JP2021057378A - Substrate processing device - Google Patents

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Abstract

To provide a substrate processing device capable of suppressing throughput reduction due to the operating conditions of one indexer robot.SOLUTION: In a substrate processing device, a shelf near a boundary between an upper stage UF and a lower stage DF of an upper stage inverted path unit 33 and a lower stage inverted path unit 35 corresponding to the upper stage UF and the lower stage DF of a processing block 7, respectively, is used in priority. In this way, by devising transportation to an inverted path unit 31 from one indexer robot, a moving distance in a vertical direction Z in the one indexer robot can be reduced. Accordingly, throughput reduction due to the operating conditions of one indexer robot can be suppressed.SELECTED DRAWING: Figure 13

Description

本発明は、半導体ウエハ、液晶表示器や有機ＥＬ（Electroluminescence）表示装置用基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などの基板（以下、単に基板と称する）に対して、表面洗浄や裏面洗浄などの洗浄処理を行う基板処理装置に関する。 The present invention relates to substrates such as semiconductor wafers, substrates for liquid crystal displays and organic EL (Electroluminescence) display devices, glass substrates for photomasks, substrates for optical disks, substrates for magnetic disks, ceramic substrates, substrates for solar cells, etc. The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs cleaning treatment such as front surface cleaning and back surface cleaning with respect to (referred to as a substrate).

従来、この種の装置として、インデクサブロックと、表面洗浄ユニットと裏面洗浄ユニットとを備えた処理ブロックと、インデクサブロックと処理ブロックとの間に取り付けられた反転パスブロックとを備えたものがある（例えば、特許文献１参照）。 Conventionally, there is a device of this type including an indexer block, a processing block including a front surface cleaning unit and a back surface cleaning unit, and an inverted path block attached between the indexer block and the processing block (). For example, see Patent Document 1).

インデクサブロックは、複数枚の基板を収容したキャリアが載置されるキャリア載置部と、キャリアと反転パスブロックとの間で基板を搬送する１台のインデクサロボットとを備えている。反転パスブロックは、基板が載置される複数段の棚を備え、処理ブロックとの間で基板を受け渡したり、基板の表裏を反転したりする反転パスユニットを備えている。処理ブロックは、インデクサブロックから見て左方に、下から４台の表面洗浄ユニットを備えた４層構造の第１処理部列と、インデクサブロックから見て右方に、下から４台の裏面洗浄ユニットを備えた４層構造の第２処理部列と、表面洗浄ユニット及び裏面洗浄ユニットと反転パスユニットとの間で基板を搬送する１台のメインロボットとを備えている。反転パスブロックは、上２層に対応する上段に上部反転パスユニットと、下２層に対応する下段に下部反転パスユニットとを上下方向に離間して備えている。インデクサロボットは、未処理の基板を処理ブロックに搬送する際には上部反転パスユニットだけを経由して搬送し、処理済みの基板を処理ブロックから受け取る際には下部反転パスユニットだけを経由して受け取る。 The indexer block includes a carrier mounting portion on which a carrier accommodating a plurality of substrates is mounted, and one indexer robot that transports the substrates between the carrier and the inverted path block. The inverting pass block includes a plurality of shelves on which the substrate is placed, and includes an inverting pass unit that transfers the substrate to and from the processing block and inverting the front and back of the substrate. The processing blocks are the first processing section row with a four-layer structure equipped with four surface cleaning units from the bottom on the left side when viewed from the indexer block, and the back surface of the four units from the bottom on the right side when viewed from the indexer block. It includes a second row of processing units having a four-layer structure equipped with a cleaning unit, and one main robot that transports a substrate between the front surface cleaning unit, the back surface cleaning unit, and the reversing path unit. The inverted pass block includes an upper inverted pass unit in the upper layer corresponding to the upper two layers and a lower inverted pass unit in the lower layer corresponding to the lower two layers separated in the vertical direction. The indexer robot transports the unprocessed board to the processing block only via the upper inverted path unit, and receives the processed board from the processing block via only the lower inverted path unit. receive.

この装置では、メインロボットが処理ブロックに１台であるが、最近は、スループットを向上させるために、処理ブロックのうちの上段の処理ユニットと下段の処理ユニットとに対応する２台のメインロボットを搭載しているものがある（例えば、特許文献２参照）。 In this device, there is one main robot in the processing block, but recently, in order to improve throughput, two main robots corresponding to the upper processing unit and the lower processing unit in the processing block have been installed. Some are installed (see, for example, Patent Document 2).

特開２００８−１６６３６９号公報（図１、図２）Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-166369 (FIGS. 1 and 2) 特開２０１６−２０１５２６号公報（図１０）JP-A-2016-201526 (Fig. 10)

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、１台のインデクサロボットが、未処理の基板を搬送するには上部反転パスユニットにアクセスし、処理済みの基板を受け取るには下部反転パスユニットにアクセスする必要がある。したがって、基板を洗浄処理する際に、１台のインデクサロボットにおける上下方向への移動距離が長くなって、１台のインデクサロボットの動作状況に起因してスループットが低下することがあるという問題がある。 However, in the case of the conventional example having such a configuration, there are the following problems.
That is, in the conventional device, one indexer robot needs to access the upper inverted path unit to convey the unprocessed substrate and access the lower inverted path unit to receive the processed substrate. Therefore, when cleaning the substrate, there is a problem that the moving distance in the vertical direction of one indexer robot becomes long and the throughput may decrease due to the operating condition of one indexer robot. ..

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、１台のインデクサロボットからの反転パスユニットへの搬送を工夫することにより、１台のインデクサロボットの動作状況に起因するスループットの低下を抑制できる基板処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and by devising the transfer from one indexer robot to the reversing path unit, the throughput caused by the operating condition of one indexer robot can be increased. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus capable of suppressing a decrease.

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板を洗浄処理する基板処理装置において、複数枚の基板を収容するキャリアが載置されるキャリア載置部を備え、前記キャリア載置部の前記キャリアとの間で基板を搬送する１つのインデクサロボットを備えたインデクサブロックと、処理ユニットとして、基板の表面洗浄処理を行う表面洗浄ユニット及び基板の裏面洗浄処理を行う裏面洗浄ユニットを備え、上段と下段のそれぞれに前記処理ユニットを備えた処理ブロックと、前記インデクサブロックと前記処理ブロックとの間に配置され、基板を載置する複数段の棚を備えているとともに、基板の表裏を反転させる反転機能を備えている反転パスブロックと、を備え、前記処理ブロックは、前記各処理ユニットと前記反転パスブロックとの間で基板を搬送するセンターロボットを前記上段及び前記下段のそれぞれに備え、前記反転パスブロックは、前記上段に対応する複数個の反転パス部を備えた上段反転パスユニットと、前記下段に対応する複数個の反転パス部を備えた下段反転パスユニットとを備え、前記インデクサロボットは、前記上段反転パスユニットの複数個の反転パス部及び前記下段反転パスユニットの複数個の反転パス部のうち、前記上段及び前記下段の境界に近いものを優先して、前記反転パス部に基板を受け渡すことを特徴とするものである。 The present invention has the following configuration in order to achieve such an object.
That is, the invention according to claim 1 includes a carrier mounting portion on which a carrier accommodating a plurality of substrates is mounted in a substrate processing apparatus for cleaning a substrate, and the carrier mounting portion of the carrier mounting portion. An indexer block equipped with one indexer robot that conveys a substrate between the two, and a front surface cleaning unit that performs surface cleaning treatment of the substrate and a back surface cleaning unit that performs back surface cleaning treatment of the substrate are provided as processing units. Each has a processing block provided with the processing unit, a plurality of shelves arranged between the indexer block and the processing block on which the substrate is placed, and an inversion function for inverting the front and back of the substrate. The processing block is provided with a center robot for transporting a substrate between each processing unit and the inverted path block in each of the upper stage and the lower stage, and the inverted pass block is provided. The indexer robot includes an upper inverted pass unit having a plurality of inverted pass portions corresponding to the upper stage and a lower inverted pass unit having a plurality of inverted pass portions corresponding to the lower stage. Of the plurality of inverted pass portions of the upper inverted pass unit and the plurality of inverted pass portions of the lower inverted pass unit, the one closer to the boundary between the upper and lower stages is given priority, and the substrate is received by the inverted pass portion. It is characterized by passing.

［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、１つのインデクサロボットは、処理ブロックとの間で反転パスブロックを介して基板を搬送する際に、上段反転パスユニットの複数個の反転パス部及び下段反転パスユニットの複数個の反転パス部のうち、上段及び下段の境界に近いものを優先して、反転パス部に基板を受け渡す。このように、１台のインデクサロボットからの反転パスブロックへの搬送を工夫することにより、１台のインデクサロボットにおける上下方向への移動距離を短縮できるので、１台のインデクサロボットの動作状況に起因するスループットの低下を抑制できる。 [Action / Effect] According to the invention of claim 1, when one indexer robot conveys a substrate to and from a processing block via an inversion pass block, a plurality of inversions of the upper inversion pass unit are performed. Of the plurality of inverted pass portions of the pass portion and the lower inverted pass unit, the one closer to the boundary between the upper and lower stages is given priority, and the substrate is delivered to the inverted pass portion. In this way, by devising the transfer from one indexer robot to the inverted pass block, the moving distance in the vertical direction of one indexer robot can be shortened, which is caused by the operating condition of one indexer robot. It is possible to suppress a decrease in throughput.

また、本発明において、前記インデクサロボットは、前記反転パス部における回転軸を基準として、前記上段及び前記下段の境界に近い棚を優先して、前記反転パス部に基板を受け渡すことが好ましい（請求項２）。 Further, in the present invention, it is preferable that the indexer robot delivers the substrate to the inverted pass portion by giving priority to the shelf near the boundary between the upper stage and the lower stage with reference to the rotation axis in the inverted pass portion. Claim 2).

反転パス部における回転軸を基準として、インデクサロボットが上段及び下段の境界に近い棚を優先して、反転パス部に基板を受け渡す。したがって、複数個の反転パス部のうち、境界に最も近いものが使えない状況であっても、上段及び下段の境界にできるだけ近い位置の棚を優先的に使うことになる。その結果、１台のインデクサロボットにおける上下方向への移動距離を確実に短縮できる。 Based on the rotation axis in the reversing path section, the indexer robot gives priority to the shelves near the boundary between the upper and lower tiers and delivers the substrate to the reversing path section. Therefore, even in a situation where the one closest to the boundary cannot be used among the plurality of inverted path portions, the shelf at a position as close as possible to the boundary between the upper and lower rows is preferentially used. As a result, the moving distance in the vertical direction of one indexer robot can be surely shortened.

また、本発明において、前記センターロボットは、前記処理ブロックで処理を行った基板について、前記上段反転パスユニットの複数個の反転パス部及び前記下段反転パスユニットの複数個の反転パス部のうち、前記上段及び前記下段の境界に近いものを優先して、前記反転パス部に基板を受け渡すことが好ましい（請求項３）。 Further, in the present invention, the center robot has, with respect to the substrate processed by the processing block, among a plurality of inverted pass portions of the upper inverted pass unit and a plurality of inverted pass portions of the lower inverted pass unit. It is preferable to deliver the substrate to the inversion path portion with priority given to the one near the boundary between the upper stage and the lower stage (claim 3).

センターロボットは、上段反転パスユニットの複数個の反転パス部及び下段反転パスユニットの複数個の反転パス部のうち、上段及び下段の境界に近いものを優先して、反転パス部に基板を受け渡す。これにより、インデクサロボットが反転パスブロックから基板を受け取る際における上下方向への移動距離を短縮できるので、処理を終えた基板を戻す際にもインデクサロボットの動作状況に起因するスループットの低下を抑制できる。 The center robot receives the substrate in the inversion pass unit by giving priority to the plurality of inversion path portions of the upper inversion pass unit and the plurality of inversion pass portions of the lower inversion pass unit that are closer to the boundary between the upper and lower stages. hand off. As a result, the moving distance in the vertical direction when the indexer robot receives the board from the inverted path block can be shortened, so that the decrease in throughput due to the operating status of the indexer robot can be suppressed even when the processed board is returned. ..

また、本発明において、前記インデクサロボットは、水平方向の位置が固定されて立設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って昇降移動する基台部と、前記基台部に配置された多関節アームと、前記多関節アームの先端部側のアームに基板を支持するハンドとを備え、前記反転パスブロックへのアクセスする前の待機状態では、前記ハンドが前記上段と前記下段の境界に位置することが好ましい（請求項４）。 Further, in the present invention, the indexer robot has a guide rail erected with a fixed horizontal position, a base portion that moves up and down along the guide rail, and many arranged on the base portion. A joint arm and a hand that supports the substrate on the arm on the tip end side of the articulated arm are provided, and the hand is located at the boundary between the upper stage and the lower stage in a standby state before accessing the inverted path block. (Claim 4).

