JP2021133666A - On board developing type lithography original plate, production method of lithography plate, and lithography method - Google Patents

On board developing type lithography original plate, production method of lithography plate, and lithography method Download PDF

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Abstract

To provide an on board developing type lithography original plate that a lithography plate superior to plate wearing and suppressing stripe irregularity, and to provide a production method of lithography plate using the on board developing type lithography original plate or a lithography method.SOLUTION: An on board developing type lithography original plate that has a backing and an image record layer formed on the backing, and a production method of lithography plate using the on board developing type lithography original plate or a lithography method. The image record layer contains an infrared absorbent, polymerization initiator, polymerizable compound and radical evocation type polymerization prohibition agent precursor.SELECTED DRAWING: None

Description

本開示は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。 The present disclosure relates to an on-machine development type lithographic printing plate original plate, a method for producing a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インキ非受容部）として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層（画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。 Generally, a lithographic printing plate comprises a lipophilic image portion that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image portion that receives dampening water. In flat plate printing, utilizing the property that water and oil-based ink repel each other, the oil-based image part of the flat plate printing plate is the ink receiving part, and the hydrophilic non-image part is the dampening water receiving part (ink non-receptive part). This is a method in which a difference in the adhesiveness of ink is generated on the surface of a flat plate printing plate, the ink is inlaid only on the image portion, and then the ink is transferred to an object to be printed such as paper for printing.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate original plate (PS plate) in which a lipophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after the lithographic printing plate original plate is exposed through an original image such as a squirrel film, the part that becomes the image part of the image recording layer remains, and the other unnecessary image recording layer is an alkaline developer or organic. A lithographic printing plate is obtained by performing plate making by a method of dissolving and removing with a solvent to expose the surface of a hydrophilic support to form a non-image portion.

また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。 In addition, due to growing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquids associated with wet treatments such as development treatments have been highlighted.
In response to the above environmental issues, simplification and non-processing of development or plate making are aimed at. As one of the simple manufacturing methods, a method called "on-machine development" is performed. That is, after the lithographic printing plate original plate is exposed, the conventional development is not performed, and the printing machine is mounted as it is, and unnecessary portions of the image recording layer are removed at the initial stage of the normal printing process.

従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献１には、支持体上に、（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）加熱することで、重合反応を抑制する化学種を発生する化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版が記載されている。 As a conventional flat plate printing plate original plate, for example, in Patent Document 1, the polymerization reaction is suppressed by (A) a polymerization initiator, (B) a polymerizable compound, and (C) heating on a support. A flat plate printing plate original plate having an image recording layer containing a compound that generates a chemical species is described.

また、特許文献２には、支持体上に（Ａ）ラジカル重合開始剤、（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び（Ｃ）多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなり、上記（Ｃ）多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を２個以上有する平版印刷版原版が記載されている。 Further, in Patent Document 2, an image recording layer containing (A) a radical polymerization initiator, (B) a radical polymerizable compound and (C) a polyfunctional polymerization inhibitor is provided on the support, and the above (C) ) As the polyfunctional polymerization inhibitor, a flat plate printing plate original plate having two or more radical trap sites that directly bond with radicals to form a covalent bond in the molecule is described.

特開２００６−００１１８２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-001182 国際公開第２０１４／０４５７８３号International Publication No. 2014/045783

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、耐刷性に優れ且つスジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。 An object to be solved by one embodiment of the present disclosure is to provide an on-board development type lithographic printing plate original plate capable of obtaining a lithographic printing plate having excellent printing resistance and suppressed streak-like unevenness.
An object to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-mentioned machine-developed lithographic printing plate original plate.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 支持体、及び、上記支持体上に形成された画像記録層を有し、
上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む、機上現像型平版印刷版原版。 Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> It has a support and an image recording layer formed on the support.
An on-machine development type flat plate printing plate original plate in which the image recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a radical-induced polymerization inhibitor precursor.

＜２＞ 上記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、ラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位とを有する化合物である、＜１＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３＞ 上記ラジカル捕捉部位が、エチレン性不飽和二重結合を含む部位である、＜２＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜４＞ 上記エチレン性不飽和二重結合を含む部位が（メタ）アクリロキシ基である、＜３＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜５＞ 上記重合禁止前駆部位が水酸基を含む部位である、＜４＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜６＞ 上記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、下記式（１）で表される部分構造を含む化合物である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <2> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <1>, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound having a radical scavenging site and a polymerization-prohibited precursor site.
<3> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <2>, wherein the radical scavenging site is a site containing an ethylenically unsaturated double bond.
<4> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <3>, wherein the site containing the ethylenically unsaturated double bond is a (meth) acryloxy group.
<5> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <4>, wherein the polymerization-prohibited precursor site is a site containing a hydroxyl group.
<6> The machine-developed planographic plate according to any one of <1> to <5>, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound containing a partial structure represented by the following formula (1). Print plate original plate.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（１）中、Ｒａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｒｂは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｘは、（メタ）アクリロキシ基を表す。 In formula (1), Ra independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X is. , Represents a (meth) acryloxy group.

＜７＞ 上記赤外線吸収剤の含有量Ａと上記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量Ｂとの含有比率Ａ／Ｂが、質量基準にて０．１〜２．５である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <7> The content ratio A / B of the content A of the infrared absorber and the content B of the radical-induced polymerization inhibitor precursor is 0.1 to 2.5 on a mass basis, <1. > ~ <6> The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to any one of.

＜８＞ 上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜９＞ 上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ−上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である、＜８＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１０＞ 上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ−上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値が、０．８０ｅＶ以下である、＜８＞又は＜９＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１１＞ 上記重合性化合物が、７官能以上の重合性化合物である、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１２＞ 上記重合性化合物が、１０官能以上の重合性化合物である、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <8> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <7>, wherein the polymerization initiator contains an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator.
<9> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <8>, wherein the HOMO value of the infrared absorber-the HOMO value of the electron-donating polymerization initiator is 0.70 eV or less.
<10> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <8> or <9>, wherein the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator-LUMO of the infrared absorber is 0.80 eV or less.
<11> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <10>, wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having 7 or more functionalities.
<12> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <11>, wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having 10 or more functionalities.

＜１３＞ ＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
＜１４＞ ＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。 <13> The step of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <12> like an image, and
A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove an image recording layer in a non-image area.
<14> The step of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <12> like an image, and
A step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove the image recording layer of the non-image area on the printing machine to prepare a lithographic printing plate.
A lithographic printing method including a step of printing with the obtained lithographic printing plate.

本開示の一実施形態によれば、耐刷性に優れ且つスジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。 According to one embodiment of the present disclosure, it is possible to provide an on-machine development type lithographic printing plate original plate capable of obtaining a lithographic printing plate having excellent printing resistance and suppressed streak-like unevenness.
Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-mentioned machine-developed lithographic printing plate original plate.

支持体の一実施形態の模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view of one Embodiment of a support. 支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of the support. 支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform diagram used for the electrochemical roughening process in the manufacturing method of a support. 支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening treatment using alternating current in the manufacturing method of a support.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は２色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
本開示において、「耐刷性に優れる」とは、平版印刷版の印刷可能な枚数が多いことをいい、印刷の際のインクとしてＵＶインキを用いた場合の耐刷性を、以下、「ＵＶ耐刷性」ともいう。 The contents of the present disclosure will be described in detail below. The description of the constituent elements described below may be based on the representative embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In addition, in this specification, "~" indicating a numerical range is used in the meaning that the numerical values described before and after the numerical range are included as the lower limit value and the upper limit value.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. .. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
Further, in the notation of a group (atomic group) in the present specification, the notation that does not describe substitution or non-substitution includes those having no substituent as well as those having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In the present specification, "(meth) acrylic" is a term used in a concept that includes both acrylic and methacryl, and "(meth) acryloyl" is a term that is used as a concept that includes both acryloyl and methacryloyl. Is.
In addition, the term "process" in the present specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term "process" will be used as long as the intended purpose of the process is achieved. included. Further, in the present disclosure, "% by mass" and "% by weight" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Further, in the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
Unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present disclosure use columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Toso Co., Ltd.). It is a molecular weight converted by detecting with a solvent THF (tetrahydrofuran) and a differential refractometer by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer and using polystyrene as a standard substance.
In the present specification, the term "lithographic printing plate original plate" includes not only a lithographic printing plate original plate but also a discarded plate original plate. Further, the term "lithographic printing plate" includes not only a lithographic printing plate produced by subjecting a lithographic printing plate original plate through operations such as exposure and development as necessary, but also a discarded plate. In the case of a discarded original plate, exposure and development operations are not always necessary. The discard plate is a planographic printing plate original plate to be attached to an unused plate cylinder when printing a part of the paper surface in a single color or two colors in, for example, color newspaper printing.
In the present disclosure, "excellent in printing resistance" means that the number of printable sheets of a lithographic printing plate is large, and the printing resistance when UV ink is used as the ink for printing is hereinafter referred to as "UV". Also called "print resistance".

≪機上現像型平版印刷版原版≫
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、支持体、及び、上記支持体上に形成された画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む。
以下、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版を、単に平版印刷版原版ともいう。
本開示に係る平版印刷版原版は、赤外線露光により露光部が重合する、ネガ型平版印刷版原版である。 ≪In-machine development type lithographic printing plate original plate≫
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to the present disclosure has a support and an image recording layer formed on the support, and the image recording layer has an infrared absorber, a polymerization initiator, and a polymerizable property. Includes compounds and radical-induced polymerization inhibitor precursors.
Hereinafter, the on-board development type lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is also simply referred to as a lithographic printing plate original plate.
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is a negative lithographic printing plate original plate in which the exposed portion is polymerized by infrared exposure.

近年、平版印刷版原版に対する露光において、ＧＬＶ（Grating Light Value）技術を採用した露光ヘッドを搭載した露光機が用いられることがある。
この露光機にて露光を行うと、網点画像が走査方向に太ることで、スジ状のムラとして観察される。このスジ状のムラはスワスムラと呼ばれることもある。
このスジ状のムラについて本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとる平版印刷版原版とすることで、スジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られることを見出した。 In recent years, an exposure machine equipped with an exposure head that employs GLV (Grating Light Value) technology may be used for exposure to a lithographic printing plate original plate.
When exposure is performed with this exposure machine, the halftone dot image becomes thicker in the scanning direction and is observed as streak-like unevenness. This streak-like unevenness is sometimes called swath unevenness.
As a result of diligent studies by the present inventors on this streak-like unevenness, it has been found that a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed can be obtained by using a lithographic printing plate original plate having the above configuration.

上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
上記スジ状のムラは、局所的に露光量が積算されることで生じると考えられる。本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層にラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む。ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、後述するように、ラジカルにより誘起されて重合禁止剤が生成される化合物である。そのため、露光により画像記録層中にラジカルが生じてはじめて重合禁止剤が生成される。
画像記録層中にラジカルが生じ、ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体から重合禁止剤が生成されると、局所的に露光量が積算された場合であっても、重合反応を停止又は抑制する機能が働き、積算部分にて重合反応が促進されにくい。
その結果、網点画像の太りを抑制することができ、スジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られるものと推測される。
また、ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体からは、露光により画像記録層中にラジカルが生じてはじめて重合禁止剤が生成されることから、重合禁止剤とは異なり、露光部における重合反応を阻害しにくい。
その結果、耐刷性に優れた平版印刷版が得られるものと推測される。 The detailed mechanism by which the above effect is obtained is unknown, but it is presumed as follows.
It is considered that the streak-like unevenness is caused by locally integrating the exposure amount. The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure contains a radical-induced polymerization inhibitor precursor in the image recording layer. A radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound that is induced by a radical to produce a polymerization inhibitor, as will be described later. Therefore, the polymerization inhibitor is generated only when radicals are generated in the image recording layer by exposure.
When a radical is generated in the image recording layer and a polymerization inhibitor is generated from the radical-induced polymerization inhibitor precursor, the function of stopping or suppressing the polymerization reaction even when the exposure amount is locally integrated. Works, and the polymerization reaction is less likely to be promoted in the integrated portion.
As a result, it is presumed that the thickening of the halftone dot image can be suppressed and the lithographic printing plate in which the streak-like unevenness is suppressed can be obtained.
Further, unlike the polymerization inhibitor, the radical-induced polymerization inhibitor precursor inhibits the polymerization reaction in the exposed portion because the polymerization inhibitor is generated only when radicals are generated in the image recording layer by exposure. Hateful.
As a result, it is presumed that a lithographic printing plate having excellent printing resistance can be obtained.

なお、特許文献１又は２に記載の平版印刷版原版では、スジ状のムラについては全く言及していない。 The lithographic printing plate original plate described in Patent Document 1 or 2 does not mention streak-like unevenness at all.

＜画像記録層＞
本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む。
本開示における画像記録層は、機上現像型画像記録層であり、また、ネガ型画像記録層である。 <Image recording layer>
The image recording layer in the present disclosure includes an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a radical-induced polymerization inhibitor precursor.
The image recording layer in the present disclosure is an on-board development type image recording layer and a negative type image recording layer.

以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。 Hereinafter, details of each component contained in the image recording layer will be described.

〔ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体〕
本開示における「ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体」は、ラジカルにより誘起されて重合禁止剤が生成される化合物をいう。なお、ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、ラジカルにより誘起されない状態では、重合禁止剤として機能しない又は機能しにくい化合物である。
ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、上記の機能を発現する観点から、ラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位とを有する化合物である、ことが好ましい。 [Radical-induced polymerization inhibitor precursor]
The "radical-induced polymerization inhibitor precursor" in the present disclosure refers to a compound that is induced by a radical to produce a polymerization inhibitor. The radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound that does not function as a polymerization inhibitor or is difficult to function in a state where it is not induced by radicals.
The radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably a compound having a radical scavenging site and a polymerization-prohibiting precursor site from the viewpoint of exhibiting the above functions.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体におけるラジカル捕捉部位としては、特に制限はないが、ラジカル捕捉能の観点から、エチレン性不飽和二重結合（即ち、Ｃ＝Ｃ）を含む部位であることが好ましい。
エチレン性不飽和二重結合を含む部位としては、（メタ）アクリロキシ基、スチリル基、アリル基、ビニル基等が挙げられるが、ラジカル捕捉能の観点から、（メタ）アクリロキシ基であることが好ましい。 The radical scavenging site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor is not particularly limited, but is preferably a site containing an ethylenically unsaturated double bond (that is, C = C) from the viewpoint of radical scavenging ability. ..
Examples of the site containing an ethylenically unsaturated double bond include a (meth) acryloxy group, a styryl group, an allyl group, a vinyl group and the like, and a (meth) acryloxy group is preferable from the viewpoint of radical trapping ability. ..

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体における重合禁止前駆部位とは、重合禁止剤として機能する部位をいう。
ここで、上記重合禁止剤とは、重合反応を停止又は抑制する化合物である。
重合禁止剤として好適なものとしては、フェノール及びキノン系重合禁止剤、アミン系重合禁止剤、ニトロソ系重合禁止剤、フェノチアジン等の従来公知の重合禁止剤が挙げられる。 The polymerization-prohibited precursor site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor means a site that functions as a polymerization-prohibiting agent.
Here, the polymerization inhibitor is a compound that stops or suppresses the polymerization reaction.
Suitable polymerization inhibitors include conventionally known polymerization inhibitors such as phenol and quinone polymerization inhibitors, amine polymerization inhibitors, nitroso polymerization inhibitors, and phenothiazines.

フェノール及びキノン系重合禁止剤としては、例えば、フェノール、ｐ−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、ヒドロキノン、カテコール、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、レゾルシノール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、フェニルヒドロキノン、ヒドロキノン、ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、ベンゾキノン等が挙げられる。 Examples of the phenol and quinone polymerization inhibitor include phenol, p-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-4-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-4-cresol, hydroquinone, and the like. Catecol, t-butylcatechol, pyrogallol, resorcinol, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), phenylhydroquinone, Hydroquinone, t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-butylhydroquinone, benzoquinone and the like can be mentioned.

アミン系重合禁止剤としては、アニリン、メトキシアニリン、アミノフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、及びその誘導体等が挙げられる。
ニトロソ系重合禁止剤としては、例えば、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、及びその金属塩等が挙げられる。 Amine-based polymerization inhibitors include aniline, methoxyaniline, aminophenol, 2,4,6-tri-t-butylaniline, diphenylamine, triphenylamine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, and derivatives thereof. And so on.
Examples of the nitroso-based polymerization inhibitor include N-nitrosophenylhydroxylamine and metal salts thereof.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体における重合禁止前駆部位としては、重合反応を停止又は抑制する性能の観点から、水酸基（即ちヒドロキシ基）を有する部位であることが好ましい。
水酸基を含む部位としては、フェノール性水酸基を有する部位であることがより好ましい。 The polymerization-prohibited precursor site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably a site having a hydroxyl group (that is, a hydroxy group) from the viewpoint of the ability to stop or suppress the polymerization reaction.
The site containing a hydroxyl group is more preferably a site having a phenolic hydroxyl group.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体におけるラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位との間には、必要に応じて、連結基を有していてもよい。 If necessary, a linking group may be provided between the radical scavenging site and the polymerization prohibition precursor site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体としては、下記式（１）で表される部分構造を含む化合物であることが好ましい。 The radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably a compound containing a partial structure represented by the following formula (1).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（１）中、Ｒａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｒｂは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｘは、（メタ）アクリロキシ基を表す。 In formula (1), Ra independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X is. , Represents a (meth) acryloxy group.

式（１）におけるＲａは、それぞれ独立に、炭素数１〜１５のアルキル基であることが好ましい。
Ｒａで表されるアルキル基は、直鎖状であってもよいし、分岐を有していてもよいし、環状であってもよい。
Ｒａで表されるアルキル基は、炭素数１〜１０のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜５のアルキル基であることが更に好ましい。
式（１）におけるＲａは、より具体的には、メチル基、ｔ−ブチル基、又はジメチルプロピル基が好ましい。
また、式（１）における２つＲａは、同一の基であることが好ましい。
なお、式（１）におけるＲａがアリール基である場合、アリール基として具体的には、炭素数６〜１２のアリール基が好ましい。 It is preferable that Ra in the formula (1) is an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms independently.
The alkyl group represented by Ra may be linear, may have a branch, or may be cyclic.
The alkyl group represented by Ra is more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and further preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
More specifically, Ra in the formula (1) is preferably a methyl group, a t-butyl group, or a dimethylpropyl group.
Further, it is preferable that the two Ras in the formula (1) are the same group.
When Ra in the formula (1) is an aryl group, specifically, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is preferable as the aryl group.

式（１）におけるＲｂは、水素原子、又はメチル基であることが好ましい。 Rb in the formula (1) is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体としては、下記式（２）で表される化合物及び下記式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。 The radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably at least one selected from the group consisting of the compound represented by the following formula (2) and the compound represented by the following formula (3).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（２）中、Ｒａ、Ｒｃ１及びＲｃ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｒｂは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｘは、（メタ）アクリロキシ基を表す。 In formula (2), Ra, Rc 1 and Rc 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, and Rb is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 3 carbon atoms. Represents a group, where X represents a (meth) acryloxy group.

式（２）におけるＲａは、式（１）におけるＲａと同義であり、好ましい態様も同様である。
式（２）におけるＲｂは、式（１）におけるＲｂと同義であり、好ましい態様も同様である。 Ra in the formula (2) is synonymous with Ra in the formula (1), and the preferred embodiment is also the same.
Rb in the formula (2) is synonymous with Rb in the formula (1), and the preferred embodiment is also the same.

式（２）におけるＲｃ１及びＲｃ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましい。
Ｒｃ１及びＲｃ２で表されるアルキル基は、直鎖状であってもよいし、分岐を有していてもよいし、環状であってもよい。
Ｒｃ１及びＲｃ２で表されるアルキル基は、炭素数１〜１０のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜５のアルキル基であることが更に好ましい。
式（２）におけるＲｃ１及びＲｃ２は、より具体的には、メチル基、ブチル基、ジメチルプロピル基、又はメチルシクロヘキシル基が好ましく、メチル基、ｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、又は１−メチルシクロヘキシル基がより好ましい。
また、式（２）におけるＲｃ１及びＲｃ２は、同一の基であることが好ましい。 Rc 1 and Rc 2 in the formula (2) are preferably alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms independently.
The alkyl group represented by Rc 1 and Rc 2 may be linear, may have a branch, or may be cyclic.
The alkyl group represented by Rc 1 and Rc 2 is more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and further preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
More specifically, Rc 1 and Rc 2 in the formula (2) are preferably a methyl group, a butyl group, a dimethylpropyl group, or a methylcyclohexyl group, and are a methyl group, a t-butyl group, and a 1,1-dimethylpropyl group. , Or a 1-methylcyclohexyl group is more preferred.
Further, it is preferable that Rc 1 and Rc 2 in the formula (2) are the same group.

Ｒｃ１が水素原子であり、Ｒｃ２がメチル基である場合、Ｒｃ２で表されるメチル基は、下記式（２−１）で表される基で置換されていてもよい。 When Rc 1 is a hydrogen atom and Rc 2 is a methyl group, the methyl group represented by Rc 2 may be substituted with a group represented by the following formula (2-1).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（２−１）中、Ｒａは、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｒｂは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒｄは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｘは、（メタ）アクリロキシ基を表す。なお、「＊」は、Ｒｃ２で表されるメチル基との結合位置を示す。 In formula (2-1), Ra represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and Rd represents each. Independently, it represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, and X represents a (meth) acryloxy group. In addition, "*" indicates a bond position with a methyl group represented by Rc 2.

式（２−１）におけるＲａは、式（１）におけるＲａと同義であり、好ましい態様も同様である。
式（２−１）におけるＲｂは、式（１）におけるＲｂと同義であり、好ましい態様も同様である。
式（２−１）におけるＲｄは、水素原子が好ましい。 Ra in the formula (2-1) is synonymous with Ra in the formula (1), and the preferred embodiment is also the same.
Rb in the formula (2-1) is synonymous with Rb in the formula (1), and the preferred embodiment is also the same.
The Rd in the formula (2-1) is preferably a hydrogen atom.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（３）中、Ｒａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｒｂは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｘは、（メタ）アクリロキシ基を表す。ｍ及びｎは、２以上の整数を表す。 In formula (3), Ra independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X is. , Represents a (meth) acryloxy group. m and n represent integers of 2 or more.

式（３）におけるＲａは、式（１）におけるＲａと同義であり、好ましい態様も同様である。
式（３）におけるＲｂは、式（１）におけるＲｂと同義であり、好ましい態様も同様である。 Ra in the formula (3) is synonymous with Ra in the formula (1), and the preferred embodiment is also the same.
Rb in the formula (3) is synonymous with Rb in the formula (1), and the preferred embodiment is also the same.

ｎ個の繰り返し単位及びｍ個の繰り返し単位は、ランダム状に配列されていてもよいし、ブロック状に配列されていてもよい。
式（３）で表される化合物の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）としては、５００〜１０，０００が好ましい。 The n repeating units and m repeating units may be arranged in a random manner or in a block shape.
The molecular weight (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) of the compound represented by the formula (3) is preferably 500 to 10,000.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体によれば、例えば、以下のようにして重合開始剤が生成する。
例えば、下記化合物Ｇ−１の場合、画像記録層中にラジカル「Ｒ・」が発生すると、このラジカル「Ｒ・」によって、ラジカル捕捉部位であるアクリロキシ基中のπ結合が切断されて新たにＣ−Ｒ結合ができ、それと共に、水酸基がラジカル「Ｏ・」となることで重合禁止能が発現する（即ち、重合禁止剤が生成する）こととなる。 According to the radical-induced polymerization inhibitor precursor, a polymerization initiator is produced, for example, as follows.
For example, in the case of the following compound G-1, when a radical "R." is generated in the image recording layer, the radical "R." cleaves the π bond in the acryloxy group, which is a radical scavenging site, and newly C. A -R bond is formed, and at the same time, the hydroxyl group becomes a radical "O.", so that the polymerization inhibitory ability is exhibited (that is, a polymerization inhibitor is generated).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
中でも、スジ状のムラが抑制された平版印刷版を得る観点からは、下記Ｇ−１〜Ｇ−５が好ましい。 Specific examples of the radical-induced polymerization inhibitor precursor are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.
Above all, the following G-1 to G-5 are preferable from the viewpoint of obtaining a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

Figure 2021133666
Figure 2021133666

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、公知の方法にて合成した化合物であってもよいし、上市されている製品であってもよい。
ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の市販品としては、住友化学（株）製の、スミライザー（登録商標） ＧＭ、スミライザー（登録商標） ＧＳ、Ｑｉｎｇｄａｏ Ｊａｄｅ Ｎｅｗ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製のＡｎｔｉｏｘｉｄａｎｔ ＧＳ、Ａｎｔｉｏｘｉｄａｎｔ ＧＭ等が挙げられる。 The radical-induced polymerization inhibitor precursor may be a compound synthesized by a known method or a commercially available product.
Commercially available products of radical-induced polymerization inhibitor precursors include Sumitomo Chemical Co., Ltd.'s Sumilyzer (registered trademark) GM, Sumilyzer (registered trademark) GS, Qingdao Jade New Material Technology, etc. Antioxidant GS, Antioxidant, etc. Can be mentioned.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 Only one type of radical-induced polymerization inhibitor precursor may be used, or two or more types may be used in combination.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量は、スジ状のムラが抑制された平版印刷版を得る観点から、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、１質量％〜１２質量％であることがより好ましく、３質量％〜１２質量％であることが更に好ましく、３質量％〜８質量％であることが特に好ましい。 The content of the radical-induced polymerization inhibitor precursor shall be 0.1% by mass to 20% by mass with respect to the total mass of the image recording layer from the viewpoint of obtaining a flat plate printing plate in which streak-like unevenness is suppressed. Is more preferable, 1% by mass to 12% by mass is more preferable, 3% by mass to 12% by mass is further preferable, and 3% by mass to 8% by mass is particularly preferable.

本開示における画像記録層中、赤外線吸収剤の含有量Ａとラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量Ｂとの含有比率Ａ／Ｂは、スジ状のムラが抑制された平版印刷版を得る観点から、質量基準にて０．１〜２．５であることが好ましく、０．２〜２．０であることがより好ましく、０．３〜１．０であることが更に好ましく、０．３〜０．８であることが特に好ましい。 In the image recording layer in the present disclosure, the content ratio A / B of the content A of the infrared absorber and the content B of the radical-induced polymerization inhibitor precursor B is a flat plate printing plate in which streak-like unevenness is suppressed. From the viewpoint, it is preferably 0.1 to 2.5 on a mass basis, more preferably 0.2 to 2.0, further preferably 0.3 to 1.0, and 0. It is particularly preferably 3 to 0.8.

