JP2020191535A - Elastic wave device, filter, and multiplexer - Google Patents

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Abstract

To provide an elastic wave device for enabling miniaturization.SOLUTION: An elastic wave resonator 20 includes an IDT 22 and reflectors 24 between a first piezoelectric substrate 10 and a second piezoelectric substrate 12. The IDT includes a pair of opposing comb-shaped electrodes 18. The reflectors 24 are provided on both sides of the IDT 22 in an X-direction. The comb-shaped electrodes 18 include a plurality of electrode fingers 15 and a bus bar 16 to which a plurality of electrode fingers 15 is connected. A region where the electrode fingers 15 of the pair of comb-shaped electrodes 18 intersect is defined as an intersection region 25.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、弾性波デバイス、フィルタおよびマルチプレクサに関し、例えば一対の櫛型電極を有する弾性波デバイス、フィルタおよびマルチプレクサに関する。 The present invention relates to elastic wave devices, filters and multiplexers, for example elastic wave devices, filters and multiplexers having a pair of comb electrodes.

スマートフォン等の通信機器に用いられる弾性波デバイスとして、弾性表面波共振器が知られている。弾性表面波共振器では、圧電基板上に複数の電極指を有する一対の櫛型電極が設けられている。櫛型電極を覆うように誘電体層を設けることが知られている（例えば特許文献１および２）。 A surface acoustic wave resonator is known as a surface acoustic wave device used in a communication device such as a smartphone. In the surface acoustic wave resonator, a pair of comb-shaped electrodes having a plurality of electrode fingers are provided on the piezoelectric substrate. It is known that a dielectric layer is provided so as to cover the comb-shaped electrode (for example, Patent Documents 1 and 2).

特開２００８−２８９８０号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-28980 特開２００８−２４４５２３号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-244523

弾性表面波共振器の入出力インピーダンスは主に一対の櫛型電極間の静電容量により設定される。弾性表面波共振器の入出力インピーダンスを所望の値とすると、一対の櫛型電極の静電容量を所望の値とするため面積が決まってしまう。これにより、小型化が難しい。 The input / output impedance of the surface acoustic wave resonator is mainly set by the capacitance between the pair of comb-shaped electrodes. When the input / output impedance of the surface acoustic wave resonator is set to a desired value, the area is determined because the capacitance of the pair of comb-shaped electrodes is set to a desired value. This makes miniaturization difficult.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、小型化を可能とすることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to enable miniaturization.

本発明は、第１圧電基板と、第２圧電基板と、前記第１圧電基板と前記第２圧電基板とに挟まれ、複数の電極指を有する一対の櫛型電極と、を備える弾性波デバイスである。 The present invention is an elastic wave device including a first piezoelectric substrate, a second piezoelectric substrate, and a pair of comb-shaped electrodes sandwiched between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate and having a plurality of electrode fingers. Is.

上記構成において、前記第１圧電基板および前記第２圧電基板は前記一対の櫛型電極に接する構成とすることができる。 In the above configuration, the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate may be configured to be in contact with the pair of comb-shaped electrodes.

上記構成において、前記第１圧電基板および前記第２圧電基板の主成分は互いに同じである構成とすることができる。 In the above configuration, the main components of the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate can be the same as each other.

上記構成において、前記第１圧電基板および前記第２圧電基板は、ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板またはＹカットＸ伝搬ニオブ酸リチウム基板であり、前記第１圧電基板および前記第２圧電基板のＹカット角の差は１０°以下であり、平面視において前記第１圧電基板のＸ軸方向と前記第２圧電基板のＸ軸方向のなす角度は１０°以下である構成とすることができる。 In the above configuration, the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate are a Y-cut X-propagating lithium tantalate substrate or a Y-cut X-propagating lithium niobate substrate, and the Y of the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate. The difference in cut angle is 10 ° or less, and the angle formed by the X-axis direction of the first piezoelectric substrate and the X-axis direction of the second piezoelectric substrate in a plan view can be 10 ° or less.

上記構成において、前記第１圧電基板の前記一対の櫛型電極が設けられた面と反対の面に直接または間接的に接合された第１支持基板を備える構成とすることができる。 In the above configuration, a configuration may be provided in which the first support substrate is directly or indirectly bonded to the surface of the first piezoelectric substrate opposite to the surface on which the pair of comb-shaped electrodes are provided.

上記構成において、前記第２圧電基板の前記一対の櫛型電極が設けられた面と反対の面に直接または間接的に接合された第２支持基板を備える構成とすることができる。 In the above configuration, the configuration may include a second support substrate directly or indirectly bonded to a surface of the second piezoelectric substrate opposite to the surface on which the pair of comb-shaped electrodes are provided.

上記構成において、前記第１圧電基板と前記第２圧電基板との間において、前記複数の電極指間に設けられた誘電体層を備える構成とすることができる。 In the above configuration, a dielectric layer provided between the plurality of electrode fingers can be provided between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate.

上記構成において、前記第１圧電基板と前記第２圧電基板との間において、前記複数の電極指間は空隙である構成とすることができる。 In the above configuration, there may be a gap between the plurality of electrode fingers between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate.

上記構成において、前記第１圧電基板と前記第２圧電基板との間に設けられ、前記一対の櫛型電極を前記空隙に封止する封止層を備える構成とすることができる。 In the above configuration, a sealing layer provided between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate and sealing the pair of comb-shaped electrodes in the voids can be provided.

本発明は、上記弾性波デバイスを含むフィルタである。 The present invention is a filter including the elastic wave device.

本発明は、上記フィルタを含むマルチプレクサである。 The present invention is a multiplexer including the above filter.

本発明によれば、小型化を可能とすることができる。 According to the present invention, miniaturization can be made possible.