１台のインデクサロボットは、ガイドレールと、基台部と、多関節アームと、ハンドとを備え、ガイドレールに対して基台部を昇降させ、基台部に対して多関節アームを駆動してハンドを自在に移動させる。反転パスブロックへのアクセスする前の待機状態では、そのハンドが上段と下段の境界に位置する。したがって、上段反転パスユニットや下段反転パスユニットへのアクセスの際の移動距離を短縮できる。 One indexer robot is provided with a guide rail, a base portion, an articulated arm, and a hand, raises and lowers the base portion with respect to the guide rail, and drives the articulated arm with respect to the base portion. And move the hand freely. In the standby state before accessing the inverted path block, the hand is located at the boundary between the upper row and the lower row. Therefore, the moving distance when accessing the upper inverted path unit and the lower inverted path unit can be shortened.

また、本発明において、前記反転パスブロックは、基板の表面洗浄処理を行うために前記表面洗浄ユニットだけを用いる場合には、基板を反転させず載置するだけであることが好ましい（請求項５）。 Further, in the present invention, when only the surface cleaning unit is used to perform the surface cleaning treatment of the substrate, it is preferable that the inverted path block is simply placed without inverting the substrate (claim 5). ).

反転パスブロックは、基板を反転させることなく載置して受け渡すことにより、表面洗浄ユニットを使って基板の表面洗浄処理だけを行わせることができる。 By placing and delivering the inverted path block without inverting the substrate, it is possible to perform only the surface cleaning treatment of the substrate using the surface cleaning unit.

また、本発明において、前記反転パスブロックは、基板の表裏にわたる表裏洗浄処理を行うために前記表面洗浄ユニット及び前記裏面洗浄ユニットを用いる場合には、前記裏面洗浄ユニットへの搬入前及び前記表面洗浄ユニットへの搬入前であわせて基板を二回反転させることが好ましい（請求項６）。 Further, in the present invention, when the front surface cleaning unit and the back surface cleaning unit are used to perform the front and back cleaning treatment over the front and back surfaces of the substrate, the inverted pass block is used before being carried into the back surface cleaning unit and the surface cleaning. It is preferable to invert the substrate twice in total before carrying it into the unit (claim 6).

反転パスブロックは、基板を二回反転させることにより、表面洗浄ユニットを使った表面洗浄処理と、裏面洗浄ユニットを使った裏面洗浄処理とを行わせることができる。 The inverted pass block can perform a front surface cleaning process using the front surface cleaning unit and a back surface cleaning process using the back surface cleaning unit by inverting the substrate twice.

本発明に係る基板処理装置によれば、１つのインデクサロボットは、処理ブロックとの間で反転パスブロックを介して基板を搬送する際に、上段反転パスユニットの複数個の反転パス部及び下段反転パスユニットの複数個の反転パス部のうち、上段及び下段の境界に近いものを優先して、反転パス部に基板を受け渡す。このように、１台のインデクサロボットからの反転パスユニットへの搬送を工夫することにより、１台のインデクサロボットにおける上下方向への移動距離を短縮できるので、１台のインデクサロボットの動作状況に起因するスループットの低下を抑制できる。 According to the substrate processing apparatus according to the present invention, when one indexer robot conveys a substrate to and from the processing block via the inversion pass block, a plurality of inversion pass portions and a lower inversion pass unit of the upper inversion pass unit are used. Of the plurality of inverted pass portions of the pass unit, the one closer to the boundary between the upper and lower stages is given priority, and the substrate is delivered to the inverted pass portion. In this way, by devising the transfer from one indexer robot to the reversing path unit, the moving distance in the vertical direction of one indexer robot can be shortened, which is caused by the operating condition of one indexer robot. It is possible to suppress a decrease in throughput.

実施例に係る基板処理装置の全体構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole structure of the substrate processing apparatus which concerns on Example. 基板処理装置の平面図であり、処理ブロックの上段における上層を示す図である。It is a top view of the substrate processing apparatus, and is the figure which shows the upper layer in the upper stage of a processing block. 基板処理装置の平面図であり、処理ブロックの上段における下層を示す図である。It is a top view of the substrate processing apparatus, and is the figure which shows the lower layer in the upper part of a processing block. 基板処理装置の側面図である。It is a side view of the substrate processing apparatus. インデクサロボットの全体を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole of the indexer robot. インデクサロボットのハンドを示す斜視図であり、（ａ）は４枚のハンド本体を示し、（ｂ）は２枚とされたハンド本体を示す。It is a perspective view which shows the hand of an indexer robot, (a) shows four hand bodies, and (b) shows two hand bodies. インデクサブロックを背面から見た状態における反転パスブロックの斜視図である。It is a perspective view of the inverted path block in the state which the indexer block is seen from the back. インデクサブロック及び反転パスブロックを左側面から見た状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the indexer block and the inversion path block are seen from the left side surface. 反転パスユニットの要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the main part of the inversion path unit. （ａ）〜（ｄ）は、反転パスユニットの動作説明図である。(A) to (d) are operation explanatory diagrams of the inverting path unit. 基板処理装置の運搬時における状態を示す分解斜視図である。It is an exploded perspective view which shows the state at the time of transportation of a substrate processing apparatus. 搬送ブロックの要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the main part of the transport block. 表裏面洗浄処理におけるインデクサロボットと処理ブロックとの間の搬送の一例について説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating an example of the transfer between an indexer robot and a processing block in a front-back cleaning process. 表面洗浄処理におけるインデクサロボットと処理ブロックとの間の搬送の一例について説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating an example of the transfer between an indexer robot and a processing block in a surface cleaning process. 裏面洗浄処理におけるインデクサロボットと処理ブロックとの間の搬送の一例について説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating an example of the transfer between an indexer robot and a processing block in a back surface cleaning process.

以下、図面を参照して本発明の一実施例について説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、図１は、実施例に係る基板処理装置の全体構成を示す斜視図であり、図２は、基板処理装置の平面図であり、処理ブロックの上段における上層を示す図であり、図３は、基板処理装置の平面図であり、処理ブロックの上段における下層を示す図であり、図４は、基板処理装置の側面図である。 Note that FIG. 1 is a perspective view showing the overall configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment, FIG. 2 is a plan view of the substrate processing apparatus, and is a diagram showing an upper layer in the upper stage of the processing block, and FIG. Is a plan view of the substrate processing apparatus, is a view showing a lower layer in the upper stage of the processing block, and FIG. 4 is a side view of the substrate processing apparatus.

本実施例に係る基板処理装置１は、基板Ｗの表面を洗浄する表面洗浄処理と、基板の裏面を洗浄する裏面洗浄処理とを実施することができる装置である。この基板処理装置１は、インデクサブロック３と、反転パスブロック５と、処理ブロック７と、搬送ブロック９と、ユーティリティブロック１１とを備えている。 The substrate processing device 1 according to this embodiment is an apparatus capable of performing a front surface cleaning process for cleaning the front surface of the substrate W and a back surface cleaning process for cleaning the back surface of the substrate. The substrate processing device 1 includes an indexer block 3, an inverted path block 5, a processing block 7, a transport block 9, and a utility block 11.

インデクサブロック３は、処理対象である基板Ｗを反転パスブロック５との間で受け渡す。反転パスブロック５は、インデクサブロック３と処理ブロック７との間に配置されている。反転パスブロック５は、基板Ｗの表裏を反転させることなく、基板Ｗをそのままインデクサブロック３と搬送ブロック９との間で受け渡したり、基板Ｗの表裏を反転させて搬送ブロック９との間で基板Ｗを受け渡ししたりする。搬送ブロック９は、反転パスブロック５と処理ブロック７との間における基板Ｗの搬送を行う。処理ブロック７は、基板Ｗの表面を洗浄する表面洗浄ユニットＳＳと、基板Ｗの裏面を洗浄する裏面洗浄ユニットＳＳＲとを備えている。ユーティリティブロック１１は、処理ブロック７に薬液や純水などの処理液や、窒素ガスや空気などの気体を供給する構成などを備えている。 The indexer block 3 passes the substrate W to be processed to and from the inverted path block 5. The inversion path block 5 is arranged between the indexer block 3 and the processing block 7. The reversing pass block 5 transfers the substrate W as it is between the indexer block 3 and the transport block 9 without inverting the front and back of the substrate W, or reverses the front and back of the substrate W and connects the substrate W to the transport block 9. Hand over W. The transport block 9 transports the substrate W between the reversal pass block 5 and the processing block 7. The processing block 7 includes a front surface cleaning unit SS for cleaning the front surface of the substrate W and a back surface cleaning unit SSR for cleaning the back surface of the substrate W. The utility block 11 has a configuration for supplying a treatment liquid such as a chemical solution or pure water, or a gas such as nitrogen gas or air to the treatment block 7.

基板処理装置１は、インデクサブロック３と、反転バスブロック５と、処理ブロック７及び搬送ブロック９と、ユーティリティブロック１１とがこの順番で並ぶように配置されている。 In the substrate processing device 1, the indexer block 3, the reversing bus block 5, the processing block 7, the transport block 9, and the utility block 11 are arranged in this order.

以下の説明においては、インデクサブロック３と、反転パスブロック５と、処理ブロック７及び搬送ブロック９と、ユーティリティブロック１１とが並ぶ方向を「前後方向Ｘ」（水平方向）とする。特に、ユーティリティブロック１１からインデクサブロック３へ向かう方向を「前方ＸＦ」とし、前方ＸＦ方向の反対方向を「後方ＸＢ」とする。前後方向Ｘと水平方向で直交する方向を「幅方向Ｙ」とする。さらに、インデクサブロック３の正面から見た場合に、幅方向Ｙの一方向を適宜に「右方ＹＲ」とし、右方ＹＲの反対の他方向を「左方ＹＬ」とする。また、垂直な方向を「上下方向Ｚ」（高さ方向、垂直方向）とする。なお、単に「側方」や「横方向」などと記載するときは、前後方向Ｘ及び幅方向Ｙのいずれにも限定されない。 In the following description, the direction in which the indexer block 3, the inversion path block 5, the processing block 7, the transport block 9, and the utility block 11 are lined up is defined as the "front-back direction X" (horizontal direction). In particular, the direction from the utility block 11 to the indexer block 3 is referred to as "forward XF", and the direction opposite to the forward XF direction is referred to as "rear XB". The direction orthogonal to the front-back direction X in the horizontal direction is defined as the "width direction Y". Further, when viewed from the front of the indexer block 3, one direction of the width direction Y is appropriately referred to as "right YR", and the other direction opposite to the right YR is referred to as "left YL". Further, the vertical direction is defined as "vertical direction Z" (height direction, vertical direction). In addition, when it is simply described as "lateral" or "horizontal direction", it is not limited to either the front-rear direction X or the width direction Y.

インデクサブロック３は、キャリア載置部１３と、搬送スペースＡＩＤと、１台のインデクサロボットＴＩＤとを備えている。本実施例における基板処理装置１は、例えば、４個のキャリア載置部１３を備えている。具体的には、幅方向Ｙに４個のキャリア載置部１３を備えている。各キャリア載置部１３は、キャリアＣが載置される。キャリアＣは、複数枚（例えば、２５枚）の基板Ｗを積層して収納するものであり、各キャリア載置部１３は、例えば、図示しないＯＨＴ（Overhead Hoist Transport：天井走行無人搬送車とも呼ばれる）との間でキャリアＣの受け渡しを行う。ＯＨＴは、クリーンルームの天井を利用してキャリアＣを搬送する。キャリアＣとしては、例えば、ＦＯＵＰ(Front Opening Unified Pod)が挙げられる。 The indexer block 3 includes a carrier mounting portion 13, a transport space AID, and one indexer robot TID. The substrate processing apparatus 1 in this embodiment includes, for example, four carrier mounting portions 13. Specifically, four carrier mounting portions 13 are provided in the width direction Y. The carrier C is mounted on each carrier mounting portion 13. The carrier C is for stacking and storing a plurality of (for example, 25) substrates W, and each carrier mounting portion 13 is also referred to as, for example, an OHT (Overhead Hoist Transport) (not shown). ) And the carrier C. The OHT transports the carrier C using the ceiling of the clean room. Examples of the carrier C include FOUP (Front Opening Unified Pod).

搬送スペースＡＩＤは、キャリア載置部１３の後方ＸＢに配置されている。搬送スペースＡＩＤには、インデクサロボットＴＩＤが配置されている。インデクサロボットＴＩＤは、キャリアＣとの間で基板Ｗを受け渡すとともに、反転ブロック５との間で基板Ｗを受け渡す。インデクサロボットＴＩＤは、１台だけが搬送スペースＡＩＤに配置されている。 The transport space AID is arranged in the rear XB of the carrier mounting portion 13. An indexer robot TID is arranged in the transport space AID. The indexer robot TID delivers the substrate W to and from the carrier C, and also delivers the substrate W to and from the inversion block 5. Only one indexer robot TID is arranged in the transport space AID.

