JP2021102478A

JP2021102478A - Device for stably supplying heating steam

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Publication number: JP2021102478A
Application number: JP2019235178A
Authority: JP
Inventors: 加藤　勉; Tsutomu Kato; 勉加藤
Original assignee: KATO SEIKAN TEKKOSHO KK; Kato Seikan Corp
Current assignee: KATO SEIKAN TEKKOSHO KK; Kato Seikan Corp
Priority date: 2019-12-25
Filing date: 2019-12-25
Publication date: 2021-07-15

Abstract

To provide a device for stably supplying heating steam constituted so as to prevent a terminal part of steam piping from being closed with a large amount of drain in resuming operation after stopping the operation of, for example, a pasteurizer for a relatively long time.SOLUTION: A device 1 for stably supplying heating steam according to the present invention supplies heating steam S supplied from a boiler to a remote heating part 5, and is provided with a steam header 12 at steam piping 11 for transferring the steam S from the boiler to the heating part 5 to remove drain D condensed and liquefied during transferring the steam S and transfer the steam in a dried state to the heating part 5. The steam header 12 is provided preferably in a position lower than a steam valve 52 for supplying the steam S to the heating part 5.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、例えば飲料などを充填・密封した容器を処理対象物とし、このものに加熱殺菌処理を施すパストライザに適用することが好ましい加熱用蒸気の安定供給装置に関するものである。 The present invention relates to a stable supply device for heating steam, which is preferably applied to a pastorizer in which, for example, a container filled and sealed with a beverage or the like is treated as an object to be treated and the container is heat-sterilized.

例えば飲料製造工場にあっては、ＰＥＴボトル等の容器に飲料を充填・密封した後、パストライザを通過させる間に、容器を一定の高温雰囲気におき、加熱殺菌処理を行っている。このパストライザは、容器を載置しながら搬送する搬送ラインと、その上方から殺菌処理用の温水等の処理水を吹き付けるノズル装置と、作用済みの処理水を貯留・回収する処理水タンクとを具えており、この種のパストライザにおいても種々の改良・工夫が案出されている（例えば特許文献１・２参照）。
ところで処理水タンクに回収された処理水は、例えばスチームミキサを用いて再度、加温され、処理対象物に吹き付ける処理水として再利用されることがある。この手法は、例えば図３に示すように、貯留状態の処理水Ｗを処理水タンク４からポンプＰ等でスチームミキサ５１に移送するとともに、ここで蒸気Ｓと直接、接触させて、一定温度の温水状の処理水Ｗに生成して、処理対象物Ｔに吹き付ける手法であり、処理水Ｗを再利用するものである。 For example, in a beverage manufacturing factory, a container such as a PET bottle is filled and sealed with a beverage, and then the container is placed in a constant high temperature atmosphere and heat sterilized while passing through a pastorizer. This patent riser is equipped with a transport line that transports while placing a container, a nozzle device that sprays treated water such as hot water for sterilization treatment from above, and a treated water tank that stores and collects treated treated water. Therefore, various improvements and ingenuity have been devised for this type of pasteurizer (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
By the way, the treated water collected in the treated water tank may be reheated by using, for example, a steam mixer, and reused as the treated water to be sprayed on the treated object. In this method, for example, as shown in FIG. 3, the treated water W in the stored state is transferred from the treated water tank 4 to the steam mixer 51 by a pump P or the like, and is brought into direct contact with the steam S at a constant temperature. It is a method of generating hot water-like treated water W and spraying it on the treated object T, and reuses the treated water W.

ここで、各スチームミキサ５１Ａ〜５１Ｈに加熱用の蒸気Ｓを移送・供給する蒸気配管１１について説明すると、一般的な工場レイアウトでは、高圧となるボイラーは、安全性等の観点から、パストライザ１０′を設置した工場建屋から遠く離れた場所に設けられるのが一般的となっている。結果的にボイラーからパストライザ１０′までに至る蒸気配管１１も数１０ｍから長い場合、２００〜３００ｍの長さに及ぶことがある。
また、このような長い経路となる蒸気配管１１は、特に工場建屋内では、天井に沿って、または壁面上部に沿うなど、高所に取り回され、目的のスチームミキサ５１付近から下方に降ろすような配管形態が多く採用されている。
そして、このような蒸気配管１１内では、供給される蒸気Ｓが、移送中、凝縮液化してしまうことがあった（いわゆるドレーン）。そのため、この対策として、例えば上記図３に併せ示すように、蒸気配管１１の移送経路にスチームトラップ１３を設け、ここで移送中に冷却液化したドレーンＤを回収する手法が採られている。 Here, the steam pipe 11 for transferring and supplying the steam S for heating to each steam mixer 51A to 51H will be described. In a general factory layout, a boiler having a high pressure is a pastorizer 10'from the viewpoint of safety and the like. It is generally installed in a place far away from the factory building where the steamer is installed. As a result, the steam pipe 11 from the boiler to the pastorizer 10'may also have a length of 200 to 300 m when it is several tens of meters to long.
Further, the steam pipe 11 having such a long route is routed to a high place such as along the ceiling or along the upper part of the wall surface, especially in the factory building, and is lowered from the vicinity of the target steam mixer 51. Many types of piping are used.
Then, in such a steam pipe 11, the supplied steam S may be condensed and liquefied during transfer (so-called drain). Therefore, as a countermeasure for this, for example, as shown in FIG. 3 above, a method is adopted in which a steam trap 13 is provided in the transfer path of the steam pipe 11 and the drain D liquefied during the transfer is recovered.

しかしながら、スチームトラップ１３は、運転を継続して行っているときの液抜き作用としては支障がないものの、大量のドレーンＤを蒸気配管１１から除去するには不向きであった。具体的には、例えば週末などには、工場稼働を比較的、長時間止めることがあるが、その場合に、蒸気配管１１内にドレーンＤが大量に発生してしまうことがあった。より詳細には、例えば蒸気配管１１内においてスチームミキサ５１の上部（スチームバルブ５２）までドレーンＤが溜まってしまい、当該部分まで大量のドレーンＤで塞がれた状態となってしまうことがあった（図３参照）。
このような状態で、月曜日など休み明けの運転始動時に、そのまま設備の運転を再開してしまうと、蒸気Ｓを供給する高圧によって、いわゆるウォーターハンマ現象が起こり、蒸気配管１１、スチームバルブ５２、サイレンサ、スチームミキサ５１の各部に損傷をきたしてしまうことがあった。このため月曜日など休み明けの運転始動時には、設備保全上、まず蒸気配管１１内に大量に溜まったドレーンＤを抜き取る作業を行う必要があり、これが極めてわずらわしい作業となっていた。 However, although the steam trap 13 does not hinder the liquid draining action during continuous operation, it is not suitable for removing a large amount of drain D from the steam pipe 11. Specifically, for example, on weekends, the factory operation may be stopped for a relatively long time, but in that case, a large amount of drain D may be generated in the steam pipe 11. More specifically, for example, in the steam pipe 11, the drain D may be accumulated up to the upper part (steam valve 52) of the steam mixer 51, and the drain D may be blocked by a large amount of the drain D up to that part. (See FIG. 3).
In such a state, if the operation of the equipment is restarted as it is at the start of operation after a break such as Monday, a so-called water hammer phenomenon occurs due to the high pressure for supplying steam S, and the steam pipe 11, steam valve 52, and silencer , Each part of the steam mixer 51 may be damaged. For this reason, at the start of operation after a holiday such as Monday, it is necessary to first remove a large amount of drain D accumulated in the steam pipe 11 for equipment maintenance, which is an extremely troublesome work.

特開２００５−２９６４１４号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-296414 特開２０１２−１０７２３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-10723

本発明は、このような背景を認識してなされたものであって、比較的、長時間、稼働を止めた後の運転再開時に、上述したドレーン除去作業のわずらわしさを解消すべくなされたものであって、蒸気配管の終端部が、大量のドレーンで塞がれることがないようにした、加熱用蒸気の新規な安定供給装置の開発を技術課題としたものである。 The present invention has been made in recognition of such a background, and is intended to eliminate the troublesomeness of the drain removal work described above when the operation is restarted after the operation is stopped for a relatively long time. Therefore, the technical issue is the development of a new stable supply device for heating steam so that the end portion of the steam pipe is not blocked by a large amount of drain.

すなわち請求項１記載の、加熱用蒸気の安定供給装置は、
ボイラーから供給される加熱用の蒸気を遠隔の加熱部に供給する装置であって、
前記ボイラーから加熱部まで蒸気を移送する蒸気配管にスチームヘッダを設け、蒸気の移送中に凝縮液化した水分を除去して、乾き状態の蒸気を加熱部に移送するようにしたことを特徴として成るものである。 That is, the stable supply device for heating steam according to claim 1 is
A device that supplies heating steam supplied from a boiler to a remote heating unit.
A steam header is provided in the steam pipe for transferring steam from the boiler to the heating section, and the condensed water is removed during the transfer of steam so that the dry steam is transferred to the heating section. It is a thing.

