JP2020536288A - 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置 - Google Patents

反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020536288A
JP2020536288A JP2020519766A JP2020519766A JP2020536288A JP 2020536288 A JP2020536288 A JP 2020536288A JP 2020519766 A JP2020519766 A JP 2020519766A JP 2020519766 A JP2020519766 A JP 2020519766A JP 2020536288 A JP2020536288 A JP 2020536288A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
antireflection film
particle size
hollow inorganic
inorganic particles
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020519766A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7191340B2 (ja
Inventor
ジンソク・ビョン
ジョン・ヒョン・ソ
クワンソク・ソ
ヨンレ・チャン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Publication of JP2020536288A publication Critical patent/JP2020536288A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7191340B2 publication Critical patent/JP7191340B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/416—Reflective
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/418—Refractive
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/107—Porous materials, e.g. for reducing the refractive index
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本発明は、ハードコート層；およびバインダー樹脂、および異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子を含む低屈折層を含み、動的光散乱法で測定された前記異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子は、少なくとも４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種とを含む反射防止フィルムおよびこれを含むディスプレイ装置に関する。

Description

関連出願との相互参照
本出願は、２０１８年１月２４日付の韓国特許出願第１０−２０１８−０００９００２号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置に関する。
一般に、ＰＤＰ、ＬＣＤなどの平板ディスプレイ装置には外部から入射する光の反射を最小化するための反射防止フィルムが装着される。光の反射を最小化するための方法には、樹脂に無機微粒子などのフィラーを分散させて基材フィルム上にコーティングし凹凸を付与する方法（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ：ＡＧコーティング）；基材フィルム上に屈折率の異なる複数の層を形成させて光の干渉を利用する方法（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲコーティング）、またはこれらを混用する方法などがある。
そのうち、前記ＡＧコーティングの場合、反射する光の絶対量は一般的なハードコートと同等の水準であるが、凹凸を通した光の散乱を利用して目に入る光の量を低減することによって低反射効果を得ることができる。しかし、前記ＡＧコーティングは、表面の凹凸によって画面の鮮明度が低下するため、最近はＡＲコーティングに関する多くの研究が行われている。
前記ＡＲコーティングを用いたフィルムとしては、基材フィルム上にハードコート層（高屈折率層）、低反射コーティング層などが積層された多層構造のものが商用化されている。しかし、既存のＡＲコーティングを用いたフィルムは、外部からの擦りや摩擦などによって損傷した部分で反射率が上昇するという欠点がある。これにより、外部の影響によって損傷しても反射率が上昇しない反射防止フィルムを得るために多くの研究が行われている。
本発明は、高い耐摩耗性および耐スクラッチ性などの機械的物性と優れた光学特性を有しながらも、外部の擦りや摩擦などによる反射率の上昇を効果的に抑制する反射防止フィルムを提供する。
また、本発明は、前記反射防止フィルムを含み、高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置を提供する。
本明細書では、ハードコート層；およびバインダー樹脂、および動的光散乱法（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ、ＤＬＳ）で測定された異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子を含む低屈折層を含み、前記異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子は、少なくとも４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種とを含む、反射防止フィルムが提供される。
また、本明細書では、前記反射防止フィルムを含む偏光板が提供される。
さらに、本明細書では、前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。
以下、発明の具体的な実施形態による反射防止フィルムおよびこれを含むディスプレイ装置に関してより詳しく説明する。
本明細書において、（メタ）アクリレート［（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ］は、アクリレート（ａｃｒｙｌａｔｅ）およびメタクリレート（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）両方ともを含む意味である。
また、光硬化性樹脂は、光の照射によって、例えば、可視光線または紫外線の照射によって重合される高分子樹脂を通称する。
さらに、フッ素系化合物は、化合物のうちの少なくとも１つ以上のフッ素元素が含まれている化合物を意味する。
前記一実施形態によれば、ハードコート層；およびバインダー樹脂、および動的光散乱法で測定された異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子を含む低屈折層を含み、前記異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子は、少なくとも４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種とを含む、反射防止フィルムが提供される。
本発明者らの研究の結果、動的光散乱法で測定された粒径が異なる２種以上の中空状無機粒子を低屈折層のバインダー樹脂に含む反射防止フィルムの場合、相対的に粒径が大きい中空状無機粒子の間に相対的に粒径が小さい中空状無機粒子が配置されて前記低屈折層に含まれている中空状無機粒子の配列が理想的になり、外部からの擦りや摩擦による反射率の上昇を防止できると同時に、耐摩耗性、耐スクラッチ性などの物性を確保することができ、さらに、前記反射防止フィルムがディスプレイ装置の画面の鮮明度を高めながらも優れた機械的物性を示し得るという点を、実験を通して確認して、発明を完成した。