ここで図５を参照する。なお、図５は、インデクサロボットの全体を示す斜視図である。 See FIG. 5 here. Note that FIG. 5 is a perspective view showing the entire indexer robot.

図５に示すように、１台のインデクサロボットＴＩＤは、ガイドレール１５と、基台部１７と、多関節アーム１９と、ハンド２１とを備えている。ガイドレール１５は、上下方向Ｚに長手方向を配置されており、図示しない駆動部による駆動に伴って基台部１７が昇降するが、その際に基台部１７を上下方向Ｚに案内する。ガイドレール１５は、前後方向Ｘ及び幅方向Ｙにおける位置が固定されている。具体的には、ガイドレール１５は、幅方向Ｙのうち、インデクサブロック３のキャリア載置部１３側から見た場合に、反転パスブロック５における基板Ｗの載置位置と重ならない位置に配置されている。また、インデクサブロック３のうち、反転パスブロック５側の内壁側に配置されている。ここで、平面視において、幅方向Ｙにおけるインデクサブロック３の中央と、幅方向Ｙにおける反転パスブロック５の中央とを結ぶ仮想線ＶＬを定義する（図２及び図３参照）。ガイドレール１５及び基台部１７は、この仮想線ＶＬから側方、本実施例では右方ＹＲにずれた位置に配置されている。基台部１７は、平面視で、インデクサブロック３の背面からキャリア載置部１３側へ空間ＳＰを空けて配置されている。この空間ＳＰは、反転パスブロック５の少なくとも一部の収容を許容する大きさを有する。 As shown in FIG. 5, one indexer robot TID includes a guide rail 15, a base portion 17, an articulated arm 19, and a hand 21. The guide rail 15 is arranged in the vertical direction Z in the vertical direction, and the base portion 17 moves up and down with driving by a drive unit (not shown). At that time, the base portion 17 is guided in the vertical direction Z. The positions of the guide rail 15 in the front-rear direction X and the width direction Y are fixed. Specifically, the guide rail 15 is arranged in the width direction Y at a position that does not overlap with the mounting position of the substrate W in the inverted path block 5 when viewed from the carrier mounting portion 13 side of the indexer block 3. ing. Further, among the indexer blocks 3, they are arranged on the inner wall side of the inverted path block 5 side. Here, in a plan view, a virtual line VL connecting the center of the indexer block 3 in the width direction Y and the center of the inverted path block 5 in the width direction Y is defined (see FIGS. 2 and 3). The guide rail 15 and the base portion 17 are arranged at positions deviated from the virtual line VL to the side, and in this embodiment, to the right YR. The base portion 17 is arranged in a plan view from the back surface of the indexer block 3 to the carrier mounting portion 13 side with a space SP. This space SP has a size that allows at least a part of the inverted path block 5 to be accommodated.

基台部１７は、ガイドレール１５に移動可能に配置された基台部本体１７ａと、基台部本体１７ａから側方に延出された固定アーム１７ｂとを備えている。固定アーム１７ｂは、その先端側が、４個のキャリア載置部１３の幅方向Ｙにおける中央、つまり、上記仮想線ＶＬに位置するように基台部本体１７ａから前方ＸＦに延出されて配置されている。多関節アーム１９は、第１アーム１９ａと、第２アーム１９ｂと、第３アーム１９ｃとから構成され、ハンド２１が配置された第３アーム１９ｃを先端部側、第１アーム１９ａを基端部側とすると、基端部側である第１アーム１９ａの基端部が固定アーム１７ｂの先端部側に取り付けられている。 The base portion 17 includes a base portion main body 17a that is movably arranged on the guide rail 15, and a fixed arm 17b that extends laterally from the base portion main body 17a. The fixed arm 17b is arranged so that its tip side extends from the base portion main body 17a to the front XF so as to be located at the center of the four carrier mounting portions 13 in the width direction Y, that is, at the virtual line VL. ing. The articulated arm 19 is composed of a first arm 19a, a second arm 19b, and a third arm 19c. The third arm 19c on which the hand 21 is arranged is on the tip end side, and the first arm 19a is on the base end portion. On the side, the base end portion of the first arm 19a, which is the base end portion side, is attached to the tip end portion side of the fixed arm 17b.

多関節アーム１９は、第１アーム１９ａの基端部側の回転軸Ｐ１と、第２アーム１９ｂの基端部側の回転軸Ｐ２と、第３アーム１９ｃの基端部側の回転軸Ｐ３にて各第１〜第３アーム１９ａ、１９ｂ，１９ｃが回転可能に構成されており、ハンド２１が前後方向Ｘ及び幅方向Ｙに自在に移動可能に構成されている。ハンド２１は、基台部１７がガイドレール１５に沿って昇降することにより、上下方向Ｚに移動可能に構成されている。また、多関節アーム１９は、基端部側の第１アーム１９ａにおける回転軸Ｐ１が、キャリア載置部１３側から見て、幅方向Ｙにおいて、ガイドレール１５よりも反転パスブロック５側にずれて配置されている。つまり、回転軸Ｐ１は、上記仮想線ＶＬに位置している。また、回転軸Ｐ１は、基台部１７を基準とすると、左方ＹＬに位置している。このように構成されたインデクサロボットＴＩＤは、多関節アーム１９によって、４個のキャリアＣと、後述する反転パスブロック５に対してアクセス可能になっている。 The articulated arm 19 is attached to the rotation shaft P1 on the base end side of the first arm 19a, the rotation shaft P2 on the base end side of the second arm 19b, and the rotation shaft P3 on the base end side of the third arm 19c. The first to third arms 19a, 19b, and 19c are rotatably configured, and the hand 21 is configured to be freely movable in the front-rear direction X and the width direction Y. The hand 21 is configured to be movable in the vertical direction Z by moving the base portion 17 up and down along the guide rail 15. Further, in the articulated arm 19, the rotation axis P1 of the first arm 19a on the proximal end side is displaced toward the inverted pass block 5 side from the guide rail 15 in the width direction Y when viewed from the carrier mounting portion 13 side. Are arranged. That is, the rotation axis P1 is located on the virtual line VL. Further, the rotation axis P1 is located on the left YL with reference to the base portion 17. The indexer robot TID configured in this way is accessible by the articulated arm 19 to the four carriers C and the inverted path block 5 described later.

ここで、図６を参照する。なお、図６は、インデクサロボットのハンドを示す斜視図であり、（ａ）は４枚のハンド本体を示し、（ｂ）は２枚とされたハンド本体を示す。 Here, reference is made to FIG. 6A and 6B are perspective views showing the hands of the indexer robot, in which FIG. 6A shows four hand bodies and FIG. 6B shows two hand bodies.

上述したインデクサロボットＴＩＤは、ハンド２１を備えるが、ハンド２１は、図６（ａ）に示すように、上から下に向かって順に、ハンド本体２１ａと、ハンド本体２１ｂと、ハンド本体２１ｃと、ハンド本体２１ｄとを備えている。ハンド２１における４本のハンド本体２１ａ〜２１ｄは、第３アーム１９ｃに取り付けられている。これらの４本のハンド本体２１ａ〜２１ｄのうち、最上部のハンド本体２１ａと、最下部のハンド本体２１ｄとは、図６（ｂ）に示すように、上下方向Ｚに昇降可能に構成されている。インデクサロボットＴＩＤは、キャリアＣとの間で基板Ｗを搬送する際に、例えば、２５枚の基板ＷがキャリアＣに収納されている際には、４本のハンド本体２１ａ〜２１ｄで基板Ｗを４枚ずつ順次に搬送し、残り１枚となった場合には、例えば、１枚の基板Ｗをハンド本体２１ａとハンド本体２１ｂで一体化させたハンド本体２１ａ、２１ｂで搬送し、次のキャリアＣの１枚の基板Ｗをハンド本体２１ｃとハンド本体２１ｄで一体化させたハンド本体２１ｃ、２１ｄで搬送する。これにより、４本のハンド本体２１ａ〜２１ｄを備えたインデクサロボットＴＩＤによって、２５枚の基板Ｗが収納されたキャリアＣとの搬送を効率的に行うことができる。 The indexer robot TID described above includes the hand 21, and as shown in FIG. 6A, the hand 21 has the hand body 21a, the hand body 21b, the hand body 21c, and the hand body 21c in this order from top to bottom. It is equipped with a hand body 21d. The four hand bodies 21a to 21d in the hand 21 are attached to the third arm 19c. Of these four hand bodies 21a to 21d, the uppermost hand body 21a and the lowermost hand body 21d are configured to be able to move up and down in the vertical direction Z as shown in FIG. 6B. There is. When the indexer robot TID conveys the substrate W to and from the carrier C, for example, when 25 substrates W are housed in the carrier C, the indexer robot TID uses the four hand bodies 21a to 21d to connect the substrate W. When four boards are sequentially conveyed and one is left, for example, one board W is conveyed by the hand bodies 21a and 21b integrated with the hand body 21a and the hand body 21b, and then the next carrier. One substrate W of C is conveyed by the hand bodies 21c and 21d in which the hand body 21c and the hand body 21d are integrated. As a result, the indexer robot TID provided with the four hand bodies 21a to 21d can efficiently transport the 25 substrates W to the carrier C.

なお、上述した構成を備えた１つのインデクサロボットＴＩＤは、反転パスブロック５へのアクセスする前の待機状態では、ハンド２１が上下方向Ｚにおける上段ＵＦと下段ＤＦの境界に位置するように制御されるのが好ましい。 One indexer robot TID having the above-described configuration is controlled so that the hand 21 is located at the boundary between the upper UF and the lower DF in the vertical direction Z in the standby state before accessing the inverted path block 5. Is preferable.

ここで図７及び図８を参照する。なお、図７は、インデクサブロックを背面から見た状態における反転パスブロックの斜視図であり、図８は、インデクサブロック及び反転パスブロックを左側面から見た状態を示す図である。 See now with reference to FIGS. 7 and 8. Note that FIG. 7 is a perspective view of the inverted path block when the indexer block is viewed from the back surface, and FIG. 8 is a diagram showing a state where the indexer block and the inverted path block are viewed from the left side surface.

反転パスブロック５は、インデクサブロック３の処理ブロック７側でインデクサブロック３に対して一体的に取り付けられている。具体的には、インデクサブロック３は、その背面側（後方ＸＢ）に、インデクサブロック３から処理ブロック側７に延出された載置フレーム２５と、載置懸架フレーム２７と、懸架フレーム２９とを備えている。反転パスブロック５は、反転パスユニット３１を備えている。インデクサブロック３の背面側には、搬送スペースＡＩＤに連通した上部アクセス口３ａ及び下部アクセス口３ｂが形成されている。反転パスユニット３１は、上段反転パスユニット３３と、下段反転パスユニット３５とを備えている。上段反転パスユニット３３は、上部アクセス口３ａに対応する位置に配置され、下段反転パスユニット３５は、下部アクセス口３ｂに対応する位置に配置されている。下段反転パスユニット３５は、載置フレーム２５に下部がねじ止め固定されるとともに、上部が固定具３７によって載置懸架フレーム２７に固定される。また、上段反転パスニット３３は、載置懸架フレーム２７に下部がねじ止め固定されるとともに、上部が固定具３９によって懸架フレーム２９に固定される。 The inversion path block 5 is integrally attached to the indexer block 3 on the processing block 7 side of the indexer block 3. Specifically, the indexer block 3 has a mounting frame 25 extending from the indexer block 3 to the processing block side 7, a mounting suspension frame 27, and a suspension frame 29 on the back side (rear XB) of the indexer block 3. I have. The reverse pass block 5 includes a reverse pass unit 31. On the back side of the indexer block 3, an upper access port 3a and a lower access port 3b communicating with the transport space AID are formed. The reversing pass unit 31 includes an upper reversing pass unit 33 and a lower reversing pass unit 35. The upper inverted pass unit 33 is arranged at a position corresponding to the upper access port 3a, and the lower inverted pass unit 35 is arranged at a position corresponding to the lower access port 3b. The lower portion of the lower inverted pass unit 35 is screwed and fixed to the mounting frame 25, and the upper portion is fixed to the mounting suspension frame 27 by the fixture 37. Further, the upper portion of the upper inverted pass knit 33 is screwed and fixed to the mounting suspension frame 27, and the upper portion is fixed to the suspension frame 29 by the fixture 39.

上段反転パスユニット３１と下段反転パスユニット３３とは、平面視において、前後方向Ｘ及び幅方向Ｙにずれることなく重なって配置されている。したがって、基板処理装置１のフットプリントを小さくできる。 The upper inverted pass unit 31 and the lower inverted pass unit 33 are arranged so as to overlap each other in the front-rear direction X and the width direction Y without being displaced in a plan view. Therefore, the footprint of the substrate processing device 1 can be reduced.

