JP2021096307A - Liquid crystal panel - Google Patents

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智之 木村
Tomoyuki Kimura
智之 木村
雄祐 外山
Yusuke Toyama
雄祐 外山
昌邦 藤田
Masakuni Fujita
昌邦 藤田
悟士 山本
Satoshi Yamamoto
悟士 山本
佳史 ▲高▼見
佳史 ▲高▼見
yoshifumi Takami
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Abstract

To provide a liquid crystal panel in which the display failure due to charging of a liquid crystal display device can be prevented and the visibility of the liquid crystal display device can be improved.SOLUTION: A liquid crystal panel according to the present invention includes a polarizing film with an anti-reflection film, in which the anti-reflection film, the polarizing film, and an adhesive layer are provided in this order in a stacking direction and a conductive layer is further provided, and a liquid crystal cell. A conductive layer is not provided between the polarizing film with the anti-reflection film, and the liquid crystal cell. The conductive layer in the polarizing film with the anti-reflection film has a surface resistivity of 1.0×106 Ω/square or less. The polarizing film with the anti-reflection film in a state where the polarizing film is stacked on an alkali-free glass so that the adhesive layer is in direct contact with the alkali-free glass, generates reflection light with a luminous reflectance Y of 1.1% or less when light from a CIE standard light source D65 enters a surface opposite to the adhesive layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、液晶パネルに関する。 The present invention relates to a liquid crystal panel.

液晶表示装置は、例えば、偏光フィルムが液晶セルよりも視認側に配置された構造を有する液晶パネルと、液晶パネルに光を照射する照明システムとを備える。液晶表示装置は、液晶セルに電圧を印加し、液晶セルに含まれる液晶分子の配向を調節することによって画像を表示する。 The liquid crystal display device includes, for example, a liquid crystal panel having a structure in which a polarizing film is arranged on the visual side of the liquid crystal cell, and a lighting system that irradiates the liquid crystal panel with light. The liquid crystal display device displays an image by applying a voltage to the liquid crystal cell and adjusting the orientation of the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal cell.

液晶表示装置では、その製造時、例えば粘着剤層を介して偏光フィルムを液晶セルに貼り合わせるとき、又は、使用時、例えば使用者が液晶表示装置に触れるとき、に静電気が生じる。この静電気によって、液晶表示装置が帯電することがある。液晶表示装置が帯電すると、液晶セルに含まれる液晶分子の配向が乱れ、表示不良が生じうる。液晶表示装置の帯電による表示不良を防止するために、例えば、偏光フィルム側の液晶セルの表面にＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層を配置することが知られている。 In a liquid crystal display device, static electricity is generated during its manufacture, for example, when a polarizing film is attached to a liquid crystal cell via an adhesive layer, or when it is used, for example, when a user touches the liquid crystal display device. This static electricity may charge the liquid crystal display device. When the liquid crystal display device is charged, the orientation of the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal cell is disturbed, which may cause display failure. It is known that an ITO (indium tin oxide) layer is arranged on the surface of a liquid crystal cell on the polarizing film side, for example, in order to prevent display defects due to charging of the liquid crystal display device.

しかし、コストなどの観点から、上記のＩＴＯ層は省略されることがある。例えば、特許文献１及び２には、偏光フィルム側の液晶セルの表面にＩＴＯ層が配置されておらず、粘着剤層付き偏光フィルムが液晶セルに直接接している液晶パネルが開示されている。 However, the above ITO layer may be omitted from the viewpoint of cost and the like. For example, Patent Documents 1 and 2 disclose a liquid crystal panel in which the ITO layer is not arranged on the surface of the liquid crystal cell on the polarizing film side and the polarizing film with an adhesive layer is in direct contact with the liquid crystal cell.

国際公開第２０１８／１８１４７７号International Publication No. 2018/181477 特許第５６７９３３７号公報Japanese Patent No. 5679337

偏光フィルム側の液晶セルの表面にＩＴＯ層が配置されていない液晶表示装置は、静電気が特に生じやすい環境、例えば車両の内部のように他の電子機器が周囲に存在する環境、で使用された場合に、帯電による表示不良を十分に防止することが難しい。さらに、液晶表示装置は、例えば車載用ディスプレイとして用いられる場合に、安全性の観点から良好な視認性が求められる。 The liquid crystal display device in which the ITO layer is not arranged on the surface of the liquid crystal cell on the polarizing film side has been used in an environment in which static electricity is particularly likely to occur, for example, in an environment in which other electronic devices exist in the surroundings such as inside a vehicle. In some cases, it is difficult to sufficiently prevent display defects due to charging. Further, when the liquid crystal display device is used as an in-vehicle display, for example, good visibility is required from the viewpoint of safety.

そこで本発明は、液晶表示装置の帯電による表示不良を防止するとともに、液晶表示装置の視認性を向上できる液晶パネルを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a liquid crystal panel capable of preventing display defects due to charging of the liquid crystal display device and improving the visibility of the liquid crystal display device.

本発明は、
反射防止膜、偏光フィルム及び粘着剤層を積層方向にこの順で有するとともに、導電層をさらに有する反射防止膜付き偏光フィルムと、
液晶セルと、
を備え、
前記反射防止膜付き偏光フィルムと前記液晶セルとの間には導電層が設けられておらず、
前記反射防止膜付き偏光フィルムが有する前記導電層の表面抵抗率は、１．０×１０6Ω／□以下であり、
前記反射防止膜付き偏光フィルムは、前記粘着剤層が無アルカリガラスと直接接するように前記無アルカリガラスと積層された状態で、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光が前記粘着剤層とは反対側の表面から入射したときに、視感反射率Ｙが１．１％以下である反射光を生じる、液晶パネルを提供する。 The present invention
An antireflection film, a polarizing film, and a pressure-sensitive adhesive layer are provided in this order in the stacking direction, and a polarizing film with an antireflection film further having a conductive layer.
LCD cell and
With
No conductive layer is provided between the polarizing film with an antireflection film and the liquid crystal cell.
The surface resistivity of the conductive layer polarizing film with antireflection film has is at 1.0 × 10 6 Ω / □ or less,
In the polarizing film with an antireflection film, the light from the CIE standard light source D65 is on the opposite side of the pressure-sensitive adhesive layer in a state where the pressure-sensitive adhesive layer is laminated with the non-alkali glass so as to be in direct contact with the non-alkali glass. Provided is a liquid crystal panel that produces reflected light having a visual reflectance Y of 1.1% or less when incident from a surface.

本発明によれば、液晶表示装置の帯電による表示不良を防止するとともに、液晶表示装置の視認性を向上できる液晶パネルを提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal panel capable of preventing display defects due to charging of the liquid crystal display device and improving the visibility of the liquid crystal display device.

本発明の一実施形態にかかる液晶パネルの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal panel which concerns on one Embodiment of this invention. 反射防止膜の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the antireflection film. 反射防止膜の別の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the antireflection film. 液晶パネルの変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the liquid crystal panel. 液晶パネルの別の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another modification of the liquid crystal panel. 実施例及び比較例の反射防止膜付き偏光フィルムからの反射光のａ*値及びｂ*値の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the a * value and b * value of the reflected light from the polarizing film with an antireflection film of an Example and a comparative example.

以下、本発明の詳細を説明するが、以下の説明は、本発明を特定の実施形態に制限する趣旨ではない。 Hereinafter, the details of the present invention will be described, but the following description is not intended to limit the present invention to a specific embodiment.

（液晶パネルの実施形態）
図１に示すように、本実施形態の液晶パネル１００は、反射防止膜付き偏光フィルム１５及び液晶セル２５を備える。反射防止膜付き偏光フィルム１５と液晶セル２５との間には導電層、例えばＩＴＯ層、が設けられておらず、反射防止膜付き偏光フィルム１５は、液晶セル２５に直接的又は間接的に接している。反射防止膜付き偏光フィルム１５と液晶セル２５との間には、本発明の効果を妨げない範囲で、導電層以外の他の層が配置されていてもよい。反射防止膜付き偏光フィルム１５は、反射防止膜１０、偏光フィルム２０及び粘着剤層３０を積層方向にこの順で有するとともに、導電層４０をさらに有する。導電層４０は、例えば、偏光フィルム２０と粘着剤層３０との間に配置されており、偏光フィルム２０及び粘着剤層３０のそれぞれに接している。導電層４０が偏光フィルム２０と粘着剤層３０との間に配置されている場合、導電層４０の劣化が抑制される傾向がある。ただし、導電層４０は、偏光フィルム２０と粘着剤層３０との間以外に配置されていてもよく、例えば、反射防止膜１０と偏光フィルム２０との間に配置されていてもよい。 (Implementation of Liquid Crystal Panel)
As shown in FIG. 1, the liquid crystal panel 100 of the present embodiment includes a polarizing film 15 with an antireflection film and a liquid crystal cell 25. A conductive layer, for example, an ITO layer is not provided between the polarizing film 15 with an antireflection film and the liquid crystal cell 25, and the polarizing film 15 with an antireflection film is in direct or indirect contact with the liquid crystal cell 25. ing. A layer other than the conductive layer may be arranged between the polarizing film 15 with an antireflection film and the liquid crystal cell 25 as long as the effects of the present invention are not impaired. The polarizing film 15 with an antireflection film has an antireflection film 10, a polarizing film 20, and an adhesive layer 30 in this order in the stacking direction, and further has a conductive layer 40. The conductive layer 40 is arranged between, for example, the polarizing film 20 and the pressure-sensitive adhesive layer 30, and is in contact with each of the polarizing film 20 and the pressure-sensitive adhesive layer 30. When the conductive layer 40 is arranged between the polarizing film 20 and the pressure-sensitive adhesive layer 30, deterioration of the conductive layer 40 tends to be suppressed. However, the conductive layer 40 may be arranged other than between the polarizing film 20 and the pressure-sensitive adhesive layer 30, and may be arranged, for example, between the antireflection film 10 and the polarizing film 20.

反射防止膜付き偏光フィルム１５において、導電層４０の表面抵抗率は、１．０×１０6Ω／□以下である。この程度に低い表面抵抗率を有する導電層４０は、静電気が生じやすい環境下であっても、液晶パネル１００を備える液晶表示装置の帯電による表示不良を防止することができる。導電層４０の表面抵抗率は、次の方法によって特定することができる。まず、導電層４０の表面が外部に露出している積層体を準備する。このような積層体としては、例えば、偏光フィルム２０及び導電層４０からなる積層体Ｌが挙げられる。次に、準備した積層体における導電層４０の表面について、表面抵抗率を測定する。表面抵抗率の測定は、ＪＩＳ Ｋ７１９４：１９９４又はＪＩＳ Ｋ６９１１：１９９５に規定された方法に準拠して行うことができる。一例として、導電層４０の表面抵抗率が１．０×１０5Ω／□未満である場合、導電層４０の表面抵抗率は、ロレスタ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００（三菱ケミカルアナリテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１９４：１９９４に規定された方法に準拠して測定することができる。導電層４０の表面抵抗率が１．０×１０5Ω／□以上である場合、導電層４０の表面抵抗率は、ハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０（三菱ケミカルアナリテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６９１１：１９９５に規定された方法に準拠して測定することができる。上記の測定によって得られた測定値を反射防止膜付き偏光フィルム１５における導電層４０の表面抵抗率とみなすことができる。 In the antireflection film with the polarizing film 15, the surface resistivity of the conductive layer 40 is 1.0 × 10 6 Ω / □ or less. The conductive layer 40 having such a low surface resistivity can prevent display defects due to charging of the liquid crystal display device including the liquid crystal panel 100 even in an environment where static electricity is likely to occur. The surface resistivity of the conductive layer 40 can be specified by the following method. First, a laminate in which the surface of the conductive layer 40 is exposed to the outside is prepared. Examples of such a laminate include a laminate L composed of a polarizing film 20 and a conductive layer 40. Next, the surface resistivity of the surface of the conductive layer 40 in the prepared laminate is measured. The surface resistivity can be measured according to the method specified in JIS K7194: 1994 or JIS K6911: 1995. As an example, when the surface resistivity of the conductive layer 40 is less than 1.0 × 10 5 Ω / □, the surface resistivity of the conductive layer 40 is Loresta-GP MCP-T600 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.). Therefore, the measurement can be performed in accordance with the method specified in JIS K7194: 1994. When the surface resistivity of the conductive layer 40 is 1.0 × 10 5 Ω / □ or more, the surface resistivity of the conductive layer 40 is JIS using High Restor-UP MCP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.). It can be measured according to the method specified in K6911: 1995. The measured value obtained by the above measurement can be regarded as the surface resistivity of the conductive layer 40 in the polarizing film 15 with an antireflection film.

導電層４０の表面抵抗率は、好ましくは５．０×１０5Ω／□以下であり、より好ましくは１．０×１０5Ω／□以下であり、さらに好ましくは１．０×１０4Ω／□以下であり、特に好ましくは１．０×１０3Ω／□以下である。導電層４０の表面抵抗率の下限値は、特に限定されず、例えば１．０×１０2Ω／□である。タッチセンサ又はタッチパネルを備える液晶表示装置に液晶パネル１００を用いる場合、液晶表示装置に設けられるタッチセンサ又はタッチパネルの感度を十分に確保する観点から、導電層４０の表面抵抗率は、５．０×１０2Ω／□より大きくてもよい。 The surface resistivity of the conductive layer 40 is preferably 5.0 × 10 5 Ω / □ or less, more preferably 1.0 × 10 5 Ω / □ or less, and further preferably 1.0 × 10 4 Ω. It is / □ or less, and particularly preferably 1.0 × 10 3 Ω / □ or less. The lower limit of the surface resistivity of the conductive layer 40 is not particularly limited, and is, for example, 1.0 × 10 2 Ω / □. When the liquid crystal panel 100 is used in a liquid crystal display device provided with a touch sensor or a touch panel, the surface resistance of the conductive layer 40 is 5.0 × from the viewpoint of sufficiently ensuring the sensitivity of the touch sensor or the touch panel provided in the liquid crystal display device. It may be larger than 10 2 Ω / □.

反射防止膜付き偏光フィルム１５は、粘着剤層３０が無アルカリガラスと直接接するように無アルカリガラスと積層された状態で、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光が粘着剤層３０とは反対側の表面（典型的には、反射防止膜１０の表面）から入射したときに、視感反射率Ｙが１．１％以下である反射光を生じる。このような反射光を生じる反射防止膜付き偏光フィルム１５によれば、液晶パネル１００での光の反射を抑制することができ、これにより液晶表示装置の視認性を向上することができる。なお、視感反射率Ｙは、ＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１）における三刺激値（Ｘ、Ｙ及びＺ）のＹ値を意味する。三刺激値は、ＪＩＳ Ｚ８７０１：１９９９に詳細に規定されている。 The polarizing film 15 with an antireflection film has the pressure-sensitive adhesive layer 30 laminated on the non-alkali glass so as to be in direct contact with the non-alkali glass, and the light from the CIE standard light source D65 is on the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer 30. When incident from (typically, the surface of the antireflection film 10), reflected light having a visual reflectance Y of 1.1% or less is generated. According to the polarizing film 15 with an antireflection film that generates such reflected light, it is possible to suppress the reflection of light on the liquid crystal panel 100, thereby improving the visibility of the liquid crystal display device. The visual reflectance Y means the Y value of the tristimulus values (X, Y and Z) in the XYZ color system (CIE 1931). The tristimulus values are specified in detail in JIS Z8701: 1999.

詳細には、上記の視感反射率Ｙは、次の方法によって特定することができる。まず、粘着剤層３０によって、反射防止膜付き偏光フィルム１５を無アルカリガラスに貼り付ける。無アルカリガラスは、アルカリ成分（アルカリ金属酸化物）を実質的に含まないガラスであり、詳細には、ガラスにおけるアルカリ成分の重量比率が、例えば１０００ｐｐｍ以下であり、さらには５００ｐｐｍ以下である。無アルカリガラスは、例えば板状であり、０．５ｍｍ以上の厚さを有する。次に、反射防止膜付き偏光フィルム１５と貼り合わされた表面とは反対側の無アルカリガラスの表面に黒色フィルムを貼り付ける。次に、反射防止膜１０側の反射防止膜付き偏光フィルム１５の表面に、５°の入射角でＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光を入射させる。このときに生じた正反射光について、波長３６０ｎｍ〜７４０ｎｍの範囲における分光反射率を特定し、当該分光反射率からＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１）における視感反射率Ｙを特定することができる。 Specifically, the visual reflectance Y can be specified by the following method. First, the polarizing film 15 with an antireflection film is attached to non-alkali glass by the pressure-sensitive adhesive layer 30. The non-alkali glass is a glass that does not substantially contain an alkaline component (alkali metal oxide), and more specifically, the weight ratio of the alkaline component in the glass is, for example, 1000 ppm or less, and further 500 ppm or less. The non-alkali glass is, for example, plate-shaped and has a thickness of 0.5 mm or more. Next, the black film is attached to the surface of the non-alkali glass on the opposite side of the surface to which the polarizing film 15 with the antireflection film is attached. Next, the light from the CIE standard light source D65 is incident on the surface of the polarizing film 15 with the antireflection film on the antireflection film 10 side at an incident angle of 5 °. With respect to the positively reflected light generated at this time, the spectral reflectance in the wavelength range of 360 nm to 740 nm can be specified, and the visual reflectance Y in the XYZ color system (CIE 1931) can be specified from the spectral reflectance.

視感反射率Ｙは、好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．９％以下であり、さらに好ましくは０．８％以下であり、特に好ましくは０．７％以下である。視感反射率Ｙの下限値は、特に限定されず、例えば０．１％である。 The visual reflectance Y is preferably 1.0% or less, more preferably 0.9% or less, still more preferably 0.8% or less, and particularly preferably 0.7% or less. The lower limit of the visual reflectance Y is not particularly limited, and is, for example, 0.1%.

上記の反射光のＬ*ａ*ｂ*表色系（ＣＩＥ１９７６）におけるａ*値及びｂ*値は、特に限定されないが、下記関係式（１）及び（２）を満たすことが好ましい。
−１０≦ａ*≦１０ （１）
−１８≦ｂ*≦５ （２） The a * value and the b * value of the reflected light in the L * a * b * color system (CIE1976) are not particularly limited, but it is preferable that the following relational expressions (1) and (2) are satisfied.
-10 ≤ a * ≤ 10 (1)
-18 ≤ b * ≤ 5 (2)

上記のａ*値及びｂ*値は、反射光のＸＹＺ表色系における三刺激値（Ｘ、Ｙ及びＺ）を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７８１−４：２０１３で規定された下記式（i）及び（ii）によって特定することができる。

Figure 2021096307
The above a * and b * values are the following equations (i) and (i) defined by JIS Z8781-4: 2013 using the tristimulus values (X, Y and Z) of the reflected light in the XYZ color system. It can be specified by ii).
Figure 2021096307

上記のａ*値は、好ましくは−６以上６以下であり、より好ましくは−３以上３以下である。上記のｂ*値は、好ましくは−１５以上３以下であり、より好ましくは−１０以上２以下であり、さらに好ましくは−６以上２以下であり、特に好ましくは−５以上２以下である。場合によっては、ａ*値及びｂ*値は、下記関係式（３）及び（４）を満たしていてもよい。
ｂ*≧−１．５ａ*−１５ （３）
ｂ*≦−１．５ａ*＋７．５ （４） The above a * value is preferably -6 or more and 6 or less, and more preferably -3 or more and 3 or less. The above b * value is preferably -15 or more and 3 or less, more preferably -10 or more and 2 or less, further preferably -6 or more and 2 or less, and particularly preferably -5 or more and 2 or less. In some cases, the a * value and the b * value may satisfy the following relational expressions (3) and (4).
b * ≧ -1.5a * -15 (3)
b * ≤ -1.5a * +7.5 (4)

さらに、ａ*値及びｂ*値は、下記関係式（５）及び（６）を満たしていてもよい。
ｂ*≧−１．５ａ*−５ （５）
ｂ*≦−１．５ａ*＋４．５ （６） Further, the a * value and the b * value may satisfy the following relational expressions (5) and (6).
b * ≧ -1.5a * -5 (5)
b * ≤ -1.5a * +4.5 (6)

上記の反射光のＬ*値は、例えば１２以下であり、好ましくは１０以下であり、より好ましくは８以下であり、さらに好ましくは７以下である。Ｌ*値の下限値は、特に限定されず、例えば３である。Ｌ*値は、上記の三刺激値を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７８１−４：２０１３で規定された下記式（iii）によって特定することができる。

Figure 2021096307
The L * value of the reflected light is, for example, 12 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and further preferably 7 or less. The lower limit of the L * value is not particularly limited, and is, for example, 3. The L * value can be specified by the following formula (iii) defined by JIS Z8781-4: 2013 using the above tristimulus values.
Figure 2021096307

Ｌ*値＝０、ａ*値＝０及びｂ*値＝０を満たす光（色相が完全にニュートラルな光）と、上記の反射光との色差ΔＥは、例えば２２以下であり、好ましくは１８以下であり、より好ましくは１５以下であり、さらに好ましくは１０以下であり、特に好ましくは８以下である。色差ΔＥの下限値は、特に限定されず、例えば３である。色差ΔＥは、反射光のＬ*値、ａ*値及びｂ*値を用いて、下記式（iv）に基づいて算出することができる。
ΔＥ*＝｛（Ｌ*）2＋（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2 （iv） The color difference ΔE between the light satisfying L * value = 0, a * value = 0, and b * value = 0 (light with completely neutral hue) and the reflected light is, for example, 22 or less, preferably 18. It is less than or equal to, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less, and particularly preferably 8 or less. The lower limit of the color difference ΔE is not particularly limited, and is, for example, 3. The color difference ΔE can be calculated based on the following equation (iv) using the L * value, a * value, and b * value of the reflected light.
ΔE * = {(L * ) 2 + (a * ) 2 + (b * ) 2 } 1/2 (iv)

［反射防止膜］
図２に示すように、反射防止膜１０は、第１の高屈折率層１、第１の低屈折率層２、第２の高屈折率層３及び第２の低屈折率層４を積層方向にこの順で有する。第１の高屈折率層１は、例えば、偏光フィルム２０に接している。第２の低屈折率層４は、例えば、これらの層のうち、最も視認側に位置する。 [Anti-reflective coating]
As shown in FIG. 2, the antireflection film 10 is formed by laminating a first high refractive index layer 1, a first low refractive index layer 2, a second high refractive index layer 3, and a second low refractive index layer 4. Have in this order in the direction. The first high refractive index layer 1 is in contact with, for example, the polarizing film 20. The second low refractive index layer 4 is located, for example, on the most visible side of these layers.

高屈折率層１及び３は、低屈折率層２及び４よりも高い屈折率を有する層であり、その屈折率は、例えば１．６〜３．２の範囲にある。第１の高屈折率層１の屈折率は、第２の高屈折率層３と同じであってもよく、異なっていてもよい。本明細書において、「屈折率」は、特に言及しない限り、温度２５℃で波長λ＝５５０ｎｍの光を用いて、ＪＩＳ Ｋ００６２：１９９２の規定に準拠して測定された値を意味する。 The high refractive index layers 1 and 3 are layers having a higher refractive index than the low refractive index layers 2 and 4, and the refractive index thereof is, for example, in the range of 1.6 to 3.2. The refractive index of the first high refractive index layer 1 may be the same as or different from that of the second high refractive index layer 3. As used herein, the term "refractive index" means a value measured in accordance with JIS K0062: 1992 using light at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of λ = 550 nm, unless otherwise specified.