〔赤外線吸収剤〕
本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤を含む。
赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。 [Infrared absorber]
The image recording layer in the present disclosure contains an infrared absorber.
The infrared absorber is not particularly limited, and examples thereof include pigments and dyes.
As the dye used as the infrared absorber, a commercially available dye and, for example, a known dye described in a document such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. Can be mentioned.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。 Among these dyes, particularly preferable ones include cyanine pigments, squarylium pigments, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indrenin cyanine pigments. Further, cyanine pigments and indorenin cyanine pigments can be mentioned. Of these, the cyanine pigment is particularly preferable.

上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素又は窒素原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。 The infrared absorber is preferably a cationic polymethine dye having an oxygen or nitrogen atom at the meso position. Preferred examples of the cationic polymethine pigment include cyanine pigments, pyrylium pigments, thiopyrylium pigments, and azulenium pigments, and cyanine pigments are preferable from the viewpoints of availability, solvent solubility during the introduction reaction, and the like.

シアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の段落００１７〜００１９に記載の化合物、特開２００２−０２３３６０号公報の段落００１６〜００２１、特開２００２−０４０６３８号公報の段落００１２〜００３７に記載の化合物、好ましくは特開２００２−２７８０５７号公報の段落００３４〜００４１、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００８０〜００８６に記載の化合物、特に好ましくは特開２００７−９０８５０号公報の段落００３５〜００４３に記載の化合物、特開２０１２−２０６４９５号公報の段落０１０５〜０１１３に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平５−５００５号公報の段落０００８〜０００９、特開２００１−２２２１０１号公報の段落００２２〜００２５に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００７２〜００７６に記載の化合物が好ましい。 Specific examples of the cyanine dye include the compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133769, paragraphs 0016 to 0021 of JP-A-2002-0233360, and paragraphs 0012 to 0037 of JP-A-2002-040638. , Preferably the compounds described in paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057, paragraphs 0080 to 0083 of JP-A-2008-195018, and particularly preferably paragraphs 0035 of JP-A-2007-90850. Examples thereof include the compounds described in ~ 0043, and the compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP2012-206495A.
Further, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A-2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferable.

赤外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。 Only one type of infrared absorber may be used, or two or more types may be used in combination.
Further, a pigment and a dye may be used in combination as an infrared absorber.

赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％〜１０．０質量％が好ましく、０．５質量％〜５．０質量％がより好ましい。 The content of the infrared absorber is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, more preferably 0.5% by mass to 5.0% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔重合開始剤〕
本開示における画像記録層は、重合開始剤を含む。
重合開始剤としては、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤及び電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。 [Polymerization initiator]
The image recording layer in the present disclosure contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator preferably contains an electron-accepting polymerization initiator, and more preferably contains an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator.

［電子受容型重合開始剤］
本開示における画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカル、カチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
電子受容型ラジカル重合開始剤としては、例えば、（ａ）有機ハロゲン化物、（ｂ）カルボニル化合物、（ｃ）アゾ化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）メタロセン化合物、（ｆ）アジド化合物、（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）ジスルホン化合物、（ｊ）オキシムエステル化合物、及び、（ｋ）オニウム塩化合物が挙げられる。 [Electronic Receptor Polymerization Initiator]
The image recording layer in the present disclosure preferably contains an electron-accepting polymerization initiator as the polymerization initiator.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates a polymerization initiator such as a radical by accepting one electron by electron transfer between molecules when the electrons of the infrared absorber are excited by infrared exposure.
An electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates a polymerization initiator such as a radical or a cation by energy of light, heat, or both, and is a known thermal polymerization initiator, a compound having a small bond dissociation energy, and the like. A photopolymerization initiator or the like can be appropriately selected and used.
As the electron-accepting polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable, and an onium salt compound is more preferable.
Further, the electron-accepting polymerization initiator is preferably an infrared photosensitive polymerization initiator.
Examples of the electron-accepting radical polymerization initiator include (a) an organic halide, (b) a carbonyl compound, (c) an azo compound, (d) an organic peroxide, (e) a metallocene compound, and (f) an azide compound. , (G) hexaarylbiimidazole compounds, (i) disulfone compounds, (j) oxime ester compounds, and (k) onium salt compounds.

（ａ）有機ハロゲン化物としては、例えば、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００２２〜００２３に記載の化合物が好ましい。
（ｂ）カルボニル化合物としては、例えば、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００２４に記載の化合物が好ましい。
（ｃ）アゾ化合物としては、例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
（ｄ）有機過酸化物としては、例えば、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００２５に記載の化合物が好ましい。
（ｅ）メタロセン化合物としては、例えば、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００２６に記載の化合物が好ましい。
（ｆ）アジド化合物としては、例えば、２，６−ビス（４−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００２７に記載の化合物が好ましい。
（ｉ）ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭６１−１６６５４４号、特開２００２−３２８４６５号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
（ｊ）オキシムエステル化合物としては、例えば、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００２８〜００３０に記載の化合物が好ましい。 (A) As the organic halide, for example, the compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(B) As the carbonyl compound, for example, the compound described in paragraph 0024 of JP-A-2008-195018 is preferable.
(C) As the azo compound, for example, the azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
(D) As the organic peroxide, for example, the compound described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 is preferable.
(E) As the metallocene compound, for example, the compound described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018 is preferable.
Examples of the (f) azide compound include compounds such as 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone.
(G) As the hexaarylbiimidazole compound, for example, the compound described in paragraph 0027 of JP-A-2008-195018 is preferable.
(I) Examples of the disulfon compound include the compounds described in JP-A-61-166544 and JP-A-2002-328465.
As the (j) oxime ester compound, for example, the compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP-A-2008-195018 are preferable.

上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。 Among the electron-accepting polymerization initiators, oxime ester compounds and onium salt compounds are preferable from the viewpoint of curability. Among them, from the viewpoint of printing resistance, an iodonium salt compound, a sulfonium salt compound or an azinium salt compound is preferable, an iodonium salt compound or a sulfonium salt compound is more preferable, and an iodonium salt compound is particularly preferable.
Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.

ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−メトキシフェニル−４−（２−メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−（２−メチルプロピル）フェニル−ｐ−トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−ヘキシルオキシフェニル−２，４，６−トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４−ヘキシルオキシフェニル−２，４−ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４−オクチルオキシフェニル−２，４，６−トリメトキシフェニルヨードニウム＝１−ペルフルオロブタンスルホナート、４−オクチルオキシフェニル−２，４，６−トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the iodonium salt compound, a diaryl iodonium salt compound is preferable, a diphenyl iodonium salt compound substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is more preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt compound is preferable. .. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyl iodonium = 1-perfluorobutane sulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyl iodonium = hexafluorophosphate, bis (4-t-butylphenyl) ) Iodonium = hexafluorophosphate can be mentioned.

スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が４以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４−クロロフェニル）フェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４−クロロフェニル）−４−メチルフェニルスルホニウム＝テトラフルオロボラート、トリス（４−クロロフェニル）スルホニウム＝３，５−ビス（メトキシカルボニル）ベンゼンスルホナート、トリス（４−クロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリス（２，４−ジクロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the sulfonium salt compound, a triarylsulfonium salt compound is preferable, and in particular, an electron-attracting group, for example, a triarylsulfonium salt compound in which at least a part of a group on the aromatic ring is substituted with a halogen atom is preferable, and an aromatic is preferable. A triarylsulfonium salt compound having a total number of halogen atoms substituted on the ring of 4 or more is more preferable. Specific examples include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, and bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = tetrafluoro. Borate, Tris (4-chlorophenyl) Sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) Benzene Sulfonium, Tris (4-chlorophenyl) Sulfonium = Hexafluorophosphate, Tris (2,4-Dichlorophenyl) Sulfonium = Hexafluorophos Fert can be mentioned.

また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、ｐ−トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Ｐｈはフェニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、それぞれ表す。 Examples of the counter anions of the iodonium salt compound and the sulfonium salt compound include sulfonate anion, carboxylate anion, tetrafluoroborate anion, hexafluorophosphate anion, p-toluene sulfonate anion, tosylate anion, sulfonamide anion or sulfonimide. Anions are mentioned.
Among them, sulfonamide anion or sulfonimide anion is preferable, and sulfonimide anion is more preferable.
As the sulfonamide anion, an aryl sulfonamide anion is preferable.
Further, as the sulfonimide anion, a bisaryl sulfonimide anion is preferable.
Specific examples of the sulfonamide anion or the sulfonamide anion are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the specific examples below, Ph represents a phenyl group, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

電子受容型重合開始剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、−３．００ｅＶ以下であることが好ましく、−３．０２ｅＶ以下であることがより好ましい。
また、下限としては、−３．８０ｅＶ以上であることが好ましく、−３．６０ｅＶ以上であることがより好ましい。 The minimum unoccupied molecular orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator is preferably −3.00 eV or less, and more preferably −3.02 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity and making plate skipping less likely to occur. preferable.
The lower limit is preferably -3.80 eV or more, and more preferably -3.60 eV or more.

電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 The electron-accepting polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜３０質量％であることがより好ましく、０．８質量％〜２０質量％であることが特に好ましい。 The content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably 0.5% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer. , 0.8% by mass to 20% by mass is particularly preferable.

［電子供与型重合開始剤（重合助剤）］
本開示における画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤（「重合助剤」ともいう）を含むことが好ましい。
電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。 [Electron-donated polymerization initiator (polymerization aid)]
The image recording layer in the present disclosure preferably contains an electron-donating polymerization initiator (also referred to as a "polymerization aid") as a polymerization initiator.
The electron donating type polymerization initiator is a radical by donating one electron by intermolecular electron transfer to an orbit where one electron is missing from the infrared absorber when the electron of the infrared absorber is excited or moved intramolecularly by infrared exposure. It is a compound that generates a polymerization initiator such as.
The electron-donating type polymerization initiator is preferably an electron-donating radical polymerization initiator.

画像記録層は、耐刷性向上の観点から、以下に挙げられる電子供与型重合開始剤を含有することが好ましい。
（ｉ）アルキル又はアリールアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物が好ましい。
（ii）Ｎ−アリールアルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、例えば、Ｎ−フェニルグリシン類（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）、Ｎ−フェニルイミノジ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）が挙げられる。
（iii）含硫黄化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。例えばフェニルチオ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）が挙げられる。
（iv）含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
（v）スルフィン酸塩類：酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。 From the viewpoint of improving printing durability, the image recording layer preferably contains the following electron donating type polymerization initiators.
(I) Alkyl or arylate complex: It is considered that the carbon-heterobond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, a borate compound is preferable.
(Ii) N-arylalkylamine compound: It is considered that the CX bond on the carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. As X, a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group or a benzyl group is preferable. Specifically, for example, N-phenylglycines (which may or may not have a substituent on the phenyl group) and N-phenyliminodiacetic acid (which may or may not have a substituent on the phenyl group). May be mentioned.)
(Iii) Sulfur-containing compound: A compound in which the nitrogen atom of the above-mentioned amines is replaced with a sulfur atom can generate an active radical by the same action. For example, phenylthioacetic acid (which may or may not have a substituent on the phenyl group) can be mentioned.
(Iv) Tin-containing compounds: The above-mentioned amines in which the nitrogen atom is replaced with a tin atom can generate active radicals by the same action.
(V) Sulfinates: Oxidation can generate active radicals. Specific examples thereof include arylsulfinic sodium.

これらの中でも、画像記録層は、耐刷性の観点から、ボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性及び発色性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。 Among these, the image recording layer preferably contains a borate compound from the viewpoint of printing resistance.
The borate compound is preferably a tetraaryl borate compound or a monoalkyl triaryl borate compound, and more preferably a tetraaryl borate compound from the viewpoint of print resistance and color development.
The counter cation contained in the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and more preferably a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。 Specific examples of the borate compound include sodium tetraphenylborate.

以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、Ｂ−１〜Ｂ−９を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｂｕはｎ−ブチル基を表す。 B-1 to B-9 are shown below as preferable specific examples of the electron donating type polymerization initiator, but it goes without saying that the present invention is not limited to these. Further, in the following chemical formula, Ph represents a phenyl group and Bu represents an n-butyl group.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

また、電子供与型重合開始剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、−６．００ｅＶ以上であることが好ましく、−５．９５ｅＶ以上であることがより好ましく、−５．９３ｅＶ以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、−５．００ｅＶ以下であることが好ましく、−５．４０ｅＶ以下であることがより好ましい。 The maximum occupied molecular orbital (HOMO) of the electron donating polymerization initiator is preferably −6.00 eV or more, and preferably −5.95 eV or more, from the viewpoint of improving sensitivity and making it difficult for plate skipping to occur. More preferably, it is more preferably −5.93 eV or more.
The upper limit is preferably −5.00 eV or less, and more preferably −5.40 eV or less.

電子供与型重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 Only one type of electron donating type polymerization initiator may be used, or two or more types may be used in combination.

電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％〜３０質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜２５質量％であることがより好ましく、０．１質量％〜２０質量％であることが更に好ましい。 The content of the electron donating type polymerization initiator is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, preferably 0.05% by mass, based on the total mass of the image recording layer from the viewpoint of sensitivity and printing resistance. It is more preferably ~ 25% by mass, and even more preferably 0.1% by mass to 20% by mass.

本開示において、重合開始剤は、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物であってもよい。
例えば、本開示において、電子供与型重合開始剤におけるアニオンと電子受容型重合開始剤におけるカチオンとが対塩を形成してなる化合物であることが好ましく、オニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることがより好ましく、ヨードニウムカチオン又はスルホニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが更に好ましく、ジアリールヨードニウムカチオン又はトリアリールスルホニウムカチオンとテトラアリールボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが特に好ましい。
電子供与型重合開始剤におけるアニオン、及び、電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様としては、既述の電子供与型重合開始剤におけるアニオン及び既述の電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様と同様である。
画像記録層が、電子供与型重合開始剤であるアニオンと、電子受容型重合開始剤であるカチオンと、を含む場合（つまり、上記対塩を形成している化合物を含む場合）、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物は、電子供与型重合開始剤として用いてもよいし、電子受容型重合開始剤として用いてもよい。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物は、既述の電子供与型重合開始剤と併用してもよいし、既述の電子受容型重合開始剤と併用してもよい。 In the present disclosure, the polymerization initiator may be a compound in which the electron-donating polymerization initiator and the electron-accepting polymerization initiator form an anti-salt.
For example, in the present disclosure, it is preferable that the compound is formed by forming an anion in the electron-donating polymerization initiator and a cation in the electron-accepting polymerization initiator to form a salt, and the onium cation and a borate anion form a salt. It is more preferable that the compound is formed by forming an iodonium cation or a sulfonium cation and a borate anion with respect to a salt, and a diaryliodonium cation or a triarylsulfonium cation and a tetraarylborate anion are used. Is particularly preferably a compound formed by forming a salt.
Preferred embodiments of the anion in the electron-donating polymerization initiator and the cation in the electron-accepting polymerization initiator are the anion in the electron-donating polymerization initiator described above and the cation in the electron-accepting polymerization initiator described above. It is the same as the aspect.
When the image recording layer contains an anion which is an electron donating type polymerization initiator and a cation which is an electron accepting type polymerization initiator (that is, when it contains the compound forming the salt pair), the image recording layer Shall include the electron-accepting polymerization initiator and the electron-donating polymerization initiator.
Further, the compound in which the electron-donating polymerization initiator and the electron-accepting polymerization initiator form a salt pair may be used as an electron-donating polymerization initiator or as an electron-accepting polymerization initiator. good.
Further, the compound formed by the electron-donating polymerization initiator and the electron-accepting polymerization initiator forming a salt pair may be used in combination with the electron-donating polymerization initiator described above, or may be used in combination with the electron-donating polymerization initiator described above. It may be used in combination with a polymerization initiator.

［赤外線吸収剤と電子供与型重合開始剤との好ましい態様］
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、赤外線吸収剤のＨＯＭＯ−電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下であることが好ましく、０．７０ｅＶ〜−０．１０ｅＶであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯよりも高くなることを意味する。 [Preferable Aspects of Infrared Absorbent and Electron-donated Polymerization Initiator]
In the image recording layer in the present disclosure, the HOMO value of the infrared absorber HOMO-electron donating polymerization initiator is preferably 0.70 eV or less, preferably 0.70 eV, from the viewpoint of improving sensitivity and printing resistance. It is more preferably ~ −0.10 eV.
A negative value means that the HOMO of the electron donating polymerization initiator is higher than that of the infrared absorber HOMO.

［電子受容型重合開始剤及び赤外線吸収剤の好ましい態様］
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ−赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値が、０．８０ｅＶ以下であることが好ましく、０．８０ｅＶ〜−０．１０ｅＶであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯが、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯよりも高くなることを意味する。 [Preferable aspects of electron-accepting polymerization initiator and infrared absorber]
In the image recording layer in the present disclosure, the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator LUMO-infrared absorber is preferably 0.80 eV or less, preferably 0.80 eV, from the viewpoint of improving sensitivity and printing resistance. It is more preferably ~ −0.10 eV.
A negative value means that the LUMO of the infrared absorber is higher than that of the electron-accepting polymerization initiator.

〔重合性化合物〕
本開示における画像記録層は、重合性化合物を含む。
本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。また、重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から（メタ）アクリロイル基が好ましい。
重合性化合物の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）は、５０以上２，５００未満であることが好ましい。 [Polymerizable compound]
The image recording layer in the present disclosure contains a polymerizable compound.
In the present disclosure, the polymerizable compound means a compound having a polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited and may be a known polymerizable group, but an ethylenically unsaturated group is preferable. The polymerizable group may be a radically polymerizable group or a cationically polymerizable group, but is preferably a radically polymerizable group.
Examples of the radically polymerizable group include a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinylphenyl group, a vinyl group and the like, and a (meth) acryloyl group is preferable from the viewpoint of reactivity.
The molecular weight of the polymerizable compound (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) is preferably 50 or more and less than 2,500.

本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
中でも、上記重合性化合物としては、ＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、７官能以上の重合性基を含むことがより好ましく、１０官能以上の重合性基を含むことが更に好ましい。また、上記重合性化合物は、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）の（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。 The polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radical-polymerizable compound or a cationically polymerizable compound, but is an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethyleney). It is preferably an unsaturated compound).
The ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, and more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. The polymerizable compound has a chemical form such as, for example, a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer or an oligomer, or a mixture thereof.
Among them, the above-mentioned polymerizable compound preferably contains a trifunctional or higher-functional polymerizable compound, more preferably contains a 7-functional or higher-functional polymerizable group, and has a 10-functionality or higher-functionality, from the viewpoint of UV printing resistance. It is more preferable to include a group. Further, the polymerizable compound preferably contains an ethylenically unsaturated compound having trifunctionality or higher (preferably 7-functionality or higher, more preferably 10-functionality or higher) from the viewpoint of UV printing resistance in the obtained flat plate printing plate. It is more preferable to contain a trifunctional or higher (preferably 7 or higher functional, more preferably 10 or higher functional) (meth) acrylate compound.

［オリゴマー］
画像記録層に含まれる重合性化合物としては、オリゴマーである重合性化合物（以下、単に「オリゴマー」ともいう。）を含有することが好ましい。
本開示においてオリゴマーとは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）が６００以上１０，０００以下であり、かつ、重合性基を少なくとも１つ含む重合性化合物を表す。
耐薬品性、ＵＶ耐刷性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、１，０００以上５，０００以下であることが好ましい。 [Oligomer]
As the polymerizable compound contained in the image recording layer, it is preferable to contain a polymerizable compound which is an oligomer (hereinafter, also simply referred to as “oligomer”).
In the present disclosure, the oligomer represents a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) of 600 or more and 10,000 or less and containing at least one polymerizable group.
From the viewpoint of excellent chemical resistance and UV printing resistance, the molecular weight of the oligomer is preferably 1,000 or more and 5,000 or less.

また、ＵＶ耐刷性を向上させる観点から、１分子のオリゴマーにおける重合性基数は、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、６以上であることが更に好ましく、１０以上であることが特に好ましい。
また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は２０以下であることが好ましい。 Further, from the viewpoint of improving UV printing resistance, the number of polymerizable groups in one molecule of the oligomer is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, further preferably 6 or more, and 10 or more. Is particularly preferable.
The upper limit of the polymerizable group in the oligomer is not particularly limited, but the number of polymerizable groups is preferably 20 or less.

ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が７以上であり、かつ、分子量が１，０００以上１０，０００以下であることが好ましく、重合性基の数が７以上２０以下であり、かつ、分子量が１，０００以上５，０００以下であることがより好ましい。 From the viewpoint of UV printing resistance and on-machine developability, the oligomer preferably has 7 or more polymerizable groups and a molecular weight of 1,000 or more and 10,000 or less, and is polymerizable. More preferably, the number of groups is 7 or more and 20 or less, and the molecular weight is 1,000 or more and 5,000 or less.

ＵＶ耐刷性、視認性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
本開示においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基（カルボン酸基等）とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。 From the viewpoint of UV print resistance, visibility, and on-machine developability, the oligomer has at least one selected from the group consisting of a compound having a urethane bond, a compound having an ester bond, and a compound having an epoxy residue. It is preferable to have a compound having a urethane bond.
In the present disclosure, the epoxy residue refers to a structure formed by an epoxy group, and means, for example, a structure similar to the structure obtained by the reaction of an acid group (carboxylic acid group or the like) with an epoxy group.

（ウレタン結合を有する化合物）
オリゴマーの例であるウレタン結合を有する化合物としては、例えば、下記式（Ａｃ−１）又は式（Ａｃ−２）で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式（Ａｃ−１）で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。 (Compound with urethane bond)
The compound having a urethane bond, which is an example of an oligomer, is preferably a compound having at least a group represented by the following formula (Ac-1) or formula (Ac-2), and is preferably a compound having at least a group represented by the following formula (Ac-1). ) Is more preferable.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（Ａｃ−１）及び式（Ａｃ−２）中、Ｌ１〜Ｌ４はそれぞれ独立に、炭素数２〜２０の二価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
Ｌ１〜Ｌ４としては、それぞれ独立に、炭素数２〜２０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２〜１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数４〜８のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐又は環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。 Wherein (Ac-1) and formula (Ac-2), to L 1 ~L 4 each independently represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, the wavy line part positions bonded with other structures Represents.
L 1 to L 4 are each independently preferably an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms. It is more preferable to have. The alkylene group may have a branched or ring structure, but is preferably a linear alkylene group.

式（Ａｃ−１）又は式（Ａｃ−２）における波線部はそれぞれ独立に、下記式（Ａｅ−１）又は式（Ａｅ−２）で表される基における波線部と直接結合することが好ましい。 It is preferable that the wavy line portion in the formula (Ac-1) or the formula (Ac-2) is independently bonded to the wavy line portion in the group represented by the following formula (Ae-1) or the formula (Ae-2). ..

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（Ａｅ−１）及び式（Ａｅ−２）中、Ｒはそれぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し、波線部分は式（Ａｃ−１）及び式（Ａｃ−２）における波線部との結合位置を表す。 In the formulas (Ae-1) and (Ae-2), R independently represents an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, and the wavy line portion is the wavy line portion in the formulas (Ac-1) and (Ac-2). Represents the connection position with.

また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。
例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。 Further, as the compound having a urethane bond, a compound in which a polymerizable group is introduced into a polyurethane obtained by a reaction of a polyisocyanate compound and a polyol compound by a polymer reaction may be used.
For example, a compound having a urethane bond may be obtained by reacting a polyurethane oligomer obtained by reacting a polyol compound having an acid group with a polyisocyanate compound with a compound having an epoxy group and a polymerizable group.

（エステル結合を有する化合物）
オリゴマーの例であるエステル結合を有する化合物における重合性基の数は、３以上であることが好ましく、６以上であることが更に好ましい。 (Compound with ester bond)
The number of polymerizable groups in the compound having an ester bond, which is an example of an oligomer, is preferably 3 or more, and more preferably 6 or more.

（エポキシ残基を有する化合物）
オリゴマーの例であるエポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、２〜６であることが好ましく、２〜３であることがより好ましい。
上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。 (Compound with epoxy residue)
As the compound having an epoxy residue which is an example of an oligomer, a compound containing a hydroxy group in the compound is preferable.
The number of polymerizable groups in the compound having an epoxy residue is preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 3.
The compound having the epoxy residue can be obtained, for example, by reacting a compound having an epoxy group with acrylic acid.

オリゴマーの具体例を下記表に示すが、本開示において用いられるオリゴマーはこれに限定されるものではない。
オリゴマーとしては、市販品を用いてもよく、ＵＡ５１０Ｈ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ（いずれも共栄社化学（株）製）、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ７６２０ＥＡ（いずれも日本合成化学工業（株）製）、Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８８５、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６、ＥＢＥＣＲＹＬ８６０（いずれもダイセルオルネクス（株）製）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。 Specific examples of oligomers are shown in the table below, but the oligomers used in the present disclosure are not limited thereto.
Commercially available products may be used as the oligomer, and UA510H, UA-306H, UA-306I, UA-306T (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B, UV-6300B, and UV7620EA (all synthesized by Nippon Synthetic Co., Ltd.). Examples include, U-15HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL885, EBECRYL800, EBECRYL3416, EBECRYL860 (all manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.). It is not limited to this.

オリゴマーの含有量は、耐薬品性、ＵＶ耐刷性、及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、３０質量％〜１００質量％であることが好ましく、５０質量％〜１００質量％であることがより好ましく、８０質量％〜１００質量％であることが更に好ましい。 The content of the oligomer is 30% by mass to 100% by mass with respect to the total mass of the polymerizable compound in the image recording layer from the viewpoint of improving chemical resistance, UV printing resistance, and suppression of on-machine developing residue. It is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 80% by mass to 100% by mass.

［低分子重合性化合物］
重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、２量体、３量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を３つ以上有する重合性化合物、及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。 [Small molecule polymerizable compound]
The polymerizable compound may further contain a polymerizable compound other than the above-mentioned oligomer.
The polymerizable compound other than the oligomer is preferably a small molecule polymerizable compound from the viewpoint of chemical resistance. The low molecular weight polymerizable compound may be in a chemical form such as a monomer, a dimer, a trimer, or a mixture thereof.
Further, as the low molecular weight polymerizable compound, at least one polymerization selected from the group consisting of a polymerizable compound having three or more ethylenically unsaturated groups and a polymerizable compound having an isocyanul ring structure from the viewpoint of chemical resistance. It is preferably a sex compound.

本開示において低分子重合性化合物とは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）５０以上６００未満の重合性化合物を表す。
低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、１００以上６００未満であることが好ましく、３００以上６００未満であることがより好ましく、４００以上６００未満であることが更に好ましい。 In the present disclosure, the low molecular weight polymerizable compound means a polymerizable compound having a molecular weight (in the case of having a molecular weight distribution, a weight average molecular weight) of 50 or more and less than 600.
The molecular weight of the low molecular weight polymerizable compound is preferably 100 or more and less than 600, and more preferably 300 or more and less than 600, from the viewpoint of excellent chemical resistance, UV printing resistance, and ability to suppress on-machine developing residue. It is preferably 400 or more and less than 600, more preferably.

