JP2021108281A - 有機発光表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】全体厚さを減少させることができる有機発光表示装置を提供する。【解決手段】透明基材、透明基材の上部に配置されるタッチ電極１３２、及びタッチ電極１３２をカバーするタッチ保護層１３４を含むタッチセンサ部１３０、タッチセンサ部１３０の下部または上部に配置され、複数の開口領域を定義するブラックマトリックスＢＭ、ブラックマトリックスＢＭと同一平面上に配置され、複数の開口領域に対応する複数のカラーフィルタ、タッチセンサ部１３０及び複数のカラーフィルタのうちの上側にあるものの上部に配置される第１バッファ層１１４、バッファ層上に配置される薄膜トランジスタＴＦＴ、及び薄膜トランジスタＴＦＴの上部に配置され、複数の開口領域に対応する有機発光素子１５０を含む。【選択図】図２

Description

本発明は、有機発光表示装置に関し、より詳細には、カラーフィルタ及びタッチセンサ部を含む下部発光型有機発光表示装置及びその製造方法に関する。

有機発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ、ＯＬＥＤ）は、バックライトを備える液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ、ＬＣＤ）とは異なり別途の光源を必要としない。従って、軽量薄型に製造が可能で、工程上の利点があり、低電圧駆動により消費電力が低い利点がある。何よりも、有機発光表示装置は、自体発光素子を含み、それぞれの層を薄い有機薄膜に形成することができ、他の表示装置に対比して柔軟性及び弾性に優れ、これによってフレキシブル表示装置に具現されるのにより有利な利点がある。

一般に、有機発光表示装置は、電子（ｅｌｅｃｔｒｏｎ）の注入のためのカソードと正孔（ｈｏｌｅ）の注入のためのアノードからそれぞれ電子と正孔を発光層に内部に注入させ、注入された電子と正孔が結合した励起子（ｅｘｃｉｔｏｎ）が励起状態から基底状態に落ちる時に発光する有機発光素子を利用した表示装置である。

一方、近年、有機発光表示装置は、ユーザのタッチを認識できるタッチスクリーンパネルを含むタッチスクリーン一体型表示装置で形成される。特に、スマートフォン、タブレットＰＣ等のようにタッチ入力機能を有する電子機器が広く活用されるにつれ、より多様なタッチ入力を感知できる表示装置への要求が増大されている。しかし、タッチスクリーンパネルは、表示装置の前面に接着剤を通して貼り付けられることが多い。この場合、タッチスクリーンパネルが別途作製されて表示パネルの前面に貼り付けられるので、貼り付け工程の追加で工程が複雑になり、コストが上昇する問題点がある。

一方、一般に、有機発光表示装置は、アノード、カソード及びこれらの間に配置される有機発光層を含むが、反射率の高い金属物質を使用してカソードを形成することで、外部光が金属物質により反射して反射視感、コントラスト比（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｒａｔｉｏ）等が低下する問題点があった。そこで、外部光による反射を減らすために、カバー部材の下部に外部光を吸収するための偏光板が備えられる。偏光板は、一定水準の光透過率を有するフィルムであり、外部光及びその反射光を吸収してコントラスト比が低下することを防止する。しかし、偏光板は、高価な部材であり、相対的に厚さが厚くてスリム化の傾向に適しておらず、有機発光層から発光された光もまた一部吸収して発光効率を低下させる問題点があった。

まず、本発明の発明者らは、偏光板によるコスト上昇及び表示装置の厚さ増加を解決するために、偏光板の代わりにカラーフィルタ及びブラックマトリックスが一体化された反射防止層を適用した有機発光表示装置を開発した。このような構造の反射防止層は、偏光板に対比してスリムであり、カーブド、フォルダブル等、より多様な形態の有機発光表示装置に適用され得る。

次に、表示装置に別途のタッチスクリーンパネルを貼り付ける方式を利用する場合、コスト上昇及び表示装置の厚さ増加を解決するために、本発明の発明者らは、有機発光素子を保護するための封止層の上部にタッチ電極を直接形成して、有機発光表示装置の内部にタッチセンサ部を形成する方法を考慮した。

しかし、本発明の発明者らは、有機発光表示素子の上部に上述したカラーフィルタ及びブラックマトリックスが一体化された反射防止層とタッチセンサ部を形成する場合、カラーフィルタ及びタッチセンサ部の性能及び耐久性が十分でないということを認知した。具体的に、有機物質及び無機物質からなるカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成する工程は、高温で進行することが好ましい。しかし、カラーフィルタ及びタッチセンサ部の下部に位置する有機発光素子は熱に脆弱であるので、カラーフィルタ及びタッチセンサ部を高温工程で形成する場合、有機発光素子に損傷が生じる問題が発生した。そこで、有機発光素子を保護するためにカラーフィルタ及びタッチセンサ部を低温工程で形成する場合、カラーフィルタ及びタッチセンサ部を構成する有機層でクラックまたは損傷が生じて耐久性が大きく低下する。

そこで、本発明の発明者らは、偏光板及びタッチセンサ部を表示装置の内部に形成することで、全体表示装置の厚さが減少しながらも耐久性及び発光効率を向上させることができる新たな構造の有機発光表示装置を発明した。

従って、本開示の形態は有機発光表示装置それを製造する方法に関連し、関連技術の限界及び不利益の１または複数を実質的に軽減するものである。

本発明が解決しようとする課題は、ブラックマトリックスとカラーフィルタを含む反射防止層とタッチセンサ部を表示装置の内部に形成することで、反射視感の改善及びタッチ具現と共に全体厚さが減少した有機発光表示装置を提供することである。

本発明が解決しようとする他の課題は、有機発光素子だけではなく、反射防止層及びタッチセンサ部の耐久性及び信頼性が向上した有機発光表示装置を提供することである。

本発明が解決しようとするまた他の課題は、有機発光表示装置の全体工程単純化及び工程コストを減少させる有機発光表示装置の製造方法を提供することである。

追加の特徴および態様は、以下の記載で述べられ、部分的にはその記載から明らかになるか、または本明細書で提供される本発明の概念の実施によって知れてもよい。

本発明の概念の他の特徴および態様は、書面の記載で特に指摘された、またはそこから導出させる構造、および特許請求の範囲ならびに添付の図面によって実現および達成されてもよい。

本発明の一実施例に係る有機発光表示装置は、透明基材、透明基材の上部に配置されるタッチ電極、及びタッチ電極をカバーするタッチ保護層を含むタッチセンサ部、タッチセンサ部の下部または上部に配置され、複数の開口領域を定義するブラックマトリックス、ブラックマトリックスと同一平面上に配置され、複数の開口領域に対応する複数のカラーフィルタ、タッチセンサ部及び複数のカラーフィルタのうちの上側にあるものの上部に配置される第１バッファ層、第１バッファ層の上部に配置される薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタの上部に配置され、複数の開口領域に対応する有機発光素子を含む。

本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法は、キャリアガラス基板上にブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するステップ、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部の上部に第１バッファ層を形成するステップ、第１バッファ層上に薄膜トランジスタを形成するステップ、薄膜トランジスタを覆うように平坦化層を形成するステップ、平坦化層上にアノード、有機発光層及びカソードを含む有機発光素子を形成するステップ、及び有機発光素子上に封止層を形成するステップを含む。

その他の実施例の具体的な事項は、詳細な説明及び図面に含まれている。

本発明は、反射防止層の機能を果たすブラックマトリックス及びカラーフィルタとタッチセンサ部を表示装置の内部に形成することで、反射視感の改善及びタッチ具現と同時に有機発光表示装置の全体厚さを減少させることができる。

本発明は、有機発光素子だけではなく、反射防止層及びタッチセンサ部の耐久性及び信頼性を向上させることができる。

本発明は、工程ステップ及び工程コストを減少させる有機発光表示装置の製造方法を提供することができる。

本発明に係る効果は、以上において例示された内容により制限されず、さらに多様な効果が本発明内に含まれている。

添付の図面は、本開示のさらなる理解を提供するために含まれ、本願に取り込まれ、本願の一部を構成し、本開示の実施形態を示し、記載とともに様々な原理を説明するのに役立つ。 図面では：

本発明の一実施例に係る有機発光表示装置を説明するための概略的な分解斜視図である。 図１のＩ−Ｉ’に対する概略的な断面図である。 本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。 本発明の他の実施例に係る有機発光表示装置を説明するための概略的な断面図である。 本発明のまた他の実施例に係る有機発光表示装置を説明するための概略的な断面図である。 本発明のまた他の実施例に係る有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。