反転パスブロック５は、インデクサブロック３と一体的に構成されているが、反転パスブロック５は、基板処理装置１の運搬時には、少なくとも一部がインデクサブロック３の内部に収納可能に構成されている。 The inverted pass block 5 is integrally configured with the indexer block 3, but the inverted pass block 5 is configured so that at least a part of the inverted pass block 5 can be housed inside the indexer block 3 when the substrate processing apparatus 1 is transported. ..

具体的には、上段反転パスユニット３３及び下段反転パスユニット３５の下部を止めているねじを取り外すとともに、固定具３７，３９を取り外した後、上段反転パスユニット３３を上部アクセス口３ａからインデクサブロック３の内部にある空間ＳＰに押し込み、下段反転パスユニット３５を下部アクセス口３ｂからインデクサブロック３の内部にある空間ＳＰに押し込む。これにより、反転パスブロック５の少なくとも一部がインデクサブロック３の内部に確実に収納可能に構成されている。 Specifically, after removing the screws holding the lower parts of the upper reversing pass unit 33 and the lower reversing pass unit 35 and removing the fixtures 37 and 39, the upper reversing pass unit 33 is connected to the indexer block from the upper access port 3a. It is pushed into the space SP inside the indexer block 3, and the lower inverted pass unit 35 is pushed into the space SP inside the indexer block 3 from the lower access port 3b. As a result, at least a part of the inverted path block 5 can be reliably stored inside the indexer block 3.

上段反転パスユニット３３は、反転パス筐体部３３ａと、筐体部仕切り３３ｂとを備えている。筐体部仕切り３３ｂで仕切られた上部には、上部反転パス部３３Ｕが配置され、筐体部仕切り３３ｂで仕切られた下部には、下部反転パス部３３Ｄが配置されている。また、下部反転パスユニット３５は、反転パス筐体部３５ａと、筐体部仕切り３５ｂとを備えている。筐体部仕切り３５ｂで仕切られた上部には、上部反転パス部３５Ｕが配置され、筐体部仕切り３３ｂで仕切られた下部には、下部反転パス部３５Ｄが配置されている。 The upper inverted pass unit 33 includes an inverted path housing portion 33a and a housing portion partition 33b. The upper inverted pass portion 33U is arranged in the upper part partitioned by the housing portion partition 33b, and the lower inverted pass portion 33D is arranged in the lower portion partitioned by the housing portion partition 33b. Further, the lower inverted pass unit 35 includes an inverted path housing portion 35a and a housing portion partition 35b. The upper inverted pass portion 35U is arranged in the upper part partitioned by the housing portion partition 35b, and the lower inverted pass portion 35D is arranged in the lower portion partitioned by the housing portion partition 33b.

ここで、図９及び図１０を参照して、反転パスユニット３１の詳細について説明する。なお、図９は、反転パスユニットの要部を示す斜視図であり、図１０（ａ）〜（ｄ）は、反転パスユニットの動作説明図である。 Here, the details of the inversion path unit 31 will be described with reference to FIGS. 9 and 10. 9 is a perspective view showing a main part of the inverted pass unit, and FIGS. 10 (a) to 10 (d) are explanatory views of the operation of the inverted pass unit.

反転パスユニット３１は、上段反転パスユニット３３と下段反転パスユニット３５を備え、上段反転パスユニット３３と下段反転パスユニット３５は、上部反転パス部３３Ｕ、３５Ｕと下部反転パス部３３Ｄ、３５Ｄを備えている。以下の説明においては、上部反転パス部３３Ｕを例にとって説明するが、上部反転パス部３５Ｕと、下部反転パス部３３Ｄ、３５Ｄでも同様の構成である。 The inverted pass unit 31 includes an upper inverted pass unit 33 and a lower inverted pass unit 35, and the upper inverted pass unit 33 and the lower inverted pass unit 35 include upper inverted pass portions 33U and 35U and lower inverted pass portions 33D and 35D. ing. In the following description, the upper inverted pass portion 33U will be described as an example, but the upper inverted pass portion 35U and the lower inverted pass portions 33D and 35D have the same configuration.

上部反転パス部３３Ｕは、基板Ｗを載置するためのガイド部４１と、ガイド部４１に載置された基板Ｗの表裏を反転するように回転させるための回転保持部４３とを備えている。なお、右方ＹＲ側にも同様のガイド部４１と回転保持部４３とが対向して配置されているが、図示の都合上省略してある。ガイド部４１は、複数枚の基板Ｗを水平姿勢で積層して保持するための複数段（例えば、５段＋５段の合計１０段）の棚４５を前後方向Ｘに離間して備えている。このガイド部４１は、右方ＹＲに突出した載置位置（不図示）と、図９に示す左方ＹＬに退避した退避位置とにわたって駆動部（不図示）によって駆動される。退避位置は、基板Ｗの下面から左方ＹＬに下がった斜め下方向である。これにより退避時に基板Ｗの下面にガイド部４１による摺動を生じさせない。なお、不図示のガイド部４１は、左方ＹＬに突出した載置位置と、右方ＹＲの斜め下方に退避した退避位置とにわたって駆動される。 The upper reversing path portion 33U includes a guide portion 41 for mounting the substrate W and a rotation holding portion 43 for rotating the substrate W mounted on the guide portion 41 so as to reverse the front and back sides. .. A similar guide portion 41 and a rotation holding portion 43 are arranged to face each other on the right YR side, but they are omitted for convenience of illustration. The guide portion 41 includes shelves 45 having a plurality of stages (for example, 5 stages + 5 stages in total of 10 stages) for stacking and holding a plurality of substrates W in a horizontal posture, separated from each other in the front-rear direction X. The guide unit 41 is driven by a drive unit (not shown) over a mounting position (not shown) protruding to the right YR and a retracted position retracted to the left YL shown in FIG. The retracted position is diagonally downward from the lower surface of the substrate W to the left YL. As a result, the guide portion 41 does not slide on the lower surface of the substrate W when retracted. The guide portion 41 (not shown) is driven over a mounting position protruding to the left YL and a retracted position obliquely downward of the right YR.

回転保持部４３は、ガイド部４１の間に配置されており、ガイド部４１と同数の複数段（合計１０段）の棚４７を備えている。上下方向Ｚにおける棚４７が配置されている高さ位置は、ガイド部４１が載置位置に位置している場合におけるガイド部４１の各棚４５と同じである。各棚４７は、基板Ｗの表裏面を弱く把持する把持部材（不図示）を備えており、基板Ｗを回転させた際に各棚４７からの落下が防止される。回転保持部４３は、回転部材４９に取り付けられ、前後方向Ｘにおいて離間して各棚４７が配置されている。本実施例では、回転部材４９がアルファベットのＨ形状を呈し、Ｉ形状部分に各棚４７が配置されている。回転部材４９は、図示しない回転駆動部と進退駆動部とに連結されている。回転部材４９は、幅方向Ｙに沿った回転軸Ｐ４回りに回転される。さらに、回転部材４９は、図９に示す右方ＹＲに突出した把持位置と、左方ＹＬに退避した退避位置（不図示）とにわたって進退駆動される。これらの動作により、各棚４７が回転されたり、進退されたりする。なお、不図示の回転部材４９は、左方ＹＬに突出した把持位置と、右方ＹＲに退避した退避位置とにわたって進退駆動される。 The rotation holding portion 43 is arranged between the guide portions 41, and includes the same number of shelves 47 as the guide portions 41 in a plurality of stages (10 stages in total). The height position where the shelves 47 are arranged in the vertical direction Z is the same as each shelf 45 of the guide unit 41 when the guide unit 41 is located at the mounting position. Each shelf 47 is provided with a gripping member (not shown) that weakly grips the front and back surfaces of the substrate W, and is prevented from falling from each shelf 47 when the substrate W is rotated. The rotation holding portion 43 is attached to the rotating member 49, and the shelves 47 are arranged apart from each other in the front-rear direction X. In this embodiment, the rotating member 49 has an H shape of the alphabet, and each shelf 47 is arranged in the I shape portion. The rotating member 49 is connected to a rotation driving unit and an advancing / retreating driving unit (not shown). The rotating member 49 is rotated around the rotation axis P4 along the width direction Y. Further, the rotating member 49 is driven forward and backward over a gripping position protruding to the right YR shown in FIG. 9 and a retracted position (not shown) retracted to the left YL. By these operations, each shelf 47 is rotated and moved forward and backward. The rotating member 49 (not shown) is driven forward and backward over a gripping position protruding to the left YL and a retracted position retracted to the right YR.

上述した上部反転パス部３３Ｕは、図１０（ａ）の状態のままとして、複数枚の基板Ｗを載置して表裏を反転させることなく、そのままの状態で受け渡しさせたり、図１０（ａ）〜（ｄ）のように動作することにより、複数枚の基板Ｗの表裏を反転させて受け渡しさせたりする。 The above-mentioned upper inversion path portion 33U can be delivered as it is without inverting the front and back sides by placing a plurality of substrates W while keeping the state of FIG. 10 (a), or in FIG. 10 (a). By operating as in (d), the front and back sides of a plurality of substrates W are inverted and delivered.

基板Ｗの表裏を反転させる場合には、例えば、以下のようにガイド部４１と回転保持部４３が駆動される。 When the front and back sides of the substrate W are reversed, for example, the guide portion 41 and the rotation holding portion 43 are driven as follows.

初期状態では、ガイド部４１同士が幅方向Ｙにおいて基板Ｗの直径程度に離間した載置位置に移動され、回転保持部４３が退避位置に移動されているものとする（図１０（ａ））。この状態で複数枚の基板Ｗがガイド部４１に載置される。次に、回転保持部４３が把持位置に位置され（図１０（ｂ））、続いてガイド部４１が退避位置に移動される（図１０（ｃ））。さらに、回転保持部４３が回転軸Ｐ４回りに半周だけ回転される（図１０（ｄ））．これらの一連の動作によって、複数枚の基板Ｗの表裏が同時に反転される。 In the initial state, it is assumed that the guide portions 41 are moved to the mounting position separated by the diameter of the substrate W in the width direction Y, and the rotation holding portion 43 is moved to the retracted position (FIG. 10A). .. In this state, a plurality of substrates W are placed on the guide unit 41. Next, the rotation holding portion 43 is positioned at the gripping position (FIG. 10 (b)), and then the guide portion 41 is moved to the retracted position (FIG. 10 (c)). Further, the rotation holding portion 43 is rotated about half a circumference around the rotation axis P4 (FIG. 10 (d)). By these series of operations, the front and back sides of the plurality of substrates W are reversed at the same time.

なお、上述した上部反転パス部３３Ｕ及び下部反転パス部３３Ｄと、上部反転パス部３５Ｕ及び下部反転パス部３５Ｄとが、それぞれ本発明における「複数個の反転パス部」に相当する。 The above-mentioned upper inverted pass portion 33U and lower inverted pass portion 33D, and the upper inverted pass portion 35U and lower inverted pass portion 35D correspond to the "plurality of inverted pass portions" in the present invention, respectively.

図２〜図４に戻る。また、さらに図１１を参照する。なお、図１１は、基板処理装置の運搬時における状態を示す分解斜視図である。 Return to FIGS. 2 to 4. Further, refer to FIG. Note that FIG. 11 is an exploded perspective view showing a state of the substrate processing apparatus during transportation.

反転パスブロック５の後方ＸＢには、処理ブロック７と搬送ブロック９とが配置されている。処理ブロック７は、搬送ブロック９を挟んで左方ＹＬと右方ＹＲとに対向して配置されている。 A processing block 7 and a transport block 9 are arranged behind the inverted path block 5 XB. The processing block 7 is arranged so as to face the left YL and the right YR with the transport block 9 interposed therebetween.