重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合（２種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量）、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比（オリゴマー／低分子重合性化合物）は、質量基準で、１０／１〜１／１０であることが好ましく、１０／１〜３／７であることがより好ましく、１０／１〜７／３であることが更に好ましい。 When the polymerizable compound contains a low molecular weight polymerizable compound as a polymerizable compound other than the oligomer (the total amount when two or more kinds of low molecular weight polymerizable compounds are contained), chemical resistance, UV printing resistance and on-machine resistance. From the viewpoint of suppressing the development residue, the ratio of the oligomer to the low molecular weight polymerizable compound (oligoform / low molecular weight polymerizable compound) is preferably 10/1 to 1/10 on a mass basis. It is more preferably 1 to 3/7, and even more preferably 10/1 to 7/3.

低分子重合性化合物の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）及び、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類、又は、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
これらは、特表２００６−５０８３８０号公報、特開２００２−２８７３４４号公報、特開２００８−２５６８５０号公報、特開２００１−３４２２２２号公報、特開平９−１７９２９６号公報、特開平９−１７９２９７号公報、特開平９−１７９２９８号公報、特開２００４−２９４９３５号公報、特開２００６−２４３４９３号公報、特開２００２−２７５１２９号公報、特開２００３−６４１３０号公報、特開２００３−２８０１８７号公報、特開平１０−３３３３２１号公報等に記載されている。 Examples of the low molecular weight polymerizable compound include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof, which are preferable. , Esters of unsaturated carboxylic acid and polyhydric alcohol compound, and amides of unsaturated carboxylic acid and polyvalent amine compound are used. In addition, unsaturated carboxylic acid esters having nucleophilic substituents such as hydroxy group, amino group and mercapto group, or addition reaction products of amides with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxys, and monofunctional Alternatively, a dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols, and a halogen atom, Substituents of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a releasable substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also suitable. Further, as another example, it is also possible to use a compound group in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like.
These are JP-A-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. , JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in Kaihei 10-333321.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド（ＥＯ）変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。 Specific examples of the monomer of the ester of the polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, and propylene glycol diacrylate as acrylic acid esters. Trimethylol propan triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanurate ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer and the like. As methacrylic acid ester, tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] There are dimethylmethane, bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane and the like.
Specific examples of the amide monomer of the polyvalent amine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, 1,6-hexamethylenebisacrylamide, and 1,6-hexamethylenebismethacrylamide. Diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.

また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ｍ）で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（ＲＭ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＲＭ５）ＯＨ （Ｍ）
式（Ｍ）中、ＲＭ４及びＲＭ５はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。 Further, a urethane-based addition-polymerizable compound produced by using an addition reaction of isocyanate and a hydroxy group is also suitable, and specific examples thereof include, for example, 2 per molecule described in JP-A-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. And so on.
CH 2 = C (R M4) COOCH 2 CH (R M5) OH (M)
In formula (M), RM4 and RM5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

また、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報、特開２００３−３４４９９７号公報、特開２００６−６５２１０号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報、特開２０００−２５０２１１号公報、特開２００７−９４１３８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第７１５３６３２号明細書、特表平８−５０５９５８号公報、特開２００７−２９３２２１号公報、特開２００７−２９３２２３号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。 Further, the urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-A-2-32293, JP-A-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210, The ethylenes described in JP-A-58-49860, JP-A-56-17654, JP-A-62-39417, JP-A-62-39418, JP-A-2000-250211 and JP-A-2007-94138. Urethane compounds having an oxide-based skeleton, urethane compounds having a hydrophilic group described in US Pat. No. 7,153,632, JP-A-8-505598, JP-A-2007-293221, JP-A-2007-293223. Kind is also suitable.

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
中でも、画像記録層は、ＵＶ耐刷性の観点から、２種以上の重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物の含有量（重合性化合物を２種以上含む場合は、重合性化合物の総含有量）は、画像記録層の全質量に対して、５質量％〜７５質量％であることが好ましく、１０質量％〜７０質量％であることがより好ましく、１５質量％〜６０質量％であることが更に好ましい。 The details of the method of use such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount of addition can be arbitrarily set.
Above all, the image recording layer preferably contains two or more kinds of polymerizable compounds from the viewpoint of UV printing resistance.
The content of the polymerizable compound (when two or more kinds of the polymerizable compound are contained, the total content of the polymerizable compound) is preferably 5% by mass to 75% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. It is more preferably 10% by mass to 70% by mass, and further preferably 15% by mass to 60% by mass.

〔粒子〕
本開示における画像記録層は、現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。粒子としては、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。
中でも、粒子として、有機粒子を含むことが好ましく、樹脂粒子を含むことがより好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。 〔particle〕
The image recording layer in the present disclosure preferably contains particles from the viewpoint of developability and UV printing resistance. The particles may be inorganic particles or organic particles.
Among them, the particles preferably contain organic particles, and more preferably contain resin particles.
As the inorganic particles, known inorganic particles can be used, and metal oxide particles such as silica particles and titania particles can be preferably used.

［樹脂粒子］
樹脂粒子としては、例えば、付加重合型樹脂を含む粒子（即ち、付加重合型樹脂粒子）、重付加型樹脂を含む粒子（即ち、重付加型樹脂粒子）、重縮合型樹脂を含む粒子（即ち、重縮合型樹脂粒子）等が挙げられるが、中でも、付加重合型樹脂粒子、又は重付加型樹脂粒子が好ましい。
また、樹脂粒子としては、熱融着が可能となる観点から、熱可塑性樹脂を含む粒子（即ち、熱可塑性樹脂粒子）であってもよい。 [Resin particles]
Examples of the resin particles include particles containing an addition polymerization type resin (that is, addition polymerization type resin particles), particles containing a polyaddition type resin (that is, polyaddition type resin particles), and particles containing a polycondensation type resin (that is, that is). , Polycondensation type resin particles), etc., among which addition polymerization type resin particles or polyaddition type resin particles are preferable.
Further, the resin particles may be particles containing a thermoplastic resin (that is, thermoplastic resin particles) from the viewpoint of enabling heat fusion.

また、樹脂粒子は、マイクロカプセル、ミクロゲル（即ち、架橋樹脂粒子）等の形態であってもよい。 Further, the resin particles may be in the form of microcapsules, microgels (that is, crosslinked resin particles) and the like.

樹脂粒子としては、熱可塑性樹脂粒子、熱反応性樹脂粒子、重合性基を有する樹脂粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル（架橋樹脂粒子）よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有する樹脂粒子が好ましい。
特に好ましい実施形態では、樹脂粒子は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含む。このような樹脂粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。 The resin particles are selected from the group consisting of thermoplastic resin particles, heat-reactive resin particles, resin particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked resin particles). Is preferable. Of these, resin particles having a polymerizable group are preferable.
In a particularly preferred embodiment, the resin particles contain at least one ethylenically unsaturated group. The presence of such resin particles has the effect of improving the printing resistance of the exposed portion and the on-machine developability of the unexposed portion.

熱可塑性樹脂粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｎｏ．３３３０３、特開平９−１２３３８７号公報、同９−１３１８５０号公報、同９−１７１２４９号公報、同９−１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載の熱可塑性樹脂粒子が好ましい。 As the thermoplastic resin particles, Research Discovery No. 1 of January 1992. The thermoplastic resin particles described in 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931647 are preferable.

熱可塑性樹脂粒子を構成する樹脂の具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。 Specific examples of the resin constituting the thermoplastic resin particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, and a polyalkylene structure. Examples include homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof.

熱可塑性樹脂粒子としては、インキ着肉性及びＵＶ耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、ニトリル基を有する構成単位を有する樹脂を含むことが好ましい。 The thermoplastic resin particles preferably contain a structural unit formed of an aromatic vinyl compound and a resin having a structural unit having a nitrile group, from the viewpoint of ink penetration and UV printing resistance.

上記芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチル−β−メチルスチレン、α−メチルスチレン、及びｐ−メトキシ−β−メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
ビニルナフタレン化合物としては、１−ビニルナフタレン、メチル−１−ビニルナフタレン、β−メチル−１−ビニルナフタレン、４−メチル−１−ビニルナフタレン、４−メトキシ−１−ビニルナフタレン等が挙げられ、１−ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。 The aromatic vinyl compound may be any compound having a structure in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and examples thereof include a styrene compound and a vinylnaphthalene compound, and a styrene compound is preferable, and styrene is more preferable.
Examples of the styrene compound include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-methylstyrene and the like. Styrene is preferred.
Examples of the vinylnaphthalene compound include 1-vinylnaphthalene, methyl-1-vinylnaphthalene, β-methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methoxy-1-vinylnaphthalene and the like. -Vinylnaphthalene is preferred.

また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式Ａ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Further, as the structural unit formed of the aromatic vinyl compound, the structural unit represented by the following formula A1 is preferably mentioned.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式Ａ１中、ＲＡ１及びＲＡ２はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ａｒは芳香環基を表し、ＲＡ３は置換基を表し、ｎは０以上Ａｒの最大置換基数以下の整数を表す。
式Ａ１中、ＲＡ１及びＲＡ２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
式Ａ１中、Ａｒはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
式Ａ１中、ＲＡ３はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
式Ａ１中、ＲＡ３が複数存在する場合、複数のＲＡ３は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
式Ａ１中、ｎは０〜２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。 In the formula A1, R A1 and R A2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, Ar represents an aromatic ring group, R A3 represents a substituent, n represents 0 or Ar maximum number of substituents below integer Represents.
In the formula A1, RA1 and RA2 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and both are hydrogen atoms. Is more preferable.
In the formula A1, Ar is preferably a benzene ring or a naphthalene ring, and more preferably a benzene ring.
In the formula A1, RA3 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and it is a methyl group or a methoxy group. Is more preferable.
When a plurality of RA3s are present in the formula A1 , the plurality of RA3s may be the same or different from each other.
In the formula A1, n is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.

芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、後述するニトリル基を有する構成単位の含有量よりも多いことが好ましく、熱可塑性樹脂の全質量に対し、１５質量％〜８５質量％であることがより好ましく、３０質量％〜７０質量％であることが更に好ましい。 The content of the structural unit formed by the aromatic vinyl compound is preferably larger than the content of the structural unit having a nitrile group, which will be described later, from the viewpoint of ink inlayability, and is based on the total mass of the thermoplastic resin. It is more preferably 15% by mass to 85% by mass, and further preferably 30% by mass to 70% by mass.

ニトリル基を有する構成単位は、ニトリル基を有するモノマーを用いて導入されることが好ましい。
ニトリル基を有するモノマーとしては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
ニトリル基を有する構成単位としては、（メタ）アクリロニトリルにより形成される構成単位が好ましい。 The structural unit having a nitrile group is preferably introduced using a monomer having a nitrile group.
Examples of the monomer having a nitrile group include acrylonitrile compounds, and (meth) acrylonitrile is preferable.
As the structural unit having a nitrile group, a structural unit formed of (meth) acrylonitrile is preferable.

また、ニトリル基を有する構成単位としては、下記式Ｂ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Further, as the structural unit having a nitrile group, the structural unit represented by the following formula B1 is preferably mentioned.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式Ｂ１中、ＲＢ１は水素原子又はアルキル基を表す。
式Ｂ１中、ＲＢ１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。 In formula B1, RB1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
In the formula B1, RB1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and even more preferably a hydrogen atom.

ニトリル基を有する構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、上記芳香族ビニル化合物により形成されるよりも少ないことが好ましく、樹脂の全質量に対し、５５質量％〜９０質量％であることがより好ましく、６０質量％〜８５質量％であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a nitrile group is preferably smaller than that formed by the above aromatic vinyl compound from the viewpoint of ink inlayability, and is 55% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the resin. More preferably, it is more preferably 60% by mass to 85% by mass.

また、熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂が芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位を含む場合、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位の含有量比（芳香族ビニル化合物により形成される構成単位：ニトリル基を有する構成単位）としては、質量基準で５：５〜９：１であることが好ましく、より好ましくは、６：４〜８：２である。 When the resin contained in the thermoplastic resin particles contains a structural unit formed of an aromatic vinyl compound and a structural unit having a nitrile group, the structural unit formed of the aromatic vinyl compound and the structural unit having a nitrile group The content ratio (constituent unit formed of the aromatic vinyl compound: structural unit having a nitrile group) is preferably 5: 5 to 9: 1, more preferably 6: 4 to 8 on a mass basis. : 2.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、Ｎ−ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
Ｎ−ビニル複素環化合物としては、例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルフェノチアジン、Ｎ−ビニルコハク酸イミド、Ｎ−ビニルフタルイミド、Ｎ−ビニルカプロラクタム、及びＮ−ビニルイミダゾールが挙げられ、Ｎ−ビニルピロリドンが好ましい。 The resin contained in the thermoplastic resin particles preferably further has a structural unit formed of the N-vinyl heterocyclic compound from the viewpoint of UV printing resistance and chemical resistance.
Examples of the N-vinyl heterocyclic compound include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylsuccinateimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, and N-vinylpyrolactham. Vinyl imidazole is mentioned, and N-vinylpyrrolidone is preferable.

また、Ｎ−ビニル複素環化合物により形成される構成単位としては、下記式Ｃ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Further, as the structural unit formed by the N-vinyl heterocyclic compound, the structural unit represented by the following formula C1 is preferably mentioned.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式Ｃ１中、ＡｒＮは窒素原子を含む複素環構造を表し、ＡｒＮ中の窒素原子が＊で示した炭素原子と結合する。
式Ｃ１中、ＡｒＮにより表される複素環構造は、ピロリドン環、カルバゾール環、ピロール環、フェノチアジン環、スクシンイミド環、フタルイミド環、カプロラクタム環、及びイミダゾール環であることが好ましく、ピロリドン環であることがより好ましい。
また、ＡｒＮにより表される複素環構造は公知の置換基を有していてもよい。 In the formula C1, Ar N represents a heterocyclic structure containing a nitrogen atom, a nitrogen atom in Ar N is bonded to the carbon atoms indicated by *.
In the formula C1, the heterocyclic structure represented by Ar N is preferably a pyrrolidone ring, a carbazole ring, a pyrrole ring, a phenothiazine ring, a succinimide ring, a phthalimide ring, a caprolactam ring, and an imidazolid ring, and is preferably a pyrrolidone ring. Is more preferable.
Further, the heterocyclic structure represented by Ar N may have a known substituent.

Ｎ−ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、５質量％〜５０質量％であることが好ましく、１０質量％〜４０質量％であることがより好ましい。 The content of the structural unit formed by the N-vinyl heterocyclic compound is preferably 5% by mass to 50% by mass, and preferably 10% by mass to 40% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin. More preferred.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインキ着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
具体的には、熱可塑性樹脂における酸性基を有する構成単位の含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、０質量％であってもよい。
また、熱可塑性樹脂の酸価は、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。
本開示において、酸価はＪＩＳ Ｋ００７０：１９９２に準拠した測定法により求められる。 The resin contained in the thermoplastic resin particles may contain a structural unit having an acidic group, but from the viewpoint of on-machine developability and ink penetration property, it is preferable not to contain a structural unit having an acidic group. ..
Specifically, the content of the structural unit having an acidic group in the thermoplastic resin is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 5% by mass or less. preferable. The lower limit of the content is not particularly limited and may be 0% by mass.
The acid value of the thermoplastic resin is preferably 160 mgKOH / g or less, more preferably 80 mgKOH / g or less, and even more preferably 40 mgKOH / g or less. The lower limit of the acid value is not particularly limited, and may be 0 mgKOH / g.
In the present disclosure, the acid value is determined by a measuring method based on JIS K0070: 1992.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、インキ着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
疎水性基を含む構成単位としては、アルキル（メタ）アクリレート化合物、アリール（メタ）アクリレート化合物、又は、アラルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
上記アルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１〜１０であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。アルキル（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記アリール（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６〜２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。また、上記アリール基は公知の置換基を有していてもよい。アリール（メタ）アクリレート化合物としては、フェニル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。
上記アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１〜１０であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。また、上記アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６〜２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。アラルキル（メタ）アクリレート化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。 The resin contained in the thermoplastic resin particles may contain a structural unit containing a hydrophobic group from the viewpoint of ink inking property.
Examples of the hydrophobic group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and the like.
As the structural unit containing a hydrophobic group, a structural unit formed of an alkyl (meth) acrylate compound, an aryl (meth) acrylate compound, or an aralkyl (meth) acrylate compound is preferable, and the structural unit is formed of an alkyl (meth) acrylate compound. The structural unit is more preferable.
The alkyl group in the alkyl (meth) acrylate compound preferably has 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure. Examples of the alkyl (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and dicyclopentanyl (meth) acrylate. Can be mentioned.
The aryl group in the aryl (meth) acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a phenyl group. Moreover, the above-mentioned aryl group may have a known substituent. As the aryl (meth) acrylate compound, phenyl (meth) acrylate is preferably mentioned.
The alkyl group in the aralkyl (meth) acrylate compound preferably has 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure. The aryl group in the aralkyl (meth) acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably a phenyl group. Benzyl (meth) acrylate is preferably used as the aralkyl (meth) acrylate compound.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂における、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％〜５０質量％であることが好ましく、１０質量％〜３０質量％であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophobic group in the resin contained in the thermoplastic resin particles is preferably 5% by mass to 50% by mass, preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin. More preferably.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
上記親水性基としては、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。 The thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles preferably has a hydrophilic group from the viewpoint of UV printing resistance and on-machine developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a hydrophilic structure, and examples thereof include an acid group such as a carboxy group, a hydroxy group, an amino group, a nitrile group, and a polyalkylene oxide structure.
The hydrophilic group is preferably a group having a polyalkylene oxide structure, a group having a polyester structure, or a sulfonic acid group from the viewpoint of UV printing resistance and on-machine developability, and the polyalkylene oxide structure is preferably used. It is more preferably a group having or a sulfonic acid group, and further preferably a group having a polyalkylene oxide structure.

上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ（エチレンオキシド／プロピレンオキシド）構造であることが好ましい。
また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、２以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、５〜２００であることが更に好ましく、８〜１５０であることが特に好ましい。 The polyalkylene oxide structure is preferably a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a poly (ethylene oxide / propylene oxide) structure from the viewpoint of on-machine developability.
Further, from the viewpoint of on-machine developability, it is preferable to have a polypropylene oxide structure as the polyalkylene oxide structure among the above hydrophilic groups, and it is more preferable to have a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure.
From the viewpoint of on-machine developability, the number of alkylene oxide structures in the polyalkylene oxide structure is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, further preferably 5 to 200, and 8 to 200. It is particularly preferably 150.

また、機上現像性の観点から、上記親水性基として、上記式Ｚで表される基が好ましい。
熱可塑性樹脂が有する親水性基の中でも、下記式ＰＯにより表される基が好ましい。 Further, from the viewpoint of on-machine developability, the group represented by the above formula Z is preferable as the above hydrophilic group.
Among the hydrophilic groups of the thermoplastic resin, the group represented by the following formula PO is preferable.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式ＰＯ中、ＬＰはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、ＲＰは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１〜１００の整数を表す。
式ＰＯ中、ＬＰはそれぞれ独立に、エチレン基、１−メチルエチレン基又は２−メチルエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
式ＰＯ中、ＲＰは水素原子又は炭素数１〜１８のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
式ＰＯ中、ｎは１〜１０の整数が好ましく、１〜４の整数がより好ましい。 Wherein PO, L P each independently represent an alkylene group, R P represents a hydrogen atom or an alkyl group, n represents an integer of 1 to 100.
Wherein PO, L P is each independently represents preferably an ethylene group, a 1-methylethylene or 2-methylethylene group, more preferably an ethylene group.
Wherein PO, it preferably R P is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrogen atom or 1 to 4 carbon atoms It is more preferably an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
In the formula PO, n is preferably an integer of 1 to 10, and more preferably an integer of 1 to 4.

親水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂Ａの全質量に対し、５質量％〜６０質量％であることが好ましく、１０質量％〜３０質量％であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophilic group is preferably 5% by mass to 60% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin A.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、その他の構成単位を更に含有してもよい。その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
アクリルアミド化合物としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、などが挙げられる。 The resin contained in the thermoplastic resin particles may further contain other structural units. As the other structural unit, a structural unit other than the above-mentioned structural units can be contained without particular limitation, and examples thereof include a structural unit formed of an acrylamide compound, a vinyl ether compound, or the like.
Examples of acrylamide compounds include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, and N, N'-dimethyl. Examples thereof include (meth) acrylamide, N, N'-diethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-hydroxypropyl (meth) acrylamide, N-hydroxybutyl (meth) acrylamide and the like.
Examples of the vinyl ether compound include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether and 4-methylcyclohexyl. Methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl ether, tetrahydroflu Frill vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexylmethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether, chloroethoxyethyl vinyl ether, Examples thereof include phenylethyl vinyl ether and phenoxypolyethylene glycol vinyl ether.

熱可塑性樹脂における、その他の構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、５質量％〜５０質量％であることが好ましく、１０質量％〜３０質量％であることがより好ましい。 The content of the other structural units in the thermoplastic resin is preferably 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin.

熱可塑性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＵＶ耐刷性及びインキ着肉性の観点から、６０℃〜１５０℃であることが好ましく、８０℃〜１４０℃であることがより好ましく、９０℃〜１３０℃であることが更に好ましい。
熱可塑性樹脂粒子が２種以上の熱可塑性樹脂を含む場合には、後述するＦＯＸ式により求められた値を、熱可塑性樹脂のガラス転移温度という。 The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin is preferably 60 ° C. to 150 ° C., more preferably 80 ° C. to 140 ° C., and 90 ° C. from the viewpoint of UV printing resistance and ink inking property. It is more preferably ~ 130 ° C.
When the thermoplastic resin particles contain two or more kinds of thermoplastic resins, the value obtained by the FOX formula described later is called the glass transition temperature of the thermoplastic resin.

本開示において、樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を用いて測定することができる。
具体的な測定方法は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７年）又はＪＩＳ Ｋ ６２４０（２０１１年）に記載の方法に順じて行なう。本明細書におけるガラス転移温度は、補外ガラス転移開始温度（以下、Ｔｉｇと称することがある）を用いている。
ガラス転移温度の測定方法をより具体的に説明する。
ガラス転移温度を求める場合、予想される樹脂のＴｇより約５０℃低い温度にて装置が安定するまで保持した後、加熱速度：２０℃／分で、ガラス転移が終了した温度よりも約３０℃高い温度まで加熱し，示差熱分析（ＤＴＡ）曲線又はＤＳＣ曲線を作成する。
補外ガラス転移開始温度（Ｔｉｇ）、すなわち、本明細書におけるガラス転移温度Ｔｇは、ＤＴＡ曲線又はＤＳＣ曲線における低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線の勾配が最大になる点で引いた接線との交点の温度として求める。 In the present disclosure, the glass transition temperature of the resin can be measured using differential scanning calorimetry (DSC).
The specific measurement method is carried out according to the method described in JIS K 7121 (1987) or JIS K 6240 (2011). As the glass transition temperature in the present specification, the extrapolation glass transition start temperature (hereinafter, may be referred to as Tig) is used.
The method for measuring the glass transition temperature will be described more specifically.
When determining the glass transition temperature, after holding the device at a temperature about 50 ° C. lower than the expected Tg of the resin until the apparatus stabilizes, the heating rate is 20 ° C./min, which is about 30 ° C. than the temperature at which the glass transition is completed. Heat to a high temperature to create a differential thermal analysis (DTA) curve or DSC curve.
The extra glass transition start temperature (Tig), that is, the glass transition temperature Tg in the present specification is a straight line extending the baseline on the low temperature side of the DTA curve or DSC curve to the high temperature side, and the stepwise change portion of the glass transition. It is calculated as the temperature at the intersection with the tangent line drawn at the point where the slope of the curve is maximized.

熱可塑性樹脂粒子が２種以上の熱可塑性樹脂を含む場合、熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂のＴｇは下記のように求められる。
１つ目の熱可塑性樹脂のＴｇをＴｇ１（Ｋ）、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する１つ目の熱可塑性樹脂の質量分率をＷ１とし、２つ目のＴｇをＴｇ２（Ｋ）とし、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する２つ目の樹脂の質量分率をＷ２としたときに、熱可塑性樹脂粒子のＴｇ０（Ｋ）は、以下のＦＯＸ式にしたがって推定することが可能である。
ＦＯＸ式：１／Ｔｇ０＝（Ｗ１／Ｔｇ１）＋（Ｗ２／Ｔｇ２）
また、熱可塑性樹脂粒子が３種の樹脂を含むか、含まれる熱可塑性樹脂種の異なる３種の熱可塑性樹脂粒子が前処理液に含有される場合、熱可塑性樹脂粒子のＴｇは、ｎ個目の樹脂のＴｇをＴｇｎ（Ｋ）、熱可塑性樹脂粒子における樹脂成分の合計質量に対するｎ個目の樹脂の質量分率をＷｎとしたときに、上記と同様、以下の式にしたがって推定することが可能である。
ＦＯＸ式：１／Ｔｇ０＝（Ｗ１／Ｔｇ１）＋（Ｗ２／Ｔｇ２）＋（Ｗ３／Ｔｇ３）・・・＋（Ｗｎ／Ｔｇｎ） When the thermoplastic resin particles contain two or more kinds of thermoplastic resins, the Tg of the thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles is determined as follows.
The Tg of the first thermoplastic resin is Tg1 (K), the mass ratio of the first thermoplastic resin to the total mass of the thermoplastic resin components in the thermoplastic resin particles is W1, and the second Tg is Tg2. Let it be (K), and when the mass fraction of the second resin with respect to the total mass of the thermoplastic resin components in the thermoplastic resin particles is W2, the Tg0 (K) of the thermoplastic resin particles is expressed by the following FOX equation. Therefore, it can be estimated.
FOX formula: 1 / Tg0 = (W1 / Tg1) + (W2 / Tg2)
Further, when the thermoplastic resin particles contain three types of resin or three types of thermoplastic resin particles having different types of thermoplastic resin contained are contained in the pretreatment liquid, the Tg of the thermoplastic resin particles is n. When the Tg of the resin of the eye is Tgn (K) and the mass ratio of the nth resin to the total mass of the resin components in the thermoplastic resin particles is Wn, it is estimated according to the following formula in the same manner as above. Is possible.
FOX formula: 1 / Tg0 = (W1 / Tg1) + (W2 / Tg2) + (W3 / Tg3) ... + (Wn / Tgn)

本明細書において、Ｔｇは、示差走査熱量計（ＤＳＣ：Differential scanning calorimetry）により測定される値である。示差走査熱量計（ＤＳＣ）としては、例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー社のＥＸＳＴＡＲ６２２０を用いることができる。
In the present specification, Tg is a value measured by a differential scanning calorimetry (DSC). As the differential scanning calorimetry (DSC), for example, EXSTAR 6220 manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd. can be used.