本発明の利点及び特徴、そして、それらを達成する方法は、添付の図面と共に詳細に後述されている実施例を参照すると、明確になるだろう。しかし、本発明は、以下において開示される実施例に制限されるものではなく、互いに異なる多様な形態に具現され、単に、本実施例は、本発明の開示が完全なものとなるようにし、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範疇により定義されるだけである。

本発明の実施例を説明するための図面に開示された形状、大きさ、比率、角度、個数等は、例示的なものであるので、本発明は、図示された事項に制限されるものではない。明細書全体にわたって、同じ参照符号は、同じ構成要素を指す。また、本発明を説明するにあたって、関連した公知技術についての具体的な説明が本発明の要旨を不要に濁す恐れがあると判断される場合、その詳細な説明は省略する。本発明上において言及された「含む」、「有する」、「なされる」等が使用される場合、「〜だけ」が使用されない以上、他の部分が加えられ得る。構成要素を単数で表現した場合、特に明示的な記載事項がない限り、複数を含む場合を含む。

構成要素を解釈するにあたって、別途の明示的な記載がなくても誤差範囲を含むものと解釈する。

位置関係についての説明である場合、例えば、「〜上に」、「〜上部に」、「〜下部に」、「〜隣に」等と二部分の位置関係が説明される場合、「すぐ」または「直接」が使用されない以上、二部分の間に一つ以上の他の部分が位置してもよい。

素子または層が異なる素子または層の「上（ｏｎ）」と称されるものは、他の素子のすぐ上または中間に他の層または他の素子を介在した場合をいずれも含む。

また、第１、第２等が多様な構成要素を述べるために使用されるが、これらの構成要素は、これらの用語により制限されない。これらの用語は、単に一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。従って、以下において言及される第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であってもよい。

明細書全体にわたって、同じ参照符号は、同じ構成要素を指す。

図面で示された各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜のために示されたものであり、本発明は、示された構成の大きさ及び厚さに必ずしも限定されるものではない。

本発明の様々な実施例のそれぞれの特徴は、部分的または全体的に互いに結合または組み合わせ可能であり、技術的に多様な連動及び駆動が可能であり、各実施例が互いに対して独立して実施可能であってもよく、関連関係で共に実施してもよい。

以下においては、図面を参照して本発明について説明する。

図１は、本発明の一実施例に係る有機発光表示装置を説明するための概略的な分解斜視図である。図２は、図１のＩ−Ｉ’に対する概略的な断面図である。

図１及び図２を参照すると、有機発光表示装置１００は、透明基材、ブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ１２０、タッチセンサ部１３０、有機発光素子１５０及び封止層１６０を含む。

本発明の一実施例に係る有機発光表示装置１００は、下部発光（ｂｏｔｔｏｍ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）方式で構成され得る。即ち、有機発光表示装置１００は、透明基材の後面に発光され得る。下部発光方式は、有機発光素子１５０で発光された光が有機発光素子１５０が形成された透明基材の下部に発光される方式である。下部発光方式である場合、有機発光素子１５０で発光された光を透明基材の下部に進行させるために、アノード１５２は、透明導電性物質からなり得、カソード１５６は、反射率の高い金属物質からなり得る。これについては、後述する。

図１を参照すると、透明基材は、有機発光表示装置１００の様々な構成要素を支持し、保護するための基板である。本発明の一実施例に係る有機発光表示装置１００は、下部発光方式であるので、光を下部に進行させるために、透明基材は、透明性を有する絶縁物質からなり得る。例えば、透明基材は、ガラス（ｇｌａｓｓ）基板または透明延性フィルムからなり得る。以下においては、図１に示された透明基材がガラス基板１１０であるものと説明する。

ガラス基板１１０は、表示領域ＤＡ及び非表示領域ＮＤＡを含む。表示領域ＤＡは、複数の画素が配置され、実質的に映像が表示される領域である。表示領域ＤＡには、映像を表示する表示素子及び表示素子を駆動するための多様な駆動素子が配置され得る。

ガラス基板１１０の厚さは、３０ｕｍ乃至２００ｕｍまたは５０ｕｍ乃至１００ｕｍであってよい。ガラス基板１１０の厚さが前記範囲を満たす場合、有機発光表示装置１００の構成要素を支持することができ、同時に表示装置のフォールディングまたはベンディングを具現することができる。

図２に示されてはいないが、ガラス基板１１０には、フォールディング領域またはベンディング領域に対応して開口パターンまたは凹パターンが形成され得る。具体的に、ガラス基板１１０は、有機発光素子１５０と向かい合う内部面、及び内部面に対向し、有機発光表示装置１００の発光面である外部面を含む。このとき、開口パターンまたは凹パターンは、有機発光表示装置のフォールディングまたはベンディングが可能であるように外部面から内側に形成された溝部であってよい。開口パターンまたは凹パターンは、開口部（または凹部）と遮断部（または凸部）が連続的に交差して配置される構造を有し得る。従って、開口パターンまたは凹パターンは、ガラス基板１１０にフレキシブルな性質を付与することができる。

表示領域ＤＡには、複数の画素が含まれ得る。複数の画素は、マトリックス形状に配列され、複数の画素それぞれは、複数のサブ画素ＳＰを含むことができる。それぞれのサブ画素ＳＰは、一つの色を表示するためのエレメントであって、第１方向に配置された複数のゲート配線及び第１方向と異なる第２方向に配置された複数のデータ配線の交差領域と定義され得る。ここで、第１方向は、図１の横方向（Ｘ軸方向）であってよく、第２方向は、図１の縦方向（Ｙ軸方向）であってよいが、これに制限されない。それぞれのサブ画素ＳＰは、光が発光される発光領域及び光が発光されない非発光領域を含むが、本明細書においては、光が発光される発光領域だけをサブ画素ＳＰと定義する。複数の画素それぞれは、第１サブ画素ＳＰ１、第２サブ画素ＳＰ２及び第３サブ画素ＳＰ３を含むことができる。第１サブ画素ＳＰ１は赤色画素、第２サブ画素ＳＰ２は緑色画素、第３サブ画素ＳＰ３は青色画素であってよいが、これに制限されない。

それぞれのサブ画素ＳＰは、有機発光素子１５０及び駆動素子を含むことができる。このとき、駆動素子は、スイッチングトランジスタ、駆動トランジスタ等を含むことができる。駆動素子は、非表示領域ＮＤＡに配置されたゲートドライバ、データドライバ等と連結されるゲート配線、データ配線等のような信号配線と電気的に連結され得る。

非表示領域ＮＤＡは、ガラス基板１１０の周り領域に配置され、映像が表示されない領域であってよい。非表示領域ＮＤＡは、表示領域ＤＡを囲むように配置され得る。非表示領域ＮＤＡには、表示領域ＤＡに配置された複数のサブ画素ＳＰを駆動するための多様な構成要素が配置され得る。例えば、複数のサブ画素ＳＰの駆動のための信号を供給する駆動ＩＣ、駆動回路、信号配線、フレキシブルフィルム等が配置され得る。このとき、駆動ＩＣは、ゲートドライバ、データドライバ等を含むことができる。駆動ＩＣ及び駆動回路は、ＧＩＰ（Ｇａｔｅ Ｉｎ Ｐａｎｅｌ）方式、ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｆｉｌｍ）方式、ＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）方式、ＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）方式、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）方式等で配置され得る。

図２を参照すると、ガラス基板１１０上にブラックマトリックスＢＭと複数のカラーフィルタ１２０が配置される。ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０は、同一平面上に形成され、ガラス基板１１０上に直接接触して配置され得る。本発明において、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０は一体化されて反射防止層の機能を果たすことができる。

ブラックマトリックスＢＭは、ガラス基板１１０上に配置される。また、ブラックマトリックスＢＭは、バンク１４８が形成される位置に対応するように配置され得る。このとき、ブラックマトリックスＢＭは、複数のカラーフィルタ１２０の間に配置され、それぞれのカラーフィルタ１２１、１２２、１２３を区画する。ブラックマトリックスＢＭは、それぞれのカラーフィルタ１２１、１２２、１２３を通過する光が混色されないようにし、有機発光素子１５０で放出された光が外部に出射できる複数の開口領域を定義できる。それぞれの開口領域ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３は、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０上に配置される有機発光素子１５０から放出される光が通過する領域であり、それぞれの開口領域ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３は、対応する有機発光素子１５０によりそれぞれ独立して特定色を表示する。また、ブラックマトリックスＢＭは、外部光を吸収する。これによって、外部光による有機発光表示装置１００の視認性及びコントラスト比の低下を最小化することができる。