図１（ａ）は、実施例１における弾性波共振器の平面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。1 (a) is a plan view of the elastic wave resonator according to the first embodiment, and FIG. 1 (b) is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1 (a). 図２（ａ）および図２（ｂ）は、それぞれ比較例１および実施例１における周波数に対するアドミッタンスを示す図である。2 (a) and 2 (b) are diagrams showing admittance for frequencies in Comparative Example 1 and Example 1, respectively. 図３（ａ）から図３（ｃ）は、実施例１およびその変形例１および２に係る弾性波デバイスの断面図である。3 (a) to 3 (c) are cross-sectional views of the elastic wave device according to the first embodiment and the first and second modifications thereof. 図４（ａ）および図４（ｂ）は、実施例１の変形例３および４に係る弾性波デバイスの断面図である。4 (a) and 4 (b) are cross-sectional views of the elastic wave device according to the modified examples 3 and 4 of the first embodiment. 図５（ａ）から図５（ｄ）は、実施例１の変形例４に係る弾性波デバイスの製造方法を示す断面図である。5 (a) to 5 (d) are cross-sectional views showing a method of manufacturing an elastic wave device according to a modification 4 of the first embodiment. 図６（ａ）は、実施例２に係るフィルタの回路図、図６（ｂ）は実施例２の変形例１のデュプレクサの回路図である。FIG. 6A is a circuit diagram of the filter according to the second embodiment, and FIG. 6B is a circuit diagram of the duplexer of the first modification of the second embodiment. 図７（ａ）は、実施例２に係るフィルタの斜視図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ−Ａ断面図である。7 (a) is a perspective view of the filter according to the second embodiment, and FIG. 7 (b) is a sectional view taken along the line AA of FIG. 7 (a).

以下、図面を参照し本発明の実施例について説明する。 Hereinafter, examples of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１（ａ）は、実施例１における弾性波共振器の平面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。電極指の配列方向をＸ方向、電極指の延伸方向をＹ方向、支持基板および圧電基板の積層方向をＺ方向とする。Ｘ方向、Ｙ方向およびＺ方向は、圧電基板の結晶方位のＸ軸方向およびＹ軸方向とは必ずしも対応しない。圧電基板が回転ＹカットＸ伝搬基板の場合、Ｘ方向は結晶方位のＸ軸方向となる。 1 (a) is a plan view of the elastic wave resonator according to the first embodiment, and FIG. 1 (b) is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1 (a). The arrangement direction of the electrode fingers is the X direction, the extension direction of the electrode fingers is the Y direction, and the stacking direction of the support substrate and the piezoelectric substrate is the Z direction. The X, Y, and Z directions do not necessarily correspond to the X-axis direction and the Y-axis direction of the crystal orientation of the piezoelectric substrate. When the piezoelectric substrate is a rotating Y-cut X propagation substrate, the X direction is the X-axis direction of the crystal orientation.

図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、圧電基板１０および１２の間に弾性波共振器２０が設けられている。弾性波共振器２０はＩＤＴ（Inter Digital Transducer）２２および反射器２４を有する。反射器２４はＩＤＴ２２のＸ方向の両側に設けられている。ＩＤＴ２２および反射器２４は、圧電基板１０と１２との間に設けられた金属膜１４により形成される。 As shown in FIGS. 1A and 1B, an elastic wave resonator 20 is provided between the piezoelectric substrates 10 and 12. The elastic wave resonator 20 has an IDT (Inter Digital Transducer) 22 and a reflector 24. Reflectors 24 are provided on both sides of the IDT 22 in the X direction. The IDT 22 and the reflector 24 are formed by a metal film 14 provided between the piezoelectric substrates 10 and 12.

ＩＤＴ２２は、対向する一対の櫛型電極１８を備える。櫛型電極１８は、複数の電極指１５と、複数の電極指１５が接続されたバスバー１６と、を備える。一対の櫛型電極１８の電極指１５が交差する領域が交差領域２５である。交差領域２５の長さが開口長である。一対の櫛型電極１８は、交差領域２５の少なくとも一部において電極指１５がほぼ互い違いとなるように、対向して設けられている。交差領域２５において複数の電極指１５が励振する弾性波は、主にＸ方向に伝搬する。一対の櫛型電極１８のうち一方の櫛型電極の電極指１５のピッチがほぼ弾性波の波長λとなる。弾性波の波長λはほぼ電極指１５の２本分のピッチとなる。反射器２４は、ＩＤＴ２２の電極指１５が励振した弾性波（弾性表面波）を反射する。これにより弾性波はＩＤＴ２２の交差領域２５内に閉じ込められる。 The IDT 22 includes a pair of opposing comb-shaped electrodes 18. The comb-shaped electrode 18 includes a plurality of electrode fingers 15 and a bus bar 16 to which the plurality of electrode fingers 15 are connected. The region where the electrode fingers 15 of the pair of comb-shaped electrodes 18 intersect is the intersection region 25. The length of the intersection region 25 is the opening length. The pair of comb-shaped electrodes 18 are provided so as to face each other so that the electrode fingers 15 are substantially staggered in at least a part of the intersecting region 25. The elastic wave excited by the plurality of electrode fingers 15 in the intersecting region 25 propagates mainly in the X direction. The pitch of the electrode fingers 15 of one of the pair of comb-shaped electrodes 18 is substantially the wavelength λ of the elastic wave. The wavelength λ of the elastic wave is approximately the pitch of two electrode fingers 15. The reflector 24 reflects an elastic wave (surface acoustic wave) excited by the electrode finger 15 of the IDT 22. As a result, the elastic wave is confined in the intersecting region 25 of the IDT 22.

圧電基板１０および１２は、単結晶タンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ３）基板、単結晶ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）基板または水晶基板であり、例えば回転ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板または回転ＹカットＸ伝搬ニオブ酸リチウム基板である。金属膜１４は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ｃｕ（銅）またはＭｏ（モリブデン）を主成分とする膜である。電極指１５と圧電基板１２との間にＴｉ（チタン）膜またはＣｒ（クロム）膜等の密着膜が設けられていてもよい。密着膜は電極指１５より薄い。 Piezoelectric substrates 10 and 12 are single crystal lithium tantalate (LiTaO 3 ) substrate, single crystal lithium niobate (LiNbO 3 ) substrate or crystal substrate, for example, rotating Y-cut X propagation substrate or rotating Y-cut X propagation. It is a lithium niobate substrate. The metal film 14 is, for example, a film containing Al (aluminum), Cu (copper) or Mo (molybdenum) as a main component. An adhesive film such as a Ti (titanium) film or a Cr (chromium) film may be provided between the electrode finger 15 and the piezoelectric substrate 12. The adhesive film is thinner than the electrode finger 15.