また請求項２記載の、加熱用蒸気の安定供給装置は、前記請求項１記載の要件に加え、
前記加熱部は、処理対象物を搬送しながら処理水を吹き付けて、処理対象物の加熱殺菌処理を行うパストライザにおいて処理水を適宜の温度に加熱するスチームミキサであり、
このスチームミキサは、処理水タンクから汲み上げた処理水に、加熱用蒸気を直接接触させて所望温度の処理水に生成するものであり、この処理水がノズル装置に移送され、処理対象物に吹き付けられる構成であることを特徴として成るものである。 Further, the stable supply device for heating steam according to claim 2 is in addition to the requirements according to claim 1.
The heating unit is a steam mixer that heats the treated water to an appropriate temperature in a pastorizer that performs heat sterilization treatment of the treated object by spraying the treated water while transporting the treated object.
This steam mixer directly contacts the steam for heating with the treated water pumped from the treated water tank to generate the treated water at a desired temperature, and the treated water is transferred to the nozzle device and sprayed on the object to be treated. It is characterized by having a structure that can be used.

また請求項３記載の、加熱用蒸気の安定供給装置は、前記請求項１記載の要件に加え、
前記加熱部は、処理対象物を搬送しながら処理水を吹き付けて、処理対象物の加熱殺菌処理を行うパストライザにおいて処理水を回収・貯留する処理水タンク内に設けられ、この処理水タンクの処理水中で蒸気を直吹きし、処理水を適宜の温度に加熱する吹き込み管であり、この処理水がノズル装置に移送され、処理対象物に吹き付けられる構成であることを特徴として成るものである。 Further, the stable supply device for heating steam according to claim 3 is in addition to the requirements according to claim 1.
The heating unit is provided in a treated water tank that collects and stores the treated water in a pastorizer that sprays the treated water while transporting the treated object and heat-sterilizes the treated object, and treats the treated water tank. It is a blowing pipe that directly blows steam in water and heats the treated water to an appropriate temperature, and is characterized in that the treated water is transferred to a nozzle device and sprayed on an object to be treated.

また請求項４記載の、加熱用蒸気の安定供給装置は、前記請求項１から３のいずれか１項記載の要件に加え、
前記スチームヘッダは、加熱部に蒸気を供給するためのスチームバルブよりも低い高さ位置に設けられることを特徴として成るものである。 Further, the stable supply device for heating steam according to claim 4 is in addition to the requirement according to any one of claims 1 to 3.
The steam header is characterized in that it is provided at a height position lower than that of a steam valve for supplying steam to a heating unit.

また請求項５記載の、加熱用蒸気の安定供給装置は、前記請求項１から４のいずれか１項記載の要件に加え、
前記スチームヘッダは、ボイラーから加熱部に蒸気を移送する蒸気配管が終端側で分岐する場合、分岐する前の主配管に設けられることを特徴として成るものである。 Further, the stable supply device for heating steam according to claim 5 is in addition to the requirement according to any one of claims 1 to 4.
The steam header is characterized in that, when the steam pipe for transferring steam from the boiler to the heating unit branches at the terminal side, it is provided in the main pipe before the branch.

これら各請求項記載の発明の構成を手段として前記課題の解決が図られる。
まず請求項１記載の発明によれば、ボイラーから加熱部までの蒸気配管にスチームヘッダを設けるため、移送中に蒸気が冷却・凝縮することによって生じるドレーン（復水）は、スチームヘッダで大量に除去することができ、加熱部には乾き状態の蒸気を移送することができる。
このため、例えば週末など工場稼働を比較的、長時間止めた場合でも、蒸気配管、特に加熱部上部に大量のドレーンが溜まってしまうことがなく、月曜日など週開けの作業開始時に、事前にドレーン除去など設備維持のためのわずらわしい作業を行わなくて済み、実際の作業をスムーズに開始することができる。 The above-mentioned problems can be solved by using the constitution of the invention described in each of these claims as a means.
First, according to the invention of claim 1, since the steam header is provided in the steam pipe from the boiler to the heating part, a large amount of drain (condensate) generated by cooling and condensing steam during transfer is generated by the steam header. It can be removed and dry steam can be transferred to the heating section.
For this reason, even if the factory operation is stopped for a relatively long time, for example, on weekends, a large amount of drain does not accumulate in the steam pipes, especially in the upper part of the heating part, and drains are made in advance at the start of weekly work such as Monday. You do not have to do the troublesome work to maintain the equipment such as removal, and you can start the actual work smoothly.

また請求項２記載の発明によれば、加熱部は、パストライザに設けられたスチームミキサであるため、処理対象物に吹き付ける処理水の温度を、正確に且つ確実に目的の温度に管理することができ、パストライザによる処理対象物の加熱殺菌処理が高レベルで行い得る。 Further, according to the invention of claim 2, since the heating unit is a steam mixer provided in the sterilizer, the temperature of the treated water sprayed on the object to be treated can be accurately and surely controlled to the target temperature. The heat sterilization treatment of the object to be treated by the pastorizer can be performed at a high level.

また請求項３記載の発明によれば、加熱部は、パストライザの処理水タンクに貯留された処理水中で蒸気を直吹きする吹き込み管であるため、蒸気が有する熱量を効率的に利用することができ、簡便に温水状の処理水を生成することができる。 Further, according to the invention of claim 3, since the heating unit is a blowing pipe that directly blows steam in the treated water stored in the treated water tank of the pastorizer, the amount of heat contained in the steam can be efficiently used. It is possible to easily generate hot water-like treated water.

また請求項４記載の発明によれば、スチームヘッダが、加熱部のスチームバルブよりも低い高さ位置に設けられるため、例えば週末など、工場稼働を比較的、長時間止めた場合に、加熱部の上部が大量のドレーンで塞がれてしまうことを、より確実に防止することができる。 Further, according to the invention of claim 4, since the steam header is provided at a height position lower than the steam valve of the heating unit, the heating unit is used when the factory operation is stopped for a relatively long time, for example, on a weekend. It is possible to more reliably prevent the upper part of the sill from being blocked by a large amount of drainage.

また請求項５記載の発明によれば、蒸気配管が終端側で分岐する場合、スチームヘッダは、分岐前の主配管に設けられるため、一基のスチームヘッダを設けるだけで、終端側の分岐した複数の加熱部に乾き蒸気を供給することができる。 Further, according to the invention of claim 5, when the steam pipe is branched on the terminal side, the steam header is provided on the main pipe before branching, so that the steam header is branched on the terminal side only by providing one steam header. Dry steam can be supplied to a plurality of heating units.

本発明の、加熱用蒸気の安定供給装置をパストライザに適用し、且つ加熱部をスチームミキサで構成した実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example which applied the stable supply apparatus of steam for heating to a paste razor of this invention, and made up the heating part by a steam mixer. 加熱部として吹き込み管を適用し、処理水タンクに貯留された処理水中で蒸気を直吹きするようにした他の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other embodiment which applied the blowing pipe as a heating part, and was made to blow steam directly in the treated water stored in the treated water tank. ボイラーからパストライザに蒸気を移送する蒸気配管中に、スチームトラップを設けてドレーンの除去を図る従来例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the conventional example in which a steam trap is provided in the steam pipe which transfers steam from a boiler to a pasteurizer, and drain is removed.

本発明を実施するための形態は、以下の実施例に述べるものをその一つとするとともに、更にその技術思想内において改良し得る種々の手法をも含むものである。 The embodiment for carrying out the present invention includes the ones described in the following examples as one of them, and further includes various methods that can be improved within the technical idea.

本発明の、加熱用蒸気における安定供給装置１（以下、単に「安定供給装置１」とする）」が適用されるのは、例えば飲料等が充填・密封された容器を処理対象物Ｔとして、これを加熱殺菌処理するためのパストライザ１０が代表的であり、以下の説明においてもパストライザ１０を例に挙げて説明する。もちろん安定供給装置１が適用されるのは、パストライザ１０に限定されるものではなく、加熱のみを行う加熱処理装置等にも適用し得る。 The "stable supply device 1 for heating steam (hereinafter, simply referred to as" stable supply device 1 ")" of the present invention is applied to, for example, a container filled and sealed with a beverage or the like as a processing object T. A pastryzer 10 for heat sterilizing this is typical, and the pastorizer 10 will be described as an example in the following description. Of course, the stable supply device 1 is not limited to the pastorizer 10, but can also be applied to a heat treatment device or the like that only heats.

以下、パストライザ１０の基本構成について説明しながら、安定供給装置１の具体的構成について説明する。
パストライザ１０は、上述したように例えば飲料を充填・密封したペットボトル等を処理対象物Ｔとし、このものに加熱処理ないしは冷却処理を施して、飲料の殺菌等の安定化処理を行う設備装置である。このパストライザ１０は、幅１．０〜２．３ｍ、長さ数ｍ〜十数ｍ程度の工場設備であり、一例として図１に示すように、大別してペットボトル等の処理対象物Ｔを搬送する搬送系の装置と、処理媒体となる処理水Ｗの供給系装置とを具え、処理水Ｗの供給系装置は、搬送系の装置を上下から挟むように設けられている。
すなわち、パストライザ１０は、処理水Ｗの供給系装置を構成するノズル装置３を、搬送系の装置を構成する搬送装置２の上方に配置するとともに、処理対象物Ｔに向けて噴出させた処理水Ｗを貯留・回収する処理水タンク４を、搬送装置２の下方に具えて成るものである。ここでノズル装置３に供給される処理水Ｗは、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが循環利用される。
以下、搬送装置２、ノズル装置３、処理水タンク４について説明する。 Hereinafter, the specific configuration of the stable supply device 1 will be described while explaining the basic configuration of the pastorizer 10.
As described above, the pastryzer 10 is an equipment device in which, for example, a PET bottle filled / sealed with a beverage is used as a treatment target T, and this product is heat-treated or cooled to perform stabilization treatment such as sterilization of the beverage. is there. The pastorizer 10 is a factory facility having a width of 1.0 to 2.3 m and a length of several meters to a dozen meters. As an example, as shown in FIG. 1, the pastorizer 10 is roughly classified and transports a processing object T such as a PET bottle. The transport system device and the supply system device of the treated water W serving as the treatment medium are provided, and the supply system device of the treated water W is provided so as to sandwich the transport system device from above and below.
That is, in the pastryzer 10, the nozzle device 3 that constitutes the supply system device of the treated water W is arranged above the transport device 2 that constitutes the device of the transport system, and the treated water is ejected toward the treatment object T. A treated water tank 4 for storing and recovering W is provided below the transport device 2. Here, as the treated water W supplied to the nozzle device 3, the treated water W stored in the treated water tank 4 is circulated and used.
Hereinafter, the transport device 2, the nozzle device 3, and the treated water tank 4 will be described.