ブラックマトリックスＢＭは、有機物質で形成され得る。ブラックマトリックスＢＭは、ベース樹脂及び黒色物質を含む。ベース樹脂は、カルド（ｃａｒｄｏ）系樹脂、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）系樹脂、アクリレート（ａｃｒｙｌａｔｅ）系樹脂、シロキサン（ｓｉｌｏｘａｎｅ）系樹脂及びポリイミドの中から選択された１種以上であってよいが、これに制限されない。黒色物質は、カーボン系顔料、金属酸化物系顔料、有機系顔料の中から選択されたブラック顔料であってよい。例えば、カーボン系顔料は、カーボンブラックであってよい。例えば、金属酸化物系顔料は、チタンブラック（ＴｉＮｘＯｙ）、Ｃｕ−Ｍｎ−Ｆｅ系ブラック顔料等があるが、これに制限されない。例えば、有機系顔料は、ラクタム（ｌａｃｔａｍ）ブラック、ペリレン（ｐｅｒｙｌｅｎｅ）ブラック、アニリン（ａｎｉｌｉｎｅ）ブラックの中から選択され得るが、これに制限されない。また、黒色物質として、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料を含むＲＧＢブラック顔料を使用することができる。

複数のカラーフィルタ１２０は、ガラス基板１１０上に配置され、ブラックマトリックスＢＭと同一平面上に配置される。複数のカラーフィルタ１２０は、複数のサブ画素ＳＰと対応するように配置される。このとき、複数のカラーフィルタ１２０それぞれは、ブラックマトリックスＢＭにより定義されるそれぞれの開口領域ＯＡ１、ＯＡ２、ＯＡ３に配置される。具体的に、複数のカラーフィルタ１２０は、第１サブ画素ＳＰ１に対応する第１カラーフィルタ１２１、第２サブ画素ＳＰ２に対応する第２カラーフィルタ１２２及び第３サブ画素ＳＰ３に対応する第３カラーフィルタ１２３を含む。第１サブ画素ＳＰ１に対応する第１開口領域ＯＡ１には第１カラーフィルタ１２１が配置され、第２サブ画素ＳＰ２に対応する第２開口領域ＯＡ２には第２カラーフィルタ１２２が配置され、第３サブ画素ＳＰ３に対応する第３開口領域ＯＡ３には第３カラーフィルタ１２３が配置される。このとき、第１サブ画素ＳＰ１が赤色サブ画素である場合、第１カラーフィルタ１２１は赤色カラーフィルタであり、第２サブ画素ＳＰ２が緑色サブ画素である場合、第２カラーフィルタ１２２は緑色カラーフィルタであり、第３サブ画素ＳＰ３が青色サブ画素である場合、第３カラーフィルタ１２３は青色カラーフィルタであってよい。この場合、有機発光表示装置１００の色再現性に優れる。

第１カラーフィルタ１２１、第２カラーフィルタ１２２及び第３カラーフィルタ１２３は、それぞれ独立して透明ベース樹脂及び発色物質を含む。例えば、透明ベース樹脂は、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート等から選択された１種であってよいが、これに制限されない。発色物質は、特定波長帯域の光は吸収し、残りの波長帯域の光は透過させる。例えば、赤色カラーフィルタは、赤色波長帯域の光は透過させ、緑色及び青色波長帯域の光は吸収する赤色発色物質を含む。より具体的に、赤色発色物質は、パリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）系化合物またはジケト−ピロロピロール（ｄｉｋｅｔｏ−ｐｙｒｒｏｌｏｐｙｒｒｏｌｅ）系化合物であってよい。また、緑色発色物質は、フタロシアニン（ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）系化合物であってよい。また、青色発色物質は、銅フタロシアニン（ｃｏｐｐｅｒ ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）系化合物またはアントラキノン（ａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ）系化合物であってよい。しかし、発色物質は、これに制限されず、赤色、青色、緑色波長帯域の光を透過させる物質であれば制限なく使用され得る。

ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０上に第２バッファ層１１２が形成される。第２バッファ層１１２は、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０を保護するか平坦化できる。具体的に、第２バッファ層１１２は、外部から水分や酸素の浸透を防止してブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０を保護する。また、第２バッファ層１１２は、上部に位置するタッチセンサ部１３０のタッチ電極１３２が形成される過程でブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０が受ける損傷を最小化することができる。

第２バッファ層１１２は、バリア特性に優れた無機物質で形成され得る。これによって、水分や酸素が浸透することを最小化することができる。例えば、第２バッファ層１１２は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）等のような無機物からなり得るが、これに制限されない。

また、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０を平坦化し、複数のカラーフィルタ１２０と上部に位置するタッチセンサ部１３０との間の接着力を向上させるために、第２バッファ層１１２は、複数の層からなってもよい。例えば、第２バッファ層１１２は、複数のカラーフィルタ１２０の上部を平坦化するために有機物質からなる第１層、及び第１層上に配置され、バリア特性を付与するための上述した無機物からなる第２層を含むことができる。例えば、第１層は、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂、シリコン系樹脂等、透明な絶縁樹脂で形成され得、第２層は、先に説明された無機物で形成され得る。

有機発光表示装置１００にタッチセンシング機能を付与するために、第２バッファ層１１２上にタッチセンサ部１３０が配置される。タッチセンサ部１３０は、接着部材なしに第２バッファ層１１２上に直接形成された構造に配置され得る。タッチセンサ部１３０を第２バッファ層１１２上に直接形成することで、タッチセンサ部１３０とカラーフィルタとの間を接着するための接着部材が省略され、有機発光表示装置１００の厚さがスリムになり得る。

タッチセンサ部１３０は、タッチ電極１３２及びタッチ保護層１３４を含む。タッチ電極１３２は、接着部材なしに第２バッファ層１１２上に直接形成され得る。タッチ電極１３２は、タッチ入力を感知する電極であって、センシング電極及び駆動電極で構成され得、これらの間のキャパシタンス変化を感知してタッチ座標を検出できる。例えば、第２バッファ層１１２上に駆動電極が配置され、センシング電極は、駆動電極と同じ平面上に配置され得る。他の例として、駆動電極上にタッチ絶縁層が配置され、タッチ絶縁層上にセンシング電極が配置されてもよい。タッチ電極１３２の配置は、これに制限されず、必要に応じて多様に変更され得る。

タッチ電極１３２は、光を透過させることのできるインジウム−スズ−酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム−亜鉛−酸化物（ＩＺＯ）のような透明な金属物質で形成され得る。タッチ電極１３２は、直方形状、八角形状、円形状または菱形状のように多様な形状を有し得る。

タッチ保護層１３４は、タッチ電極１３２上に配置される。タッチ保護層１３４は、タッチ電極１３２の短絡や損傷等を防止し、タッチ電極１３２の上部面を平坦にする。タッチ保護層１３４は、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂、シリコン系樹脂等、透明な絶縁樹脂で形成され得る。

タッチセンサ部１３０上に第１バッファ層１１４が配置される。第１バッファ層１１４は、ブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ１２０及びタッチセンサ部１３０を保護する。また、第１バッファ層１１４は、ブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ１２０及びタッチセンサ部１３０から流出されるアルカリイオン等のような不純物及びガスから薄膜トランジスタＴＦＴを保護する。第１バッファ層１１４は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）等のような無機物からなり得る。第１バッファ層１１４は、単一層に形成され得、必要に応じて多層構造に形成されてもよい。例えば、第１バッファ層１１４は、マルチバッファ（ｍｕｌｔｉ ｂｕｆｆｅｒ）および／またはアクティブバッファ（ａｃｔｉｖｅ ｂｕｆｆｅｒ）を含むことができる。

第１バッファ層１１４上には、ゲート電極Ｇ、アクティブ層ＡＣＴ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄを含む薄膜トランジスタＴＦＴが配置される。図２においては、説明の便宜のために、有機発光表示装置１００に含まれ得る多様な薄膜トランジスタＴＦＴのうち駆動薄膜トランジスタだけを示したが、スイッチング薄膜トランジスタ等のような他のトランジスタも配置されてもよい。

一方、図２に示された薄膜トランジスタＴＦＴは、コプラナー（ｃｏｐｌａｎａｒ）構造であるものを例示的に説明するが、これに制限されず、インバーテッドスタガード（ｉｎｖｅｒｔｅｄ ｓｔａｇｇｅｒｅｄ）構造の薄膜トランジスタＴＦＴも使用され得る。また、薄膜トランジスタＴＦＴは、ゲート電極Ｇがアクティブ層ＡＣＴ上に配置されるトップゲート構造の薄膜トランジスタまたはゲート電極Ｇがアクティブ層ＡＣＴの下部に配置されるボトムゲート構造の薄膜トランジスタに具現されてもよい。