熱反応性樹脂粒子としては、熱反応性基を有する樹脂粒子が挙げられる。熱反応性樹脂粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Examples of the heat-reactive resin particles include resin particles having a heat-reactive group. The heat-reactive resin particles form a hydrophobic region by cross-linking due to a heat reaction and changes in functional groups at that time.

熱反応性基を有する樹脂粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
上記熱反応性基を有する樹脂としては、付加重合型樹脂、重付加型樹脂、又は重縮合型樹脂であってもよいし、熱可塑性樹脂であってもよい。 The thermally reactive group in the resin particles having a thermally reactive group may be a functional group that undergoes any reaction as long as a chemical bond is formed, but a polymerizable group is preferable, and as an example, it is preferable. Eethylene unsaturated groups (eg, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable groups (eg, vinyl group, vinyloxy group, epoxy group, oxetanyl group, etc.), addition reaction Isocyanato group or a block body thereof, an epoxy group, a vinyloxy group and a functional group having an active hydrogen atom which is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), a carboxy group for performing a condensation reaction and a reaction. Preferred examples thereof include a hydroxy group or an amino group as a partner, an acid anhydride for carrying out a ring-opening addition reaction, and an amino group or a hydroxy group as a reaction partner.
The resin having the heat-reactive group may be an addition polymerization type resin, a polyaddition type resin, a polycondensation type resin, or a thermoplastic resin.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１−２７７７４０号公報、特開２００１−２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部（好ましくは疎水性化合物）を内包したものが好ましい。樹脂粒子としてマイクロカプセルを含有する画像記録層は、画像記録層の構成成分のうち疎水性成分（即ち、疎水性化合物）をマイクロカプセルに内包し、親水性成分（即ち、親水性化合物）をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
ミクロゲル（架橋樹脂粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分を含むマイクロカプセルを得るためには、公知の合成法が適用できる。 As the microcapsules, for example, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, those containing at least a part (preferably a hydrophobic compound) of the constituent components of the image recording layer are preferable. .. The image recording layer containing microcapsules as resin particles contains a hydrophobic component (that is, a hydrophobic compound) among the constituent components of the image recording layer in the microcapsules, and the hydrophilic component (that is, a hydrophilic compound) is micron. A configuration contained outside the capsule is a preferred embodiment.
The microgel (crosslinked resin particles) can contain a part of the constituent components of the image recording layer on at least one of the surface or the inside thereof. In particular, a reactive microgel having a polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the lithographic printing plate original plate and the printing durability of the obtained lithographic printing plate.
A known synthetic method can be applied to obtain microcapsules containing the components of the image recording layer.

ミクロゲル（架橋樹脂粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分を含むミクロゲルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
又はミクロゲル The microgel (crosslinked resin particles) can contain a part of the constituent components of the image recording layer on at least one of the surface or the inside thereof. In particular, a reactive microgel having a polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the lithographic printing plate original plate and the printing durability of the obtained lithographic printing plate.
A known synthetic method can be applied to obtain a microgel containing the constituents of the image recording layer.
Or microgel

樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる重付加型樹脂粒子が好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましい。
分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開２０１２−２０６４９５号公報の段落００３２〜００９５に記載の樹脂粒子が好ましく挙げられる。 The resin particles are an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate from the viewpoint of printing resistance, stain resistance and storage stability of the obtained flat plate printing plate. Polyadditive resin particles obtained by the reaction of a polyhydric isocyanate compound and a compound having active hydrogen are preferable.
As the polyvalent phenol compound, a compound having a plurality of benzene rings having a phenolic hydroxy group is preferable.
As the compound having active hydrogen, a polyol compound or a polyamine compound is preferable, a polyol compound is more preferable, and at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin and trimethylolpropane is further preferable.
Examples of the resin particles obtained by the reaction of the polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule, the polyhydric isocyanate compound which is an adduct of isophorone diisocyanate, and the compound having active hydrogen are JP-A-2012. The resin particles described in paragraphs 0032 to 0995 of JP-A-206495 are preferably mentioned.

更に、樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたニトリル基を有する構成ユニット、及び、ii）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型樹脂粒子が好ましい。
上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
上記ｉ）の構成ユニットの例としては、−［ＣＨ２ＣＨ（Ｃ≡Ｎ）］−又は−［ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ≡Ｎ）］−が好ましく挙げられる。
また、ｉ）の構成ユニットは、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、或いはこれらの組み合わせから容易に得られる。 Further, the resin particles have a hydrophobic main chain from the viewpoint of printing resistance and solvent resistance of the obtained flat plate printing plate, and i) have a nitrile group directly bonded to the hydrophobic main chain. Addition polymerization type resin particles containing both a constituent unit and ii) a constituent unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment are preferable.
Acrylic resin chains are preferably mentioned as the hydrophobic main chain.
As an example of the constituent unit of the above i), − [CH 2 CH (C≡N)] − or − [CH 2 C (CH 3 ) (C≡N)] − is preferably mentioned.
Further, the constituent unit of i) can be easily obtained from, for example, acrylonitrile or methacrylonitrile, or a combination thereof.

また、上記ii）の構成ユニットが有する、親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
上記アルキレンオキシド構造の繰り返し数は、１０〜１００であることが好ましく、２５〜７５であることがより好ましく、４０〜５０であることが更に好ましい。 Further, as the alkylene oxide in the hydrophilic polyalkylene oxide segment contained in the constituent unit of ii) above, ethylene oxide or propylene oxide is preferable, and ethylene oxide is more preferable.
The number of repetitions of the alkylene oxide structure is preferably 10 to 100, more preferably 25 to 75, and even more preferably 40 to 50.

疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型樹脂粒子としては、特表２００８−５０３３６５号公報の段落００３９〜００６８に記載のものが好ましく挙げられる。 Both a constituent unit having a hydrophobic backbone and i) having a pendant cyano group directly attached to the hydrophobic backbone and ii) a constituent unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment. As the addition polymerization type resin particles containing the above, those described in paragraphs 0039 to 0068 of JP-A-2008-503365 are preferably mentioned.

また、樹脂粒子は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
上記親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造を含む基等が挙げられる。
中でも、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を含む基が好ましく、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリエチレン／プロピレンオキシド構造を含む基がより好ましい。 Further, the resin particles preferably have a hydrophilic group from the viewpoint of UV printing resistance and on-machine developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a hydrophilic structure, and examples thereof include an acid group such as a carboxy group, a hydroxy group, an amino group, a nitrile group, and a group containing a polyalkylene oxide structure.
Among them, a group containing a polyalkylene oxide structure is preferable, and a group containing a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a polyethylene / propylene oxide structure is more preferable from the viewpoint of on-machine developability and UV printing resistance.

また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、上記ポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。 Further, from the viewpoint of on-machine developability and ability to suppress development residue during on-machine development, the polyalkylene oxide structure preferably has a polypropylene oxide structure, and may have a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure. More preferred.

また、上記親水性基としては、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、ニトリル基を有する構成単位、又は、下記式Ｚで表される基を含むことが好ましく、下記式（ＡＮ）で表される構成単位、又は、下記式Ｚで表される基を含むことがより好ましく、下記式Ｚで表される基を含むことが特に好ましい。 Further, the hydrophilic group preferably contains a structural unit having a nitrile group or a group represented by the following formula Z from the viewpoint of printing resistance, inking property and on-machine developability. It is more preferable to include a structural unit represented by the following formula (AN) or a group represented by the following formula Z, and it is particularly preferable to include a group represented by the following formula Z.

（式（ＡＮ）で表される構成単位）
本開示における樹脂粒子は、親水性基としてのニトリル基を有する、下記式（ＡＮ）で表される構成単位を有することが好ましい。 (Constituent unit represented by formula (AN))
The resin particles in the present disclosure preferably have a structural unit represented by the following formula (AN), which has a nitrile group as a hydrophilic group.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（ＡＮ）中、ＲＡＮは、水素原子又はメチル基を表す。 In formula (AN), RAN represents a hydrogen atom or a methyl group.

樹脂粒子に式（ＡＮ）で表される構成単位を導入するためには、ニトリル基を有するモノマーを用いて、シアノ基を含む構成単位を有する樹脂（付加重合型樹脂）を合成すればよい。
ニトリル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
上記式（ＡＮ）で表される構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、樹脂の全質量に対し、５質量％〜９０質量％であることが好ましく、２０質量％〜８０質量％であることがより好ましく、３０質量％〜６０質量％であることが特に好ましい。 In order to introduce the structural unit represented by the formula (AN) into the resin particles, a resin having a structural unit containing a cyano group (addition polymerization type resin) may be synthesized using a monomer having a nitrile group.
Preferred examples of the monomer having a nitrile group include (meth) acrylonitrile.
The content of the structural unit represented by the above formula (AN) is preferably 5% by mass to 90% by mass, and 20% by mass to 80% by mass, based on the total mass of the resin, from the viewpoint of UV printing resistance. It is more preferably%, and particularly preferably 30% by mass to 60% by mass.

（式Ｚで表される基）
本開示における樹脂粒子は、親水性基として、下記式Ｚで表される基を有することが好ましい。
＊−Ｑ−Ｗ−Ｙ 式Ｚ
式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
また、式Ｚ中に含まれる親水性構造のいずれかが、ポリアルキレンオキシド構造を含むことが好ましい。 (Group represented by formula Z)
The resin particles in the present disclosure preferably have a group represented by the following formula Z as a hydrophilic group.
* -Q-W-Y formula Z
In formula Z, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, and Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure or It represents a monovalent group having a hydrophobic structure, either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a binding site with another structure.
Further, it is preferable that any of the hydrophilic structures contained in the formula Z contains a polyalkylene oxide structure.

上記式ＺにおけるＱは、炭素数１〜２０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数１〜１０の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ＺにおけるＱは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを２以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。 Q in the above formula Z is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms.
Further, Q in the above formula Z is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group in which two or more of these are combined, and may be a phenylene group, an ester bond, or an amide bond. More preferred.

上記式ＺのＷにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に−ＣＨ２ＣＨ２ＮＲＷ−が結合した基であることが好ましい。なお、ＲＷは、水素原子又はアルキル基を表す。
上記式ＺのＷにおける疎水性構造を有する二価の基は、−ＲＷＡ−、−Ｏ−ＲＷＡ−Ｏ−、−ＲＷＮ−ＲＷＡ−ＮＲＷ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＲＷＡ−Ｏ−、又は、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＲＷＡ−Ｏ−であることが好ましい。なお、ＲＷＡはそれぞれ独立に、炭素数６〜１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数６〜１２０のハロアルキレン基、炭素数６〜１２０のアリーレン基、炭素数６〜１２０のアルカーリレン基（アルキルアリール基から水素原子を１つ除いた二価の基）、又は、炭素数６〜１２０のアラルキレン基を表す。 The divalent group having a hydrophilic structure in W of the above formula Z is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, and is a polyalkyleneoxy group or -CH 2 CH at one end of the polyalkyleneoxy group. It is preferably a group to which 2 NR W − is bound. Incidentally, R W represents a hydrogen atom or an alkyl group.
The divalent groups having a hydrophobic structure in W of the above formula Z are -R WA- , -O-R WA -O-, -R W N-R WA- NR W- , -OC (= O)-. It is preferably R WA- O- or -OC (= O) -R WA-O-. Note that each R WA independently, linear 6-120 carbon atoms, branched or cyclic alkylene group, haloalkylene group of 6 to 120 carbon atoms, an arylene group having 6 to 120 carbon atoms, Arukariren of 6 to 120 carbon atoms It represents a group (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group) or an aralkylene group having 6 to 120 carbon atoms.

上記式ＺのＹにおける親水性構造を有する一価の基は、−ＯＨ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に−ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＲＷ）−が結合した基であることが好ましい。中でも、親水性構造を有する一価の基としては、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に−ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＲＷ）−が結合した基が好ましい。
上記式ＺのＹにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数６〜１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数６〜１２０のハロアルキル基、炭素数６〜１２０のアリール基、炭素数６〜１２０のアルカーリル基（アルキルアリール基）、炭素数６〜１２０のアラルキル基、−ＯＲＷＢ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＷＢ、又は、−ＯＣ（＝Ｏ）ＲＷＢであることが好ましい。ＲＷＢは、炭素数６〜２０を有するアルキル基を表す。 The monovalent group having a hydrophilic structure in Y of the above formula Z is -OH, -C (= O) OH, a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end, or a hydrogen atom or an alkyl at the end. it is preferably bound group - at the other end of the polyalkyleneoxy group is a group -CH 2 CH 2 N (R W ). Among them, the monovalent group having a hydrophilic structure is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end, or a hydrogen atom or an alkyl group at the end. in polyalkyleneoxy groups other end to the -CH 2 CH 2 N (R W ) is - is bonded group.
The monovalent group having a hydrophobic structure in Y of the above formula Z is a linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkyl group having 6 to 120 carbon atoms, an aryl group having 6 to 120 carbon atoms, and the like. It may be an alcoholyl group (alkylaryl group) having 6 to 120 carbon atoms, an aralkyl group having 6 to 120 carbon atoms, -OR WB , -C (= O) OR WB , or -OC (= O) R WB. preferable. R WB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.

上記式Ｚで表される基を有する樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Ｗが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Ｑがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Ｗは、ポリアルキレンオキシ基であり、Ｙが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
なお、式Ｚで表される基は、樹脂粒子の分散性を高める分散性基として機能してもよい。 The resin particle having a group represented by the above formula Z is more preferably a divalent group in which W has a hydrophilic structure from the viewpoints of print resistance, carving property and on-machine developability. More preferably, Q is a phenylene group, an ester bond, or an amide bond, W is a polyalkyleneoxy group, and Y is a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end.
The group represented by the formula Z may function as a dispersibility group that enhances the dispersibility of the resin particles.

本開示における樹脂粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基（好ましくはエチレン性不飽和基）を有することが好ましく、特に、表面に重合性基を有する樹脂粒子を含むことがより好ましい。重合性基を有する樹脂粒子を用いることで、版飛び（好ましくはＵＶ版飛び）を抑制しやすくなり、耐刷性（好ましくはＵＶ耐刷性）も高められる。 The resin particles in the present disclosure preferably have a polymerizable group (preferably an ethylenically unsaturated group) from the viewpoint of printing resistance and on-machine developability, and in particular, the resin particles having a polymerizable group on the surface. It is more preferable to include. By using the resin particles having a polymerizable group, it becomes easy to suppress plate skipping (preferably UV plate skipping), and printing resistance (preferably UV printing resistance) is also enhanced.

本開示における樹脂粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有する樹脂粒子であることが好ましい。
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基（スチリル基）、（メタ）アクリロキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基がより好ましく、（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有する樹脂粒子を構成する樹脂は、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
なお、高分子反応により樹脂粒子の表面に重合性基を導入してもよい。 The resin particles in the present disclosure are preferably resin particles having a hydrophilic group and a polymerizable group from the viewpoint of printing resistance.
The polymerizable group may be a cationically polymerizable group or a radically polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, it is preferably a radically polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, an ethylenically unsaturated group is preferable, and a vinylphenyl group (styryl group), a (meth) acryloxy group, or a (meth) acryloxy group, or A (meth) acrylamide group is more preferred, and a (meth) acryloxy group is particularly preferred.
Further, the resin constituting the resin particles having a polymerizable group preferably has a structural unit having a polymerizable group.
A polymerizable group may be introduced on the surface of the resin particles by a polymer reaction.

また、樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する重付加型樹脂を含むことが好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する重付加型樹脂を含むことがより好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつ、ポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する重付加型樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。 Further, the resin particles preferably contain a heavy addition type resin having a urea bond from the viewpoints of printing resistance, inking property, on-machine developability, and ability to suppress development residue during on-machine development, and the following formula is used. It is more preferable to contain a polyadditive resin having a structure obtained by at least reacting the isocyanate compound represented by (Iso) with water, and at least reacting the isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water. It is particularly preferable that the polyoxyalkylene structure contains a polyadditive resin having a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure. Further, the particles containing the heavy addition type resin having a urea bond are preferably microgels.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（Ｉｓｏ）中、ｎは０〜１０の整数を表す。 In the formula (Iso), n represents an integer from 0 to 10.

上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、ｎ＝０、４，４−異性体を使用した例である。
下記に示すように、上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する重付加型樹脂が形成される。 An example of the reaction between the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) and water is the reaction shown below. The following example is an example using n = 0, 4,4-isomer.
As shown below, when the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) is reacted with water, a part of the isocyanate group is hydrolyzed by water to generate an amino group, and the generated amino group and isocyanate group React, forming urea bonds and forming dimers. Further, the following reaction is repeated to form a heavy addition type resin having a urea bond.

また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物（活性水素を有する化合物）を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造を、ウレア結合を有する重付加型樹脂に導入することもできる。
上記活性水素を有する化合物としては、既述の活性水素を有する化合物が好ましく挙げられる。 Further, in the following reaction, by adding a compound (compound having active hydrogen) reactive with an isocyanate group such as an alcohol compound or an amine compound, the structure of the alcohol compound, the amine compound or the like is added with a urea bond. It can also be introduced into the mold resin.
As the compound having active hydrogen, the above-mentioned compound having active hydrogen is preferably mentioned.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式（ＰＥＴＡ）で表される基を有することがより好ましい。 Further, the heavy addition type resin having a urea bond preferably has an ethylenically unsaturated group, and more preferably has a group represented by the following formula (PETA).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（ＰＥＴＡ）中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。 In the formula (PETA), the wavy line portion represents the connection position with other structures.

（樹脂粒子の合成）
樹脂粒子の合成法としては、特に制限はなく、既述した各種の樹脂にて粒子を合成しうる方法であればよい。樹脂粒子の合成法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、ソープフリー重合法、マイクロエマルション重合法等の、公知の樹脂粒子の合成法が挙げられる。
その他、樹脂粒子の合成には、公知のマイクロカプセルの合成法、ミクロゲル（架橋樹脂粒子）の合成法等を用いてもよい。 (Synthesis of resin particles)
The method for synthesizing the resin particles is not particularly limited, and any method may be used as long as the particles can be synthesized with the various resins described above. Examples of the method for synthesizing resin particles include known methods for synthesizing resin particles, such as an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a dispersion polymerization method, a soap-free polymerization method, and a microemulsion polymerization method.
In addition, a known method for synthesizing microcapsules, a method for synthesizing microgels (crosslinked resin particles), or the like may be used for synthesizing resin particles.

（粒子の平均粒径）
粒子の平均粒径は、０．０１μｍ〜３．０μｍが好ましく、０．０３μｍ〜２．０μｍがより好ましく、０．１０μｍ〜１．０μｍが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
粒子の平均粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子の円相当径とする。
なお、本開示における粒子の平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。 (Average particle size of particles)
The average particle size of the particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and even more preferably 0.10 μm to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained in this range.
The average particle size of the particles is measured by the light scattering method, or an electron micrograph of the particles is taken, and a total of 5,000 particle sizes are measured on the photographs to calculate the average value. do. For non-spherical particles, the diameter is equivalent to the circle of the particles on the photograph.
Unless otherwise specified, the average particle size of the particles in the present disclosure shall be the volume average particle size.

粒子（好ましくは樹脂粒子）は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 As the particles (preferably resin particles), only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

粒子（好ましくは樹脂粒子）の含有量は、現像性、及び、耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、５質量％〜９０質量％が好ましく、１０質量％〜９０質量％であることがより好ましく、２０質量％〜９０質量％であることが更に好ましく、５０質量％〜９０質量％であることが特に好ましい。 The content of the particles (preferably resin particles) is preferably 5% by mass to 90% by mass, preferably 10% by mass to 90% by mass, based on the total mass of the image recording layer from the viewpoint of developability and printing resistance. It is more preferably 20% by mass to 90% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 90% by mass.

〔その他の成分〕
本開示における画像記録層は、既述の成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、バインダーポリマー、発色剤、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の添加剤等が挙げられる。 [Other ingredients]
The image recording layer in the present disclosure may contain other components other than the above-mentioned components.
Examples of other components include binder polymers, color formers, chain transfer agents, small molecule hydrophilic compounds, fat sensitizers, and other additives.

［バインダーポリマー］
画像記録層は、必要に応じて、バインダーポリマーを含んでいてもよい、
ここで、バインダーポリマーは、樹脂粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないポリマーを指す。
また、バインダーポリマーは、感脂化剤におけるアンモニウム塩含有ポリマー、及び界面活性剤として用いるポリマーを除く。 [Binder polymer]
The image recording layer may optionally contain a binder polymer.
Here, the binder polymer refers to a polymer other than resin particles, that is, a polymer that is not in the form of particles.
Further, the binder polymer excludes the ammonium salt-containing polymer in the fat-sensing agent and the polymer used as a surfactant.

バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマー（例えば、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂等）を好適に使用することができる。
一例として、機上現像型平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー（以下、機上現像用バインダーポリマーともいう）について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ（アルキレンオキシド）を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ（アルキレンオキシド）含有繰返し単位で構成されるブロックと（アルキレンオキシド）非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
ポリ（アルキレンオキシド）部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に（メタ）アクリル樹脂が好ましい。 As the binder polymer, a known binder polymer (for example, (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, etc.) used for the image recording layer of the lithographic printing plate original plate can be preferably used.
As an example, a binder polymer used for the machine-developed lithographic printing plate original plate (hereinafter, also referred to as a binder polymer for machine-developing) will be described in detail.
As the binder polymer for on-machine development, a binder polymer having an alkylene oxide chain is preferable. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly (alkylene oxide) moiety in the main chain or the side chain. Further, it may be a graft polymer having a poly (alkylene oxide) in a side chain, or a block copolymer of a block composed of a poly (alkylene oxide) -containing repeating unit and a block composed of a (alkylene oxide) -free repeating unit.
When the main chain has a poly (alkylene oxide) moiety, a polyurethane resin is preferable.
When the main chain polymer has a poly (alkylene oxide) moiety in the side chain, the polymer of the main chain is (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolak type. Examples thereof include phenol resin, polyester resin, synthetic rubber and natural rubber, and (meth) acrylic resin is particularly preferable.

また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物（以下、星型高分子化合物ともいう。）が挙げられる。
星型高分子化合物としては、例えば、特開２０１２−１４８５５５号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。 Further, as another preferable example of the binder polymer, a high molecular weight polymer chain having a polyfunctional thiol having 6 or more functionalities or 10 functionalities as a nucleus and being bonded to the nucleus by a sulfide bond, and the polymer chain having a polymerizable group. Molecular compounds (hereinafter, also referred to as star-shaped polymer compounds) can be mentioned.
As the star-shaped polymer compound, for example, the compound described in JP2012-148555 can be preferably used.

星型高分子化合物は、特開２００８−１９５０１８号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。星型高分子化合物が有する重合性基によって星型高分子化合物の分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基（スチリル基）などのエチレン性不飽和基、エポキシ基等が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、ビニルフェニル基（スチリル基）が重合反応性の観点でより好ましく、（メタ）アクリル基が特に好ましい。これらの基は、高分子反応、又は、共重合によってポリマーに導入することができる。具体的には、例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。 The star-shaped polymer compound contains a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond for improving the film strength of the image portion as described in JP-A-2008-195018, with a main chain or a side chain, preferably a side chain. Examples include those held in the chain. The polymerizable group of the star-shaped polymer compound forms crosslinks between the molecules of the star-shaped polymer compound, and curing is promoted.
As the polymerizable group, an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acrylic group, a vinyl group, an allyl group, a vinylphenyl group (styryl group), an epoxy group and the like are preferable, and a (meth) acrylic group, a vinyl group and a vinylphenyl are preferable. A group (styryl group) is more preferable from the viewpoint of polymerization reactivity, and a (meth) acrylic group is particularly preferable. These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. Specifically, for example, a reaction between a polymer having a carboxy group in the side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used.

バインダーポリマーの分子量は、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００〜３００，０００であることが更に好ましい。 The molecular weight of the binder polymer is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and 10,000 to 300,000 in terms of polystyrene by the GPC method. It is more preferable to have.

バインダーポリマーとしては、必要に応じて、特開２００８−１９５０１８号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。 As the binder polymer, a hydrophilic polymer such as polyacrylic acid or polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used in combination, if necessary. In addition, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.

バインダーポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 The binder polymer may be used alone or in combination of two or more.

バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、１質量％〜９０質量％であることが好ましく、５質量％〜８０質量％であることがより好ましい。 The binder polymer can be contained in the image recording layer in an arbitrary amount, but the content of the binder polymer is preferably 1% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. More preferably, it is 5% by mass to 80% by mass.

［発色剤］
本開示における画像記録層は、発色剤を含むことが好ましく、酸発色剤を含むことがより好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。 [Color former]
The image recording layer in the present disclosure preferably contains a color former, and more preferably contains an acid color former. Further, the color former preferably contains a leuco compound.
The "color former" used in the present disclosure means a compound having a property of developing or decoloring a color or decoloring by a stimulus such as light or acid and changing the color of the image recording layer, and the "acid color former" is used. It means a compound having a property of developing or decoloring and changing the color of an image recording layer by heating in a state of receiving an electron-accepting compound (for example, a proton such as an acid). The acid color former has a partial skeleton such as lactone, lactam, salton, spiropyrane, ester, and amide, and when it comes into contact with an electron-accepting compound, these partial skeletons are rapidly ring-opened or cleaved. Compounds are preferred.