搬送装置２は、容器等の処理対象物Ｔを安定的に微速（例えば１分間に２５０ｍｍ〜１０００ｍｍ）で搬送すべく、搬送面が平滑で、且つ処理水Ｗの流下を許容できるように、例えば樹脂製のコンベヤ要素を組み合わせて構成され、全体として無端軌道を描くベルト状に形成される。
この搬送装置２は、装置架台に対して支持されるとともに、搬送方向上流側にターンスプロケット２１を具え、下流側に駆動スプロケット２２を具えて成る。 In the transport device 2, for example, the transport surface is smooth and the treated water W can flow down in order to stably transport the object T to be processed such as a container at a very low speed (for example, 250 mm to 1000 mm per minute). It is composed of a combination of resin conveyor elements and is formed in the shape of a belt that draws an endless trajectory as a whole.
The transport device 2 is supported by the device stand, has a turn sprocket 21 on the upstream side in the transport direction, and has a drive sprocket 22 on the downstream side.

処理対象物Ｔは、搬送装置２による搬送を受けながら、その搬送位置に応じて受ける実質的な処理、つまりパストライザ１０によって処理対象物Ｔが受ける処理温度が異なるものであり、以下、これについて説明する。
パストライザ１０は、一例として上記図１に示すように、処理対象物Ｔの搬送方向に見て、直列状に三つの処理ゾーンに区画されて成り、これを搬送方向上流側から昇温ゾーンＺ１、殺菌ゾーンＺ２、冷却ゾーンＺ３とする。
以下、各処理ゾーンについて説明する。 The processing target object T receives substantial processing according to the transfer position while being transported by the transfer device 2, that is, the processing temperature received by the processing object T differs depending on the pastorizer 10, and this will be described below. To do.
As an example, as shown in FIG. 1, the sterilizer 10 is divided into three processing zones in series in the transport direction of the object T to be processed, and these are divided into three processing zones from the upstream side in the transport direction. The sterilization zone Z2 and the cooling zone Z3.
Hereinafter, each processing zone will be described.

昇温ゾーンＺ１は、処理対象物Ｔの温度（製品温度）を、例えば常温状態から目的の殺菌温度まで徐々に上昇させて行く処理ゾーンであり、ここでは更に三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一予備加熱区間Ｚ１１、第二予備加熱区間Ｚ１２、加熱区間Ｚ１３とする。なお、区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４とが設けられており、これらを区別して示す場合には、第一予備加熱区間Ｚ１１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ａ」、「４Ａ」とする。また、第二予備加熱区間Ｚ１２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｂ」、「４Ｂ」とする。また、加熱区間Ｚ１３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｃ」、「４Ｃ」とする。 The temperature rising zone Z1 is a treatment zone in which the temperature (product temperature) of the object T to be treated is gradually raised from, for example, a normal temperature state to a target sterilization temperature, and is further divided into three sections here. These are the first preheating section Z11, the second preheating section Z12, and the heating section Z13 from the upstream side in the transport direction. A nozzle device 3 and a treated water tank 4 are provided for each section, and when these are shown separately, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 in the first preheating section Z11 are respectively "3A". , "4A". Further, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 in the second preheating section Z12 are designated as "3B" and "4B", respectively. Further, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 in the heating section Z13 are designated as "3C" and "4C", respectively.

殺菌ゾーンＺ２は、昇温ゾーンＺ１において目的の殺菌温度まで上昇させた処理対象物Ｔを、適宜の時間、当該温度に維持して、実質的な殺菌を行う処理ゾーンであり、ここでは二つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一殺菌区間Ｚ２１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｄ」、「４Ｄ」とする。また、第二殺菌区間Ｚ２２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｅ」、「４Ｅ」とする。
なお、図中符号「（・・・）Ｚ２ｎ」で示した区間は、殺菌ゾーンＺ２のｎ番目の区間である「第ｎ殺菌区間」を示しており、これは殺菌ゾーンＺ２を三つ以上の複数区間で構成し得ることを示している。 The sterilization zone Z2 is a treatment zone in which the treatment object T raised to the target sterilization temperature in the temperature rising zone Z1 is maintained at the temperature for an appropriate period of time to perform substantial sterilization. It is divided into sections, which are referred to as a first sterilization section Z21 and a second sterilization section Z22 from the upstream side in the transport direction. Here, too, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 are provided for each section, and when these are shown separately, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 of the first sterilization section Z21 are referred to as “3D” and “3D”, respectively. 4D ". Further, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 of the second sterilization section Z22 are designated as "3E" and "4E", respectively.
The section indicated by the symbol "(...) Z2n" in the figure indicates the "nth sterilization section" which is the nth section of the sterilization zone Z2, which includes three or more sterilization zones Z2. It shows that it can be composed of multiple sections.

冷却ゾーンＺ３は、実質的な殺菌を終えた処理対象物Ｔを、常温程度まで徐々に冷まして行く処理ゾーンであり、ここでは三つの区間に分けられており、これを搬送方向上流側から、第一徐冷区間Ｚ３１、第二徐冷区間Ｚ３２、冷却区間Ｚ３３とする。ここでも区間ごとに、ノズル装置３と処理水タンク４が設けられており、これらを区別して示す場合には、第一徐冷区間Ｚ３１のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｆ」、「４Ｆ」とする。また、第二徐冷区間Ｚ３２のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｇ」、「４Ｇ」とする。また、冷却区間Ｚ３３のノズル装置３と処理水タンク４を各々「３Ｈ」、「４Ｈ」とする。 The cooling zone Z3 is a processing zone in which the processing object T that has been substantially sterilized is gradually cooled to about room temperature, and here, it is divided into three sections, which are divided into three sections from the upstream side in the transport direction. The first slow cooling section Z31, the second slow cooling section Z32, and the cooling section Z33. Here, too, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 are provided for each section, and when these are shown separately, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 in the first slow cooling section Z31 are referred to as “3F”, respectively. Let it be "4F". Further, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 in the second slow cooling section Z32 are referred to as "3G" and "4G", respectively. Further, the nozzle device 3 and the treated water tank 4 in the cooling section Z33 are designated as "3H" and "4H", respectively.

各区間における処理水Ｗの作用温度は、一例として図中に示した通りであり、各ノズル装置３Ａ〜３Ｈの上方に示した数値が、各ノズル装置３Ａ〜３Ｈからスプレーされる処理水Ｗの温度の一例である。
なお、昇温ゾーンＺ１及び殺菌ゾーンＺ２においては、各ノズル装置３Ａ〜３Ｅから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ａ〜４Ｅに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔを加熱した分、数度低下し、各処理水タンク４Ａ〜４Ｅの上方に示した数値のようになるが、この数値はあくまでも一例である。
また、冷却ゾーンＺ３においては、各ノズル装置３Ｆ〜３Ｈから放出された処理水Ｗは、各処理水タンク４Ｆ〜４Ｈに貯留・回収される時点では、処理対象物Ｔから熱を奪った分、数度上昇し、各処理水タンク４Ｆ〜４Ｈの上方に示した数値のようになるが、この数値もあくまでも一例である。 The operating temperature of the treated water W in each section is as shown in the figure as an example, and the numerical values shown above the nozzle devices 3A to 3H are the values of the treated water W sprayed from the nozzle devices 3A to 3H. This is an example of temperature.
In the temperature rising zone Z1 and the sterilization zone Z2, the treated water W discharged from the nozzle devices 3A to 3E heats the treatment object T when it is stored and recovered in the treated water tanks 4A to 4E. It decreases by several degrees and becomes the value shown above each of the treated water tanks 4A to 4E, but this value is just an example.
Further, in the cooling zone Z3, when the treated water W discharged from the nozzle devices 3F to 3H is stored and recovered in the treated water tanks 4F to 4H, the amount of heat taken from the treated object T is increased. It rises several times and becomes the value shown above each treated water tank 4F to 4H, but this value is just an example.

