JP2021004749A - 補正方法、補正装置および撮像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施形態に係る撮像装置1の構成例を示す図である。撮像装置1は、培地中で培養されたスフェロイドSp(細胞集塊)を対象物として断層撮像し、得られたデータからスフェロイドSpの断層画像または立体像を生成する。ここでは、培地M中に配置されたスフェロイドSpを対象物とした場合について説明するが、対象物はこれに限定されない。以下の各図における方向を統一的に示すために、図1に示すようにXYZ直交座標軸を定義する。ここでは、XY平面が水平面であり、Z軸が鉛直軸である。また、図1に示すXYZ直交座標軸において、矢印の先端が向く方が+(プラス)方向であり、その逆方向が−(マイナス)方向である。ここでは、−Z方向が鉛直下向きである。
ここで、補正係数について考察する。図14は、対象物の内部において、深さ方向に並ぶ複数の物体P1〜Pnを概念的に示す図である。ここでは、図14に示すように、n番目の物体Pnで反射した反射光L4の信号強度について検討する。
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
20,20A,20B 撮像ユニット
21 光源(電磁波源)
22,227 ビームスプリッタ(分割部)
23 物体光学系
26 光検出器
30 制御ユニット
33 信号処理部
38 補正処理部(設定部)
381 補正係数決定部
383 補正演算部
AX1 光軸
It1,It2 断層画像(反射電磁波強度分布)
L2 入射光(入射電磁波)
L3 参照光(参照電磁波)
L4 反射光(反射電磁波)
L5 干渉光(干渉電磁波)
LN1,LN2 直線(経路)
Sp スフェロイド(対象物)
Claims (10)
- 対象物で反射し、かつ、物体光学系によって集束された電磁波の信号強度に基づく深さ方向の反射電磁波強度分布を補正する補正方法であって、
(a) 前記反射電磁波強度分布において、補正対象位置を設定する工程と、
(b) 前記反射電磁波強度分布において、前記補正対象位置よりも前記物体光学系側の各位置の反射電磁波強度に関する値を積算して得られる積算値に基づき、補正係数を決定する工程と、
(c) 前記補正係数を前記補正対象位置の反射電磁波強度に乗じて、前記補正対象位置の反射電磁波強度の補正値を算出する工程と、
を含む、補正方法。
- 請求項1の補正方法であって、
前記工程(b)は、
前記補正対象位置よりも前記物体光学系側の位置であって、前記深さ方向に直交する平面に平行な平面方向に関して前記補正対象位置とは異なる位置の反射電磁波強度に関する値を積算することを含む、補正方法。
- 請求項2の補正方法であって、
前記工程(b)は、
前記補正対象位置を起点に設定される積算対象領域内の各位置の反射電磁波強度に関する値を積算することを含む、補正方法。
- 請求項3の補正方法であって、
前記積算対象領域は、前記補正対象位置から前記物体光学系側へ向けて前記平面方向へ広がる扇状を有する、補正方法。
- 請求項2から請求項4のいずれか1項の補正方法であって、
前記工程(b)は、
(b−1) 前記補正対象位置から前記物体光学系までの間を結ぶ複数の経路それぞれについて、前記積算値を求める工程、
を含む、補正方法。
- 請求項5の補正方法であって、
前記工程(b)は、
(b−2) 前記工程(c−1)によって求められる、前記複数の経路それぞれの積算値と、前記複数の経路それぞれの位置に応じた重み係数との積を算出する工程と、
(b−3) 前記工程(c−2)によって求められる、前記複数の経路それぞれの積を積算する工程と、
さらに含む、補正方法。
- 請求項6の補正方法であって、
前記工程(b−2)において、前記複数の経路それぞれの重み係数は、前記深さ方向に対する傾きが小さくなるほど大きくなる、補正方法。
- 請求項1から請求項7のいずれか1項の補正方法であって、
前記工程c)は、
(c−1) 前記補正係数を前記補正対象位置の反射電磁波強度に乗じた積値を算出する工程と、
(c−2) 前記工程(c−1)によって得られた前記積値を、所定の条件に従って正規化する工程、
をさらに含む、補正方法。
- 対象物で反射し、かつ、物体光学系によって集束された電磁波の信号強度に基づく深さ方向の反射電磁波強度分布を補正する補正装置であって、
前記反射電磁波強度分布において、補正対象位置を設定する設定部と、
前記反射電磁波強度分布において、前記補正対象位置よりも前記物体光学系側の各位置の反射電磁波強度に関する値を積算して得られる積算値に基づき、補正係数を決定する補正係数決定部と、
前記補正係数を前記補正対象位置の反射電磁波強度に乗じて、前記補正対象位置の反射電磁波強度の補正値を算出する補正部と、
を備える、補正装置。
- 対象物を撮像する撮像装置であって、
電磁波源から出射される電磁波を、照射用の電磁波と参照用の電磁波とに分割する分割部と、
前記照射用の電磁波を集束させて対象物に入射させるとともに、前記対象物で反射した電磁波を集束させる物体光学系と、
前記物体光学系によって集束された前記対象物からの電磁波と、前記参照用の電磁波との干渉電磁波を検出することによって、その干渉電磁波の信号強度に応じた干渉信号を出力する検出器と、
前記干渉信号を処理することによって、前記対象物で反射した電磁波の深さ方向の強度分布を表す反射電磁波強度分布を生成する信号処理部と、
請求項9に記載の補正装置と、
を備える、撮像装置。
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