このような酸発色剤の例としては、３，３−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）−６−ジメチルアミノフタリド（“クリスタルバイオレットラクトン”と称される。）、３，３−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）フタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−６−ジメチルアミノフタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（１，２−ジメチルインドール−３−イル）フタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（１，２−ジメチルインドール−３−イル）−５−ジメチルアミノフタリド、３，３−ビス（１，２−ジメチルインドール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、３，３−ビス（９−エチルカルバゾール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、３，３−ビス（２−フェニルインドール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、３−（４−ジメチルアミノフェニル）−３−（１−メチルピロール−３−イル）−６−ジメチルアミノフタリド、 Examples of such acid color formers are 3,3-bis (4-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide (referred to as "crystal violet lactone") and 3,3-bis (4). -Dimethylaminophenyl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (4-diethylamino-2-methylphenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- ( 1,2-dimethylindole-3-yl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (2-methylindole-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindole-) 3-yl) -5-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindole-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (9-ethylcarbazole-3-3) Il) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (2-phenylindole-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (1-methylpyrrole) -3-yl) -6-dimethylaminophthalide,

３，３−ビス〔１，１−ビス（４−ジメチルアミノフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラクロロフタリド、３，３−ビス〔１，１−ビス（４−ピロリジノフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラブロモフタリド、３，３−ビス〔１−（４−ジメチルアミノフェニル）−１−（４−メトキシフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラクロロフタリド、３，３−ビス〔１−（４−ピロリジノフェニル）−１−（４−メトキシフェニル）エチレン−２−イル〕−４，５，６，７−テトラクロロフタリド、３−〔１，１−ジ（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）エチレン−２−イル〕−３−（４−ジエチルアミノフェニル）フタリド、３−〔１，１−ジ（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）エチレン−２−イル〕−３−（４−Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノフェニル）フタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−フタリド、３，３−ビス（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−フタリド、３−（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−フタリド等のフタリド類、 3,3-bis [1,1-bis (4-dimethylaminophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1,1-bis (1,1-bis) 4-Pyrrolidinophenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrabromophthalide, 3,3-bis [1- (4-dimethylaminophenyl) -1- (4-methoxyphenyl) Ethyl-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis [1- (4-pyrrolidinophenyl) -1- (4-methoxyphenyl) ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methylindole-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-diethylaminophenyl) ) Phenylide, 3- [1,1-di (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) ethylene-2-yl] -3- (4-N-ethyl-N-phenylaminophenyl) phthalide, 3 -(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindol-3-yl) -phthalide, 3,3-bis (1-n-octyl-2-methylindol-) Phenylides such as 3-yl) -phthalide, 3- (2-methyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindole-3-yl) -phthalide,

４，４−ビス−ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、Ｎ−ハロフェニル−ロイコオーラミン、Ｎ−２，４，５−トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン−Ｂ−アニリノラクタム、ローダミン−（４−ニトロアニリノ）ラクタム、ローダミン−Ｂ−（４−クロロアニリノ）ラクタム、３，７−ビス（ジエチルアミノ）−１０−ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、４ーニトロベンゾイルメチレンブルー、 4,4-Bis-dimethylaminobenzhydrinbenzyl ether, N-halophenyl-leucooramine, N-2,4,5-trichlorophenylleucooramine, rhodamine-B-anilinolactam, rhodamine- (4-nitroanilino) ) Lactam, Rhodamine-B- (4-chloroanilino) lactam, 3,7-bis (diethylamino) -10-benzoylphenoxazine, benzoyl leucomethylene blue, 4-nitrobenzoyl methylene blue,

３，６−ジメトキシフルオラン、３−ジメチルアミノ−７−メトキシフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メトキシフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−メトキシフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−クロロフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−クロロフルオラン、３−ジエチルアミノ−６，７−ジメチルフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−７−メチルフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−ジベンジルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−オクチルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−ジ−ｎ−ヘキシルアミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（２’−フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（３’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（２’，３’−ジクロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−７−（３’−トリフルオロメチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−７−（２’−フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、 3,6-dimethoxyfluorane, 3-dimethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-6-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-chlorofluorine, 3 -Diethylamino-6-methyl-7-chlorofluorine, 3-diethylamino-6,7-dimethylfluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-7-methylfluorane, 3-diethylamino-7- Dibenzylaminofluorane, 3-diethylamino-7-octylaminofluorane, 3-diethylamino-7-di-n-hexylaminofluorane, 3-diethylamino-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-7- ( 2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (3'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (2', 3) '-Dichlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-7- (3'-trifluoromethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-7- (2'-fluorophenylamino) fluorane, 3-di- n-Butylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane,

３−Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノ−７−（２’−クロロフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−６−クロロ−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−クロロ−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メトキシ−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−エトキシ−７−アニリノフルオラン、３−ピロリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ピペリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−モルホリノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジメチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジ−ｎ−ペンチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−イソブチル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−イソブチル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ｎ−オクチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、 3-Nn-hexyl-N-ethylamino-7- (2'-chlorophenylamino) fluorane, 3-diethylamino-6-chloro-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6- Chloro-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methoxy-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-ethoxy-7-anilinofluorane, 3-pyrrolidino-6- Methyl-7-anilinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-morpholino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-dimethylamino-6-methyl-7- Anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-pentylamino-6 -Methyl-7-anilinofluorane, 3-N-ethyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-methylamino-6-methyl-7 -Anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-butyl-N-methylamino-6-methyl-7-ani Renofluorane, 3-N-n-butyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-n- Hexyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn- Propylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-hexylamino -6-Methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-octylamino-6-methyl-7-anilinofluorane,

３−Ｎ−（２’−メトキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−メトキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−メトキシエチル）−Ｎ−イソブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−エトキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−エトキシエチル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−メトキシプロピル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−メトキシプロピル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−エトキシプロピル）−Ｎ−メチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（３’−エトキシプロピル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（２’−テトラヒドロフルフリル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−Ｎ−（４’−メチルフェニル）−Ｎ−エチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−エチル−７−アニリノフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−（３’−メチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−（２’，６’−ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−６−メチル−７−（２’，６’−ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３−ジ−ｎ−ブチルアミノ−７−（２’，６’−ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、２，２−ビス〔４’−（３−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ−６−メチルフルオラン）−７−イルアミノフェニル〕プロパン、３−〔４’−（４−フェニルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ−６−メチル−７−クロロフルオラン、３−〔４’−（ジメチルアミノフェニル）〕アミノ−５，７−ジメチルフルオラン等のフルオラン類、 3-N- (2'-methoxyethyl) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-methoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7 -Anilinofluorane, 3-N- (2'-methoxyethyl) -N-isobutylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-ethoxyethyl) -N-methylamino -6-Methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (2'-ethoxyethyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-methoxypropyl) ) -N-Methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-methoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-ethoxypropyl) -N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3'-ethoxypropyl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinoflu Olan, 3-N- (2'-tetrahydrofurfuryl) -N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N- (4'-methylphenyl) -N-ethylamino-6- Methyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-ethyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7- (3'-methylphenylamino) fluorane, 3-diethylamino-6- Methyl-7- (2', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7- (2', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 3-di-n -Butylamino-7- (2', 6'-dimethylphenylamino) fluorane, 2,2-bis [4'-(3-N-cyclohexyl-N-methylamino-6-methylfluorane) -7-yl Aminophenyl] Propane, 3- [4'-(4-phenylaminophenyl) Aminophenyl] Amino-6-Methyl-7-Chlorofluorane, 3- [4'-(Dimethylaminophenyl)] Amino-5,7 -Fluorans such as dimethylfluorane,

３−（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−ｎ−プロポキシカルボニルアミノ−４−ジ−ｎ−プロピルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−メチルアミノ−４−ジ−ｎ−プロピルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−メチル−４−ジｎ−ヘキシルアミノフェニル）−３−（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−４，７−ジアザフタリド、３，３−ビス（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−４−アザフタリド、３，３−ビス（１−ｎ−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−オクチル−２−メチルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−ヘキシルオキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−エトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−フェニルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−（２−ブトキシ−４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−フェニルインドール−３−イル）−４又は７−アザフタリド、３−メチル−スピロ−ジナフトピラン、３−エチル−スピロ−ジナフトピラン、３−フェニル−スピロ−ジナフトピラン、３−ベンジル−スピロ−ジナフトピラン、３−メチル−ナフト−（３−メトキシベンゾ）スピロピラン、３−プロピル−スピロ−ジベンゾピラン−３，６−ビス（ジメチルアミノ）フルオレン−９−スピロ−３’−（６’−ジメチルアミノ）フタリド、３，６−ビス（ジエチルアミノ）フルオレン−９−スピロ−３’−（６’−ジメチルアミノ）フタリド等のフタリド類、 3- (2-Methyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-n-propoxycarbonylamino-4-di-n) −propylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methylamino-4-di-n-propylaminophenyl) -3- (1) -Ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-methyl-4-din-hexylaminophenyl) -3- (1-n-octyl-2-methylindol-3-) Il) -4,7-diazaphthalide, 3,3-bis (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -4-azaphthalide, 3,3-bis (1-n-octyl-2-methylindole-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindole-3-yl) -4-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) ) -3- (1-octyl-2-methylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindole-) 3-Il) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-hexyloxy-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-Ethyl-4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-phenylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3- (2-butoxy-4-diethylaminophenyl) -3- ( 1-Ethyl-2-phenylindole-3-yl) -4 or 7-azaphthalide, 3-methyl-spiro-dinaftopyrane, 3-ethyl-spiro-dinaftopyrane, 3-phenyl-spiro-dinaftopyrane, 3-benzyl-spiro- Dinaftpyran, 3-methyl-naphtho- (3-methoxybenzo) spiropirane, 3-propyl-spiro-dibenzopyran-3,6-bis (dimethylamino) fluorene-9-spiryl-3'-(6'-dimethylamino) Phenylides, phthalides such as 3,6-bis (diethylamino) fluorene-9-spiro-3'-(6'-dimethylamino) phthalide,

その他、２’−アニリノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−イソペンチル）アミノ−３’−メチルスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン−３−オン、２’−アニリノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メチルフェニル））アミノ−３’−メチルスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン、３’−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−６’−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オン、２’−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル）アミノ−６’−（Ｎ−エチル−Ｎ−（４−メチルフェニル））アミノスピロ［イソベンゾフラン−１（３Ｈ），９’−（９Ｈ）キサンテン］−３−オンなどが挙げられる。 In addition, 2'-anilino-6'-(N-ethyl-N-isopentyl) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthen-3-one, 2'-anilino -6'-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthene] -3-one, 3'-N , N-dibenzylamino-6'-N, N-diethylaminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthene] -3-one, 2'-(N-methyl-N-phenyl) Amino-6'-(N-ethyl-N- (4-methylphenyl)) aminospiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthene] -3-one and the like can be mentioned.

中でも、本開示に用いられる発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。 Among them, the color former used in the present disclosure is preferably at least one compound selected from the group consisting of a spiropyran compound, a spirooxazine compound, a spirollactone compound, and a spirolactam compound from the viewpoint of color development. ..
The hue of the dye after color development is preferably green, blue or black from the viewpoint of visibility.

また、上記酸発色剤は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、上記ロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−３）のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式（Ｌｅ−２）で表される化合物であることがより好ましい。 Further, the acid color former is preferably a leuco dye from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
The leuco dye is not particularly limited as long as it has a leuco structure, but preferably has a spiro structure, and more preferably has a spirolactone ring structure.
Further, the leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluorane structure from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
Further, the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-1) to (Le-3) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is more preferable that the compound is represented by the following formula (Le-2).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ５〜Ｘ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１〜Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 Wherein (Le-1) ~ formula (Le-3), in each ERG independently represents an electron-donating group, the X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , X 5 to X 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and when Y 1 is N, If X 1 is absent and Y 2 is N, then X 4 is absent, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 are independent hydrogen atoms. , Represents an alkyl group or an aryl group.

式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−３）のＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、アリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、又は、ジアリールアミノ基であることが更に好ましく、アリールアミノ基、又は、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−３）におけるＸ１〜Ｘ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式（Ｌｅ−２）又は式（Ｌｅ−３）におけるＸ５〜Ｘ１０はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−３）におけるＹ１及びＹ２は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１方がＣであることが好ましく、Ｙ１及びＹ２の両方がＣであることがより好ましい。
式（Ｌｅ−３）におけるＲａ１は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ−１）におけるＲｂ１〜Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。 The electron donating groups in the ERGs of the formulas (Le-1) to (Le-3) include amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, and dialkylaminos from the viewpoint of color development and visibility of the exposed area. A group, a monoalkyl monoarylamino group, a diarylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an alkyl group is preferable, and an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, or a monoalkyl monoarylamino group. , A diallylamino group, an alkoxy group, or an aryloxy group, more preferably an arylamino group, a monoalkyl monoarylamino group, or a diarylamino group, further preferably an arylamino group or a monoalkyl group. It is particularly preferably a monoarylamino group.
Formula (Le-1) ~ Formula X 1 to X 4 are each independently in (Le-3), chromogenic, and, from the viewpoint of visibility of the exposure unit, a hydrogen atom, or, be a chlorine atom preferably , A hydrogen atom is more preferable.
X 5 to X 10 in the formula (Le-2) or the formula (Le-3) are independently, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed part, hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, aryl group, respectively. Amino group, alkylamino group, arylamino group, dialkylamino group, monoalkyl monoarylamino group, diarylamino group, hydroxy group, alkoxy group, allyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group or cyano group It is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group. , A hydrogen atom is particularly preferable.
It is preferable that at least one of Y 1 and Y 2 in the formulas (Le-1) to (Le-3) is C from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, and Y 1 and Y are Y. It is more preferable that both of 2 are C.
Ra 1 in the formula (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and a methoxy group from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. Is particularly preferable.
Rb 1 to Rb 4 in the formula (Le-1) are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably an alkyl group, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. , Methyl group is particularly preferable.

また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式（Ｌｅ−４）〜式（Ｌｅ−６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式（Ｌｅ−５）で表される化合物であることが更に好ましい。 Further, the leuco dye having the phthalide structure or the fluorane structure has the following formulas (Le-4) to the following formulas (Le-4) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is more preferably a compound represented by any of Le-6), and further preferably a compound represented by the following formula (Le-5).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（Ｌｅ−４）〜式（Ｌｅ−６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１〜Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 Wherein (Le-4) ~ formula (Le-6), in each ERG independently represents an electron-donating group, the X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group , Y 1 and Y 2 independently represent C or N, and if Y 1 is N, then X 1 does not exist, and if Y 2 is N, then X 4 does not exist and Ra. 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

式（Ｌｅ−４）〜式（Ｌｅ−６）におけるＥＲＧ、Ｘ１〜Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１〜Ｒｂ４はそれぞれ、式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−３）におけるＥＲＧ、Ｘ１〜Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１〜Ｒｂ４と同義であり、好ましい態様も同様である。 ERG in formula (Le-4) ~ formula (Le-6), X 1 ~X 4, Y 1, Y 2, Ra 1, and, Rb 1 ~Rb 4 each has the formula (Le-1) ~ formula ( le-3) ERG in, X 1 ~X 4, Y 1 , Y 2, Ra 1 and have the same meanings as Rb 1 ~Rb 4, preferable embodiments thereof are also the same.

更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式（Ｌｅ−７）〜式（Ｌｅ−９）のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式（Ｌｅ−８）で表される化合物であることが特に好ましい。 Further, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, the leuco dye having the phthalide structure or the fluorane structure is described in the following formulas (Le-7) to (Le-7) to (Le-7). It is more preferably a compound represented by any of Le-9), and particularly preferably a compound represented by the following formula (Le-8).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

式（Ｌｅ−７）〜式（Ｌｅ−９）中、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１〜Ｒａ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１〜Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、アリール基を表す。 Wherein (Le-7) ~ formula (Le-9), the X 1 to X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group, Y 1 and Y 2 are each independently, C or Representing N, when Y 1 is N, X 1 does not exist, when Y 2 is N, X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 independently represent a hydrogen atom and an alkyl. Represents a group or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.

式（Ｌｅ−７）〜式（Ｌｅ−９）におけるＸ１〜Ｘ４、Ｙ１及びＹ２は、式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−３）におけるＸ１〜Ｘ４、Ｙ１及びＹ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（Ｌｅ−７）におけるＲａ１〜Ｒａ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ−７）〜式（Ｌｅ−９）におけるＲｂ１〜Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、水素原子、又は、メチル基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ−８）におけるＲｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式（Ｌｅ−８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｘ１〜Ｘ４が水素原子であり、Ｙ１及びＹ２がＣであることが好ましい。
更に、式（Ｌｅ−８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｒｂ１及びＲｂ２がそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましい。 X 1 ~X 4, Y 1 and Y 2 in Formula (Le-7) to Formula (Le-9) has the formula (Le-1) X 1 ~X 4 in ~ formula (Le-3), Y 1 and It has the same meaning as Y 2 , and the preferred embodiment is also the same.
Ra 1 to Ra 4 in the formula (Le-7) are each independently preferably an alkyl group or an alkoxy group, and more preferably an alkoxy group, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. , A methoxy group is particularly preferred.
Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-7) to (Le-9) are independently each of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkyl group or an alkoxy from the viewpoint of color development and visibility of the exposed part. The group is preferably an aryl group substituted, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Each of Rc 1 and Rc 2 in the formula (Le-8) is preferably a phenyl group or an alkylphenyl group, and is preferably a phenyl group, independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. Is more preferable.
Further, in the formula (Le-8), from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, it is preferable that X 1 to X 4 are hydrogen atoms and Y 1 and Y 2 are C.
Further, in the formula (Le-8), from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, Rb 1 and Rb 2 are independently substituted with hydrogen atoms, alkyl groups, alkyl groups or alkoxy groups, respectively. It is preferably an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−９）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−９）におけるアルキル基の炭素数は、１〜２０であることが好ましく、１〜８であることがより好ましく、１〜４であることが更に好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−９）におけるアリール基の炭素数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましく、６〜８であることが特に好ましい。 The alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) may be linear, have a branch, or have a ring structure.
Further, the number of carbon atoms of the alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, and further preferably 1 to 4. It is preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
The number of carbon atoms of the aryl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, and particularly preferably 6 to 8.

また、式（Ｌｅ−１）〜式（Ｌｅ−９）における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。 Further, each group such as a monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, a dialkylanilino group, an alkylamino group and an alkoxy group in the formulas (Le-1) to (Le-9) has a substituent. May be. Substituents include alkyl groups, aryl groups, halogen atoms, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, dialkylamino groups, monoalkyl monoarylamino groups, diarylamino groups, hydroxy groups, alkoxy groups, allyloxy groups and acyl groups. Examples thereof include a group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group and a cyano group. Further, these substituents may be further substituted with these substituents.

好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。 Examples of the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure that are preferably used include the following compounds.

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酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ−２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ−７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ−３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ−１０４６、Ｈ−２１１４（以上、福井山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ−ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ−ＤＣＦ、ＰＩＮＫ−ＤＣＦ、ＲＥＤ−ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ−ＤＣＦ、ＴＨ−１０７（以上、保土ヶ谷化学（株）製）、ＯＤＢ、ＯＤＢ−２、ＯＤＢ−４、ＯＤＢ−２５０、ＯＤＢ−ＢｌａｃｋＸＶ、Ｂｌｕｅ−６３、Ｂｌｕｅ−５０２、ＧＮ−１６９、ＧＮ−２、Ｇｒｅｅｎ−１１８、Ｒｅｄ−４０、Ｒｅｄ−８（以上、山本化成（株）製）、クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ−２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ−７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、Ｈ−３０３５、ＡＴＰ、Ｈ−１０４６、Ｈ−２１１４、ＧＲＥＥＮ−ＤＣＦ、Ｂｌｕｅ−６３、ＧＮ−１６９、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。 It is also possible to use commercially available products as the acid color former, ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H. -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (all manufactured by Fukui Yamada Chemical Industry Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF , TH-107 (all manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green -118, Red-40, Red-8 (all manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.), crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and the like can be mentioned. Among these commercially available products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63. , GN-169 and crystal violet lactone are preferable because the film to be formed has a good visible light absorption rate.

好適に用いられるロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、以下の化合物が挙げられる。 Examples of the leuco dye preferably used include the following compounds from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.

Figure 2021133666
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これらの発色剤は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５質量％〜１０質量％であることが好ましく、１質量％〜５質量％であることがより好ましい。 These color formers may be used alone or in combination of two or more components.
The content of the color former is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, more preferably 1% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

［連鎖移動剤］
本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点（揮発し難さ）の観点で炭素数７以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物（芳香族チオール化合物）が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。 [Chain transfer agent]
The image recording layer used in the present disclosure may contain a chain transfer agent. The chain transfer agent contributes to the improvement of printing durability in the lithographic printing plate.
As the chain transfer agent, a thiol compound is preferable, a thiol having 7 or more carbon atoms is more preferable from the viewpoint of boiling point (difficulty in volatilization), and a compound having a mercapto group on the aromatic ring (aromatic thiol compound) is further preferable. The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.

連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of the chain transfer agent include the following compounds.

Figure 2021133666
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連鎖移動剤は、１種のみを添加しても、２種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、０．０５質量％〜４０質量％がより好ましく、０．１質量％〜３０質量％が更に好ましい。 As the chain transfer agent, only one type may be added, or two or more types may be used in combination.
The content of the chain transfer agent is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.05% by mass to 40% by mass, and 0.1% by mass to 30% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. % Is more preferable.

［低分子親水性化合物］
画像記録層は、耐刷性の低下を抑制させつつ現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。低分子親水性化合物は、分子量１，０００未満の化合物が好ましく、分子量８００未満の化合物がより好ましく、分子量５００未満の化合物が更に好ましい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。 [Small molecule hydrophilic compound]
The image recording layer may contain a small molecule hydrophilic compound in order to improve developability while suppressing a decrease in printing resistance. The low molecular weight hydrophilic compound is preferably a compound having a molecular weight of less than 1,000, more preferably a compound having a molecular weight of less than 800, and further preferably a compound having a molecular weight of less than 500.
Examples of the low molecular weight hydrophilic compound include, as water-soluble organic compounds, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, ethers or ester derivatives thereof, and glycerin. Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfates such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid. Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfates such as alkylsulfuric acid and alkylether sulfuric acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, quench Examples thereof include organic carboxylic acids such as acids, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, salts thereof, betaines and the like.

低分子親水性化合物としては、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類及びベタイン類よりなる群から選ばれる少なくとも１つを含有させることが好ましい。 As the low molecular weight hydrophilic compound, it is preferable to contain at least one selected from the group consisting of polyols, organic sulfates, organic sulfonates and betaines.

有機スルホン酸塩類の具体例としては、ｎ−ブチルスルホン酸ナトリウム、ｎ−ヘキシルスルホン酸ナトリウム、２−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、ｎ−オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩；５，８，１１−トリオキサペンタデカン−１−スルホン酸ナトリウム、５，８，１１−トリオキサヘプタデカン−１−スルホン酸ナトリウム、１３−エチル−５，８，１１−トリオキサヘプタデカン−１−スルホン酸ナトリウム、５，８，１１，１４−テトラオキサテトラコサン−１−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩；ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム、ｐ−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−５−スルホン酸ナトリウム、１−ナフチルスルホン酸ナトリウム、４−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、１，５−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、１，３，６−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開２００７−２７６４５４号公報の段落００２６〜００３１及び特開２００９−１５４５２５号公報の段落００２０〜００４７に記載の化合物等が挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。 Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, and sodium n-octyl sulfonate; 5 , 8,11-Trioxapentadecane-1-sulfonate sodium, 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate sodium, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium acid, sodium 5,8,11,14-tetraoxatetracosan-1-sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxybenzenesulfonic acid Sodium, sodium p-styrene sulfonate, sodium dimethyl-5-sulfonate isophthalate, sodium 1-naphthyl sulfonate, sodium 4-hydroxynaphthyl sulfonate, disodium 1,5-naphthalenedi sulfonate, 1,3,6- Examples thereof include aryl sulfonates such as trisodium naphthalene trisulfonate, and compounds described in paragraphs 0026 to 0031 of JP-A-2007-276454 and paragraphs 0020-0047 of JP-A-2009-154525. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.

有機硫酸塩類としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位の数は１〜４が好ましく、塩はナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。具体例としては、特開２００７−２７６４５４号公報の段落００３４〜００３８に記載の化合物が挙げられる。 Examples of organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, a potassium salt or a lithium salt. Specific examples include the compounds described in paragraphs 0034 to 0038 of JP-A-2007-276454.

ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素数が１〜５である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、３−ヒドロキシ−４−トリメチルアンモニオブチラート、４−（１−ピリジニオ）ブチラート、１−ヒドロキシエチル−１−イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、３−トリメチルアンモニオ−１−プロパンスルホナート、３−（１−ピリジニオ）−１−プロパンスルホナート等が挙げられる。 As betaines, compounds having 1 to 5 carbon atoms of the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom are preferable, and specific examples thereof include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, and 3-hydroxy-4-trimethylammonium. Obutyrate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, 3 -(1-Pyridinio) -1-propanesulfonate and the like can be mentioned.

低分子親水性化合物は疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部（画像部）へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持することができる。 Since the low-molecular-weight hydrophilic compound has a small structure of the hydrophobic part and has almost no surface-active action, dampening water permeates the exposed part (image part) of the image recording layer and reduces the hydrophobicity and film strength of the image part. It is possible to maintain good ink acceptability and print resistance of the image recording layer.

低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．５質量％〜２０質量％が好ましく、１質量％〜１５質量％がより好ましく、２質量％〜１０質量％が更に好ましい。この範囲で良好な現像性と耐刷性が得られる。
低分子親水性化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。 The content of the low molecular weight hydrophilic compound is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, more preferably 1% by mass to 15% by mass, and 2% by mass to 10% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. Is more preferable. Good developability and printing resistance can be obtained in this range.
The small molecule hydrophilic compound may be used alone or in combination of two or more.

［感脂化剤］
画像記録層は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等の感脂化剤を含有してもよい。特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。 [Fat sensitive agent]
The image recording layer may contain a fat-sensing agent such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing small molecule compound, and an ammonium group-containing polymer in order to improve the meat-forming property. In particular, when the protective layer contains an inorganic layered compound, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and it is possible to suppress deterioration of the inking property during printing due to the inorganic layered compound.
As the fat sensitive agent, it is preferable to use a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination, and the phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer are used in combination. Is more preferable.

ホスホニウム化合物としては、特開２００６−２９７９０７号公報及び特開２００７−５０６６０号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、１，４−ビス（トリフェニルホスホニオ）ブタン＝ジ（ヘキサフルオロホスファート）、１，７−ビス（トリフェニルホスホニオ）ヘプタン＝スルファート、１，９−ビス（トリフェニルホスホニオ）ノナン＝ナフタレン−２，７−ジスルホナート等が挙げられる。 Examples of the phosphonium compound include the phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butane-di (hexafluorophosphine), and 1,7-bis (tri). Phenylphosphonio) heptane-sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane-naphthalene-2,7-disulfonate and the like can be mentioned.

含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム＝ｐ−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、特開２００８−２８４８５８号公報の段落００２１〜００３７、特開２００９−９０６４５号公報の段落００３０〜００５７に記載の化合物等が挙げられる。 Examples of nitrogen-containing small molecule compounds include amine salts and quaternary ammonium salts. Further, imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, quinolinium salts and the like can also be mentioned. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferable. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, and benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophosphate. Examples thereof include fert, benzyldimethyldodecylammonium-hexafluorophosphate, compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP-A-2008-284858 and paragraphs 0030 to 0057 of JP-A-2009-90645.

アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として５モル％〜８０モル％含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開２００９−２０８４５８号公報の段落００８９〜０１０５に記載のポリマーが挙げられる。 The ammonium group-containing polymer may have an ammonium group in its structure, and a polymer containing 5 mol% to 80 mol% of (meth) acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component is preferable. Specific examples include the polymers described in paragraphs 0008-0105 of JP2009-208458A.