［シミュレーション］
実施例１および圧電基板１２を備えていない比較例１についてアドミッタンスをシミュレーションした。シミュレーション条件は以下である。
弾性波の波長λ：５．５μｍ（電極指１５のピッチ×２）
圧電基板１０：厚さが４λの４２°回転ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板
圧電基板１２：厚さが０．５５λの４２°回転ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板
金属膜１４：厚さが０．１１λのアルミニウム膜
圧電基板１０と１２ともＸ方向を結晶方位のＸ軸方向とした。
シミュレーションは電極指１５が１対について、Ｘ方向の境界条件を周期条件として２．５次元の有限要素法を用い行った。 [simulation]
Admittance was simulated for Example 1 and Comparative Example 1 without the piezoelectric substrate 12. The simulation conditions are as follows.
Wavelength of elastic wave λ: 5.5 μm (pitch of electrode finger 15 x 2)
Piezoelectric substrate 10: 42 ° rotating Y-cut X propagating lithium tantalate substrate with a thickness of 4λ Piezoelectric substrate 12: 42 ° rotating Y-cut X propagating lithium tantalate substrate with a thickness of 0.55λ Metal film 14: Thickness 0 .11λ Aluminum film For both piezoelectric substrates 10 and 12, the X direction was defined as the X-axis direction of the crystal orientation.
The simulation was performed using a 2.5-dimensional finite element method for a pair of electrode fingers 15 with the boundary condition in the X direction as the periodic condition.

図２（ａ）および図２（ｂ）は、それぞれ比較例１および実施例１における周波数に対するアドミッタンスを示す図である。図２（ａ）に示すように、比較例１では共振周波数ｆｒおよび***振周波数ｆａが観察される。図２（ｂ）に示すように、実施例１では、比較例１に比べ共振周波数ｆｒおよび***振周波数ｆａが大きくなる。これは圧電基板１２を設けることで音速が速くなったためである。共振周波数ｆｒおよび***振周波数ｆａ付近に副共振は観測されず、共振周波数ｆｒおよび***振周波数ｆａのピークは急峻である。また、シミュレーションにおける変移方向から比較例１および実施例１とも圧電基板１０の上面にＳＨ（Shear Horizontal）波が励振されている。さらに、実施例１では、圧電基板１２の下面にＳＨ波が励振されている。これにより、実施例１は比較例１に比べ共振特性の劣化はない。 2 (a) and 2 (b) are diagrams showing admittance for frequencies in Comparative Example 1 and Example 1, respectively. As shown in FIG. 2A, the resonance frequency fr and the antiresonance frequency fa are observed in Comparative Example 1. As shown in FIG. 2B, in Example 1, the resonance frequency fr and the anti-resonance frequency fa are larger than those in Comparative Example 1. This is because the sound velocity is increased by providing the piezoelectric substrate 12. No subresonance is observed near the resonance frequency fr and the antiresonance frequency fa, and the peaks of the resonance frequency fr and the antiresonance frequency fa are steep. Further, SH (Shear Horizontal) waves are excited on the upper surface of the piezoelectric substrate 10 in both Comparative Example 1 and Example 1 from the transition direction in the simulation. Further, in the first embodiment, the SH wave is excited on the lower surface of the piezoelectric substrate 12. As a result, Example 1 has no deterioration in resonance characteristics as compared with Comparative Example 1.

圧電基板１２の比誘電率は真空より高く、例えばタンタル酸リチウムの比誘電率は約５０である。このため、一対の櫛型電極１８間の静電容量を大きくできる。よって、同じ入出力インピーダンスを有する弾性波共振器では実施例１は比較例１より面積を小さくでき、小型化が可能となる。また、櫛型電極１８から圧電基板１２に放熱するため放熱効果を高めることができる。さらに、比較例１では熱応力等により櫛型電極１８が圧電基板１０から剥がれることがある。実施例１では、圧電基板１０と１２で櫛型電極１８を挟むため櫛型電極１８の剥がれを抑制できる。 The relative permittivity of the piezoelectric substrate 12 is higher than that of vacuum, for example, the relative permittivity of lithium tantalate is about 50. Therefore, the capacitance between the pair of comb-shaped electrodes 18 can be increased. Therefore, in the elastic wave resonator having the same input / output impedance, the area of Example 1 can be made smaller than that of Comparative Example 1, and the size can be reduced. Further, since heat is dissipated from the comb-shaped electrode 18 to the piezoelectric substrate 12, the heat dissipation effect can be enhanced. Further, in Comparative Example 1, the comb-shaped electrode 18 may be peeled off from the piezoelectric substrate 10 due to thermal stress or the like. In the first embodiment, since the comb-shaped electrode 18 is sandwiched between the piezoelectric substrates 10 and 12, the peeling of the comb-shaped electrode 18 can be suppressed.

図３（ａ）から図４（ｂ）は、実施例１およびその変形例に係る弾性波デバイスの断面図である。図３（ａ）に示すように、実施例１では、圧電基板１０上に金属膜１４により形成される電極指１５を有する弾性波共振器２０が設けられている。金属膜１４上に圧電基板１２が設けられている。電極指１５間は空隙３０（空気層）である。電極指１５は例えば圧電基板１０および１２に接している。圧電基板１０の厚さＴ０は例えば５０μｍから３００μｍである。金属膜１４の厚さＴ４は例えば０．１λ程度であり、０．０５μｍから３μｍである。圧電基板１２の厚さＴ２は例えば１０μｍから１００μｍである。 3 (a) to 4 (b) are cross-sectional views of an elastic wave device according to a first embodiment and a modification thereof. As shown in FIG. 3A, in the first embodiment, an elastic wave resonator 20 having an electrode finger 15 formed of a metal film 14 is provided on the piezoelectric substrate 10. A piezoelectric substrate 12 is provided on the metal film 14. There is a gap 30 (air layer) between the electrode fingers 15. The electrode finger 15 is in contact with, for example, the piezoelectric substrates 10 and 12. The thickness T0 of the piezoelectric substrate 10 is, for example, 50 μm to 300 μm. The thickness T4 of the metal film 14 is, for example, about 0.1λ, and is 0.05 μm to 3 μm. The thickness T2 of the piezoelectric substrate 12 is, for example, 10 μm to 100 μm.