第１バッファ層１１４上にアクティブ層ＡＣＴが配置される。アクティブ層ＡＣＴは、薄膜トランジスタＴＦＴの駆動時、チャネルが形成される領域である。アクティブ層ＡＣＴは、酸化物（ｏｘｉｄｅ）半導体、非晶質シリコン（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ、ａ−Ｓｉ）、多結晶シリコン（ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｓｉｌｉｃｏｎ、ｐｏｌｙ−Ｓｉ）、または有機物（ｏｒｇａｎｉｃ）半導体等で形成され得るが、これに制限されない。

アクティブ層ＡＣＴ上にゲート絶縁層１４４が配置される。ゲート絶縁層１４４は、アクティブ層ＡＣＴとゲート電極Ｇを絶縁させる。ゲート絶縁層１４４は、無機物であるシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）またはシリコン酸化物（ＳｉＯｘ）の単一層や多重層で構成され得る。図２に示されたように、ゲート絶縁層１４４は、ゲート電極Ｇと同じ幅を有するようにパターニングされ得、ガラス基板１１０の前面にわたって形成されてもよいが、これに制限されることはない。

ゲート電極Ｇは、ゲート絶縁層１４４上に配置される。ゲート電極Ｇは、アクティブ層ＡＣＴのチャネル領域と重畳するようにゲート絶縁層１４４上に配置される。ゲート電極Ｇは、多様な金属物質、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、及び銅（Ｃｕ）のいずれか一つであるか二以上の合金、またはこれらの多重層からなり得るが、これに制限されない。

第１バッファ層１１４及びゲート電極Ｇ上には、層間絶縁層１４２が配置される。層間絶縁層１４２は、ゲート電極Ｇとソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄを絶縁させる。層間絶縁層１４２は、無機物であるシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）またはシリコン酸化物（ＳｉＯｘ）の単一層や多重層で構成され得る。層間絶縁層１４２には、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄそれぞれがアクティブ層ＡＣＴのソース領域及びドレイン領域それぞれにコンタクトするためのコンタクトホールが形成される。

ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄは、層間絶縁層１４２上に配置される。ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄは、層間絶縁層１４２のコンタクトホールを通してアクティブ層ＡＣＴと電気的に連結される。ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄは、多様な金属物質、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、及び銅（Ｃｕ）のいずれか一つからなるか二以上の合金、またはこれらの多重層であってよいが、これに制限されない。

図２に示されてはいないが、薄膜トランジスタＴＦＴ上には、薄膜トランジスタＴＦＴを保護するためのパッシベーション層がさらに配置され得る。パッシベーション層には、薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極Ｓまたはドレイン電極Ｄを露出させるためのコンタクトホールが形成され得る。パッシベーション層は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）またはシリコン酸化物（ＳｉＯｘ）の単一層や多重層で構成され得る。

パッシベーション層上に薄膜トランジスタＴＦＴの上部を平坦化するための平坦化層１４６が配置される。平坦化層１４６には、薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極Ｓまたはドレイン電極Ｄを露出させるためのコンタクトホールが形成される。平坦化層１４６は、アクリル（ａｃｒｙｌ）樹脂、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）樹脂、フェノール（ｐｈｅｎｏｌ）樹脂、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）樹脂、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）樹脂、不飽和ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）樹脂、ポリフェニレン（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）樹脂、ポリフェニレンスルファイド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｓｕｌｆｉｄｅ）樹脂、ベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）及びフォトレジストのうち一つからなり得るが、これに制限されない。

平坦化層１４６上に有機発光素子１５０が配置される。有機発光素子１５０は、第１サブ画素ＳＰ１領域に配置される第１有機発光素子、第２サブ画素ＳＰ２領域に配置される第２有機発光素子及び第３サブ画素ＳＰ３領域に配置される第３有機発光素子を含む。それぞれの有機発光素子１５０は、アノード１５２、有機発光層１５４及びカソード１５６を含む。

アノード１５２は、平坦化層１４６上に配置される。アノード１５２は、平坦化層１４６上に配置され、平坦化層１４６に形成されたコンタクトホールを通してソース電極Ｓまたはドレイン電極Ｄと電気的に連結される。アノード１５２は、有機発光層１５４に正孔を供給するための構成要素であり、仕事関数の高い導電性物質で形成される。アノード１５２は、透明導電性酸化物（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ ｏｘｉｄｅ、ＴＣＯ）で形成された透明導電層であってよい。例えば、アノード１５２は、インジウム−スズ−酸化物（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ−ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）、インジウム−亜鉛−酸化物（ｉｎｄｉｕｍ−ｚｉｎｃ−ｏｘｉｄｅ、ＩＺＯ）、インジウム−スズ−亜鉛−酸化物（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ−ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ、ＩＴＺＯ）、スズ酸化物（ＳｎＯ２）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム−銅−酸化物（ｉｎｄｉｕｍ−ｃｏｐｐｅｒ−ｏｘｉｄｅ、ＩＣＯ）及びアルミニウム：酸化亜鉛（Ａｌ：ＺｎＯ、ＡＺＯ）のような透明導電性酸化物の中から選択された１種以上で形成され得るが、これに制限されない。本発明の一実施例の有機発光表示装置１００は、下部発光方式であるので、アノード１５２は、透明導電層だけで構成され得る。アノード１５２は、第１サブ画素ＳＰ１、第２サブ画素ＳＰ２及び第３サブ画素ＳＰ３別に分離されて形成され得る。

アノード１５２及び平坦化層１４６上にバンク１４８が配置される。バンク１４８は、有機発光素子１５０のアノード１５２のエッジをカバーして発光領域を定義できる。バンク１４８は、隣接するサブ画素ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３のアノード１５２を互いに絶縁させるために絶縁物質からなり得る。また、バンク１４８は、隣接するサブ画素ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３間の混色を防止するように、光吸収率の高いブラックバンクで構成され得る。例えば、バンク１４８は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）樹脂、アクリル（ａｃｒｙｌ）樹脂またはベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）樹脂からなり得るが、これに制限されない。

アノード１５２上には、カソード１５６が配置される。カソード１５６は、有機発光層１５４に電子を円滑に供給するために、仕事関数の低い金属物質で形成され得る。本発明の一実施例の有機発光表示装置１００は、下部発光方式であるので、有機発光素子１５０で発光された光をガラス基板１１０の下部に進行させるために、カソード１５６は、反射率の高い金属物質からなり得る。例えば、カソード１５６は、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）及びこれらのうち１種以上を含む合金の中から選択される金属物質で形成され得るが、これに制限されない。

図２を参照すると、カソード１５６はパターニングされず、アノード１５２上で一つの層に形成されたものと示されているが、アノード１５２のようにサブ画素ＳＰ別に分離されて配置されてもよい。即ち、カソード１５６は、第１サブ画素ＳＰ１、第２サブ画素ＳＰ２及び第３サブ画素ＳＰ３に単一層に形成される。

アノード１５２とカソード１５６との間に有機発光層１５４が配置される。有機発光層１５４は、電子と正孔が結合して光を発光する層である。第１有機発光素子の有機発光層１５４は赤色有機発光層であり、第２有機発光素子の有機発光層１５４は緑色有機発光層であり、第３有機発光素子の有機発光層１５４は青色有機発光層であってよい。

有機発光素子１５０の発光効率を向上させるために、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等をさらに含むことができる。例えば、アノード１５２と有機発光層１５４との間に正孔注入層及び正孔輸送層が配置され、有機発光層１５４とカソード１５６との間に電子輸送層及び電子注入層が配置され得る。また、有機発光層１５４で正孔と電子の再結合効率をさらに向上させるために、正孔阻止層や電子阻止層が配置されてもよい。

有機発光素子１５０上に封止層１６０が配置される。封止層１６０は、有機発光素子１５０をカバーできる。封止層１６０は、外部の湿気、酸素、衝撃等から有機発光素子１５０を保護することができる。封止層１６０は、無機絶縁物質で形成された無機層と有機物質で形成された有機層が積層された多層構造に形成され得る。例えば、封止層１６０は、少なくとも一つの有機層と少なくとも二つの無機層で構成され、無機層と有機層が交番的に積層された多層構造であってよいが、これに制限されない。例えば、封止層１６０は、第１無機層１６２、有機層１６４及び第２無機層１６６を含む三重層構造であってよい。このとき、第１無機層１６２及び第２無機層１６６は、それぞれ独立してシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）、シリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮ）の中から選択された１種以上で形成され得るが、これに制限されない。また、有機層１６４は、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリエチレン及びシリコンオキシカーバイド（ＳｉＯＣ）の中から選択された１種以上で形成され得るが、これに制限されない。
封止層１６０上にカバー基材１７０が配置され得る。カバー基材１７０は、封止層１６０と共に外部の湿気、酸素、衝撃等から有機発光素子１５０を保護する。カバー基材１７０は、ステンレス鋼（ＳＵＳ）のような金属材質であるか、ポリメチルメタクリレート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｙｌ−ｂｕｔａｄｉｅｎｅ−ｓｔｙｒｅｎｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）のようなプラスチック材質であってよい。