各処理ブロック７は、例えば、上段ＵＦと下段ＤＦとにそれぞれ二層の処理ユニットＰＵを備えている。また、各処理ブロック７は、前後方向Ｘに２個の処理ユニットＰＵを備えている。つまり、１つの処理ブロック７は、８台の処理ユニットＰＵを備え、２つの処理ブロック７の全体で１６台の処理ユニットＰＵを備えている。なお、以下の説明においては、各処理ユニットＰＵを区別する必要がある場合には、図１１に示すように、左方ＹＬで前方ＸＦの処理ユニットＰＵの上から下に向かって配置されている４台の処理ユニットＰＵをそれぞれ処理ユニットＰＵ１１〜ＰＵ１４とし、右方ＹＲで前方ＸＦの処理ユニットＰＵの上から下に向かって配置されている４台の処理ユニットＰＵをそれぞれ処理ユニットＰＵ２１〜ＰＵ２４とし、左方ＹＬで後方ＸＢの処理ユニットＰＵの上から下に向かって配置されている４台の処理ユニットＰＵをそれぞれ処理ユニットＰＵ３１〜ＰＵ３４とし、右方ＹＲで後方ＸＢの処理ユニットＰＵの上から下に向かって配置されている４台の処理ユニットＰＵをそれぞれ処理ユニットＰＵ４１〜ＰＵ４４とする。 Each processing block 7 is provided with, for example, a two-layer processing unit PU in each of the upper UF and the lower DF. Further, each processing block 7 includes two processing units PU in the front-rear direction X. That is, one processing block 7 includes eight processing unit PUs, and the two processing blocks 7 include a total of 16 processing unit PUs. In the following description, when it is necessary to distinguish each processing unit PU, as shown in FIG. 11, they are arranged from the top to the bottom of the front XF processing unit PU on the left YL. The four processing unit PUs are designated as processing units PU11 to PU14, respectively, and the four processing unit PUs arranged from the top to the bottom of the front XF processing unit PU on the right YR are designated as processing units PU21 to PU24, respectively. , The four processing unit PUs arranged from the top to the bottom of the rear XB processing unit PU in the left YL are treated as the processing units PU31 to PU34, respectively, and from the top of the rear XB processing unit PU in the right YR. The four processing unit PUs arranged downward are referred to as processing units PU41 to PU44, respectively.

また、左方ＹＬで前方ＸＦの４台の処理ユニットＰＵ１１〜ＰＵ１４をタワーユニットＴＷ１と称し、右方ＹＲで前方ＸＦの４台の処理ユニットＰＵ２１〜ＰＵ２４をタワーユニットＴＷ２と称し、左方ＹＬで後方ＸＢの４台の処理ユニットＰＵ３１〜ＰＵ３４をタワーユニットＴＷ３と称し、右方ＹＲで後方ＸＢの４台の処理ユニットＰＵ４１〜ＰＵ４４をタワーユニットＴＷ４と称する。なお、２つの処理ユニット７は、４つのタワーユニットＴＷ１〜ＴＷ４で構成されているが、タワーユニットＴＷ１〜ＴＷ４ごとに制御や管理が行われ、電気的配線や流体の管路をタワーユニットＴＷ１〜ＴＷ４ごとに容易に分離・接続できる構成を採用している。 Further, the four processing units PU11 to PU14 of the front XF on the left YL are referred to as tower units TW1, and the four processing units PU21 to PU24 of the front XF on the right YR are referred to as tower units TW2. The four processing units PU31 to PU34 of the rear XB are referred to as tower units TW3, and the four processing units PU41 to PU44 of the rear XB on the right YR are referred to as tower units TW4. The two processing units 7 are composed of four tower units TW1 to TW4, but control and management are performed for each tower unit TW1 to TW4, and electrical wiring and fluid pipelines are connected to the tower units TW1 to TW1. A configuration that can be easily separated and connected for each TW4 is adopted.

処理ブロック７の上段ＵＦの上層は、例えば、図２に示すように、表面洗浄ユニットＳＳが配置されている。表面洗浄ユニットＳＳは、基板Ｗの表面（一般的に電子回路パターンなどが形成されている面）を洗浄処理する。表面洗浄ユニットＳＳは、例えば、吸引チャック５１と、ガード５３と、処理ノズル５５とを備えている。吸引チャック５１は、基板Ｗの裏面の中心付近を真空吸引によって吸着する。吸引チャック５１は、図示しない電動モータによって回転駆動され、これにより基板Ｗを水平面内で回転駆動する。ガード５３は、吸引チャック５１の周囲を囲うように配置されており、処理ノズル５５から基板Ｗに供給された処理液が周囲に飛散するのを防止する。処理ノズル５５は、例えば、ジェット噴流で処理液を基板Ｗの表面に供給することにより、基板Ｗの表面を洗浄する。 As shown in FIG. 2, for example, a surface cleaning unit SS is arranged on the upper layer of the upper UF of the processing block 7. The surface cleaning unit SS cleans the surface of the substrate W (generally, the surface on which an electronic circuit pattern or the like is formed). The surface cleaning unit SS includes, for example, a suction chuck 51, a guard 53, and a processing nozzle 55. The suction chuck 51 sucks the vicinity of the center of the back surface of the substrate W by vacuum suction. The suction chuck 51 is rotationally driven by an electric motor (not shown), whereby the substrate W is rotationally driven in a horizontal plane. The guard 53 is arranged so as to surround the suction chuck 51, and prevents the processing liquid supplied from the processing nozzle 55 to the substrate W from scattering to the surroundings. The processing nozzle 55 cleans the surface of the substrate W by supplying the processing liquid to the surface of the substrate W by, for example, a jet jet.

処理ブロック７の上段ＵＦの下層は、例えば、図３に示すように、裏面洗浄ユニットＳＳＲが配置されている。裏面洗浄ユニットＳＳＲは、基板Ｗの裏面（一般的に電子回路パターンなどが形成されていない面）を洗浄処理する。裏面洗浄ユニットＳＳＲは、例えば、メカチャック５７と、ガード５９と、洗浄ブラシ６１とを備えている。メカチャック５７は、基板Ｗの周縁を当接支持して、基板Ｗの下面の大半に接触することなく基板Ｗを水平姿勢で支持する。メカチャック５７は、図示しない電動モータによって回転駆動され、これにより基板Ｗを水平面内で回転駆動する。ガード５９は、メカチャック５７の周囲を囲うように配置されており、洗浄ブラシ６１により処理液が周囲に飛散するのを防止する。洗浄ブラシ６１は、例えば、縦軸回りに回転するブラシを備え、供給された処理液をブラシの回転力で基板Ｗの裏面に作用させて洗浄する。 As shown in FIG. 3, for example, a back surface cleaning unit SSR is arranged in the lower layer of the upper UF of the processing block 7. The back surface cleaning unit SSR cleans the back surface of the substrate W (generally, the surface on which an electronic circuit pattern or the like is not formed). The back surface cleaning unit SSR includes, for example, a mechanical chuck 57, a guard 59, and a cleaning brush 61. The mechanical chuck 57 abuts and supports the peripheral edge of the substrate W, and supports the substrate W in a horizontal posture without contacting most of the lower surface of the substrate W. The mechanical chuck 57 is rotationally driven by an electric motor (not shown), whereby the substrate W is rotationally driven in a horizontal plane. The guard 59 is arranged so as to surround the mechanical chuck 57, and prevents the treatment liquid from being scattered around by the cleaning brush 61. The cleaning brush 61 includes, for example, a brush that rotates around the vertical axis, and the supplied processing liquid acts on the back surface of the substrate W by the rotational force of the brush to clean the substrate W.

本実施例における処理ブロック７の下段ＤＦは、例えば、上述した上段ＵＦの上層及び下層と同様の構成となっている。つまり、処理ブロックの下段ＤＦの上層は、表面洗浄ユニットＳＳを備え、処理ブロックの下段ＤＦの下層は、裏面洗浄ユニットＳＳＲを備えている。つまり、処理ブロック７の全１６台の処理ユニットＰＵは、８台の表面洗浄ユニットＳＳを備え、８台の裏面洗浄ユニットＳＳＲを備えている。 The lower DF of the processing block 7 in this embodiment has, for example, the same configuration as the upper layer and the lower layer of the upper UF described above. That is, the upper layer of the lower DF of the processing block is provided with the front surface cleaning unit SS, and the lower layer of the lower DF of the processing block is provided with the back surface cleaning unit SSR. That is, all 16 processing unit PUs of the processing block 7 include eight front surface cleaning units SS and eight back surface cleaning units SSR.

ここで、図２〜図４に加えて図１２を参照する。なお、図１２は、搬送ブロックの要部を示す斜視図である。 Here, reference is made to FIG. 12 in addition to FIGS. 2 to 4. Note that FIG. 12 is a perspective view showing a main part of the transport block.

搬送ブロック９は、上段ＵＦと下段ＤＦに対応する位置にそれぞれセンターロボットＣＲ１，ＣＲ２が配置されている。搬送ブロック９は、上段ＵＦと下段ＤＦとの境界位置に仕切り板などは配置されておらず、上段ＵＦから下段ＤＦへ装置内のダウンフローが流通可能である。センターロボットＣＲ１は、反転パスブロック５における上段反転パスユニット３３と、上段ＵＦにおける各処理ユニットＰＵとの間において基板Ｗの搬送を行う。また、センターロボットＣＲ２は、反転パスブロック５における下段反転パスユニット３５と、下段ＤＦにおける各処理ユニットＰＵとの間で基板Ｗの搬送を行う。このように、反転パスブロック５の上段反転パスユニット３３と下段反転パスユニット３５とを介して上段ＵＦと下段ＤＦの処理ブロック７に各センターロボットＣＲ１，ＣＲ２により基板Ｗを振り分けることができるので、スループットを向上できる。 In the transport block 9, the center robots CR1 and CR2 are arranged at positions corresponding to the upper UF and the lower DF, respectively. In the transport block 9, a partition plate or the like is not arranged at the boundary position between the upper UF and the lower DF, and the downflow in the device can be distributed from the upper UF to the lower DF. The center robot CR1 conveys the substrate W between the upper inverted pass unit 33 in the inverted pass block 5 and each processing unit PU in the upper UF. Further, the center robot CR2 transports the substrate W between the lower inverted pass unit 35 in the inverted pass block 5 and each processing unit PU in the lower DF. In this way, the substrate W can be distributed to the processing blocks 7 of the upper UF and the lower DF via the upper inverted pass unit 33 and the lower inverted pass unit 35 of the inverted pass block 5 by the center robots CR1 and CR2. Throughput can be improved.

センターロボットＣＲ１とセンターロボットＣＲ２とは同じ構成であるので、ここではセンターロボットＣＲ１を例にとって説明する。 Since the center robot CR1 and the center robot CR2 have the same configuration, the center robot CR1 will be described here as an example.

センターロボットＣＲ１は、固定枠６３と、可動枠６５と、基台部６７と、旋回ベース６９と、アーム７１とを備えている。固定枠６３は、上段ＵＦにおける全処理ユニットＰＵに及ぶ開口を備えている。可動枠６５は、固定枠６３内に前後方向Ｘに移動可能に取り付けられている。基台部６７は、可動枠６５を構成する４枠のうちの下枠に取り付けられている。基台部６７の上部には、旋回ベース６９が搭載され、基台部６７に対して旋回ベース６９が水平面内で旋回可能に構成されている。旋回ベース６９の上部には、アーム７１が旋回ベース６９に対して進退可能に搭載されている。アーム７１は、アーム本体７１ａの上部にアーム本体７１ｂが重ねて配置されている。アーム７１は、旋回ベース６９に重なった第１の位置と、旋回ベース６９から突出した第２の位置とにわたって進退可能に構成されている。この構成により、センターロボットＣＲ１は、例えば、処理ユニットＰＵに対するアクセスの際に、旋回ベース６９を処理ユニットＰＵに向けた状態で、処理ユニットＰＵで処理済みの基板Ｗをアーム本体７１ａで受け取るとともに、アーム本体７１ｂで支持した未処理の基板Ｗを処理ユニットＰＵに渡すことが可能となっている。 The center robot CR1 includes a fixed frame 63, a movable frame 65, a base portion 67, a swivel base 69, and an arm 71. The fixed frame 63 has an opening extending to all the processing unit PUs in the upper UF. The movable frame 65 is mounted in the fixed frame 63 so as to be movable in the front-rear direction X. The base portion 67 is attached to the lower frame of the four frames constituting the movable frame 65. A swivel base 69 is mounted on the upper portion of the base portion 67, and the swivel base 69 is configured to be swivelable in a horizontal plane with respect to the base portion 67. An arm 71 is mounted on the upper part of the swivel base 69 so as to be able to advance and retreat with respect to the swivel base 69. The arm 71 is arranged so that the arm body 71b is overlapped on the arm body 71a. The arm 71 is configured to be able to advance and retreat over a first position overlapping the swivel base 69 and a second position protruding from the swivel base 69. With this configuration, for example, when accessing the processing unit PU, the center robot CR1 receives the substrate W processed by the processing unit PU at the arm body 71a with the swivel base 69 facing the processing unit PU, and at the same time, the center robot CR1 receives the substrate W processed by the processing unit PU. The unprocessed substrate W supported by the arm body 71b can be passed to the processing unit PU.