［実施例１の変形例１］
図３（ｂ）に示すように、実施例１の変形例１では、圧電基板１０は支持基板１１ａ上に接合されている。支持基板１１ａは、例えば、サファイア基板、アルミナ基板、シリコン基板、石英基板、水晶基板またはスピネル基板である。サファイア基板は単結晶酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）基板である。アルミナ基板は多結晶酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）基板である。シリコン基板は単結晶または多結晶シリコン（Ｓｉ）基板である。石英基板はアモルファス酸化シリコン（ＳｉＯ２）基板である。水晶基板は単結晶酸化シリコン（ＳｉＯ２）基板である。スピネル基板は単結晶または多結晶ＭｇＡｌ２Ｏ３基板である。支持基板１１ａのＸ方向の線膨張係数は圧電基板１０のＸ方向の線膨張係数より小さい。これにより、周波数温度係数を小さくできる。 [Modification 1 of Example 1]
As shown in FIG. 3B, in the first modification of the first embodiment, the piezoelectric substrate 10 is joined on the support substrate 11a. The support substrate 11a is, for example, a sapphire substrate, an alumina substrate, a silicon substrate, a quartz substrate, a crystal substrate, or a spinel substrate. The sapphire substrate is a single crystal aluminum oxide (Al 2 O 3 ) substrate. The alumina substrate is a polycrystalline aluminum oxide (Al 2 O 3 ) substrate. The silicon substrate is a single crystal or polycrystalline silicon (Si) substrate. The quartz substrate is an amorphous silicon oxide (SiO 2 ) substrate. The crystal substrate is a single crystal silicon oxide (SiO 2 ) substrate. The spinel substrate is a single crystal or polycrystalline MgAl 2 O 3 substrate. The coefficient of linear expansion in the X direction of the support substrate 11a is smaller than the coefficient of linear expansion in the X direction of the piezoelectric substrate 10. As a result, the frequency temperature coefficient can be reduced.

支持基板１１ａの厚さＴ１ａは例えば５０μｍから３００μｍである。圧電基板１０および１２の厚さＴ０およびＴ２は各々例えば０．５μｍから２０μｍである。圧電基板１０および１２の厚さＴ０およびＴ２を弾性波の波長以下とすることで損失およびバルク波に起因したスプリアス等を抑制できる。支持基板１１ａと圧電基板１０との間には酸化シリコン膜または酸化アルミニウム膜等の絶縁膜が設けられていてもよい。このように、支持基板１１ａは圧電基板１０に直接または間接的に接合されている。その他の構成は実施例１と同じであり説明を省略する。 The thickness T1a of the support substrate 11a is, for example, 50 μm to 300 μm. The thicknesses T0 and T2 of the piezoelectric substrates 10 and 12 are, for example, 0.5 μm to 20 μm, respectively. By setting the thicknesses T0 and T2 of the piezoelectric substrates 10 and 12 to be equal to or less than the wavelength of the elastic wave, it is possible to suppress loss and spurious caused by the bulk wave. An insulating film such as a silicon oxide film or an aluminum oxide film may be provided between the support substrate 11a and the piezoelectric substrate 10. In this way, the support substrate 11a is directly or indirectly bonded to the piezoelectric substrate 10. Other configurations are the same as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted.

［実施例１の変形例２］
図３（ｃ）に示すように、実施例１の変形例２では、圧電基板１２上に支持基板１１ｂが接合されている。支持基板１１ｂは、例えば、サファイア基板、アルミナ基板、シリコン基板、石英基板、水晶基板またはスピネル基板である。支持基板１１ｂのＸ方向の線膨張係数は圧電基板１２のＸ方向の線膨張係数より小さい。これにより、周波数温度係数を小さくできる。支持基板１１ｂの厚さＴ１ｂは例えば０．５μｍから２０μｍである。支持基板１１ｂと圧電基板１２との間には酸化シリコン膜または酸化アルミニウム膜等の絶縁膜が設けられていてもよい。このように、支持基板１１ｂが圧電基板１２に直接または間接的に接合されている。圧電基板１０および１２の厚さＴ０およびＴ２は互いに略等しいことが好ましい。その他の構成は実施例１の変形例１と同じであり説明を省略する。 [Modification 2 of Example 1]
As shown in FIG. 3C, in the modification 2 of the first embodiment, the support substrate 11b is bonded on the piezoelectric substrate 12. The support substrate 11b is, for example, a sapphire substrate, an alumina substrate, a silicon substrate, a quartz substrate, a crystal substrate, or a spinel substrate. The coefficient of linear expansion in the X direction of the support substrate 11b is smaller than the coefficient of linear expansion in the X direction of the piezoelectric substrate 12. As a result, the frequency temperature coefficient can be reduced. The thickness T1b of the support substrate 11b is, for example, 0.5 μm to 20 μm. An insulating film such as a silicon oxide film or an aluminum oxide film may be provided between the support substrate 11b and the piezoelectric substrate 12. In this way, the support substrate 11b is directly or indirectly bonded to the piezoelectric substrate 12. It is preferable that the thicknesses T0 and T2 of the piezoelectric substrates 10 and 12 are substantially equal to each other. Other configurations are the same as those of the first modification of the first embodiment, and the description thereof will be omitted.