本発明の一実施例に係る有機発光表示装置は、ガラス基板上にブラックマトリックスとカラーフィルタを含む反射防止層が配置され、反射防止層上にタッチ電極を含むタッチセンサ部が形成される。本発明の一実施例に係る有機発光表示装置は、反射防止層及びタッチセンサ部上に有機発光素子が配置され、下に位置したガラス基板に発光する下部発光方式の有機発光表示装置である。本発明の一実施例に係る有機発光表示装置は、ガラス基板と有機発光素子との間に反射防止層及びタッチセンサ部を配置することで、反射視感が改善され、タッチ具現が可能であると同時に、有機発光表示装置の全体厚さが減少する。特に、高温工程が要求されるカラーフィルタ及びタッチセンサ部が高温に脆弱な有機発光素子より先に形成されるように下部に配置されるので、有機発光表示装置の耐久性及び信頼度が大きく向上し得る。

以下、図３ａ乃至図３ｆを参照して、本発明の一実施例に係る有機発光表示装置を製造する方法を詳細に説明する。

図３ａ乃至図３ｆは、本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。

図３ａを参照すると、キャリアガラス基板１１０’を設ける。キャリアガラス基板１１０’は、有機発光表示装置の工程中、上部に配置される構成要素を支持する補助基板の役割を果たす。キャリアガラス基板１１０’は、半導体物質及び金属物質の食刻及び熱処理等の工程に対する反応性が低い。キャリアガラス基板１１０’の厚さは、荷重による形態変形が発生しない程度の剛性を有し、製造工程上、移送時に容易な重さを有する範囲で選択され得る。例えば、キャリアガラス基板１１０’の厚さは、４００ｕｍ乃至８００ｕｍまたは５００ｕｍ乃至６５０ｕｍであってよい。

キャリアガラス基板１１０’上にブラックマトリックスＢＭを形成する。ブラックマトリックスＢＭは、以後、上部に配置される配線及び薄膜トランジスタＴＦＴのような駆動素子が形成される位置に形成され得る。ブラックマトリックスＢＭは、第１開口領域ＯＡ１、第２開口領域ＯＡ２及び第３開口領域ＯＡ３を区画する。

ブラックマトリックスＢＭが形成されたキャリアガラス基板１１０’上に複数のカラーフィルタ１２０を形成する。複数のカラーフィルタ１２０は、各サブ画素別に定められた色相を有するように配置され得る。例えば、第１サブ画素ＳＰ１に対応する第１開口領域ＯＡ１に赤色顔料を含む有機物質を塗布し、フォト工程を遂行して第１カラーフィルタ１２１を形成する。また、緑色顔料を含む有機物質を塗布し、フォト工程を遂行して第２サブ画素ＳＰ２に対応する第２開口領域ＯＡ２に第２カラーフィルタ１２２を形成する。また、第３サブ画素ＳＰ３に対応する第３開口領域ＯＡ３に青色顔料を含む有機物質を塗布し、フォト工程を遂行して第３カラーフィルタ１２３を形成する。図３ａにおいては、第１カラーフィルタ１２１、第２カラーフィルタ１２２及び第３カラーフィルタ１２３が互いに離隔されて形成された構造が示されているが、ブラックマトリックスＢＭ上に隣接した２個のカラーフィルタが重畳されて形成されてもよい。

ブラックマトリックスＢＭと複数のカラーフィルタ１２０が完成されたキャリアガラス基板１１０’の全体表面上に第２バッファ層１１２を形成する。第２バッファ層１１２は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）等のような無機物からなり得、化学気相蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＣＶＤ）工程、プラズマ化学気相蒸着（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＰＥＣＶＤ）工程等を通して蒸着され得るが、これに制限されない。

一方、第２バッファ層１１２を形成する前にブラックマトリックスＢＭと複数のカラーフィルタ１２０の上面を平坦化するための有機物層を形成することができる。

図３ｂを参照すると、第２バッファ層１１２上にタッチセンサ部１３０を形成する。

第２バッファ層１１２上に導電層を蒸着した後、フォトマスクを利用してフォトリソグラフィ工程と食刻工程を通してタッチ電極１３２をパターニングできる。具体的に、タッチ電極１３２は、センシング電極及び駆動電極で構成され得る。例えば、第２バッファ層１１２上に第１導電層を蒸着した後、フォトリソグラフィ工程と食刻工程を通して複数の駆動電極、複数のセンシング電極及び複数の駆動電極を連結する連結電極を形成する。複数の駆動電極、複数のセンシング電極及び連結電極上にコンタクトホールを有するタッチ絶縁層を形成する。コンタクトホールを通して複数のセンシング電極が電気的に連結されるように、タッチ絶縁層上にブリッジ電極を形成する。説明したように、タッチ電極１３２は、第２バッファ層１１２上に駆動電極とセンシング電極が同じ平面上に配置され得る。しかし、他の例として、駆動電極上にタッチ絶縁層が配置され、タッチ絶縁層上にセンシング電極が配置されてもよい。タッチ電極１３２の形成は、タッチセンサ部１３０の構造によって多様に形成され得る。また、スパッタリング法のような物理的気相蒸着法（ｐｈｙｓｉｃｓ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）でタッチ電極１３２を形成することができる。

タッチ電極１３２は、光を透過させることのできるインジウム−スズ−酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム−亜鉛−酸化物（ＩＺＯ）のような透明な金属物質で形成され得る。高透明及び低抵抗特性を付与するために、タッチ電極１３２は高温で形成され得る。

タッチ電極１３２上にタッチ保護層１３４を形成する。例えば、タッチ電極１３２の上部前面にアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコン系樹脂等、透明な絶縁樹脂を積層させる。

図３ｃを参照すると、タッチセンサ部１３０の全体表面上に第１バッファ層１１４を形成する。第１バッファ層１１４は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）等のような無機物からなり得、化学気相蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＣＶＤ）工程、プラズマ化学気相蒸着（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ；ＰＥＣＶＤ）工程等を通して蒸着され得るが、これに制限されない。

第１バッファ層１１４上に薄膜トランジスタＴＦＴを形成する。

まず、第１バッファ層１１４上にアクティブ層ＡＣＴを形成する。このとき、アクティブ層ＡＣＴは、マスク工程を通して形成され得る。例えば、アクティブ層ＡＣＴは、パターニングしようとする領域が開口されたマスクを使用する蒸着工程を通して指定された領域に位置できる。または、アクティブ層ＡＣＴは、第１バッファ層１１４の前面に半導体物質を蒸着した後、フォトレジスト塗布、パターニングマスクを通した露光、現像、食刻及び感光樹脂除去過程を通して形成されてもよい。

アクティブ層ＡＣＴ上に絶縁物質とゲート金属物質を連続して蒸着してゲート絶縁層１４４及びゲート電極Ｇを形成する。以後、アクティブ層ＡＣＴ及びゲート電極Ｇが形成された第１バッファ層１１４の上部前面に層間絶縁層１４２を形成する。層間絶縁層１４２にアクティブ層ＡＣＴの上面が露出されるようにコンタクトホールを形成する。層間絶縁層１４２上に金属物質を塗布し、パターンして、コンタクトホールを通してアクティブ層ＡＣＴと接触するようにソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄを形成する。

図３ｄを参照すると、薄膜トランジスタＴＦＴが形成されたキャリアガラス基板１１０’の上部前面に平坦化層１４６を形成する。このとき、平坦化層１４６にコンタクトホールを形成してソース電極Ｓを露出させる。

平坦化層１４６上に有機発光素子１５０を形成する。まず、平坦化層１４６に形成されたコンタクトホールを通して下部に位置するソース電極Ｓと電気的に連結されるようにアノード１５２を形成する。アノード１５２は、サブ画素別に形成されるようにマスク工程を通してパターニングされ得る。

平坦化層１４６上にバンク１４８を形成する。このとき、バンク１４８は、アノード１５２のエッジをカバーして発光領域（サブ画素）を区画するように形成され得る。このとき、バンク１４８は、マスク工程を通してパターニングされ得る。バンク１４８を形成した後、有機発光層１５４及びカソード１５６及び封止層１６０を順次に形成する。