アンモニウム塩含有ポリマーは、特開２００９−２０８４５８号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度（単位：ｍｌ／ｇ）の値が、５〜１２０の範囲のものが好ましく、１０〜１１０の範囲のものがより好ましく、１５〜１００の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量（Ｍｗ）に換算した場合、１０，０００〜１５０，００００が好ましく、１７，０００〜１４０，０００がより好ましく、２０，０００〜１３０，０００が特に好ましい。 The ammonium salt-containing polymer preferably has a reduction specific viscosity (unit: ml / g) value in the range of 5 to 120, and is in the range of 10 to 110, which is obtained according to the measurement method described in JP-A-2009-208458. Is more preferable, and those in the range of 15 to 100 are particularly preferable. When the reduced specific viscosity is converted into a weight average molecular weight (Mw), it is preferably 10,000 to 150,000, more preferably 17,000 to 140,000, and particularly preferably 20,000 to 130,000.

以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
（１）２−（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ−トルエンスルホナート／３，６−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比１０／９０、Ｍｗ４．５万）
（２）２−（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（３）２−（エチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ−トルエンスルホナート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比３０／７０、Ｍｗ４．５万）
（４）２−（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（５）２−（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝メチルスルファート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比４０／６０、Ｍｗ７．０万）
（６）２−（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２５／７５、Ｍｗ６．５万）
（７）２−（ブチルジメチルアンモニオ）エチルアクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．５万）
（８）２−（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝１３−エチル−５，８，１１−トリオキサ−１−ヘプタデカンスルホナート／３，６−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ７．５万）
（９）２−（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６−ジオキサヘプチルメタクリレート／２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体（モル比１５／８０／５、Ｍｗ６．５万） Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90, Mw 45,000)
(2) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70, Mw 45,000)
(4) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(5) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60, Mw 7,000,000)
(6) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75, Mw 65,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 65,000)
(8) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80) , Mw 75,000)
(9) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5, Mw 65,000)

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．０１質量％〜３０．０質量％が好ましく、０．１質量％〜１５．０質量％がより好ましく、１質量％〜１０質量％が更に好ましい。 The content of the oil-sensitive agent is preferably 0.01% by mass to 30.0% by mass, more preferably 0.1% by mass to 15.0% by mass, and 1% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. % To 10% by mass is more preferable.

［その他の添加剤］
画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開２００８−２８４８１７号公報の段落０１１４〜０１５９の記載を参照することができる。
なお、本開示における画像記録層には、上記効果を損なわない範囲において、重合禁止剤を用いてもよい。 [Other additives]
The image recording layer may contain a surfactant, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, an inorganic layered compound and the like as other components. Specifically, the description in paragraphs 0114 to 0159 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-284817 can be referred to.
A polymerization inhibitor may be used for the image recording layer in the present disclosure as long as the above effects are not impaired.

〔画像記録層の形成〕
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開２００８−１９５０１８号公報の段落０１４２〜０１４３に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン（２−ブタノン）、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、３−メトキシ−１−プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は１〜５０質量％程度であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、０．３ｇ／ｍ２〜３．０ｇ／ｍ２が好ましい。 [Formation of image recording layer]
As described in paragraphs 0142 to 0143 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-195018, for example, the image recording layer in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is coated by dispersing or dissolving each of the above-mentioned necessary components in a known solvent. It can be formed by preparing a liquid, applying the coating liquid on the support by a known method such as coating with a bar coater, and drying.
As the solvent, a known solvent can be used. Specifically, for example, water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propropylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3- Methoxy-1-propanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethyl Examples thereof include formamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate and the like. The solvent may be used alone or in combination of two or more. The solid content concentration in the coating liquid is preferably about 1 to 50% by mass.
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer, 0.3 g / m 2 to 3.0 g /. m 2 is preferred.

＜支持体＞
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
支持体としては、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。
支持体としては、親水性表面を有する支持体（以下、「親水性支持体」ともいう）が好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版における支持体は、支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、傷汚れ抑制性の観点から、１１０°以下であることが好ましく、９０°以下であることがより好ましく、８０°以下であることが更に好ましく、５０°以下であることがより更に好ましく、３０°以下であることが特に好ましく、２０°以下であることがより特に好ましく、１０以下であることが最も好ましい。 <Support>
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure has a support.
As the support, it is possible to appropriately select and use from known lithographic printing plate original support.
As the support, a support having a hydrophilic surface (hereinafter, also referred to as “hydrophilic support”) is preferable.
The support in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure preferably has a contact angle with water on the surface of the support on the image recording layer side by the aerial water droplet method of 110 ° or less from the viewpoint of suppressing scratches and stains. , 90 ° or less, more preferably 80 ° or less, further preferably 50 ° or less, particularly preferably 30 ° or less, and more preferably 20 ° or less. It is particularly preferable, and most preferably 10 or less.

本開示において、支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角は、以下の方法により測定するものとする。
平版印刷版原版を、画像記録層を除去可能な溶媒（例えば、画像記録層用塗布液で用いた溶媒）に浸漬させ、スポンジ及びコットンの少なくとも一方で画像記録層を掻き取り、画像記録層を溶媒中に溶解させることでアルミニウム支持体の表面を露出させる。
露出させたアルミニウム支持体の画像記録層側の表面における水との接触角は、測定装置として全自動接触角計（例えば、協和界面化学（株）製ＤＭ−５０１）によって、２５℃における表面上の水滴の接触角（０．２秒後）として測定される。 In the present disclosure, the contact angle with water by the aerial water droplet method on the surface of the support on the image recording layer side shall be measured by the following method.
The lithographic printing plate original plate is immersed in a solvent capable of removing the image recording layer (for example, the solvent used in the coating liquid for the image recording layer), and the image recording layer is scraped off at least one of the sponge and cotton to obtain the image recording layer. The surface of the aluminum support is exposed by dissolving it in a solvent.
The contact angle with water on the surface of the exposed aluminum support on the image recording layer side is measured on the surface at 25 ° C. by a fully automatic contact angle meter (for example, DM-501 manufactured by Kyowa Surface Chemistry Co., Ltd.) as a measuring device. It is measured as the contact angle of water droplets (after 0.2 seconds).

本開示における支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示における支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。 As the support in the present disclosure, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferable. That is, the support in the present disclosure preferably has an aluminum plate and an aluminum anodic oxide film arranged on the aluminum plate.

本開示において用いられる支持体の好ましい態様の一例（「支持体（１）」ともいう）を以下に示す。
即ち、支持体（１）は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が、７０〜１００である。 An example of a preferred embodiment of the support used in the present disclosure (also referred to as “support (1)”) is shown below.
That is, the support (1) has an aluminum plate and an anodic oxide film of aluminum arranged on the aluminum plate, and the anodic oxide film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate. The anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, and the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and 100 nm or less, and the anodic oxidation. The value of the brightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the film on the image recording layer side is 70 to 100.

図１は、アルミニウム支持体１２ａの一実施形態の模式的断面図である。
アルミニウム支持体１２ａは、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０ａ（以後、単に「陽極酸化皮膜２０ａ」とも称する）とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体１２ａ中の陽極酸化皮膜２０ａが、アルミニウム板１８よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the aluminum support 12a.
The aluminum support 12a has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an aluminum anodic oxide film 20a (hereinafter, also simply referred to as “anodized film 20a”) are laminated in this order. The anodic oxide film 20a in the aluminum support 12a is located closer to the image recording layer than the aluminum plate 18. That is, it is preferable that the planographic printing plate original plate according to the present disclosure has at least an anodic oxide film, an image recording layer, and a water-soluble resin layer on an aluminum plate in this order.

−陽極酸化皮膜−
以下、陽極酸化被膜２０ａの好ましい態様について説明する。
陽極酸化皮膜２０ａは、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２ａを有する。マイクロポア２２ａは、画像記録層側の陽極酸化皮膜２０ａ表面（アルミニウム板１８側とは反対側の陽極酸化皮膜２０ａ表面）から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびる。 − Anode oxide film −
Hereinafter, preferred embodiments of the anodic oxide coating 20a will be described.
The anodic oxide film 20a is a film formed on the surface of the aluminum plate 18 by anodization treatment, and this film is extremely fine micropores 22a which are substantially perpendicular to the surface of the film and are uniformly distributed to each individual. Has. The micropore 22a extends from the surface of the anodic oxide film 20a on the image recording layer side (the surface of the anodic oxide film 20a on the side opposite to the aluminum plate 18 side) along the thickness direction (aluminum plate 18 side).

陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径（平均開口径）は、１０ｎｍ超え１００ｎｍ以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、１５ｎｍ〜６０ｎｍがより好ましく、２０ｎｍ〜５０ｎｍが更に好ましく、２５ｎｍ〜４０ｎｍが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
平均径が１０ｎｍを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が１００ｎｍ以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
マイクロポア２２ａの平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を５０箇所測定し、算術平均値として算出される。
なお、マイクロポア２２ａの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。 The average diameter (average opening diameter) of the micropores 22a in the anodic oxide film 20a on the surface of the anodic oxide film is preferably more than 10 nm and 100 nm or less. Among them, from the viewpoint of the balance between printing resistance, stain resistance, and image visibility, 15 nm to 60 nm is more preferable, 20 nm to 50 nm is further preferable, and 25 nm to 40 nm is particularly preferable. The diameter inside the pores may be wider or narrower than the surface layer.
If the average diameter exceeds 10 nm, the printing resistance and image visibility are further excellent. Further, when the average diameter is 100 nm or less, the printing durability is further excellent.
The average diameter of the micropores 22a is 400 nm × 600 nm in the four images obtained by observing the surface of the anodized film 20a with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000. The diameter (diameter) of the micropores existing in the range of is measured at 50 points and calculated as an arithmetic average value.
If the shape of the micropore 22a is not circular, the diameter equivalent to the circle is used. The "circle equivalent diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

マイクロポア２２ａの深さは特に制限されないが、１０ｎｍ〜３，０００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜２，０００ｎｍがより好ましく、３００ｎｍ〜１，６００ｎｍが更に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ａの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上のマイクロポア２２ａの深さを測定し、平均した値である。 The depth of the micropore 22a is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 3,000 nm, more preferably 50 nm to 2,000 nm, and even more preferably 300 nm to 1,600 nm.
The depth is an average value obtained by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20a and measuring the depths of 25 or more micropores 22a.

マイクロポア２２ａの形状は特に制限されず、図１では、略直管状（略円柱状）であるが、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア２２ａの底部の形状は特に制限されず、曲面状（凸状）であっても、平面状であってもよい。 The shape of the micropore 22a is not particularly limited, and in FIG. 1, it is a substantially straight tubular (substantially cylindrical) shape, but it may be a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). The shape of the bottom of the micropore 22a is not particularly limited, and may be curved (convex) or flat.

アルミニウム支持体１２ａの画像記録層側の表面（陽極酸化皮膜２０ａの画像記録層側の表面）のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値は、７０〜１００であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、７５〜１００が好ましく、７５〜９０がより好ましい。
上記明度Ｌ＊の測定は、エックスライト（株）製、色彩色差計Ｓｐｅｃｔｒｏ Ｅｙｅを用いて測定する。 The value of L * a * b * lightness L * in the color system of the surface of the aluminum support 12a on the image recording layer side (the surface of the anodic oxide film 20a on the image recording layer side) is preferably 70 to 100. .. Among them, 75 to 100 is preferable, and 75 to 90 is more preferable, in that the balance between printing resistance and image visibility is more excellent.
The brightness L * is measured using a color difference meter Specro Eye manufactured by X-Rite Co., Ltd.

支持体（１）において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ〜１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ〜２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５ｎｍ〜１５０ｎｍであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である態様（「支持体（２）」ともいう）も好ましく挙げられる。
図２は、アルミニウム支持体１２ａの、図１に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。
図２において、アルミニウム支持体１２ｂは、アルミニウム板１８と、大径孔部２４と小径孔部２６とから構成されるマイクロポア２２ｂを有する陽極酸化皮膜２０ｂとを含む。
陽極酸化皮膜２０ｂ中のマイクロポア２２ｂは、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ〜１０００ｎｍ（深さＤ：図２参照）の位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置から更に深さ２０ｎｍ〜２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部２６とから構成される。
以下に、大径孔部２４と小径孔部２６について詳述する。 In the support (1), the micropore communicates with the large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and is deep from the communication position. It is composed of a small-diameter hole extending to a position of 20 nm to 2,000 nm, the average diameter of the large-diameter hole on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 150 nm, and the average diameter of the small-diameter hole at the communication position. A mode in which the diameter is 13 nm or less (also referred to as “support (2)”) is also preferably mentioned.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the aluminum support 12a according to an embodiment different from that shown in FIG.
In FIG. 2, the aluminum support 12b includes an aluminum plate 18 and an anodic oxide film 20b having a micropore 22b composed of a large-diameter hole portion 24 and a small-diameter hole portion 26.
The micropores 22b in the anodic oxide film 20b communicate with the large-diameter hole portion 24 extending from the surface of the anodic oxide film to a position at a depth of 10 nm to 1000 nm (depth D: see FIG. 2) and the bottom of the large-diameter hole portion 24. It is composed of a small-diameter hole portion 26 extending from the communication position to a depth of 20 nm to 2,000 nm.
The large-diameter hole portion 24 and the small-diameter hole portion 26 will be described in detail below.

大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、１０ｎｍ超１００ｎｍ以下であり、好適範囲も同じである。
大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。 The average diameter of the large-diameter pore portion 24 on the surface of the anodic oxide film 20b is the same as the average diameter of the micropores 22a in the above-mentioned anodic oxide film 20a on the surface of the anodic oxide film, which is more than 10 nm and 100 nm or less, and the preferable range is also the same. Is.
The method for measuring the average diameter on the surface of the anodic oxide film 20b of the large-diameter hole portion 24 is the same as the method for measuring the average diameter on the surface of the anodic oxide film of the micropores 22a in the anodic oxide film 20a.

大径孔部２４の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ〜１，０００ｎｍ（以後、深さＤとも称する）に位置する。つまり、大径孔部２４は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向（厚み方向）に１０ｎｍ〜１，０００ｎｍの位置までのびる孔部である。上記深さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上の大径孔部２４の深さを測定し、平均した値である。 The bottom of the large-diameter hole portion 24 is located at a depth of 10 nm to 1,000 nm (hereinafter, also referred to as a depth D) from the surface of the anodic oxide film. That is, the large-diameter hole portion 24 is a hole portion extending from the surface of the anodic oxide film to a position of 10 nm to 1,000 nm in the depth direction (thickness direction). The depth is preferably 10 nm to 200 nm.
The depth is an average value obtained by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20b, measuring the depths of 25 or more large-diameter hole portions 24, and averaging them.

大径孔部２４の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、及び、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。 The shape of the large-diameter hole portion 24 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular shape (substantially cylindrical) and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). preferable.

小径孔部２６は、図２に示すように、大径孔部２４の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向（厚み方向）に延びる孔部である。
小径孔部２６の連通位置における平均径は、１３ｎｍ以下が好ましい。中でも、１１ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、５ｎｍ以上の場合が多い。 As shown in FIG. 2, the small-diameter hole portion 26 is a hole portion that communicates with the bottom portion of the large-diameter hole portion 24 and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communication position.
The average diameter of the small-diameter hole portion 26 at the communication position is preferably 13 nm or less. Above all, 11 nm or less is preferable, and 10 nm or less is more preferable. The lower limit is not particularly limited, but it is often 5 nm or more.

小径孔部２６の平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍のＦＥ−ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（小径孔部）の径（直径）を測定し、算術平均値として得られる。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０ｂ上部（大径孔部のある領域）を切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０ｂ表面を上記ＦＥ−ＳＥＭで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部２６の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。 The average diameter of the small-diameter pores 26 is as follows: The surface of the anodized film 20a is observed with N = 4 sheets by FE-SEM at a magnification of 150,000 times, and in the obtained 4 images, micropores existing in the range of 400 nm × 600 nm. The diameter (diameter) of the (small diameter hole) is measured and obtained as an arithmetic mean value. If the large-diameter hole is deep, the upper part of the anodic oxide film 20b (the region with the large-diameter hole) is cut (for example, cut with argon gas), and then the anodic oxide film 20b is cut. The surface may be observed with the above-mentioned FE-SEM to obtain the average diameter of the small-diameter holes.
If the shape of the small-diameter hole portion 26 is not circular, the diameter equivalent to a circle is used. The "circle equivalent diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

小径孔部２６の底部は、上記の大径孔部２４との連通位置から更に深さ方向に２０ｎｍ〜２，０００ｎｍのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部２６は、上記大径孔部２４との連通位置から更に深さ方向（厚み方向）にのびる孔部であり、小径孔部２６の深さは２０ｎｍ〜２，０００ｎｍである。なお、上記深さは、５００ｎｍ〜２，０００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（５万倍）をとり、２５個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。 The bottom portion of the small-diameter hole portion 26 is located at a position extending 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the communication position with the large-diameter hole portion 24. In other words, the small-diameter hole portion 26 is a hole portion that extends further in the depth direction (thickness direction) from the communication position with the large-diameter hole portion 24, and the depth of the small-diameter hole portion 26 is 20 nm to 2,000 nm. .. The depth is preferably 500 nm to 2,000 nm.
The depth is an average value obtained by taking a photograph (50,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20b and measuring the depths of 25 or more small-diameter holes.

小径孔部２６の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。 The shape of the small-diameter hole portion 26 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular shape (substantially cylindrical) and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction, and a substantially straight tubular shape is preferable.

−支持体の製造方法−
本開示に用いられる支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程：アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程：粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程：陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。 -Manufacturing method of support-
As a method for producing the support used in the present disclosure, for example, a production method in which the following steps are sequentially performed is preferable.
-Roughening treatment step: Roughening treatment of aluminum plate-Anodizing treatment step: Anodizing the roughened aluminum plate-Pore wide treatment step: Anodizing obtained in the anodizing treatment step Step of bringing an aluminum plate having an oxide film into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to increase the diameter of micropores in the anodized film The procedure of each step will be described in detail below.

〔粗面化処理工程〕
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。 [Roughening process]
The roughening treatment step is a step of applying a roughening treatment including an electrochemical roughening treatment to the surface of the aluminum plate. This step is preferably carried out before the anodizing treatment step described later, but it may not be carried out in particular as long as the surface of the aluminum plate already has a preferable surface shape.

粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを実施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び／又は化学的粗面化処理とを組み合わせて実施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を実施するのが好ましい。
電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われることが好ましい。
機械的粗面化処理の方法は特に制限されないが、例えば、特公昭５０−４００４７号公報に記載されている方法が挙げられる。
化学的粗面化処理も特に制限されず、公知の方法が挙げられる。 The roughening treatment may be carried out only by the electrochemical roughening treatment, but is carried out by combining the electrochemical roughening treatment with the mechanical roughening treatment and / or the chemical roughening treatment. You may.
When the mechanical roughening treatment and the electrochemical roughening treatment are combined, it is preferable to carry out the electrochemical roughening treatment after the mechanical roughening treatment.
The electrochemical roughening treatment is preferably carried out using direct current or alternating current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid.
The method of mechanical roughening treatment is not particularly limited, and examples thereof include the methods described in Japanese Patent Publication No. 50-40047.
The chemical roughening treatment is also not particularly limited, and known methods can be mentioned.

機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を実施するのが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチング及びアルカリによるエッチングが挙げられ、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ水溶液を用いる化学エッチング処理（以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。）が挙げられる。 After the mechanical roughening treatment, it is preferable to carry out the following chemical etching treatment.
The chemical etching treatment applied after the mechanical roughening treatment smoothes the uneven edges on the surface of the aluminum plate, prevents ink from getting caught during printing, and improves the stain resistance of the printing plate. , It is performed to remove unnecessary substances such as abrasive particles remaining on the surface.
Examples of the chemical etching treatment include etching with an acid and etching with an alkali, and as a method particularly excellent in terms of etching efficiency, a chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (hereinafter, also referred to as “alkali etching treatment”) can be mentioned. Be done.

アルカリ水溶液に用いられるアルカリ剤は特に制限されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、及び、グルコン酸ソーダが挙げられる。
アルカリ水溶液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。
アルカリ水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．０１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、また、３０質量％以下が好ましい。 The alkaline agent used in the alkaline aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
The alkaline aqueous solution may contain aluminum ions.
The concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and preferably 30% by mass or less.

アルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性水溶液を用いて化学エッチング処理（以下、「デスマット処理」ともいう。）を施すのが好ましい。
酸性水溶液に用いられる酸は特に制限されないが、例えば、硫酸、硝酸、及び、塩酸が挙げられる。また、酸性水溶液の温度は、２０℃〜８０℃が好ましい。 When the alkaline etching treatment is performed, it is preferable to perform a chemical etching treatment (hereinafter, also referred to as "desmat treatment") using a low-temperature acidic aqueous solution in order to remove the product generated by the alkaline etching treatment.
The acid used in the acidic aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. The temperature of the acidic aqueous solution is preferably 20 ° C to 80 ° C.

粗面化処理工程としては、Ａ態様又はＢ態様に示す処理を以下に示す順に実施する方法が好ましい。 As the roughening treatment step, a method in which the treatments shown in the A mode or the B mode are carried out in the order shown below is preferable.

〜Ａ態様〜
（２）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
（３）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第１デスマット処理）
（４）硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理（第１電気化学的粗面化処理）
（５）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
（６）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第２デスマット処理）
（７）塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理（第２電気化学的粗面化処理）
（８）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第３アルカリエッチング処理）
（９）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第３デスマット処理） ~ A aspect ~
(2) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (first alkaline etching treatment)
(3) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (first desmat treatment)
(4) Electrochemical roughening treatment using an aqueous solution mainly composed of nitric acid (first electrochemical roughening treatment)
(5) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (second alkaline etching treatment)
(6) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (second desmat treatment)
(7) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (second electrochemical roughening treatment)
(8) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (third alkaline etching treatment)
(9) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (third desmat treatment)

〜Ｂ態様〜
（１０）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第４アルカリエッチング処理）
（１１）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第４デスマット処理）
（１２）塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理（第３電気化学的粗面化処理）
（１３）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第５アルカリエッチング処理）
（１４）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第５デスマット処理） ~ B mode ~
(10) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fourth alkaline etching treatment)
(11) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (fourth desmat treatment)
(12) Electrochemical roughening treatment using an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (third electrochemical roughening treatment)
(13) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fifth alkaline etching treatment)
(14) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (fifth desmat treatment)

上記Ａ態様の（２）の処理前、又は、Ｂ態様の（１０）の処理前に、必要に応じて、（１）機械的粗面化処理を実施してもよい。 If necessary, (1) mechanical roughening treatment may be carried out before the treatment of (2) of the A aspect or before the treatment of (10) of the B aspect.

第１アルカリエッチング処理及び第４アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．５ｇ／ｍ２〜３０ｇ／ｍ２が好ましく、１．０ｇ／ｍ２〜２０ｇ／ｍ２がより好ましい。 Dissolution amount of the aluminum plate in the first alkali etching treatment and fourth alkali etching treatment is preferably 0.5g / m 2 ~30g / m 2 , 1.0g / m 2 ~20g / m 2 is more preferable.

Ａ態様における第１電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、１〜１００ｇ／Ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウム等を添加して得られる水溶液が挙げられる。
Ａ態様における第２電気化学的粗面化処理及びＢ態様における第３電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、１ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硫酸を０ｇ／Ｌ〜３０ｇ／Ｌ添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、及び、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、及び、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを更に添加してもよい。 Examples of the nitric acid-based aqueous solution used in the first electrochemical roughening treatment in the A aspect include an aqueous solution used in the electrochemical roughening treatment using direct current or alternating current. For example, an aqueous solution obtained by adding aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate or the like to an aqueous nitric acid solution of 1 to 100 g / L can be mentioned.
As the aqueous solution mainly containing hydrochloric acid used in the second electrochemical roughening treatment in the A aspect and the third electrochemical roughening treatment in the B aspect, the electrochemical rough surface using ordinary direct current or alternating current is used. Examples thereof include an aqueous solution used for the chemical treatment. For example, an aqueous solution obtained by adding 0 g / L to 30 g / L of sulfuric acid to a 1 g / L to 100 g / L hydrochloric acid aqueous solution can be mentioned. Nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, and ammonium nitrate; and hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride, and ammonium chloride may be further added to this solution.

電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、及び、三角波等を用いることができる。周波数は０．１Ｈｚ〜２５０Ｈｚが好ましい。
図３は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図３において、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐは電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡはアルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡはアルミニウム板のカソード反応の電流である。台形波において、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１ｍｓ〜１０ｍｓが好ましい。電気化学的な粗面化に用いる交流の１サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃの比ｔｃ／ｔａが１〜２０、アルミニウム板がアノード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａの比Ｑｃ／Ｑａが０．３〜２０、アノード反応時間ｔａが５ｍｓ〜１，０００ｍｓ、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃともに１０Ａ／ｄｍ２〜２００Ａ／ｄｍ２が好ましい。Ｉｃ／Ｉａは、０．３〜２０が好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、２５Ｃ／ｄｍ２〜１，０００Ｃ／ｄｍ２が好ましい。 As the AC power supply waveform of the electrochemical roughening process, a sine wave, a square wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like can be used. The frequency is preferably 0.1 Hz to 250 Hz.
FIG. 3 is a graph showing an example of an alternating waveform current waveform diagram used in the electrochemical roughening process.
In FIG. 3, ta is the anode reaction time, ct is the cathode reaction time, tp is the time from 0 to the peak of the current, Ia is the peak current on the anode cycle side, and Ic is the peak current on the cathode cycle side. , AA is the current of the anode reaction of the aluminum plate, and CA is the current of the cathode reaction of the aluminum plate. In a trapezoidal wave, the time tp from 0 to the peak of the current is preferably 1 ms to 10 ms. The conditions for one cycle of AC used for electrochemical roughening are that the ratio ct / ta of the anode reaction time ta and the cathode reaction time ct of the aluminum plate is 1 to 20, and the amount of electricity Qc and the anode when the aluminum plate is the anode. It is preferable that the ratio Qc / Qa of the amount of electricity Qa at the time is in the range of 0.3 to 20 and the anode reaction time ta is in the range of 5 ms to 1,000 ms. The current density is the peak value of the trapezoidal wave, and is preferably 10 A / dm 2 to 200 A / dm 2 for both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current. Ic / Ia is preferably 0.3 to 20. The total amount of electricity furnished to anode reaction of the aluminum plate at the time the electrochemical graining is completed, 25C / dm 2 ~1,000C / dm 2 is preferred.

