JP2021091972A - 金属被覆スチールストリップ - Google Patents
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Abstract
Description
アルミニウム: 40〜60%
亜鉛: 40〜60%
ケイ素: 0.3〜3%
マグネシウム: 0.3〜10%
を含有する。
(a) コーティング合金へのストロンチウムの添加、
(b) めっき浴を出る所定のコーティング質量(すなわちコーティング厚)に対する被覆ストリップの固化中の冷却速度の選択、および
(c) コーティング厚の変化の微小化
のいずれか1つ以上によって達成されることを発見した。
アルミニウム: 40〜60%
亜鉛: 40〜60%
ケイ素: 0.3〜3%
マグネシウム: 0.3〜10%
を含有する。
(a) 600〜530℃の温度範囲において55℃/秒、
(b) 530〜500℃の温度範囲において70℃/秒、および
(c) 500〜300℃の温度範囲において80℃/秒。
・まだら欠陥の排除および改良された初回最高(first−time−prime)製造速度。まだら欠陥のリスクは少なくとも実質的に排除され、生じるコーティングの表面は美しい銀色の金属的な外観を維持する。結果として、初回最高製造速度が改良され、収益性が上げられる。
・Srの添加によるまだら欠陥の防止は、高い冷却速度の使用を可能にし、ポットの後に必要とされる冷却装置の長さを短くする。
Claims (26)
- コーティングの微細構造がMg2Si粒子を含有し、コーティングの表面に少量のMg2Si粒子しか存在しないかまたは少なくとも実質的にMg2Si粒子がコーティングの表面に存在しないように該Mg2Si粒子が分布しているスチールストリップ上のAl−Zn−Si−Mg合金のコーティングを備える、Al−Zn−Si−Mg合金被覆スチールストリップ。
- 該コーティングの表面領域における該少量のMg2Si粒子がMg2Si粒子の10wt.%以下である、請求項1に記載の合金被覆スチールストリップ。
- 該Al−Zn−Si−Mg合金が下記重量%範囲のアルミニウム元素、亜鉛元素、ケイ素元素、およびマグネシウム元素:
アルミニウム: 40〜60%
亜鉛: 40〜60%
ケイ素: 0.3〜3%
マグネシウム: 0.3〜10%
を含有する、請求項1または請求項2に記載の合金被覆スチールストリップ。 - 該コーティング厚が30μm未満である、従前請求項のいずれか一項に記載の合金被覆スチールストリップ。
- 該コーティング厚が7μmよりも厚い、従前請求項のいずれか一項に記載の合金被覆スチールストリップ。
- 該コーティングがSrを250ppmよりも多く含み、Sr添加がコーティング中のMg2Si粒子の上記分布の生成を促進する、従前請求項のいずれか一項に記載の合金被覆スチールストリップ。
- 該コーティングがSrを500ppmよりも多く含む、請求項6に記載の合金被覆スチールストリップ。
- 該コーティングがSrを1000ppmよりも多く含む、請求項6に記載の合金被覆スチールストリップ。
- 該コーティングがSrを3000ppm未満含む、従前請求項のいずれか一項に記載の合金被覆スチールストリップ。
- Al、Zn、Si、Mgおよび250ppmよりも多くのSrおよび任意に別の元素を含む溶融めっき浴にスチールストリップを通し、Mg2Si粒子をコーティング微細構造中に有する合金コーティングを、コーティングの表面に少量のMg2Si粒子しか存在しないかまたは実質的にMg2Si粒子がコーティングの表面に存在しないMg2Si粒子の分布で該ストリップ上に生成することを特徴とする、スチールストリップ上に耐食性Al−Zn−Si−Mg合金のコーティングを生成するための溶融めっき方法。
- 該コーティングの表面領域における該少量のMg2Si粒子がMg2Si粒子の10wt.%以下である、請求項10に記載の方法。
- 該コーティングがSrを500ppmよりも多く含む、請求項10または請求項11に記載の方法。
- 該コーティングがSrを少なくとも1000ppm含む、請求項12に記載の方法。
- 該溶融浴がSrを3000ppm未満含む、請求項12に記載の方法。
- Al、Zn、Si、およびMgおよび任意に別の元素を含む溶融めっき浴にスチールストリップを通し、該ストリップ上に合金コーティングを生成し、該コーティングの固化中に該めっき浴を出る被覆ストリップを、該コーティング微細構造中のMg2Si粒子の分布がコーティングの表面に少量のMg2Si粒子しか存在しないかまたは実質的にMg2Si粒子が存在しないように制御された速度で冷却することを特徴とする、耐食性Al−Zn−Si−Mg合金のコーティングをスチールストリップ上に生成するための溶融めっき方法。
- 該コーティングの表面領域における該少量のMg2Si粒子が該Mg2Si粒子の10wt.%以下である、請求項15に記載の方法。
- 該めっき浴を出る被覆ストリップの冷却速度を冷却速度閾値よりも低くなるように選択する工程を包含する、請求項15または請求項16に記載の方法。
- 該めっき浴を出る被覆ストリップの冷却速度を、ストリップ表面1m2あたりの片側のコーティング質量75グラム以下に対して80℃/秒未満になるように選択する工程を包含する、請求項15〜請求項17のいずれか一項に記載の方法。
- 該めっき浴を出る被覆ストリップの冷却速度をストリップ表面1m2あたりの片側のコーティング質量75〜100グラムに対して50℃/秒未満になるように選択する工程を包含する、請求項15〜請求項18のいずれか一項に記載の方法。
- 該冷却速度を少なくとも11℃/秒になるように選択する工程を包含する、請求項15〜請求項19のいずれか一項に記載の方法。
- 平均厚22μmのコーティングに関して、該めっき浴を出る被覆ストリップの固化中の冷却速度を、
(a) 600〜530℃の温度範囲において55℃/秒
(b) 530〜500℃の温度範囲において70℃/秒、および
(c) 500〜300℃の温度範囲において80℃/秒
になるように選択する工程を包含する、請求項15または請求項16に記載の方法。 - Al、Zn、Si、およびMgおよび任意に別の元素を含む溶融めっき浴にスチールストリップを通し、コーティング微細構造中のMg2Si粒子の分布がコーティングの表面に少量のMg2Si粒子しか存在しないかまたは実質的にMg2Si粒子が存在しないようにコーティングの厚さの微小変化で該ストリップ上に合金コーティングを生成することを特徴とする、耐食性Al−Zn−Si−Mg合金のコーティングをスチールストリップ上に生成するための溶融めっき方法。
- 該コーティングの任意の直径5mmのセクションにおける該コーティングの厚さの変化が40%以下である、請求項22に記載の方法。
- 該コーティングの任意の直径5mmのセクションにおける該コーティングの厚さの変化が30%以下である、請求項22または請求項23に記載の方法。
- コーティング厚22μmに関して、コーティングの直径が1mmよりも大きい領域の最大厚が27mmである、請求項22〜24のいずれか一項に記載の方法。
- 該めっき浴を出る被覆ストリップの固化中の冷却速度が冷却速度閾値よりも低くなるように選択する工程を包含する、請求項22〜25のいずれか一項に記載の方法。
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