図３ｅを参照すると、キャリアガラス基板１１０’を食刻する。食刻工程を通してキャリアガラス基板１１０’の厚さを減少させることで、キャリアガラス基板１１０’が有機発光表示素子から放出された光が外部に出射される有機発光表示装置の発光面を保護するガラス基板１１０として使用する。図３ａをまた参照すると、キャリアガラス基板１１０’は、有機発光表示装置の製造工程時、構成要素を支持する役割を果たす。キャリアガラス基板１１０’は、製造工程の条件及び環境に耐えるために十分な厚さを有する。しかし、キャリアガラス基板１１０’が有機発光表示装置の発光面を保護する保護基材として役割を果たすためには、十分な透過率を満たさなければならない。また、製造工程中、キャリアガラス基板１１０’の下部表面が損傷されたので、表面特性を向上させる必要がある。そこで、キャリアガラス基板１１０’の表面を食刻して厚さを減少させると同時に外側表面を均一化させる。キャリアガラス基板１１０’の食刻工程を通して形成されたガラス基板１１０の厚さは、３０ｕｍ乃至２００ｕｍであってよい。

図３ｅには示されないが、キャリアガラス基板１１０’を食刻して厚さ及び表面を均一化する工程を経た後、有機発光表示装置のフォールディング領域またはベンディング領域に対応する領域に開口パターンまたは凹パターンを形成する工程をさらに加えることができる。例えば、厚さが減少したガラス基板１１０の外部面にマスクを形成した後、食刻工程を通してガラス基板１１０の外部面から内側に凹に形成された複数の溝部を形成することができる。

図３ｆを参照すると、封止層１６０上にカバー基材１７０を形成する。

本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法は、ガラス基板上にブラックマトリックスとカラーフィルタを含む反射防止層、タッチ電極を含むタッチセンサ部及び有機発光素子が順次に積層された構造の下部発光方式の有機発光表示装置を製造する。これを通して、反射防止とタッチセンシング機能が可能なスリムな有機発光表示装置を製造することができる。

一方、本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法は、有機発光素子よりブラックマトリックス、カラーフィルタ及びタッチセンサ部をガラス基板上に先に形成する工程を含む。仮に、上部発光方式の有機発光表示装置に上述したブラックマトリックス、カラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するためには、まず、有機発光素子を形成した後、有機発光素子１５０の上部に封止層、ブラックマトリックス、カラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成しなければならない。しかし、有機発光素子を構成する物質は、高温で非常に脆弱である。従って、高温の工程を要求するブラックマトリックス、カラーフィルタ及びタッチセンサ部が有機発光素子より後続工程により形成される場合、有機発光素子の損傷を避けることができない。特に、タッチセンサ部が有機発光素子の上部に位置するためには、タッチセンサ部を構成するタッチ電極が透明と透過性に優れたインジウム−スズ−酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム−亜鉛−酸化物（ＩＺＯ）のような透明な金属物質で高温で形成されることが有利である。そこで、本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法は、高温工程が要求するブラックマトリックス、カラーフィルタ及びタッチセンサ部を有機発光素子より先に形成し、下部発光方式の有機発光表示装置を製造することで、耐久性及び信頼度が大きく向上した有機発光表示装置を提供することができる。

一方、近年は、フレキシブル有機発光表示装置を具現するために、ポリイミドのような延性材料をベース基材として使用する方式が利用されている。しかし、ポリイミドのような延性材料は、外部の物理的な衝撃に脆弱である問題点がある。また、フレキシブルな性質を有する延性材料でベース基材を具現するためには、ガラスからなるキャリア基板に延性材料を塗布して加工する工程を先に遂行し、有機発光素子が形成された後、最後にキャリア基板から延性材料で形成されたベース基材を剥離するためのレーザリフトオフ（Ｌａｓｅｒ ｌｉｆｔ ｏｆｆ；ＬＬＯ）工程をさらに実施しなければならなかった。それだけではなく、レーザリフトオフ工程時、ベース基材にクラックが発生するか、ベース基材がキャリア基板と共に剥がされる剥離不良が発生する問題点があった。

そこで、本発明の発明者らは、キャリアガラス基板を有機発光表示装置の発光面を保護する保護基材として活用する方案を発明した。本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法は、キャリアガラス基板にブラックマトリックス、カラーフィルタ及び有機発光素子を順次に形成した後、キャリアガラス基板の外部表面を食刻する工程を遂行することで、キャリアガラス基板が有機発光表示装置を支持するベース基材の役割を果たすと同時に有機発光表示装置の発光面を保護する保護基材の役割を果たすことができる下部発光型有機発光表示装置を提供することができる。また、キャリアガラス基板の食刻する工程でキャリアガラス基板の厚さ及びパターンを調節してベンディングまたはフォールディングが可能な表示装置を提供することができる。これによって、キャリア基板上に別途のベース基材を形成する工程及びキャリア基板からベース基材を除去する工程が不要であるので、全体工程がより単純化され、コストもまた減少させることができる効果がある。

図４は、本発明の他の実施例に係る有機発光表示装置を説明するための概略的な断面図である。図４に示された有機発光表示装置２００は、図２に示された有機発光表示装置１００と比較して、ブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ２２０及びタッチセンサ部２３０の位置が異なるだけで、他の構成は実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

図４を参照すると、ガラス基板１１０上にタッチセンサ部２３０が配置される。タッチセンサ部２３０は、別途の接着部材なしにガラス基板１１０上に直接形成され得る。具体的に、タッチセンサ部２３０のタッチ電極２３２がガラス基板１１０上に直接形成され得る。以後、タッチ電極２３２上にタッチ保護層２３４が形成され得る。ガラス基板１１０上にタッチセンサ部２３０を形成する方法は、タッチ電極２３２を第２バッファ層２１２ではなくガラス基板１１０上に先に形成するという点を除いては、図３ｂにおいて説明した方法と実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

以後、タッチセンサ部２３０上にブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０が配置される。ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０は、同一平面上に形成され、タッチセンサ部２３０のタッチ保護層２３４上に直接接触して配置され得る。タッチセンサ部２３０上にブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０を形成する方法は、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０をガラス基板１１０ではなくタッチセンサ部２３０に先に形成するという点を除いては、図３ａにおいて説明した方法と実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０上に第２バッファ層２１２が形成される。第２バッファ層２１２は、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０を保護するか平坦化できる。図４に示された有機発光表示装置２００において、第２バッファ層２１２は、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０と第１バッファ層２１４との間に配置されるという点を除いて、図２に示された有機発光表示装置１００の第２バッファ層１１２と実質的に同一である。

第２バッファ層２１２上に第１バッファ層２１４が配置される。第２バッファ層２１２は、第１バッファ層２１４と薄膜トランジスタＴＦＴとの間に配置され、下部に位置するブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ２２０及びタッチセンサ部２３０を保護し、ブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ２２０及びタッチセンサ部２３０から流出される不純物及びガスから薄膜トランジスタＴＦＴを保護する。図４に示された有機発光表示装置２００において、第１バッファ層２１４は、第２バッファ層２１２と接触して配置されるという点を除いて、図２に示された有機発光表示装置１００の第１バッファ層１１４と実質的に同一である。

一方、本発明の他の実施例に係る有機発光表示装置において、第２バッファ層２１２は省略され得る。第２バッファ層２１２が省略される場合、第１バッファ層２１４は、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０と薄膜トランジスタＴＦＴとの間に配置され、さらにブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０を保護するか平坦化する機能を果たすことができる。

本発明の他の実施例に係る有機発光表示装置２００は、タッチセンサ部２３０がガラス基板１１０上に直接接触するように配置され、ブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ２２０がタッチセンサ部２３０上に配置されて有機発光素子１５０により近接するという構造的特徴を有する。タッチセンサ部２３０がガラス基板１１０上に直接形成されることで、ユーザのタッチ入力をより正確にセンシングできる。また、タッチセンサ部２３０と有機発光素子１５０との間にブラックメトリックス及び複数のカラーフィルタ２２０が配置されるので、タッチセンサ部２３０と有機発光素子１５０との間の距離が離れるようになる。これによって、タッチセンサ部２３０のタッチ電極２３２と有機発光素子１５０及びその周辺に形成される電極及び配線の間で発生し得る寄生キャパシタンスを最小化することができ、結果的にタッチ感度を向上させることができる。

図４に示された有機発光表示装置２００は、図２に示された有機発光表示装置１００と比較して、ブラックマトリックスＢＭがタッチセンサ部２３０上に配置されて有機発光素子１５０により近く形成される。これによって、有機発光素子１５０で下部に放出される光の角がより広くなり得る。即ち、本発明の他の実施例に係る有機発光表示装置は、視野角の広い下部発光方式の表示装置を提供することができる。

図５は、本発明のまた他の実施例に係る有機発光表示装置を説明するための概略的な断面図である。図５に示された有機発光表示装置３００は、図２に示された有機発光表示装置１００と比較して、ガラス基板の代わりに透明延性フィルム３９０及び透明保護フィルム３８０が使用された点が異なるだけで、他の構成は実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