本発明の好ましい一形態では、高屈折率層１及び３は、例えば、バインダー樹脂と当該バインダー樹脂中に分散した無機微粒子とを含む。バインダー樹脂は、代表的には電離線硬化型樹脂の硬化物であり、より具体的には紫外線硬化型樹脂の硬化物である。紫外線硬化型樹脂としては、ラジカル重合が可能な置換基を有する重合体又はオリゴマーを含む樹脂、例えば（メタ）アクリレート樹脂、が挙げられる。紫外線硬化型樹脂としての（メタ）アクリレート樹脂は、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、アクリル（メタ）アクリレート、エーテル（メタ）アクリレートなどの重合体又はオリゴマーを含む。（メタ）アクリレート樹脂は、上記の重合体又はオリゴマーに加えて、ラジカル重合性モノマー（前駆体）をさらに含んでいてもよい。このモノマーの分子量は、例えば２００〜７００である。このモノマーの具体例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ：分子量２９８）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＮＰＧＤＡ：分子量２１２）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ：分子量６３２）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ：分子量５７８）、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ：分子量２９６）が挙げられる。電離線硬化型樹脂は、必要に応じて、開始剤を含んでいてもよい。開始剤としては、例えば、ＵＶラジカル発生剤（チバ・スペシャリティ・ケミカル社製イルガキュア９０７、同１２７、同１９２など）や過酸化ベンゾイルが挙げられる。上記のバインダー樹脂は、電離線硬化型樹脂の硬化物以外に他の樹脂を含んでいてもよい。他の樹脂は、熱硬化性樹脂であってもよく、熱可塑性樹脂であってもよい。他の樹脂としては、脂肪族系樹脂（例えば、ポリオレフィン）、ウレタン系樹脂などが挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the high refractive index layers 1 and 3 include, for example, a binder resin and inorganic fine particles dispersed in the binder resin. The binder resin is typically a cured product of an ionizing wire curable resin, and more specifically, a cured product of an ultraviolet curable resin. Examples of the ultraviolet curable resin include a resin containing a polymer or oligomer having a substituent capable of radical polymerization, for example, a (meth) acrylate resin. The (meth) acrylate resin as the ultraviolet curable resin includes, for example, polymers or oligomers such as epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, acrylic (meth) acrylate, and ether (meth) acrylate. The (meth) acrylate resin may further contain a radically polymerizable monomer (precursor) in addition to the above-mentioned polymer or oligomer. The molecular weight of this monomer is, for example, 200 to 700. Specific examples of this monomer include pentaerythritol triacrylate (PETA: molecular weight 298), neopentyl glycol diacrylate (NPGDA: molecular weight 212), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA: molecular weight 632), and dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA). : Molecular weight 578), trimethylolpropane triacrylate (TMPTA: molecular weight 296) can be mentioned. The ionizing wire curable resin may contain an initiator, if necessary. Examples of the initiator include a UV radical generator (Irgacure 907, 127, 192, etc. manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and benzoyl peroxide. The above binder resin may contain other resins in addition to the cured product of the ionizing wire curable resin. The other resin may be a thermosetting resin or a thermoplastic resin. Examples of other resins include aliphatic resins (for example, polyolefins) and urethane resins.

バインダー樹脂の屈折率は、例えば１．４０〜１．６０である。バインダー樹脂の配合量は、形成される高屈折率層１００重量部に対して、例えば１０重量部〜８０重量部であり、好ましくは２０重量部〜７０重量部である。 The refractive index of the binder resin is, for example, 1.40 to 1.60. The blending amount of the binder resin is, for example, 10 parts by weight to 80 parts by weight, preferably 20 parts by weight to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the high refractive index layer to be formed.

無機微粒子の材料は、例えば、金属酸化物である。金属酸化物の具体例としては、酸化ジルコニウム（ジルコニア）（屈折率：２．１９）、酸化アルミニウム（屈折率：１．５６〜２．６２）、酸化チタン（屈折率：２．４９〜２．７４）、酸化ケイ素（屈折率：１．２５〜１．４６）が挙げられる。これらの金属酸化物は、光の吸収が小さいだけでなく、電離線硬化型樹脂や熱可塑性樹脂などの有機材料よりも高い屈折率を有しているため、高屈折率層１及び３の屈折率の調整に適している。無機微粒子は、酸化ジルコニウム又は酸化チタンを含むことが好ましい。 The material of the inorganic fine particles is, for example, a metal oxide. Specific examples of the metal oxide include zirconium oxide (zirconia) (refractive index: 2.19), aluminum oxide (refractive index: 1.56 to 2.62), and titanium oxide (refractive index: 2.49 to 2.62). 74), silicon oxide (refractive index: 1.25 to 1.46) can be mentioned. These metal oxides not only absorb less light, but also have a higher refractive index than organic materials such as ionizing ray-curable resins and thermoplastic resins, so that the refractive indexes of the high refractive index layers 1 and 3 are refracted. Suitable for adjusting the rate. The inorganic fine particles preferably contain zirconium oxide or titanium oxide.

無機微粒子の屈折率は、例えば１．６０以上であり、好ましくは１．７０〜２．８０であり、より好ましくは２．００〜２．８０である。１．６０以上の屈折率を有する無機微粒子は、高屈折率層１及び３の屈折率を調整することに適している。無機微粒子の平均粒径は、例えば１ｎｍ〜１００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜８０ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜７０ｎｍである。無機微粒子の平均粒径は、例えば、レーザー回折式粒度計などによって測定される粒度分布において、体積累積５０％に相当する粒径（ｄ５０）を意味する。 The refractive index of the inorganic fine particles is, for example, 1.60 or more, preferably 1.70 to 2.80, and more preferably 2.00 to 2.80. Inorganic fine particles having a refractive index of 1.60 or more are suitable for adjusting the refractive index of the high refractive index layers 1 and 3. The average particle size of the inorganic fine particles is, for example, 1 nm to 100 nm, preferably 10 nm to 80 nm, and more preferably 20 nm to 70 nm. The average particle size of the inorganic fine particles means a particle size (d50) corresponding to a cumulative volume of 50% in a particle size distribution measured by, for example, a laser diffraction type particle size meter.

無機微粒子は、表面改質されていなくてもよいが、表面改質されていることが好ましい。表面改質された無機微粒子は、バインダー樹脂中に良好に分散する傾向がある。表面改質は、例えば、無機微粒子の表面に表面改質剤を塗布して、表面改質剤層を形成することにより行われる。表面改質剤としては、例えば、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤などのカップリング剤；脂肪酸系界面活性剤などの界面活性剤が挙げられる。このような表面改質剤を用いると、バインダー樹脂と無機微粒子との濡れ性が向上し、バインダー樹脂と無機微粒子との界面が安定化する傾向がある。 The inorganic fine particles may not be surface-modified, but are preferably surface-modified. The surface-modified inorganic fine particles tend to disperse well in the binder resin. The surface modification is performed, for example, by applying a surface modifier to the surface of the inorganic fine particles to form a surface modifier layer. Examples of the surface modifier include coupling agents such as silane-based coupling agents and titanate-based coupling agents; and surfactants such as fatty acid-based surfactants. When such a surface modifier is used, the wettability between the binder resin and the inorganic fine particles tends to be improved, and the interface between the binder resin and the inorganic fine particles tends to be stabilized.

無機微粒子の配合量は、形成される高屈折率層１００重量部に対して、例えば１０重量部〜９０重量部であり、より好ましくは２０重量部〜８０重量部である。無機微粒子の配合量が上記の範囲内であれば、反射防止膜は、十分な機械特性を有するとともに、反射光の視感反射率Ｙを十分に低減できる傾向がある。 The blending amount of the inorganic fine particles is, for example, 10 parts by weight to 90 parts by weight, and more preferably 20 parts by weight to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the high refractive index layer to be formed. When the blending amount of the inorganic fine particles is within the above range, the antireflection film has sufficient mechanical properties and tends to be able to sufficiently reduce the visual reflectance Y of the reflected light.

バインダー樹脂と無機微粒子とを含む高屈折率層１及び３の屈折率は、例えば１．６〜２．６であり、好ましくは１．７〜２．２である。 The refractive index of the high refractive index layers 1 and 3 containing the binder resin and the inorganic fine particles is, for example, 1.6 to 2.6, preferably 1.7 to 2.2.

本発明の別の好ましい一形態では、高屈折率層１及び３は、金属酸化物又は金属窒化物を含み、好ましくは、実質的に金属酸化物又は金属窒化物からなる。金属酸化物の具体例としては、酸化チタン（ＴｉＯ2）、インジウム／スズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化タングステン（ＷＯ3）が挙げられる。金属窒化物の具体例としては、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）が挙げられる。高屈折率層１及び３は、好ましくは、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）又は酸化チタン（ＴｉＯ2）を含む。金属酸化物又は金属窒化物から構成される高屈折率層の屈折率は、例えば２．００〜２．６０であり、好ましくは２．１０〜２．４５である。 In another preferred embodiment of the invention, the high refractive index layers 1 and 3 contain a metal oxide or metal nitride, preferably substantially composed of a metal oxide or metal nitride. Specific examples of the metal oxide include titanium oxide (TiO 2 ), indium / tin oxide (ITO), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), and indium oxide (In 2 O 3). ), Tin oxide (SnO 2 ), Zirconium oxide (ZrO 2 ), Hafnium oxide (HfO 2 ), Antimon oxide (Sb 2 O 3 ), Tantal oxide (Ta 2 O 5 ), Zinc oxide (ZnO), Tungsten oxide (ZnO) WO 3 ) can be mentioned. Specific examples of the metal nitride include silicon nitride (Si 3 N 4 ). The high refractive index layers 1 and 3 preferably contain niobium oxide (Nb 2 O 5 ) or titanium oxide (TiO 2 ). The refractive index of the high refractive index layer composed of a metal oxide or a metal nitride is, for example, 2.00 to 2.60, preferably 2.10 to 2.45.

第１の高屈折率層１の材料は、第２の高屈折率層３と同じであってもよく、異なっていてもよい。 The material of the first high refractive index layer 1 may be the same as or different from that of the second high refractive index layer 3.

第１の高屈折率層１の物理膜厚は、例えば９ｎｍ〜１５ｎｍであり、好ましくは１１ｎｍ〜１３ｎｍである。第１の高屈折率層１の光学膜厚は、例えば２０ｎｍ〜３５ｎｍであり、好ましくは２５ｎｍ〜３０ｎｍである。なお、本明細書において、光学膜厚は、波長５５０ｎｍの光の屈折率と物理膜厚との積で表される値である。 The physical film thickness of the first high refractive index layer 1 is, for example, 9 nm to 15 nm, preferably 11 nm to 13 nm. The optical film thickness of the first high refractive index layer 1 is, for example, 20 nm to 35 nm, preferably 25 nm to 30 nm. In the present specification, the optical film thickness is a value represented by the product of the refractive index of light having a wavelength of 550 nm and the physical film thickness.

第２の高屈折率層３の物理膜厚は、例えば９８ｎｍ〜１２４ｎｍであり、好ましくは１１１ｎｍ〜１２０ｎｍである。第２の高屈折率層３の光学膜厚は、例えば２３０ｎｍ〜２９０ｎｍであり、好ましくは２６０ｎｍ〜２８０ｎｍである。 The physical film thickness of the second high refractive index layer 3 is, for example, 98 nm to 124 nm, preferably 111 nm to 120 nm. The optical film thickness of the second high refractive index layer 3 is, for example, 230 nm to 290 nm, preferably 260 nm to 280 nm.

低屈折率層２及び４は、高屈折率層１及び３よりも低い屈折率を有する層であり、その屈折率は、例えば１．３５〜１．５５であり、好ましくは１．４０〜１．５０である。低屈折率層２及び４と、高屈折率層１及び３との屈折率の差を適切に調節することによって、光の反射を抑制できる傾向がある。第１の低屈折率層２の屈折率は、第２の低屈折率層４と同じであってもよく、異なっていてもよい。 The low refractive index layers 2 and 4 are layers having a lower refractive index than the high refractive index layers 1 and 3, and the refractive index thereof is, for example, 1.35 to 1.55, preferably 1.40 to 1. It is .50. By appropriately adjusting the difference in refractive index between the low refractive index layers 2 and 4 and the high refractive index layers 1 and 3, the reflection of light tends to be suppressed. The refractive index of the first low refractive index layer 2 may be the same as or different from that of the second low refractive index layer 4.

低屈折率層２及び４の材料としては、例えば、金属酸化物及び金属フッ化物が挙げられる。金属酸化物の具体例としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）が挙げられる。金属フッ化物の具体例としては、フッ化マグネシウム、フッ化ケイ素酸が挙げられる。低屈折率層２及び４の材料は、屈折率の観点からフッ化マグネシウム及びフッ化ケイ素酸が好ましく、製造容易性、機械的強度、耐湿性などの観点から酸化ケイ素が好ましく、各種特性を総合的に考慮すると酸化ケイ素が好ましい。第１の低屈折率層２の材料は、第２の低屈折率層４と同じであってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the materials of the low refractive index layers 2 and 4 include metal oxides and metal fluorides. Specific examples of the metal oxide include silicon oxide (SiO 2 ). Specific examples of the metal fluoride include magnesium fluoride and silicon fluoride acid. As the materials of the low refractive index layers 2 and 4, magnesium fluoride and silicon fluoride acid are preferable from the viewpoint of refractive index, and silicon oxide is preferable from the viewpoint of ease of production, mechanical strength, moisture resistance, etc., and various properties are integrated. Silicon oxide is preferable in consideration of the above. The material of the first low refractive index layer 2 may be the same as or different from that of the second low refractive index layer 4.

低屈折率層２及び４の材料は、硬化性の含フッ素系樹脂の硬化物であってもよい。硬化性の含フッ素系樹脂は、例えば、含フッ素モノマー由来の構成単位と架橋性モノマー由来の構成単位とを有する。含フッ素モノマーの具体例としては、例えば、フルオロオレフィン類（フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールなど）、部分的に又は完全にフッ素化されたアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル誘導体類（ビスコート６ＦＭ（大阪有機化学社製）、Ｍ−２０２０（ダイキン社製）など）、完全に又は部分的にフッ素化されたビニルエーテル類などが挙げられる。架橋性モノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレートなどの分子内に架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマー；カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基などの官能基を有する（メタ）アクリレートモノマー（（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレートなど）が挙げられる。含フッ素系樹脂は、上述した化合物以外の他のモノマー（例えば、オレフィン系モノマー、（メタ）アクリレート系モノマー、スチレン系モノマー）由来の構成単位を有していてもよい。 The material of the low refractive index layers 2 and 4 may be a cured product of a curable fluorine-containing resin. The curable fluorine-containing resin has, for example, a constituent unit derived from a fluorine-containing monomer and a constituent unit derived from a crosslinkable monomer. Specific examples of the fluorine-containing monomer include fluoroolefins (fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxol, etc.). , (Meta) acrylic acid ester derivatives having partially or completely fluorinated alkyl groups (Viscort 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), M-2020 (manufactured by Daikin Co., Ltd.), etc.), completely or partially Fluorinated vinyl ethers and the like can be mentioned. Examples of the crosslinkable monomer include a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule such as glycidyl methacrylate; a (meth) acrylate monomer having a functional group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group and a sulfonic acid group. ((Meta) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, etc.) can be mentioned. The fluorine-containing resin may have a structural unit derived from a monomer other than the above-mentioned compounds (for example, an olefin-based monomer, a (meth) acrylate-based monomer, a styrene-based monomer).

第１の低屈折率層２の物理膜厚は、例えば２６ｎｍ〜３４ｎｍであり、好ましくは２７ｎｍ〜３１ｎｍである。第１の低屈折率層２の光学膜厚は、例えば３８ｎｍ〜５０ｎｍであり、好ましくは４０ｎｍ〜４５ｎｍである。 The physical film thickness of the first low refractive index layer 2 is, for example, 26 nm to 34 nm, preferably 27 nm to 31 nm. The optical film thickness of the first low refractive index layer 2 is, for example, 38 nm to 50 nm, preferably 40 nm to 45 nm.

第２の低屈折率層４の物理膜厚は、例えば６８ｎｍ〜８８ｎｍであり、好ましくは７２ｎｍ〜７９ｎｍである。第２の低屈折率層４の光学膜厚は、例えば１００ｎｍ〜１２８ｎｍであり、好ましくは１０５ｎｍ〜１１５ｎｍである。 The physical film thickness of the second low refractive index layer 4 is, for example, 68 nm to 88 nm, preferably 72 nm to 79 nm. The optical film thickness of the second low refractive index layer 4 is, for example, 100 nm to 128 nm, preferably 105 nm to 115 nm.

高屈折率層及び低屈折率層の作製方法は、特に限定されない。これらの層が樹脂を含む場合、いわゆるウェットプロセス（樹脂組成物を塗布した後に硬化）によって、これらの層を形成できる。これらの層が金属酸化物、金属フッ化物、金属窒化物などから構成される場合、いわゆるドライプロセスによって、これらの層を形成できる。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、例えば、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、例えばプラズマＣＶＤ法が挙げられる。反射光の色相のばらつきを低減する観点から、ドライプロセスとしては、スパッタリング法が好ましい。 The method for producing the high refractive index layer and the low refractive index layer is not particularly limited. When these layers contain a resin, they can be formed by a so-called wet process (curing after applying the resin composition). When these layers are composed of metal oxides, metal fluorides, metal nitrides and the like, these layers can be formed by a so-called dry process. Specific examples of the dry process include a PVD (Physical Vapor Deposition) method and a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. Examples of the PVD method include a vacuum deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion beam assist method, a sputtering method, and an ion plating method. Examples of the CVD method include a plasma CVD method. From the viewpoint of reducing the variation in the hue of the reflected light, the sputtering method is preferable as the dry process.

図２の反射防止膜１０は、高屈折率層及び低屈折率層以外の他の部材をさらに有していてもよい。図３は、反射防止膜の別の一例を示している。図３の反射防止膜１１は、基材５及び粘着剤層６をさらに有する。基材５は、例えば、第１の高屈折率層１と偏光フィルム２０との間に配置され、第１の高屈折率層１に接している。粘着剤層６は、例えば、基材５と偏光フィルム２０との間に配置され、基材５及び偏光フィルム２０のそれぞれに接している。 The antireflection film 10 of FIG. 2 may further have members other than the high refractive index layer and the low refractive index layer. FIG. 3 shows another example of the antireflection film. The antireflection film 11 of FIG. 3 further has a base material 5 and an adhesive layer 6. The base material 5 is arranged between the first high refractive index layer 1 and the polarizing film 20, for example, and is in contact with the first high refractive index layer 1. The pressure-sensitive adhesive layer 6 is arranged between, for example, the base material 5 and the polarizing film 20, and is in contact with each of the base material 5 and the polarizing film 20.

基材５は、例えば、透明性を有する樹脂フィルムを含む。このような樹脂フィルムの材料としては、例えば、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロースなど）、ポリアミド系樹脂（ナイロン−６、ナイロン−６６など）、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレートなど）、ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなど）、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリロニトリル樹脂などが挙げられる。基材５は、単一の樹脂フィルムの層であってもよく、複数の樹脂フィルムの積層体であってもよく、樹脂フィルムと後述するハードコート層との積層体であってもよい。基材５は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤の具体例としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤などが挙げられる。 The base material 5 contains, for example, a transparent resin film. Examples of the material of such a resin film include cellulose-based resins (triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetylpropionyl cellulose, nitrocellulose, etc.) and polyamide-based resins (nylon-6, nylon-66). , Polyethylene resin, Polycarbonate resin, Polyester resin (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyetane-4,4'-dicarboxy Rate, polybutylene terephthalate, etc.), polyolefin resin (polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, etc.), polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, polyetherimide resin, polymethylmethacrylate resin, poly Examples thereof include ether ketone resins, polystyrene resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl alcohol resins, ethylene vinyl alcohol resins, (meth) acrylic resins, and (meth) acrylonitrile resins. The base material 5 may be a single layer of a resin film, a laminate of a plurality of resin films, or a laminate of a resin film and a hard coat layer described later. The base material 5 may contain additives. Specific examples of the additive include an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, a colorant, an antioxidant, a flame retardant and the like.

本発明の好ましい一形態では、基材５は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムである。トリアセチルセルロースフィルムは、偏光子の保護フィルムとしても機能しうる。そのため、トリアセチルセルロースフィルムからなる基材５を有する反射防止膜１１を用いることによって、偏光フィルム２０が視認側に有している透明保護フィルムを省略できることがある。 In a preferred embodiment of the invention, the substrate 5 is a triacetyl cellulose (TAC) film. The triacetyl cellulose film can also function as a protective film for the polarizer. Therefore, by using the antireflection film 11 having the base material 5 made of the triacetyl cellulose film, the transparent protective film that the polarizing film 20 has on the visual recognition side may be omitted.

本発明の別の好ましい一形態では、基材５は、ハードコート層を含む。基材５は、ハードコート層で構成されていてもよく、樹脂フィルム及びハードコート層の積層体であってもよい。ハードコート層は、例えば、電離線硬化型樹脂の硬化層である。電離線としては、例えば、紫外線、可視光、赤外線、電子線が挙げられ、好ましくは紫外線である。すなわち、電離線硬化型樹脂は、好ましくは紫外線硬化型樹脂である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などが挙げられる。（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基を含む多官能性モノマーが紫外線により硬化した硬化物（重合物）が挙げられる。多官能性モノマーは、例えば、１種又は２種以上を組み合わせて用いられる。多官能性モノマーは、例えば、光重合開始剤と混合して用いられる。 In another preferred embodiment of the invention, the substrate 5 comprises a hard coat layer. The base material 5 may be composed of a hard coat layer, or may be a laminate of a resin film and a hard coat layer. The hard coat layer is, for example, a cured layer of an ionizing wire curable resin. Examples of the ionized wire include ultraviolet rays, visible light, infrared rays, and electron beams, and ultraviolet rays are preferable. That is, the ionizing wire curable resin is preferably an ultraviolet curable resin. Examples of the ultraviolet curable resin include (meth) acrylic resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, amide resin, epoxy resin and the like. Examples of the (meth) acrylic resin include a cured product (polymer) in which a polyfunctional monomer containing a (meth) acryloyloxy group is cured by ultraviolet rays. As the polyfunctional monomer, for example, one kind or a combination of two or more kinds is used. The polyfunctional monomer is used, for example, by mixing with a photopolymerization initiator.

ハードコート層には、無機微粒子又は有機微粒子が分散していてもよい。微粒子の平均粒径（ｄ５０）は、例えば０．０１μｍ〜３μｍである。ハードコート層に分散している微粒子としては、屈折率、安定性、耐熱性などの観点から、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）が好ましい。ハードコート層は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤の具体例としては、レベリング剤、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チキソトロピー化剤が挙げられる。さらに、ハードコート層の表面には、凹凸形状が形成されていてもよい。表面に凹凸形状を有するハードコート層は、光拡散機能（アンチグレア）を有する。 Inorganic fine particles or organic fine particles may be dispersed in the hard coat layer. The average particle size (d50) of the fine particles is, for example, 0.01 μm to 3 μm. As the fine particles dispersed in the hard coat layer, silicon oxide (SiO 2 ) is preferable from the viewpoint of refractive index, stability, heat resistance and the like. The hard coat layer may contain additives. Specific examples of the additive include a leveling agent, a filler, a dispersant, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a surfactant, an antioxidant, and a thixotropy agent. Further, the surface of the hard coat layer may have an uneven shape. The hard coat layer having an uneven shape on the surface has a light diffusing function (anti-glare).

基材５の物理膜厚は、特に限定されない。基材５が単一の樹脂フィルムの層又は複数の樹脂フィルムの積層体である場合、基材５の物理膜厚は、例えば１０μｍ〜２００μｍの範囲にある。基材５がハードコート層を含む場合、ハードコート層の物理膜厚は、例えば１μｍ〜５０μｍの範囲にある。 The physical film thickness of the base material 5 is not particularly limited. When the base material 5 is a single layer of a resin film or a laminate of a plurality of resin films, the physical film thickness of the base material 5 is, for example, in the range of 10 μm to 200 μm. When the base material 5 includes a hard coat layer, the physical film thickness of the hard coat layer is, for example, in the range of 1 μm to 50 μm.

基材５の屈折率（基材５が積層構造を有する場合は、最も第１の高屈折率層１側の層の屈折率）は、例えば１．３〜１．８であり、好ましくは１．４〜１．７である。 The refractive index of the base material 5 (when the base material 5 has a laminated structure, the refractive index of the layer on the first high refractive index layer 1 side) is, for example, 1.3 to 1.8, preferably 1. It is .4 to 1.7.

