JP2021060592A - 情報処理装置、決定方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 166
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title claims abstract description 87
- 230000010365 information processing Effects 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 87
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 122
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 115
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 13
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 111
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 9
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 238000000556 factor analysis Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 238000000513 principal component analysis Methods 0.000 description 2
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000003066 decision tree Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007637 random forest analysis Methods 0.000 description 1
- 238000012706 support-vector machine Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
本実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する(パターンを基板に形成する)工程と、露光された基板を現像する(基板を処理する)工程を含む。また、かかる製造方法は、インプリント装置を用いて、基板上に供給されたインプリント材と型とを接触させ、型の形状が転写された組成物を形成する工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性および生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (18)
- パターンを形成するリソグラフィ装置において行われるリソグラフィ処理の条件を予め定める処理条件が適用されて行われたリソグラフィ処理の結果を示す収集データを取得する第1取得手段と、
前記第1取得手段により取得された前記収集データに基づき許容範囲を取得する第2取得手段と、
前記処理条件が適用されて行われたリソグラフィ処理の結果を示す収集データが前記第2取得手段により取得された前記許容範囲外にある場合に当該収集データに異常が発生していると判定する判定手段と、
前記判定手段により前記収集データに異常が発生していると判定された場合、前記異常に関する情報に基づいて前記リソグラフィ装置を保全するための保全方法を決定する決定手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。 - 前記決定手段は、前記判定手段により前記収集データが異常であると判定された場合、前記異常の種別と、前記収集データが収集された際に行われたリソグラフィ処理に適用された処理条件と、前記リソグラフィ装置を保全するために実行された保全方法と、前記保全方法に対応した実行結果とに基づいて保全方法を決定することを特徴とする、請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記決定手段は、前記判定手段により前記収集データが異常であると判定された場合、前記収集データに発生している異常の要因と、前記異常の要因に対応する、前記リソグラフィ装置を保全するために実行される保全方法とに基づいて前記保全方法を決定することを特徴とする、請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記決定手段により決定された前記保全方法を実行するための指令を出力する出力手段を有することを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記処理条件が適用されて行われた前記リソグラフィ処理の結果を示す収集データが取得された場合に当該収集データに基づき前記許容範囲を更新する更新手段を有することを特徴とする、請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データは、前記リソグラフィ装置に備えられる複数のステージの相対的な位置の誤差を示す同期精度データを含むことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データは、前記リソグラフィ装置に備えられる光学系により照射される光の照度を示す照度データを含むことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データは、前記リソグラフィ装置に備えられるステージの制御における、目標位置と計測位置との偏差を示すステージ偏差データを含むことを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データは、前記パターンを形成する基板のマークを撮像して得られる画像信号に関するアライメント計測データを含むことを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記許容範囲は、前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データに関する平均値及び標準偏差、または前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データに関する中央値及び標準偏差に基づき定められることを特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記許容範囲は、前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データに関する平均値からの差分、前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データに関する中央値からの差分、前記平均値に対する比率、及び前記中央値に対する比率のいずれかに基づき定められることを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記許容範囲は、複数の許容範囲を含み、段階的なレベルに分類された異常が判定されることを特徴とする請求項1ないし請求項11のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記処理条件は、搬送条件、位置決め条件、計測条件、露光条件、セットアップ条件の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1ないし請求項12のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記第1取得手段は複数のリソグラフィ装置から前記リソグラフィ処理の結果を示す前記収集データを取得し、前記第2取得手段は前記複数の前記リソグラフィ装置のそれぞれに対して前記許容範囲を求めることを特徴とする請求項1ないし請求項13のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- パターンを形成するリソグラフィ装置において行われるリソグラフィ処理の条件を予め定める処理条件が適用されて行われたリソグラフィ処理の結果を示す収集データを取得する第1取得工程と、
前記第1取得工程において取得された前記収集データに基づき許容範囲を取得する第2取得工程と、
前記処理条件が適用されて行われたリソグラフィ処理の結果を示す収集データが前記第2取得工程において取得された前記許容範囲外にある場合に当該収集データに異常が発生していると判定する判定工程と、
前記判定工程において前記収集データに異常が発生していると判定された場合、前記異常に関する情報に基づいて前記リソグラフィ装置を保全するための保全方法を決定する決定工程と、
を有することを特徴とする決定方法。 - パターンを形成するリソグラフィ装置において行われるリソグラフィ処理の条件を予め定める処理条件が適用されて行われたリソグラフィ処理の結果を示す収集データを取得する第1取得工程と、
前記第1取得工程において取得された前記収集データに基づき許容範囲を取得する第2取得工程と、
前記処理条件が適用されて行われたリソグラフィ処理の結果を示す収集データが前記第2取得工程において取得された前記許容範囲外にある場合に当該収集データに異常が発生していると判定する判定工程と、
前記判定工程において前記収集データに異常が発生していると判定された場合、前記異常に関する情報に基づいて前記リソグラフィ装置を保全するための保全方法を決定する決定工程と、
を有する決定方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。 - 請求項1乃至14のいずれか1項に記載の情報処理装置と、
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、を有し
前記情報処理装置は、前記リソグラフィ装置において行われたリソグラフィ処理が行われている状態で収集された前記収集データに異常が発生していると判定した場合、前記異常に関する情報に基づいて前記リソグラフィ装置を保全するための保全方法を決定することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項17に記載のリソグラフィシステムを用いて、基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
前記処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020203784A JP7267986B2 (ja) | 2020-12-08 | 2020-12-08 | 情報処理装置、判定方法、算出方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 |
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JP2018113942A Division JP6808684B2 (ja) | 2018-06-14 | 2018-06-14 | 情報処理装置、判定方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021060592A true JP2021060592A (ja) | 2021-04-15 |
JP7267986B2 JP7267986B2 (ja) | 2023-05-02 |
Family
ID=75381357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020203784A Active JP7267986B2 (ja) | 2020-12-08 | 2020-12-08 | 情報処理装置、判定方法、算出方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP7267986B2 (ja) |
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