また、処理対象物Ｔは、このような区間を通過することに伴い、温度が刻々と変化するものであり、以下、この製品温度の変化の一例について説明しておく。
処理対象物Ｔは、例えば図１に併せ示すように、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送装置２の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃となる。
また、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となり、殺菌ゾーンＺ２の搬送中、すなわち第一殺菌区間Ｚ２１、第二殺菌区間Ｚ２２の搬送中は、この６５℃の温度で維持される。なお、加熱区間Ｚ１３では、処理対象物Ｔの温度を６５℃とするために、これよりも高温である７２℃の処理水Ｗを吹き付けるようにしている。
そして、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３の搬送中に製品温度が下げられるものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の入口で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり搬送装置２の出口付近で３８℃となる。 Further, the temperature of the object T to be processed changes every moment as it passes through such a section, and an example of this change in product temperature will be described below.
As shown in FIG. 1, for example, the object T to be processed is 5 ° C. near the inlet of the transport device 2 in the first preheating section Z11, and the transport end portion of the first preheating section Z11 and the second preheating section Z12. The temperature is 20 ° C. at the transfer start portion and 35 ° C. at the transfer end portion of the second preheating section Z12 and the transfer start portion of the heating section Z13.
Further, the temperature is 65 ° C. at the transfer end portion of the heating section Z13, and is maintained at this temperature of 65 ° C. during the transfer of the sterilization zone Z2, that is, during the transfer of the first sterilization section Z21 and the second sterilization section Z22. In the heating section Z13, in order to set the temperature of the object T to be treated to 65 ° C., the treated water W at 72 ° C., which is higher than this, is sprayed.
The product temperature of the object T to be processed is lowered during transportation in the cooling zone Z3. For example, the temperature is 65 ° C. at the inlet of the first slow cooling section Z31, the transfer end portion of the first slow cooling section Z31, and the second. The temperature is 56 ° C. at the transport start portion of the slow cooling section Z32, 44 ° C. at the transport end portion of the second slow cooling section Z32 and the transport start portion of the cooling section Z33, and near the transport end portion of the cooling section Z33, that is, near the outlet of the transport device 2. It becomes 38 ° C.

なお、パストライザ１０（搬送装置２）の各処理ゾーンを構成する区間の数は、適宜、増減させることが可能である。具体的には、処理対象物Ｔのサイズや性状、あるいは殺菌温度・殺菌時間等によって適宜増減し得るものであり、例えば昇温ゾーンＺ１を一つの予備加熱区間と加熱区間との二区間で構成することが考えられるし、あるいは殺菌ゾーンＺ２を三つの殺菌区間で構成すること等も考えられる。 The number of sections constituting each processing zone of the pastorizer 10 (conveyor device 2) can be increased or decreased as appropriate. Specifically, it can be appropriately increased or decreased depending on the size and properties of the object T to be treated, the sterilization temperature, the sterilization time, etc. For example, the temperature rising zone Z1 is composed of two sections, one preheating section and one heating section. It is also conceivable that the sterilization zone Z2 is composed of three sterilization sections.

次に、ノズル装置３について説明する。
ノズル装置３は、処理水Ｗを処理対象物Ｔにスプレー状に吹き付けるものであり、この処理水Ｗは、処理水タンク４からポンプＰで汲み上げた処理水Ｗを、後述する加熱部５で適宜加温して吹き付けに供する。ノズル装置３は、一例として上記図１に骨格的に示すように、全体として各区間において、搬送方向に見て数本から十数本程度のノズルパイプ３１を、それぞれ搬送方向を横切るように垂下状態に配置して成る。
なお、このノズルパイプ３１についても、区間ごとに区別する場合には、末尾符号Ａ〜Ｈを付して区別する。 Next, the nozzle device 3 will be described.
The nozzle device 3 sprays the treated water W onto the object T to be treated in a spray manner, and the treated water W appropriately pumps the treated water W pumped from the treated water tank 4 by the pump P in the heating unit 5 described later. Warm and use for spraying. As an example, as shown in the skeleton in FIG. 1, the nozzle device 3 hangs down several to a dozen nozzle pipes 31 in each section as a whole so as to cross the transport direction. It consists of being placed in a state.
The nozzle pipe 31 is also distinguished by adding suffixes A to H when distinguishing each section.

次に、処理水タンク４について説明する。
処理水タンク４は、各ノズル装置３Ａ〜３Ｈから放出された処理水Ｗを、搬送装置２の下方で受けて、貯留・回収するタンクであり、上述したように各区間にそれぞれ配置される。なお、各処理水タンク４に貯留・回収された処理水Ｗは、ポンプＰで汲み上げられ、加熱部５で、各区間温度に適した処理水Ｗとして各ノズル装置３に再供給される（いわゆる循環利用）。 Next, the treated water tank 4 will be described.
The treated water tank 4 is a tank that receives the treated water W discharged from the nozzle devices 3A to 3H below the transport device 2 and stores / collects the treated water tank 4, and is arranged in each section as described above. The treated water W stored and recovered in each treated water tank 4 is pumped up by the pump P and re-supplied to each nozzle device 3 by the heating unit 5 as treated water W suitable for each section temperature (so-called). Circular use).

次に、加熱部５について説明する。
加熱部５は、上述したように処理水Ｗの循環利用にあたり、各処理水タンク４Ａ〜４Ｈに貯留・回収された処理水Ｗを、各区間に適したスプレー温度に加熱するためのものであり、本実施ではスチームミキサ５１が適用される。このためスチームミキサ５１も区間ごとに設けられるものであり、これらを区別して示す場合には、末尾符号Ａ〜Ｈを付して区別する。
スチームミキサ５１は、処理水タンク４から汲み上げられた処理水Ｗに、直接、蒸気Ｓを接触させて、所望温度の処理水Ｗを生成するものである。もちろん、この蒸気Ｓは、ボイラーから供給される加熱用の蒸気Ｓであり、乾いた状態の蒸気（乾き蒸気）Ｓである。
なお、図中符号５２は、スチームミキサ５１に蒸気Ｓを供給するためのスチームバルブであり、これも各区間のスチームミキサ５１によって区別する場合には末尾符号Ａ〜Ｈを付して区別する。 Next, the heating unit 5 will be described.
The heating unit 5 is for heating the treated water W stored and recovered in each of the treated water tanks 4A to 4H to a spray temperature suitable for each section when the treated water W is recycled as described above. In this implementation, the steam mixer 51 is applied. For this reason, the steam mixer 51 is also provided for each section, and when these are distinguished, they are distinguished by adding suffixes A to H.
The steam mixer 51 directly brings the steam S into contact with the treated water W pumped up from the treated water tank 4 to generate the treated water W at a desired temperature. Of course, this steam S is steam S for heating supplied from the boiler, and is steam S in a dry state (dry steam) S.
Reference numeral 52 in the drawing is a steam valve for supplying steam S to the steam mixer 51, and when distinguishing by the steam mixer 51 in each section, reference numerals A to H are added to distinguish them.

因みに、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗが、スプレーに供される目的の温度よりも高いことが想定される場合には、当該処理水Ｗを冷却するための冷却装置を処理水タンク４に設けることができる。このような冷却装置としては、各処理水タンク４に、図示を省略する冷却水源からの配管を接続する手法が挙げられる。この場合、処理水Ｗの温度を下げるには、例えば当該配管中に設けたポンプ（図示略）を稼働させて、冷却水源から冷却水を処理水タンク４に導入し、適宜の温度に調整する。なお、冷却水としては、例えば水道水（上水）が挙げられる。 Incidentally, when it is assumed that the treated water W stored in the treated water tank 4 is higher than the target temperature to be applied to the spray, the treated water tank is provided with a cooling device for cooling the treated water W. It can be provided in 4. Examples of such a cooling device include a method of connecting a pipe from a cooling water source (not shown) to each treated water tank 4. In this case, in order to lower the temperature of the treated water W, for example, a pump (not shown) provided in the pipe is operated to introduce the cooling water from the cooling water source into the treated water tank 4 and adjust the temperature to an appropriate level. .. Examples of the cooling water include tap water (tap water).

次に、上述した処理水タンク４からノズル装置３に処理水Ｗを供給する経路について説明する。各処理水タンク４Ａ〜４Ｈに貯留された処理水Ｗは、上述したように、その温度に応じてスプレーすべきノズル装置３の区間を選択してスプレーするように構成されており、これは言わば処理水Ｗを循環使用する形態である。
具体的には、本実施例では昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗが、スチームミキサ５１Ａを経て、約３３℃の処理水Ｗとなり、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗが、スチームミキサ５１Ｇを経て、約３５℃の処理水Ｗとなり、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。なお、このような異なる区間同士、つまり昇温ゾーンＺ１の第一予備加熱区間Ｚ１１と、冷却ゾーンＺ３の第二徐冷区間Ｚ３２との間で、処理水Ｗを循環利用する形態を相互循環と称する。 Next, the path for supplying the treated water W from the treated water tank 4 to the nozzle device 3 described above will be described. As described above, the treated water W stored in each of the treated water tanks 4A to 4H is configured to select and spray the section of the nozzle device 3 to be sprayed according to the temperature thereof, so to speak. It is a form in which the treated water W is circulated and used.
Specifically, in this embodiment, the treated water W stored in the treated water tank 4A of the first preheating section Z11 in the temperature rising zone Z1 becomes the treated water W at about 33 ° C. through the steam mixer 51A and is cooled. It is transferred to the nozzle pipe 31G of the second slow cooling section Z32 in the zone Z3, and is sprayed from here toward the processing object T. On the other hand, the treated water W stored in the treated water tank 4G of the second slow cooling section Z32 in the cooling zone Z3 becomes the treated water W at about 35 ° C. through the steam mixer 51G, and the first preheating in the temperature rising zone Z1. It is transferred to the nozzle pipe 31A of the section Z11, and is sprayed from here toward the processing object T. Mutual circulation refers to a form in which the treated water W is circulated between such different sections, that is, between the first preheating section Z11 of the temperature rising zone Z1 and the second slow cooling section Z32 of the cooling zone Z3. Refer to.