搬送ブロック９は、上述したように構成されており、幅方向Ｙにて隣接する２つの処理ブロック７とは共通フレームが存在しない。したがって、搬送ブロック９は、隣接する処理ブロック７と分離可能である。また、上述した構成の基板処理装置１は、図１１に示すように、運搬時には、反転パスブロック５が一体的に取り付けられたインデクサブロック３と、処理ブロック７と、搬送ブロック９と、ユーティリティブロック１１とに分離できる。また、処理ブロック７は、さらに４個のタワーユニットＴＷ１〜ＴＷ４に分離できる。したがって、航空機による運搬時に生じる高さ、幅や奥行きの制限をクリアできる。さらに、インデクサブロック３に一体的に取り付けられている反転パスブロック５は、図８に示したように、その一部をインデクサブロック３の内部に収容できる。したがって、航空機による運搬時に生じる高さ、幅や奥行きの制限に加えて、容積の制限をクリアできる。 The transport block 9 is configured as described above, and does not have a common frame with the two processing blocks 7 adjacent to each other in the width direction Y. Therefore, the transport block 9 can be separated from the adjacent processing block 7. Further, as shown in FIG. 11, the substrate processing device 1 having the above-described configuration includes an indexer block 3 to which an inverted path block 5 is integrally attached, a processing block 7, a transport block 9, and a utility block during transportation. It can be separated into 11. Further, the processing block 7 can be further separated into four tower units TW1 to TW4. Therefore, the height, width, and depth restrictions that occur during transportation by aircraft can be cleared. Further, as shown in FIG. 8, the inverted path block 5 integrally attached to the indexer block 3 can accommodate a part thereof inside the indexer block 3. Therefore, in addition to the height, width, and depth restrictions that occur during transportation by aircraft, the volume restrictions can be cleared.

ここで、図１３〜図１５を参照して、上述した基板処理装置１における基板Ｗの搬送例について説明する。 Here, an example of transporting the substrate W in the substrate processing apparatus 1 described above will be described with reference to FIGS. 13 to 15.

上述したように、インデクサブロック３が備えている１つのインデクサロボットＴＩＤは、一度に最大で４枚の基板Ｗを搬送することができる構成を備えている。但し、以下の搬送例の説明においては、発明の理解を容易にするため、一枚の基板Ｗを搬送する場合を例にとって説明する。また、分離パスブロック５と処理ブロック７との間における搬送だけに着目し、センターロボットＣＲ１，ＣＲ２の動作については図示を省略する。各動作のステップは、図中においては、他符号と区別しやすくするために括弧付きの符号Ｓ（数字−数字）で示す。基板Ｗの姿勢は、表面を上に向けた状態を上に凸の三角形で表し、裏面を上に向けた状態を下に凸の三角形で表し、未洗浄を黒色で表し、洗浄後を白色で表す。また、三角形の左半分が表面の洗浄状態を表し、右半分が裏面の洗浄状態を表す。 As described above, one indexer robot TID included in the indexer block 3 has a configuration capable of transporting a maximum of four substrates W at a time. However, in the following description of the transport example, in order to facilitate understanding of the invention, a case where one substrate W is transported will be described as an example. Further, paying attention only to the transfer between the separation path block 5 and the processing block 7, the operation of the center robots CR1 and CR2 is not shown. In the figure, the steps of each operation are indicated by the reference numerals S (numbers-numbers) in parentheses to make it easy to distinguish them from other symbols. The posture of the substrate W is represented by an upward convex triangle when the front surface is facing upward, a downward convex triangle when the back surface is facing upward, black when unwashed, and white after cleaning. Represent. The left half of the triangle represents the cleaning state of the front surface, and the right half represents the cleaning state of the back surface.

搬送例１：表裏洗浄処理 Transport example 1: Front and back cleaning treatment

図１３を参照する。なお、図１３は、表裏面洗浄処理におけるインデクサロボットと処理ブロックとの間の搬送の一例について説明するための模式図である。である。 See FIG. Note that FIG. 13 is a schematic diagram for explaining an example of transportation between the indexer robot and the processing block in the front and back surface cleaning processing. Is.

基板Ｗの洗浄処理では、例えば、インデクサロボットＴＩＤがキャリアＣの上部から下部に向かって基板Ｗを順次搬送して処理を行う。これは、洗浄後の基板を同じキャリアＣの同じ位置に戻すが、その際に上に洗浄前の基板Ｗがあると、その洗浄前の基板Ｗからパーティクルが落下する等して、洗浄後の基板Ｗが再度汚染されることを防止するためである。基板Ｗの表裏にわたる洗浄処理は、まず、基板Ｗの裏面洗浄処理を行い、次に基板Ｗの表面洗浄処理が行われる。なお、１つのインデクサロボットＴＩＤは、反転パスブロック５へのアクセスする前の待機状態では、上下方向Ｚにおけるハンド２１の高さ位置が、例えば、上段ＵＦと下段ＤＦの境界に位置するように制御されている。 In the cleaning process of the substrate W, for example, the indexer robot TID sequentially conveys the substrate W from the upper part to the lower part of the carrier C to perform the processing. This returns the cleaned substrate to the same position on the same carrier C, but if there is a substrate W before cleaning on top of it, particles will fall from the substrate W before cleaning, and so on. This is to prevent the substrate W from being contaminated again. In the cleaning treatment covering the front and back surfaces of the substrate W, first, the back surface cleaning treatment of the substrate W is performed, and then the front surface cleaning treatment of the substrate W is performed. In the standby state before accessing the inverted path block 5, one indexer robot TID controls so that the height position of the hand 21 in the vertical direction Z is located, for example, at the boundary between the upper UF and the lower DF. Has been done.

ここでは、基板Ｗが処理ブロック７のうちの下段ＤＦで処理されるものとする。インデクサロボットＴＩＤは、例えば、基板Ｗを反転パスブロック５の反転パスユニット３１に搬送する。具体的には、インデクサロボットＴＩＤは、反転パスユニット３１のうち、上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近い下段反転パスユニット３５の上部反転パス部３５Ｕに搬送する。より具体的には、上部反転パス部３５Ｕにおける最上段の棚に基板Ｗを搬送する（ステップＳ１−１）。また、この棚は、上部反転パス部３５Ｕの回転軸Ｐ４を基準にして、上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近い位置にある。上に凸の黒色三角形は、表裏がともに未洗浄で、上に表面を向けた基板Ｗであることを表す。 Here, it is assumed that the substrate W is processed by the lower DF of the processing blocks 7. The indexer robot TID, for example, conveys the substrate W to the inverted pass unit 31 of the inverted pass block 5. Specifically, the indexer robot TID conveys the indexer robot TID to the upper inverted pass unit 35U of the lower inverted pass unit 35 near the boundary between the upper UF and the lower DF among the inverted pass units 31. More specifically, the substrate W is conveyed to the uppermost shelf in the upper inverted pass portion 35U (step S1-1). Further, this shelf is located near the boundary between the upper UF and the lower DF with reference to the rotation axis P4 of the upper inverted pass portion 35U. The upwardly convex black triangle indicates that the substrate W has both front and back surfaces uncleaned and the front surface is facing upward.

次に、上部反転パス部３５Ｕが上下を入れ換えるように回転される。これにより、上部反転パス部３５Ｕにおける最上段の棚に載置されていた基板Ｗが最下段の棚に移動するとともに、基板Ｗが裏面を上に向けた姿勢に反転される（ステップＳ１−２）。下に凸の黒三角形は、表裏がともに未洗浄で、上に裏面を向けた基板Ｗであることを表す。 Next, the upper inverted pass portion 35U is rotated so as to switch the top and bottom. As a result, the substrate W placed on the uppermost shelf in the upper inverted pass portion 35U moves to the lowermost shelf, and the substrate W is inverted in a posture in which the back surface faces upward (step S1-2). ). The downwardly convex black triangle indicates that the substrate W has both front and back surfaces uncleaned and the back surface faces upward.

次に、センターロボットＣＲ２が、例えば、基板Ｗを処理ユニットＰＵ４４の裏面洗浄ユニットＳＳＲに搬送する（ステップＳ１−３）。裏面洗浄ユニットＳＳＲは、上方に向けられた基板Ｗの裏面に対して洗浄ブラシ６１により洗浄処理を行う。 Next, the center robot CR2 conveys, for example, the substrate W to the back surface cleaning unit SSR of the processing unit PU44 (step S1-3). The back surface cleaning unit SSR cleans the back surface of the substrate W facing upward with the cleaning brush 61.

センターロボットＣＲ２は、裏面が洗浄された基板Ｗを、例えば、下部反転パス部３５Ｄの下から２番目の棚に搬送する（ステップＳ１−４）。下に凸の右半分が白色の三角形は、上に裏面を向けた姿勢の基板Ｗで、裏面だけが洗浄済であることを表す。 The center robot CR2 conveys the substrate W whose back surface has been cleaned, for example, to the second shelf from the bottom of the lower inverted path portion 35D (step S1-4). The downwardly convex right half of the white triangle indicates that the substrate W is in a posture in which the back surface is facing upward, and that only the back surface has been cleaned.

下段反転パス部３５Ｄは、上下を入れ換えるように回転される。これにより、下部反転パス部３５Ｄにおける下から２番目の棚に載置されていた基板Ｗが上から２番目の棚に移動するとともに、基板Ｗが表面を上に向けた姿勢とされる（ステップＳ１−５）。上に凸の右半分が白色の三角形は、上に裏面を向けた姿勢の基板Ｗで、裏面だけが洗浄済であることを表す。 The lower inverted path portion 35D is rotated so as to switch the top and bottom. As a result, the substrate W placed on the second shelf from the bottom in the lower inverted path portion 35D moves to the second shelf from the top, and the substrate W is in a posture in which the surface faces upward (step). S1-5). The triangle with a white right half that is convex upward indicates that the substrate W is in a posture in which the back surface is facing upward, and that only the back surface has been cleaned.

次に、センターロボットＣＲ２は、例えば、基板Ｗを処理ユニットＰＵ１３の表面洗浄ユニットＳＳに搬送する（ステップＳ１−６）。表面洗浄ユニットＳＳは、上方に向けられた基板Ｗの表面に対して処理ノズル５５によって洗浄処理を行う。 Next, the center robot CR2 conveys, for example, the substrate W to the surface cleaning unit SS of the processing unit PU13 (steps S1-6). The surface cleaning unit SS cleans the surface of the substrate W facing upward by the processing nozzle 55.

表面及び裏面がともに洗浄された基板Ｗは、センターロボットＣＲ２によって、上部反転パス部３５Ｕの下から４番目の棚に搬送される（ステップＳ１−７）。そして、インデクサロボットＴＩＤは、上部反転パス部３５Ｕの下から４番目の棚に載置されている基板Ｗを搬送して、基板Ｗが収納されていた元のキャリアＣの元の位置に戻す（ステップＳ１−８）。なお、ステップＳ１−７のように、センターロボットＣＲ２は、処理ブロック７で処理を行った基板Ｗについて、上段反転パスユニット３３の上部反転パス部３３Ｕ、下部反転パス部３３Ｄ及び下段反転パスユニット３５の上部反転パス部３５Ｕ、下部反転パス部３５Ｄのうち、上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近いものを優先して、上部反転パス部３５Ｕに基板Ｗを受け渡すことが好ましい。これにより、インデクサロボットＴＩＤが反転パスブロック５から処理済みの基板Ｗを受け取る際における上下方向への移動距離を短縮できるので、処理を終えた基板ＷをキャリアＣへ戻す搬送の際にもインデクサロボットＴＩＤの動作状況に起因するスループットの低下を抑制できる。 The substrate W whose front surface and back surface have been cleaned is conveyed by the center robot CR2 to the fourth shelf from the bottom of the upper inverted path portion 35U (step S1-7). Then, the indexer robot TID conveys the substrate W placed on the fourth shelf from the bottom of the upper inverted path portion 35U and returns it to the original position of the original carrier C in which the substrate W is stored ( Step S1-8). In addition, as in step S1-7, the center robot CR2 has the upper inverted pass unit 33U, the lower inverted pass unit 33D, and the lower inverted pass unit 35 of the upper inverted pass unit 33 with respect to the substrate W processed by the processing block 7. Of the upper inverted pass portion 35U and the lower inverted pass portion 35D, it is preferable to give priority to the one closer to the boundary between the upper inverted pass portion UF and the lower inverted pass portion 35U and deliver the substrate W to the upper inverted pass portion 35U. As a result, the moving distance in the vertical direction when the indexer robot TID receives the processed substrate W from the inverted path block 5 can be shortened, so that the indexer robot can also be transported to return the processed substrate W to the carrier C. It is possible to suppress a decrease in throughput due to the operating status of the TID.

上記の搬送例によると、基板処理装置１は、下部反転パスユニット３５において基板Ｗを二回反転させて表裏にわたる洗浄処理を行う。 According to the above transfer example, the substrate processing device 1 inverts the substrate W twice in the lower reversing pass unit 35 to perform a cleaning process over the front and back surfaces.

搬送例２：表面洗浄処理 Transport example 2: Surface cleaning treatment

図１４を参照する。なお、図１４は、表面洗浄処理におけるインデクサロボットと処理ブロックとの間の搬送の一例について説明するための模式図である。 See FIG. Note that FIG. 14 is a schematic diagram for explaining an example of transportation between the indexer robot and the processing block in the surface cleaning process.

