5の有機EL素子を作製した。
(Example 11 and Comparative Example 5)
In the tenth embodiment, the light emitting layer is composed of two kinds of materials, a host and a dopant, but the simple structure shown in FIG. 13 can be realized even with an organic EL device in which the light emitting layer is made of one kind of material. In order to demonstrate that, the organic EL devices of Example 11 and Comparative Example 5 were produced.

[工程1]
基板2として、厚さ70nmのITOからなる幅3mmにパターニングされた電極(陽極3)を有する平均厚さ0.7mmの市販の透明ガラス基板を用意した。
そして、陽極3を有する基板2を、アセトン中、イソプロパノール中でそれぞれ10分間ずつ超音波洗浄し、イソプロパノール中で5分間煮沸した。その後、陽極3を有する基板2を、イソプロパノール中から取り出し、窒素ブローにより乾燥させ、UVオゾン洗浄を20分間行った。
[Step 1]
As the substrate 2, a commercially available transparent glass substrate having an average thickness of 0.7 mm and having an electrode (anode 3) patterned with a width of 3 mm made of ITO having a thickness of 70 nm was prepared.
Then, the substrate 2 having the anode 3 was ultrasonically cleaned in acetone and isopropanol for 10 minutes each, and boiled in isopropanol for 5 minutes. Then, the substrate 2 having the anode 3 was taken out from isopropanol, dried by nitrogen blow, and UV ozone washing was performed for 20 minutes.

[工程2]
[工程1]において洗浄した陽極3の形成されている基板2を、スピンコーターにセットし、正孔注入層4の一部として、へレウス社製正孔注入材料「Clevios HIL1.3N」を膜厚10nmとなるように製膜した。その後、180℃に熱したホットプレート上で一時間加熱した。更に、5nmのHAT−CN(上記構造式(26)で示される1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−ヘキサカルボニトリル)を製膜し、合計15nmの正孔注入層4を形成した。
[Step 2]
The substrate 2 on which the anode 3 cleaned in [Step 1] is formed is set on a spin coater, and a hole injection material "Clevios HIL1.3N" manufactured by Heleus is coated as a part of the hole injection layer 4. A film was formed so as to have a thickness of 10 nm. Then, it was heated for 1 hour on a hot plate heated to 180 ° C. Further, 5 nm HAT-CN (1,4,5,8,9,12-hexaazatriphenylene-2,3,6,7,10,11-hexacarbonitrile represented by the above structural formula (26)) was added. A film was formed to form a hole injection layer 4 having a total diameter of 15 nm.

[工程3]
次に、正孔注入層4まで形成された基板2を、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
また、下記構造式(29)で表される化合物[発光材料、9−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−10−(ナフタレン−1−イル)アントラセン(PCAN)]と、
上記構造式(7)で表される化合物と、
リチウムキノリンと、
Alとを、それぞれアルミナルツボに入れて蒸着源としてセットした。
[Step 3]
Next, the substrate 2 formed up to the hole injection layer 4 was fixed to the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus.
Further, the compound represented by the following structural formula (29) [light emitting material, 9- (9-phenylcarbazole-3-yl) -10- (naphthalene-1-yl) anthracene (PCAN)] and
The compound represented by the above structural formula (7) and
Lithium quinoline and
Al and Al were each placed in an alumina crucible and set as a vapor deposition source.

Figure 2021166281
Figure 2021166281

そして、真空蒸着装置のチャンバー内を1×10-5Paの圧力となるまで減圧して、抵抗加熱による真空蒸着法により、各層を蒸着した。正孔輸送層5、発光層6、電子輸送層7として構造式(29)で表される化合物のみを80nm蒸着し、その後、1nm膜厚の電子注入層8、陰極9を連続して形成した。 Then, the inside of the chamber of the vacuum vapor deposition apparatus was depressurized to a pressure of 1 × 10 -5 Pa, and each layer was vapor-deposited by a vacuum vapor deposition method by resistance heating. Only the compound represented by the structural formula (29) was deposited as the hole transport layer 5, the light emitting layer 6, and the electron transport layer 7 at 80 nm, and then the electron injection layer 8 and the cathode 9 having a 1 nm film thickness were continuously formed. ..