粘着剤層６は、粘着剤を含む層である。粘着剤層６に含まれる粘着剤としては、例えば、粘着性を有する樹脂が挙げられる。このような樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。粘着剤層６は、アクリル系樹脂から構成されたアクリル系粘着剤を含むことが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer 6 is a layer containing a pressure-sensitive adhesive. Examples of the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer 6 include a resin having adhesiveness. Examples of such a resin include an acrylic resin, an acrylic urethane resin, a urethane resin, and a silicone resin. The pressure-sensitive adhesive layer 6 preferably contains an acrylic pressure-sensitive adhesive composed of an acrylic resin.

粘着剤層６は、必要に応じて、添加剤をさらに含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤、酸化防止剤などが挙げられる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、過酸化物系架橋剤、メラミン系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive layer 6 may further contain additives, if necessary. Additives include, for example, cross-linking agents, tackifiers, plasticizers, pigments, dyes, fillers, anti-aging agents, conductive materials, UV absorbers, light stabilizers, release modifiers, softeners, surfactants, etc. Examples include flame retardants and antioxidants. Examples of the cross-linking agent include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, peroxide-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, urea-based cross-linking agents, metal alkoxide-based cross-linking agents, metal chelate-based cross-linking agents, and metal salt-based cross-linking agents. Examples thereof include a carbodiimide-based cross-linking agent, an oxazoline-based cross-linking agent, an aziridine-based cross-linking agent, and an amine-based cross-linking agent.

粘着剤層６の物理膜厚は、例えば５μｍ〜１００μｍであり、好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。 The physical film thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 6 is, for example, 5 μm to 100 μm, preferably 10 μm to 50 μm.

反射防止膜１１は、基材５及び粘着剤層６以外の他の部材をさらに有していてもよい。反射防止膜１１は、例えば、基材５及び第１の高屈折率層１の間に配置されたアンチグレア層をさらに有していてもよい。反射防止膜１１は、特定の部材間（例えば、基材５と第１の高屈折率層１との間、又は、アンチグレア層と第１の高屈折率層１との間）に配置された密着層をさらに有していてもよい。密着層は、部材同士の密着性を向上させる層であり、例えばシリコンやＳｉＯx（ｘ＜２）を含む。密着層の物理膜厚は、例えば１ｎｍ〜１０ｎｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５ｎｍである。密着層の屈折率は、例えば１〜２．５である。 The antireflection film 11 may further have members other than the base material 5 and the pressure-sensitive adhesive layer 6. The antireflection film 11 may further have, for example, an anti-glare layer arranged between the base material 5 and the first high refractive index layer 1. The antireflection film 11 is arranged between specific members (for example, between the base material 5 and the first high refractive index layer 1 or between the antiglare layer and the first high refractive index layer 1). It may further have an adhesion layer. The adhesion layer is a layer for improving the adhesion between members, and includes, for example, silicon and SiO x (x <2). The physical film thickness of the adhesion layer is, for example, 1 nm to 10 nm, preferably 2 nm to 5 nm. The refractive index of the close contact layer is, for example, 1 to 2.5.

反射防止膜１０及び１１は、第２の低屈折率層４よりも視認側に配置され、第２の低屈折率層４に接する防汚層をさらに有していてもよい。防汚層は、防汚効果を有する層であり、例えばフッ素系樹脂、シリコーン系樹脂から選ばれる少なくとも１つを含む。防汚層の物理膜厚は、例えば５ｎｍ〜１３ｎｍであり、好ましくは５ｎｍ〜１０ｎｍである。防汚層の屈折率は、例えば、１〜２である。 The antireflection films 10 and 11 may be arranged on the visual side of the second low refractive index layer 4 and may further have an antifouling layer in contact with the second low refractive index layer 4. The antifouling layer is a layer having an antifouling effect, and includes, for example, at least one selected from a fluorine-based resin and a silicone-based resin. The physical film thickness of the antifouling layer is, for example, 5 nm to 13 nm, preferably 5 nm to 10 nm. The refractive index of the antifouling layer is, for example, 1-2.

反射防止膜１０及び１１に対してＣＩＥ標準光源Ｄ６５から光が入射したときに生じる反射光は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系におけるａ1 *値及びｂ1 *値の絶対値が小さいことが好ましい。ａ1 *値は、例えば−６以上６以下であり、より好ましくは−３以上３以下である。ｂ1 *値は、例えば−１５以上３以下であり、好ましくは−１０以上２以下であり、より好ましくは−５以上２以下である。ａ1 *値及びｂ1 *値は、次の方法によって特定することができる。まず、反射防止膜１０の第１の高屈折率層１、第１の低屈折率層２、第２の高屈折率層３及び第２の低屈折率層４をこの順で黒色フィルムに積層させる、又は、反射防止膜１１の粘着剤層６によって、反射防止膜１１を黒色フィルムに貼り付ける。次に、第２の低屈折率層側の反射防止膜１０又は１１の表面に、５°の入射角でＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光を入射させる。このときに生じた正反射光について、波長３６０ｎｍ〜７４０ｎｍの範囲における分光反射率を特定し、当該分光反射率からＸＹＺ表色系における三刺激値を特定する。得られた三刺激値を用いて、上述した式（i）及び（ii）によってａ1 *値及びｂ1 *値を特定する。 The reflected light generated when light is incident on the antireflection films 10 and 11 from the CIE standard light source D65 has a small absolute value of a 1 * value and b 1 * value in the L * a * b * color system. Is preferable. The a 1 * value is, for example, -6 or more and 6 or less, and more preferably -3 or more and 3 or less. The b 1 * value is, for example, -15 or more and 3 or less, preferably -10 or more and 2 or less, and more preferably -5 or more and 2 or less. The a 1 * value and the b 1 * value can be specified by the following methods. First, the first high refractive index layer 1, the first low refractive index layer 2, the second high refractive index layer 3, and the second low refractive index layer 4 of the antireflection film 10 are laminated on the black film in this order. Or, the antireflection film 11 is attached to the black film by the pressure-sensitive adhesive layer 6 of the antireflection film 11. Next, the light from the CIE standard light source D65 is incident on the surface of the antireflection film 10 or 11 on the side of the second low refractive index layer at an incident angle of 5 °. With respect to the specularly reflected light generated at this time, the spectral reflectance in the wavelength range of 360 nm to 740 nm is specified, and the tristimulus values in the XYZ color system are specified from the spectral reflectance. Using the obtained tristimulus values, the a 1 * value and the b 1 * value are specified by the above equations (i) and (ii).

上記の反射光の視感反射率Ｙ1は、例えば０．３％以下であり、好ましくは０．２％以下である。 The visual reflectance Y 1 of the reflected light is, for example, 0.3% or less, preferably 0.2% or less.

［偏光フィルム］
偏光フィルム２０は、偏光子及び透明保護フィルムを含む積層体である。透明保護フィルムは、例えば、層状の偏光子の主面（最も広い面積を有する表面）に接して配置されている。偏光子は、２つの透明保護フィルムの間に配置されていてもよい。偏光子としては、特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素、二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの；ポリビニルアルコールの脱水処理物、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルム、及び、ヨウ素等の二色性物質からなることが好ましい。 [Polarizing film]
The polarizing film 20 is a laminate containing a polarizing element and a transparent protective film. The transparent protective film is arranged, for example, in contact with the main surface (the surface having the largest area) of the layered polarizer. The polarizer may be arranged between the two transparent protective films. The polarizer is not particularly limited, and is, for example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, an ethylene-vinyl acetate copolymer system partially saponified film, and iodine and bicolor. A uniaxially stretched film by adsorbing a bicolor substance such as a dye; a polyene-based oriented film such as a dehydrated product of polyvinyl alcohol and a dehydrogenated product of polyvinyl chloride can be mentioned. The polarizer is preferably made of a polyvinyl alcohol-based film and a dichroic substance such as iodine.

偏光子の厚さは、特に限定されず、例えば８０μｍ以下である。偏光子の厚さは、１０μｍ以下、好ましくは１〜７μｍであってもよい。このような薄型の偏光子は、厚みムラが少なく、視認性に優れている。薄型の偏光子は、寸法変化が抑制されており、耐久性に優れる。薄型の偏光子によれば、偏光フィルム２０を薄型化できる。 The thickness of the polarizer is not particularly limited, and is, for example, 80 μm or less. The thickness of the polarizer may be 10 μm or less, preferably 1 to 7 μm. Such a thin polarizing element has less uneven thickness and is excellent in visibility. The thin polarizer is suppressed in dimensional change and has excellent durability. According to the thin polarizing element, the polarizing film 20 can be made thinner.

透明保護フィルムの材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及び、これらの混合物が挙げられる。透明保護フィルムの材料は、（メタ）アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化性樹脂又は紫外線硬化型樹脂であってもよい。偏光フィルム２０が２つの透明保護フィルムを有する場合、２つの透明保護フィルムの材料は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。例えば、偏光子の一方の主面に対して、接着剤を介して、熱可塑性樹脂で構成された透明保護フィルムが貼り合わされ、偏光子の他方の主面に対して、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化型樹脂で構成された透明保護フィルムが貼り合わされていてもよい。透明保護フィルムは、任意の添加剤を１種類以上含んでいてもよい。 As the material of the transparent protective film, for example, a thermoplastic resin having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture blocking property, isotropic property and the like is used. Specific examples of such thermoplastic resins include cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyether sulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth) acrylic resins, and cyclic resins. Examples thereof include polyolefin resins (norbornene-based resins), polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof. The material of the transparent protective film may be a thermosetting resin such as (meth) acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone, or an ultraviolet curable resin. When the polarizing film 20 has two transparent protective films, the materials of the two transparent protective films may be the same as or different from each other. For example, a transparent protective film made of a thermoplastic resin is attached to one main surface of the polarizer via an adhesive, and a thermosetting resin or ultraviolet rays are attached to the other main surface of the polarizer. A transparent protective film made of a curable resin may be attached. The transparent protective film may contain one or more kinds of arbitrary additives.

透明保護フィルムは、防眩特性、反射防止特性などの光学特性を有していてもよい。透明保護フィルムは、位相差膜として機能するフィルムであってもよい。本明細書において、位相差膜は、面内方向又は厚み方向に複屈折を有する膜を意味する。位相差膜として機能するフィルムとしては、例えば、高分子フィルムを延伸させたもの、液晶材料を配向させ、固定化させたものなどが挙げられる。 The transparent protective film may have optical characteristics such as antiglare characteristics and antireflection characteristics. The transparent protective film may be a film that functions as a retardation film. As used herein, the retardation film means a film having birefringence in the in-plane direction or the thickness direction. Examples of the film that functions as a retardation film include a stretched polymer film and a film in which a liquid crystal material is oriented and immobilized.

偏光子と透明保護フィルムとを貼り合わせるための接着剤は、光学的に透明であれば特に限定されず、例えば、水系、溶剤系、ホットメルト系、ラジカル硬化型、カチオン硬化型などの接着剤、好ましくは水系接着剤及びラジカル硬化型接着剤、が挙げられる。 The adhesive for bonding the polarizer and the transparent protective film is not particularly limited as long as it is optically transparent, and for example, an adhesive such as an aqueous adhesive, a solvent adhesive, a hot melt adhesive, a radical curing type, or a cationic curing type. , Preferably water-based adhesives and radical curable adhesives.

偏光フィルム２０の厚さは、例えば、１０μｍ〜５００μｍである。偏光フィルム２０の全光線透過率は、特に限定されず、例えば３０％〜５０％である。本明細書において、「全光線透過率」は、波長３８０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の光の透過率を意味する。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の規定に準拠して測定することができる。全光線透過率の測定には、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５を使用する。 The thickness of the polarizing film 20 is, for example, 10 μm to 500 μm. The total light transmittance of the polarizing film 20 is not particularly limited, and is, for example, 30% to 50%. As used herein, "total light transmittance" means the transmittance of light in the wavelength range of 380 nm to 700 nm. The total light transmittance can be measured in accordance with the provisions of JIS K7361-1: 1997. A CIE standard light source D65 is used to measure the total light transmittance.

偏光フィルム２０に対してＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光が入射したときの透過光のハンターＬａｂ表色系におけるａ値は、−６．０〜０が好ましく、−３．０〜−０．５がより好ましく、−１．８〜−１．２が特に好ましい。上記の透過光のハンターＬａｂ表色系におけるｂ値は、１．０〜１０が好ましく、１．５〜５．０がより好ましく、２．２〜４．０が特に好ましい。透過光のハンターＬａｂ表色系におけるａ値及びｂ値は、次の方法によって特定できる。まず、分光光度計の積分球を用いて、偏光フィルム２０におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光の透過率を測定する。得られた透過率について、ＪＩＳ Ｚ８７０１：１９９９に規定された２度視野ＸＹＺ系により視感度補正（７８０〜３８０ｎｍ：５ｎｍ毎）を行うことによって、透過光のハンターＬａｂ表色系におけるａ値及びｂ値を特定することができる。 The a value of the transmitted light in the Hunter Lab color system when the light from the CIE standard light source D65 is incident on the polarizing film 20 is preferably −6.0 to 0, preferably −3.0 to −0.5. More preferably, -1.8 to -1.2 is particularly preferable. The b value of the transmitted light in the Hunter Lab color system is preferably 1.0 to 10, more preferably 1.5 to 5.0, and particularly preferably 2.2 to 4.0. The a value and the b value in the hunter Lab color system of transmitted light can be specified by the following method. First, the transmittance of light from the CIE standard light source D65 in the polarizing film 20 is measured using the integrating sphere of the spectrophotometer. The obtained transmittance is corrected for luminosity factor (780 to 380 nm: every 5 nm) by the 2 degree visual field XYZ system defined in JIS Z8701: 1999, so that the a value and b in the hunter Lab color system of transmitted light are performed. The value can be specified.

［反射防止膜付き偏光フィルムが有する導電層］
導電層４０は、導電材料を含む層である。導電材料は、ＩＴＯ以外の材料であってもよく、例えば、導電性ポリマー、導電性ポリマーとドーパントとの複合体、イオン性界面活性剤、導電性微粒子、イオン性化合物等である。導電層４０は、透明性、全光線透過率、外観、帯電防止効果、及び、高温又は多湿環境下での帯電防止効果の安定性の観点から、導電性ポリマーを含むことが好ましい。導電層４０が導電材料として導電性ポリマーを含む場合、導電性微粒子を含む場合に比べて、導電層４０の厚さを比較的大きく調整してもヘイズが発生しにくい。そのため、導電層４０が液晶セル２５と偏光子との間に配置されている場合であっても、導電性ポリマーを含む導電層４０は、偏光解消を生じさせにくく、液晶表示装置が表示する画像のコントラストを低下させにくい。導電層４０が導電材料として導電性ポリマーを含む場合、導電性微粒子を含む場合に比べて、導電層４０の屈折率が低い傾向がある。そのため、導電性ポリマーを含む導電層４０は、液晶パネル１００の光の反射率をより低下させることに適している。 [Conductive layer of polarizing film with antireflection film]
The conductive layer 40 is a layer containing a conductive material. The conductive material may be a material other than ITO, and includes, for example, a conductive polymer, a composite of a conductive polymer and a dopant, an ionic surfactant, conductive fine particles, and an ionic compound. The conductive layer 40 preferably contains a conductive polymer from the viewpoints of transparency, total light transmittance, appearance, antistatic effect, and stability of the antistatic effect in a high temperature or high humidity environment. When the conductive layer 40 contains a conductive polymer as a conductive material, haze is less likely to occur even if the thickness of the conductive layer 40 is adjusted to be relatively large, as compared with the case where the conductive layer 40 contains conductive fine particles. Therefore, even when the conductive layer 40 is arranged between the liquid crystal cell 25 and the polarizer, the conductive layer 40 containing the conductive polymer is unlikely to cause depolarization, and the image displayed by the liquid crystal display device. It is difficult to reduce the contrast of. When the conductive layer 40 contains a conductive polymer as a conductive material, the refractive index of the conductive layer 40 tends to be lower than that when the conductive layer 40 contains conductive fine particles. Therefore, the conductive layer 40 containing the conductive polymer is suitable for further reducing the light reflectance of the liquid crystal panel 100.

導電性ポリマーとしては、例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリキノキサリン、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリナフタレン及びこれらの誘導体が挙げられる。導電材料は、これらの導電性ポリマーを１種又は２種以上含んでいてもよい。導電性ポリマーとしては、ポリチオフェン、ポリアニリン及びこれらの誘導体が好ましく、ポリチオフェン誘導体が特に好ましい。ポリチオフェン、ポリアニリン及びこれらの誘導体は、例えば、水溶性又は水分散性を有する導電性ポリマーとして機能する。導電性ポリマーが水溶性又は水分散性を有する場合、導電性ポリマーの水溶液又は水分散液を用いて導電層４０を作製することができる。この場合、導電層４０の作製に非水系の有機溶剤を用いる必要がないため、有機溶剤による偏光フィルム２０などの変質を抑制できる。 Examples of the conductive polymer include polythiophene, polyaniline, polypyrrole, polyquinoxaline, polyacetylene, polyphenylene vinylene, polynaphthalene and derivatives thereof. The conductive material may contain one or more of these conductive polymers. As the conductive polymer, polythiophene, polyaniline and derivatives thereof are preferable, and polythiophene derivatives are particularly preferable. Polythiophene, polyaniline and their derivatives function, for example, as water-soluble or water-dispersible conductive polymers. When the conductive polymer is water-soluble or water-dispersible, the conductive layer 40 can be prepared by using an aqueous solution or an aqueous dispersion of the conductive polymer. In this case, since it is not necessary to use a non-aqueous organic solvent for producing the conductive layer 40, deterioration of the polarizing film 20 or the like due to the organic solvent can be suppressed.

導電性ポリマーは、親水性官能基を有していてもよい。親水性官能基としては、例えばスルホン基、アミノ基、アミド基、イミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ヒドラジノ基、カルボキシル基、硫酸エステル基、リン酸エステル基及びこれらの塩（例えば、４級アンモニウム塩基）が挙げられる。導電性ポリマーが親水性官能基を有する場合、導電性ポリマーが水に溶けやすい、又は、微粒子状の導電性ポリマーが水に分散しやすい傾向がある。 The conductive polymer may have a hydrophilic functional group. Examples of the hydrophilic functional group include a sulfon group, an amino group, an amide group, an imino group, a hydroxyl group, a mercapto group, a hydradino group, a carboxyl group, a sulfate ester group, a phosphate ester group and salts thereof (for example, quaternary ammonium). Base). When the conductive polymer has a hydrophilic functional group, the conductive polymer tends to be easily dissolved in water, or the finely divided conductive polymer tends to be easily dispersed in water.

導電性及び化学的安定性の観点から、導電性ポリマーは、ポリ（３，４−二置換チオフェン）であることが好ましい。ポリ（３，４−二置換チオフェン）としては、例えばポリ（３，４−アルキレンジオキシチオフェン）及びポリ（３，４−ジアルコキシチオフェン）が挙げられ、好ましくはポリ（３，４−アルキレンジオキシチオフェン）である。ポリ（３，４−アルキレンジオキシチオフェン）は、例えば、以下の式（Ｉ）で表される構造単位を有する。

Figure 2021096307
From the viewpoint of conductivity and chemical stability, the conductive polymer is preferably poly (3,4-disubstituted thiophene). Examples of the poly (3,4-disubstituted thiophene) include poly (3,4-alkylenedioxythiophene) and poly (3,4-dialkoxythiophene), and poly (3,4-alkylenedi) is preferable. Oxythiophene). Poly (3,4-alkylenedioxythiophene) has, for example, a structural unit represented by the following formula (I).
Figure 2021096307

式（Ｉ）において、Ｒ1は、例えば、炭素数１〜４のアルキレン基である。アルキレン基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。アルキレン基としては、例えば、メチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１−メチル−１，２−エチレン基、１−エチル−１，２−エチレン基、１−メチル−１，３−プロピレン基及び２−メチル−１，３−プロピレン基が挙げられ、好ましくはメチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基であり、より好ましくは１，２−エチレン基である。導電性ポリマーは、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）であることが好ましい。 In formula (I), R 1 is, for example, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. The alkylene group may be linear or branched. Examples of the alkylene group include a methylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,3-propylene group, a 1,4-butylene group, a 1-methyl-1,2-ethylene group and a 1-ethyl-1,2- Examples thereof include an ethylene group, a 1-methyl-1,3-propylene group and a 2-methyl-1,3-propylene group, preferably a methylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,3-propylene group, and more. It is preferably a 1,2-ethylene group. The conductive polymer is preferably poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT).

ドーパントとしては、例えば、ポリアニオンが挙げられる。導電性ポリマーがポリチオフェン（又はその誘導体）である場合、ポリアニオンは、ポリチオフェン（又はその誘導体）とイオン対を形成し、ポリチオフェン（又はその誘導体）を水中に安定に分散させることができる。ポリアニオンとしては、特に限定されず、例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等のカルボン酸ポリマー類；ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等のスルホン酸ポリマー類等が挙げられる。ポリアニオンは、ビニルカルボン酸類又はビニルスルホン酸類と、他のモノマー類との共重合体であってもよい。他のモノマー類としては、例えば、（メタ）アクリレート化合物；スチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物が挙げられる。ポリアニオンは、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）であることが特に好ましい。導電性ポリマーとドーパントとの複合体としては、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）が挙げられる。 Dopants include, for example, polyanions. When the conductive polymer is polythiophene (or a derivative thereof), the polyanion forms an ion pair with polythiophene (or a derivative thereof), and the polythiophene (or a derivative thereof) can be stably dispersed in water. The polyanion is not particularly limited, and examples thereof include carboxylic acid polymers such as polyacrylic acid, polymaleic acid, and polymethacrylic acid; and sulfonic acid polymers such as polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, and polyisoprene sulfonic acid. .. The polyanion may be a copolymer of vinyl carboxylic acids or vinyl sulfonic acids and other monomers. Examples of other monomers include (meth) acrylate compounds; aromatic vinyl compounds such as styrene and vinylnaphthalene. The polyanion is particularly preferably polystyrene sulfonic acid (PSS). Examples of the complex of the conductive polymer and the dopant include a complex of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS).

イオン性界面活性剤としては、例えば、４級アンモニウム塩型、ホスホニウム塩型、スルホニウム塩型等のカチオン系界面活性剤；カルボン酸型、スルホネート型、サルフェート型、ホスフェート型、ホスファイト型等のアニオン系界面活性剤；スルホベタイン型、アルキルベタイン型、アルキルイミダゾリウムベタイン型等の両性イオン系界面活性剤；多価アルコール誘導体、β−シクロデキストリン包接化合物、ソルビタン脂肪酸モノエステル、ソルビタン脂肪酸ジエステル、ポリアルキレンオキシド誘導体、アミンオキシド等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。 Examples of the ionic surfactant include cationic surfactants such as quaternary ammonium salt type, phosphonium salt type and sulfonium salt type; anions such as carboxylic acid type, sulfonate type, sulfate type, phosphate type and phosphite type. Surfactants; Amphoteric ionic surfactants such as sulfobetaine type, alkylbetaine type, alkylimidazolium betaine type; polyhydric alcohol derivatives, β-cyclodextrin inclusion compounds, sorbitan fatty acid monoesters, sorbitan fatty acid diesters, poly Nonionic surfactants such as alkylene oxide derivatives and amine oxides can be mentioned.

導電性微粒子としては、例えば、酸化スズ系、酸化アンチモン系、酸化インジウム系、酸化亜鉛系等の金属酸化物微粒子が挙げられ、酸化スズ系微粒子が好ましい。酸化スズ系微粒子の材料としては、例えば、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化スズ、アルミニウムドープ酸化スズ、タングステンドープ酸化スズ、酸化チタン−酸化セリウム−酸化スズの複合体、酸化チタン−酸化スズの複合体等が挙げられる。導電性微粒子の平均粒径は、例えば１〜１００ｎｍであり、好ましくは２〜５０ｎｍである。導電性微粒子の平均粒径は、例えば、レーザー回折式粒度計などによって測定される粒度分布において、体積累積５０％に相当する粒径（ｄ５０）を意味する。 Examples of the conductive fine particles include metal oxide fine particles such as tin oxide-based, antimony oxide-based, indium oxide-based, and zinc oxide-based, and tin oxide-based fine particles are preferable. Examples of the material of the tin oxide-based fine particles include tin oxide, antimony-doped tin oxide, indium-doped tin oxide, aluminum-doped tin oxide, tungsten-doped tin oxide, titanium oxide-cerium oxide-tin oxide complex, and titanium oxide-oxidation. Examples include a tin complex. The average particle size of the conductive fine particles is, for example, 1 to 100 nm, preferably 2 to 50 nm. The average particle size of the conductive fine particles means a particle size (d50) corresponding to a cumulative volume of 50% in a particle size distribution measured by, for example, a laser diffraction type particle size meter.