また、本実施例では別の相互循環も構成されている。具体的には、昇温ゾーンＺ１の第二予備加熱区間Ｚ１２と、冷却ゾーンＺ３の第一徐冷区間Ｚ３１との相互循環である。より詳細には、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗが、スチームミキサ５１Ｂを経て、約４８℃の処理水Ｗとなり、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗが、スチームミキサ５１Ｆを経て、約５０℃の処理水Ｗとなり、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送され、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けられる。
なお、相互循環における各区間の組み合わせは変更することもあり得、例えば昇温ゾーンＺ１が、一つの予備加熱区間（第一予備加熱区間Ｚ１１）と、加熱区間Ｚ１３との二区間で構成された場合などが想定される。 In addition, another mutual circulation is also configured in this embodiment. Specifically, it is a mutual circulation between the second preheating section Z12 of the temperature rising zone Z1 and the first slow cooling section Z31 of the cooling zone Z3. More specifically, the treated water W stored in the treated water tank 4B of the second preheating section Z12 in the temperature rising zone Z1 becomes the treated water W at about 48 ° C. through the steam mixer 51B, and becomes the treated water W in the cooling zone Z3. It is transferred to the nozzle pipe 31F of the gradual cooling section Z31, and is sprayed from here toward the object T to be treated. On the other hand, the treated water W stored in the treated water tank 4F of the first slow cooling section Z31 in the cooling zone Z3 becomes the treated water W at about 50 ° C. through the steam mixer 51F, and the second preheating in the temperature rising zone Z1. It is transferred to the nozzle pipe 31B of the section Z12, and is sprayed from here toward the processing object T.
The combination of each section in the mutual circulation may be changed. For example, the temperature rising zone Z1 is composed of two sections, one preheating section (first preheating section Z11) and the heating section Z13. Cases are assumed.

また、本実施例では、回収した処理水Ｗを同一区間内のノズル装置３に戻すように移送する循環利用も行っており、これを自己循環と称し、上記相互循環と区別している。
自己循環は、昇温ゾーンＺ１の加熱区間Ｚ１３、殺菌ゾーンＺ２の第一殺菌区間Ｚ２１及び第二殺菌区間Ｚ２２、冷却ゾーンＺ３の冷却区間Ｚ３３について実施されている。すなわち、これらの区間では、同じ区間内の処理水タンク４（４Ｃ・４Ｄ・４Ｅ・４Ｈ）に貯留された処理水Ｗを、同区間内のノズルパイプ３１（３１Ｃ・３１Ｄ・３１Ｅ・３１Ｈ）に戻し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けるようにしている。
なお、相互循環及び自己循環ともに、処理水タンク４から処理水Ｗを汲み上げる作用は、循環回路中に組み込まれたポンプＰが担うものである。 Further, in this embodiment, the collected treated water W is also used for circulation to be transferred so as to be returned to the nozzle device 3 in the same section, which is referred to as self-circulation and is distinguished from the above-mentioned mutual circulation.
The self-circulation is carried out for the heating section Z13 of the temperature rising zone Z1, the first sterilization section Z21 and the second sterilization section Z22 of the sterilization zone Z2, and the cooling section Z33 of the cooling zone Z3. That is, in these sections, the treated water W stored in the treated water tank 4 (4C / 4D / 4E / 4H) in the same section is transferred to the nozzle pipe 31 (31C / 31D / 31E / 31H) in the same section. It is returned and sprayed from here toward the processing object T.
In both mutual circulation and self-circulation, the action of pumping the treated water W from the treated water tank 4 is carried out by the pump P incorporated in the circulation circuit.

また本発明では、ボイラーから加熱部５のスチームミキサ５１に蒸気Ｓを移送する蒸気配管１１の途中にスチームヘッダ１２を設けるものであり、このスチームヘッダ１２によって、移送中、蒸気Ｓが冷却・凝縮して生じるドレーンＤを大量に除去することができる。
ここで本実施例では、加熱部５たるスチームミキサ５１が、区間ごとに複数存在することから、蒸気配管１１の終端側は、ボイラー側の主配管１１Ｍから分岐するように形成され、これを分岐配管１１Ｓとする。そして、上記スチームヘッダ１２は、分岐する前のの主配管１１Ｍに一基のみ設けられる。
なお、スチームヘッダ１２は、スチームミキサ５１（５１Ａ〜５１Ｈ）のスチームバルブ５２（５２Ａ〜５２Ｈ）よりも低い高さ位置に設けることが好ましく、これによって例えば週末など、工場稼働を比較的、長時間止めた場合でも、スチームミキサ５１の上部が大量のドレーンＤで塞がれてしまうことを、より確実に防止することができる。
因みにスチームヘッダ１２には、ドレーン抜き用のスチームトラップ１３を設けておくことが好ましい。 Further, in the present invention, the steam header 12 is provided in the middle of the steam pipe 11 for transferring the steam S from the boiler to the steam mixer 51 of the heating unit 5, and the steam header 12 cools and condenses the steam S during the transfer. A large amount of drain D generated as a result can be removed.
Here, in the present embodiment, since a plurality of steam mixers 51 serving as heating portions 5 exist for each section, the terminal side of the steam pipe 11 is formed so as to branch from the main pipe 11M on the boiler side, and this is branched. The pipe is 11S. Then, only one steam header 12 is provided in the main pipe 11M before branching.
The steam header 12 is preferably provided at a height lower than that of the steam valves 52 (52A to 52H) of the steam mixer 51 (51A to 51H), whereby the factory operation for a relatively long time, for example, on weekends, is performed. Even when stopped, it is possible to more reliably prevent the upper part of the steam mixer 51 from being blocked by a large amount of drain D.
Incidentally, it is preferable that the steam header 12 is provided with a steam trap 13 for draining.

パストライザ１０は、以上のような基本構造を有するものであって、以下、このようなパストライザ１０によって処理対象物Ｔを加熱殺菌する処理態様について説明する。
（１）蒸気の供給
蒸気Ｓは、ボイラーから蒸気配管１１の主配管１１Ｍを通して、パストライザ１０の加熱部５側に供給されるものであり、この際、蒸気Ｓは、スチームバルブ５２（５２Ａ〜５２Ｈ）よりも低い高さ位置に設置されたスチームヘッダ１２を経由して分岐配管１１Ｓに至り、ここから各スチームミキサ５１Ａ〜５１Ｈに供給される。
ここで蒸気Ｓは、スチームヘッダ１２を通過する際にドレーンＤが除去される。このため、スチームミキサ５１側に移送される蒸気Ｓは、乾き蒸気の状態で供給される。従って、本パストライザ１０の運転を、週末など比較的、長時間、止めても、各スチームミキサ５１Ａ〜５１Ｈ（スチームバルブ５２Ａ〜５２Ｈ）の上部に、大量のドレーンＤが溜まってしまうことを防止することができる。
そして、蒸気Ｓは、各スチームミキサ５１Ａ〜５１において各処理水タンク４Ａ〜４Ｈから汲み上げられた処理水Ｗと接触し、処理水Ｗを適宜の温度に加温する。加温された処理水Ｗは、各ノズル装置３に移送され、ここで処理対象物Ｔに吹き付けられる（スプレーされる）。なおスチームミキサ５１への蒸気Ｓの供給量、すなわちスチームミキサ５１において処理水Ｗに接触させる蒸気Ｓの供給量は、スチームバルブ５２によって制御される。 The pastryzer 10 has the above-mentioned basic structure, and a treatment mode in which the object T to be treated is sterilized by heating with such a pastryzer 10 will be described below.
(1) Steam supply The steam S is supplied from the boiler through the main pipe 11M of the steam pipe 11 to the heating portion 5 side of the pastorizer 10. At this time, the steam S is the steam valve 52 (52A to 52H). ), The branch pipe 11S is reached via the steam header 12 installed at a height lower than), and the steam mixers 51A to 51H are supplied from here.
Here, the drain D of the steam S is removed as it passes through the steam header 12. Therefore, the steam S transferred to the steam mixer 51 side is supplied in the state of dry steam. Therefore, even if the operation of the pastorizer 10 is stopped for a relatively long time such as a weekend, it is possible to prevent a large amount of drain D from accumulating on the upper parts of the steam mixers 51A to 51H (steam valves 52A to 52H). be able to.
Then, the steam S comes into contact with the treated water W pumped from the treated water tanks 4A to 4H in each of the steam mixers 51A to 51, and heats the treated water W to an appropriate temperature. The heated treated water W is transferred to each nozzle device 3 where it is sprayed (sprayed) on the object T to be treated. The amount of steam S supplied to the steam mixer 51, that is, the amount of steam S that comes into contact with the treated water W in the steam mixer 51 is controlled by the steam valve 52.