また、前記低屈折層に含まれる中空状無機粒子は、内部に中空部を有する微粒子で、このような中空部に屈折率が１．０の空気を含有しているため、約１．２０〜１．４０の低い屈折率を有し得て、これを低屈折層に含む場合、低屈折層に含まれる中空状無機粒子の密度が高くても低屈折層の屈折率を低く制御することができ、これによる低反射率を図ることができる。
さらに、前記４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種との間の重量比は、７：３〜３：７、６：４〜４：６、または６．５：４．５〜５：５であってもよい。前記重量比範囲を満足しなければ、中空状無機粒子の配列が乱れて外部の擦りや摩擦によるコーティング層の損傷で反射率が上昇する。
前記一実施形態による反射防止フィルムの特性は、前記４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種とを７：３〜３：７の重量比で含む低屈折層の特性などによるもので、前記低屈折層に含まれている中空状無機粒子の配列が理想的になり、摩擦が作用する時、ストレスを最小化できて、外部からの擦りや摩擦が加えられて損傷しても損傷した部分の反射率が高くなることを抑制することができる。
前記異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子は、少なくとも４０ｎｍ〜６０ｎｍ、４２〜６０ｎｍ、または４５〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、６５ｎｍ〜１００ｎｍ、６５ｎｍ〜９５ｎｍ、または６５ｎｍ〜９０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種を含むことができる。
前記４０ｎｍ〜６０ｎｍ、４２ｎｍ〜６０ｎｍ、または４５ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種の粒径が４０ｎｍ未満であれば、前記低屈折層の屈折率が高くなって反射率が高くなりうる。
前記６５ｎｍ〜１００ｎｍ、６５ｎｍ〜９５ｎｍ、または６５ｎｍ〜９０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種の粒径が１００ｎｍを超えると、低屈折層の強度が弱くなって耐スクラッチ性が低下する。
前記中空状無機粒子の粒径は、通常知られた方法により確認可能であり、例えば、動的光散乱（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ、ＤＬＳ）などにより確認可能である。
前記４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種の平均粒径と、前記６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種の平均粒径との間の平均粒径の差は、５ｎｍ〜６０ｎｍ、７ｎｍ〜４０ｎｍ、または８ｎｍ〜３０ｎｍであってもよい。前記粒径の差が過度に小さいか、大きければ、前記低屈折層が外部の擦りや摩擦などによって損傷した部分の反射率が上昇しうる。
前記バインダー樹脂１００重量部に対して、前記２種以上の中空状無機粒子の含有量は、３０〜５００重量部、５０〜４５０重量部、または６０〜４００重量部であってもよい。前記含有量が３０重量部未満であれば、前記低屈折層の反射率が高くなり、５００重量部を超えると、バインダー樹脂の含有量の低下によって耐スクラッチ性が低下したり、外部の擦りや摩擦などによって損傷した部分の反射率が上昇しうる。
一方、前記中空状無機粒子それぞれは、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有することができる。前記中空状無機粒子それぞれが表面に上述した反応性官能基を含有することによって、前記低屈折層はより高い架橋度を有することができ、これにより、外部の擦りや摩擦などによって損傷した部分の反射率の上昇を効果的に抑制することができ、さらに、より向上した耐スクラッチ性および防汚性を確保することができる。
また、前記中空状無機粒子は、その表面がフッ素系化合物でコーティングされる。前記中空状無機粒子の表面をフッ素系化合物でコーティングすれば、表面エネルギーをより低くし、これにより、前記低屈折層の耐久性や耐スクラッチ性をより高めることができる。
前記中空状無機粒子の表面にフッ素系化合物をコーティングする方法として、通常知られた粒子コーティング方法や重合方法などを大きな制限なく使用可能であり、例えば、前記中空状無機粒子およびフッ素系化合物を水と触媒の存在下でゾル−ゲル反応させて、加水分解および縮合反応により前記中空状無機粒子の表面にフッ素系化合物を結合させることができる。
前記中空状無機粒子の具体例としては、中空シリカ粒子が挙げられる。前記中空シリカは、有機溶媒により容易に分散するために、表面に置換された所定の官能基を含むことができる。前記中空シリカ粒子の表面に置換可能な有機官能基の例は大きく限定されるものではなく、例えば、（メタ）アクリレート基、ビニル基、ヒドロキシ基、アミン基、アリル基（ａｌｌｙｌ）、エポキシ基、ヒドロキシ基、イソシアネート基、アミン基、またはフッ素などが前記中空シリカの表面に置換されてもよい。
前記バインダー樹脂は、光重合性化合物；および光反応性官能基を含むフッ素系化合物間の架橋重合体を含むことができる。前記低屈折層のバインダー樹脂に前記架橋重合体が含まれることによって、より低い反射率および向上した透光率を有することができ、同時に、外部の擦りや摩擦などによって損傷した部分の反射率の上昇を効果的に抑制することができる。
前記光重合性化合物は、光が照射されると、例えば、可視光線または紫外線が照射されると、重合反応を起こす化合物であり、前記光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。具体的には、前記光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を１以上、または２以上、または３以上含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。
前記（メタ）アクリレートを含む単量体またはオリゴマーの具体例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、またはこれらの２種以上の混合物や、またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。この時、前記オリゴマーの分子量は、１，０００〜１０，０００のものが好ましい。
前記ビニル基を含む単量体またはオリゴマーの具体例としては、ジビニルベンゼン、スチレン、またはパラメチルスチレンが挙げられる。
前記フッ素系化合物には１以上の光反応性官能基が含まれるか、置換されてもよいし、前記光反応性官能基は、光の照射によって、例えば、可視光線または紫外線の照射によって重合反応に参加できる官能基を意味する。前記光反応性官能基は、光の照射によって重合反応に参加できると知られた多様な官能基を含むことができ、その具体例としては、（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、またはチオール基（Ｔｈｉｏｌ）が挙げられる。
前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物は、０．１〜５０重量％、０．３〜４０重量％、または０．５〜３０重量％のフッ素を含むことができる。前記フッ素の含有量が０．１重量％未満であれば、前記低屈折層の表面にフッ素成分が十分に配列できず表面スリップ性が低下し、５０重量％超過であれば、耐スクラッチ特性が低下したり、外部の擦りや摩擦などによって損傷した部分の反射率が上昇しうる。