インデクサロボットＴＩＤは、反転パスユニット３１のうち、例えば、上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近い下段反転パスユニット３５の上部反転パス部３５Ｕに搬送する。より具体的には、上部反転パス部３５Ｕにおける下から４番目の棚に基板Ｗを搬送する（ステップＳ２−１）。上に凸の黒色の三角形は、上に表面を向けた基板Ｗで、表裏が未洗浄であることを表す。 The indexer robot TID conveys the indexer robot TID to, for example, the upper inverted pass unit 35U of the lower inverted pass unit 35 near the boundary between the upper UF and the lower DF among the inverted pass units 31. More specifically, the substrate W is conveyed to the fourth shelf from the bottom in the upper inverted pass portion 35U (step S2-1). The upwardly convex black triangle indicates that the substrate W has its front surface facing upward and the front and back surfaces have not been cleaned.

次に、センターロボットＣＲ２が、例えば、基板Ｗを処理ユニットＰＵ１３の表面洗浄ユニットＳＳに搬送する（ステップＳ２−２）。表面洗浄ユニットＳＳは、上方に向けられた基板Ｗの表面に対して処理ノズル５５により洗浄処理を行う。 Next, the center robot CR2 conveys, for example, the substrate W to the surface cleaning unit SS of the processing unit PU13 (step S2-2). The surface cleaning unit SS cleans the surface of the substrate W facing upward by the processing nozzle 55.

センターロボットＣＲ２は、表面が洗浄された基板Ｗを、例えば、上部反転パス部３５Ｕの下から４番目の棚に搬送する（ステップＳ２−３）。上に凸の左半分が白色の三角形は、上に表面を向けた姿勢の基板Ｗで、表面だけが洗浄済であることを表す。インデクサロボットＴＩＤは、上部反転パス部３５Ｕの下から４番目の棚に載置されている基板Ｗを搬送して、基板Ｗが収納されていた元のキャリアＣの元の位置に戻す（ステップＳ２−４）。なお、ステップＳ２−３のように、センターロボットＣＲ２は、処理ブロック７で処理を行った基板Ｗについて、上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近い上部反転パス部３５Ｕを優先し、上部反転パス部３５Ｕに対して基板Ｗを受け渡すことが好ましい。これにより、インデクサロボットＴＩＤが反転パスブロック５から基板Ｗを受け取る際における上下方向への移動距離を短縮できるので、処理を終えた基板ＷをキャリアＣへ戻す搬送の際にもインデクサロボットＴＩＤの動作状況に起因するスループットの低下を抑制できる。 The center robot CR2 conveys the substrate W whose surface has been cleaned to, for example, the fourth shelf from the bottom of the upper inverted pass portion 35U (step S2-3). The upwardly convex left half of the white triangle indicates that the substrate W is in a posture in which the surface is facing upward, and that only the surface has been cleaned. The indexer robot TID conveys the substrate W placed on the fourth shelf from the bottom of the upper inverted path portion 35U and returns it to the original position of the original carrier C in which the substrate W is stored (step S2). -4). As in steps S2-3, the center robot CR2 gives priority to the upper inverted pass portion 35U near the boundary between the upper UF and the lower DF with respect to the substrate W processed by the processing block 7, and gives priority to the upper inverted pass portion 35U. It is preferable to deliver the substrate W to the substrate W. As a result, the moving distance in the vertical direction when the indexer robot TID receives the substrate W from the inversion path block 5 can be shortened, so that the operation of the indexer robot TID is also performed when the processed substrate W is returned to the carrier C. It is possible to suppress the decrease in throughput due to the situation.

上記の搬送例によると、基板処理装置１は、下部反転パスユニット３５において基板Ｗを反転させることなく表面の洗浄処理を行う。 According to the above transfer example, the substrate processing apparatus 1 performs the surface cleaning treatment in the lower reversing pass unit 35 without inverting the substrate W.

搬送例３：裏面洗浄処理 Transport example 3: Backside cleaning process

図１５を参照する。なお、図１５は、裏面洗浄処理におけるインデクサロボットと処理ブロックとの間の搬送の一例について説明するための模式図である。 See FIG. Note that FIG. 15 is a schematic diagram for explaining an example of transportation between the indexer robot and the processing block in the back surface cleaning process.

インデクサロボットＴＩＤは、例えば、上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近い下段反転パスユニット３５の上部反転パス部３５Ｕに搬送する。より具体的には、上部反転パス部３５Ｕにおける最上段の棚に基板Ｗを搬送する（ステップＳ３−１）。また、この棚は、上部反転パス部３５Ｕの回転軸Ｐ４を基準にして、上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近い位置にある。上に凸の黒色三角形は、上に表面を向けた基板Ｗで、表裏がともに未洗浄であることを表す。 The indexer robot TID is conveyed to, for example, the upper inverted path portion 35U of the lower inverted pass unit 35 near the boundary between the upper UF and the lower DF. More specifically, the substrate W is conveyed to the uppermost shelf in the upper inverted pass portion 35U (step S3-1). Further, this shelf is located near the boundary between the upper UF and the lower DF with reference to the rotation axis P4 of the upper inverted pass portion 35U. The upwardly convex black triangle indicates the substrate W whose front surface is facing upward, and both the front and back surfaces are uncleaned.

次に、上部反転パス部３５Ｕが上下を入れ換えるように回転される。これにより、上部反転パス部３５Ｕにおける最上段の棚に載置されていた基板Ｗが最下段の棚に移動するとともに、基板Ｗが裏面を上に向けた姿勢に反転される（ステップＳ３−２）。下に凸の黒三角形は、上に裏面を向けた基板Ｗで、表裏が未洗浄であることを表す。 Next, the upper inverted pass portion 35U is rotated so as to switch the top and bottom. As a result, the substrate W placed on the uppermost shelf in the upper inverted pass portion 35U moves to the lowermost shelf, and the substrate W is inverted in a posture in which the back surface faces upward (step S3-2). ). The downwardly convex black triangle is the substrate W with the back surface facing upward, and indicates that the front and back surfaces have not been cleaned.

次に、センターロボットＣＲ２が、例えば、基板Ｗを処理ユニットＰＵ２４の裏面洗浄ユニットＳＳＲに搬送する（ステップＳ３−３）。裏面洗浄ユニットＳＳＲは、上方に向けられた基板Ｗの裏面に対して洗浄ブラシ６１により洗浄処理を行う。 Next, the center robot CR2 conveys, for example, the substrate W to the back surface cleaning unit SSR of the processing unit PU24 (step S3-3). The back surface cleaning unit SSR cleans the back surface of the substrate W facing upward with the cleaning brush 61.

センターロボットＣＲ２は、裏面が洗浄された基板Ｗを、例えば、下部反転パス部３５Ｄの最下段の棚に搬送する（ステップＳ３−４）。下に凸の右半分が白色の三角形は、上に裏面を向けた姿勢の基板Ｗで、裏面だけが洗浄済であることを表す。 The center robot CR2 conveys the substrate W whose back surface has been cleaned, for example, to the lowermost shelf of the lower inverted path portion 35D (step S3-4). The downwardly convex right half of the white triangle indicates that the substrate W is in a posture in which the back surface is facing upward, and that only the back surface has been cleaned.

下段反転パス部３５Ｄは、回転して基板Ｗの上下を入れ換える。これにより、下部反転パス部３５Ｄにおける最下段の棚に載置されていた基板Ｗが最上段の棚に移動するとともに、基板Ｗが表面を上に向けた姿勢とされる（ステップＳ３−５）。上に凸の右半分が白色の三角形は、上に裏面を向けた姿勢の基板Ｗで、裏面だけが洗浄済であることを表す。 The lower inverted path portion 35D rotates to switch the top and bottom of the substrate W. As a result, the substrate W placed on the lowermost shelf in the lower inverted path portion 35D is moved to the uppermost shelf, and the substrate W is in a posture in which the surface is facing upward (step S3-5). .. The triangle with a white right half that is convex upward indicates that the substrate W is in a posture in which the back surface is facing upward, and that only the back surface has been cleaned.

上記の搬送例によると、基板処理装置１は、下部反転パスユニット３５において基板Ｗを１回だけ反転させて裏面の洗浄処理を行う。 According to the above transfer example, the substrate processing device 1 inverts the substrate W only once in the lower inversion pass unit 35 to perform the back surface cleaning process.

なお、上述した搬送例１〜３では、下段ＤＦにおける搬送例、つまり、下段反転パスユニット３５だけを使った搬送例について説明したが、上段ＵＦにおいて上段反転パスユニット３３だけを使った場合であっても、上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近い棚を使うことで上述したように洗浄処理を行うことができる。 In the above-mentioned transport examples 1 to 3, a transport example in the lower DF, that is, a transport example using only the lower inverted pass unit 35 has been described, but there is a case where only the upper inverted pass unit 33 is used in the upper UF. However, by using a shelf near the boundary between the upper UF and the lower DF, the cleaning process can be performed as described above.

上述したように、基板Ｗに対する洗浄処理を行う際には、１つのインデクサロボットＴＩＤが処理ブロック７との間で反転パスブロック５を介して基板Ｗを搬送する。その際に、上段反転パスユニット３３の上部反転パス部３３Ｕ、下部反転パス部３３Ｄ及び下段反転パスユニット３５の上部反転パス部３５Ｕ、下部反転パス部３５Ｄのうち、上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近いものを優先して基板Ｗを受け渡す。このように、１台のインデクサロボットＴＩＤからの反転パスブロック５への搬送を工夫することにより、１台のインデクサロボットＴＩＤにおける上下方向Ｚへの移動距離を短縮できる。その結果、１台のインデクサロボットのハンド２１の昇降に要する移動時間の短縮や、ハンド２１と反転パスブロック５との基板Ｗの受け渡しの際の位置合わせ精度の向上も期待できる。したがって、１台のインデクサロボットＴＩＤの動作状況に起因するスループットの低下を抑制できる。 As described above, when the substrate W is cleaned, one indexer robot TID conveys the substrate W to and from the processing block 7 via the inversion path block 5. At that time, at the boundary between the upper UF and the lower DF of the upper inverted pass portion 33U, the lower inverted pass portion 33D of the upper inverted pass unit 33, the upper inverted pass portion 35U of the lower inverted pass unit 35, and the lower inverted pass portion 35D. The substrate W is delivered with priority given to the closest one. In this way, by devising the transfer from one indexer robot TID to the inverted path block 5, the moving distance in the vertical direction Z of one indexer robot TID can be shortened. As a result, it is expected that the movement time required for raising and lowering the hand 21 of one indexer robot will be shortened, and the alignment accuracy when the board W is handed over between the hand 21 and the reversing pass block 5 will be improved. Therefore, it is possible to suppress a decrease in throughput due to the operating status of one indexer robot TID.

さらに、インデクサロボットＴＩＤは、そのハンド２１が、反転パスブロック５へのアクセスする前の待機状態では、上下方向Ｚにて上段ＵＦと下段ＤＦの境界に位置している。したがって、上段反転パスユニット３３や下段反転パスユニットへのアクセスの際の上下方向Ｚにおける移動距離を短縮できる。 Further, the indexer robot TID is located at the boundary between the upper UF and the lower DF in the vertical direction Z in the standby state before the hand 21 accesses the inverted path block 5. Therefore, it is possible to shorten the moving distance in the vertical direction Z when accessing the upper inverted pass unit 33 and the lower inverted pass unit.

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

（１）上述した実施例では、上段ＵＦ及び下段ＤＦにそれぞれ２個の反転パス部（上部反転パス部３３Ｕ、下部反転パス部３３Ｄ、上部反転パス部３５Ｕ、下部反転パス部３５Ｄ）を備え、上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近い上段反転パス部３５Ｕを優先的に使用している（第１の優先ルール）。しかしながら、例えば、上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近い下段反転パス部３３Ｄを使用するようにしてもよい。 (1) In the above-described embodiment, the upper UF and the lower DF are each provided with two inverted pass portions (upper inverted pass portion 33U, lower inverted pass portion 33D, upper inverted pass portion 35U, lower inverted pass portion 35D). The upper inverted pass portion 35U near the boundary between the upper UF and the lower DF is preferentially used (first priority rule). However, for example, the lower inversion path portion 33D near the boundary between the upper UF and the lower DF may be used.