交流を用いた電気化学的な粗面化には図４に示した装置を用いることができる。
図４は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図４において、５０は主電解槽、５１は交流電源、５２はラジアルドラムローラ、５３ａ及び５３ｂは主極、５４は電解液供給口、５５は電解液、５６はスリット、５７は電解液通路、５８は補助陽極、６０は補助陽極槽、Ｗはアルミニウム板である。図４中、矢印Ａ１は電解液の給液方向を、矢印Ａ２は電解液の排出方向をそれぞれ示している。である。電解槽を２つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Ｗは主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続する主極５３ａ及び５３ｂにより電解処理される。電解液５５は、電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジアルドラムローラ５２と主極５３ａ及び５３ｂとの間の電解液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたアルミニウム板Ｗは、次いで、補助陽極槽６０で電解処理される。この補助陽極槽６０には補助陽極５８がアルミニウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流れるように供給される。 The apparatus shown in FIG. 4 can be used for electrochemical roughening using alternating current.
FIG. 4 is a side view showing an example of a radial cell in an electrochemical roughening treatment using alternating current.
In FIG. 4, 50 is a main electrolytic cell, 51 is an AC power supply, 52 is a radial drum roller, 53a and 53b are main poles, 54 is an electrolyte supply port, 55 is an electrolyte, 56 is a slit, and 57 is an electrolyte passage. 58 is an auxiliary anode, 60 is an auxiliary anode tank, and W is an aluminum plate. In FIG. 4, the arrow A1 indicates the supply direction of the electrolytic solution, and the arrow A2 indicates the discharge direction of the electrolytic solution. Is. When two or more electrolytic cells are used, the electrolysis conditions may be the same or different.
The aluminum plate W is wound around a radial drum roller 52 immersed in the main electrolytic cell 50 and is electrolyzed by the main poles 53a and 53b connected to the AC power supply 51 during the transfer process. The electrolytic solution 55 is supplied from the electrolytic solution supply port 54 to the electrolytic solution passage 57 between the radial drum roller 52 and the main poles 53a and 53b through the slit 56. The aluminum plate W treated in the main electrolytic cell 50 is then electrolyzed in the auxiliary anode tank 60. An auxiliary anode 58 is arranged to face the aluminum plate W in the auxiliary anode tank 60, and the electrolytic solution 55 is supplied so as to flow in the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum plate W.

第２アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、１．０ｇ／ｍ２以上が好ましく、２．０ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２がより好ましい。 Dissolution amount of the aluminum plate in the second alkali etching treatment, in that the predetermined printing plate precursor is easily prepared, 1.0 g / m 2 or more preferably, 2.0g / m 2 ~10g / m 2 is more preferable.

第３アルカリエッチング処理及び第４アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、０．０１ｇ／ｍ２〜０．８ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２〜０．３ｇ／ｍ２がより好ましい。 Dissolution amount of the aluminum plate, in that the predetermined printing plate precursor is easily prepared, 0.01g / m 2 ~0.8g / m 2 is preferable in the third alkali etching treatment and fourth alkali etching treatment, 0.05 g / M 2 to 0.3 g / m 2 is more preferable.

酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第１〜第５デスマット処理）では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又はこれらの２以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
酸性水溶液の酸の濃度は、０．５質量％〜６０質量％が好ましい。 In the chemical etching treatment (first to fifth desmat treatments) using an acidic aqueous solution, an acidic aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is preferably used.
The acid concentration of the acidic aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 60% by mass.

〔陽極酸化処理工程〕
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、１００ｇ／Ｌ〜３００ｇ／Ｌが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温５℃〜７０℃（好ましくは１０℃〜６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ２〜６０Ａ／ｄｍ２（好ましくは１Ａ／ｄｍ２〜６０Ａ／ｄｍ２）、電圧１Ｖ〜１００Ｖ（好ましくは５Ｖ〜５０Ｖ）、電解時間１秒〜１００秒（好ましくは５秒〜６０秒）、及び、皮膜量０．１ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２（好ましくは０．２ｇ／ｍ２〜３ｇ／ｍ２）が挙げられる。 [Anodizing process]
The procedure of the anodizing treatment step is not particularly limited as long as the above-mentioned micropores can be obtained, and known methods can be mentioned.
In the anodizing treatment step, aqueous solutions of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid and the like can be used as the electrolytic bath. For example, the concentration of sulfuric acid is 100 g / L to 300 g / L.
The conditions of the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, and for example, the liquid temperature is 5 ° C. to 70 ° C. (preferably 10 ° C. to 60 ° C.), and the current density is 0.5 A / dm 2 to 60 A / dm 2. (Preferably 1 A / dm 2 to 60 A / dm 2 ), voltage 1 V to 100 V (preferably 5 V to 50 V), electrolysis time 1 second to 100 seconds (preferably 5 seconds to 60 seconds), and film amount 0.1 g. / M 2 to 5 g / m 2 (preferably 0.2 g / m 2 to 3 g / m 2 ).

〔ポアワイド処理〕
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径（ポア径）を拡大させる処理（孔径拡大処理）である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。 [Pore wide processing]
The pore-wide treatment is a treatment (pore diameter enlargement treatment) for enlarging the diameter (pore diameter) of the micropores existing in the anodizing film formed by the above-mentioned anodizing treatment step.
The pore-wide treatment can be performed by bringing the aluminum plate obtained by the above-mentioned anodizing treatment step into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contact method is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spraying method.

＜下塗り層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層（中間層と呼ばれることもある。）を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。 <Undercoat layer>
The planographic printing plate original plate according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support. The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed portion, and makes it easy for the image recording layer to peel off from the support in the unexposed portion, so that the developability is not impaired without impairing the printing resistance. Contributes to improving. Further, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, so that the heat generated by the exposure is diffused to the support to prevent the sensitivity from being lowered.

下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、２種以上を混合して使用してもよい。 Examples of the compound used for the undercoat layer include polymers having an adsorptive group and a hydrophilic group that can be adsorbed on the surface of the support. A polymer having an adsorptive group and a hydrophilic group and further having a crosslinkable group is preferable in order to improve the adhesion to the image recording layer. The compound used for the undercoat layer may be a small molecule compound or a polymer. As the compound used for the undercoat layer, two or more kinds may be mixed and used as needed.

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＰＯ３Ｈ２、−ＯＰＯ３Ｈ２、−ＣＯＮＨＳＯ２−、−ＳＯ２ＮＨＳＯ２−、−ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。 When the compound used for the undercoat layer is a polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group is preferable.
Adsorbent groups that can be adsorbed on the surface of the support include phenolic hydroxy groups, carboxy groups, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2- , -SO 2 NHSO 2- , -COCH 2 COCH 3 Is preferable. As the hydrophilic group, a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferable. As the crosslinkable group, an acrylic group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylicamide group, an allyl group and the like are preferable.
The polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation of the polar substituent of the polymer, a substituent having a pair charge with the polar substituent and a compound having an ethylenically unsaturated bond, and the above. A monomer other than the above, preferably a hydrophilic monomer, may be further copolymerized.

具体的には、特開平１０−２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２−３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開２００５−２３８８１６号、特開２００５−１２５７４９号、特開２００６−２３９８６７号、特開２００６−２１５２６３号の各公報に記載の架橋性基（好ましくは、エチレン性不飽和結合基）、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開２００５−１２５７４９号及び特開２００６−１８８０３８号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。 Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A No. 10-228679, and an ethylenic di-ethylene property described in JP-A-2-304441. A phosphorus compound having a double bond reactive group is preferably used. Crosslinkable groups (preferably ethylenically unsaturated bonding groups) and supports described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125479, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263. Low molecular weight or high molecular weight compounds having functional and hydrophilic groups that interact with the surface are also preferably used.
More preferable are polymer polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group that can be adsorbed on the surface of the support described in JP-A-2005-125479 and JP-A-2006-188038.

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１ｍｍｏｌ〜１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ〜５．５ｍｍｏｌである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、１万〜３０万がより好ましい。 The content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used for the undercoat layer is preferably 5,000 or more, and more preferably 10,000 to 300,000.

〔親水性化合物〕
下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物（例えば、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６−テトラヒドロキシ−ｐ−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など）が好ましく挙げられる。 [Hydrophilic compound]
The undercoat layer preferably contains a hydrophilic compound from the viewpoint of developability.
The hydrophilic compound is not particularly limited, and a known hydrophilic compound used for the undercoat layer can be used.
Preferred examples of the hydrophilic compound include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose and dextrin, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, organic phosphinic acids, amino acids, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group.
Further, as the hydrophilic compound, a compound having an amino group or a functional group having a polymerization prohibitive ability and a group interacting with the surface of the support (for example, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO)). , 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranyl, sulfophthalic acid, ethylenediaminediacetic acid (EDTA) or its salt, hydroxyethylethylenediaminediacetic acid or its salt, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid or its salt, hydroxy Ethylenediaminediacetic acid or a salt thereof, etc.) are preferably mentioned.

親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、保護層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物（例えば、水溶液等）により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層（例えば、画像記録層又は下塗り層）に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を１１０°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。 The hydrophilic compound preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of suppressing scratches and stains.
Further, the hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, is preferably contained in the layer on the aluminum support from the viewpoint of suppressing scratches and stains. Further, the layer on the aluminum support is preferably a layer on the side where the image recording layer is formed, and is preferably a layer in contact with the aluminum support.
As the layer on the aluminum support, an undercoat layer or an image recording layer is preferably mentioned as a layer in contact with the aluminum support. Further, a layer other than the layer in contact with the aluminum support, for example, a protective layer or an image recording layer may contain a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
In the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, it is preferable that the image recording layer contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of suppressing scratches and stains.
Further, in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, an embodiment in which the surface of the aluminum support on the image recording layer side is surface-treated with a composition containing at least hydroxycarboxylic acid or a salt thereof (for example, an aqueous solution) is also preferably mentioned. Be done. In the above embodiment, at least a part of the treated hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is detected in a state of being contained in a layer on the image recording layer side (for example, an image recording layer or an undercoat layer) in contact with an aluminum support. be able to.
By including hydroxycarboxylic acid or a salt thereof in the layer on the image recording layer side in contact with the aluminum support such as the undercoat layer, the surface of the aluminum support on the image recording layer side can be made hydrophilic, and the aluminum support can also be made hydrophilic. The contact angle with water on the surface of the image recording layer side by the aerial water droplet method can be easily set to 110 ° or less, and the scratch and stain suppression property is excellent.

ヒドロキシカルボン酸とは、１分子中に１個以上のカルボキシ基と１個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる（岩波理化学辞典第５版、（株）岩波書店発行（１９９８）参照）。
上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式（ＨＣ）で表されるものが好ましい。
ＲＨＣ（ＯＨ）ｍｈｃ（ＣＯＯＭＨＣ）ｎｈｃ 式（ＨＣ）
式（ＨＣ）中、ＲＨＣはｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基を表し、ＭＨＣはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、ｍｈｃ及びｎｈｃはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｍは同じでも異なってもよい。 Hydroxycarboxylic acid is a general term for organic compounds having one or more carboxy groups and one or more hydroxy groups in one molecule, and is also called hydroxyic acid, oxyic acid, oxycarboxylic acid, or alcoholic acid ( Iwanami Physics and Chemistry Dictionary 5th Edition, published by Iwanami Shoten Co., Ltd. (1998)).
The hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is preferably represented by the following formula (HC).
R HC (OH) mhc ( COMM HC ) nhc type (HC)
In formula (HC), R HC represents a mhc + nhc valent organic group, M HC each independently represents a hydrogen atom, an alkali metal or onium, and mhc and nhc each independently represent an integer of 1 or more, n. When is 2 or more, M may be the same or different.

式（ＨＣ）において、Ｒで表されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基としては、ｍｈｃ＋ｎｈｃ価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び／又は連結基を有してもよい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。ヒドロキシル基及びカルボキシル基以外の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも１種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは１〜５０である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの２価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。 In the formula (HC), examples of the mhc + nhc valent organic group represented by R include a mhc + nhc valent hydrocarbon group. The hydrocarbon group may have a substituent and / or a linking group.
As the hydrocarbon group, a group having a mhc + nhc valence derived from an aliphatic hydrocarbon, for example, an alkylene group, an alcantryyl group, an alkanetetrayl group, an alcampentile group, an alkenylene group, an alkentriyl group, an alkentetrayl group. Mhc + nhc valent groups derived from aromatic hydrocarbons such as groups, alkenylpentyl groups, alkynylene groups, alkyntriyl groups, alkynetetrayl groups, alkynpentyl groups, etc., such as allylene groups, allenetriyl groups, allenes. Examples thereof include a tetrayl group and an arenepentile group. Examples of the substituent other than the hydroxyl group and the carboxyl group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group and the like. Specific examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group and a hexadecyl group. Octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, Cyclopentyl group, 2-norbornyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1- Methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2- Butynyl group, 3-butynyl group, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xsilyl group, mesityl group, cumenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group , Methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group and the like. The linking group is composed of at least one atom selected from the group consisting of hydrogen atom, carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom and halogen atom, and the number of atoms is preferably 1 to 50. Is. Specific examples thereof include an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, a substituted arylene group, and the like, and a plurality of these divalent groups are linked by any of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond, and an ester bond. It may have an esterified structure.

ＭＨＣで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
また、ＭＨＣは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
ｍｈｃとｎｈｃとの総数は、３以上が好ましく、３〜８がより好ましく、４〜６が更に好ましい。 Examples of the alkali metal represented by MHC include lithium, sodium, potassium and the like, and sodium is particularly preferable. Examples of onium include ammonium, phosphonium, sulfonium and the like, and ammonium is particularly preferable.
Further, M HC, from the viewpoint of scratch stain inhibitory, preferably an alkali metal or an onium, and more preferably an alkali metal.
The total number of mhc and nhc is preferably 3 or more, more preferably 3 to 8, and even more preferably 4 to 6.

上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が６００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましく、３００以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、７６以上であることが好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸（２−ヒドロキシ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、γ−ヒドロキシ酪酸等）、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体（サリチル酸、クレオソート酸（ホモサリチル酸、ヒドロキシ（メチル）安息香酸）、バニリン酸、シリング酸等）、ジヒドロキシ安息香酸誘導体（ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等）、トリヒドロキシ安息香酸誘導体（没食子酸等）、フェニル酢酸誘導体（マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等）、ヒドロケイヒ酸誘導体（メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等）等が挙げられる。 The hydroxycarboxylic acid or a salt thereof preferably has a molecular weight of 600 or less, more preferably 500 or less, and particularly preferably 300 or less. The molecular weight is preferably 76 or more.
Specifically, the hydroxycarboxylic acid constituting the hydroxycarboxylic acid or the salt of the hydroxycarboxylic acid is gluconic acid, glycolic acid, lactic acid, tartron acid, hydroxybutyric acid (2-hydroxybutyric acid, 3-hydroxybutyric acid, γ-Hydroxybutyric acid, etc.), malic acid, tartaric acid, citramal acid, citric acid, isocitrate, leucic acid, mevalonic acid, pantoic acid, ricinolic acid, ricineraidic acid, cerebronic acid, quinic acid, shikimic acid, monohydroxybenzoic acid derivative (Salicylic acid, cleosortic acid (homosalicylic acid, hydroxy (methyl) benzoic acid), vanillic acid, syring acid, etc.), dihydroxybenzoic acid derivatives (pyrocatechuic acid, resorcylic acid, protocatechuic acid, gentidic acid, orceric acid, etc.), trihydroxy Benzoic acid derivatives (such as galvanic acid), phenylacetic acid derivatives (mandelic acid, benzylic acid, atrolactic acid, etc.), hydrosilicic acid derivatives (merilotoic acid, floretic acid, kumalic acid, umbellic acid, coffee acid, ferulic acid, cinnapic acid, etc.) Celebronic acid, carmic acid, etc.) and the like.

これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を２個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を３個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を５個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を５個〜８個有している化合物が特に好ましい。
また、カルボキシ基を１個、ヒドロキシ基を２個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
カルボキシ基を２個以上、ヒドロキシ基を１個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ２個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。 Among these, as the hydroxycarboxylic acid or the hydroxycarboxylic acid constituting the salt of the hydroxycarboxylic acid, a compound having two or more hydroxy groups is preferable from the viewpoint of suppressing scratches and stains, and a hydroxy group is preferable. A compound having 3 or more hydroxy groups is more preferable, a compound having 5 or more hydroxy groups is more preferable, and a compound having 5 to 8 hydroxy groups is particularly preferable.
Further, as a substance having one carboxy group and two or more hydroxy groups, gluconic acid or shikimic acid is preferable.
Citric acid or malic acid is preferable as having two or more carboxy groups and one hydroxy group.
Tartaric acid is preferable as having two or more carboxy groups and two or more hydroxy groups.
Among them, gluconic acid is particularly preferable as the hydroxycarboxylic acid.

親水性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、０．０１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜４０質量％であることがより好ましく、１．０質量％〜３０質量％であることが特に好ましい。 The hydrophilic compound may be used alone or in combination of two or more.
When the undercoat layer contains a hydrophilic compound, preferably hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, the content of the hydrophilic compound, preferably hydroxycarboxylic acid and its salt is 0.01% by mass or more based on the total mass of the undercoat layer. It is preferably 50% by mass, more preferably 0.1% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 1.0% by mass to 30% by mass.

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。 In addition to the above-mentioned compound for the undercoat layer, the undercoat layer may contain a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, or the like in order to prevent stains over time.

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１ｍｇ／ｍ２〜３０ｍｇ／ｍ２がより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1mg / m 2 ~100mg / m 2 , 1mg / m 2 ~30mg / m 2 is more preferable.

＜保護層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と最外層との間に、保護層（オーバーコート層と呼ばれることもある）を有していてもよい。保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。 <Protective layer>
The planographic printing plate original plate according to the present disclosure may have a protective layer (sometimes referred to as an overcoat layer) between the image recording layer and the outermost layer. The protective layer has a function of suppressing an image formation inhibitory reaction by blocking oxygen, a function of preventing scratches on the image recording layer, and a function of preventing ablation during high-intensity laser exposure.

このような特性の保護層については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書及び特公昭５５−４９７２９号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて２種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開２００５−２５０２１６号公報及び特開２００６−２５９１３７号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。 Protective layers with such properties are described, for example, in US Pat. Nos. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As the oxygen low-permeability polymer used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and if necessary, two or more kinds may be mixed and used. can. Specific examples thereof include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples thereof include the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式：３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ２Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式：Ａ（Ｂ，Ｃ）２−５Ｄ４Ｏ１０（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）２〔ただし、Ａは、Ｋ、Ｎａ、Ｃａのいずれか、Ｂ及びＣは、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｍｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｖのいずれかであり、Ｄは、Ｓｉ又はＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。 The protective layer preferably contains an inorganic layered compound in order to enhance oxygen blocking property. Inorganic laminar compound is a particle having a thin tabular shape, for example, natural mica, micas such as synthetic mica, wherein: talc represented by 3MgO · 4SiO · H 2 O, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite Examples include light, zirconium phosphate and the like.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound. Examples of the mica compound include the formula: A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [However, A is any of K, Na, Ca, and B and C are It is any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. ] Can be mentioned as a group of mica such as natural mica and synthetic mica.

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母ＫＭｇ３（ＡｌＳｉ３Ｏ１０）Ｆ２、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ２．５Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の非膨潤性雲母、及び、ＮａテトラシリリックマイカＮａＭｇ２．５（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ２Ｌｉ（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、モンモリロナイト系のＮａ又はＬｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）１／８Ｍｇ２／５Ｌｉ１／８（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural mica includes muscovite, paragonite, phlogopite, biotite and lepidolite. As synthetic mica, non-swelling mica such as fluorine gold mica KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potash tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilic mica Namg 2. 5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectrite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / Examples thereof include swelling mica such as 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2. In addition, synthetic smectites are also useful.

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、１０Å〜１５Å（１Å＝０．１ｎｍ）程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にＬｉ＋、Ｎａ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがＬｉ＋、Ｎａ＋の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among the above mica compounds, fluorine-based swelling mica is particularly useful. That is, the swellable synthetic mica has a laminated structure composed of a unit crystal lattice layer having a thickness of about 10 Å to 15 Å (1 Å = 0.1 nm), and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than that of other clay minerals. As a result, the lattice layer causes a positive charge shortage, and in order to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. The cations intervening between these layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cations between layers are Li + and Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the cations swell greatly with water. When a share is applied in that state, it easily cleaves and forms a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency to do so and is particularly preferably used.

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは２０以上であり、より好ましくは１００以上、特に好ましくは２００以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 As for the shape of the mica compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the thickness, the better, and the plane size is better as long as it does not hinder the smoothness of the coated surface and the transmission of active rays. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particles, which can be measured, for example, from a micrograph projection of the particles. The larger the aspect ratio, the greater the effect obtained.

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは０．３μｍ〜２０μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜１０μｍ、特に好ましくは１μｍ〜５μｍである。粒子の平均の厚さは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが１ｎｍ〜５０ｎｍ程度、面サイズ（長径）が１μｍ〜２０μｍ程度である。 The average major axis of the mica compound is preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, and particularly preferably 1 μm to 5 μm. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of a swellable synthetic mica which is a typical compound, the preferred embodiment is such that the thickness is about 1 nm to 50 nm and the surface size (major axis) is about 1 μm to 20 μm.

無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、１質量％〜６０質量％が好ましく、３質量％〜５０質量％がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。 The content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total solid content of the protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of the inorganic layered compounds is the above-mentioned content. Oxygen blocking property is improved in the above range, and good sensitivity can be obtained. In addition, it is possible to prevent a decrease in meat-forming property.

保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。 The protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coatability, and inorganic particles for controlling the slipperiness of the surface. Further, the protective layer may contain the oil-sensitive agent described in the image recording layer.

保護層は公知の方法で塗布される。保護層の塗布量（固形分）は、０．０１ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０２ｇ／ｍ２〜３ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０２ｇ／ｍ２〜１ｇ／ｍ２が特に好ましい。 The protective layer is applied by a known method. The coating amount of the protective layer (solid content) is preferably from 0.01g / m 2 ~10g / m 2 , more preferably 0.02g / m 2 ~3g / m 2 , 0.02g / m 2 ~1g / m 2 is particularly preferable.

≪平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法≫
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（以下、「露光工程」ともいう）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程（以下、「機上現像工程」ともいう）と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（機上現像工程）と、得られた平版印刷版により印刷する工程（以下、「印刷工程」ともいう）と、を含むことが好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
また、上記最外層は、機上現像時において、一部は除去され、一部は画像部の表面に残留又は画像部の内部に印刷インキにより浸透しているものと推定している。 ≪Manufacturing method of lithographic printing plate and lithographic printing method≫
A lithographic printing plate can be produced by image-exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure and performing development processing.
The method for producing a flat plate printing plate according to the present disclosure is selected from a group consisting of a step of exposing the flat plate printing plate original plate according to the present disclosure to an image (hereinafter, also referred to as an “exposure step”), and a printing ink and dampening water. It is preferable to include a step of supplying at least one of the above and removing the image recording layer of the non-image portion on the printing machine (hereinafter, also referred to as “on-machine development step”).
The flat plate printing method according to the present disclosure includes a step of exposing the flat plate printing plate original plate according to the present disclosure to an image (exposure step) and printing by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water. A step of producing a flat plate printing plate by removing the image recording layer of the non-image portion on the machine (on-machine development step), and a step of printing with the obtained flat plate printing plate (hereinafter, also referred to as "printing process"). Is preferably included.
Hereinafter, preferred embodiments of each step will be described in order with respect to the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure. The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure can also be developed with a developing solution.
Hereinafter, the exposure step and the on-machine development step in the lithographic printing plate manufacturing method will be described, but the exposure step in the lithographic printing plate manufacturing method according to the present disclosure and the exposure step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same. It is a step, and the on-machine development step in the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the on-machine development step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same steps.
Further, it is estimated that a part of the outermost layer is removed during on-machine development, and a part of the outermost layer remains on the surface of the image portion or permeates into the inside of the image portion by printing ink.

＜露光工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ２〜３００ｍＪ／ｃｍ２であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。 <Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure as an image to form an exposed portion and an unexposed portion. The planographic printing plate original plate according to the present disclosure is preferably exposed to an image by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image, or the like, or by laser light scanning with digital data.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As a light source having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays are suitable. For the infrared laser, the output is preferably more than 100 mW, preferably, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, also that the amount of irradiation energy is 10mJ / cm 2 ~300mJ / cm 2 preferable. Further, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. The exposure mechanism may be any of an inner drum method, an outer drum method, a flatbed method and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a platesetter or the like. In the case of on-machine development, the lithographic printing plate original plate may be mounted on the printing machine, and then the image may be exposed on the printing machine.

＜機上現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。 <In-machine development process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure involves an on-machine development step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove an image recording layer in a non-image area on a printing machine. It is preferable to include it.
The on-machine development method will be described below.

〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。 [In-machine development method]
In the on-machine development method, the image-exposed lithographic printing plate original plate supplies oil-based ink and water-based components on the printing machine, and the image recording layer in the non-image area is removed to produce a lithographic printing plate. Is preferable.
That is, either the flat plate printing plate original plate is mounted on the printing machine as it is without any development processing after the image exposure, or the flat plate printing plate original plate is mounted on the printing machine and then the image is exposed on the printing machine, and then When printing is performed by supplying an oil-based ink and a water-based component, in the non-image area, an uncured image recording layer is formed by either or both of the supplied oil-based ink and the water-based component in the initial stage of printing. It dissolves or disperses and is removed, exposing a hydrophilic surface in that area. On the other hand, in the exposed portion, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. The first supply to the printing plate may be an oil-based ink or a water-based component, but the oil-based ink is first supplied in terms of preventing contamination by the components of the image recording layer from which the water-based components have been removed. Is preferable. In this way, the lithographic printing plate original plate is developed on the printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the water-based component, ordinary printing ink for lithographic printing and dampening water are preferably used.

本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ〜１，４００ｎｍの光源は上述したものが好ましく用いられる。 The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm as the laser for image-exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure. As the light source having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, the above-mentioned light source is preferably used.

＜現像液現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（「現像液現像工程」ともいう）と、を含む方法であってもよい。
また、本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む方法であってもよい。
現像液としては、公知の現像液を用いることができる。
現像液のｐＨは、特に制限はなく、強アルカリ現像液であってもよいが、ｐＨ２〜１１の現像液が好ましく挙げられる。ｐＨ２〜１１の現像液としては、例えば、界面活性剤及び水溶性高分子化合物のうち少なくとも１種を含有する現像液が好ましく挙げられる。
強アルカリ現像液を用いた現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が挙げられる。
また、界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有する上記現像液を用いる場合は、現像−ガム液処理を同時に行うことができる。よって、後水洗工程は特に必要とせず、１液で現像とガム液処理を行った後、乾燥工程を行うことができる。更に、保護層の除去も現像、ガム液処理と同時に行うことができるので、前水洗工程も特に必要としない。現像処理後、スクイズローラー等を用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。 <Developer development process>
The method for producing a flat plate printing plate according to the present disclosure includes a step of exposing the flat plate printing plate original plate according to the present disclosure to an image, and a step of removing an image recording layer in a non-image area with a developing solution to prepare a flat plate printing plate (a step of producing a flat plate printing plate). A method including "development liquid development step") may be used.
Further, the flat plate printing method according to the present disclosure includes a step of exposing the flat plate printing plate original plate according to the present disclosure to an image, and a step of removing the image recording layer of the non-image portion with a developing solution to prepare a flat plate printing plate. A method may include a step of printing with the obtained flat plate printing plate.
As the developing solution, a known developing solution can be used.
The pH of the developing solution is not particularly limited and may be a strong alkaline developing solution, but a developing solution having a pH of 2 to 11 is preferable. As the developer having a pH of 2 to 11, for example, a developer containing at least one of a surfactant and a water-soluble polymer compound is preferable.
In the development process using a strong alkaline developer, a method of removing the protective layer by a pre-washing step, then performing alkaline development, removing the alkali by washing with water in a post-washing step, performing a gum solution treatment, and drying in a drying step. Can be mentioned.
When the developer containing a surfactant or a water-soluble polymer compound is used, the developing solution and the gum solution treatment can be performed at the same time. Therefore, the post-washing step is not particularly required, and the drying step can be performed after the development and the gum liquid treatment are performed with one liquid. Further, since the protective layer can be removed at the same time as the development and the gum liquid treatment, the pre-washing step is not particularly required. After the development treatment, it is preferable to remove excess developer using a squeeze roller or the like and then dry.