［実施例１の変形例３］
図４（ａ）に示すように、実施例１の変形例３では、圧電基板１０と１２との間の電極指１５間に誘電体層３２が設けられている。誘電体層３２は、例えば酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化アルミニウム膜等の無機絶縁体または樹脂等の有機絶縁体である。誘電体層３２が弾性波を吸収しない観点から誘電体層３２は無機絶縁体が好ましい。誘電体層３２により放熱経路を形成でき、放熱性を向上できる。また、圧電基板１０と１２との結合を強固にできる。 [Modification 3 of Example 1]
As shown in FIG. 4A, in the modified example 3 of the first embodiment, the dielectric layer 32 is provided between the electrode fingers 15 between the piezoelectric substrates 10 and 12. The dielectric layer 32 is, for example, an inorganic insulator such as a silicon oxide film, a silicon nitride film or an aluminum oxide film, or an organic insulator such as a resin. The dielectric layer 32 is preferably an inorganic insulator from the viewpoint that the dielectric layer 32 does not absorb elastic waves. A heat dissipation path can be formed by the dielectric layer 32, and heat dissipation can be improved. Further, the bond between the piezoelectric substrates 10 and 12 can be strengthened.

誘電体層３２の弾性定数の温度係数の符号を圧電基板１０および１２の弾性定数の温度係数の符号と正負を反対とすることで、周波数温度係数を小さくできる。この観点から誘電体層３２は酸化シリコン膜が好ましい。酸化シリコン膜は弗素等の不純物を含んでいてもよい。その他の構成は実施例１と同じであり説明を省略する。実施例１の変形例１および２において、誘電体層３２を設けてもよい。 The frequency temperature coefficient can be reduced by reversing the sign of the temperature coefficient of the elastic constant of the dielectric layer 32 and the sign of the temperature coefficient of the elastic constant of the piezoelectric substrates 10 and 12. From this viewpoint, the dielectric layer 32 is preferably a silicon oxide film. The silicon oxide film may contain impurities such as fluorine. Other configurations are the same as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted. The dielectric layer 32 may be provided in the first and second modifications of the first embodiment.

［実施例１の変形例４］
図４（ｂ）に示すように、実施例１の変形例４では、圧電基板１０と１２との間の電極指１５間は空隙３０である。電極指１５を囲むように圧電基板１０と１２との間に封止層３４が設けられている。封止層３４は、電極指１５等の弾性波共振器２０を空隙３０に封止する。封止層３４は、例えば金、銅もしくは半田等の金属層または無機絶縁体もしくは樹脂等の絶縁層である。封止層３４により、弾性波共振器２０を気密封止でき、水分等による弾性波共振器２０の劣化を抑制できる。その他の構成は実施例１と同じであり説明を省略する。実施例１の変形例１および２において、封止層３４を設けてもよい。 [Modification 4 of Example 1]
As shown in FIG. 4B, in the modified example 4 of the first embodiment, there is a gap 30 between the electrode fingers 15 between the piezoelectric substrates 10 and 12. A sealing layer 34 is provided between the piezoelectric substrates 10 and 12 so as to surround the electrode finger 15. The sealing layer 34 seals the elastic wave resonator 20 such as the electrode finger 15 in the gap 30. The sealing layer 34 is, for example, a metal layer such as gold, copper or solder, or an insulating layer such as an inorganic insulator or resin. The sealing layer 34 can airtightly seal the elastic wave resonator 20 and suppress deterioration of the elastic wave resonator 20 due to moisture or the like. Other configurations are the same as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted. In the modified examples 1 and 2 of the first embodiment, the sealing layer 34 may be provided.

［実施例１の変形例４の製造方法］
図５（ａ）から図５（ｄ）は、実施例１の変形例４に係る弾性波デバイスの製造方法を示す断面図である。図５（ａ）に示すように、圧電基板１０上に金属膜１４からなる弾性波共振器２０を形成する。図５（ｂ）に示すように、圧電基板１０上に弾性波共振器２０を囲む封止層３４を形成する。 [Manufacturing method of modified example 4 of Example 1]
5 (a) to 5 (d) are cross-sectional views showing a method of manufacturing an elastic wave device according to a modification 4 of the first embodiment. As shown in FIG. 5A, an elastic wave resonator 20 made of a metal film 14 is formed on the piezoelectric substrate 10. As shown in FIG. 5B, a sealing layer 34 surrounding the elastic wave resonator 20 is formed on the piezoelectric substrate 10.

封止層３４の厚さは金属膜１４の厚さと略等しい。図５（ｃ）に示すように、金属膜１４および封止層３４上に圧電基板１２を接合する。金属膜１４および封止層３４と圧電基板１２との接合には表面活性化法を用いる。金属膜１４および封止層３４と圧電基板１２の間には１ｎｍから１０ｎｍのアモルファス層が形成されることがある。アモルファス層の厚さは金属膜１４の厚さに比べ十分小さく、金属膜１４および封止層３４と圧電基板１２とは、実質的に直接接合される。 The thickness of the sealing layer 34 is substantially equal to the thickness of the metal film 14. As shown in FIG. 5C, the piezoelectric substrate 12 is bonded onto the metal film 14 and the sealing layer 34. A surface activation method is used for joining the metal film 14, the sealing layer 34, and the piezoelectric substrate 12. An amorphous layer having a diameter of 1 nm to 10 nm may be formed between the metal film 14 and the sealing layer 34 and the piezoelectric substrate 12. The thickness of the amorphous layer is sufficiently smaller than the thickness of the metal film 14, and the metal film 14, the sealing layer 34, and the piezoelectric substrate 12 are substantially directly bonded to each other.

図５（ｄ）に示すように、圧電基板１２の上面をＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）法を用い研磨することにより、圧電基板１２を所望の厚さとする。以上により実施例１の変形例４に係る弾性波デバイスが製造される。 As shown in FIG. 5D, the upper surface of the piezoelectric substrate 12 is polished by a CMP (Chemical Mechanical Polishing) method to obtain a desired thickness of the piezoelectric substrate 12. As described above, the elastic wave device according to the modified example 4 of the first embodiment is manufactured.

