JP2020535455A - 光学セキュリティ要素 - Google Patents
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Abstract
Description
a)コースティックパターンによって投影面に再現すべき参照パターンのデジタル画像を選択するステップであって、デジタル画像が、ピクセルの総数NAを有し、デジタル画像にわたるすべてのピクセル値の和がIAであり、デジタル画像内のN(Nは整数であり、1≦N≦NA)個のピクセルの各円形領域に関して、円形領域内のN個のピクセルの各ピクセル値の合計の値I(N)が、値Imax(N)=N(IA/NA)(1/2+N0/N+√(1/4+N0/N))未満であることをチェックすることによって上記選択が行われ、N0が、デジタル画像内のNA(α0/A)によって与えられるピクセルの数である、ステップと、
b)ステップa)で選択されたデジタル画像での参照パターンに対応する、δ以下の深さのレリーフパターンを計算するステップと、
c)光学材料基材の表面を加工して、ステップb)で計算されたレリーフパターンを再現する光偏向面を形成して、加工された光偏向面を含む光学セキュリティ要素を得るステップと
を含む方法に関する。
光偏向面から(ほぼ)距離dsにある点状光源で光学セキュリティ要素の光偏向面を照明するステップと、
光学セキュリティ要素から距離diにある投影面に投影されたコースティックパターンを視覚的に観察するステップと、
投影されたコースティックパターンが参照パターンに視覚的に類似しているとユーザが評価したときに、物体が本物であると判断するステップと
を含む方法に関する。
画像距離:di
光源距離:ds
光偏向面の面積(断面積):A
光源Sによる光学セキュリティ要素の照明時に、光偏向面から投影面によって送達される照度:EA;これは、光偏向面の断面の投影(すなわち、その幾何学的な影)に対応する領域にわたって平均されたときの投影面に送達される照度が、EAに等しい平均値を有することを意味する
ターゲットレリーフパターン(最大)深さ:δ
光学セキュリティ要素の屈折率:n(屈折光偏向面の場合)。
Eα1≦EA(1/2+α0/α1+(1/4+α0/α1)1/2)
i)特定の選択基準I(N)<Imax(N)(1≦N≦NA)に従うこの参照パターンのデジタル画像をスキャンすることによって簡便な参照パターンを選択するステップであって、Imax(N)=N(IA/NA)(1/2+N0/N+√(1/4+N0/N))であり、N0は、デジタル画像内のNA(α0/A)によって与えられるピクセルの数である、ステップと、
ii)ステップi)で選択された参照パターンに対応する、δ以下の深さのレリーフパターンを計算するステップと、
iii)光学材料基材の表面を加工して、ステップii)で計算された深さ値のレリーフパターンを有する光偏向表面を形成するステップ。得られる光学セキュリティ要素は、視覚的な真偽判定の目的に使用することができる。
Claims (13)
- 反射性の光偏向面、又は屈折率nの屈折性の透明若しくは部分的に透明な光偏向面を備える光学セキュリティ要素において、前記光偏向面から距離dsにある点状光源から受け取られた入射光を偏向し、コースティックパターンを含む投影画像を、前記光偏向面から距離diに配設された投影面に形成するように構成された深さδのレリーフパターンを有し、前記コースティックパターンが、参照パターンを再現し、
前記光源による前記レリーフパターンの値Aの面積の照明、及び前記投影面への前記光学セキュリティ要素による照度値EAの送達時に、前記投影面での前記投影画像の領域内で選択された値α1の円形面積にわたる平均照明値Eα1が、投影基準Eα1≦EA(1/2+α0/α1+√(1/4+α0/α1))を満たし、前記反射性の光偏向面に関してはスケーリング面積パラメータα0=4πdiδであり、又は前記屈折性の光偏向面に関してはα0=2π(n−1)diであり、α1が、前記面積値Aよりも小さい
ことを特徴とする光学セキュリティ要素。 - diの値が30cm以下であり、比ds/diの値が少なくとも5以上である、請求項1に記載の光学セキュリティ要素。
- 前記レリーフパターンの深さδの値が30μm以下である、請求項1又は2に記載の光学セキュリティ要素。
- 前記レリーフパターンの深さδの値が250μm以下である、請求項1又は2に記載の光学セキュリティ要素。