前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物は、ケイ素またはケイ素化合物をさらに含んでもよい。つまり、前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物は、選択的に内部にケイ素またはケイ素化合物を含有することができ、具体的には、前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物中のケイ素の含有量は、０．１〜２０重量％、０．５〜１８重量％、または１〜１５重量％であってもよい。前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物に含まれるケイ素は、前記低屈折層にヘイズ（ｈａｚｅ）が発生するのを防止して透明度を高める役割を果たすことができる。一方、前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物中のケイ素の含有量が過度に大きくなると、前記低屈折層が有する耐アルカリ性が低下しうる。
前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物は、２，０００〜２００，０００、３，０００〜１８０，０００、または４，０００〜１７０，０００の重量平均分子量（ＧＰＣ法により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量）を有することができる。前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物の重量平均分子量が２，０００未満であれば、前記低屈折層の表面にフッ素成分が十分に配列できず表面スリップ性が低下し、２００，０００超過であれば、前記低屈折層の耐スクラッチ特性が低下したり、外部の擦りや摩擦などによって損傷した部分の反射率が上昇し、同時に、前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物と他の成分との間の相溶性が低くなって、前記低屈折層の製造時に均一な分散がされず、最終製品の内部構造または表面特性が低下しうる。
具体的には、前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物は、ｉ）１つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも１つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素がフッ素に置換され、１つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）１つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも１つのケイ素に１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子（例えば、ポリジメチルシロキサン系高分子）；ｉｖ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも１つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物、または前記ｉ）〜ｉｖ）のうちの２以上の混合物またはこれらの共重合体が挙げられる。
前記低屈折層は、屈折率が１．２〜１．５５、１．２５〜１．４５、または１．３〜１．４３であってもよい。
一方、前記低屈折層は、粒径が異なる２種以上の中空状無機粒子；光重合性化合物；および光反応性官能基を含むフッ素系化合物を含む光重合性コーティング組成物を所定の基材上に塗布し、塗布された結果物を光重合することによって得られる。前記基材の具体的な種類や厚さは大きく限定されるものではなく、ハードコート層または反射防止フィルムの製造に使用されると知られた基材を大きな制限なく使用可能である。
一方、前記光重合性コーティング組成物を塗布するのに通常使用される方法および装置を格別の制限なく使用可能であり、例えば、Ｍｅｙｅｒ ｂａｒなどのバーコーティング法、グラビアコーティング法、２ロールリバース（２ｒｏｌｌ ｒｅｖｅｒｓｅ）コーティング法、バキュームスロットダイ（ｖａｃｕｕｍ ｓｌｏｔ ｄｉｅ）コーティング法、２ロール（２ｒｏｌｌ）コーティング法などを使用することができる。
前記光重合性コーティング組成物を光重合させる段階では、２００〜４００ｎｍ波長の紫外線または可視光線を照射することができ、照射時の露光量は、１００〜４，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。露光時間も特に限定されるものではなく、使用される露光装置、照射光線の波長または露光量に応じて適切に変化させることができる。また、前記光重合性コーティング組成物を光重合させる段階では、窒素大気条件を適用するために、窒素パージングなどを行うことができる。
前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ波長領域での平均反射率が３％未満、２．５％以下、２％以下であってもよい。
一方、前記ハードコート層は、通常知られたハードコート層を大きな制限なく使用可能である。前記ハードコート層の一例として、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子を含むハードコート層であってもよい。
上述した低屈折層は、前記ハードコート層の一面に形成され、また、前記低屈折層とハードコート層との間には追加的な機能層がさらに含まれてもよい。
前記光硬化性樹脂は、先に言及したように、光の照射によって、例えば、可視光線または紫外線の照射によって重合された高分子樹脂であり、例えば、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレート、およびポリエーテルアクリレートからなる反応性アクリレートオリゴマーの群；およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチレンプロピルトリアクリレート、プロポキシ化グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチルプロパンエトキシトリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、プロポキシ化グリセロールトリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、およびエチレングリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体の群より選択される１種以上を含むことができる。
前記有機または無機微粒子は、粒径が具体的に限定されるものではないが、例えば、有機微粒子は、１〜１０μｍの粒径を有することができ、前記無機微粒子は、１ｎｍ〜５００ｎｍ、または１ｎｍ〜３００ｎｍの粒径を有することができる。
また、前記ハードコート層に含まれる有機または無機微粒子の具体例が限定されるものではないが、例えば、前記有機または無機微粒子は、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシド樹脂、およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ジルコニウム、および酸化亜鉛からなる無機微粒子であってもよい。
一方、前記ハードコート層の他の例として、光硬化性樹脂のバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散した帯電防止剤を含むハードコート層が挙げられる。
前記帯電防止剤は、４級アンモニウム塩化合物、導電性高分子、またはこれらの混合物であってもよい。ここで、前記４級アンモニウム塩化合物は、分子内に１つ以上の４級アンモニウム塩基を有する化合物であってもよいし、低分子型または高分子型を制限なく使用することができる。また、前記導電性高分子としては、低分子型または高分子型を制限なく使用することができ、その種類は、本発明の属する技術分野における通常のものでもよいので、特に制限されない。
前記光重合性樹脂のバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散した帯電防止剤を含むハードコート層は、アルコキシシラン系オリゴマーおよび金属アルコキシド系オリゴマーからなる群より選択される１種以上の化合物をさらに含んでもよい。