イオン性化合物としては、例えば、アルカリ金属塩及び／又は有機カチオン−アニオン塩が挙げられる。アルカリ金属塩としては、例えば、アルカリ金属の有機塩及び無機塩が挙げられる。本明細書において、有機カチオン−アニオン塩は、有機カチオンを含む有機塩を意味する。有機カチオン−アニオン塩に含まれるアニオンは、有機アニオンであってもよく、無機アニオンであってもよい。有機カチオン−アニオン塩は、イオン性液体又はイオン性固体と呼ばれることがある。 Examples of the ionic compound include alkali metal salts and / or organic cationic-anionic salts. Examples of the alkali metal salt include organic salts and inorganic salts of alkali metals. As used herein, the organic cation-anion salt means an organic salt containing an organic cation. The anion contained in the organic cation-anion salt may be an organic anion or an inorganic anion. Organic cation-anionic salts are sometimes referred to as ionic liquids or ionic solids.

アルカリ金属塩に含まれるアルカリ金属イオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン及びカリウムイオンが挙げられ、リチウムイオンが好ましい。 Examples of the alkali metal ion contained in the alkali metal salt include lithium ion, sodium ion and potassium ion, and lithium ion is preferable.

アルカリ金属の有機塩に含まれるアニオンとしては、例えば、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣＦ3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3 -、ＣＦ3ＳＯ3 -、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、Ｃ4Ｆ9ＳＯ3 -、Ｃ3Ｆ7ＣＯＯ-、（ＣＦ3ＳＯ2）（ＣＦ3ＣＯ）Ｎ-、-Ｏ3Ｓ（ＣＦ2）3ＳＯ3 -、（ＣＮ）2Ｎ-及び下記一般式（ａ）〜（ｄ）で表されるアニオンが挙げられる。
（ａ） （ＣnＦ2n+1ＳＯ2）2Ｎ- （ただし、ｎは１〜１０の整数）
（ｂ） ＣＦ2（ＣmＦ2mＳＯ2）2Ｎ- （ただし、ｍは１〜１０の整数）
（ｃ） -Ｏ3Ｓ（ＣＦ2）lＳＯ3 - （ただし、ｌは１〜１０の整数）
（ｄ） （ＣpＦ2p+1ＳＯ2）Ｎ-（ＣqＦ2q+1ＳＯ2） （ただし、ｐ及びｑは、互いに独立して１〜１０の整数） The anion contained in the alkali metal organic salt, for example, CH 3 COO -, CF 3 COO -, CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 3 C -, C 4 F 9 SO 3 -, C 3 F 7 COO -, (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, - O 3 S (CF 2) 3 SO 3 -, (CN) 2 N - and the following general formula (a )-(D) can be mentioned.
(A) (C n F 2n + 1 SO 2) 2 N - ( where, n is an integer of from 1 to 10)
(B) CF 2 (C m F 2m SO 2) 2 N - ( however, m is an integer of from 1 to 10)
(C) - O 3 S ( CF 2) l SO 3 - ( provided that, l is an integer of from 1 to 10)
(D) (C p F 2p + 1 SO 2) N - (C q F 2q + 1 SO 2) ( however, p and q are, independently of one another are an integer of 1 to 10)

アルカリ金属の有機塩に含まれるアニオンは、フッ素原子を含むことが好ましい。フッ素原子を含むアニオンによれば、アルカリ金属の有機塩は、イオン解離性に優れたイオン化合物として機能する。 The anion contained in the organic salt of the alkali metal preferably contains a fluorine atom. According to the anion containing a fluorine atom, the organic salt of the alkali metal functions as an ionic compound having excellent ionic dissociation properties.

アルカリ金属の無機塩に含まれるアニオンとしては、例えば、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＡｌＣｌ4 -、Ａｌ2Ｃｌ7 -、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＣｌＯ4 -、ＮＯ3 -、ＡｓＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＮｂＦ6 -、ＴａＦ6 -、（ＦＳＯ2）2Ｎ-、ＣＯ3 2-等が挙げられる。 The anion contained in the alkali metal inorganic salts, for example, Cl -, Br -, I -, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, BF 4 -, PF 6 -, ClO 4 -, NO 3 -, AsF 6 -, SbF 6 -, NbF 6 -, TaF 6 -, (FSO 2) 2 N -, CO 3 2- and the like.

アルカリ金属塩に含まれるアニオンとしては、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2Ｎ-等の上記の一般式（ａ）で表わされる（ペルフルオロアルキルスルホニル）イミドが好ましく、特に（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-で表わされる（トリフルオロメタンスルホニル）イミドが好ましい。 The anion contained in the alkali metal salts, (CF 3 SO 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N - is represented by (perfluoroalkyl sulfonyl) imide in such above general formula (a) preferably, in particular (CF 3 SO 2) 2 N - represented by (trifluoromethanesulfonyl) imide are preferable.

アルカリ金属の有機塩としては、例えば、酢酸ナトリウム、アルギン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸ナトリウム、ＬｉＣＦ3ＳＯ3、Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ、ＫＯ3Ｓ（ＣＦ2）3ＳＯ3Ｋ、ＬｉＯ3Ｓ（ＣＦ2）3ＳＯ3Ｋ等が挙げられ、好ましくはＬｉＣＦ3ＳＯ3、Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃであり、より好ましくはＬｉ（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2Ｎ、Ｌｉ（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）2Ｎである。アルカリ金属の有機塩は、フッ素含有リチウムイミド塩であることが好ましく、（ペルフルオロアルキルスルホニル）イミドリチウム塩であることが特に好ましい。 Examples of the organic salt of the alkali metal include sodium acetate, sodium alginate, sodium lignin sulfonate, sodium toluene sulfonate, LiCF 3 SO 3 , Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ). 2 N, Li (C 4 F 9 SO 2 ) 2 N, Li (CF 3 SO 2 ) 3 C, KO 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 K, LiO 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 K, etc. Li CF 3 SO 3 , Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li (C 4 F 9 SO 2 ) 2 N, Li (CF 3 SO 2) ) 3 C, more preferably Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li (C 4 F 9 SO 2 ) 2 N. The organic salt of the alkali metal is preferably a fluorine-containing lithium imide salt, and particularly preferably a (perfluoroalkylsulfonyl) imide lithium salt.

アルカリ金属の無機塩としては、例えば、過塩素酸リチウム及びヨウ化リチウムが挙げられる。 Examples of the alkali metal inorganic salt include lithium perchlorate and lithium iodide.

有機カチオン−アニオン塩に含まれる有機カチオンとしては、例えば、ピリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピロリン骨格を有するカチオン、ピロール骨格を有するカチオン、イミダゾリウムカチオン、テトラヒドロピリミジニウムカチオン、ジヒドロピリミジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピラゾリニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオン等が挙げられる。 Examples of the organic cation contained in the organic cation-anion salt include pyridinium cation, piperidinium cation, pyrrolidinium cation, cation having a pyrolin skeleton, cation having a pyrrol skeleton, imidazolium cation, tetrahydropyrimidinium cation, Examples thereof include dihydropyrimidinium cation, pyrazolium cation, pyrazolinium cation, tetraalkylammonium cation, trialkylsulfonium cation, tetraalkylphosphonium cation and the like.

有機カチオン−アニオン塩に含まれるアニオンとしては、例えば、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＡｌＣｌ4 -、Ａｌ2Ｃｌ7 -、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＣｌＯ4 -、ＮＯ3 -、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣＦ3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3 -、ＣＦ3ＳＯ3 -、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、ＡｓＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＮｂＦ6 -、ＴａＦ6 -、（ＣＮ）2Ｎ-、Ｃ4Ｆ9ＳＯ3 -、Ｃ3Ｆ7ＣＯＯ-、（ＣＦ3ＳＯ2）（ＣＦ3ＣＯ）Ｎ-、（ＦＳＯ2）2Ｎ-、-Ｏ3Ｓ（ＣＦ2）3ＳＯ3 -及び上述した一般式（ａ）〜（ｄ）で表されるアニオンが挙げられる。有機カチオン−アニオン塩に含まれるアニオンは、フッ素原子を含むことが好ましい。フッ素原子を含むアニオンによれば、有機カチオン−アニオン塩は、イオン解離性に優れたイオン化合物として機能する。 The anion contained in the anion salts, e.g., Cl - - organic cations, Br -, I -, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, BF 4 -, PF 6 -, ClO 4 -, NO 3 -, CH 3 COO -, CF 3 COO - , CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 3 C -, AsF 6 -, SbF 6 -, NbF 6 -, TaF 6 -, (CN) 2 N -, C 4 F 9 SO 3 -, C 3 F 7 COO -, (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, (FSO 2) 2 N -, - O 3 S (CF 2) 3 Examples thereof include SO 3 - and anions represented by the above-mentioned general formulas (a) to (d). The anion contained in the organic cation-anion salt preferably contains a fluorine atom. According to the anion containing a fluorine atom, the organic cation-anion salt functions as an ionic compound having excellent ionic dissociation properties.

イオン性化合物としては、上述したアルカリ金属塩及び有機カチオン−アニオン塩に限定されず、例えば、塩化アンモニウム、塩化アルミニウム、塩化銅、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸アンモニウム等の無機塩も挙げられる。導電材料は、上述したイオン性化合物を１種又は２種以上含んでいてもよい。 The ionic compound is not limited to the above-mentioned alkali metal salt and organic cation-anionic salt, and examples thereof include inorganic salts such as ammonium chloride, aluminum chloride, copper chloride, ferrous chloride, ferric chloride, and ammonium sulfate. Be done. The conductive material may contain one or more of the above-mentioned ionic compounds.

導電材料としては、上述した材料に限定されず、例えば、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、天然グラファイト、人造グラファイトなどの炭素材料；チタンブラック；４級アンモニウム塩等のカチオン型導電性基、ベタイン化合物等の両性イオン型導電性基、スルホン酸塩等のアニオン型導電性基若しくはグリセリン等のノニオン型導電性基を有する単量体の単独重合体、又は、当該単量体と他の単量体との共重合体（例えば、４級アンモニウム塩基を有するアクリレート又はメタクリレート由来の構造単位を有する重合体等のイオン導電性を有する重合体）；エチレン及びメタクリレートの共重合体等の親水性ポリマーをアクリル系樹脂等にアロイ化させたもの（永久帯電防止剤）も挙げられる。 The conductive material is not limited to the above-mentioned materials, for example, carbon materials such as acetylene black, ketjen black, natural graphite, artificial graphite; titanium black; cationic conductive groups such as quaternary ammonium salts, betaine compounds and the like. A homopolymer of a monomer having an amphoteric ionic conductive group, an anionic conductive group such as a sulfonate, or a nonionic conductive group such as glycerin, or the monomer and another monomer. (For example, a polymer having ionic conductivity such as an acrylate having a quaternary ammonium base or a polymer having a structural unit derived from methacrylate); Examples thereof include those obtained by polymerizing a resin or the like (permanent antistatic agent).

導電層４０は、導電材料以外に、バインダーなどの他の材料をさらに含んでいてもよい。バインダーは、例えば、導電材料の皮膜形成性を向上させるとともに、偏光フィルム２０に対する導電層４０の密着性及び接着性（投錨力）を向上させる傾向がある。バインダーとしては、例えば、オキサゾリン基含有ポリマー、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール等が挙げられ、好ましくはオキサゾリン基含有ポリマー、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂であり、特に好ましくはポリウレタン系樹脂である。導電層４０は、これらのバインダーを１種又は２種以上含んでいてもよい。導電層４０におけるバインダーの含有率は、例えば、１ｗｔ％〜９０ｗｔ％であり、好ましくは１０ｗｔ％〜８０ｗｔ％である。 The conductive layer 40 may further contain other materials such as a binder in addition to the conductive material. The binder tends to improve, for example, the film-forming property of the conductive material, and also improve the adhesion and adhesiveness (anchoring force) of the conductive layer 40 to the polarizing film 20. Examples of the binder include oxazoline group-containing polymers, polyurethane resins, polyester resins, acrylic resins, polyether resins, cellulose resins, polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, polyvinylpyrrolidone, polystyrene resins, polyethylene glycol, and the like. Examples thereof include pentaerythritol, preferably an oxazoline group-containing polymer, a polyurethane-based resin, a polyester-based resin, and an acrylic-based resin, and particularly preferably a polyurethane-based resin. The conductive layer 40 may contain one or more of these binders. The content of the binder in the conductive layer 40 is, for example, 1 wt% to 90 wt%, preferably 10 wt% to 80 wt%.

導電層４０の厚さは、例えば、５ｎｍ〜１８０ｎｍであり、好ましくは１５０ｎｍであり、より好ましくは１２０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１００ｎｍ以下であり、特に好ましくは８０ｎｍ以下であり、とりわけ好ましくは５０ｎｍ以下である。導電層４０の厚さは、１０ｎｍ以上であってもよく、２０ｎｍ以上であってもよい。 The thickness of the conductive layer 40 is, for example, 5 nm to 180 nm, preferably 150 nm, more preferably 120 nm or less, still more preferably 100 nm or less, particularly preferably 80 nm or less, and particularly preferably 50 nm. It is as follows. The thickness of the conductive layer 40 may be 10 nm or more, or 20 nm or more.

反射防止膜付き偏光フィルム１５において、導電層４０による全光線透過率の損失Ａは、例えば０．９％以下であり、好ましくは０．８％以下であり、より好ましくは０．６％以下であり、さらに好ましくは０．５％以下であり、特に好ましくは０．４％以下であり、とりわけ好ましくは０．２％未満である。損失Ａの下限値は、特に限定されず、例えば０．０１％である。損失Ａは、次の方法によって特定することができる。まず、偏光フィルム２０の全光線透過率Ｔ１と、偏光フィルム２０及び導電層４０からなる積層体Ｌの全光線透過率Ｔ２とを測定する。積層体Ｌの全光線透過率Ｔ２は、偏光フィルム２０側から光を入射させた場合の値である。全光線透過率Ｔ１と全光線透過率Ｔ２との差（Ｔ１−Ｔ２）を損失Ａとして特定することができる。 In the polarizing film 15 with an antireflection film, the loss A of the total light transmittance due to the conductive layer 40 is, for example, 0.9% or less, preferably 0.8% or less, and more preferably 0.6% or less. Yes, more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.4% or less, and particularly preferably less than 0.2%. The lower limit of the loss A is not particularly limited, and is, for example, 0.01%. Loss A can be identified by the following method. First, the total light transmittance T1 of the polarizing film 20 and the total light transmittance T2 of the laminate L composed of the polarizing film 20 and the conductive layer 40 are measured. The total light transmittance T2 of the laminated body L is a value when light is incident from the polarizing film 20 side. The difference (T1-T2) between the total light transmittance T1 and the total light transmittance T2 can be specified as the loss A.

反射防止膜付き偏光フィルム１５では、上記の損失Ａが０．５％より大きい場合に、導電層４０の表面抵抗率が特に低い値であってもよい。一例として、反射防止膜付き偏光フィルム１５において、（ｉ）上記の損失Ａが０．５％以下であり、かつ、導電層４０の表面抵抗率が１．０×１０6Ω／□以下である、及び、（ｉｉ）上記の損失Ａが０．９％以下であり、かつ、導電層４０の表面抵抗率が１．０×１０4Ω／□以下である、の少なくとも１つが成立していてもよい。 In the polarizing film 15 with an antireflection film, the surface resistivity of the conductive layer 40 may be a particularly low value when the loss A is larger than 0.5%. As an example, in the polarizing film 15 with an antireflection film, (i) the above loss A is 0.5% or less, and the surface resistivity of the conductive layer 40 is 1.0 × 10 6 Ω / □ or less. , And (ii) at least one of the above-mentioned loss A of 0.9% or less and the surface resistivity of the conductive layer 40 of 1.0 × 10 4 Ω / □ or less is established. May be good.

導電層４０と偏光フィルム２０との投錨力は、例えば、１０．０Ｎ／２５ｍｍ以上であり、好ましくは１２．０Ｎ／２５ｍｍ以上であり、より好ましくは１４．０Ｎ／２５ｍｍ以上であり、さらに好ましくは１８．０Ｎ／２５ｍｍ以上である。上記の投錨力は、次の方法によって測定することができる。まず、評価対象である反射防止膜付き偏光フィルム１５を幅２５ｍｍ×長さ１５０ｍｍに切り出して試験片とする。次に、両面テープを介して、試験片が備える反射防止膜１０の表面全体をステンレス製試験板に重ね合わせ、２ｋｇのローラを１往復させて、これらを圧着させる。次に、試験片が備える粘着剤層３０を評価用シートに重ね合わせ、２ｋｇのローラを１往復させて、これらを圧着させる。評価用シートは、幅３０ｍｍ×長さ１５０ｍｍのサイズを有し、試験中に粘着剤層３０から剥離しないものである限り特に限定されない。評価用シートとしては、例えば、ＩＴＯフィルム（１２５テトライトＯＥＳ（尾池工業社製）など）を用いることができる。次に、市販の引張試験機を用いて、評価用シートを把持した状態で、剥離角度１８０°、引張速度３００ｍｍ／ｍｉｎで粘着剤層３０及び導電層４０を偏光フィルム２０から引き剥がした際の剥離力の平均値を導電層４０と偏光フィルム２０との投錨力として特定する。なお、上記の試験は、２３℃の雰囲気下で行う。 The anchoring force between the conductive layer 40 and the polarizing film 20 is, for example, 10.0 N / 25 mm or more, preferably 12.0 N / 25 mm or more, more preferably 14.0 N / 25 mm or more, and further preferably 14.0 N / 25 mm or more. It is 18.0 N / 25 mm or more. The above anchoring force can be measured by the following method. First, the polarizing film 15 with an antireflection film to be evaluated is cut into a width of 25 mm and a length of 150 mm to obtain a test piece. Next, the entire surface of the antireflection film 10 included in the test piece is superposed on the stainless steel test plate via the double-sided tape, and a 2 kg roller is reciprocated once to crimp them. Next, the pressure-sensitive adhesive layer 30 included in the test piece is superposed on the evaluation sheet, and a 2 kg roller is reciprocated once to crimp them. The evaluation sheet has a size of 30 mm in width and 150 mm in length, and is not particularly limited as long as it does not peel off from the pressure-sensitive adhesive layer 30 during the test. As the evaluation sheet, for example, an ITO film (125 tetraite OES (manufactured by Oike Kogyo Co., Ltd.) or the like) can be used. Next, when the pressure-sensitive adhesive layer 30 and the conductive layer 40 were peeled off from the polarizing film 20 at a peeling angle of 180 ° and a tensile speed of 300 mm / min while holding the evaluation sheet using a commercially available tensile tester. The average value of the peeling force is specified as the anchoring force between the conductive layer 40 and the polarizing film 20. The above test is performed in an atmosphere of 23 ° C.

［粘着剤層］
粘着剤層３０は、粘着剤を含む層である。粘着剤層３０に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。粘着剤層３０に含まれる粘着剤としては、光学的透明性に優れ、適切な濡れ性、凝集性、接着性などの粘着特性を有し、耐候性、耐熱性等に優れる点から、アクリル系粘着剤が好ましい。 [Adhesive layer]
The pressure-sensitive adhesive layer 30 is a layer containing a pressure-sensitive adhesive. Examples of the adhesive contained in the adhesive layer 30 include a rubber adhesive, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a vinyl alkyl ether adhesive, a polyvinylpyrrolidone adhesive, and a polyacrylamide adhesive. Examples thereof include pressure-sensitive adhesives and cellulose-based pressure-sensitive adhesives. The pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer 30 is acrylic-based because it has excellent optical transparency, has adhesive properties such as appropriate wettability, cohesiveness, and adhesiveness, and is excellent in weather resistance, heat resistance, and the like. Adhesives are preferred.

アクリル系粘着剤は、ベースポリマーとして（メタ）アクリル系ポリマーを含む。（メタ）アクリル系ポリマーは、例えば、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位を主成分として含有する。本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を意味する。「主成分」は、ポリマーに重量基準で最も多く含まれる構造単位を意味する。 The acrylic pressure-sensitive adhesive includes a (meth) acrylic polymer as a base polymer. The (meth) acrylic polymer contains, for example, a structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester as a main component. As used herein, "(meth) acrylic acid" means acrylic acid and / or methacrylic acid. "Main component" means the structural unit contained most in the polymer on a weight basis.

（メタ）アクリル系ポリマーの主骨格を形成するための（メタ）アクリル酸エステルに含まれるエステル部分（（メタ）アクリル酸基以外の部分）の炭素数は、特に限定されず、例えば１〜１８である。（メタ）アクリル酸エステルのエステル部分は、フェニル基、フェノキシ基などの芳香族環を含んでいてもよく、アルキル基を含んでいてもよい。このアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。（メタ）アクリル系ポリマーは、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位を１種又は２種以上含んでいてもよい。（メタ）アクリル系ポリマーにおいて、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位に含まれるエステル部分の炭素数の平均値は、３〜９であることが好ましい。（メタ）アクリル系ポリマーは、粘着特性、耐久性、位相差の調整、屈折率の調整等の観点から、芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位を有することが好ましい。芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステルにより粘着剤層３０の位相差を調整することで、偏光フィルム２０が熱収縮し、粘着剤層３０が延伸されることによって生じる液晶表示装置の光漏れを抑制することができる。さらに、この（メタ）アクリル酸エステルは、粘着剤層３０の屈折率を調整し、粘着剤層３０と被着体（液晶セル）との屈折率の差を低減させることに適している。屈折率の差が低減すれば、粘着剤層３０と被着体との界面での光の反射が抑制され、ディスプレイの視認性を向上させることができる。 The carbon number of the ester moiety (the moiety other than the (meth) acrylic acid group) contained in the (meth) acrylic acid ester for forming the main skeleton of the (meth) acrylic polymer is not particularly limited, and is, for example, 1 to 18. Is. The ester moiety of the (meth) acrylic acid ester may contain an aromatic ring such as a phenyl group or a phenoxy group, or may contain an alkyl group. The alkyl group may be linear or branched. The (meth) acrylic polymer may contain one or more structural units derived from the (meth) acrylic acid ester. In the (meth) acrylic polymer, the average value of the carbon number of the ester portion contained in the structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester is preferably 3 to 9. The (meth) acrylic polymer preferably has a structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester containing an aromatic ring from the viewpoints of adhesive properties, durability, adjustment of phase difference, adjustment of refractive index, and the like. By adjusting the phase difference of the pressure-sensitive adhesive layer 30 with a (meth) acrylic acid ester containing an aromatic ring, the polarizing film 20 is thermally shrunk and the pressure-sensitive adhesive layer 30 is stretched, resulting in light leakage from the liquid crystal display device. Can be suppressed. Further, this (meth) acrylic acid ester is suitable for adjusting the refractive index of the pressure-sensitive adhesive layer 30 and reducing the difference in the refractive index between the pressure-sensitive adhesive layer 30 and the adherend (liquid crystal cell). If the difference in refractive index is reduced, the reflection of light at the interface between the pressure-sensitive adhesive layer 30 and the adherend is suppressed, and the visibility of the display can be improved.

芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性クレゾール（メタ）アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシベンジル（メタ）アクリレート、クロロベンジル（メタ）アクリレート、クレジル（メタ）アクリレート、スチリル（メタ）アクリレートなどのベンゼン環を含む（メタ）アクリル酸エステル；ヒドロキシエチル化β−ナフトールアクリレート、２−ナフトエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチルアクリレート、２−（４−メトキシ−１−ナフトキシ）エチル（メタ）アクリレートなどのナフタレン環を含む（メタ）アクリル酸エステル；ビフェニル（メタ）アクリレートなどのビフェニル環を含む（メタ）アクリル酸エステルなどが挙げられる。これらの中でも、粘着剤層３０の粘着特性や耐久性を向上させる観点から、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。 Examples of the (meth) acrylic acid ester containing an aromatic ring include benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, o-phenylphenol (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate. Phenoxypropyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide-modified cresol (meth) acrylate, phenolethylene oxide-modified (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl ( (Meta) acrylic acid ester containing a benzene ring such as meta) acrylate, methoxybenzyl (meth) acrylate, chlorobenzyl (meth) acrylate, cresyl (meth) acrylate, styryl (meth) acrylate; hydroxyethylated β-naphthol acrylate, (Meta) acrylic acid ester containing a naphthalene ring such as 2-naphthoethyl (meth) acrylate, 2-naphthoxyethyl acrylate, 2- (4-methoxy-1-naphthoxy) ethyl (meth) acrylate; biphenyl (meth) acrylate and the like. Examples thereof include (meth) acrylic acid esters containing the biphenyl ring of. Among these, benzyl (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of improving the adhesive properties and durability of the pressure-sensitive adhesive layer 30.

芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステルにより粘着剤層３０の屈折率を調整する場合、（メタ）アクリル系ポリマーの全構成単位における芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位の含有率は、３重量％〜２５重量％であることが好ましい。この含有率は、２２重量％以下がより好ましく、２０重量％以下がさらに好ましい。この含有率は、８重量％以上がより好ましく、１２重量％以上がさらに好ましい。芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位の含有率が２５重量％以下であれば、偏光フィルム２０の収縮による液晶表示装置の光漏れを抑制できるとともに、粘着剤層３０のリワーク性を向上できる傾向がある。この含有率が３重量％以上であれば、液晶表示装置の光漏れを十分に抑制できる傾向がある。 When adjusting the refractive index of the pressure-sensitive adhesive layer 30 with a (meth) acrylic acid ester containing an aromatic ring, a structure derived from the (meth) acrylic acid ester containing an aromatic ring in all the structural units of the (meth) acrylic polymer. The content of the unit is preferably 3% by weight to 25% by weight. The content is more preferably 22% by weight or less, further preferably 20% by weight or less. This content is more preferably 8% by weight or more, further preferably 12% by weight or more. When the content of the structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester containing an aromatic ring is 25% by weight or less, light leakage of the liquid crystal display device due to shrinkage of the polarizing film 20 can be suppressed, and the pressure-sensitive adhesive layer 30 There is a tendency to improve reworkability. When this content is 3% by weight or more, there is a tendency that light leakage of the liquid crystal display device can be sufficiently suppressed.

（メタ）アクリル系ポリマーは、接着性及び耐熱性を向上させる観点から、上述した芳香族環を含む（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位以外に、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を含む重合性官能基を有する共重合モノマーに由来する構造単位を１種類以上有していてもよい。この共重合モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリル、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチルアクリレート等のヒドロキシル基含有モノマー；（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物基含有モノマー；アクリル酸のカプロラクトン付加物；スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー；２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等のリン酸基含有モノマー等が挙げられる。 From the viewpoint of improving adhesiveness and heat resistance, the (meth) acrylic polymer has a (meth) acryloyl group, a vinyl group, etc., in addition to the structural units derived from the (meth) acrylic acid ester containing the aromatic ring described above. It may have one or more structural units derived from a copolymerizable monomer having a polymerizable functional group containing an unsaturated double bond. Examples of the copolymerization monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate. Hydroxyl group-containing monomers such as 8-hydroxyoctyl acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl) methyl acrylate; (meth) acrylate. , Carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid and other carboxyl group-containing monomers; maleic anhydride, itaconic acid anhydride and other acid anhydride group-containing monomers; acrylic Caprolactone adducts of acid; styrene sulfonic acid, allyl sulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, (meth) acrylamide propane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxynaphthalene sulfone Examples thereof include sulfonic acid group-containing monomers such as acids; and phosphoric acid group-containing monomers such as 2-hydroxyethylacryloyl phosphate.

上記の共重合モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールプロパン（メタ）アクリルアミド等の（Ｎ−置換）アミド系モノマー；（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチル等の（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル系モノマー；（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル等の（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系モノマー；Ｎ−アクリロイルモルホリン等のモルホリン系モノマー；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド系モノマー；Ｎ−メチルイタコンイミド、Ｎ−エチルイタコンイミド、Ｎ−ブチルイタコンイミド、Ｎ−オクチルイタコンイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルイタコンイミド、Ｎ−シクロヘキシルイタコンイミド、Ｎ−ラウリルイタコンイミド等のイタコンイミド系モノマー等も挙げられる。 Examples of the above-mentioned copolymerization monomer include (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methylolpropane (meth) acrylamide and the like. (N-substituted) amide-based monomers; alkylamino (meth) acrylates such as aminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate, etc. Alkyl ester-based monomers; (meth) acrylate-based monomers such as methoxyethyl acrylate and (meth) ethoxyethyl acrylate; N- (meth) acryloyloxymethylene succinimide, N- (meth) acryloyl-6 Succinimide-based monomers such as −oxyhexamethylene succinimide, N- (meth) acryloyl-8-oxyoctamethylene succinimide; morpholinic monomers such as N-acryloylmorpholin; Maleimide-based monomers such as N-phenylmaleimide; N-methylitaconimide, N-ethylitaconimide, N-butylitaconimide, N-octylitaconimide, N-2-ethylhexylitaconimide, N-cyclohexylitaconimide, N- Itaconimide-based monomers such as laurylitaconimide can also be mentioned.

上記の共重合モノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のビニル系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノアクリレート系モノマー；（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有アクリル系モノマー；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー；（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、２−メトキシエチルアクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー等も挙げられる。さらに、共重合モノマーとしては、例えば、イソプレン、ブタジエン、イソブチレン等のオレフィンモノマー；ビニルエーテル等のエーテル基含有ビニルモノマーも挙げられる。 Examples of the copolymerization monomer include vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, and vinyl. Vinyl-based monomers such as morpholin, N-vinylcarboxylic acid amides, styrene, α-methylstyrene, N-vinylcaprolactam; cyanoacrylate-based monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; containing epoxy groups such as glycidyl (meth) acrylate. Acrylic monomer; Glycol-based acrylic ester monomer such as (meth) polyethylene glycol acrylate, (meth) polypropylene glycol acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate; (meth) acrylic acid Acrylic acid ester-based monomers such as tetrahydrofurfuryl, fluorine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and 2-methoxyethyl acrylate can also be mentioned. Further, examples of the copolymerization monomer include olefin monomers such as isoprene, butadiene, and isobutylene; and ether group-containing vinyl monomers such as vinyl ether.

上記の共重合モノマーとしては、例えば、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、４−ビニルブチルトリメトキシシラン、４−ビニルブチルトリエトキシシラン、８−ビニルオクチルトリメトキシシラン、８−ビニルオクチルトリエトキシシラン、１０−メタクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、１０−アクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、１０−メタクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン、１０−アクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン等のシラン系モノマーも挙げられる。 Examples of the copolymerization monomer include 3-acryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 4-vinylbutyltrimethoxysilane, 4-vinylbutyltriethoxysilane, and 8-vinyloctyltri. Silanes such as methoxysilane, 8-vinyloctyltriethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-acryloyloxydecyltrimethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyltriethoxysilane, 10-acryloyloxydecyltriethoxysilane, etc. Monomers can also be mentioned.

上記の共重合モノマーとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物（（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を２個以上有する多官能性モノマー）；ポリエステル、エポキシ、ウレタン等の骨格に（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する化合物が２個以上付加した化合物（例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレート）等を用いることもできる。 Examples of the copolymerization monomer include tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate. , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropanthry (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) ) Acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or other esterified product of (meth) acrylic acid and polyhydric alcohol (many having two or more unsaturated double bonds such as (meth) acryloyl group and vinyl group Functional monomer); A compound in which two or more compounds having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group are added to the skeleton of polyester, epoxy, urethane or the like (for example, polyester (meth) acrylate, epoxy (eg, polyester (meth) acrylate, epoxy) Meta) acrylate, urethane (meth) acrylate) and the like can also be used.

（メタ）アクリル系ポリマーにおける上述した共重合モノマーに由来する構造単位の含有率は、特に限定されず、例えば０ｗｔ％〜２０ｗｔ％であり、好ましくは０．１ｗｔ％〜１５ｗｔ％であり、より好ましくは０．１ｗｔ％〜１０ｗｔ％である。 The content of the structural unit derived from the above-mentioned copolymerization monomer in the (meth) acrylic polymer is not particularly limited, and is, for example, 0 wt% to 20 wt%, preferably 0.1 wt% to 15 wt%, more preferably. Is 0.1 wt% to 10 wt%.

共重合モノマーとしては、接着性及び耐久性の観点から、ヒドロキシル基含有モノマー及びカルボキシル基含有モノマーが好ましい。共重合モノマーとして、ヒドロキシル基含有モノマー及びカルボキシル基含有モノマーを併用してもよい。共重合モノマーは、例えば、粘着剤層３０を形成するための粘着剤組成物が架橋剤を含む場合に、架橋剤との反応点として機能する。ヒドロキシル基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマー等は、分子間架橋剤との反応性に優れているため、得られる粘着剤層３０の凝集性及び耐熱性を向上させることに適している。特に、ヒドロキシル基含有モノマーは、粘着剤層３０のリワーク性を向上させることに適している。カルボキシル基含有モノマーは、粘着剤層３０の耐久性とリワーク性とを両立させることに適している。 As the copolymerization monomer, a hydroxyl group-containing monomer and a carboxyl group-containing monomer are preferable from the viewpoint of adhesiveness and durability. As the copolymerization monomer, a hydroxyl group-containing monomer and a carboxyl group-containing monomer may be used in combination. The copolymerized monomer functions as a reaction point with the cross-linking agent, for example, when the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 30 contains a cross-linking agent. Since the hydroxyl group-containing monomer and the carboxyl group-containing monomer are excellent in reactivity with the intermolecular cross-linking agent, they are suitable for improving the cohesiveness and heat resistance of the obtained pressure-sensitive adhesive layer 30. In particular, the hydroxyl group-containing monomer is suitable for improving the reworkability of the pressure-sensitive adhesive layer 30. The carboxyl group-containing monomer is suitable for achieving both durability and reworkability of the pressure-sensitive adhesive layer 30.

共重合モノマーとしてヒドロキシル基含有モノマーを用いる場合、（メタ）アクリル系ポリマーにおけるヒドロキシル基含有モノマーに由来する構造単位の含有率は、０．０１ｗｔ％〜１５ｗｔ％であることが好ましく、０．０３ｗｔ％〜１０ｗｔ％であることがより好ましく、０．０５ｗｔ％〜７ｗｔ％であることがさらに好ましい。共重合モノマーとしてカルボキシル基含有モノマーを用いる場合、（メタ）アクリル系ポリマーにおけるカルボキシル基含有モノマーに由来する構造単位の含有率は、０．０５ｗｔ％〜１０ｗｔ％であることが好ましく、０．１ｗｔ％〜８ｗｔ％であることがより好ましく、０．２ｗｔ％〜６ｗｔ％であることがさらに好ましい。 When a hydroxyl group-containing monomer is used as the copolymerization monomer, the content of the structural unit derived from the hydroxyl group-containing monomer in the (meth) acrylic polymer is preferably 0.01 wt% to 15 wt%, preferably 0.03 wt%. It is more preferably 10 wt%, and even more preferably 0.05 wt% to 7 wt%. When a carboxyl group-containing monomer is used as the copolymerization monomer, the content of the structural unit derived from the carboxyl group-containing monomer in the (meth) acrylic polymer is preferably 0.05 wt% to 10 wt%, preferably 0.1 wt%. It is more preferably ~ 8 wt%, and even more preferably 0.2 wt% to 6 wt%.

（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、例えば５０万〜３００万であり、耐久性、特に耐熱性の観点から、好ましくは７０万〜２７０万であり、より好ましくは８０万〜２５０万である。（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量が５０万以上である場合、粘着剤層３０は、実用上十分な耐熱性を有する傾向がある。（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量が３００万以下である場合、粘着剤層３０を作製するための塗工液の粘度を容易に調節できる傾向がある。塗工液の粘度を容易に調節できれば、塗工液に多量の希釈溶剤を添加する必要がないため、粘着剤層３０の製造コストを抑えることができる。本明細書において、重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）による測定結果をポリスチレン換算した値をいう。 The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer is, for example, 500,000 to 3 million, preferably 700,000 to 2.7 million, and more preferably 800,000 to 2.5 million from the viewpoint of durability, particularly heat resistance. is there. When the weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer is 500,000 or more, the pressure-sensitive adhesive layer 30 tends to have sufficient heat resistance for practical use. When the weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer is 3 million or less, the viscosity of the coating liquid for producing the pressure-sensitive adhesive layer 30 tends to be easily adjusted. If the viscosity of the coating liquid can be easily adjusted, it is not necessary to add a large amount of diluting solvent to the coating liquid, so that the production cost of the pressure-sensitive adhesive layer 30 can be suppressed. In the present specification, the weight average molecular weight refers to a value obtained by converting the measurement result by GPC (gel permeation chromatography) into polystyrene.

（メタ）アクリル系ポリマーは、溶液重合、塊状重合、乳化重合、各種ラジカル重合等の公知の重合反応によって作製できる。（メタ）アクリル系ポリマーは、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよく、グラフト共重合体であってもよい。 The (meth) acrylic polymer can be produced by known polymerization reactions such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerizations. The (meth) acrylic polymer may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.

粘着剤層３０に含まれる粘着剤は、ベースポリマーが架橋剤によって架橋された構造を有していてもよい。例えば、ベースポリマーとして（メタ）アクリル系ポリマーを用いる場合には、架橋剤として、有機系架橋剤又は多官能性金属キレートを用いることができる。有機系架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤、エポキシ系架橋剤、イミン系架橋剤等が挙げられる。多官能性金属キレートとは、多価金属が有機化合物と共有結合又は配位結合しているものを意味する。多価金属を構成する原子としては、例えば、Ａｌ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｙ、Ｃｅ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｓｎ、Ｔｉ等が挙げられる。多官能性金属キレートに含まれる有機化合物は、例えば酸素原子等を含む。この有機化合物としては、例えば、アルキルエステル、アルコール化合物、カルボン酸化合物、エーテル化合物、ケトン化合物等が挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer 30 may have a structure in which the base polymer is crosslinked by a cross-linking agent. For example, when a (meth) acrylic polymer is used as the base polymer, an organic cross-linking agent or a polyfunctional metal chelate can be used as the cross-linking agent. Examples of the organic cross-linking agent include isocyanate-based cross-linking agents, peroxide-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, and imine-based cross-linking agents. The polyfunctional metal chelate means that the polyvalent metal is covalently or coordinated with an organic compound. Examples of the atoms constituting the polyvalent metal include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, and so on. Sn, Ti and the like can be mentioned. The organic compound contained in the polyfunctional metal chelate contains, for example, an oxygen atom. Examples of this organic compound include alkyl esters, alcohol compounds, carboxylic acid compounds, ether compounds, ketone compounds and the like.

粘着剤において、架橋剤の使用量は、（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対して、３重量部以下が好ましく、０．０１〜３重量部がより好ましく、０．０２〜２重量部がさらに好ましく、０．０３〜１重量部が特に好ましい。 In the pressure-sensitive adhesive, the amount of the cross-linking agent used is preferably 3 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 3 parts by weight, and 0.02 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. More preferably, 0.03 to 1 part by weight is particularly preferable.

粘着剤層３０は、粘着剤以外の他の材料をさらに含んでいてもよい。他の材料としては、例えば、導電材料、シランカップリング剤及びその他の添加剤が挙げられる。導電材料は、粘着剤層３０の表面抵抗率を低下させ、液晶表示装置の帯電による表示不良を防止することに適している。導電材料としては、導電層４０で上述したものが挙げられる。粘着剤層３０に含まれる導電材料は、ベースポリマーとの相溶性及び粘着剤層３０の透明性の観点から、イオン性化合物であることが好ましい。特に、粘着剤層３０が（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとして含むアクリル系粘着剤を含む場合、導電材料としてイオン性化合物を用いることが好ましい。イオン性化合物は、帯電防止性能の観点からイオン性液体であることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer 30 may further contain a material other than the pressure-sensitive adhesive. Other materials include, for example, conductive materials, silane coupling agents and other additives. The conductive material is suitable for reducing the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer 30 and preventing display defects due to charging of the liquid crystal display device. Examples of the conductive material include those described above in the conductive layer 40. The conductive material contained in the pressure-sensitive adhesive layer 30 is preferably an ionic compound from the viewpoint of compatibility with the base polymer and transparency of the pressure-sensitive adhesive layer 30. In particular, when the pressure-sensitive adhesive layer 30 contains an acrylic pressure-sensitive adhesive containing a (meth) acrylic polymer as a base polymer, it is preferable to use an ionic compound as the conductive material. The ionic compound is preferably an ionic liquid from the viewpoint of antistatic performance.

粘着剤層３０は、粘着剤のベースポリマー（例えば、（メタ）アクリル系ポリマー）１００重量部に対して、導電材料（例えば、イオン性化合物）を０．０５〜２０重量部含むことが好ましい。粘着剤層３０が導電材料を０．０５重量部以上含むことによって、粘着剤層３０の表面抵抗率が十分に低下し、粘着剤層３０の帯電防止性能が十分に向上する傾向がある。粘着剤層３０は、粘着剤のベースポリマー１００重量部に対して、導電材料を０．１重量部以上含むことが好ましく、０．５重量部以上含むことがより好ましい。粘着剤層３０に実用上十分な耐久性を付与する観点から、粘着剤層３０は、粘着剤のベースポリマー１００重量部に対して、導電材料を２０重量部以下含むことが好ましく、１０重量部以下含むことがより好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer 30 preferably contains 0.05 to 20 parts by weight of a conductive material (for example, an ionic compound) with respect to 100 parts by weight of the base polymer (for example, (meth) acrylic polymer) of the pressure-sensitive adhesive. When the pressure-sensitive adhesive layer 30 contains 0.05 parts by weight or more of the conductive material, the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer 30 is sufficiently lowered, and the antistatic performance of the pressure-sensitive adhesive layer 30 tends to be sufficiently improved. The pressure-sensitive adhesive layer 30 preferably contains 0.1 part by weight or more of the conductive material, and more preferably 0.5 part by weight or more, based on 100 parts by weight of the base polymer of the pressure-sensitive adhesive. From the viewpoint of imparting practically sufficient durability to the pressure-sensitive adhesive layer 30, the pressure-sensitive adhesive layer 30 preferably contains 20 parts by weight or less of a conductive material with respect to 100 parts by weight of the base polymer of the pressure-sensitive adhesive. It is more preferable to include the following.

その他の添加剤としては、例えば、ポリアルキレングリコール（例えば、ポリプロピレングリコール）等のポリエーテル化合物、着色剤、顔料、染料、界面活性剤、可塑剤、粘着性付与剤、表面潤滑剤、レベリング剤、軟化剤、酸化防止剤、老化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、無機充填剤、有機充填剤、金属粉等を使用する用途に応じて適宜用いることができる。添加剤は、粉体であってもよく、粒子状であってもよく、箔状であってもよい。添加剤として、制御可能な範囲内で還元剤を用いることによってレドックス系を構成してもよい。粘着剤層３０に着色剤などの色素を添加することによって、液晶パネル１００からの反射光の色相を調節できることがある。粘着剤層３０は、粘着剤のベースポリマー（例えば、（メタ）アクリル系ポリマー）１００重量部に対して、その他の添加剤を５重量部以下含むことが好ましく、３重量部以下含むことがより好ましく、１重量部以下含むことがさらに好ましい。 Other additives include, for example, polyether compounds such as polyalkylene glycol (for example, polypropylene glycol), colorants, pigments, dyes, surfactants, plasticizers, tackifiers, surface lubricants, leveling agents, etc. It can be appropriately used depending on the application in which a softener, an antioxidant, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, an inorganic filler, an organic filler, a metal powder, or the like is used. The additive may be in the form of powder, in the form of particles, or in the form of foil. A redox system may be constructed by using a reducing agent as an additive within a controllable range. By adding a dye such as a colorant to the pressure-sensitive adhesive layer 30, the hue of the reflected light from the liquid crystal panel 100 may be adjusted. The pressure-sensitive adhesive layer 30 preferably contains 5 parts by weight or less of other additives with respect to 100 parts by weight of the base polymer (for example, (meth) acrylic polymer) of the pressure-sensitive adhesive, and more preferably 3 parts by weight or less. It is preferable, and it is more preferable to contain 1 part by weight or less.

粘着剤層３０の厚さは、特に限定されず、例えば５〜１００μｍであり、好ましくは１０〜５０μｍである。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 30 is not particularly limited, and is, for example, 5 to 100 μm, preferably 10 to 50 μm.

反射防止膜付き偏光フィルム１５において、粘着剤層３０の表面抵抗率は、特に限定されないが、１．０×１０14Ω／□未満であってもよく、１．０×１０12Ω／□以下であることが好ましい。粘着剤層３０の表面抵抗率の下限値は、特に限定されないが、耐久性の観点から、例えば１．０×１０8Ω／□である。粘着剤層３０の表面抵抗率は、次の方法によって測定できる。まず、粘着剤層３０の表面が外部に露出している積層体を準備する。このような積層体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどのセパレータフィルム上に粘着剤層３０が配置された積層体が挙げられる。次に、準備した積層体における粘着剤層３０の表面について、表面抵抗率を測定する。表面抵抗率の測定は、ハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０（三菱ケミカルアナリテック社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６９１１：１９９５に規定された方法に準拠して測定することができる。この測定によって得られた測定値を粘着剤層３０の表面抵抗率とみなすことができる。 In the polarizing film 15 with an antireflection film, the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer 30 is not particularly limited , but may be less than 1.0 × 10 14 Ω / □ and 1.0 × 10 12 Ω / □ or less. Is preferable. The lower limit of the surface resistivity of the adhesive layer 30 is not particularly limited, from the viewpoint of durability, for example, 1.0 × 10 8 Ω / □ is. The surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer 30 can be measured by the following method. First, a laminate in which the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 30 is exposed to the outside is prepared. Examples of such a laminate include a laminate in which the pressure-sensitive adhesive layer 30 is arranged on a separator film such as a polyethylene terephthalate film. Next, the surface resistivity of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 30 in the prepared laminate is measured. The surface resistivity can be measured by using High Restor-UP MCP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) in accordance with the method specified in JIS K6911: 1995. The measured value obtained by this measurement can be regarded as the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer 30.

［他の層］
反射防止膜付き偏光フィルム１５は、反射防止膜１０、偏光フィルム２０、導電層４０及び粘着剤層３０以外の他の層をさらに備えていてもよい。反射防止膜付き偏光フィルム１５は、１つ又は２つ以上の他の層を含んでいてもよい。他の層は、例えば、反射防止膜１０よりも視認側に配置され、反射防止膜１０に接している。他の層としては、例えば、表面保護フィルム及び位相差膜が挙げられる。 [Other layers]
The polarizing film 15 with an antireflection film may further include a layer other than the antireflection film 10, the polarizing film 20, the conductive layer 40, and the pressure-sensitive adhesive layer 30. The polarizing film 15 with an antireflection film may include one or more other layers. The other layer is arranged on the visual side of the antireflection film 10, for example, and is in contact with the antireflection film 10. Examples of the other layer include a surface protective film and a retardation film.

表面保護フィルムは、例えば、支持フィルムと、支持フィルムの少なくとも片面に配置された粘着剤層とを有する。表面保護フィルムの粘着剤層は、軽剥離剤、導電材料等を含んでいてもよい。表面保護フィルムの粘着剤層が導電材料を含む場合、表面保護フィルムを反射防止膜１０に貼り合わせて、その後、表面保護フィルムを剥離することによって、反射防止膜１０に導電材料を含有させ、その表面に導電機能を付与することができる。導電材料としては、導電層４０で上述したものが挙げられる。表面保護フィルムの剥離によって反射防止膜１０の表面に導電機能を付与するためには、表面保護フィルムの粘着剤層が導電材料とともに、軽剥離剤を含むことが好ましい。軽剥離剤としては、例えば、ポリオルガノシロキサン等のシリコーン樹脂が挙げられる。反射防止膜１０の表面に付与する導電機能は、導電材料及び軽剥離剤の使用量によって適宜調整できる。 The surface protective film has, for example, a support film and an adhesive layer arranged on at least one side of the support film. The pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film may contain a light release agent, a conductive material, or the like. When the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film contains a conductive material, the antireflection film 10 is made to contain the conductive material by attaching the surface protective film to the antireflection film 10 and then peeling off the surface protective film. A conductive function can be imparted to the surface. Examples of the conductive material include those described above in the conductive layer 40. In order to impart a conductive function to the surface of the antireflection film 10 by peeling the surface protective film, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film contains a light peeling agent together with the conductive material. Examples of the light release agent include silicone resins such as polyorganosiloxane. The conductive function imparted to the surface of the antireflection film 10 can be appropriately adjusted depending on the amount of the conductive material and the light release agent used.