図５を参照すると、有機発光表示装置３００は、透明保護フィルム３８０、透明延性フィルム３９０、ブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ１２０、タッチセンサ部１３０、有機発光素子１５０及び封止層１６０を含む。

透明延性フィルム３９０は、有機発光表示装置３００の様々な構成要素を支持し、保護するための基板である。本発明の一実施例に係る有機発光表示装置３００は、下部発光方式であるので、光を下部に進行させるために、透明延性フィルム３９０は、透明性を有する絶縁性高分子物質からなり得る。例えば、透明延性フィルム３９０は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリエーテルスルホン（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）及びポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）の中から選択され得る。

透明延性フィルム３９０の下部に透明保護フィルム３８０が配置される。透明保護フィルム３８０は、透明延性フィルム３９０を支持し、有機発光表示装置３００の発光面を保護する。透明保護フィルム３８０は、光を下部に進行させるために、透明性を有する絶縁性高分子物質からなり得る。例えば、透明保護フィルム３８０は、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びその他の適した高分子の組み合わせで構成された薄型のプラスチックフィルムで形成され得る。

本発明のまた他の実施例に係る有機発光表示装置３００は、ガラス基板１１０の代わりに透明でフレキシブルな性質を有する透明保護フィルム３８０及び透明延性フィルム３９０を含む。これによって、より小さな曲率半径を有して多様なデザインを具現することができる。

図６ａ乃至図６ｇは、本発明のまた他の実施例に係る有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。図６ａ乃至図６ｇに示された有機発光表示装置の製造方法は、図３ａ乃至図３ｆに示された有機発光表示装置の製造方法と比較して、透明延性フィルム３９０及び透明保護フィルム３８０が使用され、これによる工程上の相違点を除いては、他の構成は実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

図６ａを参照すると、キャリアガラス基板３１０’上に透明延性フィルム３９０を形成する。このとき、キャリアガラス基板３１０’は、図３ａにおいて説明したものと実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

具体的に、キャリアガラス基板３１０’上に透明高分子材料をコーティングした後、製膜する。例えば、透明高分子材料は、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート及びポリカーボネートの中から選択され得る。透明高分子材料をスピンコーティング（ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（ｒｏｌｌ ｃｏａｔｉｎｇ）方式またはスリットコーティング（ｓｌｉｔ ｃｏａｔｉｎｇ）方式を利用してキャリアガラス基板３１０’上にコーティングした後、製膜して、透明延性フィルム３９０を形成する。

一方、以後、図６ｆにおいて説明するキャリアガラス基板３１０’と透明延性フィルム３９０が容易に分離され得るように、キャリアガラス基板３１０’上に透明高分子材料をコーティングする前にキャリアガラス基板３１０’上に犠牲層を先に形成してもよい。

図６ｂを参照すると、透明延性フィルム３９０上にブラックマトリックスＢＭ及び複数のカラーフィルタ１２０を形成する。ブラックマトリックスＢＭ、複数のカラーフィルタ１２０を形成する方法は、キャリアガラス基板３１０’の代わりに透明延性フィルム３９０上に形成するという点を除いては、図３ａにおいて説明した方法と実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。以後、ブラックマトリックスＢＭと複数のカラーフィルタ１２０が完成されたキャリアガラス基板３１０’の全体表面上に第２バッファ層１１２を形成する。

図６ｃを参照すると、第２バッファ層１１２上にタッチセンサ部１３０を形成する。第２バッファ層１１２上にタッチセンサ部１３０を形成する方法は、図３ｂにおいて説明した方法と実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

図６ｄを参照すると、タッチセンサ部１３０の全体表面上に第１バッファ層１１４を形成し、第１バッファ層１１４上に薄膜トランジスタＴＦＴを形成する。第１バッファ層１１４及び薄膜トランジスタＴＦＴを形成する方法は、図３ｃにおいて説明した方法と実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

図６ｅを参照すると、薄膜トランジスタＴＦＴが形成されたキャリアガラス基板３１０’の上部前面に平坦化層１４６を形成し、平坦化層１４６上に有機発光素子１５０及び封止層１６０を形成する。平坦化層１４６、有機発光素子１５０及び封止層１６０を形成する方法は、図３ｄにおいて説明した方法と実質的に同一であるので、重複した説明は省略する。

図６ｆを参照すると、キャリアガラス基板３１０’を剥離する。例えば、レーザリフトオフ（Ｌａｓｅｒ ｌｉｆｔ ｏｆｆ；ＬＬＯ）工程を通してキャリアガラス基板３１０’と透明延性フィルム３９０を分離することができる。具体的に、キャリアガラス基板３１０’と透明延性フィルム３９０との間に非結晶性シリコン（Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｓｉｌｉｃｏｎ）からなる犠牲層が配置された場合、キャリアガラス基板３１０’にレーザを照射する。キャリアガラス基板３１０’に照射されたレーザは、ａ−Ｓｉ：Ｈの反応を誘導し、該当反応で発生した水素（Ｈ）によりキャリアガラス基板３１０’と透明延性フィルム３９０が互いに分離され得る。

図６ｇを参照すると、透明延性フィルム３９０の下部に透明保護フィルム３８０を形成し、封止層１６０の上部にカバー基材１７０を形成する。

本発明の多様な実施例に係る有機発光表示装置は、下記のように説明され得る。

本発明の一実施例に係る有機表示装置は、透明基材、透明基材の上部に配置されるタッチ電極、及びタッチ電極をカバーするタッチ保護層を含むタッチセンサ部、タッチセンサ部の下部または上部に配置され、複数の開口領域を定義するブラックマトリックス、ブラックマトリックスと同一平面上に配置され、複数の開口領域に対応する複数のカラーフィルタ、タッチセンサ部及び複数のカラーフィルタのうちの上側のものの上部に配置される第１バッファ層、第１バッファ層の上部に配置される薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタの上部に配置され、複数の開口領域に対応する有機発光素子を含む。

本発明の他の特徴によれば、第１バッファ層は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）及びアルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）からなる群から選択された単層または複層であってよい。

本発明のまた他の特徴によれば、ブラックマトリックス及び複数のカラーフィルタは、タッチセンサ部の下部に配置され、第１バッファ層は、タッチセンサ部上に配置され、複数のカラーフィルタとタッチセンサ部との間に配置されて、複数のカラーフィルタの上部を平坦化する第２バッファ層をさらに含むことができる。

第２のバッファ層はバリアの性質を有する無機材料から形成されてもよい。

本発明のまた他の特徴によれば、タッチ電極は、第２バッファ層上に直接接触するように配置され得る。

本発明のまた他の特徴によれば、ブラックマトリックス及び複数のカラーフィルタは、タッチセンサ部上に配置されてもよい。

複数のカラーフィルタ上に配置されて、複数のカラーフィルタの上部を平坦化する前記第２バッファ層がさらに含んでもよく、第１バッファ層は、第２バッファ層と薄膜トランジスタとの間に配置され得る。

本発明のまた他の特徴によれば、ブラックマトリックスは、タッチ保護層上に直接接触するように配置され得る。

本発明のまた他の特徴によれば、有機発光素子上に配置される封止層及び封止層上に配置されるカバー基材をさらに含むことができる。

本発明のまた他の特徴によれば、透明基材は、ガラス（ｇｌａｓｓ）基板であってよい。

本発明のまた他の特徴によれば、ガラス基板の厚さは、３０ｕｍ乃至２００ｕｍであってよい。

本発明のまた他の特徴によれば、ガラス基板は、有機発光素子と向かい合う内部面、及び内部面に対向する外部面を含み、ガラス基板は、有機発光表示装置のフォールディングまたはベンディングが可能であるように外部面から内側に形成された開口パターンまたは凹パターンを含むことができる。

本発明のまた他の特徴によれば、ブラックマトリックス及びタッチ電極のいずれか一つは、ガラス基板上に直接接触するように配置され得る。

本発明のまた他の特徴によれば、透明基材は、ポリイミドからなる透明延性フィルムであり、透明延性フィルムの下部に貼り付けられる透明保護フィルムをさらに含むことができる。

本発明のまた他の特徴によれば、有機発光表示装置は、有機発光素子から放出された光が透明基材に放出される下部発光（ｂｏｔｔｏｍ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）方式であってよい。

本発明の一実施例に係る有機発光表示装置の製造方法は、キャリアガラス基板の上部にブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するステップ、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部の上部に第１バッファ層を形成するステップ、第１バッファ層の上部に薄膜トランジスタを形成するステップ、薄膜トランジスタを覆うように平坦化層を形成するステップ、平坦化層の上部にアノード、有機発光層及びカソードを含む有機発光素子を形成するステップ、及び有機発光素子の上部に封止層を形成するステップを含む。