（２）処理対象物の搬送
処理対象物Ｔは、一例として図１に示すように、搬送装置２の搬送面上に正立姿勢で載置されながら、搬送方向上流の入口側から搬送方向下流の出口側に向けて搬送される。その搬送速度は、例えば２５０ｍｍ／ｍｉｎ〜１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度のほぼ一定の速度であり、この搬送過程で処理対象物Ｔは、各区間で定められた温度の処理水Ｗが上方からスプレーされて（吹き付けられて）、目的の処理が成される。以下、処理ゾーンごとに説明する。 (2) Transport of the object to be processed As shown in FIG. 1 as an example, the object T to be processed is placed in an upright posture on the transport surface of the transport device 2 from the inlet side upstream in the transport direction to the downstream in the transport direction. It is transported toward the exit side of. The transport speed is, for example, a substantially constant speed of about 250 mm / min to 1000 mm / min, and in this transport process, the treated object T is sprayed with treated water W at a temperature determined in each section from above ( (Sprayed), the desired treatment is done. Hereinafter, each processing zone will be described.

（３）昇温ゾーン
処理対象物Ｔは、まず昇温ゾーンＺ１で、殺菌に必要な温度まで徐々に加熱される。具体的には、第一予備加熱区間Ｚ１１で所定の時間、３５℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで第二予備加熱区間Ｚ１２で所定の時間、５０℃の処理水Ｗによる予備加熱を受ける。次いで加熱区間Ｚ１３で所定の時間、７２℃の処理水Ｗによる加熱を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ａ〜４Ｃに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度低下して回収され、例えば処理水タンク４Ａでは３３〜３４℃、処理水タンク４Ｂでは４８〜４９℃、処理水タンク４Ｃでは７０〜７１℃程度である。因みに、各処理水タンク４Ａ〜４Ｃに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低いことが多く、このため加熱部５たる各スチームミキサ５１Ａ〜５１Ｃによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｇ・３１Ｆ・３１Ｃには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような昇温ゾーンＺ１の搬送中に、処理対象物Ｔの製品温度は上昇するものであり、例えば第一予備加熱区間Ｚ１１の入口付近で５℃、第一予備加熱区間Ｚ１１の搬送終端部及び第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送開始部で２０℃、第二予備加熱区間Ｚ１２の搬送終端部及び加熱区間Ｚ１３の搬送開始部で３５℃、加熱区間Ｚ１３の搬送終端部で６５℃となる。 (3) Temperature rise zone The object T to be treated is first gradually heated to a temperature required for sterilization in the temperature rise zone Z1. Specifically, the first preheating section Z11 is preheated by the treated water W at 35 ° C. for a predetermined time. Next, in the second preheating section Z12, the preheating is performed by the treated water W at 50 ° C. for a predetermined time. Then, in the heating section Z13, it is heated by the treated water W at 72 ° C. for a predetermined time. The temperature of the treated water W collected in the treated water tanks 4A to 4C in each section is recovered at a temperature several degrees lower than the above temperature. For example, the treated water tank 4A has a temperature of 33 to 34 ° C. It is about 48 to 49 ° C. in 4B and about 70 to 71 ° C. in the treated water tank 4C. Incidentally, the temperature of the treated water W stored in the treated water tanks 4A to 4C is often lower than the temperature to be applied to the next spray, and therefore, the temperature is appropriately heated by the steam mixers 51A to 51C which are the heating units 5. The treated water W at the same temperature is always supplied to each of the nozzle pipes 31G, 31F, and 31C.
Further, the product temperature of the object T to be processed rises during the transfer of the temperature rising zone Z1. For example, the temperature is 5 ° C. near the inlet of the first preheating section Z11, and the first preheating section Z11 is transported. 20 ° C at the end and the transfer start of the second preheating section Z12, 35 ° C at the transfer end of the second preheating section Z12 and the transfer start of the heating section Z13, and 65 ° C at the transfer end of the heating section Z13. Become.

（４）殺菌ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、殺菌ゾーンＺ２に搬送され、ここで適宜の時間・適宜の高温状態で保持され、所望の殺菌が実質的に施される。具体的には、第一殺菌区間Ｚ２１で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。次いで第二殺菌区間Ｚ２２で所定の時間、６５℃の処理水Ｗによる殺菌を受ける。なお、殺菌ゾーンＺ２における両区間の処理水タンク４Ｄ・４Ｅに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度より数度低下するものであり、例えばいずれの処理水タンク４Ｄ・４Ｅにおいても６３〜６４℃程度となる。ここでも各処理水タンク４Ｄ・４Ｅに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低いことが多く、このため加熱部５たる各スチームミキサ５１Ｄ・５１Ｅによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｄ・３１Ｅには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような殺菌ゾーンＺ２の搬送中、具体的には第一殺菌区間Ｚ２１の搬送開始部から第二殺菌区間Ｚ２２の搬送終端部に至るまで、処理対象物Ｔは、製品温度が６５℃に維持され、実質的な殺菌が施される。 (4) Sterilization Zone After that, the object T to be treated is transported to the sterilization zone Z2, where it is held for an appropriate time and in an appropriate high temperature state, and the desired sterilization is substantially performed. Specifically, the first sterilization section Z21 is sterilized with treated water W at 65 ° C. for a predetermined time. Next, in the second sterilization section Z22, the product is sterilized with treated water W at 65 ° C. for a predetermined time. The temperature of the treated water W recovered in the treated water tanks 4D and 4E in both sections in the sterilization zone Z2 is several degrees lower than the above temperature. For example, in any of the treated water tanks 4D and 4E. It will be about 63 to 64 ° C. Here, too, the temperature of the treated water W stored in the treated water tanks 4D and 4E is often lower than the temperature to be applied to the next spray, and therefore, the temperature is appropriately heated by the steam mixers 51D and 51E, which are the heating units 5. Therefore, treated water W at the same temperature is always supplied to the nozzle pipes 31D and 31E.
Further, during the transportation of the sterilization zone Z2, specifically, from the transportation start portion of the first sterilization section Z21 to the transport end portion of the second sterilization section Z22, the product temperature of the processing object T is 65 ° C. Is maintained and substantially sterilized.

（５）冷却ゾーン
その後、処理対象物Ｔは、冷却ゾーンＺ３に搬送され、ここで殺菌直後の高温状態が、徐々に冷却されて行く。具体的には第一徐冷区間Ｚ３１で所定の時間、４８℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで第二徐冷区間Ｚ３２で所定の時間、３３℃の処理水Ｗによる徐冷を受ける。次いで冷却区間Ｚ３３で所定の時間、２８℃の処理水Ｗによる冷却を受ける。なお、各区間の処理水タンク４Ｆ〜４Ｈに回収される処理水Ｗの温度は、いずれも上記温度よりも数度上昇し、例えば処理水タンク４Ｆでは４９〜５０℃、処理水タンク４Ｇでは３４〜３５℃、処理水タンク４Ｈでは２９〜３０℃程度となる。ここでも各処理水タンク４Ｆ〜４Ｈに貯留された処理水Ｗの温度は、次のスプレーに供する温度よりも低い場合が多く、このため加熱部５たる各スチームミキサ５１Ｆ〜５１Ｈによって適宜加温するものであり、各ノズルパイプ３１Ｂ・３１Ａ・３１Ｈには、常に同じ温度の処理水Ｗが供給される。
また、このような冷却ゾーンＺ３の搬送中に、処理対象物Ｔは、製品温度が徐々に下降して行くものであり、例えば第一徐冷区間Ｚ３１の搬送開始部で６５℃、第一徐冷区間Ｚ３１の搬送終端部及び第二徐冷区間Ｚ３２の搬送開始部で５６℃、第二徐冷区間Ｚ３２の搬送終端部及び冷却区間Ｚ３３の搬送開始部で４４℃となり、冷却区間Ｚ３３の搬送終端部つまり出口付近で３８℃まで冷却される。 (5) Cooling Zone After that, the object T to be treated is transported to the cooling zone Z3, where the high temperature state immediately after sterilization is gradually cooled. Specifically, the first slow cooling section Z31 undergoes slow cooling with treated water W at 48 ° C. for a predetermined time. Then, in the second slow cooling section Z32, the treatment water W at 33 ° C. is slowly cooled for a predetermined time. Next, the cooling section Z33 is cooled by the treated water W at 28 ° C. for a predetermined time. The temperature of the treated water W collected in the treated water tanks 4F to 4H in each section rises several degrees above the above temperature, for example, 49 to 50 ° C. in the treated water tank 4F and 34 in the treated water tank 4G. It is about 35 ° C., and in the treated water tank 4H, it is about 29 to 30 ° C. Here, too, the temperature of the treated water W stored in the treated water tanks 4F to 4H is often lower than the temperature to be applied to the next spray, and therefore, the temperature is appropriately heated by the steam mixers 51F to 51H, which are the heating units 5. The treated water W at the same temperature is always supplied to each of the nozzle pipes 31B, 31A, and 31H.
Further, during the transportation of the cooling zone Z3, the product temperature of the object T to be processed gradually decreases. For example, at the transportation start portion of the first slow cooling section Z31, the temperature of the processing object T is 65 ° C. The temperature is 56 ° C. at the transport end of the cold section Z31 and the transport start of the second slow cooling section Z32, and 44 ° C at the transport end of the second slow cooling section Z32 and the transport start of the cooling section Z33. It is cooled to 38 ° C at the end, near the outlet.