他の層は、部材間の密着性を向上させるための易接着層を含んでいてもよい。他の層が易接着層である場合、当該易接着層は、偏光フィルム２０の表面に配置されていてもよい。なお、易接着層に代えて、偏光フィルム２０の表面に、コロナ処理、プラズマ処理等の易接着処理が施されていてもよい。 The other layer may include an easy-adhesion layer for improving the adhesion between the members. When the other layer is an easy-adhesion layer, the easy-adhesion layer may be arranged on the surface of the polarizing film 20. Instead of the easy-adhesion layer, the surface of the polarizing film 20 may be subjected to an easy-adhesion treatment such as a corona treatment or a plasma treatment.

［反射防止膜付き偏光フィルムの製造方法］
導電層４０を有する反射防止膜付き偏光フィルム１５は、例えば、次の方法によって作製することができる。まず、導電材料の溶液又は分散液を調製する。溶液又は分散液の溶媒は、例えば水であり、水溶性の有機溶媒をさらに含んでいてもよい。水溶性の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−アミルアルコール、イソアミルアルコール、ｓｅｃ−アミルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコール類が挙げられる。 [Manufacturing method of polarizing film with antireflection film]
The polarizing film 15 with an antireflection film having the conductive layer 40 can be produced, for example, by the following method. First, a solution or dispersion of the conductive material is prepared. The solvent of the solution or dispersion is, for example, water, and may further contain a water-soluble organic solvent. Examples of the water-soluble organic solvent include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, n-amyl alcohol, isoamyl alcohol, sec-amyl alcohol, and tert-. Examples thereof include alcohols such as amyl alcohol, 1-ethyl-1-propanol, 2-methyl-1-butanol, n-hexanol and cyclohexanol.

次に、導電材料の溶液又は分散液を偏光フィルム２０の表面に塗布する。得られた塗布膜を乾燥させることによって、偏光フィルム２０の上に導電層４０が形成される。これにより、偏光フィルム２０及び導電層４０からなる積層体Ｌが得られる。 Next, a solution or dispersion of the conductive material is applied to the surface of the polarizing film 20. By drying the obtained coating film, the conductive layer 40 is formed on the polarizing film 20. As a result, a laminated body L composed of the polarizing film 20 and the conductive layer 40 is obtained.

次に、積層体Ｌの偏光フィルム２０の上に反射防止膜１０（又は１１）を配置し、積層体Ｌ１を作製する。次に、粘着剤を含む溶液を調製する。この溶液をセパレータの表面に塗布することによって塗布膜が得られる。セパレータは、特に限定されず、例えば、シリコーン系剥離剤で処理されたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることができる。次に、塗布膜を乾燥させることによって、セパレータの上に粘着剤層３０が形成される。得られた粘着剤層３０を積層体Ｌ１の導電層４０の上に転写することによって、反射防止膜付き偏光フィルム１５を作製することができる。 Next, the antireflection film 10 (or 11) is placed on the polarizing film 20 of the laminated body L to prepare the laminated body L1. Next, a solution containing the pressure-sensitive adhesive is prepared. A coating film is obtained by applying this solution to the surface of the separator. The separator is not particularly limited, and for example, a polyethylene terephthalate film treated with a silicone-based release agent can be used. Next, the pressure-sensitive adhesive layer 30 is formed on the separator by drying the coating film. By transferring the obtained pressure-sensitive adhesive layer 30 onto the conductive layer 40 of the laminated body L1, the polarizing film 15 with an antireflection film can be produced.

［液晶セル］
液晶セル２５は、例えば、液晶層５０、第１透明基板６０及び第２透明基板７０を備えている。液晶層５０は、例えば、第１透明基板６０及び第２透明基板７０の間に配置されており、第１透明基板６０及び第２透明基板７０のそれぞれに接している。反射防止膜付き偏光フィルム１５の粘着剤層３０は、例えば、液晶セル２５の第１透明基板６０に接している。液晶パネル１００は、例えば、粘着剤層３０と第１透明基板６０との間にＩＴＯ層を有していない。 [Liquid crystal cell]
The liquid crystal cell 25 includes, for example, a liquid crystal layer 50, a first transparent substrate 60, and a second transparent substrate 70. The liquid crystal layer 50 is arranged between, for example, the first transparent substrate 60 and the second transparent substrate 70, and is in contact with each of the first transparent substrate 60 and the second transparent substrate 70. The pressure-sensitive adhesive layer 30 of the polarizing film 15 with an antireflection film is in contact with, for example, the first transparent substrate 60 of the liquid crystal cell 25. The liquid crystal panel 100 does not have an ITO layer between the pressure-sensitive adhesive layer 30 and the first transparent substrate 60, for example.

液晶層５０は、例えば、電界が存在しない状態でホモジニアス配向した液晶分子を含む。このような液晶分子を含む液晶層５０は、ＩＰＳ（In-Plane-Switching）方式に適している。ただし、液晶層５０は、ＴＮ（Twisted Nematic）型、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型、π型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等に用いられてもよい。液晶層５０の厚さは、例えば、１．５μｍ〜４μｍである。 The liquid crystal layer 50 contains, for example, liquid crystal molecules homogenically oriented in the absence of an electric field. The liquid crystal layer 50 containing such liquid crystal molecules is suitable for an IPS (In-Plane-Switching) method. However, the liquid crystal layer 50 may be used for a TN (Twisted Nematic) type, an STN (Super Twisted Nematic) type, a π type, a VA (Vertical Alignment) type, or the like. The thickness of the liquid crystal layer 50 is, for example, 1.5 μm to 4 μm.

第１透明基板６０及び第２透明基板７０の材料としては、例えば、ガラス及びポリマーが挙げられる。本明細書では、ポリマーで構成された透明基板をポリマーフィルムと呼ぶことがある。透明基板を構成するポリマーとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート等が挙げられる。ガラスで構成された透明基板の厚さは、例えば、０．１ｍｍ〜１ｍｍである。ポリマーで構成された透明基板の厚さは、例えば、１０μｍ〜２００μｍである。 Examples of the material of the first transparent substrate 60 and the second transparent substrate 70 include glass and a polymer. In the present specification, a transparent substrate made of a polymer may be referred to as a polymer film. Examples of the polymer constituting the transparent substrate include polyethylene terephthalate, polycycloolefin, polycarbonate and the like. The thickness of the transparent substrate made of glass is, for example, 0.1 mm to 1 mm. The thickness of the transparent substrate composed of the polymer is, for example, 10 μm to 200 μm.

液晶セル２５は、液晶層５０、第１透明基板６０及び第２透明基板７０以外の他の層をさらに含んでいてもよい。他の層としては、例えば、カラーフィルタ、易接着層及びハードコート層が挙げられる。カラーフィルタは、例えば、液晶層５０よりも視認側に配置されており、好ましくは第１透明基板６０と反射防止膜付き偏光フィルム１５の粘着剤層３０との間に位置する。易接着層及びハードコート層は、例えば、第１透明基板６０又は第２透明基板７０の表面上に配置されている。 The liquid crystal cell 25 may further include a layer other than the liquid crystal layer 50, the first transparent substrate 60, and the second transparent substrate 70. Other layers include, for example, color filters, easy-adhesion layers and hard coat layers. The color filter is arranged, for example, on the visual side of the liquid crystal layer 50, and is preferably located between the first transparent substrate 60 and the pressure-sensitive adhesive layer 30 of the polarizing film 15 with an antireflection film. The easy-adhesion layer and the hard coat layer are arranged on the surface of the first transparent substrate 60 or the second transparent substrate 70, for example.

［他の部材］
液晶パネル１００は、反射防止膜付き偏光フィルム１５及び液晶セル２５以外の他の部材をさらに備えていてもよい。例えば、液晶パネル１００は、反射防止膜付き偏光フィルム１５の側面に電気的に接続している導通構造（図示せず）をさらに備えていてもよい。導通構造をアースに接続すれば、反射防止膜付き偏光フィルム１５が静電気によって帯電することを抑制しやすい。導通構造は、反射防止膜付き偏光フィルム１５の側面全体を覆っていてもよく、反射防止膜付き偏光フィルム１５の側面を部分的に覆っていてもよい。反射防止膜付き偏光フィルム１５の側面全体の面積に対する導通構造によって覆われた反射防止膜付き偏光フィルム１５の側面の面積の比率は、例えば１％以上であり、好ましくは３％以上である。 [Other members]
The liquid crystal panel 100 may further include members other than the polarizing film 15 with an antireflection film and the liquid crystal cell 25. For example, the liquid crystal panel 100 may further include a conductive structure (not shown) that is electrically connected to the side surface of the polarizing film 15 with an antireflection film. If the conductive structure is connected to the ground, it is easy to prevent the polarizing film 15 with the antireflection film from being charged by static electricity. The conductive structure may cover the entire side surface of the polarizing film 15 with the antireflection film, or may partially cover the side surface of the polarizing film 15 with the antireflection film. The ratio of the side area of the antireflection film 15 covered by the conductive structure to the total area of the side surface of the antireflection film 15 is, for example, 1% or more, preferably 3% or more.

導通構造の材料としては、例えば銀、金等の金属で構成された導電性ペースト；導電性接着剤；他の導電材料が挙げられる。導通構造は、反射防止膜付き偏光フィルム１５の側面から伸びる配線であってもよい。 Examples of the material of the conductive structure include a conductive paste made of a metal such as silver and gold; a conductive adhesive; and other conductive materials. The conductive structure may be wiring extending from the side surface of the polarizing film 15 with an antireflection film.

液晶パネル１００は、偏光フィルム２０以外の他の光学フィルムをさらに備えていてもよい。他の光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、反射板、反透過板、位相差フィルム、視野角補償フィルム、輝度向上フィルム等の液晶表示装置に用いられるフィルムが挙げられる。位相差フィルムは、例えば、１／２波長板、１／４波長板等を含む。液晶パネル１００は、これらの１種又は２種以上の他の光学フィルムを備えていてもよい。 The liquid crystal panel 100 may further include an optical film other than the polarizing film 20. Examples of other optical films include films used in liquid crystal display devices such as polarizing films, reflectors, antitransmissive plates, retardation films, viewing angle compensation films, and brightness improving films. The retardation film includes, for example, a 1/2 wave plate, a 1/4 wave plate, and the like. The liquid crystal panel 100 may include one or more of these other optical films.

他の光学フィルムが偏光フィルムである場合、当該偏光フィルムは、例えば、粘着剤層を介して、液晶セル２５の第２透明基板７０と貼り合わされる。この偏光フィルムは、例えば、偏光フィルム２０について上述した構成を有する。他の光学フィルムとしての偏光フィルムにおいて、偏光子の透過軸（又は吸収軸）は、例えば、偏光フィルム２０における偏光子の透過軸（又は吸収軸）と直交している。偏光フィルムと第２透明基板７０とを貼り合わせるための粘着剤層の材料としては、粘着剤層３０について上述したものを用いることができる。この粘着剤層の厚さは、特に限定されず、例えば１〜１００μｍであり、好ましくは２〜５０μｍであり、より好ましくは２〜４０μｍであり、さらに好ましくは５〜３５μｍである。 When the other optical film is a polarizing film, the polarizing film is bonded to the second transparent substrate 70 of the liquid crystal cell 25 via, for example, an adhesive layer. This polarizing film has, for example, the above-described configuration of the polarizing film 20. In a polarizing film as another optical film, the transmission axis (or absorption axis) of the polarizer is, for example, orthogonal to the transmission axis (or absorption axis) of the polarizer in the polarizing film 20. As the material of the pressure-sensitive adhesive layer for bonding the polarizing film and the second transparent substrate 70, the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer 30 can be used. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and is, for example, 1 to 100 μm, preferably 2 to 50 μm, more preferably 2 to 40 μm, and further preferably 5 to 35 μm.

本実施形態の液晶パネル１００によれば、反射防止膜付き偏光フィルム１５の導電層４０の表面抵抗率が１．０×１０6Ω／□以下に調節されることによって、静電気が生じやすい環境下であっても、液晶表示装置の帯電による表示不良を防止することができる。例えば、液晶パネル１００は、ＥＳＤ（Electro-Static Discharge）試験を行った場合に良好な結果を示す。ＥＳＤ試験は、例えば、次の方法によって実施される。まず、液晶パネル１００をバックライト装置の上にセットする。次に、液晶パネル１００の視認側（反射防止膜１０側）に静電気を付与する。静電気の付与は、印加電圧が１０ｋＶに調節された静電気放電銃（Electrostatic discharge Gun）を用いる。静電気を付与すると、液晶パネル１００の一部が白抜けする。静電気を付与してから、白抜けした部分が消失するまでの時間Ｔを測定する。液晶パネル１００において、時間Ｔは、例えば１０秒以下であり、好ましくは１秒以下であり、より好ましくは０．５秒以下である。なお、ＥＳＤ試験は、２３℃、５５％ＲＨの条件で行う。 According to the liquid crystal panel 100 of the present embodiment, the surface resistivity of the conductive layer 40 of the polarizing film 15 with an antireflection film is adjusted to 1.0 × 10 6 Ω / □ or less in an environment where static electricity is likely to occur. Even so, it is possible to prevent display defects due to charging of the liquid crystal display device. For example, the liquid crystal panel 100 shows good results when an ESD (Electro-Static Discharge) test is performed. The ESD test is carried out by, for example, the following method. First, the liquid crystal panel 100 is set on the backlight device. Next, static electricity is applied to the visible side (antireflection film 10 side) of the liquid crystal panel 100. To apply static electricity, an electrostatic discharge gun whose applied voltage is adjusted to 10 kV is used. When static electricity is applied, a part of the liquid crystal panel 100 becomes white. The time T from when static electricity is applied until the white spot disappears is measured. In the liquid crystal panel 100, the time T is, for example, 10 seconds or less, preferably 1 second or less, and more preferably 0.5 seconds or less. The ESD test is performed under the conditions of 23 ° C. and 55% RH.

本発明者らは、反射防止膜付き偏光フィルム１５と液晶セル２５との間に、ＩＴＯ層などの導電層が設けられていない構成を採用することによって、液晶パネル１００での光の反射を大きく抑制できることを新たに見出した。液晶パネル１００は、良好な視認性が求められる用途、特に車載用ディスプレイの用途に適している。車載用ディスプレイとしては、例えば、カーナビゲーション装置用パネル、クラスタパネル、ミラーディスプレイなどが挙げられる。クラスタパネルは、車両の走行速度やエンジンの回転数などを表示するパネルである。特に、液晶パネル１００は、タッチセンサを必要としない用途、例えばクラスタパネルやミラーディスプレイ、に適している。 The present inventors greatly increase the reflection of light on the liquid crystal panel 100 by adopting a configuration in which a conductive layer such as an ITO layer is not provided between the polarizing film 15 with an antireflection film and the liquid crystal cell 25. We have newly found that it can be suppressed. The liquid crystal panel 100 is suitable for applications that require good visibility, especially for in-vehicle displays. Examples of the in-vehicle display include a car navigation device panel, a cluster panel, and a mirror display. The cluster panel is a panel that displays the running speed of the vehicle, the number of revolutions of the engine, and the like. In particular, the liquid crystal panel 100 is suitable for applications that do not require a touch sensor, such as a cluster panel or a mirror display.

（液晶パネルの変形例）
液晶パネル１００が備える反射防止膜付き偏光フィルム１５は、上述した部材以外の他の部材をさらに備えていてもよい。図４に示すとおり、本変形例にかかる液晶パネル１１０において、反射防止膜付き偏光フィルム１６は、反射防止膜１０と偏光フィルム２０との間に配置された透明基板４５及び粘着剤層４６をさらに有している。透明基板４５及び粘着剤層４６を除き、液晶パネル１１０の構造は、液晶パネル１００の構造と同じである。したがって、液晶パネル１００と変形例の液晶パネル１１０とで共通する要素には同じ参照符号を付し、それらの説明を省略することがある。すなわち、以下の各実施形態に関する説明は、技術的に矛盾しない限り、相互に適用される。以下の各実施形態は、技術的に矛盾しない限り、相互に組み合わされてもよい。 (Modified example of liquid crystal panel)
The polarizing film 15 with an antireflection film included in the liquid crystal panel 100 may further include members other than the above-mentioned members. As shown in FIG. 4, in the liquid crystal panel 110 according to the present modification, the polarizing film 16 with an antireflection film further includes a transparent substrate 45 and an adhesive layer 46 arranged between the antireflection film 10 and the polarizing film 20. Have. The structure of the liquid crystal panel 110 is the same as that of the liquid crystal panel 100, except for the transparent substrate 45 and the adhesive layer 46. Therefore, the same reference numerals may be given to the elements common to the liquid crystal panel 100 and the liquid crystal panel 110 of the modified example, and the description thereof may be omitted. That is, the following description of each embodiment applies to each other as long as there is no technical contradiction. The following embodiments may be combined with each other as long as they are not technically inconsistent.

透明基板４５は、例えば、反射防止膜１０の第１の高屈折率層１に接している。ただし、反射防止膜付き偏光フィルム１６は、反射防止膜１０に代えて、図３で説明した反射防止膜１１を有していてもよい。このとき、反射防止膜１１の粘着剤層６が透明基板４５に接している。粘着剤層４６は、例えば、透明基板４５と偏光フィルム２０との間に配置され、透明基板４５及び偏光フィルム２０のそれぞれに接している。 The transparent substrate 45 is in contact with, for example, the first high-refractive index layer 1 of the antireflection film 10. However, the polarizing film 16 with an antireflection film may have the antireflection film 11 described with reference to FIG. 3 instead of the antireflection film 10. At this time, the adhesive layer 6 of the antireflection film 11 is in contact with the transparent substrate 45. The pressure-sensitive adhesive layer 46 is arranged between, for example, the transparent substrate 45 and the polarizing film 20, and is in contact with each of the transparent substrate 45 and the polarizing film 20.

透明基板４５としては、第１透明基板６０及び第２透明基板７０について上述したものを用いることができ、好ましくはガラスで構成されている。本明細書では、ガラスで構成された透明基板４５を「カバーガラス」と呼ぶことがある。 As the transparent substrate 45, those described above for the first transparent substrate 60 and the second transparent substrate 70 can be used, and are preferably made of glass. In the present specification, the transparent substrate 45 made of glass may be referred to as "cover glass".

粘着剤層４６としては、粘着剤層３０について上述したものを用いることができる。特に、粘着剤層４６は、市販の光学透明粘着剤（ＯＣＡ：Optical Clear Adhesive）を含むことが好ましい。粘着剤層４６は、例えば、ＬＵＣＩＡＣＳ（登録商標）ＣＳ９６２１Ｔなどの粘着テープを用いて形成することができる。 As the pressure-sensitive adhesive layer 46, the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer 30 can be used. In particular, the pressure-sensitive adhesive layer 46 preferably contains a commercially available optical clear adhesive (OCA). The pressure-sensitive adhesive layer 46 can be formed by using, for example, a pressure-sensitive adhesive tape such as LUCIACS® CS9621T.

（液晶パネルの別の変形例）
液晶パネル１００又は１１０は、タッチセンサ又はタッチパネルをさらに備えていてもよい。図５は、タッチパネル８０を備えた液晶パネル１２０を示している。タッチパネル８０を除き、液晶パネル１２０の構造は、液晶パネル１００の構造と同じである。 (Another modification of the liquid crystal panel)
The liquid crystal panel 100 or 110 may further include a touch sensor or a touch panel. FIG. 5 shows a liquid crystal panel 120 provided with a touch panel 80. Except for the touch panel 80, the structure of the liquid crystal panel 120 is the same as that of the liquid crystal panel 100.

液晶パネル１２０において、タッチパネル８０は、例えば、反射防止膜１０よりも視認側に配置されている。タッチパネル８０は、反射防止膜付き偏光フィルム１５に接しておらず、タッチパネル８０と反射防止膜付き偏光フィルム１５との間には空隙（空気層）が形成されている。液晶パネル１２０は、いわゆるアウトセル型液晶パネルである。タッチパネル８０としては、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などを採用することができる。タッチパネル８０が抵抗膜方式である場合、タッチパネル８０は、例えば、スペーサを介して、透明導電性薄膜を有する２つの電極板が対向するように配置された構造を有する。タッチパネル８０が静電容量方式である場合、タッチパネル８０は、例えば、所定のパターン形状を有する透明導電性薄膜を備えた透明導電性フィルムで構成されている。 In the liquid crystal panel 120, the touch panel 80 is arranged on the visual side of the antireflection film 10, for example. The touch panel 80 is not in contact with the polarizing film 15 with an antireflection film, and a gap (air layer) is formed between the touch panel 80 and the polarizing film 15 with an antireflection film. The liquid crystal panel 120 is a so-called out-cell type liquid crystal panel. As the touch panel 80, an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, or the like can be adopted. When the touch panel 80 is of the resistance film type, the touch panel 80 has a structure in which, for example, two electrode plates having a transparent conductive thin film are arranged so as to face each other via a spacer. When the touch panel 80 is of the capacitance type, the touch panel 80 is made of, for example, a transparent conductive film provided with a transparent conductive thin film having a predetermined pattern shape.

（液晶表示装置の実施形態）
本実施形態の液晶表示装置は、例えば、液晶パネル１００及び照明システムを備えている。液晶表示装置では、液晶パネル１００に代えて、液晶パネル１１０又は１２０も使用可能である。液晶表示装置において、液晶パネル１００は、例えば、照明システムよりも視認側に配置されている。照明システムは、例えば、バックライト又は反射板を有し、液晶パネル１００に光を照射する。 (Embodiment of liquid crystal display device)
The liquid crystal display device of the present embodiment includes, for example, a liquid crystal panel 100 and a lighting system. In the liquid crystal display device, the liquid crystal panel 110 or 120 can be used instead of the liquid crystal panel 100. In the liquid crystal display device, the liquid crystal panel 100 is arranged on the visual side of the lighting system, for example. The lighting system has, for example, a backlight or a reflector and irradiates the liquid crystal panel 100 with light.

以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、以下に示す実施例に限定されない。なお、以下では、特にことわりのない場合、「％」は「重量％」を示し、「部」は「重量部」を示し、「厚さ」は「物理膜厚」を示す。特にことわりのない場合、室内の温度及び湿度は、２３℃、６５％ＲＨである。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. The present invention is not limited to the examples shown below. In the following, unless otherwise specified, "%" indicates "% by weight", "part" indicates "part by weight", and "thickness" indicates "physical film thickness". Unless otherwise specified, the room temperature and humidity are 23 ° C. and 65% RH.