本発明のまた他の特徴によれば、ブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するステップは、キャリアガラス基板上に複数の開口領域を定義するようにブラックマトリックスを形成するステップ、複数の開口領域を満たすように複数のカラーフィルタを形成するステップ、複数のカラーフィルタの上部前面に第２バッファ層を形成するステップ、及び第２バッファ層上にタッチ電極を形成し、タッチ電極の上部前面を覆うようにタッチ保護層を形成するステップを含むことができる。

本発明のまた他の特徴によれば、ブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するステップは、キャリアガラス基板上にタッチ電極を形成し、タッチ電極の上部前面を覆うようにタッチ保護層を形成するステップ、タッチ保護層上に複数の開口領域を定義するようにブラックマトリックスを形成するステップ、及び複数の開口領域を満たすように複数のカラーフィルタを形成するステップを含むことができる。

ブラックマトリクス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサを形成するステップは、複数のカラーフィルタの上部前面に第２バッファ層を形成するステップを含んでもよい。

本発明のまた他の特徴によれば、有機発光素子上に封止層を形成するステップ、及び封止層を形成した後、キャリアガラス基板の厚さが減少するようにキャリアガラス基板の下部面を食刻するステップをさらに含むことができる。

本発明のまた他の特徴によれば、キャリアガラス基板の下部面を食刻するステップによってキャリアガラス基板の厚さが最初４００ｕｍ乃至８００ｕｍから食刻後３０ｕｍ乃至２００ｕｍに減少し得る。

本発明のまた他の特徴によれば、キャリアガラス基板の下部面から内側に凹に形成された開口パターンまたは凹パターンを形成するステップをさらに含むことができる。

本発明のまた他の特徴によれば、キャリアガラス基板上にポリイミドをコーティングして透明延性フィルムを形成するステップ；封止層を形成した後、キャリアガラス基板を剥離するステップ；及び透明延性フィルムの下面に透明保護フィルムを配置するステップをさらに含むことができる。

以上、添付の図面を参照して、本発明の実施例をさらに詳細に説明したが、本発明は、必ずしもこのような実施例に限定されるものではなく、本発明の技術思想を外れない範囲内で多様に変形実施され得る。従って、本発明に開示された実施例は、本発明の技術思想を制限するためのものではなく、説明するためのものであり、このような実施例によって本発明の技術思想の範囲が制限されるものではない。それゆえ、以上において記述した実施例は、全ての面で例示的なものであり、制限的ではないものと理解すべきである。本発明の保護範囲は、下記の請求の範囲によって解釈されるべきであり、それと同等な範囲内にある全ての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されるべきである。

Claims (23)

1. 透明基材；
   前記透明基材の上部に配置されるタッチ電極、及び前記タッチ電極をカバーするタッチ保護層を含むタッチセンサ部；
   前記タッチセンサ部の下部または上部に配置され、複数の開口領域を定義するブラックマトリックス；
   前記ブラックマトリックスと同一平面上に配置され、前記複数の開口領域に対応する複数のカラーフィルタ；
   前記タッチセンサ部及び前記複数のカラーフィルタのうちの上側にあるものの上部に配置される第１バッファ層；
   前記第１バッファ層の上部に配置される薄膜トランジスタ；及び
   前記薄膜トランジスタの上部に配置され、前記複数の開口領域に対応する有機発光素子を含む、有機発光表示装置。
2. 前記第１バッファ層は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）及びアルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）からなる群から選択された単層または多層である、請求項１に記載の有機発光表示装置。
3. 前記ブラックマトリックス及び前記複数のカラーフィルタは、前記タッチセンサ部の下部に配置され、
   前記第１バッファ層は、前記タッチセンサ部上に配置され、
   前記複数のカラーフィルタと前記タッチセンサ部との間に配置されて、前記複数のカラーフィルタの上部を平坦化する第２バッファ層をさらに含む、請求項１に記載の有機発光表示装置。
4. 前記第２バッファ層がバリアの性質を有する無機材料から形成される、請求項１から３のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
5. 前記タッチ電極は、前記第２バッファ層上に直接接触するように配置された、請求項３に記載の有機発光表示装置。
6. 前記ブラックマトリックス及び前記複数のカラーフィルタが、前記タッチセンサ部上に配置された、請求項１に記載の有機発光表示装置。
7. 前記複数のカラーフィルタ上に配置されて、前記複数のカラーフィルタの上部を平坦化する第２バッファ層をさらに含み、
   前記第１バッファ層は、前記第２バッファ層と前記薄膜トランジスタとの間に配置される、請求項６に記載の有機発光表示装置。
8. 前記ブラックマトリックスは、前記タッチ保護層上に直接接触するように配置された、請求項６に記載の有機発光表示装置。
9. 前記有機発光素子上に配置される封止層；及び
   前記封止層上に配置されるカバー基材をさらに含む、請求項１に記載の有機発光表示装置。
10. 前記透明基材は、ガラス（ｇｌａｓｓ）基板である、請求項１に記載の有機発光表示装置。
11. 前記ガラス基板の厚さは、３０ｕｍ乃至２００ｕｍである、請求項１０に記載の有機発光表示装置。
12. 前記ガラス基板は、前記有機発光素子と向かい合う内部面、及び前記内部面に対向する外部面を含み、
    前記ガラス基板は、前記有機発光表示装置のフォールディングまたはベンディングが可能であるように前記外部面から内側に形成された開口パターンまたは凹パターンを含む、請求項１１に記載の有機発光表示装置。
13. 前記ブラックマトリックス及び前記タッチ電極のいずれか一つは、前記ガラス基板上に直接接触するように配置された、請求項１０に記載の有機発光表示装置。
14. 前記透明基材は、ポリイミドからなる透明延性フィルムであり、
    前記透明延性フィルムの下部に貼り付けられる透明保護フィルムをさらに含む、請求項１に記載の有機発光表示装置。
15. 前記有機発光表示装置は、前記有機発光素子から放出された光が前記透明基材に放出される下部発光（ｂｏｔｔｏｍ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）方式である、請求項１に記載の有機発光表示装置。
16. キャリアガラス基板の上部にブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するステップ；
    前記複数のカラーフィルタ及び前記タッチセンサ部の上部に第１バッファ層を形成するステップ；
    前記第１バッファ層の上部に薄膜トランジスタを形成するステップ；
    前記薄膜トランジスタを覆うように平坦化層を形成するステップ；
    前記平坦化層の上部にアノード、有機発光層及びカソードを含む有機発光素子を形成するステップ；及び
    前記有機発光素子の上部に封止層を形成するステップを含む、有機発光表示装置の製造方法。
17. 前記ブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するステップは、
    前記キャリアガラス基板上に複数の開口領域を定義するように前記ブラックマトリックスを形成するステップ；
    前記複数の開口領域を満たすように前記複数のカラーフィルタを形成するステップ；
    前記複数のカラーフィルタの上部前面に第２バッファ層を形成するステップ；及び
    前記第２バッファ層上にタッチ電極を形成し、前記タッチ電極の上部前面を覆うようにタッチ保護層を形成するステップを含む、請求項１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
18. 前記ブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサ部を形成するステップは、
    前記キャリアガラス基板上にタッチ電極を形成し、前記タッチ電極の上部前面を覆うようにタッチ保護層を形成するステップ；
    前記タッチ保護層上に複数の開口領域を定義するように前記ブラックマトリックスを形成するステップ；及び
    前記複数の開口領域を満たすように前記複数のカラーフィルタを形成するステップを含む、請求項１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
19. 前記ブラックマトリックス、複数のカラーフィルタ及びタッチセンサを形成するステップはさらに、
    前記複数のカラーフィルタの上部前面に第２バッファ層を形成するステップを含む、請求項１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
20. 前記有機発光素子上に封止層を形成するステップ；及び
    前記封止層を形成した後、前記キャリアガラス基板の厚さが減少するように前記キャリアガラス基板の下部面を食刻するステップをさらに含む、請求項１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
21. 前記キャリアガラス基板の下部面を食刻するステップによって前記キャリアガラス基板の厚さが最初４００ｕｍ乃至８００ｕｍから食刻後３０ｕｍ乃至２００ｕｍに減少する、請求項２０に記載の有機発光表示装置の製造方法。
22. 前記キャリアガラス基板の下部面から内側に凹に形成された開口パターンまたは凹パターンを形成するステップをさらに含む、請求項２０に記載の有機発光表示装置の製造方法。
23. 前記キャリアガラス基板上にポリイミドをコーティングして透明延性フィルムを形成するステップ；
    前記封止層を形成した後、前記キャリアガラス基板を剥離するステップ；及び
    前記透明延性フィルムの下面に透明保護フィルムを配置するステップをさらに含む、請求項１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。

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