実施例11では、電子注入層8に構造式(7)で表される化合物を用い、比較例5では、電子注入層8に一般的な電子注入材料であるリチウムキノリンを用いた。 In Example 11, the compound represented by the structural formula (7) was used for the electron injection layer 8, and in Comparative Example 5, lithium quinoline, which is a general electron injection material, was used for the electron injection layer 8.

実施例11、比較例5の有機EL素子に対して、他の実施例、比較例と同様の方法により輝度−電圧特性を測定した結果を図18に示す。 FIG. 18 shows the results of measuring the luminance-voltage characteristics of the organic EL devices of Example 11 and Comparative Example 5 by the same method as in the other Examples and Comparative Examples.

比較例5においては、リチウムキノリンからアルカリ金属と相互作用しない構造式(29)で表される化合物への電子注入が困難であるため、駆動電圧が高いのに対し、実施例11においては、電子が効率的に注入できており、低い駆動電圧で動作できていることが分かる。
このように、電子注入性に優れた材料を用いることで、有機EL素子の構造を簡素化し、必要な材料の数を減らすことが可能となる。
In Comparative Example 5, the driving voltage is high because it is difficult to inject electrons from lithium quinoline into the compound represented by the structural formula (29) that does not interact with the alkali metal, whereas in Example 11, electrons are used. Can be injected efficiently, and it can be seen that it can operate at a low drive voltage.
As described above, by using the material having excellent electron injection property, it is possible to simplify the structure of the organic EL element and reduce the number of required materials.

本発明の有機薄膜は、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置、有機薄膜太陽電池、光電変換素子、薄膜トランジスタ等に利用できる。 The organic thin film of the present invention can be used for organic electroluminescence elements, display devices, lighting devices, organic thin film solar cells, photoelectric conversion elements, thin film transistors and the like.

1:有機EL素子
2:基板
3:陽極
4:正孔注入層
5:正孔輸送層
6:発光層
7:電子輸送層
8:電子注入層
9:陰極
10:酸化物層
1: Organic EL element 2: Substrate 3: Anode 4: Hole injection layer 5: Hole transport layer 6: Light emitting layer 7: Electron transport layer 8: Electron injection layer 9: Cathode 10: Oxide layer

Claims (29)