＜印刷工程＞
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ（ＵＶインキ）が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。 <Printing process>
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of supplying printing ink to a lithographic printing plate to print a recording medium.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Further, as the printing ink, oil-based ink or ultraviolet curable ink (UV ink) is preferably mentioned.
Further, in the printing process, dampening water may be supplied as needed.
Further, the printing step may be continuously performed in the on-machine development step or the developer development step without stopping the printing machine.
The recording medium is not particularly limited, and a known recording medium can be used as desired.

本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、１００℃〜５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。 In the method for producing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure, lithographic printing is performed before, during, and between exposure and development as necessary. The entire surface of the plate original may be heated. By such heating, the image formation reaction in the image recording layer is promoted, and advantages such as improvement of sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. Heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or lower. With the above aspect, it is possible to prevent problems such as hardening of the non-image portion. It is preferable to use very strong conditions for heating after development, and it is preferably in the range of 100 ° C. to 500 ° C. Within the above range, a sufficient image enhancement effect can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image portion can be suppressed.

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。
また、以下に示す構造中、「ＯＭｅ」はメトキシ基を表す。 Hereinafter, the present disclosure will be described in detail by way of examples, but the present disclosure is not limited thereto. In this embodiment, "%" and "parts" mean "mass%" and "parts by mass", respectively, unless otherwise specified.
Further, in the structure shown below, "OMe" represents a methoxy group.

［実施例１〜１４、比較例１〜３］
＜支持体の作製＞
厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム合金板に対し、特開２０１２−１５８０２２号公報の段落０１２６に記載の（Ａ−ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）から段落０１３４に記載の（Ａ−ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理を実施した。
次に、特開２０１２−１５８０２２号公報の段落０１３５に記載の（Ａ−ｊ）第１段階の陽極酸化処理から段落０１３８に記載の（Ａ−ｍ）第３段階の陽極酸化処理の各処理条件を適宜調整して、平均系３５ｎｍ、深さ１００ｎｍの大径孔部と、平均径１０ｎｍ、深さ１，０００ｎｍの小径孔部を有し、大径孔部の平均径に対する大径孔部の深さの比が２．９である陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体Ａを得た。
なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。 [Examples 1 to 14, Comparative Examples 1 to 3]
<Preparation of support>
The aluminum alloy plate of material 1S having a thickness of 0.3 mm is described in paragraph 0134 from (A) mechanical roughening treatment (brush grain method) described in paragraph 0126 of JP2012-158022A. (Ai) Desmat treatment in an acidic aqueous solution was carried out.
Next, each treatment condition from the (Aj) first step anodizing treatment described in paragraph 0135 of JP2012-158022A to the (Am) third step anodizing treatment described in paragraph 0138. A large-diameter hole having an average diameter of 35 nm and a depth of 100 nm and a small-diameter hole having an average diameter of 10 nm and a depth of 1,000 nm are provided. An anodized film having a depth ratio of 2.9 was formed to obtain an aluminum support A.
A water washing treatment was performed during all the treatment steps, and after the water washing treatment, the liquid was drained with a nip roller.

＜平版印刷版原版の形成＞
上記アルミニウム支持体Ａ上（印刷面側）に、下記組成の下塗り層塗布液を乾燥塗布量が８７ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して、下塗り層を形成した。
続いて、下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液をバー塗布し、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量０．９７１ｇ／ｍ２の画像記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
なお、樹脂粒子（ミクロゲル）を含む画像記録層塗布液の調製は、下記ミクロゲル液以外の成分を混合した感光液と、下記ミクロゲル液とを塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。 <Formation of lithographic printing plate original plate>
An undercoat layer coating liquid having the following composition was applied onto the aluminum support A (printing surface side) so that the dry coating amount was 87 mg / m 2 , to form an undercoat layer.
Subsequently, an image recording layer coating solution having the following composition is bar-coated on the undercoat layer and dried in an oven at 120 ° C. for 40 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 0.971 g / m 2, and a lithographic printing plate. I got the original version.
The image recording layer coating liquid containing the resin particles (microgels) was prepared by mixing and stirring a photosensitive liquid containing components other than the following microgel liquid and the following microgel liquid immediately before coating.

＜下塗り層用塗布液＞
・下記の下塗り層用化合物（Ｐ−１）：０．１３７０部
・グルコン酸ナトリウム：０．０７００部
・界面活性剤（エマレックス ７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１５９部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株）製）：０．００１４９部
・水：３．２９０００部 <Coating liquid for undercoat layer>
-The following compound for the undercoat layer (P-1): 0.1370 parts-Sodium gluconate: 0.0700 parts-Surfactant (Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0.00159 parts-Preservative (Biohope L, manufactured by Keiai Kasei Co., Ltd.): 0.00149 copies, water: 3.29000 copies

Figure 2021133666
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＜画像記録層塗布液＞
・赤外線吸収剤（表１に記載の化合物） ： 表１に記載の量（部）
・ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体（表１に記載の化合物） ： 表１に記載の量（部）
・電子供与型重合開始剤（Ｂ−１、下記化合物、ＨＯＭＯ：−５．９２ｅＶ） ： ０．０２５部
・電子受容型重合開始剤（Ｉ−１、下記化合物、ＬＵＭＯ：−３．０２ｅＶ） ： ０．１１０部
・重合性化合物（新中村化学工業製、Ｕ−１５ＨＡ） ： ０．２４５部
・発色剤（Ｒ−１、下記化合物、ロイコ色素） ： ０．０２部
・アニオン界面活性剤（Ａ−１、下記化合物） ： ０．００６部
・フッ素系界面活性剤（Ｗ−１、下記化合物） ： ０．００４部
・１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＦＧ） ： ４．５０部
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ： ４．３５部
・メタノール ： ２．３０部
・ミクロゲル液（下記の方法で調製されたもの） ： 固形で０．４００部 <Image recording layer coating liquid>
-Infrared absorber (compounds listed in Table 1): Amount (part) shown in Table 1.
-Radical-induced polymerization inhibitor precursor (compounds shown in Table 1): Amount (part) shown in Table 1.
-Electronic donation type polymerization initiator (B-1, the following compound, HOMO: -5.92 eV): 0.025 parts-Electronic accepting type polymerization initiator (I-1, the following compound, LUMO: -3.02 eV): 0.110 parts, polymerizable compound (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry, U-15HA): 0.245 parts, color former (R-1, the following compound, leuco dye): 0.02 parts, anionic surfactant (A) -1, the following compound): 0.006 part, fluorine-based surfactant (W-1, the following compound): 0.004 part, 1-methoxy-2-propanol (MFG): 4.50 part, methyl ethyl ketone (MEK) ): 4.35 parts, methanol: 2.30 parts, microgel solution (prepared by the following method): 0.400 parts in solid form

Figure 2021133666
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＜ミクロゲル液の調製＞
・ミクロゲル（架橋樹脂粒子）：２．６４０部
・蒸留水：２．４２５部
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲルの調製法を以下に示す。 <Preparation of microgel solution>
-Microgel (crosslinked resin particles): 2.640 parts-Distilled water: 2.425 parts The method for preparing the microgel used in the above microgel solution is shown below.

−多価イソシアネート化合物の調製−
イソホロンジイソシアネート１７．７８部（８０モル当量）と下記多価フェノール化合物（１）７．３５部（２０モル当量）との酢酸エチル（２５．３１部）懸濁溶液に、ビスマストリス（２−エチルヘキサノエート）（ネオスタン Ｕ−６００、日東化成（株）製）０．０４３部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。 -Preparation of multi-valent isocyanate compound-
Bismastris (2-ethyl) in a suspension solution of 17.78 parts (80 mol equivalents) of isophorone diisocyanate and 7.35 parts (20 mol equivalents) of the following polyvalent phenol compound (1) in ethyl acetate (25.31 parts). Hexanoate) (Neostan U-600, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) 0.043 part was added and stirred. When the exotherm subsided, the reaction temperature was set to 50 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50% by mass) of the polyhydric isocyanate compound (1).

Figure 2021133666
Figure 2021133666

−ミクロゲルの調製−
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン−オクチル酸塩（Ｕ−ＣＡＴ ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．２０ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲルの水分散液が得られた。光散乱法によりミクロゲルの平均粒径を測定したところ、０．２８μｍであった。 -Preparation of microgel-
The following oil phase components and aqueous phase components were mixed and emulsified at 12,000 rpm for 10 minutes using a homogenizer. After stirring the obtained emulsion at 45 ° C. for 4 hours, 10 mass of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-en-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) 5.20 g of% aqueous solution was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and allowed to stand at 45 ° C. for 24 hours. The solid content concentration was adjusted to 20% by mass with distilled water, and an aqueous dispersion of microgel was obtained. The average particle size of the microgel was measured by the light scattering method and found to be 0.28 μm.

〜油相成分〜
（成分１）酢酸エチル：１２．０部
（成分２）トリメチロールプロパン（６モル当量）とキシレンジイソシアネート（１８モル当量）を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン（１モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学（株）製）：３．７６部
（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０部
（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ−３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４部
（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ−４１−Ｃ、竹本油脂（株）製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２部 ~ Oil phase component ~
(Component 1) Ethyl acetate: 12.0 parts (Component 2) Trimethylolpropane (6 molar equivalents) and xylene diisocyanate (18 molar equivalents) are added, and one-terminal methylated polyoxyethylene (1 molar equivalent, oxy) is added thereto. Additive (50 mass% ethyl acetate solution, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) to which ethylene unit repetition number: 90) was added: 3.76 parts (component 3) Polyvalent isocyanate compound (1) (50 mass% acetate) As an ethyl solution): 15.0 parts (component 4) 65% by mass ethyl acetate solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartomer) 11.54 parts (component 5) sulfonate type surfactant (Pionin A-41-C, manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 10% ethyl acetate solution: 4.42 parts

〜水相成分〜
蒸留水：４６．８７部 ~ Aqueous phase component ~
Distilled water: 46.87 parts

＜評価＞
（１）ＵＶ耐刷性
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のＫｏｄａｋ社製Ｍａｇｎｕｓ８００ Ｑｕａｎｔｕｍにて、出力２７Ｗ、外面ドラム回転数４５０ｒｐｍ（revolutions per minute）、解像度２，４００ｄｐｉ（dots per inch、１inchは２．５４ｃｍ）の条件で露光（照射エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ２相当）した。露光画像には、ベタ画像、及び、ＡＭスクリーン（Amplitude Modulation Screen）１０％網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ−７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水Ｓ−Ｚ１（富士フイルム（株）製）２．０％の湿し水８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてＴ＆Ｋ ＵＶ ＯＦＳ Ｋ−ＨＳ墨ＧＥ−Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製）を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で特菱アート紙（連量：７６．５ｋｇ、三菱製紙（株）製）に５００枚印刷を行った。
続けて、更に印刷を行った。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像部が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるＡＭスクリーン１０％網点の網点面積率をグレタグ濃度計（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）で計測した値が、印刷５００枚目の計測値よりも３％低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。
印刷枚数が５万枚の場合を１００とする相対耐刷性により以下の基準で評価した。数値が大きいほど、耐刷性が良好である。評価結果は表２に記載した。
相対耐刷性＝（対象平版印刷版原版の印刷枚数）／５０，０００×１００
−評価基準−
Ａ：相対耐刷性の値が、９０を超える
Ｂ：相対耐刷性の値が、７５を超え９０以下である
Ｃ：相対耐刷性の値が、７５以下である <Evaluation>
(1) UV printing resistance The lithographic printing plate original plate produced as described above was subjected to a Magnus 800 Quantum manufactured by Kodak equipped with an infrared semiconductor laser, and had an output of 27 W, an outer drum rotation speed of 450 rpm (revolutions per minute), and a resolution of 2, Exposure (corresponding to irradiation energy of 110 mJ / cm 2 ) was performed under the condition of 400 dpi (dots per inch, 1 inch is 2.54 cm). The exposed image includes a solid image and a chart of 10% halftone dots on the AM screen (Amplitude Modulation Screen).
The obtained exposed original plate was attached to the cylinder of a chrysanthemum-sized Heidelberg printing machine SX-74 without developing. A non-woven fabric filter and a dampening water circulation tank having a capacity of 100 L having a built-in temperature control device were connected to the printing machine. Damping water S-Z1 (manufactured by FUJIFILM Corporation) 2.0% dampening water 80L is charged in the circulation device, and T & K UV OFS K-HS ink GE-M (manufactured by T & K TOKA Co., Ltd.) is used as printing ink. ) Is used to supply dampening water and ink using the standard automatic printing start method, and then printed on Tokuryo Art Paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Limited) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 500 sheets were printed.
Then, further printing was performed. As the number of printed sheets was increased, the image portion was gradually worn, and the ink density on the printed matter decreased. The number of printed copies is taken as the number of printed copies when the value measured by the Gretag densitometer (manufactured by Gretag Macbeth) is 3% lower than the measured value of the 500th printed sheet. The printing durability was evaluated.
The evaluation was made according to the following criteria based on the relative printing resistance of 100 when the number of printed sheets was 50,000. The larger the value, the better the printing durability. The evaluation results are shown in Table 2.
Relative printing resistance = (number of prints of target lithographic printing plate original plate) / 50,000 x 100
-Evaluation criteria-
A: Relative print resistance value exceeds 90 B: Relative print resistance value exceeds 75 and 90 or less C: Relative print resistance value is 75 or less

（２）機上現像性
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のＫｏｄａｋ社製Ｍａｇｎｕｓ８００ Ｑｕａｎｔｕｍにて、出力２７Ｗ、外面ドラム回転数４５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉの条件で露光（照射エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ２相当）した。露光画像には、ベタ画像、及び、ＡＭスクリーン（Amplitude Modulation Screen）５０％網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ−７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水Ｓ−Ｚ１（富士フイルム（株）製）２．０％の湿し水８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてＴ＆Ｋ ＵＶ ＯＦＳ Ｋ−ＨＳ墨ＧＥ−Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製）を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で特菱アート紙（連量：７６．５ｋｇ、三菱製紙（株）製）に２００枚印刷を行った。
上記機上現像において、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。上記枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。
−評価基準−
Ａ：非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数が２０枚以下である。
Ｂ：非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数が２０枚以上５０枚未満である。
Ｃ：非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数が５０枚以上である。 (2) On-machine developability The lithographic printing plate original plate produced as described above is exposed on a Kodak Magnus 800 Quantum equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 27 W, an outer drum rotation speed of 450 rpm, and a resolution of 2,400 dpi. (Equivalent to irradiation energy of 110 mJ / cm 2 ). The exposed image includes a solid image and a chart of 50% halftone dots on the AM screen (Amplitude Modulation Screen).
The obtained exposed original plate was attached to the cylinder of a chrysanthemum-sized Heidelberg printing machine SX-74 without developing. A non-woven fabric filter and a dampening water circulation tank having a capacity of 100 L having a built-in temperature control device were connected to the printing machine. Damping water S-Z1 (manufactured by FUJIFILM Corporation) 2.0% dampening water 80L is charged in the circulation device, and T & K UV OFS K-HS ink GE-M (manufactured by T & K TOKA Co., Ltd.) is used as printing ink. ) Is used to supply dampening water and ink using the standard automatic printing start method, and then printed on Tokuryo Art Paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Limited) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 200 sheets were printed.
In the above-mentioned on-machine development, the number of printing papers required until the ink was not transferred to the non-image area was measured as the on-machine developability. It can be said that the smaller the number of sheets, the better the on-machine developability.
-Evaluation criteria-
A: The number of printing papers required to prevent the ink from being transferred to the non-image area is 20 or less.
B: The number of printing sheets required until the ink is not transferred to the non-image area is 20 or more and less than 50.
C: The number of printing papers required to prevent the ink from being transferred to the non-image area is 50 or more.

（３）スジ状のムラ
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、
ＧＬＶ（Ｇｒａｔｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｖａｌｕｅ）技術を採用した露光ヘッドを搭載した露光機（ＰｌａｔｅＲｉｔｅ ＨＤ ８９００Ｎシリーズ、（株）ＳＣＲＥＥＮグラフィックソリューション製）を用いて、露光エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ２で露光した。露光画像には、ＡＭスクリーン２００線及びＦＭスクリーン（Frequency Modulation Screen）２０μｍの平網のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、ＳＯＲ−Ｍ単色印刷機（ハイデルベルグ社製）に取り付け、インキ：Ｆｕｓｉｏｎ−Ｇ ＭＫ紅Ｎ（ＤＩＣ（株）製）、湿し水：Ｓ−Ｓ２ ２％希釈（富士フイルム（株）製）、ブランケット：ＤＡＹブランケットＤ ３０００（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製）、紙：特菱アート１２７．９ｇｓｍ（三菱製紙（株）製）を用いて、１，０００枚印刷を行った。そして、１，０００枚目の印刷紙面より、目視でスジ状のムラの発生度合いを官能評価した。スジ状のムラが見られないほど、ＧＬＶ適性に優れるともいう。
−評価基準−
Ａ：ＦＭスクリーン及びＡＭスクリーンともに、スジ状のムラがみられない。
Ｂ：ＦＭスクリーンのみ、スジ状のムラが僅かにみられる。
Ｃ：ＦＭスクリーン及びＡＭスクリーンともに、スジ状のムラが僅かにみられる。
Ｄ：ＦＭスクリーン及びＡＭスクリーンともに、スジ状のムラがみられる。 (3) Streak-like unevenness The lithographic printing plate original plate prepared as described above is used.
Exposure was performed with an exposure energy of 110 mJ / cm 2 using an exposure machine (PlateRite HD 8900N series, manufactured by SCREEN Graphic Solution Co., Ltd.) equipped with an exposure head adopting GLV (Grating Light Value) technology. The exposed image included a 200-line AM screen and a 20 μm FM screen (Frequency Modulation Screen) flat mesh chart.
The obtained exposed original plate is attached to a SOR-M single color printing machine (manufactured by Heidelberger) without development processing, and ink: Fusion-GMK Beni N (manufactured by DIC Co., Ltd.), dampening water: SS2. 2% diluted (manufactured by FUJIFILM Corporation), blanket: DAY blanket D 3000 (manufactured by T & K TOKA), paper: Tokuryo Art 127.9 gsm (manufactured by Mitsubishi Paper Mills Limited) 1,000 Sheet printing was performed. Then, the degree of occurrence of streak-like unevenness was visually evaluated from the 1,000th printing paper surface. It is also said that the GLV suitability is excellent so that no streak-like unevenness is seen.
-Evaluation criteria-
A: No streak-like unevenness is observed on both the FM screen and the AM screen.
B: Only the FM screen has slight streak-like unevenness.
C: A slight streak-like unevenness is observed on both the FM screen and the AM screen.
D: Both the FM screen and the AM screen have streak-like unevenness.

Figure 2021133666
Figure 2021133666

画像記録層に用いた各成分の詳細を以下に示す。 Details of each component used in the image recording layer are shown below.

〔赤外線吸収剤〕
ＩＲ−１：下記構造の化合物（ＨＯＭＯ＝−５．３５ｅＶ、ＬＵＭＯ＝−３．７５ｅＶ）
ＩＲ−２：下記構造の化合物（ＨＯＭＯ＝−５．２７ｅＶ、ＬＵＭＯ＝−３．６６ｅＶ）
ＩＲ−３：下記構造の化合物（ＨＯＭＯ＝−５．３８ｅＶ、ＬＵＭＯ＝−３．８０ｅＶ）
ＩＲ−４：下記構造の化合物（ＨＯＭＯ＝−５．３８ｅＶ、ＬＵＭＯ＝−３．７７ｅＶ） [Infrared absorber]
IR-1: Compound with the following structure (HOMO = -5.35 eV, LUMO = -3.75 eV)
IR-2: Compounds with the following structure (HOMO = -5.27 eV, LUMO = -3.66 eV)
IR-3: Compounds with the following structure (HOMO = -5.38 eV, LUMO = -3.80 eV)
IR-4: Compounds with the following structure (HOMO = -5.38eV, LUMO = -3.77eV)

Figure 2021133666
Figure 2021133666

〔ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体及び重合禁止剤〕
・Ｇ−１〜Ｇ−８：下記構造の化合物
但し、下記Ｇ−７におけるｎ及びｍは、ｎ及びｍが付された繰り返し単位のモル比を示しており、ｎが１モル％〜５０モル％であり、ｍが５０モル％〜９９モル％である。
・ＭＥＨＱ：ｐ−メトキシフェノール [Radical-induced polymerization inhibitor precursor and polymerization inhibitor]
G-1 to G-8: Compounds having the following structure However, n and m in G-7 below indicate the molar ratio of the repeating unit with n and m, and n is 1 mol% to 50 mol. %, And m is 50 mol% to 99 mol%.
-MEHQ: p-methoxyphenol

Figure 2021133666
Figure 2021133666

表１に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例１〜１４の平版印刷版原版によれば、スジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られ、また、ＵＶインキを使用した場合であっても、耐刷性に優れる平版印刷版が得られる。
また、表１に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例１〜１４の平版印刷版原版は、機上現像性にも優れる。 From the results shown in Table 1, according to the lithographic printing plate original plates of Examples 1 to 14, which are the lithographic printing plate original plates according to the present disclosure, a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed can be obtained, and UV Even when ink is used, a lithographic printing plate having excellent printing resistance can be obtained.
Further, from the results shown in Table 1, the lithographic printing plate original plates of Examples 1 to 14, which are the lithographic printing plate original plates according to the present disclosure, are also excellent in on-machine developability.

１８：アルミニウム板、ｔａ：アノード反応時間、ｔｃ：カソード反応時間、ｔｐ：電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａ：アノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃ：カソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡ：アルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡ：アルミニウム板のカソード反応の電流、１２ａ，１２ｂ：アルミニウム支持体、２２ａ，２２ｂ：マイクロポア、２４：大径孔部、２６：小径孔部、Ｄ：大径孔部の深さ、５０：主電解槽、５１：交流電源、５２：ラジアルドラムローラ、５３ａ，５３ｂ：主極、５４：電解液供給口、５５：電解液、５６：スリット、５７：電解液通路、５８：補助陽極、６０：補助陽極槽、Ｗ：アルミニウム板、Ａ１：給液方向、Ａ２：電解液排出方向 18: Aluminum plate, ta: Anode reaction time, ct: Cathode reaction time, tp: Time from 0 to peak of current, Ia: Anode cycle side peak current, Ic: Cathode cycle side peak time Current, AA: Anode reaction current of aluminum plate, CA: Anode reaction current of aluminum plate, 12a, 12b: Aluminum support, 22a, 22b: Micropore, 24: Large diameter hole, 26: Small diameter hole, D: Depth of large-diameter hole, 50: Main anode, 51: AC power supply, 52: Radial drum roller, 53a, 53b: Main electrode, 54: Electrolyte supply port, 55: Electrolyte, 56: Slit, 57: Electrolyte passage, 58: Auxiliary anode, 60: Auxiliary anode tank, W: Aluminum plate, A1: Liquid supply direction, A2: Electrolyte discharge direction

Claims (14)

支持体、及び、前記支持体上に形成された画像記録層を有し、
前記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む、機上現像型平版印刷版原版。 It has a support and an image recording layer formed on the support.
An on-machine development type slab printing plate original plate in which the image recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a radical-induced polymerization inhibitor precursor. 前記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、ラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位とを有する化合物である、請求項１に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 1, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound having a radical scavenging site and a polymerization-prohibited precursor site. 前記ラジカル捕捉部位が、エチレン性不飽和二重結合を含む部位である、請求項２に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 2, wherein the radical scavenging site is a site containing an ethylenically unsaturated double bond. 前記エチレン性不飽和二重結合を含む部位が（メタ）アクリロキシ基である、請求項３に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 3, wherein the site containing the ethylenically unsaturated double bond is a (meth) acryloxy group. 前記重合禁止前駆部位が水酸基を含む部位である、請求項４に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 4, wherein the polymerization-prohibited precursor site is a site containing a hydroxyl group. 前記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、下記式（１）で表される部分構造を含む化合物である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure 2021133666
式（１）中、Ｒａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｒｂは、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｘは、（メタ）アクリロキシ基を表す。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound containing a partial structure represented by the following formula (1). ..
Figure 2021133666
In formula (1), Ra independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X is. , Represents a (meth) acryloxy group. 前記赤外線吸収剤の含有量Ａと前記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量Ｂとの含有比率Ａ／Ｂが、質量基準にて０．１〜２．５である、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 Claims 1 to claim that the content ratio A / B of the content A of the infrared absorber and the content B of the radical-induced polymerization inhibitor precursor is 0.1 to 2.5 on a mass basis. Item 6. The machine-developed planographic printing plate original plate according to any one of items 6. 前記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-board development type lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 7, wherein the polymerization initiator contains an electron donating type polymerization initiator and an electron accepting type polymerization initiator. 前記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ−前記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である、請求項８に記載の機上現像型平版印刷版原版。 HOMO of the infrared absorber-The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 8, wherein the value of HOMO of the electron donating type polymerization initiator is 0.70 eV or less. 前記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ−前記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値が、０．８０ｅＶ以下である、請求項８又は請求項９に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 8 or 9, wherein the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator-LUMO of the infrared absorber is 0.80 eV or less. 前記重合性化合物が、７官能以上の重合性化合物である、請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 10, wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having 7 or more functionalities. 前記重合性化合物が、１０官能以上の重合性化合物である、請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 11, wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having 10 or more functionalities. 請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。 A step of exposing the on-machine development type lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 12 to an image.
A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove an image recording layer in a non-image area. 請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。 A step of exposing the on-machine development type lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 12 to an image.
A step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove the image recording layer of the non-image area on the printing machine to prepare a lithographic printing plate.
A lithographic printing method including a step of printing with the obtained lithographic printing plate.
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