本実施例では、上述したように昇温ゾーンＺ１と冷却ゾーンＺ３との間で処理水Ｗを相互循環させている。具体的には、まず一つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗを、スチームミキサ５１Ａ経由で冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２のノズルパイプ３１Ｇに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗを、スチームミキサ５１Ｇ経由で昇温ゾーンＺ１における第一予備加熱区間Ｚ１１のノズルパイプ３１Ａに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。
また、二つ目の相互循環として、昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗを、スチームミキサ５１Ｂ経由で冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１のノズルパイプ３１Ｆに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。一方、冷却ゾーンＺ３における第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留した処理水Ｗを、スチームミキサ５１Ｆ経由で昇温ゾーンＺ１における第二予備加熱区間Ｚ１２のノズルパイプ３１Ｂに移送し、ここから処理対象物Ｔに向けて吹き付けている。 In this embodiment, the treated water W is reciprocally circulated between the temperature rising zone Z1 and the cooling zone Z3 as described above. Specifically, as the first mutual circulation, the treated water W stored in the treated water tank 4A of the first preheating section Z11 in the temperature rising zone Z1 is passed through the steam mixer 51A to the second in the cooling zone Z3. It is transferred to the nozzle pipe 31G of the slow cooling section Z32, and is sprayed from here toward the object T to be treated. On the other hand, the treated water W stored in the treated water tank 4G of the second slow cooling section Z32 in the cooling zone Z3 is transferred to the nozzle pipe 31A of the first preheating section Z11 in the temperature rising zone Z1 via the steam mixer 51G. From here, it is sprayed toward the object T to be processed.
Further, as the second mutual circulation, the treated water W stored in the treated water tank 4B of the second preheating section Z12 in the temperature rising zone Z1 is passed through the steam mixer 51B to the first slow cooling section Z31 in the cooling zone Z3. It is transferred to the nozzle pipe 31F of the above, and is sprayed from here toward the object T to be processed. On the other hand, the treated water W stored in the treated water tank 4F of the first slow cooling section Z31 in the cooling zone Z3 is transferred to the nozzle pipe 31B of the second preheating section Z12 in the temperature rising zone Z1 via the steam mixer 51F. Is sprayed toward the object T to be processed.

このような相互循環を行うのは、第一予備加熱区間Ｚ１１の処理水タンク４Ａに貯留された処理水Ｗの温度が、第二徐冷区間Ｚ３２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第二徐冷区間Ｚ３２の処理水タンク４Ｇに貯留された処理水Ｗの温度が、第一予備加熱区間Ｚ１１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているためである。
また、第二予備加熱区間Ｚ１２の処理水タンク４Ｂに貯留された処理水Ｗの温度は、第一徐冷区間Ｚ３１で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、また第一徐冷区間Ｚ３１の処理水タンク４Ｆに貯留された処理水Ｗの温度は、第二予備加熱区間Ｚ１２で処理対象物Ｔに吹き付ける処理水Ｗの温度とほぼ同じであり、処理水Ｗの温度として、互いに適しているため、上記のような二組の相互循環が構成されている。
そして、このような相互循環を図ることにより、加熱部５たるスチームミキサ５１による加熱を行って、処理水Ｗの温度を調整する場合でも、使用するエネルギーを節約することができる。なお、このような処理水Ｗの相互循環利用を交流と称することもある。 Such mutual circulation is performed because the temperature of the treated water W stored in the treated water tank 4A of the first preheating section Z11 is the temperature of the treated water W sprayed on the treatment object T in the second slow cooling section Z32. The temperature of the treated water W stored in the treated water tank 4G of the second slow cooling section Z32 is almost the same as the temperature of the treated water W sprayed on the treatment object T in the first preheating section Z11. This is because the temperature of the treated water W is suitable for each other.
Further, the temperature of the treated water W stored in the treated water tank 4B of the second preheating section Z12 is substantially the same as the temperature of the treated water W sprayed on the treatment object T in the first slow cooling section Z31, and the temperature of the treated water W is almost the same. The temperature of the treated water W stored in the treated water tank 4F of the slow cooling section Z31 is substantially the same as the temperature of the treated water W sprayed on the treatment object T in the second preheating section Z12, and is the temperature of the treated water W. Since they are suitable for each other, two sets of mutual circulation as described above are configured.
Then, by achieving such mutual circulation, the energy used can be saved even when the temperature of the treated water W is adjusted by heating by the steam mixer 51 which is the heating unit 5. In addition, such mutual circulation use of treated water W may be referred to as alternating current.

〔他の実施例〕
本発明は以上述べた実施例を一つの基本的な技術思想とするものであるが、更に次のような改変が考えられる。
まず、上述した基本の実施例では、昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を、ともに三つの区間で形成したが、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではない。具体的には、例えば昇温ゾーンＺ１及び冷却ゾーンＺ３を四つ以上の区間で形成することも可能であるし、あるいは昇温ゾーンＺ１を二つの区間で形成することも可能である。また、上述した基本の実施例では、相互循環を二組形成したが、特に上記区間数などに応じて、相互循環は一組だけ設けるようにしても構わない。 [Other Examples]
The present invention is one of the basic technical ideas of the above-described embodiment, but the following modifications can be further considered.
First, in the above-mentioned basic embodiment, both the temperature rising zone Z1 and the cooling zone Z3 are formed by three sections, but the present invention is not necessarily limited to this. Specifically, for example, the temperature rising zone Z1 and the cooling zone Z3 can be formed in four or more sections, or the temperature rising zone Z1 can be formed in two sections. Further, in the above-mentioned basic embodiment, two sets of mutual circulations are formed, but only one set of mutual circulations may be provided depending on the number of sections and the like.

また、上述した基本の実施例では、加熱部５としてスチームミキサ５１を適用し、処理水タンク４から汲み上げた処理水Ｗを、スチームミキサ５１で蒸気Ｓと接触させ、適宜の温度に加熱してからノズル装置３に移送する形態を示した。
しかしながら、加熱部５としては、必ずしもこのようなスチームミキサ５１に限定されるものではなく、例えば図２に示すように、処理水タンク４に貯留された処理水Ｗ中に蒸気Ｓを噴出状に供給し（いわゆる直吹き）、貯留された処理水Ｗを全体的に加温する手法も採り得る。ここで処理水Ｗ中に蒸気Ｓを直吹きする管を吹き込み管５５と称するものであり、これを各区間つまり各処理水タンク４Ａ〜４Ｈで区別する場合には、末尾符号Ａ〜Ｈを付して区別する。また、このような吹き込み管５５は、吹き出し側を枝分かれ状の分岐管５６とすることが好ましく、これにより処理水Ｗ中に均一に蒸気Ｓを噴出させることができ、処理水Ｗをほぼ均等に加温することができる。
また、分岐管５６の吹き出し口には、サイレンサ５７を設けることが好ましく、これにより蒸気吹き込み時の破裂音や衝撃を低減させることができ、よりスムーズに処理水Ｗの加温を図ることができる。
もちろん、図２においても各処理水タンク４Ａ〜４Ｈに、図示を省略する冷却装置を設けておき、貯留された処理水Ｗが、目的のスプレー温度よりも高い場合には、これを稼働させ、タンク内の処理水Ｗを適宜冷却することが可能である。 Further, in the above-mentioned basic embodiment, the steam mixer 51 is applied as the heating unit 5, and the treated water W pumped from the treated water tank 4 is brought into contact with the steam S by the steam mixer 51 and heated to an appropriate temperature. The form of transferring from the water to the nozzle device 3 is shown.
However, the heating unit 5 is not necessarily limited to such a steam mixer 51, and as shown in FIG. 2, for example, the steam S is ejected into the treated water W stored in the treated water tank 4. A method of supplying (so-called direct blowing) and heating the stored treated water W as a whole can also be adopted. Here, the pipe that directly blows the steam S into the treated water W is referred to as a blowing pipe 55, and when this is distinguished by each section, that is, each treated water tank 4A to 4H, the suffixes A to H are added. To distinguish. Further, in such a blowing pipe 55, it is preferable that the blowing side is a branched branch pipe 56, whereby steam S can be uniformly ejected into the treated water W, and the treated water W can be substantially evenly ejected. Can be heated.
Further, it is preferable to provide a silencer 57 at the outlet of the branch pipe 56, which can reduce the plosive sound and impact at the time of steam blowing, and can more smoothly heat the treated water W. ..
Of course, also in FIG. 2, cooling devices (not shown) are provided in the treated water tanks 4A to 4H, and when the stored treated water W is higher than the target spray temperature, the cooling device is operated. It is possible to appropriately cool the treated water W in the tank.