- 前記レリーフパターンが平坦なベースにわたって配設され、前記光学セキュリティ要素の全厚が100μm以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学セキュリティ要素。
- 反射性の光偏向面、又は屈折率nの屈折性の透明若しくは部分的に透明な光偏向面の値δ以下の深さのレリーフパターンを設計するための方法において、前記レリーフパターンが、前記光偏向面から距離dsにある点状光源から受け取られる入射光を偏向し、コースティックパターンを含む投影画像を、前記光偏向面から距離diに配設された投影面に形成するように構成され、前記光源による前記レリーフパターンの値Aの面積の照明、及び前記投影面への前記光学セキュリティ要素による照度値EAの送達時に、前記投影面での前記投影画像の領域内で選択された値α1の円形面積にわたる平均照明値Eα1が、投影基準Eα1≦EA(1/2+α0/α1+√(1/4+α0/α1))を満たし、前記反射性の光偏向面に関してはスケーリング面積パラメータα0=4πdiδであり、又は前記屈折性の光偏向面に関してはα0=2π(n−1)diであり、α1が、前記面積値Aよりも小さく、
a)前記コースティックパターンによって前記投影面に再現すべき参照パターンのデジタル画像を選択するステップであって、前記デジタル画像が、ピクセルの総数NAを有し、前記デジタル画像にわたるすべてのピクセル値の和がIAであり、前記デジタル画像内のN(Nは整数であり、1≦N≦NA)個のピクセルの各円形領域に関して、前記円形領域内の前記N個のピクセルの各ピクセル値の合計の値I(N)が、値Imax(N)=N(IA/NA)(1/2+N0/N+√(1/4+N0/N))未満であることをチェックすることによって前記選択が行われ、N0が、前記デジタル画像内のNA(α0/A)によって与えられるピクセルの数である、ステップと、
b)ステップa)で選択された前記デジタル画像での前記参照パターンに対応する、δ以下の深さのレリーフパターンを計算するステップと、
c)光学材料基材の表面を加工して、ステップb)で計算された前記レリーフパターンを再現する光偏向面を形成して、前記加工された光偏向面を含む光学セキュリティ要素を得るステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 参照パターンのデジタル画像を選択する前記ステップa)が、I(N)がImax(N)未満であるという選択基準を一部が満たさない前記参照パターンの候補デジタル画像を修正するさらなるステップを含み、前記さらなるステップが、任意のN(1≦N≦NA)に関する前記選択基準に準拠させるために、前記候補デジタル画像の前記一部に、適応されたピクセル値を与えることによって、前記候補デジタル画像の前記一部内の前記ピクセル値を適応させることによって行われて、選択すべき修正された候補デジタル画像を提供する、請求項6に記載の方法。
- 前記候補デジタル画像の前記ピクセル値が、画像コントラストを低減するために前記候補画像をフィルタでフィルタリングすることによって適応される、請求項7に記載の方法。
- 前記光学材料基材の前記表面の前記加工が、超精密加工、レーザアブレーション、及びリソグラフィのうちのいずれか1つを含む、請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記加工される光偏向面が、複製を製造するために使用されるマスタ光偏向面であることをさらに含む、請求項6〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記加工された光偏向面を基材上に複製することをさらに含む、請求項10に記載の方法。
- 複製が、UVキャスティング及びエンボス加工のうちの1つを含む、請求項10又は11に記載の方法。
- 請求項1に記載の光学セキュリティ要素でマークされた物体をユーザによって視覚的に真偽判定する方法であって、
前記光偏向面から前記距離dsにある点状光源で前記光学セキュリティ要素の前記光偏向面を照明するステップと、
前記光学セキュリティ要素から距離diにある前記投影面に投影された前記コースティックパターンを視覚的に観察するステップと、
前記投影されたコースティックパターンが前記参照パターンに視覚的に類似していると前記ユーザが評価したときに、前記物体が本物であると判断するステップと、
を含む方法。
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