（２）上述した実施例では、反転パスブロック５における上段反転パスユニット３３が上部反転パス部３３Ｕと下部反転パス部３３Ｄを備え、下段反転パスユニット３５が上部反転パス部３５Ｕと下部反転パス部３５Ｄを備えている。しかしながら、本発明は、このような構成に限定されない。つまり、上段反転パスユニット３３及び下部反転パスユニット３５が３個以上の反転パス部を備えている構成であってもよい。反転パスユニット３１が上段ＵＦと下段ＤＦにてそれぞれ３個の反転パス部で構成されている場合、つまり、上段ＵＦが上部反転パス部と、中央反転パス部と、下部反転パス部とで構成され、下段ＤＦが上部反転パス部、中央反転パス部と、下部反転パス部とで構成されている場合には、次のように優先的な使用を行えばよい（第２の優先ルール）。例えば、下段ＤＦでは、上部反転パス部だけでなく、中央反転パス部も下部反転パス部よりは上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近いので、中央反転パス部も優先的に使用すればよい。つまり、中央反転パス部も上部反転パス部の次に下部反転パス部よりは上段ＵＦと下段ＤＦの境界に近いので、近い順に使用していくようにする。 (2) In the above-described embodiment, the upper inverted pass unit 33 in the inverted pass block 5 includes an upper inverted pass portion 33U and a lower inverted pass portion 33D, and the lower inverted pass unit 35 has an upper inverted pass portion 35U and a lower inverted pass portion. It is equipped with 35D. However, the present invention is not limited to such a configuration. That is, the upper inverted pass unit 33 and the lower inverted pass unit 35 may be configured to include three or more inverted pass units. When the inversion pass unit 31 is composed of three inversion pass portions in the upper UF and the lower DF, that is, the upper inversion pass unit is composed of an upper inversion pass portion, a center inversion pass portion, and a lower inversion pass portion. When the lower DF is composed of an upper inverted pass portion, a central inverted pass portion, and a lower inverted pass portion, preferential use may be performed as follows (second priority rule). For example, in the lower DF, not only the upper inverted pass portion but also the central inverted pass portion is closer to the boundary between the upper UF and the lower DF than the lower inverted pass portion, so that the central inverted pass portion may be used preferentially. That is, since the center inverted pass portion is also closer to the boundary between the upper UF and the lower inverted pass portion than the lower inverted pass portion next to the upper inverted pass portion, it is used in the order of closeness.

さらに、中央反転パス部を優先的に使用する場合では、中央部反転パス部における回転軸Ｐ４を基準として、インデクサロボットＴＩＤが上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近い棚を優先して基板Ｗを受け渡すようにする。したがって、上部反転パス部、中央反転パス部、下部反転パス部のうち、境界に最も近いものが使えない状況であっても、上段及び下段の境界にできるだけ近い位置の棚を優先的に使うことになる。その結果、１台のインデクサロボットにおける上下方向への移動距離を確実に短縮できる。 Further, when the central inverted path portion is preferentially used, the indexer robot TID preferentially receives the substrate W on the shelf near the boundary between the upper UF and the lower DF with reference to the rotation axis P4 in the central inverted pass portion. Try to pass. Therefore, even if the one closest to the boundary cannot be used among the upper inverted pass section, the central inverted pass section, and the lower inverted pass section, the shelf at the position as close as possible to the upper and lower boundaries should be preferentially used. become. As a result, the moving distance in the vertical direction of one indexer robot can be surely shortened.

（３）上述した実施例では、１つのインデクサロボットＴＩＤのハンド２１が待機状態では上段ＵＦと下段ＤＦの境界に位置するとしているが、本発明はこのような構成に限定されない。例えば、境界でなくても、上段ＵＦの下段ＤＦに近い位置や、下段ＤＦの上段ＵＦに近い位置にハンド２１が待機するようにしてもよい。 (3) In the above-described embodiment, the hand 21 of one indexer robot TID is located at the boundary between the upper UF and the lower DF in the standby state, but the present invention is not limited to such a configuration. For example, the hand 21 may stand by at a position close to the lower DF of the upper UF or near the upper UF of the lower DF, even if it is not a boundary.

（４）上述した実施例では、センターロボットＣＲ２が処理ブロック７で処理を行った基板Ｗについて、上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近い下部反転パス部３５Ｕに優先的に基板Ｗを受け渡した。しかしながら、例えば、上段ＵＦ及び下段ＤＦの境界に近い下段反転パス部３３Ｄを使用するようにしてもよい。また、本発明は、この構成を必須とするものではなく、インデクサロボットＴＩＤだけが上述したような反転パス部の優先的使用を行うようにしてもよい。 (4) In the above-described embodiment, the substrate W processed by the processing block 7 by the center robot CR2 is preferentially delivered to the lower inverted path portion 35U near the boundary between the upper UF and the lower DF. However, for example, the lower inversion path portion 33D near the boundary between the upper UF and the lower DF may be used. Further, the present invention does not require this configuration, and only the indexer robot TID may preferentially use the inverted path portion as described above.

以上のように、本発明は、表面洗浄や裏面洗浄などの洗浄処理を行う基板処理装置に適している。 As described above, the present invention is suitable for a substrate processing apparatus that performs cleaning treatment such as front surface cleaning and back surface cleaning.

１ … 基板処理装置
３ … インデクサブロック
５ … 反転パスブロック
７ … 処理ブロック
９ … 搬送ブロック
１１ … ユーティリティブロック
Ｗ … 基板
ＳＳ … 表面洗浄ユニット
ＳＳＲ … 裏面洗浄ユニット
１３ … キャリア載置部
ＴＩＤ … インデクサロボット
Ｃ … キャリア
１５ … ガイドレール
１７ … 基台部
１７ａ … 基台部本体
１７ｂ … 固定アーム
ＳＰ … 空間
１９ … 多関節アーム
１９ａ … 第１アーム
１９ｂ … 第２アーム
１９ｃ … 第３アーム
Ｐ１〜Ｐ３ … 回転軸
２１ … ハンド
２１ａ〜２１ｄ … ハンド本体
ＶＬ … 仮想線
２５ … 載置フレーム
２７ … 載置懸架フレーム
２９ … 懸架フレーム
３１ … 反転パスユニット
３３ … 上段反転パスユニット
３５ … 下段反転パスユニット
３７，３９ … 固定具
４１ … ガイド部
４３ … 回転保持部
４５，４７ … 棚
４９ … 回転部材
Ｐ４ … 回転軸
ＵＦ … 上段
ＤＦ … 下段
ＰＵ … 処理ユニット
ＰＵ１１〜１４，ＰＵ２１〜２４，ＰＵ３１〜３４，ＰＵ４１〜４４ … 処理ユニット
ＴＷ１〜ＴＷ４ … タワーユニット
ＣＲ１，ＣＲ２ … センターロボット
ＣＴＳ … 搬送スペース 1… Board processing device 3… Indexer block 5… Inverted path block 7… Processing block 9… Conveying block 11… Utility block W… Board SS… Front surface cleaning unit SSR… Back surface cleaning unit 13… Carrier mounting part TID… Indexer robot C ... Carrier 15 ... Guide rail 17 ... Base 17a ... Base body 17b ... Fixed arm SP ... Space 19 ... Articulated arm 19a ... 1st arm 19b ... 2nd arm 19c ... 3rd arm P1 to P3 ... Rotating shaft 21… Hand 21a ~ 21d… Hand body VL… Virtual line 25… Mounting frame 27… Mounting suspension frame 29… Suspension frame 31… Inverted path unit 33… Upper inverted path unit 35… Lower inverted path unit 37, 39… Fixed Tool 41 ... Guide part 43 ... Rotation holding part 45, 47 ... Shelf 49 ... Rotating member P4 ... Rotating shaft UF ... Upper DF ... Lower PU ... Processing unit PU11-14, PU21-24, PU31-3, PU41-44 ... Processing Units TW1 to TW4 ... Tower units CR1, CR2 ... Center robot CTS ... Transport space

Claims (6)

基板を洗浄処理する基板処理装置において、
複数枚の基板を収容するキャリアが載置されるキャリア載置部を備え、前記キャリア載置部の前記キャリアとの間で基板を搬送する１つのインデクサロボットを備えたインデクサブロックと、
処理ユニットとして、基板の表面洗浄処理を行う表面洗浄ユニット及び基板の裏面洗浄処理を行う裏面洗浄ユニットを備え、上段と下段のそれぞれに前記処理ユニットを備えた処理ブロックと、
前記インデクサブロックと前記処理ブロックとの間に配置され、基板を載置する複数段の棚を備えているとともに、基板の表裏を反転させる反転機能を備えている反転パスブロックと、
を備え、
前記処理ブロックは、前記各処理ユニットと前記反転パスブロックとの間で基板を搬送するセンターロボットを前記上段及び前記下段のそれぞれに備え、
前記反転パスブロックは、前記上段に対応する複数個の反転パス部を備えた上段反転パスユニットと、前記下段に対応する複数個の反転パス部を備えた下段反転パスユニットとを備え、
前記インデクサロボットは、前記上段反転パスユニットの複数個の反転パス部及び前記下段反転パスユニットの複数個の反転パス部のうち、前記上段及び前記下段の境界に近いものを優先して、前記反転パス部に基板を受け渡すことを特徴とする基板処理装置。 In a substrate processing device that cleans a substrate
An indexer block including a carrier mounting portion on which a carrier accommodating a plurality of substrates is mounted, and one indexer robot for transporting the substrates to and from the carrier of the carrier mounting portion.
The processing unit includes a front surface cleaning unit that performs surface cleaning treatment of the substrate and a back surface cleaning unit that performs back surface cleaning treatment of the substrate, and a processing block having the processing units in each of the upper and lower stages.
An inversion path block, which is arranged between the indexer block and the processing block, has a plurality of shelves on which a substrate is placed, and has an inversion function for inversion of the front and back of the substrate.
With
The processing block is provided with a center robot for transporting a substrate between each processing unit and the inverted path block in each of the upper stage and the lower stage.
The inverted pass block includes an upper inverted pass unit having a plurality of inverted pass portions corresponding to the upper stage, and a lower inverted pass unit having a plurality of inverted pass portions corresponding to the lower stage.
The indexer robot gives priority to the plurality of inverting path portions of the upper inverting pass unit and the plurality of inverting path portions of the lower inverting path unit that are close to the boundary between the upper tier and the lower tier, and the inverting path portion. A substrate processing device characterized by delivering a substrate to a path portion. 請求項１に記載の基板処理装置において、
前記インデクサロボットは、前記反転パス部における回転軸を基準として、前記上段及び前記下段の境界に近い棚を優先して、前記反転パス部に基板を受け渡すことを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus according to claim 1,
The indexer robot is a substrate processing apparatus, characterized in that a substrate is delivered to the inverted pass portion by giving priority to a shelf near the boundary between the upper stage and the lower stage with reference to a rotation axis in the inverted pass portion. 請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記センターロボットは、前記処理ブロックで処理を行った基板について、前記上段反転パスユニットの複数個の反転パス部及び前記下段反転パスユニットの複数個の反転パス部のうち、前記上段及び前記下段の境界に近いものを優先して、前記反転パス部に基板を受け渡すことを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus according to claim 1 or 2.
With respect to the substrate processed by the processing block, the center robot has the upper and lower layers of the plurality of inverted path portions of the upper inverted pass unit and the plurality of inverted pass portions of the lower inverted pass unit. A substrate processing apparatus characterized in that a substrate close to a boundary is given priority and a substrate is delivered to the inversion path portion. 請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記インデクサロボットは、水平方向の位置が固定されて立設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って昇降移動する基台部と、前記基台部に配置された多関節アームと、前記多関節アームの先端部側のアームに基板を支持するハンドとを備え、
前記反転パスブロックへアクセスする前の待機状態では、前記ハンドが前記上段と前記下段の境界に位置することを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The indexer robot includes a guide rail erected with a fixed horizontal position, a base portion that moves up and down along the guide rail, and an articulated arm arranged on the base portion. The arm on the tip side of the joint arm is equipped with a hand that supports the board.
A substrate processing apparatus characterized in that, in a standby state before accessing the inverted path block, the hand is located at a boundary between the upper stage and the lower stage. 請求項１から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記反転パスブロックは、基板の表面洗浄処理を行うために前記表面洗浄ユニットだけを用いる場合には、基板を反転させず載置するだけであることを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The substrate processing apparatus is characterized in that, when only the surface cleaning unit is used to perform the surface cleaning treatment of the substrate, the inverted pass block is simply placed without inverting the substrate. 請求項１から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記反転パスブロックは、基板の表裏にわたる表裏洗浄処理を行うために前記表面洗浄ユニット及び前記裏面洗浄ユニットを用いる場合には、前記裏面洗浄ユニットへの搬入前及び前記表面洗浄ユニットへの搬入前であわせて基板を二回反転させることを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
When the front surface cleaning unit and the back surface cleaning unit are used to perform the front and back cleaning treatment over the front and back surfaces of the substrate, the inverted pass block is used before being carried into the back surface cleaning unit and before being carried into the front surface cleaning unit. A substrate processing device characterized in that the substrate is inverted twice at the same time.
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