前記アルコキシシラン系化合物は、当業界における通常のものでもよいが、好ましくは、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、およびグリシドキシプロピルトリエトキシシランからなる群より選択される１種以上の化合物であってもよい。
また、前記金属アルコキシド系オリゴマーは、金属アルコキシド系化合物および水を含む組成物のゾル−ゲル反応により製造することができる。前記ゾル−ゲル反応は、前述したアルコキシシラン系オリゴマーの製造方法に準ずる方法で行うことができる。ただし、前記金属アルコキシド系化合物は、水と急激に反応可能なため、前記金属アルコキシド系化合物を有機溶媒に希釈した後、水をゆっくりドロッピングする方法で前記ゾル−ゲル反応を行うことができる。この時、反応効率などを勘案して、水に対する金属アルコキシド化合物のモル比（金属イオン基準）は、３〜１７０の範囲内で調節することが好ましい。
ここで、前記金属アルコキシド系化合物は、チタニウムテトラ−イソプロポキシド、ジルコニウムイソプロポキシド、およびアルミニウムイソプロポキシドからなる群より選択される１種以上の化合物であってもよい。
一方、前記反射防止フィルムは、前記ハードコート層の他の一面に結合された基材をさらに含んでもよい。前記基材は、光透過度が９０％以上、ヘイズ１％以下の透明フィルムであってもよい。また、前記基材の素材は、トリアセチルセルロース、シクロオレフィン重合体、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートなどであってもよい。さらに、前記基材フィルムの厚さは、生産性などを考慮して、１０〜３００μｍであってもよいが、これに限定するものではない。
より具体的には、前記反射防止フィルムは、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定される厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が３，０００ｎｍ以上、または５，０００ｎｍ以上、または５，０００ｎｍ〜２０，０００ｎｍの光透過性基材をさらに含んでもよい。
このような光透過性基材の具体例としては、一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。
前記反射防止フィルムが前記波長４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定される厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が３，０００ｎｍ以上、または５，０００ｎｍ以上、または５，０００ｎｍ〜２０，０００ｎｍの光透過性基材を含む場合、３０００ｎｍ以下のレターデーションを使用する場合に比べて可視光線の干渉によるレインボー現象が緩和できる。
厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、通常知られた測定方法および測定装置により確認することができる。例えば、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の測定装置としては、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の商品名「アクソスキャン（ＡｘｏＳｃａｎ）」などが挙げられる。
例えば、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の測定条件としては、前記光透過性基材フィルムに対して、屈折率（５８９ｎｍ）値を前記測定装置に入力した後、温度：２５℃、湿度：４０％の条件下、波長５９０ｎｍの光を用いて、光透過性基材フィルムの厚さ方向のレターデーションを測定し、求められた厚さ方向のレターデーション測定値（測定装置の自動測定（自動計算）による測定値）に基づいて、フィルムの厚さ１０μｍあたりのレターデーション値に換算することによって求められる。さらに、測定試料の光透過性基材のサイズは、測定装置のステージの測光部（直径：約１ｃｍ）よりも大きければよいので、特に制限されないが、縦：７６ｍｍ、横５２ｍｍ、厚さ１３μｍの大きさにすることができる。
また、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の測定に用いる「前記光透過性基材の屈折率（５８９ｎｍ）」の値は、レターデーションの測定対象になるフィルムを形成する光透過性基材と同じ種類の樹脂フィルムを含む未延伸フィルムを形成した後、このような未延伸フィルムを測定試料として用い（また、測定対象となるフィルムが未延伸フィルムの場合には、そのフィルムをそのまま測定試料として使用できる）、測定装置として屈折率測定装置（株式会社アタゴ製の商品名「ＮＡＲ−１Ｔ ＳＯＬＩＤ」）を用い、５８９ｎｍの光源を用い、２３℃の温度条件で、測定試料の面内方向（厚さ方向とは垂直な方向）の５８９ｎｍの光に対する屈折率を測定して求められる。
発明の他の実施形態によれば、上述した一実施形態の反射防止フィルムを含む偏光板が提供される。
前記偏光板は、偏光膜と、前記偏光膜の少なくとも一面に形成された反射防止フィルムとを含むことができる。
前記偏光膜の材料および製造方法は特に限定せず、当技術分野で知られている通常の材料および製造方法を使用することができる。例えば、前記偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光膜であってもよい。
前記偏光膜と反射防止フィルムとの間には保護フィルムが備えられる。
前記保護フィルムの例が限定されるものではなく、例えば、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー、ｃｙｃｌｏｏｌｅｆｉｎ ｐｏｌｙｍｅｒ）系フィルム、アクリル系フィルム、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース、ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）系フィルム、ＣＯＣ（シクロオレフィンコポリマー、ｃｙｃｌｏｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）系フィルム、ＰＮＢ（ポリノルボルネン、ｐｏｌｙｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅ）系フィルム、およびＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）系フィルムのうちのいずれか１つ以上であってもよい。
前記保護フィルムは、前記反射防止フィルムの製造時、単一コーティング層を形成するための基材がそのまま使用されてもよい。
前記偏光膜と前記反射防止フィルムとは、水系接着剤または非水系接着剤などの接着剤によって貼り合わされる。
発明のさらに他の実施形態によれば、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。
前記ディスプレイ装置の具体例が限定されるものではなく、例えば、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマディスプレイ装置、有機発光ダイオード装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などの装置であってもよい。
一つの例として、前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスタ、カラーフィルタおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置であってもよい。
前記ディスプレイ装置において、前記反射防止フィルムは、ディスプレイパネルの観測者側またはバックライト側の最外殻の表面に備えられる。
前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置は、一対の偏光板のうち相対的にバックライトユニットと距離の遠い偏光板の一面に反射防止フィルムが位置することができる。
また、前記ディスプレイ装置は、ディスプレイパネルと、前記パネルの少なくとも一面に備えられた偏光膜と、前記偏光膜のパネルと接する反対側の面に備えられた反射防止フィルムとを含むことができる。