下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む単一の膜、又は、前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜との積層膜であることを特徴とする、有機薄膜。
Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。)
A single membrane containing a first material which is a compound having a structure represented by the following general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule, or , An organic thin film, which is a laminated film of a film containing the first material and a film containing the second material.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).
前記第2材料が、構造中に炭素−窒素二重結合を有しない芳香族複素環を有する化合物である、請求項1に記載の有機薄膜。 The organic thin film according to claim 1, wherein the second material is a compound having an aromatic heterocycle having no carbon-nitrogen double bond in the structure. 前記第2材料が、分子中にπ電子不足系芳香族複素環を有しない化合物である、請求項1に記載の有機薄膜。 The organic thin film according to claim 1, wherein the second material is a compound having no π-electron-deficient aromatic heterocycle in the molecule. 前記第2材料が、下記一般式(2)で表される化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機薄膜。
Figure 2021166281
(一般式(2)中、Yは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環、π電子過剰芳香族複素環、ケイ素及び/又はホウ素を構成元素として含むπ共役系環状構造を表す。Wは、連結基又は直接結合を表す。Zは、構造中に炭素−窒素二重結合を含まないアリール基を表す。rは1〜6の整数である。sは1〜6の整数である。)
The organic thin film according to any one of claims 1 to 3, wherein the second material is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 2021166281
(In the general formula (2), Y is a π-conjugated cyclic structure containing an aromatic hydrocarbon ring, a π-electron excess aromatic heterocycle, silicon and / or boron as constituent elements, which may have a substituent. W represents a linking group or a direct bond. Z represents an aryl group that does not contain a carbon-nitrogen double bond in the structure. R is an integer of 1 to 6. S is an integer of 1 to 6. It is an integer.)
前記第1材料は、一般式(1)におけるnが0の化合物である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機薄膜。 The organic thin film according to any one of claims 1 to 4, wherein the first material is a compound in which n in the general formula (1) is 0. 前記第2材料は、芳香族炭化水素化合物、窒素−ホウ素結合を有する化合物、π電子過剰系複素芳香族化合物、シロール環を含む化合物、のいずれかもしくは複数である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機薄膜。 Any of claims 1 to 5, wherein the second material is any one or more of an aromatic hydrocarbon compound, a compound having a nitrogen-boron bond, a π-electron excess complex aromatic compound, and a compound containing a silol ring. The organic thin film according to item 1. 酸化物層と、該酸化物層上に形成された請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機薄膜の層と、からなることを特徴とする、積層膜。 A laminated film comprising an oxide layer and a layer of an organic thin film formed on the oxide layer according to any one of claims 1 to 6. 陰極と陽極との間に、発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陰極と前記発光層との間に、請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機薄膜又は請求項7に記載の積層膜を有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
An organic electroluminescence device having a light emitting layer between a cathode and an anode.
An organic electroluminescence device comprising the organic thin film according to any one of claims 1 to 6 or the laminated film according to claim 7 between the cathode and the light emitting layer.
前記陰極と前記有機薄膜との間に、酸化物層を有する、請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to claim 8, which has an oxide layer between the cathode and the organic thin film. 前記陰極と前記発光層との間に、前記第1材料と第2材料とを含む膜と、前記第2材料を含む膜との積層膜を有する、請求項8又は9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence according to claim 8 or 9, wherein a film containing the first material and the second material and a laminated film containing the second material are provided between the cathode and the light emitting layer. element. 前記発光層と、前記第1材料と第2材料とを含む膜との間に、前記第2材料を含む膜を有する、請求項10に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence element according to claim 10, further comprising a film containing the second material between the light emitting layer and a film containing the first material and the second material. 前記陰極と、前記第1材料と第2材料とを含む膜との間に、前記第2材料を含む膜を有する、請求項10に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to claim 10, further comprising a film containing the second material between the cathode and a film containing the first material and the second material. 前記陽極と前記発光層との間に、前記第2材料を含む層を有する、請求項8〜12のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to any one of claims 8 to 12, further comprising a layer containing the second material between the anode and the light emitting layer. 前記発光層が、前記第2材料を含む、請求項8〜13のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to any one of claims 8 to 13, wherein the light emitting layer contains the second material. 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。)
A material for an organic electroluminescence element, which comprises a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )
陰極と陽極との間に、発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記陰極と前記陽極との間に、下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物、及び/または、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物を含む材料層を有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。)
An organic electroluminescence device having a light emitting layer between a cathode and an anode.
A material layer containing a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and / or a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule between the cathode and the anode. An organic electroluminescence element characterized by having.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )
前記陰極と前記発光層との間に、前記材料層を有する、請求項16に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to claim 16, wherein the material layer is provided between the cathode and the light emitting layer. 前記陰極と前記材料層との間に、酸化物層を有する、請求項16又は17に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The organic electroluminescence device according to claim 16 or 17, which has an oxide layer between the cathode and the material layer. 請求項8〜14、16〜18のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする、表示装置。 A display device comprising the organic electroluminescence device according to any one of claims 8 to 14 and 16 to 18. 請求項8〜14、16〜18のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を具えることを特徴とする、照明装置。 A lighting device comprising the organic electroluminescence device according to any one of claims 8 to 14 and 16 to 18. 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、有機薄膜太陽電池用材料。
Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。)
A material for an organic thin-film solar cell, which comprises a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )
請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機薄膜、請求項7に記載の積層膜、又は請求項21に記載の有機薄膜太陽電池用材料を含む層のいずれかを含むことを特徴とする、有機薄膜太陽電池。 It is characterized by including any one of the organic thin film according to any one of claims 1 to 6, the laminated film according to claim 7, or the layer containing the organic thin film solar cell material according to claim 21. Organic thin-film solar cells. 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、光電変換素子用材料。
Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。)
A material for a photoelectric conversion element, which comprises a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )
請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機薄膜、請求項7に記載の積層膜、又は請求項23に記載の光電変換素子用材料を含む層のいずれかを含むことを特徴とする、光電変換素子。 It is characterized by including any one of the organic thin film according to any one of claims 1 to 6, the laminated film according to claim 7, or a layer containing the material for a photoelectric conversion element according to claim 23. , Photoelectric conversion element. 下記一般式(1−1)で表される構造を有するフェナントロリン化合物と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物と、を含むことを特徴とする、有機トランジスタ用材料。
Figure 2021166281
(一般式(1−1)中、R4、R5は同一又は異なって、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。m4、m5は、同一又は異なって、1又は2の数を表す。)
A material for an organic transistor, which comprises a phenanthroline compound having a structure represented by the following general formula (1-1) and a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule.
Figure 2021166281
(In the general formula (1-1), R 4 and R 5 are the same or different and represent a dialkylamino group or an alkoxy group . M 4 and m 5 are the same or different and represent a number of 1 or 2. )
請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機薄膜、請求項7に記載の積層膜、又は請求項25に記載の有機トランジスタ用材料を含む層のいずれかを含むことを特徴とする、薄膜トランジスタ。 It is characterized by including any one of the organic thin film according to any one of claims 1 to 6, the laminated film according to claim 7, or a layer containing the material for an organic transistor according to claim 25. Thin film transistor. 下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含むことを特徴とする、塗料組成物。
Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。)
It is characterized by containing a first material which is a compound having a structure represented by the following general formula (1) and a second material which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule. Paint composition.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).
下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料と、分子内にアルカリ金属へ配位する構造を有しない化合物である第2材料と、を含む単一の膜を被形成面上に形成する工程、又は、
前記第1材料を含む膜と、前記第2材料を含む膜と、を被形成面上に順に形成する工程、を含むことを特徴とする、有機薄膜の製造方法。
Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。)
A single membrane containing a first material, which is a compound having a structure represented by the following general formula (1), and a second material, which is a compound having no structure coordinated to an alkali metal in the molecule, is covered. The process of forming on the forming surface, or
A method for producing an organic thin film, which comprises a step of sequentially forming a film containing the first material and a film containing the second material on a surface to be formed.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).
下記一般式(1)で表される構造を有する化合物である第1材料含む膜を、第2材料を含む被形成面上に形成する工程を含むことを特徴とする、有機薄膜の製造方法。
Figure 2021166281
(一般式(1)中、X1、X2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい窒素原子、酸素原子、硫黄原子又は2価の連結基を表す。Lは直接結合またはp価の連結基を表す。nは、0又は1の数を表し、pは、1〜4の数を表す。qは、0又は1の数を表し、pが1のとき、qは0である。R1〜R3は、同一又は異なって、1価の置換基を表す。m1〜m3は、同一又は異なって、0〜3の数を表す。)
A method for producing an organic thin film, which comprises a step of forming a film containing a first material, which is a compound having a structure represented by the following general formula (1), on a surface to be formed containing the second material.
Figure 2021166281
(In the general formula (1), X 1 and X 2 represent a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a divalent linking group which may have the same or different substituents, and L represents a direct bond. Or, it represents a linking group of p-valence. N represents a number of 0 or 1, p represents a number of 1 to 4. q represents a number of 0 or 1, and when p is 1, q represents. 0. R 1 to R 3 represent the same or different monovalent substituents. M 1 to m 3 represent the same or different numbers 0 to 3).
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