実施例１およびその変形例によれば、一対の櫛型電極１８は圧電基板１０（第１圧電基板）と圧電基板１２（第２圧電基板）とに挟まれている。これにより、一対の櫛型電極１８間の静電容量を大きくでき、弾性波デバイスの小型化が可能となる。また、放熱効果を高めることができる。さらに、櫛型電極１８を挟むため櫛型電極１８の剥がれを抑制できる。 According to the first embodiment and its modifications, the pair of comb-shaped electrodes 18 are sandwiched between the piezoelectric substrate 10 (first piezoelectric substrate) and the piezoelectric substrate 12 (second piezoelectric substrate). As a result, the capacitance between the pair of comb-shaped electrodes 18 can be increased, and the size of the elastic wave device can be reduced. In addition, the heat dissipation effect can be enhanced. Further, since the comb-shaped electrode 18 is sandwiched, the peeling of the comb-shaped electrode 18 can be suppressed.

圧電基板１０および１２は一対の櫛型電極１８に接する。これにより、共振特性が劣化することなく、弾性波デバイスの小型化が可能となる。 The piezoelectric substrates 10 and 12 are in contact with the pair of comb-shaped electrodes 18. As a result, the elastic wave device can be miniaturized without deteriorating the resonance characteristics.

圧電基板１０および１２の主成分は互いに同じである。これにより、圧電基板１０の表面を伝搬する弾性波と圧電基板１２の表面を伝搬する弾性波の特性をほぼ同じにできる。よって、副共振等のスプリアスを抑制できる。なお、主成分とは意図的または意図せず含まれる不純物を含まない。 The main components of the piezoelectric substrates 10 and 12 are the same as each other. As a result, the characteristics of the elastic wave propagating on the surface of the piezoelectric substrate 10 and the elastic wave propagating on the surface of the piezoelectric substrate 12 can be made substantially the same. Therefore, spurious such as sub-resonance can be suppressed. The principal component does not include impurities that are intentionally or unintentionally contained.

圧電基板１０および１２は、ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板またはＹカットＸ伝搬ニオブ酸リチウム基板である。圧電基板１０および１２のＹカット角の差は１０°以下であり、平面視において圧電基板１０のＸ軸方向と圧電基板１２のＸ軸方向のなす角度は１０°以下である。これにより、圧電基板１０の表面を伝搬する弾性波と圧電基板１２の表面を伝搬する弾性波の特性をほぼ同じにできる。よって、副共振等のスプリアスを抑制できる。圧電基板１０および１２のＹカット角の差は５°以下が好ましく、２°以下がより好ましい。圧電基板１０および１２のＸ結晶方位の差は５°以下が好ましく、２°以下がより好ましい。 The piezoelectric substrates 10 and 12 are a Y-cut X-propagated lithium tantalate substrate or a Y-cut X-propagated lithium niobate substrate. The difference between the Y-cut angles of the piezoelectric substrates 10 and 12 is 10 ° or less, and the angle formed by the X-axis direction of the piezoelectric substrate 10 and the X-axis direction of the piezoelectric substrate 12 in a plan view is 10 ° or less. As a result, the characteristics of the elastic wave propagating on the surface of the piezoelectric substrate 10 and the elastic wave propagating on the surface of the piezoelectric substrate 12 can be made substantially the same. Therefore, spurious such as sub-resonance can be suppressed. The difference between the Y-cut angles of the piezoelectric substrates 10 and 12 is preferably 5 ° or less, more preferably 2 ° or less. The difference in the X crystal orientations of the piezoelectric substrates 10 and 12 is preferably 5 ° or less, more preferably 2 ° or less.

圧電基板１０および１２が回転ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板の場合、１０°以上かつ５０°以下回転ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板とする。これにより、櫛型電極１８は主にＳＨ（Shear Horizontal）波を励振する。 When the piezoelectric substrates 10 and 12 are rotating Y-cut X-propagated lithium tantalate substrates, the rotating Y-cut X-propagated lithium tantalate substrate is 10 ° or more and 50 ° or less. As a result, the comb-shaped electrode 18 mainly excites SH (Shear Horizontal) waves.

実施例１の変形例１および２のように、圧電基板１０の一対の櫛型電極１８が設けられた面と反対の面に直接または間接的に接合された支持基板１１ａ（第１支持基板）を備える。これにより、周波数温度係数を小さくできる。 Support substrate 11a (first support substrate) directly or indirectly bonded to a surface opposite to the surface on which the pair of comb-shaped electrodes 18 of the piezoelectric substrate 10 are provided, as in Modifications 1 and 2 of the first embodiment. To be equipped. As a result, the frequency temperature coefficient can be reduced.

実施例１の変形例２のように、圧電基板１２の一対の櫛型電極１８が設けられた面と反対の面に直接または間接的に接合された支持基板１１ｂ（第２支持基板）を備える。これにより、周波数温度係数を小さくできる。 As in the modified example 2 of the first embodiment, the support substrate 11b (second support substrate) is provided which is directly or indirectly bonded to the surface opposite to the surface on which the pair of comb-shaped electrodes 18 of the piezoelectric substrate 12 is provided. .. As a result, the frequency temperature coefficient can be reduced.

実施例１の変形例３のように、誘電体層３２は、圧電基板１０と１２との間において、複数の電極指１５間に設けられている。これにより、放熱性を向上できる。また、圧電基板１０と１２との間の接合性を高めることができる。 As in the modified example 3 of the first embodiment, the dielectric layer 32 is provided between the plurality of electrode fingers 15 between the piezoelectric substrates 10 and 12. As a result, heat dissipation can be improved. In addition, the bondability between the piezoelectric substrates 10 and 12 can be improved.