本発明によれば、高い耐摩耗性および耐スクラッチ性などの機械的物性と優れた光学特性を有しながらも、外部の擦りや摩擦などによって損傷した部分の反射率の上昇を効果的に抑制する反射防止フィルムと、前記反射防止フィルムを含む偏光板と、前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置を提供することができる。
発明を下記の実施例でより詳しく説明する。ただし、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例によって限定されるものではない。
＜製造例１〜３：ハードコート層の製造＞
製造例１
ペンタエリスリトールトリアクリレート３０ｇ、高分子量共重合体（ＢＥＡＭＳＥＴ３７１、Ａｒａｋａｗａ社、エポキシアクリレート（分子量４０，０００）２．５ｇ、メチルエチルケトン２０ｇ、およびレベリング剤（Ｔｅｇｏ ｗｅｔ２７０）０．５ｇを均一に混合されるように混合した後に、屈折率が１．５２５のアクリル−スチレン共重合体樹脂微粒子（体積平均粒径：２μｍ、製造会社：Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ）２ｇを添加して、ハードコート組成物を製造した。
このように得られたハードコート組成物をトリアセチルセルロースフィルムに＃１０ｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングし、９０℃で１分乾燥した。このような乾燥物に１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、４μｍの厚さを有するハードコート層を製造した。
製造例２
製造例１のハードコート組成物を厚さ８０μｍ、レターデーション１００００ｎｍのＰＥＴフィルムに＃１０ｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングし、６０℃で１分乾燥した。このような乾燥物に１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、４μｍの厚さを有するハードコート層を製造した。
製造例３
ＫＹＯＥＩＳＨＡ社の塩タイプの帯電防止ハードコート液（固形分５０重量％、製品名：ＬＪＤ−１０００）をトリアセチルセルロースフィルムに＃１０ｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングし、９０℃で１分乾燥した後、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、約５μｍの厚さを有するハードコート層を製造した。
＜実施例１〜６：反射防止フィルムの製造＞
実施例１
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：５８．４ｎｍ）３５重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：６７．２ｎｍ）７５重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９０７、ＤＩＣ）１０重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）１２．１重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度２．９重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
前記製造例１のハードコートフィルム上に、光硬化性コーティング組成物を＃４ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０〜１２０ｎｍとなるようにコーティングし、６０℃で１分間乾燥および硬化した。前記硬化時には、窒素パージング下、前記乾燥したコーティング物に２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
実施例２
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：５５．１ｎｍ）４７重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：７２．３ｎｍ）７５重量部、ソリッド状シリカナノ粒子（直径：約１５ｎｍ）６１重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９２３、ＤＩＣ）３３重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）３１重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度３．３重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
実施例１の光硬化性コーティング組成物の代わりに前記光硬化性コーティング組成物を用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
実施例３
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：４９．３ｎｍ）１２０．４重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：８３．３ｎｍ）５１．６重量部、ソリッド状シリカナノ粒子（直径：約１８ｎｍ）１４７重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９０７、ＤＩＣ）１２重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）１３．５重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度２．７重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
実施例１の光硬化性コーティング組成物の代わりに前記光硬化性コーティング組成物を用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
実施例４
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：４３．５ｎｍ）５６．８重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：８５．８ｎｍ）８５．２重量部、ソリッド状シリカナノ粒子（直径：約１３ｎｍ）１０９重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９０７、ＤＩＣ）１１．２重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）９．４重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度３．１重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
前記製造例２のハードコートフィルム上に、光硬化性コーティング組成物を＃４ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０〜１２０ｎｍとなるようにコーティングし、６０℃で１分間乾燥および硬化した。前記硬化時には、窒素パージング下、前記乾燥したコーティング物に２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
実施例５
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：５１．１ｎｍ）１１０．７重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：９１．１ｎｍ）２５８．３重量部、ソリッド状シリカナノ粒子（直径：約１２ｎｍ）６７重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９２３、ＤＩＣ）１２０重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｃｉｂａ社）３３重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度２．８重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