＜（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量＞
以下の実施例において、（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定した。（メタ）アクリル系ポリマーのＭｗ／Ｍｎについても、同様に測定した。
・分析装置：東ソー社製、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ
・カラム：東ソー社製、Ｇ７０００ＨXL＋ＧＭＨXL＋ＧＭＨXL
・カラムサイズ：各７．８ｍｍφ×３０ｃｍ 計９０ｃｍ
・カラム温度：４０℃
・流量：０．８ｍＬ／ｍｉｎ
・注入量：１００μＬ
・溶離液：テトラヒドロフラン
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）
・標準試料：ポリスチレン <Weight average molecular weight of (meth) acrylic polymer>
In the following examples, the weight average molecular weight (Mw) of the (meth) acrylic polymer was measured by GPC (gel permeation chromatography). The Mw / Mn of the (meth) acrylic polymer was also measured in the same manner.
-Analyzer: HLC-8120GPC manufactured by Tosoh Corporation
-Column: Tosoh, G7000H XL + GMH XL + GMH XL
-Column size: 7.8 mm φ x 30 cm each 90 cm in total
-Column temperature: 40 ° C
・ Flow rate: 0.8 mL / min
・ Injection amount: 100 μL
-Eluent: Tetrahydrofuran-Detector: Differential refractometer (RI)
・ Standard sample: Polystyrene

＜粘着剤層Ａ＞
まず、攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管及び冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート７６．９部、ベンジルアクリレート１８部、アクリル酸５部、４−ヒドロキシブチルアクリレート０．１部を仕込むことによってモノマー混合物を得た。さらに、モノマー混合物（固形分）１００部に対して、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１部を酢酸エチル１００部と共に仕込んだ。混合物を緩やかに攪拌しながら、フラスコ内について窒素ガスを導入して窒素置換した。フラスコ内の液温を５５℃付近に維持して８時間重合反応を行うことによって、重量平均分子量（Ｍｗ）２００万、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．１のアクリル系ポリマーの溶液を調製した。 <Adhesive layer A>
First, 76.9 parts of butyl acrylate, 18 parts of benzyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, 0.1 part of 4-hydroxybutyl acrylate in a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube and a cooler. Was charged to obtain a monomer mixture. Further, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile was charged together with 100 parts of ethyl acetate as a polymerization initiator with respect to 100 parts of the monomer mixture (solid content). Nitrogen gas was introduced into the flask and replaced with nitrogen while gently stirring the mixture. A solution of an acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of 2 million and Mw / Mn = 4.1 was prepared by carrying out a polymerization reaction for 8 hours while maintaining the liquid temperature in the flask at around 55 ° C.

次に、アクリル系ポリマーの溶液の固形分１００部に対して、０．４５部のイソシアネート架橋剤（東ソー社製のコロネートＬ、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート）、０．１部の過酸化物架橋剤（日本油脂社製のナイパーＢＭＴ）、及び０．２部のシランカップリング剤（信越化学工業社製のＫＢＭ−４０３、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラン）をさらに配合することによって、アクリル系粘着剤組成物の溶液を調製した。 Next, 0.45 parts of an isocyanate cross-linking agent (Coronate L manufactured by Toso Co., Ltd., trimethylolpropane tolylene diisocyanate) and 0.1 part of peroxide cross-linking with respect to 100 parts of the solid content of the acrylic polymer solution. Acrylic-based by further blending an agent (Niper BMT manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) and 0.2 parts of a silane coupling agent (KBM-403, γ-glycidoxypropylmethoxysilane manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.). A solution of the pressure-sensitive adhesive composition was prepared.

次に、得られた溶液をセパレータ（三菱化学ポリエステルフィルム社製のＭＲＦ３８）の片面に塗布した。セパレータは、シリコーン系剥離剤で処理されたポリエチレンテレフタレートフィルムであった。得られた塗布膜を１５５℃で１分間乾燥させることによって、セパレータの表面に粘着剤層Ａを形成した。粘着剤層Ａの厚さは、２０μｍであった。 Next, the obtained solution was applied to one side of a separator (MRF38 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Corporation). The separator was a polyethylene terephthalate film treated with a silicone-based release agent. The obtained coating film was dried at 155 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer A on the surface of the separator. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer A was 20 μm.

＜粘着剤層Ｂ＞
アクリル系ポリマーの溶液の固形分１００部に対して、１部のビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ、三菱マテリアル社製）をさらに配合して、アクリル系粘着剤組成物の溶液を調製したことを除き、粘着剤層Ａと同じ方法によって、粘着剤層Ｂを作製した。 <Adhesive layer B>
A solution of an acrylic pressure-sensitive adhesive composition was prepared by further blending 1 part of bis (trifluoromethanesulfonyl) imidelithium (LiTFSI, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) with respect to 100 parts of the solid content of the solution of the acrylic polymer. Except for this, the pressure-sensitive adhesive layer B was prepared by the same method as the pressure-sensitive adhesive layer A.

＜粘着剤層Ｃ＞
まず、攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管及び冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート９４．９部、アクリル酸５部、４−ヒドロキシブチルアクリレート０．１部を仕込むことによってモノマー混合物を得た。さらに、モノマー混合物（固形分）１００部に対して、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１部を酢酸エチル１００部と共に仕込んだ。混合物を緩やかに攪拌しながら、フラスコ内について窒素ガスを導入して窒素置換した。フラスコ内の液温を５５℃付近に維持して８時間重合反応を行うことによって、重量平均分子量（Ｍｗ）２１０万、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．０のアクリル系ポリマーの溶液を調製した。 <Adhesive layer C>
First, a monomer is charged by charging 94.9 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, and 0.1 part of 4-hydroxybutyl acrylate into a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube and a cooler. A mixture was obtained. Further, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile was charged together with 100 parts of ethyl acetate as a polymerization initiator with respect to 100 parts of the monomer mixture (solid content). Nitrogen gas was introduced into the flask and replaced with nitrogen while gently stirring the mixture. A solution of an acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of 2.1 million and Mw / Mn = 4.0 was prepared by carrying out a polymerization reaction for 8 hours while maintaining the liquid temperature in the flask at around 55 ° C.

次に、アクリル系ポリマーの溶液の固形分１００部に対して、０．４５部のイソシアネート架橋剤（東ソー社製のコロネートＬ、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート）、０．１部の過酸化物架橋剤（日本油脂社製のナイパーＢＭＴ）、及び０．２部のシランカップリング剤（信越化学工業社製のＫＢＭ−４０３、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラン）をさらに配合することによって、アクリル系粘着剤組成物の溶液を調製した。 Next, 0.45 parts of an isocyanate cross-linking agent (Coronate L manufactured by Toso Co., Ltd., trimethylolpropane tolylene diisocyanate) and 0.1 part of peroxide cross-linking with respect to 100 parts of the solid content of the acrylic polymer solution. Acrylic-based by further blending an agent (Niper BMT manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) and 0.2 parts of a silane coupling agent (KBM-403, γ-glycidoxypropylmethoxysilane manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.). A solution of the pressure-sensitive adhesive composition was prepared.

次に、得られた溶液をセパレータ（三菱化学ポリエステルフィルム社製のＭＲＦ３８）の片面に塗布した。セパレータは、シリコーン系剥離剤で処理されたポリエチレンテレフタレートフィルムであった。得られた塗布膜を１５５℃で１分間乾燥させることによって、セパレータの表面に粘着剤層Ｃを形成した。粘着剤層Ｃの厚さは、１２μｍであった。 Next, the obtained solution was applied to one side of a separator (MRF38 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Corporation). The separator was a polyethylene terephthalate film treated with a silicone-based release agent. The obtained coating film was dried at 155 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer C on the surface of the separator. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer C was 12 μm.

＜反射防止膜ＡＲ１＞
まず、アンチグレア層を形成するための樹脂として、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂（三菱ケミカル（株）製、商品名「ＵＶ１７００ＴＬ」、固形分濃度８０重量％）５０重量部、及び、ペンタエリスリトールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業（株）製、商品名「ビスコート＃３００」、固形分濃度１００重量％）５０重量部を準備した。これらの樹脂の固形分１００重量部あたり、（メタ）アクリル酸エステルとスチレンの共重合体を含む粒子（積水化成品工業（株）製、商品名「テクポリマーＳＳＸ５０４ＴＮＲ」、重量平均粒径：３．０μｍ）を４重量部、チキソトロピー付与剤として有機粘土である合成スメクタイト（クニミネ工業（株）製、商品名「スメクトンＳＡＮ」）を１．５重量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」）を３重量部、レベリング剤（ＤＩＣ（株）製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ４１００」、固形分濃度１０重量％）を０．０１５重量部混合した。この混合物について、固形分濃度が５０重量％となるように、トルエン／シクロペンタノン混合溶媒（重量比８０／２０）で希釈して、アンチグレア層を形成するための材料（塗工液）を調製した。 <Anti-reflective coating AR1>
First, as a resin for forming the anti-glare layer, 50 parts by weight of an ultraviolet curable urethane acrylate resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name "UV1700TL", solid content concentration 80% by weight) and pentaerythritol triacrylate are used. 50 parts by weight of a polyfunctional acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "Viscoat # 300", solid content concentration 100% by weight) as a main component was prepared. Particles containing a copolymer of (meth) acrylic acid ester and styrene per 100 parts by weight of solid content of these resins (manufactured by Sekisui Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name "Techpolymer SSX504TNR", weight average particle size: 3 .0 μm) by 4 parts by weight, synthetic smectite (manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd., trade name “Smecton SAN”), which is an organic clay as a tyrenetropy-imparting agent, 1.5 parts by weight, photopolymerization initiator (manufactured by BASF, product 3 parts by weight of the name "OMNIRAD907") and 0.015 parts by weight of a leveling agent (manufactured by DIC Co., Ltd., trade name "GRANDIC PC4100", solid content concentration 10% by weight) were mixed. This mixture is diluted with a toluene / cyclopentanone mixed solvent (weight ratio 80/20) so that the solid content concentration becomes 50% by weight to prepare a material (coating liquid) for forming an antiglare layer. did.

次に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士フィルム（株）製、商品名「ＴＤ６０ＵＬ」）を準備した。この透明プラスチックフィルム（ＴＡＣフィルム）の片面に、バーコータを用いて、アンチグレア層を形成するための材料（塗工液）を塗布し、塗膜を形成した。次に、塗膜が形成された透明プラスチックフィルムを８０℃で１分間加熱することによって塗膜を乾燥させた。次に、この塗膜について、高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射することにより硬化処理を行った。これにより、厚さ８．０μｍのアンチグレア層が形成され、アンチグレア層付きＴＡＣフィルムが得られた。アンチグレア層付きＴＡＣフィルムのヘイズは、８％であった。 Next, a triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name "TD60UL") was prepared. A material (coating liquid) for forming an anti-glare layer was applied to one side of this transparent plastic film (TAC film) using a bar coater to form a coating film. Next, the coating film was dried by heating the transparent plastic film on which the coating film was formed at 80 ° C. for 1 minute. Next, this coating film was cured by irradiating it with ultraviolet rays having an integrated light intensity of 300 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. As a result, an anti-glare layer having a thickness of 8.0 μm was formed, and a TAC film with an anti-glare layer was obtained. The haze of the TAC film with the anti-glare layer was 8%.

次に、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置にこのアンチグレア層付きＴＡＣフィルムを導入し、フィルムを走行させることによってアンチグレア層の表面にボンバード処理（Ａｒガスによるプラズマ処理）を行った。次に、アンチグレア層の表面の上に、密着層として、物理膜厚が３ｎｍのＳｉＯx層（ｘ＜２）を成膜した。次に、密着層の上に、物理膜厚が１２ｎｍのＮｂ2Ｏ5層（第１の高屈折率層）、物理膜厚が２９ｎｍのＳｉＯ2層（第１の低屈折率層）、物理膜厚が１１６ｎｍのＮｂ2Ｏ5層（第２の高屈折率層）及び物理膜厚が７８ｎｍのＳｉＯ2層（第２の低屈折率層）を順に成膜して、積層体ａを作製した。これらの酸化物薄膜を形成するときには、アルゴンの導入量及び排気量を調整して装置内の圧力を一定に保ちつつ、プラズマ発光モニタリング（ＰＥＭ）制御によって、導入する酸素の量を調整した。 Next, this TAC film with an anti-glare layer was introduced into a roll-to-roll type sputter film forming apparatus, and the surface of the anti-glare layer was subjected to bombard treatment (plasma treatment with Ar gas) by running the film. Next, a SiO x layer (x <2) having a physical film thickness of 3 nm was formed as an adhesion layer on the surface of the anti-glare layer. Next, on the adhesion layer, an Nb 2 O 5 layer (first high refractive index layer) having a physical film thickness of 12 nm, a SiO 2 layer (first low refractive index layer) having a physical film thickness of 29 nm, and physical An Nb 2 O 5 layer (second high refractive index layer) having a film thickness of 116 nm and a SiO 2 layer (second low refractive index layer) having a physical film thickness of 78 nm are formed in this order to prepare a laminate a. did. When forming these oxide thin films, the amount of oxygen introduced was adjusted by adjusting the amount of argon introduced and the amount of exhaust gas to keep the pressure inside the apparatus constant, and the amount of oxygen introduced was adjusted by plasma emission monitoring (PEM) control.

次に、積層体ａの第２の低屈折率層（ＳｉＯ2層）の表面に、防汚層として、フッ素系樹脂からなる層（物理膜厚：９ｎｍ）を形成した。さらに、積層体ａのＴＡＣフィルムの表面に粘着剤層Ｃを転写することによって反射防止膜ＡＲ１を作製した。 Next, a layer made of a fluororesin (physical film thickness: 9 nm) was formed as an antifouling layer on the surface of the second low refractive index layer (SiO 2 layer) of the laminated body a. Further, the antireflection film AR1 was produced by transferring the pressure-sensitive adhesive layer C to the surface of the TAC film of the laminated body a.

＜反射防止膜ＡＲ２〜ＡＲ１０＞
各層の物理膜厚を表１に示す値に変更したことを除いて、反射防止膜ＡＲ１と同じ方法によって、反射防止膜ＡＲ２〜ＡＲ１０を作製した。 <Anti-reflective film AR2 to AR10>
Antireflection films AR2 to AR10 were prepared by the same method as the antireflection film AR1 except that the physical film thickness of each layer was changed to the values shown in Table 1.

Figure 2021096307
Figure 2021096307

＜偏光フィルムＰ１＞
まず、以下の方法によってアクリルフィルムを作製した。攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた容量３０Ｌの釜型反応器に、８，０００ｇのメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、２，０００ｇの２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、１０，０００ｇの４−メチル−２−ペンタノン（メチルイソブチルケトン、ＭＩＢＫ）、５ｇのｎ−ドデシルメルカプタンを仕込んだ。反応器内に窒素を導入しつつ、反応器内の混合物を１０５℃まで昇温し還流させた。次に、重合開始剤として５．０ｇのｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７、化薬アクゾ社製）を添加するとともに、１０．０ｇのｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネートと２３０ｇのＭＩＢＫからなる溶液を４時間かけて滴下し、溶液重合を行った。溶液重合は、還流下、約１０５〜１２０℃で行った。溶液の滴下後に、さらに４時間かけて熟成を行った。 <Polarizing film P1>
First, an acrylic film was produced by the following method. 8,000 g of methyl methacrylate (MMA) and 2,000 g of methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (MHMA) in a 30 L pot-type reactor equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling tube, and nitrogen introduction tube. ), 10,000 g of 4-methyl-2-pentanone (methyl isobutyl ketone, MIBK) and 5 g of n-dodecyl mercaptan were charged. While introducing nitrogen into the reactor, the mixture in the reactor was heated to 105 ° C. and refluxed. Next, 5.0 g of t-butylperoxyisopropyl carbonate (Kayacarboxylic BIC-7, manufactured by Kayaku Akzo Corporation) was added as a polymerization initiator, and 10.0 g of t-butylperoxyisopropyl carbonate and 230 g of MIBK were added. A solution consisting of the above was added dropwise over 4 hours to carry out solution polymerization. Solution polymerization was carried out at about 105-120 ° C. under reflux. After dropping the solution, aging was carried out for an additional 4 hours.

次に、得られた重合体溶液に、３０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８、堺化学工業製）を加え、還流下、約９０〜１２０℃で５時間、環化縮合反応を行った。次に、得られた溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／ｈの処理速度で導入した。押出し機内では、さらなる環化縮合反応とともに脱揮が進行した。これにより、ラクトン環含有重合体の透明なペレットを得た。 Next, 30 g of a stearyl phosphate / distearyl phosphate mixture (Phoslex A-18, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the obtained polymer solution, and the mixture was cyclized at about 90 to 120 ° C. for 5 hours under reflux. A condensation reaction was carried out. Next, the obtained solution was subjected to a vent type screw twin-screw extruder having a barrel temperature of 260 ° C., a rotation speed of 100 rpm, a decompression degree of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), one rear vent, and four fore vents. It was introduced into φ = 29.75 mm, L / D = 30) at a processing speed of 2.0 kg / h in terms of resin amount. In the extruder, volatilization proceeded with a further cyclization condensation reaction. As a result, transparent pellets of the lactone ring-containing polymer were obtained.

得られたラクトン環含有重合体について、ダイナミックＴＧの測定を行ったところ、０．１７質量％の質量減少を検知した。また、このラクトン環含有重合体は、重量平均分子量が１３３，０００、メルトフローレートが６．５ｇ／１０ｍｉｎ、ガラス転移温度が１３１℃であった。 When the dynamic TG of the obtained lactone ring-containing polymer was measured, a mass loss of 0.17% by mass was detected. The lactone ring-containing polymer had a weight average molecular weight of 133,000, a melt flow rate of 6.5 g / 10 min, and a glass transition temperature of 131 ° C.

得られたペレットと、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂（トーヨーＡＳ ＡＳ２０、東洋スチレン社製）とを、質量比９０／１０で、単軸押出機（スクリュー３０ｍｍφ）を用いて混練押出することにより、透明なペレットを得た。得られたペレットのガラス転移温度は１２７℃であった。 The obtained pellets and acrylonitrile-styrene (AS) resin (Toyo AS AS20, manufactured by Toyo Styrene Co., Ltd.) are kneaded and extruded at a mass ratio of 90/10 using a single-screw extruder (screw 30 mmφ). Clear pellets were obtained. The glass transition temperature of the obtained pellet was 127 ° C.

５０ｍｍφ単軸押出機を用いて、このペレットを４００ｍｍ幅のコートハンガータイプＴダイから溶融押出することによって、厚さ１２０μｍのフィルムを作製した。２軸延伸装置を用いて、フィルムを１５０℃の温度条件下、縦２．０倍及び横２．０倍に延伸することにより、厚さ３０μｍの延伸フィルム（アクリルフィルム）を得た。この延伸フィルムの光学特性を測定したところ、全光線透過率が９３％であり、面内位相差Δｎｄが０．８ｎｍであり、厚み方向位相差Ｒｔｈが１．５ｎｍであった。 A film having a thickness of 120 μm was produced by melt-extruding the pellets from a coat hanger type T die having a width of 400 mm using a 50 mmφ single-screw extruder. A stretched film (acrylic film) having a thickness of 30 μm was obtained by stretching the film 2.0 times in length and 2.0 times in width under a temperature condition of 150 ° C. using a biaxial stretching device. When the optical characteristics of this stretched film were measured, the total light transmittance was 93%, the in-plane retardation Δnd was 0.8 nm, and the thickness direction retardation Rth was 1.5 nm.

次に、以下の方法によって偏光フィルムＰ１を作製した。まず、速度比が互いに異なる複数のロールの間において、厚さ４５μｍのポリビニルアルコールフィルムを濃度０．３％のヨウ素溶液（温度３０℃）中で１分間染色しながら、延伸倍率が３倍になるように延伸した。次に、得られた延伸フィルムをホウ酸の濃度が４％であり、ヨウ化カリウムの濃度が１０％である水溶液（温度６０℃）中に０．５分間浸漬しながら、総延伸倍率が６倍になるように延伸した。次に、延伸フィルムを濃度１．５％のヨウ化カリウムを含む水溶液（温度３０℃）中に１０秒間浸漬することによって洗浄した。次に、延伸フィルムを５０℃で４分間乾燥させることによって、厚さ１８μｍの偏光子を得た。得られた偏光子の一方の主面に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、厚さ４０μｍのＴＡＣフィルム（コニカミノルタ製、商品名「ＫＣ４ＵＹ」）を貼り合わせた。偏光子の他方の主面には、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、上述した厚さ３０μｍのアクリルフィルムを貼り合わせた。これにより、偏光フィルムＰ１を得た。 Next, the polarizing film P1 was produced by the following method. First, a polyvinyl alcohol film having a thickness of 45 μm is dyed in an iodine solution (temperature 30 ° C.) having a concentration of 0.3% for 1 minute between a plurality of rolls having different velocity ratios, and the stretching ratio is tripled. It was stretched as follows. Next, the obtained stretched film was immersed in an aqueous solution (temperature 60 ° C.) having a boric acid concentration of 4% and a potassium iodide concentration of 10% for 0.5 minutes, and the total stretching ratio was 6. It was stretched to double. Next, the stretched film was washed by immersing it in an aqueous solution (temperature 30 ° C.) containing potassium iodide having a concentration of 1.5% for 10 seconds. Next, the stretched film was dried at 50 ° C. for 4 minutes to obtain a polarizer having a thickness of 18 μm. A 40 μm-thick TAC film (manufactured by Konica Minolta, trade name “KC4UY”) was attached to one main surface of the obtained polarizer via a polyvinyl alcohol-based adhesive. The above-mentioned acrylic film having a thickness of 30 μm was attached to the other main surface of the polarizer via a polyvinyl alcohol-based adhesive. As a result, a polarizing film P1 was obtained.

（実施例１）
まず、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含む溶液（ナガセケムテックス社製のデナトロンＰＴ−４３６）５０部及び水５０部を混合することによって、固形分濃度が０．５重量％である塗布液を調製した。次に、塗布液を偏光フィルムＰ１のアクリルフィルム側の表面に塗布した。得られた塗布膜を８０℃で２分間乾燥させることによって導電層を作製した。これにより、導電層付き偏光フィルムを得た。導電層の厚さは、３０ｎｍであった。 (Example 1)
First, a coating solution having a solid content concentration of 0.5% by weight was prepared by mixing 50 parts of a solution containing PEDOT / PSS (Denatron PT-436 manufactured by Nagase ChemteX Corporation) and 50 parts of water. Next, the coating liquid was applied to the surface of the polarizing film P1 on the acrylic film side. A conductive layer was prepared by drying the obtained coating film at 80 ° C. for 2 minutes. As a result, a polarizing film with a conductive layer was obtained. The thickness of the conductive layer was 30 nm.

次に、反射防止膜ＡＲ１の粘着剤層Ｃを偏光フィルムＰ１のＴＡＣフィルムの表面に貼り合わせた。さらに、粘着剤層Ａを導電層の表面に転写することによって、反射防止膜ＡＲ１／偏光フィルムＰ１／導電層／粘着剤層Ａの構造を有する実施例１の反射防止膜付き偏光フィルムを作製した。 Next, the pressure-sensitive adhesive layer C of the antireflection film AR1 was attached to the surface of the TAC film of the polarizing film P1. Further, by transferring the pressure-sensitive adhesive layer A to the surface of the conductive layer, the polarizing film with an antireflection film of Example 1 having the structure of the antireflection film AR1 / polarizing film P1 / conductive layer / pressure-sensitive adhesive layer A was produced. ..

（実施例２）
導電層の厚さが９０ｎｍとなるように、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの塗布液を偏光フィルムＰ１に塗布したことを除き、実施例１と同じ方法によって実施例２の反射防止膜付き偏光フィルムを作製した。 (Example 2)
The polarizing film with an antireflection film of Example 2 was produced by the same method as in Example 1 except that the coating liquid of PEDOT / PSS was applied to the polarizing film P1 so that the thickness of the conductive layer was 90 nm.

（実施例３〜１２及び比較例１〜２）
反射防止膜、導電層及び粘着剤層を表２に示す組み合わせに変更したことを除き、実施例１と同じ方法によって、実施例３〜１２及び比較例１〜２の反射防止膜付き偏光フィルムを作製した。なお、比較例２では、偏光フィルムＰ１に導電層を形成せずに、偏光フィルムＰ１のアクリルフィルム側の表面に粘着剤層Ａを直接貼り合わせた。 (Examples 3 to 12 and Comparative Examples 1 to 2)
The polarizing films with antireflection films of Examples 3 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared by the same method as in Example 1 except that the antireflection film, the conductive layer and the pressure-sensitive adhesive layer were changed to the combinations shown in Table 2. Made. In Comparative Example 2, the pressure-sensitive adhesive layer A was directly bonded to the surface of the polarizing film P1 on the acrylic film side without forming a conductive layer on the polarizing film P1.