実施例１およびその変形例１、２および４のように、圧電基板１０と１２との間において、複数の電極指１５間は空隙３０でもよい。実施例１の変形例４のように、封止層３４は、圧電基板１０と１２との間に設けられ、一対の櫛型電極１８を空隙３０に封止する。これにより、簡単な構造で、弾性波共振器２０を空隙３０に封止できる。 As in the first embodiment and the modified examples 1, 2 and 4, there may be a gap 30 between the plurality of electrode fingers 15 between the piezoelectric substrates 10 and 12. The sealing layer 34 is provided between the piezoelectric substrates 10 and 12, and seals the pair of comb-shaped electrodes 18 in the gap 30 as in the modified example 4 of the first embodiment. As a result, the elastic wave resonator 20 can be sealed in the gap 30 with a simple structure.

図６（ａ）は、実施例２に係るフィルタの回路図、図６（ｂ）は実施例２の変形例１のデュプレクサの回路図である。図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、入力端子Ｔｉｎと出力端子Ｔｏｕｔとの間に直列共振器Ｓ１からＳ３が直列に接続され、並列共振器Ｐ１およびＰ２が並列に接続されている。並列共振器Ｐ１およびＰ２の一端がグランドに接続されている。１または複数の直列共振器Ｓ１からＳ３および１または複数の並列共振器Ｐ１およびＰ２の少なくとも１つに実施例１およびその変形例の弾性波共振器を用いることができる。ラダー型フィルタの共振器の個数等は適宜設定できる。フィルタは、多重モード型フィルタでもよい。 FIG. 6A is a circuit diagram of the filter according to the second embodiment, and FIG. 6B is a circuit diagram of the duplexer of the first modification of the second embodiment. As shown in FIGS. 6A and 6B, the series resonators S1 to S3 are connected in series between the input terminal Tin and the output terminal Tout, and the parallel resonators P1 and P2 are connected in parallel. ing. One end of the parallel resonators P1 and P2 is connected to the ground. An elastic wave resonator of Example 1 and a modification thereof can be used for at least one of one or more series resonators S1 to S3 and one or a plurality of parallel resonators P1 and P2. The number of resonators of the ladder type filter can be set as appropriate. The filter may be a multiple mode type filter.

図６（ｂ）に示すように、共通端子Ａｎｔと送信端子Ｔｘとの間に送信フィルタ４０が接続されている。共通端子Ａｎｔと受信端子Ｒｘとの間に受信フィルタ４２が接続されている。送信フィルタ４０は、送信端子Ｔｘから入力された高周波信号のうち送信帯域の信号を送信信号として共通端子Ａｎｔに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。受信フィルタ４２は、共通端子Ａｎｔから入力された高周波信号のうち受信帯域の信号を受信信号として受信端子Ｒｘに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。送信フィルタ４０および受信フィルタ４２の少なくとも一方を実施例２のフィルタとすることができる。 As shown in FIG. 6B, a transmission filter 40 is connected between the common terminal Ant and the transmission terminal Tx. A reception filter 42 is connected between the common terminal Ant and the reception terminal Rx. The transmission filter 40 passes a signal in the transmission band among the high-frequency signals input from the transmission terminal Tx to the common terminal Ant as a transmission signal, and suppresses signals of other frequencies. The reception filter 42 passes a signal in the reception band among the high frequency signals input from the common terminal Ant to the reception terminal Rx as a reception signal, and suppresses signals of other frequencies. At least one of the transmission filter 40 and the reception filter 42 can be the filter of the second embodiment.

実施例２の変形例１では、マルチプレクサとしてデュプレクサを例に説明したがトリプレクサまたはクワッドプレクサでもよい。 In the first modification of the second embodiment, the duplexer has been described as an example as the multiplexer, but a triplexer or a quadplexer may be used.

図７（ａ）は、実施例２に係るフィルタの斜視図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ−Ａ断面図である。図７（ａ）では圧電基板１２を透視して圧電基板１０の上面を図示している。 7 (a) is a perspective view of the filter according to the second embodiment, and FIG. 7 (b) is a sectional view taken along the line AA of FIG. 7 (a). In FIG. 7A, the upper surface of the piezoelectric substrate 10 is shown through the piezoelectric substrate 12.

図７（ａ）および図７（ｂ）に示すように、支持基板１１ａ上に圧電基板１０が接合されている。圧電基板１０の上面には弾性波共振器２０、配線２８および封止層３４が設けられている。複数の弾性波共振器２０は直列共振器Ｓ１からＳ３、並列共振器Ｐ１およびＰ２を含む。配線２８はパッドＰｉｎ、ＰｏｕｔおよびＰｇを含む。直列共振器Ｓ１からＳ３は、パッドＰｉｎとＰｏｕｔとの間に配線２８を介し直列に接続され、並列共振器Ｐ１およびＰ２はパッドＰｉｎとＰｏｕｔとの間に配線２８を介し並列に接続されている。 As shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), the piezoelectric substrate 10 is bonded onto the support substrate 11a. An elastic wave resonator 20, a wiring 28, and a sealing layer 34 are provided on the upper surface of the piezoelectric substrate 10. The plurality of elastic wave resonators 20 include series resonators S1 to S3, and parallel resonators P1 and P2. Wiring 28 includes pads Pin, Pout and Pg. The series resonators S1 to S3 are connected in series between the pads Pin and Pout via a wire 28, and the parallel resonators P1 and P2 are connected in parallel between the pads Pin and Pout via a wire 28. ..

封止層３４は圧電基板１０および１２の周縁において複数の弾性波共振器２０および配線２８を囲むように設けられている。封止層３４は弾性波共振器２０および配線２８を空隙３０に封止する。支持基板１１ａの下面に端子３８が設けられている。端子３８は、入力端子Ｔｉｎ、出力端子Ｔｏｕｔおよびグランド端子を含む。圧電基板１０および支持基板１１ａを貫通するビア配線３６が設けられている。ビア配線３６は、配線２８と端子３８とを電気的に接続する。パッドＰｉｎ、ＰｏｕｔおよびＰｇは、それぞれ入力端子Ｔｉｎ、出力端子Ｔｏｕｔおよびグランド端子と電気的に接続されている。 The sealing layer 34 is provided on the periphery of the piezoelectric substrates 10 and 12 so as to surround the plurality of elastic wave resonators 20 and the wiring 28. The sealing layer 34 seals the elastic wave resonator 20 and the wiring 28 in the gap 30. A terminal 38 is provided on the lower surface of the support substrate 11a. The terminal 38 includes an input terminal Tin, an output terminal Tout, and a ground terminal. A via wiring 36 that penetrates the piezoelectric substrate 10 and the support substrate 11a is provided. The via wiring 36 electrically connects the wiring 28 and the terminal 38. The pads Pin, Pout and Pg are electrically connected to the input terminal Tin, the output terminal Tout and the ground terminal, respectively.