１安定供給装置（加熱用蒸気の安定供給装置）
２搬送装置
３ノズル装置
４処理水タンク
５加熱部

１０パストライザ
１１蒸気配管
１１Ｍ主配管
１１Ｓ分岐配管

１２スチームヘッダ
１３スチームトラップ

２１ターンスプロケット
２２駆動スプロケット

３Ａノズル装置（第一予備加熱区間）
３Ｂノズル装置（第二予備加熱区間）
３Ｃノズル装置（加熱区間）
３Ｄノズル装置（第一殺菌区間）
３Ｅノズル装置（第二殺菌区間）
３Ｆノズル装置（第一徐冷区間）
３Ｇノズル装置（第二徐冷区間）
３Ｈノズル装置（冷却区間）

４Ａ処理水タンク（第一予備加熱区間）
４Ｂ処理水タンク（第二予備加熱区間）
４Ｃ処理水タンク（加熱区間）
４Ｄ処理水タンク（第一殺菌区間）
４Ｅ処理水タンク（第二殺菌区間）
４Ｆ処理水タンク（第一徐冷区間）
４Ｇ処理水タンク（第二徐冷区間）
４Ｈ処理水タンク（冷却区間）

５Ａ加温装置（第一予備加熱区間）
５Ｂ加温装置（第二予備加熱区間）
５Ｃ加温装置（加熱区間）
５Ｄ加温装置（第一殺菌区間）
５Ｅ加温装置（第二殺菌区間）
５Ｆ加温装置（第一徐冷区間）
５Ｇ加温装置（第二徐冷区間）
５Ｈ加温装置（冷却区間）

３１ノズルパイプ
３１Ａノズルパイプ（第一予備加熱区間）
３１Ｂノズルパイプ（第二予備加熱区間）
３１Ｃノズルパイプ（加熱区間）
３１Ｄノズルパイプ（第一殺菌区間）
３１Ｅノズルパイプ（第二殺菌区間）
３１Ｆノズルパイプ（第一徐冷区間）
３１Ｇノズルパイプ（第二徐冷区間）
３１Ｈノズルパイプ（冷却区間）

５１スチームミキサ
５１Ａスチームミキサ（第一予備加熱区間）
５１Ｂスチームミキサ（第二予備加熱区間）
５１Ｃスチームミキサ（加熱区間）
５１Ｄスチームミキサ（第一殺菌区間）
５１Ｅスチームミキサ（第二殺菌区間）
５１Ｆスチームミキサ（第一徐冷区間）
５１Ｇスチームミキサ（第二徐冷区間）
５１Ｈスチームミキサ（冷却区間）

５２スチームバルブ
５２Ａスチームバルブ（第一予備加熱区間）
５２Ｂスチームバルブ（第二予備加熱区間）
５２Ｃスチームバルブ（加熱区間）
５２Ｄスチームバルブ（第一殺菌区間）
５２Ｅスチームバルブ（第二殺菌区間）
５２Ｆスチームバルブ（第一徐冷区間）
５２Ｇスチームバルブ（第二徐冷区間）
５２Ｈスチームバルブ（冷却区間）

５５吹き込み管
５５Ａ吹き込み管（第一予備加熱区間）
５５Ｂ吹き込み管（第二予備加熱区間）
５５Ｃ吹き込み管（加熱区間）
５５Ｄ吹き込み管（第一殺菌区間）
５５Ｅ吹き込み管（第二殺菌区間）
５５Ｆ吹き込み管（第一徐冷区間）
５５Ｇ吹き込み管（第二徐冷区間）
５５Ｈ吹き込み管（冷却区間）
５６分岐管
５７サイレンサ

Ｔ処理対象物
Ｗ処理水
Ｐポンプ
Ｓ蒸気
Ｄドレーン

Ｚ１昇温ゾーン
Ｚ１１第一予備加熱区間
Ｚ１２第二予備加熱区間
Ｚ１３加熱区間

Ｚ２殺菌ゾーン
Ｚ２１第一殺菌区間
Ｚ２２第二殺菌区間
Ｚ２ｎ第ｎ殺菌区間

Ｚ３冷却ゾーン
Ｚ３１第一徐冷区間
Ｚ３２第二徐冷区間
Ｚ３３冷却区間 1 Stable supply device (stable supply device for heating steam)
2 Conveyor device 3 Nozzle device 4 Treated water tank 5 Heating unit

10 Pastorizer 11 Steam piping 11M Main piping 11S Branch piping

12 steam header 13 steam trap

21 turn sprocket 22 drive sprocket

3A nozzle device (first preheating section)
3B nozzle device (second preheating section)
3C nozzle device (heating section)
3D nozzle device (first sterilization section)
3E nozzle device (second sterilization section)
3F nozzle device (first slow cooling section)
3G nozzle device (second slow cooling section)
3H nozzle device (cooling section)

4A treated water tank (first preheating section)
4B treated water tank (second preheating section)
4C treated water tank (heating section)
4D treated water tank (first sterilization section)
4E treated water tank (second sterilization section)
4F treated water tank (first slow cooling section)
4G treated water tank (second slow cooling section)
4H treated water tank (cooling section)

5A heating device (first preheating section)
5B heating device (second preheating section)
5C heating device (heating section)
5D heating device (first sterilization section)
5E heating device (second sterilization section)
5F heating device (first slow cooling section)
5G heating device (second slow cooling section)
5H heating device (cooling section)

31 Nozzle pipe 31A Nozzle pipe (first preheating section)
31B nozzle pipe (second preheating section)
31C nozzle pipe (heating section)
31D nozzle pipe (first sterilization section)
31E Nozzle pipe (second sterilization section)
31F Nozzle pipe (first slow cooling section)
31G nozzle pipe (second slow cooling section)
31H nozzle pipe (cooling section)

51 Steam mixer 51A Steam mixer (first preheating section)
51B steam mixer (second preheating section)
51C steam mixer (heating section)
51D steam mixer (first sterilization section)
51E steam mixer (second sterilization section)
51F steam mixer (first slow cooling section)
51G steam mixer (second slow cooling section)
51H steam mixer (cooling section)

52 Steam valve 52A Steam valve (first preheating section)
52B steam valve (second preheating section)
52C steam valve (heating section)
52D steam valve (first sterilization section)
52E steam valve (second sterilization section)
52F steam valve (first slow cooling section)
52G steam valve (second slow cooling section)
52H steam valve (cooling section)

55 Blow-in pipe 55A Blow-in pipe (first preheating section)
55B blow pipe (second preheating section)
55C blow pipe (heating section)
55D blow tube (first sterilization section)
55E blow tube (second sterilization section)
55F blow pipe (first slow cooling section)
55G blow pipe (second slow cooling section)
55H blow pipe (cooling section)
56 Branch pipe 57 Silencer

T processing object
W Treated water P Pump S Steam D Drain

Z1 heating zone Z11 1st preheating section Z12 2nd preheating section Z13 heating section

Z2 sterilization zone Z21 1st sterilization section Z22 2nd sterilization section Z2n nth sterilization section

Z3 Cooling zone Z31 First slow cooling section Z32 Second slow cooling section Z33 Cooling section

Claims

ボイラーから供給される加熱用の蒸気を遠隔の加熱部に供給する装置であって、
前記ボイラーから加熱部まで蒸気を移送する蒸気配管にスチームヘッダを設け、蒸気の移送中に凝縮液化した水分を除去して、乾き状態の蒸気を加熱部に移送するようにしたことを特徴とする、加熱用蒸気の安定供給装置。

A device that supplies heating steam supplied from a boiler to a remote heating unit.
A steam header is provided in the steam pipe for transferring steam from the boiler to the heating section, and the condensed water is removed during the transfer of steam so that the dry steam is transferred to the heating section. , Stable supply device for heating steam.

前記加熱部は、処理対象物を搬送しながら処理水を吹き付けて、処理対象物の加熱殺菌処理を行うパストライザにおいて処理水を適宜の温度に加熱するスチームミキサであり、
このスチームミキサは、処理水タンクから汲み上げた処理水に、加熱用蒸気を直接接触させて所望温度の処理水に生成するものであり、この処理水がノズル装置に移送され、処理対象物に吹き付けられる構成であることを特徴とする請求項１記載の、加熱用蒸気の安定供給装置。

The heating unit is a steam mixer that heats the treated water to an appropriate temperature in a pastorizer that performs heat sterilization treatment of the treated object by spraying the treated water while transporting the treated object.
This steam mixer directly contacts the steam for heating with the treated water pumped from the treated water tank to generate the treated water at a desired temperature, and the treated water is transferred to the nozzle device and sprayed on the object to be treated. The stable supply device for heating steam according to claim 1, wherein the structure is as follows.

前記加熱部は、処理対象物を搬送しながら処理水を吹き付けて、処理対象物の加熱殺菌処理を行うパストライザにおいて処理水を回収・貯留する処理水タンク内に設けられ、この処理水タンクの処理水中で蒸気を直吹きし、処理水を適宜の温度に加熱する吹き込み管であり、この処理水がノズル装置に移送され、処理対象物に吹き付けられる構成であることを特徴とする請求項１記載の、加熱用蒸気の安定供給装置。

The heating unit is provided in a treated water tank that collects and stores the treated water in a pastorizer that sprays the treated water while transporting the treated object and heat-sterilizes the treated object, and treats the treated water tank. The first aspect of claim 1, wherein the blow pipe directly blows steam in water and heats the treated water to an appropriate temperature, and the treated water is transferred to a nozzle device and sprayed on an object to be treated. Stable supply device for heating steam.

前記スチームヘッダは、加熱部に蒸気を供給するためのスチームバルブよりも低い高さ位置に設けられることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の、加熱用蒸気の安定供給装置。

The stable supply device for heating steam according to any one of claims 1 to 3, wherein the steam header is provided at a height position lower than that of a steam valve for supplying steam to the heating unit. ..

前記スチームヘッダは、ボイラーから加熱部に蒸気を移送する蒸気配管が終端側で分岐する場合、分岐する前の主配管に設けられることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の、加熱用蒸気の安定供給装置。 The steam header according to any one of claims 1 to 4, wherein when the steam pipe for transferring steam from the boiler to the heating unit branches at the terminal side, the steam header is provided in the main pipe before the branch. , Stable supply device for heating steam.