（実施例１３）
まず、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含む溶液（ナガセケムテックス社製のデナトロンＰ−５８０Ｗ）９部及び水９１部を混合することによって、固形分濃度が０．２７重量％である塗布液を調製した。次に、塗布液を偏光フィルムＰ１のアクリルフィルム側の表面に塗布した。得られた塗布膜を８０℃で２分間乾燥させることによって導電層を作製した。これにより、導電層付き偏光フィルムを得た。導電層の厚さは、１００ｎｍであった。 (Example 13)
First, a coating solution having a solid content concentration of 0.27% by weight was prepared by mixing 9 parts of a solution containing PEDOT / PSS (Denatron P-580W manufactured by Nagase ChemteX Corporation) and 91 parts of water. Next, the coating liquid was applied to the surface of the polarizing film P1 on the acrylic film side. A conductive layer was prepared by drying the obtained coating film at 80 ° C. for 2 minutes. As a result, a polarizing film with a conductive layer was obtained. The thickness of the conductive layer was 100 nm.

次に、反射防止膜ＡＲ４の粘着剤層Ｃを偏光フィルムＰ１のＴＡＣフィルムの表面に貼り合わせた。さらに、粘着剤層Ａを導電層の表面に転写することによって、反射防止膜ＡＲ４／偏光フィルムＰ１／導電層／粘着剤層Ａの構造を有する実施例１３の反射防止膜付き偏光フィルムを作製した。 Next, the pressure-sensitive adhesive layer C of the antireflection film AR4 was attached to the surface of the TAC film of the polarizing film P1. Further, by transferring the pressure-sensitive adhesive layer A to the surface of the conductive layer, the polarizing film with an antireflection film of Example 13 having the structure of the antireflection film AR4 / polarizing film P1 / conductive layer / pressure-sensitive adhesive layer A was produced. ..

（比較例３）
まず、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含む溶液（ナガセケムテックス社製のデナトロンＰ−５８０Ｗ）８．６部、オキサゾリン基含有アクリルポリマーを含む溶液（商品名：エポクロスＷＳ−７００、日本触媒製）１部、及び、水９０．４部を混合し、導電層を形成するための塗布液（固形分濃度０．５重量％）を調製した。得られた塗布液において、ポリチオフェン系ポリマーの濃度が０．０４重量％であり、オキサゾリン基含有アクリルポリマーの濃度が０．２５重量％であった。 (Comparative Example 3)
First, 8.6 parts of a solution containing PEDOT / PSS (Denatron P-580W manufactured by Nagase ChemteX Corporation), 1 part of a solution containing an oxazoline group-containing acrylic polymer (trade name: Epocross WS-700, manufactured by Nippon Catalyst), and , 90.4 parts of water was mixed to prepare a coating solution (solid content concentration 0.5% by weight) for forming a conductive layer. In the obtained coating liquid, the concentration of the polythiophene-based polymer was 0.04% by weight, and the concentration of the oxazoline group-containing acrylic polymer was 0.25% by weight.

次に、得られた塗布液を偏光フィルムＰ１のアクリルフィルム側の主面に塗布した。得られた塗布膜を８０℃で２分間乾燥させることによって導電層を作製した。これにより、導電層付き偏光フィルムを得た。導電層の厚さは、６０ｎｍであった。 Next, the obtained coating liquid was applied to the main surface of the polarizing film P1 on the acrylic film side. A conductive layer was prepared by drying the obtained coating film at 80 ° C. for 2 minutes. As a result, a polarizing film with a conductive layer was obtained. The thickness of the conductive layer was 60 nm.

次に、反射防止膜ＡＲ１０の粘着剤層Ｃを偏光フィルムＰ１のＴＡＣフィルムの表面に貼り合わせた。さらに、粘着剤層Ａを導電層の表面に転写することによって、反射防止膜ＡＲ１０／偏光フィルムＰ１／導電層／粘着剤層Ａの構造を有する比較例３の反射防止膜付き偏光フィルムを作製した。 Next, the pressure-sensitive adhesive layer C of the antireflection film AR10 was attached to the surface of the TAC film of the polarizing film P1. Further, by transferring the pressure-sensitive adhesive layer A to the surface of the conductive layer, a polarizing film with an antireflection film of Comparative Example 3 having the structure of antireflection film AR10 / polarizing film P1 / conductive layer / pressure-sensitive adhesive layer A was produced. ..

＜反射防止膜付き偏光フィルムの光学特性＞
実施例及び比較例で得られた反射防止膜付き偏光フィルムについて、粘着剤層が無アルカリガラスと直接接するように無アルカリガラスと積層された状態で、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光が反射防止膜から入射したときに生じる反射光の視感反射率Ｙ、Ｌ*値、ａ*値及びｂ*値、並びに、Ｌ*値＝０、ａ*値＝０及びｂ*値＝０を満たす光と反射光との色差ΔＥを上述の方法により評価した。このとき、反射防止膜付き偏光フィルムは、５０ｍｍ角に切り出して使用した。無アルカリガラスとしては、コーニング社製のＥＧ−ＸＧ（厚さ０．７ｍｍ）を用いた。黒色フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のものを用いた。分光反射率は、分光光度計（コニカミノルタ社製、商品名「ＣＭ２６００Ｄ」）を用いて測定した。光学特性を評価するための評価サンプルは、反射防止膜付き偏光フィルム／無アルカリガラス／黒色ＰＥＴフィルムの構成を有していた。ただし、比較例１の反射防止膜付き偏光フィルムについては、表面に非晶性のＩＴＯ層（厚さ２０ｎｍ）が形成された無アルカリガラスを用いて反射光を評価した。すなわち、比較例１において、評価サンプルは、反射防止膜付き偏光フィルム／ＩＴＯ層／無アルカリガラス／黒色ＰＥＴフィルムの構成を有していた。ＩＴＯ層の作製には、スパッタリングを利用した。ＩＴＯ層に含まれるＩＴＯのＳｎ比率は、３重量％であった。Ｓｎ比率は、ＩＴＯにおけるＳｎ原子の重量／（Ｓｎ原子の重量＋Ｉｎ原子の重量）から算出した。 <Optical characteristics of polarizing film with antireflection film>
With respect to the polarizing films with antireflection film obtained in Examples and Comparative Examples, the light from the CIE standard light source D65 is emitted from the antireflection film in a state where the adhesive layer is laminated with the non-alkali glass so as to be in direct contact with the non-alkali glass. Light that satisfies the visual reflectance Y, L * value, a * value and b * value, and L * value = 0, a * value = 0 and b * value = 0. The color difference ΔE from the reflected light was evaluated by the above method. At this time, the polarizing film with an antireflection film was cut into 50 mm squares and used. As the non-alkali glass, EG-XG (thickness 0.7 mm) manufactured by Corning Inc. was used. As the black film, one made of polyethylene terephthalate (PET) was used. The spectral reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, trade name "CM2600D"). The evaluation sample for evaluating the optical characteristics had a configuration of a polarizing film with an antireflection film / non-alkali glass / black PET film. However, with respect to the polarizing film with an antireflection film of Comparative Example 1, the reflected light was evaluated using non-alkali glass having an amorphous ITO layer (thickness 20 nm) formed on the surface. That is, in Comparative Example 1, the evaluation sample had the composition of a polarizing film with an antireflection film / ITO layer / non-alkali glass / black PET film. Sputtering was used to prepare the ITO layer. The Sn ratio of ITO contained in the ITO layer was 3% by weight. The Sn ratio was calculated from the weight of Sn atoms in ITO / (weight of Sn atoms + weight of In atoms).

＜反射防止膜の光学特性＞
反射防止膜ＡＲ１〜ＡＲ１０について、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光が入射したときに生じる反射光の視感反射率Ｙ1、ａ1 *値及びｂ1 *値を上述の方法により評価した。黒色フィルム、分光光度計などは、反射防止膜付き偏光フィルムの光学特性の評価に利用したものと同じものを用いた。 <Optical characteristics of antireflection film>
With respect to the antireflection films AR1 to AR10, the visual reflectance Y 1 , a 1 * value and b 1 * value of the reflected light generated when the light from the CIE standard light source D65 was incident were evaluated by the above method. As the black film, spectrophotometer, etc., the same ones used for evaluating the optical characteristics of the polarizing film with an antireflection film were used.

＜粘着剤層の表面抵抗率＞
粘着剤層Ａ及びＢの表面抵抗率（Ω／□）は、粘着剤層Ａ又はＢをセパレータの表面に形成した段階で測定した。表面抵抗率の測定には、抵抗率計（三菱ケミカルアナリテック社製のハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いた。測定条件は、印加電圧が２５０Ｖであり、印加時間が１０秒であった。 <Surface resistivity of adhesive layer>
The surface resistivity (Ω / □) of the pressure-sensitive adhesive layers A and B was measured when the pressure-sensitive adhesive layers A or B were formed on the surface of the separator. A resistivity meter (High Restor-UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) was used for measuring the surface resistivity. The measurement conditions were that the applied voltage was 250 V and the applied time was 10 seconds.

＜導電層の表面抵抗率＞
実施例及び比較例において、導電層の表面抵抗率（Ω／□）は、導電層を偏光フィルムＰ１の表面に形成した段階で測定した。実施例１３及び比較例３では、導電層の表面抵抗率の測定は、抵抗率計（三菱ケミカルアナリテック社製のハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６９１１：１９９５に規定された方法に準拠して行った。測定条件は、印加電圧が１０Ｖであり、印加時間が１０秒であった。実施例１〜１２及び比較例１では、導電層の表面抵抗率の測定は、抵抗率計（三菱ケミカルアナリテック社製のロレスタ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１９４：１９９４に規定された方法に準拠して行った。測定条件は、印加電圧が１０Ｖであり、印加時間が１０秒であった。 <Surface resistivity of conductive layer>
In Examples and Comparative Examples, the surface resistivity (Ω / □) of the conductive layer was measured at the stage where the conductive layer was formed on the surface of the polarizing film P1. In Example 13 and Comparative Example 3, the surface resistivity of the conductive layer was measured by the method specified in JIS K6911: 1995 using a resistivity meter (High Restor-UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.). It was done in accordance with. The measurement conditions were that the applied voltage was 10 V and the applied time was 10 seconds. In Examples 1 to 12 and Comparative Example 1, the measurement of the surface resistivity of the conductive layer is specified in JIS K7194: 1994 using a resistivity meter (Lorester-GP MCP-T600 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.). It was done according to the method. The measurement conditions were that the applied voltage was 10 V and the applied time was 10 seconds.

＜偏光フィルムの表面抵抗率＞
比較例２では、抵抗率計（三菱ケミカルアナリテック社製のハイレスタ−ＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６９１１：１９９５に規定された方法に準拠して、偏光フィルムＰ１の表面抵抗率を測定した。測定条件は、印加電圧が１０Ｖであり、印加時間が１０秒であった。偏光フィルムＰ１の表面抵抗率は、１．０×１０14Ω／□を上回った。 <Surface resistivity of polarizing film>
In Comparative Example 2, the surface resistivity of the polarizing film P1 was measured using a resistivity meter (High Restor-UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) in accordance with the method specified in JIS K6911: 1995. did. The measurement conditions were that the applied voltage was 10 V and the applied time was 10 seconds. The surface resistivity of the polarizing film P1 exceeded 1.0 × 10 14 Ω / □.

＜導電層による全光線透過率の損失Ａ＞
まず、偏光フィルムＰ１の全光線透過率Ｔ１をＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の規定に準拠して、分光光度計（日本分光社製のＶ７１００）を用いて測定した。同様の方法で、導電層を偏光フィルムＰ１の表面に形成した段階で、偏光フィルムＰ１及び導電層からなる積層体Ｌの全光線透過率Ｔ２を測定した。積層体Ｌの全光線透過率Ｔ２は、偏光フィルムＰ１側から光を入射させて測定した。偏光フィルムＰ１の全光線透過率Ｔ１と全光線透過率Ｔ２との差（Ｔ１−Ｔ２）を算出し、得られた算出値を導電層による全光線透過率の損失Ａとみなした。 <Loss of total light transmittance due to conductive layer A>
First, the total light transmittance T1 of the polarizing film P1 was measured using a spectrophotometer (V7100 manufactured by JASCO Corporation) in accordance with the provisions of JIS K7361-1: 1997. In the same manner, the total light transmittance T2 of the laminate L composed of the polarizing film P1 and the conductive layer was measured at the stage where the conductive layer was formed on the surface of the polarizing film P1. The total light transmittance T2 of the laminated body L was measured by incident light from the polarizing film P1 side. The difference (T1-T2) between the total light transmittance T1 and the total light transmittance T2 of the polarizing film P1 was calculated, and the obtained calculated value was regarded as the loss A of the total light transmittance due to the conductive layer.

＜ＥＳＤ試験＞
まず、実施例及び比較例で得られた反射防止膜付き偏光フィルムを液晶セルの視認側の表面に貼り合わせて液晶パネルを作製した。ただし、比較例１については、表面に非晶性のＩＴＯ層（厚さ２０ｎｍ）が形成された液晶セルを用いた。すなわち、比較例１において、液晶パネルは、反射防止膜付き偏光フィルム／ＩＴＯ層／液晶セルの構成を有していた。ＩＴＯ層の作製には、スパッタリングを利用した。ＩＴＯ層に含まれるＩＴＯのＳｎ比率は、３重量％であった。次に、反射防止膜付き偏光フィルムの側面を覆うように、５ｍｍ幅で、銀ペーストを塗布した。銀ペーストを乾燥させることによって、銀で構成された導通構造を形成した。この導通構造を通じて、液晶パネルを外部のアース電極と電気的に接続させた。次に、液晶パネルをバックライト装置の上にセットした。次に、印加電圧が１０ｋＶに調節された静電気放電（ＥＳＤ）銃を用いて、液晶パネルの視認側（反射防止膜側）に静電気を付与した。これにより、液晶パネルの一部が白抜けした。静電気を付与してから、白抜けした部分が消失するまでの時間Ｔを測定した。表２では、以下の時間Ｔに関する基準に基づいて、ＥＳＤ試験の結果を評価した。なお、ＥＳＤ試験は、２３℃、５５％ＲＨの条件で行った。
（評価基準）
Ａ：０．５秒以下
Ｂ：０．５秒を超え、１秒以下
Ｃ：１秒を超え、１０秒以下
Ｄ：１０秒を超える <ESD test>
First, the polarizing films with antireflection films obtained in Examples and Comparative Examples were attached to the surface of the liquid crystal cell on the visual side to prepare a liquid crystal panel. However, for Comparative Example 1, a liquid crystal cell having an amorphous ITO layer (thickness 20 nm) formed on the surface was used. That is, in Comparative Example 1, the liquid crystal panel had a configuration of a polarizing film with an antireflection film / ITO layer / liquid crystal cell. Sputtering was used to prepare the ITO layer. The Sn ratio of ITO contained in the ITO layer was 3% by weight. Next, a silver paste was applied with a width of 5 mm so as to cover the side surface of the polarizing film with an antireflection film. By drying the silver paste, a conductive structure composed of silver was formed. Through this conduction structure, the liquid crystal panel was electrically connected to an external ground electrode. Next, the liquid crystal panel was set on the backlight device. Next, static electricity was applied to the visible side (antireflection film side) of the liquid crystal panel by using an electrostatic discharge (ESD) gun whose applied voltage was adjusted to 10 kV. As a result, a part of the liquid crystal panel was white. The time T from the application of static electricity to the disappearance of the white spot was measured. In Table 2, the results of the ESD test were evaluated based on the following criteria for time T. The ESD test was performed under the conditions of 23 ° C. and 55% RH.
(Evaluation criteria)
A: 0.5 seconds or less B: 0.5 seconds or more and 1 second or less C: 1 second or more and 10 seconds or less D: 10 seconds or less

＜色味＞
上記のＥＳＤ試験で作製した液晶パネルを視認側（反射防止膜側）から目視で観察し、色味を評価した。表２の色味の項目において、Ａは、色味が確認されなかったことを意味する。Ｂは、色味がごくわずかに確認されたことを意味する。Ｃは、色味がわずかに確認されたことを意味する。Ｄは、色味が確認されたことを意味する。 <Color>
The liquid crystal panel produced in the above ESD test was visually observed from the visual side (antireflection film side) to evaluate the color. In the item of color in Table 2, A means that the color was not confirmed. B means that the color was very slightly confirmed. C means that the tint was slightly confirmed. D means that the color has been confirmed.

Figure 2021096307
Figure 2021096307

表２からわかるとおり、表面抵抗率が１．０×１０6Ω／□以下である導電層を有する実施例１〜１３の反射防止膜付き偏光フィルムは、比較例２及び３に比べてＥＳＤ試験の結果が良好であり、液晶パネルの帯電を十分に抑制できると推察される。実施例３及び比較例１のＥＳＤ試験の結果からは、導電層とともに、導電材料が添加された粘着剤層を用いることによって、ＩＴＯ層を用いる場合よりも液晶パネルの帯電を十分に抑制できることがわかる。 As can be seen from Table 2, the polarizing films with antireflection films of Examples 1 to 13 having a conductive layer having a surface resistivity of 1.0 × 10 6 Ω / □ or less were subjected to an ESD test as compared with Comparative Examples 2 and 3. The result is good, and it is presumed that the charging of the liquid crystal panel can be sufficiently suppressed. From the results of the ESD test of Example 3 and Comparative Example 1, it can be seen that by using the adhesive layer to which the conductive material is added together with the conductive layer, the charging of the liquid crystal panel can be sufficiently suppressed as compared with the case where the ITO layer is used. Understand.

さらに、反射光の視感反射率Ｙの値が十分に低い実施例１〜１３の反射防止膜付き偏光フィルムを備えた液晶パネルでは、光の反射が十分に抑制されていた。これらの液晶パネルは、液晶表示装置の視認性を向上することに適していると推察される。これに対して、比較例１では、ＩＴＯ層の存在によって視感反射率Ｙが大きく上昇しており、液晶パネルでの光の反射を十分に抑制することができなかった。 Further, in the liquid crystal panel provided with the polarizing film with the antireflection film of Examples 1 to 13 in which the value of the visual reflectance Y of the reflected light is sufficiently low, the reflection of the light is sufficiently suppressed. It is presumed that these liquid crystal panels are suitable for improving the visibility of the liquid crystal display device. On the other hand, in Comparative Example 1, the visual reflectance Y was greatly increased due to the presence of the ITO layer, and the reflection of light on the liquid crystal panel could not be sufficiently suppressed.

本発明の液晶パネルは、良好な視認性が求められる用途、例えば車載用ディスプレイなどの用途、に好適に利用できる。 The liquid crystal panel of the present invention can be suitably used for applications that require good visibility, such as in-vehicle displays.

１ 第１の高屈折率層
２ 第１の低屈折率層
３ 第２の高屈折率層
４ 第２の低屈折率層
５ 基材
６ 粘着剤層
１０，１１ 反射防止膜
１５，１６ 反射防止膜付き偏光フィルム
２０ 偏光フィルム
２５，２６ 液晶セル
３０ 粘着剤層
４０ 導電層
４５ 透明基板
４６ 粘着剤層
５０ 液晶層
６０ 第１透明基板
７０ 第２透明基板
８０ タッチパネル
１００，１１０，１２０ 液晶パネル 1 First high refractive index layer 2 First low refractive index layer 3 Second high refractive index layer 4 Second low refractive index layer 5 Base material 6 Adhesive layer 10, 11 Antireflection film 15, 16 Antireflection Polarizing film with film 20 Polarizing film 25, 26 Liquid crystal cell 30 Adhesive layer 40 Conductive layer 45 Transparent substrate 46 Adhesive layer 50 Liquid crystal layer 60 First transparent substrate 70 Second transparent substrate 80 Touch panel 100, 110, 120 Liquid crystal panel

Claims (15)

反射防止膜、偏光フィルム及び粘着剤層を積層方向にこの順で有するとともに、導電層をさらに有する反射防止膜付き偏光フィルムと、
液晶セルと、
を備え、
前記反射防止膜付き偏光フィルムと前記液晶セルとの間には導電層が設けられておらず、
前記反射防止膜付き偏光フィルムが有する前記導電層の表面抵抗率は、１．０×１０6Ω／□以下であり、
前記反射防止膜付き偏光フィルムは、前記粘着剤層が無アルカリガラスと直接接するように前記無アルカリガラスと積層された状態で、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５からの光が前記粘着剤層とは反対側の表面から入射したときに、視感反射率Ｙが１．１％以下である反射光を生じる、液晶パネル。 An antireflection film, a polarizing film, and a pressure-sensitive adhesive layer are provided in this order in the stacking direction, and a polarizing film with an antireflection film further having a conductive layer.
LCD cell and
With
No conductive layer is provided between the polarizing film with an antireflection film and the liquid crystal cell.
The surface resistivity of the conductive layer polarizing film with antireflection film has is at 1.0 × 10 6 Ω / □ or less,
In the polarizing film with an antireflection film, the light from the CIE standard light source D65 is on the opposite side of the pressure-sensitive adhesive layer in a state where the pressure-sensitive adhesive layer is laminated with the non-alkali glass so as to be in direct contact with the non-alkali glass. A liquid crystal panel that produces reflected light with a visual reflectance Y of 1.1% or less when incident from the surface. 前記反射防止膜付き偏光フィルムが有する前記導電層は、前記偏光フィルムと前記粘着剤層との間に配置されている、請求項１に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the conductive layer of the polarizing film with an antireflection film is arranged between the polarizing film and the pressure-sensitive adhesive layer. 前記表面抵抗率が１．０×１０4Ω／□以下である、請求項１又は２に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to claim 1 or 2, wherein the surface resistivity is 1.0 × 10 4 Ω / □ or less. 前記表面抵抗率が５．０×１０2Ω／□より大きい、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the surface resistivity is larger than 5.0 × 10 2 Ω / □. 前記視感反射率Ｙが０．９％以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 4, wherein the visual reflectance Y is 0.9% or less. 前記反射防止膜付き偏光フィルムが有する前記導電層による全光線透過率の損失が０．９％以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 5, wherein the loss of total light transmittance due to the conductive layer of the polarizing film with an antireflection film is 0.9% or less. 前記反射光のＬ*ａ*ｂ*表色系におけるａ*値及びｂ*値が下記関係式（１）及び（２）を満たす、請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶パネル。
−１０≦ａ*≦１０ （１）
−１８≦ｂ*≦５ （２） The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 6, wherein the a * value and the b * value in the L * a * b * color system of the reflected light satisfy the following relational expressions (1) and (2). ..
-10 ≤ a * ≤ 10 (1)
-18 ≤ b * ≤ 5 (2) 前記ａ*値が−６以上６以下である、請求項７に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to claim 7, wherein the a * value is -6 or more and 6 or less. 前記ａ*値が−３以上３以下である、請求項８に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to claim 8, wherein the a * value is -3 or more and 3 or less. 前記ｂ*値が−１５以上３以下である、請求項７〜９のいずれか１項に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to any one of claims 7 to 9, wherein the b * value is -15 or more and 3 or less. 前記ｂ*値が−１０以上２以下である、請求項１０に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to claim 10, wherein the b * value is -10 or more and 2 or less. 前記ｂ*値が−６以上２以下である、請求項１１に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to claim 11, wherein the b * value is -6 or more and 2 or less. 前記反射防止膜は、第１の高屈折率層、第１の低屈折率層、第２の高屈折率層及び第２の低屈折率層を積層方向にこの順で有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の液晶パネル。 The antireflection film has a first high refractive index layer, a first low refractive index layer, a second high refractive index layer, and a second low refractive index layer in this order in the stacking direction. The liquid crystal panel according to any one of 12. 前記第１の高屈折率層の光学膜厚が２０ｎｍ〜３５ｎｍであり、
前記第１の低屈折率層の光学膜厚が３８ｎｍ〜５０ｎｍであり、
前記第２の高屈折率層の光学膜厚が２３０ｎｍ〜２９０ｎｍであり、
前記第２の低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ〜１２８ｎｍである、請求項１３に記載の液晶パネル。 The optical film thickness of the first high refractive index layer is 20 nm to 35 nm.
The optical film thickness of the first low refractive index layer is 38 nm to 50 nm.
The optical film thickness of the second high-refractive index layer is 230 nm to 290 nm.
The liquid crystal panel according to claim 13, wherein the second low refractive index layer has an optical film thickness of 100 nm to 128 nm. 前記粘着剤層が導電材料を含む、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の液晶パネル。 The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 14, wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains a conductive material.
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