図７（ａ）のように、フィルタが有する複数の弾性波共振器２０を１つの封止層３４により封止してもよい。支持基板１１ａは設けられていなくてもよいし、圧電基板１２上に支持基板１１ｂが接合されていてもよい。 As shown in FIG. 7A, a plurality of elastic wave resonators 20 included in the filter may be sealed by one sealing layer 34. The support substrate 11a may not be provided, or the support substrate 11b may be bonded on the piezoelectric substrate 12.

以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。 Although the examples of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such specific examples, and various modifications and modifications are made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. It can be changed.

１０、１２ 圧電基板
１１ａ、１１ｂ 支持基板
１４ 金属膜
１５ 電極指
１８ 櫛型電極
２０ 弾性波共振器
２２ ＩＤＴ
２８ 配線
３０ 空隙
３２ 誘電体層
３４ 封止層
４０ 送信フィルタ
４２ 受信フィルタ 10, 12 Piezoelectric substrate 11a, 11b Support substrate 14 Metal film 15 Electrode finger 18 Comb type electrode 20 Elastic wave resonator 22 IDT
28 Wiring 30 Void 32 Dielectric layer 34 Sealing layer 40 Transmission filter 42 Reception filter

Claims (11)

第１圧電基板と、
第２圧電基板と、
前記第１圧電基板と前記第２圧電基板とに挟まれ、複数の電極指を有する一対の櫛型電極と、
を備える弾性波デバイス。 With the first piezoelectric substrate
With the second piezoelectric substrate
A pair of comb-shaped electrodes sandwiched between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate and having a plurality of electrode fingers,
An elastic wave device equipped with. 前記第１圧電基板および前記第２圧電基板は前記一対の櫛型電極に接する請求項１に記載の弾性波デバイス。 The elastic wave device according to claim 1, wherein the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate are in contact with the pair of comb-shaped electrodes. 前記第１圧電基板および前記第２圧電基板の主成分は互いに同じである請求項１または２に記載の弾性波デバイス。 The elastic wave device according to claim 1 or 2, wherein the main components of the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate are the same as each other. 前記第１圧電基板および前記第２圧電基板は、ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム基板またはＹカットＸ伝搬ニオブ酸リチウム基板であり、
前記第１圧電基板および前記第２圧電基板のＹカット角の差は１０°以下であり、
平面視において前記第１圧電基板のＸ軸方向と前記第２圧電基板のＸ軸方向のなす角度は１０°以下である請求項３に記載の弾性波デバイス。 The first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate are a Y-cut X-propagated lithium tantalate substrate or a Y-cut X-propagated lithium niobate substrate.
The difference between the Y-cut angles of the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate is 10 ° or less.
The elastic wave device according to claim 3, wherein the angle between the X-axis direction of the first piezoelectric substrate and the X-axis direction of the second piezoelectric substrate is 10 ° or less in a plan view. 前記第１圧電基板の前記一対の櫛型電極が設けられた面と反対の面に直接または間接的に接合された第１支持基板を備える請求項１から４のいずれか一項に記載の弾性波デバイス。 The elasticity according to any one of claims 1 to 4, further comprising a first support substrate directly or indirectly bonded to a surface of the first piezoelectric substrate opposite to the surface on which the pair of comb-shaped electrodes are provided. Wave device. 前記第２圧電基板の前記一対の櫛型電極が設けられた面と反対の面に直接または間接的に接合された第２支持基板を備える請求項５に記載の弾性波デバイス。 The elastic wave device according to claim 5, further comprising a second support substrate directly or indirectly bonded to a surface of the second piezoelectric substrate opposite to the surface on which the pair of comb-shaped electrodes are provided. 前記第１圧電基板と前記第２圧電基板との間において、前記複数の電極指間に設けられた誘電体層を備える請求項１から６のいずれか一項に記載の弾性波デバイス。 The elastic wave device according to any one of claims 1 to 6, further comprising a dielectric layer provided between the plurality of electrode fingers between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate. 前記第１圧電基板と前記第２圧電基板との間において、前記複数の電極指間は空隙である請求項１から６のいずれか一項に記載の弾性波デバイス。 The elastic wave device according to any one of claims 1 to 6, wherein there is a gap between the plurality of electrode fingers between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate. 前記第１圧電基板と前記第２圧電基板との間に設けられ、前記一対の櫛型電極を前記空隙に封止する封止層を備える請求項８に記載の弾性波デバイス。 The elastic wave device according to claim 8, further comprising a sealing layer provided between the first piezoelectric substrate and the second piezoelectric substrate and sealing the pair of comb-shaped electrodes in the voids. 請求項１から９のいずれか一項に記載の弾性波デバイスを含むフィルタ。 A filter comprising the elastic wave device according to any one of claims 1 to 9. 請求項１０に記載のフィルタを含むマルチプレクサ。 A multiplexer containing the filter according to claim 10.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09107264A (en) * 1995-10-11 1997-04-22 Toyo Commun Equip Co Ltd Channel wave local confinement type piezoelectric oscillator and filter
JP2017188807A (en) * 2016-04-06 2017-10-12 太陽誘電株式会社 Acoustic wave device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09107264A (en) * 1995-10-11 1997-04-22 Toyo Commun Equip Co Ltd Channel wave local confinement type piezoelectric oscillator and filter
JP2017188807A (en) * 2016-04-06 2017-10-12 太陽誘電株式会社 Acoustic wave device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023090434A1 (en) * 2021-11-19 2023-05-25 株式会社村田製作所 Elastic wave device

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