実施例４の光硬化性コーティング組成物の代わりに前記光硬化性コーティング組成物を用いたことを除けば、実施例４と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
実施例６
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：５５．７ｎｍ）１１２．２重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：８６．１ｎｍ）７４．８重量部、ソリッド状シリカナノ粒子（直径：約１８ｎｍ、Ｃ７８４）５３重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９０７、ＤＩＣ）７５重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）１６．９重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度３．０重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
実施例４の光硬化性コーティング組成物の代わりに前記光硬化性コーティング組成物を用いたことを除けば、実施例４と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
＜比較例１〜５：反射防止フィルムの製造＞
比較例１
第１および第２中空状シリカナノ粒子の代わりにＤＬＳ測定直径が６７．２ｎｍの中空状シリカナノ粒子１１０重量部のみを用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
比較例２
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：５５．１ｎｍ）１２．２重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：７２．３ｎｍ）１０９．８重量部、ソリッド状シリカナノ粒子（直径：約１５ｎｍ）６１重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９２３、ＤＩＣ）３３重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）３１重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度３．３重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
前記製造例１のハードコートフィルム上に、光硬化性コーティング組成物を＃４ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０〜１２０ｎｍとなるようにコーティングし、６０℃で１分間乾燥および硬化した。前記硬化時には、窒素パージング下、前記乾燥したコーティング物に２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
比較例３
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００重量部に対して、第１中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：４９．３ｎｍ）１３７．６重量部、第２中空状シリカナノ粒子（ＤＬＳ測定直径：８３．３ｎｍ）３４．４重量部、ソリッド状シリカナノ粒子（直径：約１８ｎｍ）１４７重量部、フッ素系化合物（ＲＳ−９０７、ＤＩＣ）１２重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｃｉｂａ社）１３．５重量部を、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン、ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）溶媒に固形分濃度２．７重量％となるように希釈して、光硬化性コーティング組成物を製造した。
比較例２の光硬化性コーティング組成物の代わりに前記光硬化性コーティング組成物を用いたことを除けば、比較例２と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
比較例４
第１および第２中空状シリカナノ粒子の代わりにＤＬＳ測定直径が５８．４ｎｍの中空状シリカナノ粒子１４２重量部のみを用いたことを除けば、実施例４と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
比較例５
第１および第２中空状シリカナノ粒子の代わりにＤＬＳ測定直径が８３．３ｎｍの中空状シリカナノ粒子１４２重量部のみを用いたことを除けば、実施例４と同様の方法で反射防止フィルムを製造した。
評価
１．動的光散乱法を利用した中空シリカの粒径の測定
中空シリカ粒子がＭＩＢＫに０．１ｗｔ％の濃度となるように希釈した後、Ｏｔｓｕｋａ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社のＥＬＳＺ−２０００装備を用いて、次の条件で粒径を測定する。希釈条件で希釈溶媒はＭＩＢＫに設定する。
−測定条件
Ｕｐｐｅｒ ｄｕｓｔ ｌｉｍｉｔ（％）：１００
Ｄｕｓｔ Ｌｉｍｉｔ：１０
Ｏｐｔｉｍｕｍ Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ：８００００
Ｍａｘｉｍｕｍ Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ：１０００００
Ｍｉｎｉｍｕｍ Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ：３０００
Ｐｉｎｈｏｌｅ（μｍ）：５０
２．摩擦による反射率上昇の測定
Ｂｒｉｗａｘ社のスチールウール（＃００００）に５００ｇの荷重をかけて２７ｒｐｍの速度で１０回往復して、実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面の摩擦（ｒｕｂｂｉｎｇ）試験を進行させた。摩擦試験前後の平均反射率の測定により反射率上昇量（変化量）を確認した。反射率の測定は次の通りである。前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの摩擦試験を経た後、フィルムの裏面を暗色処理した後に、Ｓｏｌｉｄｓｐｅｃ３７００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ）のＲｅｆｌｅｃｔａｎｃｅモードを用いて、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ波長領域での平均反射率を測定した。変化量測定のために、摩擦試験前の平均反射率も測定し、その結果を下記表１に示した。
３．耐スクラッチ性の測定
スチールウール（＃００００）に荷重をかけて２７ｒｐｍの速度で１０回往復して、実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面を擦った。肉眼で観察される１ｃｍ以下のスクラッチ１個以下が観察される最大荷重を測定し、その結果を下記表１に示した。
４．防汚性の測定
実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面に黒い油性ペンで５ｃｍの長さの直線を描いて、無塵布を用いて擦った時の消される回数を確認して防汚性を測定し、その結果を下記表１に示した。
＜測定基準＞
Ｏ：消される時点が１０回以下
△：消される時点が１１回〜２０回
Ｘ：消される時点が２０回超過
Figure 2020536288
前記表３によれば、実施例１〜６の反射防止フィルムは、比較例１〜５の反射防止フィルムに比べて摩擦による反射率の上昇を抑制する効果に優れていることを確認した。

Claims (11)

  1. ハードコート層；および
    バインダー樹脂、および異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子を含む低屈折層を含み、
    動的光散乱法（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ、ＤＬＳ）で測定された前記異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子は、少なくとも４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種とを含む、反射防止フィルム。
  2. 前記４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種と、前記６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種との間の重量比は、７：３〜３：７である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  3. 前記４０ｎｍ〜６０ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種の平均粒径と、前記６５ｎｍ〜１００ｎｍの粒径を有する中空状無機粒子１種の平均粒径との間の平均粒径の差は、５〜６０ｎｍである、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
  4. 前記異なる粒径を有する２種以上の中空状無機粒子は、含有量が、前記バインダー樹脂１００重量部に対して、３０〜５００重量部である、請求項１から３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
  5. 前記バインダー樹脂は、光重合性化合物；および光反応性官能基を含むフッ素系化合物間の架橋重合体を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
  6. 前記低屈折層は、屈折率が１．２〜１．５５である、請求項１から５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
  7. 前記ハードコート層は、光硬化性樹脂を含むバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
  8. 前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ波長領域での平均反射率が３％未満である、請求項１から７のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
  9. 波長４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定される厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が３，０００ｎｍ以上の光透過性基材をさらに含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
  10. 請求項１から９のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを含む偏光板。
  11. 請求項１から９のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを含むディスプレイ装置。
JP2020519766A 2018-01-24 2019-01-15 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置 Active JP7191340B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180009002A KR102267594B1 (ko) 2018-01-24 2018-01-24 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR10-2018-0009002 2018-01-24
PCT/KR2019/000602 WO2019146949A1 (ko) 2018-01-24 2019-01-15 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020536288A true JP2020536288A (ja) 2020-12-10
JP7191340B2 JP7191340B2 (ja) 2022-12-19

Family

ID=67395448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020519766A Active JP7191340B2 (ja) 2018-01-24 2019-01-15 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11428848B2 (ja)
EP (1) EP3677426A4 (ja)
JP (1) JP7191340B2 (ja)
KR (1) KR102267594B1 (ja)
CN (1) CN111212733B (ja)
TW (1) TWI826414B (ja)
WO (1) WO2019146949A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021515273A (ja) * 2018-05-18 2021-06-17 エルジー・ケム・リミテッド 反射防止フィルム、偏光板、およびディスプレイ装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102194998B1 (ko) 2018-06-26 2020-12-24 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR20210152067A (ko) * 2020-06-05 2021-12-15 삼성디스플레이 주식회사 색 제어 부재 및 이를 포함하는 표시 장치
CN114415270B (zh) * 2021-12-30 2024-02-02 安徽飞谚新材料科技有限公司 光学组件以及包含该光学组件的电子设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050106333A1 (en) * 2003-11-18 2005-05-19 Lehmann Maria J. Anti-reflective optical film for display devices
KR20060031941A (ko) * 2004-10-11 2006-04-14 제일모직주식회사 반사방지 필름의 고굴절층 코팅용 조성물
JP2008089969A (ja) * 2006-10-02 2008-04-17 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置
JP2009035594A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料
JP2014059368A (ja) * 2012-09-14 2014-04-03 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
WO2016084729A1 (ja) * 2014-11-25 2016-06-02 東洋紡株式会社 液晶表示装置及び偏光板
JP2016155992A (ja) * 2014-06-30 2016-09-01 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 樹脂膜、光学部材および偏光部材
WO2017078428A1 (ko) * 2015-11-04 2017-05-11 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7374812B2 (en) 2004-12-30 2008-05-20 3M Innovative Properties Company Low refractive index coating composition for use in antireflection polymer film coatings and manufacturing method
US20060147729A1 (en) 2004-12-30 2006-07-06 3M Innovative Properties Company Transferable antireflection material for use on optical display
JP2008527076A (ja) 2004-12-30 2008-07-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 反射防止ポリマー膜コーティングにおいて使用するための低屈折率コーティング組成物および製造方法
KR100710961B1 (ko) 2005-05-06 2007-04-24 주식회사 수성케미칼 제전기능 방현필름의 제조방법
JP4723974B2 (ja) 2005-10-24 2011-07-13 日立マクセル株式会社 光学フィルムの製造方法
TW200728763A (en) 2005-10-24 2007-08-01 Hitachi Maxell Optical thin film and manufacturing method thereof
JP5252811B2 (ja) 2006-05-16 2013-07-31 日東電工株式会社 防眩性ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置
JP5526468B2 (ja) 2006-09-29 2014-06-18 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP2009086360A (ja) 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム
KR20090044089A (ko) 2007-10-31 2009-05-07 금호석유화학 주식회사 하드코팅액 조성물
JP2010025996A (ja) 2008-07-15 2010-02-04 Hitachi Maxell Ltd 反射防止フィルムおよびその製造方法
JP2010152311A (ja) 2008-07-22 2010-07-08 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
WO2010024115A1 (ja) 2008-08-29 2010-03-04 コニカミノルタオプト株式会社 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP5531509B2 (ja) 2008-09-05 2014-06-25 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
KR20170070278A (ko) 2009-02-12 2017-06-21 코베스트로 도이칠란드 아게 반사-방지/연무-방지 코팅
JP5771967B2 (ja) 2010-02-17 2015-09-02 日油株式会社 反射防止フィルム
JP2012018383A (ja) 2010-06-08 2012-01-26 Sumitomo Chemical Co Ltd 光学フィルム、防眩性フィルム及び偏光板
KR101272984B1 (ko) 2010-07-14 2013-06-10 주식회사 엘지화학 내마모성 및 내오염성이 우수한 눈부심 방지 코팅 조성물 및 눈부심 방지 코팅 필름
US9389339B2 (en) 2011-04-22 2016-07-12 Fujifilm Corporation Method for producing antireflection film, antireflection film, and coating composition
KR101871135B1 (ko) 2011-04-26 2018-06-25 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR101501682B1 (ko) 2011-07-18 2015-03-11 주식회사 엘지화학 우수한 내지문성을 갖는 눈부심 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 제조된 눈부심 방지 필름
JP2013075285A (ja) 2011-09-15 2013-04-25 Dainippon Printing Co Ltd 積層体の製造方法
JP5712100B2 (ja) 2011-09-29 2015-05-07 富士フイルム株式会社 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物
JP6097619B2 (ja) * 2012-04-06 2017-03-15 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置
KR101519497B1 (ko) 2012-04-25 2015-05-12 주식회사 엘지화학 내찰상성이 우수한 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
JP2014006447A (ja) 2012-06-26 2014-01-16 Dainippon Printing Co Ltd 偏光板一体型光学積層体
JP2014064477A (ja) 2012-09-24 2014-04-17 Yamaguchi Univ 酢酸生産能が向上した酢酸菌の育種方法
JP2015108733A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
JP2015225129A (ja) * 2014-05-26 2015-12-14 富士フイルム株式会社 ポリエステルフィルムおよびその製造方法、偏光板、画像表示装置、ハードコートフィルムならびにタッチパネル
WO2015182750A1 (ja) 2014-05-30 2015-12-03 株式会社クラレ メタクリル樹脂組成物
JP6571403B2 (ja) 2014-06-30 2019-09-04 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． シリカ膜、光学部材および偏光部材
KR101654076B1 (ko) 2014-12-12 2016-09-06 도레이첨단소재 주식회사 고투명 배리어 필름
WO2017043948A1 (ko) 2015-09-11 2017-03-16 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
KR102018287B1 (ko) 2015-09-11 2019-09-05 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
KR101813707B1 (ko) 2015-11-04 2017-12-29 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
WO2017095206A1 (ko) 2015-12-03 2017-06-08 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR102017789B1 (ko) 2015-12-03 2019-09-03 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR102016710B1 (ko) 2016-01-07 2019-09-02 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101959510B1 (ko) 2016-03-04 2019-03-18 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
WO2017155335A1 (ko) 2016-03-09 2017-09-14 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
WO2017155338A1 (ko) 2016-03-09 2017-09-14 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101973195B1 (ko) 2016-03-11 2019-04-26 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR20180009002A (ko) 2016-07-15 2018-01-25 엘에스오토모티브 주식회사 과전류 보호부를 가지는 후석 파워윈도우 통합 제어형 자동차용 파워윈도우 스위치 회로
JP6330881B2 (ja) 2016-09-29 2018-05-30 大日本印刷株式会社 反射防止フィルムの耐鹸化性を改善する方法
KR102280262B1 (ko) * 2018-05-18 2021-07-21 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050106333A1 (en) * 2003-11-18 2005-05-19 Lehmann Maria J. Anti-reflective optical film for display devices
KR20060031941A (ko) * 2004-10-11 2006-04-14 제일모직주식회사 반사방지 필름의 고굴절층 코팅용 조성물
JP2008089969A (ja) * 2006-10-02 2008-04-17 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置
JP2009035594A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料
JP2014059368A (ja) * 2012-09-14 2014-04-03 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP2016155992A (ja) * 2014-06-30 2016-09-01 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 樹脂膜、光学部材および偏光部材
WO2016084729A1 (ja) * 2014-11-25 2016-06-02 東洋紡株式会社 液晶表示装置及び偏光板
WO2017078428A1 (ko) * 2015-11-04 2017-05-11 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021515273A (ja) * 2018-05-18 2021-06-17 エルジー・ケム・リミテッド 反射防止フィルム、偏光板、およびディスプレイ装置
JP7205815B2 (ja) 2018-05-18 2023-01-17 エルジー・ケム・リミテッド 反射防止フィルム、偏光板、およびディスプレイ装置
US11732142B2 (en) 2018-05-18 2023-08-22 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
TW201938362A (zh) 2019-10-01
US11428848B2 (en) 2022-08-30
EP3677426A1 (en) 2020-07-08
KR102267594B1 (ko) 2021-06-18
EP3677426A4 (en) 2021-01-13
CN111212733B (zh) 2022-04-01
CN111212733A (zh) 2020-05-29
KR20190090296A (ko) 2019-08-01
TWI826414B (zh) 2023-12-21
WO2019146949A1 (ko) 2019-08-01
JP7191340B2 (ja) 2022-12-19
US20200257022A1 (en) 2020-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6607510B2 (ja) 光硬化性コーティング組成物、低屈折層および反射防止フィルム
JP7055436B2 (ja) 反射防止フィルムおよびディスプレイ装置
JP6672579B2 (ja) 反射防止フィルム
JP7191340B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置
JP7205815B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、およびディスプレイ装置
JP6921005B2 (ja) 反射防止フィルムおよびディスプレイ装置
TWI734223B (zh) 抗反射膜、偏光板及顯示設備
JP6925692B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置
TWI693426B (zh) 抗反射膜、偏光板及顯示器設備
WO2019221573A1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200406

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210322

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210622

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210921

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211224

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20211224

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20220111

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20220117

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20220218

C211 Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211

Effective date: 20220228

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220815

C302 Record of communication

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C302

Effective date: 20220907

C13 Notice of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13

Effective date: 20220912

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220921

C23 Notice of termination of proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23

Effective date: 20221011

C03 Trial/appeal decision taken

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03

Effective date: 20221107

C30A Notification sent

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012

Effective date: 20221107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221129

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7191340

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150